DE522291C - Verfahren zur Herstellung von Graphitelektroden fuer Selenzellen - Google Patents

Verfahren zur Herstellung von Graphitelektroden fuer Selenzellen

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DE522291C
DE522291C DET36412D DET0036412D DE522291C DE 522291 C DE522291 C DE 522291C DE T36412 D DET36412 D DE T36412D DE T0036412 D DET0036412 D DE T0036412D DE 522291 C DE522291 C DE 522291C
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Germany
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production
graphite
selenium
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graphite electrodes
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    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F30/00—Individual radiation-sensitive semiconductor devices in which radiation controls the flow of current through the devices, e.g. photodetectors
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F71/00—Manufacture or treatment of devices covered by this subclass

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  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)

Description

  • Verfahren zur Herstellung von Graphitelektroden für Selenzellen Es ist bekannt, daß bei der Herstellung lichtempfindlicher Selenzellen von manchen Autoren versucht worden ist, als Elektrodenmaterial Graphit auf einer geeigneten Unterlage zu verwenden. Es ist jedoch auch bekannt, daß bei Verwendung der bisherigen Graphitelektroden die Selenzellen in ak-ustischen Einrichtungen ein starkes Rauschen hervorriefen, welches durch den nicht gleichmäßigen Abstand der einzelnen Graphitteilchen verursacht wurde.
  • Durch die Erfindung ist dieser Fehler beseitigt worden, und zwar durch die Verwendung des Graphits in Form kolloidaler Teilchen. Dieeinzelnen Teilchen haben nur einen Durchmesser von etwa 1/1000 nim. Außerdem ist natürlich auf die chemische Reinheit des Materials zu achten, d. h. es muß von den beigemengten mineralischen Verunreinigungen befreit sein. Solch fein verte'ilter Graphit gestattet, eine vollkommen gleichmäßige Schicht mit guten elektrischen Kontakteigenschaften herzustellen. Allerdings ist man darauf angewiesen, die kolloidalen Teilchen in einer Flüssigkeit gelöst zu verwenden, da im trockenen Zustande der kolloidale Zustand nicht erhalten bleibt.
  • Eine der vielen möglichen Ausführungsformen der Erfindung zeigt die Figur. Als Unterlage wird eine sauber polierte Glasplatte benutzt, in welche in bekannter Weise das Elektrodenraster eingeätzt ist. Auf die geätzten Flächen wird der kolloidaleGraphit aufgetragen (schwarze Flächenteile der Figur). Die nicht mattierten,alsovollkommen blank gebliebenen Flächen der Glasplatte zeigen dann die Form einer Mäanderlinie (in Figur weiß geblieben). Die mit a bezeichneten graphitierten Flächen dien-en zur Herstellung der elektrischen Kontakte. In die Zwischenräume zwischen den Elektrodenkämmen wird das Selen gebracht, z. B. durch Kathodenzerstäubung. Zu beachten ist bei dieser Art der Elektrodenherstellung jedoch, daß der kolloidale Graphit nur in Form einer kolloidalen Lösung (z. B. Wasser) benutzt werden kann. Das Lösungsmittel würde aber die Lichtempfindlichkeit des Selens infolge chemischer Umsetzungen verderben. Es muß daher auf eine geeignete Art und Weise wieder entfernt werden, nachdem der Graphit aufgetragen ist. Als einfachstes Mittel hierzu hat sich längeres Erhitzen der Glasplatte erwiesen, bevor das lichtempfindliche Material aufgetragen wurde.
  • Als besonders vorteilhaft erweist sich die Anwendung des Verfahrens gemäß der Erfindung bei der Herstellung ultrarotempfindlicher Zellen, bei denen bekanntlich Selen mit Zusätzen von Schwermetallen (z. B. Tellur) verwendet wird.

Claims (3)

  1. PATENTANSPRÜCHE- i. Verfahren zur Herstellung von Graphitelektroden für SelenzelIen, gekennzeichnet durch die Verwendung des Graphits in Form kolloidaler Teilchen.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß eine kolloidale Auflösung von chemisch reinem Graphit verwendet und das.
  3. Lösungsmittel nach Auftragen der Schicht wieder entfernt wird, z. B. durch Erhitzen. 3. Die Verwendung der nach dem Verfahren 'gemäß Anspruch i und 2 hergestellten Elektroden für ultrarotempfindliche Selenzellen, z.B. für Selen-Tellur-Zellen.
DET36412D Verfahren zur Herstellung von Graphitelektroden fuer Selenzellen Expired DE522291C (de)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1148761B (de) * 1955-01-20 1963-05-16 Ake Stig Thulin Vorrichtung zum Steuern eines Stellgliedes in Abhaengigkeit von der Einwirkung eines Lichtflecks auf fotoelektrische Mittel

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DE1148761B (de) * 1955-01-20 1963-05-16 Ake Stig Thulin Vorrichtung zum Steuern eines Stellgliedes in Abhaengigkeit von der Einwirkung eines Lichtflecks auf fotoelektrische Mittel

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