ATE189534T1 - Verfahren und vorrichtung zur entfernung von schutzlacken - Google Patents

Verfahren und vorrichtung zur entfernung von schutzlacken

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ATE189534T1
ATE189534T1 AT91920804T AT91920804T ATE189534T1 AT E189534 T1 ATE189534 T1 AT E189534T1 AT 91920804 T AT91920804 T AT 91920804T AT 91920804 T AT91920804 T AT 91920804T AT E189534 T1 ATE189534 T1 AT E189534T1
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Isao Canon Kabushiki K Imamura
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Canon Kk
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    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means

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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5983486A (en) * 1995-03-10 1999-11-16 Canon Kabushiki Kaisha Process for producing ink jet head
US5998305A (en) 1996-03-29 1999-12-07 Praxair Technology, Inc. Removal of carbon from substrate surfaces
US6273107B1 (en) * 1997-12-05 2001-08-14 Texas Instruments Incorporated Positive flow, positive displacement rinse tank
US6409312B1 (en) 2001-03-27 2002-06-25 Lexmark International, Inc. Ink jet printer nozzle plate and process therefor

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4920405Y1 (de) * 1969-07-19 1974-05-31
US3937175A (en) * 1973-12-26 1976-02-10 American Hoechst Corporation Pulsed spray of fluids
JPS5236445B2 (de) * 1974-02-28 1977-09-16
JPS5376754A (en) * 1976-12-20 1978-07-07 Fujitsu Ltd Resist removing method
JPS5762530A (en) * 1980-10-01 1982-04-15 Hitachi Ltd Method and apparatus for removing photo-resist
JPS57208135A (en) * 1981-06-18 1982-12-21 Fujitsu Ltd Spray type resist developing apparatus
JPS585039U (ja) * 1981-06-30 1983-01-13 大日本スクリ−ン製造株式会社 自動現像機用水洗装置
JPS58143534A (ja) * 1982-02-22 1983-08-26 Hitachi Ltd レジスト除去方法および除去装置
JPS58214151A (ja) * 1982-06-07 1983-12-13 Hitachi Ltd 微細レジストパタ−ン形成の現像方法
JPS59143327A (ja) * 1983-02-04 1984-08-16 Fujitsu Ltd レジスト皮膜の除去方法
JP2646205B2 (ja) * 1986-07-02 1997-08-27 大日本印刷株式会社 感光性樹脂層の形成法
JPS6358831A (ja) * 1986-08-29 1988-03-14 Shibaura Eng Works Co Ltd 異形基板のレジスト剥離方法および装置
JP2961838B2 (ja) * 1989-09-20 1999-10-12 富士通株式会社 半導体装置の製造方法
EP0443796A3 (en) * 1990-02-19 1992-03-04 Hitachi Chemical Co., Ltd. Development process

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EP0512117A4 (en) 1993-03-17

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