CN103443666B

CN103443666B - 光学设备用遮光材料及其制造方法

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Publication number: CN103443666B
Application number: CN201280015546.3A
Authority: CN
Inventors: 丰岛靖麿; 大久保贵志
Original assignee: Kimoto Co Ltd
Current assignee: Kimoto Co Ltd
Priority date: 2011-03-28
Filing date: 2012-02-29
Publication date: 2016-06-29
Anticipated expiration: 2032-02-29
Also published as: CN103443666A; KR20140019416A; WO2012132728A1; TW201239413A; JPWO2012132728A1; KR102046290B1; KR20190032658A; JP6096658B2; US9405042B2; TWI556013B; US20140016203A1

Abstract

本发明提供制造具有保持遮光性等遮光膜的必要物性、并且低光泽度区域宽的遮光膜的光学设备用遮光材料的方法。其为制造在基材上形成有遮光膜的光学设备用遮光材料的方法，准备至少含有粘合剂树脂、黑色微粒、及变异系数为20以上的消光剂的涂敷液。接着，将该涂敷液涂布到基材上，使其干燥，形成遮光膜。

Description

光学设备用遮光材料及其制造方法

技术领域

本发明涉及制造可适合用于各种光学设备的遮光部件、特别是具备完全消光性能的遮光材料的方法、和通过该方法制造的遮光材料。

背景技术

作为光学设备的以快门或光圈等为代表的遮光部件中使用的遮光材料，已知有在由合成树脂构成的薄膜基材上设置含有有机填料的遮光膜的遮光薄膜(专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平7-319004

发明内容

发明所要解决的问题

专利文献1中，由于使用含有仅控制了平均粒径的有机填料的涂敷液而在薄膜基材上形成遮光膜，所以遮光膜的消光性不完全。具体而言，虽然相对于遮光膜的膜面以几乎接近垂直方向的角度入射来的光的反射受到抑制，但是以接近平面方向的角度入射来的光发生反射。该反射在光学设备内成为称为重影的不良情况，成为导致产品性能的降低的原因。这样，专利文献1的技术不能吸收以所有角度入射来的光。

此外，专利文献1中由于使用含有仅控制了平均粒径的有机填料的涂敷液，所以得到低光泽度的遮光膜的膜厚范围非常窄，其形成并不容易。

另外，为了维持作为遮光材料的产品性能，除了相对于所有角度的入射光的低光泽性以外，还必须同时满足遮光性。

本发明的一方面提供用于制造具有保持遮光性等遮光膜的必要物性、并且得到低光泽度的入射角度的区域(以下，低光泽度区域)宽的遮光膜的光学设备用遮光材料的方法、和通过该方法制造的光学设备用遮光材料。本发明的另一方面提供能够以各种膜厚形成低光泽度区域宽的遮光膜的遮光膜形成用涂敷液。

用于解决问题的方法

作为可对遮光膜直接赋予消光效果(与低光泽性同义)的消光剂的选定基准，本发明者们不着眼于平均粒径，而着眼于粒度分布进行了研究。其结果发现，通过采用某粒径下的粒度分布宽的消光剂，从而保持遮光膜的必要物性，并且不但对于相对于遮光膜的膜面以几乎接近垂直方向的角度(例如20度)、或60度入射的光，就连对于以接近平面方向的角度(例如85度)入射来的光，也能够可靠地抑制相对于该入射光的反射光，能够扩大低光泽度区域的宽度。

此外还发现，通过采用上述特定的消光剂，能够以各种膜厚形成低光泽度区域宽的遮光膜，即能够扩大得到低光泽度的合适的膜厚范围。

即本发明所述的光学设备用遮光材料的制造方法的特征在于，其是制造在基材上形成有遮光膜的光学设备用遮光材料的方法，其中，准备至少含有粘合剂树脂、黑色微粒、及变异系数(CV值)为20以上的消光剂的涂敷液，将该涂敷液涂布到基材上，使其干燥，形成遮光膜。

本发明所述的光学设备用遮光材料的特征在于，其是在基材上具有至少含有粘合剂树脂、黑色微粒及消光剂的遮光膜的光学设备用遮光材料，其中，上述遮光膜使用含有变异系数为20以上的消光剂的涂敷液而形成，60度镜面光泽度(G60)被调整为低于1，且85度镜面光泽度(G85)被调整为低于15。

本发明所述的遮光膜形成用涂敷液的特征在于，其是用于形成在基材上具有遮光膜的光学设备用遮光材料的上述遮光膜的涂敷液，其中，至少含有粘合剂树脂、黑色微粒、消光剂及溶剂，上述消光剂的变异系数为20以上。

发明的效果

根据上述发明方法，由于使用含有变异系数为20以上的消光剂的涂敷液，所以能够在基材上形成赋予了低光泽度区域宽的完全的消光效果的遮光膜。此外，由于涂敷液中含有粘合剂树脂和黑色微粒，所以对于所形成的遮光膜，也能够保持遮光性等必要物性。

根据通过上述发明方法制造的光学设备用遮光材料，由于使用含有变异系数为20以上的消光剂的涂敷液来形成遮光膜，所以对该遮光膜赋予了低光泽度区域宽的完全的消光效果(例如后述的G20、G60及G85均低)。

根据利用上述发明的涂敷液，由于含有变异系数为20以上的消光剂，所以容易以各种膜厚形成赋予了低光泽度区域宽的完全的消光效果的遮光膜。如上所述，专利文献1中使用的涂敷液由于含有仅控制了平均粒径的有机填料，所以得到低光泽度的遮光膜的膜厚范围极小，且极难控制有机填料的存在状态，操作性差。

具体实施方式

以下，对本发明的一实施方式进行说明。

本实施方式所述的光学设备用遮光材料可以适当用于照相机(包括带有照相机的手机)或投影机等光学设备的遮光部件，且具有基材。在基材的至少单面上形成有遮光膜。本实施方式的遮光膜至少含有粘合剂树脂、黑色微粒及消光剂而构成。

遮光膜的厚度可以根据使用遮光材料的用途适当变更，但通常优选为2μm～15μm，更优选为2μm～12μm，进一步优选为2μm～10μm左右。近年来，存在特别要求遮光膜的薄膜化(例如6μm左右以下)的倾向，且是应对该倾向的遮光膜。本实施方式中，由于如后述那样使用含有特定的消光剂的涂布液，所以即使将形成于基材上的遮光膜的厚度设为2μm，也容易得到低光泽度，同时也容易防止在遮光膜上产生针孔等，容易得到必要充分的遮光性。通过设为15μm以下，容易防止遮光膜的开裂。

本实施方式的遮光膜使用含有特定的消光剂的涂敷液而形成，其结果是，60度镜面光泽度(G60)低于1、优选低于0.7、更优选低于0.5、进一步优选低于0.3。此外，85度镜面光泽度(G85)低于15、优选低于10、更优选低于8、进一步优选低于6。另外，本实施方式的遮光膜除了G60、G85以外，20度镜面光泽度(G20)也低于0.3。

镜面光泽度是表示入射至遮光膜表面的光的反射的程度的参数，判断该值越小则越是低光泽度，越是低光泽度则越有消光效果。60度镜面光泽度是表示设遮光膜表面的垂直方向为0度，从这里以倾斜60度的角度入射的100的光在反射侧有多少反射至倾斜60度的受光部(入射到受光部)的参数。85度镜面光泽度、20度镜面光泽度也基于同样的考虑。

本实施方式中，由于使用含有特定的消光剂的涂敷液来形成遮光膜，所以遮光膜表面被控制成特定形状，对遮光膜赋予了低光泽度区域宽的完全的消光效果。

接着，对具备上述构成的光学设备用遮光材料的制造方法的一个例子进行说明。

另外，本说明书中的“平均粒径”是指用激光衍射式粒度分布测定装置(例如，岛津制作所社：SALD-7000等)测定的中值粒径(D50)。

此外，本说明书中所说的CV(coefficientofvariation)值是指用于制作涂布液时的粒度分布的变异系数(也称为相对标准偏差)。该值是表示粒径分布的扩散(粒径的不均)相对于平均值(算术平均径)为怎样的程度的值，通常由CV值(无单位)＝(标准偏差/平均值)求出。CV值其越小则粒度分布变得越窄(陡直)，其越大则粒度分布变得越宽(平缓)。

(1)首先，准备遮光膜形成用涂布液。

本实施方式中使用的遮光膜形成用涂布液至少含有粘合剂树脂、黑色微粒、消光剂及溶剂。

作为粘合剂树脂，可列举出例如聚(甲基)丙烯酸系树脂、聚酯树脂、聚醋酸乙烯酯树脂、聚氯乙烯、聚乙烯醇缩丁醛树脂、纤维素系树脂、聚苯乙烯/聚丁二烯树脂、聚氨酯树脂、醇酸树脂、丙烯酸树脂、不饱和聚酯树脂、环氧酯树脂、环氧树脂、丙烯酸多元醇树脂、聚酯多元醇树脂、多异氰酸酯、环氧丙烯酸酯系树脂、氨基甲酸酯丙烯酸酯系树脂、聚酯丙烯酸酯系树脂、聚醚丙烯酸酯系树脂、酚系树脂、三聚氰胺系树脂、尿素系树脂、邻苯二甲酸二烯丙酯系树脂等热塑性树脂或热固化性树脂，可以使用它们的1种或2种以上的混合物。用于耐热用途时，可适当使用热固化性树脂。

涂布液中包含的不挥发成分(固体成分)中，粘合剂树脂的含有率优选设为20重量％以上，更优选设为30重量％以上，进一步优选设为40重量％以上。通过设为20重量％以上，容易防止遮光膜相对于基材的粘接力降低。另一方面，涂布液的不挥发成分中，粘合剂树脂的含有率优选设为70重量％以下，更优选设为65重量％以下，进一步优选设为60重量％以下。通过设为70重量％以下，容易防止遮光膜的必要物性(遮光性等)的降低。

黑色微粒是为了使粘合剂树脂着色成黑色，干燥后对涂膜(遮光膜)赋予遮光性而配合的。作为黑色微粒，可列举出例如炭黑、钛黑、苯胺黑、氧化铁等。其中，炭黑由于能够对涂膜同时赋予遮光性和抗静电性的两特性，所以特别优选使用。除了遮光性以外还要求抗静电性是考虑在遮光材料制造后将其起模成规定形状时、或将起模后的产品(遮光构件)作为部件设置在光学设备内时的操作性。

另外，在作为黑色微粒不使用炭黑的情况下，除了黑色微粒以外，也可以另外配合导电剂或抗静电剂。

为了对涂膜赋予充分的遮光性，黑色微粒的平均粒径越细越优选。本实施方式中，使用平均粒径例如低于1μm、优选为500nm以下的黑色微粒。

涂布液中包含的不挥发成分(固体成分)中，黑色微粒的含有率优选设为5重量％～20重量％，更优选设为10重量％～20重量％。通过设为5重量％以上，容易防止作为遮光膜的必要物性的遮光性的降低。通过设为20重量％以下，遮光膜的粘接性或耐擦伤性提高，此外容易防止涂膜强度的降低及成本提高。

接着，对本实施方式中使用的消光剂的详细情况进行说明。

在本实施方式中使用的那样的遮光膜形成用涂布液中配合的消光剂一般是为了干燥后在涂膜的表面上形成微细的凹凸，由此减少涂膜表面的入射光的反射而使涂膜的光泽度(镜面光泽度)降低，最终提高涂膜的消光性而配合的。为了得到该消光效果，专利文献1中，使用仅控制了平均粒径的有机填料，但如上述那样，仅仅通过控制平均粒径，无法得到完全的消光性能。

因此，本发明中发现，如上述那样，通过钻研可对遮光膜直接赋予消光效果的消光剂的选定基准，能够得到完全的消光性。

一般在消光剂中存在有机系或无机系，但本实施方式中优选使用有机系的微粒。作为有机微粒，可列举出例如交联丙烯酸珠(不管透明、着色如何)等。作为无机微粒，可列举出例如二氧化硅、偏硅酸铝酸镁、氧化钛等。

本发明中也可以使用无机微粒，但由于有机微粒不但可维持涂膜强度，而且容易赋予完全的消光性能，所以本实施方式中优选使用有机微粒。

另外，本实施方式中对于“使用有机微粒”，除了只使用有机微粒的情况以外，还包括与有机微粒同时并用无机微粒的情况。在并用无机微粒的情况下，全消光剂中，有机微粒的含量可以按照例如达到90重量％以上、优选95重量％以上的方式进行设定。

本实施方式中，采用使用某粒径(作为一个例子后述)，其CV值(粒度分布的变异系数)为特定值以上的消光剂的方式。具体而言，使用某粒径下的CV值为20以上、优选为25以上、更优选为30以上的消光剂(优选有机微粒)。通过使用这样的消光剂，相对于遮光膜的膜面以几乎接近垂直方向的角度(例如20度)、或60度入射来的光自然不必说，就连接近平面方向的角度(例如85度)，对于以所有角度入射来的光，都能够可靠地抑制相对于该入射光的反射光，得到完全的消光性能。其结果是，在适用本实施方式中得到的遮光材料的光学设备内不会产生称为重影的不良情况。

本实施方式中，在使用粒度分布的变异系数(CV值)平缓的消光剂的情况下，不但对于从20度、60度入射来的光，对于从85度入射来的光也能可靠地抑制反射的(即能够降低G20、G60、G85全部)理由并不清楚。然而，认为该现象如下所述。首先，若试着调查各种入射角的入射光的反射光量，则为了抑制相对于遮光膜的膜面几乎接近垂直方向的角度的反射光量，只要仅仅将表面粗糙化就变成低光泽，但为了抑制像G85那样从接近水平方向的角度入射的光的反射量，仅仅粗糙化有时无法变成低光泽。进行了深入研究，结果判断，为了抑制从接近垂直的方向的入射光的反射，以小的凹凸均一地粗糙化的方法也有效，但为了抑制从接近水平的方向的入射光的反射，只以小的凹凸无法达成，必须使小的凹凸与大的凹凸两者并存。

这里，若着眼于消光剂的粒度分布，则陡直的分布由于粒径一致，所以由使用其的涂布液形成的遮光膜的凹凸的大小也容易变得一致。另一方面，在粒度分布平缓的消光剂的情况下，基本以平均粒径为中心，包括大小的粒径的消光剂，由其形成的遮光膜的凹凸混合存在大小不一的凹凸。

认为在由这样的粒度分布平缓的消光剂形成的遮光膜中，从接近水平方向的角度入射的光被大的凸部分遮挡，难以到达相反方向，被遮挡的光被小的凹凸吸收、或漫反射而衰减。因此，推测通过存在适度大小的消光剂而具有大小的凹凸，不仅G20、G60就连G85也变成低光泽度。

另外，这里也考虑了通过只存在大的凹凸来降低G20、G60、G85全部的方法，但若只以大的凹凸来形成遮光膜则膜厚也必然变大，与近年的薄膜化的情势相违背。

本实施方式中，作为成为上述CV值的基准的消光剂的粒径，优选采用以下的方式。该方式鉴于根据光学设备中的使用部位而遮光材料的产品形态(特别是遮光材料整体的厚度、遮光膜的厚度)不同，相对于形成的遮光膜的膜厚Tt来决定使用的消光剂的粒径。具体而言，优选使用相对于形成的遮光膜的膜厚Tt，具有相当于该Tt的35％以上、优选为40％以上、更优选为45％以上，此外该Tt的110％以下、优选为105％以下、更优选为100％以下左右的平均粒径的消光剂。

例如，想要形成相当于膜厚Tt的干燥后厚度为10μm以下的遮光膜时，可以使用平均粒径为3.5μm左右～11μm左右的消光剂。使遮光膜的干燥后厚度为5μm时，可以使用平均粒径为1.75μm左右～5.5μm左右的消光剂。

这样，作为成为CV值的基准的消光剂的粒径通过采用上述的方式，更进一步容易得到完全的消光性能。

本实施方式中，膜厚Tt是指对于干燥后的遮光膜以Militron1202-D(Mahr公司制)膜厚计，改变遮光膜的部位进行10点测定而得到的算术平均值。

本实施方式中，即使以相同附着量分别涂布含有平缓的消光剂的涂布液和含有陡直的消光剂的涂布液，有时所形成的涂膜(遮光膜)的干燥后膜厚Tt也不同。认为使用含有平缓的消光剂的涂布液而形成的涂膜与使用含有陡直的消光剂的涂布液而形成的涂膜相比，包含具有比平均粒径的值大的粒径的消光剂，由于这样的大粒的消光剂存在于涂膜中而增大实测膜厚。

另外，根据现有技术项中所述的专利文献1的技术，使用具有比遮光膜的干燥后厚度相当小的粒径的有机填料在薄膜基材上形成遮光膜(参照实施例。全部实施例中使用平均粒径为3μm的有机填料，关于遮光膜的干燥后膜厚，实施例1～3为10μm，实施例4为12μm)。然而，采用这样的设计时，容易在遮光膜中埋没有机填料，难以按照使遮光膜的表面附近存在有机填料的方式进行控制。其结果是，无法减少遮光膜表面的入射光的反射而降低遮光膜的光泽度(镜面光泽度)，最终难以提高遮光膜的消光性。

假设，即使能够按照使遮光膜的表面附近存在有机填料的方式进行控制，也由于专利文献1的技术中使用仅控制了平均粒径的有机填料，所以无法得到完全的消光性能如上所述。

相对于100重量份粘合剂树脂，消光剂的含量可以设为50重量份以上、优选为60重量份以上、更优选为70重量份以上，且为170重量份以下、优选为140重量份以下、更优选为110重量份以下。通过以这样的范围将消光剂配合到涂布液中，可有助于防止最终得到的遮光材料的因滑动而导致消光剂从遮光膜脱落、或遮光材料的滑动性的降低等诸性能的降低。

作为溶剂，可以使用水或有机溶剂、水与有机溶剂的混合物等。

将本实施方式中制造的遮光材料的加工品使用于插入各透镜间的极薄分隔件用途时等，使用于对遮光膜不要求高的滑动性的用途时，不需要将以往配合到遮光膜中的润滑剂(蜡)配合到涂布液中。但是，即使使用于这样的用途时，也可以配合润滑剂。

添加粒状的物质作为润滑剂时，可以使用有机系、无机系中的任一种。可列举出例如聚乙烯蜡、固体石蜡等烃系润滑剂、硬脂酸、12-羟基硬脂酸等脂肪酸系润滑剂、油酸酰胺、芥酸酰胺等酰胺系润滑剂、硬脂酸单甘油酯等酯系润滑剂、醇系润滑剂、金属皂、滑石、二硫化钼等固体润滑剂、硅酮树脂粒子、聚四氟乙烯蜡等氟树脂粒子、交联聚甲基丙烯酸甲酯粒子、交联聚苯乙烯粒子等。在配合粒状润滑剂的情况下，特别优选使用有机系润滑剂。此外，添加常温下为液状的物质作为润滑剂时，也可以使用氟系化合物或硅油等。配合润滑剂时，优选使用常温下为液状的物质。这是由于，若为液状的润滑剂，则不易因消光剂对遮光膜表面的凹凸形状的形成造成影响。

另外，遮光膜形成用涂布液中，只要在不损害本发明的功能的范围，也可以根据需要配合阻燃剂、抗菌剂、防霉剂、抗氧化剂、增塑剂、流平剂、流动调整剂、消泡剂、分散剂等添加剂。

(2)接着，将准备的遮光膜形成用涂布液以例如达到膜厚Tt的量涂布到基材上，使其干燥后，根据需要进行加热、加压等。

作为基材，可列举出聚酯薄膜、聚酰亚胺薄膜、聚苯乙烯薄膜、聚碳酸酯薄膜等合成树脂薄膜。其中，适宜使用聚酯薄膜，经拉伸加工、特别是双轴拉伸加工的聚酯薄膜在机械强度、尺寸稳定性优异的方面特别优选。此外，使用于耐热用途时，适宜使用聚酰亚胺薄膜。

作为基材，当然是透明的物质，除了发泡聚酯薄膜、或含有炭黑等黑色颜料或其它颜料的合成树脂薄膜以外，也可以使用基材本身具有遮光性或强度的薄膜的金属板。此时，基材可以根据各自的用途选择适当的物质。例如，作为遮光材料使用时，在需要高的遮光性的情况下，可以使用与上述的黑色微粒同种的含有黑色微粒的合成树脂薄膜或薄膜的金属板，在其它的情况下，可以使用透明或发泡的合成树脂薄膜。以后述的方法形成的遮光膜由于其本身可以得到作为遮光材料的充分的遮光性，所以使合成树脂薄膜中含有黑色微粒的情况下，只要按照合成树脂薄膜在目视下呈现黑色的程度、即光学透射密度达到2左右的方式含有即可。

基材的厚度根据使用的用途而不同，但从作为轻量的遮光材料的强度或刚性等观点出发，一般设为6μm～250μm左右。对于基材，从提高与遮光膜的粘接性的观点出发，也可以根据需要进行锚固处理、电晕处理、等离子体处理或EB处理。

涂布液的涂布方法没有特别限定，可以通过以往公知的方式(例如浸渍涂布、辊涂、棒涂、模涂、刮刀涂布、气刀涂布等)来进行。

本实施方式中使用的涂布液被制备成其比重大约为0.9～1.2左右，其固体成分(NV)通常为5％以上、优选为10％以上且通常为40％以下、优选30％以下左右。涂布液通常以6g/m²以上、优选为8g/m²以上、更优选为10g/m²以上且通常为100g/m²以下、优选为80g/m²以下、更优选为60g/m²以下左右的附着量涂布到基材上。

通过经由以上的工序，得到在基材上以膜厚Tt形成有遮光膜的遮光材料。

根据本实施方式，使用含有变异系数为20以上的消光剂的涂敷液，制造在基材上形成有遮光膜的遮光材料。因此，能够得到具有赋予了低光泽度区域宽的完全的消光效果的遮光膜的遮光材料。由于在涂敷液中配合了粘合剂树脂和黑色微粒，所以对于所形成的遮光膜，也能够保持遮光性等必要物性。

根据通过利用本实施方式的方法制造的光学设备用遮光材料，由于使用含有变异系数为20以上的消光剂的涂敷液来形成遮光膜，所以对该遮光膜能够赋予低光泽度区域宽的(G20、G60及G85均低)完全的消光效果。

上述的完全的消光效果特别是对于要求遮光膜的薄膜化(例如6μm左右以下)的用途是有效的。例如，在作为光学设备的一个例子的照相机(摄像装置)中，在摄影光学系统的透镜部分使用多片透镜，在各透镜间插入极薄的分隔件，将通过本发明方法得到的遮光材料适用于该分隔件、或上述摄影光学系统的内壁等时特别有效。当然也可以适用于以往使用的快门或光圈等部件。

本实施方式中，由于使用含有变异系数为20以上的消光剂的涂敷液，所以能够以各种膜厚形成赋予了低光泽度区域宽的完全的消光效果的遮光膜。

实施例

以下，通过实施例对本发明进一步进行说明。另外，“份”、“％”只要没有特别指示则为重量基准。

1.遮光材料样品的制作

[实验例1-1～8-3]

作为基材，使用厚度为25μm的黑色PET薄膜(lumirrorX30：TORAY公司)，在其两面上分别通过棒涂法涂布下述配方的涂布液a～h。将各涂布液的丙烯酸多元醇等的含量(份、固体成分换算)示于表1中。各涂布液的固体成分均制备成20％。

其后，进行干燥而形成遮光膜A1～H3，制作各实验例的遮光材料样品。各涂布液的附着量示于后述的表2中。

<遮光膜形成用涂布液a～h的配方>

[表1]

另外，表1中，消光剂X1、X2均为平均粒径为5μm的透明丙烯酸珠，但粒度分布的变异系数(CV值)各自不同。消光剂X1是CV值为31.4的平缓品，消光剂X2是CV值为8.45的陡直品。

此外，消光剂X3为平均粒径为3μm的黑色丙烯酸珠，消光剂X4、X5均为平均粒径为3μm的透明丙烯酸珠，但粒度分布的CV值各自不同。消光剂X3是CV值为54.1的平缓品，消光剂X4是CV值为29.5的平缓品，消光剂X5是CV值为10.7的陡直品。

以下，有时也将消光剂X1、X2分别称为透明5μm平缓、透明5μm陡直。此外，有时也将消光剂X3、X4、X5分别称为黑色3μm平缓、透明3μm平缓、透明3μm陡直。

2.评价

对各实验例中得到的遮光材料样品，通过下述的方法进行物性的评价。将结果示于表2中。另外，表2中也记载了表1的涂布液的涂布量、所形成的遮光膜的膜厚等。

但是，关于下述(1)遮光性的评价，使用在厚度为25μm的透明聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(lumirrorT60：TORAY公司)的单面上按照附着量达到14g/m²的方式涂布上述各实验例的配方的各涂布液并干燥而形成的样品来进行。

(1)遮光性的评价

基于JIS-K7651：1988使用光学密度计(TD-904：GretagMacbeth公司)测定各实验例的样品的光学透射浓度。其结果是，将测定值超过4.0的样品设为“○”，将4.0以下的样品设为“×”。另外，光学浓度的测定使用UV滤光镜。

(2)导电性的评价

基于JIS-K6911：1995测定各实验例中得到的遮光材料样品的表面电阻率(Ω)。将测定值为1.0×10⁶Ω以下的样品设为“○”，将超过1.0×10⁶Ω且为1.0×10¹⁰Ω以下的样品设为“△”，将超过1.0×10¹⁰Ω的样品设为“×”。

(3)消光性的评价

对各实验例中得到的遮光材料样品，基于JIS-Z8741：1997使用光泽计(商品名：VG-2000、日本电色工业公司)测定其遮光膜表面的20度、60度及85度的各镜面光泽度(G20、G60、G85)(单位为％)。

作为G20，将其测定值低于0.3的样品设为“◎◎”，将0.3以上且低于0.5的样品设为“◎”，将0.5以上且低于0.7的样品设为“○”，将0.7以上的样品设为“×”。关于G60，将其测定值低于0.5的样品设为“◎◎”，将0.5以上且低于0.7的样品设为“◎”，将0.7以上且低于1的样品设为“○”，将1以上的样品设为“×”。关于G85，将其测定值低于8的样品设为“◎◎”，将8以上且低于10的样品设为“◎”，将10以上且低于15的样品设为“○”，将15以上的样品设为“×”。

确认到G20、G60及G85的各数值越小则光泽度越低，光泽度越低，则消光性越优异。

[表2]

3.考察

由表2可以理解以下的情况。

在全部实验例中，所形成的遮光膜的遮光性、导电性良好。然而，使用陡直品作为消光剂的样品(实验例5-1～实验例5-3、实验例8-1～实验例8-3)在消光性中G85的评价低。

与此相对，对于使用平缓品作为消光剂的样品(实验例1-1～实验例4、实验例6-1～7-3)，关于消光性，G20、G60、G85均得到优异的结果。可以确认特别是使用CV值为30以上的平缓品的样品(实验例1-1～实验例4、实验例6-1～6-3)与使用CV值为20以上但低于30的平缓品的样品(实验例7-1～实验例7-3)相比，关于G85，得到更进一步优异的效果。

4.适当膜厚范围的评价

利用使用透明5μm平缓的消光剂X1的涂布液a，以附着量分别达到14g/m²、28g/m²、46g/m²、81g/m²的量涂布到PET薄膜上的单面上。其后，进行干燥而形成遮光膜A1(5.5μm)、A2(8μm)、A3(10μm)、A4(15μm)，制作遮光材料样品。

利用使用透明5μm陡直的消光剂X2的涂布液e，以附着量分别达到14g/m²、28g/m²、46g/m²、81g/m²的量涂布到PET薄膜上的单面上。其后，进行干燥而形成遮光膜E1(5μm)、E2(7m)、E3(9μm)、E4(15μm)，制作遮光材料样品。

对各样品进行上述(3)的评价。其结果是，使用涂布液a的样品的G20、G60及G85的各数值均小，其结果是，确认到光泽度低，赋予了完全的消光效果。另一方面，使用涂布液e的样品中，仅形成了15μm的厚膜的遮光膜E4的样品确认到G20、G60及G85的各数值小，其它的膜厚时，没有赋予完全的消光效果。

由以上可以确认，通过使用消光剂X1，与使用消光剂X2的情况相比，能够扩大赋予完全的消光效果的遮光膜的膜厚范围。

[实验例9]

除了在实验例1-1中使用的涂布液a中按照3％配合作为液状的润滑剂的硅油来制备涂布液i以外，在与实验例1-1同样的条件下，在基材上形成遮光膜I，制作实验例9的遮光材料样品。

其后，在与实验例1-1同样的条件下评价消光性，结果可以确认，虽然得到与实验例1-1的情况同等的性能，但是与实验例1-1相比滑动性更优异。具体而言，静摩擦系数(μs)为0.35以下且动摩擦系数(μk)为0.25以下，可以不对遮光膜的表面性状造成影响地提高滑动性。

另外，本例中的μs和μk是基于JIS-K7125：1999在加重：200g、速度：100mm/分钟的条件下测定的值。

Claims

1.一种光学设备用遮光材料的制造方法，其是制造在基材上形成有遮光膜的光学设备用遮光材料的方法，其特征在于，

准备至少含有粘合剂树脂、黑色微粒、及变异系数为20以上的消光剂的涂敷液，将该涂敷液涂布到基材上，使其干燥，形成所述遮光膜。

2.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述消光剂具有相当于所述遮光膜的膜厚的35～110％的平均粒径。

3.根据权利要求2所述的制造方法，其特征在于，所述消光剂为平均粒径为10μm以下的有机微粒。

4.根据权利要求3所述的制造方法，其特征在于，其使用还含有常温下为液状的润滑剂的涂敷液。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的制造方法，其特征在于，所述消光剂在所述涂敷液中的含量是相对于100重量份粘合剂树脂为50重量份以上且170重量份以下。

6.一种光学设备用遮光材料，其特征在于，其是在基材上具有至少含有粘合剂树脂、黑色微粒及消光剂的遮光膜的光学设备用遮光材料，其中，

所述遮光膜使用含有变异系数为20以上的消光剂的涂敷液而形成，

60度镜面光泽度被调整为低于1，且85度镜面光泽度被调整为低于15。

7.根据权利要求6所述的遮光材料，其中，使用还含有常温下为液状的润滑剂的涂敷液来形成所述遮光膜。

8.一种用于形成遮光膜的涂敷液，其特征在于，其用于在基材上形成所述遮光膜，所述基材及在所述基材上形成的所述遮光膜构成光学设备用遮光材料，其中，

至少含有粘合剂树脂、黑色微粒、消光剂及溶剂，

所述消光剂的变异系数为20以上。

9.根据权利要求8所述的涂敷液，其中，还含有常温下为液状的润滑剂。

10.一种光学部件，其使用了权利要求6或7所述的遮光材料。

11.一种摄像装置，其包含权利要求10所述的光学部件。