TW202200723A - 低反射遮光層用樹脂組成物，以及使用此的低反射遮光層及低反射遮光層積層體 - Google Patents

Abstract

本發明係提供一種表面反射率及L^* 值小之低反射遮光層等。低反射遮光層用樹脂組成物，其係至少含有黏結劑樹脂、著色材、樹脂粒子及分散介質，前述黏結劑樹脂的含有比例以固體成分換算，相對於總量以合計為1~30質量%，前述著色材的含有比例以固體成分換算，相對於總量以合計為0.1~35質量%，前述樹脂粒子的含有比例以固體成分換算，相對於總量以合計為50~95質量%。於此，樹脂粒子較佳為具有3~20μm的平均粒子徑D₅₀ 。又，樹脂粒子較佳為含有著色樹脂粒子。

Description

低反射遮光層用樹脂組成物，以及使用此的低反射遮光層及低反射遮光層積層體

本發明係關於新穎組成之低反射遮光層用樹脂組成物、以及使用此的低反射遮光層及低反射遮光層積層體等。

在單反相機、輕便相機、錄影機、智慧型手機等之各種光學機器，從去除不要之入射光或反射光，抑制光暈、鏡頭光暈、鬼影等之發生等的觀點來看，係使用遮光性高且低光澤之遮光構件。例如，用以切掉不要光之遮光板或將校正線圈等介在鏡頭間之鏡頭單元或相機模組等搭載在各種光學機器。又，在單反相機、輕便相機、錄影機等之各種光學機器的快門或光圈構件等，從防止因外光導致之光暈或鬼影的發生等等的觀點來看，係使用有遮光性之構件。

另一方面，藉由近年來之傳感技術顯著的進步，在汽車、列車、火車、電車、船舶、貨物船、航空機、飛船、火箭、輸送機器、車輛等之各種的移動體(以下，有稱為「移動車輛」的情況)，正研究高度之傳感技術的導入。列舉一例時，為了檢出存在於自車輛前方之障礙物(例如其他車輛、行人、護欄、家屋等)，將具備影像元件之鏡頭單元(相機模組)或紅外線感應器等之光學感應器設置在車室內之汽車的開發正進展中。

以往，作為各種光學機器之遮光構件，已使用有於金屬薄膜塗佈黑色塗料者。然而，於近年來，正研究對輕量之塑膠材料的代替。

作為這般的非金屬製之遮光構件，本申請人提案有一種光學機器用遮光構件，其係具有薄膜基材、與形成在前述基材的至少單面之遮光膜的光學機器用遮光構件，前述遮光膜係含有黏結劑樹脂、碳黑、粒子狀之潤滑劑及微粒子，前述黏結劑樹脂及前述潤滑劑的含有率分別為70重量%以上、5~15重量%，前述潤滑劑係密度較前述微粒子更大(參照專利文獻1)。 [先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本特開2011-123255號公報

[發明欲解決之課題]

於專利文獻1之技術，定為於遮光膜中含有70重量%以上之黏結劑樹脂及2~5重量%左右之二氧化矽等之微粒子，並且進一步含有密度疏之特定的潤滑劑5~15重量%的處方，實現良好之遮光性。然而，於此處方，遮光膜之包含正反射之擴散反射率(550nm)及包含正反射之擴散反射率(905nm)皆大於5%以上，於表面反射率的點尚有改善的餘地。又，在近年來，從設計性的觀點等來看，於有高級感之低光澤且深黑設計人氣高漲，正尋求與其之調和。然而，於專利文獻1之技術，例如在CIE 1976 L^* a^* b^* 表色系之L^* 值為25以上，即使在黑色度的點，尚有改善的餘地。

又，遮光膜之表面反射率一般而言，有遮光膜之表面粗糙度(Ra或Rz等)越大越縮小的傾向。另一方面，有遮光膜之表面粗糙度(Ra或Rz等)越大，在CIE 1976 L^* a^* b^* 表色系之L^* 值變越大的傾向。亦即，於專利文獻1所記載之設計指針，為了縮小遮光膜之表面反射率，增大遮光膜之表面粗糙度(Ra或Rz等)時，導致無法同時達成與其一起增大L^* 值之低表面反射率、低L^* 值、低表面粗糙度3者。因此，尋求可同時達成此等3者之嶄新的設計指針。

本發明係鑑於上述課題而完成者。亦即，本發明係以提供一種可實現表面反射率及L^* 值小之低反射遮光層之新穎組成之樹脂組成物等作為目的。又，本發明之另一目的係提供一種可實現表面反射率、L^* 值及表面粗糙度小之低反射遮光層的新穎組成之樹脂組成物等。

而且，本發明之另一目的係提供一種表面反射率及L^* 值小之低反射遮光層以及低反射遮光層積層體等。又，本發明之另一目的係提供一種表面反射率、L^* 值及表面粗糙度小之低反射遮光層以及低反射遮光層積層體。而且，進而本發明係以提供一種使用此等之低反射遮光層以及低反射遮光層積層體等之高性能的低反射構件、光學機器用低反射構件，及光學機器用遮光低反射構件等作為更佳的目的具有。 [用以解決課題之手段題]

本發明者們為了解決上述課題，進行努力研究薄膜表面形狀或光學特性等之結果，發現與以往技術不同之樹脂組成，發現根據此新穎之樹脂組成，可解決上述課題，而終至完成本發明。

[1]一種低反射遮光層用樹脂組成物，其係至少含有黏結劑樹脂、著色材、樹脂粒子及分散介質，前述黏結劑樹脂的含有比例以相對於固體成分總量之固體成分換算，以合計為1~30質量%，前述著色材的含有比例以相對於固體成分總量之固體成分換算，以合計為0.1~35質量%，前述樹脂粒子的含有比例以相對於固體成分總量之固體成分換算，以合計為50~95質量%。

[2]如上述[1]所記載之低反射遮光層用樹脂組成物，其中，前述樹脂粒子係具有3~20μm的平均粒子徑D₅₀ 。 [3]如[1]或[2]所記載之低反射遮光層用樹脂組成物，其中，前述樹脂粒子係含有著色樹脂粒子。

[4]一種低反射遮光層，其係至少含有黏結劑樹脂、分散在前述黏結劑樹脂中之著色材，及分散在前述黏結劑樹脂中之樹脂粒子，前述黏結劑樹脂的含有比例以固體成分換算，相對於總量以合計為1~30質量%，前述著色材的含有比例以固體成分換算，相對於總量以合計為0.1~35質量%，前述樹脂粒子的含有比例以固體成分換算，相對於總量以合計為50~95質量%。

[5]如上述[4]所記載之低反射遮光層，其中，前述樹脂粒子係含有著色樹脂粒子。 [6]如上述[4]或[5]所記載之低反射遮光層，其中，前述樹脂粒子係具有3~20μm的平均粒子徑D₅₀ 。

[7]如上述[4]~[6]中任一項所記載之低反射遮光層，其中，一側之表面側的表面粗糙度Ra為0.2~0.7μm。 [8]如上述[4]~[7]中任一項所記載之低反射遮光層，其中，一側之表面側的表面粗糙度Rz為2.0~5.0μm。 [9]如上述[4]~[8]中任一項所記載之低反射遮光層，其中，一側之表面側的550nm擴散反射率(包含正反射)為0.0%以上且未滿3.0%。 [10]如上述[4]~[9]中任一項所記載之低反射遮光層，其中，一側之表面側的905nm擴散反射率(包含正反射)為0.0%以上且未滿3.0%。 [11]如上述[4]~[10]中任一項所記載之低反射遮光層，其中，在一側之表面側的CIE 1976 L^* a^* b^* 表色系之L^* 值為0~18。

[12]如上述[4]~[11]中任一項所記載之低反射遮光層，其係具有0.5以上之光學濃度OD。 [13]如上述[4]~[12]中任一項所記載之低反射遮光層，其係具有1~30μm的厚度。

[14]一種低反射遮光層積層體，其特徵為具備基材、與被設置在前述基材之至少一側的主面側之如上述[4]~[13]中任一項所記載之低反射遮光層。 [15]一種低反射遮光層積層體，其特徵為具備基材薄膜、與被設置在前述基材薄膜之一側的主面側之如[4]~[13]中任一項所記載之低反射遮光層、與被設置在前述基材薄膜之另一側的主面側之如[4]~[13]中任一項所記載之低反射遮光層。 [發明效果]

根據本發明，可提供一種可實現表面反射率及表面光澤度小之低反射遮光層的新穎組成之樹脂組成物等。又，根據本發明之較佳的態樣，可提供一種可實現表面反射率、L^* 值及表面粗糙度小之低反射遮光層的新穎組成之樹脂組成物等。而且，根據本發明，可提供一種表面反射率及表面光澤度小之低反射遮光層以及低反射遮光層積層體等，根據本發明之較佳的態樣，可提供一種表面反射率、L^* 值及表面粗糙度小之低反射遮光層以及低反射遮光層積層體。因此，例如可抑制光學感應器類之拍攝圖像或檢出精度的劣化或低下，使得更一層提高拍攝圖像或檢出精度變可能。又，由於可實現具有更深黑外觀之低反射遮光層等，故亦可提昇搭載此之各種光學機器的設計性。而且，根據本發明，亦可實現以往並不存在之新穎設計的高性能之低反射構件、光學機器用低反射構件，及光學機器用遮光低反射構件等。

以下，針對本發明之實施的形態，參照圖面進行詳細說明。尚，上下左右等之位置關係，除非另有說明，定為根據圖面所示之位置關係者。又，圖面之尺寸比率並非被限定於圖示之比率者。惟，以下之實施的形態係用以說明本發明之例示，本發明並非被限定於此等者。尚，在本說明書，例如定為「1~100」之數值範圍的表記定為包含其上限值「100」及下限值「1」雙方者。又，其他數值範圍的表記亦相同。

本發明之第一實施形態之低反射遮光層用樹脂組成物(以下，有單稱為「樹脂組成物」的情況)，係至少含有黏結劑樹脂、著色材、樹脂粒子及分散介質。黏結劑樹脂、著色材及樹脂粒子雖可於分散介質中分散，但亦可此等之一部分被溶解在分散介質。

作為黏結劑樹脂，可使用本發明領域具有通常知識者所公知者，其種類並未特別限定。具體而言，雖可列舉聚(甲基)丙烯酸系樹脂、聚酯系樹脂、聚乙酸乙烯酯系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、聚聚乙烯縮丁醛系樹脂、纖維素系樹脂、聚苯乙烯/聚丁二烯樹脂、聚胺基甲酸酯系樹脂、醇酸樹脂、丙烯醯基系樹脂、不飽和聚酯系樹脂、環氧基酯系樹脂、環氧基系樹脂、環氧基丙烯酸酯系樹脂、胺基甲酸酯丙烯酸酯系樹脂、聚酯丙烯酸酯系樹脂、聚醚丙烯酸酯系樹脂、酚系樹脂、三聚氰胺系樹脂、尿素系樹脂、鄰苯二甲酸二烯丙酯系樹脂等之熱塑性樹脂或熱硬化性樹脂，但並非被特別限定於此等。又，亦可使用熱塑性彈性體、熱硬化性彈性體、紫外線硬化型樹脂、電子束硬化型樹脂等。此等可1種單獨使用，又亦可組合2種以上使用。尚，黏結劑樹脂可因應要求性能及用途適當選擇使用。例如在要求耐熱性之用途，較佳為熱硬化性樹脂。

樹脂組成物中之黏結劑樹脂的含量(總量)可以膜形成所必要的程度適當設定，並未特別限定。從考量與其他必須成分及任意成分的摻合平衡，實現將更為優異之表面反射率及L^* 值進而如有必要具有更低之表面粗糙度的低反射遮光層的觀點來看，黏結劑樹脂的含量(總量)以相對於樹脂組成物之固體成分總量的固體成分換算，較佳為以合計為1~30質量%，更佳為以合計為2~25質量%，再更佳為以合計為3~20質量%，特佳為以合計為5~15質量%。尚，著色材或樹脂粒子包含黏結劑樹脂成分時，此等之黏結劑樹脂成分亦成為在於此所謂含有比例，納入黏結劑樹脂的合計量者。

作為著色材，可使用以本發明領域具有通常知識者為公知之顏料或染料，其種類並未特別限定。藉由適當選擇著色材的種類、粒子尺寸、使用量，可調整遮光性或光透過性。具體而言，雖可列舉磁鐵礦系黑、銅･鐵･錳系黑、鈦黑、碳黑、苯胺黑等，但並非被特別限定於此等。作為著色材，從遮光性、光透過性、色調等之調整的容易性等之觀點來看，較佳為使用黑色之無機顏料、黑色之有機顏料。此等可1種單獨使用，又亦可組合2種以上使用。此等當中，作為著色材，期望為無機顏料，具體而言，較佳為鈦黑、碳黑、苯胺黑，更佳為碳黑、苯胺黑。作為碳黑，雖已知有油爐黑、燈黑、槽法碳黑、天然氣爐黑、乙炔黑、熱碳黑、凱琴黑等以各種公知之製法製作者，但並未特別限制其種類。從賦予導電性防止因靜電導致之帶電的觀點來看，作為著色材，特佳為使用導電性碳黑。碳黑之歷史悠久，例如從三菱化學股份有限公司、旭CARBON股份有限公司、御國色素股份有限公司、RESINO COLOR工業股份有限公司、Cabot公司、DEGUSSA公司等，市售有各種等級之碳黑單體及碳黑分散液，因應要求性能或用途，從此等當中適當選擇即可。此等可1種單獨使用，又亦可組合2種以上使用。

尚，著色材之粒子尺寸可因應使用之著色材的種類或要求性能等適當設定，並未特別限定。例如著色材為碳黑時，平均粒子徑D₅₀ 較佳為0.01~2.0μm，更佳為0.05~1.0μm，再更佳為0.08~0.5μm。尚，所謂在本說明書之平均粒子徑D₅₀ ，係意指以雷射繞射式粒度分布測定裝置(例如島津製作所公司：SALD-7000等)測定之體積基準的中位徑(D₅₀ )。

樹脂組成物中之著色材的含量(總量)可因應遮光性或低光澤性等之要求性能適當設定，並未特別限定。從考量與其他必須成分及任意成分的摻合平衡，實現將更為優異之表面反射率及L*值進而如有必要具有更低之表面粗糙度的低反射遮光層的觀點來看，著色材的含量(總量)以相對於樹脂組成物之固體成分總量的固體成分換算，較佳為以合計為0.1~35質量%，更佳為以合計為1~30質量%，再更佳為以合計為3~20質量%，特佳為以合計為5~15質量%。尚，作為樹脂粒子，使用經著色之樹脂粒子時之著色材的含量，定為上述之著色材的質量與樹脂粒子所包含之著色材的質量之合計(組成物中之著色材總量)。

作為樹脂粒子，可使用本發明領域具有通常知識者所公知者，其種類並未特別限定。具體而言，雖可列舉聚甲基丙烯酸甲酯系、聚苯乙烯系、聚酯系、聚胺基甲酸酯系、聚矽氧樹脂系、聚偏二氟乙烯等之氟樹脂系、橡膠系等之樹脂粒子，但並非被特別限定於此等。此等可1種單獨使用，又亦可組合2種以上使用。又，樹脂粒子的外觀可為透明、半透明、不透明之任一種，並未特別限定。又，樹脂粒子雖可為無色，亦可為著色。例如藉由使用著色成黑色、灰色、紫色、藍色、茶色、紅色、綠色等之樹脂粒子(著色樹脂粒子)，即使著色材的使用量比較少，亦可實現光學濃度或色彩度高之低反射遮光層。又，藉由使用著色樹脂粒子，特別與使用二氧化矽等之無機粒子的情況相比較，可大幅減低L^* 值。

從得到上述之表面反射率及L^* 值的觀點來看，較佳為樹脂粒子具有比較粗大之粒徑。具體而言，樹脂粒子的平均粒子徑D₅₀ 係下限較佳為1μm以上，更佳為2μm以上，再更佳為4μm以上，特佳為5μm以上。又，作為上限，為30μm以下，更佳為20μm以下，特佳為15μm以下。尚，即使為在塗工時，抑制樹脂粒子的凝聚，或者假定凝聚樹脂粒子的情況下，使用具有凝聚物之粒子徑不至於過大程度的平均粒子徑D₅₀ 的樹脂粒子，從生產性或操作性等之觀點來看是必需的。

樹脂組成物中之樹脂粒子的含量(總量)可因應遮光性或低光澤性等之要求性能適當設定，並未特別限定。考量與其他必須成分及任意成分的摻合平衡，實現將更為優異之表面反射率及L*值進而如有必要具有更低之表面粗糙度的低反射遮光層的觀點來看，樹脂粒子的含量(總量)以相對於樹脂組成物之固體成分總量的固體成分換算，較佳為以合計為50~95質量%，更佳為以合計為55~90質量%，再更佳為以合計為60~85質量%。尚，作為樹脂粒子，使用經著色之樹脂粒子時之樹脂粒子的含量，係將包含樹脂粒子所包含之著色材的樹脂粒子的質量作為基準。

尚，本實施形態之樹脂組成物為了控制色調，除了上述之著色材或樹脂粒子之外，可含有公知的色材。作為此色材，雖可列舉二芳甲烷系；三芳甲烷系；噻唑系；花青素、吡唑啉酮次甲基等之次甲基系；碘苯胺、苯乙酮偶氮甲鹼、吡唑並偶氮甲鹼、咪唑偶氮甲鹼、咪唑并偶氮甲鹼等之偶氮甲鹼系；氧雜蒽系；惡嗪系；二氰基苯乙烯、三氰基苯乙烯等之氰基亞甲基系；噻嗪系；吖嗪系；吖啶系；苯偶氮系；羥基吡啶偶氮、噻吩偶氮、異噻唑偶氮、吡咯偶氮、咪唑偶氮、噻二唑偶氮、三唑偶氮、雙偶氮等之偶氮系；螺吡喃系；吲哚啉并螺吡喃系；熒烷系；萘醌系；蒽醌系；喹啉黃系等，但並非被特別限定於此等。例如可將黑色系、藍色系、綠色系、黃色系、紅色系之公知的色材1種單獨使用，又亦可組合2種以上使用。使用色材時，色材的含量(總量)可因應要求性能適當設定，雖並未特別限定，但考量與其他必須成分及任意成分的摻合平衡，以相對於樹脂組成物之固體成分總量的固體成分換算，較佳為以合計為0.1~10質量%，更佳為以合計為0.5~5質量%，再更佳為以合計為1~3質量%。

又，樹脂組成物為了調整樹脂組成物之光澤度或色調等，可含有公知之消光劑(啞光劑)。作為消光劑，例如雖可列舉高嶺土、燒成高嶺土、燒成黏土、未燒成黏土、二氧化矽(例如天然二氧化矽、熔融二氧化矽、非晶二氧化矽、中空二氧化矽、濕式二氧化矽、合成二氧化矽、氣霧劑等)、鋁化合物(例如勃姆石、氫氧化鋁、氧化鋁、水滑石、硼酸鋁、氮化鋁等)、鎂化合物(例如偏矽酸鋁酸鎂、碳酸鎂、氧化鎂、氫氧化鎂等)、鈣化合物(例如碳酸鈣、氫氧化鈣、硫酸鈣、亞硫酸鈣、硼酸鈣等)、鉬化合物(例如氧化鉬、鉬酸鋅等)、滑石(例如天然滑石、燒成滑石等)、雲母(Mica)、氧化鈦、氧化鋅、氧化鋯、硫酸鋇、硼酸鋅、偏硼酸鋇、硼酸鈉、氮化硼、凝聚氮化硼、氮化矽、氮化碳、鈦酸鍶、鈦酸鋇、錫酸鋅等之錫酸鹽等，但並非被特別限定於此等。此等可1種單獨使用，又亦可組合2種以上使用。使用消光劑時，消光劑的含量(總量)可因應要求性能適當設定，雖並未特別限定，但從考量與其他必須成分及任意成分的摻合平衡，實現具有更為優異之表面反射率及表面光澤度的低反射遮光層的觀點來看，以相對於樹脂組成物之固體成分總量的固體成分換算，較佳為以合計為0.1~10質量%，更佳為以合計為0.5~5質量%，再更佳為以合計為1~3質量%。

進而，樹脂組成物可含有以本發明領域具有通常知識者為公知之各種添加劑。作為其具體例，雖可列舉潤滑劑、導電劑、阻燃劑、抗菌劑、防黴劑、抗氧化劑、可塑劑、樹脂硬化劑、硬化劑、硬化促進劑、整平劑、流動調整劑、消泡劑、分散劑等，但並非被特別限定於此等。作為潤滑劑，雖可列舉聚乙烯、石蠟、蠟等之烴系潤滑劑；硬脂酸、12-羥基硬脂酸等之脂肪酸系潤滑劑；硬脂酸醯胺、油酸醯胺、芥酸醯胺等之醯胺系潤滑劑；硬脂酸丁酯、硬脂酸單甘油酯等之酯系潤滑劑；醇系潤滑劑；金屬皂、滑石、二硫化鉬等之固體潤滑劑；聚四氟乙烯蠟等，但並非被特別限定於此等。此等當中，特佳為使用有機系潤滑劑。又，使用紫外線硬化型樹脂或電子束硬化型樹脂作為黏結劑樹脂的情況下，例如可使用n-丁基胺、三乙基胺、三-n-丁基膦等之增感劑或紫外線吸收劑等。此等可1種單獨使用，又亦可組合2種以上使用。此等之含有比例雖並未特別限定，但以相對於樹脂組成物之固體成分總量的固體成分換算，一般而言，較佳為分別為0.01~5質量%。

作為分散介質，雖並未特別限定，雖可列舉水；甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮等之酮系溶劑；乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等之酯系溶劑；甲基溶纖劑、乙基溶纖劑等之醚系溶劑；甲基醇、乙基醇、異丙基醇等之醇系溶劑、以及此等之混合溶媒等，但並非被特別限定於此等。分散介質的使用量若為低反射遮光層之膜形成可能的程度即可，雖並未特別限定，但從操作性或作業性等之觀點來看，一般而言，以樹脂組成物的固體成分總量成為10~90質量%，較佳為成為20~80質量，再更佳為成為25~70質量%的方式調整即可。

藉由將上述之樹脂組成物塗工成指定形狀，可得到本實施形態之低反射遮光層21。圖1係表示具備此低反射遮光層21之低反射遮光層積層體100的關鍵部位之剖面圖。此低反射遮光層積層體100係具備：基材11、與被設置在此基材11之一側的主面11a側的低反射遮光層21、與被設置在基材11之另一側的主面11b側之黏著層31。亦即，本實施形態之低反射遮光層積層體100係具有至少依低反射遮光層21、基材11及黏著層31順序配列之積層構造(3層構造)。尚，在此積層構造，低反射遮光層21配置在表側的最表面，並且黏著層31配置在內側的最表面，低反射遮光層21及黏著層31以分別露出在表側及內側的最表面的狀態配置。尚，於低反射遮光層21的表面21a，在不脫離本發明之趣旨的範圍，如有必要可設置抗靜電層或保護層或防污層或抗菌層或反抗射膜或印刷層等之任意層。又，低反射遮光層21的表面21a在不脫離本發明之趣旨的範圍，如有必要可實施抗靜電處理或防污處理或抗菌處理或反抗射處理等之任意的表面處理。

於此，在本說明書，所謂「~設置在一側(另一側)的面側」，係意指如本實施形態，不僅包含於基材11的表面(例如主面11a或主面11b)直接載置在低反射遮光層21或黏著層31的態樣，亦包含於基材11之主面11a與低反射遮光層21之間或於基材11之主面11b與黏著層31之間介在未圖示之任意的層(例如底漆層、接著層、導電層等)，低反射遮光層21或黏著層31從基材11分離而配置的態樣。又，所謂至少具備低反射遮光層21及黏著層31之積層構造，係意指不僅包含僅低反射遮光層21及黏著層31直接積層在基材11上的構造，亦包含於3層構造之層間進一步設置如上述之任意的層之構造。

基材11只要為可支持低反射遮光層21及黏著層31者，其種類並未特別限定。作為基材11之具體例，例如雖可列舉金屬、合金、樹脂成形體、樹脂薄膜、不織布及玻璃等，但並非被特別限定於此等。作為金屬或合金，較佳為使用鋁、鎂、鐵及包含此等之合金之金屬材料。又，從尺寸安定性、機械性強度及輕量化等之觀點看，作為基材11，較佳為使用合成樹脂。作為合成樹脂之具體例，雖可列舉聚酯；ABS(丙烯腈-丁二烯-苯乙烯)；聚醯亞胺；聚醯胺；聚醯胺醯亞胺；聚苯乙烯；聚碳酸酯；(甲基)丙烯醯基系；尼龍系；聚乙烯或聚丙烯等之聚烯烴系；降冰片烯(calebornene)類與α-烯烴之加成共聚物、降莰烯類之氫化開環複分解聚合物、環戊烯、環己烯、3-甲基環己烯、環辛烯等之環烯烴系；纖維素系；聚碸系；聚苯硫醚系；聚醚碸系；聚醚醚酮系之樹脂，但並非被特別限定於此等。尚，在本說明書，「(甲基)丙烯醯基」係包含丙烯醯基、甲基丙烯醯基雙方之概念。此等可1種單獨使用，又亦可以2種以上之任意組合使用。又，亦適合使用任意組合此等使用之多層成形體(多色成形體)或積層薄膜。此等當中，作為基材11，從尺寸安定性、機械性強度及輕量化等之觀點來看，較佳為合成樹脂之基材薄膜，更適合使用聚酯薄膜、聚醯亞胺薄膜、聚碳酸酯薄膜、(甲基)丙烯醯基系薄膜，及任意組合此等之積層薄膜。首先，單軸或雙軸延伸薄膜，尤其是雙軸延伸聚酯薄膜，由於機械性強度及尺寸安定性優異故為特佳。又，於耐熱用途，特佳為聚醯亞胺薄膜、聚醯胺醯亞胺薄膜、聚醯胺薄膜，最佳為聚醯亞胺薄膜、聚醯胺醯亞胺薄膜。

基材11的厚度可因應要求性能及用途適當設定，並未特別限定。藉由於基材11上設置低反射遮光層21，例如可對成形體之基材11，或對薄膜狀之基材11的基材薄膜，或對膜狀或者層狀之基材11，賦予表面反射率及表面光澤度小之表面。尚，使用薄膜狀之基材11的基材薄膜時，從輕量化及薄膜化的觀點來看，以基材11的厚度為0.5μm以上且未滿250μm作為目標。從強度或剛性等之觀點來看，基材11的厚度較佳為36μm以上且未滿250μm。另一方面，從進一步輕量化及薄膜化的觀點來看，基材11的厚度較佳為1μm以上、50μm以下，更佳為1μm以上、25μm以下，再更佳為4μm以上、10μm以下，特佳為5μm以上、7μm以下。尚，從提昇與低反射遮光層21或黏著層31之接著性的觀點來看，如有必要亦可於基材11表面進行錨定處理或電暈處理、抗靜電等之各種公知的表面處理。

尚，基材11之外觀可為透明、半透明、不透明之任一種，並未特別限定。例如亦可使用發泡聚酯薄膜等之經發泡之合成樹脂薄膜或含有各種顏料之合成樹脂薄膜。例如，藉由使用含有1種以上黑色、灰色、紫色、藍色、茶色、紅色、綠色等之暗色系的顏料或染料之合成樹脂薄膜，可成為光學濃度高之膜。作為於此使用之顏料或染料，可從本發明領域具有通常知識者所公知者中適當選擇使用，其種類並未特別限定。例如作為黑色系之顏料，可列舉黑色樹脂粒子、磁鐵礦系黑、銅･鐵･錳系黑、鈦黑、碳黑等。此等當中，由於隱蔽性優異，故較佳為黑色樹脂粒子、鈦黑、碳黑。此等可1種單獨使用，又亦可組合2種以上使用。基材11含有顏料或染料時，其含有比例可因應要求性能及用途適當設定，並未特別限定。從尺寸安定性、機械性強度、輕量化等之觀點來看，顏料及染料之合計的含有比例相對於基材11之總量，較佳為0.3~15質量%，更佳為0.4~12質量%，再更佳為0.5~10質量%。

作為低反射遮光層21之形成方法，可適當適用公知之製法，並未特別限定。藉由於基材11上以上述之樹脂組成物成為指定的厚度的方式進行塗工並乾燥，如有必要進行電離放射線處理、熱處理及/或加壓處理等，可得到低反射遮光層21。從於基材11上可再現性良好且簡易且低成本製造高性能之低反射遮光層21的觀點來看，適合使用刮塗、浸塗、輥塗、棒塗、模具塗佈、刮刀塗佈、氣刀塗佈、吻塗、噴塗、旋塗等之塗佈方法。

低反射遮光層21的厚度可因應要求性能及用途適當設定，雖並未特別限定，但從高光學濃度、輕量化及薄膜化之平衡的觀點來看，較佳為1μm以上，更佳為2μm以上，再更佳為3μm以上，特佳為4μm以上，上限側較佳為30μm以下，更佳為25μm以下，再更佳為20μm以下，特佳為15μm以下。

又，本實施形態之低反射遮光層21之遮光性因應要求性能適當設定即可，並未特別限定。從具備更高遮光性的觀點來看，低反射遮光層21較佳為具有0.5以上之光學濃度OD，更佳為具有1.0以上之光學濃度OD，再更佳為具有1.7以上之光學濃度OD，特佳為具有2.0以上之光學濃度OD。尚，在本說明書，光學濃度(OD)定為依照ISO 5-2，使用光學濃度計(X-Rite361T：X-Rite公司)及正交濾鏡測定所得之值。

黏著層31係被設置在上述之基材11的主面11b側，與未圖示之被著品黏著接合之層。如此，藉由將黏著層31側與被著品黏著接合，可對被著品賦予低反射率且低光澤的表面。構成黏著層31之素材可使用本發明領域具有通常知識者所公知者，又，因應被著品的表面素材(樹脂成形體、使用此樹脂成形體之多層積層體、不織布及表皮材等、金屬、合金等)適當選擇即可，其種類並未特別限定。例如較佳為使用橡膠系黏著劑、丙烯醯基系黏著劑、烯烴系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、胺基甲酸酯系黏著劑。

黏著層31的厚度可因應要求性能及用途適當設定，雖並未特別限定，但從輕量化及薄膜化之平衡的觀點來看，較佳為0.1μm以上，更佳為0.2μm以上，再更佳為0.5μm以上，特佳為1.0μm以上，最佳為3.0μm以上，上限側較佳為40μm以下，更佳為30μm以下，再更佳為25μm以下，特佳為20μm以下，最佳為10μm以下。

如以上所詳述，藉由本實施形態之低反射遮光層積層體100具備從上述之特定的樹脂組成物所製膜之低反射遮光層21，用作為表面反射率及L^* 值小之積層薄膜，於更佳之態樣，用作為表面反射率、L^* 值及表面粗糙度之任一種皆小之積層薄膜。因此，藉由將本實施形態之低反射遮光層積層體100作為低反射構件、光學機器用低反射構件及光學機器用遮光構件等使用，可抑制例如光學感應器類之拍攝圖像或檢出精度的劣化或低下。

於此，本實施形態之低反射遮光層積層體100(低反射遮光層21)的表面21a側的表面反射率可因應要求性能適當設定，並未特別限定。從縮小表面反射率及L^* 值，又，縮小鏡面光澤度的觀點來看，低反射遮光層積層體100(低反射遮光層21)的表面21a側的550nm擴散反射率(包含正反射)較佳為未滿3.0%，更佳為未滿2.8%，再更佳為未滿2.6%，特佳為未滿2.4%。於此，同550nm擴散反射率之下限側雖並未特別限定，但若能越低越好，因此，若為0.0%以上即可。又同樣，低反射遮光層積層體100(低反射遮光層21)的表面21a側的905nm擴散反射率(包含正反射) 較佳為未滿3.0%，更佳為未滿2.8%，再更佳為未滿2.6%，特佳為未滿2.4%。於此，同905nm擴散反射率之下限側雖並未特別限定，但若能越低越好，因此，若為0.0%以上即可。尚，在本說明書，550nm擴散反射率或905nm擴散反射率(包含正反射)，係意指使用分光光度計(例如SolidSpec-3700(島津製作所公司製))，測定在入射個別之波長的光時之擴散反射率(包含正反射)(%)所得之值。

又，本實施形態之低反射遮光層積層體100 (低反射遮光層21)在表面21a側的CIE 1976 L^* a^* b^* 表色系之L^* 值因應要求性能適當設定即可，並未特別限定。從求出更深黑外觀的觀點來看，又，從低光澤、低反射性、光吸收性等之平衡的觀點來看，低反射遮光層積層體100(低反射遮光層21)的表面21a側的L^* 值較佳為0~18，更佳為16以下，再更佳為14以下，特佳為13以下。於此，低反射遮光層積層體100(低反射遮光層21)的表面21a側的L^* 值雖可為與以往技術之低反射薄膜或遮光薄膜之L^* 值為相同程度(例如19~30)，但藉由從上述之特定的樹脂組成物製膜，可調整成比較小之值可說是以往技術所沒有的特徵之一。尚，在本說明書，在L^* a^* b^* 表色系之L^* 值係意指依照JIS Z 8720：2012，使用CIE標準照明D₆₅ ，以分光測色計(例如ZE6000(日本電色公司製))測定之值。

另一方面，本實施形態之低反射遮光層積層體100(低反射遮光層21)的表面21a側的表面粗糙度Ra(算術平均粗糙度)可因應要求性能適當設定，雖並未特別限定，但從縮小表面反射率及L^* 值，又，縮小鏡面光澤度的觀點來看，較佳為0.2~0.7μm，更佳為0.2~0.6μm，再更佳為0.2~0.5μm，特佳為0.3~0.5μm。尚，表面粗糙度Ra係如本發明領域具有通常知識者所周知，為表面凹凸之高度方向的參數，在基準長度，表示粗糙度曲線之高度Zx的絕對值的平均。於此，低反射遮光層積層體100(低反射遮光層21)的表面21a側的表面粗糙度Ra，雖可為與以往技術之低反射薄膜或遮光薄膜之表面粗糙度Ra為相同程度(例如1.0~2.0μm)，但藉由從上述之特定的樹脂組成物製膜，可調整成比較小之值可說是以往技術所沒有的特徵之一。

又，本實施形態之低反射遮光層積層體100 (低反射遮光層21)的表面21a側的表面粗糙度Rz(最大高度)可因應要求性能適當設定，雖並未特別限定，但從縮小表面反射率及L^* 值，又，縮小鏡面光澤度的觀點來看，較佳為2.0~5.0μm，更佳為2.1~4.8μm，再更佳為2.2~4.6μm，特佳為2.5~4.5μm。尚，低反射遮光層21的表面粗糙度Rz係如本發明領域具有通常知識者所周知，為表面凹凸之高度方向的參數，在基準長度表示粗糙度曲線之凸部高度Zp與凹部深度Zv之最大值的和。於此，低反射遮光層積層體100(低反射遮光層21)的表面21a側的表面粗糙度Rz雖可為與以往技術之低反射薄膜或遮光薄膜之表面粗糙度Rz為相同程度(例如6~12μm)，但藉由從上述之特定的樹脂組成物製膜，可調整成比較小之值可說是以往技術所沒有的特徵之一。

另一方面，本實施形態之低反射遮光層積層體100(低反射遮光層21)的表面21a側的表面粗糙度RSm可因應要求性能適當設定，雖並未特別限定，但從縮小表面反射率及L^* 值的觀點來看，較佳為20~70μm，更佳為30~65μm，再更佳為35~60μm。於此，表面粗糙度RSm係表面凹凸之長度方向(橫向方向)的參數，在基準長度，表示粗糙度曲線要素之長度Xs的平均。此亦即可作為表面凹凸的平均波長把握。表面粗糙度RSm越大，表面反射率及表面光澤度越小，又，有縮小廣角度側的鏡面光澤度的傾向。尚，表面凹凸的長度方向係意指表面粗糙度RSm的測定時所確定之低反射遮光層21的面內之一方向，例如以平面視為矩形狀之低反射遮光層21時，可為縱向方向或面內之橫向方向的任一種，其方向並未特別限定。

又，本實施形態之低反射遮光層積層體100 (低反射遮光層21)的表面21a側的表面粗糙度表面粗糙度Rsk可因應要求性能適當設定，雖並未特別限定，但從縮小表面反射率及L^* 值的觀點來看，較佳為0.1~3.0μm，更佳為0.2~2.0μm，再更佳為0.3~1.0μm。於此，表面粗糙度Rsk為表面凹凸之高度方向(深度方向)的參數，在基準長度表示粗糙度曲線之偏度(skewness)。此亦即可作為表示將平均線作為中心時之凸部與凹部的對稱性把握。表面粗糙度Rsk之絕對值越大，表面反射率及表面光澤度越小，又，有縮小廣角度側的鏡面光澤度的傾向。

尚，上述之表面粗糙度Ra、Rz、RSm及Rsk，係意指依照JIS規格(JIS B 0601-2001及JIS B 0651-2001)所測定之值及所算出之值。具體而言，根據「製品之幾何學特性仕樣(GPS)-表面性狀：輪廓曲線方式-用語、定義及表面性狀參數、JIS B 0601：2001」，例如可使用觸針式表面粗糙度測定機(SURFCOM 1500SD2-3DF：東京精密公司)等之3次元表面粗糙度計測定，又，表面粗糙度RSm等如有必要可使用附屬之解析軟體或通用之解析軟體算出。更詳細之測定條件係如以下。 測定長度：4.0mm 截止波長：0.8mm 測定速度：0.6mm/s 觸針：先端半徑2μm、頂角60°圓錐型之單結晶鑽石製

尚，本實施形態之低反射遮光層積層體100 (低反射遮光層21)的表面21a側的表面光澤度可因應要求性能適當設定，並未特別限定。從實現更高之啞光性及低表面光澤性等的觀點來看，低反射遮光層積層體100(低反射遮光層21)的表面21a側的60度鏡面光澤度(JIS-Z8741：1997)較佳為0.0%以上且未滿1.0%，更佳為0.0%以上且未滿0.5%，再更佳為0.0%以上且未滿0.4%，特佳為0.0%以上且未滿0.3%。同樣，低反射遮光層積層體100(低反射遮光層21)的表面21a側的45度鏡面光澤度(JIS-Z8741：1997)較佳為0.0%以上且未滿1.0%，更佳為0.0%以上且未滿0.5%，再更佳為0.0%以上且未滿0.4%，特佳為0.0%以上且未滿0.3%。又同樣，低反射遮光層積層體100(低反射遮光層21)的表面21a側的20度鏡面光澤度(JIS-Z8741：1997)較佳為0.0%以上且未滿0.5%，更佳為0.0%以上且未滿0.3%，再更佳為0.0%以上且未滿0.2%，特佳為0.0%以上且未滿0.1%。尚，在本說明書，鏡面光澤度係意指依照JIS-Z8741：1997，使用數位變角光澤計(Gloss Meter VG7000：日本電色公司)，分別測定在規定之入射受光角(45°、60°)之低反射遮光層積層體100(低反射遮光層21)的表面21a側的光澤度(鏡面光澤度)(%)所得之值。

從具備作為遮光構件之高遮光性的觀點來看，低反射遮光層積層體100全體之光學濃度(OD)較佳為1.5以上，更佳為2.0以上，再更佳為2.5以上，特佳為3.0以上，最佳為4.0以上。尚，光學濃度(OD)之上限值不用說為6.0。

(變形例) 尚，本發明於不脫離其要旨的範圍內，可任意變更實施。於上述第一實施形態，雖顯示於基材11上設置低反射遮光層21之積層構造的低反射遮光層積層體100，但本發明即使於省略基材11或黏著層31的態樣亦可實施。例如，可作為從上述之基材11，剝離低反射遮光層21，僅由低反射遮光層21所構成之單層構造的低反射遮光層實施。又，同樣，可作為不設置黏著層31，於基材11上設置低反射遮光層21之2層積層構造的低反射遮光層積層體實施。進而，於上述第一實施形態，雖顯示於基材11上僅設置1層低反射遮光層21的態樣，但即使為於基材11之一側的主面11a側及另一主面11b側分別設置低反射遮光層21的態樣，亦可實施。又，可於基材11與低反射遮光層21之間設置導電層。 [實施例]

以下，雖列舉實施例及比較例，詳細說明本發明，但本發明並非因此等之實施例而受到任何限定者。本發明只要不脫離本發明之要旨，可達成本發明之目的，可採用各種的條件。尚，在以下除非另有說明，「份」係表示「質量份」。

(實施例1) 作為基材，藉由於厚度50μm之雙軸延伸PET薄膜(全光線透過率(550nm)：89.1%)的單面，將以表1所記載之質量比例調製之下述的樹脂組成物藉由棒塗法塗佈並使其乾燥，並於基材上形成表2所記載之低反射遮光層，來製作實施例1之低反射遮光層及低反射遮光層積層體。

＜樹脂層用塗佈液＞ ･黏結劑樹脂 (異氰酸酯硬化型丙烯醯基樹脂、樹脂固體成分：25質量%) ･著色材 (碳黑樹脂分散液、平均粒子徑D₅₀ ：25nm) ･樹脂粒子 (黑色丙烯醯基珠、平均粒子徑D₅₀ ：4.0μm) ･樹脂硬化劑 (聚異氰酸酯系硬化劑、固體成分：60質量%) ･整平劑 (聚矽氧系、固體成分：10質量%) ･分散介質100質量份 (MEK：甲苯=50：50之混合溶媒)

(實施例2~3) 如表1所示，除了變更各成分的質量比例之外，藉由其他與實施例1同樣進行，於基材上形成表2所記載之低反射遮光層，來製作實施例2及3之低反射遮光層及低反射遮光層積層體。

(比較例1) 如表1所示，除了變更樹脂粒子的使用量之外，其他與實施例1同樣進行，製作比較例1之低反射遮光層及低反射遮光層積層體。

(比較例2) 如表1所示，除了取代樹脂粒子，改使用平均粒子徑D₅₀ 為9.5μm之不定形二氧化矽，變更各成分的質量比例之外，其他與實施例1同樣進行，製作比較例2之低反射遮光層及低反射遮光層積層體。

針對所得之實施例1~3及比較例1~2之低反射遮光層積層體(低反射遮光層)，用以下的條件進行各物性的測定及評估。將評估結果一併示於表1。

(1)表面粗糙度Ra、Rz、RSm及Rsk 依照JIS-B0601(2001)之算術平均粗糙度(Ra)的測定方法，使用觸針式表面粗糙度測定機(SURFCOM 1500SD2-3DF：東京精密公司)，分別測定遮光層之表面的表面粗糙度Ra、Rz、RSm、Rsk(單位：μm)。

(2)550nm反射率及905nm反射率 使用分光光度計(例如SolidSpec-3700(島津製作所公司製))，測定在將波長550nm及波長905nm之光入射個別的波長之光時之遮光層的表面的擴散反射率(包含正反射)(%)。

(3)L^* 使用分光測色計(例如ZE6000(日本電色公司製))，依照JIS Z 8720：2012，使用CIE標準照明D₆₅ ，測定遮光層之表面的L^* 。

(4)鏡面光澤度 依照JIS-Z8741：1997，使用數位變角光澤計(Gloss Meter VG7000：日本電色公司)，分別測定在規定之入射受光角(20°、45°、60°)之遮光層的表面的表面光澤度(鏡面光澤度)(%)。

(5)光學濃度OD 根據ISO 5-2，使用光學濃度計(X-Rite361T：X-Rite公司)，測定第一樹脂層21之光學濃度。尚，於測定時使用正交濾鏡。

[產業上之可利用性]

本發明係在例如精密機械領域、半導體領域、光學機器領域、車載用途、劇院室用途等之要求低表面反射率及深黑外觀的用途，作為低反射遮光構件可被廣泛且有效利用。首先，可作為高性能單反相機、輕便相機、錄影機、手機、智慧型手機、PDA信息終端、投影機等之各種光學機器的遮光構件(例如遮光板或校正線圈等)或滑動構件(例如快門或光圈構件等) ，特別有效利用。

100:低反射遮光層積層體 11:基材 11a:面(主面) 11b:面(主面) 21:低反射遮光層 21a:表面 31:黏著層

[圖1]表示一實施形態之低反射遮光層21及低反射遮光層積層體100之概略剖面圖。

Claims (15)

1. 一種低反射遮光層用樹脂組成物，其係至少含有黏結劑樹脂、著色材、樹脂粒子及分散介質， 前述黏結劑樹脂的含有比例以固體成分換算，相對於總量以合計為1~30質量%， 前述著色材的含有比例以固體成分換算，相對於總量以合計為0.1~35質量%， 前述樹脂粒子的含有比例以固體成分換算，相對於總量以合計為50~95質量%。
2. 如請求項1之低反射遮光層用樹脂組成物，其中，前述樹脂粒子係具有3~20μm的平均粒子徑D₅₀ 。
3. 如請求項1之低反射遮光層用樹脂組成物，其中，前述樹脂粒子係含有著色樹脂粒子。
4. 一種低反射遮光層，其係至少含有黏結劑樹脂、分散在前述黏結劑樹脂中之著色材，及分散在前述黏結劑樹脂中之樹脂粒子， 前述黏結劑樹脂的含有比例以相對於固體成分總量之固體成分換算，以固體成分換算，相對於總量以合計為1~30質量%， 前述著色材的含有比例以相對於固體成分總量之固體成分換算，以合計為0.1~35質量%， 前述樹脂粒子的含有比例以相對於固體成分總量之固體成分換算，以合計為50~95質量%。
5. 如請求項4之低反射遮光層，其中，前述樹脂粒子係含有著色樹脂粒子。
6. 如請求項4之低反射遮光層，其中，前述樹脂粒子係具有3~20μm的平均粒子徑D₅₀ 。
7. 如請求項4之低反射遮光層，其中，一側之表面側的表面粗糙度Ra為0.2~0.7μm。
8. 如請求項4之低反射遮光層，其中，一側之表面側的表面粗糙度Rz為2.0~5.0μm。
9. 如請求項4之低反射遮光層，其中，一側之表面側的550nm擴散反射率(包含正反射)為0.0%以上且未滿3.0%。
10. 如請求項4之低反射遮光層，其中，一側之表面側的905nm擴散反射率(包含正反射)為0.0%以上且未滿3.0%。
11. 如請求項4之低反射遮光層，其中，在一側之表面側的CIE 1976 L^* a^* b^* 表色系之L^* 值為0~18。
12. 如請求項4之低反射遮光層，其係具有0.5以上之光學濃度OD。
13. 如請求項4之低反射遮光層，其係具有1~30μm的厚度。
14. 一種低反射遮光層積層體，其特徵為具備基材、與 被設置在前述基材的至少一側的主面側之如請求項4~13中任一項之低反射遮光層。
15. 一種低反射遮光層積層體，其特徵為具備基材薄膜、與 被設置在前述基材薄膜之一側的主面側之如請求項4~13中任一項之低反射遮光層、與 被設置在前述基材薄膜之另一側的主面側之如請求項4~13中任一項之低反射遮光層。

Images