ATE311665T1 - Verfahren und vorrichtung zum entfernen von einer flüssigkeit von der oberfläche eines rotierenden substrats - Google Patents

Verfahren und vorrichtung zum entfernen von einer flüssigkeit von der oberfläche eines rotierenden substrats

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ATE311665T1
ATE311665T1 AT98870200T AT98870200T ATE311665T1 AT E311665 T1 ATE311665 T1 AT E311665T1 AT 98870200 T AT98870200 T AT 98870200T AT 98870200 T AT98870200 T AT 98870200T AT E311665 T1 ATE311665 T1 AT E311665T1
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gaseous substance
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rotating substrate
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AT98870200T
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Paul Mertens
Mark Meuris
Marc Heyns
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Imec Inter Uni Micro Electr
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    • H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
    • H10P72/04—Apparatus for manufacture or treatment
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