AR034422A1 - Una composicion de resina de polipropileno que contiene un derivado de acido trimesico, un metodo para proveer una resina con un valor de niebla menor de 62%, un uso del derivado de acido trimesico como agente reductor de niebla, mezclas que contienen los derivados de acidos trimesicos, composicione - Google Patents

Abstract

Una composición de resina de polipropileno que contiene un derivado de ácido trimésico de la fórmula (1), un método para proveer una resina con un valor de niebla que es menor de 62%; un uso del derivado de ácido trimésico como agente reductor de niebla, mezclas que contienen los derivados de ácidos trimésicos, composiciones que contienen las mezclas y compuestos derivados de ácido trimésico. Los derivados de ácido trimésico de la fórmula (1) en la cual: R1, R2 y R3 independientemente uno del otro son C1-20 alquilo, C1-20 alquilo sustituido por C1-20 alquilamino, di (C1-20 alquil) amino, C1-20 alquiloxi o hidroxi; { poli(C2-4 alcoxi)}-(C2-4 alquilo), C2-20 alquenilo, C3-12 cicloalquilo, C3-12 cicloalquilo sustituido por 1, 2 o 3 C1-20 alquilo; ciclohexilmetilo, ciclohexilmetil sustituido por 1, 2 o 3 C1-20 alquilo; C3-12 cicloalquenilo, C3-12 cicloalquenilo sustituido por 1, 2 o 3 C1-20 alquilo, fenilo, fenilo sustituido por 1, 2 o 3 radicales seleccionados a partir del grupo que consta de C1-20 alquilo, C1-20 alquiloxi, hidroxi, halógeno, trihalogenmetil, trihalogenmetoxi, benzoilo, fenilamino, acilamino y fenilazo, fenilo sustituido por 5 halógeno, C7-9 fenilalquilo, C7-9 fenilalquilo que es sustituido en el fenilo por 1, 2 o 3 radicales seleccionados a partir del grupo que consta de C1-20 alquilo, C1-20 alcoxi e hidroxi, naftilo, naftilo sustituido por C1-20 alquilo, adamantilo, adamantilo sustituido por C1-20 alquilo, o un grupo heterocíclico de 5 o 6 miembros. Las composiciones de resina de polipropileno tienen excelente cristalizabilidad, alta transmitancia, alta claridad, bajo niebla y una mejor estabilidad térmica.