JP2002072467A - 光硬化性組成物及び液晶表示素子 - Google Patents

光硬化性組成物及び液晶表示素子

Info

Publication number
JP2002072467A
JP2002072467A JP2000262972A JP2000262972A JP2002072467A JP 2002072467 A JP2002072467 A JP 2002072467A JP 2000262972 A JP2000262972 A JP 2000262972A JP 2000262972 A JP2000262972 A JP 2000262972A JP 2002072467 A JP2002072467 A JP 2002072467A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
layer
photocurable composition
resin layer
photosensitive resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2000262972A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4171167B2 (ja
Inventor
義夫 ▲榊▼原
Yoshio Sakakibara
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP2000262972A priority Critical patent/JP4171167B2/ja
Priority to KR1020010053175A priority patent/KR100771080B1/ko
Publication of JP2002072467A publication Critical patent/JP2002072467A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4171167B2 publication Critical patent/JP4171167B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G02F1/133707Structures for producing distorted electric fields, e.g. bumps, protrusions, recesses, slits in pixel electrodes
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators

Abstract

(57)【要約】 【課題】 液晶分子の配向を規制しうる構造体の形成に
用いられ、着色がなく透明性に優れ、表示画像の色相を
損なうことのない構造体を安価かつ簡易に形成しうる光
硬化性組成物を提供する。 【解決手段】 重合性モノマーと(メタ)アクリル酸含
有重合体と重合開始剤とを含み、かつ前記(メタ)アク
リル酸含有重合体の総量に対する前記重合性モノマーの
総量の質量比が0.5〜0.9である光硬化性組成物で
あって、互いに対向し合う側の表面に導電層を備える2
枚の基板間に液晶層が狭持されてなる液晶表示素子の、
前記導電層と液晶層との間に設けられる実質的に無色の
透明な構造体の形成に用いられることを特徴とする光硬
化性組成物である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光の照射により硬
化する光硬化性組成物に関し、詳しくは、液晶表示素子
(LCD:Liquid Crystal Display)を構成する導電層
と液晶層との間に設けられる構造体の形成に好適な光硬
化性組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】CRTに代わるフラットパネルディスプ
レイとして、現在最も広く使用、期待されているのが液
晶表示装置(LCD)である。中でも、薄膜トランジス
タ(TFT:Thin Film Transistor)方式のLCD(T
FT−LCD)は、パーソナルコンピュータ、ワープ
ロ、OA機器や、携帯テレビジョン等への応用による市
場の一層の拡大が期待され、画像品質の更なる向上が求
められている。
【0003】現在、TFT−LCDの中で最も広く使用
されている方式は、ノーマリホワイトモードのTN(Twi
sted Nematic) 型LCDである。しかし、TN型LCD
は、視野角が狭いという欠点があり、表示画面を観察す
る位置によって表示状態が異なる。そのため、用途が限
定されるという問題があった。尚、この問題は、一般に
電極を備える一対の基板間に液晶を挟持し電極間に電圧
印加して表示可能なLCD(例えば、単純マトリクス型
やプラズマアドレス型LCD)においても同様のことが
いえる。
【0004】即ち、図1に示す通りである。図1の(1)
では、電圧を印加しない白表示の状態を示すが、この状
態ではどの方位でもほぼ白に見ることができる。ところ
が、(3)では、所定の電圧を印加した黒表示の状態を示
すものであるが、斜めに入射する光では、垂直方向に配
向された液晶分子を斜めに通過するため偏光方向がある
程度捩じれ、完全な黒でなく中間調(グレイ)に見えて
しまう。また、(2)では、中間電圧を印加した中間調表
示の状態を示すが、この場合セルの中間部では液晶分子
が途中まで立ち上がるため、垂直に入射する光に対して
は中間調(グレイ)に表示される。しかし、図中のよう
に左右斜めに入射する光の方向から見た場合には異な
り、右下から左上に向かう光に対しては液晶分子は平行
に配向されるので左側から観察すると黒く見えるが、左
下から右上に向かう光に対しては液晶分子は垂直に配向
されるので白に近い表示になる。このように、LCDに
は、表示状態に視角依存を有するという欠点がある。
【0005】上記のような問題を解決する手段として、
特許第2947350号では、液晶層に対して突起状又
は凹状等の構造体を形成し、該構造体の表面に沿って局
部的に液晶分子の配向状態に傾きを与えて、液晶面に対
して斜めから観察した際にも同様の表示が得られるよう
に、視野角を拡げる技術が提案されている。ここでは、
構造体を形成する材料としてポジレジストが用いられ、
一般的には、レジストからなる最終構造体の硬化度を高
めたり、構造体の形状に傾斜等を持たせる目的で、構造
体の形成後に高温下でのベーク処理が施される。しか
し、ベーク処理を施した場合、ポジレジストからなる構
造体は黄色く着色するという問題がある。特に、フルカ
ラー表示を行うLCDの場合、カラーフィルタ以外の構
成物が着色されていると、その色相の付加により3原色
の色純度が低下し、表示される色相にズレを生じ、鮮や
かな画像を表示することができない。
【0006】上記のようなレジスト材料としてはネガ型
のレジストも知られており、例えば、特開平6−256
684号や同7−248625号では、分子内にエポキ
シ基を含む重合性化合物を含有する組成物が開示されて
いる。しかし、いずれもアルカリ現像性を付与するため
に、エポキシ基と共にカルボン酸や他の酸成分を相当量
必要とするため、エポキシ環が反応して保存中に増粘、
固化してしまうといった保存安定性の点で問題がある。
【0007】また、特開平11−323057号では、
スペーサ又は保護層形成用の組成物として放射線硬化性
の組成物が開示されている。該組成物は、光硬化性、現
像性の点で優れ、スペーサや保護層の形成には適するも
のの、材料コストが高く、液晶表示素子の低コスト化が
図れないという問題がある。
【0008】以上の通り、液晶分子の配向を規制する構
造体を安価かつ簡易に形成することができ、しかもベー
クによる黄色着色がなく、色相の鮮やかなフルカラー画
像の表示を可能とする光硬化性組成物は、未だ提供され
ていないのが現状である。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来に
おける諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課
題とする。即ち、本発明は、液晶分子の配向を規制する
構造体の形成に用いられ、着色がなく透明性に優れ、表
示画像の色相を損なうことのない構造体を安価かつ簡易
に形成しうる光硬化性組成物を提供することを目的とす
る。本発明は、基板上の導電層と液晶層との間に、安価
な光硬化性組成物により簡易に形成され、着色がなく透
明性に優れた構造体を備え、液晶表示面に対する観察位
置(視野角)に依存しない広視野角を有し、色相の良好
なフルカラー画像の表示が可能な液晶表示素子を提供す
ることを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
の手段は、以下の通りである。即ち、 <1> 重合性モノマーと(メタ)アクリル酸含有重合
体と重合開始剤とを含み、かつ前記(メタ)アクリル酸
含有重合体の総量に対する前記重合性モノマーの総量の
質量比が0.5〜0.9である光硬化性組成物であっ
て、互いに対向し合う側の表面に導電層を備える2枚の
基板間に液晶層が狭持されてなる液晶表示素子の、前記
導電層と液晶層との間に設けられる実質的に無色の透明
な構造体の形成に用いられることを特徴とする光硬化性
組成物である。
【0011】<2> 構造体が転写材料を用いて形成さ
れ、該転写材料の感光性樹脂層に含有される前記<1>
に記載の光硬化性組成物である。 <3> 転写材料が、仮支持体上にアルカリ可溶な熱可
塑性樹脂層と中間層と感光性樹脂層とがこの順に設けら
れてなる前記<2>に記載の光硬化性組成物である。
【0012】<4> 構造体がフォトリソグラフィ法に
よりパターニングされてなる前記<1>〜<3>のいず
れかに記載の光硬化性組成物である。 <5> 構造体がプロキシミティ露光手段によりパター
ニングされてなり、該パターニングにおける、露光量が
重合硬化を起こす最小露光量の3〜10倍であり、プロ
キシミティ量が40〜150μmである前記<1>〜<
4>のいずれかに記載の光硬化性組成物である。
【0013】<6> 構造体が、光の照射により硬化さ
れた後、更に200〜260℃でベークされてなる前記
<1>〜<5>のいずれかに記載の光硬化性組成物であ
る。 <7> ベークにより消色する消色性染料を含む前記<
1>〜<6>のいずれかに記載の光硬化性組成物であ
る。
【0014】<8> 構造体が、基板と直交するその断
面が台形及び蒲鉾形のいずれか一方の形状を有してなる
前記<1>〜<7>のいずれかに記載の光硬化性組成物
である。 <9> 前記<1>〜<8>のいずれかに記載の光硬化
性組成物からなる構造体を備えることを特徴とする液晶
表示素子である。
【0015】
【発明の実施の形態】本発明の光硬化性組成物は、液晶
表示素子を構成する導電層と液晶層との間に設けられる
構造体の形成に用いられ、重合性モノマーと(メタ)ア
クリル酸含有重合体と重合開始剤とを含み、かつ前記
(メタ)アクリル酸含有重合体の総量に対する前記重合
性モノマーの総量の質量比を0.5〜0.9とする。本
発明の液晶表示素子においては、基板に設けられた導電
層と液晶層との間に、前記本発明の光硬化性組成物を硬
化してなる透明構造体を備えてなる。以下、本発明の光
硬化性組成物、及び液晶表示素子について詳細に説明す
る。
【0016】<光硬化性組成物>前記光硬化性組成物
は、重合性モノマーと(メタ)アクリル酸含有重合体と
重合開始剤とを含んでなり、光に感応して硬化する性質
を有する。本発明においては、液晶表示素子を構成する
導電層と液晶層との間に設けられる、液晶分子の配向を
規制する構造体の形成に用いられる。前記光としては、
300〜500nmの紫外線が好ましい。更に、前記光
硬化性組成物は、少なくとも温度150℃以下で軟化若
しくは粘着性を有する熱可塑性の樹脂組成物であり、未
照射部ではアルカリ溶液に対して易溶性を有する。ま
た、必要に応じて、消色性染料、熱可塑性の結合剤、相
溶性の可塑剤等の他の成分を含んでなる。但し、本発明
に係る光硬化性組成物は、エポキシ基含有重合体を含有
せずに構成される。
【0017】−重合性モノマー− 前記重合性モノマーは、エチレン性不飽和結合を少なく
とも2個有する付加重合可能な化合物であり、後述の
(メタ)アクリル酸含有重合体のアルカリ溶解性を損な
わず、光照射時に重合し、(メタ)アクリル酸含有重合
体と共にアルカリ水溶液に対する溶解性を減少させるも
のである。
【0018】前記重合性モノマーとしては、末端エチレ
ン性不飽和結合を1分子中に2個以上有する化合物の中
から適宜選択でき、例えば、モノマー、プレポリマー、
即ち2量体、3量体及びオリゴマー、又はそれらの混合
物、並びに、これらの共重合体等の化学構造を持つもの
が含まれる。
【0019】具体的には、例えば、不飽和カルボン酸
(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、ク
ロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)と脂肪族
多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸
と脂肪族多価アミン化合物とのアミド等が挙げられる。
【0020】前記不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコ
ール化合物とのエステル(モノマー)としては、アクリ
ル酸エステルとして、例えば、エチレングリコールジア
クリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、
1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレ
ングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジ
アクリレート、ネオペンテルグリコールジアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメ
チロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)
エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘ
キサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサ
ンジオールジアクリレート、
【0021】テトラエチレングリコールジアクリレー
ト、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリ
スリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテ
トラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソ
ルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアク
リレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビト
ールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエ
チル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオ
リゴマー等が挙げられ、
【0022】メタクリル酸エステルとして、例えば、テ
トラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレ
ングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコー
ルジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタ
クリレート、トリメチロールエタントリメタクリレー
ト、エチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブ
タンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメ
タクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタ
エリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリス
リトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘ
キサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレー
ト、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔p−
(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)
フェニル〕ジメチルメタン、ビス〔p−(メタクリルオ
キシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等が挙げら
れ、
【0023】イタコン酸エステルとして、例えば、エチ
レングリコールジイタコネート、プロピレングリコール
ジイタコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネー
ト、1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメ
チレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトー
ルジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等
が挙げられ、
【0024】クロトン酸エステルとして、例えば、エチ
レングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコ
ールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネ
ート、ソルビトールテトラジクロトネート等が挙げら
れ、イソクロトン酸エステルとして、例えば、エチレン
グリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトール
ジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネ
ート等が挙げられ、
【0025】マレイン酸エステルとして、例えば、エチ
レングリコールジマレート、トリエチレングリコールジ
マレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビト
ールテトラマレー卜等が挙げられる。更に、前述の各種
エステルの混合物も挙げることができる。
【0026】前記不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン
化合物とのアミド(モノマー)としては、例えば、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレシビス−メタクリル
アミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等が挙げられる。
【0027】その他の例としては、特公昭48−417
08号公報に記載の、1分子に2個以上のイソシアネー
ト基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式
(A)で表される水酸基含有ビニルモノマーを付加せし
めた、1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有する
ビニルウレタン化合物等が挙げられる。 CH2=C(R)COOCH2CH(R')OH … 一般式(A) 〔式中、R及びR'は、H又はCH3を表す。〕
【0028】また、特開昭51−37193号公報に記
載のウレタンアクリレート類、特開昭48−64183
号、特公昭49−43191号、特公昭52−3049
0号等の各公報に記載の、ポリエステルアクリレート
類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエ
ポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタ
クリレートを挙げることができる。更に、日本接着協会
誌(vo1.20、No.7、p.300〜308(19
84年))に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹
介されているものも使用することができる。
【0029】前記重合性モノマーは、一種単独で用いて
もよいし、二種以上を併用してもよい。前記重合性モノ
マーの含有量としては、光硬化性組成物の全固形分の1
0〜60質量%が好ましく、20〜50質量%がより好
ましい。
【0030】また、後述の(メタ)アクリル酸含有重合
体の総量に対する前記重合性モノマーの総量の質量比が
0.5〜0.9であることが好ましい。前記質量比が、
0.5未満であると、光重合による硬化が不十分で硬度
が不足することがあり、0.9を越えると、好ましい形
状が得られないことがある。
【0031】−(メタ)アクリル酸含有重合体− 前記(メタ)アクリル酸含有重合体は、主にバインダー
成分として含有され、アルカリ溶液により現像可能なも
のである。前記(メタ)アクリル酸含有重合体として
は、一般に、側鎖にカルボン酸基を有するポリマー、例
えば、特開昭59−44615号公報、特公昭54−3
4327号公報、特公昭58−12577号公報、特公
昭54−25957号公報、特開昭59−53836号
公報、及び特開昭59−71048号公報に記載の、メ
タクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸
共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、
部分エステル化マレイン酸共重合体等が挙げられる。ま
た、側鎖にカルボン酸基を有するセルロース誘導体も挙
げられる。
【0032】上記のほか、水酸基を有するポリマーに環
状酸無水物を付加したものも好適に挙げられる。特に、
米国特許第4139391号明細書に記載の、ベンジル
(メタ)アクリレートと(メタ)アクリル酸の共重合体
やベンジル(メタ)アクリレートと(メタ)アクリル酸
と他のモノマーとの多元共重合体を挙げることができ
る。更に、アルコール可溶性ナイロンも挙げることがで
きる。また、複数の(メタ)アクリル酸含有重合体を組
合わせて使用してもよい。
【0033】前記(メタ)アクリル酸含有重合体は、通
常、50〜300mgKOH/1gの範囲の酸価と、1
000〜300000の範囲の重量平均分子量を有する
ものの中から適宜選択して使用される。前記酸価が、5
0mgKOH/1g未満であると、アルカリ現像性が大
きく低下することがあり、300mgKOH/1gを超
えると、目標とする構造体が得られなくなることがあ
る。
【0034】前記(メタ)アクリル酸含有重合体の重量
平均分子量としては、上記の通り、1000〜3000
00が好ましく、中でも特に10000〜250000
が好ましい。前記重量平均分子量が、1000未満であ
ると、目標とする構造体が得られなくなることがあり、
300000を越えると、現像性が極端に低下すること
がある。尚、重量平均分子量は、GPC(ゲルパーミエ
イションクロマトグラフィー)により測定したポリスチ
レン換算平均分子量である。
【0035】前記(メタ)アクリル酸含有重合体の含有
量としては、光硬化性組成物の全固形分の20〜60質
量%が好ましく、30〜55質量%がより好ましい。前
記含有量が、20質量%未満であると、硬化性組成物を
支持体等上に塗布する際に膜形成が困難となることがあ
り、60質量%を超えると、重合性モノマーの含有比が
少なくなり、重合不良となることがある。
【0036】−重合開始剤− 前記重合開始剤は、重合性モノマーの光重合を実質的に
開始させることのできるものであり、前記重合性モノマ
ーの重合反応を開始させる能力を持つ化合物は全て使用
可能である。中でも特に、約300〜500nmの波長
領域に、少なくとも約50の分子吸光係数を有する成分
を少なくとも1種含有し、紫外線領域の光線に対して感
光性を有することが好ましい。また、光励起された増感
剤、例えば、後述の消色性染料と何らかの相互作用を伴
って活性ラジカルを生成する活性剤であってもよい。
【0037】前記重合開始剤としては、例えば、ハロゲ
ン化炭化水素誘導体、ケトン化合物、ケトオキシム化合
物、有機過酸化物、チオ化合物、ヘキサアリールビイミ
ダゾール、芳香族オニウム塩、ケトオキシムエーテル、
特開平2−48664号公報、特開平1−152449
号公報、特開平2−153353号公報に記載の、芳香
族ケトン類、ロフィン2量体、ベンゾイン、ベンゾイン
エーテル類、ポリハロゲン類、及びこれら2種以上の組
合せ等が挙げられる。
【0038】中でも、光感度、保存性、基板への密着性
等に優れる点で、トリアジン骨格を有するハロゲン化炭
化水素化合物、ケトオキシム化合物、ヘキサアリールビ
イミダゾール、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベン
ゾフェノンと2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジ
フェニルイミダゾール2量体の組合わせ、2,4−ビス
(トリクロロメチル)−6−[4−(N,N−ジエトキシ
カルボニルメチルアミノ)−3−ブロモフェニル]−s−
トリアジン、4−〔p−N,N−ジ(エトキシカルボニ
ルメチル)−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−ト
リアジン〕を用いた系が好ましい。
【0039】前記トリアジン骨格を有するハロゲン化炭
化水素化合物としては、例えば、Bull.Chem.
Soc.Japan,42、2924(若林ら著、19
69)に記載の化合物〔例えば、2−フェニル−4,6
−ビス(トリクロルメチル)−s−トリアジン、2−
(p−クロルフェニル)−4,6−ビス(トリクロルメ
チル)−s−トリアジン、2−(p−トリル)−4,6
−ビス(トリクロルメチル)−s−トリアジン、2−
(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロル
メチル)−s−トリアジン、2−(2’,4’−ジクロ
ルフェニル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−s
−トリアジン、2,4,6−トリス(トリクロルメチ
ル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(ト
リクロルメチル)−s−トリアジン、2−n−ノニル−
4,6−ビス(トリクロルメチル)−s−トリアジン、
2−(α,α,β−トリクロルエチル)−4,6−ビス
(トリクロルメチル)−s−トリアジン等〕、
【0040】英国特許1388492号明細書に記載の
化合物〔例えば、2−スチリル−4,6−ビス(トリク
ロルメチル)−s−トリアジン、2−(p−メチルスチ
リル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−s−トリ
アジン、2−(p−メトキシスチリル)−4,6−ビス
(トリクロルメチル)−s−トリアジン、2−(p−メ
トキシスチリル)−4−アミノ−6−トリクロルメチル
−s−トリアジン等〕、特開昭53−133428号公
報に記載の化合物〔例えば、2−(4−メトキシ−ナフ
ト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロルメチル−s
−トリアジン、2−(4−エトキシ−ナフト−1−イ
ル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−s−トリア
ジン、2−〔4−(2−エトキシエチル)−ナフト−1
−イル〕−4,6−ビス(トリクロルメチル)−s−ト
リアジン、2−(4,7−ジメトキシ−ナフト−1−イ
ル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−s−トリア
ジン、2−(アセナフト−5−イル)−4,6−ビス
(トリクロルメチル)−s−トリアジン等〕、
【0041】独国特許3337024号明細書に記載の
化合物〔例えば、2−(4−スチリルフェニル)−4,
6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−
(4−p−メトキシスチリルフェニル)−4,6−ビス
(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(1−ナ
フチルビニレンフェニル)−4,6−ビス(トリクロロ
メチル)−s−トリアジン、2−クロロスチリルフェニ
ル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジ
ン、2−(4−チオフェン−2−ビニレンフェニル)−
4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、
2−(4−チオフェン−3−ビニレンフェニル)−4,
6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−
(4−フラン−2−ビニレンフェニル)−4,6−ビス
(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−ベ
ンゾフラン−2−ビニレンフェニル)−4,6−ビス
(トリクロロメチル)−s−トリアジン等〕、
【0042】J.Org.Chem.(F.C.Sch
aefer等、29、1527(1964))に記載の
化合物〔例えば、2−メチル−4,6−ビス(トリブロ
モメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(ト
リブロモメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリ
ス(ジブロモメチル)−s−トリアジン、2−アミノ−
4−メチル−6−トリブロモメチル−s−トリアジン、
2−メトキシ−4−メチル−6−トリクロロメチル−s
−トリアジン等〕、
【0043】特開昭62−58241号公報に記載の化
合物〔例えば、2−(4−フェニルアセチレンフェニ
ル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリア
ジン、2−(4−ナフチル−1−アセチレンフェニル)
−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジ
ン、2−(4−p−トリルアセチレンフェニル)−4,
6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−
(4−p−メトキシフェニルアセチレンフェニル)−
4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、
2−(4−p−イソプロピルフェニルアセチレンフェニ
ル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリア
ジン、2−(4−p−エチルフェニルアセチレンフェニ
ル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリア
ジン等〕、
【0044】特開平5−281728号公報に記載の化
合物〔例えば、2−(4−トリフルオロメチルフェニ
ル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリア
ジン、2−(2,6−ジフルオロフェニル)−4,6−
ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−
(2,6−ジクロロフェニル)−4,6−ビス(トリク
ロロメチル)−s−トリアジン、2−(2,6−ジブロ
モフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s
−トリアジン等〕、等を挙げることができる。
【0045】前記ケトオキシム化合物としては、例え
ば、下記一般式(B)で表される化合物が挙げられる。
【0046】
【化1】
【0047】前記一般式(B)中、R2及びR3は、それ
ぞれ独立に、置換基を有していてもよく、不飽和結合を
有していてもよい炭化水素基、ヘテロ環基を表し、互い
に同一でも異なっていてもよい。R4及びR5は、それぞ
れ独立に水素原子、置換基を有していてもよく、不飽和
結合を有していてもよい炭化水素基、ヘテロ環基、ヒド
ロキシル基、置換オキシ基、メルカプト基、置換チオ基
を表し、互いに同一でも異なっていてもよい。また、R
4及びR5は互いに結合して環を形成していてもよく、こ
の場合、該環が−O−、−NR6−、−O−CO−、−
NH−CO−、−S−及び−SO2−より選択される少
なくとも一種の2価の基を環の連結主鎖として含んでい
てもよい炭素数2〜8のアルキレン基を表す。R6及び
7は、それぞれ独立に水素原子、置換基を有していて
もよく、不飽和結合を含んでいてもよい炭化水素基、置
換カルボニル基を表す。
【0048】前記一般式(B)で表される化合物の以下
に示す。但し、本発明においては、これらに限定される
ものではない。例えば、p−メトキシフェニル−2−
N,N−ジメチルアミノプロピルケトンオキシム−O−
アリルエーテル、p−メチルチオフェニル−2−モルフ
ォリノプロピルケトンオキシム−O−アリルエーテル、
p−メチルチオフェニル−2−モルフォリノプロピルケ
トンオキシム−O−ベンジルエーテル、p−メチルチオ
フェニル−2−モルフォリノプロピルケトンオキシム−
O−n−ブチルエーテル、p−モルフォリノフェニル−
2−モルフォリノプロピルケトンオキシム−O−アリル
エーテル、p−メトキシフェニル−2−モルフォリノプ
ロピルケトンオキシム−O−n−ドデシルエーテル、p
−メチルチオフェニル−2−モルフォリノプロピルケト
ンオキシム−O−メトキシエトキシエチルエーテル、
【0049】p−メチルチオフェニル−2−モルフォリ
ノプロピルケトンオキシム−O−p−メトキシカルボニ
ルベンジルエーテル、p−メチルチオフェニル−2−モ
ルフォリノプロピルケトンオキシム−O−メトキシカル
ボニルメチルエーテル、p−メチルチオフェニル−2−
モルフォリノプロピルケトンオキシム−O−エトキシカ
ルボニルメチルエーテル、p−メチルチオフェニル−2
−モルフォリノプロピルケトンオキシム−O−4−ブト
キシカルボニルブチルエーテル、p−メチルチオフェニ
ル−2−モルフォリノプロピルケトンオキシム−O−2
−エトキシカルボニルエチルエーテル、p−メチルチオ
フェニル−2−モルフォリノプロピルケトンオキシム−
O−メトキシカルボエル−3−プロペニルエーテル、p
−メチルチオフェニル−2−モルフォリノプロピルケト
ンオキシム−O−ベンジルオキシカルボニルメチルエー
テル等が挙げられる。
【0050】前記ヘキサアリールビイミダゾールとして
は、例えば、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−
4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、
2,2’−ビス(o−ブロモフェニル)−4,4’,
5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−
ビス(o,p−ジクロロフェニル)−4,4’,5,
5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス
(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ
(m−メトキシフェニル)ビイミダゾール、2,2’−
ビス(o,o’ジクロロフェニル)−4,4’,5,
5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス
(o−ニトロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ
フェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−メチル
フェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイ
ミダゾール、2,2’−ビス(o−トリフルオロメチル
フェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイ
ミダゾール等が挙げられる。これらのビイミダゾール類
は、例えば、Bull.Chem.Soc.Japa
n,33,565(1960)及びJ.Org.Che
m,36(16)2262(1971)に記載の方法に
より容易に合成することができる。
【0051】前記ケトオキシムエーテルとしては、例え
ば、3−ベンゾイロキシイミノブタン−2−オン、3−
アセトキシイミノブタン−2−オン、3−プロピオニル
オキシイミノブタン−2−オン、2−アセトキシイミノ
ペンタン−3−オン、2−アセトキシイミノ−1−フェ
ニルプロパン−1−オン、2−ベンゾイロキシイミノ−
1−フェニルプロパン−1−オン、3−p−トルエンス
ルホニルオキシイミノブタン−2−オン、2−エトキシ
カルボニルオキシイミノ−1−フェニルプロパン−1−
オン等が挙げられる。
【0052】前記重合開始剤は、一種単独で用いてもよ
いし、二種以上を併用してもよく、また異種間で数個の
化合物を併用することも可能である。前記重合開始剤の
含有量としては、光硬化性組成物の全固形分の0.1〜
50質量%が好ましく、0.5〜30質量%がより好ま
しい。
【0053】−他の成分− 前記光硬化性組成物には、他の成分として、消色性染
料、熱可塑性の結合剤、相溶性の可塑剤等の成分を含有
してもよい。
【0054】本発明においては、構造体の形成時におけ
る転写不良、精度不良等の故障の認識を可能とし、製造
適性を向上させる観点から、消色性染料を添加すること
が好ましい。前記消色性染料は、一般に、200℃、1
時間の加熱により消色しうる色素を意味し、ベーク時に
消色可能な有色染料である。中でも、180℃、1時間
の加熱により消色する色素が好ましい。このような色素
は、通常、熱により分解、酸化等による構造変化を起こ
すか、あるいは熱により蒸発、昇華するものである。ま
た、消色後において、前記色素を含む構造体が、400
〜800nmの平行光線に対して90%以上の光透過率
を有することが好ましい。
【0055】前記消色性染料としては、熱により分解す
る色素として、例えば、ビクトリアピュアブルーBO
H、ビクトリアピュアブルーBOH−M、マラカイトグ
リーン、アイゼンマラカイトグリーン、マラカイトグリ
ーン塩酸塩、アイゼンダイヤモンドグリーン等のジアル
キルアミノトリフェニルメタン系の染料等が挙げられ、
熱により蒸発又は昇華する色素として、例えば、オリエ
ントオイルブラウン、メチルイエロー、スミカロンブリ
リアントブルーB、1,3,5−トリフェニルテトラゾ
リウムホルマザン等が挙げられる。
【0056】上記のほか、染料便覧(有機合成化学協会
編、丸善、昭和47年7月20日発行)に記載の、昇華
堅牢試験の耐汚染性の評価(180℃、1時間以下の条
件)が1〜3のものも使用可能である。具体的には、例
えば、C.I. Disperse Yellow8, 31, 72、C.I. Disperse
Orange 1, 3, 20, 21 、C.I. Disperse Red 15, 55, 6
0, 65、C.I. Disperse Violet 8, 23, 26, 37、C.I. Di
sperse Blue 20, 26,55, 56, 72, 90, 91, 92, 106、C.
I. Disperse Black 29、 Diacellition Direct Black B
M/D (三菱化成(株)製)、Sumikaron Violet RS
(住友化学(株)製)、Dianix Fast Sky Blue B M/D
(三菱化成(株)製)、Miketon Polyester Blue BCL,
GRN (三井石油化学(株)製)、KayaronPolyester Nav
y Blue GF(日本化薬(株)製)等が挙げられる。加熱
装置の適性、環境汚染を考慮すると、前記熱分解性の染
料が好ましい。
【0057】前記消色性染料の添加量としては、光硬化
性組成物の全固形分の0.1〜10質量%が好ましい。
【0058】前記熱可塑性の結合剤としては、例えば、
エチレン性不飽和化合物等の公知の結合剤が挙げられ
る。前記相溶性の可塑剤としては、例えば、ポリプロピ
レングリコール、ポリエチレングリコール、ジオクチル
フタレート、ジヘプチルフタレート、ジブチルフタレー
ト、トリクレジルフォスフェート、クレジルジフェニル
フォスフェートビフェニルジフェニルフォスフェート等
を挙げられる。前記結合剤及び可塑剤の添加量として
は、本発明の効果を損なわない範囲で加えることができ
る。
【0059】前記成分よりなる光硬化性組成物は、光感
応性を有するので、所望のパターンで照射し、アルカリ
現像により未照射の不要部を除去する簡易な工程によっ
て、所望の形状からなる透明な構造体を安価に形成する
ことができる。しかも、高温下でベーク処理を施した場
合でも、構造体自体が黄色等に着色することもなく透明
性に優れ、3原色の色純度を損なうことのない構造体を
得ることができる。
【0060】(構造体の形成)液晶表示素子は、一般
に、カラーフィルタと該カラーフィルタ上に導電層(電
極)とを備えるフィルタ側基板と、これと対向配置され
る導電層(電極)付きの対向基板との2枚の基板(前記
フィルタ側基板及び対向基板のいずれに薄膜トランジス
タ(TFT)等の駆動素子が備えられていてもよい。)
によって液晶層が狭持されてなり、前記光硬化性組成物
を用いて、前記2枚の基板にそれぞれ設けられた導電層
の少なくとも一方の導電層と液晶層との間に、液晶層側
に凸となる透明な構造体(透明構造体)を設けることに
よって、液晶分子の配向の向きを規制し、液晶面に対す
る観察位置(視野角)に依存しない広視野角を確保する
ことができる。また、液晶表示した際の画像の色相を害
しないためには、実質的に無色透明であることが要求さ
れる。ここで、無色透明とは、3原色からなるカラーフ
ィルタの色純度を低下させるような着色がなく、光透過
性に優れることをいう。
【0061】本発明においては、前記構造体は、既述の
光硬化性組成物から構成され、光硬化性組成物に光をパ
ターン状に照射して硬化し、現像処理により不要部(未
硬化部)を除去することによって形成できる。前記構造
体は、2枚の基板の一方の導電層と液晶層との間のみに
形成してもよいし、両基板の導電層と液晶層との間に形
成してもよい。
【0062】前記構造体は、基本的には、(1)仮支持
体上に感光性樹脂層として光硬化性組成物を含む層が設
けられた転写材料を用い、転写により基板の導電層上に
感光性樹脂層からなる構造体を形成する方法、(2)光
硬化性組成物を含んで調製された液を基板上に塗布等す
ることにより、基板の導電層上に直接感光性樹脂層を設
け、該層からなる構造体を形成する方法、等が挙げられ
る。尚、仮支持体又は基板上に、光硬化性組成物を含む
液(以下、「感光性樹脂層用塗布液」ということがあ
る。)を塗布して層形成する場合には、スピンコート法
等の公知の塗布方法を適用することができる。本発明に
おいては、均一厚の構造体の形成が容易な点で、前記
(1)の方法が好ましい。
【0063】まず、前記(1)の方法及び該方法に用い
る転写材料について説明する。 −−転写材料−− 前記転写材料は、仮支持体上に、少なくとも光硬化性組
成物を含む層、即ち感光性樹脂層が設けられてなる。こ
こで、前記光硬化性組成物は既述の通りであり、感光性
樹脂層は、少なくとも温度150℃以下で軟化若しくは
粘着性を有する熱可塑性を示す転写適性を有し、また光
若しくは光が照射されると硬化する一方、未照射部はア
ルカリ溶液に対して易溶性でレジスト性を備える。本発
明においては、特に、仮支持体上にアルカリ可溶な熱可
塑性樹脂層と中間層と感光性樹脂層(光硬化性組成物を
含む層)とがこの順に設けられてなる転写材料が好まし
く、更に前記感光性樹脂層上にカバーフィルムが設けら
れていてもよい。
【0064】−アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層− 前記アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層は、仮支持体上の第
一層目として設けられ、主として熱可塑性樹脂を含んで
なり、必要に応じて他の成分を含んでいてもよい。前記
熱可塑性樹脂としては、転写後のアルカリ現像を可能と
し、あるいは転写時の転写条件によっては熱可塑性樹脂
が周囲にはみ出して被転写体である導電膜上を汚染して
しまう場合に除去処理を可能とする観点から、アルカリ
性水溶液に可溶な樹脂が好適である。更に、熱可塑性樹
脂層は、被転写体である基板の導電膜上に転写する際、
導電膜上に存在する凹凸に起因して生じうる転写不良を
防止するクッション材としての機能をも発揮させる観点
から、加熱密着時に前記凹凸に応じて変形しうる性質が
必要とされる。
【0065】上記の点から、前記熱可塑性樹脂として
は、アルカリ可溶性であって、実質的な軟化点が80℃
以下の樹脂が好ましい。軟化点が80℃以下の熱可塑性
樹脂としては、例えば、エチレンとアクリル酸エステル
共重合体とのケン化物、スチレンと(メタ)アクリル酸
エステル共重合体とのケン化物、ビニルトルエンと(メ
タ)アクリル酸エステル共重合体とのケン化物、ポリ
(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸ブチ
ルと酢酸ビニル等との(メタ)アクリル酸エステル共重
合体等のケン化物等が挙げられ、一種単独よりなるもの
であっても、二種以上を併用したものであってもよい。
【0066】更に、「プラスチック性能便覧」(日本プ
ラスチック工業連盟、全日本プラスチック成形工業連合
会編著、工業調査会発行、1968年10月25日発
行)に記載の、軟化点が約80℃以下の有機高分子のう
ち、アルカリ水溶液に可溶なものも使用できる。
【0067】また、軟化点80℃以上の有機高分子物質
であっても、その有機高分子物質中に該有機高分子物質
と相溶性のある各種可塑剤を添加することにより、実質
的な軟化点を80℃以下に下げて使用することもでき
る。前記可塑剤としては、既述の光硬化性組成物に使用
可能な可塑剤と同様のものが挙げられる。
【0068】前記有機高分子物質を用いる場合、後述の
仮支持体との接着力を調節する目的で、実質的な軟化点
が80℃を越えない範囲で、各種ポリマー、過冷却物
質、密着改良剤、界面活性剤、離型剤等を加えることも
できる。
【0069】転写材料は、仮支持体上に熱可塑性樹脂層
の他、後述の中間層、感光性樹脂層を順次積層して構成
されるが、特に熱可塑性樹脂層と仮支持体との間の接着
強度が他の層間における接着強度よりも小さくすること
が必要であり、これにより転写の後仮支持体を容易かつ
熱可塑性樹脂層表面の破壊を伴うことなく除去すること
ができる。即ち、仮支持体除去後の感光性樹脂層への露
光を均一に行うことが可能となる点で重要である。
【0070】前記熱可塑性樹脂層は、熱可塑性樹脂と必
要に応じて他の成分を有機溶剤に溶解して塗布液(熱可
塑性樹脂層用塗布液)を調製し、例えば、スピンコート
法等の公知の塗布方法により仮支持体上に塗布等して形
成することができる。
【0071】前記有機溶剤としては、例えば、メタノー
ル、エタノール等のアルコール類;テトラヒドロフラン
等のエーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレング
リコールメチルエチルエーテル、エチレングリコールモ
ノエチルエーテル等のグリコールエーテル類;メチルセ
ロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート等の
エチレングリコールアルキルエーテルアセテート類;ジ
エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレング
リコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメ
チルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエー
テル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエ
チレングリコールモノブチルエーテル等のジエチレング
リコール類;プロピレングリコールメチルエーテルアセ
テート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテー
ト等のプロピレングリコールアルキルエーテルアセテー
ト類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;
【0072】メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、
4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン等のケト
ン類;2−ヒドロキシプロピオン酸エチル、2−ヒドロ
キシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−ヒドロキシ
−2−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチ
ル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチ
ルブタン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、
3−メトキンプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピ
オン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸
エチル、酢酸ブチル等のエステル類;等が挙げられる。
これらの有機溶剤は、一種単独で用いてもよいし、二種
以上を組合わせて用いてもよい。
【0073】これらの中でも、各成分の溶解性、及び膜
形成性の点で、エチレングリコールジメチルエーテル等
のグリコールエステル類、エチルセロソルブアセテート
等のエチレングリコールアルキルエーテルアセテート
類、2−ヒドロキシプロピオン酸エチル、3−メトキシ
プロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル
等のエステル類、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル等のジエチレングリコール類が特に好適である。
【0074】更に、N−メチルホルムアミド、N,N−
ジメチルホルムアミド、N−メチルホルムアニリド、N
−メチルアセトアミド、N,N−ジメチルアセトアミ
ド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベ
ンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニ
ルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、1
−オクタノール、1−ノナノール、ベンジルアルコー
ル、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチ
ル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エ
チレン、炭酸プロピレン、フェニルセロソルブアセテー
ト等の高沸点溶剤を添加することもできる。
【0075】前記熱可塑性樹脂層の層厚としては、6〜
100μmが好ましく、6〜50μmがより好ましい。
前記層厚が、6μm未満であると、導電層上の1μm以
上の凹凸を完全に吸収することができないことがあり、
100μmを超えると、現像性、製造適性が低下するこ
とがある。
【0076】−中間層− 前記中間層は、該中間層上に設けられる感光性樹脂層及
び前記熱可塑性樹脂層には有機溶剤が用いられるため、
両層が互いに混ざり合うのを防止する機能を有する。ま
た、該中間層は、水又はアルカリ水溶液に分散又は溶解
するものであればよく、酸素透過性の低いものが好まし
い。
【0077】前記中間層は、水又はアルカリ水溶液に分
散、溶解可能な樹脂成分を主に構成され、必要に応じ
て、界面活性剤等の他の成分を含んでいてもよい。前記
中間層を構成する樹脂成分としては、公知のものの中か
ら適宜選択でき、例えば、特開昭46−2121号や特
公昭56−40824号に記載の、ポリビニルエーテル
/無水マレイン酸重合体、カルボキシアルキルセルロー
スの水溶性塩、水溶性セルロースエーテル類、カルボキ
シアルキル澱粉の水溶性塩、ポリビニルアルコール、ポ
リビニルピロリドン、各種のポリアクリルアミド類、各
種水溶性ポリアミド、ポリアクリル酸の水溶性塩、ゼラ
チン、エチレンオキサイド重合体、各種澱粉及びその類
似物からなる群の水溶性塩、スチレン/マレイン酸の共
重合体、マレイネート樹脂、及びこれらを2種以上組合
せたもの等が挙げられる。
【0078】中でも、ポリビニルアルコールとポリビニ
ルピロリドンとを組合せてなるものが特に好ましい。更
に、前記ポリビニルアルコールとしては、鹸化率が80
%以上のものが好ましい。また、前記ポリビニルピロリ
ドンの含有量としては、中間層の固形体積の1〜75%
であることが好ましく、1〜60%であることがより好
ましく、10〜50%であることが最も好ましい。前記
固形体積が、1%未満であると、感光性樹脂層との十分
な密着性が得られないことがあり、75%を越えると、
酸素遮断能が低下することがある。
【0079】前記中間層は、その酸素遮断能が低下する
と、感光性樹脂層の重合感度が低下して、露光時の光量
をアップしたり、露光時間を長くする必要が生ずるばか
りか、解像度も低下することになるため、酸素透過率の
小さいことが好ましい。
【0080】前記中間層は、樹脂成分等を水系溶媒に溶
解、分散して塗布液(中間層用塗布液)を調製し、例え
ば、スピンコート法等の公知の塗布方法により基板上に
塗布等して形成することができる。前記水系溶媒として
は、蒸留水等の水を主成分とし、所望により本発明の効
果を損なわない範囲でアルコール等の水と親和性のある
溶剤や塩等を添加した溶媒が挙げられる。
【0081】前記中間層の層厚としては、約0.1〜5
μmが好ましく、0.5〜2μmがより好ましい。前記
層厚が、約0.1μm未満であると、酸素透過性が高す
ぎて感光性樹脂層の重合感度が低下することがあり、約
5μmを越えると、現像や中間層除去時に長時間を要す
ることがある。
【0082】−感光性樹脂層− 前記感光性樹脂層は、既述の光硬化性組成物を含んでな
り、必要に応じて他の成分を含んでいてもよい。該層が
光照射されると、光照射部で重合反応が起こり硬化され
ることにより構造体が形成される。前記感光性樹脂層
は、光硬化性組成物と必要に応じて他の成分を有機溶剤
に溶解して塗布液(感光性樹脂層用塗布液)を調製し、
例えば、スピンコート法等の公知の塗布方法により基板
上に塗布等して形成することができる。前記有機溶剤と
しては、前記熱可塑性樹脂層用塗布液の調製に使用可能
なものと同様のものが挙げられる。
【0083】感光性樹脂層の層厚としては、0.5〜1
0μmが好ましく、1〜6μmがより好ましい。前記層
厚が、0.5μm未満であると、感光性樹脂層用塗布液
の塗布時にピンホールが発生しやすく、製造適性が低下
することがあり、10μmを超えると、現像時に未露光
部を除去するのに長時間を要することがある。
【0084】−仮支持体− 前記仮支持体としては、熱可塑性樹脂層に対して転写に
支障とならない程度の剥離性を有するものが好ましく、
化学的、熱的に安定で可撓性のものが好ましい。具体的
には、テフロン(登録商標)、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン等の薄膜シート若しくはこれらの積層物が好適に挙げ
られる。
【0085】仮支持体と前記熱可塑性樹脂層との間に良
好な剥離性を確保するために、グロー放電等の表面処理
は施さず、またゼラチン等の下塗り層も設けないことが
好ましい。前記仮支持体の厚みとしては、5〜300μ
mが適当であり、20〜150μmが好ましい。
【0086】−カバーフィルム− 前記感光性樹脂層上には、保管等の際の汚れや損傷から
保護する目的で、カバーフィルムを設けることが好まし
い。カバーフィルムは、感光性樹脂層から容易に剥離可
能なものの中から選択でき、前記仮支持体と同一又は類
似の材料からなるものであってもよい。具体的には、例
えば、シリコーン紙、ポリオレフィン又はポリテトラフ
ルオロエチレンシート等が好ましく、中でも、ポリエチ
レン、ポリプロピレンフィルムがより好ましい。
【0087】前記カバーフィルムの厚みとしては、約5
〜100μmが好ましく、10〜30μmがより好まし
い。
【0088】転写材料は、前記仮支持体上に、まず、熱
可塑性樹脂を溶剤に溶解し調製した塗布液(熱可塑性樹
脂層用塗布液)を塗布、乾燥して熱可塑性樹脂層を設
け、続いて該熱可塑性樹脂層上に、熱可塑性樹脂層を溶
解しない溶媒を用いてなる塗布液(中間層用塗布液)を
塗布、乾燥して中間層を設け、更に該中間層上に、硬化
性組成物を中間層を溶解しない溶剤に溶解し調製した塗
布液(感光性樹脂層用塗布液)を塗布、乾燥して感光性
樹脂層を設けることにより形成することができる。又
は、前記カバーフィルム上に感光性樹脂層を設け、一
方、仮支持体上に熱可塑性樹脂層と中間層とを設け、そ
れぞれを中間層と感光性樹脂層とが接するように貼り合
わせることにより、或いは、前記カバーフィルム上に感
光性樹脂層と中間層とを設け、一方、仮支持体上に熱可
塑性樹脂層を設け、それぞれを上記同様、中間層と感光
性樹脂層とが接するように貼り合わせることにより、製
造することができる。
【0089】後述のように、転写材料を被転写体である
基板の導電層上に密着させ、転写材料の仮支持体を剥離
する過程では、仮支持体や基板等が帯電する結果、周囲
のゴミ等を引き寄せ、剥離後の感光性樹脂層上にゴミ等
が付着して、その後の露光過程で未露光部ができ、その
部分がピンホールを形成する要因となることから、帯電
を防止する目的で、仮支持体の少なくとも一方の表面に
導電性層を設けたり、あるいは導電性を付与した仮支持
体を用いることにより、その表面電気抵抗を1013Ω以
下に下げることが好ましい。
【0090】仮支持体に導電性を付与するには、仮支持
体中に導電性物質を含有させればよい。例えば、金属酸
化物の微粒子や帯電防止剤を予め練り込んでおく方法が
好適である。前記金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化
チタン、酸化錫、酸化アルミニウム、酸化インジウム、
酸化珪素、酸化マグネシウム、酸化バリウム、酸化モリ
ブデン等の結晶性金属酸化物、及び/又は、その複合酸
化物の微粒子が挙げられる。
【0091】前記帯電防止剤としては、エレクトロスト
リッパーA(花王(株)製)、エレノンNo19(第一
工業製薬(株)製)等のアルキル燐酸塩系アニオン界面
活性剤;アモーゲンK(第一工業製薬(株)製)等のベ
タイン系両性界面活性剤;ニッサンノニオンL(日本油
脂(株)製)等のポリオキシエチレン脂肪酸エステル系
非イオン界面活性剤;エマルゲン106、120、14
7、420、220、905、910(花王(株)製)
やニッサンノニオンE(日本油脂(株)製)等のポリオ
キシエチレンアルキルエーテル系非イオン界面活性剤、
等が好適である。その他、非イオン界面活性剤として、
ポリオキシエチレンアルキルフェノールエーテル系、多
価アルコール脂肪酸エステル系、ポリオキシエチレンソ
ルビタン脂肪酸エステル系、ポリオキシエチレンアルキ
ルアミン系等のものが挙げられる。
【0092】仮支持体上に導電性層を設ける場合には、
導電性層としては公知のものの中から、適宜選択して用
いることができる。導電性層に用いる導電性物質とし
て、ZnO、TiO2、SnO2、Al23、In23
SiO2、MgO、BaO、MoO3等から選ばれる少な
くとも1種の結晶性金属酸化物、及び/又は、その複合
酸化物の微粒子等が挙げられる。これらを含有させて用
いる方法が湿度環境に影響されない、安定した導電効果
を有する点で好ましい。
【0093】前記結晶性金属酸化物又はその複合酸化物
の微粒子の体積抵抗値としては、107Ω・cm以下が
好ましく、105Ω・cm以下がより好ましい。また、
その粒子径としては、0.01〜0.7μmが好まし
く、0.02〜0.5μmがより好ましい。
【0094】上記結晶性金属酸化物及びその複合酸化物
の微粒子の製造方法は、特開昭56−143430号に
詳細に記載されている。即ち、第1に、金属酸化物微粒
子を焼成により作製し、導電性を向上させる異種原子の
存在下で熱処理する方法、第2に、焼成により金属酸化
物微粒子を製造する際に導電性を向上させるための異種
原子を共存させる方法、第3に、焼成により金属微粒子
を製造する際に雰囲気中の酸素濃度を下げて、酸素欠陥
を導入する方法等が記載されている。異種原子を含む具
体例としては、ZnOに対してAl、In等、TiO2
に対してNb、Ta等、SnO2に対してSb、Nb、
ハロゲン元素等を存在させることが挙げられる。
【0095】異種原子の添加量としては、0.01〜3
0mol%が好ましく、0.1〜10mol%がより好
ましい。導電性粒子の使用量としては、0.05〜20
g/m2が好ましく、0.1〜10g/m2がより好まし
い。
【0096】転写材料に設ける導電性層には、バインダ
ーとして、ゼラチン、セルロースナイトレート、セルロ
ーストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロ
ースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロ
ピオネート等のセルロースエステル;塩化ビニリデン、
塩化ビニル、スチレン、アクリロニトリル、酢酸ビニ
ル、炭素数1〜4のアルキルアクリレート、ビニルピロ
リドン等を含むホモポリマー又は共重合体;可溶性ポリ
エステル、ポリカーボネート、可溶性ポリアミド等を使
用することができる。
【0097】これらのバインダー中に導電性粒子を分散
する場合、チタン系分散剤又はシラン系分散剤等の分散
液を添加してもよい。また、必要に応じて、バインダー
架橋剤等を添加することもできる。
【0098】前記チタン系分散剤としては、例えば、米
国特許4,069,192号、同4,080,353号
等に記載の、チタネート系カップリング剤、プレンアク
ト(味の素(株)製)等が挙げられる。前記シラン系分
散剤としては、例えば、ビニルトリクロルシラン、ビニ
ルトリエトキシシラン、ビニルトリス(β−メトキシエ
トキシ)シラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシ
ラン等が挙げられ、「シランカップリング剤」(信越化
学(株)製)として市販されている。前記バインダー架
橋剤としては、例えば、エポキシ系架橋剤、イソシアネ
ート系架橋剤、アジリジン系架橋剤、エポキシ系架橋剤
等が挙げられる。
【0099】前記導電性層は、導電性微粒子をバインダ
ー中に分散させて仮支持体上に塗設したり、又は仮支持
体上に下引処理(例えば、下塗り層等)を施した上に導
電性微粒子を付着させることにより設けることができ
る。
【0100】前記導電性層は、仮支持体の感光性樹脂層
を塗設した面とは反対の表面上に設けてもよく、この場
合には、十分な耐傷性を確保する目的で、導電性層上に
更に疎水性重合体層を設けることが好ましい。該疎水性
重合体層は、疎水性重合体を有機溶剤に溶解した状態又
は水性ラテックスの状態で塗布すればよく、その塗布量
としては、乾燥質量で0.05〜1g/m2程度が好ま
しい。前記疎水性重合体としては、例えば、ニトロセル
ロース、セルロースアセテート等のセルロースエステ
ル;塩化ビニル、塩化ビニリデン、ビニルアクリレート
等を含むビニル系ポリマー;有機溶剤可溶性ポリアミ
ド、ポリエステル等のポリマーを挙げることができる。
【0101】前記疎水性重合体層には、スベリ性を付与
する目的で、例えば、特開昭55−79435号に記載
の有機カルボン酸アミド等のスベリ剤を使用することが
できる。また、必要に応じて、マット剤等を使用するこ
ともできる。このような疎水性重合体層を設けても、導
電性層の効果は実質的に影響を受けない。
【0102】下塗り層を設ける場合、特開昭51−13
5526号、米国特許3,143,421号、同3,5
86,508号、同2,698,235号、同3,56
7,452号等に記載の塩化ビニリデン系共重合体、特
開昭51−114120号、米国特許3,615,55
6号等に記載のブタジエン等のジオレフイン系共重合
体、特開昭51−58469号等に記載のグリシジルア
クリレート又はグリシジルメタアクリレート含有共重合
体、特開昭48−24923号等に記載のポリアミド・
エピクロルヒドリン樹脂、特開昭50−39536号に
記載の無水マレイン酸含有共重合体等を用いることがで
きる。
【0103】本発明においては、特開昭56−8250
4号、特開昭56−143443号、特開昭57−10
4931号、特開昭57−118242号、特開昭58
−62647号、特開昭60−258541号等に記載
の導電性層も必要に応じて用いることができる。
【0104】仮支持体上に、導電性層を塗布する場合、
ローラーコート、エアナイフコート、グラビアコート、
バーコート、カーテンコート等の公知の方法により塗布
することができる。十分な帯電防止効果を得るために
は、導電性層又は導電性を付与した仮支持体の表面電気
抵抗値を、1013Ω以下とすることが好ましく、1012
Ω以下とすることがより好ましい。
【0105】また、感光性樹脂層の仮支持体との強固な
接着を防止するため、仮支持体面に公知の微粒子を含有
する滑り剤組成物、シリコーン化合物を含有する離型剤
組成物等を塗布することもできる。
【0106】仮支持体の熱可塑性樹脂層を設けない側の
表面に導電性層を設ける場合には、熱可塑性樹脂層と仮
支持体との接着性を向上する目的で、仮支持体に、例え
ば、グロー放電処理、コロナ処理、紫外線照射処理等の
表面処理、フェノール性物質、ポリ塩化ビニリデン樹
脂、スチレンブタジエンゴム、ゼラチン等の下塗り処理
又はこれらの処理を組み合わせた処理を施すことができ
る。
【0107】仮支持体用のフィルムは押し出し形成によ
り形成することが可能であるが、導電性物質又は導電性
層を仮支持体と同一又は異質のプラスチック原料に含有
させ、前記フィルムと同時に押し出し形成した場合に
は、接着性、耐傷性に優れた導電性層を容易に得ること
ができる。この場合、前記疎水性重合体層や下塗り層を
設ける必要はなく、転写材料を構成する導電性付与仮支
持体として最も好ましい実施形態である。
【0108】続いて、転写材料を用いた構造体の形成方
法について説明する。ここでは、転写材料として、仮支
持体上にアルカリ可溶な熱可塑性樹脂層、中間層、感光
性樹脂層及びカバーフィルムがこの順に積層されてなる
転写材料を、基板として、基体上の全面に導電層(IT
O膜等)が設けられた基板を用いた一例を示す。
【0109】まず、転写材料のカバーフィルムを取り除
き、感光性樹脂層を加圧、加熱下で被転写体である基板
の導電層上に密接し貼り合わせる。貼り合わせには、従
来公知のラミネーター、真空ラミネーター等の中から適
宜選択したものが使用でき、より生産性を高めるには、
オートカツトラミネーターも使用可能である。貼り合わ
せた後、仮支持体を熱可塑性樹脂層との界面で剥がし取
り、該熱可塑性樹脂層の上方から熱可塑性樹脂層及び中
間層を通して感光性樹脂層をパターン状に露光(パター
ニング)する。前記露光は、300〜500nmの波長
光の照射により行え、光源としては、例えば、高圧水銀
灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、Hg−Xe
ランプ等が挙げられる。
【0110】また、前記パターニングの方法としては、
例えば、フォトリソグラフィ法による方法、熱可塑
性樹脂層の上方に露光マスクを配置し、該マスク介して
パターン状に露光する方法、密着型のプロキシミティ
露光装置等の露光手段を用いる方法等が挙げられる。前
記方法によるパターニングでは、その露光量として
は、光硬化性組成物が重合硬化を起こす最小露光量の3
〜10倍が好ましく、プロキシミティ量としては、40
〜150μmが好ましい。
【0111】前記露光の後、現像処理して、熱可塑性樹
脂層、中間層、及び不要部(未硬化部分)の感光性樹脂
層を除去する。すると、照射された硬化部のみが導電層
上に残り、透明構造体が形成される。
【0112】前記現像は、公知の方法により行え、溶剤
若しくは水性の現像液、特にアルカリ水溶液等を用い
て、例えば、(a)露光後の基板自体を現像浴中に浸漬す
る、(b)露光後の基板にスプレー等により噴霧する等し
て、更に必要に応じて、溶解性を高める目的で、回転ブ
ラシや湿潤スポンジ等で擦ったり、超音波を照射しなが
ら行うことができる。
【0113】前記アルカリ水溶液としては、アルカリ性
物質の希薄水溶液が好ましく、更に水混和性のある有機
溶剤を少量添加したものも好適に使用することができ
る。前記アルカリ性物質としては、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物類、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、炭酸
水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属重
炭酸塩類、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム等のアル
カリ金属ケイ酸塩類、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ
酸カリウム等のアルカリ金属メタケイ酸塩類、トリエタ
ノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールア
ミン、モルホリン、テトラメチルアンモニウムヒドロキ
シド等のテトラアルキルアンモンニウムヒドロキシド
類、燐酸三ナトリウム等が挙げられる。
【0114】アルカリ水溶液中のアルカリ性物質の濃度
としては、0.01〜30質量%が好ましく、更にpH
としては、8〜14が好ましい。
【0115】前記水混和性を有する有機溶剤としては、
メタノール、エタノール、2−プロパノール、1−プロ
パノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレ
ングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコール
モノエチルエーテル、エチレングリコールモノn−ブチ
ルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエ
チルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、
γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチ
ル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、N−メチルピロ
リドン等が挙げられる。該有機溶剤の添加量としては、
0.1〜30質量%が好ましい。
【0116】また、アルカリ水溶液には、公知の種々の
界面活性剤を添加することもできる。界面活性剤の濃度
としては、0.01〜10質量%が好ましい。現像時の
温度としては、通常、室温付近から40℃が好ましい。
更に、現像処理した後に、水洗処理する工程を入れるこ
ともできる。
【0117】現像処理した後、更に200〜260℃下
でベークする。べーク処理することにより、透明構造体
をより硬化させることができ、また構造体の収縮、流動
により構造体の形状を適度になだらかにすることができ
る。
【0118】次に、前記(2)の方法について簡単に説
明する。この場合には、基板上に、光硬化性組成物を含
んで調製された液を直接塗布等することにより、基板の
導電層上に感光性樹脂層を形成する。前記光硬化性組成
物を含んで調製された液としては、既述の(1)の方法
において用いる感光性樹脂層用塗布液と同様のものが使
用できる。基板上に感光性樹脂層を形成した後、(1)
の方法と同様にして、露光(パターニング)、現像等す
ることにより、基板の導電層上に照射された硬化部のみ
が導電層上に残り、透明な構造体が形成される。そし
て、更に200〜260℃下でベークすることが好まし
い。
【0119】以上のように、安価な硬化性組成物により
簡易に液晶分子の配向を規制しうる構造体を形成するこ
とができ、しかも、前記硬化性組成物を用いることによ
り、ベーク処理による着色がなく透明性に優れる透明構
造体を形成することができる。
【0120】上記のようにして形成される構造体は、液
晶分子の配向の向きを規制しうる形状、形態で導電層及
び液晶層の間に形成されていればよく、その形状、形態
には特に制限はない。前記構造体の形状としては、公知
の形状の中から適宜選択することができ、例えば、基板
の導電層面を底面とする角錐型(三角錐、四角錐等)、
半球型のものや、同様に導電層面を底面とする円錐型、
台形型、蒲鉾型のもの、また、帯状に基板上に形成され
その長さ方向と直交する断面形状が三角形である三角柱
状のもの、同様にその長さ方向と直交する断面形状が半
円形、四角形、台形、蒲鉾形等の柱状体のものなど、例
えば特許第2947350号等に記載された形状等に形
成できる。
【0121】また、構造体の配置態様としては、公知の
態様の中から適宜選択することができ、例えば、特許第
2947350号等に記載の態様で形成できる。例え
ば、帯状に基板上に形成されその長さ方向と直交する断
面形状が台形である複数の柱状体が等ピッチで1方向に
平行に延びたパターンで配置され、且つ2枚の基板の各
導電層と液晶層との両方の間に設けられてなる態様であ
ってもよい(特許第2947350号の図14参照)。
前記構造体が両方の基板の導電層と液晶層との間に設け
られる場合には、必ずしも同形状の構造体を形成する必
要はなく、異形状の構造体を組合せて形成してもよい。
また、基板上に帯状に形成される構造体は、直線状の形
態に限られず、所定の角度をなして屈曲状の形態で設け
られてもよい(特許第2947350号の図42及び図
55等参照)。
【0122】その他、前記構造体の大きさ、配置間隔、
配置形状等の詳細については、特許第2947350号
等の記載を参照できる。
【0123】前記構造体の形状の中でも、十分な視野角
が得られる点で、基板と直交する断面が台形及び蒲鉾形
のいずれかの形状を有する構造体が好ましく、前記した
基板の導電層面を底面とする台形型、蒲鉾型や、帯状に
基板上に形成されその長さ方向と直交する断面形状が半
円形、台形、蒲鉾形の柱状体などが好ましい。
【0124】以上の通り、前記構造体は、導電層と液晶
層との間に設けられることにより、構造体の凸面に沿っ
て液晶分子の配向の向きが傾斜するように規制されるの
で、液晶面を観察する位置(視野角)に依存しない広視
野角を確保することができる。
【0125】<液晶表示素子>本発明の液晶表示素子
は、互いに対向し合う側の表面に導電層が設けられた2
枚の基板間に液晶層が狭持され、既述の本発明の光硬化
性組成物からなる構造体を基板の導電層と液晶層との間
に備えてなる。また、構造体を含む導電層上にはこれら
を覆って配向膜を形成することもできる。
【0126】本発明の液晶表示素子の基本的な構成態様
としては、(1)薄膜トランジスタ(以下、「TFT」
という。)等の駆動素子と画素電極(導電層)とが配列
形成された駆動側基板と、カラーフィルタ及び対向電極
(導電層)を備えるフィルタ側基板とをスペーサを介在
させて対向配置し、その間隙部に液晶材料を封入して構
成されるもの、(2)カラーフィルタが前記駆動側基板
に直接形成されたカラーフィルタ一体型駆動基板と、対
向電極(導電層)を備える対向基板とをスペーサを介在
させて対向配置し、その間隙部に液晶材料を封入して構
成されるもの等が挙げられる。
【0127】導電層としては、例えば、ITO膜;A
l、Zn、Cu、Fe、Ni、Cr、Mo等の金属膜;
SiO2等の金属酸化膜などが挙げられ、中でも透明性
のものが好ましく、ITO膜が特に好ましい。前記駆動
側基板、フィルタ側基板、対向基板は、その基材とし
て、例えば、ソーダガラス板、低膨張ガラス板、ノンア
ルカリガラス板、石英ガラス板等の公知のガラス板、あ
るいはプラスチックフィルム等を用いて構成される。
【0128】TFT等の駆動素子と画素電極とが配列形
成された駆動側基板としては、例えば、互いに垂直に交
わってマトリックス状に配設されたデータバスライン及
びゲートバスラインと接続されたTFT、及びTFTを
介してデータバスラインと接続する導電層が設けられた
もの等が挙げられる。
【0129】前記態様のいずれにおいても、液晶表示素
子を構成する基板の両方に導電層が形成され、該両導電
層間に電圧が印可されその間に狭持される液晶材料がそ
の電圧に応じて配向状態を変化させ表示を行う。したが
って、既述の構造体は、いずれの導電層上にも所望の形
状、形態で形成することができる。
【0130】前記態様(1)の一例として、図2により
簡単に説明する。一方の基板10は、フィルタ側基板で
ある。基板3の液晶層6に対向する側の表面には、カラ
ーフィルタ膜7、共通電極をなすITO膜(電極層)
1、及び等ピッチで断面台形の構造体8が形成されてい
る。更に、ITO膜1及び構造体8上には、配向膜(図
示しない)が設けられる。他方の基板20は、TFTを
備える駆動側基板である。基板4の液晶層6に対向する
側の表面には、TFT(図示しない)、該TFTのドレ
イン電極と接合するITO膜(電極層)2、及び等ピッ
チで断面台形の構造体8が形成されている。基板20に
は、ゲート電極をなすゲートバスラインが複数本形成さ
れ、該ゲートバスラインに直交して複数本のデータバス
ラインが平行に形成され、ゲートバスラインとデータバ
スラインの交点に対応して複数個のTFTが配列されて
いる。更に、TFT、ITO膜2及び構造体8上には、
更に配向膜(図示しない)が設けられる。前記基板10
及び基板20の間には、液晶材料を封入してなる液晶層
6が狭持され、構造体8は液晶層6側に凸に突起し、該
凸面に沿って液晶分子5が配向している。
【0131】以上の通り、基板の導電層と液晶層との間
に、着色のない透明な構造体が設けられるので、液晶表
示面に対する観察位置(視野角)に依存しない広視野角
を確保することができると共に、3原色(B(青色)、G
(緑色)、R(赤色))の色純度をも損なわれず、色相ズレ
のない鮮明なフルカラー画像を表示しうる液晶表示素子
を提供することができる。
【0132】
【実施例】以下、実施例により本発明を説明するが、本
発明はこれらの実施例に限定されるものではない。尚、
実施例中の「部」及び「%」は、それぞれ「質量部」及
び「質量%」を示す。以下において、本発明に係る構造
体を透明構造体ということがある。
【0133】(実施例1) <構造体の形成> −転写材料(1)の作製− 仮支持体として、厚さ100μmのポリエチレンテレフ
タレートフィルム(PETフィルム)を準備し、該仮支
持体上に、下記組成よりなる熱可塑性樹脂層用塗布液H
1を塗布、乾燥して、乾燥層厚20μmの熱可塑性樹脂
層を形成した。
【0134】 〔熱可塑性樹脂層用塗布液H1の組成〕 ・メチルメタクリレート/2−エチルヘキシルアクリレート/ベンジルメタク リレート/メタクリル酸共重合体 ・・・15部 (共重合比(モル比)=55/28.8/11.7/4.5、 重量平均分子量90000) ・ポリプロピレングリコールジアクリレート ・・・ 6.5部 (平均分子量822) ・テトラエチレングリコールジメタクリレート ・・・ 1.5部 ・p−トルエンスルホンアミド ・・・ 0.5部 ・ベンゾフェノン ・・・ 1.0部 ・メチルエチルケトン ・・・30部
【0135】続いて、前記熱可塑性樹脂層上に、下記組
成よりなる中間層用塗布液B1を塗布、乾燥して、乾燥
層厚1.6μmの中間層を形成した。 〔中間層用塗布液B1の組成〕 ・ポリビニルアルコール ・・・ 130部 (PVA−205(ケン化率80%)、(株)クラレ製) ・ポリビニルピロリドン ・・・ 60部 (PVP K−90、GAFコーポレーション社製) ・フッ素系界面活性剤 ・・・ 10部 (サーフロンS−131、旭硝子(株)製) ・蒸留水 ・・・3350部
【0136】続いて、下記組成よりなる感光性樹脂層用
塗布液T1を調製し、前記中間層上に更に塗布し、乾燥
して乾燥層厚2.0μmの感光性樹脂層を積層した。 〔感光性樹脂層用塗布液T1の組成〕 ・ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体 ・・・ 6.7部 (共重合比=73/27、重量平均分子量30000 ;(メタ)アクリル酸含有重合体) ・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ・・・ 4.0部 (重合性モノマー;(メタ)アクリル酸含有重合体に対する質量比=0.6) ・フェノチアジン ・・・ 0.005部 ・2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−[4−(N,N−ジエトキシカルボ ニルメチルアミノ)−3−ブロモフェニル]−s−トリアジン(重合開始剤) ・・・ 0.13部 ・ビクトリアピュアブルーBOH−M(消色性染料) ・・・ 0.19部 ・ポリ(N−プロピルペルフルオロオクタンスルホンアミドエチルアクリレー ト)/ポリプロピレングリコールメチルエーテルアクリレート (共重合比=40/60) ・・・ 0.010部 ・メチルエチルケトン ・・・32部 ・1−メトキシ−2−プロピルアセテート ・・・53部 ・メタノール ・・・ 4部
【0137】更に、前記感光性樹脂層上に、カバーフィ
ルムとしてポリプロピレン(厚み12μm)フィルムを
圧着貼付して設け、仮支持体上に、熱可塑性樹脂層、中
間層、感光性樹脂層、カバーフィルムがこの順に積層さ
れた転写材料(1)を作製した。
【0138】−フィルタ側基板の作製− 所定サイズのガラス基板上に、膜厚0.1μmのクロム
(Cr)金属膜をスパッタリングにより形成した。続い
て、フォトレジストを用いてエッチングし、所定サイ
ズ、形状からなる格子状のブラックマトリックスを形成
した。その後、特開平11−64621号公報に記載の
カラーフィルタの製造方法により、所定の位置にR(赤
色)、G(緑色)、B(青色)からなる着色膜を形成した。
次に、着色膜及びブラックマトリックス上に、スピンコ
ーターによりアクリル樹脂系の液を塗布して保護層を形
成し平坦化した後、該保護層上に更に導電層としてスパ
ッタリング法によりITO膜を成膜し、フィルタ側基板
を得た。
【0139】−構造体の形成− 上記より得た転写材料(1)からカバーフィルムを剥が
し、その感光性樹脂層の表面と前記フィルタ側基板のI
TO膜が設けられた側の表面とを重ね合わせ、ラミネー
ターVP−II(大成ラミネータ(株)製)を用いて、線
圧100N/cm、温度130℃、搬送速度1m/分の
条件下で貼り合わせた。その後、転写材料の仮支持体の
みを熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、除去した。この
状態では、フィルタ側基板上に、感光性樹脂層、中間
層、熱可塑性樹脂層がこの順に積層されている。ここ
で、前記感光性樹脂層が光により硬化を起こす最小露光
量は、3mJ/cm2であった。
【0140】次に、最外層である熱可塑性樹脂層の上方
に、所定のフォトマスクが感光性樹脂層の表面から70
μmの距離となるようにプロキシミティ露光機を配置
し、該フォトマスクを介して超高圧水銀灯により照射エ
ネルギー15mJ/cm2でプロキシミティ露光した。
その後、1%トリエタノールアミン水溶液を用いて、熱
可塑性樹脂層及び中間層を溶解除去した。この段階で
は、感光性樹脂層は実質的に現像はされていなかった。
【0141】続いて、1%炭酸ナトリウム水溶液を用
い、これを収容した現像浴中に浸漬して感光性樹脂層を
ブラシで擦りながら現像し、感光性樹脂層の不要部(未
硬化部)を現像除去した。すると、フィルタ側基板上に
は、所望の形状にパターニングされた感光性樹脂層より
なる透明な構造物が形成された。次いで、構造体が形成
されたフィルタ側基板を230℃下で120分ベークす
ることにより、フィルタ側基板のITO膜上に透明構造
体(a)を形成することができた。透明構造体(a)
は、走査型電子顕微鏡により観察した結果、線幅11μ
m、中央部高さ約1.5μmの蒲鉾型の断面形状を有
し、透明性に優れ、着色は認められなかった。
【0142】更に、上記より得たフィルタ側基板に対し
て、駆動側基板及び液晶材料を組合せることによって液
晶表示素子を作製することができる。即ち、駆動側基板
として、TFTと画素電極(導電層)とが配列形成され
たTFT基板を準備し、該TFT基板の画素電極等が設
けられた側の表面と、上記より得た、フィルタ側基板の
透明構造体(a)が形成された側の表面とが対向するよ
うに配置し、スペーサを介在させて間隙を有して固定し
た。この間隙に液晶材料を封入し、画像表示を担う液晶
層を設けることにより、導電層と液晶層との間に透明性
の高い構造体を備える本発明の液晶表示素子を作製する
ことができる。
【0143】(実施例2〜3)実施例1の感光性樹脂層
用塗布液T1の調製において、(メタ)アクリル酸含有
重合体の総量に対する重合性モノマーの総量の質量比が
下記表1に示す比(0.5、0.9)となるように、感
光性樹脂層用塗布液T1の調製と同様にして、感光性樹
脂層用塗布液T2、T3を調製した。そして、感光性樹
脂層用塗布液T1に代えて、感光性樹脂層用塗布液T
2、T3を用いたこと以外、実施例1と同様にして、転
写材料(2)、(3)を作製した。
【0144】続いて、実施例1で用いた転写材料(1)
に代えて、上記転写材料(2)、(3)を用いたこと以
外、実施例1と同様にして、フィルタ側基板のITO膜
上にそれぞれ透明構造体(b)、(c)を形成した。透
明構造体(b)及び(c)は、それぞれ線幅11μm、
中央部高さ約1.5μmの蒲鉾型、台形の断面形状を有
し、透明性に優れ、着色は認められなかった。また、上
記透明構造体(b)又は(c)を備えたフィルタ側基板
に駆動側基板及び液晶材料を組合せることにより、実施
例1と同様にして、導電層と液晶層との間に透明性の高
い構造体を備える本発明の液晶表示素子を作製すること
ができる。
【0145】(実施例4)実施例1と同様のフィルタ側
基板のITO膜が設けられた側の表面上に、実施例1で
調製した感光性樹脂層用塗布液T1を乾燥層厚2μmと
なるように直接塗布し、100℃下で10分間乾燥して
感光性樹脂層を形成した。ここで、前記感光性樹脂層が
光により硬化を起こす最小露光量は、30mJ/cm2
であった。感光性樹脂層上に、実施例1と同様のプロキ
シミティ露光機を実施例1と同様にして配置し、照射エ
ネルギー150mJ/cm2でプロキシミティ露光し
た。その後、実施例1と同様にして、現像、ベークする
ことにより、フィルタ側基板のITO膜上に透明構造体
(d)を形成することができた。透明構造体(d)は、
線幅11μm、中央部高さ約1.5μmの蒲鉾型の断面
形状を有し、透明性に優れ、着色は認められなかった。
また、上記透明構造体(d)を備えたフィルタ側基板に
駆動側基板及び液晶材料を組合せることにより、実施例
1と同様にして、導電層と液晶層との間に透明性の高い
構造体を備える本発明の液晶表示素子を作製することが
できる。
【0146】(比較例1〜2)実施例1の感光性樹脂層
用塗布液T1の調製において、(メタ)アクリル酸含有
重合体の総量に対する重合性モノマーの総量の質量比が
下記表1に示す比(0.4、1.0)となるように、感
光性樹脂層用塗布液T1の調製と同様にして、感光性樹
脂層用塗布液T4、T5を調製した。そして、感光性樹
脂層用塗布液T1に代えて、感光性樹脂層用塗布液T
4、T5を用いたこと以外、実施例1と同様にして、転
写材料(4)、(5)を作製した。
【0147】続いて、実施例1で用いた転写材料(1)
に代えて、上記転写材料(4)、(5)を用いたこと以
外、実施例1と同様の操作を行った。前記転写材料
(4)を用いた比較例1では、硬化不良により、現像時
に光照射部も溶けて所望の構造体を得ることはできなか
った。また、前記転写材料(5)を用いた比較例2で
は、フィルタ側基板のITO膜上に透明構造体(e)を
形成することができ、該透明構造体(e)は、線幅11
μm、中央部高さ約1.5μmの角型の断面形状を有
し、透明性に優れ、着色は認められなかった。また、比
較例2においては、上記透明構造体(e)を備えたフィ
ルタ側基板に駆動側基板及び液晶材料を組合せることに
より、実施例1と同様にして、前記角型の構造体を備え
る液晶表示素子を作製することができる。
【0148】(比較例3)特開平11−174673号
公報の実施例1で使用された組成物及び形成方法を用い
て、実施例1の透明構造体(a)と同様の形状からなる
構造体(f)をフィルタ側基板のITO膜上に形成し
た。また、上記透明構造体(f)を備えたフィルタ側基
板に駆動側基板及び液晶材料を組合せることにより、実
施例1と同様にして、導電層と液晶層との間に構造体を
備える液晶表示素子を作製することができる。
【0149】(評価) −着色度の評価(透過率)− 各実施例及び比較例において、構造体を形成する段階
で、現像後のベーク前後における構造体に400nmの
光を照射し、ベーク前後の透過率〔%〕を求めた。そし
て、該透過率を構造体の着色の有無を評価する指標とし
た。測定した結果を下記表1に示す。
【0150】−構造体の形状の評価− 以上より得られた各々の構造体に対して、各々の断面を
走査型電子顕微鏡(SEM)で観察し、断面形状を評価
した。ここで、断面形状が蒲鉾型若しくは台形の場合を
良好(○)とし、角型の断面形状の場合は不良(×)と
した。評価結果を下記表1に示す。
【0151】
【表1】
【0152】上記表1の結果から、本発明の光硬化性組
成物を用いて構造体を形成した実施例1〜4では、簡易
な工程で着色がなく透明性に優れ、しかも良好な断面形
状を有してなる透明構造体を低コストに形成することが
できた。したがって、液晶分子の配向の向きを規制する
構造体として、該透明構造体を備える液晶表示素子で
は、RGBの3原色の色純度を損なうこともないので、
色相ズレのないフルカラー画像を表示することができ
る。一方、(メタ)アクリル酸含有重合体に対する重合
性モノマーの含有比(質量)の少ない光硬化性組成物を
用いた比較例1では、光照射部まで現像除去されて構造
体を得ることはできず、上記重合性モノマーの含有比
(質量)の多い光硬化性組成物を用いた比較例2では、
蒲鉾型若しくは台形のなだらかな断面形状にできず、角
型断面の構造体しか得られなかった。角型では広視野角
を得ることはできない。また、ポジレジストを用いた比
較例3では、ベーク時に構造体が黄変色してしまい、透
過率の高い透明性に優れた構造体を得ることができなか
った。この透過率の低い構造体を備える液晶表示素子で
は、RGBの3原色の色純度が損なわれてしまう結果、
色相の良好な画像の表示は困難である。
【0153】
【発明の効果】本発明によれば、液晶分子の配向を規制
しうる構造体の形成に用いられ、着色がなく透明性に優
れ、表示画像の色相を損なうことのない構造体を安価か
つ簡易に形成しうる光硬化性組成物を提供することがで
きる。また、基板上の導電層と液晶層との間に、安価な
硬化性組成物により簡易に形成され、着色がなく透明性
に優れた構造体を備え、液晶面に対する観察位置(視野
角)に依存しない広視野角を有し、色相の良好なフルカ
ラー画像の表示が可能な液晶表示素子を提供することが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 LCDの視野角による画像表示の変化を示す
図である。
【図2】 本発明の液晶表示素子の一例を示す断面構成
図である。
【符号の説明】
1,2…導電層(電極) 5…液晶分子 6…液晶層 7…カラーフィルタ 8…構造体 10…フィルタ側基板 20…駆動側基板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G02F 1/1333 G02F 1/1333 4J027 505 505 G03F 7/033 G03F 7/033 Fターム(参考) 2H025 AA00 AB17 AC01 AD01 BC42 CA00 CA14 CA28 CB13 CB43 CB52 FA03 FA17 2H089 HA07 QA15 TA04 TA05 2H090 HA03 HB07Y HD06 HD14 HD17 MA01 MA02 MA12 4J011 QA11 QA13 QA22 QA26 QA27 QB24 RA03 SA21 SA31 SA74 SA78 SA83 UA01 VA01 WA01 4J026 AA43 BA28 DB36 GA06 GA09 4J027 AB01 AE01 AG01 BA17 BA19 BA20 BA21 BA25 BA26 BA28 BA29 CA03 CC05

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 重合性モノマーと(メタ)アクリル酸含
    有重合体と重合開始剤とを含み、かつ前記(メタ)アク
    リル酸含有重合体の総量に対する前記重合性モノマーの
    総量の質量比が0.5〜0.9である光硬化性組成物で
    あって、 互いに対向し合う側の表面に導電層を備える2枚の基板
    間に液晶層が狭持されてなる液晶表示素子の、前記導電
    層と液晶層との間に設けられる実質的に無色の透明な構
    造体の形成に用いられることを特徴とする光硬化性組成
    物。
  2. 【請求項2】 構造体が転写材料を用いて形成され、該
    転写材料の感光性樹脂層に含有される請求項1に記載の
    光硬化性組成物。
  3. 【請求項3】 転写材料が、仮支持体上にアルカリ可溶
    な熱可塑性樹脂層と中間層と感光性樹脂層とがこの順に
    設けられてなる請求項2に記載の光硬化性組成物。
  4. 【請求項4】 構造体がフォトリソグラフィ法によりパ
    ターニングされてなる請求項1から3のいずれかに記載
    の光硬化性組成物。
  5. 【請求項5】 構造体がプロキシミティ露光手段により
    パターニングされてなり、該パターニングにおける、露
    光量が重合硬化を起こす最小露光量の3〜10倍であ
    り、プロキシミティ量が40〜150μmである請求項
    1から4のいずれかに記載の光硬化性組成物。
  6. 【請求項6】 構造体が、光の照射により硬化された
    後、更に200〜260℃でベークされてなる請求項1
    から5のいずれかに記載の光硬化性組成物。
  7. 【請求項7】 ベークにより消色する消色性染料を含む
    請求項1から6のいずれかに記載の光硬化性組成物。
  8. 【請求項8】 構造体が、基板と直交するその断面が台
    形及び蒲鉾形のいずれか一方の形状を有してなる請求項
    1から7のいずれかに記載の光硬化性組成物。
  9. 【請求項9】 請求項1から8のいずれかに記載の光硬
    化性組成物からなる構造体を備えることを特徴とする液
    晶表示素子。
JP2000262972A 2000-08-31 2000-08-31 光硬化性組成物及び液晶表示素子 Expired - Fee Related JP4171167B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000262972A JP4171167B2 (ja) 2000-08-31 2000-08-31 光硬化性組成物及び液晶表示素子
KR1020010053175A KR100771080B1 (ko) 2000-08-31 2001-08-31 광경화성 조성물 및 액정표시소자

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000262972A JP4171167B2 (ja) 2000-08-31 2000-08-31 光硬化性組成物及び液晶表示素子

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002072467A true JP2002072467A (ja) 2002-03-12
JP4171167B2 JP4171167B2 (ja) 2008-10-22

Family

ID=18750573

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000262972A Expired - Fee Related JP4171167B2 (ja) 2000-08-31 2000-08-31 光硬化性組成物及び液晶表示素子

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP4171167B2 (ja)
KR (1) KR100771080B1 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006010734A (ja) * 2004-06-22 2006-01-12 Toppan Printing Co Ltd 液晶ディスプレイ、液晶ディスプレイ用カラーフィルタ、液晶ディスプレイ用アレイ基板
JP2006309159A (ja) * 2005-03-30 2006-11-09 Fuji Photo Film Co Ltd 液晶表示装置用基板、その製造方法、感光性樹脂組成物、液晶表示素子、液晶表示装置
JP2008250357A (ja) * 2008-07-17 2008-10-16 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルタ
JP2008262229A (ja) * 2008-07-16 2008-10-30 Toppan Printing Co Ltd 感光性材料

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100746331B1 (ko) * 2005-05-02 2007-08-03 한국과학기술원 액정 광배향막 및 이의 제조방법
JP5042539B2 (ja) * 2006-06-22 2012-10-03 東京応化工業株式会社 感光性樹脂組成物、およびこれを用いた液晶配向制御用バンプ
KR102522644B1 (ko) * 2020-08-13 2023-04-18 (주)오리온엔이에스 코어-쉘 구조의 변색 복합체가 분산된 광감응 변색소자

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH101998A (ja) * 1996-06-17 1998-01-06 Matsushita Electric Ind Co Ltd 衛生洗浄装置
KR100429827B1 (ko) * 1997-02-17 2004-07-16 삼성전자주식회사 고분자/액정 복합막을 갖는 액정표시소자 패널의 제조방법

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006010734A (ja) * 2004-06-22 2006-01-12 Toppan Printing Co Ltd 液晶ディスプレイ、液晶ディスプレイ用カラーフィルタ、液晶ディスプレイ用アレイ基板
JP4599903B2 (ja) * 2004-06-22 2010-12-15 凸版印刷株式会社 液晶ディスプレイ、液晶ディスプレイ用カラーフィルタ、液晶ディスプレイ用アレイ基板
JP2006309159A (ja) * 2005-03-30 2006-11-09 Fuji Photo Film Co Ltd 液晶表示装置用基板、その製造方法、感光性樹脂組成物、液晶表示素子、液晶表示装置
JP2008262229A (ja) * 2008-07-16 2008-10-30 Toppan Printing Co Ltd 感光性材料
JP2008250357A (ja) * 2008-07-17 2008-10-16 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルタ

Also Published As

Publication number Publication date
JP4171167B2 (ja) 2008-10-22
KR100771080B1 (ko) 2007-10-29
KR20020018589A (ko) 2002-03-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5371245B2 (ja) 感光性転写材料、表示装置用部材及びその製造方法、ブラックマトリクス、カラーフィルタ及びその製造方法、表示装置用基板、並びに表示装置
JP4579022B2 (ja) 積層体の製造方法、積層体、液晶表示装置用基板、液晶表示素子、液晶表示装置
US5614350A (en) Photosensitive transfer material and method of image formation using the same
JP4171167B2 (ja) 光硬化性組成物及び液晶表示素子
JP4651800B2 (ja) 層間絶縁膜用ネガ型感光性熱硬化性転写材料、層間絶縁膜の形成方法、ハイアパーチャー型液晶表示装置及びその製造方法
JP3665688B2 (ja) 多色画像シートの製造方法
JP4619835B2 (ja) 液晶配向制御用突起、この製造方法及び液晶表示装置
JP2010072589A (ja) 感光性転写材料、樹脂パターンの形成方法、樹脂パターン付き基板、表示素子及び表示装置
JP4112272B2 (ja) スペーサーの高さ調整方法
JP2003131385A (ja) 感光性転写材料及びその製造方法並びにカラーフィルタの製造方法
JP3943385B2 (ja) 反射板形成用転写材料の製造方法及び液晶表示装置の製造方法
JP2007334045A (ja) 大型表示装置用カラーフィルタの製造方法、大型表示装置用カラーフィルタ、及び大型表示装置
JP2007148160A (ja) カラーフィルタ及びそれを用いた液晶表示装置
JP2003121851A (ja) 光硬化性組成物及び液晶表示素子
JP2004094048A (ja) 感光性転写材料及びカラーフィルタ
JP2005221726A (ja) 感光性転写材料、液晶配向制御用突起及びその形成方法、並びに、液晶表示装置
JP3961279B2 (ja) 反射板形成用転写材料及びその製造方法、反射板、並びに液晶表示装置及びその製造方法
JP2010060841A (ja) 感光性転写材料、樹脂パターンの形成方法、樹脂パターン付き基板、表示装置及び液晶表示装置
JP2003207787A (ja) スペーサー用樹脂組成物及びスペーサー並びに液晶表示素子
JP2003149431A (ja) カラーフィルター
JP2006064921A (ja) 感光性転写材料、カラーフィルタ、及び液晶表示装置
JP2003248109A (ja) 反射板形成用転写材料及びその製造方法、反射板、並びに液晶表示装置及びその製造方法
JP2005202053A (ja) 光硬化性組成物及び液晶表示素子
JP2006126478A (ja) 液晶表示素子の配向制御用突起形成用感光性樹脂組成物、転写材料、配向制御用突起、液晶表示素子、及び液晶表示素子の製造方法
JP2003302639A (ja) スペーサー用樹脂組成物及び液晶表示素子

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050906

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20061225

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20071219

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080115

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080317

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080415

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080616

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080805

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080808

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110815

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110815

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120815

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120815

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130815

Year of fee payment: 5

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees