KR20140019416A - 광학기기용 차광재 및 그의 제조방법 - Google Patents

광학기기용 차광재 및 그의 제조방법 Download PDF

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Abstract

차광성 등 차광막의 필요 물성을 유지하면서 저광택도 영역이 넓은 차광막을 갖는 광학기기용 차광재를 제조하는 방법을 제공한다. 기재 상에 차광막이 형성된 광학기기용 차광재를 제조하는 방법에 있어서 적어도 바인더 수지, 흑색 미립자 및 변동 계수가 20 이상인 매트제를 포함하는 도공액을 준비한다. 다음으로 이 도공액을 기재 상에 도포하고 건조시켜 차광막을 형성한다.

Description

광학기기용 차광재 및 그의 제조방법{Light-shielding material for optical equipment and manufacturing method thereof}
본 발명은 각종 광학기기의 차광 부품에 적합하게 사용할 수 있고 특히 완전한 광택 제거 성능을 구비한 차광재를 제조하는 방법과 이 방법에 의해 제조되는 차광재에 관한 것이다.
광학기기의 셔터나 조리개 등으로 대표되는 차광 부품에 사용되는 차광재로서 합성 수지로 이루어지는 필름 기재 상에 유기 필러를 포함하는 차광막을 설치한 차광 필름이 알려져 있다(특허문헌 1).
일본국 특허공개 평7-319004
특허문헌 1에서는 평균 입경만이 제어된 유기 필러를 포함하는 도공액을 사용하여 필름 기재 상에 차광막을 형성하기 때문에 차광막의 광택 제거성이 완전하지는 않았다. 구체적으로는 차광막의 막면에 대해서 연직방향에 가까운 각도로 입사되어 온 빛의 반사는 억제할 수 있지만 평면방향에 가까운 각도로 입사되어 온 빛은 반사되어 버린다. 이 반사는 광학기기 내에서는 고스트라 불리는 문제가 되어 제품 성능의 저하를 초래하는 원인이 되어 있었다. 이와 같이 특허문헌 1의 기술은 온갖 각도로 입사되어 온 빛을 흡수할 수 있는 것은 아니었다.
또한 특허문헌 1에서는 평균 입경만이 제어된 유기 필러를 포함하는 도공액을 사용하기 때문에 저광택도가 얻어지는 차광막의 막두께 범위가 매우 좁아 그 형성이 용이하지는 않았다.
또한 차광재로서의 제품 성능을 유지하기 위해서 온갖 각도로의 입사광에 대한 저광택성 외에 차광성에 대해서도 동시에 만족시킬 필요가 있다.
본 발명의 일측면에서는 차광성 등 차광막의 필요 물성을 유지하면서 저광택도가 얻어지는 입사 각도의 영역(이하, 저광택도 영역)이 넓은 차광막을 갖는 광학기기용 차광재를 제조하기 위한 방법과 이 방법으로 제조되는 광학기기용 차광재를 제공한다. 본 발명의 다른 측면에서는 저광택도 영역이 넓은 차광막을 각종 막두께로 형성하는 것이 가능한 차광막 형성용 도공액을 제공한다.
본 발명자들은 차광막에 광택 제거 효과(저광택성과 같은 정의)를 직접적으로 부여할 수 있는 매트제의 선정기준으로서 평균 입경이 아닌 입도분포에 착안하여 검토를 진행하였다. 그 결과, 어떤 입경에서의 입도분포가 넓은 매트제를 채택함으로써 차광막의 필요 물성을 유지하면서 차광막의 막면에 대해서 연직방향에 가까운 각도(예를 들면 20도)나 60도는 물론 평면방향에 가까운 각도(예를 들면 85도)로 입사되어 온 빛에 대해서까지도 그 입사광에 대한 반사광을 확실하게 억제할 수 있어 저광택도 영역의 폭을 넓힐 수 있는 것을 발견하였다.
또한 상기 특정 매트제를 채택함으로써 저광택도 영역이 넓은 차광막을 각종 막두께로 형성할 수 있어, 즉 저광택도가 얻어지는 적정 막두께 범위를 넓힐 수 있는 것도 발견하였다.
즉 본 발명에 따른 광학기기용 차광재의 제조방법은 기재 상에 차광막이 형성된 광학기기용 차광재를 제조하는 방법에 있어서 적어도 바인더 수지, 흑색 미립자 및 변동 계수(CV값)가 20 이상인 매트제를 포함하는 도공액(塗工液)을 준비하여 이 도공액을 기재 상에 도포하고 건조시켜 차광막을 형성하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 광학기기용 차광재는 기재 상에 적어도 바인더 수지, 흑색 미립자 및 매트제를 포함하는 차광막을 갖는 광학기기용 차광재에 있어서 상기 차광막은 변동 계수가 20 이상인 매트제를 포함하는 도공액을 사용하여 형성되고, 60도 경면 광택도(G60)가 1 미만이며 또한 85도 경면 광택도(G85)가 15 미만으로 조정되어 있는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 차광막 형성용 도공액은 기재 상에 차광막을 갖는 광학기기용 차광재의 상기 차광막을 형성하기 위한 도공액에 있어서 적어도 바인더 수지, 흑색 미립자, 매트제 및 용매를 포함하고 상기 매트제는 변동 계수가 20 이상인 것을 특징으로 한다.
상기 발명방법에 따르면 변동 계수가 20 이상인 매트제를 포함하는 도공액을 사용하기 때문에 기재 상에 저광택도 영역이 넓은 완전한 광택 제거 효과가 부여된 차광막을 형성할 수 있다. 또한 도공액 중에는 바인더 수지와 흑색 미립자를 포함하기 때문에 형성되는 차광막에 대해서 차광성 등의 필요 물성을 유지시키는 것도 가능하다.
상기 발명방법으로 제조된 광학기기용 차광재에 의하면 변동 계수가 20 이상인 매트제를 포함하는 도공액을 사용하여 차광막을 형성하고 있기 때문에 그 차광막에는 저광택도 영역이 넓은 완전한 광택 제거 효과(예를 들면 후술하는 G20, G60 및 G85 모두 낮음)가 부여된다.
상기 발명에 따른 도공액에 의하면 변동 계수가 20 이상인 매트제를 포함하기 때문에 저광택도 영역이 넓은 완전한 광택 제거 효과가 부여된 차광막을 각종 막두께로 형성하는 것이 용이하다. 전술한 바와 같이 특허문헌 1에서 사용하는 도공액은 평균 입경만이 제어된 유기 필러를 포함하기 때문에, 저광택도가 얻어지는 차광막의 막두께 범위가 거의 핀포인트이며 또한 유기 필러의 존재 상태를 제어하는 것이 매우 어려워 작업성이 뒤떨어져 있었다.
이하, 본 발명의 일실시형태를 설명한다.
본 실시형태에 따른 광학기기용 차광재는 카메라(카메라가 부착된 휴대전화를 포함)나 프로젝터 등의 광학기기의 차광 부품으로 적합하게 사용할 수 있는 것으로 기재를 갖는다. 기재의 적어도 편면에는 차광막이 형성되어 있다. 본 실시형태의 차광막은 적어도 바인더 수지, 흑색 미립자 및 매트제를 포함하여 구성되어 있다.
차광막의 두께는 차광재를 적용하는 용도에 따라서 적당히 변경 가능하나 통상은 2 ㎛~15 ㎛가 바람직하고, 보다 바람직하게는 2 ㎛~12 ㎛, 더욱 바람직하게는 2 ㎛~10 ㎛ 정도이다. 최근 들어 특히 차광막의 박막화(예를 들면 6 ㎛ 정도 이하)가 요구되는 경향에 있어 이에 대처하는 것이다. 본 실시형태에서는 후술하는 바와 같이 특정 매트제를 포함하는 도포액을 사용하기 때문에, 기재 상에 형성되는 차광막의 두께를 2 ㎛로 해도 저광택도가 얻어지기 쉬워지는 동시에 차광막에 핀홀 등이 발생하는 것을 방지하기 쉬워 필요 충분한 차광성이 얻어지기 쉽다. 15 ㎛ 이하로 함으로써 차광막의 크랙을 방지하기 쉽다.
본 실시형태의 차광막은 특정 매트제를 포함하는 도공액을 사용하여 형성되어 있어, 그 결과 60도 경면 광택도(G60)가 1 미만, 바람직하게는 0.7 미만, 보다 바람직하게는 0.5 미만, 더욱 바람직하게는 0.3 미만으로 되어 있다. 또한 85도 경면 광택도(G85)가 15 미만, 바람직하게는 10 미만, 보다 바람직하게는 8 미만, 더욱 바람직하게는 6 미만으로 되어 있다. 또한 본 실시형태의 차광막은 G60, G85 외에 20도 경면 광택도(G20)도 0.3 미만으로 되어 있다.
경면 광택도는 차광막 표면에 입사된 빛의 반사 정도를 나타내는 파라미터로 이 값이 작을수록 저광택도로 여겨지고, 저광택도일수록 광택 제거 효과가 있는 것으로 판단된다. 60도 경면 광택도란 차광막 표면의 수직방향을 0도로 하고, 여기서부터 60도 기울어진 각도로 입사된 100의 빛이 반사측으로 60도 기울어진 수광부에 얼마나 반사(수광부에 입사)되는 지를 나타내는 파라미터이다. 85도 경면 광택도, 20도 경면 광택도도 동일한 생각에 따른다.
본 실시형태에서는 특정 매트제를 포함하는 도공액을 사용하여 차광막이 형성되기 때문에 차광막 표면이 특정 형상으로 제어되고 차광막에는 저광택도 영역이 넓은 완전한 광택 제거 효과가 부여된다.
다음으로 상기 구성을 구비한 광학기기용 차광재의 제조방법의 일례를 설명한다.
또한 본 명세서에 있어서의 「평균 입경」이란 레이저 회절식 입도분포 측정장치(예를 들면 시마즈 제작소사:SALD-7000 등)로 측정되는 메디안 직경(D50)을 가리킨다.
또한 본 명세서에서 말하는 CV(coefficient of variation)값이란 도포액의 제작에 사용할 때의 입도분포의 변동 계수(상대 표준편차라고도 한다)를 의미한다. 이 값은 입경분포의 확장(입자경의 편차)이 평균값(산술 평균 직경)에 대해서 어느 정도 되는지를 나타낸 것으로, 통상은 CV값(단위 없음)=(표준편차/평균값)으로 구해진다. CV값은 이것이 작을수록 입도분포는 좁아지고(샤프), 이것이 클수록 입도분포는 넓어진다(브로드).
(1) 먼저 차광막 형성용 도포액을 준비한다.
본 실시형태에서 사용하는 차광막 형성용 도포액은 적어도 바인더 수지, 흑색 미립자, 매트제 및 용매를 함유한다.
바인더 수지로서는 예를 들면 폴리(메타)아크릴산계 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리초산비닐 수지, 폴리염화비닐, 폴리비닐부티랄 수지, 셀룰로오스계 수지, 폴리스티렌/폴리부타디엔 수지, 폴리우레탄 수지, 알키드 수지, 아크릴 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 에폭시에스테르 수지, 에폭시 수지, 아크릴폴리올 수지, 폴리에스테르폴리올 수지, 폴리이소시아네이트, 에폭시 아크릴레이트계 수지, 우레탄 아크릴레이트계 수지, 폴리에스테르 아크릴레이트계 수지, 폴리에테르 아크릴레이트계 수지, 페놀계 수지, 멜라민계 수지, 요소계 수지, 디알릴프탈레이트계 수지 등의 열가소성 수지 또는 열경화성 수지를 들 수 있고 이들의 1종 또는 2종 이상의 혼합물이 사용된다. 내열 용도로 사용하는 경우에는 열경화성 수지가 적합하게 사용된다.
바인더 수지의 함유율은 도포액에 포함되는 불휘발분(고형분) 중 바람직하게는 20 중량% 이상, 보다 바람직하게는 30 중량% 이상, 더욱 바람직하게는 40 중량% 이상으로 한다. 20 중량% 이상으로 함으로써 기재에 대한 차광막의 접착력이 저하되는 것을 방지하기 쉽다. 한편 바인더 수지의 함유율은 도포액의 불휘발분 중 바람직하게는 70 중량% 이하, 보다 바람직하게는 65 중량% 이하, 더욱 바람직하게는 60 중량% 이하로 한다. 70 중량% 이하로 함으로써 차광막의 필요 물성(차광성 등)의 저하를 방지하기 쉽다.
흑색 미립자는 바인더 수지를 흑색으로 착색시켜 건조 후 도막(차광막)에 차광성을 부여하기 위해 배합된다. 흑색 미립자로서는 예를 들면 카본블랙, 티탄블랙, 아닐린블랙, 산화철 등을 들 수 있다. 그 중에서도 카본블랙은 도막에 차광성과 대전 방지성의 양 특성을 동시에 부여할 수 있기 때문에 특히 바람직하게 사용된다. 차광성에 더하여 대전 방지성을 요구하는 것은 차광재 제조 후, 이것을 소정 형상으로 형빼기(型拔)할 때나 형빼기 후의 제품(차광부재)을 부품으로서 광학기기 내에 세팅할 때의 작업성을 고려한 것이다.
또한 흑색 미립자로서 카본블랙을 사용하지 않는 경우에는 흑색 미립자 외에 별도로 도전제나 대전 방지제를 배합하는 것도 가능하다.
도막에 충분한 차광성을 부여하기 위해서 흑색 미립자의 평균 입경은 작을수록 바람직하다. 본 실시형태에서는 평균 입경이 예를 들면 1 ㎛ 미만, 바람직하게는 500 ㎚ 이하인 것을 사용할 수 있다.
흑색 미립자의 함유율은 도포액에 포함되는 불휘발분(고형분) 중 바람직하게는 5 중량%~20 중량%로 하고, 보다 바람직하게는 10 중량%~20 중량%로 한다. 5 중량% 이상으로 함으로써 차광막의 필요 물성으로서의 차광성의 저하를 방지하기 쉽다. 20 중량% 이하로 함으로써 차광막의 접착성이나 내찰상성이 향상되고 또한 도막 강도의 저하 및 고비용이 되는 것을 방지하기 쉽다.
다음으로 본 실시형태에서 사용하는 매트제의 상세를 설명한다.
본 실시형태에서 사용하는 차광막 형성용 도포액 중에 배합되는 매트제는 일반적으로 건조 후 도막의 표면에 미세한 요철을 형성하고, 이것에 의해 도막 표면에서의 입사광의 반사를 적게 하여 도막의 광택도(경면 광택도)를 저하시켜 최종적으로는 도막의 광택 제거성을 높이기 위해 배합된다. 이 광택 제거 효과를 얻기 위해서 특허문헌 1에서는 평균 입경만이 제어된 유기 필러를 사용하고 있지만 전술한 바와 같이 단순히 평균 입경을 제어한 것만으로는 완전한 광택 제거 성능을 얻을 수 없다.
이에 본 발명에서는 전술한 바와 같이 차광막에 광택 제거 효과를 직접적으로 부여할 수 있는 매트제의 선정기준을 고안함으로써 완전한 광택 제거성을 얻을 수 있는 것을 발견하였다.
일반적으로 매트제에는 유기계나 무기계가 존재하는데 본 실시형태에서는 유기계의 미립자를 사용하는 것이 바람직하다. 유기 미립자로서는 예를 들면 가교 아크릴 비드(투명, 착색의 여하는 불문) 등을 들 수 있다. 무기 미립자로서는 예를 들면 실리카, 메타규산 알루민산 마그네슘, 산화티탄 등을 들 수 있다.
본 발명에서는 무기 미립자를 사용해도 되지만 유기 미립자인 편이 도막 강도를 유지하면서 완전한 광택 제거 성능을 부여시키기 쉽기 때문에 본 실시형태에서는 유기 미립자가 바람직하게 사용된다.
또한 본 실시형태에 있어서 「유기 미립자를 사용한다」는 것에는 유기 미립자만을 사용하는 경우 외에 유기 미립자와 함께 무기 미립자를 병용하는 경우를 포함한다. 무기 미립자를 병용하는 경우, 전체 매트제 중 유기 미립자의 함유량이 예를 들면 90 중량% 이상, 바람직하게는 95 중량% 이상이 되도록 할 수 있다.
본 실시형태에서는 어떤 입경(일례로서 후술)에 있어서 그의 CV값(입도분포의 변동 계수)이 특정 값 이상인 것을 사용하는 방식을 채용하였다. 구체적으로는 어떤 입경에 있어서의 CV값이 20 이상, 바람직하게는 25 이상, 보다 바람직하게는 30 이상의 매트제(바람직하게는 유기 미립자)를 사용한다. 이러한 매트제를 사용함으로써 차광막의 막면에 대해서 연직방향에 가까운 각도(예를 들면 20도)나 60도는 물론 평면방향에 가까운 각도(예를 들면 85도)까지 온갖 각도로 입사되어 온 빛에 대해서 그 입사광에 대한 반사광을 확실하게 억제할 수 있어 완전한 광택 제거 성능이 얻어진다. 그 결과, 본 실시형태에서 얻어지는 차광재를 적용한 광학기기 내에 있어서 고스트라 불리는 문제가 발생하는 경우는 없다.
본 실시형태에 있어서 입도분포의 변동 계수(CV값)가 브로드인 매트제를 사용한 경우에 20도, 60도뿐 아니라 85도로부터 입사되어 온 빛에 대해서도 이것을 확실하게 반사를 억제할 수 있게 된(즉 G20, G60, G85 모두를 낮게 할 수 있는) 이유는 명확하지 않다. 그러나 이 현상은 아래와 같이 생각할 수 있다. 먼저 각종 입사각에서의 입사광의 반사광량을 조사해보면, 차광막의 막면에 대해서 연직방향에 가까운 각도의 반사광량을 억제하기 위해서는 단순히 표면이 거칠면 저광택이 되지만 G85와 같이 수평방향에 가까운 각도로부터 입사된 빛의 반사량을 억제하기 위해서는 단순히 거칠기만 해서는 저광택이 되지 않는 경우가 있었다. 예의 검토한 결과, 연직에 가까운 방향으로부터의 입사광의 반사를 억제하기 위해서는 작은 요철로 균일하게 거칠게 하는 수단이어도 유효하지만, 수평에 가까운 방향으로부터의 입사광의 반사를 억제하기 위해서는 작은 요철만으로는 달성할 수 없어, 작은 요철과 커다란 요철의 양쪽이 병존되어 있을 필요가 있는 것을 알 수 있었다.
여기서 매트제의 입도분포에 착안하면 샤프한 분포란 입자경이 고르기 때문에 그것을 사용한 도포액으로 이루어지는 차광막의 요철 크기도 고른 것이 되기 쉽다. 한편 입도분포가 브로드인 매트제의 경우는 평균 입경을 거의 중심으로 하여 크고 작은 입자경의 것이 포함되어 있어 그것으로 이루어지는 차광막의 요철은 크고 작은 것이 혼재되어 있다.
이러한 입도분포가 브로드인 매트제로 이루어지는 차광막에서는 수평방향에 가까운 각도로부터 입사된 빛은 커다란 볼록부분에서 차단되어 반대방향으로는 도달하기 어렵고, 차단된 빛은 작은 요철에서 흡수되거나 난반사되어 감쇠되는 것으로 생각된다. 따라서 적절히 크고 작은 매트제가 존재하여 크고 작은 요철이 있음으로써 G20, G60뿐 아니라 G85도 저광택도가 된다고 추측된다.
또한 여기서 커다란 요철만을 존재시킴으로써 G20, G60, G85 모두를 낮게 하는 수단도 생각할 수 있지만, 커다란 요철만으로 차광막을 형성하면 필연적으로 막두께도 커질 수 밖에 없어 최근 들어서의 박막화의 정세에 역행하게 된다.
본 실시형태에서는 상기 CV값의 기준이 되는 매트제의 입경으로서 아래의 방식을 채용하는 것이 바람직하다. 이 방식은 광학기기에서의 사용 개소에 따라서 차광재의 제품 태양(특히 차광재 전체의 두께, 차광막의 두께)이 상이해지는 것을 감안하여 형성하는 차광막의 막두께(Tt)에 대해서 사용하는 매트제의 입경을 결정하는 것이다. 구체적으로는 형성하는 차광막의 막두께(Tt)에 대해서 그 Tt의 35% 이상, 바람직하게는 40% 이상, 보다 바람직하게는 45% 이상이고, 또한 그 Tt의 110% 이하, 바람직하게는 105% 이하, 보다 바람직하게는 100% 이하 정도에 상당하는 평균 입경을 갖는 매트제를 사용하는 것이 바람직하다.
예를 들면 막두께(Tt)에 상당하는 건조 후 두께가 10 ㎛ 이하인 차광막을 형성하고자 하는 경우, 평균 입경이 3.5 ㎛ 정도~11 ㎛ 정도인 매트제를 사용할 수 있다. 차광막의 건조 후 두께를 5 ㎛로 하는 경우, 평균 입경이 1.75 ㎛ 정도~5.5 ㎛ 정도인 매트제를 사용할 수 있다.
이와 같이 CV값의 기준이 되는 매트제의 입경으로서 전술한 방식을 채용함으로써 완전한 광택 제거 성능을 얻는 것이 한층 더 용이해진다.
본 실시형태에 있어서 막두께(Tt)란 건조 후의 차광막을 밀리트론 1202-D(마르사 제조) 막두께계로 차광막의 장소를 바꿔서 10점 측정한 산술 평균값을 의미하고 있다.
본 실시형태에 있어서 브로드인 매트제를 포함하는 도포액과 샤프인 매트제를 포함하는 도포액을 각각 동일한 부착량으로 도포해도 형성되는 도막(차광막)의 건조 후 막두께(Tt)가 상이한 경우가 있다. 브로드인 매트제를 포함하는 도포액을 사용하여 형성한 도막은 샤프인 매트제를 포함하는 도포액을 사용하여 형성한 도막과 비교하여 평균 입경의 값보다도 큰 입경을 갖는 매트제가 포함되어 있고, 이러한 큰 입경의 매트제가 도막 중에 존재함으로써 실측 막두께를 올리는 것으로 생각된다.
또한 종래기술의 항에서 기술한 특허문헌 1의 기술에 의하면 차광막의 건조 후 두께보다도 상당히 작은 입경을 갖는 유기 필러를 사용하여 필름 기재 상에 차광막을 형성하고 있다(실시예 참조. 전체 실시예에서 평균 입경이 3 ㎛인 유기 필러를 사용하고 차광막의 건조 후 막두께는 실시예 1~3이 10 ㎛, 실시예 4가 12 ㎛). 그러나 이러한 설계로 한 경우 차광막 중에 유기 필러가 매몰되기 쉬워 차광막의 표면 부근에 유기 필러를 존재시키도록 제어하는 것이 어렵다. 그 결과, 차광막 표면에서의 입사광의 반사를 적게 하여 차광막의 광택도(경면 광택도)를 저하시킬 수 없고 최종적으로는 차광막의 광택 제거성을 높이는 것이 곤란하다.
가령 차광막의 표면 부근에 유기 필러를 존재시키도록 제어할 수 있었다고 하더라도 특허문헌 1의 기술에서는 평균 입경만이 제어된 유기 필러를 사용하기 때문에 광택 제거 성능을 완전하게 할 수 없는 것은 전술한 바와 같다.
매트제의 함유량은 바인더 수지 100 중량부에 대해서 50 중량부 이상, 바람직하게는 60 중량부 이상, 보다 바람직하게는 70 중량부 이상이고, 170 중량부 이하, 바람직하게는 140 중량부 이하, 보다 바람직하게는 110 중량부 이하로 할 수 있다. 이러한 범위로 매트제를 도포액 중에 배합함으로써 최종적으로 얻어지는 차광재의 슬라이딩에 의해 차광막으로부터 매트제가 탈락하는 것이나 차광재의 슬라이딩성 저하 등 제성능의 저하 방지에 기여할 수 있다.
용매로서는 물이나 유기 용제, 물과 유기 용제의 혼합물 등을 사용할 수 있다.
본 실시형태에서 제조되는 차광재의 가공품을 각 렌즈 사이에 삽입되는 매우 얇은 스페이서 용도로 사용하는 경우 등 차광막에 높은 슬라이딩성이 요구되지 않는 용도로 사용하는 경우, 종래 차광막에 배합되어 있었던 활제(왁스)를 도포액 중에 배합하는 것을 필요로 하지 않는다. 단, 이러한 용도로 사용하는 경우에도 활제를 배합해도 된다.
활제로서 입자상의 것을 첨가하는 경우는 유기계, 무기계 중 어느 것이든 사용할 수 있다. 예를 들면 폴리에틸렌 왁스, 파라핀 왁스 등의 탄화수소계 활제, 스테아르산, 12-히드록시스테아르산 등의 지방산계 활제, 올레산아미드, 에루크산아미드 등의 아미드계 활제, 스테아르산모노글리세라이드 등의 에스테르계 활제, 알코올계 활제, 금속 비누, 활석, 이황화몰리브덴 등의 고체 윤활제, 실리콘 수지 입자, 폴리테트라플루오르화에틸렌 왁스 등의 불소 수지 입자, 가교 폴리메틸메타크릴레이트 입자, 가교 폴리스티렌 입자 등을 들 수 있다. 입자상 활제를 배합하는 경우에는 특히 유기계 활제를 사용하는 것이 바람직하다. 또한 활제로서 상온에서 액상인 것을 첨가하는 경우는 불소계 화합물이나 실리콘 오일 등을 사용하는 것도 가능하다. 활제를 배합하는 경우, 상온에서 액상인 것을 사용하는 것이 바람직하다. 액상의 활제라면 매트제에 의한 차광막 표면의 요철형상의 형성에 영향을 미치기 어렵기 때문이다.
또한 차광막 형성용 도포액에는 본 발명의 기능을 손상시키지 않는 범위라면 필요에 따라서 난연제, 항균제, 곰팡이 방지제, 산화 방지제, 가소제, 레벨링제, 유동 조정제, 소포제, 분산제 등의 첨가제를 배합하는 것도 가능하다.
(2) 다음으로 준비한 차광막 형성용 도포액을 기재 상에 예를 들면 막두께(Tt)가 되는 양으로 도포하고 건조시킨 후 필요에 따라서 가열·가압 등을 시킨다.
기재로서는 폴리에스테르 필름, 폴리이미드 필름, 폴리스티렌 필름, 폴리카보네이트 필름 등의 합성 수지 필름을 들 수 있다. 그 중에서도 폴리에스테르 필름이 적합하게 사용되고 연신가공, 특히 이축 연신가공된 폴리에스테르 필름이 기계적 강도, 치수 안정성이 우수한 점에서 특히 바람직하다. 또한 내열 용도로의 사용에는 폴리이미드 필름이 적합하게 사용된다.
기재로서 투명한 것은 물론 발포 폴리에스테르 필름이나 카본블랙 등의 흑색 안료나 다른 안료를 함유시킨 합성 수지 필름 외에 기재 자체에 차광성이나 강도가 있는 박막의 금속판을 사용하는 것도 가능하다. 이 경우, 기재는 각각의 용도에 따라 적절한 것을 선택할 수 있다. 예를 들면 차광재로서 사용할 때에 높은 차광성이 필요한 경우에는 전술한 흑색 미립자와 동종의 흑색 미립자 함유의 합성 수지 필름이나 박막의 금속판을 사용할 수 있고, 다른 경우에 있어서는 투명 또는 발포한 합성 수지 필름을 사용할 수 있다. 후술하는 방법으로 형성되는 차광막은 그것 자체로 차광재로서의 충분한 차광성이 얻어지는 것으로부터 합성 수지 필름에 흑색 미립자를 함유시키는 경우에는 합성 수지 필름이 육안으로 봤을 때 흑색으로 보이는 정도, 즉 광학 투과농도가 2 정도가 되도록 함유시키면 된다.
기재의 두께는 사용하는 용도에 따라 상이하지만 경량인 차광재로서의 강도나 강성 등의 관점에서 일반적으로 6 ㎛~250 ㎛ 정도로 한다. 기재에는 차광막과의 접착성을 향상시키는 관점에서 필요에 따라서 앵커처리, 코로나처리, 플라즈마처리 또는 EB처리를 행하는 것도 가능하다.
도포액의 도포방법은 특별히 한정되지 않고 종래부터 공지의 방식(예를 들면 딥 코트, 롤 코트, 바 코트, 다이 코트, 블레이드 코트, 에어나이프 코트 등)에 의해 행할 수 있다.
본 실시형태에서 사용하는 도포액은 그 비중이 대략 0.9~1.2 정도이고 그의 고형분(NV)은 통상 5% 이상, 바람직하게는 10% 이상이며, 통상 40% 이하, 바람직하게는 30% 이하 정도로 조제된다. 도포액은 통상 6 g/㎡ 이상, 바람직하게는 8 g/㎡ 이상, 보다 바람직하게는 10 g/㎡ 이상이고, 통상 100 g/㎡ 이하, 바람직하게는 80 g/㎡ 이하, 보다 바람직하게는 60 g/㎡ 이하 정도의 부착량으로 기재 상에 도포된다.
이상의 공정을 거침으로써 기재 상에 차광막이 막두께(Tt)로 형성된 차광재가 얻어진다.
본 실시형태에 따르면 변동 계수가 20 이상인 매트제를 포함하는 도공액을 사용하여 기재 상에 차광막이 형성된 차광재를 제조한다. 이 때문에 저광택도 영역이 넓은 완전한 광택 제거 효과가 부여된 차광막을 갖는 차광재를 얻을 수 있다. 도공액 중에는 바인더 수지와 흑색 미립자를 배합하고 있기 때문에 형성되는 차광막에 대해서 차광성 등의 필요 물성을 유지시키는 것도 가능하다.
본 실시형태에 따른 방법으로 제조된 광학기기용 차광재에 의하면 변동 계수가 20 이상인 매트제를 포함하는 도공액을 사용하여 차광막을 형성하고 있기 때문에 그 차광막에 저광택도 영역이 넓은(G20, G60 및 G85 모두 낮은) 완전한 광택 제거 효과를 부여하는 것이 가능하다.
전술한 완전한 광택 제거 효과는 특히 차광막의 박막화(예를 들면 6 ㎛ 정도 이하)가 요구되는 용도에 유효하다. 예를 들면 광학기기의 일례로서의 카메라(촬상(撮像)장치)에 있어서 촬영 광학계 렌즈 부분에는 복수 매의 렌즈가 사용되고 각 렌즈 사이에 매우 얇은 스페이서가 삽입되는데, 이 스페이서나 상기 촬영 광학계 내벽 등에 본 발명방법으로 얻어지는 차광재를 적용하고자 하는 경우에 특히 유효하다. 종래부터 사용되고 있는 셔터나 조리개 등의 부품에 적용 가능한 것은 물론이다.
본 실시형태에서는 변동 계수가 20 이상인 매트제를 포함하는 도공액을 사용하기 때문에 저광택도 영역이 넓은 완전한 광택 제거 효과가 부여된 차광막을 각종 막두께로 형성할 수 있다.
실시예
이하, 실시예에 의해 본 발명을 추가로 설명한다. 또한 「부」, 「%」는 특별히 나타내지 않는 한 중량기준으로 한다.
1. 차광재 샘플의 제작
[실험예 1-1~8-3]
기재로서 두께 25 ㎛의 흑색 PET 필름(루미러 X30:도레이사)을 사용하고 그의 양면에 하기 처방의 도포액 a~h를 각각 바 코트법에 의해 도포하였다. 각 도포액의 아크릴폴리올 등의 함유량(부, 고형분 환산)을 표 1에 나타낸다. 각 도포액의 고형분은 모두 20%로 조제하였다.
그 후 건조를 행하여 차광막 A1~H3를 형성하고 각 실험예의 차광재 샘플을 제작하였다. 각 도포액의 부착량은 후술하는 표 2에 나타내었다.
<차광막 형성용 도포액 a~h의 처방>
·아크릴폴리올(고형분 50%) 153.8부
(아크리딕 A807:DIC사)
·이소시아네이트(고형분 75%) 30.8부
(바녹 DN980:DIC사)
·카본블랙(평균 입경 25 ㎚) 24부
(도카블랙 #5500:도카이 카본사)
·표 1에 기재된 매트제 (표 1에 기재된 부)
·메틸에틸케톤, 톨루엔 611.4~1091.4부
Figure pct00001
또한 표 1 중 매트제 X1,X2는 모두 평균 입경이 5 ㎛인 투명 아크릴 비드이지만 각각 입도분포의 변동 계수(CV값)가 상이하다. CV값은 매트제 X1이 31.4인 브로드품, 매트제 X2가 8.45인 샤프품이다.
또한 매트제 X3는 평균 입경이 3 ㎛인 흑색 아크릴 비드, 매트제 X4,X5는 모두 평균 입경이 3 ㎛인 투명 아크릴 비드이지만 각각 입도분포의 CV값이 상이하다. CV값은 매트제 X3가 54.1인 브로드품, 매트제 X4가 29.5인 브로드품, 매트제 X5가 10.7인 샤프품이다.
이하, 매트제 X1,X2를 각각 투명 5 ㎛ 브로드, 투명 5 ㎛ 샤프라고도 하는 경우가 있다. 또한 매트제 X3,X4,X5를 각각 흑색 3 ㎛ 브로드, 투명 3 ㎛ 브로드, 투명 3 ㎛ 샤프라고도 하는 경우가 있다.
2. 평가
각 실험예에서 얻어진 차광재 샘플에 대해서 하기의 방법으로 물성의 평가를 하였다. 결과를 표 2에 나타낸다. 또한 표 2에는 표 1의 도포액의 도포량, 형성한 차광막의 막두께 등도 기재하였다.
단 하기 (1) 차광성의 평가에 대해서는 두께 25 ㎛의 투명 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(루미러 T60:도레이사)의 편면에 상기 각 실험예의 처방의 각 도포액을 부착량 14 g/㎡가 되도록 도포, 건조하여 형성한 샘플을 사용하여 행하였다.
(1) 차광성의 평가
각 실험예의 샘플의 광학 투과농도를 JIS-K7651:1988을 토대로 광학농도계(TD-904:그레태그맥베스사)를 사용하여 측정하였다. 그 결과, 측정값이 4.0을 초과한 것을 「○」, 4.0 이하였던 것을 「×」로 하였다. 또한 광학농도의 측정은 UV 필터를 사용하였다.
(2) 도전성의 평가
각 실험예에서 얻어진 차광재 샘플의 표면저항률(Ω)을 JIS-K6911:1995를 토대로 측정하였다. 측정값이 1.0×106 Ω 이하였던 것을 「○」, 1.0×106 Ω을 초과하고 1.0×1010 Ω 이하였던 것을 「△」, 1.0×1010 Ω을 초과한 것을 「×」로 하였다.
(3) 광택 제거성의 평가
각 실험예에서 얻어진 차광재 샘플에 대해서 그 차광막 표면의 20도, 60도 및 85도의 각 경면 광택도(G20, G60, G85)를 JIS-Z8741:1997을 토대로 광택계(상품명:VG-2000, 일본 전색 공업사)를 사용하여 측정하였다(단위는 %).
G20으로서는 그 측정값이 0.3 미만이었던 것을 「◎◎」, 0.3 이상 0.5 미만이었던 것을 「◎」, 0.5 이상 0.7 미만이었던 것을 「○」, 0.7 이상이었던 것을 「×」로 하였다. G60에 관해서는 그 측정값이 0.5 미만이었던 것을 「◎◎」, 0.5 이상 0.7 미만이었던 것을 「◎」, 0.7 이상 1 미만이었던 것을 「○」, 1 이상이었던 것을 「×」로 하였다. G85에 관해서는 그 측정값이 8 미만이었던 것을 「◎◎」, 8 이상 10 미만이었던 것을 「◎」, 10 이상 15 미만이었던 것을 「○」, 15 이상이었던 것을 「×」로 하였다.
G20, G60 및 G85의 각 수치가 작을수록 광택도가 낮고, 광택도가 낮을수록 광택 제거성이 우수한 것이 확인된다.
Figure pct00002
3. 고찰
표 2로부터 아래의 것을 이해할 수 있다.
전체 실험예에 있어서 형성된 차광막의 차광성, 도전성은 양호하였다. 그러나 매트제로서 샤프품을 사용한 것(실험예 5-1~실험예 5-3, 실험예 8-1~실험예 8-3)은 광택 제거성에 있어서 G85의 평가가 낮았다.
이에 대해서 매트제로서 브로드품을 사용한 것(실험예 1-1~실험예 4, 실험예 6-1~7-3)에 대해서는 광택 제거성에 관해서 G20, G60과 함께 G85에 대해서도 우수한 결과가 얻어졌다. 특히 CV값이 30 이상인 브로드품을 사용한 것(실험예 1-1~실험예 4, 실험예 6-1~6-3)은 CV값이 20 이상이지만 30 미만인 브로드품을 사용한 것(실험예 7-1~실험예 7-3)과 비교하여 G85에 관해서 한층 더 우수한 효과가 얻어지는 것을 확인할 수 있었다.
4. 적정 막두께 범위의 평가
투명 5 ㎛ 브로드인 매트제 X1을 사용한 도포액 a를 사용하여 부착량이 각각 14 g/㎡, 28 g/㎡, 46 g/㎡, 81 g/㎡가 되는 양으로 PET 필름 상의 편면에 도포하였다. 그 후 건조를 행하여 차광막 A1(5.5 ㎛), A2(8 ㎛), A3(10 ㎛), A4(15 ㎛)를 형성하고 차광재 샘플을 제작하였다.
투명 5 ㎛ 샤프인 매트제 X2를 사용한 도포액 e를 사용하여 부착량이 각각 14 g/㎡, 28 g/㎡, 46 g/㎡, 81 g/㎡가 되는 양으로 PET 필름 상의 편면에 도포하였다. 그 후 건조를 행하여 차광막 E1(5 ㎛), E2(7 m), E3(9 ㎛), E4(15 ㎛)를 형성하고 차광재 샘플을 제작하였다.
각 샘플에 대해서 상기 (3)의 평가를 행하였다. 그 결과 도포액 a를 사용한 샘플은 모두 G20, G60 및 G85의 각 수치가 작고, 그 결과 광택도가 낮은 것이 확인되어 완전한 광택 제거 효과가 부여되어 있었다. 한편 도포액 e를 사용한 샘플은 15 ㎛의 후막(厚膜)인 차광막 E4가 형성된 샘플만 G20, G60 및 G85의 각 수치가 작은 것이 확인되었으나, 그 밖의 막두께에서는 완전한 광택 제거 효과가 부여되어 있지 않았다.
이상으로부터 매트제 X1을 사용함으로써 매트제 X2를 사용하는 경우와 비교하여 완전한 광택 제거 효과가 부여되는 차광막의 막두께 범위를 넓힐 수 있는 것을 확인할 수 있었다.
[실험예 9]
실험예 1-1에서 사용한 도포액 a 중에 액상의 활제로서의 실리콘 오일이 3%가 되도록 배합하여 도포액 i를 조제한 이외는 실험예 1-1과 동일한 조건에서 기재 상에 차광막 I를 형성하고 실험예 9의 차광재 샘플을 제작하였다.
그 후 실험예 1-1과 동일한 조건에서 광택 제거성을 평가한 결과, 실험예 1-1의 경우와 동등한 성능이 얻어졌음에도 불구하고 실험예 1-1과 비교하여 슬라이딩성이 보다 우수한 것을 확인할 수 있었다. 구체적으로는 정마찰계수(μs)가 0.35 이하이고 동마찰계수(μk)가 0.25 이하로 차광막의 표면 성상에 영향을 미치지 않고 슬라이딩성을 향상시킬 수 있었다.
또한 본 예에서의 μs와 μk는 JIS-K7125:1999를 토대로 하중:200 g, 속도:100 ㎜/분의 조건에서 측정한 값이다.

Claims (8)

  1. 기재 상에 차광막이 형성된 광학기기용 차광재를 제조하는 방법에 있어서,
    적어도 바인더 수지, 흑색 미립자 및 변동 계수가 20 이상인 매트제를 포함하는 도공액(塗工液)을 준비하고, 이 도공액을 기재 상에 도포하고 건조시켜 차광막을 형성하는 것을 특징으로 하는 광학기기용 차광재의 제조방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 매트제는 상기 차광막의 막두께의 35~110%에 상당하는 평균 입경을 갖는 것을 특징으로 하는 광학기기용 차광재의 제조방법.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 매트제는 평균 입경이 10 ㎛ 이하인 유기 미립자인 것을 특징으로 하는 광학기기용 차광재의 제조방법.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 매트제는 상기 도공액 중 바인더 수지 100 중량부에 대해서 50 중량부 이상 170 중량부 이하의 양으로 함유되어 있는 것을 특징으로 하는 광학기기용 차광재의 제조방법.
  5. 기재 상에 적어도 바인더 수지, 흑색 미립자 및 매트제를 포함하는 차광막을 갖는 광학기기용 차광재에 있어서,
    상기 차광막은 변동 계수가 20 이상인 매트제를 포함하는 도공액을 사용하여 형성되고,
    60도 경면 광택도가 1 미만이고 또한 85도 경면 광택도가 15 미만으로 조정되어 있는 것을 특징으로 하는 광학기기용 차광재.
  6. 기재 상에 차광막을 갖는 광학기기용 차광재의 상기 차광막을 형성하기 위한 도공액에 있어서,
    적어도 바인더 수지, 흑색 미립자, 매트제 및 용매를 포함하고,
    상기 매트제는 변동 계수가 20 이상인 것을 특징으로 하는 차광막 형성용 도공액.
  7. 제5항에 기재된 차광재를 사용한 광학 부품.
  8. 제7항에 기재된 광학 부품을 포함하는 촬상장치.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200015121A (ko) 2018-08-02 2020-02-12 한국다이요잉크 주식회사 광학기기 렌즈용 스페이서 및 그 제조방법

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6650686B2 (ja) * 2015-05-21 2020-02-19 株式会社きもと 遮光部材
JP6202129B1 (ja) * 2016-04-11 2017-09-27 東洋インキScホールディングス株式会社 遮光性部材の製造方法
JP6843520B2 (ja) * 2016-04-28 2021-03-17 キヤノン株式会社 光学素子、光学素子の製造方法、および光学機器
JP6276902B1 (ja) 2016-05-16 2018-02-07 キヤノン電子株式会社 繊維強化積層体、シャッタ装置および光学機器
US10668693B2 (en) * 2016-11-15 2020-06-02 Largan Precision Co., Ltd. Composite light blocking sheet, imaging lens assembly and electronic device
FR3059675B1 (fr) * 2016-12-02 2019-05-10 Axon Cable Vernis antifongique pour gaine thermoretractable de harnais bus
JP6368445B1 (ja) * 2017-03-27 2018-08-01 株式会社きもと 積層遮光フィルム、並びに、これを用いた光学機器用遮光リング、レンズユニット及びカメラモジュール
JP6750570B2 (ja) * 2017-06-15 2020-09-02 東洋インキScホールディングス株式会社 遮光層形成用樹脂組成物、遮光層、および遮光性部材
KR101843401B1 (ko) * 2017-12-22 2018-03-29 (주)코원티엔에스 플레어 현상이 저감된 카메라 렌즈용 스페이서 및 이의 제조방법
US11193039B2 (en) * 2018-07-16 2021-12-07 Ppg Industries Ohio, Inc. Stain resistant coating compositions
JP7330738B2 (ja) * 2019-04-16 2023-08-22 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 低光沢な外観を呈する積層体及び表面コーティング剤
TW202235259A (zh) * 2020-11-25 2022-09-16 日商索馬龍股份有限公司 黑色遮光部件
KR102567450B1 (ko) * 2021-10-18 2023-08-16 티에스엠카본 주식회사 차광필름용 조성물 및 이를 이용한 차광필름
JP7298107B1 (ja) * 2022-12-19 2023-06-27 東洋インキScホールディングス株式会社 低反射性積層体、及びその製造方法
CN116656227A (zh) * 2023-05-22 2023-08-29 中山市永鑫电子科技有限公司 一种消光涂料及其制备方法和光学仪器用遮光膜

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3035645B2 (ja) 1994-03-31 2000-04-24 ソマール株式会社 遮光フィルム
CN1058444C (zh) * 1994-03-31 2000-11-15 苏马吕株式会社 阻光膜
JPH09160180A (ja) * 1995-12-08 1997-06-20 Fuji Photo Film Co Ltd 完全遮光性写真感光材料用包装材料とこれを用いた写真感光材料用遮光袋
US6219113B1 (en) * 1996-12-17 2001-04-17 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method and apparatus for driving an active matrix display panel
JP3719811B2 (ja) * 1997-03-27 2005-11-24 ソマール株式会社 反射防止フィルム
JP3215815B2 (ja) * 1998-09-02 2001-10-09 日本電産コパル株式会社 光学機器用遮光羽根材
JP4652527B2 (ja) * 2000-05-16 2011-03-16 株式会社きもと 光拡散性シート
JP2002174704A (ja) * 2000-12-06 2002-06-21 Fuji Photo Film Co Ltd 光拡散フィルムの製造方法
US20040058284A1 (en) * 2002-03-01 2004-03-25 Fuji Photo Film Co., Ltd. Silver halide color photographic light-sensitive material
JP4002453B2 (ja) * 2002-03-12 2007-10-31 株式会社きもと 光吸収性部材
JP2003276040A (ja) * 2002-03-27 2003-09-30 Nidec Copal Corp 光学機器用遮光羽根材及びその製造方法
JP2004010875A (ja) * 2002-06-12 2004-01-15 Mitsubishi Polyester Film Copp ディスプレイ用ポリエステルフィルム
US7166408B2 (en) * 2003-10-31 2007-01-23 Fujifilm Corporation Image forming method using photothermographic material
JP4386919B2 (ja) * 2004-08-10 2009-12-16 株式会社きもと 光学機器用遮光部材
JP2006225495A (ja) * 2005-02-17 2006-08-31 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 黒色微粒子と黒色微粒子分散液及び黒色遮光膜並びに黒色遮光膜付き基材
US20060172236A1 (en) * 2005-01-31 2006-08-03 Keiko Maeda Silver salt photothermographic dry imaging material and image forming method
US20060233972A1 (en) * 2005-03-03 2006-10-19 Fuji Photo Film Co., Ltd. Optical functional film, production method thereof, and polarizing plate and image display device using the same
JP2006332459A (ja) * 2005-05-27 2006-12-07 Fujifilm Holdings Corp 導電性金属膜形成用感光材料、導電性金属膜の製造方法、導電性金属膜、及びプラズマディスプレイパネル用透光性電磁波シールド膜
JP4856989B2 (ja) * 2005-08-17 2012-01-18 富士フイルム株式会社 光学樹脂フィルム、これを用いた偏光板および液晶表示装置
JP2007079533A (ja) * 2005-08-17 2007-03-29 Fujifilm Corp 光学樹脂フィルム、これを用いた偏光板および液晶表示装置
CN101484746B (zh) * 2006-06-23 2013-06-12 东丽株式会社 白色反射膜
JPWO2008020587A1 (ja) * 2006-08-14 2010-01-07 大日本印刷株式会社 防眩性光学積層体
JP5097381B2 (ja) * 2006-11-02 2012-12-12 ソマール株式会社 遮光フィルム及びその製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200015121A (ko) 2018-08-02 2020-02-12 한국다이요잉크 주식회사 광학기기 렌즈용 스페이서 및 그 제조방법

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