TWI736685B - 層合遮光薄膜、以及使用其之光學機器用遮光環、透鏡單元及相機模組 - Google Patents

層合遮光薄膜、以及使用其之光學機器用遮光環、透鏡單元及相機模組 Download PDF

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Abstract

本發明係提供一種具有黑色之遮光層，同時表背面之判別為容易的層合遮光薄膜等。層合遮光薄膜(100)係具有一種層合構造，該層合構造至少具備基材薄膜(11)、與設置於此基材薄膜(11)之一方之主面(11a)側的第一黑色遮光層(21)、與設置於另一方之主面(11b)側的第二黑色遮光層(31)。第一黑色遮光層(21)及第二黑色遮光層(31)係各自具有2.5以上之光學密度及5.0%以下之60度光澤度，第一黑色遮光層(21)係具有與第二黑色遮光層(31)不同的60度光澤度及/或明度指數(L*)。基材薄膜(11)、第一黑色遮光層(21)及/或第二黑色遮光層(31)係具有由第一黑色遮光層(21)朝向第二黑色遮光層(31)而使薄膜寬度擴開的傾斜端面(12、22、32)為理想。

Description

層合遮光薄膜、以及使用其之光學機器用遮光環、透鏡單元及相機模組
本發明係關於層合遮光薄膜、以及使用其之光學機器用遮光環、透鏡單元及相機模組。
例如於攜帶式電話、智慧型手機等之資訊通訊終端或數位相機等之電子機器係內藏用以攝影被攝體而變換為影像訊號之相機模組。此相機模組係具備攝像被攝體的攝像元件、和用以於此攝像元件上成像被攝體之影像之透鏡單元。透鏡單元係通常由複數之透鏡之組合而構成。
在此種之相機模組係被要求除去非必要的入射光或反射光，防止光暈(halation)、鏡頭光暈(lens flare)、疊影(ghost)等之發生，使攝像影像之畫質提昇。因此，提案具有用以截除非必要光的遮光構件的透鏡單元 或相機模組等。
作為如此的遮光構件係有提案將含有碳黑、潤滑劑、微粒子及黏合劑樹脂的遮光層形成於基材薄膜之兩面的遮光薄膜(參照專利文獻1及2)。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開平9-274218號公報
[專利文獻2]WO2006/016555號公報
近年來，橫跨世界的模組化進展，堆疊複數之透鏡和遮光板於光軸方向的透鏡單元，於此透鏡單元更組裝攝像元件的相機模組等之形態，在世界各國之製造工廠，各自進行製造及管理。伴隨於此，成為各模組之一零件的遮光薄膜或遮光構件亦在各處各自被搬運及製造管理。
在此，在由遮光薄膜製作所期望形狀之遮光構件時或將遮光構件裝入模組時，若無法判別遮光薄膜或遮光構件之表背面，則會成為組裝不良等之製造故障之原因。然後，在橫跨世界的模組化進展的最近，於世界各地謀求徹底遮光薄膜或遮光構件之管理(表背面之確認)並不容易。
[0008] 又，藉由相機模組之小型化及薄膜化之進展，成為可搭載極小的尺寸之遮光構件。然後，在設置黑色之遮光層的遮光薄膜係若尺寸成為數公分見方以下，則遮光薄膜之表背判別變得極困難。尤其，在黑色度高(換言之，光學密度高)的遮光薄膜係此傾向變得顯著。 　　[0009] 本發明係鑑於上述課題而為者。亦即，本發明之目的係提供一種具有黑色之遮光層，同時表背面之判別亦為容易的層合遮光薄膜，以及使用此的光學機器用遮光環、透鏡單元及相機模組等。
[0010] 本發明者等係為了解決上述課題，從人體工學上的方法專心致力研討。該結果，使黑色之遮光層之60度光澤度及／或明度指數L＊ 不同，進而按照必要而使端面作為目標(Merkmal)而發揮機能，發現可解決上述課題，達到完成本發明。 　　[0011] 亦即，本發明係提供以下所示的各式各樣之具體的態樣。 　　(1) 一種層合遮光薄膜，其特徵為具有至少具備第一黑色遮光層、以及第二黑色遮光層的層合構造，前述第一黑色遮光層及前述第二黑色遮光層係各自具有2.5以上之光學密度及5.0%以下之60度光澤度，前述第一黑色遮光層係具有與前述第二黑色遮光層不同的60度光澤度及／或明度指數L＊ 。 　　(2) 如上述(1)之層合遮光薄膜，其中，前述第一黑色遮光層及／或前述第二黑色遮光層係具有由前述第一黑色遮光層朝向前述第二黑色遮光層而使薄膜寬度擴開的傾斜端面，以由前述第一黑色遮光層之主面之法線方向所見的俯視，前述傾斜端面露出。 　　[0012] (3) 如上述(2)之層合遮光薄膜，其中，連結前述第一黑色遮光層之前述主面與前述傾斜端面的傾斜角為10～87°。 　　(4) 如上述(1)~(3)中任一項之層合遮光薄膜，其中，前述第一黑色遮光層與前述第二黑色遮光層之60度光澤度之差為1.0～4.5%。 　　(5) 如上述(1)~(4)中任一項之層合遮光薄膜，其中，具有至少具備基材薄膜、被設於前述基材薄膜之一方之主面側的前述第一黑色遮光層、以及被設於前述基材薄膜之另一方之主面側的第二黑色遮光層的層合構造。 　　(6) 如上述(5)之層合遮光薄膜，其中，前述基材薄膜係具有80.0～99.9%之全光線透過率。 　　(7) 如上述(5)或(6)之層合遮光薄膜，其中，前述基材薄膜係具有0.5μm以上、50μm以下之厚度。 　　[0013] (8) 一種光學機器用遮光環，其特徵為具有環狀之外形形狀，具有至少具備第一黑色遮光層、以及第二黑色遮光層的層合構造，前述第一黑色遮光層及前述第二黑色遮光層係各自具有2.5以上之光學密度及5.0%以下之60度光澤度，前述第一黑色遮光層係具有與前述第二黑色遮光層不同的60度光澤度及／或明度指數L＊ 。 　　(9) 如上述(8)之光學機器用遮光環，其中，前述第一黑色遮光層及／或前述第二黑色遮光層係具有由前述第一黑色遮光層朝向前述第二黑色遮光層而使薄膜寬度擴開的傾斜端面，以由前述第一黑色遮光層之主面之法線方向所見的俯視，前述傾斜端面露出。 　　(10) 如上述(9)之光學機器用遮光環，其中，具有至少具備基材薄膜、被設於前述基材薄膜之一方之主面側的前述第一黑色遮光層、以及被設於前述基材薄膜之另一方之主面側的第二黑色遮光層的層合構造。 　　[0014] (11) 一種透鏡單元，其係複數之透鏡及至少1以上之遮光板被堆疊於前述透鏡之光軸方向的透鏡單元，其特徵為前述遮光板之至少1以上為由如上述(1)~(7)之中任一項之層合遮光薄膜及／或如上述(8)~(10)之中任一項之光學機器用遮光環所構成。 　　(12) 一種相機模組，其係至少具有複數之透鏡及至少1以上之遮光板被堆疊於前述透鏡之光軸方向的透鏡單元、與通過前述透鏡單元而攝像被攝體的攝像元件之相機模組，其特徵為前述遮光板之至少1以上為由如上述(1)~(7)之中任一項之層合遮光薄膜及／或如上述(8)~(10)之中任一項之光學機器用遮光環所構成。
[0015]藉由本發明，則可提供一種具有黑色之遮光層，同時表背判別為容易的層合遮光薄膜及光學機器用遮光環。然後，以使用此等層合遮光薄膜及光學機器用遮光環，可提昇在模組製造現場的操作性，減輕零件管理之負擔。因此，可抑制組裝不良等之製造故障之產生，可使良率提昇。因而，使用此等的透鏡單元及相機模組等係成為生產性及經濟性優異者。
[0017] 以下，關於本發明之實施形態，參照圖面而詳細地說明。尚，上下左右等之位置關係係只要無事先特別聲明，設為根據圖面所示的位置關係。又，圖面之尺寸比率，並非限定於圖示之比率。但是，以下之實施之形態係用以說明本發明之例示，本發明係不限定於此。尚，在本說明書中，例如「1~100」之數值範圍之記載係設為包含該之上限值「1」及下限值「100」之雙方者。又，其他數值範圍之記載亦相同。 　　[0018] (第一實施形態) 　　第1圖係模式性地表示本發明之第一實施形態之層合遮光薄膜100及該原材輥200的剖面圖，第2圖係表示層合遮光薄膜100之特取部分的剖面圖(第1圖之II-II剖面)。第3圖係層合遮光薄膜100之平面圖。此層合遮光薄膜100係至少具備基材薄膜11、與設置於此基材薄膜11之一方之主面11a側的第一之黑色遮光層21、與設置於另一方之主面11b側的第二之黑色遮光層31。然後，層合遮光薄膜100係成為具有至少以黑色遮光層21、基材薄膜11及黑色遮光層31之順序配列的層合構造(3層構造)者。然後，藉由此層合遮光薄膜100被捲取為有芯或無芯之輥狀，構成作為捲繞體的原材輥200。 　　[0019] 在此，在本說明書中，所謂「設置於基材薄膜之一方(另一方)之主面側」係不僅意味著如本實施形態般地，於基材薄膜11之表面(例如主面11a或主面11b)直接載置黑色遮光層21、31的態樣，亦意味著包含於基材薄膜11之表面與黑色遮光層21、31之間，任意之層(例如底塗層、接著層等)中介存在的態樣。又，所謂至少具備第一黑色遮光層21、及第二黑色遮光層31的層合構造係不僅意味著僅第一黑色遮光層21及第二黑色遮光層31直接層合的構造，亦意味著包含上述的3層構造，以及於3層構造更設置任意之層的4層以上之層合構造。 　　[0020] 基材薄膜11係只要可支撐黑色遮光層21、31，該種類係無特別限定。由尺寸安定性、機械上的強度及輕量化等之觀點，合成樹脂薄膜為理想地使用。作為合成樹脂薄膜之具體例係可舉出聚酯薄膜、ABS(丙烯腈-丁二烯-苯乙烯)薄膜、聚醯亞胺薄膜、聚苯乙烯薄膜、聚碳酸酯薄膜等。又亦可使用丙烯酸系、聚烯烴系、纖維素系、聚碸系、聚苯硫醚系、聚醚碸系、聚醚醚酮系之薄膜。在此等之中，作為基材薄膜11係聚酯薄膜為合適地使用。尤其，一軸或二軸延伸薄膜，特別是二軸延伸聚酯薄膜係因為機械上的強度及尺寸安定性優異，所以特別理想。又，於耐熱用途係一軸或二軸延伸聚醯亞胺薄膜為特別理想。此等係可單獨使用1種、或是亦可組合2種以上使用。 　　[0021] 基材薄膜11之厚度係按照要求性能及用途而可適宜地設定，無特別限定。由輕量化及薄膜化之觀點，基材薄膜11之厚度係0.5μm以上、50μm以下為理想，較理想為1μm以上、25μm以下，更理想為4μm以上、10μm以下，特別理想為5μm以上、7μm以下。尚，由使與黑色遮光層21、31之接著性提昇的觀點，按照必要，亦可於基材薄膜11之表面進行錨固(anchor)處理或電暈處理等之各種一般周知之表面處理。 　　[0022] 於基材薄膜11之外周側面(外周端面)係設有傾斜端面12。藉由此傾斜端面12，基材薄膜11之剖面構造係成為下底長於上底的梯形狀，基材薄膜11之薄膜寬度係成為由黑色遮光層21朝向黑色遮光層31而擴開的構造(參照第2圖)。 　　[0023] 此傾斜端面12係將基材薄膜11以第2圖所示之方式設為平坦狀態時，以成為由基材薄膜11之主面11a側可視覺辨認之方式，以從基材薄膜11之主面11a之法線方向之俯視而露出之方式設置(參照第3圖)。具體而言，以連結基材薄膜11之主面11a與傾斜端面12的傾斜角θ(俯角θ)成為10~87°之方式設定。由使在從主面11a側之俯視的傾斜端面12之視覺辨認性提昇、維持基材薄膜11端面之強度、維持生產性等之觀點視之，傾斜角θ係30～85°為理想，40～83°為較理想，45～80°為更理想。尚，只要傾斜端面12為由基材薄膜11之主面11a側可視覺辨認，例如為了強化薄膜端面，亦可於傾斜端面12設置透明乃至半透明之保護層等。 　　[0024] 尚，基材薄膜11之外觀係亦可為透明、半透明、不透明之任一者，無特別限定。例如亦可使用發泡聚酯薄膜等之已發泡的合成樹脂薄膜、或含有碳黑等之黑色顏料或其他顏料的合成樹脂薄膜。在使由主面11a側之俯視的傾斜端面12之視覺辨認性提昇的觀點視之，基材薄膜11係具有80.0～99.9%之全光線透過率為理想，較理想為83.0～99.0%，更理想為85.0～99.0%。 　　[0025] 黑色遮光層21、31係具有2.5以上之光學密度(OD)及5.0%以下之60度光澤度(G60)的遮光膜。 　　尚，在本說明書，光學密度(OD)係設為依據JIS-K7651：1988，使用光學密度計(TD-904：GretagMacbeth公司)及UV過濾器而測定而得的值。由使其具備較高的遮光性的觀點，黑色遮光層21、31係各自具有單層為2.7以上之光學密度(OD)為理想。又，在使黑色遮光層21、31層合的情況，該層合體之光學密度(OD)係4.5~6.0為理想，較理想為5.0~6.0。 　　又，60度光澤度係設為依據JIS-Z8741：1997，使用數位變角光澤計(UGV-5K：Suga試驗機公司製)測定在入射受光角60°的黑色遮光層21、31表面之光澤度(鏡面光澤度)(%)而可得到的值。由抑制入射光之反射、提高光吸收性的觀點，黑色遮光層21、31係具有3.0%以下之60度光澤度為理想，較理想為1.0%以下。 　　[0026] 作為具有2.5以上之光學密度以及5.0%以下之60度光澤度的遮光膜係可使用在此業界一般周知者，該種類係無特別限定。例如作為黑色系之遮光膜係理想地使用至少含有黏合劑樹脂及黑色顏料的黑色遮光膜。以下，將此黑色遮光膜舉為例子，進行詳述。 　　[0027] 作為黏合劑樹脂係可舉出聚(甲基)丙烯酸系樹脂、聚酯系樹脂、聚醋酸乙烯酯系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、聚乙烯縮丁醛樹脂、纖維素系樹脂、聚苯乙烯/聚丁二烯樹脂、聚胺基甲酸酯系樹脂、醇酸樹脂、丙烯酸系樹脂、不飽和聚酯系樹脂、環氧酯系樹脂、環氧系樹脂、環氧丙烯酸酯系樹脂、胺基甲酸酯丙烯酸酯系樹脂、聚酯丙烯酸酯系樹脂、聚醚丙烯酸酯系樹脂、酚系樹脂、三聚氰胺系樹脂、尿素系樹脂、鄰苯二甲酸二烯丙酯系樹脂等之熱可塑性樹脂或熱硬化性樹脂，但不特別限定於此等。又，亦可使用熱可塑性彈性體、熱硬化性彈性體、紫外線硬化型樹脂、電子束硬化型樹脂等。此等係可單獨使用1種、或是亦可組合2種以上使用。尚，黏合劑樹脂係可按照要求性能及用途，適宜地選擇而使用。例如，在要求耐熱性的用途係熱硬化性樹脂為理想。 　　[0028] 黑色遮光層21、31中之黏合劑樹脂之含量(總量)係無特別限定，但由接著性、遮光性、耐刮傷性、滑動性及消光性等之觀點，40~90質量%為理想，較理想為50~85質量%，更理想為60～80質量%。 　　[0029] 黑色顏料係將黏合劑樹脂著色為黑色而賦予遮光性者。作為黑色顏料之具體例係例如可舉出黑色樹脂粒子、鈦黑、磁鐵礦系黑、銅‧鐵‧錳系黑、鈦黑、碳黑等，但不特別限定於此等。在此等之中，因為隱蔽性優異，所以黑色樹脂粒子、鈦黑、碳黑為理想，較理想為碳黑。此等係可單獨使用1種、或是亦可組合2種以上使用。 　　[0030] 作為碳黑係已知油爐黑、燈黑、槽黑、煤氣爐黑、乙炔黑、熱裂炭黑、科琴黑等，以各種一般周知之製法製作者，但該種類係無特別限制。由對黑色遮光層21、31賦與導電性而防止因靜電所致的帶電的觀點，導電性碳黑為特別理想地使用。碳黑之歷史久遠，例如來自三菱化學公司、旭碳公司、御國色素公司、Resinocolor公司、Cabot公司、DEGUSSA公司等，所市售各種等級之碳黑單體及碳黑分散液，按照要求性能或用途，由此等之中適宜地選擇即可。尚，碳黑之粒子尺寸係按照要求性能等而可適宜地設定，無特別限定。碳黑之平均粒徑D50 係0.01～2.0μm為理想，較理想為0.05～1.0μm，更理想為0.08～0.5μm。尚，所謂在本說明書的平均粒徑係意味著以雷射繞射式粒度分布測定裝置(例如，島津製作所公司：SALD-7000等)測定的體積基準之中值徑(D50 )。 　　[0031] 黑色遮光層21、31中之黑色顏料之含量(總量)係無特別限定，但由分散性、製膜性、操作性、接著性、滑動性、消光性、耐磨耗性等之觀點，對於包含在黑色遮光層21、31中的全樹脂成分而言的固形分換算(phr)，10~60質量%為理想，較理想為15~50質量%，更理想為20～40質量%。 　　[0032] 黑色遮光層21、31之厚度係按照要求性能及用途而可適宜地設定，無特別限定。由高光學密度、輕量化及薄膜化之觀點，黑色遮光層21、31之厚度係各自0.1μm以上為理想，較理想為0.2μm以上，更理想為0.5μm以上，特別理想為1μm以上，上限側係15μm以下為理想，較理想為12μm以下，更理想為9μm以下，特別理想為6μm以下。 　　[0033] 在本實施形態之層合遮光薄膜100係由人體工學上的方法，以在黑色遮光層21與黑色遮光層31為具有不同的60度光澤度(G60)及／或明度指數L＊ 之方式構成的點上具有1個特徵。以如此般地使60度光澤度及／或明度指數L＊ 不同之情事，根據該光澤感、光亮或明度之差，成為以非接觸，亦即以目視可判別層合遮光薄膜100之表背。 　　此時，黑色遮光層21之60度光澤度與黑色遮光層31之60度光澤度之差係考慮判別性或黑色度(遮光性)之平衡而適宜地設定即可，無特別限定，但1.0~4.5%為理想，較理想為1.5~4.0%，更理想為2.0~3.0%。於設置如此的60度光澤度之差係例如將黑色遮光層21之60度光澤度設為1.0~5.0，黑色遮光層31之60度光澤度設為0.1~0.9即可。 　　又，明度之差係可以在CIE 1976 L＊ a＊ b＊ 表色系的明度指數L＊ 表示，明度指數L＊ 之差係1~20為理想，較理想為2~15，更理想為3~10。 　　[0034] 作為黑色遮光層21與黑色遮光層31之60度光澤度及／或明度指數L＊ 之調整方法係例如有在黑色遮光層21與黑色遮光層31使黑色顏料之含量不同的方法、在黑色遮光層21與黑色遮光層31使用黑色度不同的黑色顏料的方法、在黑色遮光層21與黑色遮光層31使用大小不同的黑色顏料的方法、在黑色遮光層21與黑色遮光層31使表面粗糙度不同的方法、在黑色遮光層21與黑色遮光層31使用色相不同的黏合劑樹脂的方法等，但不特別限定於此等。又，以調配被使用於遮光膜的各種一般周知之添加劑，亦可調整明度、色相及／或彩度。此等之調整方法係可將各種之方法各自單獨或適宜地組合而進行。 　　[0035] 於黑色遮光層21、31之外周側面係具有對應於上述的傾斜端面12的傾斜角θ的傾斜端面22、32(外周端部22、32)為設有兩側面(2處所)。此等傾斜端面22、32係將黑色遮光層21、31以第2圖所示之方式設為平坦狀態時，以成為由黑色遮光層21之主面21a側可視覺辨認之方式，以從黑色遮光層21之主面21a之法線方向之俯視而露出之方式設置(參照第3圖)。具體而言，以連結黑色遮光層21之主面21a與傾斜端面22、32的傾斜角θ成為10~87°之方式設定。尚，只要傾斜端面22、32為由黑色遮光層21之主面21a側可視覺辨認，例如為了強化薄膜端面，亦可於傾斜端面22、32設置透明乃至半透明之保護層等。如此般地構成，藉由利用基材薄膜11與黑色遮光層21、31之色相、彩度、明度、透明度、60度光澤度、全光線透過率等之不同，更提昇黑色遮光層21、31之判別性。在此，傾斜端面22、32之傾斜角θ係無特別限定，但與傾斜端面12同樣地10~87°為理想，較理想為35~85°，更理想為40~83°，特別理想為45~80°。以設定為與傾斜端面12同一或同程度之傾斜角，而處於容易高度地維持端面強度的傾向，又，處於容易提昇生產性的傾向。 　　[0036] 尚，黑色遮光層21、31係亦可含有在此業界一般周知之各種添加劑。作為具體例係可舉出去光澤劑(消光劑)、潤滑劑、導電劑、難燃劑、抗菌劑、防黴劑、防氧化劑、可塑劑、整平劑、流動調整劑、消泡劑、分散劑等，但此等係不特別限定。作為去光澤劑係可舉出交聯聚甲基丙烯酸甲酯粒子、交聯聚苯乙烯粒子等之有機系微粒子、二氧化矽、鎂鋁矽酸鹽、氧化鈦等之無機系微粒子等，但不特別限定於此等。作為潤滑劑，可舉出聚乙烯、石蠟、蠟等之烴系潤滑劑；硬脂酸、12-羥基硬脂酸等之脂肪酸系潤滑劑；硬脂酸醯胺、油酸醯胺、芥酸醯胺等之醯胺系潤滑劑；硬脂酸丁酯、硬脂酸單甘油酯等酯系潤滑劑；醇系潤滑劑；金屬皂、滑石、二硫化鉬等固體潤滑劑；聚矽氧樹脂粒子、聚四氟乙烯蠟、聚偏二氟乙烯等之氟樹脂粒子等，但不特別限定於此等。在此等之中，特別是有機系潤滑劑為理想地使用。又，作為黏合劑樹脂，於使用紫外線硬化型樹脂或電子束硬化型樹脂的情況係例如亦可使用n-丁基胺、三乙基胺、三-n-丁基次膦酸等之增感劑或紫外線吸收劑等。此等係可單獨使用1種、或是亦可組合2種以上使用。此等之含有比例係無特別限定，但相對於被包含在黑色遮光層21、31中的全樹脂成分而言的固形分換算，一般上係各自0.01~5質量%為理想。 　　[0037] 又，黑色遮光層21、31係具有10.0%以下之可見光反射率為理想。在此所謂可見光反射率係意味著使用分光光度計(島津製作所公司製，分光光度計SolidSpec-3700等)及作為標準板使用硫酸鋇，對於黑色遮光層21、31以入射角8°入射光時之相對全光線反射率。由使之具備較高的遮光性等之觀點，黑色遮光層21、31之可見光反射率係8%以下為較理想，更理想為6%以下，特別理想為4%以下。尚，由提高黑色遮光層21、31之判別性的觀點係黑色遮光層21與黑色遮光層31之可見光反射率之差為1%以上為理想。又，作為層合遮光薄膜100係可見光以外之紅外(800~1000nm)範圍之擴散反射率為10%以下為理想，較理想為8%以下，更理想為6%以下，特別理想為4%以下。 　　[0038] 更進一步，黑色遮光層21、31係由使之具備充分的防帶電性能的觀點，具有未達1.0×108 Ω之表面電阻率為理想，較理想為未達1.0×105 Ω，更理想為未達5.0×104 Ω。尚，在本說明書，表面電阻率係設為依據JIS-K6911：1995而測定的值。 　　[0039] 層合遮光薄膜100之製造方法係只要可得到上述的構成者，無特別限定。由於基材薄膜11上將黑色遮光層21、31以再現性佳、簡易且低成本製造的觀點，可合適地使用刮刀塗佈、浸漬塗佈、輥塗佈、棒塗佈、塑模塗佈、刮板塗佈、氣刀塗佈、單面供膠塗佈、噴霧塗佈、旋轉塗佈等之先前一般周知之塗布方法。 　　[0040] 例如，將上述的黏合劑樹脂及黑色顏料、以及作為按照必要而調配的任意成分之添加劑含有於溶媒中的塗布液，塗布於基材薄膜11之主面上，使其乾燥後，藉由按照必要而進行熱處理或加壓處理等，可於基材薄膜11上製膜黑色遮光層21、31。作為在此使用的塗布液之溶媒係可使用水；甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮等之酮系溶劑；乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等之酯系溶劑；甲基溶纖劑、乙基溶纖劑等之醚系溶劑；甲醇、乙醇、異丙醇等之醇系溶劑，以及此等之混合溶媒等。尚，為了使基材薄膜11與黑色遮光層21、31之接著提昇，按照必要亦可按照必要而進行錨固(anchor)處理或電暈處理等。進而，按照必要亦可於基材薄膜11與黑色遮光層21、31之間設置底塗層或接著層等之中間層。尚，亦可藉由壓縮成形、射出成形、吹塑成形、轉注成形、擠出成形等之各種一般周知之成形方法，簡易地得到具有所期望形狀的層合遮光薄膜100。又，在暫時成形為薄片狀後，亦可進行真空成形或氣壓成形等。 　　[0041] 又，關於傾斜端面12、22、32之形成方法，亦不特別限定。適宜地適用各種一般周知之手法，可作成具有任意之傾斜角θ的傾斜端面12、22、32。例如，準備於基材薄膜11上已設置黑色遮光層21及黑色遮光層31的層合遮光薄膜，以將該外周側面以上述的傾斜角θ切離(切斷)，可簡易地設置傾斜端面12、22、32。又，在傾斜端面22、32為不需要的情況係準備事先已設置具有任意之傾斜角θ的傾斜端面12的基材薄膜11，於此基材薄膜11上設置黑色遮光層21及黑色遮光層31即可。 　　[0042] (作用) 　　在本實施形態之層合遮光薄膜100及原材輥200係採用具有2.5以上之光學密度及5.0%以下之60度光澤度的第一黑色遮光層21和第二黑色遮光層31。因此，以將此作為透鏡單元或相機模組等之光學機器用遮光構件使用，可除去不需要的入射光或反射光，可防止光暈(halation)、鏡頭光暈(lens flare)、疊影(ghost)等之發生，可使攝像影像之畫質提昇。 　　[0043] 而且，第一黑色遮光層21與第二黑色遮光層31，因為具有不同的60度光澤度及／或明度指數L＊ ，所以根據該光澤感、光亮或明度之差，可以非接觸，亦即目視而容易地進行表背面之判別。又，以俯視而可視覺辨認地露出的傾斜端面12係在薄膜外周緣，因為作為有光澤感的亮部可認知，所以可格外容易地進行以非接觸，亦即以目視判別層合遮光薄膜100之表背面。此係起因於第一黑色遮光層21或第二黑色遮光層31與傾斜端面12(基材薄膜11)之色相、彩度、明度、透明度、60度光澤度、全光線透過率等之差異。 　　[0044] 又，在暗處操作本實施形態之層合遮光薄膜100及原材輥200的情況，傾斜端面12亦有效地發揮機能。亦即，傾斜端面12(基材薄膜11)係起因於與第一黑色遮光層21或第二黑色遮光層31之差異，即使是些微的光亦作為有光澤感的亮部而可清楚地認知。又，以將傾斜端面12以手指等直接接觸，確認該傾斜方向，亦可進行表背面之判別。 　　[0045] (變形例) 　　尚，本發明係在不逸脫該要旨的範圍內，可任意地變更而實施。例如，亦可不設置傾斜端面22、32，僅設置傾斜端面12。又，傾斜端面12之形成處所係有設置於基材薄膜11之外周側面之至少一部分即可。更進一步，可如本實施形態之方式，以延伸於層合遮光薄膜100之MD方向之方式設置於基材薄膜11之兩側面(2處所)，亦可以延伸於基材薄膜11之TD方向之方式，設置於基材薄膜11之一側面(1處所)或兩側面(2處所)。或者是，亦可遍及基材薄膜11之外周側面之全面(全周)而設置傾斜端面12。又，延伸於MD方向及／或TD方向的傾斜端面12係亦可以本實施形態之方式連續地形成，又，亦可間斷地形成。 　　[0046] (第二實施形態) 　　第4圖係模式性地表示本發明之第二實施形態之透鏡單元41及相機模組51的分解立體圖。透鏡單元41係由透鏡群42(透鏡42A、42B、42C、42D、42E)、與多段圓筒狀之保持器43、與作為遮光性間隔件之光學機器用遮光環100A、100B、100C(層合遮光薄膜100)所構成。於保持器43之內周部係設置複數之段差部43a、43b、43c。然後，利用此段差部43a、43b、43c，透鏡群42及光學機器用遮光環100A、100B、100C為以配置於同軸上(同一光軸上)而堆疊的狀態，收納配置於保持器43內之特定位置。在此，作為透鏡42A、42B、42C、42D、42E係可使用凸透鏡或凹透鏡等之各式各樣之透鏡，該曲面可為球面，亦可為非球面。另一方面，相機模組51係由上述的透鏡單元41、與被配置於此透鏡單元41之光軸上，通過透鏡單元41而攝像被攝體的CCD影像感測器或CMOS影像感測器等之攝像元件44所構成。 　　[0047] 第5圖係模式性地表示光學機器用遮光環100A的剖面圖。光學機器用遮光環100A係將上述的第一實施形態之層合遮光薄膜100沖裁加工為環狀(中空筒狀)而得者。因此，光學機器用遮光環100A係具有與上述的第一實施形態之層合遮光薄膜100同樣之層合構造。 　　[0048] 光學機器用遮光環100係以俯視於略中央位置設有圓筒狀之中空部S，外形為環狀(中空筒狀)之遮光板。在本實施形態，於光學機器用遮光環100A之外周側面係不設置上述的傾斜端面12、22、32，此等之外周側面係以剖面視形成為矩形。亦即，在本實施形態之光學機器用遮光環100A，外周端面之傾斜角θ成為90°。另一方面，在本實施形態之光學機器用遮光環100A，於內周端面係設有對應於上述的傾斜端面12、22、32的傾斜端面13、23、33。尚，光學機器用遮光環100B、100C係除了外徑之尺寸及中空部S之外徑之尺寸各自不同以外，為具有與光學機器用遮光環100A同樣之構成者，省略在此之重複的說明。 　　[0049] (作用) 　　在本實施形態之光學機器用遮光環100A、100B、100C，亦採用具有2.5以上之光學密度及5.0%以下之60度光澤度的第一黑色遮光層21和第二黑色遮光層31。因此，以將此作為透鏡單元或相機模組等之光學機器用遮光構件使用，可除去不需要的入射光或反射光，可防止光暈(halation)、鏡頭光暈(lens flare)、疊影(ghost)等之發生，可使攝像影像之畫質提昇。 　　[0050] 而且，第一黑色遮光層21與第二黑色遮光層31，因為具有不同的60度光澤度及／或明度指數L＊ ，所以根據該光澤感、光亮或明度之差，可以非接觸，亦即目視而容易地進行光學機器用遮光環100A、100B、100C之表背面之判別。因此，使用此等光學機器用遮光環100A、100B、100C的透鏡單元41及相機模組51係即使在該保管時或組裝時，亦可抑止基於表背面之誤認的組裝不良等之製造故障。 　　[0051] 除此之外，進而在本實施形態之光學機器用遮光環100A係設有傾斜端面13、23、33，更提高黑色遮光層21、31之判別性。如此地以於光軸側之端面(內周端面)設置傾斜端面13、23、33，可除去不需要的反射光，可防止光暈(halation)、鏡頭光暈(lens flare)、疊影(ghost)等之發生，可使攝像影像之畫質提昇。 　　[0052] (變形例) 　　尚，本發明係在不逸脫該要旨的範圍內，可任意地變更而實施。例如，層合遮光薄膜100(光學機器用遮光環100A、100B、100C)之外形形狀係例如可採用以俯視為長方形、正方形、六角形等之多角形、橢圓形、不規則形等之任意之形狀。又，光學機器用遮光環100A、100B、100C之中空部S之形狀，在本實施形態係在俯視形成為圓狀，但該外形係不特別限定。例如，可採用以俯視為長方形、正方形、六角形等之多角形、橢圓形、不規則形等之任意之形狀。更進一步，在本實施形態係未設置上述的傾斜端面12、22、32，但按照必要，可適宜設置傾斜端面12、以及傾斜端面22、23之任一方或雙方。 [產業上之可利用性] 　　[0053] 本發明係作為在精密機械領域、半導體領域、光學機器領域、電子機器等的高性能的遮光構件，可廣泛且有效地利用。尤其，作為使用於搭載在高性能單眼反射式相機、小型相機、視訊攝影機、攜帶式電話、投影機等的透鏡單元或相機模組等的遮光構件，可特別有效地利用。
[0054]11‧‧‧基材薄膜11a‧‧‧表面(主面)11b‧‧‧表面(主面)12‧‧‧傾斜端面13‧‧‧傾斜端面21‧‧‧黑色遮光層21a‧‧‧表面(主面)22‧‧‧傾斜端面23‧‧‧傾斜端面31‧‧‧黑色遮光層31a‧‧‧表面(主面)32‧‧‧傾斜端面33‧‧‧傾斜端面41‧‧‧透鏡單元42‧‧‧透鏡群42A‧‧‧透鏡42B‧‧‧透鏡42C‧‧‧透鏡42D‧‧‧透鏡42E‧‧‧透鏡43‧‧‧保持器43a‧‧‧段差部43b‧‧‧段差部43c‧‧‧段差部44‧‧‧攝像元件51‧‧‧相機模組100‧‧‧層合遮光薄膜100A‧‧‧光學機器用遮光環(層合遮光薄膜)100B‧‧‧光學機器用遮光環(層合遮光薄膜)100C‧‧‧光學機器用遮光環(層合遮光薄膜)200‧‧‧原材輥θ‧‧‧傾斜角S‧‧‧中空部MD‧‧‧流動方向TD‧‧‧垂直方向
[0016] 　　[第1圖] 模式性地表示一實施形態之層合遮光薄膜及該輥原材的剖面圖。 　　[第2圖] 第1圖之II-II剖面圖。 　　[第3圖] 一實施形態之層合遮光薄膜之平面圖。 　　[第4圖] 模式性地表示一實施形態之光學機器用遮光環(層合遮光薄膜)、以及使用此的透鏡單元及相機模組的分解立體圖。 　　[第5圖] 模式性地表示一實施形態之光學機器用遮光環(層合遮光薄膜)的剖面圖。
11:基材薄膜
11a:表面(主面)
11b:表面(主面)
12:傾斜端面
21:黑色遮光層
21a:表面(主面)
22:傾斜端面
31:黑色遮光層
31a:表面(主面)
32:傾斜端面
100:層合遮光薄膜
θ:傾斜角

Claims (12)

  1. 一種層合遮光薄膜，其特徵為： 　　具有至少具備第一黑色遮光層、以及第二黑色遮光層的層合構造， 　　前述第一黑色遮光層及前述第二黑色遮光層係各自具有2.5以上之光學密度及5.0%以下之60度光澤度， 　　前述第一黑色遮光層係具有與前述第二黑色遮光層不同的60度光澤度及／或明度指數L＊ 。
  2. 如請求項1之層合遮光薄膜，其中，前述第一黑色遮光層及／或前述第二黑色遮光層係具有由前述第一黑色遮光層朝向前述第二黑色遮光層而使薄膜寬度擴開的傾斜端面， 　　以由前述第一黑色遮光層之主面之法線方向所見的俯視，前述傾斜端面露出。
  3. 如請求項2之層合遮光薄膜，其中，連結前述第一黑色遮光層之前述主面與前述傾斜端面的傾斜角為10～87°。
  4. 如請求項1之層合遮光薄膜，其中，前述第一黑色遮光層與前述第二黑色遮光層之60度光澤度之差為1.0～4.5%。
  5. 如請求項1之層合遮光薄膜，其中，具有至少具備基材薄膜、被設於前述基材薄膜之一方之主面側的前述第一黑色遮光層、以及被設於前述基材薄膜之另一方之主面側的第二黑色遮光層的層合構造。
  6. 如請求項5之層合遮光薄膜，其中，前述基材薄膜係具有80.0~99.9%之全光線透過率。
  7. 如請求項5之層合遮光薄膜，其中，前述基材薄膜係具有0.5μm以上、50μm以下之厚度。
  8. 一種光學機器用遮光環，其特徵為： 　　具有環狀之外形形狀， 　　具有至少具備第一黑色遮光層、以及第二黑色遮光層的層合構造， 　　前述第一黑色遮光層及前述第二黑色遮光層係各自具有2.5以上之光學密度及5.0%以下之60度光澤度， 　　前述第一黑色遮光層係具有與前述第二黑色遮光層不同的60度光澤度及／或明度指數L＊ 。
  9. 如請求項8之光學機器用遮光環，其中，前述第一黑色遮光層及／或前述第二黑色遮光層係具有由前述第一黑色遮光層朝向前述第二黑色遮光層而使薄膜寬度擴開的傾斜端面， 　　以由前述第一黑色遮光層之主面之法線方向所見的俯視，前述傾斜端面露出。
  10. 如請求項9之光學機器用遮光環，其中，具有至少具備基材薄膜、被設於前述基材薄膜之一方之主面側的前述第一黑色遮光層、以及被設於前述基材薄膜之另一方之主面側的第二黑色遮光層的層合構造。
  11. 一種透鏡單元，其係複數之透鏡及至少1以上之遮光板被堆疊於前述透鏡之光軸方向的透鏡單元，其特徵為： 　　前述遮光板之至少1以上為由如請求項1~7中任一項之層合遮光薄膜及／或如請求項8~10中任一項之光學機器用遮光環所構成。
  12. 一種相機模組，其係至少具有複數之透鏡及至少1以上之遮光板被堆疊於前述透鏡之光軸方向的透鏡單元、與通過前述透鏡單元而攝像被攝體的攝像元件之相機模組，其特徵為： 　　前述遮光板之至少1以上為由如請求項1~7中任一項之層合遮光薄膜及／或如請求項8~10中任一項之光學機器用遮光環所構成。
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