JP2009234058A - 剥離フィルム及び積層体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基材フィルムの少なくとも片面にアンカーコート層、剥離層を順に備える剥離フィルムにおいて、前記剥離層の屈折率が前記フィルム基材の屈折率よりも小さく、前記剥離層の屈折率と前記フィルム基材の屈折率差が0.04以上0.27以下の範囲内であり、且つ、前記剥離層の光学膜厚が113nm以上225nm以下の範囲内であり、且つ、前記アンカー層の屈折率が前記基材フィルムの屈折率の95%以上105%以下の範囲内であることを特徴とする剥離フィルムとした。
【選択図】図1
Description
本発明における剥離層を備える側の剥離フィルム表面の分光反射率曲線は、目的とする剥離層が設けられていない側のフィルム基材表面に艶消し黒色塗料を塗布したうえで、分光光度計により測定される。本発明の剥離フィルムの分光反射率曲線は、光源の入射角度が剥離フィルム表面に対しての垂直方向から5度に設定され、光源としてC光源を用い、2度視野の条件下で求められる。本発明の剥離フィルムの視感平均反射率は、可視光の各波長の反射率を比視感度により校正し、平均した反射率の値である。このとき、比視感度は明所視標準比視感度が用いられる。本発明の剥離フィルムの反射色相は得られた分光反射率曲線から求めることができる。
フィルム基材として厚さ75μmの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(帝人製 メリネックスS)を用い、下記組成のアンカー層形成材料をバーコーターにて塗布し、塗布後、オーブンで140℃、30sec乾燥硬化させ、アンカー層を形成した。得られたアンカー層の膜厚は200nmであった。
<アンカー層形成材料(塗液)>
グリシドキシプロピルトリメトキシシラン 3重量部
オルガチックスTC−100(マツモトファインケミカル製) 2重量部
トルエン 500重量部
次に、アンカー層が形成されたフィルム基材に対し、下記組成の剥離層形成材料をバーコーターにて塗布し、塗布後、オーブンで140℃、1min乾燥硬化させ、剥離層を形成した。得られた剥離層の膜厚は100nmであった。
<剥離層形成材料(塗液)>
TPR6702(シリコーンコート材/モメンティブ製) 10重量部
CM670(硬化触媒/モメンティブ製) 0.1重量部
トルエン 60重量部
n−ヘキサン 30重量部
以上により、(実施例1)の剥離フィルムを作製した。
フィルム基材として厚さ75μmの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(帝人製 メリネックスS)を用い、下記組成のアンカー層形成材料をバーコーターにて塗布し、塗布後、オーブンで140℃、30sec乾燥硬化させ、アンカー層を形成した。得られたアンカー層の膜厚は1000nmであった。
<アンカー層形成材料(塗液)>
グリシドキシプロピルトリメトキシシラン 2.5重量部
オルガチックスTC−100(マツモトファインケミカル製) 2.5重量部
トルエン 500重量部
次に、アンカー層が形成されたフィルム基材に対し、下記組成の剥離層形成材料をバーコーターにて塗布し、塗布後、オーブンで140℃、1min乾燥硬化させ、剥離層を形成した。得られた剥離層の膜厚は100nmであった。
<剥離層形成材料(塗液)>
TPR6702(シリコーンコート材/モメンティブ製) 10重量部
CM670(硬化触媒/モメンティブ製) 0.1重量部
トルエン 60重量部
n−ヘキサン 30重量部
以上により、(実施例2)の剥離フィルムを作製した。
フィルム基材として厚さ75μmの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(帝人製 メリネックスS)を用い、下記組成のアンカー層形成材料をバーコーターにて塗布し、塗布後、オーブンで80℃、30sec乾燥硬化させ、アンカー層を形成した。得られたアンカー層の膜厚は2000nmであった。
<アンカー層形成材料(塗液)>
セイカダインPETプライマー
(大日精化工業製/固形分20wt%) 30重量部
ZrO2微粒子分散体
(平均粒子径30nm、トルエン溶媒、固形分20wt%) 20重量部
トルエン 25重量部
メチルエチルケトン 25重量部
次に、アンカー層が形成されたフィルム基材に対し、下記組成の剥離層形成材料をバーコーターにて塗布し、塗布後、オーブンで140℃、1min乾燥硬化させ、剥離層を形成した。得られた剥離層の膜厚は100nmであった。
<剥離層形成材料(塗液)>
TPR6702(シリコーンコート材/モメンティブ製) 10重量部
CM670(硬化触媒/モメンティブ製) 0.1重量部
トルエン 60重量部
n−ヘキサン 30重量部
以上により、(実施例3)の剥離フィルムを作製した。
フィルム基材として厚さ75μmの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(帝人製 メリネックスS)を用い、下記組成のアンカー層形成材料をバーコーターにて塗布し、塗布後、オーブンで140℃、30sec乾燥硬化させ、アンカー層を形成した。得られたアンカー層の膜厚は1000nmであった。
<アンカー層形成材料(塗液)>
グリシドキシプロピルトリメトキシシラン 2.5重量部
オルガチックスTC−100(マツモトファインケミカル製) 2.5重量部
トルエン 500重量部
次に、アンカー層が形成されたフィルム基材に対し、下記組成の剥離層形成材料をバーコーターにて塗布し、塗布後、オーブンで100℃、1min乾燥硬化させ、さらに、コンベア式UV硬化装置にて積算露光量500mJ/cm2で紫外線照射して剥離層を形成した。得られた剥離層の膜厚は98nmであった。
<剥離層形成材料(塗液)>
シリコリースUV POLY200(荒川化学工業(株)製) 4重量部
シリコリースUV CVATA211
(光開始剤/モメンティブ製) 0.2重量部
酢酸エチル 48重量部
n−ヘキサン 48重量部
以上により、(実施例4)の剥離フィルムを作製した。
基材として厚さ75μmの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(帝人製 メリネックスS)を用い、下記組成の剥離層形成材料をバーコーターにて塗布し、塗布後、オーブンで140℃、1min乾燥硬化させ、剥離層を形成した。得られた剥離層の膜厚は100nmであった。このとき、アンカー層は形成しなかった。
<剥離層形成材料(塗液)>
TPR6702(シリコーンコート材/モメンティブ製) 10重量部
CM670(硬化触媒/モメンティブ製) 0.1重量部
トルエン 60重量部
n−ヘキサン 30重量部
以上により、(比較例1)の剥離フィルムを作製した。
基材として厚さ75μmの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(帝人製 メリネックスS)を用い、下記組成のアンカー層形成材料をバーコーターにて塗布し、塗布後、オーブンで140℃、30sec乾燥硬化させ、アンカー層を形成した。得られたアンカー層の膜厚は2000nmであった。
<アンカー層形成材料(塗液)>
セイカダインPETプライマー
(大日精化工業製/固形分20wt%) 30重量部
ZrO2微粒子分散体
(平均粒子径30nm、トルエン溶媒、固形分20wt%) 20重量部
トルエン 25重量部
メチルエチルケトン 25重量部
次に、アンカー層が形成されたフィルム基材に対し、下記組成の剥離層形成材料をバーコーターにて塗布し、塗布後、オーブンで140℃、1min乾燥硬化させ、剥離層を形成した。得られた剥離層の膜厚は319nmであった。
<剥離層形成材料(塗液)>
TPR6702(シリコーンコート材/モメンティブ製) 10重量部
CM670(硬化触媒/モメンティブ製) 0.1重量部
トルエン 60重量部
n−ヘキサン 30重量部
以上により、(比較例2)の剥離フィルムを作製した。
フィルム基材として厚さ75μmの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(帝人製 メリネックスS)を用い、下記組成のアンカー層形成材料をバーコーターにて塗布し、塗布後、オーブンで140℃、30sec乾燥硬化させ、アンカー層を形成した。得られたアンカー層の膜厚は100nmであった。
<アンカー層形成材料(塗液)>
BY24−846B(東レ・ダウコーニング製) 2重量部
BY24−846C(東レ・ダウコーニング製) 2重量部
BY24−846E(東レ・ダウコーニング製) 2重量部
トルエン 94重量部
次に、アンカー層が形成されたフィルム基材に対し、下記組成の剥離層形成材料をバーコーターにて塗布し、塗布後、オーブンで140℃、1min乾燥硬化させ、剥離層を形成した。得られた剥離層の膜厚は100nmであった。
<剥離層形成材料(塗液)>
LTC750A
(シリコーンコート材/東レ・ダウコーニング製) 10重量部
NC−25(硬化触媒/東レ・ダウコーニング製) 0.1重量部
トルエン 60重量部
n−ヘキサン 30重量部
以上により、(比較例3)の剥離フィルムを作製した。
フィルム基材として厚さ75μmの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(帝人製 メリネックスS)を用い、下記組成のアンカー層形成材料をバーコーターにて塗布し、塗布後、オーブンで80℃、1min乾燥硬化させ、アンカー層を形成した。得られたアンカー層の膜厚は2000nmであった。
<アンカー層形成材料(塗液)>
セイカダインPETプライマー
(大日精化工業製/固形分20wt%) 50重量部
トルエン 25重量部
メチルエチルケトン 25重量部
次に、アンカー層が形成されたフィルム基材に対し、下記組成の剥離層形成材料をバーコーターにて塗布し、塗布後、オーブンで140℃、1min乾燥硬化させ、剥離層を形成した。得られた剥離層の膜厚は100nmであった。
<剥離層形成材料(塗液)>
TPR6702(シリコーンコート材/モメンティブ製) 10重量部
CM670(硬化触媒/モメンティブ製) 0.1重量部
トルエン 60重量部
n−ヘキサン 30重量部
以上により、(比較例4)の剥離フィルムを作製した。
得られた剥離フィルムの剥離層形成面と反対側の面を黒色艶消しスプレーにより黒色に塗布した。スプレー塗布後、自動分光光度計(日立製作所製、U−4000)を用い、C光源、2度視野の条件下で、低屈折率層形成面について入射角5°における分光反射率を測定し、得られた反射率曲線から平均視感反射率(Y%)、色相(a*、b*)を算出した。
得られた剥離フィルムの剥離層形成面と反対側の面を黒色艶消しスプレーにより黒色に塗布した。塗布後、剥離フィルムを目視で観察(蛍光灯スタンド直下30cm、天井蛍光灯下1.5m)し、色ムラの発生を観察した。評価基準を以下に示す。
二重丸印:スタンド直下でも色ムラが見えにくい
丸印 :スタンド直下ではやや色ムラあるが、天井下では色ムラが見えない
三角印 :天井下でも容易に色ムラが確認される
バツ印 :天井下でも色ムラがはっきりと確認される
得られた剥離フィルムの剥離層形成面と反対側の面に、東洋インキ製グラビアインキを用い白、藍、墨の3色ベタ印刷をおこない色見サンプルを作成し、色ムラ評価と同様に、剥離フィルムを目視で観察(蛍光灯スタンド直下30cm、天井蛍光灯下1.5m)し、色ムラの発生を観察した。評価基準を以下に示す。
二重丸印:スタンド直下でも色ムラが見えにくく、意匠性が極めて高い
丸印 :スタンド直下ではやや色ムラあるが、天井下では色ムラは確認できず、
意匠性が高い
三角印 :天井下でも容易に色ムラが確認され、意匠性は低い
バツ印 :天井下でも色ムラがはっきりと確認され、意匠性は極めて低い
得られた剥離フィルムの剥離層形成面にポリエステル粘着テープ(日東電工製31B)を貼り、ガラス板にはさみ20g/cm2の荷重で圧着、5時間放置した後、引っ張り試験機にて300mm/minの速度で180度剥離したときの抵抗値を測定(試験片25mm×100mm)。
得られた剥離フィルムを、温度40℃、湿度90%に維持された恒温恒湿装置内に4週間保管した。4週間保管後、剥離フィルムを恒温恒湿装置殻取り出し、指先で500gf/cm2の荷重で20回摩耗するいわゆるラブオフ試験をおこなった。
評価基準を以下に示す。
丸印 : 外観変化がほとんど見られない
バツ印 : 剥離層が白くなるもしくは脱落する
11 フィルム基材
12 アンカー層
13 剥離層
14 印刷層
2 基体
Claims (4)
- 基材フィルムの少なくとも片面にアンカーコート層、剥離層を順に備える剥離フィルムにおいて、
前記剥離層の屈折率が前記フィルム基材の屈折率よりも小さく、前記剥離層の屈折率と前記フィルム基材の屈折率差が0.04以上0.27以下の範囲内であり、且つ、
前記剥離層の光学膜厚が113nm以上225nm以下の範囲内であり、且つ、
前記アンカー層の屈折率が前記基材フィルムの屈折率の95%以上105%以下の範囲内である
ことを特徴とする剥離フィルム。 - 前記剥離層が湿式成膜法により形成されていることを特徴とする請求項1記載の剥離フィルム。
- 前記フィルム基材の前記剥離層が設けられていない側の面に印刷層を備えることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の剥離フィルム。
- 請求項1乃至3のいずれかに記載の剥離フィルムと基体を備え、前記剥離フィルムの剥離層表面と前記基体表面が接触していることを特徴とする積層体。
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