DE69131959D1 - Verfahren und vorrichtung zur entfernung von schutzlacken - Google Patents

Verfahren und vorrichtung zur entfernung von schutzlacken

Info

Publication number
DE69131959D1
DE69131959D1 DE69131959T DE69131959T DE69131959D1 DE 69131959 D1 DE69131959 D1 DE 69131959D1 DE 69131959 T DE69131959 T DE 69131959T DE 69131959 T DE69131959 T DE 69131959T DE 69131959 D1 DE69131959 D1 DE 69131959D1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
resist
resist removing
removing liquid
removing protective
spouting
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE69131959T
Other languages
English (en)
Other versions
DE69131959T2 (de
Inventor
Isao Imamura
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Publication of DE69131959D1 publication Critical patent/DE69131959D1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE69131959T2 publication Critical patent/DE69131959T2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Processing And Handling Of Plastics And Other Materials For Molding In General (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
DE69131959T 1990-11-28 1991-11-28 Verfahren und vorrichtung zur entfernung von schutzlacken Expired - Fee Related DE69131959T2 (de)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP32245290 1990-11-28
JP32245190 1990-11-28
PCT/JP1991/001635 WO1992009935A1 (en) 1990-11-28 1991-11-28 Method of and device for removing resist

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE69131959D1 true DE69131959D1 (de) 2000-03-09
DE69131959T2 DE69131959T2 (de) 2000-06-21

Family

ID=26570823

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE69131959T Expired - Fee Related DE69131959T2 (de) 1990-11-28 1991-11-28 Verfahren und vorrichtung zur entfernung von schutzlacken

Country Status (5)

Country Link
US (1) US5443942A (de)
EP (1) EP0512117B1 (de)
AT (1) ATE189534T1 (de)
DE (1) DE69131959T2 (de)
WO (1) WO1992009935A1 (de)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5983486A (en) * 1995-03-10 1999-11-16 Canon Kabushiki Kaisha Process for producing ink jet head
US5998305A (en) 1996-03-29 1999-12-07 Praxair Technology, Inc. Removal of carbon from substrate surfaces
US6273107B1 (en) * 1997-12-05 2001-08-14 Texas Instruments Incorporated Positive flow, positive displacement rinse tank
US6409312B1 (en) 2001-03-27 2002-06-25 Lexmark International, Inc. Ink jet printer nozzle plate and process therefor

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4920405Y1 (de) * 1969-07-19 1974-05-31
US3937175A (en) * 1973-12-26 1976-02-10 American Hoechst Corporation Pulsed spray of fluids
JPS5236445B2 (de) * 1974-02-28 1977-09-16
JPS5376754A (en) * 1976-12-20 1978-07-07 Fujitsu Ltd Resist removing method
JPS5762530A (en) * 1980-10-01 1982-04-15 Hitachi Ltd Method and apparatus for removing photo-resist
JPS57208135A (en) * 1981-06-18 1982-12-21 Fujitsu Ltd Spray type resist developing apparatus
JPS585039U (ja) * 1981-06-30 1983-01-13 大日本スクリ−ン製造株式会社 自動現像機用水洗装置
JPS58143534A (ja) * 1982-02-22 1983-08-26 Hitachi Ltd レジスト除去方法および除去装置
JPS58214151A (ja) * 1982-06-07 1983-12-13 Hitachi Ltd 微細レジストパタ−ン形成の現像方法
JPS59143327A (ja) * 1983-02-04 1984-08-16 Fujitsu Ltd レジスト皮膜の除去方法
JP2646205B2 (ja) * 1986-07-02 1997-08-27 大日本印刷株式会社 感光性樹脂層の形成法
JPS6358831A (ja) * 1986-08-29 1988-03-14 Shibaura Eng Works Co Ltd 異形基板のレジスト剥離方法および装置
JP2961838B2 (ja) * 1989-09-20 1999-10-12 富士通株式会社 半導体装置の製造方法
EP0443796A3 (en) * 1990-02-19 1992-03-04 Hitachi Chemical Co., Ltd. Development process

Also Published As

Publication number Publication date
DE69131959T2 (de) 2000-06-21
ATE189534T1 (de) 2000-02-15
EP0512117B1 (de) 2000-02-02
WO1992009935A1 (en) 1992-06-11
EP0512117A1 (de) 1992-11-11
EP0512117A4 (en) 1993-03-17
US5443942A (en) 1995-08-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE68911553D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung von Wasser durch Absetzen unter Verwendung von feinem Sand.
DE69013653D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von reinem oder ultrareinem Wasser.
DE3854541T2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung eines Materials durch Plasma.
DE69315204D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von Wasser
ATE135936T1 (de) Vorrichtung und verfahren zur entfernung von kohlenwasserstoffen aus gasströmen
DE69003944D1 (de) Verfahren zur gesteuerten anaeroben zersetzung von abfall.
DE69203647T2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur thermischen Zersetzung von umweltbelastenden Abfällen.
AT370127B (de) Verfahren und vorrichtung zur aufbereitung von bituminoesem mischgut
DE69222460D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung wässriger Lösung von gelöschtem Kalk
DE68905194D1 (de) Verfahren und vorrichtung zur entfernung von schlaemmen und reinigung von abwaessern.
AT374374B (de) Verfahren und vorrichtung zur behandlung von gasen
DE69004983D1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Unterwasserablagerung von Abfall.
DE69131959T2 (de) Verfahren und vorrichtung zur entfernung von schutzlacken
DE69101064T2 (de) Verfahren und vorrichtung zum verbrennen von feststoffabfällen und möglicherweise flüssigen abfällen verschiedener art.
DE69000266T2 (de) Verfahren und vorrichtung zur verbesserung des langelier-index von staedtischem wasser.
DE69025885D1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung der Ablauffolge eines industriellen Verfahrens
DE3586685T2 (de) Verfahren und vorrichtung zur kontrolle eines bilderzeugungsgeraetes.
DE59202875D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Temperaturbehandlung eines Gemisches von festen Stoffen und Gasen.
DE69419325D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur biologischen Behandlung von verschmutztem Wasser, Schlämmen und Ablagerungen
ATA1892A (de) Verfahren und vorrichtung zur entsorgung von kohlendioxid
ATE108069T1 (de) Verfahren zur sterilisation von kontaminierten abfällen und vorrichtung zu seiner ausführung.
DE58901180D1 (de) Verfahren und vorrichtung zur biologischen reinigung von abwasser.
ATA368778A (de) Verfahren und vorrichtung zur reinigung von verschmutztem wasser
DE3861978D1 (de) Verfahren und vorrichtung zur behandlung von photolacken.
DE3861528D1 (de) Verfahren und vorrichtung zur behandlung von photolacken.

Legal Events

Date Code Title Description
8339 Ceased/non-payment of the annual fee