JP2002174704A - 光拡散フィルムの製造方法 - Google Patents

光拡散フィルムの製造方法

Info

Publication number
JP2002174704A
JP2002174704A JP2000371856A JP2000371856A JP2002174704A JP 2002174704 A JP2002174704 A JP 2002174704A JP 2000371856 A JP2000371856 A JP 2000371856A JP 2000371856 A JP2000371856 A JP 2000371856A JP 2002174704 A JP2002174704 A JP 2002174704A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
transparent
transparent beads
beads
absorbing layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000371856A
Other languages
English (en)
Inventor
Keisuke Koseki
圭介 小関
Kenichi Nakagawa
謙一 中川
Sumitaka Tatsuta
純隆 龍田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP2000371856A priority Critical patent/JP2002174704A/ja
Publication of JP2002174704A publication Critical patent/JP2002174704A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光の出射部分の均一性が高く、余分な光吸収
層が除去され光入射部分の面積が大きいことから、透過
効率が高く、視野角特性に優れ、濃度ムラの少ない光拡
散フィルムの製造方法の提供。 【解決手段】 透明基材表面に、下塗り透明層を形成
し、該下塗り透明層に透明ビーズを埋設し、光吸収層用
塗布液を塗布し、該透明ビーズ上を除く部分を露光し硬
化により光吸収層を形成した後、該光吸収層の未露光部
を除去することを特徴とする光拡散フィルムの製造方法
である。露光が、透明基材側から紫外線を照射して行わ
れ、透明ビーズが、紫外線吸収剤を含む態様、紫外線吸
収剤が酸化チタンである態様、透明ビーズの体積平均粒
径(D50)が0.5〜20μmである態様、透明ビーズ
の体積平均粒径(D50)が0.5〜50μmである態
様、除去が溶剤を用いて行われる態様等が好ましい。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、背面投射型表示装
置の透過型スクリーンや液晶表示装置に用いられる光拡
散フィルムの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、階調・色度等の視野角特性を格段
に向上させる技術として公知の液晶表示装置は、図1に
液晶表示装置100で示すように、液晶パネル2と、平
行光線束(コリメート光)を液晶パネル2に入射させる
バックライト部4と、液晶パネル2で空間偏調された画
像光を拡散する光拡散フィルム6と、を有する。
【0003】光拡散フィルム6は、図2に概略的に示す
ように、光透過性基材(透明基材)10上に、光透過性
の微小球体透明ビーズ(以下、「透明ビーズ」と称する
ことがある。)14が、光吸収層20によって固定され
てなる。透明ビーズ14は、一部が透明基材10に接触
して、光吸収層20に埋設されている。
【0004】液晶パネル2に入射した平行光線束(コリ
メート光)は、一点鎖線で示すように、光拡散フィルム
6において、透明ビーズ14によって屈折し、透明ビー
ズ14と透明基材10との接触部を通過して拡散され
る。光吸収層20は、光吸収性を有するため、透明ビー
ズ14と透明基材10との接触部以外はブラックマスク
となり、観察者側からの外光が光拡散フィルム6によっ
て反射・散乱されることがなく、コントラストの低下も
ないため、広い視野角に亘って良好なコントラスト比が
得られる。
【0005】前記光拡散フィルムの製造方法として、特
開平9−318801号公報において、下記〜で示
す、入射光量に優れた光拡散フィルムの製造方法が開示
されている。 透明基材10を準備し(図3(a))、その上に、
バインダとして、下塗り透明層12、光吸収層20を順
次形成する(図3(b))。 光吸収層20の上に透明ビーズ14を分散配置する
(図3(c))。 透明ビーズ14が分散配置された光吸収層20およ
び透明基材10を上下から押圧し(図3(d))、透明
ビーズ14の一部が、光吸収層20を貫通して下塗り透
明層12に埋設され、固着されて光拡散フィルム6が製
造される(図3(e))。
【0006】前記製造方法により得られた光拡散フィル
ム6において、透明ビーズ14は、下塗り透明層12に
その一部が埋設され、光吸収層20に囲まれており、光
入射側において光吸収層20から露出した構成であるた
め、入射光は、多数配列された密な透明ビーズ14に効
率良く入射され、入射した光束は透明ビーズ14のレン
ズ作用によって一旦収束されて拡散され、視野角が向上
する。また、光拡散フィルム6への入射光のうち、透明
ビーズ14に入射されなかった光、即ち、透明ビーズ1
4によりレンズ作用を受けなかった光は、光吸収層20
に吸収され、前方への透過が阻止される。更に、光拡散
フィルム6の前方(すなわち、光出射側)から入射する
外光も、殆んど光吸収層20に吸収されるため、迷光と
なって前方から観察されることが無く、コントラストが
向上する。
【0007】しかし、前記製造方法においては、図3
(f)に示すように、透明ビーズ14の大きさが揃って
いない場合、即ち、標準的な大きさの透明ビーズ14の
ほか、小さめの透明ビーズ142、大きめの透明ビーズ
143等が混在している場合、総ての透明ビーズ14、
142、143等が透明基材10に、均等に接触して埋
設されるとは限らないという問題があった。即ち、小さ
めの透明ビーズ142に関しては、透明基材10に接触
せず、光吸収層20の中に浮いた状態で配置され、入射
光量が低減するという問題があった。また、大きめの透
明ビーズ143に関しては、押圧時の押圧力により破損
し、光抜け等の画状欠陥が生じるという問題があった。
【0008】前記問題を解決する技術として、特開平1
1−102025号公報において、下塗り透明層の溶融
粘度をnとし光吸収層の溶融粘度をn’としたとき、 n>n’ の関係、即ち、下塗り透明層の溶融粘度nを光吸収層の
溶融粘度n’より高くすることにより、入射光の透過効
率を高めた発明が開示されている。この発明によれば、
透明ビーズを熱プレスにより埋設させる際、光吸収層
が、下塗り透明層よりも先に変形するため、透明ビーズ
の光出射部分が下塗り透明層に露出し易く、入射光量の
透過効率が高い。
【0009】しかし、熱プレス時の押圧力が低圧・不均
一である場合、依然として光の出射部分の面積が不充分
となり、下塗り透明層に接触していない透明ビーズが存
在する等の問題があった。特に、透明ビーズのサイズが
大きく分布している場合にこの問題は顕著であり、依然
として、入射光の透過効率向上には不充分であるという
問題があった。また、押圧時の圧力が高いと、透明ビー
ズが破損し、光抜けの面状欠陥が生じるという問題も、
依然として残っていた。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来に
おける諸問題を解決し、以下の課題を達成することを目
的とする。即ち、本発明は、光の出射部分の均一性が高
く、余分な光吸収層が除去され光入射部分の面積が大き
いことから、透過効率が高く、視野角特性に優れ、濃度
ムラの少ない光拡散フィルムの製造方法を提供すること
を目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
の手段としては、以下の通りである。即ち、 <1> 透明基材表面に、下塗り透明層を形成し、該下
塗り透明層に透明ビーズを埋設し、光吸収層用塗布液を
塗布し、該透明ビーズ上を除く部分を露光し硬化により
光吸収層を形成した後、該光吸収層の未露光部を除去す
ることを特徴とする光拡散フィルムの製造方法である。 <2> 露光が、透明基材側から紫外線を照射して行わ
れ、透明ビーズが、紫外線吸収剤を含む前記<1>に記
載の光拡散フィルムの製造方法である。 <3> 紫外線吸収剤が、酸化チタンである前記<2>
に記載の光拡散フィルムの製造方法である。 <4> 透明ビーズの体積平均粒径(D50)が、0.5
〜20μmである前記<1>から<3>のいずれかに記
載の光拡散フィルムの製造方法である。
【0012】<5> 透明ビーズの体積平均粒径
(D50)が、0.5〜50μmである前記<1>から<
3>のいずれかに記載の光拡散フィルムの製造方法であ
る。 <6> 除去が、溶剤を用いて行われる前記<1>から
<5>のいずれかに記載の光拡散フィルムの製造方法で
ある。 <7> 光吸収層用塗布液における界面活性剤の含有量
が、0.10重量%以下である前記<1>から<6>の
いずれかに記載の光拡散フィルムの製造方法である。 <8> 透明ビーズが、表面疎水化処理されたものであ
る前記<1>から<7>のいずれかに記載の光拡散フィ
ルムの製造方法である。
【0013】<9> 下塗り透明層上に透明ビーズを載
せ、加熱することにより該透明ビーズを該下塗り透明層
に埋設させる前記<1>から<8>のいずれかに記載の
光拡散フィルムの製造方法である。 <10> 透明ビーズ上に伝熱性可撓性物質を載せ加圧
する前記<9>に記載の光拡散フィルムの製造方法であ
る。 <11> 伝熱性可撓性物質が、シリコーンゴムである
前記<10>に記載の光拡散フィルムの製造方法であ
る。
【0014】
【発明の実施の形態】以下に、本発明を詳細に説明す
る。本発明の光拡散フィルムの製造方法は、透明基材表
面に、下塗り透明層を形成し、該下塗り透明層に透明ビ
ーズを埋設する埋設工程と、光吸収層用塗布液を塗布
し、該透明ビーズ上を除く部分を露光し硬化により光吸
収層を形成する光吸収層形成工程と、該光吸収層の未露
光部を除去する除去工程と、を有し、必要に応じてその
他の工程を有する。
【0015】[埋設工程]前記埋設工程においては、透
明基材表面に、下塗り透明層を形成し、該下塗り透明層
に透明ビーズを埋設する。
【0016】−透明基材− 前記透明基材の材料としては、特に制限はなく、充分な
光透過性を有し、かつ、用途に応じた充分な機械的強度
を有すれば、各種の材料が利用可能である。具体的に
は、各種のガラス、ポリエステル、ポリオレフィン、ポ
リアミド、ポリエーテル、ポリエチレンテレフタレート
(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポ
リスチレン、ポリエステルアミド、ポリカーボネート、
ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルエステル、ポ
リ塩化ビニル、ポリメタクリル酸エステル、等の各種の
樹脂材料が好適に挙げられる。前記透明基材の厚みとし
ては、特に制限はないが、15μm以下が好ましく、5
μm以下がより好ましい。
【0017】前記透明基材には、液晶表示装置における
観察性の向上を目的として、観察面(透明ビーズを埋設
するのとは逆の面)側に、ARコート等の公知の反射防
止処理を施すのが好ましい。
【0018】−下塗り透明層− 前記下塗り透明層の材料としては、特に制限はなく、透
明ビーズを埋設可能であれば、各種の樹脂等が好適に用
いられる。具体的には、酢酸ビニル樹脂、エチレン−酢
酸ビニル共重合体、塩化ビニル樹脂、塩化ビニル−塩ビ
ニリデン共重合体、(メタ)アクリル酸エステル樹脂、
ブチラール樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル、フッ化
ビニリデン樹脂、ニトロセルロース樹脂、ポリスチレ
ン、スチレン−アクリル共重合体、ウレタン樹脂、ポリ
エチレン、ポリプロピレン、塩化ポリエチレン、ロジン
誘導体、等が挙げられる。これらの樹脂等は、1種単独
で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
【0019】前記下塗り透明層の厚みとしては、特に制
限はないが、透明ビーズを均一に固定でき、該透明ビー
ズが埋没しない程度の厚みが好ましく、用いる透明ビー
ズの粒径等にもよるため一概には言えないが、透明ビー
ズの体積の半分以上が下塗り透明層から露出する程度の
厚みが好ましい。一般的には、5〜15μm程度であ
る。
【0020】−透明ビーズ− 前記透明ビーズの材料としては、特に制限はなく、透明
であれは各種の材料が挙げられ、例えは、前記透明基材
の材料等が挙げられ、特に、光学特性が良好である等の
点で、(メタ)アクリル系の樹脂やガラス等が好適に挙
げられる。
【0021】前記透明ビーズの形状としては、球状が特
に好ましい。該透明ビーズの粒径としては、観察者が、
画面のざらつき等を感じないサイズであれば特に制限は
ないが、光拡散フィルムの用途等によっても好適なサイ
ズが異なる。具体的には、卓上表示装置等に用いる場合
(観察者から表示装置までの距離が300mm程度の場
合)には、体積平均粒径(D50)で50μm以下が好ま
しく、30μm以下がより好ましく、0.5〜20μm
が更に好ましい。また、家庭用テレビ等に用いる場合
(観察者からテレビまでの距離が2m程度の場合)に
は、体積平均粒径(D50)で300μm以下が好まし
く、200μm以下がより好ましく、0.5〜50μm
が更に好ましい。
【0022】前記透明ビーズは、紫外線吸収剤を含むの
が好ましい。後述のように、前記光吸収層用塗布液に、
紫外線の照射により硬化組成物を生成する物質を含有
し、透明基材側から紫外線を照射して露光した場合、前
記透明ビーズに含有される紫外線吸収剤が紫外線を吸収
するため、紫外線は透明ビーズを通過しない。この結
果、透明ビーズ上及びその周辺に塗布された光吸収層用
塗布液は硬化せず、溶剤等により容易に除去可能とな
る。これより、光入射部分の面積が大きく透過効率が高
く、視野角特性に優れ、濃度ムラの少ない光拡散フィル
ムが容易に得られる。
【0023】前記透明ビーズにおける紫外線吸収剤の含
有量としては、15〜95重量%が好ましい。前記含有
量が、15重量%未満であると、紫外線の吸収効果が不
充分で、透明ビーズ上及びその周辺に塗布された光吸収
層用塗布液が硬化することがある。
【0024】また、前記透明ビーズとしては、真空蒸
着、コーティング等によって、表面に紫外線吸収剤を含
有する薄膜が形成されたものも好ましい。
【0025】前記紫外線吸収剤としては、例えば、酸化
チタン、酸化亜鉛、フタロシアニン系顔料、ベンゾトリ
アゾール系等のUV吸収剤等が挙げられ、これらの中で
も、光拡散性に優れる点で、酸化チタンが特に好まし
い。
【0026】前記透明ビーズは、表面疎水化処理されて
いるのが好ましい。該透明ビーズが表面疎水化処理され
ていれば、前記光吸収層用塗布液との親和性が低くなる
ため、前記光吸収層の未露光部の除去が容易になり、光
入射部の面積を容易に大きくすることができる。また、
透明ビーズと下塗り透明層との接触部へ、光吸収層用塗
布液が回り込むことが少なくなるため、光出射部の不均
一性が低減され、透過効率の高い光拡散フィルムが容易
に製造される。該表面疎水化処理の方法としては、公知
の表面疎水化処理方法、例えば、透明ビーズをF系シラ
ンカップリング液中に1時間浸漬する方法等が挙げられ
る。
【0027】−埋設− 前記埋設においては、前記透明ビーズが、前記下塗り透
明層に埋設される。したがって、従来のように、光吸収
層形成後、該光吸収層の上から埋設するのではないた
め、埋設が多少不均一であったとしても、容易に、光の
出射に充分な深さに透明ビーズが埋設され、透過効率、
視野角特性の高い光拡散フィルムが得られる。
【0028】前記埋設においては、透明ビーズが、下塗
り透明層に、均一に埋設されるのが好ましい。該透明ビ
ーズが均一に埋設されることにより、光出射部の均一性
が高く、透過効率の高い光拡散フィルムが得られる。前
記埋設においては、透明ビーズは、前記下塗り透明層
に、密に並べて埋設されるのが好ましい。透明ビーズ
が、密に埋設されることにより、透過効率の高い光拡散
フィルムが得られる。透明ビーズを、下塗り透明層に密
に並べて埋設する方法としては、例えば、粒径の異なる
透明ビーズを並べて埋設する、等が挙げられる。
【0029】前記埋設においては、前記透明ビーズは、
その体積の半分以上が下塗り透明層から露出する程度で
埋設されるのが特に好ましい。このように埋設すること
により、透過効率の高い光拡散フィルムが得られる。
【0030】前記埋設の際には、適宜加熱してもよい。
該加熱の温度としては、下塗り透明層が軟化し、透明ビ
ーズが沈む温度であればよい。前記加熱により、軟化し
た前記透明層に前記透明ビーズが容易かつ充分に埋設さ
れる。
【0031】前記加熱の際には、前記透明ビーズ上に、
伝熱性可撓性物質を載せ加圧するのが好ましい。該加圧
により、前記透明ビーズの埋設の均一性がより高くな
る。前記伝熱性可撓性物質としては、特に制限はない
が、伝熱性、可撓性、に優れ、入手し易い点で、シリコ
ーンゴム等が好ましい。前記加圧の圧力としては、透明
ビーズが破損しない程度であれば特に制限はない。
【0032】[光吸収層形成工程]前記光吸収層形成工
程においては、前記埋設工程の後、光吸収層用塗布液を
塗布し、該透明ビーズ上を除く部分を露光し硬化して光
吸収層を形成する。
【0033】−光吸収層用塗布液の塗布− 本発明においては、前記光吸収層形成工程の後に、光入
射部の面積の確保を目的として、光吸収層の未露光部を
除去する除去工程を有する。したがって、前記光吸収層
用塗布液の塗布の際、透明ビーズの露出を確保する必要
がないことから、該光吸収層用塗布液を効率良く塗布す
ることができる。
【0034】−−光吸収層用塗布液−− 前記光吸収層用塗布液は、光吸収性物質のほか、重合性
モノマー及び重合開始剤、等の光の照射により硬化組成
物を生成する物質、溶剤、等を含有する。
【0035】前記光吸収性物質としては、カーボンブラ
ック、感光性発色材料(例えば、ハロゲン化銀感光乳
剤)等が挙げられる。
【0036】前記重合性モノマーとしては、エチレン性
不飽和結合を少なくとも2個有する付加重合可能な化合
物が挙げられ、末端エチレン性不飽和結合を1分子中に
2個以上有する化合物の中から適宜選択できる。例え
ば、モノマー、プレポリマー、即ち2量体、3量体及び
オリゴマー、又はそれらの混合物、並びに、これらの共
重合体等の化学構造を持つもの等が挙げられる。
【0037】具体的には、不飽和カルボン酸(例えば、
アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、
イソクロトン酸、マレイン酸など)と脂肪族多価アルコ
ール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多
価アミン化合物とのアミド等が挙げられる。
【0038】前記不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコ
ール化合物とのエステル(モノマー)としては、アクリ
ル酸エステルとして、例えば、エチレングリコールジア
クリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、
1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレ
ングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジ
アクリレート、ネオペンテルグリコールジアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメ
チロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)
エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘ
キサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサ
ンジオールジアクリレート、
【0039】テトラエチレングリコールジアクリレー
ト、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリ
スリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテ
トラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソ
ルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアク
リレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビト
ールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエ
チル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオ
リゴマー等が挙げられ、
【0040】メタクリル酸エステルとして、例えば、テ
トラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレ
ングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコー
ルジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタ
クリレート、トリメチロールエタントリメタクリレー
ト、エチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブ
タンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメ
タクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタ
エリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリス
リトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘ
キサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレー
ト、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔p−
(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)
フェニル〕ジメチルメタン、ビス〔p−(メタクリルオ
キシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等が挙げら
れ、
【0041】イタコン酸エステルとして、例えば、エチ
レングリコールジイタコネート、プロピレングリコール
ジイタコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネー
ト、1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメ
チレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトー
ルジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等
が挙げられ、
【0042】クロトン酸エステルとして、例えば、エチ
レングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコ
ールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネ
ート、ソルビトールテトラジクロトネート等が挙げら
れ、イソクロトン酸エステルとして、例えば、エチレン
グリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトール
ジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネ
ート等が挙げられ、
【0043】マレイン酸エステルとして、例えば、エチ
レングリコールジマレート、トリエチレングリコールジ
マレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビト
ールテトラマレー卜等が挙げられる。更に、前述の各種
エステルの混合物も挙げることができる。
【0044】前記不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン
化合物とのアミド(モノマー)としては、例えば、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレシビス−メタクリル
アミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等が挙げられる。
【0045】その他の例としては、特公昭48−417
08号公報に記載の、1分子に2個以上のイソシアネー
ト基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式
(A)で表される水酸基含有ビニルモノマーを付加させ
た、1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビ
ニルウレタン化合物等が挙げられる。 CH2=C(R)COOCH2CH(R')OH … 一般式(A) 〔式中、R及びR'は、H又はCH3を表す。〕
【0046】また、特開昭51−37193号公報に記
載のウレタンアクリレート類、特開昭48−64183
号、特公昭49−43191号、特公昭52−3049
0号等の各公報に記載の、ポリエステルアクリレート
類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエ
ポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタ
クリレートを挙げることができる。更に、日本接着協会
誌(vo1.20、No.7、p.300〜308(19
84年))に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹
介されているものも使用することができる。
【0047】前記重合性モノマーは、1種単独で用いて
もよいし、2種以上併用してもよい。前記重合性モノマ
ーの、前記光吸収層用塗布液における含有量としては、
5〜30重量%が好ましく、10〜20重量%がより好
ましい。
【0048】前記重合開始剤は、前記重合性モノマーの
光重合を実質的に開始させることのできるものであり、
前記重合性モノマーの重合反応を開始させる能力を持つ
化合物は全て使用可能である。中でも特に、約300〜
500nmの波長領域に、少なくとも約50の分子吸光
係数を有する成分を少なくとも1種含有し、紫外線領域
の光線に対して感光性を有するのが好ましい。また、光
励起された増感剤、例えば、後述の消色性染料と何らか
の相互作用を伴って活性ラジカルを生成する活性剤であ
ってもよい。
【0049】前記重合開始剤としては、例えば、ハロゲ
ン化炭化水素誘導体、ケトン化合物、ケトオキシム化合
物、有機過酸化物、チオ化合物、ヘキサアリールビイミ
ダゾール、芳香族オニウム塩、ケトオキシムエーテル、
特開平2−48664号公報、特開平1−152449
号公報、特開平2−153353号公報に記載の、芳香
族ケトン類、ロフィン2量体、ベンゾイン、ベンゾイン
エーテル類、ポリハロゲン類、及びこれら2種以上の組
合せ等が挙げられる。
【0050】中でも、光感度、保存性、基板への密着性
等に優れる点で、トリアジン骨格を有するハロゲン化炭
化水素化合物、ケトオキシム化合物、ヘキサアリールビ
イミダゾール、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベン
ゾフェノンと2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジ
フェニルイミダゾール2量体の組合わせ、2,4−ビス
(トリクロロメチル)−6−[4−(N,N−ジエトキシ
カルボニルメチルアミノ)−3−ブロモフェニル]−s−
トリアジン、4−〔p−N,N−ジ(エトキシカルボニ
ルメチル)−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−ト
リアジン〕を用いた系が好ましい。
【0051】前記トリアジン骨格を有するハロゲン化炭
化水素化合物としては、例えば、Bull.Chem.
Soc.Japan,42、2924(若林ら著、19
69)に記載の化合物〔例えば、2−フェニル−4,6
−ビス(トリクロルメチル)−s−トリアジン、2−
(p−クロルフェニル)−4,6−ビス(トリクロルメ
チル)−s−トリアジン、2−(p−トリル)−4,6
−ビス(トリクロルメチル)−s−トリアジン、2−
(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロル
メチル)−s−トリアジン、2−(2’,4’−ジクロ
ルフェニル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−s
−トリアジン、2,4,6−トリス(トリクロルメチ
ル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(ト
リクロルメチル)−s−トリアジン、2−n−ノニル−
4,6−ビス(トリクロルメチル)−s−トリアジン、
2−(α,α,β−トリクロルエチル)−4,6−ビス
(トリクロルメチル)−s−トリアジン等〕、
【0052】英国特許1388492号明細書に記載の
化合物〔例えば、2−スチリル−4,6−ビス(トリク
ロルメチル)−s−トリアジン、2−(p−メチルスチ
リル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−s−トリ
アジン、2−(p−メトキシスチリル)−4,6−ビス
(トリクロルメチル)−s−トリアジン、2−(p−メ
トキシスチリル)−4−アミノ−6−トリクロルメチル
−s−トリアジン等〕、特開昭53−133428号公
報に記載の化合物〔例えば、2−(4−メトキシ−ナフ
ト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロルメチル−s
−トリアジン、2−(4−エトキシ−ナフト−1−イ
ル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−s−トリア
ジン、2−〔4−(2−エトキシエチル)−ナフト−1
−イル〕−4,6−ビス(トリクロルメチル)−s−ト
リアジン、2−(4,7−ジメトキシ−ナフト−1−イ
ル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−s−トリア
ジン、2−(アセナフト−5−イル)−4,6−ビス
(トリクロルメチル)−s−トリアジン等〕、
【0053】独国特許3337024号明細書に記載の
化合物〔例えば、2−(4−スチリルフェニル)−4,
6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−
(4−p−メトキシスチリルフェニル)−4,6−ビス
(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(1−ナ
フチルビニレンフェニル)−4,6−ビス(トリクロロ
メチル)−s−トリアジン、2−クロロスチリルフェニ
ル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジ
ン、2−(4−チオフェン−2−ビニレンフェニル)−
4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、
2−(4−チオフェン−3−ビニレンフェニル)−4,
6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−
(4−フラン−2−ビニレンフェニル)−4,6−ビス
(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−ベ
ンゾフラン−2−ビニレンフェニル)−4,6−ビス
(トリクロロメチル)−s−トリアジン等〕、
【0054】J.Org.Chem.(F.C.Sch
aefer等、29、1527(1964))に記載の
化合物〔例えば、2−メチル−4,6−ビス(トリブロ
モメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(ト
リブロモメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリ
ス(ジブロモメチル)−s−トリアジン、2−アミノ−
4−メチル−6−トリブロモメチル−s−トリアジン、
2−メトキシ−4−メチル−6−トリクロロメチル−s
−トリアジン等〕、
【0055】特開昭62−58241号公報に記載の化
合物〔例えば、2−(4−フェニルアセチレンフェニ
ル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリア
ジン、2−(4−ナフチル−1−アセチレンフェニル)
−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジ
ン、2−(4−p−トリルアセチレンフェニル)−4,
6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−
(4−p−メトキシフェニルアセチレンフェニル)−
4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、
2−(4−p−イソプロピルフェニルアセチレンフェニ
ル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリア
ジン、2−(4−p−エチルフェニルアセチレンフェニ
ル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリア
ジン等〕、
【0056】特開平5−281728号公報に記載の化
合物〔例えば、2−(4−トリフルオロメチルフェニ
ル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリア
ジン、2−(2,6−ジフルオロフェニル)−4,6−
ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−
(2,6−ジクロロフェニル)−4,6−ビス(トリク
ロロメチル)−s−トリアジン、2−(2,6−ジブロ
モフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s
−トリアジン等〕、等を挙げることができる。
【0057】前記ケトオキシム化合物としては、例え
ば、下記一般式(B)で表される化合物が挙げられる。
【0058】
【化1】
【0059】前記一般式(B)中、R2及びR3は、それ
ぞれ独立に、置換基を有していてもよく、不飽和結合を
有していてもよい炭化水素基、ヘテロ環基を表し、互い
に同一でも異なっていてもよい。R4及びR5は、それぞ
れ独立に水素原子、置換基を有していてもよく、不飽和
結合を有していてもよい炭化水素基、ヘテロ環基、ヒド
ロキシル基、置換オキシ基、メルカプト基、置換チオ基
を表し、互いに同一でも異なっていてもよい。また、R
4及びR5は互いに結合して環を形成していてもよく、こ
の場合、該環が−O−、−NR6−、−O−CO−、−
NH−CO−、−S−及び−SO2−より選択される少
なくとも1種の2価の基を環の連結主鎖として含んでい
てもよい炭素数2〜8のアルキレン基を表す。R6及び
7は、それぞれ独立に水素原子、置換基を有していて
もよく、不飽和結合を含んでいてもよい炭化水素基、置
換カルボニル基を表す。
【0060】前記一般式(B)で表される化合物の具体
例を以下に示すが、これらに限定されるものではない。
例えば、p−メトキシフェニル−2−N,N−ジメチル
アミノプロピルケトンオキシム−O−アリルエーテル、
p−メチルチオフェニル−2−モルフォリノプロピルケ
トンオキシム−O−アリルエーテル、p−メチルチオフ
ェニル−2−モルフォリノプロピルケトンオキシム−O
−ベンジルエーテル、p−メチルチオフェニル−2−モ
ルフォリノプロピルケトンオキシム−O−n−ブチルエ
ーテル、p−モルフォリノフェニル−2−モルフォリノ
プロピルケトンオキシム−O−アリルエーテル、p−メ
トキシフェニル−2−モルフォリノプロピルケトンオキ
シム−O−n−ドデシルエーテル、p−メチルチオフェ
ニル−2−モルフォリノプロピルケトンオキシム−O−
メトキシエトキシエチルエーテル、
【0061】p−メチルチオフェニル−2−モルフォリ
ノプロピルケトンオキシム−O−p−メトキシカルボニ
ルベンジルエーテル、p−メチルチオフェニル−2−モ
ルフォリノプロピルケトンオキシム−O−メトキシカル
ボニルメチルエーテル、p−メチルチオフェニル−2−
モルフォリノプロピルケトンオキシム−O−エトキシカ
ルボニルメチルエーテル、p−メチルチオフェニル−2
−モルフォリノプロピルケトンオキシム−O−4−ブト
キシカルボニルブチルエーテル、p−メチルチオフェニ
ル−2−モルフォリノプロピルケトンオキシム−O−2
−エトキシカルボニルエチルエーテル、p−メチルチオ
フェニル−2−モルフォリノプロピルケトンオキシム−
O−メトキシカルボエル−3−プロペニルエーテル、p
−メチルチオフェニル−2−モルフォリノプロピルケト
ンオキシム−O−ベンジルオキシカルボニルメチルエー
テル等が挙げられる。
【0062】前記ヘキサアリールビイミダゾールとして
は、例えば、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−
4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、
2,2’−ビス(o−ブロモフェニル)−4,4’,
5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−
ビス(o,p−ジクロロフェニル)−4,4’,5,
5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス
(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ
(m−メトキシフェニル)ビイミダゾール、2,2’−
ビス(o,o’ジクロロフェニル)−4,4’,5,
5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス
(o−ニトロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ
フェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−メチル
フェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイ
ミダゾール、2,2’−ビス(o−トリフルオロメチル
フェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイ
ミダゾール等が挙げられる。これらのビイミダゾール類
は、例えば、Bull.Chem.Soc.Japa
n,33,565(1960)及びJ.Org.Che
m,36(16)2262(1971)に記載の方法に
より容易に合成することができる。
【0063】前記ケトオキシムエーテルとしては、例え
ば、3−ベンゾイロキシイミノブタン−2−オン、3−
アセトキシイミノブタン−2−オン、3−プロピオニル
オキシイミノブタン−2−オン、2−アセトキシイミノ
ペンタン−3−オン、2−アセトキシイミノ−1−フェ
ニルプロパン−1−オン、2−ベンゾイロキシイミノ−
1−フェニルプロパン−1−オン、3−p−トルエンス
ルホニルオキシイミノブタン−2−オン、2−エトキシ
カルボニルオキシイミノ−1−フェニルプロパン−1−
オン等が挙げられる。
【0064】前記重合開始剤は、1種単独で用いてもよ
いし、2種以上を併用してもよく、また異種間で数個の
化合物を併用することも可能である。前記重合開始剤
の、前記光吸収層用塗布液における含有量としては、
0.1〜5.0重量%が好ましく、0.2〜1.0重量
%がより好ましい。
【0065】前記溶剤としては、メチルエチルケトン、
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等
が挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよく、
2種以上を併用してもよい。
【0066】前記光吸収層用塗布液における界面活性剤
の含有量としては、0.10重量%以下が好ましく、
0.05重量%以下がより好ましい。前記界面活性剤の
含有量が、0.10重量%以下であれば、前記光吸収層
用塗布液と透明ビーズとの親和性が低く(濡れ性が低
く)、前記光吸収層の未露光部の除去が容易になり、光
入射部の面積を容易に大きくすることができる。また、
透明ビーズと下塗り透明層との接触部へ、光吸収層用塗
布液が回り込むことが少なくなるため、光出射部の不均
一性が低減され、透過効率の高い光拡散フィルムが容易
に製造される。前述のように透明ビーズが表面疎水化処
理されていれば、この効果は更に高くなる。
【0067】−露光− 前記露光においては、透明ビーズ上を除く部分を露光し
硬化して光吸収層を形成する。前記露光の方法として
は、特に制限はなく、前述のように透明ビーズ上を除く
部分のみを露光し、透明ビーズ上は露光しない方法が可
能であれば総て好適に適用できるが、特に、透明基材側
から紫外線を照射する方法が好ましい。この方法におい
て、前記光吸収層用塗布液に、紫外線の照射により硬化
組成物が生成される物質が含有され、前記透明ビーズに
酸化チタンが含有されている(または、真空蒸着、コー
ティング等によって、透明ビーズ表面に酸化チタンの薄
膜が形成されている)ことによって、透明ビーズ上に塗
布された光吸収層用塗布液は露光されず、透明ビーズ上
を除く部分に塗布された光吸収層用塗布液のみが露光さ
れ、後述の除去工程により、光入射部分の面積が大きく
透過効率が高く、視野角特性に優れ、濃度ムラの少ない
光拡散フィルムが容易に得られる。
【0068】前記露光の条件を適宜変更することによ
り、硬化する領域の厚みを制御することができる。尚、
前記露光の方法として、透明基材側から紫外線を照射す
る方法を採用する場合、前記透明基材は、可視光及び紫
外線の双方に対し透明であることが必要とされる。
【0069】[除去工程]前記除去工程においては、前
記光吸収層形成工程の後、該光吸収層の未露光部を除去
する。
【0070】前記除去工程により、光吸収層の未露光部
が均一に除去されるため、得られる光拡散フィルムは、
光入射部分の面積が大きく、透過効率、視野角特性に優
れる。また光吸収層の厚み変動による濃度ムラの発生が
少ない。前記除去としては、溶剤やアルカリ性の現像液
等を用いて行うのが好ましい。該溶剤としては、前記光
吸収層用塗布液に用いたのと同種の溶剤を用いるのが特
に好ましい。
【0071】<光拡散フィルム>以上説明した本発明の
光拡散フィルムの製造方法によって得られる光拡散フィ
ルムは、剛性を有する板状であっても、可撓性を有する
シー卜状あるいはフィルム状であってもよく、要求され
る機械的強度や用途により、透明基材の材料、厚さ、等
が適宜選択される。
【0072】前記光拡散フィルムは、前述のように、液
晶パネルと、バックライト部と、光拡散フィルムと、を
有する各種の液晶表示装置等に好適に用いられる。前記
液晶表示装置において、液晶パネルとしては、TNモー
ドをはじめ、公知の種々のモードの液晶ディスプレイが
好適に用いられる。バックライ卜部としては、画像の観
察に充分な光量の直進平行光線束を射出可能であれば、
公知の各種の光源装置が総て利用可能である。
【0073】
【実施例】以下、本発明を実施例を用いてより具体的に
説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定され
るものではない。
【0074】(実施例1) −埋設工程− ポリエチレンテレフタレート(透明基材)の一方の表面
に、水溶性ナイロン層(東レ(株)製、P−70:下塗
り透明層)を、ワイヤーバーにて塗布形成した(乾燥後
の厚み:7μm)。前記下塗り透明層に、透明ビーズ
(ガラス製、体積平均粒径(D50):30μm、酸化チ
タン含有量:39重量%)を密に配置し、120℃で9
分間保持した後、常温まで冷却して、下塗り透明層に透
明ビーズを埋設した。
【0075】−光吸収層形成工程− 次に、光吸収性物質(カーボンブラック)2重量%と、
重合性モノマー15重量%と、重合開始剤0.6重量%
と、溶剤(メチルエチルケトンとプロピレングリコール
モノメチルエーテルアセテート)58重量%と、重合禁
止剤等24.4重量%と、を含有する光吸収層用塗布液
(界面活性剤の含有量:0重量%)をワイヤーバーにて
塗布した(乾燥後の層の厚み:8μm)。その後、前記
透明基材側から、紫外線を照射(照射エネルギー:12
J)し光吸収層を形成した。
【0076】−除去工程− 前記照射後、150℃にて熱処理し、アルカリ性の現像
液を用いて未露光部を除去し光拡散フィルムを得た。
【0077】<測定・評価>下記測定方法により、得ら
れた光拡散フィルムの濃度ムラ(面状故障)、透過効
率、視野角特性を測定・評価した。結果を表1に示す。
【0078】−濃度ムラ(面状故障)の測定・評価− 濃度ムラ(面状故障)は、下記評価基準により官能評価
した。
【0079】−−濃度ムラの評価基準−− ・○・・・濃度ムラが殆んど無い。 ・△・・・濃度ムラは有るが、実用上問題無い。 ・×・・・かなりの濃度ムラが有り、実用上問題有り。
【0080】−透過効率の測定・評価− 透過効率は、JISK 7361−1に準じ、ヘイズメ
ーター(HR100:(株)村上色彩技術研究所製)で
測定し、下記評価基準により評価した。
【0081】−−透過効率の評価基準−− ・○・・・透過効率が優れている。 ・△・・・透過効率は、実用上問題無い。 ・×・・・透過効率が悪い。
【0082】−視野角特性の測定・評価− 視野角特性は、テストサンプルに、拡がり角が5度以内
の光を垂直に照射し、テストサンプルを透過した光の放
射強度分布を、シリコンフォトダイオードをセンサーと
する装置で測定し、下記評価基準により評価した。
【0083】−−視野角特性の評価基準−− ・○・・・視野角特性が優れている。 ・△・・・視野角特性は、実用上問題無い。 ・×・・・視野角特性が悪い。
【0084】(実施例2)「実施例1」の「埋設工程」
において、透明ビーズの体積平均粒径(D50)を6μm
に変え、下塗り透明層の乾燥後の厚みを1.2μm、光
吸収層の乾燥後の厚みを2.0μmに変えたほかは、
「実施例1」と同様にして光拡散フィルムを得、実施例
1と同様にして、「濃度ムラ(面状故障)」、「透過効
率」、「視野角特性」を測定・評価した。結果を表1に
示す。
【0085】(実施例3)「実施例1」の「埋設工程」
において、透明ビーズとして、F系シランカップリング
液中に1時間浸漬して表面疎水化処理したものを用いた
ほかは、「実施例1」と同様にして光拡散フィルムを
得、実施例1と同様にして、「濃度ムラ(面状故
障)」、「透過効率」、「視野角特性」を測定・評価し
た。結果を表1に示す。
【0086】(実施例4)「実施例1」の「埋設工程」
において、透明ビーズとして、10%水酸化ナトリウム
液中に1時間浸漬して表面親水化処理したものを用いた
ほかは、「実施例1」と同様にして光拡散フィルムを
得、実施例1と同様にして、「濃度ムラ(面状故
障)」、「透過効率」、「視野角特性」を測定・評価し
た。結果を表1に示す。
【0087】(実施例5)「実施例1」の「埋設工程」
の後、透明ビーズ上にシリコーンゴム(厚み:1mm、
300×210mm)を載せて加熱(120℃)・加圧
(0.01kg重cm-2)したほかは、「実施例1」と
同様にして光拡散フィルムを得、実施例1と同様にし
て、「濃度ムラ(面状故障)」、「透過効率」、「視野
角特性」を測定・評価した。結果を表1に示す。
【0088】(比較例1)「実施例1」において、「除
去工程」を設けなかった外は、「実施例1」と同様にし
て光拡散フィルムを得、実施例1と同様にして、「濃度
ムラ(面状故障)」、「透過効率」、「視野角特性」を
測定・評価した。結果を表1に示す。
【0089】
【表1】
【0090】実施例1では、得られた光拡散フィルムを
用いた液晶表示装置の観察により、該光拡散フィルム
は、家庭用テレビ等、観察者が2m程度距離を置いて観
察する液晶表示装置などに特に好適であった。実施例2
では、得られた光拡散フィルムを用いた液晶表示装置の
観察により、該光拡散フィルムは、卓上表示装置等、観
察者が300mm程度の近距離で観察する液晶表示装置
などに特に好適であり、近距離であっても、観察者にと
って滑らかな画像が視認された。
【0091】実施例3では、透明ビーズを表面疎水化処
理しているため、他の実施例に比べ、特に濃度ムラが無
く、優れていた。また、光吸収層の除去も容易であっ
た。実施例4では、透明ビーズを表面親水化処理してい
るため、他の実施例に比べ多少濃度ムラが有り、光吸収
層の除去も若干容易でなかったものの、実用上問題は無
かった。
【0092】実施例5では、透明ビーズ上にシリコーン
ゴムを載せて加熱・加圧しているため、透明ビーズが充
分、かつ、均一に下塗り透明層に埋設され、特に透過効
率が高かった。比較例1では、除去工程を設けなかった
ため、濃度ムラ、視野角特性、共に劣っていた。
【0093】
【発明の効果】本発明によれば、光の出射部分の均一性
が高く、余分な光吸収層が除去され光入射部分の面積が
大きいことから、透過効率が高く、視野角特性に優れ、
濃度ムラの少ない光拡散フィルムの製造方法を提供する
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 従来公知の液晶表示装置の概略図である。
【図2】 液晶パネル及び光拡散フィルムに平行光線束
が入射した状態を説明する図である。
【図3】 従来の光拡散フィルムの製造方法を説明する
図である。
【符号の説明】
2:液晶パネル 4:バックライト部 6:光拡散フィルム 10:透明基材 12:下塗り透明層 14,142,143:透明ビーズ 20:光吸収層 100:液晶表示装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G02B 5/00 G02B 1/10 A (72)発明者 龍田 純隆 静岡県富士宮市大中里200番地 富士写真 フイルム株式会社内 Fターム(参考) 2H042 AA15 AA26 BA02 BA15 BA19 BA20 2K009 AA12 CC09 CC12 CC42 DD02 DD05 4D075 AE03 BB05Y BB20Z BB23Y BB42Z BB46Z BB50Z BB69Z CB03 CB06 CB07 DA04 DB13 DB36 DB37 DB38 DB43 DB48 DB53 DB55 DC24 EA02 EB07 EB08 EB13 EB14 EB15 EB17 EB19 EB20 EB22 EB24 EB33 EB35 EB38 EB42 EC03 EC24 EC35 EC53 EC54

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 透明基材表面に、下塗り透明層を形成
    し、該下塗り透明層に透明ビーズを埋設し、光吸収層用
    塗布液を塗布し、該透明ビーズ上を除く部分を露光し硬
    化により光吸収層を形成した後、該光吸収層の未露光部
    を除去することを特徴とする光拡散フィルムの製造方
    法。
  2. 【請求項2】 露光が、透明基材側から紫外線を照射し
    て行われ、透明ビーズが、紫外線吸収剤を含む請求項1
    に記載の光拡散フィルムの製造方法。
  3. 【請求項3】 紫外線吸収剤が、酸化チタンである請求
    項2に記載の光拡散フィルムの製造方法。
  4. 【請求項4】 透明ビーズの体積平均粒径(D50)が、
    0.5〜20μmである請求項1から3のいずれかに記
    載の光拡散フィルムの製造方法。
  5. 【請求項5】 透明ビーズの体積平均粒径(D50)が、
    0.5〜50μmである請求項1から3のいずれかに記
    載の光拡散フィルムの製造方法。
  6. 【請求項6】 除去が、溶剤を用いて行われる請求項1
    から5のいずれかに記載の光拡散フィルムの製造方法。
  7. 【請求項7】 光吸収層用塗布液における界面活性剤の
    含有量が、0.10重量%以下である請求項1から6の
    いずれかに記載の光拡散フィルムの製造方法。
  8. 【請求項8】 透明ビーズが、表面疎水化処理されたも
    のである請求項1から7のいずれかに記載の光拡散フィ
    ルムの製造方法。
  9. 【請求項9】 下塗り透明層上に透明ビーズを載せ、加
    熱することにより該透明ビーズを該下塗り透明層に埋設
    させる請求項1から8のいずれかに記載の光拡散フィル
    ムの製造方法。
  10. 【請求項10】 透明ビーズ上に伝熱性可撓性物質を載
    せ加圧する請求項9に記載の光拡散フィルムの製造方
    法。
  11. 【請求項11】 伝熱性可撓性物質が、シリコーンゴム
    である請求項10に記載の光拡散フィルムの製造方法。
JP2000371856A 2000-12-06 2000-12-06 光拡散フィルムの製造方法 Pending JP2002174704A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000371856A JP2002174704A (ja) 2000-12-06 2000-12-06 光拡散フィルムの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000371856A JP2002174704A (ja) 2000-12-06 2000-12-06 光拡散フィルムの製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002174704A true JP2002174704A (ja) 2002-06-21

Family

ID=18841504

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000371856A Pending JP2002174704A (ja) 2000-12-06 2000-12-06 光拡散フィルムの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002174704A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006095885A1 (en) * 2005-03-07 2006-09-14 Fujifilm Corporation Antireflective film, method of manufucturing antireflective film, polarizing plate and image display device using the same
KR100832368B1 (ko) * 2006-11-20 2008-05-26 에이비씨나노텍 주식회사 실리카 비드 광확산제 및 그의 제조방법
WO2010026773A1 (ja) 2008-09-08 2010-03-11 三菱樹脂株式会社 積層ポリエステルフィルム
KR101239824B1 (ko) * 2006-06-23 2013-03-06 엘지디스플레이 주식회사 대형 액정표시장치용 백라이트 유닛
KR20190032658A (ko) * 2011-03-28 2019-03-27 키모토 컴파니 리미티드 광학기기용 차광재 및 그의 제조방법

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006095885A1 (en) * 2005-03-07 2006-09-14 Fujifilm Corporation Antireflective film, method of manufucturing antireflective film, polarizing plate and image display device using the same
US8241740B2 (en) 2005-03-07 2012-08-14 Fujifilm Corporation Antireflective film, method of manufacturing antireflective film, polarizing plate and image display device using the same
KR101239824B1 (ko) * 2006-06-23 2013-03-06 엘지디스플레이 주식회사 대형 액정표시장치용 백라이트 유닛
KR100832368B1 (ko) * 2006-11-20 2008-05-26 에이비씨나노텍 주식회사 실리카 비드 광확산제 및 그의 제조방법
WO2010026773A1 (ja) 2008-09-08 2010-03-11 三菱樹脂株式会社 積層ポリエステルフィルム
KR20190032658A (ko) * 2011-03-28 2019-03-27 키모토 컴파니 리미티드 광학기기용 차광재 및 그의 제조방법
KR102046290B1 (ko) 2011-03-28 2019-11-18 키모토 컴파니 리미티드 광학기기용 차광재 및 그의 제조방법

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6912089B2 (en) Optical diffusion film and process of producing optical diffusion film
US8420161B2 (en) Method for producing anti-glare film
US6596375B2 (en) Optical sheet and production process thereof
WO2006019089A1 (ja) 感光性転写材料並びにパターン形成方法及びパターン
KR20070020283A (ko) 패턴형성방법, 컬러필터의 제조방법, 컬러필터 및액정표시장치
KR101458478B1 (ko) 광학 시트 및 그 제조 방법
JP2002174704A (ja) 光拡散フィルムの製造方法
JP2003107217A (ja) 光拡散板及びその製造方法
JP2001021706A (ja) 光拡散フィルム、面光源装置、及び表示装置
KR20070122418A (ko) 광학시트 및 그 제조방법
WO2000034806A1 (fr) Lentille a microbilles et son procede de fabrication
KR20070095947A (ko) 패턴 형성재료, 패턴 형성장치 및 영구패턴 형성방법
JP2007101607A (ja) 表示装置用部材及びその製造方法、並びに表示装置
JP2006048031A (ja) 感光性フィルム及びその製造方法、並びに永久パターンの形成方法
JPWO2006121112A1 (ja) 三次元微小成形体の光学的安定性を高める方法
JP3943385B2 (ja) 反射板形成用転写材料の製造方法及び液晶表示装置の製造方法
JP2002267813A (ja) 光拡散フィルムおよびその製造方法
JP2002072467A (ja) 光硬化性組成物及び液晶表示素子
JP4916141B2 (ja) カラーフィルタ形成材料及びカラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、並びに液晶表示装置
JP2006018221A (ja) カラーフィルタの製造方法、及びカラーフィルタ並びに液晶表示装置
JP2007133271A (ja) レンズ基板、レンズ基板の製造方法、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタ
JP2003330030A (ja) スペーサーの形成方法及び液晶表示素子
JP2007327979A (ja) パターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法
JP2006023715A (ja) カラーフィルタの製造方法、及びカラーフィルタ並びに液晶表示装置
JP2006154252A (ja) 拡散レンズアレイシート、透過型スクリーン、背面投射型ディスプレイ装置及び拡散レンズアレイシートの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20070216