CH625746A5 - - Google Patents

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CH625746A5
CH625746A5 CH47979A CH47979A CH625746A5 CH 625746 A5 CH625746 A5 CH 625746A5 CH 47979 A CH47979 A CH 47979A CH 47979 A CH47979 A CH 47979A CH 625746 A5 CH625746 A5 CH 625746A5
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CH
Switzerland
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negative
positive
raster
offset
gravure
Prior art date
Application number
CH47979A
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German (de)
English (en)
Inventor
Paul Pfau
Thomas E Fausel
Arthur Grunder
Original Assignee
Simon Sa
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Application filed by Simon Sa filed Critical Simon Sa
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/02—Engraving; Heads therefor
    • B41C1/04—Engraving; Heads therefor using heads controlled by an electric information signal
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F5/00—Screening processes; Screens therefor
    • G03F5/20—Screening processes; Screens therefor using screens for gravure printing

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Printing Methods (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
CH47979A 1978-02-11 1979-01-18 CH625746A5 (da)

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CH47979A CH625746A5 (da) 1978-02-11 1979-01-18

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US (1) US4287537A (da)
JP (1) JPS55262A (da)
CH (1) CH625746A5 (da)
DE (1) DE2805874C3 (da)
DK (1) DK55879A (da)
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GB (1) GB2022512B (da)
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