CN103460080B

CN103460080B - 光学设备用遮光材料

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Publication number: CN103460080B
Application number: CN201280015556.7A
Authority: CN
Inventors: 丰岛靖麿; 大久保贵志
Original assignee: Kimoto Co Ltd
Current assignee: Kimoto Co Ltd
Priority date: 2011-03-28
Filing date: 2012-02-29
Publication date: 2015-07-15
Anticipated expiration: 2032-02-29
Also published as: US20140016202A1; TWI556012B; JPWO2012132727A1; KR101828121B1; WO2012132727A1; JP5876869B2; US9383484B2; KR20140027181A; CN103460080A; TW201239412A

Abstract

本发明提供具有保持遮光膜的必要物性、并且低光泽度区域宽的遮光膜的光学设备用遮光材料。其为在基材(2)上具有遮光膜(4)的光学设备用遮光材料(1)，遮光膜(4)的表面性状按照满足A1及A2中的至少任一者、和B1及B2中的至少任一者的方式进行调整。A1是三维表面粗糙度测定中的算术平均粗糙度Sa达到0.4以上且2.0以下的条件，A2是三维表面粗糙度测定中的十点平均粗糙度Sz达到1以上且20以下的条件，B1是以三维表面粗糙度测定中的中心平面作为基准面，设从该基准面突出于位于Sa的n倍的高度位置的平面的突起数为Pn，设突出于位于Sa的(n+1)倍的高度位置的平面的突起数为P_n+1，设Pn与P_n+1的比(P_n+1/Pn)为Rn时(其中，n均为正的整数。)，R1达到55％以上、且R4达到7％以上的条件，B2是R1达到55％以上、R2达到15％以上、及R3达到8％以上的条件。

Description

光学设备用遮光材料

技术领域

本发明涉及可以适当用于各种光学设备的遮光部件、特别是具备完全消光性能的遮光材料。

背景技术

作为光学设备的以快门或光圈等为代表的遮光部件中使用的遮光材料，已知有在由合成树脂构成的薄膜基材上设置含有有机填料的遮光膜的遮光薄膜(专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平7-319004

发明内容

发明所要解决的问题

专利文献1中公开的遮光薄膜的遮光膜由于其表面仅由小的凹凸形成，所以遮光膜的消光性不完全。具体而言，虽然相对于遮光膜的膜面以几乎接近垂直方向的角度入射的光的反射受到抑制，但是以接近平面方向的角度入射的光发生反射。该反射在光学设备内成为称为重影的不良情况，成为导致产品性能的降低的原因。这样，专利文献1的技术不能吸收以所有角度入射的光。

另外，为了维持作为遮光材料的产品性能，除了相对于以所有角度的入射光的低光泽性以外，还必须同时满足遮光性。

本发明的一方面提供一种光学设备用遮光材料，其具有保持遮光性等遮光膜的必要物性、并且得到低光泽度的入射角度的区域(以下，低光泽度区域)宽的遮光膜。

用于解决问题的方法

本发明者们对规定遮光膜的表面性状的各种要素进行了反复研究。其结果发现，在遮光膜的任意位置的规定区域中，通过适当地调整三维表面粗糙度测定中的几个参数的值，不但对于相对于遮光膜的膜面以几乎接近垂直方向的角度(例如20度)、或60度入射的光，就连对于以接近平面方向的角度(例如85度)入射的光，也能够可靠地抑制相对于该入射光的反射光，能够扩大低光泽度区域的宽度。

即本发明所述的光学设备用遮光材料的特征在于，其是具有遮光膜的光学设备用遮光材料，其中，遮光膜按照满足条件A1及条件A2中的至少任一者、和条件B1及条件B2中的至少任一者的方式调整表面性状。

条件A1：设三维表面粗糙度测定中的算术平均粗糙度为Sa时，Sa的值达到0.4以上且2.0以下的条件，

条件A2：设三维表面粗糙度测定中的十点平均粗糙度为Sz时，Sz的值达到1以上且20以下的条件，

条件B1：以三维表面粗糙度测定中的凹凸的中心平面为基准面，设从该基准面突出于位于Sa的n倍的高度位置的平面的突起数为Pn，设突出于位于Sa的(n+1)倍的高度位置的平面的突起数为P_n+1，设Pn与P_n+1的比(P_n+1/Pn)为Rn时(其中，n均为正的整数。)，R1达到55％以上、且R4达到7％以上的条件，

条件B2：与条件B1相同地设定Pn、P_n+1、Rn时，至少R1达到55％以上、R2达到15％以上、及R3达到8％以上的条件。

本发明所述的光学设备用遮光材料优选条件B2进一步包含R4达到7％以上的条件。

本发明所述的光学设备用遮光材料一般是在基材上层叠遮光膜而构成的。此时，遮光膜至少含有粘合剂树脂、黑色微粒及消光剂而构成。但是，本发明中并不限定于这样的层叠结构的构成方式，例如，也可以考虑使用模具使含有黑色微粒的树脂混合物赋型固化而成的成型物的方式。

发明的效果

根据本发明所述的光学设备用遮光材料，由于遮光膜的表面性状被适当地调整，所以对该遮光膜赋予了低光泽度区域宽的完全的消光效果(例如后述的G20、G60及G85均低)。此外，由于遮光膜含有粘合剂树脂和黑色微粒，所以保持了遮光性等必要物性。

另外，如上所述，专利文献1中公开的遮光薄膜的遮光膜由于其表面仅以小的凹凸形成，其结果是，表面性状没有被适当地控制，所以无法发挥完全的消光效果。

附图说明

图1是表示本发明的一实施方式所述的光学设备用遮光材料的遮光膜的局部剖面立体图。

图2是从略上方(遮光膜侧)观察图1的遮光材料的平面图。

图3是将图1的遮光材料在任意位置沿厚度方向剖断时，其剖断部位的剖面影像图。

符号的说明

1…光学设备用遮光材料

2…基材

4…遮光膜。

具体实施方式

以下，基于附图对本发明的一实施方式进行说明。

如图1～图3所示的那样，本实施方式所述的光学设备用遮光材料1可适宜使用于例如照相机(包括带有照相机的手机)或投影机等光学设备的遮光部件用途，且具有基材2。图1～图3所示的例子中，在基材2的单面上形成遮光膜4。另外，本发明中包括在基材2的两面上形成遮光膜4的方式。

本实施方式的遮光膜4其表面性状被适当地调整。

具体而言，首先，设遮光膜4的三维表面粗糙度测定中的算术平均粗糙度为Sa，设十点平均粗糙度为Sz。另外，这里的Sa及Sz是根据JIS-B0601(1994)中的二维表面粗糙度的算术平均粗糙度(Ra)及十点平均粗糙度(Rz)的测定方法，将其扩充为三维的值。例如可以通过触针式表面粗糙度测定机(SURFCOM 1500SD2-3DF：东京精密公司)进行测定。

接着，以遮光膜4的三维表面粗糙度测定中的凹凸的中心平面为基准面Fb(参照图3)。例如若参考图3，则成为基准面Fb的前提的凹凸的中心平面是指假设凸部和凹部平坦均匀的完全平面。

而且，设从该基准面Fb突出于位于Sa的n倍的高度位置的平面的突起数为Pn，设突出于位于Sa的(n+1)倍的高度位置的平面的突起数为P_n+1。并且，设Pn与P_n+1的比(P_n+1/Pn)为Rn。其中，n均为正的整数。

若参照图3对n＝1的情况进行说明，则例如“位于Sa的1倍的高度位置的平面”如符号Fsa1的虚线所示，突出于该平面Fsa1的突起数P1为11个。“位于Sa的2倍的高度位置的平面”如符号Fsa2的虚线所示，突出于该平面Fsa2的突起数P2为10个。“位于Sa的3倍的高度位置的平面”如符号Fsa3的虚线所示，突出于该平面Fsa3的突起数P3为5个。此时的R1以R1＝(10/11)×100＝约90.9％来计算，R2以R2＝(5/10)×100＝50％来计算。对于R3以后，也以同样的顺序来计算。

此时，本实施方式中，按照满足条件A1及条件A2中的至少任一者、和条件B1及条件B2中的至少任一者的方式来调整遮光膜4的表面性状。

另外，各条件的组合如下所述。

·A1及B1

·A2及B1

·A1、A2及B1

·A1及B2

·A2及B2

·A1、A2及B2

·A1、B1及B2

·A2、B1及B2

·A1、A2、B1及B2

条件A1是Sa的值达到规定范围、具体而言达到0.4以上、优选达到0.45以上、更优选达到0.5以上、且达到2.0以下、优选达到1.9以下、更优选达到1.8以下的条件。

条件A2是Sz的值达到规定范围、具体而言达到1以上、优选达到3以上、更优选达到5以上、且达到20以下、优选达到18以下、更优选达到16以下的条件。

条件B1是R1和R4同时达到规定值以上、具体而言R1达到55％以上及R4达到7％以上的条件。

条件B2是至少R1～R3均达到规定值以上、具体而言至少R1达到55％以上、R2达到15％以上、及R3达到8％以上的条件。因为是“至少”R1、R2及R3，所以这些R1～R3以外的Rn(例如R4等)也可以是正的整数％。

本实施方式的条件B2优选进一步包含R4达到7％以上的条件。

条件B1及条件B2中的R1优选为56％以上，更优选为57％以上。R2优选为17％以上，更优选为19％以上。R3优选为9％以上，更优选为10％以上。R4优选为8％以上，更优选为9％以上。

上述条件中的A1及A2是决定存在于遮光膜4的表面(与对置于基材2的面相反侧的面)的凹凸的平均不会过大的表面性状的参数。此外，上述条件中的B1及B2是决定存在于遮光膜4的表面的大的凹凸的存在程度的参数。如后述的那样推测，通过在遮光膜4的表面适度地存在小的凹凸和大的凹凸，可以扩大低光泽度区域的宽度。

遮光膜4的厚度可以根据适用遮光材料1的用途适当变更，但通常优选为2μm～15μm，更优选为2μm～12μm，进一步优选为2μm～10μm左右。近年来，存在特别要求遮光膜4的薄膜化(例如6μm左右以下)的倾向，其就是应对该倾向的。本实施方式中，由于如上述那样适当地调整表面性状，所以即使将形成于基材2上的遮光膜4的厚度设为2μm，也容易得到低光泽度，同时也容易防止在遮光膜4上产生针孔等，容易得到必要充分的遮光性。通过设为15μm以下，容易防止遮光膜4的裂纹。

本实施方式的遮光膜4由于如上述那样适当地调整表面性状，所以其表面的60度镜面光泽度(G60)低于1，优选低于0.7，更优选低于0.5，进一步优选低于0.3。此外，遮光膜4的表面的85度镜面光泽度(G85)低于15，优选低于10，更优选低于8，进一步优选低于6。另外，本实施方式的遮光膜4除了G60、G85以外，20度镜面光泽度(G20)也低于0.3。

镜面光泽度是表示入射至遮光膜4的表面上的光的反射的程度的参数，判断该值越小则越是低光泽度，越是低光泽度则越有消光效果。60度镜面光泽度是表示设遮光膜4的表面的垂直方向为0度，从这里以倾斜60度的角度入射的100的光在反射侧有多少反射至倾斜60度的受光部(入射到受光部)的参数。85度镜面光泽度、20度镜面光泽度也基于同样的考虑。

本实施方式中，由于遮光膜4的表面性状被适当地调整，所以对遮光膜4赋予了低光泽度区域的宽的完全的消光效果。其结果是，在适用本实施方式的遮光材料1的光学设备内不会产生称为重影的不良情况。

在本实施方式中，特别是在按照满足上述组合条件的方式调整遮光膜4的表面性状的情况下，不但对于从20度、60度入射的光，对于从85度入射的光也能可靠地抑制反射的(即能够降低全部的G20、G60、G85)理由并不清楚。然而，认为该现象如下所述。首先，若试着调查各种入射角的入射光的反射光量，则为了抑制相对于遮光膜4的膜面几乎接近垂直方向的角度的反射光量，只要仅仅将表面粗糙化就变成低光泽，但为了抑制像G85那样从接近水平方向的角度入射的光的反射量，仅仅粗糙化有时无法变成低光泽。进行了深入研究，结果判断，为了抑制从接近垂直的方向的入射光的反射，以小的凹凸均一地粗糙化的方法也有效，但为了抑制从接近水平的方向的入射光的反射，只以小的凹凸无法达成，必须适当地使小的凹凸与大的凹凸两者并存。

认为通过适当地使这种小的凹凸与大的凹凸两者并存，从接近遮光膜的水平方向的角度入射的光被大的凸部分遮挡，难以到达相反方向，被遮挡的光被小的凹凸吸收、或漫反射而衰减。因此，推测通过在遮光膜表面存在适度大小的凹凸，不仅G20、G60就连G85也变成低光泽度。

另外，这里也考虑了通过只存在大的凹凸来降低全部G20、G60、G85的方法，但若只以大的凹凸来形成遮光膜则膜厚也必然变大，与近年的薄膜化的情势相违背。

具有以上的表面性状的本实施方式的遮光膜4至少含有粘合剂树脂、黑色微粒及消光剂而构成。

接着，对制造具备上述构成的光学设备用遮光材料1的方法的一个例子进行说明。

本实施方式所述的光学设备用遮光材料1可以通过使至少粘合剂树脂、黑色微粒及消光剂分散或溶解到溶剂中来制备遮光膜形成用涂布液，并将该涂布液涂布到基材2上进行干燥、制膜并层叠而得到。

作为粘合剂树脂，可列举出例如聚(甲基)丙烯酸系树脂、聚酯树脂、聚醋酸乙烯酯树脂、聚氯乙烯、聚乙烯醇缩丁醛树脂、纤维素系树脂、聚苯乙烯/聚丁二烯树脂、聚氨酯树脂、醇酸树脂、丙烯酸树脂、不饱和聚酯树脂、环氧酯树脂、环氧树脂、丙烯酸多元醇树脂、聚酯多元醇树脂、多异氰酸酯、环氧丙烯酸酯系树脂、氨基甲酸酯丙烯酸酯系树脂、聚酯丙烯酸酯系树脂、聚醚丙烯酸酯系树脂、酚系树脂、三聚氰胺系树脂、尿素系树脂、邻苯二甲酸二烯丙酯系树脂等热塑性树脂或热固化性树脂，可以使用它们的1种或2种以上的混合物。用于耐热用途时，可适宜使用热固化性树脂。

涂布液中包含的不挥发成分(固体成分)中，粘合剂树脂的含有率优选设为20重量％以上，更优选设为30重量％以上，进一步优选设为40重量％以上。通过设为20重量％以上，容易防止遮光膜4相对于基材2的粘接力降低。另一方面，涂布液的不挥发成分中，粘合剂树脂的含有率优选设为70重量％以下，更优选设为65重量％以下，进一步优选设为60重量％以下。通过设为70重量％以下，容易防止遮光膜4的必要物性(遮光性等)的降低。

黑色微粒是为了使粘合剂树脂着色成黑色，干燥后对涂膜(遮光膜4)赋予遮光性而配合的。作为黑色微粒，可列举出例如炭黑、钛黑、苯胺黑、氧化铁等。其中，炭黑由于能够对涂膜同时赋予遮光性和抗静电性的两特性，所以特别优选使用。除了遮光性以外还要求抗静电性是考虑在制造遮光材料1后将其起模成规定形状时、或将起模后的产品(遮光构件)作为部件设置在光学设备内时的操作性。

另外，在作为黑色微粒不使用炭黑的情况下，除了黑色微粒以外，也可以另外配合导电剂或抗静电剂。

为了对涂膜赋予充分的遮光性，黑色微粒的平均粒径越细越优选。本实施方式中，可以使用平均粒径例如低于1μm、优选为500nm以下的黑色微粒。

涂布液中包含的不挥发成分(固体成分)中，黑色微粒的含有率优选设为5重量％～20重量％，更优选设为10重量％～20重量％。通过设为5重量％以上，容易防止作为遮光膜4的必要物性的遮光性的降低。通过设为20重量％以下，遮光膜4的粘接性或耐擦伤性提高，此外容易防止涂膜强度的降低及成本提高。

本实施方式的用途中使用的消光剂一般是为了干燥后在涂膜的表面上形成微细的凹凸，由此减少涂膜表面的入射光的反射而使涂膜的光泽度(镜面光泽度)降低，最终提高涂膜的消光性而配合的。

一般在消光剂中存在有机系或无机系，但本实施方式中优选使用有机系的微粒。作为有机微粒，可列举出例如交联丙烯酸珠(不管透明、着色如何)等。作为无机微粒，可列举出例如二氧化硅、偏硅酸铝酸镁、氧化钛等。本实施方式中也可以使用无机微粒，但由于有机微粒不但可维持涂膜强度，而且容易赋予完全的消光性能，所以本实施方式中优选使用有机微粒。

另外，本实施方式中对于“使用有机微粒”，除了只使用有机微粒的情况以外，还包括与有机微粒同时并用无机微粒的情况。在并用无机微粒的情况下，全部消光剂中，有机微粒的含量可以按照例如达到90重量％以上、优选达到95重量％以上的方式进行设定。

本实施方式中，可以使用某粒径(作为一个例子后述)，其CV值(粒度分布的变异系数)为特定值以上的消光剂(平缓品)。具体而言，可以使用例如某粒径下的CV值为20以上、优选为25以上、更优选为30以上的消光剂(优选有机微粒)。使用这样的消光剂，通过调整如后述那样的消光剂的添加量、遮光层厚度与粒径的比，容易将遮光膜4的表面性状调整成如上所述。

另外，CV(coefficient of variation)值是指用于涂布液的制作时的粒度分布的变异系数(也称为相对标准偏差)。该值是表示粒径分布的扩散(粒径的不均)相对于平均值(算术平均径)为怎样程度的值，通常由CV值(无单位)＝(标准偏差/平均值)求出。CV值其越小则粒度分布变得越窄(陡直)，其越大则粒度分布变得越宽(平缓)。

本实施方式中，优选相对于形成的遮光膜4的膜厚Tt，来决定作为上述CV值的基准的使用的消光剂的粒径。这鉴于根据光学设备中的使用部位而遮光材料1的产品方式(特别是遮光材料1整体的厚度、遮光膜的厚度)不同。具体而言，可以使用相对于形成的遮光膜的膜厚Tt，具有相当于该Tt的35％以上、优选为40％以上、更优选为45％以上、此外该Tt的110％以下、优选为105％以下、更优选为100％以下左右的平均粒径的消光剂。

例如，想要形成相当于膜厚Tt的干燥后厚度为10μm以下的遮光膜4时，可以使用平均粒径为3.5μm左右～11μm左右的消光剂。使遮光膜4的干燥后厚度为5μm时，可以使用平均粒径为1.75μm左右～5.5μm左右的消光剂。

另外，本实施方式中，作为消光剂，可以不管上述的CV值如何，还可使用某平均粒径的消光剂与其它的平均粒径的消光剂的混合物。此时，只要一种消光剂的平均粒径相对于形成的遮光膜4的膜厚Tt属于上述范围(Tt的35％～110％)即可，但可以更优选组合使用两种消光剂的平均粒径属于上述范围的消光剂。

膜厚Tt是指对于干燥后的遮光膜4以Militron 1202-D(Mahr公司制)膜厚计，改变遮光膜4的部位进行10点测定而得到的算术平均值。

平均粒径是指用激光衍射式粒度分布测定装置(例如，岛津制作所社：SALD-7000等)测定的中值粒径(D50)。

相对于100重量份粘合剂树脂，消光剂的含量可以设定为50重量份以上，优选为60重量份以上，更优选为70重量份以上，且为170重量份以下，优选为140重量份以下，更优选为110重量份以下。通过以这样的范围将消光剂配合到涂布液中，可有助于防止最终得到的遮光材料1的因滑动而导致消光剂从遮光膜4脱落、或遮光材料1的滑动性的降低等诸性能的降低。

作为溶剂，可以使用水或有机溶剂、水与有机溶剂的混合物等。

另外，将本实施方式中制造的遮光材料1的加工品使用于插入各透镜间的极薄分隔件用途时等，使用于对遮光膜4不要求高的滑动性的用途时，不需要将以往配合到遮光膜4中的润滑剂(蜡)配合到涂布液中。但是，即使使用于这样的用途时，也可以配合润滑剂。

添加粒状的物质作为润滑剂时，可以使用有机系、无机系中的任一种。可列举出例如聚乙烯蜡、固体石蜡等烃系润滑剂、硬脂酸、12-羟基硬脂酸等脂肪酸系润滑剂、油酸酰胺、芥酸酰胺等酰胺系润滑剂、硬脂酸单甘油酯等酯系润滑剂、醇系润滑剂、金属皂、滑石、二硫化钼等固体润滑剂、硅酮树脂粒子、聚四氟乙烯蜡等氟树脂粒子、交联聚甲基丙烯酸甲酯粒子、交联聚苯乙烯粒子等。在配合粒状润滑剂的情况下，特别优选使用有机系润滑剂。此外，添加常温下为液状的物质作为润滑剂时，也可以使用氟系化合物或硅油等。配合润滑剂时，优选使用常温下为液状的润滑剂。这是由于，若为液状的润滑剂，则不易因消光剂对遮光膜表面的凹凸形状的形成造成影响。

另外，遮光膜形成用涂布液中，只要在不损害本发明的功能的范围，也可以根据需要配合阻燃剂、抗菌剂、防霉剂、抗氧化剂、增塑剂、流平剂、流动调整剂、消泡剂、分散剂等添加剂。

作为基材2，可列举出聚酯薄膜、聚酰亚胺薄膜、聚苯乙烯薄膜、聚碳酸酯薄膜等合成树脂薄膜。其中，适宜使用聚酯薄膜，经拉伸加工、特别是双轴拉伸加工的聚酯薄膜在机械强度、尺寸稳定性优异的方面特别优选。此外，使用于耐热用途时，适宜使用聚酰亚胺薄膜。

作为基材2，当然是透明的物质，除了发泡聚酯薄膜、或含有炭黑等黑色颜料或其它颜料的合成树脂薄膜以外，也可以使用基材本身具有遮光性或强度的薄膜的金属板。此时，基材2可以根据各自的用途选择适当的基材。例如，作为遮光材料1使用时，在需要高的遮光性的情况下，可以使用与后述的黑色微粒同种的含有黑色微粒的合成树脂薄膜或薄膜的金属板，在其它的情况下，可以使用透明或发泡的合成树脂薄膜。本实施方式的遮光膜4由于其本身可以得到作为遮光材料的充分的遮光性，所以使合成树脂薄膜中含有黑色微粒的情况下，只要按照合成树脂薄膜在目视下呈现黑色的程度、即光学透射浓度达到2左右的方式含有即可。

另外，作为基材2，也可以使用通过喷砂、压花处理等而表面呈粗糙状的物质(不分合成树脂薄膜、金属板)。

基材2的厚度根据使用的用途而不同，但从作为轻量的遮光材料1的强度或刚性等观点出发，一般设为6μm～250μm左右。对于基材2，从提高与遮光膜4的粘接性的观点出发，也可以根据需要进行锚固处理、电晕处理处理、等离子体处理或EB处理。

涂布液的涂布方法没有特别限定，可以通过以往公知的方式(例如浸渍涂布、辊涂、棒涂、模涂、刮刀涂布、气刀涂布等)来进行。

本实施方式中制备的涂布液制备成其比重大约为0.9～1.2左右，其固体成分(NV)通常为5％以上、优选为10％以上且通常为40％以下、优选为30％以下左右。涂布液以通常为6g/m²以上、优选为8g/m²以上、更优选为10g/m²以上且通常为100g/m²以下、优选为80g/m²以下、更优选为60g/m²以下左右的附着量涂布到基材2上。

通过以上的方法，得到本实施方式所述的光学设备用遮光材料1。

根据本实施方式所述的光学设备用遮光材料1，由于遮光膜4的表面性状被适当地调整，所以对该遮光膜4赋予了低光泽度区域宽的(G20、G60及G85均低)完全的消光效果。具体而言，遮光膜4的表面的60度镜面光泽度(G60)被调整至低于1、且85度镜面光泽度(G85)被调整至低于15。此外，由于遮光膜4含有粘合剂树脂和黑色微粒，所以保持遮光性等必要物性。

上述的完全的消光效果特别是对于要求遮光膜4的薄膜化(例如6μm左右以下)的用途是有效的。例如，在作为光学设备的一个例子的照相机(摄像装置)中，在摄影光学系统的透镜部分使用多片透镜，在各透镜间插入极薄的分隔件，将本实施方式所述的遮光材料1适用于该分隔件、或上述摄影光学系统的内壁等时特别有效。当然也可以适用于以往使用的快门或光圈等部件。

另外，上述制法只是制造本实施方式的光学设备用遮光材料1的一个例子，并不表示只有通过该制法才能够制造。即，即使是通过上述制法以外的方法制造的遮光材料，只要具有保持上述的表面性状的遮光膜，当然属于本发明范围。

作为上述制法以外的制法，可以考虑例如将含有黑色微粒的树脂混合物填充到具有阳模及阴模的模具装置的模腔内，使其转印赋型的方法等。此时，首先，预先模拟将满足条件A1及条件A2中的至少任一者、和条件B1及条件B2中的至少任一者的表面性状转印到赋型后的成型物上(一个例子)，基于该模拟结果的信息，准备将一个模具或两个模具的内表面进行微细加工而得到的模具。接着，在通过关闭模具而形成于内部的模腔中，填充上述树脂混合物并使其固化。其后，从模具脱模，得到相当于本发明的遮光材料的成型物。利用该方法，也能够制造本发明的光学设备用遮光材料。

另外，在准备模具时无法进行上述模拟的情况下，也可以通过本实施方式中说明的上述方法，暂时制造具有表面性状被调整了的遮光膜4的遮光材料1，其后，模制该遮光膜4的表面性状对模具内表面进行微细加工后，通过使用了该模具的转印赋型法来制造成型物。

实施例

以下，通过实施例对本发明进一步进行说明。另外，“份”、“％”只要没有特别指示则为重量基准。

1.遮光材料样品的制作

[实验例1-1～5-2]

作为基材，使用厚度为25μm的黑色PET薄膜(lumirror X30：TORAY公司)，在其两面上分别通过棒涂法涂布下述配方的涂布液a～e。将各涂布液的丙烯酸多元醇等的含量(份，固体成分换算)示于表1中。各涂布液的固体成分均制备成20％。

其后，进行干燥而形成遮光膜A1～E2，制作各实验例的遮光材料样品。各涂布液的涂布量(附着量)示于后述的表2中。

<遮光膜形成用涂布液a～e的配方>

[表1]

另外，表1中，消光剂X1、X2均为平均粒径为5μm的透明丙烯酸珠，但粒度分布的变异系数(CV值)各自不同。消光剂X1是CV值为31.4的平缓品，消光剂X2是CV值为8.45的陡直品。

此外，消光剂X3、X4、X5均为平均粒径为8μm的透明丙烯酸珠，但粒度分布的CV值各自不同。消光剂X3是CV值为34.6的平缓品，消光剂X4是CV值为17.8的中间品，消光剂X5是CV值为7.84的陡直品。

以下，有时也将消光剂X1、X2分别称为透明5μm平缓、透明5μm陡直。此外，有时也将消光剂X3、X4、X5分别称为透明8μm平缓、透明8μm中间、透明8μm陡直。

2.三维的Sa及Sz的测定

对各实验例中得到的遮光材料样品，使用触针式表面粗糙度测定机(SURFCOM 1500SD2-3DF：东京精密公司)，在下述条件下，测定遮光膜表面的三维的算术平均粗糙度(Sa)及十点平均粗糙度(Sz)。将结果示于表2中。

<Sa及Sz的测定条件>

·触针前端半径：2μm、

·触针前端的锥体角度：60度、

·测定力：0.75mN、

·截止值λc：0.8mm、

·测定速度：0.6mm/s、

·基准长度：0.8mm、

·测定区域：4mm×0.5mm。

3.P1～P5及R1～R4的计算

对各实验例中得到的遮光材料样品，首先导出存在于遮光膜表面的凹凸的中心平面，以其作为基准面Fb(参照图3)。另外，中心平面以下述想法导出。是指按照相比于基准面Fb位于上侧的凸部(山部)的体积与相比于基准面Fb位于下侧的凹部(谷部)的容积变得相同的方式平坦化时的假设的完全平面，作为Sa高度或Sz的基准面。例如本实验例中使用的触针式表面粗糙度测定机中，通过在上述测定条件下进行测定利用计算来设定基准面。

接着，通过使用作为上述测定机的分析软件的SURFCOM MAPPREMIUM 4.1进行演算而导出从该基准面Fb突出于位于上述“2.三维的Sa及Sz的测定”中测定的Sa的1倍的高度位置的平面Fsa1(参照图3)的突起数P1。同样地，与突出于位于Sa的2倍的高度位置的平面Fsa2(参照图3)的突起数P2、突出于位于Sa的3倍的高度位置的平面Fsa3(参照图3)的突起数P3一起导出P4、P5。将结果示于表2中。

另外，表2中，除了各样品中的距离基准面Fb的平面的高度(单位：μm)以外，还一并记载了表1的涂布液的附着量、所形成的遮光膜的膜厚等。

接着，基于所得到的P1～P5算出R1～R4。将结果示于表2中。另外，R1是P1与P2的比(P2/P1)，R2是P2与P3的比(P3/P2)，R3是P3与P4的比(P4/P3)，R4是P4与P5的比(P5/P4)。

[表2]

4.评价

对各实验例中得到的遮光材料样品，通过下述的方法进行物性的评价。将结果示于表3及表4中。但是，关于下述(1)遮光性的评价，使用在厚度为25μm的透明聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(lumirror T60：TORAY公司)的单面上按照附着量达到14g/m²的方式涂布上述各实验例的配方的各涂布液并干燥而形成的样品来进行。

另外，表3及表4中，一并记载了表示各样品中的遮光膜的表面性状条件的充分状态的记载(表中，○为满足，×为不满足)。

(1)遮光性的评价

基于JIS-K7651：1988使用光学密度计(TD-904：GretagMacbeth公司)测定各实验例的样品的光学透射密度。其结果是，将测定值超过4.0的样品设为“○”，将4.0以下的样品设为“×”。另外，光学密度的测定使用了UV滤光镜。

(2)导电性的评价

基于JIS-K6911：1995测定各实验例中得到的遮光材料样品的表面电阻率(Ω)。将测定值为1.0×10⁶Ω以下的样品设为“○”，将超过1.0×10⁶Ω且为1.0×10¹⁰Ω以下的样品设为“△”，将超过1.0×10¹⁰Ω的样品设为“×”。

(3)消光性的评价

对各实验例中得到的遮光材料样品，基于JIS-Z8741：1997使用光泽计(商品名：VG-2000、日本电色工业公司)测定其遮光膜表面的20度、60度及85度的各镜面光泽度(G20、G60、G85)(单位为％)。

作为G20，将其测定值低于0.3的样品设为“◎◎”，将0.3以上且低于0.5的样品设为“◎”，将0.5以上且低于0.7的样品设为“○”，将0.7以上的样品设为“×”。关于G60，将其测定值低于0.5的样品设为“◎◎”，将0.5以上且低于0.7的样品设为“◎”，将0.7以上且低于1的样品设为“○”，将1以上的样品设为“×”。关于G85，将其测定值为低于8的样品设为“◎◎”，将8以上且低于10的样品设为“◎”，将10以上且低于15的样品设为“○”，将15以上的样品设为“×”。

确认到G20、G60及G85的各数值越小则光泽度越低，光泽度越低，则消光性越优异。

[表3]

[表4]

5.考察

由表3及表4可以理解以下的情况。在全部实验例中，所形成的遮光膜的遮光性、导电性良好。然而，遮光膜的表面性状不满足B1及B2中的任一者的样品(实验例2-1～实验例2-3、实验例4-1～实验例5-2)在消光性中G85的评价低。

与此相对，对于遮光膜的表面性状满足A1及A2中的至少任一者、和B1及B2中的至少任一者的样品(实验例1-1～实验例1-3、实验例3-1、实验例3-2)，关于消光性，G20、G60、G85均得到优异的结果。

[实验例6]

除了在实验例1-1中使用的涂布液a中按照3％配合作为液状的润滑剂的硅油来制备涂布液f以外，在与实验例1-1同样的条件下，在基材上形成遮光膜F，制作实验例6的遮光材料样品。

其后，在与实验例1-1同样的条件下评价消光性，结果可以确认，虽然得到与实验例1-1的情况同等的性能，但是与实验例1-1相比滑动性更优异。具体而言，静摩擦系数(μs)为0.35以下且动摩擦系数(μk)为0.25以下，可以不对遮光膜的表面性状造成影响地提高滑动性。

另外，本例中的μs和μk是基于JIS-K7125：1999在加重：200g、速度：100mm/分钟的条件下测定的值。

Claims

1.一种光学设备用遮光材料，其是具有遮光膜的光学设备用遮光材料，其中，

所述遮光膜按照满足下述条件A1及条件A2中的至少任一者、和下述条件B1及条件B2中的至少任一者的方式调整表面性状，

条件A1：设三维表面粗糙度测定中的算术平均粗糙度为Sa时，Sa的值达到0.4μm以上且2.0μm以下的条件，

条件A2：设三维表面粗糙度测定中的十点平均粗糙度为Sz时，Sz的值达到1μm以上且20μm以下的条件，

条件B1：以三维表面粗糙度测定中的凹凸的中心平面为基准面，设从该基准面突出于位于Sa的n倍的高度位置的平面的突起数为Pn，设突出于位于Sa的(n+1)倍的高度位置的平面的突起数为P_n+1，设Pn与P_n+1的比(P_n+1/Pn)为Rn时，R1达到55％以上、且R4达到7％以上的条件，其中，n均为正的整数,

2.根据权利要求1所述的光学设备用遮光材料，其中，

所述遮光膜至少含有粘合剂树脂、黑色微粒及消光剂而构成，且层叠在基材上。

3.根据权利要求2所述的光学设备用遮光材料，其中，所述遮光膜还含有常温下为液状的润滑剂而构成。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的光学设备用遮光材料，其中，

所述条件B2进一步包含R4达到7％以上的条件。

5.一种光学部件，其使用了权利要求1～4中任一项所述的遮光材料。

6.一种摄像装置，其包含权利要求5所述的光学部件。