DE3219274C2 - Verfahren zur Umwandlung eines Offsetlithos in ein Tiefdruckrasterpositiv mit einem Scanner - Google Patents
Verfahren zur Umwandlung eines Offsetlithos in ein Tiefdruckrasterpositiv mit einem ScannerInfo
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- G03F5/00—Screening processes; Screens therefor
- G03F5/20—Screening processes; Screens therefor using screens for gravure printing
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Abstract
Durch das erfindungsgemäße Verfahren zur Umwandlung eines Offsetlithos in ein Tiefdruckrasterpositiv wird das bis jetzt praktizierte, sog. Konversionsverfahren ganz wesentlich verbessert, denn das erfindungsgemäß hergestellte Tiefdruckrasterpositiv hat den wesentlichen Vorteil, daß ein Qualitätstiefdruck entsteht, der in seiner Brillanz und einfachen Technik alle bisherigen Tiefdruckverfahren übertrifft. Nach dem erfindungsgemäßen Verfahren entstehen in den Flächen von ca. 50-100% ein echter positiver Tiefdruckrastersteg und in den Flächen von ca. 50-5% runde Punkte unterschiedlicher Größe, die die Brillanz und die gewünschte Gradation eines echten Tiefdrucks bringen.
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs.
Das zur Zeit praktizierte, aus der DE-OS 28 05 874 bekannte sogenannte Konversionsverfahren, bei dem
für den Tiefdruck ein Offsetlitho verwendet wird, bringt nach wie vor den Nachteil der sogenannten Moircbildung,
weil die Abtastwalze aus einem normalen Glaskörper besteht und die Abtastoptik je nach Vorlage bis
zu 80% scharf gestellt werden muß und auf die Schreibwalze
über den lichtempfindlichen Lilhfilm ein normaler Tiefdruckfilmraster gelegt wird.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, bei einem Konversionsverfahren Moirebildung zu vermeiden.
Bei dem erfindungsgemäßen, mit einem Scanner arbeitenden Verfahren wird die Entrasterung und Bildung
des Tiefdruckrasters nicht elektronisch durchgeführt, sondern es kommt ein optisches Verfahren mit einer
untergelegten Streufolic auf der Abtastscitc und einer Streufolie und einem vignettierten Kontaktraster auf
der Aufzeichnungsseite zur Anwendung.
Um den Nachteil der Moircbildung zu beseitigen, wird somit ein Verfahren vorgeschlagen, bei welchem
die Moirabildung durch Anwendung einer Milehglasabtastwalze
(Überfangglas) und einer Maitstrcufolic aufgehoben wird. Nach der Belichtung mittels eines negativen
vignettierten Tiefdruckgraurasters entsteht ein Tiefdruckrasterpositiv, das in den Flächen von ca.
50-100% einen positiven Tiefdruckrastersteg und von ca. 50—5% runde Punkte unterschiedlicher Größe, je
nach Prozentgehall, aufweist.
Im einzelnen wird das erfindungsgemäße Verfahren wie folgt ausgeführt:
Es wird ein handelsüblicher Scanner verwendet, worunter
ein Gerät mit Xcnonlichtquelle zu verstehen ist. das die Lichtquelle im Inneren des Ablast/ylindcrs hat,
so daß sich folgende Reihenfolge ergibt:
1) Lichtquelle
2) Abtastzylinder, der nicht notwendigerweise ims
Mattglas bestehen muß:
3) Streufolie;
4) Offsetlitho;
5) Abtastoptik;
b) vignettierter Tiefdruckgraurastcr. Die Abtastwalzc eines derartigen elektronischen
Farbauszuggerätes (in der Fachsprache Scanner genannt),
die aus einem normalen Glaszylinder besteht, wird durch die Abtastwalze aus Milchglas (Überfangglas)
ersetzt und darauf wird das Offsetlitho aufgebracht und unter das Offsetlitho wird noch eine Mattstreufolie
gelegt und gleichzeitig mit dem Offsetlitho auf der Abtaslwalzc fest angeklebt; dann wird die Unscharfoptik
auf »Null« gestellt. Nach diesem Arbeitsvorgang wird auf die Bclichtungswalzc der zu belichtende lichtempfindliche
Lithfilm gebracht, dann wird wie üblich auf den unbelichteten Lithfilm ein vignettierter negativer Tiefdruckgrauraslcr
gebracht und auf diesen Tiefdruckgraurastcr wird noch einmal eine Mattstreufolic gelegt
und mit der Bclichtungswalze fest verklebt. Mit diesem
Arbeitsvorgang und der Unscharfbelichtung außerhalb des vignettierten Tiefdruckgraurasters wird eine Aufhebung
der Moircbildung erreicht und trotzdem wird das Tiefdruckrastcrposiliv durch den direkten Kontakt mit
dem vignctticrlcn negativen Tiefdruckgraurastcr (Schicht auf Schicht) scharf und ohne jede Moirebil-
20 dung.
Die entrastcrnde Wirkung der obenbeschriebenen
Anordnung besteht darin, daß durch die lichtstreuende Wirkung der Folie eine Untcrstrahlung bei der Abtastung
siuitritl und daß durch die Stärke der Folie die
2r) abzutastende Vorlage aus der Schärfenebene entfernl
wird.
Claims (1)
- Patentansprach:Verfahren zur Umwandlung eines Offsctlithos in ein Tiefdruckrasterpositiv mit einem Scanner, g c kennzeichnet dadurch, daßdie Abtastwalze als Milchglaswalze (Überfangglas) ausgebildet wird.auf diese Abtastwalze unter dem Offsetlitho eine Mattstreufolie aufgebracht wird, die Abtastoptik in Scharfstellung gebracht wird undauf der Belichtungswalze der unbelichtcte Lilhfilm. im Kontakt hiermit (Schicht auf Schicht) ein vignettierter negativer Tiefdruckraster aufgebracht und auf diesen nochmals cine MaIlstreufolie gelegt wird.to
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19823219274 DE3219274C2 (de) | 1982-05-21 | 1982-05-21 | Verfahren zur Umwandlung eines Offsetlithos in ein Tiefdruckrasterpositiv mit einem Scanner |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19823219274 DE3219274C2 (de) | 1982-05-21 | 1982-05-21 | Verfahren zur Umwandlung eines Offsetlithos in ein Tiefdruckrasterpositiv mit einem Scanner |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3219274A1 DE3219274A1 (de) | 1983-11-24 |
DE3219274C2 true DE3219274C2 (de) | 1984-11-08 |
Family
ID=6164253
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19823219274 Expired DE3219274C2 (de) | 1982-05-21 | 1982-05-21 | Verfahren zur Umwandlung eines Offsetlithos in ein Tiefdruckrasterpositiv mit einem Scanner |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE3219274C2 (de) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AT394634B (de) * | 1989-12-20 | 1992-05-25 | Raganitsch Gmbh | Druckverfahren |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2805874B2 (de) * | 1978-02-11 | 1980-08-14 | Paul 4300 Essen Pfau | Verfahren zum Herstellen einer Tiefdruckform |
-
1982
- 1982-05-21 DE DE19823219274 patent/DE3219274C2/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3219274A1 (de) | 1983-11-24 |
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