TW201602642A - 光學機器用遮光材及其製造方法 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種製造光學機器遮光材之方法，該遮光材具有即使極薄地形成遮光膜時，仍可一面保持遮光性等遮光膜之必要物性，一面實現低光澤之遮光膜。本發明之製造具有遮光膜之光學機器用遮光材之方法中，準備至少包含黏合劑樹脂、黑色微粒子及染料之塗佈液。作為染料較好使用包含氧化鉻、氧化鐵、氧化鈷等金屬之染料。接著，將該塗佈液塗佈於基材上並乾燥，而形成遮光膜。

Description

光學機器用遮光材及其製造方法

本發明係關於製造遮光材之方法，與以該方法製造之遮光材，該遮光材具有可適當地使用於各種光學機器之遮光構件，尤其即使形成極薄之遮光膜時，仍可一面保持遮光性等遮光膜之必要物性一面實現低光澤之遮光膜。

作為光學機器之以快門或光圈等為代表之遮光構件中使用之遮光材，已知有於由合成樹脂所成之薄膜基材上設有包含黑色微粉末與有機填料之遮光膜的遮光薄膜(專利文獻1)。

〔先前技術文獻〕 〔專利文獻〕

〔專利文獻1〕日本特開平7-319004

專利文獻1由於在遮光膜之形成中使用僅含 有黑色微粉末作為著色成分之塗佈液，故於要求遮光膜之薄膜化之用途(例如，作為光學機器之一例之照相機中，對於組裝於攝影光學系統之鏡片部分所使用之複數片之各鏡片間之極薄空間之應用)中會有必要物性之一的遮光性不足之情況。藉由增加黑色微粉末之調配量雖可提高遮光性，但由於厚度較薄故使遮光膜表面之凹凸程度(尤其是凹程度)減少，結果，會有遮光膜表面之消光性變差之傾向。

消光性亦即抑制對遮光膜之膜面入射之光的反射之性質變差時，會使對遮光膜之膜面入射之光反射，該反射在光學機器內以稱為鬼影之缺陷呈現，成為導致製品性能下降之原因。據此，使用專利文獻1之技術使遮光膜薄膜化時，無法一面保持遮光膜之遮光性，一面實現低光澤。

本發明之一方面係提供製造光學機器用遮光材之方法與以該方法製造之光學機器用遮光材，該光學機器用遮光材具有即使形成極薄之遮光膜時，仍可一面保持遮光性等遮光膜之必要物性一方面實現低光澤之遮光膜。本發明之另一方面係提供可一面保持低遮光性一面實現低光澤，且可以極薄之膜厚形成遮光膜之遮光膜形成用塗佈液。

本發明人等針對即使形成極薄之遮光膜時， 仍可保持遮光性，且實現低光澤之各種要素重複檢討。結果，發現除作為黑色成分之黑色微粒子(與黑色微粉末同義)以外，藉由調配包含金屬之染料等之染料，即使形成薄的遮光膜時，仍可保持遮光性，且實現低光澤。

亦即本發明之光學機器用遮光材之製造方法係製造具有遮光膜之光學機器用遮光材之方法，其特徵為準備至少包含黏合劑樹脂、黑色微粒子及染料之塗佈液，將該塗佈液塗佈於基材上並乾燥，而形成遮光膜。

遮光膜形成後亦可視需要剝離基材，而以遮光膜單層構成本發明之光學機器用遮光材。

本發明之光學機器用遮光材係具有至少包含黏合劑樹脂及黑色微粒子之遮光膜之光學機器用遮光材，其特徵為前述遮光膜係使用包含前述黏合劑樹脂及黑色微粒子以及染料之塗佈液而形成，且60度鏡面光澤度調整為未達4%。

本發明之光學機器用遮光材並不限於包含基材之積層構造，亦可以遮光膜單層構成。後者之情況下，可使用施以遮光膜形成(製膜)後可剝離之脫模處理者作為基材，且可於製膜後將其剝離。

本發明之遮光膜形成用塗佈液係用以形成具有遮光膜之光學機器用遮光材之前述遮光膜之塗佈液，其特徵係至少包含黏合劑樹脂、黑色微粒子、染料及溶劑。

依據本發明之方法，由於使用包含黑色微粒子以及染料之塗佈液，故可獲得即使形成極薄之遮光膜時，仍可保持遮光性，且實現低光澤之遮光材。

依據以上述發明方法製造之光學機器用遮光材，由於使用包含黑色微粒子以及染料之塗佈液形成遮光膜，故即使形成薄的遮光膜，仍可確保必要充分之遮光性(後述)，且實現低光澤(G60未達4%)。

依據以上述發明之塗佈液，由於包含黑色微粒子以及染料，故容易以極薄之膜厚形成一面保持遮光性一面實現低光澤之遮光膜。如上述，專利文獻1中使用之塗佈液由於僅含黑色微粉末作為著色成分，故在要求遮光膜薄膜化之用途中之遮光性不足。黑色微粉末之調配量增加時遮光性雖提高，但相反地遮光膜表面之消光性變差，無法使用於遮光膜之薄膜用途中。

本發明之一例(本例)之光學機器用遮光材係適用於相機(包含附相機之行動電話)或投影機等之光學機器之遮光零件用途者，係於基材之至少一面上形成遮光膜之積層構造之例。又，本發明之光學機器用遮光材並不限於本例之積層構造，在其可能單獨處理之情況下亦可以遮光膜單層構成本例之光學機器用遮光材。本例之遮光膜為至少包含黏合劑樹脂、黑色微粒子及染料之構成。

遮光膜之厚度(與後述之膜厚Tt同義)可依 據使用遮光材之用途適當變更，但通常較好為2μm~15μm，更好為2μm~12μm，又更好為2μm~10μm左右。近年來，尤其有要求遮光膜薄膜化(例如6μm左右以下)之傾向，且為對應於此者。本例係如後述，由於使用以較佳之特定比例包含黑色微粒子與染料之塗佈液，故即使形成極薄(例如6μm左右以下，較好2~6μm左右)之遮光膜厚度，仍容易獲得低光澤，同時容易防止遮光膜上生成孔洞等，容易獲得必要充分之遮光性(例如光學透過濃度超過4.0，較好為5.0以上，更好為5.5以上)。藉由成為15μm以下，而易於防止遮光膜破裂。

本例之遮光膜係使用包含黑色微粒子與染料之塗佈液形成，結果，薄膜化成厚度為例如6μm左右以下時，除了仍能維持必要充分之遮光性(前述)以外，60度鏡面光澤度(G60)亦未達15%，較好未達10%，更好未達4%，而保持低的光澤度。又，本例之遮光膜除G60以外，針對85度鏡面光澤度(G85)或20度鏡面光澤度(G20)，在相同之薄膜化狀態下，均容易獲得低的值。具體而言，藉由將G60維持在如上述般低的值，易於使G85保持在未達30%，較好未達25%，更好未達20%，且易使G20保持在未達1%，較好未達0.5%，更好未達0.1%。

鏡面光澤度係表示入射於遮光膜表面之光的反射程度之參數，該值愈小則光澤度愈低，判斷為愈為低光澤度則愈有消光效果者。所謂60度鏡面光澤度係將遮 光膜表面之垂直方向設為0度，以自其傾斜60度之角度入射之100之光是否僅反射至相反側傾斜60度之受光部(入射於受光部)之參數。85度鏡面光澤度、20度鏡面光澤度亦同樣認為。

本例中，由於使用以特定比例包含黑色微粒子與染料之塗佈液形成遮光膜，故除了維持作為遮光材整體之充分遮光性以外亦可實現低光澤，能賦予遮光膜表面充分之消光效果。

接著，說明具備上述構成之光學機器用遮光材之製造方法之一例。

(1)首先，準備遮光膜形成用塗佈液。本例中使用之遮光膜形成用塗佈液至少含有黏合劑樹脂、黑色微粒子、染料及溶劑。

作為黏合劑樹脂舉例有例如聚(甲基)丙烯酸系樹脂、聚酯樹脂、聚乙酸乙烯酯樹脂、聚氯乙烯、聚乙烯縮丁醛樹脂、纖維素系樹脂、聚苯乙烯/聚丁二烯樹脂、聚胺基甲酸酯樹脂、醇酸樹脂、丙烯酸樹脂、不飽和聚酯樹脂、環氧酯樹脂、環氧樹脂、丙烯酸多元醇樹脂、聚酯多元醇樹脂、聚異氰酸酯、環氧丙烯酸系樹脂、胺基甲酸酯丙烯酸酯系樹脂、聚酯丙烯酸酯系樹脂、聚醚丙烯酸酯系樹脂、酚系樹脂、三聚氰胺系樹脂、脲系樹脂、苯二甲酸二烯丙酯系樹脂等之熱可塑性樹脂或熱硬化性樹脂，可使用該等之1種或2種以上之混合物。用於耐熱性用途中時，以熱硬化性樹脂較適用。

黏合劑樹脂之含有率在塗佈液所含之不揮發分(固體成分)中，較好為20重量%以上，更好為30重量%以上，又更好為40重量%以上。藉由設為20重量%以上，容易防止遮光膜對基材之接著力降低。另一方面，黏合劑樹脂之含有率在塗佈液之不揮發分中，較好為70重量%以下，更好為65重量%以下，又更好為60重量%以下。藉由設為70重量%以下，而容易防止遮光膜之必要物性(遮光性等)之下降。

黑色微粒子係為了使黏合劑樹脂著色成黑色，對乾燥後之塗膜(遮光膜)賦予遮光性而調配。黑色微粒子舉例為例如碳黑、鈦黑、苯胺黑、氧化鐵等。其中碳黑由於可對塗膜同時賦予遮光性與抗靜電性兩特性，故最適用。除遮光性以外亦要求抗靜電性係考慮製造遮光材後，使其脫模成特定形狀時，或以脫模後之製品(遮光構件)作為零件固定在光學機器內時之作業性者。

又，未使用碳黑作為黑色微粒子時，除黑色微粒子以外，亦可另外調配導電劑或抗靜電劑。

為了對塗膜賦予充分之遮光性，黑色微粒子之平均粒徑愈細愈好。本例中係使用平均粒徑為例如未達1μm，較好500nm以下者。

黑色微粒子之含有率在塗佈液所含之不揮發分(固體成分)中，較好為5重量%以上，更好為10重量%以上，且較好為20重量%以下。藉由設為5重量%以上，易於防止作為遮光膜必要物性之遮光性下降。藉由設 為20重量%以下，而易於提高遮光膜之接著性或耐刮傷性，且易於防止塗膜強度之下降及成本變高。

與黑色微粒子一起含於塗佈液中之染料之調配目的係即使減少塗佈液之塗佈量，結果乾燥後之塗膜之遮光膜之厚度極薄，仍能維持遮光膜之遮光性以外，亦能實現遮光膜表面之低光澤。結果，與後述之消光劑之調配相輔，對遮光膜表面賦予充分之消光效果。

本發明中可使用之染料若能實現上述調配目的，則其種類(尤其是顏色)並無限制，列舉為例如黑色染料、其他染料(僅藍色、藍色與紅色或藍色與黃色等之混合系)。其中，可最有效實現上述調配目的者列舉為如氧化鉻、氧化鐵、氧化鈷等之含金屬之黑色染料等。藉由與黑色微粒子一起使用上述染料，而達成厚度極薄之遮光膜之遮光性維持與該遮光膜表面之低光澤之實現。

含金屬之黑色染料之具體例有例如下述表中所示者。

藍色染料有例如由溶劑藍44所成之Blue44 C-531(中央合成化學公司製)等。紅色染料有例如由溶劑紅218所成之Red C-431(中央合成化學公司製)等。黃色染料有例如由溶劑黃21所成之Yellow C-131(中央合成化學公司製)等。

本例中使用之染料可單獨使用或為混合物。

染料之含量相對於黏合劑樹脂100重量份，較好為1重量份以上，更好為5重量份以上，較好為30重量份以下，更好為15重量份以下。藉由設為1重量份以上，而易於獲得遮光膜表面之光澤度降低效果。藉由設為30重量份以下，易防止密著性下降，且一面防止作為遮光膜之必要物性之遮光性下降，一面亦於防止因含有大量染料而使遮光膜表面之光澤度上升。

溶劑可使用水或有機溶劑、水與有機溶劑之混合物等。

本例之遮光膜形成用塗佈液除上述成分外，亦可調配消光劑。藉由調配消光劑，而於乾燥後之塗膜表面形成微細凹凸。藉此使塗膜表面之入射光的反射變得更少，結果，期待更降低塗膜之光澤度(鏡面光澤度)，最終提高塗膜之消光性。

一般之消艷劑存在有有機系或無機系。有機系微粒子列舉為例如交聯丙烯酸珠粒(不管透明、著色如何)等。無機微粒子列舉為例如二氧化矽、偏矽酸鋁酸鎂、氧化鈦等。本例中雖亦可使用無機微粒子，但有機微 粒子者由於可一面維持塗膜強度，一面易於對遮光膜表面賦予消光之性能，故本例中較好使用有機微粒子。

又，本例中「使用有機微粒子」除了包含僅使用有機微粒子之情況外，亦包含與有機微粒子一起併用無機微粒子之情況。併用無機微粒子時，全部消光劑中有機微粒子之含量可設為例如90重量%以上，較好為95重量%以上。

本例中，可使用某特定粒徑(以一例敘述於後)中，其CV值(粒度分布之變動係數)為特定值以上者(廣分布範圍者)。具體而言，例如可使用某特定粒徑之CV值為20以上，較好為25以上，更好為30以上之消光劑(較好為有機微粒子)。藉由與黑色微粒子及特定染料一起使用該消光劑，而易於調整遮光膜表面之消光效果。

又，所謂CV(coefficient of variation，變動係數)值意指用於塗佈液之製作時之粒度分佈之變動係數(亦稱為相對標準偏差)。該值為表示粒徑分佈之擴大(粒徑偏差)相對於平均值(算術平均粒徑)為何種程度者。通常，以CV值(無單位)=(標準偏差/平均值)求出。CV值為其值愈小粒度分佈愈窄(陡峭)，其值愈大粒度分佈愈廣(寬廣)。

本例中，可針對形成之遮光膜之膜厚Tt決定成為上述CV值之基準所用之消光劑之粒徑。係鑑於根據光學機器中之使用部位，遮光材之製品樣態(尤其是遮光 材整體之厚度、遮光膜之厚度)亦不同。具體而言，相對於形成之遮光膜膜厚Tt，可使用具有相當於其Tt之35%以上，較好40%以上，更好45%以上，且其Tt之110%以下，較好105%以下，更好100%以下程度之平均粒徑之消光劑。

例如，形成相當於膜厚Tt之乾燥後之厚度為10μm以下之遮光膜時，可使用平均粒徑為3.5μm左右~11μm左右之消光劑。遮光膜之乾燥後厚度為6μm時，可使用平均粒徑為2.1μm左右~6.6μm左右之消光劑。遮光膜之乾燥後厚度為2μm時，可使用平均粒徑為0.7μm左右~2.2μm左右之消光劑。

又，本例中，不管上述之CV值如何，均可使用某特定平均粒徑者與其他平均粒徑者之混合物作為消光劑。該情況下，一消光劑之平均粒徑相對於形成之遮光膜之膜厚Tt，只要屬於上述範圍(Tt之35%~110%)即可，更好可組合使用兩者之消光劑之平均粒徑均屬於上述範圍者。

所謂膜厚Tt意指以MILLITRON 1202-D(MARL公司製)膜厚計，改變遮光膜之部位而測定10點之算術平均值。所謂平均粒徑係指以雷射繞射式粒度分佈測定裝置(例如，島津製作所公司：SALD：7000等)測定之中值徑(D50)。

消光劑之含量相對於黏合劑樹脂100重量份，較好為0.2重量份以上，更好為0.5重量份以上，又 更好為1重量份以上，較好為10重量份以下，更好為8重量份以下，又更好為5重量份以下。藉由以該範圍將消光劑調配於塗佈液中，有助於防止因最終獲得之遮光材之滑動使消光劑自遮光膜脫落，或有助於遮光材之滑動性降低等諸多性能之降低。

又，未調配上述消光劑時，仍可藉由改變黑色微粒子之種類、平均粒徑、調配量等，且調配潤滑劑(後述)，而展現藉由調配上述消光劑期待展現之作用(如前述，鏡面光澤度之降低、塗膜之消光性提高)。因此，本例之遮光膜形成用塗佈液中並不需要一定要調配消光劑。

本例中，塗佈液中之黑色微粒子、染料及消光劑之合計量(不含消光劑時為黑色微粒子與染料之合計量)相對於黏合劑樹脂100重量份，較好為50重量份以上，更好為60重量份以上，又更好為70重量份以上，較好為170重量份以下，更好為140重量份以下，又更好為110重量份以下。將黑色微粒子、染料及消光劑(不含消光劑時為黑色微粒子及染料)以該範圍調配於塗佈液中，保有良好的塗膜刮傷性，並且易於獲得充分之遮光性。

本例所製造之遮光材之加工品使用於組裝至各鏡片間之極薄隔離片用途中時等、使用於對遮光膜部要求高的滑動性之用途時，不需要如以往於於塗佈液中調配欲調配於遮光膜中之滑劑(蠟)。但，使用於該用途中時亦可調配滑劑。

添加粒子狀者作為滑劑時，可使用有機系、無機系任一種者。舉例為例如聚乙烯蠟、鏈烷蠟等烴系滑劑，硬脂酸、12-羥基硬脂酸等之脂肪酸系滑劑，油酸醯胺、芥酸醯胺等之醯胺系滑劑，硬脂酸單甘油酯等之酯系滑劑，醇系滑劑，金屬皂、滑石、二硫化鉬等固體潤滑劑，聚矽氧樹脂粒子，聚四氟化乙烯蠟等之氟系樹脂粒子，交聯聚甲基丙烯酸酯粒子，交聯聚苯乙烯粒子等。調配粒子狀滑劑時，最好使用有機系滑劑。且，添加常溫為液狀者作為滑劑時，亦可使用氟系化合物或聚矽氧油等。

又，遮光膜形成用塗佈液只要在不損及本發明功能之範圍，則亦可視需要調配難燃劑、抗菌劑、防黴劑、抗氧化劑、可塑劑、平流劑、流動調整劑、消泡劑、分散劑等添加劑。

(2)接著，以例如成為膜厚Tt之量將所準備之遮光膜形成用塗佈液塗佈於基材上，乾燥後，視需要進行加熱．加壓等。

至於基材列舉為聚酯薄膜、聚醯亞胺薄膜、聚苯乙烯薄膜、聚碳酸酯薄膜等合成樹脂薄膜。其中以聚酯薄膜較適用，尤其經二軸延伸加工之聚酯薄膜在機械強度、尺寸安定性優異之方面尤其佳。此外，對耐熱用途之應用以聚醯亞胺薄膜較適用。

作為基材，當然為透明者，且除發泡聚酯薄膜或含有碳黑等黑色顏料或其他顏料之合成樹脂薄膜外，亦可使用基材本身具有遮光性或強度之薄膜金屬板。於此 情況，基材可依據其各自之用途選擇適當者。例如作為遮光材使用時，在高遮光性為必要之情況下，可使用含有與上述黑色微粒子同種之黑色微粒子之合成樹脂薄膜或薄膜之金屬板，另一情況下，可使用透明或發泡之合成樹脂薄膜。以後述方法形成之遮光膜由於其本身獲得作為遮光材充分之遮光性，故合成樹脂薄膜中含有黑色微粒子時，較好以合成樹脂薄膜以目視看見黑色之程度，亦即光學透過濃度為2左右之方式含有。

基材之厚度隨使用之用途而異，但基於作為輕量遮光材之強度或剛性等之觀點，一般為6μm~250μm左右。基材基於提高與遮光膜之接著性之觀點，亦可視需要進行錨定處理、電暈處理、電漿處理或EB處理。

塗佈液之塗佈方法並無特別限制，可藉過去以來習知之方法(例如浸漬塗佈、輥塗、棒塗、模嘴塗佈、刮塗、氣刀塗佈等)進行。

本例中使用之塗佈液其比重約為0.9~1.2左右，其固體成分(NV)通常調製成5%~40%左右，較好為10%~30%左右。塗佈液通常以6g/m²~100g/m²，較好以8g/m²~80g/m²，更好以10g/m²~60g/m²左右之附著量塗佈於基材上。

經過以上步驟，獲得以膜厚Tt於基材上形成遮光膜之遮光材。又，如上述，本發明之光學機器用遮光材並不限於包含基材之積層構造，亦可以遮光膜單層構成。以遮光膜單層構成光學機器用遮光材時，使用預先施 以在遮光膜形成(製膜)後可剝離之處理(脫模處理)者作為上述基材，藉由製膜後將其剝離，獲得以遮光膜單層構成之光學機器用遮光材。

依據本例，使用與黑色微粒子一起包含染料(較好包含金屬之黑色染料)之塗佈液，於基材上形成遮光膜製造遮光材。因此，即使形成極薄之遮光膜(例如6μm以下)時，仍可獲得保持遮光性，且實現低光澤之遮光材。

依據以本例之方法製造之光學機器用遮光材由於使用與黑色微粒子一起包含染料之塗佈液形成遮光膜，故即使形成極薄之遮光膜(例如6μm以下)，仍可保持遮光性，且可實現低光澤(G60未達4%)。

要求遮光膜薄膜化之用途列舉為以下者。例如，光學機器之一例之照相機中，攝影光學系之鏡片部分使用複數片之鏡片，於各鏡片間組裝極薄之隔離片，於該隔離片或前述攝影光學系之內壁等使用以本發明之方法獲得之遮光材時特別有效。當然可適用於過去以來所使用之快門或光圈等之零件。

本例中，由於使用與黑色微粒子一起包含染料之塗佈液，故可極薄之膜厚(例如6μm以下)形成一面保持遮光性一面實現低遮光性之遮光膜。

〔實施例〕

以下以實施例進一步說明本發明。又， 「份」、「%」只要無特別表示則為重量基準。

1.遮光材樣品之製作 〔實驗例1-1~8-3〕

使用厚度25μm之黑色PET薄膜(LUMIRROR X30：TORAY公司)作為基材，於其兩面上各以棒塗法塗佈下述配方之塗佈液a~h。各塗佈液之丙烯酸多元醇等之含量(份，固體成分換算)示於表2。各塗佈液之固體成分均調製成13.5%。

隨後，進行乾燥形成遮光膜A1~H3，製作各試驗例之遮光材樣品。各塗佈液之附著量示於後述之表3。

〈遮光膜形成用塗佈液a~h之配方〉

又，表2中，染料X1係由溶劑黑27所成，為吸收波長區域380~750nm之光線的黑色染料(商品名：Black C-832，中央合成化學公司製)，染料X2係由溶劑藍44所成，為吸收波長區域450~495nm之光線的藍色染料(商品名：Blue44 C-531，中央合成化學公司製)，染料X3係由溶劑紅218所成，為吸收波長區域620~750nm之光線的紅色染料(商品名：Red C-431，中央合成化學公司製)，染料X4係由溶劑黃21所成，為吸收波長區域570~590nm之光線的黃色染料(商品名：Yellow C-131，中央合成化學公司製)。

2.評價

針對各實驗例獲得之遮光材樣品，以下述方法進行物性評價。結果示於表3。又，表3亦記載表1之塗佈液之 塗佈量、形成之遮光膜之膜厚等。

惟，針對下述(1)遮光性之評價係使用以附著量14g/m²之方式將上述各實驗例之配方之各塗佈液塗佈於厚度25μm之透明聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(LUMIRROR T60：TORAY公司)之單面上並乾燥而形成之樣品進行。

(1)遮光性之評價

依據JIS-K7651：1988使用光學濃度計(TD-904：GretagMacbeth公司)測定各實驗例之樣品之光學透過濃度，且藉以下基準評價遮光性。又，光學濃度之測定係使用UV濾波器。

○：光學透過濃度超過4.0(優異)

×：光學透過濃度為4.0以下(不良)

(2)導電性之評價

依據JIS-K6911：1995測定各實驗例中獲得之遮光材樣品之表面電阻率(Ω)，且藉以下基準評價導電性。

○：表面電阻率為1.0×10⁶Ω以下(優異)

△：表面電阻率超過1.0×10⁶Ω且為1.0×10¹⁰Ω以下(良好)

×：表面電阻率超過1.0×10¹⁰Ω(不良)

(3)消光性之評價

針對各實驗例中獲得之遮光材樣品，依據JIS-Z8741 ：1997使用光澤計(商品名：VG-2000，日本電色工業公司)測定其遮光膜表面之60度鏡面光澤度(G60)(單位為%)，且藉以下基準評價。除G60外，針對20度及85度之各鏡面光澤度(G20、G85)亦同樣測定(單位為%)，且藉以下基準進行評價。

又，G20、G60及G85各數值愈小光澤度愈低，認為光澤度愈低消光性愈優異。

〔G60〕

◎◎：光澤度未達4%(非常優異)

◎：光澤度為4%以上且未達10%(優異)

○：光澤度為10%以上且未達15%(良好)

×：光澤度為15%以上(不良)

〔G20〕

◎◎：光澤度未達0.1%(非常優異)

◎：光澤度為0.1%以上且未達0.5%(優異)

○：光澤度為0.5%以上且未達1%(良好)

×：光澤度為1%以上(不良)

〔G85〕

◎◎：光澤度未達20%(非常優異)

◎：光澤度為20%以上且未達25%(優異)

○：光澤度為25%以上且未達30%(良好)

×：光澤度為30%以上(不良)

3.探討

如表2及表3所示，使用與碳黑一起調配染料之塗佈液(塗佈液h除外)時(實施例8-1~8-3以外)，確認所得遮光膜之有用性(實驗例1-1~7)。其中，使用染料之調配量相對於樹脂分100份為本發明之較佳範圍(1~30份)之塗佈液之實驗例2、3-1~3-4、5~7獲得之遮光膜之消光性比其他實驗例(1-1~1~3、4)之遮光膜優異。尤其，染料之調配量相對於樹脂分100份為本發明之更佳範圍(5~15份)時(實驗例3-1、3-2、6、7)，所得遮光膜之消光性比其他實驗例(2、3-3、3-4、5)更為優異。

相對於此，染料之調配為零時(實驗例8-1~8-3)，所得遮光膜相較於實驗例1-1~7之保護膜，可確認無法兼具遮光性與消光性兩性能。

Claims (8)

1. 一種光學機器用遮光材之製造方法，其係製造具有遮光膜之光學機器用遮光材之方法，其特徵為準備至少包含黏合劑樹脂、黑色微粒子及染料之塗佈液，將該塗佈液塗佈於基材上並乾燥，而形成遮光膜。
2. 如請求項1之光學機器用遮光材之製造方法，其中前述染料係使用包含金屬之染料。
3. 如請求項2之光學機器用遮光材之製造方法，其中前述染料係使用包含氧化鉻、氧化鐵及氧化鈷之至少任一種者。
4. 如請求項1~3中任一項之光學機器用遮光材之製造方法，其中在前述塗佈液中，前述染料係以相對於黏合劑樹脂100重量份為1重量份以上30重量份以下之範圍含有。
5. 如請求項1~4中任一項之光學機器用遮光材之製造方法，其係以6μm以下之厚度形成遮光膜。
6. 如請求項1~5中任一項之光學機器用遮光材之製造方法，其係使用進而包含相對於黏合劑樹脂100重量份為0.2重量份以上10重量份以下之消光劑之塗佈液。
7. 一種光學機器用遮光材，其係具有至少包含黏合劑樹脂及黑色微粒子之遮光膜之光學機器用遮光材，其特徵為前述遮光膜係使用包含前述黏合劑樹脂及黑色微粒子以及染料之塗佈液而形成，且60度鏡面光澤度調整為未 達4%。
8. 一種遮光膜形成用塗佈液，其係用以形成具有遮光膜之光學機器用遮光材之前述遮光膜之塗佈液，其特徵係至少包含黏合劑樹脂、黑色微粒子、染料及溶劑。