CN100498381C

CN100498381C - 光学设备用遮光部件

Info

Publication number: CN100498381C
Application number: CNB2005800269197A
Authority: CN
Inventors: 加藤孝昭
Original assignee: Kimoto Co Ltd
Current assignee: Kimoto Co Ltd
Priority date: 2004-08-10
Filing date: 2005-08-08
Publication date: 2009-06-10
Anticipated expiration: 2025-08-08
Also published as: CN101002116A; JP4386919B2; KR101145947B1; WO2006016555A1; JP4958950B2; JPWO2006016555A1; KR20070052290A; JP2009271547A; TWI382044B; TW200617075A

Abstract

本发明提供具有消光泽性，且保持有遮光性、滑动性等遮光膜的物性的光学设备用遮光部件。本发明的光学设备用遮光部件(1)，包括：由合成树脂薄膜构成的基材(2)；及形成于该基材(2)的至少单面的遮光膜(3)。该遮光膜(3)含有：粘合剂树脂及碳黑(31)、颗粒状的润滑剂(32)、及特定的微粒(33)所形成。该特定的微粒(33)是吸油量250(g/100g)以上的有机微粒或无机微粒，其中，以二氧化硅特别适合使用。

Description

光学设备用遮光部件

技术领域

本发明是关于适合作为高性能单眼反射式相机、袖珍相机、摄影机、移动电话、投影机等光学设备的快门、光圈部件使用的遮光部件。

背景技术

近年来，基于对高性能单眼反射式相机、袖珍相机、摄影机的小型化、轻量化的要求，通过金属材料形成的光学设备的快门、光圈部件逐渐被转换为塑料材料。

作为此种塑料材料光圈，知道有基材薄膜设置有含有碳黑、润滑剂、微粒的遮光膜的遮光性薄膜(专利文献1)。

[专利文献1]特开平9-274218号公报

但是，在如所述的遮光性薄膜中，为了对遮光膜赋予消光泽性，不得不含有多量的微粒，遮光膜中的碳黑及润滑剂的含有率降低，结果会产生遮光性、滑动性等无法充分发挥的间题。

为了解决所述课题，迫切期待具有消光泽性，且能保持遮光性、滑动性等遮光膜的物性的遮光部件。

发明内容

本发明人为了解决所述课题而经过刻意研究的结果，发现到通过使用特定的微粒，即使少量，也可赋予消光泽性。

即理由虽未能确定，可是，通过使用吸油量高的微粒，少量也可获得消光泽性的结果，发现到可使遮光膜中的碳黑、润滑剂的含有率增加，而能保持遮光性、滑动性等遮光膜的物性，以致完成本发明。

本发明的光学设备用遮光部件，包括：由合成树脂薄膜构成的基材；及形成于所述基材的至少单面的遮光膜，所述遮光膜含有：粘合剂树脂、碳黑、颗粒状的润滑剂、及吸油量300g/100g以上的微粒。

另外，本发明的光学设备用遮光部件，其特征为：所述遮光膜中的所述微粒的含有率，是遮光膜中3重量％以下。

另外，本发明的光学设备用遮光部件，其特征为：所述润滑剂的平均粒径比所述微粒的平均粒径大。

(发明的效果)

如依据本发明，通过使遮光膜中含有特定的微粒，即吸油量250(g/100g)以上的微粒，少量可以获得消光泽性的结果，可使遮光膜中的碳黑、润滑剂的含有率增加，所以，可获得具有消光泽性，同时保持遮光性、滑动性等遮光膜的物性的光学设备用遮光部件。因此，这种光学设备用遮光部件可以适当地使用于高性能单眼反射式相机、袖珍相机、摄影机、行动电话、投影机等。

另外，如依据本发明，作为润滑剂是采用其平均粒径比微粒的平均粒径还大的润滑剂，在润滑剂的功能得以发挥的状态下，可使遮光膜表面形状的凹凸变得复杂，即使微粒的含有量为少量，也可实现更优异的消光泽性。

附图说明

图1是表示本发明的光学设备用遮光部件的一实施方式。

图中，1：光学设备用遮光部件；2：基材；3：遮光膜；31：粘合剂树脂及碳黑；32：润滑剂；33：微粒。

具体实施方式

以下，说明本发明的光学设备用遮光部件的实施方式。

本发明的光学设备用遮光部件1如图1所示，包括：由合成树脂形成的基材2、及至少形成于单面的遮光膜3，遮光膜3含有：粘合剂树脂及碳黑31、颗粒状的润滑剂32、及吸油量250(g/100g)以上的微粒33。

作为本发明的光学设备用遮光部件所使用的基材，可以举：聚酯薄膜、聚酰亚胺薄膜、聚苯乙烯薄膜、聚碳酸酯薄膜等的合成树脂薄膜，其中，聚酯薄膜可以合适地使用，经过延伸加工，特别是经过二轴延伸加工的聚酯薄膜，其机械强度、尺寸稳定性优异，特别优选。另外，基材当然为透明的基材，也可使用发泡聚酯薄膜、含有碳黑等黑色颜料或其它颜料的合成树脂薄膜。在此情形，所述基材可依据各自的用途而选择适当材料。例如，作为遮光部件使用时，在部件剖面的合成树脂薄膜部分中，由透镜等聚光的光线反射，会带来不好影响，所以，在需要高的遮光性时，可以使用含有碳黑等黑色颜料的合成树脂薄膜，在其它情形中，可以使用透明或经过发泡的合成树脂薄膜。

在本发明中，遮光膜本身可以获得作为遮光部件的充分的遮光性，所以，在合成树脂薄膜含有黑色颜料时，只要含有在目视的情况下看到黑色的合成树脂薄膜的程度，即光学浓度为3左右即可。因此，不会如以往一样，合成树脂薄膜中含有损伤作为基材的物性的限度的黑色颜料，所以，不会使合成树脂的物性改变，可以廉价地获得。

基材的厚度虽因使用用途而不同，但是，从轻量性、遮光部件的强度、刚性等观点而言，一般，以设为25μm～250μm为佳。

另外，从提高与遮光膜的粘接性的观点，根据需要，也可对基材进行锚定(anchor)处理或电晕处理。

接着，形成于作为本发明的光学设备用遮光部件使用的基材的至少单面的遮光膜，含有：粘合剂树脂、碳黑、颗粒状的润滑剂、吸油量250(g/100g)以上的微粒。

遮光膜所含有的粘合剂树脂，可枚举：聚(甲基)丙烯酸系树脂、聚酯树脂、聚醋酸乙烯酯树脂、聚氯乙烯、聚乙烯醇缩丁醛树脂、纤维素系树脂、聚苯乙烯/聚丁二烯树脂、聚氨基甲酸乙酯树脂、醇酸树脂、丙烯酸树脂、不饱和聚酯树脂、环氧酯树脂、环氧树脂、环氧丙烯酸酯系树脂、尿烷丙烯酸酯系树脂、聚酯丙烯酸酯系树脂、聚醚丙烯酸酯系树脂、酚系树脂、三聚氰胺系树脂、尿素系树脂、二烯丙基邻苯二甲酸酯系树脂等热塑性树脂或热固化性树脂，也可以使用其中的1种或2种以上加以混合来使用。

粘合剂树脂的含有率，以遮光膜中50重量％～80重量％为佳，以55重量％～75重量％更佳。通过设为遮光膜中50重量％以上，可以防止基材与遮光膜的粘接性降低，通过设为80重量％以下，可以防止遮光性、滑动性、消光泽性等遮光膜的物性降低。

接着，遮光膜所含有的碳黑，是使粘合剂树脂着色为黑色而赋予遮光性，而且，赋予导电性以防止由于静电所致的带电所需要的元素。

为了获得充分的遮光性，碳黑的平均粒径以1μm以下为佳，以0.5μm以下更佳。

碳黑的含有率以遮光膜中5重量％～20重量％为佳，以10重量％～20重量％更佳。通过设为遮光膜中5重量％以上，可以防止遮光性及导电性降低，通过设为20重量％以下，粘接性或耐擦伤性提高，而且，可以防止涂膜强度的降低及成本变高。

接着，遮光膜所含有的颗粒状的润滑剂，使遮光部件的表面的滑动性提高，在加工为光圈部件等时，使动作时的摩擦阻力变小，而且，提高表面的耐擦伤性。此种润滑剂若为固体状物，可以使用有机系、无机系的任一种，例如可举：聚乙烯蜡、石蜡等烃系润滑剂、硬脂酸、12-羟基硬酯酸等脂肪酸系树脂、油酸酰胺、芥酸酰胺等酰胺系润滑剂、硬脂酸单甘油酯等酯系润滑剂、醇系润滑剂、金属皂、滑石、二硫化钼等固体润滑剂、硅树脂颗粒、聚四氟化乙烯蜡等氟硅是树脂颗粒、交联聚甲基丙烯酸甲酯颗粒、交联聚苯乙烯颗粒等，特别以使用有机系为佳。另外，也可以使用这些的1种或2种以上混合而使用。

润滑剂的平均粒径，以3μm～20μm为佳，以5μm～10μm更佳。通过设为此种范围，在表面可形成适当的凹凸，能获得滑动性。

另外，如图1所示，润滑剂32的平均粒径，设为比微粒33的平均粒径大为佳。通过将润滑剂32的平均粒径设为比微粒33的平均粒径大，在通过润滑剂形成的表面的凹凸上，可通过微粒来形成微细的凹凸，所以，可使入射光的反射变得更少，能获得充分的消光泽性，而且，也可以获得滑动性。

润滑剂的含有率，以遮光膜中5重量％～20重量％为佳，以10重量％～20重量％更佳。通过设为遮光膜中5重量％以上，在表面形成适当凹凸，从而，获得滑动性，通过设为20重量％以下，可使碳黑的相对含量变高，能防止遮光性及导电性降低。

接着，遮光膜所含有的微粒，通过在表面形成微细的凹凸，来使入射光的反射减少，而使表面的光泽度(镜面光泽度)降低，用于提高作为遮光部件使用时的消光泽性。

微粒虽是赋予作为遮光部件时的表面的消光泽性所不可或缺的，但是在遮光膜可含有的比例上，是有如下的限制。首先，在不改变树脂与其以外的成分的比例而使微粒的含有率增加时，对应于微粒的含有率，碳黑、润滑剂等的含有率降低，所以，会带来作为遮光部件的遮光性、滑动性等物性的降低。另外，为了保持遮光性等物性，需要保持遮光膜中的碳黑、润滑剂的含有率，同时使粘合剂树脂的含有率降低，以使微粒的含有率增加时，基材与遮光膜欠缺粘接性，耐擦伤性劣化。即在遮光膜中含有赋予充分消光泽性的量的微粒时，会无法保持遮光性、滑动性等物性，或导致耐擦伤性变差。

在本发明中，通过使用与以往的遮光部件中作为消光泽剂使用的微粒不同的特定的微粒，即吸油量250(g/100g)以上的微粒，更好为吸油量300(g/100g)以上的微粒，能以少量获得表面的消光泽性，变成可使遮光膜中的碳黑、润滑剂等含有率增加。其结果为获得以往无法获得的显著效果：通过使用所述的微粒，可对遮光膜赋予消光泽性，同时获得可充分发挥基于遮光膜的遮光性、滑动性等物性。

另外，在本说明书中，吸油量是依据IS0787/V-1968的规范，因此，是在微粒100g中湿润混合亚麻子油而做成硬的糊状所需要的油量(g)。

此种特定的微粒，虽可以使用：交联丙烯酸微粒等有机系、二氧化硅、正硅酸铝酸镁、氧化钛等无机系等中任一种，但是，以无机系为佳，其中，从微粒的分散性、低成本等观点，以使用二氧化硅为佳。另外，也可使用这些的1种或2种以上加以混合使用。

微粒的平均粒径，以1μm～10μm为佳，以设为1μm～6μm更佳。因为通过设为这样的范围，在遮光部件的表面可形成微细的凹凸，能获得消光泽性。

微粒的含有率，以遮光膜中1重量％～10重量％为佳，以设为1重量％～5重量％更佳。通过设为遮光膜中1重量％以上，表面的光泽度(镜面光泽度)增加，能防止消光泽性降低，通过设为10重量％以下，可以防止由于遮光部件的滑动所致的微粒的脱落、导致滑动性的降低。

在要求特别高的遮光性或滑动性时，微粒的含有量还可从所述的范围设为遮光膜中3重量％以下为佳。在本发明中所使用的微粒，如上所述，即使少量也可获得高消光泽性，所以，通过设为3重量％以下，可以获得充分的消光泽性，而且，可使碳黑、润滑剂的含有率相对地增加，能提高遮光性、滑动性等物性。

本发明的遮光膜如在不损及本发明的功能时，也可以含有难燃剂、抗菌剂、防霉剂、抗氧化剂、可塑剂、流平剂、流动调整剂、消泡剂、分散剂等各种添加剂。

遮光膜的厚度，以5μm～30μm为佳，以设为5μm～20μm更佳。通过设为5μm以上，可防止遮光膜产生针孔等，可以获得充分的遮光性。另外，通过设为30μm以下，可以防止遮光膜产生裂纹。

本发明的光学设备用遮光部件，可以于由所述的合成树脂薄膜所形成的基材的单面或双面，通过浸渍涂布、辊涂、棒涂、金属型涂布、刮刀式涂布、气刀式涂布等以往周知的涂布方法来涂布含有如所述的粘合剂树脂、碳黑、颗粒状的润滑剂及特定的微粒的遮光膜用涂布液，使其干燥后，根据需要而予以加热、加压等而获得。涂布液的溶剂可以使用水或有机溶剂、水和有机溶剂的混合物等。

如所述，本发明的光学设备用遮光部件，是在由如所述的合成树脂薄膜形成的基材的至少单面，具有如所述地构成的遮光膜，所以具有消光泽性，且保持遮光性、滑动性等遮光膜的物性，可以适当地作为高性能单眼反射式相机、袖珍相机、摄像机、移动电话、投影机等光学设备的快门、光圈部件使用。

[实施例]

以下，依据实施例来进一步说明本发明。另外，“份”、“％”如无特别表示，则设为重量基准。

1.光学设备用遮光部件的制作

[实施例1、2及比较例1～6]

作为基材使用厚度50μm的黑色聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(ルミラ—X30：东レ公司)，通过涂布法在其两面分别涂布下述处置方法的遮光膜用涂布液(a)～(h)，涂布成干燥时的厚度分别成为10μm，进行干燥而形成遮光膜A～H，来制作实施例1、2及比较例1～6的光学设备用遮光部件。另外，下述处置方法的遮光膜用涂布液(a)～(h)的丙烯酸多元醇等的含量(份)表示于表1。另外，形成的遮光膜A～H的丙烯酸多元醇等的含有率(％)表示于表2。

<遮光膜用涂布液(a)～(h)的处方>

·丙烯酸多元醇(固态成分50％) (表1记载的份)

(アクリデイ_ツクA804：大日本ィンキ化学工业社)

·异氰酸酯(固态成分75％) (表1记载的份)

(バ—ノツクDN980：大日本インキ化学工业社)

·碳黑 (表1记载的份)

(バルカンXC-72：キヤボット公司)

·润滑剂 (表1记载的份)

(平均粒径8.5μm)(セリダスト3620：ヘキスト公司)

·微粒(二氧化硅) (表1记载的微粒及份)

·丁酮 60份

·甲苯 40份

[表1]

微粒P：TS100：デグサ公司、吸油量390(g/100g)、平均粒径4μm

微粒Q：AZ-200：东ソ—·シリカ公司、吸油量330(g/100g)、平均粒径2.4μm

微粒R：TK900：デグサ公司、吸油量90(g/100g)、平均粒径8μm

微粒Sサイリシア730富士シリシア化学公司、吸油量95(g/100g)、平均粒径4μm

[表2]

2.评价

针对如所述地实施例1、2及比较例1～6中所获得的光学设备用遮光部件，以下述方法进行物性的评价。将各自的结果表示于表3。但是，有关下述(1)遮光性的评价，是使用厚度50μm的透明聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(ルミラ—T60：东レ公司)的单面形成有厚度10μm的所述实施例1、2及比较例1～6的处置方法的遮光膜A～H的样品进行。

(1)遮光性的评价

依据JIS K7651：1988，使用光学浓度计(TD-904：グレタグマクベス公司)来测定所述实施例1、2及比较例1～6的样品的光学浓度，将超过4.0的无法测定区域的浓度的设为“○”，将4.0以下的设为“×”。另外，测定是使用UV过滤器。

(2)滑动性的评价

依据JIS K7125：1999，以荷重200(g)、速度100(mm/min)的条件来测定实施例1、2及比较例1～6所获得的光学设备用遮光部件的静摩擦系数(μs)、动摩擦是数(μk)。将静摩擦系数(μs)为0.35以下的设为“○”，将0.35以上的设为“×”。另外，将动摩擦是数(μk)为0.30以下的设为“○”，将0.30以上的设为“×”。另外，将遮光膜剥落而不能测定的设为“—”

(3)消光泽性的评价

依据JIS Z8741：1997来测定实施例1、2及比较例1～6所获得的光学设备用遮光部件的表面的光泽度(镜面光泽度)(％)。

(4)导电性的评价

依据JIS K6911：1995来测定实施例1、2及比较例1～6所获得的光学设备用遮光部件的表面电阻率(Ω)。将表面电阻率低于1.0×10⁵Ω的设为“○”，将1.0×10⁵Ω以上1.0×10⁸Ω以下的设为“△”，将1.0×10⁸Ω以上的设为“×”。

(5)粘接性的评价

依据JIS K5400：1990的格子带法来测定实施例1、2及比较例1～6所获得的光学设备用遮光部件。将格子带部分的面积为5％以上剥离的设为“×”，将低于5％的设为“○”。

(6)耐擦伤性的评价

将实施例1、2及比较例1～6所获得的光学设备用遮光部件作为相机的光圈部件使用，使其动作100万次，调查涂膜面的擦伤、有无剥落，将没有擦伤、剥落的设为“○”，将确认到擦伤、剥落的设为“×”。

[表3]

由表3的结果可以明白，实施例1、2所获得的光学设备用遮光部件，在基材的两面形成了含有粘合剂树脂、碳黑、颗粒状的润滑剂及特定的微粒，即吸油量250(g/100g)以上的微粒的遮光膜，所以，以少量的微粒，可以获得消光泽性的结果，可具有消光泽性，同时保持遮光性、滑动性等遮光膜的物性，作为光学设备用遮光部件的物性优异。

另一方面，在比较例1、2所获得的光学设备用遮光部件，是遮光膜中使含有和实施例1、2所使用的相同的含有率的吸油量低的微粒，所以，和实施例1、2的光学设备用遮光部件相比，消光泽性变差。

另外，比较例3、4所获得的光学设备用遮光部件，是为了对遮光膜中赋予消光泽性，含有大量的吸油量低的微粒，所以，遮光膜中的碳黑及润滑剂的含有率降低，和实施例1、2的光学设备用遮光部件相比，遮光性、滑动性、导电性变差。进而，润滑剂的含有率低，所以，表面无法形成适当的凹凸，而且，碳黑的含有率也低，结果为：以赋予消光泽性为目的，尽管使微粒的含有率变大，但是，和实施例1、2相比，消光泽性也变差。

另外，比较例5、6所获得的光学设备用遮光部件，是为了保持遮光性等物性，维持遮光膜中的碳黑、润滑剂的含有率，同时使粘合剂树脂的含有率降低，而使其大量含有吸油量低的微粒，但是，其结果为：基材与遮光膜的粘接性欠缺，耐擦伤性变差。

Claims

1.一种光学设备用遮光部件，其特征在于，

包括：由合成树脂薄膜构成的基材；及形成于所述基材的至少单面的遮光膜，所述遮光膜含有：粘合剂树脂、碳黑、颗粒状的润滑剂、及吸油量300g/100g以上的微粒。

2.如权利要求1所述的光学设备用遮光部件，其中，

所述遮光膜中的所述微粒的含有率，是遮光膜中3重量％以下。

3.如权利要求1所述的光学设备用遮光部件，其中，

所述润滑剂的平均粒径比所述微粒的平均粒径大。

4.如权利要求3所述的光学设备用遮光部件，其中，

所述润滑剂的平均粒径在3～20μm的范围，所述微粒的平均粒径在1～10μm的范围。

5.如权利要求1所述的光学设备用遮光部件，其中，

所述遮光膜中的碳黑、润滑剂及微粒的含有率，分别在5～20重量％、5～20重量％、1～10重量％的范围。

6.如权利要求5所述的光学设备用遮光部件，其中，

所述遮光膜中的碳黑、润滑剂及微粒的含有率，分别在10～20重量％、10～20重量％、1～5重量％的范围。

7.如权利要求1～6中任一项所述的光学设备用遮光部件，其中，

所述微粒是二氧化硅。