WO2023224095A1

WO2023224095A1 - 含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体

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Publication number: WO2023224095A1
Application number: PCT/JP2023/018608
Authority: WO
Inventors: 優丹治
Original assignee: 株式会社レゾナック
Priority date: 2022-05-20
Filing date: 2023-05-18
Publication date: 2023-11-23

Abstract

下記式で表される含フッ素エーテル化合物。Ｒ１－Ｒ２－ＣＨ２－Ｒ３［－ＣＨ２－Ｒ４－ＣＨ２－Ｒ３］ｘ－ＣＨ２－Ｒ５－Ｒ６（Ｒ１、Ｒ６は炭素原子数１～５０の有機基；Ｒ２は式（２－１）または（２－２）；Ｒ５は式（２－３）または（２－４）；Ｒ３はパーフルオロポリエーテル鎖；Ｒ４は式（３－１）または（３－２）；ｘは０～２。）

Description

含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体

　本発明は、含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体に関する。
　本願は、２０２２年５月２０日に、日本に出願された特願２０２２－０８３１５４号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。

　磁気記録再生装置の記録密度を向上させるために、高記録密度に適した磁気記録媒体の開発が進められている。
　従来、磁気記録媒体として、基板上に記録層を形成し、記録層上にカーボン等の保護層を形成したものがある。保護層は、記録層に記録された情報を保護するとともに、磁気ヘッドの摺動性を高める。しかし、記録層上に保護層を設けただけでは、磁気記録媒体の耐久性は十分に得られない。このため、一般に、保護層の表面に潤滑剤を塗布して潤滑層を形成している。

　磁気記録媒体の潤滑層を形成する際に用いられる潤滑剤としては、例えば、－ＣＦ_２－を含む繰り返し構造を有するフッ素系のポリマーの末端に、水酸基、アミノ基などの極性基を有する化合物を含有するものが提案されている。

　例えば、特許文献１には、パーフルオロポリエーテル鎖の両末端に、メチレン基（－ＣＨ_２－）を介して２級水酸基を含む２価の連結基と末端基とがこの順に結合している含フッ素エーテル化合物が開示されている。
　また、特許文献２には、鎖状構造の中央にグリセリン構造（－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＨ（ＯＨ）－ＣＨ_２－Ｏ－）を配置し、その両側にメチレン基（－ＣＨ_２－）を介してパーフルオロポリエーテル鎖と、２級水酸基を含む２価の連結基と、極性基を有する末端基とがこの順にそれぞれ結合された含フッ素エーテル化合物が開示されている。

　また、特許文献３には、１級水酸基と２級水酸基とを含む２価の連結基の両側に、メチレン基（－ＣＨ_２－）を介してパーフルオロポリエーテル鎖と、末端基とがこの順に結合している含フッ素エーテル化合物が開示されている。
　また、特許文献４には、３つのパーフルオロポリエーテル鎖が２級水酸基を有する連結基を介して結合した骨格を有し、その両側に、メチレン基（－ＣＨ_２－）を介して２級水酸基を含む２価の連結基と、極性基を有する末端基とがこの順にそれぞれ結合している含フッ素エーテル化合物が開示されている。

　さらに、特許文献５には、磁気媒体用の潤滑剤として有用なポリオール（ペル）フルオロポリエーテル誘導体を製造する方法が開示されている。特許文献５には、２個の保護ヒドロキシル官能基および１個の遊離ヒドロキシル基を有する保護トリオールを、活性化剤と反応させて活性化保護トリオールを生成させ、官能性（ペル）フルオロポリエーテル誘導体の末端に配置された水酸基と求核置換反応させて、保護ポリオール（ペル）フルオロポリエーテル誘導体を生成させることが記載されている。

国際公開第２０１７／１５４４０３号国際公開第２０２１／２５１３３５号国際公開第２０２１／０１９９９８号米国特許出願公開第２０１６／０２６０４５２号明細書特許第５３３４０６４号公報

　磁気記録再生装置においては、より一層、磁気ヘッドの浮上量を小さくすることが要求されている。このため、磁気記録媒体における潤滑層の厚みを、より薄くすることが求められている。
　しかし、一般的に潤滑層の厚みを薄くすると、磁気記録媒体の化学物質耐性が低下する傾向がある。また、磁気ヘッドの浮上量を小さくすると、潤滑層中の含フッ素エーテル化合物が磁気ヘッドに付着するピックアップが発生する場合がある。

　本発明は、上記事情を鑑みてなされたものであり、優れた化学物質耐性を有し、かつピックアップを抑制できる潤滑層を形成でき、磁気記録媒体用潤滑剤の材料として好適に用いることができる含フッ素エーテル化合物を提供することを目的とする。
　また、本発明は、本発明の含フッ素エーテル化合物を含み、化学物質耐性が良好で、かつピックアップ抑制効果の高い潤滑層を形成できる磁気記録媒体用潤滑剤を提供することを課題とする。
　また、本発明は、本発明の含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層を有する、化学物質耐性が良好でピックアップ抑制効果の高い磁気記録媒体を提供することを目的とする。

　本発明は以下の態様を含む。
　本発明の第一の態様は、以下の含フッ素エーテル化合物を提供する。

［１］　下記式（１）で表されることを特徴とする、含フッ素エーテル化合物。
Ｒ^１－Ｒ^２－ＣＨ_２－Ｒ^３［－ＣＨ_２－Ｒ^４－ＣＨ_２－Ｒ^３］_ｘ－ＣＨ_２－Ｒ^５－Ｒ^６　　（１）
（式（１）中、Ｒ^１およびＲ^６はそれぞれ独立に、炭素原子数１～５０の有機基である；Ｒ^２は、下記式（２－１）または（２－２）で表される２価の連結基である；Ｒ^５は、下記式（２－３）または（２－４）で表される２価の連結基である；ｘは、０～２の整数を表す；Ｒ^３は、パーフルオロポリエーテル鎖である；ｘが１または２である場合、２つまたは３つのＲ^３は一部または全部が同じであってもよいし、それぞれ異なっていてもよい；Ｒ^４は、下記式（３－１）または（３－２）で表される２価の連結基である；ｘが２である場合、２つのＲ^４は同じであってもよいし、それぞれ異なっていてもよい。）

（式（２－１）中、ｎ１は２～４の整数を表す；式（２－１）中、炭素原子に結合している点線はＲ^１と結合している結合手を示し、酸素原子に結合している点線はメチレン基と結合している結合手を示す。）
（式（２－２）中、炭素原子に結合している点線はＲ^１と結合している結合手を示し、酸素原子に結合している点線はメチレン基と結合している結合手を示す。）
（式（２－３）中、ｎ２は２～４の整数を表す；式（２－３）中、炭素原子に結合している点線はＲ^６と結合している結合手を示し、酸素原子に結合している点線はメチレン基と結合している結合手を示す。）
（式（２－４）中、炭素原子に結合している点線はＲ^６と結合している結合手を示し、酸素原子に結合している点線はメチレン基と結合している結合手を示す。）
（式（３－１）中、ｎ３は２～４の整数を表す；ｙ１は１～３の整数を表す；ｙ２は１～３の整数を表す；ｙ１、ｙ２のうち少なくとも一方は１である；左側の酸素原子に結合している点線はＲ^１側のメチレン基と結合している結合手を示し、右側の酸素原子に結合している点線はＲ^６側のメチレン基と結合している結合手を示す。）
（式（３－２）中、ｙ３は１～３の整数を表す；ｙ４は１～３の整数を表す；ｙ３、ｙ４のうち少なくとも一方は１である；左側の酸素原子に結合している点線はＲ^１側のメチレン基と結合している結合手を示し、右側の酸素原子に結合している点線はＲ^６側のメチレン基と結合している結合手を示す。）

　本発明の第一の態様の前記含フッ素エーテル化合物は、以下の［２］～［１０］に記載される特徴を有することが好ましい。以下の［２］～［１０］に記載される特徴は、２つ以上を任意に組み合わせることも好ましい。
［２］　前記式（１）におけるＲ^２が前記式（２－１）であり、Ｒ^５が前記式（２－３）であり、ｘ個のＲ^４が全て前記式（３－１）であり、前記式（３－１）におけるｙ１が１であり、かつｙ２が１である、［１］に記載の含フッ素エーテル化合物。
［３］　前記式（２－１）におけるｎ１、前記式（２－３）におけるｎ２、および前記式（３－１）におけるｎ３の値が全て同じである、［２］に記載の含フッ素エーテル化合物。

［４］　前記式（１）におけるＲ^２が前記式（２－２）であり、Ｒ^５が前記式（２－４）であり、ｘ個のＲ^４が全て前記式（３－２）であり、前記式（３－２）におけるｙ３が１であり、かつｙ４が１である、［１］に記載の含フッ素エーテル化合物。

［５］　前記式（１）におけるＲ^１およびＲ^６はそれぞれ独立に、極性基を有する有機基、炭素－炭素不飽和結合を有する有機基、極性基と炭素－炭素不飽和結合の両方を有する有機基のいずれかであり、
　前記極性基が、水酸基、アミノ基、カルボキシ基、ホルミル基、カルボニル基、スルホ基、シアノ基、およびアミド結合を有する基からなる群から選ばれる少なくとも１種であり、
　前記炭素－炭素不飽和結合が、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基、不飽和複素環基、アルケニル基、およびアルキニル基からなる群から選ばれる少なくとも１種である、［１］～［４］のいずれかに記載の含フッ素エーテル化合物。

［６］　前記式（１）におけるＲ^１とＲ^６に含まれる極性基の合計数が１～４である、［１］～［５］のいずれかに記載の含フッ素エーテル化合物。
［７］　前記式（１）におけるＲ^１－Ｒ^２－とＲ^６－Ｒ^５－が同じである、［１］～［６］のいずれかに記載の含フッ素エーテル化合物。

［８］　前記式（１）における（ｘ＋１）個のＲ^３がそれぞれ独立に、下記式（４）で表されるパーフルオロポリエーテル鎖である、［１］～［７］のいずれかに記載の含フッ素エーテル化合物。
　－（ＣＦ_２）_ｗ１－Ｏ－（ＣＦ_２Ｏ）_ｗ２－（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｗ３－（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｗ４－（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｗ５－（ＣＦ_２）_ｗ６－　　　（４）
（式（４）中、ｗ２、ｗ３、ｗ４、ｗ５は平均重合度を示し、それぞれ独立に０～２０を表す；ただし、ｗ２、ｗ３、ｗ４、ｗ５の全てが同時に０になることはない；ｗ１、ｗ６は、ＣＦ_２の数を表す平均値であり、それぞれ独立に１～３を表す；式（４）における繰り返し単位である（ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）の配列順序には、特に制限はない。）

［９］　前記式（１）における（ｘ＋１）個のＲ^３がそれぞれ独立に、下記式（４－１）～（４－４）で表されるパーフルオロポリエーテル鎖から選ばれるいずれか１種である、［１］～［７］のいずれかに記載の含フッ素エーテル化合物。
　－ＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｈ－（ＯＣＦ_２）_ｉ－ＯＣＦ_２－　　（４－１）
（式（４－１）中、ｈおよびｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。）
　－ＣＦ_２ＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｊ－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－　　（４－２）
（式（４－２）中、ｊは平均重合度を示し、１～１５を表す。）
　－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｋ－ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－　　（４－３）
（式（４－３）中、ｋは平均重合度を示し、１～１０を表す。）
　－（ＣＦ_２）_ｗ７－Ｏ－（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｗ８－（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｗ９－（ＣＦ_２）_ｗ１０－　　（４－４）
（式（４－４）中、ｗ８、ｗ９は平均重合度を示し、それぞれ独立に１～２０を表す；ｗ７、ｗ１０は、ＣＦ_２の数を表す平均値であり、それぞれ独立に１～２を表す。）

［１０］　数平均分子量が５００～１００００の範囲内である、［１］～［９］のいずれかに記載の含フッ素エーテル化合物。
　本発明の第二の態様は、以下の磁気記録媒体用潤滑剤を提供する。
［１１］　［１］～［１０］のいずれかに記載の含フッ素エーテル化合物を含むことを特徴とする磁気記録媒体用潤滑剤。
　本発明の第三の態様は、以下の磁気記録媒体を提供する。
［１２］　基板上に、少なくとも磁性層と、保護層と、潤滑層とが順次設けられた磁気記録媒体であって、
　前記潤滑層が、［１］～［１０］のいずれかに記載の含フッ素エーテル化合物を含むことを特徴とする磁気記録媒体。
　本発明の第三の態様の磁気記録媒体は、以下の［１３］に記載される特徴を有することが好ましい。
［１３］　前記潤滑層の平均膜厚が、０．５ｎｍ～２．０ｎｍである、［１２］に記載の磁気記録媒体。

　本発明の含フッ素エーテル化合物は、上記式（１）で表される化合物であり、磁気記録媒体用潤滑剤の材料として好適である。
　本発明の磁気記録媒体用潤滑剤は、本発明の含フッ素エーテル化合物を含むため、化学物質耐性が良好で、ピックアップ抑制効果の高い潤滑層を形成できる。

　本発明の磁気記録媒体は、本発明の含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層を有する。このため、本発明の磁気記録媒体は、化学物質耐性が良好で、ピックアップ抑制効果が高く、信頼性および耐久性に優れる。また、本発明の磁気記録媒体の有する潤滑層は、化学物質耐性が良好で、ピックアップを抑制できるため、厚みを薄くでき、磁気ヘッドの浮上量を小さくできる。

本発明の磁気記録媒体の一実施形態を示した概略断面図である。

　本発明者は、上記課題を解決するために、以下に示すように、鋭意研究を重ねた。
　従来、保護層の表面に塗布される磁気記録媒体用潤滑剤（以下、「潤滑剤」と略記する場合がある。）の材料として、水酸基などの極性基を有する含フッ素エーテル化合物が、好ましく用いられている。含フッ素エーテル化合物に含まれる極性基は、保護層上の活性点と結合して、潤滑層の保護層に対する密着性を向上させる。従来の含フッ素エーテル化合物では、鎖状構造における末端に極性基が配置されている。また、含フッ素エーテル化合物が、複数のパーフルオロポリエーテル鎖を有するものである場合、隣接するパーフルオロポリエーテル鎖間に極性基が配置されている。

　しかしながら、従来の潤滑剤を用いて保護層上に厚みの薄い潤滑層を形成した場合、化学物質耐性が良好で、かつピックアップ抑制効果の高い潤滑層を実現することは困難であった。
　その原因としては、潤滑層に含まれる含フッ素エーテル化合物中に、保護層上に多数存在する活性点に吸着していない極性基が存在することが挙げられる。

　潤滑層に含まれる含フッ素エーテル化合物中に、保護層上の活性点に吸着していない極性基が存在していると、この極性基付近に汚染物質が取り込まれやすくなり、潤滑層の化学物質耐性が低下する。また、保護層上の活性点に吸着していない含フッ素エーテル化合物中の極性基が磁気ヘッドに吸着し、これを起点として含フッ素エーテル化合物が磁気ヘッドにピックアップされる場合がある。これらのことから、潤滑層に含まれる含フッ素エーテル化合物中に、保護層上の活性点に吸着していない極性基が存在する場合、潤滑層の化学物質耐性およびピックアップ抑制効果が不十分となりやすい。

　そこで、本発明者は、含フッ素エーテル化合物に含まれる極性基と、保護層上の活性点との結合の挙動に着目し、保護層上の活性点との結合に関与しない極性基が生じにくい含フッ素エーテル化合物を実現すべく、鋭意検討を重ねた。
　その結果、本発明者は、含フッ素エーテル化合物に含まれる極性基のうち、隣接するパーフルオロポリエーテル鎖間、およびパーフルオロポリエーテル鎖と末端基との間に配置された２価の連結基に含まれる２級水酸基が、保護層上の活性点との結合に関与しにくいという知見を得た。

　このため、本発明者は、含フッ素エーテル化合物の有する隣接するパーフルオロポリエーテル鎖間、およびパーフルオロポリエーテル鎖と末端基との間に配置された２価の連結基に含まれる２級水酸基を、化学修飾して１級水酸基に変換した。そして、変換した含フッ素エーテル化合物を用いて潤滑層を形成した。その結果、化学物質耐性およびピックアップ抑制効果が向上することが分かった。これは、保護層上に存在する活性点と結合しない水酸基が生じにくい含フッ素エーテル化合物になったためであると推定される。

　さらに、本発明者は、鋭意検討を重ね、パーフルオロポリエーテル鎖と末端基との間にそれぞれ、１級水酸基を１つのみ有する特定の２価の末端連結基が配置され、さらにパーフルオロポリエーテル鎖を２つまたは３つ有する場合には、隣接するパーフルオロポリエーテル鎖間に、１級水酸基を１つのみ有する特定の２価の中間連結基が配置されている含フッ素エーテル化合物とすればよいことを見出した。２つの末端連結基（パーフルオロポリエーテル鎖を複数有する場合には、２つの末端連結基および１つまたは２つの中間連結基）はそれぞれ、含フッ素エーテル化合物の鎖状構造から分岐してエーテル結合している側鎖部分を有する。側鎖部分は、先端に１級水酸基が配置され、１級水酸基の結合している炭素原子と、鎖状構造の炭素原子と結合している酸素原子とを結合するメチレン基（－ＣＨ_２－）を含む連結基を有する。

　このような含フッ素エーテル化合物では、以下に示す理由により、保護層上に存在する官能基（活性点）と結合しない極性基が生じにくい。このため、優れた化学物質耐性を有し、かつピックアップ抑制効果の高い潤滑層を形成できる含フッ素エーテル化合物となるものと推定される。

　すなわち、上記の２つの末端連結基（パーフルオロポリエーテル鎖を複数有する場合には、上記の２つの末端連結基および１つまたは２つの中間連結基）はそれぞれ、１級水酸基を１つのみ有するものであり、１級水酸基に代えて２級水酸基を有する場合と比較して、立体的に空いている。このため、上記の２つの末端連結基（または、上記の２つの末端連結基および１つまたは２つの中間連結基）の有する１級水酸基は、近接するパーフルオロポリエーテル鎖、各末端連結基（または、上記の２つの末端連結基および１つまたは２つの中間連結基）の側鎖部分が結合している３級炭素など、含フッ素エーテル化合物中の嵩高い部分によって、保護層上の活性点との結合が阻害されにくい。しかも、１級水酸基は、一般に２級水酸基と比較して自由に運動できる。よって、上記の２つの末端連結基（または、上記の２つの末端連結基および１つまたは２つの中間連結基）の有する１級水酸基は、保護層上の活性点に対して、それぞれ自発的に移動できる。これらのことから、上記の２つの末端連結基（または、上記の２つの末端連結基および１つまたは２つの中間連結基）の有する１級水酸基は、保護層上の活性点との結合を容易に形成できる。

　さらに、上記の含フッ素エーテル化合物では、両方の末端基とパーフルオロポリエーテル鎖との間に、それぞれ末端連結基が配置されている。このため、鎖状構造の一端側に配置されている末端連結基の有する１級水酸基と、鎖状構造の他端側に配置されている末端連結基の有する１級水酸基との距離が近くなりすぎることがない。また、上記の含フッ素エーテル化合物がパーフルオロポリエーテル鎖を複数有する場合には、上記の各末端連結基と１つまたは２つの中間連結基との間に、それぞれパーフルオロポリエーテル鎖が配置されているものとなる。このため、各末端連結基の有する１級水酸基と１つまたは２つの中間連結基の有する１級水酸基との距離が近くなりすぎることがない。さらに、上記の含フッ素エーテル化合物がパーフルオロポリエーテル鎖を３つ有する場合には、中間連結基が２つ存在する。この場合、隣接する中間連結基間にパーフルオロポリエーテル鎖が配置されているものとなるため、隣接する中間連結基がそれぞれ有する１級水酸基同士の距離が近くなりすぎることがない。

　したがって、上記の含フッ素エーテル化合物では、上記の２つの末端連結基（パーフルオロポリエーテル鎖を複数有する場合には、上記の２つの末端連結基および１つまたは２つの中間連結基）の有する１級水酸基は、含フッ素エーテル化合物に含まれる他の末端連結基（または、他の末端連結基および中間連結基）の有する１級水酸基によって、保護層上の活性点との結合が阻害されにくい。また、上記の含フッ素エーテル化合物では、２つの末端連結基の有する１級水酸基同士の距離（または、各末端連結基の有する１級水酸基同士の距離、各末端連結基の有する１級水酸基と１つまたは２つの中間連結基の有する１級水酸基との距離、隣接する中間連結基がそれぞれ有する１級水酸基同士の距離）が、いずれも近くなりすぎることがない。このため、上記の２つの末端連結基（または、上記の末端連結基および１つまたは２つの中間連結基）の有する１級水酸基同士が凝集しにくい。

　さらに、上記の含フッ素エーテル化合物では、上記の２つの末端連結基（または、上記の２つの末端連結基および１つまたは２つの中間連結基）が、１級水酸基を１つのみ有し、含フッ素エーテル化合物の鎖状構造から分岐してエーテル結合している側鎖部分を有する。上記の含フッ素エーテル化合物では、２つの末端連結基（または、上記の２つの末端連結基および１つまたは２つの中間連結基）の側鎖部分が、鎖状構造から分岐してエーテル結合しているため、側鎖部分が鎖状構造に直接結合している（炭素－炭素結合により結合している）場合と比較して、側鎖部分の柔軟性が良好である。このため、上記の２つの末端連結基（または、上記の２つの末端連結基および１つまたは２つの中間連結基）の側鎖部分の有する１級水酸基は、保護層上の活性点との結合を容易に形成できる。

　さらに、上記の含フッ素エーテル化合物では、上記の２つの末端連結基（または、上記の２つの末端連結基および１つまたは２つの中間連結基）の有する側鎖部分において、先端に配置された１級水酸基の結合している炭素原子と、鎖状構造の炭素原子と結合している酸素原子とが、メチレン基（－ＣＨ_２－）を含む連結基によって結合している。このため、末端基が極性基を含む場合であっても、末端基の有する極性基と、末端基に隣接する末端連結基の有する１級水酸基との距離が適正となる。その結果、末端連結基の有する１級水酸基は、末端基の有する極性基によって、保護層上の活性点との結合を阻害されにくい。また、末端連結基の有する１級水酸基と、末端基の有する極性基との距離が適正であるため、末端基が極性基を含む場合であっても、末端基に隣接する末端連結基の有する１級水酸基と末端基の有する極性基とが凝集しにくい。

　以上説明したように、上記の含フッ素エーテル化合物においては、上記の２つの末端連結基（または、上記の２つの末端連結基および１つまたは２つの中間連結基）の有する側鎖部分の柔軟性が良好であり、側鎖部分の有する１級水酸基が、それぞれ自発的に移動でき、凝集しにくく、他の末端連結基（または、他の末端連結基および中間連結基）の有する１級水酸基、末端基の有する極性基、含フッ素エーテル化合物中の嵩高い部分によって、保護層上の活性点との結合が阻害されにくい。これらのことから、上記の含フッ素エーテル化合物では、保護層上に存在する官能基（活性点）と結合しない極性基が生じにくい。その結果、上記の含フッ素エーテル化合物は、汚染物質を取り込みにくく、化学物質耐性が良好であり、かつ磁気ヘッドにピックアップされにくく、ピックアップ抑制効果の高い潤滑層を形成できるものと推定される。

　さらに、本発明者は、上記の含フッ素エーテル化合物を含む潤滑剤を用いることにより、化学物質耐性が良好で、ピックアップ抑制効果の高い潤滑層を形成できることを確認し、本発明を想到した。
　以下、本発明の含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体の好ましい例について詳細に説明する。なお、本発明は、以下に示す実施形態のみに限定されるものではない。本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、数、量、位置、比率、材料、構成等について、付加、省略、置換、変更が可能である。

［含フッ素エーテル化合物］
　本実施形態の含フッ素エーテル化合物は、下記式（１）で表される。
Ｒ^１－Ｒ^２－ＣＨ_２－Ｒ^３［－ＣＨ_２－Ｒ^４－ＣＨ_２－Ｒ^３］_ｘ－ＣＨ_２－Ｒ^５－Ｒ^６　　（１）
（式（１）中、Ｒ^１およびＲ^６はそれぞれ独立に、炭素原子数１～５０の有機基である；Ｒ^２は、下記式（２－１）または（２－２）で表される２価の連結基である；Ｒ^５は、下記式（２－３）または（２－４）で表される２価の連結基である；ｘは、０～２の整数を表す；Ｒ^３は、パーフルオロポリエーテル鎖である；ｘが１または２である場合、２つまたは３つのＲ^３は一部または全部が同じであってもよいし、それぞれ異なっていてもよい；Ｒ^４は、下記式（３－１）または（３－２）で表される２価の連結基である；ｘが２である場合、２つのＲ^４は同じであってもよいし、それぞれ異なっていてもよい。）

（式（２－１）中、ｎ１は２～４の整数を表す；式（２－１）中、炭素原子に結合している点線はＲ^１と結合している結合手を示し、酸素原子に結合している点線はメチレン基と結合している結合手を示す。）
（式（２－２）中、炭素原子に結合している点線はＲ^１と結合している結合手を示し、酸素原子に結合している点線はメチレン基と結合している結合手を示す。）

（式（２－３）中、ｎ２は２～４の整数を表す；式（２－３）中、炭素原子に結合している点線はＲ^６と結合している結合手を示し、酸素原子に結合している点線はメチレン基と結合している結合手を示す。）
（式（２－４）中、炭素原子に結合している点線はＲ^６と結合している結合手を示し、酸素原子に結合している点線はメチレン基と結合している結合手を示す。）

（式（３－１）中、ｎ３は２～４の整数を表す；ｙ１は１～３の整数を表す；ｙ２は１～３の整数を表す；ｙ１、ｙ２のうち少なくとも一方は１である；左側の酸素原子に結合している点線はＲ^１側のメチレン基と結合している結合手を示し、右側の酸素原子に結合している点線はＲ^６側のメチレン基と結合している結合手を示す。）
（式（３－２）中、ｙ３は１～３の整数を表す；ｙ４は１～３の整数を表す；ｙ３、ｙ４のうち少なくとも一方は１である；左側の酸素原子に結合している点線はＲ^１側のメチレン基と結合している結合手を示し、右側の酸素原子に結合している点線はＲ^６側のメチレン基と結合している結合手を示す。）

　本実施形態の含フッ素エーテル化合物は、式（１）で示されるように、１級水酸基を１つのみ有するＲ^２で示される２価の末端連結基と、Ｒ^３で示される１～３つのパーフルオロポリエーテル鎖（以下、ＰＦＰＥ鎖と呼ぶことがある。）と、１級水酸基を１つのみ有する０～２つのＲ^４で示される２価の中間連結基と、１級水酸基を１つのみ有するＲ^５で示される２価の末端連結基とが、メチレン基を介して連結された鎖状構造の骨格を有する。骨格の両端には、Ｒ^１およびＲ^６で示される炭素原子数１～５０の有機基からなる末端基が、それぞれ結合されている。

　式（１）で表される含フッ素エーテル化合物において、ｘは０～２の整数を表す。式（１）で表される含フッ素エーテル化合物は、ｘが２以下であるため、分子が大きくなりすぎることがない。このため、保護層上を自由に運動でき、保護層上に濡れ広がりやすく、均一な膜厚を有する潤滑層が得られやすい含フッ素エーテル化合物となる。また、化学物質耐性がより一層良好であり、かつピックアップ抑制効果のより高い潤滑層を形成できる含フッ素エーテル化合物となるため、ｘは１または２であることが好ましい。

（Ｒ^２およびＲ^５で示される１級水酸基を１つのみ有する２価の末端連結基）
　式（１）で表される含フッ素エーテル化合物において、Ｒ^２およびＲ^５は、１級水酸基を１つのみ有する２価の末端連結基である。式（１）で表される含フッ素エーテル化合物では、Ｒ^２およびＲ^５がそれぞれ２級水酸基を有さず、１級水酸基を１つのみ有する。このため、Ｒ^２およびＲ^５がそれぞれ２級水酸基を有する場合と比較して、Ｒ^２およびＲ^５に含まれる水酸基は、保護層上の活性点と相互作用しやすい。このことから、式（１）で表される含フッ素エーテル化合物を含む潤滑剤を用いて保護層上に潤滑層を形成した場合、潤滑層と保護層との間に好適な相互作用が発生する。よって、式（１）で表される含フッ素エーテル化合物は、優れた化学物質耐性を有し、かつピックアップ抑制効果の高い潤滑層を形成できる。

　Ｒ^２は、式（２－１）または（２－２）で表される２価の連結基である。Ｒ^２は、Ｒ^３側の末端が酸素原子である。Ｒ^２のＲ^３側の末端は、エーテル結合により、Ｒ^３と結合しているメチレン基と結合する。Ｒ^２は、Ｒ^１側の末端が炭素原子である。Ｒ^２のＲ^１側の末端は、Ｒ^１と結合している。
　Ｒ^２は、含フッ素エーテル化合物の鎖状構造を形成している主鎖部分と、Ｒ^２のＲ^１側の末端に配置された炭素原子において主鎖部分から分岐してエーテル結合している側鎖部分とを有する。側鎖部分は、先端に１級水酸基が配置され、１級水酸基の結合している炭素原子と、主鎖部分の炭素原子と結合している酸素原子（エーテル性酸素原子）とを結合する、メチレン基（－ＣＨ_２－）を含む連結基を有する。

　Ｒ^２のＲ^１側の末端に配置された炭素原子には、側鎖部分として、Ｒ^２に含まれるエーテル結合により、式（２－１）中の－（ＣＨ_２）_ｎ１ＯＨまたは式（２－２）中の－ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨが結合している。本実施形態では、Ｒ^２のＲ^１側の末端に配置された炭素原子に、Ｒ^２の側鎖部分がエーテル結合していることにより、Ｒ^２のＲ^１側の末端に配置された炭素原子に、Ｒ^２の側鎖部分が直接結合している（炭素－炭素結合により結合している）場合と比較して、Ｒ^２の側鎖部分の柔軟性が良好である。しかも、本実施形態では、Ｒ^２の側鎖部分が連結基を含む適正な長さの鎖状構造を有する。このため、Ｒ^２の側鎖部分は、保護層上の活性点と相互作用しやすい。

　式（２－１）において、ｎ１は２～４の整数である。ｎ１が２以上であると、Ｒ^２に含まれる１級水酸基と、含フッ素エーテル化合物中のＰＦＰＥ鎖、Ｒ^２のＲ^１側の末端に配置された３級炭素などの嵩高い部位との距離が十分に遠くなり、Ｒ^２に含まれる１級水酸基が自由に運動することが容易となる。また、ｎ１が４以下であると、式（２－１）における－（ＣＨ_２）_ｎ１ＯＨの柔軟性が保たれる。ｎ１は、－（ＣＨ_２）_ｎ１ＯＨが柔軟に運動できるため、２～３であることが好ましく、２であることが最も好ましい。
　式（２－２）において、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨはエーテル結合（－Ｏ－）を含む。このため、式（２－２）における－ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨは、運動の柔軟性が保たれる。

　Ｒ^５は、式（２－３）または（２－４）で表される２価の連結基である。Ｒ^５は、Ｒ^３側の末端が酸素原子である。Ｒ^５のＲ^３側の末端は、エーテル結合により、Ｒ^３と結合しているメチレン基と結合する。Ｒ^５は、Ｒ^６側の末端が炭素原子である。Ｒ^５のＲ^６側の末端は、Ｒ^６と結合している。
　Ｒ^５は、含フッ素エーテル化合物の鎖状構造を形成している主鎖部分と、Ｒ^５のＲ^６側の末端に配置された炭素原子において主鎖部分から分岐してエーテル結合している側鎖部分とを有する。Ｒ^２と同様に、側鎖部分は、先端に１級水酸基が配置され、１級水酸基の結合している炭素原子と、主鎖部分の炭素原子と結合している酸素原子（エーテル性酸素原子）とを結合する、メチレン基（－ＣＨ_２－）を含む連結基を有する。

　Ｒ^５のＲ^６側の末端に配置された炭素原子には、側鎖部分として、Ｒ^５に含まれるエーテル結合により、式（２－３）中の－（ＣＨ_２）_ｎ２ＯＨまたは式（２－４）中の－ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨが結合している。本実施形態では、Ｒ^５のＲ^６側の末端に配置された炭素原子に、Ｒ^５の側鎖部分がエーテル結合していることにより、Ｒ^５のＲ^６側の末端に配置された炭素原子に、Ｒ^５の側鎖部分が直接結合している（炭素－炭素結合により結合している）場合と比較して、Ｒ^５の側鎖部分の柔軟性が良好である。しかも、本実施形態では、Ｒ^５の側鎖部分が連結基を含む適正な長さの鎖状構造を有する。このため、Ｒ^５の側鎖部分は、保護層上の活性点と相互作用しやすい。

　式（２－３）において、ｎ２は２～４の整数である。ｎ２が２以上であると、Ｒ^５に含まれる１級水酸基と、含フッ素エーテル化合物中のＰＦＰＥ鎖、Ｒ^５のＲ^６側の末端に配置された３級炭素などの嵩高い部位との距離が十分に遠くなり、Ｒ^５に含まれる１級水酸基が自由に運動することが容易になる。また、ｎ２が４以下であると、式（２－３）における－（ＣＨ_２）_ｎ１ＯＨの柔軟性が保たれる。ｎ２は、－（ＣＨ_２）_ｎ２ＯＨが柔軟に運動できるため、２～３であることが好ましく、２であることが最も好ましい。
　式（２－４）において、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨはエーテル結合（－Ｏ－）を含む。このため、式（２－４）における－ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨは、運動の柔軟性が保たれる。

　Ｒ^２およびＲ^５は、同じであってもよいし、異なっていても良い。Ｒ^２とＲ^５が同じであると、製造が容易な含フッ素エーテル化合物となり、好ましい。
　本明細書において、「Ｒ^２とＲ^５が同じである」とは、式（１）で表される含フッ素エーテル化合物の中央に配置された－ＣＨ_２－Ｒ^３［－ＣＨ_２－Ｒ^４－ＣＨ_２－Ｒ^３］_ｘ－ＣＨ_２－で示される構造に対して、Ｒ^２に含まれる原子とＲ^５に含まれる原子とが、対称配置されていることを意味する。
　すなわち、式（１）で表される含フッ素エーテル化合物は、Ｒ^２が式（２－１）であってＲ^５が式（２－３）であり、かつ式（２－１）中のｎ１と式（２－３）中のｎ２とが同じである含フッ素エーテル化合物、または、Ｒ^２が式（２－２）であり、Ｒ^５が式（２－４）である含フッ素エーテル化合物であることが好ましい。

（Ｒ^４で示される１級水酸基を１つのみ有する２価の中間連結基）
　式（１）で表される含フッ素エーテル化合物において、ｘが１または２である場合、Ｒ^３で表される各ＰＦＰＥ鎖は、－ＣＨ_２－Ｒ^４－ＣＨ_２－を介して互いに結合する。ｘが１または２である場合、ｘ個のＲ^４は、１級水酸基を１つのみ有する２価の中間連結基である。式（１）で表される含フッ素エーテル化合物では、ｘ個のＲ^４がそれぞれ２級水酸基を有さず、１級水酸基を１つのみ有する。このため、ｘ個のＲ^４がそれぞれ２級水酸基を有する場合と比較して、Ｒ^４に含まれる水酸基は、保護層上の活性点と相互作用しやすい。このことから、式（１）で表される含フッ素エーテル化合物を含む潤滑剤を用いて保護層上に潤滑層を形成した場合、潤滑層と保護層との間に好適な相互作用が発生する。よって、式（１）で表される含フッ素エーテル化合物は、優れた化学物質耐性を有し、かつピックアップ抑制効果の高い潤滑層を形成できる。

　Ｒ^４は、式（３－１）または（３－２）で表される２価の連結基である。Ｒ^４は、両側の末端が酸素原子である。Ｒ^４の両側の末端は、エーテル結合により、Ｒ^３と結合しているメチレン基と結合する。
　Ｒ^４は、含フッ素エーテル化合物の鎖状構造を形成している主鎖部分と、Ｒ^４の両側の末端に配置された酸素原子とそれぞれ１～３のメチレン基を介して結合された炭素原子において、主鎖部分から分岐してエーテル結合している側鎖部分とを有する。側鎖部分は、先端に１級水酸基が配置され、１級水酸基の結合している炭素原子と、主鎖部分の炭素原子と結合している酸素原子（エーテル性酸素原子）とを結合する、メチレン基（－ＣＨ_２－）を含む連結基を有する。

　Ｒ^４の両側の末端に配置された２つの酸素原子それぞれと、１～３のメチレン基を介して結合された炭素原子には、側鎖部分として、エーテル結合により、式（３－１）中の－（ＣＨ_２）_ｎ３ＯＨまたは式（３－２）中の－ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨが結合している。本実施形態では、Ｒ^４の主鎖部分を形成している炭素原子に、Ｒ^４の側鎖部分がエーテル結合していることにより、Ｒ^４の主鎖部分を形成している炭素原子に、Ｒ^４の側鎖部分が直接結合している（炭素－炭素結合により結合している）場合と比較して、Ｒ^４の側鎖部分の柔軟性が良好である。しかも、本実施形態では、Ｒ^４の側鎖部分が連結基を含む適正な長さの鎖状構造を有する。このため、Ｒ^４の側鎖部分は、保護層上の活性点と相互作用しやすい。

　式（３－１）において、ｎ３は２～４の整数である。ｎ３が２以上であると、Ｒ^４に含まれる１級水酸基と、含フッ素エーテル化合物中のＰＦＰＥ鎖、Ｒ^４の主鎖部分を形成している炭素原子であってＲ^４の側鎖部分がエーテル結合している３級炭素などの嵩高い部位との距離が十分に遠くなり、Ｒ^４に含まれる１級水酸基が自由に運動することが容易になる。また、ｎ３が４以下であると、式（３－１）における－（ＣＨ_２）_ｎ３ＯＨの柔軟性が保たれる。ｎ３は、－（ＣＨ_２）_ｎ３ＯＨが柔軟に運動できるため、２～３であることが好ましく、２であることが最も好ましい。

　式（３－１）において、ｙ１は１～３の整数であり、ｙ２は１～３の整数である。ｙ１、ｙ２のうち少なくとも一方は１である。ｙ１、ｙ２のうち少なくとも一方が１であるため、製造が容易な含フッ素エーテル化合物となる。ｙ１、ｙ２のうちｙ１のみが１である場合のｙ２は（またはｙ２のみが１である場合のｙ１は）、式（３－１）で表される２価の連結基全体の柔軟性を保つため、３以下であり、２以下であることが好ましい。ｙ１、ｙ２は、式（３－１）で表される２価の連結基全体の柔軟性を保つため、ｙ１が１であり、かつｙ２が１であることがより好ましい。

　式（３－２）において、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨはエーテル結合（－Ｏ－）を含む。このため、式（３－２）における－ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨは、運動の柔軟性が保たれる。

　式（３－２）において、ｙ３は１～３の整数であり、ｙ４は１～３の整数である。ｙ３、ｙ４のうち少なくとも一方は１である。ｙ３、ｙ４のうち少なくとも一方が１であるため、製造が容易な含フッ素エーテル化合物となる。ｙ３、ｙ４のうちｙ３のみが１である場合のｙ４は（またはｙ４のみが１である場合のｙ３は）、式（３－２）で表される２価の連結基全体の柔軟性を保つため、３以下であり、２以下であることが好ましい。ｙ３、ｙ４は、式（３－２）で表される２価の連結基全体の柔軟性を保つため、ｙ３が１であり、かつｙ４が１であることがより好ましい。

　式（１）においてｘが２である場合、２つのＲ^４は、同じであってもよいし、それぞれ異なっていてもよい。２つのＲ^４が同じである場合、製造の容易な含フッ素エーテル化合物となり、好ましい。「２つのＲ^４が同じである」とは、２つのＲ^４に含まれる原子が、分子の鎖状構造中央に配置されたＲ^３に対して、対称配置されていることを意味する。すなわち、ｘが２である場合、式（１）で表される含フッ素エーテル化合物は、２つのＲ^４が式（３－１）であり、２つのＲ^４における式（３－１）中のｎ３が同じであり、かつ２つのＲ^４における式（３－１）中のｙ１、ｙ２が、鎖状構造中央に配置されたＲ^３に対して対称となる値である含フッ素エーテル化合物、または、２つのＲ^４が式（３－２）であり、かつ２つのＲ^４における式（３－２）中のｙ３、ｙ４が、鎖状構造中央に配置されたＲ^３に対して対称となる値である含フッ素エーテル化合物であることが好ましい。例えば、Ｒ^１側のＲ^４が式（３－１）で表され、式（３－１）中のｙ１が１、ｙ２が２であり、Ｒ^６側のＲ^４が式（３－１）で表され、式（３－１）中のｙ１が２、ｙ２が１であり、いずれも式（３－１）中のｎ３の値が同じである場合、２つのＲ^４は同じである。また、例えば、Ｒ^１側のＲ^４が式（３－２）で表され、式（３－２）中のｙ３が１、ｙ４が２であり、Ｒ^６側のＲ^４が式（３－２）で表され、式（３－２）中のｙ３が２、ｙ４が１である場合、２つのＲ^４は同じである。

　式（１）で表される含フッ素エーテル化合物においては、Ｒ^２が式（２－１）であり、Ｒ^５が式（２－３）であり、ｘ個のＲ^４がすべて式（３－１）であることが好ましい。この場合、式（３－１）におけるｙ１が１であり、かつｙ２が１であることがより好ましい。さらに、式（２－１）におけるｎ１、式（２－３）におけるｎ２、および式（３－１）におけるｎ３の値が、すべて同じであることがより好ましい。容易に効率よく製造できる含フッ素エーテル化合物となるためである。

　式（１）で表される含フッ素エーテル化合物においては、Ｒ^２が式（２－２）であり、Ｒ^５が式（２－４）であり、ｘ個のＲ^４がすべて式（３－２）であることも好ましい。容易に効率よく製造できる含フッ素エーテル化合物となるためである。Ｒ^２が式（２－２）であり、Ｒ^５が式（２－４）であり、ｘ個のＲ^４がすべて式（３－２）である場合、式（３－２）におけるｙ３が１であり、かつｙ４が１であることがより好ましい。

（Ｒ^３で示されるＰＦＰＥ鎖）
　式（１）で表される含フッ素エーテル化合物において、（ｘ＋１）個含まれるＲ^３は、それぞれ独立にパーフルオロポリエーテル鎖である。Ｒ^３で示されるＰＦＰＥ鎖は、本実施形態の含フッ素エーテル化合物を含む潤滑剤を保護層上に塗布して潤滑層を形成した場合に、保護層の表面を被覆するとともに、潤滑層に潤滑性を付与して磁気ヘッドと保護層との摩擦力を低減させる。Ｒ^３で示されるＰＦＰＥ鎖は、含フッ素エーテル化合物を含む潤滑剤に求められる性能等に応じて適宜選択される。

　式（１）で表される含フッ素エーテル化合物において、ｘが１または２である場合、２つまたは３つのＲ^３は、一部または全部が同じであってもよいし、それぞれ異なっていても良い。（ｘ＋１）個のＲ^３は全て同じであることが好ましい。これは、含フッ素エーテル化合物の保護層に対する被覆状態が均一となることにより、より良好な密着性を有する潤滑層となるためである。（ｘ＋１）個のＲ^３のうち２つ以上のＲ^３が同じであるとは、（ｘ＋１）個のＲ^３のうち、ＰＦＰＥ鎖の繰り返し単位の構造が同じＲ^３が２つ以上含まれていることを意味する。同じＲ^３には、繰り返し単位の構造が同じであって平均重合度が異なるものも含まれる。

　Ｒ^３で示されるＰＦＰＥ鎖としては、パーフルオロアルキレンオキシドの重合体または共重合体からなるものなどが挙げられる。パーフルオロアルキレンオキシドとしては、例えば、パーフルオロメチレンオキシド、パーフルオロエチレンオキシド、パーフルオロ－ｎ－プロピレンオキシド、パーフルオロイソプロピレンオキシド、パーフルオロブチレンオキシドなどが挙げられる。

　式（１）における（ｘ＋１）個のＲ^３は、それぞれ独立に、パーフルオロアルキレンオキシドの重合体または共重合体に由来する下記式（４）で表されるＰＦＰＥ鎖であることが好ましい。
　－（ＣＦ_２）_ｗ１－Ｏ－（ＣＦ_２Ｏ）_ｗ２－（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｗ３－（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｗ４－（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｗ５－（ＣＦ_２）_ｗ６－　　　（４）
（式（４）中、ｗ２、ｗ３、ｗ４、ｗ５は平均重合度を示し、それぞれ独立に０～２０を表す；ただし、ｗ２、ｗ３、ｗ４、ｗ５の全てが同時に０になることはない；ｗ１、ｗ６は、ＣＦ_２の数を表す平均値であり、それぞれ独立に１～３を表す；式（４）における繰り返し単位である（ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）の配列順序には、特に制限はない。）

　式（４）中、ｗ２、ｗ３、ｗ４、ｗ５は平均重合度を示し、それぞれ独立に０～２０を表し、０～１５であることが好ましく、０～１０であることがより好ましい。１～８や、２～６や、３～５などであってもよい。
　式（４）中、ｗ１、ｗ６はＣＦ_２の数を示す平均値であり、それぞれ独立に１～３を表す。ｗ１、ｗ６は、式（４）で表されるＰＦＰＥ鎖において、鎖状構造の端部に配置されている繰り返し単位の構造などに応じて決定される。
　式（４）における（ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）は、繰り返し単位である。式（４）における繰り返し単位の配列順序には、特に制限はない。また、式（４）における繰り返し単位の種類の数にも、特に制限はない。

　　式（１）における（ｘ＋１）個のＲ^３は、それぞれ独立に、下記式（４－１）～（４－４）で表されるＰＦＰＥ鎖から選ばれるいずれか１種であることが好ましい。
　（ｘ＋１）個のＲ^３が、それぞれ独立に式（４－１）～（４－４）で表されるＰＦＰＥ鎖から選ばれるいずれか１種であると、良好な潤滑性を有する潤滑層が得られる含フッ素エーテル化合物となる。また、（ｘ＋１）個のＲ^３が、それぞれ独立に式（４－１）～（４－４）で表されるＰＦＰＥ鎖から選ばれるいずれか１種である場合、ＰＦＰＥ鎖中の炭素原子数に対する酸素原子数（エーテル結合（－Ｏ－）数）の割合が適正である。このため、適度な硬さを有する含フッ素エーテル化合物となる。よって、保護層上に塗布された含フッ素エーテル化合物が、保護層上で凝集しにくく、より一層厚みの薄い潤滑層を十分な被覆率で形成できる。また、含フッ素エーテル化合物が適度な柔軟性を有することにより、化学物質耐性のより良好な潤滑層を形成できる。

　－ＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｈ－（ＯＣＦ_２）_ｉ－ＯＣＦ_２－　　（４－１）
（式（４－１）中、ｈおよびｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。）
　－ＣＦ_２ＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｊ－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－　　（４－２）
（式（４－２）中、ｊは平均重合度を示し、１～１５を表す。）
　－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｋ－ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－　　（４－３）
（式（４－３）中、ｋは平均重合度を示し、１～１０を表す。）
　－（ＣＦ_２）_ｗ７－Ｏ－（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｗ８－（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｗ９－（ＣＦ_２）_ｗ１０－　　（４－４）
（式（４－４）中、ｗ８、ｗ９は平均重合度を示し、それぞれ独立に１～２０を表す；ｗ７、ｗ１０は、ＣＦ_２の数を表す平均値であり、それぞれ独立に１～２を表す。）

　式（４－１）において、繰り返し単位である（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）と（ＯＣＦ_２）との配列順序に、特に制限はない。式（４－１）において、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）の数ｈと（ＯＣＦ_２）の数ｉは同じであってもよいし、異なっていてもよい。式（４－１）で表されるＰＦＰＥ鎖は、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）の重合体であってもよい。また、式（４－１）で表されるＰＦＰＥ鎖は、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）と（ＯＣＦ_２）とからなるランダム共重合体、ブロック共重合体、交互共重合体のいずれかであってもよい。

　式（４－１）～（４－３）においては、平均重合度を示すｈが１～２０、ｉが０～２０、ｊが１～１５、ｋが１～１０であるので、良好な潤滑性を有する潤滑層が得られる含フッ素エーテル化合物となる。また、式（４－１）～（４－３）においては、平均重合度を示すｈ、ｉが２０以下、ｊが１５以下、ｋが１０以下であるので、含フッ素エーテル化合物の粘度が高くなりすぎず、これを含む潤滑剤が塗布しやすいものとなり、好ましい。平均重合度を示すｈ、ｉ、ｊ、ｋは、保護層上に濡れ広がりやすく、均一な膜厚を有する潤滑層が得られやすい含フッ素エーテル化合物となるため、１～１０であることが好ましく、１．５～８であることがより好ましく、２～７であることがさらに好ましい。

　式（４－４）において、繰り返し単位である（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）と（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）との配列順序には、特に制限はない。式（４－４）において、平均重合度を示す（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）の数ｗ８と（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）の数ｗ９は同じであってもよいし、異なっていてもよい。式（４－４）は、モノマー単位（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）と（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）とからなるランダム共重合体、ブロック共重合体、交互共重合体のいずれかを含むものであってもよい。

　式（４－４）において、平均重合度を示すｗ８およびｗ９は、それぞれ独立に１～２０であり、１～１５であることが好ましく、さらに１～１０であることが好ましい。
　式（４－４）におけるｗ７およびｗ１０は、ＣＦ_２の数を示す平均値であり、それぞれ独立に１～２を表す。ｗ７およびｗ１０は、式（４－４）で表されるＰＦＰＥ鎖において、鎖状構造の端部に配置されている繰り返し単位の構造などに応じて決定される。

（Ｒ^１およびＲ^６で示される末端基）
　式（１）で表される含フッ素エーテル化合物において、Ｒ^１およびＲ^６で示される末端基はそれぞれ独立に、炭素原子数１～５０の有機基である。Ｒ^１およびＲ^６で示される末端基は、それぞれ独立に、炭素原子数１～２０の有機基であることが好ましく、炭素原子数２～１０の有機基であることがより好ましい。

　Ｒ^１で示される末端基は、Ｒ^２と結合する端部が炭素原子であることが好ましい。Ｒ^６で示される末端基は、Ｒ^５と結合する端部が炭素原子であることが好ましい。このことにより、Ｒ^１（またはＲ^６）で示される末端基が極性基を有する場合、Ｒ^２（またはＲ^５）の有する１級水酸基と、Ｒ^１（またはＲ^６）の有する極性基との距離がより一層適正となる。その結果、Ｒ^１（またはＲ^６）に隣接するＲ^２（またはＲ^５）の有する１級水酸基が、Ｒ^１（またはＲ^６）の有する極性基によって、保護層上の活性点との結合をより一層阻害されにくいものとなる。

　Ｒ^１およびＲ^６で示される末端基は、化学物質耐性をより一層向上させるために、２級水酸基を含まない（すなわち、式（１）で表される含フッ素エーテル化合物が２級水酸基を含まない）ことが好ましい。
　Ｒ^１およびＲ^６はそれぞれ独立に、極性基を有する有機基、炭素－炭素不飽和結合を有する有機基、極性基と炭素－炭素不飽和結合の両方を有する有機基のいずれかであることが好ましい。

　末端基が極性基を有する場合、極性基は、水酸基（－ＯＨ）、アミノ基（－ＮＲ^７Ｒ^８；Ｒ^７およびＲ^８は、それぞれ独立に水素原子または有機基である。）、カルボキシ基（－ＣＯＯＨ）、ホルミル基（－（Ｃ＝Ｏ）Ｈ）、カルボニル基（－ＣＯ－）、スルホ基（－ＳＯ_３Ｈ）、シアノ基（－ＣＮ）、およびアミド結合を有する基（－ＮＲ^９ＣＯＲ^１０または－ＣＯＮＲ^１１Ｒ^１２；Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１１およびＲ^１２は、それぞれ独立に水素原子または有機基である。）からなる群から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。なお、「アミド結合を有する基」は、上記式に示されるように、アミド結合を構成する炭素原子において有機基に結合する基（例えば、カルボキサミド基（－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ_２））と、アミド結合を構成する窒素原子において有機基に結合する基（例えば、アセトアミド基（－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＣＨ_３））の両方を含む。アミド結合を有する基において、前記Ｒ^９とＲ^１０が互いに結合して環を形成してもよく、前記Ｒ^１１とＲ^１２が互いに結合して環を形成してもよい。アミド結合を有する基における前記Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１１およびＲ^１２は、それぞれ独立に水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基からなる群から選択されることが好ましい。
　これらの極性基の中でも、水酸基、シアノ基、およびアミド結合を有する基からなる群から選ばれる少なくとも１種の極性基であることがより好ましい。化学物質耐性がより良好で、かつピックアップ抑制効果のより高い潤滑層を形成できる含フッ素エーテル化合物となるためである。
　末端基が極性基を有する場合、極性基の数は、１～３であることが好ましく、１～２であることがより好ましい。極性基の数が２以上である場合、極性基の一部または全部が同じであってもよいし、それぞれ異なっていてもよい。

　極性基を有する有機基は、－ＣＨ_２－Ｙ、－ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｙ、－ＣＨ_２－Ｏ－ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｙ、－ＣＨ_２－Ｏ－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｙ、－ＣＨ_２－Ｏ－ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２－Ｏ－ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｙ、または、－ＣＨ_２－Ｏ－ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２－Ｏ－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｙ（上記各式中におけるＹは極性基である。）で表されることが好ましい。

　末端基が炭素－炭素不飽和結合を有する場合、末端基は、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基、不飽和複素環基、アルケニル基、およびアルキニル基からなる群から選ばれる少なくとも１種の炭素－炭素不飽和結合を有する有機基であることが好ましい。
　具体的には、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基として、フェニル基、メトキシフェニル基、フッ化フェニル基、ナフチル基、メトキシナフチル基などが挙げられる。
　不飽和複素環基として、ピロリル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、フリル基、フルフリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チエニル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、ピリジル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラジニル基、インドリニル基、ベンゾフラニル基、ベンゾチエニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾピラゾリル基、ベンゾイソオキサゾリル基、ベンゾイソチアゾリル基、キノリル基、イソキノリル基、キナゾリニル基、キノキサリニル基、フタラジニル基、シンノリニル基などが挙げられる。

　アルケニル基として、アリル基、ブテニル基などが挙げられる。
　アルキニル基として、プロパルギル基などが挙げられる。
　末端基が炭素－炭素不飽和結合を有する場合、末端基は、フェニル基、メトキシフェニル基、ナフチル基、チエニル基、アリル基からなる群から選ばれるいずれか１種の炭素－炭素不飽和結合を有する有機基であることが好ましい。化学物質耐性がより良好で、かつピックアップ抑制効果のより高い潤滑層を形成できる含フッ素エーテル化合物となるためである。

　炭素－炭素不飽和結合を有する有機基は、－ＣＨ_２－Ｏ－Ｚ、または、－ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｏ－Ｚ（式中のＺは、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基、不飽和複素環基、アルケニル基、およびアルキニル基からなる群から選ばれるいずれか１種である。）で表されるものであることが好ましい。
　極性基と炭素－炭素不飽和結合の両方を有する有機基は、－ＣＨ_２－Ｏ－ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２－Ｏ－Ｚ、または、－ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｏ－ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２－Ｏ－Ｚ（式中のＺは、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基、不飽和複素環基、アルケニル基、およびアルキニル基からなる群から選ばれるいずれか１種である。）で表されるものであることが好ましい。

　式（１）で表される含フッ素エーテル化合物において、Ｒ^１およびＲ^６はそれぞれ独立に、下記式（５－１）～（５－８）のいずれかで示される末端基であることが好ましい。下記式（５－１）～（５－３）は、いずれも極性基である１級水酸基を１つのみ有する有機基である。下記式（５－４）は、極性基として１級水酸基を１つと２級水酸基を１つ有する有機基である。下記式（５－５）は、極性基として２級水酸基を１つ有し、さらに炭素－炭素不飽和結合を有する基であるアリル基を１つ有する有機基である。下記式（５－６）は、極性基として２級水酸基を１つ有し、さらに炭素－炭素不飽和結合を有する基であるフェニル基を１つ有する有機基である。下記式（５－７）は、極性基であるシアノ基を１つ有する有機基である。下記式（５－８）は、極性基であるアミド結合を有する基（－ＮＨＣＯＣＨ₃）を１つ有する有機基である。

（式（５－１）～（５－８）中の点線は、Ｒ^２またはＲ^５の有する炭素原子と結合している結合手を示す。）

　Ｒ^１および／またはＲ^６で示される末端基が極性基を有する場合、含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層は、より一層、保護層との密着性に優れ、厚みを薄くできるため好ましい。その理由を以下に説明する。
　Ｒ^２およびＲ^５の有する側鎖部分においては、先端に配置された１級水酸基の結合している炭素原子と、主鎖部分の炭素原子と結合している酸素原子とが、メチレン基（－ＣＨ_２－）を含む連結基によって結合している。このため、Ｒ^１（またはＲ^６）が極性基を含む場合であっても、Ｒ^１（またはＲ^６）の有する極性基と、Ｒ^２（またはＲ^５）の有する１級水酸基との距離が適正となる。その結果、Ｒ^２（またはＲ^５）の有する１級水酸基、およびＲ^１（またはＲ^６）の有する極性基は、他の極性基によって、保護層上の活性点との結合を阻害されにくいし、Ｒ^２（またはＲ^５）の有する１級水酸基とＲ^１（またはＲ^６）の有する極性基とが凝集しにくい。

　このため、Ｒ^２（またはＲ^５）の有する１級水酸基、およびＲ^１（またはＲ^６）の有する極性基は、それぞれ独立に保護層上の活性点に吸着できる。その結果、Ｒ^１および／またはＲ^６で示される末端基が極性基を有する含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層は、より一層、保護層との密着性に優れ、厚みが薄くても、良好な化学物質耐性を示し、ピックアップ抑制効果の高いものとなる。

　式（１）で表される含フッ素エーテル化合物において、Ｒ^１とＲ^６に含まれる極性基の合計数は、保護層との密着性を高め、潤滑層の薄膜化を実現するため、１以上であることが好ましく、２以上であることがより好ましい。式（１）で表される含フッ素エーテル化合物において、Ｒ^１とＲ^６に含まれる極性基の合計数は、極性基が多くなりすぎて保護層との結合に関与しない極性基が生じることを防止するため、４以下であることが好ましく、３以下であることがより好ましく、２以下であることが最も好ましい。

　また、Ｒ^１および／またはＲ^６で示される末端基が炭素－炭素不飽和結合を有する場合、含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層は、より一層、保護層との密着性に優れ、厚みを薄くできるため好ましい。その理由を以下に説明する。
　保護層上に多数存在する官能基（活性点）には、局所的に帯電した部位と、電荷の分布が広がっている部位とが存在する。式（１）におけるＲ^２、Ｒ^４およびＲ^５中に含まれる水酸基と、Ｒ^１および／またはＲ^６で示される末端基に含まれる炭素－炭素不飽和結合は、互いに保護層上の別の部位に吸着する。具体的には、式（１）におけるＲ^２、Ｒ^４およびＲ^５中に含まれる水酸基は、水素原子が水素結合を介して保護層上の局所的に帯電した部位と相互作用をすることにより吸着能を示す。一方、Ｒ^１および／またはＲ^６で示される末端基に含まれる炭素－炭素不飽和結合は、非局在的な電荷を有するため、保護層上の電荷の分布が広がっている部位と相互作用をすることにより吸着能を示す。

　したがって、式（１）におけるＲ^２、Ｒ^４およびＲ^５中に含まれる水酸基と、Ｒ^１および／またはＲ^６で示される末端基に含まれる炭素－炭素不飽和結合は、保護層上の官能基（活性点）にそれぞれ独立に相互作用できる。その結果、Ｒ^１および／またはＲ^６で示される末端基が炭素－炭素不飽和結合を有する含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層は、より一層、保護層との密着性に優れ、厚みが薄くても良好な化学物質耐性を示し、ピックアップ抑制効果の高いものとなる。

　式（１）で表される含フッ素エーテル化合物において、Ｒ^１およびＲ^６で示される末端基の種類は、含フッ素エーテル化合物を含む潤滑剤に求められる性能等に応じて適宜選択できる。

　式（１）で表される含フッ素エーテル化合物において、Ｒ^１とＲ^６とは、同じであってもよいし、異なっていても良い。Ｒ^１とＲ^６が同じであると、含フッ素エーテル化合物の保護層に対する被覆状態がより均一となり、より良好な密着性を有する潤滑層を形成できる。

　式（１）で表される含フッ素エーテル化合物においては、式（１）におけるＲ^１－Ｒ^２－とＲ^６－Ｒ^５－とが同じであることが好ましい。これは、容易に効率よく製造できる含フッ素エーテル化合物となるためである。
　式（１）で表される含フッ素エーテル化合物においては、式（１）における（ｘ＋１）個のＲ^３が全て同じであり、ｘ個のＲ^４が全て同じであり、Ｒ^１－Ｒ^２－とＲ^６－Ｒ^５－とが同じであることがより好ましい。これは、より容易に効率よく製造できる含フッ素エーテル化合物となるためである。

　式（１）で表される含フッ素エーテル化合物は、具体的には、下記式（Ａ）～（Ｘ）、（ＸＸ）で表されるいずれかの化合物であることが好ましい。
　式（１）で表される化合物が下記式（Ａ）～（Ｘ）、（ＸＸ）で表されるいずれかの化合物である場合、原料が入手しやすく、しかも、化学物質耐性が良好で、ピックアップ抑制効果の高い潤滑層を形成できる。

　下記式（Ａ）～（Ｘ）、（ＸＸ）で表される化合物において、ＰＦＰＥ鎖を表すＲｆ_１、Ｒｆ_２、Ｒｆ_３は、それぞれ下記の構造である。すなわち、下記式（Ａ）～（Ｋ）、（Ｎ）～（Ｒ）、（Ｔ）～（Ｗ）、（ＸＸ）で表される化合物において、Ｒｆ_１は、上記式（４－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。下記式（Ｌ）、（Ｓ）、（Ｘ）で表される化合物において、Ｒｆ_２は、上記式（４－２）で表されるＰＦＰＥ鎖である。下記式（Ｍ）で表される化合物において、Ｒｆ_３は、上記式（４－３）で表されるＰＦＰＥ鎖である。なお、式（Ａ）～（Ｘ）、（ＸＸ）中のＰＦＰＥ鎖を表すＲｆ_１におけるｈおよびｉ、Ｒｆ_２におけるｊ、Ｒｆ_３におけるｋは、平均重合度を示す値であるため、必ずしも整数になるとは限らない。

　下記式（Ａ）～（Ｘ）、（ＸＸ）で表される化合物は、いずれもＲ^２が上記式（２－１）または（２－２）で表される連結基であり、いずれもＲ^５が上記式（２－３）または（２－４）で表される連結基である。
　下記式（Ａ）～（Ｍ）で表される化合物は、いずれも式（１）におけるｘが０であり、Ｒ^４を構造中に含まない。下記式（Ｎ）～（Ｘ）、（ＸＸ）で表される化合物は、いずれも式（１）におけるｘが１または２であり、１つまたは２つのＲ^４を構造中に含む。下記式（Ｎ）～（Ｘ）、（ＸＸ）で表される化合物は、いずれもＲ^４が上記式（３－１）または（３－２）で表される連結基である。

　下記式（Ａ）～（Ｈ）で表される化合物は、式（１）におけるｘが０である。Ｒ^１およびＲ^６が上記式（５－１）～（５－８）で表されるいずれかの末端基である。Ｒ^２がいずれも上記式（２－１）で表される連結基でｎ１が２である。Ｒ^５がいずれも上記式（２－３）で表される連結基でｎ２が２である。Ｒ^３がいずれも上記式（４－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。

　下記式（Ｉ）、（Ｊ）で表される化合物は、式（１）におけるｘが０である。下記式（Ｉ）、（Ｊ）で表される化合物は、Ｒ^１およびＲ^６がいずれも上記式（５－１）で表される末端基であり、Ｒ^３が上記式（４－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。
　下記式（Ｉ）で表される化合物は、Ｒ^２が上記式（２－１）で表される連結基であり、ｎ１が３である。Ｒ^５が上記式（２－３）で表される連結基であり、ｎ２が３である。
　下記式（Ｊ）で表される化合物は、Ｒ^２が上記式（２－１）で表される連結基であり、ｎ１が４である。Ｒ^５が上記式（２－３）で表される連結基であり、ｎ２が４である。

　下記式（Ｋ）で表される化合物は、式（１）におけるｘが０である。Ｒ^１およびＲ^６が上記式（５－１）で表される末端基である。Ｒ^２が上記式（２－２）で表される連結基である。Ｒ^５が上記式（２－４）で表される連結基である。Ｒ^３が上記式（４－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。

　下記式（Ｌ）、（Ｍ）で表される化合物は、式（１）におけるｘが０である。下記式（Ｌ）、（Ｍ）で表される化合物は、いずれもＲ^１およびＲ^６が上記式（５－１）で表される末端基である。Ｒ^２がいずれも上記式（２－１）で表される連結基でｎ１が２である。Ｒ^５がいずれも上記式（２－３）で表される連結基でｎ２が２である。
　下記式（Ｌ）で表される化合物は、Ｒ^３が上記式（４－２）で表されるＰＦＰＥ鎖である。下記式（Ｍ）で表される化合物は、Ｒ^３が上記式（４－３）で表されるＰＦＰＥ鎖である。

　下記式（Ｎ）～（Ｐ）で表される化合物は、いずれも式（１）におけるｘが１である。Ｒ^２が上記式（２－１）で表される連結基であり、ｎ１が２である。Ｒ^５が上記式（２－３）で表される連結基であり、ｎ２が２である。Ｒ^４が上記式（３－１）で表される連結基であり、ｎ３が２であり、ｙ１が１、ｙ２が１である。下記式（Ｎ）～（Ｐ）で表される化合物は、２つのＲ^３がいずれも上記式（４－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。
　下記式（Ｎ）で表される化合物は、Ｒ^１およびＲ^６が上記式（５－１）で表される末端基である。下記式（Ｏ）で表される化合物は、Ｒ^１およびＲ^６が上記式（５－３）で表される末端基である。下記式（Ｐ）で表される化合物は、Ｒ^１およびＲ^６が上記式（５－７）で表される末端基である。

　下記式（Ｑ）で表される化合物は、式（１）におけるｘが１である。Ｒ^１およびＲ^６が上記式（５－１）で表される末端基である。Ｒ^２が上記式（２－１）で表される連結基であり、ｎ１が３である。Ｒ^５が上記式（２－３）で表される連結基であり、ｎ２が３である。Ｒ^４が上記式（３－１）で表される連結基であり、ｎ３が３であり、ｙ１が１、ｙ２が１である。２つのＲ^３がいずれも上記式（４－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。

　下記式（Ｒ）で表される化合物は、式（１）におけるｘが１である。Ｒ^１およびＲ^６が上記式（５－１）で表される末端基である。Ｒ^２が上記式（２－２）で表される連結基である。Ｒ^５が上記式（２－４）で表される連結基である。Ｒ^４が上記式（３－２）で表される連結基であり、ｙ３が１、ｙ４が１である。２つのＲ^３がいずれも上記式（４－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。

　下記式（Ｓ）で表される化合物は、式（１）におけるｘが１である。Ｒ^１およびＲ^６が上記式（５－１）で表される末端基である。Ｒ^２が上記式（２－１）で表される連結基であり、ｎ１が２である。Ｒ^５が上記式（２－３）で表される連結基であり、ｎ２が２である。Ｒ^４が上記式（３－１）で表される連結基であり、ｎ３が２あり、ｙ１が１、ｙ２が１である。２つのＲ^３がいずれも上記式（４－２）で表されるＰＦＰＥ鎖である。

　下記式（Ｔ）～（Ｖ）で表される化合物は、いずれも式（１）におけるｘが２である。Ｒ^２が上記式（２－１）で表される連結基であり、ｎ１が２である。Ｒ^５が上記式（２－３）で表される連結基であり、ｎ２が２である。２つのＲ^４がいずれも上記式（３－１）で表される連結基であり、ｎ３が２であり、ｙ１が１、ｙ２が１である。３つのＲ^３がいずれも上記式（４－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。
　下記式（Ｔ）で表される化合物は、Ｒ^１およびＲ^６が上記式（５－１）で表される末端基である。下記式（Ｕ）で表される化合物は、Ｒ^１およびＲ^６が上記式（５－３）で表される末端基である。下記式（Ｖ）で表される化合物は、Ｒ^１およびＲ^６が上記式（５－７）で表される末端基である。

　下記式（Ｗ）で表される化合物は、式（１）におけるｘが２である。Ｒ^１およびＲ^６が上記式（５－１）で表される末端基である。Ｒ^２が上記式（２－２）で表される連結基である。Ｒ^５が上記式（２－４）で表される連結基である。２つのＲ^４がいずれも上記式（３－２）で表される連結基であり、ｙ３が１、ｙ４が１である。３つのＲ^３がいずれも上記式（４－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。

　下記式（Ｘ）で表される化合物は、式（１）におけるｘが２である。Ｒ^１およびＲ^６が上記式（５－１）で表される末端基である。Ｒ^２が上記式（２－１）で表される連結基であり、ｎ１が２である。Ｒ^５が上記式（２－３）で表される連結基であり、ｎ２が２である。２つのＲ^４がいずれも上記式（３－１）で表される連結基であり、ｎ３が２であり、ｙ１が１、ｙ２が１である。３つのＲ^３がいずれも上記式（４－２）で表されるＰＦＰＥ鎖である。
　下記式（ＸＸ）で表される化合物は、式（１）におけるｘが１である。Ｒ^１およびＲ^６が上記式（５－２）で表される末端基である。Ｒ^２が上記式（２－１）で表される連結基であり、ｎ１が２である。Ｒ^５が上記式（２－３）で表される連結基であり、ｎ２が２である。Ｒ^４が上記式（３－１）で表される連結基であり、ｎ３が２であり、ｙ１が１、ｙ２が１である。２つのＲ^３がいずれも上記式（４－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。

（式（Ａ）中のＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。）
（式（Ｂ）中のＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。）
（式（Ｃ）中のＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。）
（式（Ｄ）中のＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。）
（式（Ｅ）中のＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。）
（式（Ｆ）中のＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。）

（式（Ｇ）中のＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。）
（式（Ｈ）中のＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。）
（式（Ｉ）中のＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。）
（式（Ｊ）中のＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。）
（式（Ｋ）中のＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。）
（式（Ｌ）中のＲｆ_２において、ｊは平均重合度を示し、１～１５を表す。）
（式（Ｍ）中のＲｆ_３において、ｋは平均重合度を示し、１～１０を表す。）

（式（Ｎ）中の２つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す；２つのＲｆ_１において、平均重合度は同じであってもよく、異なっていてもよい。）
（式（Ｏ）中の２つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す；２つのＲｆ_１において、平均重合度は同じであってもよく、異なっていてもよい。）
（式（Ｐ）中の２つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す；２つのＲｆ_１において、平均重合度は同じであってもよく、異なっていてもよい。）
（式（Ｑ）中の２つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す；２つのＲｆ_１において、平均重合度は同じであってもよく、異なっていてもよい。）
（式（Ｒ）中の２つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す；２つのＲｆ_１において、平均重合度は同じであってもよく、異なっていてもよい。）
（式（Ｓ）中の２つのＲｆ_２において、ｊは平均重合度を示し、１～１５を表す；２つのＲｆ_２において、平均重合度は同じであってもよく、異なっていてもよい。）

（式（Ｔ）中の３つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す；３つのＲｆ_１において、平均重合度はそれぞれ異なっていてもよいし、２つまたは３つのＲｆ_１中の平均重合度が同じであってもよい。）
（式（Ｕ）中の３つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す；３つのＲｆ_１において、平均重合度はそれぞれ異なっていてもよいし、２つまたは３つのＲｆ_１中の平均重合度が同じであってもよい。）
（式（Ｖ）中の３つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す；３つのＲｆ_１において、平均重合度はそれぞれ異なっていてもよいし、２つまたは３つのＲｆ_１中の平均重合度が同じであってもよい。）

（式（Ｗ）中の３つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す；３つのＲｆ_１において、平均重合度はそれぞれ異なっていてもよいし、２つまたは３つのＲｆ_１中の平均重合度が同じであってもよい。）
（式（Ｘ）中の３つのＲｆ_２において、ｊは平均重合度を示し、１～１５を表す；３つのＲｆ_２において、平均重合度はそれぞれ異なっていてもよいし、２つまたは３つのＲｆ_２中の平均重合度が同じであってもよい。）
（式（ＸＸ）中の２つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す；２つのＲｆ_１において、平均重合度は同じであってもよく、異なっていてもよい。）

　本実施形態の含フッ素エーテル化合物は、数平均分子量（Ｍｎ）が５００～１００００の範囲内であることが好ましく、１０００～５０００の範囲内であることが特に好ましい。数平均分子量が５００以上であると、本実施形態の含フッ素エーテル化合物を含む潤滑剤からなる潤滑層が優れた耐熱性を有するものとなる。含フッ素エーテル化合物の数平均分子量は、１０００以上であることがより好ましい。また、数平均分子量が１００００以下であると、含フッ素エーテル化合物の粘度が適正なものとなり、これを含む潤滑剤を塗布することによって、容易に膜厚の薄い潤滑層を形成できる。含フッ素エーテル化合物の数平均分子量は、潤滑剤に適用した場合に扱いやすい粘度となるため、５０００以下であることが好ましい。

　含フッ素エーテル化合物の数平均分子量（Ｍｎ）は、ブルカー・バイオスピン社製ＡＶＡＮＣＥＩＩＩ４００による^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲによって測定された値である。具体的には、^１９Ｆ－ＮＭＲによって測定された積分値よりＰＦＰＥ鎖の繰り返し単位数を算出し、数平均分子量を求める。ＮＭＲ（核磁気共鳴）の測定においては、試料をヘキサフルオロベンゼン／ｄ－アセトン（４／１ｖ／ｖ）溶媒へ希釈して測定する。^１９Ｆ－ＮＭＲケミカルシフトの基準は、ヘキサフルオロベンゼンのピークを－１６４．７ｐｐｍとし、^１Ｈ－ＮＭＲケミカルシフトの基準は、アセトンのピークを２．２ｐｐｍとする。

　本実施形態の含フッ素エーテル化合物は、適当な方法で分子量分画することにより、分子量分散度（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）比）を１．３以下とすることが好ましい。
　本実施形態において、分子量分画する方法としては、特に制限されないが、例えば、シリカゲルカラムクロマトグラフィー法、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法などによる分子量分画、超臨界抽出法による分子量分画等を用いることができる。

「製造方法」
　本実施形態の含フッ素エーテル化合物の製造方法は、特に限定されるものではなく、従来公知の製造方法を用いて製造できる。本実施形態の含フッ素エーテル化合物は、例えば、以下に示すように、含フッ素エーテル化合物の鎖状構造となる主鎖部分を形成する第一反応工程と、主鎖部分から分岐している側鎖部分を形成する第二反応工程とを有する製造方法を用いて製造できる。

　第一反応工程は、式（１）における含フッ素エーテル化合物の鎖状構造のＲ^２、Ｒ^５（ｘが１または２である場合、Ｒ^２、Ｒ^４、Ｒ^５）となる主鎖部分に、それぞれ２級水酸基が配置されている構造を有する化合物である第１中間体化合物を合成する工程であることが好ましい。
　第二反応工程は、第１中間体化合物の式（１）におけるＲ^２、Ｒ^５（ｘが１または２である場合、Ｒ^２、Ｒ^４、Ｒ^５）となる主鎖部分にそれぞれ配置されている２級水酸基を、化学修飾して１級水酸基を有する側鎖部分を形成する工程であることが好ましい。

［第１製造方法］
　式（１）におけるｘが０である含フッ素エーテル化合物を製造する場合、例えば、以下に示す第１製造方法を用いることができる。
　まず、式（１）におけるＲ^３に対応するパーフルオロポリエーテル鎖の両末端に、それぞれヒドロキシメチル基（－ＣＨ_２ＯＨ）が配置されたフッ素系化合物を用意する。

（第一反応工程）
＜Ｒ^１とＲ^６が同じである場合＞
　式（１）におけるｘが０であって、Ｒ^１とＲ^６が同じ含フッ素エーテル化合物を製造する場合には、第一反応工程において、上記のフッ素系化合物の両方の末端に配置されているヒドロキシメチル基の水酸基と、式（１）におけるＲ^１に対応する基とＲ^２の主鎖部分に対応する基とが結合した基（＝Ｒ^６に対応する基とＲ^５の主鎖部分に対応する基とが結合した基）に相当するエポキシ化合物とを反応させる。

　上記反応により、Ｒ^３に対応するパーフルオロポリエーテル鎖の両方の末端に、Ｒ^１に対応する基とＲ^２の主鎖部分に対応する基とが結合した基（＝Ｒ^６に対応する基とＲ^５の主鎖部分に対応する基とが結合した基）を有する第１中間体化合物１ａが得られる。第１中間体化合物１ａにおいて、Ｒ^２の主鎖部分に対応する基およびＲ^５の主鎖部分に対応する基には、それぞれ第一反応工程においてヒドロキシメチル基の水酸基とエポキシ化合物のエポキシ基とが反応して生成した１つの２級水酸基が配置されている。

＜Ｒ^１とＲ^６が異なる場合＞
　式（１）におけるｘが０であって、Ｒ^１とＲ^６とが異なる化合物を製造する場合には、第一反応工程において、上記のフッ素系化合物の一方の末端に配置されているヒドロキシメチル基の水酸基と、式（１）におけるＲ^１に対応する基とＲ^２の主鎖部分に対応する基とが結合した基に相当するエポキシ化合物とを反応させる。その後、上記のフッ素系化合物のもう一方の末端に配置されているヒドロキシメチル基の水酸基と、式（１）におけるＲ^６に対応する基とＲ^５の主鎖部分に対応する基とが結合した基に相当するエポキシ化合物とを反応させる。

　この場合の第一反応工程は、上記のフッ素系化合物の一方の末端に配置されているヒドロキシメチル基の水酸基と、式（１）におけるＲ^６に対応する基とＲ^５の主鎖部分に対応する基とが結合した基に相当するエポキシ化合物とを反応させた後、上記のフッ素系化合物のもう一方の末端に配置されているヒドロキシメチル基の水酸基と、式（１）におけるＲ^１に対応する基とＲ^２の主鎖部分に対応する基とが結合した基に相当するエポキシ化合物とを反応させる工程であってもよい。

　上記反応により、Ｒ^３に対応するパーフルオロポリエーテル鎖の一方の末端に、Ｒ^１に対応する基とＲ^２の主鎖部分に対応する基とが結合した基を有し、もう一方の末端に、Ｒ^６に対応する基とＲ^５の主鎖部分に対応する基とが結合した基を有する第１中間体化合物１ｂが得られる。第１中間体化合物１ｂにおいて、Ｒ^２の主鎖部分に対応する基およびＲ^５の主鎖部分に対応する基には、それぞれ第一反応工程においてヒドロキシメチル基の水酸基とエポキシ化合物のエポキシ基とが反応して生成した１つの２級水酸基が配置されている。

　第一反応工程において使用する式（１）におけるＲ^１に対応する基とＲ^２の主鎖部分に対応する基とが結合した基（または、Ｒ^６に対応する基とＲ^５の主鎖部分に対応する基とが結合した基）に相当するエポキシ化合物としては、例えば、下記式（７－１）～（７－８）で表される化合物などを用いることができる。

（式（７－１）～（７－４）中、ＴＨＰはテトラヒドロピラニル基を表す。）
（式（７－４）～（７－６）中、ＭＯＭはメトキシメチル基を表す。）

　第一反応工程において使用するエポキシ化合物は、例えば、製造する含フッ素エーテル化合物のＲ^１（またはＲ^６）に対応する構造を有するアルコールと、エピクロロヒドリン、またはエピブロモヒドリンとを反応させる方法により合成できる。第一反応工程において使用するエポキシ化合物は、炭素－炭素二重結合を有する化合物を酸化する方法により合成してもよいし、市販品を購入して使用してもよい。

（第二反応工程）
＜Ｒ^２の側鎖部分とＲ^５の側鎖部分とが同じである場合＞
　式（１）におけるｘが０であって、Ｒ^２の側鎖部分とＲ^５の側鎖部分とが同じである含フッ素エーテル化合物を製造する場合には、第二反応工程において、第一反応工程により生成した第１中間体化合物１ａまたは第１中間体化合物１ｂの有する２級水酸基に対して、式（１）におけるＲ^２の側鎖部分（＝Ｒ^５の側鎖部分）に対応する保護された水酸基を有する１種類のハロゲン化物を反応させて、第２中間体化合物２ａを生成させる。

＜Ｒ^２の側鎖部分とＲ^５の側鎖部分とが異なる場合＞
　式（１）におけるｘが０であって、Ｒ^２の側鎖部分とＲ^５の側鎖部分とが異なる含フッ素エーテル化合物を製造する場合には、第二反応工程において、第一反応工程により生成した第１中間体化合物１ａまたは第１中間体化合物１ｂの有する２級水酸基に対して、式（１）におけるＲ^２の側鎖部分に対応する保護された水酸基を有するハロゲン化物と、Ｒ^５の側鎖部分に対応する保護された水酸基を有するハロゲン化物とを、公知の方法を用いて順次反応させて、第２中間体化合物２ｂを生成させる。反応後、必要に応じてカラムクロマトグラフィーなどの公知の方法で精製することにより、Ｒ^２の側鎖部分とＲ^５の側鎖部分とを有する第２中間体化合物２ｂが得られる。第１中間体化合物１ａまたは第１中間体化合物１ｂと反応させる順番は、Ｒ^２の側鎖部分に対応する保護された水酸基を有するハロゲン化物と、Ｒ^５の側鎖部分に対応する保護された水酸基を有するハロゲン化物のどちらが先であってもよい。

　第二反応工程において使用する式（１）におけるＲ^２の側鎖部分（またはＲ^５の側鎖部分）に対応する保護された水酸基を有するハロゲン化物としては、例えば、下記式（８－１）～（８－４）で表される化合物などを用いることができる。

（式（８－１）～（８－４）中、ＴＨＰはテトラヒドロピラニル基を表す。）

　次に、第２中間体化合物２ａまたは第２中間体化合物２ｂの有している、保護された水酸基を有するハロゲン化物に由来する保護基を、保護基の種類に応じた公知の方法により除去する脱保護反応を行う。このことにより、式（１）におけるＲ^２の側鎖部分およびＲ^５の側鎖部分の先端に、それぞれ１つの１級水酸基が配置される。
　以上の工程を行うことにより、式（１）におけるｘが０である含フッ素エーテル化合物が得られる。

［第２製造方法］
　式（１）におけるｘが１である含フッ素エーテル化合物を製造する場合、例えば、以下に示す第２製造方法を用いることができる。

（第一反応工程）
＜２つのＲ^３が同じで、Ｒ^１とＲ^６が同じである場合＞
　式（１）におけるｘが１であり、２つのＲ^３が同じであって、Ｒ^１とＲ^６が同じである化合物を製造する場合には、まず、第１製造方法と同様に、式（１）におけるＲ^３に対応するパーフルオロポリエーテル鎖の両末端に、それぞれヒドロキシメチル基（－ＣＨ_２ＯＨ）が配置されたフッ素系化合物を用意する。

　次に、上記のフッ素系化合物の両方の末端に配置されているヒドロキシメチル基のうち、一方のヒドロキシメチル基の水酸基と、式（１）におけるＲ^１に対応する基とＲ^２の主鎖部分に対応する基とが結合した基（＝Ｒ^６に対応する基とＲ^５の主鎖部分に対応する基とが結合した基）に相当するエポキシ化合物とを反応させる。反応後、必要に応じてカラムクロマトグラフィーなどの公知の方法で精製することにより、上記のフッ素系化合物の両方の末端に配置されているヒドロキシメチル基のうち、一方の末端に配置されているヒドロキシメチル基と、エポキシ化合物とが反応した化合物が得られる。

　上記反応により、Ｒ^３に対応するパーフルオロポリエーテル鎖の一方の末端に、Ｒ^１に対応する基とＲ^２の主鎖部分に対応する基とが結合した基（＝Ｒ^６に対応する基とＲ^５の主鎖部分に対応する基とが結合した基）を有する前駆体化合物１１ａが得られる。前駆体化合物１１ａにおいて、Ｒ^２の主鎖部分に対応する基（＝Ｒ^５の主鎖部分に対応する基）には、ヒドロキシメチル基の水酸基とエポキシ化合物のエポキシ基とが反応して生成した１つの２級水酸基が配置されている。

　次に、前駆体化合物１１ａの一方の末端に配置されているヒドロキシメチル基の水酸基と、式（１）におけるＲ^４の主鎖部分に対応するエポキシ基を有するハロゲン化合物とを反応させる。
　この反応により、Ｒ^４の主鎖部分に対応する構造の両端に、それぞれＲ^３に対応するパーフルオロポリエーテル鎖を有し、さらにその両端にＲ^１に対応する基とＲ^２の主鎖部分に対応する基とが結合した基（＝Ｒ^６に対応する基とＲ^５の主鎖部分に対応する基とが結合した基）を有している第１中間体化合物１ｃが得られる。第１中間体化合物１ｃにおいて、Ｒ^４の主鎖部分に対応する基には、ヒドロキシメチル基の水酸基とエポキシ化合物のエポキシ基とが反応して生成した１つの２級水酸基が配置されている。

＜２つのＲ^３が異なる、および／またはＲ^１とＲ^６が異なる場合＞
　式（１）におけるｘが１であって、２つのＲ^３が異なる化合物、および／またはＲ^１とＲ^６とが異なる化合物を製造する場合には、まず、式（１）におけるＲ^１側のＲ^３に対応するパーフルオロポリエーテル鎖の両末端に、それぞれヒドロキシメチル基（－ＣＨ_２ＯＨ）が配置されたフッ素系化合物を用意する。そして、このフッ素系化合物を用いること以外は、前駆体化合物１１ａを製造する場合と同様にして、前駆体化合物１１ｂを製造する。

　前駆体化合物１１ｂは、Ｒ^１側のＲ^３に対応するパーフルオロポリエーテル鎖の一方の末端に、Ｒ^１に対応する基とＲ^２の主鎖部分に対応する基とが結合した基を有する。前駆体化合物１１ｂにおいて、Ｒ^２の主鎖部分に対応する基には、ヒドロキシメチル基の水酸基とエポキシ化合物のエポキシ基とが反応して生成した１つの２級水酸基が配置されている。

　次に、式（１）におけるＲ^６側のＲ^３に対応するパーフルオロポリエーテル鎖の両末端に、それぞれヒドロキシメチル基（－ＣＨ_２ＯＨ）が配置されたフッ素系化合物を用意する。そして、このフッ素系化合物の両方の末端に配置されているヒドロキシメチル基のうち、一方のヒドロキシメチル基の水酸基と、式（１）におけるＲ^６に対応する基とＲ^５の主鎖部分に対応する基とが結合した基に相当するエポキシ化合物とを反応させる。反応後、必要に応じてカラムクロマトグラフィーなどの公知の方法で精製することにより、上記のフッ素系化合物の両方の末端に配置されているヒドロキシメチル基のうち、一方の末端に配置されているヒドロキシメチル基と、エポキシ化合物とが反応した化合物が得られる。

　上記反応により、Ｒ^６側のＲ^３に対応するパーフルオロポリエーテル鎖の一方の末端に、Ｒ^６に対応する基とＲ^５の主鎖部分に対応する基とが結合した基を有する前駆体化合物１１ｃが得られる。前駆体化合物１１ｃにおいて、Ｒ^５の主鎖部分に対応する基には、ヒドロキシメチル基の水酸基とエポキシ化合物のエポキシ基とが反応して生成した１つの２級水酸基が配置されている。

　次に、前駆体化合物１１ｂの一方の末端に配置されているヒドロキシメチル基の水酸基と、式（１）におけるＲ^４の主鎖部分に対応するエポキシ基を有するハロゲン化合物とを反応させる。そして、得られた反応生成物と、前駆体化合物１１ｃの一方の末端に配置されているヒドロキシメチル基の水酸基とを反応させる。なお、式（１）におけるＲ^４の主鎖部分に対応するエポキシ基を有するハロゲン化合物と、前駆体化合物１１ｃとを反応させた後、得られた反応生成物と、前駆体化合物１１ｂとを反応させてもよい。

　これらの反応により、Ｒ^４の主鎖部分に対応する構造のＲ^１側の端部に、Ｒ^１側のＲ^３に対応するパーフルオロポリエーテル鎖を有し、さらにその端部にＲ^１に対応する基とＲ^２の主鎖部分に対応する基とが結合した基を有しており、Ｒ^４の主鎖部分に対応する構造のＲ^６側の端部に、Ｒ^６側のＲ^３に対応するパーフルオロポリエーテル鎖を有し、さらにその端部にＲ^６に対応する基とＲ^５の主鎖部分に対応する基とが結合した基を有している第１中間体化合物１ｄが得られる。第１中間体化合物１ｄにおいて、Ｒ^４の主鎖部分に対応する基には、ヒドロキシメチル基の水酸基とエポキシ基とが反応して生成した１つの２級水酸基が配置されている。

　第２製造方法の第一反応工程において使用する、Ｒ^４の主鎖部分に対応するエポキシ基を有するハロゲン化合物としては、例えば、エピブロモヒドリン、エピクロロヒドリン、２－ブロモエチルオキシラン、３－ブロモプロピルオキシラン、２－クロロエチルオキシラン、３－クロロプロピルオキシランなどを用いることができ、式（１）におけるＲ^４が式（３－１）で表され、式（３－１）中のｙ１、ｙ２がともに１である場合、または、Ｒ^４が式（３－２）で表され、式（３－２）中のｙ３、ｙ４がともに１である場合、例えば、エピブロモヒドリン、エピクロロヒドリンを用いることができる。

　第２製造方法の第一反応工程において使用する、式（１）におけるＲ^１に対応する基とＲ^２の主鎖部分に対応する基とが結合した基（または、Ｒ^６に対応する基とＲ^５の主鎖部分に対応する基とが結合した基）に相当するエポキシ化合物としては、第１製造方法と同様のものを用いることができる。

（第二反応工程）
＜Ｒ^２の側鎖部分とＲ^４の側鎖部分とＲ^５の側鎖部分とが同じである場合＞
　式（１）におけるｘが１であって、Ｒ^２の側鎖部分とＲ^４の側鎖部分とＲ^５の側鎖部分とが同じである含フッ素エーテル化合物を製造する場合には、第二反応工程において、第一反応工程により生成した第１中間体化合物１ｃまたは第１中間体化合物１ｄの有する２級水酸基に対して、式（１）におけるＲ^２の側鎖部分（＝Ｒ^４の側鎖部分およびＲ^５の側鎖部分）に対応する保護された水酸基を有する１種類のハロゲン化物を反応させて、第２中間体化合物２ｃを生成させる。

＜Ｒ^２の側鎖部分とＲ^４の側鎖部分とＲ^５の側鎖部分のうち一部または全部が異なる場合＞
　式（１）におけるｘが１であって、Ｒ^２の側鎖部分とＲ^４の側鎖部分とＲ^５の側鎖部分のうち一部または全部が異なる含フッ素エーテル化合物を製造する場合には、第二反応工程において、第一反応工程により生成した第１中間体化合物１ｃまたは第１中間体化合物１ｄの有する２級水酸基に対して、式（１）におけるＲ^２とＲ^４とＲ^５の各側鎖部分に対応する保護された水酸基を有するハロゲン化物を、それぞれ公知の方法を用いて順次反応させて、第２中間体化合物２ｄを生成させる。反応後、必要に応じてカラムクロマトグラフィーなどの公知の方法で精製することにより、Ｒ^２の側鎖部分とＲ^４の側鎖部分とＲ^５の側鎖部分とを有する第２中間体化合物２ｄが得られる。Ｒ^２とＲ^４とＲ^５の各側鎖部分に対応する保護された水酸基を有するハロゲン化物を、第１中間体化合物１ｃまたは第１中間体化合物１ｄと反応させる順番は、特に限定されない。

　第２製造方法の第二反応工程において使用する、式（１）におけるＲ^２とＲ^４とＲ^５の各側鎖部分に対応する保護された水酸基を有するハロゲン化物としては、例えば、第１製造方法において使用できる、式（１）におけるＲ^２とＲ^５の各側鎖部分に対応する保護された水酸基を有するハロゲン化物と同様のものを用いることができる。

　次に、第２中間体化合物２ｃまたは第２中間体化合物２ｄの有している、保護された水酸基を有するハロゲン化物に由来する保護基を、保護基の種類に応じた公知の方法により除去する脱保護反応を行う。このことにより、式（１）におけるＲ^２の側鎖部分、Ｒ^４の側鎖部分およびＲ^５の側鎖部分の先端に、それぞれ１つの１級水酸基が配置される。
　以上の工程を行うことにより、式（１）におけるｘが１である含フッ素エーテル化合物が得られる。

［第３製造方法］
　式（１）におけるｘが２である含フッ素エーテル化合物を製造する場合、例えば、以下に示す第３製造方法を用いることができる。

（第一反応工程）
＜３つのＲ^３が同じで、２つのＲ^４が同じで、Ｒ^１とＲ^６が同じである場合＞
　式（１）におけるｘが２であって、３つのＲ^３が同じで、２つのＲ^４が同じで、Ｒ^１とＲ^６が同じである化合物を製造する場合には、まず、第２製造方法と同様にして前駆体化合物１１ａを製造する。

　次に、式（１）におけるＲ^３に対応するパーフルオロポリエーテル鎖の両末端に、それぞれヒドロキシメチル基（－ＣＨ_２ＯＨ）が配置されたフッ素系化合物を用意する。次いで、上記のフッ素系化合物の両末端に配置されているヒドロキシメチル基の水酸基と、式（１）におけるＲ^４の主鎖部分に対応するエポキシ基を有するハロゲン化合物とを反応させる。このことにより、式（１）におけるＲ^３に対応するパーフルオロポリエーテル鎖の両末端に、Ｒ^４の主鎖部分に対応するエポキシ基を有する前駆体化合物１１ｄが得られる。

　その後、前駆体化合物１１ａの一方の末端に配置されたヒドロキシメチル基の水酸基と、前駆体化合物１１ｄの両末端に配置されたＲ^４の主鎖部分に対応するエポキシ基とを反応させて、第１中間体化合物１ｅを製造する。第１中間体化合物１ｅにおいて、２つのＲ^４の主鎖部分に対応する基には、ヒドロキシメチル基の水酸基とエポキシ基とが反応して生成した１つの２級水酸基がそれぞれ配置されている。

＜２つのＲ^４が同じで、３つのＲ^３のうち一部または全部が異なる、および／またはＲ^１とＲ^６が異なる場合＞
　式（１）におけるｘが２であって、２つのＲ^４が同じで、３つのＲ^３のうち一部または全部が異なる、および／またはＲ^１とＲ^６とが異なる化合物を製造する場合には、以下に示す方法を用いることができる。

　すなわち、フッ素系化合物として、３つのＲ^３のうち主鎖の中央に配置されるＲ^３に対応するパーフルオロポリエーテル鎖の両末端に、それぞれヒドロキシメチル基が配置されたフッ素系化合物を用いること以外は、前駆体化合物１１ｄと同様にして前駆体化合物１１ｅを製造する。前駆体化合物１１ｅは、３つのＲ^３のうち主鎖の中央に配置されるＲ^３に対応するパーフルオロポリエーテル鎖の両末端に、Ｒ^４の主鎖部分に対応するエポキシ基を有する。

　また、第２製造方法と同様にして、前駆体化合物１１ｂおよび前駆体化合物１１ｃを製造する。そして、前駆体化合物１１ｂの一方の末端に配置されているヒドロキシメチル基の水酸基と、前駆体化合物１１ｅの一方の末端に配置されたＲ^４の主鎖部分に対応するエポキシ基とを反応させる。得られた反応生成物と、前駆体化合物１１ｃの一方の末端に配置されているヒドロキシメチル基の水酸基とを反応させて第１中間体化合物１ｆを製造する。なお、前駆体化合物１１ｅと、前駆体化合物１１ｃとを反応させた後、得られた反応生成物と、前駆体化合物１１ｂとを反応させてもよい。第１中間体化合物１ｆにおいて、２つのＲ^４の主鎖部分に対応する基には、ヒドロキシメチル基の水酸基とエポキシ基とが反応して生成した１つの２級水酸基がそれぞれ配置されている。

＜２つのＲ^４が異なる場合＞
　式（１）におけるｘが２であって、３つのＲ^３が同じで、Ｒ^１とＲ^６が同じで、２つのＲ^４が異なる化合物を製造する場合には、Ｒ^３に対応するパーフルオロポリエーテル鎖の両末端に、Ｒ^４の主鎖部分に対応するエポキシ基を有する前駆体化合物１１ｄに代えて、以下に示す前駆体化合物１１ｆを用いて、第１中間体化合物１ｅを製造する。
る。

　また、式（１）におけるｘが２であって、３つのＲ^３のうち一部または全部が異なる、および／またはＲ^１とＲ^６が異なり、２つのＲ^４が異なる化合物を製造する場合には、３つのＲ^３のうち主鎖の中央に配置されるＲ^３に対応するパーフルオロポリエーテル鎖の両末端に、Ｒ^４の主鎖部分に対応するエポキシ基を有する前駆体化合物１１ｅに代えて、以下に示す前駆体化合物１１ｆを用いて、第１中間体化合物１ｆを製造する。

　前駆体化合物１１ｆは、以下に示す方法により製造できる。すなわち、Ｒ^３（３つのＲ^３のうち一部または全部が異なる場合には、３つのＲ^３のうち主鎖の中央に配置されるＲ^３）に対応するパーフルオロポリエーテル鎖の両末端に、それぞれヒドロキシメチル基が配置されているフッ素系化合物を用意する。そのフッ素系化合物の一方の末端に配置されているヒドロキシメチル基の水酸基と、Ｒ^１側のＲ^４の主鎖部分に対応するエポキシ基を有するハロゲン化合物とを反応させる。その後、上記のフッ素系化合物のもう一方の末端に配置されているヒドロキシメチル基の水酸基と、Ｒ^６側のＲ^４の主鎖部分に対応するエポキシ基を有するハロゲン化合物とを反応させる。

　このことにより、Ｒ^３（３つのＲ^３のうち一部または全部が異なる場合には、３つのＲ^３のうち主鎖の中央に配置されるＲ^３）に対応するパーフルオロポリエーテル鎖の両末端に、それぞれ異なるＲ^４の主鎖部分に対応するエポキシ基を有する前駆体化合物１１ｆが得られる。フッ素系化合物と反応させる順番は、Ｒ^１側のＲ^４の主鎖部分に対応するエポキシ基を有するハロゲン化合物と、Ｒ^６側のＲ^４の主鎖部分に対応するエポキシ基を有するハロゲン化合物のどちらが先であってもよい。

　第３製造方法の第一反応工程において使用する、Ｒ^１側のＲ^４およびＲ^６側のＲ^４の主鎖部分に対応するエポキシ基を有するハロゲン化合物としては、第２製造方法の第一反応工程において使用する、Ｒ^４の主鎖部分に対応するエポキシ基を有するハロゲン化合物と同様のものを用いることができる。

　上記Ｒ^１側のＲ^４の主鎖部分に対応するエポキシ基を有するハロゲン化合物としては、例えば、Ｒ^１側のＲ^４が式（３－１）で表され、式（３－１）中のｙ１が１、ｙ２が２である場合、または、Ｒ^１側のＲ^４が式（３－２）で表され、式（３－２）中のｙ３が１、ｙ４が２である場合、２－クロロエチルオキシラン、２－ブロモエチルオキシランを用いることができる。また、Ｒ^１側のＲ^４が式（３－１）で表され、式（３－１）中のｙ１が１、ｙ２が３である場合、または、Ｒ^１側のＲ^４が式（３－２）で表され、式（３－２）中のｙ３が１、ｙ４が３である場合、３－クロロプロピルオキシラン、３－ブロモプロピルオキシランを用いることができる。

　上記Ｒ^６側のＲ^４の主鎖部分に対応するエポキシ基を有するハロゲン化合物としては、例えば、Ｒ^６側のＲ^４が式（３－１）で表され、式（３－１）中のｙ１が２、ｙ２が１である場合、または、Ｒ^６側のＲ^４が式（３－２）で表され、式（３－２）中のｙ３が２、ｙ４が１である場合、２－クロロエチルオキシラン、２－ブロモエチルオキシランを用いることができる。また、Ｒ^６側のＲ^４が式（３－１）で表され、式（３－１）中のｙ１が３、ｙ２が１である場合、または、Ｒ^６側のＲ^４が式（３－２）で表され、式（３－２）中のｙ３が３、ｙ４が１である場合、３－クロロプロピルオキシラン、３－ブロモプロピルオキシランを用いることができる。

（第二反応工程）
＜Ｒ^２の側鎖部分と２つのＲ^４の側鎖部分とＲ^５の側鎖部分とが同じである場合＞
　式（１）におけるｘが２であって、Ｒ^２の側鎖部分と２つのＲ^４の側鎖部分とＲ^５の側鎖部分とが同じである含フッ素エーテル化合物を製造する場合には、第二反応工程において、第一反応工程により生成した第１中間体化合物１ｅまたは第１中間体化合物１ｆの有する２級水酸基に対して、式（１）におけるＲ^２の側鎖部分（＝２つのＲ^４の側鎖部分およびＲ^５の側鎖部分）に対応する保護された水酸基を有する１種類のハロゲン化物を反応させて、第２中間体化合物２ｅを生成させる。

＜Ｒ^２の側鎖部分と２つのＲ^４の側鎖部分とＲ^５の側鎖部分のうち一部または全部が異なる場合＞
　式（１）におけるｘが２であって、Ｒ^２の側鎖部分と２つのＲ^４の側鎖部分とＲ^５の側鎖部分のうち一部または全部が異なる含フッ素エーテル化合物を製造する場合には、第二反応工程において、第一反応工程により生成した第１中間体化合物１ｅまたは第１中間体化合物１ｆの有する２級水酸基に対して、式（１）におけるＲ^２と２つのＲ^４とＲ^５の各側鎖部分に対応する保護された水酸基を有するハロゲン化物を、それぞれ公知の方法を用いて順次反応させて、第２中間体化合物２ｆを生成させる。反応後、必要に応じてカラムクロマトグラフィーなどの公知の方法で精製することにより、Ｒ^２の側鎖部分と２つのＲ^４の側鎖部分とＲ^５の側鎖部分とを有する第２中間体化合物２ｆが得られる。Ｒ^２と２つのＲ^４とＲ^５の各側鎖部分に対応する保護された水酸基を有するハロゲン化物を、第１中間体化合物１ｅまたは第１中間体化合物１ｆと反応させる順番は、特に限定されない。

　第３製造方法の第二反応工程において使用する、式（１）におけるＲ^２と２つのＲ^４とＲ^５の各側鎖部分に対応する保護された水酸基を有するハロゲン化物としては、例えば、第２製造方法において使用できる、式（１）におけるＲ^２とＲ^４とＲ^５の各側鎖部分に対応する保護された水酸基を有するハロゲン化物と同様のものを用いることができる。

　次に、第２中間体化合物２ｅまたは第２中間体化合物２ｆの有している、保護された水酸基を有するハロゲン化物に由来する保護基を、保護基の種類に応じた公知の方法により除去する脱保護反応を行う。このことにより、式（１）におけるＲ^２の側鎖部分、２つのＲ^４の側鎖部分およびＲ^５の側鎖部分の先端に、それぞれ１つの１級水酸基が配置される。
　以上の工程を行うことにより、式（１）におけるｘが２である含フッ素エーテル化合物が得られる。

［磁気記録媒体用潤滑剤］
　本実施形態の磁気記録媒体用潤滑剤は、上記式（１）で表される含フッ素エーテル化合物を含む。
　本実施形態の潤滑剤は、上記式（１）で表される含フッ素エーテル化合物を含むことによる特性を損なわない範囲内であれば、潤滑剤の材料として使用されている公知の材料を、必要に応じて混合して用いることができる。

　公知の材料の具体例としては、例えば、ＦＯＭＢＬＩＮ（登録商標）　ＺＤＩＡＣ、ＦＯＭＢＬＩＮ　ＺＤＥＡＬ、ＦＯＭＢＬＩＮ　ＡＭ－２００１（以上Ｓｏｌｖａｙ　Ｓｏｌｅｘｉｓ社製）、Ｍｏｒｅｓｃｏ　Ａ２０Ｈ（Ｍｏｒｅｓｃｏ社製）等が挙げられる。　本実施形態の潤滑剤と混合して用いる公知の材料は、数平均分子量が１０００～１００００であることが好ましい。

　本実施形態の潤滑剤が、上記式（１）で表される含フッ素エーテル化合物の他の材料を含む場合、本実施形態の潤滑剤中の上記式（１）で表される含フッ素エーテル化合物の含有量が５０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上であることがより好ましい。

　本実施形態の潤滑剤は、上記式（１）で表される含フッ素エーテル化合物を含むため、化学物質耐性が良好で、ピックアップ抑制効果の高い潤滑層を形成できる。

［磁気記録媒体］
　本実施形態の磁気記録媒体は、基板上に、少なくとも磁性層と、保護層と、潤滑層とが順次設けられたものである。
　本実施形態の磁気記録媒体では、基板と磁性層との間に、必要に応じて１層または２層以上の下地層を設けることができる。また、下地層と基板との間に、付着層および軟磁性層の少なくとも一方を設けることもできる。

　図１は、本発明の磁気記録媒体の一実施形態を示す概略断面図である。
　本実施形態の磁気記録媒体１０は、基板１１上に、付着層１２と、軟磁性層１３と、第１下地層１４と、第２下地層１５と、磁性層１６と、保護層１７と、潤滑層１８とが順次設けられた構造をなしている。

「基板」
　基板１１としては、例えば、ＡｌもしくはＡｌ合金などの金属または合金材料からなる基体上に、ＮｉＰまたはＮｉＰ合金からなる膜が形成された非磁性基板等を用いることができる。
　また、基板１１としては、ガラス、セラミックス、シリコン、シリコンカーバイド、カーボン、樹脂などの非金属材料からなる非磁性基板を用いてもよいし、これらの非金属材料からなる基体上にＮｉＰまたはＮｉＰ合金の膜を形成した非磁性基板を用いてもよい。

「付着層」
　付着層１２は、基板１１と、付着層１２上に設けられる軟磁性層１３とを接して配置した場合に生じる、基板１１の腐食の進行を防止する。
　付着層１２の材料は、例えば、Ｃｒ、Ｃｒ合金、Ｔｉ、Ｔｉ合金、ＣｒＴｉ、ＮｉＡｌ、ＡｌＲｕ合金等から適宜選択できる。付着層１２は、例えば、スパッタリング法により形成できる。

「軟磁性層」
　軟磁性層１３は、第１軟磁性膜と、Ｒｕ膜からなる中間層と、第２軟磁性膜とが順に積層された構造を有していることが好ましい。すなわち、軟磁性層１３は、２層の軟磁性膜の間にＲｕ膜からなる中間層を挟み込むことによって、中間層の上下の軟磁性膜がアンチ・フェロ・カップリング（ＡＦＣ）結合した構造を有していることが好ましい。

　第１軟磁性膜および第２軟磁性膜の材料としては、ＣｏＺｒＴａ合金、ＣｏＦｅ合金などが挙げられる。
　第１軟磁性膜および第２軟磁性膜に使用されるＣｏＦｅ合金には、Ｚｒ、Ｔａ、Ｎｂの何れかを添加することが好ましい。これにより、第１軟磁性膜および第２軟磁性膜の非晶質化が促進される。その結果、第１下地層（シード層）の配向性を向上させることが可能になるとともに、磁気ヘッドの浮上量を低減することが可能となる。
　軟磁性層１３は、例えば、スパッタリング法により形成できる。

「第１下地層」
　第１下地層１４は、その上に設けられる第２下地層１５および磁性層１６の配向および結晶サイズを制御する層である。
　第１下地層１４としては、例えば、Ｃｒ層、Ｔａ層、Ｒｕ層、あるいはＣｒＭｏ合金層、ＣｏＷ合金層、ＣｒＷ合金層、ＣｒＶ合金層、ＣｒＴｉ合金層などからなるものが挙げられる。
　第１下地層１４は、例えば、スパッタリング法により形成できる。

「第２下地層」
　第２下地層１５は、磁性層１６の配向が良好になるように制御する層である。第２下地層１５は、ＲｕまたはＲｕ合金からなる層であることが好ましい。
　第２下地層１５は、１層からなる層であってもよいし、複数層から構成されていてもよい。第２下地層１５が複数層からなる場合、全ての層が同じ材料から構成されていてもよいし、少なくとも一層が異なる材料から構成されていてもよい。
　第２下地層１５は、例えば、スパッタリング法により形成できる。

「磁性層」
　磁性層１６は、磁化容易軸が基板面に対して垂直または水平方向を向いた磁性膜からなる。磁性層１６は、ＣｏとＰｔとを含む層である。磁性層１６は、ＳＮＲ特性を改善するために、酸化物、Ｃｒ、Ｂ、Ｃｕ、Ｔａ、Ｚｒ等を含む層であってもよい。
　磁性層１６に含有される酸化物としては、ＳｉＯ_２、ＳｉＯ、Ｃｒ_２Ｏ_３、ＣｏＯ、Ｔａ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２等が挙げられる。

　磁性層１６は、１層から構成されていてもよいし、組成の異なる材料からなる複数の磁性層から構成されていてもよい。
　例えば、磁性層１６が、下から順に積層された第１磁性層と第２磁性層と第３磁性層の３層からなる場合、第１磁性層は、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｐｔを含み、さらに酸化物を含んだ材料からなるグラニュラー構造であることが好ましい。第１磁性層に含有される酸化物としては、例えば、Ｃｒ、Ｓｉ、Ｔａ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｃｏ等の酸化物を用いることが好ましい。その中でも、特に、ＴｉＯ_２、Ｃｒ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２等を好適に用いることができる。また、第１磁性層は、酸化物を２種類以上添加した複合酸化物からなることが好ましい。その中でも、特に、Ｃｒ_２Ｏ_３－ＳｉＯ_２、Ｃｒ_２Ｏ_３－ＴｉＯ_２、ＳｉＯ_２－ＴｉＯ_２等を好適に用いることができる。

　第１磁性層は、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｐｔ、酸化物の他に、Ｂ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｃｕ、Ｎｄ、Ｗ、Ｎｂ、Ｓｍ、Ｔｂ、Ｒｕ、Ｒｅの中から選ばれる１種類以上の元素を含むことができる。　第２磁性層には、第１磁性層と同様の材料を用いることができる。第２磁性層は、グラニュラー構造であることが好ましい。

　第３磁性層は、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｐｔを含み、酸化物を含まない材料からなる非グラニュラー構造であることが好ましい。第３磁性層は、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｐｔの他に、Ｂ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｃｕ、Ｎｄ、Ｗ、Ｎｂ、Ｓｍ、Ｔｂ、Ｒｕ、Ｒｅ、Ｍｎの中から選ばれる１種類以上の元素を含むことができる。

　磁性層１６が複数の磁性層で形成されている場合、隣接する磁性層の間には、非磁性層を設けることが好ましい。磁性層１６が、第１磁性層と第２磁性層と第３磁性層の３層からなる場合、第１磁性層と第２磁性層との間と、第２磁性層と第３磁性層との間に、非磁性層を設けることが好ましい。

　磁性層１６の隣接する磁性層間に設けられる非磁性層は、例えば、Ｒｕ、Ｒｕ合金、ＣｏＣｒ合金、ＣｏＣｒＸ１合金（Ｘ１は、Ｐｔ、Ｔａ、Ｚｒ、Ｒｅ、Ｒｕ、Ｃｕ、Ｎｂ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｇｅ、Ｓｉ、Ｏ、Ｎ、Ｗ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｖ、Ｂの中から選ばれる１種または２種以上の元素を表す。）等を好適に用いることができる。

　磁性層１６の隣接する磁性層間に設けられる非磁性層には、酸化物、金属窒化物、または金属炭化物を含んだ合金材料を使用することが好ましい。具体的には、酸化物として、例えば、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｃｒ_２Ｏ_３、ＭｇＯ、Ｙ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２等を用いることができる。金属窒化物として、例えば、ＡｌＮ、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＴａＮ、ＣｒＮ等を用いることができる。金属炭化物として、例えば、ＴａＣ、ＢＣ、ＳｉＣ等を用いることができる。
　非磁性層は、例えば、スパッタリング法により形成できる。

　磁性層１６は、より高い記録密度を実現するために、磁化容易軸が基板面に対して垂直方向を向いた垂直磁気記録の磁性層であることが好ましい。磁性層１６は、面内磁気記録の磁性層であってもよい。
　磁性層１６は、蒸着法、イオンビームスパッタ法、マグネトロンスパッタ法等、従来公知のいかなる方法によって形成してもよい。磁性層１６は、通常、スパッタリング法により形成される。

「保護層」
　保護層１７は、磁性層１６を保護する。保護層１７は、１層から構成されていてもよいし、複数層から構成されていてもよい。保護層１７としては、炭素系保護層を好ましく用いることができ、特にアモルファス炭素保護層が好ましい。保護層１７が炭素系保護層であると、潤滑層１８中の含フッ素エーテル化合物に含まれる極性基（特に水酸基）との相互作用が一層高まるため、好ましい。

　炭素系保護層と潤滑層１８との付着力は、炭素系保護層を水素化炭素および／または窒素化炭素とし、炭素系保護層中の水素含有量および／または窒素含有量を調節することにより制御可能である。炭素系保護層中の水素含有量は、水素前方散乱法（ＨＦＳ）で測定したときに３原子％～２０原子％であることが好ましい。また、炭素系保護層中の窒素含有量は、Ｘ線光電子分光分析法（ＸＰＳ）で測定したときに、４原子％～１５原子％であることが好ましい。

　炭素系保護層に含まれる水素および／または窒素は、炭素系保護層全体に均一に含有される必要はない。炭素系保護層は、例えば、保護層１７の潤滑層１８側に窒素を含有させ、保護層１７の磁性層１６側に水素を含有させた組成傾斜層とすることが好適である。この場合、磁性層１６および潤滑層１８と、炭素系保護層との付着力が、より一層向上する。

　保護層１７の膜厚は、１ｎｍ～７ｎｍであることが好ましい。保護層１７の膜厚が１ｎｍ以上であると、保護層１７としての性能が充分に得られる。保護層１７の膜厚が７ｎｍ以下であると、保護層１７の薄膜化の観点から好ましい。

　保護層１７の成膜方法としては、炭素を含むターゲット材を用いるスパッタ法、エチレンやトルエン等の炭化水素原料を用いるＣＶＤ（化学蒸着法）法、ＩＢＤ（イオンビーム蒸着）法等を用いることができる。
　保護層１７として炭素系保護層を形成する場合、例えば、ＤＣマグネトロンスパッタリング法により成膜することができる。特に、保護層１７として炭素系保護層を形成する場合、プラズマＣＶＤ法により、アモルファス炭素保護層を成膜することが好ましい。プラズマＣＶＤ法により成膜したアモルファス炭素保護層は、表面が均一で、粗さが小さいものとなる。

「潤滑層」
　潤滑層１８は、磁気記録媒体１０の汚染を防止する。また、潤滑層１８は、磁気記録媒体１０上を摺動する磁気記録再生装置の磁気ヘッドの摩擦力を低減させて、磁気記録媒体１０の耐久性を向上させる。
　潤滑層１８は、図１に示すように、保護層１７上に接して形成されている。潤滑層１８は、保護層１７上に上述した実施形態の磁気記録媒体用潤滑剤を塗布することにより形成されたものである。したがって、潤滑層１８は、上述の含フッ素エーテル化合物を含む。

　潤滑層１８は、潤滑層１８の下に配置されている保護層１７が、炭素系保護層である場合、特に、保護層１７と高い結合力で結合される。その結果、潤滑層１８の厚みが薄くても、高い被覆率で保護層１７の表面が被覆された磁気記録媒体１０が得られやすくなり、磁気記録媒体１０の表面の汚染を効果的に防止できる。

　潤滑層１８の平均膜厚は、０．５ｎｍ（５Å）～２．０ｎｍ（２０Å）であることが好ましく、０．５ｎｍ（５Å）～１．２ｎｍ（１２Å）であることがより好ましい。潤滑層１８の平均膜厚が０．５ｎｍ以上であると、潤滑層１８がアイランド状または網目状とならずに均一の膜厚で形成される。そのため、潤滑層１８によって、保護層１７の表面を高い被覆率で被覆できる。また、潤滑層１８の平均膜厚を２．０ｎｍ以下にすることで、潤滑層１８を充分に薄膜化でき、磁気ヘッドの浮上量を充分に小さくできる。

「潤滑層の形成方法」
　潤滑層１８を形成するには、例えば、基板１１上に保護層１７までの各層が形成された製造途中の磁気記録媒体を用意し、保護層１７上に潤滑層形成用溶液を塗布する方法が挙げられる。

　潤滑層形成用溶液は、上述の実施形態の磁気記録媒体用潤滑剤を必要に応じて、溶媒に分散溶解させ、塗布方法に適した粘度および濃度とすることにより得られる。
　潤滑層形成用溶液に用いられる溶媒としては、例えば、バートレル（登録商標）ＸＦ（商品名、三井デュポンフロロケミカル社製）等のフッ素系溶媒等が挙げられる。

　潤滑層形成用溶液の塗布方法は、特に限定されないが、例えば、スピンコート法、スプレイ法、ペーパーコート法、ディップ法等が挙げられる。
　ディップ法を用いる場合、例えば、以下に示す方法を用いることができる。まず、ディップコート装置の浸漬槽に入れられた潤滑層形成用溶液中に、保護層１７までの各層が形成された基板１１を浸漬する。次いで、浸漬槽から基板１１を所定の速度で引き上げる。このことにより、潤滑層形成用溶液を基板１１の保護層１７上の表面に塗布する。
　ディップ法を用いることで、潤滑層形成用溶液を保護層１７の表面に均一に塗布することができ、保護層１７上に均一な膜厚で潤滑層１８を形成できる。

　本実施形態においては、潤滑層１８を形成した基板１１に熱処理を施すことが好ましい。熱処理を施すことにより、潤滑層１８と保護層１７との密着性が向上し、潤滑層１８と保護層１７との付着力が向上する。
　熱処理温度は１００℃～１８０℃とすることが好ましく、１００℃～１６０℃とすることがより好ましい。熱処理温度が１００℃以上であると、潤滑層１８と保護層１７との密着性を向上させる効果が充分に得られる。また、熱処理温度を１８０℃以下にすることで、熱処理による潤滑層１８の熱分解を防止できる。熱処理時間は、熱処理温度に応じて適宜調整でき、１０分～１２０分とすることが好ましい。

　本実施形態においては、潤滑層１８の保護層１７に対する付着力をより一層向上させるために、熱処理前もしくは熱処理後の潤滑層１８に、紫外線（ＵＶ）を照射する処理を行ってもよい。

　本実施形態の磁気記録媒体１０は、基板１１上に、少なくとも磁性層１６と、保護層１７と、潤滑層１８とが順次設けられたものである。本実施形態の磁気記録媒体１０では、保護層１７上に接して上述の含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層１８が形成されている。この潤滑層１８は、化学物質耐性が良好で、ピックアップ抑制効果が高い。よって、本実施形態の磁気記録媒体１０は、信頼性、特にシリコンコンタミネーションの抑制、耐久性に優れる。このことから、本実施形態の磁気記録媒体１０は、磁気ヘッド浮上量を低く（例えば、１０ｎｍ以下）することができ、用途の多様化に伴う厳しい環境下であっても、長期に亘って安定して動作する。したがって、本実施形態の磁気記録媒体１０は、特にＬＵＬ（Ｌｏａｄ　Ｕｎｌｏａｄ）方式の磁気ディスク装置に搭載される磁気ディスクとして好適である。

　以下、実施例および比較例により本発明をさらに具体的に説明する。なお、本発明は、以下の実施例のみに限定されない。

［実施例１］
　以下に示す方法により、上記式（Ａ）で表される化合物を得た。
（第一反応工程）
　窒素ガス雰囲気下で１００ｍＬナスフラスコにＨＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｈ（ＣＦ_２Ｏ）_ｉＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ（式中の平均重合度を示すｈは４．５であり、平均重合度を示すｉは４．５である。）で表される化合物（数平均分子量１０００、分子量分布１．１）１０ｇと、上記式（７－１）で表される化合物４．７５ｇと、ｔ－ブタノール２０ｍＬとを仕込み、室温で均一になるまで撹拌し、混合物とした。この混合物にカリウムｔｅｒｔ－ブトキシド０．９０ｇ加え、７０℃で１６時間撹拌して反応させた。

　式（７－１）で表される化合物は、３－ブテン－１－オールの水酸基を、ジヒドロピランを用いて保護した後、ｍ－クロロ過安息香酸で酸化する方法により合成した。

　反応後に得られた反応生成物を２５℃に冷却し、水１００ｍＬを入れた分液漏斗に移し、酢酸エチル１００ｍＬで３回抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムによって脱水した。乾燥剤を濾別した後、濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、第１中間体化合物として下記式（９）で示される化合物１１．３１ｇを得た。

（式（９）中のＲｆ_１は、上記式（４－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である；Ｒｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す；ＴＨＰはテトラヒドロピラニル基を表す。）

（第二反応工程）
　続いて、窒素ガス雰囲気下で１００ｍＬナスフラスコに、上記で得られた第１中間体化合物である式（９）で示される化合物１１．３１ｇと、式（８－１）で表される化合物（２－(２－ブロモエトキシ)テトラヒドロ－２Ｈ－ピラン）４．０９ｇと、ジメチルホルムアミド２０ｍＬとを仕込み、室温で均一になるまで撹拌した。この均一の液に水素化ナトリウムを０．７８ｇ加え、４０℃で１６時間撹拌して反応させた。

　反応後に得られた反応液を室温に戻し、１０％塩化水素・メタノール溶液（塩化水素－メタノール試薬（５－１０％）東京化成工業株式会社製）５ｇを加え、室温で４時間撹拌した。その後、反応液を飽和重曹水１００ｍＬが入った分液漏斗に少しずつ移し、酢酸エチル２００ｍＬで２回抽出した。有機層を食塩水１００ｍＬ、飽和重曹水１００ｍＬ、食塩水１００ｍＬの順で洗浄し、無水硫酸ナトリウムによる脱水を行った。乾燥剤を濾別後、濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して、化合物（Ａ）（式（Ａ）中のＲｆ_１は、上記式（４－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。Ｒｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を４．１５ｇ得た。

　得られた化合物（Ａ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６０－１．８０（４Ｈ）、３．４０－３．８５（２２Ｈ）、３．８５－４．１０（４Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（９Ｆ）、－７８．５（２Ｆ）、－８０．５（２Ｆ）、－９１．０～－８８．５（１８Ｆ）

［実施例２］
　以下に示す方法により、上記式（Ｂ）で表される化合物を得た。
　式（７－１）で表される化合物の代わりに、式（７－２）で表される化合物を用いたこと以外は、実施例１と同様な操作を行い、化合物（Ｂ）（式（Ｂ）中のＲｆ_１は、上記式（４－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。Ｒｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を４．０２ｇ得た。
　式（７－２）で表される化合物は、アリルアルコールの水酸基を、ジヒドロピランを用いて保護した後、ｍ－クロロ過安息香酸で酸化する方法により合成した。

　得られた化合物（Ｂ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝３．４０－３．８５（２２Ｈ）、３．８５－４．１０（４Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（９Ｆ）、－７８．５（２Ｆ）、－８０．５（２Ｆ）、－９１．０～－８８．５（１８Ｆ）

［実施例３］
　以下に示す方法により、上記式（Ｃ）で表される化合物を得た。
　式（７－１）で表される化合物の代わりに、式（７－３）で表される化合物を用いたこと以外は、実施例１と同様な操作を行い、化合物（Ｃ）（式（Ｃ）中のＲｆ_１は、上記式（４－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。Ｒｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を４．８１ｇ得た。
　式（７－３）で表される化合物は、エチレングリコールモノアリルエーテルの水酸基を、ジヒドロピランを用いて保護した後、ｍ－クロロ過安息香酸で酸化する方法により合成した。

　得られた化合物（Ｃ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝３．４０－３．８５（３４Ｈ）、３．８５－４．１０（４Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（９Ｆ）、－７８．５（２Ｆ）、－８０．５（２Ｆ）、－９１．０～－８８．５（１８Ｆ）

［実施例４］
　以下に示す方法により、上記式（Ｄ）で表される化合物を得た。
　式（７－１）で表される化合物の代わりに、式（７－４）で表される化合物を用いたこと以外は、実施例１と同様な操作を行い、化合物（Ｄ）（式（Ｄ）中のＲｆ_１は、上記式（４－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。Ｒｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を５．２１ｇ得た。
　式（７－４）で表される化合物は、以下に示す方法により合成した。エチレングリコールの片方の水酸基を、ジヒドロピランを用いて保護した後、アリルグリシジルエーテルと反応させた。反応後に生じた２級水酸基を、メトキシメチルクロリドを用いて保護した後、ｍ－クロロ過安息香酸で酸化することにより合成した。

　得られた化合物（Ｄ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝３．４０－３．８５（３４Ｈ）、３．８５－４．１０（４Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（９Ｆ）、－７８．５（２Ｆ）、－８０．５（２Ｆ）、－９１．０～－８８．５（１８Ｆ）

［実施例５］
　以下に示す方法により、上記式（Ｅ）で表される化合物を得た。
　式（７－１）で表される化合物の代わりに、式（７－５）で表される化合物を用いたこと以外は、実施例１と同様な操作を行い、化合物（Ｅ）（式（Ｅ）中のＲｆ_１は、上記式（４－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。Ｒｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を５．４１ｇ得た。
　式（７－５）で表される化合物は、以下に示す方法により合成した。エピクロロヒドリンとその２倍モル量のアリルアルコールとを反応させた。反応後に生じた２級水酸基を、メトキシメチルクロリドを用いて保護した後、片方の炭素－炭素二重結合をｍ－クロロ過安息香酸で酸化することにより合成した。

　得られた化合物（Ｅ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝３．４０－３．８５（３６Ｈ）、３．８５－４．１０（４Ｈ）、５．２－６．１（６Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（９Ｆ）、－７８．５（２Ｆ）、－８０．５（２Ｆ）、－９１．０～－８８．５（１８Ｆ）

［実施例６］
　以下に示す方法により、上記式（Ｆ）で表される化合物を得た。
　式（７－１）で表される化合物の代わりに、式（７－６）で表される化合物を用いたこと以外は、実施例１と同様な操作を行い、化合物（Ｆ）（式（Ｆ）中のＲｆ_１は、上記式（４－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。Ｒｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を５．８２ｇ得た。
　式（７－６）で表される化合物は、以下に示す方法により合成した。フェノールとアリルグリシジルエーテルとを反応させた。反応後に生じた２級水酸基を、メトキシメチルクロリドを用いて保護し、ｍ－クロロ過安息香酸で酸化することにより合成した。

　得られた化合物（Ｆ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝３．４０－３．８５（３２Ｈ）、３．８５－４．１０（４Ｈ）、６．８－７．６ｐｐｍ（１０Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（９Ｆ）、－７８．５（２Ｆ）、－８０．５（２Ｆ）、－９１．０～－８８．５（１８Ｆ）

［実施例７］
　以下に示す方法により、上記式（Ｇ）で表される化合物を得た。
　式（７－１）で表される化合物の代わりに、式（７－７）で表される化合物を用いたこと以外は、実施例１と同様な操作を行い、化合物（Ｇ）（式（Ｇ）中のＲｆ_１は、上記式（４－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。Ｒｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を４．６１ｇ得た。
　式（７－７）で表される化合物は、３－シアノプロパノールとエピブロモヒドリンとを反応させることにより合成した。

　得られた化合物（Ｇ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６０－１．８０（４Ｈ）、２．００－２．１０（４Ｈ）、３．４０－３．８５（２４Ｈ）、３．８５－４．１０（４Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（９Ｆ）、－７８．５（２Ｆ）、－８０．５（２Ｆ）、－９１．０～－８８．５（１８Ｆ）

［実施例８］
　以下に示す方法により、上記式（Ｈ）で表される化合物を得た。
　式（７－１）で表される化合物の代わりに、式（７－８）で表される化合物を用いたこと以外は、実施例１と同様な操作を行い、化合物（Ｈ）（式（Ｈ）中のＲｆ_１は、上記式（４－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。Ｒｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を４．３３ｇ得た。
　式（７－８）で表される化合物は、アセトアミノエタノールとエピブロモヒドリンとを反応させることにより合成した。

　得られた化合物（Ｈ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．９０－２．００（６Ｈ）、３．４０－３．８５（２４Ｈ）、３．８５－４．１０（４Ｈ）、６．３０－６．４０（２Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（９Ｆ）、－７８．５（２Ｆ）、－８０．５（２Ｆ）、－９１．０～－８８．５（１８Ｆ）

［実施例９］
　以下に示す方法により、上記式（Ｉ）で表される化合物を得た。
　式（８－１）で表される化合物の代わりに、式（８－２）で表される化合物を用いたこと以外は、実施例１と同様な操作を行い、化合物（Ｉ）（式（Ｉ）中のＲｆ_１は、上記式（４－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。Ｒｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を４．１８ｇ得た。
　式（８－２）で表される化合物は、３－ブロモプロパノールの水酸基を、ジヒドロピランを用いて保護することにより合成した。

　得られた化合物（Ｉ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６０－１．８０（８Ｈ）、３．４５－３．８５（２２Ｈ）、３．８５－４．１０（４Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（９Ｆ）、－７８．５（２Ｆ）、－８０．５（２Ｆ）、－９１．０～－８８．５（１８Ｆ）

［実施例１０］
　以下に示す方法により、上記式（Ｊ）で表される化合物を得た。
　式（８－１）で表される化合物の代わりに、式（８－３）で表される化合物を用いたこと以外は、実施例１と同様な操作を行い、化合物（Ｊ）（式（Ｊ）中のＲｆ_１は、上記式（４－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。Ｒｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を４．３６ｇ得た。
　式（８－３）で表される化合物は、４－ブロモブタノールの水酸基を、ジヒドロピランを用いて保護することにより合成した。

　得られた化合物（Ｊ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６０－１．８０（１２Ｈ）、３．４５－３．８５（２２Ｈ）、３．８５－４．１０（４Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（９Ｆ）、－７８．５（２Ｆ）、－８０．５（２Ｆ）、－９１．０～－８８．５（１８Ｆ）

［実施例１１］
　以下に示す方法により、上記式（Ｋ）で表される化合物を得た。
　式（８－１）で表される化合物の代わりに、式（８－４）で表される化合物を用いたこと以外は、実施例１と同様な操作を行い、化合物（Ｋ）（式（Ｋ）中のＲｆ_１は、上記式（４－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。Ｒｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を４．５４ｇ得た。
　式（８－４）で表される化合物は、ジエチレングリコールの一方の水酸基を、三臭化リンを用いて臭素化した後、もう一方の水酸基を、ジヒドロピランを用いて保護することにより合成した。

　得られた化合物（Ｋ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６０－１．８０（４Ｈ）、３．４５－３．８５（３０Ｈ）、３．８５－４．１０（４Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（９Ｆ）、－７８．５（２Ｆ）、－８０．５（２Ｆ）、－９１．０～－８８．５（１８Ｆ）

［実施例１２］
　以下に示す方法により、上記式（Ｌ）で表される化合物を得た。
　ＨＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｈ（ＣＦ_２Ｏ）_ｉＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨで表される化合物の代わりに、ＨＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｊＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ（式中の平均重合度を示すｊは４．５である。）で表される化合物（数平均分子量１０００、分子量分布１．１）を用いたこと以外は、実施例１と同様な操作を行い、化合物（Ｌ）（式（Ｌ）中のＲｆ_２は、上記式（４－２）で表されるＰＦＰＥ鎖である。Ｒｆ_２において、平均重合度を示すｊは４．５を表す。）を４．２６ｇ得た。

　得られた化合物（Ｌ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６０－１．８０（４Ｈ）、３．４５－３．８５（３０Ｈ）、３．８５－４．１０（４Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－８４．０～－８３．０（１８Ｆ）、－８６．４（４Ｆ）、－１２４．３（４Ｆ）、－１３０．０～－１２９．０（９Ｆ）

［実施例１３］
　以下に示す方法により、上記式（Ｍ）で表される化合物を得た。
　ＨＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｈ（ＣＦ_２Ｏ）_ｉＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨで表される化合物の代わりに、ＨＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｋＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ（式中の平均重合度を示すｋは３．０である。）で表される化合物（数平均分子量１０００、分子量分布１．１）を用いたこと以外は、実施例１と同様な操作を行い、化合物（Ｍ）（式（Ｍ）中のＲｆ_３は、上記式（４－３）で表されるＰＦＰＥ鎖である。Ｒｆ_３において、平均重合度を示すｋは３．０を表す。）を４．１０ｇ得た。

　得られた化合物（Ｍ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６０－１．８０（４Ｈ）、３．４５－３．８５（３０Ｈ）、３．８５－４．１０（４Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－８４．０～－８３．０（１６Ｆ）、－１２２．５（４Ｆ）、－１２６．０（１２Ｆ）、－１２９．０～－１２８．０（４Ｆ）

［実施例１４］
　以下に示す方法により、上記式（Ｎ）で表される化合物を得た。
（第一反応工程）
　窒素ガス雰囲気下で１００ｍＬナスフラスコにＨＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｈ（ＣＦ_２Ｏ）_ｉＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ（式中の平均重合度を示すｈは４．５であり、平均重合度を示すｉは４．５である。）で表される化合物（数平均分子量１０００、分子量分布１．１）２０ｇと、上記式（７－１）で表される化合物２．０６ｇと、ｔ－ブタノール２０ｍＬとを仕込み、室温で均一になるまで撹拌し、混合物とした。この混合物にカリウムｔｅｒｔ－ブトキシド０．９０ｇ加え、７０℃で１６時間撹拌して反応させた。

　反応後に得られた反応生成物を２５℃に冷却し、水１００ｍＬを入れた分液漏斗に移し、酢酸エチル１００ｍＬで３回抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムによって脱水した。乾燥剤を濾別した後、濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、前駆体化合物として下記式（１０）で示される化合物８．４１ｇを得た。

（式（１０）中のＲｆ_１は、上記式（４－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である；Ｒｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す；ＴＨＰはテトラヒドロピラニル基を表す。）

　窒素ガス雰囲気下で１００ｍＬナスフラスコに、上記で得られた前駆体化合物である式（１０）で示される化合物８．４１ｇと、エピブロモヒドリン０．８８ｇと、ｔ－ブタノール１０ｍＬとを仕込み、室温で均一になるまで撹拌した。この均一の液にカリウムｔｅｒｔ－ブトキシドを０．９６ｇ加え、７０℃で２３時間撹拌して反応させた。
　反応後に得られた反応液を室温に戻し、水１００ｍＬを入れた分液漏斗に移し、酢酸エチル１００ｍＬで３回抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムによって脱水した。乾燥剤を濾別した後、濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、第１中間体化合物として下記式（１１）で示される化合物５．６１ｇを得た。

（式（１１）中のＲｆ_１は、上記式（４－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である；２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す；ＴＨＰはテトラヒドロピラニル基を表す。）

（第二反応工程）
　窒素ガス雰囲気下で１００ｍＬナスフラスコに、上記で得られた第１中間体化合物である式（１１）で示される化合物５．６１ｇと、式（８－１）で表される化合物４．１８ｇと、ジメチルホルムアミド２０ｍＬとを仕込み、室温で均一になるまで撹拌した。この均一の液に水素化ナトリウムを０．８５ｇ加え、４０℃で１６時間撹拌して反応させた。

　反応後に得られた反応液を室温に戻し、１０％塩化水素・メタノール溶液（塩化水素－メタノール試薬（５－１０％）東京化成工業株式会社製）５ｇを加え、室温で４時間撹拌した。その後、反応液を飽和重曹水１００ｍＬが入った分液漏斗に少しずつ移し、酢酸エチル２００ｍＬで２回抽出した。有機層を食塩水１００ｍＬ、飽和重曹水１００ｍＬ、食塩水１００ｍＬの順で洗浄し、無水硫酸ナトリウムによる脱水を行った。乾燥剤を濾別後、濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して、化合物（Ｎ）（式（Ｎ）中のＲｆ_１は、上記式（４－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を２．４５ｇ得た。

　得られた化合物（Ｎ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６０－１．８０（４Ｈ）、３．４０－３．８５（３２Ｈ）、３．８５－４．１０（８Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（１８Ｆ）、－７８．５（４Ｆ）、－８０．５（４Ｆ）、－９１．０～－８８．５（３６Ｆ）

［実施例１５］
　以下に示す方法により、上記式（Ｏ）で表される化合物を得た。
　式（７－１）で表される化合物の代わりに、式（７－３）で表される化合物を用いたこと以外は、実施例１４と同様な操作を行い、化合物（Ｏ）（式（Ｏ）中のＲｆ_１は、上記式（４－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を２．６８ｇ得た。

　得られた化合物（Ｏ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝３．４０－３．８５（４４Ｈ）、３．８５－４．１０（８Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（１８Ｆ）、－７８．５（４Ｆ）、－８０．５（４Ｆ）、－９１．０～－８８．５（３６Ｆ）

［実施例１６］
　以下に示す方法により、上記式（Ｐ）で表される化合物を得た。
　式（７－１）で表される化合物の代わりに、式（７－７）で表される化合物を用いたこと以外は、実施例１４と同様な操作を行い、化合物（Ｐ）（式（Ｐ）中のＲｆ_１は、上記式（４－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を２．６４ｇ得た。

　得られた化合物（Ｐ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６０－１．８０（４Ｈ）、２．００－２．１０（４Ｈ）、３．４０－３．８５（３４Ｈ）、３．８５－４．１０（８Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（１８Ｆ）、－７８．５（４Ｆ）、－８０．５（４Ｆ）、－９１．０～－８８．５（３６Ｆ）

［実施例１７］
　以下に示す方法により、上記式（Ｑ）で表される化合物を得た。
　式（８－１）で表される化合物の代わりに、式（８－２）で表される化合物を用いたこと以外は、実施例１４と同様な操作を行い、化合物（Ｑ）（式（Ｑ）中のＲｆ_１は、上記式（４－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である；２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を２．５２ｇ得た。

　得られた化合物（Ｑ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６０－１．８０（１０Ｈ）、３．４０－３．８５（３２Ｈ）、３．８５－４．１０（８Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（１８Ｆ）、－７８．５（４Ｆ）、－８０．５（４Ｆ）、－９１．０～－８８．５（３６Ｆ）

［実施例１８］
　以下に示す方法により、上記式（Ｒ）で表される化合物を得た。
　式（８－１）で表される化合物の代わりに、式（８－４）で表される化合物を用いたこと以外は、実施例１４と同様な操作を行い、化合物（Ｒ）（式（Ｒ）中のＲｆ_１は、上記式（４－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である；２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を２．５２ｇ得た。

　得られた化合物（Ｒ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６０－１．８０（４Ｈ）、３．４０－３．８５（４４Ｈ）、３．８５－４．１０（８Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（１８Ｆ）、－７８．５（４Ｆ）、－８０．５（４Ｆ）、－９１．０～－８８．５（３６Ｆ）

［実施例１９］
　以下に示す方法により、上記式（Ｓ）で表される化合物を得た。
　ＨＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｈ（ＣＦ_２Ｏ）_ｉＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨで表される化合物の代わりに、ＨＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｊＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ（式中の平均重合度を示すｊは４．５である。）で表される化合物（数平均分子量１０００、分子量分布１．１）を用いたこと以外は、実施例１４と同様な操作を行い、化合物（Ｓ）（式（Ｓ）中のＲｆ_２は、上記式（４－２）で表されるＰＦＰＥ鎖である；２つのＲｆ_２において、平均重合度を示すｊは４．５を表す。）を２．１８ｇ得た。

　得られた化合物（Ｓ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６０－１．８０（４Ｈ）、３．４０－３．８５（３２Ｈ）、３．８５－４．１０（８Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－８４．０～－８３．０（３６Ｆ）、－８６．４（８Ｆ）、－１２４．３（８Ｆ）、－１３０．０～－１２９．０（１８Ｆ）

［実施例２０］
　以下に示す方法により、上記式（Ｔ）で表される化合物を得た。
（第一反応工程）
　実施例１４と同様にして、前駆体化合物として式（１０）で示される化合物を得た。
　そして、実施例１４における第１中間体化合物を得るための反応において、エピブロモヒドリンの代わりに、式（１２）で表される化合物を用いたこと以外は、実施例１４と同様な操作を行い、第１中間体化合物として下記式（１３）で示される化合物７．８１ｇを得た。

　式（１２）で表される化合物は、ＨＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｈ（ＣＦ_２Ｏ）_ｉＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ（式中の平均重合度を示すｈは４．５であり、平均重合度を示すｉは４．５である。）で表される化合物（数平均分子量１０００、分子量分布１．１）と、エピブロモヒドリンとを反応させる方法により合成した。

（式（１２）中のＲｆ_１は、上記式（４－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である；Ｒｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）

（式（１３）中のＲｆ_１は、上記式（４－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である；３つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す；ＴＨＰはテトラヒドロピラニル基を表す。）

（第二反応工程）
　窒素ガス雰囲気下で１００ｍＬナスフラスコに、上記で得られた第１中間体化合物である式（１３）で示される化合物７．８１ｇと、式（８－１）で表される化合物６．３２ｇと、ジメチルホルムアミド２０ｍＬとを仕込み、室温で均一になるまで撹拌した。この均一の液に水素化ナトリウムを１．０８ｇ加え、４０℃で１６時間撹拌して反応させた。

　反応後に得られた反応液を室温に戻し、１０％塩化水素・メタノール溶液（塩化水素－メタノール試薬（５－１０％）東京化成工業株式会社製）５ｇを加え、室温で４時間撹拌した。その後、反応液を飽和重曹水１００ｍＬが入った分液漏斗に少しずつ移し、酢酸エチル２００ｍＬで２回抽出した。有機層を食塩水１００ｍＬ、飽和重曹水１００ｍＬ、食塩水１００ｍＬの順で洗浄し、無水硫酸ナトリウムによる脱水を行った。乾燥剤を濾別後、濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して、化合物（Ｔ）（式（Ｔ）中のＲｆ_１は、上記式（４－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。３つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を２．７１ｇ得た。

　得られた化合物（Ｔ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６０－１．８０（４Ｈ）、３．４０－３．８５（４２Ｈ）、３．８５－４．１０（１２Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（２７Ｆ）、－７８．５（６Ｆ）、－８０．５（６Ｆ）、－９１．０～－８８．５（５４Ｆ）

［実施例２１］
　以下に示す方法により、上記式（Ｕ）で表される化合物を得た。
　式（７－１）で表される化合物の代わりに、式（７－３）で表される化合物を用いたこと以外は、実施例２０と同様な操作を行い、化合物（Ｕ）（式（Ｕ）中のＲｆ_１は、上記式（４－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。３つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を２．６８ｇ得た。

　得られた化合物（Ｕ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝３．４０－３．８５（５４Ｈ）、３．８５－４．１０（１２Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（２７Ｆ）、－７８．５（６Ｆ）、－８０．５（６Ｆ）、－９１．０～－８８．５（５４Ｆ）

［実施例２２］
　以下に示す方法により、上記式（Ｖ）で表される化合物を得た。
　式（７－１）で表される化合物の代わりに、式（７－７）で表される化合物を用いたこと以外は、実施例２０と同様な操作を行い、化合物（Ｖ）（式（Ｖ）中のＲｆ_１は、上記式（４－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。３つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を２．９２ｇ得た。

　得られた化合物（Ｖ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６０－１．８０（４Ｈ）、２．００－２．１０（４Ｈ）、３．４０－３．８５（４４Ｈ）、３．８５－４．１０（１２Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（２７Ｆ）、－７８．５（６Ｆ）、－８０．５（６Ｆ）、－９１．０～－８８．５（５４Ｆ）

［実施例２３］
　以下に示す方法により、上記式（Ｗ）で表される化合物を得た。
　式（８－１）で表される化合物の代わりに、式（８－４）で表される化合物を用いたこと以外は、実施例２０と同様な操作を行い、化合物（Ｗ）（式（Ｗ）中のＲｆ_１は、上記式（４－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。３つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を２．７４ｇ得た。

　得られた化合物（Ｗ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６０－１．８０（４Ｈ）、３．４０－３．８５（５４Ｈ）、３．８５－４．１０（１２Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（２７Ｆ）、－７８．５（６Ｆ）、－８０．５（６Ｆ）、－９１．０～－８８．５（５４Ｆ）

［実施例２４］
　以下に示す方法により、上記式（Ｘ）で表される化合物を得た。
　ＨＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｈ（ＣＦ_２Ｏ）_ｉＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨで表される化合物の代わりに、ＨＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｊＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ（式中の平均重合度を示すｊは４．５である。）で表される化合物（数平均分子量１０００、分子量分布１．１）を用いたこと以外は、実施例２０と同様な操作を行い、化合物（Ｘ）（式（Ｘ）中のＲｆ_２は、上記式（４－２）で表されるＰＦＰＥ鎖である；３つのＲｆ_２において、平均重合度を示すｊは４．５を表す。）を２．５８ｇ得た。

　得られた化合物（Ｘ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６０－１．８０（４Ｈ）、３．４０－３．８５（４２Ｈ）、３．８５－４．１０（１２Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－８４．０～－８３．０（５４Ｆ）、－８６．４（１２Ｆ）、－１２４．３（１２Ｆ）、－１３０．０～－１２９．０（２７Ｆ）

［実施例２５］
　以下に示す方法により、上記式（ＸＸ）で表される化合物を得た。
　式（７－１）で表される化合物の代わりに、式（７－２）で表される化合物を用いたこと以外は、実施例１４と同様な操作を行い、化合物（ＸＸ）（式（ＸＸ）中のＲｆ_１は、上記式（４－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である；２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を２．４５ｇ得た。
　得られた化合物（ＸＸ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝３．４０－３．８５（３２Ｈ）、３．８５－４．１０（８Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（１８Ｆ）、－７８．５（４Ｆ）、－８０．５（４Ｆ）、－９１．０～－８８．５（３６Ｆ）　

　このようにして得られた実施例１～２５の化合物（Ａ）～（Ｘ）、（ＸＸ）を、それぞれ式（１）に当てはめたときのｘの値、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６の構造を表１および表２に示す。

［比較例１］
　下記式（Ｙ）で表される化合物を、特許文献１に記載の方法で合成した。

（式（Ｙ）中のＲｆ_１は、上記式（４－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である；Ｒｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）

［比較例２］
　下記式（Ｚ）で表される化合物を、特許文献２に記載の方法で合成した。

（式（Ｚ）中のＲｆ_１は、上記式（４－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である；２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）

［比較例３］
　下記式（ＡＡ）で表される化合物を、特許文献３に記載の方法で合成した。

（式（ＡＡ）中のＲｆ_２は、上記式（４－２）で表されるＰＦＰＥ鎖である；２つのＲｆ_２において、平均重合度を示すｊは４．５である。）

［比較例４］
　下記式（ＡＢ）で表される化合物を、特許文献３に記載の方法で合成した。

（式（ＡＢ）中のＲｆ_２は、上記式（４－２）で表されるＰＦＰＥ鎖である；２つのＲｆ_２において、平均重合度を示すｊは４．５である。）

［比較例５］
　下記式（ＡＣ）で表される化合物を、特許文献４に記載の方法で合成した。

（式（ＡＣ）中のＲｆ_１は、上記式（４－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である；３つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは７．０を表し、平均重合度を示すｉは０を表す。）

［比較例６］
　下記式（ＡＤ）で表される化合物を、特許文献５に記載の方法で合成した。

（式（ＡＤ）中のＲｆ_１は、上記式（４－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である；Ｒｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）

［比較例７］
　下記式（ＡＥ）で表される化合物を、特許文献５に記載の方法で合成した。

（式（ＡＥ）中のＲｆ_１は、上記式（４－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である；Ｒｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）

　このようにして得られた実施例１～２５および比較例１～７の化合物の数平均分子量（Ｍｎ）を、上記の方法により測定した。その結果を表３および表４に示す。

　次に、以下に示す方法により、実施例１～２５および比較例１～７で得られた化合物を用いて潤滑層形成用溶液を調製した。そして、得られた潤滑層形成用溶液を用いて、以下に示す方法により、磁気記録媒体の潤滑層を形成し、実施例１～２５および比較例１～７の磁気記録媒体を得た。

「潤滑層形成用溶液」
　実施例１～２５および比較例１～７で得られた化合物を、それぞれフッ素系溶媒であるバートレル（登録商標）ＸＦ（商品名、三井デュポンフロロケミカル社製）に溶解し、保護層上に塗布した時の膜厚が９．０Å～９．５ÅになるようにバートレルＸＦで希釈し、潤滑層形成用溶液とした。

「磁気記録媒体」
　直径６５ｍｍの基板上に、付着層と軟磁性層と第１下地層と第２下地層と磁性層と保護層とを順次設けた磁気記録媒体を用意した。保護層は、炭素からなるものとした。
　保護層までの各層の形成された磁気記録媒体の保護層上に、実施例１～２５および比較例１～７の潤滑層形成用溶液を、ディップ法により塗布した。なお、ディップ法は、浸漬速度１０ｍｍ／ｓｅｃ、浸漬時間３０ｓｅｃ、引き上げ速度１．２ｍｍ／ｓｅｃの条件で行った。
　その後、潤滑層形成用溶液を塗布した磁気記録媒体を恒温槽に入れ、潤滑層形成用溶液中の溶媒を除去して保護層と潤滑層との密着性を向上させる熱処理を、１２０℃で１０分間行うことにより保護層上に潤滑層を形成し、磁気記録媒体を得た。

（膜厚測定）
　このようにして得られた実施例１～２５および比較例１～７の磁気記録媒体の有する潤滑層の膜厚を、ＦＴ－ＩＲ（商品名：Ｎｉｃｏｌｅｔ　ｉＳ５０、Ｔｈｅｒｍｏ　Ｆｉｓｈｅｒ　Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製）を用いて測定した。その結果を表３および表４に示す。

　次に、実施例１～２５および比較例１～７の磁気記録媒体に対して、以下に示す化学物質耐性試験およびピックアップ特性試験を行なった。

［化学物質耐性試験］
　以下に示す方法により、高温環境下で汚染物質を生成させる環境物質による磁気記録媒体の汚染を調べた。環境物質としてＳｉイオンを用い、環境物質によって生成された磁気記録媒体を汚染する汚染物質の量としてＳｉ吸着量を測定した。

　具体的には、評価対象である磁気記録媒体を、温度８５℃、湿度０％の高温環境下で、シロキサン系Ｓｉゴムの存在下に２４０時間保持した。次に、磁気記録媒体の表面に存在するＳｉ吸着量を、二次イオン質量分析法（ＳＩＭＳ）を用いて分析測定し、Ｓｉイオンによる汚染の程度をＳｉ吸着量として評価した。Ｓｉ吸着量の評価は、比較例１の結果を１．００としたときの数値を用いて、以下の評価基準に基づいて評価した。その結果を表３および表４に示す。

「評価基準」
◎（優）：Ｓｉ吸着量が０．７０未満（Ｓｉ吸着量が非常に少ない）
〇（良）：Ｓｉ吸着量が０．７０以上０．９０未満（Ｓｉ吸着量が少ない）
△（可）：Ｓｉ吸着量が０．９０以上１．１０未満（Ｓｉ吸着量が多い）
×（不可）：Ｓｉ吸着量が１．１０以上（Ｓｉ吸着量が非常に多い）

［ピックアップ特性試験］
　スピンスタンドに磁気記録媒体および磁気ヘッドを装着し、常温減圧下（約２５０ｔｏｒｒ）で回転を行い、１０分間磁気ヘッドを定点浮上させた。その後、磁気ヘッドの磁気記録媒体と相対する面を、ＥＳＣＡ（Electron Spectroscopy for Chemical Analysis）分析装置を用いて分析した。ＥＳＣＡ分析装置を用いた分析により得られたフッ素由来ピークの強度（信号強度（ａ.ｕ.））は、磁気ヘッドへの潤滑剤の付着量を示す。得られた信号強度を用いて、以下に示す評価基準により、ピックアップ特性を評価した。その結果を表３および表４に示す。

「評価基準」
◎（優）：信号強度１６０以下（付着量が非常に少ない）
〇（良）：信号強度１６１～３００（付着量が少ない）
△（可）：信号強度３０１～１０００（付着量が多い）
×（不可）：信号強度１００１以上（付着量が非常に多い）

　表３に示すように、化合物（Ａ）～（Ｘ）、（ＸＸ）のいずれかを用いて形成した潤滑層を有する実施例１～２５の磁気記録媒体は、いずれも化学物質耐性試験およびピックアップ特性試験の評価が◎（優）または〇（良）であった。このことから、実施例１～２５の磁気記録媒体の潤滑層は、化学物質耐性が良好であり、ピックアップ抑制効果が高いことが確認できた。

　これは、化合物（Ａ）～（Ｘ）、（ＸＸ）が、いずれも式（１）で表される含フッ素エーテル化合物であることによるものであると推定される。より詳細には、化合物（Ａ）～（Ｘ）、（ＸＸ）は、いずれもパーフルオロポリエーテル鎖（Ｒ^３）と末端基（Ｒ^１）との間に配置されたＲ^２、Ｒ^３と末端基（Ｒ^６）との間に配置されたＲ^５、Ｒ^３を２～３つ有する場合にＲ^３同士の間に配置されるＲ^４が、いずれも２級水酸基を含まず、含フッ素エーテル化合物の鎖状構造から分岐してエーテル結合している側鎖部分を有し、側鎖部分が、先端に１級水酸基が配置され、１級水酸基の結合している炭素原子と、主鎖部分の炭素原子と結合している酸素原子とを結合する、メチレン基（－ＣＨ_２－）を含む連結基を有することによるものであると推定される。

　これに対し、表４に示すように、化合物（Ｙ）～（ＡＥ）のいずれかを用いて形成した潤滑層を有する比較例１～７は、いずれも化学物質耐性試験およびピックアップ特性試験の評価が△（可）または×（不可）であった。
　これは、比較例１～６では、パーフルオロポリエーテル鎖と末端基との間に配置された連結基、および／またはパーフルオロポリエーテル鎖同士の間に配置された連結基が、２級水酸基を含む化合物（Ｙ）～（ＡＤ）を用いて、潤滑層を形成したためであると推定される。

　また、比較例７では、２級水酸基を含まない化合物（ＡＥ）を用いて潤滑層を形成している。しかし、化合物（ＡＥ）は、パーフルオロポリエーテル鎖と末端基との間に、含フッ素エーテル化合物の鎖状構造から分岐してエーテル結合している側鎖部分を含む連結基がない。より詳細には、化合物（ＡＥ）の両端部にそれぞれ配置されている２つのヒドロキシメチル基（－ＣＨ_２ＯＨ）は、含フッ素エーテル化合物の鎖状構造を形成している３級炭素とエーテル結合しているものではないため、柔軟性が不十分である。また、化合物（ＡＥ）では、両端部にそれぞれ配置されている２つの１級水酸基が、含フッ素エーテル化合物の鎖状構造を形成している３級炭素と１つのメチレン基を介して結合している。このため、化合物（ＡＥ）では、両端部にそれぞれ配置されている３級炭素と２つの１級水酸基との距離が近く、２つの１級水酸基の運動がいずれも、嵩高い３級炭素に阻害されやすい。これらのことから、化合物（ＡＥ）を用いて形成した潤滑層を有する比較例７では、化合物（ＡＥ）中の１級水酸基周辺の流動性が不十分となり、１級水酸基と保護層上の活性点との相互作用に起因する吸着能が不足して、化学物質耐性試験およびピックアップ特性試験の評価が劣る結果になったものと推定される。

　また、表３に示すように、実施例１～２５の中でも、２級水酸基を含まない化合物（Ａ）～（Ｃ）、（Ｇ）～（Ｘ）、（ＸＸ）を用いて形成した潤滑層を有する実施例１～３、７～２５は、いずれも化学物質耐性試験の評価が◎（優）であり、非常に良好な結果であった。このことから、２級水酸基を全く含まない化合物を用いることにより、Ｒ^１およびＲ^６に２級水酸基が含まれる化合物を用いる場合と比較して、より一層、化学物質耐性の良好な潤滑層が得られることが確認できた。

　また、表３に示すように、実施例１、３は、いずれもピックアップ特性試験の評価が◎（優）であり、非常に良好な結果であった。これに対し、実施例２は、ピックアップ特性試験の評価が〇（良）であった。
　これは、実施例１、３では、Ｒ^１（＝Ｒ^６）に含まれる水酸基とＲ^２（＝Ｒ^５）に含まれる３級炭素との間に介在する炭素原子数が２以上である化合物（Ａ）、（Ｃ）を用いているのに対し、実施例２では、Ｒ^１（＝Ｒ^６）に含まれる水酸基とＲ^２（＝Ｒ^５）に含まれる３級炭素との間に介在する炭素原子数が１である化合物（Ｂ）を用いているためである。この差異により、化合物（Ａ）、（Ｃ）では、化合物（Ｂ）と比較して、Ｒ^１（＝Ｒ^６）に含まれる水酸基と、Ｒ^２（＝Ｒ^５）との距離がより適正とされている。その結果、化合物（Ａ）、（Ｃ）では、化合物（Ｂ）と比較して、Ｒ^１（＝Ｒ^６）に含まれる１級水酸基の運動が、Ｒ^２（＝Ｒ^５）の有する１級水酸基、およびＲ^２（＝Ｒ^５）に含まれる嵩高い３級炭素に阻害されにくいものと推定される。

　また、表３に示すように、実施例４、５は、いずれもピックアップ特性試験の評価が◎（優）であり、非常に良好な結果であった。これに対し、実施例６は、ピックアップ特性試験の評価が〇（良）であった。
　これは、実施例４、５では、Ｒ^１およびＲ^６が剛直な構造を含まない化合物（Ｄ）、（Ｅ）を用いているのに対し、実施例６では、Ｒ^１およびＲ^６が比較的剛直なフェニル基を含む化合物（Ｆ）を用いているためである。この差異により、化合物（Ｄ）、（Ｅ）では、化合物（Ｆ）と比較して、Ｒ^１（＝Ｒ^６）に含まれる水酸基の運動が阻害されにくく、Ｒ^１およびＲ^６中の水酸基が自由に運動できるためであると推定される。

　本発明は、優れた化学物質耐性を有しピックアップを抑制できる潤滑層を形成できる含フッ素エーテル化合物を提供する。
　本発明の含フッ素エーテル化合物を含む磁気記録媒体用潤滑剤を用いることにより、厚みが薄くても、化学物質耐性が良好で、ピックアップ抑制効果の高い潤滑層を形成できる。

　１０・・・磁気記録媒体、１１・・・基板、１２・・・付着層、１３・・・軟磁性層、１４・・・第１下地層、１５・・・第２下地層、１６・・・磁性層、１７・・・保護層、１８・・・潤滑層。

Claims

　下記式（１）で表されることを特徴とする、含フッ素エーテル化合物。
Ｒ^１－Ｒ^２－ＣＨ_２－Ｒ^３［－ＣＨ_２－Ｒ^４－ＣＨ_２－Ｒ^３］_ｘ－ＣＨ_２－Ｒ^５－Ｒ^６　　（１）
（式（１）中、Ｒ^１およびＲ^６はそれぞれ独立に、炭素原子数１～５０の有機基である；Ｒ^２は、下記式（２－１）または（２－２）で表される２価の連結基である；Ｒ^５は、下記式（２－３）または（２－４）で表される２価の連結基である；ｘは、０～２の整数を表す；Ｒ^３は、パーフルオロポリエーテル鎖である；ｘが１または２である場合、２つまたは３つのＲ^３は一部または全部が同じであってもよいし、それぞれ異なっていてもよい；Ｒ^４は、下記式（３－１）または（３－２）で表される２価の連結基である；ｘが２である場合、２つのＲ^４は同じであってもよいし、それぞれ異なっていてもよい。）

（式（２－１）中、ｎ１は２～４の整数を表す；式（２－１）中、炭素原子に結合している点線はＲ^１と結合している結合手を示し、酸素原子に結合している点線はメチレン基と結合している結合手を示す。）
（式（２－２）中、炭素原子に結合している点線はＲ^１と結合している結合手を示し、酸素原子に結合している点線はメチレン基と結合している結合手を示す。）
（式（２－３）中、ｎ２は２～４の整数を表す；式（２－３）中、炭素原子に結合している点線はＲ^６と結合している結合手を示し、酸素原子に結合している点線はメチレン基と結合している結合手を示す。）
（式（２－４）中、炭素原子に結合している点線はＲ^６と結合している結合手を示し、酸素原子に結合している点線はメチレン基と結合している結合手を示す。）
（式（３－１）中、ｎ３は２～４の整数を表す；ｙ１は１～３の整数を表す；ｙ２は１～３の整数を表す；ｙ１、ｙ２のうち少なくとも一方は１である；左側の酸素原子に結合している点線はＲ^１側のメチレン基と結合している結合手を示し、右側の酸素原子に結合している点線はＲ^６側のメチレン基と結合している結合手を示す。）
（式（３－２）中、ｙ３は１～３の整数を表す；ｙ４は１～３の整数を表す；ｙ３、ｙ４のうち少なくとも一方は１である；左側の酸素原子に結合している点線はＲ^１側のメチレン基と結合している結合手を示し、右側の酸素原子に結合している点線はＲ^６側のメチレン基と結合している結合手を示す。）
　前記式（１）におけるＲ^２が前記式（２－１）であり、Ｒ^５が前記式（２－３）であり、ｘ個のＲ^４が全て前記式（３－１）であり、前記式（３－１）におけるｙ１が１であり、かつｙ２が１である、請求項１に記載の含フッ素エーテル化合物。
　前記式（２－１）におけるｎ１、前記式（２－３）におけるｎ２、および前記式（３－１）におけるｎ３の値が全て同じである、請求項２に記載の含フッ素エーテル化合物。
　前記式（１）におけるＲ^２が前記式（２－２）であり、Ｒ^５が前記式（２－４）であり、ｘ個のＲ^４が全て前記式（３－２）であり、前記式（３－２）におけるｙ３が１であり、かつｙ４が１である、請求項１に記載の含フッ素エーテル化合物。
　前記式（１）におけるＲ^１およびＲ^６はそれぞれ独立に、極性基を有する有機基、炭素－炭素不飽和結合を有する有機基、極性基と炭素－炭素不飽和結合の両方を有する有機基のいずれかであり、
　前記極性基が、水酸基、アミノ基、カルボキシ基、ホルミル基、カルボニル基、スルホ基、シアノ基、およびアミド結合を有する基からなる群から選ばれる少なくとも１種であり、
　前記炭素－炭素不飽和結合が、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基、不飽和複素環基、アルケニル基、およびアルキニル基からなる群から選ばれる少なくとも１種である、請求項１に記載の含フッ素エーテル化合物。
　前記式（１）におけるＲ^１とＲ^６に含まれる極性基の合計数が１～４である、請求項１または請求項５に記載の含フッ素エーテル化合物。
　前記式（１）におけるＲ^１－Ｒ^２－とＲ^６－Ｒ^５－が同じである、請求項１または請求項５に記載の含フッ素エーテル化合物。
　前記式（１）における（ｘ＋１）個のＲ^３がそれぞれ独立に、下記式（４）で表されるパーフルオロポリエーテル鎖である、請求項１または請求項５に記載の含フッ素エーテル化合物。
　－（ＣＦ_２）_ｗ１－Ｏ－（ＣＦ_２Ｏ）_ｗ２－（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｗ３－（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｗ４－（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｗ５－（ＣＦ_２）_ｗ６－　　　（４）
（式（４）中、ｗ２、ｗ３、ｗ４、ｗ５は平均重合度を示し、それぞれ独立に０～２０を表す；ただし、ｗ２、ｗ３、ｗ４、ｗ５の全てが同時に０になることはない；ｗ１、ｗ６は、ＣＦ_２の数を表す平均値であり、それぞれ独立に１～３を表す；式（４）における繰り返し単位である（ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）の配列順序には、特に制限はない。）
　前記式（１）における（ｘ＋１）個のＲ^３がそれぞれ独立に、下記式（４－１）～（４－４）で表されるパーフルオロポリエーテル鎖から選ばれるいずれか１種である、請求項１または請求項５に記載の含フッ素エーテル化合物。
　－ＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｈ－（ＯＣＦ_２）_ｉ－ＯＣＦ_２－　　（４－１）
（式（４－１）中、ｈおよびｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。）
　－ＣＦ_２ＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｊ－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－　　（４－２）
（式（４－２）中、ｊは平均重合度を示し、１～１５を表す。）
　－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｋ－ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－　　（４－３）
（式（４－３）中、ｋは平均重合度を示し、１～１０を表す。）
　－（ＣＦ_２）_ｗ７－Ｏ－（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｗ８－（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｗ９－（ＣＦ_２）_ｗ１０－　　（４－４）
（式（４－４）中、ｗ８、ｗ９は平均重合度を示し、それぞれ独立に１～２０を表す；ｗ７、ｗ１０は、ＣＦ_２の数を表す平均値であり、それぞれ独立に１～２を表す。）
　数平均分子量が５００～１００００の範囲内である、請求項１または請求項５に記載の含フッ素エーテル化合物。
　請求項１または請求項５に記載の含フッ素エーテル化合物を含むことを特徴とする磁気記録媒体用潤滑剤。
　基板上に、少なくとも磁性層と、保護層と、潤滑層とが順次設けられた磁気記録媒体であって、
　前記潤滑層が、請求項１または請求項５に記載の含フッ素エーテル化合物を含むことを特徴とする磁気記録媒体。
　前記潤滑層の平均膜厚が、０．５ｎｍ～２．０ｎｍである、請求項１２に記載の磁気記録媒体。