AT124875B - Verfahren zur Herstellung von Graphitelektroden. - Google Patents

Verfahren zur Herstellung von Graphitelektroden.

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  Verfahren zur Herstellung von Graphitelektroden. 



   Es ist bekannt, dass bei der Herstellung lichtempfindlicher Selenzellen von manchen Autoren versucht worden ist, als Elektrodenmaterial Graphit auf einer geeigneten Unterlage zu verwenden. Es ist jedoch auch bekannt, dass bei den bisherigen Graphitelektroden die Selenzellen den Nachteil hatten, dass ein starkes Rauschen auftrat, welches durch den nicht gleichmässigen Abstand der einzelnen Graphitteilchen verursacht wurde. 



   Durch die neue Erfindung ist dieser Fehler von Selenzellen mit Graphitelektroden beseitigt worden, u. zw. dadurch, dass ganz fein verteilter Graphit verwandt wurde, dessen einzelne Teilchen kolloidal sind. 



  Ausserdem ist   natürlich   auf die chemische Reinheit des Materials zu achten, d. h. er muss von den beigemengten mineralischen Verunreinigungen befreit sein. Solch fein verteilter Graphit gestattet eine vollkommen gleichmässige Schicht mit guten elektrischen Kontakteigenschaften herzustellen. Allerdings ist man darauf angewiesen, die kolloidalen Teilchen in einer Flüssigkeit gelöst zu verwenden, da im trockenen Zustande die kolloidale Grössenordnung nicht gewahrt bleibt. 



   Eine der vielen möglichen Ausführungsformen der neuen Erfindung zeigt die Figur. Als Unterlage wird eine sauber polierte Glasplatte benutzt, in welche das Elektrodenraster eingeätzt ist. Auf die geätzten Flächen wird der kolloidale Graphit aufgetragen (schwarze   Fläehenteile   der Figur). Die nicht mattierten, also vollkommen blank gebliebenen Flächen der Glasplatte zeigen dann die Form einer Mäanderlinie (in Figur weiss geblieben). Die mit a bezeichneten graphitierten Flächen dienen zur Herstellung der elektrischen Kontakte. In die   Zwischenräume   zwischen den Elektrodenkämmen wird das Selen gebracht, z. B. durch Kathodenzerstäubung. Zu beachten ist bei dieser Art der Elektrodenherstellung jedoch, dass der kolloidale Graphit nur in Form einer Auflösung (z. B. Wasser) benutzt werden kann.

   Das Lösungsmittel würde aber die Lichtempfindlichkeit des Selens infolge chemischer Umsetzungen verderben. Es muss daher auf eine geeignete Art und Weise wieder entfernt werden, nachdem der Graphit aufgetragen ist. Als einfachstes Mittel hiezu hat sich längeres Erhitzen der Glasplatte erwiesen, bevor das lichtempfindliche Material aufgetragen wurde. 



   Es sei noch darauf hingewiesen, dass auch bei der Herstellung   ultrarotempfindlieher   Zellen, bei denen bekanntlich Selen mit Zusätzen von Schwermetallen (z. B. Tellur) verwandt wird, die Benutzung kolloidaler Graphitauflösungen sehr gute Resultate gegeben hat. 



   PATENT-ANSPRÜCHE :
1. Verfahren zur Herstellung von Graphitelektroden für Selenzellen, dadurch gekennzeichnet dass der Graphit in Form kolloidaler Teilchen benutzt wird. 



   2. Verfahren zur Herstellung von Graphitelektroden, dadurch   gekennzeichnet,   dass eine kolloidale Auflösung von chemisch reinem Graphit verwandt wird und das   Lösungsmittel - nach   Auftragen der Schicht-wieder entfernt wird, z. B. durch Erhitzen. 

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Claims (1)

  1. 3. Anordnung zur Ausübung des Verfahrens nach den Ansprüclien 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Elektroden aus kolloidalem Graphit zur Herstellung ultrarotempfindlicher Zellen aus Gemischen bzw. Verbindungen bzw. Legierungen von Selen mit. schwereren Elementen benutzt werden. <Desc/Clms Page number 2> EMI2.1 dass die Elektroden aus kolloidalem Graphit zur Herstellung ultrarotempfindlicher Selen-Tellur-Zellen benutzt werden. EMI2.2
AT124875D 1929-02-13 1929-12-16 Verfahren zur Herstellung von Graphitelektroden. AT124875B (de)

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