CN106471395A - 光学设备用遮光材料及其制造方法 - Google Patents

光学设备用遮光材料及其制造方法 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种制造光学设备用遮光材料的方法，该遮光材料具有即使在极薄地形成遮光膜时仍可一边保持遮光性等遮光膜的必要物性一边实现低光泽的遮光膜。在制造具有遮光膜的光学设备用遮光材料的方法中，准备至少包含粘合剂树脂、黑色微粒及染料的涂布液。作为染料，优选使用包含氧化铬、氧化铁、氧化钴等金属的染料。接着，将该涂布液涂布于基材上并使其干燥，从而形成遮光膜。

Description

光学设备用遮光材料及其制造方法
技术领域
本发明涉及制造遮光材料的方法和通过该方法制造的遮光材料，所述遮光材料能够适合用于各种光学设备的遮光构件，尤其是具有即使在极薄地形成遮光膜时仍可一边保持遮光性等遮光膜的必要物性一边实现低光泽的遮光膜。
背景技术
作为光学设备的以快门或光圈等为代表的遮光构件中使用的遮光材料，已知有在由合成树脂形成的薄膜基材上设有包含黑色微粉与有机填料的遮光膜的遮光薄膜(专利文献1)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开平7-319004
发明内容
发明所要解决的课题
专利文献1中，由于在遮光膜的形成中使用了仅含有黑色微粉作为着色成分的涂布液，所以在要求遮光膜的薄膜化的用途(例如，在作为光学设备的一例的照相机中，向组装于摄影光学系统的透镜部分所使用的多片各透镜之间的极薄空间中的应用)中存在作为必要物性之一的遮光性不足的情况。通过增加黑色微粉的配合量虽可提高遮光性，但由于厚度较薄，所以会使遮光膜表面的凹凸程度(尤其是凹程度)减少，其结果，存在遮光膜表面的消光性变差的倾向。
消光性、即、抑制对遮光膜的膜面入射的光的反射的性质变差时，会使对遮光膜的膜面入射的光反射，该反射在光学设备内以被称为鬼影的缺陷而呈现，成为导致制品性能下降的原因。据此，使用专利文献1的技术使遮光膜薄膜化时，无法一边保持遮光膜的遮光性，一边实现低光泽。
本发明的一方面在于提供制造光学设备用遮光材料的方法和通过该方法制造的光学设备用遮光材料，该光学设备用遮光材料具有即使在极薄地形成遮光膜时仍可一边保持遮光性等遮光膜的必要物性一边实现低光泽的遮光膜。本发明的另一方面在于提供能够以极薄的膜厚形成一边保持遮光性一边实现了低光泽的遮光膜的遮光膜形成用涂布液。
用于解决课题的手段
本发明人等为了即使在极薄地形成遮光膜时仍可保持遮光性且实现低光泽，对各种要素反复进行了研究。结果发现：除作为着色成分的黑色微粒(与黑色微粉同义)以外，还配合包含金属的染料等染料，由此，即使薄薄地形成遮光膜，也可保持遮光性且可实现低光泽。
即，本发明所述的光学设备用遮光材料的制造方法是制造具有遮光膜的光学设备用遮光材料的方法，其特征在于，准备至少包含粘合剂树脂、黑色微粒及染料的涂布液，将该涂布液涂布于基材上并使其干燥，从而形成遮光膜。
形成遮光膜后可以视需要剥离基材，以遮光膜单层来构成本发明的光学设备用遮光材料。
本发明的光学设备用遮光材料是具有至少包含粘合剂树脂及黑色微粒的遮光膜的光学设备用遮光材料，其特征在于，前述遮光膜使用包含前述粘合剂树脂及黑色微粒以及染料的涂布液而形成，且60度镜面光泽度被调整为低于4％。
本发明的光学设备用遮光材料并不限于包含基材的层叠结构，有时还可以以遮光膜单层构成。在为后者的情况下，可如下地获得，即，作为基材，使用施以了在形成遮光膜(制膜)后能够剥离的脱模处理后而得的基材，且在制膜后将其剥离。
本发明的遮光膜形成用涂布液是用于形成具有遮光膜的光学设备用遮光材料的前述遮光膜的涂布液，其特征在于，至少包含粘合剂树脂、黑色微粒、染料及溶剂。
发明效果
依据上述发明方法，由于使用包含黑色微粒以及染料的涂布液，故可获得即使在极薄地形成遮光膜的情况下，仍可保持遮光性且实现低光泽的遮光材料。
利用以上述发明方法所制造的光学设备用遮光材料，由于使用包含黑色微粒以及染料的涂布液而形成了遮光膜，故即使薄薄地形成该遮光膜，仍可确保必要充分的遮光性(后述)且实现低光泽(G60低于4％)。
利用基于上述发明的涂布液，由于包含黑色微粒以及染料，故容易以极薄的膜厚形成一边保持遮光性一边实现低光泽的遮光膜。如上所述，专利文献1中使用的涂布液由于仅含黑色微粉作为着色成分，所以在要求遮光膜的薄膜化的用途中遮光性不足。黑色微粉的配合量增加时，遮光性虽然提高，但相反地遮光膜表面的消光性变差，无法用于遮光膜的薄膜用途中。
具体实施方式
本发明的一例(本例)的光学设备用遮光材料是能够适用于相机(包括带相机的移动电话)或投影机等光学设备的遮光构件用途中的遮光材料，是在基材的至少一面上形成了遮光膜的层叠结构的例子。需要说明的是，本发明的光学设备用遮光材料并不限于本例的层叠结构，在其能够单独地进行操作的情况下也可以以遮光膜单层来构成本例的光学设备用遮光材料。本例的遮光膜至少包含粘合剂树脂、黑色微粒及染料地被构成。
遮光膜的厚度(与后述的膜厚Tt同义)可依据应用遮光材料的用途适当地改变，但通常优选为2μm～15μm，更优选为2μm～12μm，进一步优选为2μm～10μm左右。近年来，尤其是存在要求遮光膜的薄膜化(例如6μm左右以下)的倾向，为应对此倾向的遮光膜。本例中，如后所述，由于使用优选以规定比例包含黑色微粒与染料的涂布液，故即使极薄地形成遮光膜的厚度(例如以6μm左右以下，优选以2～6μm左右)，仍易于获得低光泽，并且易于防止在遮光膜中产生孔等，易于获得必要充分的遮光性(例如光学透过浓度超过4.0，优选为5.0以上，更优选为5.5以上)。通过成为15μm以下，从而易于防止遮光膜的破裂。
本例的遮光膜是使用包含黑色微粒与染料的涂布液而形成的，其结果，在薄膜化成厚度为例如6μm左右以下时，不仅仍维持了必要充分的遮光性(前述)，而且60度镜面光泽度(G60)也低于15％，优选低于10％，更优选低于4％，而保持着低光泽度。需要说明的是，就本例的遮光膜而言，除G60以外，对于85度镜面光泽度(G85)、20度镜面光泽度(G20)来说，在同样地薄膜化了状态下，也容易获得低的值。具体而言，不仅将G60维持在如上所述的低值，而且易于使G85保持为低于30％，优选低于25％，更优选低于20％，且易于使G20保持为低于1％，优选低于0.5％，更优选低于0.1％。
镜面光泽度是表示入射于遮光膜表面的光的反射程度的参数，该值越小则光泽度越低，可判断为：越为低光泽度，则越有消光效果。所谓60度镜面光泽度是将遮光膜表面的垂直方向设为0度，以自此倾斜60度的角度入射的100的光有多少反射至在反射侧倾斜60度的受光部(入射于受光部)的参数。85度镜面光泽度、20度镜面光泽度也基于同样的考虑。
本例中，由于使用以规定比例包含黑色微粒与染料的涂布液形成遮光膜，故不仅维持了作为遮光材料整体的充分的遮光性，而且还可实现低光泽，且能够对遮光膜表面赋予充分的消光效果。
接着，说明具备上述构成的光学设备用遮光材料的制造方法的一例。
(1)首先，准备遮光膜形成用涂布液。本例中使用的遮光膜形成用涂布液至少含有粘合剂树脂、黑色微粒、染料及溶剂。
作为粘合剂树脂，可列举出例如聚(甲基)丙烯酸类树脂、聚酯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、聚氯乙烯、聚乙烯醇缩丁醛树脂、纤维素系树脂、聚苯乙烯/聚丁二烯树脂、聚氨酯树脂、醇酸树脂、丙烯酸类树脂、不饱和聚酯树脂、环氧酯树脂、环氧树脂、丙烯酸类多元醇树脂、聚酯多元醇树脂、多异氰酸酯、环氧丙烯酸酯类树脂、氨基甲酸酯丙烯酸酯类树脂、聚酯丙烯酸酯类树脂、聚醚丙烯酸酯类树脂、酚类树脂、三聚氰胺类树脂、尿素类树脂、邻苯二甲酸二烯丙酯类树脂等热塑性树脂或热固化性树脂，可使用它们中的1种或2种以上的混合物。用于耐热用途时，可适于使用热固化性树脂。
粘合剂树脂的含有率在涂布液所含的不挥发成分(固体成分)中，优选为20重量％以上，更优选为30重量％以上，进一步优选为40重量％以上。通过设为20重量％以上，从而易于防止遮光膜对基材的粘接力降低。另一方面，粘合剂树脂的含有率在涂布液的不挥发成分中，优选为70重量％以下，更优选为65重量％以下，进一步优选为60重量％以下。通过设为70重量％以下，从而容易防止遮光膜的必要物性(遮光性等)的下降。
黑色微粒是为了使粘合剂树脂着色成黑色，在干燥后对涂膜(遮光膜)赋予遮光性而配合的。作为黑色微粒，可列举出例如碳黑、钛黑、苯胺黑、氧化铁等。其中，碳黑由于可对涂膜同时赋予遮光性与抗静电性两特性，故最优选使用。除遮光性以外还要求抗静电性是考虑到了在制造遮光材料后使其脱模成规定形状时、或将脱模后的制品(遮光构件)作为构件而设置在光学设备内时的作业性。
需要说明的是，未使用碳黑作为黑色微粒时，除黑色微粒以外，还可另外配合导电剂、抗静电剂。
为了对涂膜赋予充分的遮光性，黑色微粒的平均粒径愈细愈好。本例中使用平均粒径例如低于1μm，优选500nm以下的黑色微粒。
黑色微粒的含有率在涂布液所含的不挥发成分(固体成分)中，优选为5重量％以上，更优选为10重量％以上，且优选设为20重量％以下。通过设为5重量％以上，易于防止作为遮光膜的必要物性的遮光性的下降。通过设为20重量％以下，从而易于提高遮光膜的粘接性、耐刮伤性，且易于防止涂膜强度的下降及成本变高。
与黑色微粒一起包含在涂布液中的染料的配合目的在于，即使减少涂布液的涂布量，其结果，干燥后作为涂膜的遮光膜的厚度变得极薄，仍维持遮光膜的遮光性，而且能实现遮光膜表面的低光泽。其结果，与后述的消光剂的配合相辅，从而对遮光膜表面赋予充分的消光效果。
本发明中可使用的染料若能实现上述配合目的，则其种类(尤其是颜色)并无限制，可列举出例如黑色染料、其他染料(仅蓝色、蓝色与红色或蓝色与黄色等的混合系)。其中，作为能够最有效地实现上述配合目的染料，可列举出氧化铬、氧化铁、氧化钴等之类的包含金属的黑色染料等。通过与黑色微粒一起使用上述染料，从而可达成厚度极薄的遮光膜的、遮光性维持与该遮光膜的表面的低光泽的实现。
作为包含金属的黑色染料的具体例，有例如下述表中所示的例子。
[表1]
作为蓝色染料，有例如由溶剂蓝44所形成的Blue44C-531(中央合成化学公司制)等。作为红色染料，有例如由溶剂红218所形成的Red C-431(中央合成化学公司制)等。作为黄色染料，有例如由溶剂黄21所形成的Yellow C-131(中央合成化学公司制)等。
本例中使用的染料可单独使用或为混合物。
染料的含量相对于粘合剂树脂100重量份，优选为1重量份以上，更优选为5重量份以上，且优选设为30重量份以下，更优选设为15重量份以下。通过设为1重量份以上，从而易于获得遮光膜表面的光泽度的降低效果。通过设为30重量份以下，从而变得易于防止密合性下降，并且，易于一边防止作为遮光膜的必要物性的遮光性的下降，一边防止因含有大量染料而使遮光膜表面的光泽度上升。
作为溶剂，可使用水、有机溶剂、水与有机溶剂的混合物等。
本例的遮光膜形成用涂布液中，除上述成分以外，还可配合消光剂。通过配合消光剂，从而在干燥后在涂膜的表面能够形成微细凹凸。由此，使涂膜表面的入射光的反射变得更少，其结果，可期待进一步降低涂膜的光泽度(镜面光泽度)，最终提高涂膜的消光性。
一般来说，消光剂存在有机系或无机系。作为有机微粒，可列举出例如交联丙烯酸类珠粒(不管透明、着色如何)等。作为无机微粒，可列举出例如二氧化硅、偏硅酸铝酸镁(メタケイ酸アルミン酸マグネシウム)、氧化钛等。本例中，虽然可以使用无机微粒，但是有机微粒一方一边维持涂膜强度，一边易于对遮光膜表面赋予消光性能，因此，本例中优选使用有机微粒。
需要说明的是，本例中“使用有机微粒”除了包括仅使用有机微粒的情况以外，还包括与有机微粒一起并用无机微粒的情况。并用无机微粒时，全部消光剂中有机微粒的含量可设为例如90重量％以上，优选设为95重量％以上。
本例中，可使用某一粒径(作为一例，后述)中其CV值(粒度分布的变异系数)为特定值以上的微粒(分布广的消光剂)。具体而言，例如可使用某一粒径的CV值为20以上、优选25以上、更优选30以上的消光剂(优选有机微粒)。通过与黑色微粒及特定染料一起使用该消光剂，从而易于调整遮光膜表面的消光效果。
另外，所谓CV(coefficient of variation，变异系数)值是指，用于涂布液的制作时的粒度分布的变异系数(亦称为相对标准偏差)。该值为表示粒径分布的扩大(粒径的偏差)相对于平均值(算术平均径)为何种程度的值。通常，以CV值(无单位)＝(标准偏差/平均值)来求出。对于CV值来说，其值愈小，则粒度分布愈窄(陡峭)，其值愈大，则粒度分布愈广(宽广)。
本例中，可针对所形成的遮光膜的膜厚Tt来决定作为上述CV值的基准的所用的消光剂的粒径。这是鉴于根据光学设备中的使用部位的不同，遮光材料的制品形态(尤其是遮光材料整体的厚度、遮光膜的厚度)也不同。具体而言，相对于所形成的遮光膜的膜厚Tt，可使用具有相当于其Tt的35％以上，优选40％以上，更优选45％以上，且其Tt的110％以下，优选105％以下，更优选100％以下程度的平均粒径的消光剂。
例如，在形成相当于膜厚Tt的干燥后的厚度为10μm以下的遮光膜的情况下，可使用平均粒径为3.5μm左右～11μm左右的消光剂。在使遮光膜的干燥后厚度设为6μm时，可使用平均粒径为2.1μm左右～6.6μm左右的消光剂。在将遮光膜的干燥后厚度设为2μm时，可使用平均粒径为0.7μm左右～2.2μm左右的消光剂。
需要说明的是，本例中，不管上述的CV值如何，均可使用某一平均粒径的消光剂与其他平均粒径的消光剂的混合物作为消光剂。在该情况下，一方的消光剂的平均粒径相对于所形成的遮光膜的膜厚Tt，只要属于上述范围(Tt的35％～110％)即可，可更优选组合使用两方的消光剂的平均粒径均属于上述范围的消光剂。
所谓膜厚Tt是指，利用MILLITRON 1202-D(MARL公司制)膜厚计，改变遮光膜的部位而测定10点而得的算术平均值。所谓平均粒径是指，利用激光衍射式粒度分布测定装置(例如，岛津制作所公司：SALD-7000等)所测得的中值径(D50)。
消光剂的含量相对于粘合剂树脂100重量份，优选为0.2重量份以上，更优选为0.5重量份以上，进一步优选为1重量份以上，且优选为10重量份以下，更优选为8重量份以下，进一步优选为5重量份以下。通过以该范围将消光剂配合于涂布液中，从而有助于防止因最终获得的遮光材料的滑动而使消光剂从遮光膜脱落，或有助于防止遮光材料的滑动性的降低等诸多性能的降低。
需要说明的是，即使在未配合上述消光剂的情况下，也仍可通过改变黑色微粒的种类、平均粒径、配合量等，或配合润润滑剂(后述)等，来发挥出通过配合上述消光剂所期待发挥的作用(如前所述，镜面光泽度的降低、涂膜的消光性提高)。因此，本例的遮光膜形成用涂布液中并不需要一定要配合消光剂。
本例中，涂布液中的黑色微粒、染料及消光剂的合计量(不含消光剂时为黑色微粒与染料的合计量)相对于粘合剂树脂100重量份，优选为50重量份以上，更优选为60重量份以上，进一步优选为70重量份以上，且优选设为170重量份以下，更优选设为140重量份以下，进一步优选设为110重量份以下。将黑色微粒、染料及消光剂(不含消光剂时为黑色微粒及染料)以该范围配合于涂布液中，由此，在良好地保持涂膜的刮伤性的同时，易于获得充分的遮光性。
将本例所制造的遮光材料的加工品用于组装至各透镜间的极薄隔离件用途的情况等用于对遮光膜并不要求高的滑动性的用途的情况下，不需要在涂布液中配合以往配合在遮光膜中的润滑剂(蜡)。但是，即使在用于该用途时也可配合润滑剂。
在作为润滑剂而添加粒子状的润滑剂时，也可使用有机系、无机系中任意种。可列举出例如聚乙烯蜡、石蜡等烃系润滑剂，硬脂酸、12-羟基硬脂酸等脂肪酸系润滑剂，油酸酰胺、芥酸酰胺等酰胺系润滑剂，硬脂酸单甘油酯等酯系润滑剂，醇系润滑剂，金属皂、滑石、二硫化钼等固体润滑剂，硅酮树脂粒子，聚四氟乙烯蜡等氟系树脂粒子，交联聚甲基丙烯酸甲酯粒子、交联聚苯乙烯粒子等。配合粒状润滑剂时，特别优选使用有机系润滑剂。另外，添加常温为液状的润滑剂作为润滑剂时，亦可使用氟系化合物、硅油等。
需要说明的是，遮光膜形成用涂布液只要在不损害本发明的功能的范围内，则还可视需要配合阻燃剂、抗菌剂、防霉剂、抗氧化剂、增塑剂、流平剂、流动调整剂、消泡剂、分散剂等添加剂。
(2)接下来，以例如达到膜厚Tt的量将所准备的遮光膜形成用涂布液涂布在基材上，使其干燥后，根据需要进行加热、加压等。
作为基材，可列举出聚酯膜、聚酰亚胺膜、聚苯乙烯膜、聚碳酸酯膜等合成树脂膜。其中，优选使用聚酯膜，在机械强度、尺寸稳定性优异的方面，经拉伸加工、尤其是经双轴拉伸加工而得的聚酯膜特别优选。此外，向耐热用途中的应用优选聚酰亚胺膜。
作为基材，当然可使用透明的基材，还可使用发泡聚酯膜、含有碳黑等黑色颜料或其他颜料的合成树脂膜、以及基材本身具有遮光性、强度的薄膜金属板。在此情况下，基材可依据其各自的用途来选择合适的材料。例如在作为遮光材料使用时，在需要高遮光性的情况下，可使用含有与上述黑色微粒同种的黑色微粒的合成树脂膜或薄膜的金属板，在其他情况下，可使用透明或发泡的合成树脂膜。利用后述的方法形成的遮光膜利用其自身可获得作为遮光材料的充分的遮光性，由此，在使合成树脂膜含有黑色微粒的情况下，按照合成树脂膜以目视可看见黑色的程度、即、光学透过浓度达到2左右的方式含有即可。
基材的厚度根据所使用的用途而异，但是从作为轻质的遮光材料的强度、刚性等观点出发，一般设为6μm～250μm左右。对于基材来说，从提高与遮光膜的粘接性的观点出发，还可视需要进行锚固处理、电晕处理、等离子体处理或EB处理。
涂布液的涂布方法并无特别限制，可利用以往已知的方法(例如浸渍涂布、辊涂、棒涂、模涂布、刮刀涂布、气刀涂布等)来进行。
本例中使用的涂布液其比重约为0.9～1.2左右，其固体成分(NV)通常被调制成5％～40％左右，优选调制成10％～30％左右。涂布液通常以6g/m2～100g/m2，优选以8g/m2～80g/m2，更优选以10g/m2～60g/m2左右的附着量涂布于基材上。
经过以上的工序，可获得以膜厚Tt在基材上形成有遮光膜的遮光材料。需要说明的是，如上所述，本发明的光学设备用遮光材料并不限于包含基材的层叠结构，还可以以遮光膜单层构成。在以遮光膜单层构成光学设备用遮光材料时，作为上述基材，而使用预先施以了在遮光膜形成(制膜)后能够剥离的处理(脱模处理)的基材，通过制膜后将其剥离，从而可获得以遮光膜单层构成的光学设备用遮光材料。
根据本例，使用与黑色微粒一起包含染料(优选包含金属的黑色染料)的涂布液，制造在基材上形成有遮光膜的遮光材料。因此，即使极薄地(例如6μm以下)形成遮光膜时，仍可获得能够保持遮光性且实现了低光泽的遮光材料。
根据以本例的方法制造的光学设备用遮光材料，由于使用与黑色微粒一起包含染料的涂布液来形成了遮光膜，所以即使极薄地(例如6μm以下)形成该遮光膜，仍可保持遮光性且可实现低光泽(G60低于4％)。
作为要求遮光膜的薄膜化的用途，可列举出以下的用途。例如，在作为光学设备的一例的照相机中，摄影光学系的透镜部分使用多片透镜，在各透镜间组装极薄的隔离件，在该隔离件或前述摄影光学系的内壁等应用利用本发明的方法获得的遮光材料的情况下是特别有效的。当然可适用于以往所使用的快门或光圈等构件中。
本例中，由于使用与黑色微粒一起包含染料的涂布液，所以能够以极薄的膜厚(例如6μm以下)形成一边保持遮光性一边实现低遮光性的遮光膜。
实施例
以下，通过实施例进一步说明本发明。需要说明的是，“份”、“％”只要无特别表示，则为重量基准。
1.遮光材料样品的制作
[实验例1-1～8-3]
使用厚度25μm的黑色PET膜(LUMIRROR X30：TORAY公司)作为基材，在其两面分别利用棒涂法涂布下述配方的涂布液a～h。各涂布液的丙烯酸类多元醇等的含量(份，固体成分换算)示于表2。各涂布液的固体成分均调制成13.5％。
随后，进行干燥形成遮光膜A1～H3，制作各实验例的遮光材料样品。各涂布液的附着量示于后述的表3。
<遮光膜形成用涂布液a～h的配方>
[表2]
需要说明的是，表2中，染料X1由溶剂黑27所形成，为吸收波长区域380～750nm的光线的黑色染料(商品名：Black C-832，中央合成化学公司制)，染料X2由溶剂蓝44所形成，为吸收波长区域450～495nm的光线的蓝色染料(商品名：Blue44 C-531，中央合成化学公司制)，染料X3由溶剂红218所形成，为吸收波长区域620～750nm的光线的红色染料(商品名：Red C-431，中央合成化学公司制)，染料X4由溶剂黄21所形成，为吸收波长区域570～590nm的光线的黄色染料(商品名：Yellow C-131，中央合成化学公司制)。
2.评价
针对各实验例获得的遮光材料样品，利用下述方法进行物性评价。结果示于表3。另外，表3还记载了表1的涂布液的涂布量、所形成的遮光膜的膜厚等。
其中，针对下述(1)遮光性的评价，是使用如下所述而得的样品来进行的，即，以附着量达到14g/m2的方式将上述各实验例的配方的各涂布液涂布于厚度25μm的透明聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(LUMIRROR T60：TORAY公司)的单面上并干燥，从而形成了样品。
(1)遮光性的评价
依据JIS-K7651：1988，使用光学浓度计(TD-904：GretagMacbeth公司)测定各实验例的样品的光学透过浓度，并且基于以下基准来评价遮光性。另外，光学浓度的测定使用了UV滤波器。
○：光学透过浓度超过4.0(优异)
×：光学透过浓度为4.0以下(不良)
(2)导电性的评价
依据JIS-K6911：1995，测定各实验例中获得的遮光材料样品的表面电阻率(Ω)，并且基于以下基准评价导电性。
○：表面电阻率为1.0×106Ω以下(优异)
△：表面电阻率超过1.0×106Ω且为1.0×1010Ω以下(良好)
×：表面电阻率超过1.0×1010Ω(不良)
(3)消光性的评价
针对各实验例中获得的遮光材料样品，依据JIS-Z8741：1997，使用光泽计(商品名：VG-2000，日本电色工业公司)测定其遮光膜表面的60度镜面光泽度(G60)(单位为％)，并且基于以下基准评价。除G60以外，针对20度及85度的各镜面光泽度(G20、G85)也同样地测定(单位为％)，并且基于以下基准进行评价。
需要说明的是，G20、G60及G85各数值愈小，则光泽度愈低，可认为光泽度愈低，则消光性愈优异。
[G60]
◎◎：光泽度低于4％(非常优异)
◎：光泽度为4％以上且低于10％(优异)
○：光泽度为10％以上且低于15％(良好)
×：光泽度为15％以上(不良)
[G20]
◎◎：光泽度低于0.1％(非常优异)
◎：光泽度为0.1％以上且低于0.5％(优异)
○：光泽度为0.5％以上且低于1％(良好)
×：光泽度为1％以上(不良)
[G85]
◎◎：光泽度低于20％(非常优异)
◎：光泽度为20％以上且低于25％(优异)
○：光泽度为25％以上且低于30％(良好)
×：光泽度为30％以上(不良)
[表3]
3.考察
如表2及表3所示，使用了与碳黑一起配合了染料的涂布液(涂布液h除外)时(实施例8-1～8-3以外)，确认到所得的遮光膜的有用性(实验例1-1～7)。其中，使用了染料的配合量相对于树脂成分100份为本发明的优选范围(1～30份)的涂布液的实验例2、3-1～3-4、5～7所获得的遮光膜的消光性比其他实验例(1-1～1～3、4)的遮光膜的消光性优异。尤其是，染料的配合量相对于树脂成分100份为本发明的更优选的范围(5～15份)(实验例3-1、3-2、6、7)时，所得遮光膜的消光性比其他实验例(2、3-3、3-4、5)所得的遮光膜的消光性更为优异。
相对于此，染料的配合为零(实验例8-1～8-3)时，所得的遮光膜与实验例1-1～7的保护膜相比，可确认到无法兼具遮光性与消光性这两性能。

Claims (8)

1.一种光学设备用遮光材料的制造方法，其特征在于，是制造具有遮光膜的光学设备用遮光材料的方法，
在所述制造方法中，准备至少包含粘合剂树脂、黑色微粒及染料的涂布液，将该涂布液涂布在基材上并使其干燥，从而形成遮光膜。
2.如权利要求1所述的光学设备用遮光材料的制造方法，其特征在于，作为所述染料而使用包含金属的染料。
3.如权利要求2所述的光学设备用遮光材料的制造方法，其中，作为所述染料而使用包含氧化铬、氧化铁及氧化钴中的至少任一种的染料。
4.如权利要求1～3中任一项所述的光学设备用遮光材料的制造方法，其特征在于，在所述涂布液中，所述染料以相对于粘合剂树脂100重量份为1重量份以上且30重量份以下的范围被含有。
5.如权利要求1～4中任一项所述的光学设备用遮光材料的制造方法，其中，以6μm以下的厚度形成遮光膜。
6.如权利要求1～5中任一项所述的光学设备用遮光材料的制造方法，其中，使用还包含相对于粘合剂树脂100重量份为0.2重量份以上且10重量份以下的消光剂的涂布液。
7.一种光学设备用遮光材料，其特征在于，是具有至少包含粘合剂树脂及黑色微粒的遮光膜的光学设备用遮光材料，其中，
所述遮光膜是使用包含所述粘合剂树脂及黑色微粒以及染料的涂布液而形成的，且60度镜面光泽度被调整为低于4％。
8.一种遮光膜形成用涂布液，其特征在于，是用于形成具有遮光膜的光学设备用遮光材料的所述遮光膜的涂布液，所述涂布液至少包含粘合剂树脂、黑色微粒、染料及溶剂。
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