JPS58143534A - レジスト除去方法および除去装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本畏明はレジスト論未方法および除去装置１に間するも
のである。

−ＩＩ！に、半導体装置の製造過程において半導体ウェ
ーハにネトレジストのよ５なレジストを塗布する暢金、
遍當ではスピンナを利用して塗布を行なっているために
レジストはウェーハ表面のみならず七〇肩■や裏側にも
付着してしまう。このよ５にウェーハの１１１１Ｉや裏
側へレジストが付層するとウェーハの書道中やカートリ
ッジ等への収容時に肩■や裏側のレジストが剥れ落ち、
その剥れ藩ちたレジストくずが異物としてウェーハ表面
に再付着し、半導体ペレツトの脅性Ｋｌｌ影響な与えて
歩留の低下を秦たすことになる。この間層は素子の微細
化が進むにっれてますます重要となっ【きており、レジ
ストの剥れによる異物の再付着を殖１１［Ｋ防止する必
要がある。

したがって本発明の間約はスピンナ上に載置さｔＬタク
エーハの１１１ａＫレジスト漕剤を供給してつ工−ハｍ
ｓｉや裏側のレジストを除去し、これ（よリレシストの
剥れを防止して異物の発生を防ぐレジスト除去方法およ
び＃未装置を提供するととにあり、更に言えばこのウェ
ーハ除去工程を行なうことによってもウェーハへのレジ
スト塗布作業効率を低下することなく、しかもレジスト
除去時においてウェーハ表面にレジスト溶剤が付着しな
いように構成した除去方法および装置を提供することに
ある。

以下、本発明を図示の実施例により説明する。

第１図は本発明に係るレジスト除去装置の断面図である
。図において、ｌは上カップ２と下カップ３とからなる
ケーシングで、このケーシング１の下ｓＫは図外のモー
１等によって一転駆動されるスピンナ４を款けている。

このスピンナ４は駆動源の制御によって回転速度の制御
は自由であり。

その表−には真空吸引孔を形成してウェーハ５をスピン
ナ上に吸引支持することができる。

一方、ケージング１の上部にはスピンナ４の中央上空に
進出しあるいは側方上空に退避できる可動ノズル６な設
け、図外のレジスト供給源のホトレジストをこのスピン
ナ４の中央に滴下させることができる。また、前記ケー
シングｌの上部にはＭＩＮ＋ノズル６が軸方に退避した
ときにスピンナ４の上面（正確にはスピンナ上にセット
したウェーハ５の１１面）Ｋ近接するように下動する円
板状の除去ノズル７を配置している。この除去ノズル７
はウェーハ５の径と略等しい外径に形成し、その下面の
中央には主孔８を、下向の周ｉ部には断面な逆Ｖ字状に
した環状溝９４−夫青形成し、この環状溝９には環状の
内通路ｌＯに夫々連通する複数働の副孔１１を略記して
開設している。この場合、副孔１１は外周方向に向けて
開設している。そし７て、前記主孔８は除去ノズル７の
支持アーム１２の内部を通してＮ、ガス源に接続し、ま
た前記内通＠ｉｏは可撓チ、−プ１３１介してアセトン
やシンナ略ルジスト漕剤源に接続している。なお、アー
ム１２の基端は上″ＦＫ延設したウオームロッド１４に
部会するナツト１５として―成している。

１６はウオームロッド１４の動転モータ、１７は廃液や
気体を排出するための排出管である。

以上の１ｌｌＩｔ＆によれば、スピンナ４の上向にウェ
ーハ５を載置した上でこれを真空吸引すればウェーハは
スピンナ４の上に固持され、スピンナの回転に伴なって
一体的に一転される。したがって。

可動ノズル６をスピンナの中央に家で進出させてホトレ
ジストを滴下すれば、ウェーハ５表面にホトレジストｒ
ｔｌ−塗布することができる。そして、本発明方法では
ホトレジストの塗布後に可動ノズル６を退避させ、代り
に論来ノズル７を下動してウェーハの表面に近接位置さ
せる。この場合、モータ１６によりウオームロッド１４
を輪転すればこれに螺合するアーム１２、つまり除去ノ
ズル７が上下動される。そして、除去ノズル７を下動し
た後に、内通路１０にレジスト溶剤を圧入をもって供給
すれば、副孔１１からはウェーハ５０周縁に向けてレジ
スト溶剤が噴射され、第２図の仮想線で示すレジス）　
ｓｒａが除去されることになる。

艷に、これと同時に主孔８にＮ、ガスを供給すれば、Ｎ
、ガスは主孔８からウェーハ５表面に噴射されウェーハ
表面上を半径方向にかつｌ１ｇｊｉ１８に向かって通流
される。したがって、副孔１１からウェーハ肩線に向か
って噴射されたレジスト溶剤の霧滴がウェーハ上を中心
側に移動してウェーハー表−に付着することは防止され
る。これにより、ウェーハ表向での意に反するレジネト
の除去が防止でする。

次に前記した本発明方法を高効率で行なうためには次の
ようにする０ｇｓｗＪは横軸に時間、縦軸にウェーハ（
スピンナ）−転途度を示す図で、同ＩＥＩＣＡ）は一般
的な方法である。即ち、最初にウェーハな中速度で一転
しなからシンナによる洗浄を行ない、ウェーハを一度停
止した上でホトレジストを滴下する。その後、ウェーハ
を低連から高速へと増速して所廖の膜厚のレジスト膜を
形成する。

しかる後、一旦りエーハの一転を止め、今度は除去ノズ
ルをセットして再びウェーハを一転させ前述したレジス
ト除去を行なっている。これに対し、改良された工程は
同図■のよ５に、ウェーハの＾速闘転中、つまりレジス
ト膜の形成中に既に除去ノズルのセットを完了させ、レ
ジスト膜の形成後半でレジスト除去を開始させるのであ
る。このようＫしても、レジスト膜は高速−転の菌中で
殆んど構成されるものであるから何等の支障も生じない
。したかっ【、この方法によればホトレジストの塗布な
いし除去に要する総合時間の短縮な図ることができ、ニ
ーの高効率化を達成でする。

ここで、本発明装置ではレジスト溶剤の噴出用ノズルと
Ｎ８がスノズルとを別体のもので構成してもよい。この
場合、レジスト溶剤のノズルはウェーハの下軸に配置す
ることもできる。また、Ｎｌガスの代りに清浄空気であ
ってもよい。

以上のように本発明のレジスト除去方法および除＊Ｗｌ
直によればレジスト溶剤の供給と共にクエ・−ハ表向に
ガスを噴射させるので、クエーハｍｗＫ付看したレジス
トを除去してレジストの剥離を防止しかつｈ物の発生を
防止し得るのは勿論のこと、レゾスト溶剤がウェーハ表
向に付着してウェーハ表面のレジスト除去を防止でき、
更にレジスト塗布ないしレジスト除去の全ニ一時間の短
縮をも図ることかできるという効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明装置のｌｌｒＷＪ図、第２図はウェーハ
周縁塾の拡大断面図、第３図囚、＠は工程を示すグラフ
である。 １・・・クーシンダ、４・・・スピンナ、５・・・ウエ
ーノ１、ト・・可動ノズル、７・・・除去ノズル、８・
・・主孔（ガス用ノズル）、１１・・・副孔（レジスト
溶剤ノズル）。 １ト・・アーム、１４・・・フオームロッド、γ・・・
レジスト、ｒ［・・レジスト除去部。 代理人　弁１士　　薄　１）利　拳　　。 第　　１　　図 第　　２　　図 第　　３　　図 ｔＡ） （Ｂ）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、ｖＩＪ転するスピンナ上に表ＪＩＫレジスト膜ｔ−
   形成したウェーハを支持し、このクエー７１の層一部に
   レジスト溶剤を供給し【ウエーノ・のｗ４Ｉｉｉｓｅｃ
   付着したレジストをＷＩ解ｌＩＩ去すると共に、クエー
   ノ１のＩＩＩＩＩＫは中央からＩｌ１ｗＫ肉かってガス
   を逓減させレジスト溶剤のウェーハ表向への付着を防止
   することを特徴とするレジスト＃責方法。 ２、　１１面にレジスト膜を１１１１！ＩＬシたウエー
   ノ・を支持可能な呵転スピンナと、前記ウニ＝ハの馬一
   部にレジスト港剤を供給するレジスト除去用のノズルと
   、前記クエーへのＩＩＩＫ中央から屑−に肉ってガスを
   通風するノズルとを備えたことを特徴とするレジスト除
   去装置。 ３、　レジスト除去用のノズルと、ガス通風用のノズル
   トを一体Ｋ１１ｌ威し【な４４１ＩｖＩｆ請求ノＩｌｌ
   ！第２項記載のレジスト除去装置。