TWI758439B - 層積遮光薄膜，以及使用其的光學機器用遮光環，透鏡單元及攝影機模組 - Google Patents

層積遮光薄膜，以及使用其的光學機器用遮光環，透鏡單元及攝影機模組 Download PDF

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Abstract

[課題]提供一種即便具有通常難以判別表裏的光學密度高的遮光層，也容易判別表裏面的層積遮光薄膜等。 　　[解決手段]層積遮光薄膜(100)，具有：至少具備基材薄膜(11)、設於該基材薄膜(11)的一方的主面(11a)側的遮光層(21)、及設於另一方的主面(11b)側的遮光層(31)的層積構造；遮光層(21)及遮光層(31)具有合計2.5以上的光學密度；在CIE 1976 L＊ a＊ b表色系統中，遮光層(21)與遮光層(31)色差ΔE＊ab差異0.2以上。又，基材薄膜(11)、遮光層(21)及/或遮光層(31)具有使薄膜寬度從遮光層(21)朝向遮光層(31)擴展開的傾斜端面(12)、(22)、(32)較佳。

Description

層積遮光薄膜，以及使用其的光學機器用遮光環，透鏡單元及攝影機模組
本發明係有關於層積遮光薄膜、以及使用其的光學機器用遮光環、透鏡單元及攝影機模組。
在例如行動電話、智慧手機等資訊通信終端或數位攝影機等的電子機器中，內藏有用以攝影被攝物體並變換成影像信號的攝影機模組。該攝影機模組具備：攝像被攝物體的攝像元件、及用以在該攝像元件上成像被攝物體的影像的透鏡單元。透鏡單元通常由組合複數透鏡而構成。
在這種攝影機模組中，要求要除去不要的入射光及反射光等，防止光暈、透鏡閃光、鬼影等的發生，而使攝像影像的畫質提升。因此，提案具有用以截斷不要的光的遮光構件的透鏡單元及攝影機模組等。
作為這種遮光構件，提案有將含有碳黑、滑劑、微粒子及黏著劑樹脂的遮光層形成於基材薄膜的兩面的遮光薄膜(參照專利文獻1及2)。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]特開平9-274218號公報 　　[專利文獻2]WO2006/016555號公報
[發明所欲解決的問題]
近年，橫跨世界的模組化持續進展，以將複數透鏡與遮光板在光軸方向堆疊的透鏡單元、在該透鏡單元又組入攝像元件的攝影機模組等的形態，在世界各國的製造工廠中，分別製造及管理。隨此，成為各模組的一部件的遮光薄膜及遮光構件，也在各地分別被搬送及製造管理。
其中，從遮光薄膜製作成所期望形狀的遮光構件時、或將遮光構件組入模組時，若沒有判明遮光薄膜及遮光構件的表裏面的話，可能會成為組入不良等的製造故障原因。接著，在橫跨世界的模組化持續進展的現在，在世界各地徹底達到遮光薄膜及遮光構件的管理(表裏面的確認)並非容易。
又，因為攝影機模組的小型及薄膜化的進展，會搭載極小的尺寸的遮光構件。接著，例如在設置黑色的遮光層的遮光薄膜中，大小成為數平方公分以下的話，遮光薄膜的表裏判別會變得極為困難。特別是在光學密度高的遮光薄膜中，該傾向會變得顯著。
本發明鑑於上述課題而完成。亦即本發明的目的為提供一種即便具有通常難以判別表裏的光學密度高的遮光層，也容易判別表裏面的層積遮光薄膜、以及使用其的光學機器用遮光環、透鏡單元及攝影機模組等。 [解決問題的手段]
本發明者們，為了解決上述課題而從人體工學的探討進行銳意檢討。其結果，發現藉由在第一遮光層及前述第二遮光層設定預定的色差ΔE＊ ab，再因應必要使端面作為特點作用，而能解決上述課題，進而完成本發明。
亦即，本發明提供以下所示的各種具體態樣。 　　(1)一種光學機器用層積遮光薄膜，具有：至少具備第一遮光層、及第二遮光層的層積構造；前述第一遮光層及前述第二遮光層合計具有2.5以上的光學密度；前述第一遮光層及前述第二遮光層分別具有未滿10%的60度光澤度；在CIE 1976 L＊ a＊ b表色系統中，前述第一遮光層與前述第二遮光層的色差ΔE＊ ab為0.2以上。 　　(2)如上述(1)所記載的光學機器用層積遮光薄膜，其中，前述第一遮光層及/或前述第二遮光層具有使薄膜寬度從前述第一遮光層朝向前述第二遮光層擴展開的傾斜端面；從前述第一遮光層的主面的法線方向俯視時，前述傾斜端面露出。 　　(3)如上述(1)或(2)所記載的光學機器用遮光環，其中，在前述第一遮光層及/或前述第二遮光層設有中空部，在前述中空部的內周具有傾斜端面。
(4)如上述(2)或(3)所記載的光學機器用層積遮光薄膜，其中，前述第一遮光層的前述主面與前述傾斜端面連結的傾斜角為10～87°。 　　(5)如上述(1)~(4)中任一項所記載的光學機器用層積遮光薄膜，其中，前述第一遮光層與前述第二遮光層的色差ΔE＊ ab為0.4以上。 　　(6)如上述(1)~(5)中任一項所記載的光學機器用層積遮光薄膜，其中，前述第一遮光層及前述第二遮光層的至少一者，具有超過2%且10%以下的60度光澤度。 　　(7)如上述(1)~(6)中任一項所記載的光學機器用層積遮光薄膜，其中，前述第一遮光層的明度指數L＊ 為1以上35以下；前述第二遮光層的明度指數L＊ 為1以上35以下；前述第一遮光層與前述第二遮光層的明度指數L＊ 的差為1以上30以下； 　　(8)如上述(1)~(7)中任一項所記載的光學機器用層積遮光薄膜，其中，前述第一遮光層與前述第二遮光層具有相異的60度光澤度，且前述第一遮光層與前述第二遮光層的60度光澤度之差為1.0～4.5%。 　　(9)如上述(1)~(8)中任一項所記載的光學機器用層積遮光薄膜，具有：至少具備基材薄膜、設於前述基材薄膜的一方的主面側的前述第一遮光層、及設於前述基材薄膜的另一方的主面側的第二遮光層的層積構造。 　　(10)如上述(1)~(9)中任一項所記載的光學機器用層積遮光薄膜，其中，前述基材薄膜具有80.0～99.9%的全光線透過率。 　　(11)如上述(9)或(10)所記載的光學機器用層積遮光薄膜，其中，前述基材薄膜具有0.5μm以上50μm以下的厚度。
(12)一種光學機器用遮光環，具有環狀的外形形狀；且具有：至少具備第一遮光層、及第二遮光層的層積構造；前述第一遮光層及前述第二遮光層合計具有2.5以上的光學密度；前述第一遮光層及前述第二遮光層分別具有未滿10%的60度光澤度；在CIE 1976 L＊ a＊ b表色系統中，前述第一遮光層與前述第二遮光層的色差ΔE＊ ab為0.2以上。 　　(13)如上述(12)所記載的光學機器用遮光環，其中，前述第一遮光層及/或前述第二遮光層具有使薄膜寬度從前述第一遮光層朝向前述第二遮光層擴展開的傾斜端面；從前述第一遮光層的主面的法線方向俯視時，前述傾斜端面露出。 　　(14)如上述(12)或(13)所記載的光學機器用遮光環，其中，在前述第一遮光層及/或前述第二遮光層設有中空部，在前述中空部的內周具有傾斜端面。 　　(15)如上述(12)~(14)中任一項所記載的光學機器用遮光環，具有：至少具備基材薄膜、設於前述基材薄膜的一方的主面側的前述第一遮光層、及設於前述基材薄膜的另一方的主面側的第二遮光層的層積構造。
(16)一種透鏡單元，係複數透鏡及至少1個以上的遮光板在前述透鏡的光軸方向堆疊的透鏡單元，其中，前述遮光板的至少1個以上，包含：如上述(1)~(11)中任一項所記載的光學機器用層積遮光薄膜、及/或如上述(12)～(15)中任一項所記載的光學機器用遮光環。 　　(17)一種攝影機模組，係至少具有：複數透鏡及至少1個以上的遮光板在前述透鏡的光軸方向堆疊的透鏡單元、及通過前述透鏡單元來攝像被攝物體的攝像元件的攝影機模組，其中，前述遮光板的至少1個以上，包含：如上述(1)~(11)中任一項所記載的光學機器用層積遮光薄膜、及/或如上述(12)～(15)中任一項所記載的光學機器用遮光環。 [發明的效果]
根據本發明，能夠提供一種即便具有光學密度高的遮光層，也容易判別表裏的層積遮光薄膜以及光學機器用遮光環。接著藉由使用該等層積遮光薄膜及光學機器用遮光環，能提升模組製造現場的操作性，及減輕部件管理的負擔。因此，能夠抑制組入不良等的製造故障的產生，使良率提升。因此，使用該等的透鏡單元及攝影機模組等成為生產性及經濟性佳者。
以下，參照圖式詳細地說明有關本發明的實施形態。此外，上下左右等的位置關係，只要沒特別限定，即以圖式所示的位置關係為依據。又，圖式的尺寸比例並不限於圖示的比例。但是，以下的實施形態，為用以說明本發明的例示，本發明並不限於此。此外，在本說明書中，例如「1～100」的數值範圍的表記，為包含其上限值「100」及下限值「1」的二者。又，其他的數值範圍的表記也一樣。
(第一實施形態) 　　圖1為模式地表示本發明的第一實施形態的層積遮光薄膜100及其原料滾輪200的斜視圖、圖2為表示層積遮光薄膜100的要部的剖面圖(圖1的II-II剖面)。圖3為層積遮光薄膜100的平面圖。該層積遮光薄膜100，至少具備：基材薄膜11、設於該基材薄膜11的一方的主面11a側的第一遮光層21、及設於另一方的主面11b側的第二遮光層31。接著，層積遮光薄膜100，成為具有至少以遮光層21、基材薄膜11、及遮光層31的順序配列的層積構造(3層構造)。此外，在該層積構造中，配置第一遮光層21於表側的最表面的同時，將第二遮光層31配置於裏側的最表面，如圖2所示，第一及第二遮光層21、31以分別露出表側及裏側的最表面的狀態配置。接著，藉由將該層積遮光薄膜100捲取成有芯或無芯的滾輪狀，構成捲繞體的滾輪原料200。
在本說明書中，所謂「設於基材薄膜的一方(另一方)的主面側」，不只是如本實施形態在基材薄膜11的表面(例如主面11a或主面11b)直接載置遮光層21、31的態樣，也包含在基材薄膜11的表面與遮光層21、31之間隔介著任意的層(例如底塗層、黏接層等)的態樣。又，所謂至少具備第一遮光層21、及第二遮光層31的層積構造，不只是僅直接層積第一遮光層21及第二遮光層31的構造，還包含上述3層構造、及將任意的層再設於3層構造的構造。
基材薄膜11只要能夠支持遮光層21、31者，其種類則沒有特別限定。從尺寸安定性、機械強度及輕量化等觀點來看，較佳為使用合成樹脂薄膜。作為合成樹脂薄膜的具體例，可以是聚酯纖維薄膜、ABS(丙烯腈-丁二烯-苯乙烯)薄膜、聚酰亞胺薄膜、聚苯乙烯薄膜、聚碳酸酯薄膜等。又，也可以使用丙烯酸系、聚烯烴系、纖維素系、聚碸系、聚苯硫醚系、聚醚碸系、聚醚醚酮系的薄膜。在該等之中，作為基材薄膜11，較佳為使用聚酯纖維薄膜及聚醯亞胺薄膜。尤其是一軸或二軸延伸薄膜，特別是二軸延伸聚酯纖維薄膜其機械強度及尺寸安定性佳，特別適合。又，在耐熱用途，一軸或二軸延伸聚酰亞胺薄膜特別佳。該等可以單獨使用1種，又組合2種以上來使用也可以。
基材薄膜11的厚度可以因應要求性能及用途來適宜地設定，沒有特別限定。從輕量化及薄膜化的觀點來看，基材薄膜11的厚度較佳為0.5μm以上50μm以下，更佳為1μm以上25μm以下，再更佳為4μm以上10μm以下，特佳為5μm以上7μm以下。此外，從使遮光層21、31間的黏接性提升的觀點來看，因應必要，也可以在基材薄膜11表面進行錨塗處理及電暈處理等各種公知的表面處理。
在基材薄膜11的外周側面(外周端面)設有傾斜端面12。藉由該傾斜端面12，基材薄膜11的剖面構造成為下底比上底還長的梯形狀，基材薄膜11的薄膜寬度成為從遮光層21朝向遮光層31擴展開的構造(參照圖2)。
該傾斜端面12，在將基材薄膜11如圖2所示設為平坦狀態時，為了從基材薄膜11的主面11a側能夠辨視，以在從基材薄膜11的主面11a的法線方向俯視時露出的方式設置(參照圖3)。具體來說，基材薄膜11的主面11a與傾斜端面12連結的傾斜角θ(俯角θ)設定成10～87°。以使從主面11a側俯視時的傾斜端面12的辨識性提升，並維持基材薄膜11端面的強度、及維持生產性等的觀點來看，傾斜角θ較佳為30～85°，更佳為40～83°，再更佳為45～80°。此外，只要傾斜端面12能從基材薄膜11的主面11a側辨視，例如為了薄膜端面的強化，在傾斜端面12設置透明乃至半透明的保護層等也可以。
此外，基材薄膜11的外觀可以是透明、半透明、不透明的任一者，並沒有特別限制。例如也可以使用發泡聚酯纖維薄膜等發泡的合成樹脂薄膜、或碳黑等黑色顏料或使其含有其他顏料的合成樹脂薄膜。以使從主面11a側俯視時的傾斜端面12的辨識性提升的觀點來看，基材薄膜11較佳為具有80.0～99.9%的全光線透過率，更佳為83.0～99.0%，再更佳為85.0～99.0%。
遮光層21、31為合計具有2.5以上的光學密度(OD)的遮光膜。此外，本說明書中，光學密度(OD)為以JIS-K7651：1988為準據，使用光學密度計(TD-904：GretagMacbeth社)及UV濾波器測定得到的值。從使其具備高遮光性的觀點來看，遮光層21、31分別為單層具有1.5以上的光學密度(OD)者較佳，分別為單層具有1.7以上的光學密度(OD)者更佳。又，使遮光層21、31層積時，該層積體的光學密度(OD)較佳為2.5～6.0，更佳為4.5～6.0，再更佳為5.0～6.0。
又，設定遮光層21、31的60度光澤度之差後，表裏判別變得更容易。其中，60度光澤度為以JIS-Z8741：1997為準據，使用數位變角光澤計(UGV-5K：SUGA試驗機社製)而測定入射受光角60°的遮光層21、31表面的光澤度(鏡面光澤度)(%)而得到的值。從遮光性、低光澤、低反射性、光吸收性等的平衡的觀點來看，遮光層21及遮光層31的至少一者，具有超過2%且10%以下的60度光澤度較佳。作為其較佳的態樣的一個，有遮光層21的60度光澤度為0.01%以上10%以下，更佳為0.1%以上8%以下，再更佳為0.3%以上5%以下，遮光層31的60度光澤度為超過2%且10%以下，較佳為2.2%以上8%以下，再更佳為2.4%以上10%以下的態樣。又，遮光層21與遮光層31分別具有未滿10%的60度光澤度，且以遮光層21與遮光層31的60度光澤度之差為1.0～4.5%，較佳為1.5～4.0%，再更佳為1.8～3.5%的方式，使遮光層21與遮光層31具有相異的60度光澤度較佳。
在本實施形態的層積遮光薄膜100中，從人體工學的探討來看，在具有上述的光學密度及60度光澤度的遮光層21與遮光層31中，具有再採用將色差ΔE＊ ab設為0.2以上的1個特徵。此外，色差ΔE＊ ab指的是以JIS-Z8730：2009為準據，使用色度計分別求出遮光層21及遮光層31的色相L＊ 值、a＊ 值、b＊ 值，作為該等差分算出的值。此時，遮光層21與遮光層31的色差ΔE＊ ab，考慮目視時的表裏面的判別性或光學密度(遮光性)的平衡來適宜設定即可，雖沒有特別限定，但較佳為0.4以上，更佳為0.8以上，再更佳為1.6以上，特佳為3.2以上。此外，遮光層21與遮光層31的色差ΔE＊ ab的上限值，雖沒有特別限定，但通常目標為25.0。
其中，再使遮光層21的明度與遮光層31的明度互異的話，層積遮光薄膜100的表裏的判別會變得更容易。其中，明度之差能以CIE 1976 L＊ a＊ b表色系統中的明度指數L＊ 來表示。具體來說，將遮光層21的明度指數L＊ 設為1以上35以下，將遮光層31的明度指數L＊ 設為1以上35以下，將遮光層21與遮光層31的明度指數L＊ 之差設為1以上30以下，較佳為1～20，更佳為2～15，再更佳為3～10。
作為具有該種特性的遮光膜(遮光層21、31)的素材，可以使用該業界所公知者，其種類沒有特別限制。此外，作為光學密度高的遮光膜，較佳為使用施予1種以上的黑色、灰色、紫色、藍色、茶色、紅色、綠色等暗色系的顏料或染料的暗色系遮光膜。例如作為黑色系的遮光膜，較佳為使用至少含有黏著劑樹脂以及黑色顏料、及因應必要調配的暗色系的顏料或染料的黑色遮光膜(換言之，黑色遮光層21、32)。以下，舉該黑色遮光膜作為例子詳述。
作為黏著劑樹脂，可以是聚(甲基)丙烯酸系樹脂、聚酯系樹脂、聚醋酸乙烯基系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、聚乙烯醇縮丁醛系樹脂、纖維素系樹脂、聚苯乙烯/聚丁二烯樹脂、聚氨酯系樹脂、醇酸樹脂、丙烯酸系樹脂、不飽和聚酯系樹脂、環氧酯系樹脂、環氧系樹脂、環氧丙烯酸酯系樹脂、聚氨酯丙烯酸系樹脂、聚酯丙烯酸酯系樹脂、聚醚丙烯酸系樹脂、酚醛系樹脂、密胺系樹脂、尿素系樹脂、鄰苯二甲酸二烯丙酯系樹脂等熱可塑性樹脂或熱硬化性樹脂，但並沒有特別限定。又，也可以使用熱可塑性彈性體、熱硬化性彈性體、紫外光硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂等。該等可以單獨使用1種，又組合2種以上來使用也可以。此外，黏著劑樹脂因應要求性能及用途，可以適宜選擇使用。例如，在要求耐熱性的用途中，較佳為熱固性樹脂。
遮光層21、31中的黏著劑樹脂的含有量(總量)雖沒有特別限定，但從黏接性、遮光性、附耐傷性、滑動性及消光性等的觀點來看，較佳為40～90質量%，更佳為50～85質量%、再更佳為60～80質量%。
黑色顏料為將黏著劑樹脂著色成黑色並賦予遮光性者。作為黑色顏料的具體例，例如，有黑色樹脂粒子、磁鐵礦系黑、銅・鐵・錳系黑、鈦黑、碳黑等，但沒特別限制。在其中，因為隱蔽性佳，較佳為黑色樹脂粒子、鈦黑、碳黑，更佳為碳黑。該等可以單獨使用1種，又組合2種以上來使用也可以。又同樣地，關於因應必要配合的暗色系的顏料或染料，從公知的材料中適宜選擇使用即可。
作為碳黑，已知有石油爐黑、燈黑、槽黑、煤氣爐黑、乙炔黑、熱碳黑、科琴黑等以各種公知的製法製作者，但其種類沒有特別的限制。從對遮光層21、31賦予導電性而防止靜電造成的帶電的觀點來看，使用導電性碳黑特佳。從碳黑的歷史久遠的例如三菱化學株式會社、旭碳株式會社、御國色素株式會社、Resino Color工業株式會社、Cabot社、DEGUSSA社等，市售有各種等級的碳黑單體及碳黑分散液，因應要求性能及用途，從其中適宜選擇即可。此外，碳黑的粒子大小，可以因應要求性能等來適宜地設定，沒有特別限定。碳黑的平均粒徑D50 較佳為0.01～2.0μm，更佳為0.05～0.1.0μm、再更佳為0.08～0.5μm 。此外，本說明書中的平均粒徑意味著以雷射繞射式粒度分佈測定裝置(例如，島津製作所社：SALD-7000等)測定的體積基準的中值徑(D50 )。
遮光層21、31中的黑色顏料的含有量(總量)雖沒有特別限定，但從分散性、製膜性、操作性、黏接性、滑動性、消光性、耐磨耗性等的觀點來看，以相對於遮光層21、31中含有的全樹脂成分的固態成分換算(phr)，較佳為10～60質量%，更佳為15～50質量%、再更佳為20～40質量%。
遮光層21、31的厚度可以因應要求性能及用途來適宜地設定，沒有特別限定。從高光學密度、輕量化及薄膜化的觀點來看，遮光層21、31的厚度分別較佳為0.1μm以上，更佳為0.2μm以上，再更佳為0.5μm以上，特佳為1μm以上，上限側較佳為15μm以下，更佳為12μm以下，再更佳為9μm以下，特佳為6μm以下。
此外，從輕量化及薄膜化的觀點來看，層積遮光薄膜100的總厚度較佳為0.5μm以上50μm以下，更佳為1μm以上，再佳為5μm以上，更佳為40μm以下，再更佳為25μm以下。
在本實施形態的層積遮光薄膜100中，從人體工學的探討來看，在具有上述的光學密度及60度光澤度的遮光層21與遮光層31中，具有再採用將色差ΔE＊ ab設為0.2以上的1個特徵。藉由這樣採用再賦予色差ΔE＊ ab的遮光層21及遮光層31，光學密度、光澤、亮感、色差等相互配合的結果，知覺色差增強，藉此，以非接觸亦即目視，判別層積遮光薄膜100的表裏變得極為容易。
作為遮光層21與遮光層31的色差ΔE＊ ab的調整方法，例如，有使在遮光層21與遮光層31的黑色顏料的含有量相異的方法、在遮光層21與遮光層31使用黑色度不同的黑色顏料的方法、在遮光層21與遮光層31使用大小不同的黑色顏料的方法、在遮光層21與遮光層31使表面粗糙度相異的方法、在遮光層21與遮光層31使用色相不同的黏著劑樹脂的方法、僅在遮光層21及遮光層31的一者併用黑色顏料與暗色系的顏料或染料的方法、將使用的黑色顏料與暗色系的顏料或染料的種類在遮光層21及遮光層31互異的方法等，但沒有特別限定。又，藉由調配用於遮光膜的各種公知的添加劑，也能調整明度、色相、及/或彩度。該等調整方法，可以使各種方法分別單獨或適宜組合而進行。
又，作為遮光層21與遮光層31的60度光澤度的調整方法，例如，有使在遮光層21與遮光層31的黑色顏料的含有量相異的方法、在遮光層21與遮光層31使用黑色度不同的黑色顏料的方法、在遮光層21與遮光層31使用大小不同的黑色顏料的方法、在遮光層21與遮光層31使表面粗糙度相異的方法、在遮光層21與遮光層31使用色相不同的黏著劑樹脂的方法、僅在遮光層21及遮光層31的一者併用黑色顏料與暗色系的顏料或染料的方法、將使用的黑色顏料與暗色系的顏料或染料的種類在遮光層21及遮光層31互異的方法等，但沒有特別限定。又，藉由調配用於遮光膜的各種公知的添加劑，也能調整明度、色相、及/或彩度。該等調整方法，可以使各種方法分別單獨或適宜組合而進行。
在遮光層21、31的外周側面，對應上述的傾斜端面12具有傾斜角θ的傾斜端面22、32(外周端面22、32)設於兩側面(2位置)。該等傾斜端面22、32，在將遮光層21、31如圖2所示設為平坦狀態時，為了能夠從遮光層21的主面21a側辨視，以在從遮光層21的主面21a的法線方向俯視時露出的方式設置(參照圖3)。具體來說，遮光層21的主面21a與傾斜端面22、32連結的傾斜角θ設定成10～87°。此外，只要傾斜端面22、32能從遮光層21的主面21a側辨視，例如為了薄膜端面的強化，在傾斜端面22、32設置透明乃至半透明的保護層等也可以。以這樣構成，若利用基材薄膜11與遮光層21、31間的色相、彩度、明度、透明度、60度光澤度、全光線透過率等的差異的話，又更加提升遮光層21、31的判別性。在這裡，雖不特別限定傾斜端面22、32的傾斜角θ，但較佳為與傾斜端面12一樣為10～87°，更佳為30～85°，再更佳為40～83°，特佳為45～80°。藉由設定成與傾斜端面12相同或同程度的傾斜角，會有能容易維持於高端面強度的傾向，又有容易提升生產性的傾向。
此外，遮光層21、31，可以含有當業界公知的各種添加劑。作為該具體例，有霧化劑(消光劑)、滑劑、導電劑、阻燃劑、抗菌劑、抗黴劑、抗氧化劑、可塑劑、均勻劑、流動控制劑、消泡劑、分散劑等，但沒有特別限定。作為霧化劑，有交聯聚甲基丙烯酸甲酯粒子、交聯聚苯乙烯粒子等有機系微粒子、二氧化矽、甲基矽酸鋁酸鎂、氧化鈦等無機系微粒子等，但沒有特別限定。作為滑劑，有聚乙烯、石臘、蠟等碳化氫系滑劑；硬脂酸、12-羥基硬脂酸等脂肪酸系滑劑；硬脂酸醯胺、油酸醯胺、芥酸醯胺等醯胺系滑劑；硬脂酸丁酯、硬脂酸單甘油酯等酯系滑劑；酒精系滑劑；金屬肥皂、滑石、二硫化鉬等固體潤滑劑；矽氧樹脂粒子、聚四氟化乙烯蠟、聚氟化亞乙烯等氟樹脂粒子等，但並沒有特別限定。其中，特別適合使用有機系滑劑。又，作為黏著劑樹脂，使用紫外光硬化型樹脂或電子束硬化型樹脂時，例如使用n-丁基胺、三乙基胺、 三-n-丁基膦等增感劑或紫外線吸收劑等也可以。該等可以單獨使用1種，又組合2種以上來使用也可以。其等的含有比例雖沒有特別限定，但以相對於遮光層21、31中含有的全樹脂成分的固態成分換算，一般分別為0.01～5質量%較佳。
又，遮光層21、31較佳為具有10.0%以下的可見光反射率。在這裡，可見光反射率指的是使用分光光度計(島津製作所社製，分光光度計SolidSpec-3700等)及作為標準板使用硫酸鋇，對遮光層21、31以入射角8°入射光時的相對全光線反射率。從使其具備更高遮光性等的觀點來看，遮光層21、31的可見光反射率為8%以下更佳，再更佳為6%以下，特佳為4%以下。此外，從提高遮光層21、31的判別性的觀點來看，遮光層21與遮光層31的可見光反射率之差為1%以上較佳。又，作為層積遮光薄膜100，可見光以外的紅外(800～1000nm)範圍的擴散反射率，較佳為10%以下，更佳為8%以下、再更佳為6%以下，特佳為4%以下。
再來，遮光層21、31，以使其具備充分的抗靜電性能的觀點來看，較佳為具有未滿1.0×108 Ω的表面電阻率，更佳為未滿1.0×105 Ω，再更佳為滿5.0×104 Ω。此外，在本說明書中，表面電阻率設為以JIS-K6911：1995為準據測定的值。
層積遮光薄膜100的製造方法，只要能夠得到上述構成，並沒有特別限定。從在基材薄膜11上將遮光層21、31以高再現性簡易且低成本地製造的觀點來看，適合使用刮刀塗佈、浸塗法、滾輪塗佈、棒塗佈、模塗佈、刮刀塗佈、空氣刀塗佈、觸壓塗佈、噴塗法、旋轉塗佈等從前公知的塗佈方法。
例如，將在溶劑中含有上述黏著劑樹脂及黑色顏料、還有因應必要調配的作為任意成分的添加劑的塗佈液，在基材薄膜11的主面上塗佈，使其乾燥後，藉由因應必要進行熱處理及加壓處理等，可在基材薄膜11上製造遮光層21、31。作為在這裡使用的塗佈液的溶劑，可以使用水；甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮等酮系溶劑；醋酸甲基、醋酸乙酯、乙酸丁酯等酯系溶劑；甲基溶纖劑、乙基溶纖劑等醚系溶劑；甲基酒精、乙基酒精、異丙醇等酒精系溶劑、以及其等的混合溶劑等。此外，為了使基材薄膜11與遮光層21、31間的黏接提升，因應必要也可以進行錨定處理及電暈處理等。再來，因應必要，在基材薄膜11與遮光層21、31之間設置底塗層及黏接層等中間層也可以。此外，藉由壓縮成形、射出成形、吹製成形、轉移成形、壓出成形等各種公知的成形方法，也能夠簡易地得到具有所期望形狀的層積遮光薄膜100。又，一旦形成片狀之後，也可以進行真空成形或壓空成形等。
又，關於傾斜端面12、22、32的形成方法也沒有特別限定。適宜地適用各種公知的手法，能夠作成具有任意傾斜角θ的傾斜端面12、22、32。例如，準備在基材薄膜11上設有遮光層21及遮光層31的層積遮光薄膜，藉由將其外周側面以上述傾斜角θ切落(裁斷)，能夠簡易地設置傾斜端面12、22、32。又，不需要傾斜端面22、32時，準備預先設有任意傾斜角θ的傾斜端面12的基材薄膜11，在該基材薄膜11上設置遮光層21及遮光層31也可以。
(作用) 　　在本實施形態的層積遮光薄膜100及原料滾輪200中，合計具有2.5以上的光學密度的第一遮光層21與第二遮光層31，係採用具有預定的60度光澤度、及預定的色差ΔE＊ ab的第一遮光層21與第二遮光層31。因此，藉由將該等作為透鏡單元及攝影機模等光學機器用遮光構件使用，能夠除去不要的入射光及反射光，能夠防止光暈、透鏡閃光、鬼影等的發生，而能使攝像影像的畫質提升。
而且，在上述的層積構造中，因為調整露出表裏面的第一遮光層21與第二遮光層31的光學密度、60度光澤度、及色差ΔE＊ ab，知覺色差增強，藉此，能夠以非接觸亦即目視來容易地進行表裏面的判別。又，在俯視時以能辨視的方式露出的傾斜端面12，因為在薄膜外周緣，能作為具有光澤感及亮感的輝部來認知，格外容易能夠以非接觸亦即目視來進行層積遮光薄膜100的表裏面的判別。這是因為第一遮光層21或第二遮光層31與傾斜端面12(基材薄膜11)間的色相、彩度、明度、透明度、60度光澤度、全光線透過率等的差異所引起的。
又，將本實施形態的層積遮光薄膜100及原料滾輪200在暗處進行操作時，傾斜端面12也能有效作用。亦即，這是因為傾斜端面12(基材薄膜11)因為與第一遮光層21或第二遮光層31間的差異，即便僅有些微的光也能夠作為有光澤感或亮感的輝部明瞭地認知。又，藉由以手指等直接接觸傾斜端面12來確認傾斜方向，也能夠進行表裏面的判別。
(變形例) 　　然而，本發明可以在不脫離其要旨的範圍內，任意地變更並實施。例如，不設置傾斜端面22、32而僅設置傾斜端面12也可以。又，傾斜端面12的形成位置，僅設於基材薄膜11的外周側面的至少一部即可。再來，如本實施形態以在層積遮光薄膜100的MD方向延伸的方式設於基材薄膜11的兩側面(2位置)，以在基材薄膜11的TD方向延伸的方式設於基材薄膜11的一側面(1位置)或兩側面(2位置)也可以。或者，在基材薄膜11的外周側面的全面(全周)設置傾斜端面12也可以。又，在MD方向及/或TD方向延伸的傾斜端面12，如本實施形態連續地形成也可以，又，斷續地形成也可以。再來，在上述的實施形態中，雖示出在基材薄膜11的表裏設置遮光層21及遮光層31的態樣，但不設置基材薄膜11，而作為遮光層21及遮光層31的層積構造(2層構造)也可以。又，上述的層積構造體，在層積遮光薄膜100的操作時，在表裏面為露出遮光層21及遮光層31的狀態即可，在之後的使用時或實裝時，以包覆遮光層21及遮光層31的露出面的方式形成保護層或其他遮光層等的追加層也可以。再來，從2個以上的遮光膜形成遮光層21、31也可以。例如將層積遮光膜21a及遮光膜21b的層積遮光層作為遮光層21也能夠適用。關於遮光層31也一樣。此時，作為遮光膜21a及遮光膜21b的層積體，滿足遮光層21所要求的上述各種性能・物性即可。關於遮光層31也一樣。
(第二實施形態) 　　圖4為模式地表示本發明的第二實施形態的透鏡單元41及攝影機模組51的分解斜視圖。透鏡單元41由透鏡群42(透鏡42A、42B、42C、42D、42E)、多段圓筒狀的保持具43、作為遮光性間隙物的光學機器用遮光環100A、100B、100C(層積遮光薄膜100)構成。保持具43的內周部設有複數段差部43a、43b、43c。接著，利用該段差部43a、43b、43c，透鏡群42及光學機器用遮光環100A、100B、100C以在配置於同軸上(相同光軸上)並堆疊的狀態，收納配置於保持具43內的預定位置。在這裡，作為透鏡42A、42B、42C、42D、42E，可以使用凸透鏡或凹透鏡等各種透鏡，其曲面可以是球面也可以是非球面。另一方面，攝影機模組51，由上述的透鏡單元41、及配置於該透鏡單元41的光軸上，通過透鏡單元41將被攝物體攝像的CCD影像感測器及CMOS影像感測器等攝像元件44構成。
圖5為模式地表示光學機器用遮光環100A的剖面圖。光學機器用遮光環100A為將上述第一實施形態的層積遮光薄膜100沖孔加工成環狀(中空筒狀)而得到者。因此，光學機器用遮光環100A與上述第一實施形態的層積遮光薄膜100具有同樣的層積構造。
光學機器用遮光環100A為於俯視時在略中央位置設置圓狀的中空部S，外形為環狀(中空筒狀)的遮光板。在本實施形態，在光學機器用遮光環100A的外周側面，沒有設置上述的傾斜端面12、22、32，該等的外周側面在剖面視時形成矩形狀。亦即，在本實施形態的光學機器用遮光環100A中，外周端面的傾斜角θ成為90°。另一方面，在本實施形態的光學機器用遮光環100A中，設置有對應上述的傾斜端面12、22、32的傾斜端面13、23、33。此外，光學機器用遮光環100B、100C除了外徑的大小及中空部S的外徑大小分別不同以外，與光學機器用遮光環100A為同樣的構成，在此省略重複的說明。
(作用) 　　在本實施形態的光學機器用遮光環100A、100B、100C中，合計具有2.5以上的光學密度的遮光層21與遮光層31，也一樣採用具有預定的60度光澤度、及預定的色差ΔE＊ ab的遮光層21與遮光層31。因此，藉由將該等作為透鏡單元及攝影機模等光學機器用遮光構件使用，能夠除去不要的入射光及反射光，能夠防止光暈、透鏡閃光、鬼影等的發生，而能使攝像影像的畫質提升。
而且，在上述的層積構造中，因為調整露出表裏面的遮光層21與遮光層31的光學密度、60度光澤度、及色差ΔE＊ ab，知覺色差增強，藉此，能夠以非接觸亦即目視來極為容易地進行光學機器用遮光環100A、100B、100C的表裏面的判別。因此，利用該等光學機器用遮光環100A、100B、100C的透鏡單元41及攝影機模組51，在其保管時或組入時，也抑制了基於表裏面的誤認的組入不良等的製造故障。
再來，在本實施形態的光學機器用遮光環100A中，更設置傾斜端面13、23、33，更加提高遮光層21、31的判別性。藉由這樣在光軸側的端面(內周端面)設置傾斜端面13、23、33，能夠除去不要的反射光，能夠防止光暈、透鏡閃光、鬼影等的發生，而能使攝像影像的畫質提升。
(變形例) 　　然而，本發明可以在不脫離其要旨的範圍內，任意地變更並實施。例如，層積遮光薄膜100(光學機器用遮光環100A，100B，100C)的外形形狀，例如可採用俯視時為長方形狀、正方形狀、六角形狀等多角形狀、橢圓形狀、不定形狀等任意的形狀。又，光學機器用遮光環100A、100B、100C的中空部S的形狀，在本實施形態中於俯視時雖然也形成圓狀，但其外形沒有特別限定。例如可採用俯視時為長方形狀、正方形狀、六角形狀等多角形狀、橢圓形狀、不定形狀等任意的形狀。再來，在本實施形態中，雖設置上述傾斜端面12、22、32，但因應必要，也能夠適宜地設置傾斜端面12、及傾斜端面22、32中的一者或兩者。再來，在上述的實施形態中，雖示出在基材薄膜11的表裏設置遮光層21及遮光層31的態樣，但不設置基材薄膜11，而作為遮光層21及遮光層31的層積構造(2層構造)也可以。又，上述的層積構造體，在層積遮光薄膜100的操作時，在表裏面為露出遮光層21及遮光層31的狀態即可，在之後的使用時或實裝時，以包覆遮光層21及遮光層31的露出面的方式形成保護層或其他遮光層等的追加層也可以。再來，從2個以上的遮光膜形成遮光層21、31也可以。例如將層積遮光膜21a及遮光膜21b的層積遮光層作為遮光層21也能夠適用。關於遮光層31也一樣。此時，作為遮光膜21a及遮光膜21b的層積體，滿足遮光層21所要求的上述各種性能・物性即可。關於遮光層31也一樣。 [產業上的利用可能性]
本發明在精密機械領域、半導體領域、光學機器領域、電子機器等中作為高性能的遮光構件能夠廣泛且有效的利用。尤其是，作為用於搭載於高性能單眼攝影機、小型攝影機、視訊攝影機、行動電話、投影機、車載攝影機、車載感測器、光學感測器等的透鏡單元或攝影機模組或感測器單元等的遮光構件，特別能夠有效利用。
11‧‧‧基材薄膜11a‧‧‧表面(主面)11b‧‧‧表面(主面)12‧‧‧傾斜端面13‧‧‧傾斜端面21‧‧‧遮光層21a‧‧‧表面(主面)22‧‧‧傾斜端面23‧‧‧傾斜端面31‧‧‧遮光層31a‧‧‧表面(主面)32‧‧‧傾斜端面33‧‧‧傾斜端面41‧‧‧透鏡單元42‧‧‧透鏡群42A‧‧‧透鏡42B‧‧‧透鏡42C‧‧‧透鏡42D‧‧‧透鏡42E‧‧‧透鏡43‧‧‧保持具43a‧‧‧段差部43b‧‧‧段差部43c‧‧‧段差部44‧‧‧攝像元件51‧‧‧攝影機模組100‧‧‧層積遮光薄膜100A‧‧‧光學機器用遮光環(層積遮光薄膜)100B‧‧‧光學機器用遮光環(層積遮光薄膜)100C‧‧‧光學機器用遮光環(層積遮光薄膜)200‧‧‧原料滾輪θ‧‧‧傾斜角S‧‧‧中空部MD‧‧‧流動方向TD‧‧‧垂直方向
[圖1]模式地表示一實施形態的層積遮光薄膜及其滾輪原料的斜視圖。 　　[圖2]沿圖1的II-II線剖面圖。 　　[圖3]一實施形態的層積遮光薄膜的平面圖。 　　[圖4]模式地表示一實施形態的光學機器用遮光環(層積遮光薄膜)、以及使用其的透鏡單元及攝影機模組的分解斜視圖。 　　[圖5]模式地表示一實施形態的光學機器用遮光環(層積遮光薄膜)的剖面圖。
11‧‧‧基材薄膜
11a‧‧‧表面(主面)
11b‧‧‧表面(主面)
12‧‧‧傾斜端面
21‧‧‧遮光層
21a‧‧‧表面(主面)
22‧‧‧傾斜端面
31‧‧‧遮光層
31a‧‧‧表面(主面)
32‧‧‧傾斜端面
100‧‧‧層積遮光薄膜
θ‧‧‧傾斜角

Claims (17)

  1. 一種光學機器用層積遮光薄膜，具有：至少具備露出表側的最表面配置的第一遮光層、及露出裏側的最表面配置的第二遮光層的層積構造；前述第一遮光層及前述第二遮光層合計具有2.5以上的光學密度；前述第一遮光層及前述第二遮光層分別具有未滿10%的60度光澤度；在CIE 1976 L* a* b表色系統中，前述第一遮光層與前述第二遮光層的色差△E* ab為0.2以上。
  2. 如請求項1所記載的光學機器用層積遮光薄膜，其中，在前述第一遮光層及/或前述第二遮光層設有中空部，在前述中空部的內周具有傾斜端面。
  3. 如請求項1所記載的光學機器用層積遮光薄膜，其中，前述第一遮光層的前述主面與前述傾斜端面連結的傾斜角為10~87°。
  4. 如請求項1所記載的光學機器用層積遮光薄膜，其中，前述第一遮光層與前述第二遮光層的色差△E* ab為0.4以上。
  5. 如請求項1所記載的光學機器用層積遮光薄膜，其中，前述第一遮光層及前述第二遮光層的至少一者，具有超過2%且未滿10%的60度光澤度。
  6. 如請求項1所記載的光學機器用層積遮光薄膜，其中，前述第一遮光層的明度指數L*為1以上35以下；前述第二遮光層的明度指數L*為1以上35以下；前述第一遮光層與前述第二遮光層的明度指數L*的差為1以上30以下。
  7. 如請求項1所記載的光學機器用層積遮光薄膜，其中，前述第一遮光層與前述第二遮光層具有相異的60度光澤度，且前述第一遮光層與前述第二遮光層的60度光澤度之差為1.0~4.5%。
  8. 如請求項1所記載的光學機器用層積遮光薄膜，具有：至少具備基材薄膜、設於前述基材薄膜的一方的主面側的前述第一遮光層、及設於前述基材薄膜的另一方的主面側的第二遮光層的層積構造。
  9. 如請求項8所記載的光學機器用層積遮光薄膜，其中，前述第一遮光層及/或前述第二遮光層具有使前述基材薄膜的薄膜寬度從前述第一遮光層朝向前述第二遮光層擴展開的傾斜端面； 從前述第一遮光層的主面的法線方向俯視時，前述傾斜端面露出。
  10. 如請求項8所記載的光學機器用層積遮光薄膜，其中，前述基材薄膜具有80.0~99.9%的全光線透過率。
  11. 如請求項8所記載的光學機器用層積遮光薄膜，其中，前述基材薄膜具有0.5μm以上50μm以下的厚度。
  12. 一種光學機器用遮光環，具有環狀的外形形狀；且具有：至少具備露出表側的最表面配置的第一遮光層、及露出裏側的最表面配置的第二遮光層的層積構造；前述第一遮光層及前述第二遮光層合計具有2.5以上的光學密度；前述第一遮光層及前述第二遮光層分別具有未滿10%的60度光澤度；在CIE 1976 L* a* b表色系統中，前述第一遮光層與前述第二遮光層的色差△E* ab為0.2以上。
  13. 如請求項12所記載的光學機器用遮光環，其中，在前述第一遮光層及/或前述第二遮光層設有中空部，在前述中空部的內周具有傾斜端面。
  14. 如請求項12所記載的光學機器用遮光環，具有：至少 具備基材薄膜、設於前述基材薄膜的一方的主面側的前述第一遮光層、及設於前述基材薄膜的另一方的主面側的第二遮光層的層積構造。
  15. 如請求項14所記載的光學機器用遮光環，其中，前述第一遮光層及/或前述第二遮光層具有使前述基材薄膜的薄膜寬度從前述第一遮光層朝向前述第二遮光層擴展開的傾斜端面；從前述第一遮光層的主面的法線方向俯視時，前述傾斜端面露出。
  16. 一種透鏡單元，係複數透鏡及至少1個以上的遮光板在前述透鏡的光軸方向堆疊的透鏡單元，其中，前述遮光板的至少1個以上，包含：如請求項1~11中任一項所記載的光學機器用層積遮光薄膜、及/或如請求項12~15中任一項所記載的光學機器用遮光環。
  17. 一種攝影機模組，係至少具有：複數透鏡及至少1個以上的遮光板在前述透鏡的光軸方向堆疊的透鏡單元、及通過前述透鏡單元來攝像被攝物體的攝像元件的攝影機模組，其中，前述遮光板的至少1個以上，包含：如請求項1~11中任一項所記載的光學機器用層積遮光薄膜、及/或如請求項12~15中任一項所記載的光學機器用遮光環。
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