JP7442345B2 - 低反射材 - Google Patents

Description

本発明は、表面反射率及び表面光沢度が低減された低反射材等に関する。

一眼レフカメラ、コンパクトカメラ、ビデオカメラ、スマートフォン等の各種光学機器においては、不要な入射光や反射光を除去し、ハレーション、レンズフレア、ゴースト等の発生を抑制する等の観点から、遮光性が高く低光沢な遮光部材が用いられている。例えば、不要光をカットするための遮光板や遮光リング等をレンズ間に介在させたレンズユニットやカメラモジュール等が各種光学機器に搭載されている。また、一眼レフカメラ、コンパクトカメラ、ビデオカメラ等の各種光学機器のシャッターや絞り部材等においては、外光によるハレーションやゴーストの発生等を防止する等の観点から、遮光性のある部材が使用されている。

一方、近年のセンシング技術の目覚ましい進歩により、自動車、列車、汽車、電車、船舶、貨物船、航空機、宇宙機、ロケット、輸送機器、乗り物等の各種の移動体（以下、「移動ビークル」と称する場合がある。）においては、高度なセンシング技術の導入が検討されている。一例を挙げると、自車両の前方に存在する障害物（例えば他車両、歩行者、ガードレール、家屋等）を検出するために、撮像素子を備えたレンズユニット（カメラモジュール）や赤外線センサ等の光学センサを車室内に設置した自動車の開発が進展している。

従来、各種光学機器の遮光部材として、本出願人は、フィルム基材と、前記基材の少なくとも片面に形成された遮光膜とを有する光学機器用遮光部材であって、前記遮光膜は、バインダー樹脂、カーボンブラック、粒子状の滑剤、及び微粒子を含有し、前記バインダー樹脂及び前記滑剤の含有率が、それぞれ７０重量％以上、５～１５重量％であり、前記滑剤は、密度が前記微粒子よりも大きいことを特徴とする光学機器用遮光部材を提案している（特許文献１参照）。

特開２０１１－１２３２５５号公報

特許文献１の技術では、遮光膜中に７０重量％以上のバインダー樹脂及び２～５重量％程度のシリカ等の微粒子を含有させるとともに、密度が疎な特定の滑剤５～１５重量％をさらに含有させた処方とし、良好な遮光性を実現している。しかしながら、この処方では、遮光膜の表面の５５０ｎｍ拡散反射率及び９０５ｎｍ拡散反射率（９０５ｎｍ）がともに５％以上と大きく、低反射材として用いるには、表面反射率の点で改善の余地があった。しかも、特許文献１の技術では、６０°鏡面光沢度が１．８～７．６％程度の艶消し性を実現しているものの、より低い鏡面光沢度を有する低反射材の実現が待たれている。とりわけ、特許文献１の技術では、広角度側の鏡面光沢度（例えば７５度鏡面光沢度や８５度鏡面光沢度）について何ら考慮されていないため、広角度側の鏡面光沢度による悪影響が依然として残っている。そのため、より高精度な撮影やセンシング等を行うにあたり改善が求められている。

また近年においては、デザイン性の観点などから、高級感のある低光沢で黒々しいデザインに人気が高まりつつあり、それとの調和が求められてきている。しかしながら、特許文献１の技術では、例えばＣＩＥ １９７６ Ｌ^*ａ^*ｂ^*表色系におけるＬ^*値が２５以上であり、黒色度の点でも、改善の余地があった。

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものである。すなわち本発明は、表面反射率及び表面光沢度が小さな低反射材等を提供することにある。また、本発明の他の目的は、広角度側の鏡面光沢度が殊に低減された、新規な低反射材等を提供することにある。さらにまた、本発明は、これらの低反射材を用いた高性能な低反射部材、特にＬ^*値が低く、黒々しいデザイン性を付与することができる低反射部材、光学機器用低反射部材等を提供することを目的とする。

本発明者らは、上記課題を解決するために低反射層の表面形状や光学特性等を鋭意検討した結果、バインダー樹脂中に着色材及び樹脂粒子が分散した低反射スプレーコート層が、従来にない新規な表面形状を有することを見出し、この新規な表面形状によって、より低い表面反射率及びより低い表面光沢度がもたらされることを見出し、本発明を完成するに至った。

〔１〕バインダー樹脂、前記バインダー樹脂中に分散した着色材、及び前記バインダー樹脂中に分散した樹脂粒子を少なくとも含有する、厚み３～１００μｍの低反射層を少なくとも備え、前記低反射層は、一方の表面側の表面粗さＲＳｍが８０～１８０μｍであり、同表面側の表面粗さＲｓｋが０．０以下であることを特徴とする、低反射材。

〔２〕前記低反射スプレーコート層の前記表面側の表面粗さＲａが０．５～１５．０μｍであり、前記低反射スプレーコート層の前記表面側の表面粗さＲｚが３～７０μｍである上記〔１〕に記載の低反射材。
〔３〕前記低反射スプレーコート層の前記表面側の表面粗さＲａが０．８～１０．０μｍであり、前記低反射スプレーコート層の前記表面側の表面粗さＲｚが６～６０μｍである上記〔１〕又は〔２〕に記載の低反射材。

〔４〕前記バインダー樹脂の含有割合が、前記低反射スプレーコート層に対して合計で１～３０質量％であり、前記着色材の含有割合が、前記低反射スプレーコート層の総量に対して合計で０．１～３５質量％であり、前記樹脂粒子の含有割合が、前記低反射スプレーコート層の総量に対して合計で５０～９５質量％である上記〔１〕～〔３〕のいずれか一項に記載の低反射材。

〔５〕前記樹脂粒子が、着色樹脂微粒子を含有する上記〔１〕～〔４〕のいずれか一項に記載の低反射材。
〔６〕前記樹脂粒子が、３～２０μｍの平均粒子径Ｄ₅₀を有する上記〔１〕～〔５〕のいずれか一項に記載の低反射材。

〔７〕前記低反射スプレーコート層の前記表面側の８５度鏡面光沢度（ＪＩＳ－Ｚ８７４１：１９９７）が、０．０％以上９．０％未満である上記〔１〕～〔６〕のいずれか一項に記載の低反射材。
〔８〕前記低反射スプレーコート層の前記表面側の５５０ｎｍ拡散反射率（正反射を含む）が、０．０％以上３．０％未満である上記〔１〕～〔７〕のいずれか一項に記載の低反射材。
〔９〕前記低反射スプレーコート層の前記表面側の９０５ｎｍ拡散反射率（正反射を含む）が、０．０％以上３．０％未満である上記〔１〕～〔８〕のいずれか一項に記載の低反射材。
〔１０〕前記低反射スプレーコート層の前記表面側のＣＩＥ １９７６ Ｌ^*ａ^*ｂ^*表色系におけるＬ^*値が０～１８である上記〔１〕～〔９〕のいずれか一項に記載の低反射材。
〔１１〕前記低反射スプレーコート層が、０．５以上の光学濃度ＯＤを有する上記〔１〕～〔１０〕のいずれか一項に記載の低反射材。
〔１２〕前記低反射スプレーコート層が、光透過性を有する上記〔１〕～〔１１〕のいずれか一項に記載の低反射材。

〔１３〕基材をさらに備え、前記低反射スプレーコート層が前記基材の少なくとも一方の主面側に設けられた上記〔１〕～〔１２〕のいずれか一項に記載の低反射材。
〔１４〕基材フィルムをさらに備え、前記低反射スプレーコート層が前記基材フィルムの一方の主面側及び他方の主面側にそれぞれ設けられた上記〔１〕～〔１２〕のいずれか一項に記載の低反射材。

本発明によれば、表面反射率及び表面光沢度が小さな低反射材等を実現することができ、例えば光学センサ類の撮像画像や検出精度の劣化ないしは低下を抑制することができる。また、より黒々しい外観を有する低反射材等を実現できるため、これを搭載する各種光学機器のデザイン性を向上することもできる。そしてさらに、本発明の好適態様によれば、広角度側の鏡面光沢度が殊に低減された、新規な低反射材等を提供することができ、撮像画像や検出精度をより一層高めることが可能になる。これらの低反射材等を用いることにより、例えば広角度側から見ても表面光沢度が小さな艶消し加工品を実現することができ、従来には存在しなかった新規な設計の低反射材、この低反射材を用いた高性能な低反射部材、特にＬ^*値が低く、黒々しいデザイン性を付与することができる低反射部材、光学機器用低反射部材等を実現することもできる。

一実施形態の低反射材１００を示す概略断面図である。

以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、上下左右等の位置関係は、特に断らない限り、図面に示す位置関係に基づくものとする。また、図面の寸法比率は、図示の比率に限定されるものではない。但し、以下の実施の形態は、本発明を説明するための例示であり、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、本明細書において、例えば「１～１００」との数値範囲の表記は、その上限値「１００」及び下限値「１」の双方を包含するものとする。また、他の数値範囲の表記も同様である。

（第一実施形態）
図１は、本発明の第一実施形態の低反射材１００の要部を示す断面図である。この低反射材１００は、基材１１と、この基材１１の一方の主面１１ａ側に設けられた厚み３～１００μｍの低反射スプレーコート層２１と、基材１１の他方の面１１ｂ側に設けられた粘着層３１と、を備えている。すなわち、本実施形態の低反射材１００は、低反射スプレーコート層２１、基材１１、及び粘着層３１が、少なくともこの順に配列された積層構造（３層構造）を有する。なお、この積層構造において、低反射スプレーコート層２１は表側の最表面に配置されるとともに粘着層３１は裏側の最表面に配置されており、低反射スプレーコート層及び粘着層３１は、表側及び裏側の最表面にそれぞれ露出した状態で配置されている。なお、低反射スプレーコート層２１の表面２１ａには、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、必要に応じて、帯電防止層や保護層や防汚層や抗菌層や反射防止膜や印刷層等の任意の層が設けられていてもよい。また、低反射スプレーコート層２１の表面２１ａは、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、必要に応じて、帯電防止処理や防汚処理や抗菌処理や反射防止処理等の任意の表面処理が施されていてもよい。

ここで本明細書において、「～の一方（他方）の面側に設けられた」とは、本実施形態のように基材１１の表面（例えば主面１１ａや主面１１ｂ）に低反射スプレーコート層２１や粘着層３１が直接載置された態様のみならず、基材１１の面１１ａと低反射スプレーコート層２１との間や基材１１の面１１ｂと粘着層３１との間に図示しない任意の層（例えばプライマー層、接着層等）が介在して、低反射スプレーコート層２１や粘着層３１が基材１１から離間して配置された態様を包含する意味である。また、低反射スプレーコート層２１及び粘着層３１を少なくとも備える積層構造とは、低反射スプレーコート層２１及び粘着層３１のみが基材１１上に直接積層した構造のみならず、３層構造の層間に上述したような任意の層をさらに設けた構造を包含する意味である。

基材１１は、低反射スプレーコート層２１及び粘着層３１を支持可能なものである限り、その種類は特に限定されない。基材１１の具体例としては、例えば、金属、合金、樹脂成形体、樹脂フィルム、不織布、及びガラス等が挙げられるが、これらに特に限定されない。金属や合金としては、アルミニウム、マグネシウム、鉄、及びこれらの合金を含む金属材料が好ましく用いられる。また、寸法安定性、機械的強度及び軽量化等の観点からは、基材１１としては、合成樹脂が好ましく用いられる。合成樹脂の具体例としては、ポリエステル；ＡＢＳ（アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン）；ポリイミド；ポリアミド；ポリアミドイミド；ポリスチレン；ポリカーボネート；（メタ）アクリル系；ナイロン系；ポリエチレンやポリプロピレン等のポリオレフィン系；カレボルネン類とα－オレフィンとの付加共重合体、ノルボルネン類の水素化開環メタセシス重合体、シクロペンテン、シクロヘキセン、３－メチルシクロヘキセン、シクロオクテン等のシクロオレフィン系；セルロース系；ポリスルホン系；ポリフェニレンスルフィド系；ポリエーテルスルホン系；ポリエーテルエーテルケトン系の樹脂が挙げられるが、これらに特に限定されない。なお、本明細書において、「（メタ）アクリル」は、アクリル、メタクリルの双方を含む概念である。これらは１種を単独で用いることができ、また２種以上の任意の組み合わせで用いることもできる。また、これらを任意の組み合わせで用いた多層成形体（多色成形体）や積層フィルムも好適に用いることができる。これらの中でも、基材１１としては、寸法安定性、機械的強度及び軽量化等の観点から、合成樹脂の基材フィルムが好ましく、ポリエステルフィルム、ポリイミドフィルム、ポリカーボネートフィルム、（メタ）アクリル系フィルム、及びこれらを任意に組み合わせた積層フィルムがより好適に用いられる。とりわけ、一軸又は二軸延伸フィルム、特に二軸延伸ポリエステルフィルムは、機械的強度及び寸法安定性に優れるため、特に好ましい。また、耐熱用途には、ポリイミドフィルム、ポリアミドイミドフィルム、ポリアミドフィルムが特に好ましく、ポリイミドフィルム、ポリアミドイミドフィルムが最も好ましい。

基材１１の厚みは、要求性能及び用途に応じて適宜設定でき、特に限定されない。基材１１上に低反射スプレーコート層２１を設けることで、例えば成形体である基材１１に、又はフィルム状の基材１１である基材フィルムに、膜状或いは層状の基材１１に、表面反射率及び表面光沢度が小さな表面を付与することができる。なお、フィルム状の基材１１である基材フィルムを用いる場合、軽量化及び薄膜化の観点からは、基材１１の厚みは、０．５μｍ以上、２５０μｍ未満が目安とされる。強度や剛性等の観点からは、基材１１の厚みは、３６μｍ以上、２５０μｍ未満が好ましい。一方、さらなる軽量化及び薄膜化の観点からは、基材１１の厚みは、１μｍ以上、５０μｍ以下が好ましく、より好ましくは１μｍ以上、２５μｍ以下、さらに好ましくは４μｍ以上、１０μｍ以下、特に好ましくは５μｍ以上、７μｍ以下である。なお、低反射スプレーコート層２１や粘着層３１との接着性を向上させる観点から、必要に応じて、基材１１表面にアンカー処理やコロナ処理、帯電防止等の各種公知の表面処理を行うこともできる。

なお、基材１１の外観は、透明、半透明、不透明のいずれであってもよく、特に限定されない。例えば発泡ポリエステルフィルム等の発泡した合成樹脂フィルムや、各種顔料を含有させた合成樹脂フィルムを用いることもできる。例えば、黒色、灰色、紫色、青色、茶色、赤色、緑色等の暗色系の顔料又は染料を１種以上含有する合成樹脂フィルムを用いることにより、光学濃度の高い膜とすることができる。ここで用いる顔料や染料としては、当業界で公知のものから適宜選択して用いることができ、その種類は特に限定されない。例えば黒色系の顔料としては、黒色樹脂粒子、マグネタイト系ブラック、銅・鉄・マンガン系ブラック、チタンブラック、カーボンブラック等が挙げられる。これらの中でも、隠蔽性に優れることから、黒色樹脂粒子、チタンブラック、カーボンブラックが好ましい。これらは１種を単独で用いることができ、また２種以上を組み合わせて用いることもできる。基材１１が顔料又は染料を含有する場合、その含有割合は、要求性能及び用途に応じて適宜設定でき、特に限定されない。寸法安定性、機械的強度、軽量化等の観点から、顔料及び染料の合計の含有割合は、基材１１の総量に対して、０．３～１５質量％であることが好ましく、より好ましくは０．４～１２質量％、さらに好ましくは０．５～１０質量％である。

本実施形態の低反射スプレーコート層２１の表面２１ａ側（本実施形態では外方に露出している表面２１ａ）の表面粗さは、ＲＳｍが８０～１８０μｍであり、Ｒｓｋが０．０以下であることが必要とされる。このような特殊な表面形状は、従来技術の低反射フィルムや遮光フィルムでは実現できなかったものであるか或いは知られていなかったものであり、これにより、より小さな表面反射率及び表面光沢度が実現され、また、広角度側の鏡面光沢度が殊に低減される。

表面粗さＲＳｍは、表面凹凸の長さ方向（横方向）のパラメータであり、基準長さにおいて粗さ曲線要素の長さＸｓの平均を表す。これはすなわち、表面凹凸の平均波長として把握することができる。なお、表面凹凸の長さ方向は、表面粗さＲＳｍの測定時に確定される低反射スプレーコート層２１の面内の一方向を意味しており、例えば平面視で矩形状の低反射スプレーコート層２１の場合は縦方向や面内の横方向のいずれであってもよく、その方向は特に限定されない。低反射スプレーコート層２１の表面粗さＲＳｍは８０～１８０μｍであり、従来技術の低反射フィルムや遮光フィルムの表面粗さＲＳｍが約２０～７０μｍであるのに比して、大きな値となっている。低反射スプレーコート層２１の表面粗さＲＳｍは、好ましくは９０～１７０μｍ、より好ましくは１００～１６０μｍである。表面粗さＲＳｍが大きいほど、表面反射率及び表面光沢度が小さくなり、また、広角度側の鏡面光沢度が小さくなる傾向にあり、その一方で、塗膜強度が低下する傾向にある。

一方、表面粗さＲｓｋは、表面凹凸の高さ方向（深さ方向）のパラメータであり、基準長さにおいて粗さ曲線のスキューネス（歪度）を表す。これはすなわち、平均線を中心としたときの凸部と凹部の対称性を表すものとして把握することができる。低反射スプレーコート層２１の表面粗さＲｓｋは０．０以下であり、従来技術の低反射フィルムや遮光フィルムの表面粗さＲｓｋが正の値（約３～７）であるのとは対照的に、極めて小さな値であるか負の値となっている。低反射スプレーコート層２１の表面粗さＲｓｋは、さらに好ましくは－１．０以下であり、－７以上が好ましく、より好ましくは－５以上、さらに好ましくは－３以上である。表面粗さＲｓｋの絶対値が小さいほど、表面反射率及び表面光沢度が小さくなり、また、広角度側の鏡面光沢度が小さくなる傾向にある。

以上のとおり、上記の表面粗さＲｓｋ及びＲＳｍの条件を満たす表面形状を有する低反射スプレーコート層２１は、表面凹凸の長さ方向の平均波長が比較的に大きく且高さ方向において凹部よりも凸部が比較的に多く存在する表面形状を有するものと概念的に捉えることができる。このような特殊な表面形状に制御することで、従来技術に比して、表面反射率及び表面光沢度が小さく、広角度側の鏡面光沢度が殊に小さい低反射材を実現できることが、本発明者らによって見出された。その理由は定かではないが、上記の表面粗さＲｓｋ及びＲＳｍの条件を満たす表面形状は、内部拡散性及び外部拡散性が従来技術に比して十分に大きく維持でき、従来技術では対応困難であった広角度側からの入射光に対しても内部拡散性及び外部拡散性が有効に機能するためと考えられる。

なお、低反射スプレーコート層２１の表面粗さＲａ（算術平均粗さ）は、要求性能に応じて適宜設定でき、特に限定されないが、表面反射率及び表面光沢度を小さくし、また、広角度側の鏡面光沢度を小さくする観点から、０．５～１５．０μｍが好ましく、０．６～１４．０μｍがより好ましく、０．７～１２．０μｍがさらに好ましく、０．８～１０．０μｍが特に好ましい。ここで、表面粗さＲａは、当業界で周知のとおり、表面凹凸の高さ方向のパラメータであり、基準長さにおいて粗さ曲線の高さＺｘの絶対値の平均を表す。低反射スプレーコート層２１の表面粗さＲａは、従来技術の低反射フィルムや遮光フィルムの表面粗さＲａと同程度であってもよいが、上述した表面粗さＲｓｋ及びＲＳｍを有する特殊な表面形状を得るには、従来技術の低反射フィルムや遮光フィルムの表面粗さＲａよりも比較的に大きな値になる傾向にある。

また、低反射スプレーコート層２１の表面粗さＲｚ（最大高さ）は、要求性能に応じて適宜設定でき、特に限定されないが、表面反射率及び表面光沢度を小さくし、また、広角度側の鏡面光沢度を小さくする観点から、３～７０μｍが好ましく、４～６７μｍがより好ましく、５～６５μｍがさらに好ましく、６～６０μｍが特に好ましい。なお、低反射スプレーコート層２１の表面粗さＲｚは、当業界で周知のとおり、表面凹凸の高さ方向のパラメータであり、基準長さにおいて粗さ曲線の凸部高さＺｐと凹部深さＺｖの最大値の和を表す。低反射スプレーコート層２１の表面粗さＲｚは、従来技術の低反射フィルムや遮光フィルムの表面粗さＲｚと同程度であってもよいが、上述した表面粗さＲｓｋ及びＲＳｍを有する特殊な表面形状を得るには、従来技術の低反射フィルムや遮光フィルムの表面粗さＲｚよりも比較的に大きな値になる傾向にある。

なお、上述した表面粗さＲＳｍ，Ｒｓｋ，Ｒａ及びＲｚは、ＪＩＳ規格（ＪＩＳ Ｂ ０６０１－２００１、及びＪＩＳ Ｂ ０６５１－２００１）に準拠して測定される値及び算出される値を意味する。具体的には、「製品の幾何学特性仕様（ＧＰＳ）－表面性状：輪郭曲線方式－用語，定義及び表面性状パラメータ，ＪＩＳ Ｂ ０６０１：２００１」に基づき、例えば触針式表面粗さ測定機（ＳＵＲＦＣＯＭ １５００ＳＤ２－３ＤＦ：東京精密社）等の３次元表面粗さ計を用いて測定することができ、また、表面粗さＲＳｍ等は必要に応じて付属の解析ソフトウェアや汎用の解析ソフトウェアを用いて算出することができる。より詳細な測定条件は、以下のとおりである。
測定長さ：４．０ｍｍ
カットオフ波長：０．８ｍｍ
測定速度：０．６ｍｍ／ｓ
触針：先端半径２μｍ、頂角６０°円錐型の単結晶ダイヤモンド製

上述した特殊な表面形状を有する低反射スプレーコート層２１は、バインダー樹脂と遮光材と樹脂粒子と分散媒とを少なくとも含む塗工液をスプレーコート法で製膜することにより形成することができる。このスプレー塗工においては、塗工液の微小な液滴が基材フィルム１１の主面１１ａ上に次々と付着し、それと同時進行で分散媒の一部が揮発ないしは除去され、最終的に分散媒が十分に揮発ないしは除去されることで、塗工液の微小な液滴から分散媒が除去された微小な塗粒（固形粒）が順次積み重なることにより、低反射スプレーコート層２１が膜形成される。このように微小な塗粒が積み重なるようにして膜形成することにより、上述した表面形状（特定の表面粗さＲｓｋ及びＲＳｍ）を有する低反射スプレーコート層２１が初めて得られる。表面凹凸の長さ方向の平均波長が比較的に大きく且高さ方向において凹部よりも凸部が比較的に多く存在する表面形状を有する表面形状は、従来技術のバーコート法では得ることができない。また、スプレーコート法によれば、例えば曲面、傾斜面、溝、突起等の、平面以外の表面であっても、低反射スプレーコート層２１の形成が容易なため、表面反射率及び表面光沢度が小さな表面を任意の場所に形成できる。

以下、実例を挙げて、さらに低反射スプレーコート層２１の新規な表面形状がもたらす作用効果を説明する。ここでは、厚み２５μｍの基材フィルム上に、１～３０質量％のバインダー樹脂と、０．１～３５質量％の平均粒子径Ｄ₅₀が２５ｎｍの着色材と、５０～９５質量％の平均粒子径Ｄ₅₀が４μｍの樹脂粒子と、必要に応じて配合する０．１～１０質量％の硬化剤及び０．００１～１質量％のレベリング剤と、必要量の分散液とを含む塗工液を用いてスプレーコート法により膜形成して新規な表面形状を有する低反射スプレーコート層２１を設けたもの（例１～４）を例に挙げて説明する。また、比較として、２０～３０質量％のバインダー樹脂と、２０～４５質量％の平均粒子径Ｄ₅₀が２５ｎｍの着色材と、３０～４５質量％の平均粒子径Ｄ₅₀が９．５μｍの不定形シリカ粒子と、必要に応じて配合する０．１～１０質量％の硬化剤及び０．００１～１質量％のレベリング剤と、必要量の分散液とを含む塗工液を用いてバーコート法により膜形成して従来技術の範疇にある表面形状を再現したもの（例５～例７）、並びに、２０～３０質量％のバインダー樹脂と、２０～４５質量％の平均粒子径Ｄ₅₀が２５ｎｍの着色材と、３０～４５質量％の平均粒子径Ｄ₅₀が４μｍの樹脂粒子と、必要に応じて配合する０．１～１０質量％の硬化剤及び０．００１～１質量％のレベリング剤と、必要量の分散液とを含む塗工液を用いてバーコート法により膜形成して従来技術の範疇にある表面形状を再現したもの（例８）を例に挙げる。

表１に示すとおり、例１～例８のいずれにおいても、当業界で好ましいと考えられている表面粗さＲａ（０．５～１５．０μｍ）及び表面粗さＲｚ（３～７０μｍ）を満たす、光学濃度ＯＤが０．５以上の塗膜が得られている。ここで、表面粗さＲＳｍが８０～１８０μｍ及び表面粗さＲｓｋが０．５μｍ未満の表面形状を有する例１～例４は、このような特定の表面形状を有さない例５～例８に比して、表面反射率や表面光沢度において遥かに上回る性能を示している。とりわけ、このような特定の表面形状を有する例１～例４では、広角度側の８５°表面光沢度が殊に小さい値を示していることは特筆すべき点である。一方、このような特定の表面形状を有さない例５～例８においては、表面反射率や表面光沢度が従来技術の水準に留まっている。

なお、本実施形態の低反射材１００の表面反射率は、上記の例に限定されるものではなく、所望性能に応じて適宜設定することができる。具体的には、低反射スプレーコート層２１の表面２１ａ側の５５０ｎｍ拡散反射率（正反射を含む）は、３．０％未満が好ましく、２．５％未満がより好ましく、２．０％未満がさらに好ましく、１．８％未満が特に好ましい。ここで、同５５０ｎｍ拡散反射率の下限側は、特に限定されないが、低ければ低いほどよく、よって０．０％以上であればよい。また、低反射スプレーコート層２１の表面２１ａ側の９０５ｎｍ拡散反射率（正反射を含む）は、３．０％未満が好ましく、２．５％未満がより好ましく、２．０％未満がさらに好ましく、１．８％未満が特に好ましい。ここで、同９０５ｎｍ拡散反射率の下限側は、特に限定されないが、低ければ低いほどよく、よって０．０％以上であればよい。なお、本明細書において、５５０ｎｍ拡散反射率や９０５ｎｍ拡散反射率は、分光光度計（例えばSolidSpec-3700（島津製作所社製））を用い、それぞれの波長の光を入射したときにおける拡散反射率（％）を測定して得られる値を意味する。ここで、５５０ｎｍ拡散反射率や９０５ｎｍ拡散反射率は、表面粗さＲＳｍや表面粗さＲｓｋを増減させることにより調整することができ、一般的には、表面粗さＲＳｍが大きいほど、また、表面粗さＲｓｋのマイナスの値が小さいほど、５５０ｎｍ拡散反射率や９０５ｎｍ拡散反射率が小さくなる傾向にある。

また、本実施形態の低反射材１００の表面光沢度は、上記の例に限定されるものではなく、所望性能に応じて適宜設定することができる。具体的には、広角度領域の鏡面光沢を小さくし、より高い艶消し性及び低い光沢性等を実現する観点からは、低反射スプレーコート層２１の表面２１ａ側の８５度鏡面光沢度（ＪＩＳ－Ｚ８７４１：１９９７）は、０．０％以上１０．０％未満が好ましく、０．０％以上９．０％未満がより好ましく、０．０％以上８．０％未満がさらに好ましく、０．０％以上６．０％未満が特に好ましい。同様に、低反射スプレーコート層２１の表面２１ａ側の７５度鏡面光沢度（ＪＩＳ－Ｚ８７４１：１９９７）は、０．０％以上５．０％未満が好ましく、０．０％以上４．５％未満がより好ましく、０．０％以上４．０％未満がさらに好ましく、０．０％以上３．０％未満が特に好ましい。また同様に、低反射スプレーコート層２１の表面２１ａ側の６０度鏡面光沢度（ＪＩＳ－Ｚ８７４１：１９９７）は、０．０％以上１．０％未満が好ましく、０．０％以上０．５％未満がより好ましく、０．０％以上０．３％未満がさらに好ましく、０．０％以上０．２％未満が特に好ましい。

このとき、低角度領域から広角度領域まで幅広い低光沢を実現する観点から、また、低光沢、低反射性、光吸収性等のバランスの観点から、本実施形態の低反射材１００の低反射スプレーコート層２１の表面２１ａ側の鏡面光沢度は、２０°鏡面光沢度、４５°鏡面光沢度、６０°鏡面光沢度、７５°鏡面光沢度、及び８５°鏡面光沢度の合計が、１５．０％以下が好ましく、より好ましくは１２．０％以下、さらに好ましくは１１．０％以下、特に好ましくは１０．０％以下、最も好ましくは８．０％以下である。なお、本明細書において、鏡面光沢度は、ＪＩＳ－Ｚ８７４１：１９９７に準拠し、デジタル変角光沢計（Gloss Meter VG7000：日本電色社）を用い、それぞれ規定の入射受光角（２０°、４５°、６０°、７５°、８５°）における低反射スプレーコート層２１の表面２１ａ側の光沢度（鏡面光沢度）（％）を測定して得られる値を意味する。

一方、本実施形態の低反射材１００の低反射スプレーコート層２１の表面２１ａ側のＣＩＥ １９７６ Ｌ^*ａ^*ｂ^*表色系におけるＬ^*値は、要求性能に応じて適宜設定すればよく、特に限定されない。より黒々しい外観を求める観点から、また、低光沢、低反射性、光吸収性等のバランスの観点から、低反射スプレーコート層２１の表面２１ａ側のＣＩＥ １９７６ Ｌ^*ａ^*ｂ^*表色系におけるＬ^*値は、０～１８が好ましく、より好ましくは１６以下、さらに好ましくは１４以下、特に好ましくは１３以下である。なお、本明細書において、Ｌ^*ａ^*ｂ^*表色系におけるＬ^*値は、ＪＩＳ Ｚ ８７２０：２０１２に準拠し、ＣＩＥ標準イルミナントＤ₆₅を使用し、分光測色計（例えばZE6000（日本電色社製））で測定される値を意味する。

また、本実施形態の低反射材１００の低反射スプレーコート層２１の遮光性は、要求性能に応じて適宜設定すればよく、特に限定されない。より高い遮光性を具備する観点からは、低反射スプレーコート層２１は、０．５以上の光学濃度ＯＤを有することが好ましく、１．０以上の光学濃度ＯＤを有することがより好ましく、１．７以上の光学濃度ＯＤを有することがさらに好ましく、２．０以上の光学濃度ＯＤを有することが特に好ましい。なお、本明細書において、光学濃度（ＯＤ）は、ＩＳＯ ５－２に準拠し、光学濃度計（Ｘ－Ｒｉｔｅ３６１Ｔ：エックスライト社）及びオルソフィルタを用いて測定して得られた値とする。

一方、本実施形態の低反射材１００の低反射スプレーコート層２１は、光透過性（透光性）を有していてもよい。光透過性を有する低反射スプレーコート層２１を採用することで、調光機能を付与することができる。例えばＬＥＤやバックライト等の光源の点灯時の光を、低反射スプレーコート層２１を透過させることで、所望の照度で所望の文字、図形、模様等を表示可能となるため、表示体、表示パネル、又は照明パネル等の低反射部材として適用価値が増大する。低反射スプレーコート層２１の光透過性は、要求性能に応じて適宜設定すればよく、特に限定されない。より高い光透過性を具備する観点からは、低反射スプレーコート層２１は、２．０未満の光学濃度ＯＤを有することが好ましく、１．７未満の光学濃度ＯＤを有することがより好ましく、１．０未満の光学濃度ＯＤを有することがさらに好ましく、０．５未満の光学濃度ＯＤを有することが特に好ましい。

以上詳述したとおり、本実施形態の低反射材１００は、特定の表面形状を有する低反射スプレーコート層２１を備えることで、表面反射率及び表面光沢度が小さな低反射材として機能し、より好ましい態様では、広角度側の鏡面光沢度が殊に低減された新規な低反射材として機能し、例えばＬ^*値が低く、黒々しいデザイン性を付与することができる低反射部材や光学機器用低反射部材等を実現できる。そのため、本実施形態の低反射材１００を低反射部材は、そのまま、又は、この低反射部材と遮光部材とを組み合わせて、低反射遮光部材或いは光学機器用低反射遮光部材等として用いることで、例えば光学センサ類の撮像画像や検出精度の劣化ないしは低下を抑制することができる。なお、低反射スプレーコート層２１を構成する素材としては、当業界で公知のものを用いることができ、その種類は特に限定されない。なお、上述した塗工液をスプレーコートすることにより得られる低反射スプレーコート層２１（スプレーコート層）は、バインダー樹脂と、このバインダー樹脂中に分散した着色材と、このバインダー樹脂中に分散した樹脂粒子とを少なくとも含有するものと定義することができる。本実施形態では、着色材としてカーボンブラックやアニリンブラック等の黒色の顔料粒子が用いられており、樹脂粒子として黒色の着色有機樹脂粒子が用いられている。以下、低反射スプレーコート層２１の構成要素について、さらに詳述する。

バインダー樹脂としては、当業界で公知のものを用いることができ、その種類は特に限定されない。具体的には、ポリ（メタ）アクリル酸系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、セルロース系樹脂、ポリスチレン／ポリブタジエン樹脂、ポリウレタン系樹脂、アルキド樹脂、アクリル系樹脂、不飽和ポリエステル系樹脂、エポキシエステル系樹脂、エポキシ系樹脂、エポキシアクリレート系樹脂、ウレタンアクリレート系樹脂、ポリエステルアクリレート系樹脂、ポリエーテルアクリレート系樹脂、フェノール系樹脂、メラミン系樹脂、尿素系樹脂、ジアリルフタレート系樹脂等の熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂が挙げられるが、これらに特に限定されない。また、熱可塑性エラストマー、熱硬化性エラストマー、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂等も用いることができる。これらは１種を単独で用いることができ、また２種以上を組み合わせて用いることもできる。なお、バインダー樹脂は、要求性能及び用途に応じて、適宜選択して用いることができる。例えば、耐熱性が求められる用途においては、熱硬化性樹脂が好ましい。

低反射スプレーコート層２１中のバインダー樹脂の含有量（総量）は、膜形成に必要な程度で適宜設定することができ、特に限定されない。他の必須成分及び任意成分との配合バランスを考慮し、より優れた表面反射率及び表面光沢度を有する低反射スプレーコート層２１を実現する観点から、バインダー樹脂の含有量（総量）は、低反射スプレーコート層２１の総量に対して、合計で１～３０質量％が好ましく、より好ましくは合計で２～２５質量％、さらに好ましくは合計で３～２０質量％であり、特に好ましくは合計で５～１５質量％である。なお、着色材や樹脂粒子がバインダー樹脂成分を含む場合、これらのバインダー樹脂成分も、ここでいう含有割合において、バインダー樹脂の合計量に組み込むものとする。

着色材としては、当業界で公知の顔料や染料を用いることができ、その種類は特に限定されない。着色材の種類、粒子サイズ、使用量を適宜選択することで、遮光性や光透過性を調整することができる。具体的には、マグネタイト系ブラック、銅・鉄・マンガン系ブラック、チタンブラック、カーボンブラック、アニリンブラック等が挙げられるが、これらに特に限定されない。着色材としては、遮光性、光透過性、色調等の調整の容易性等の観点から、黒色の無機顔料、黒色の有機顔料が好ましく用いられる。これらの中でも、着色材としては、無機顔料が望ましく、具体的には、チタンブラック、カーボンブラック、アニリンブラックが好ましく、より好ましくはカーボンブラック、アニリンブラックである。カーボンブラックとしては、オイルファーネスブラック、ランプブラック、チャンネルブラック、ガスファーネスブラック、アセチレンブラック、サーマルブラック、ケッチェンブラック等、各種公知の製法で作製されたものが知られているが、その種類は特に制限されない。着色材に導電性を付与し静電気による帯電を防止する観点から、導電性カーボンブラックが特に好ましく用いられる。カーボンブラックの歴史は古く、例えば三菱化学株式会社、旭カーボン株式会社、御国色素株式会社、レジノカラー工業株式会社、Ｃａｂｏｔ社、ＤＥＧＵＳＳＡ社等から、各種グレードのカーボンブラック単体及びカーボンブラック分散液が市販されており、要求性能や用途に応じて、これらの中から適宜選択すればよい。これらは、１種を単独で用いることができ、また２種以上を組み合わせて用いることもできる。

なお、着色材の粒子サイズは、使用する着色材の種類や、目的とする遮光性や光透過性、低光沢性等の要求性能等に応じて適宜設定でき、特に限定されない。例えば着色材がカーボンブラックである場合、平均粒子径Ｄ₅₀は０．０１～２．０μｍであることが好ましく、より好ましくは０．０５～０．１μｍ、さらに好ましくは０．０８～０．５μｍである。なお、本明細書における平均粒子径Ｄ₅₀とは、レーザー回折式粒度分布測定装置（例えば、島津製作所社：ＳＡＬＤ－７０００等）で測定される、体積基準のメジアン径（Ｄ₅₀）を意味する。

低反射スプレーコート層２１中の着色材の含有量（総量）は、目的とする遮光性や光透過性、低光沢性等の要求性能に応じて適宜設定することができ、特に限定されない。他の必須成分及び任意成分との配合バランスを考慮し、より優れた表面反射率及び表面光沢度を有する低反射スプレーコート層２１を実現する観点から、着色材の含有量（総量）は、低反射スプレーコート層２１の総量に対して、合計で０．１～３５質量％が好ましく、より好ましくは合計で１～３０質量％、さらに好ましくは合計で３～２０質量％であり、特に好ましくは合計で５～１５質量％である。なお、樹脂粒子として着色された樹脂粒子を用いた場合の着色材の含有量は、上述した着色材の質量と樹脂粒子に含まれる着色材の質量との合計（組成物中の着色材総量）とする。

樹脂粒子としては、当業界で公知のものを用いることができ、その種類は特に限定されない。具体的には、ポリメチルメタクリレート系、ポリスチレン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ゴム系等の樹脂粒子が挙げられるが、これらに特に限定されない。これらは１種を単独で用いることができ、また２種以上を組み合わせて用いることもできる。また、樹脂粒子の外観は、透明、半透明、不透明のいずれであってもよく、特に限定されない。また、樹脂粒子は、無色でもよいが、着色されていてもよい。例えば、黒色、灰色、紫色、青色、茶色、赤色、緑色等に着色された樹脂粒子を用いることにより、着色材の使用量が比較的に少なくても光学濃度や色彩度の高い低反射スプレーコート層２１を実現することができる。

上述した表面反射率及び表面光沢度を付与するために、樹脂粒子は比較的に粗大な粒径を有することが好ましい。より優れた表面反射率及び表面光沢度を有する低反射スプレーコート層２１を実現する観点から、樹脂粒子の平均粒子径Ｄ₅₀は、下限が１μｍ以上であることが好ましく、より好ましくは２μｍ以上であり、さらに好ましくは３μｍ以上であり、特に好ましくは４μｍ以上であり、最も好ましくは５μｍ以上である。また、上限としては、３０μｍ以下、より好ましくは２０μｍ以下、特に好ましくは１５μｍ以下である。なお、塗工時において樹脂粒子の凝集を抑制し、或いは、仮に樹脂粒子が凝集した場合であっても凝集物の粒子径が過度に大きくならない程度の平均粒子径Ｄ₅₀を有する樹脂粒子を用いることが、生産性や取扱性等の観点から求められることがある。

低反射スプレーコート層２１中の樹脂粒子の含有量（総量）は、遮光性や低光沢性等の要求性能に応じて適宜設定することができ、特に限定されない。他の必須成分及び任意成分との配合バランスを考慮し、より優れた表面反射率及び表面光沢度を有する低反射スプレーコート層２１を実現する観点から、樹脂粒子の含有量（総量）は、低反射スプレーコート層２１の総量に対して、合計で５０～９０質量％が好ましく、より好ましくは合計で５５～９５質量％、さらに好ましくは合計で６０～８５質量％である。なお、樹脂粒子として着色された樹脂粒子を用いた場合の樹脂粒子の含有量は、樹脂粒子に含まれる着色材を含む樹脂粒子の質量を基準とする。

なお、低反射スプレーコート層２１は、色調をコントロールするために、上述した着色材以外の、公知の色材を含有していてもよい。この色材としては、ジアリールメタン系；トリアリールメタン系；チアゾール系；メロシアニン、ピラゾロンメチン等のメチン系；インドアニリン、アセトフェノンアゾメチン、ピラゾロアゾメチン、イミダゾルアゾメチン、イミダゾアゾメチン等のアゾメチン系；キサンテン系；オキサジン系；ジシアノスチレン、トリシアノスチレン等のシアノメチレン系；チアジン系；アジン系；アクリジン系；ベンゼンアゾ系；ピリドンアゾ、チオフェンアゾ、イソチアゾールアゾ、ピロールアゾ、イミダゾールアゾ、チアジアゾールアゾ、トリアゾールアゾ、ジズアゾ等のアゾ系；スピロピラン系；インドリノスピロピラン系；フルオラン系；ナフトキノン系；アントラキノン系；キノフタロン系等が挙げられるが、これらに特に限定されない。例えば黒色系、青色系、緑色系、黄色系、赤色系の公知の色材を１種単独で用いることができ、また２種以上を組み合わせて用いることもできる。色材を用いる場合、色材の含有量（総量）は、要求性能に応じて適宜設定でき、特に限定されないが、他の必須成分及び任意成分との配合バランスを考慮し、より優れた表面反射率及び表面光沢度を有する低反射スプレーコート層２１を実現する観点から、低反射スプレーコート層２１の総量に対して、合計で０．１～１０質量％が好ましく、より好ましくは合計で０．５～５質量％、さらに好ましくは合計で１～３質量％である。

また、低反射スプレーコート層２１は、低反射スプレーコート層２１の表面光沢度や色調を調整するために、公知のマット剤（艶消し剤）を含有していてもよい。マット剤としては、例えばカオリン、焼成カオリン、焼成クレー、未焼成クレー、シリカ（例えば天然シリカ、溶融シリカ、アモルファスシリカ、中空シリカ、湿式シリカ、合成シリカ、アエロジル等）、アルミニウム化合物（例えばベーマイト、水酸化アルミニウム、アルミナ、ハイドロタルサイト、ホウ酸アルミニウム、窒化アルミニウム等）、マグネシウム化合物（例えば、メタケイ酸アルミン酸マグネシウム、炭酸マグネシウム、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム等）、カルシウム化合物（例えば炭酸カルシウム、水酸化カルシウム、硫酸カルシウム、亜硫酸カルシウム、ホウ酸カルシウム等）、モリブデン化合物（例えば酸化モリブデン、モリブデン酸亜鉛等）、タルク（例えば天然タルク、焼成タルク等）、マイカ（雲母）、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、硫酸バリウム、ホウ酸亜鉛、メタホウ酸バリウム、ホウ酸ナトリウム、窒化ホウ素、凝集窒化ホウ素、窒化ケイ素、窒化炭素、チタン酸ストロンチウム、チタン酸バリウム、錫酸亜鉛等の錫酸塩等が挙げられるが、これらに特限定されない。これらは１種を単独で用いることができ、また２種以上を組み合わせて用いることもできる。マット剤を用いる場合、マット剤の含有量（総量）は、要求性能に応じて適宜設定でき、特に限定されないが、他の必須成分及び任意成分との配合バランスを考慮し、より優れた表面反射率及び表面光沢度を有する低反射スプレーコート層２１を実現する観点から、低反射スプレーコート層２１の総量に対して、合計で０．１～１０質量％が好ましく、より好ましくは合計で０．５～５質量％、さらに好ましくは合計で１～３質量％である。

さらに、低反射スプレーコート層２１は、当業界で公知の各種添加剤を含有していてもよい。その具体例としては、滑剤、導電剤、難燃剤、抗菌剤、防カビ剤、酸化防止剤、可塑剤、樹脂硬化剤、硬化剤、硬化促進剤、レベリング剤、流動調整剤、消泡剤、分散剤等が挙げられるが、これらに特に限定されない。滑剤としては、ポリエチレン、パラフィン、ワックス等の炭化水素系滑剤；ステアリン酸、１２－ヒドロキシステアリン酸等の脂肪酸系滑剤；ステアリン酸アミド、オレイン酸アミド、エルカ酸アミド等のアミド系滑剤；ステアリン酸ブチル、ステアリン酸モノグリセリド等のエステル系滑剤；アルコール系滑剤；金属石鹸、滑石、二硫化モリブデン等の固体潤滑剤；シリコーン樹脂粒子；ポリテトラフッ化エチレンワックス、ポリフッ化ビニリデン等のフッ素樹脂粒子等が挙げられるが、これらに特に限定されない。これらの中でも、特に有機系滑剤が好ましく用いられる。また、バインダー樹脂として紫外線硬化型樹脂や電子線硬化型樹脂を用いる場合には、例えばｎ－ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ－ｎ－ブチルホスフィン等の増感剤や紫外線吸収剤等を用いてもよい。これらは１種を単独で用いることができ、また２種以上を組み合わせて用いることもできる。これらの含有割合は、特に限定されないが、低反射スプレーコート層２１中に含まれる全樹脂成分に対する固形分換算で、一般的にはそれぞれ０．０１～５質量％であることが好ましい。

低反射スプレーコート層２１の厚みは、要求性能及び用途に応じて適宜設定でき、特に限定されないが、高い光学濃度、軽量化及び薄膜化のバランスの観点からは、３μｍ以上が好ましく、より好ましくは５μｍ以上、さらに好ましくは１０μｍ以上、特に好ましくは２０μｍ以上であり、上限側は１００μｍ以下が好ましく、より好ましくは７０μｍ以下、さらに好ましくは５０μｍ以下、特に好ましくは４０μｍ以下である。

なお、本明細書において、スプレーコート法とは、上述したとおり、微小な塗粒が積み重なるようにして膜形成する塗膜形成原理を採用している塗工方法（すなわち、微小な液滴を吹き付ける塗工方法）の総称として用いており、エアスプレー法、エアレススプレー法、超音波スプレー法、静電スプレー法（静電噴霧法）、インクジェット法、静電インクジェット法等を包含する用語である。なお、ここで使用可能な分散媒としては、特に限定されないが、水；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のエーテル系溶剤；メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール等のアルコール系溶剤、並びにこれらの混合溶媒等が挙げられるが、これらに特に限定されない。なお、基材１１と低反射スプレーコート層２１との接着を向上させるため、必要に応じて、基材１１表面にアンカー処理やコロナ処理等の各種公知の表面処理を行ってもよい。また、必要に応じて、基材１１上に接着層等の中間層を予め設けておき、この中間層上に低反射スプレーコート層２１を形成してもよい。このように製膜した後に、必要に応じて電離放射線処理、熱処理、及び／または加圧処理する等して低反射スプレーコート層２１を形成してもよい。

粘着層３１は、上述した基材１１の面１１ｂ側に設けられ、図示しない被着品と粘着接合する層である。このように粘着層３１側を被着品に粘着接合することにより、被着品に低反射率且つ低光沢な表面を付与することができる。粘着層３１を構成する素材は、当業界で公知のものを用いることができ、また、被着品の表面素材（樹脂成形体、この樹脂成形体を用いた多層積層体、不織布、及び表皮材等、金属、合金等）に応じて適宜選択すればよく、その種類は特に限定されない。例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、オレフィン系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤が好ましく用いられる。

粘着層３１の厚みは、要求性能及び用途に応じて適宜設定でき、特に限定されないが、軽量化及び薄膜化のバランスの観点からは、０．１μｍ以上が好ましく、より好ましくは０．２μｍ以上、さらに好ましくは０．５μｍ以上、特に好ましくは１．０μｍ以上、最も好ましくは３．０μｍ以上であり、上限側は４０μｍ以下が好ましく、より好ましくは３０μｍ以下、さらに好ましくは２５μｍ以下、特に好ましくは２０μｍ以下、最も好ましくは１０μｍ以下である。

低反射材１００全体の光学濃度（ＯＤ）は、遮光部材としての高い遮光性を具備する観点からは、１．５以上であることが好ましく、より好ましくは２．０以上、さらに好ましくは２．５以上、特に好ましくは３．０以上、最も好ましくは４．０以上である。なお、光学濃度（ＯＤ）の上限値は、言うまでもないが６．０である。このような低反射材１００は、例えば上述したように光学濃度（ＯＤ）が高い低反射スプレーコート層２１を採用することで、及び／又は、例えば好ましくは１．０以上、より好ましくは２．０以上、さらに好ましくは３．０以上、特に好ましくは４．０以上、最も好ましくは５．０以上の基材１１（遮光性基材）を採用することで、容易に実現することができる。また、光学濃度（ＯＤ）が高い他の遮光層或いは遮光フィルムと低反射材１００とを組み合わせることで、高い遮光性を実現することもできる。

一方、光透過性を具備させる観点からは、低反射材１００全体の光学濃度（ＯＤ）は、５．０未満であることが好ましく、より好ましくは４．０未満、さらに好ましくは３．０未満、特に好ましくは２．０未満、最も好ましくは１．０未満である。なお、光学濃度（ＯＤ）の下限値は、言うまでもないが０である。このような低反射材１００は、上述したように光学濃度（ＯＤ）が低い低反射スプレーコート層２１を採用したり、例えば光透過性が高い基材１１を採用することで、容易に実現することができる。

（変形例）
なお、上記第一実施形態では、基材１１上に低反射スプレーコート層２１を設けた積層構造の低反射材１００を示したが、本発明は、基材１１や粘着層３１を省略した態様でも実施可能である。例えば、上述した基材１１を剥離させて、低反射スプレーコート層２１のみからなる単層構造の低反射材等として実施可能である。また同様に、粘着層３１を設けずに、基材１１上に低反射スプレーコート層２１を設けた２層積層構造の低反射材等として実施可能である。さらに、上記第一実施形態では、基材１１上に低反射スプレーコート層２１を１層のみ設けた態様を示したが、基材１１の一方の主面１１ａ側及び他方の面１１ｂ側に低反射スプレーコート層２１をそれぞれ設けた態様でも実施可能である。

また、上記第一実施形態では、フィルム状の基材１１の表面１１ａに低反射スプレーコート層２１を適用した例を示したが、本発明の低反射スプレーコート層２１を適用する対象物は、上述した基材１１のみに限定されない。例えば、カメラモジュール、レンズ台座マウント、バレル等の各種光学機器の表面（例えば、開口端面、外周面、内周面等）や、遮光板、遮光リング、シャッター、絞り部材等の遮光部材の表面（例えば表面、裏面、外周端面、内周端面等）に、低反射スプレーコート層２１を設けることで、上述したのと同様に、これらの表面が金属或いは合金又は樹脂成形体或いは多色成形体又はガラスなどであることを問わずに、表面反射率及び表面光沢度が小さな表面を付与することができ、また、好ましい態様では、Ｌ^*値が低く、黒々しいデザイン性を付与することができる。

本発明は、低反射率及び低光沢度な表面が要求される用途、例えば精密機械分野、半導体分野、光学機器分野等において、或いは車載用途やシアタールーム用途において、高性能な低反射材として広く且つ有効に利用可能である。とりわけ、高性能一眼レフカメラ、コンパクトカメラ、ビデオカメラ、携帯電話、スマートフォン、ＰＤＡ情報端末、プロジェクタ等の各種光学機器の低反射遮光部材（例えば遮光板や遮光リング等）や低反射遮光性摺動部材（例えばシャッターや絞り部材等）として、殊に有効に利用可能である。

１００ ・・・低反射材
１１ ・・・基材
１１ａ・・・面（主面）
１１ｂ・・・面（主面）
２１ ・・・低反射スプレーコート層
２１ａ・・・表面
３１ ・・・粘着層

Claims (14)

1. バインダー樹脂、前記バインダー樹脂中に分散した着色材、及び前記バインダー樹脂中に分散した樹脂粒子を少なくとも含有する、厚み３～１００μｍの低反射層を少なくとも備え、
   前記低反射層は、一方の表面側の表面粗さＲＳｍが８０～１８０μｍであり、同表面側の表面粗さＲｓｋが０．０以下である
   ことを特徴とする、低反射材。
2. 前記低反射層の前記表面側の表面粗さＲａが０．５～１５．０μｍであり、
   前記低反射層の前記表面側の表面粗さＲｚが３～７０μｍである
   請求項１に記載の低反射材。
3. 前記低反射層の前記表面側の表面粗さＲａが０．８～１０．０μｍであり、
   前記低反射層の前記表面側の表面粗さＲｚが６～６０μｍである
   請求項１又は２に記載の低反射材。
4. 前記バインダー樹脂の含有割合が、前記低反射層に対して合計で１～３０質量％であり、
   前記着色材の含有割合が、前記低反射層の総量に対して合計で０．１～３５質量％であり、
   前記樹脂粒子の含有割合が、前記低反射層の総量に対して合計で５０～９５質量％である
   請求項１～３のいずれか一項に記載の低反射材。
5. 前記樹脂粒子が、着色樹脂微粒子を含有する
   請求項１～４のいずれか一項に記載の低反射材。
6. 前記樹脂粒子が、３～２０μｍの平均粒子径Ｄ₅₀を有する
   請求項１～５のいずれか一項に記載の低反射材。
7. 前記低反射層の前記表面側の８５度鏡面光沢度（ＪＩＳ－Ｚ８７４１：１９９７）が、０．０％以上９．０％未満である
   請求項１～６のいずれか一項に記載の低反射材。
8. 前記低反射層の前記表面側の５５０ｎｍ拡散反射率（正反射を含む）が、０．０％以上３．０％未満である
   請求項１～７のいずれか一項に記載の低反射材。
9. 前記低反射層の前記表面側の９０５ｎｍ拡散反射率（正反射を含む）が、０．０％以上３．０％未満である
   請求項１～８のいずれか一項に記載の低反射材。
10. 前記低反射層の前記表面側のＣＩＥ １９７６ Ｌ^*ａ^*ｂ^*表色系におけるＬ^*値が０～１８である
    請求項１～９のいずれか一項に記載の低反射材。
11. 前記低反射層が、０．５以上の光学濃度ＯＤを有する
    請求項１～１０のいずれか一項に記載の低反射材。
12. 前記低反射層が、光透過性を有する
    請求項１～１１のいずれか一項に記載の低反射材。
13. 基材をさらに備え、
    前記低反射層が前記基材の少なくとも一方の主面側に設けられた
    請求項１～１２のいずれか一項に記載の低反射材。
14. 基材フィルムをさらに備え、
    前記低反射層が前記基材フィルムの一方の主面側及び他方の主面側にそれぞれ設けられた
    請求項１～１２のいずれか一項に記載の低反射材。

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