WO2023210436A1 - 反射防止フィルム及びその製造方法、並びに画像表示装置 - Google Patents

反射防止フィルム及びその製造方法、並びに画像表示装置 Download PDF

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翔太 長命
翔 橋本
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    • C08J2367/02—Polyesters derived from dicarboxylic acids and dihydroxy compounds

Definitions

  • the present invention relates to an antireflection film, a method for manufacturing the same, and an image display device.
  • An antireflection film is placed on the viewing side of an image display device such as a liquid crystal display or an organic EL display for the purpose of preventing image quality deterioration due to reflection of external light and improving contrast.
  • An antireflection film includes an antireflection layer made of a laminate of a plurality of thin films having different refractive indexes on a transparent film base material.
  • an SiO primer layer is provided on a hard coat film, and a niobium oxide (Nb 2 O 5 ) layer as a high refractive index layer and a silicon oxide (SiO 2 O 5 ) layer as a low refractive index layer are provided on the hard coat film. ) layers are disclosed.
  • foldable image display device equipped with an organic EL panel using a foldable substrate (flexible substrate) such as a resin film
  • a cover window of a foldable display for example, an antireflection film in which an antireflection layer is provided on a flexible substrate is used.
  • Foldable displays are generally stored in a folded state. In the folded state, compressive stress is applied to the inside of the folded portion (bending portion), and tensile stress is applied to the outside of the bent portion.
  • the antireflection film When the display is folded with the display surface facing inside, the antireflection film is in a folded state (bent state) with the surface on which the antireflection layer is formed inside.
  • a display When a display is stored in a bent state at high temperatures or high temperatures and high humidity, fine cracks may occur in the antireflection layer, causing a decrease in the visibility of the display.
  • the present invention provides an anti-reflective film that does not easily crack in its anti-reflective layer and has excellent bending resistance even when stored in a bent state at high temperatures or high-temperature, high-humidity conditions, a method for producing the same, and the anti-reflective film.
  • the purpose is to provide an image display device using film.
  • the present invention includes the following aspects.
  • An antireflection film comprising a transparent film base material, a hard coat layer, and an antireflection layer in this order, When a heat resistance test is performed in which the temperature is maintained at 85°C for 48 hours, the dimensional change rate in the direction of any one side before and after the heat resistance test is -0.10% or more and 0.10% or less. An anti-reflective film.
  • An antireflection film comprising a transparent film base material, a hard coat layer, and an antireflection layer in this order, When a heat-and-moisture resistance test was conducted in an environment with a temperature of 60°C and a relative humidity of 95% for 48 hours, the dimensional change rate in any one side direction before and after the heat-and-moisture test was 0.01% or more. An anti-reflection film having an anti-reflection content of 20% or less.
  • An image display device comprising an image display panel and the antireflection film according to any one of [1] to [9], which is disposed on the viewing side of the image display panel.
  • an anti-reflective film which does not easily cause cracks in the anti-reflective layer and has excellent bending resistance even when stored in a bent state at high temperatures or high-temperature, high-humidity conditions, and a method for producing the anti-reflective film.
  • An image display device using the present invention can be provided.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of an antireflection film according to the present invention. It is a sectional view showing other examples of the antireflection film concerning the present invention.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of an image display device according to the present invention.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view showing a bent state of a test piece when evaluating the bending resistance of an antireflection film.
  • Refractive index is the refractive index for light with a wavelength of 550 nm in an atmosphere at a temperature of 23°C.
  • the "principal surface" of a layered material refers to a surface perpendicular to the thickness direction of the layered material.
  • the numerical value of the thickness (film thickness) of each layer constituting the anti-reflection film is determined by randomly selecting 10 measurement points from a cross-sectional image of the layer cut in the thickness direction, and measuring the thickness at the 10 selected measurement points. This is the arithmetic mean value of 10 measured values.
  • the direction of any one side means a direction parallel to any one of the four sides of a rectangular or square anti-reflection film.
  • the direction of any one side of the antireflection film may be referred to as a "first direction.”
  • a direction perpendicular to the first direction (specifically, a direction parallel to the side perpendicular to the first direction among the four sides) may be referred to as a "second direction.”
  • the first direction is, for example, the transport direction of the film (hereinafter sometimes referred to as "MD direction”) when forming the antireflection layer by the roll-to-roll sputtering method described later.
  • the second direction is, for example, a direction (hereinafter sometimes referred to as "TD direction”) orthogonal to the transport direction of the film when forming the antireflection layer by the roll-to-roll sputtering method described below.
  • the compound and its derivatives may be collectively referred to by adding "system” after the compound name.
  • a polymer name when expressed by adding "system” after the compound name, it means that the repeating unit of the polymer is derived from the compound or its derivative.
  • the components, functional groups, etc. illustrated in this specification may be used alone, or two or more types may be used in combination, unless otherwise specified.
  • antireflection film ARF1 and antireflection film ARF2 will be described as specific examples of the antireflection film according to the first embodiment of the present invention.
  • the antireflection film ARF1 and the antireflection film ARF2 are both antireflection films (laminates) having a transparent film base material, a hard coat layer, and an antireflection layer in this order.
  • the anti-reflection film ARF1 was subjected to a heat resistance test held for 48 hours in an environment with a temperature of 85°C, the dimensional change rate in the first direction before and after the heat resistance test was -0.10% or more and 0.10% or less. It is.
  • the dimensional change rate in the first direction before and after the heat-and-moisture test was 0.01% or more. .20% or less.
  • the antireflection film ARF1 is suppressed from shrinking in the first direction at high temperatures, the antireflection layer is unlikely to crack even if stored in a bent state at high temperatures, and has excellent bending resistance.
  • the anti-reflection film ARF2 is suppressed from shrinking in the first direction under high temperature and high humidity conditions, the anti-reflection layer is unlikely to crack even when stored in a bent state under high temperature and high humidity conditions, and has excellent bending resistance. .
  • each of the antireflection film ARF1 and the antireflection film ARF2 will be referred to as "antireflection film ARF" unless it is necessary to distinguish between them.
  • the property that the antireflection layer is difficult to crack even when stored in a bent state at high temperatures is sometimes simply referred to as "bending resistance at high temperatures.”
  • the property that the antireflection layer is difficult to crack even when stored in a bent state under high temperature and high humidity is sometimes simply referred to as "bending resistance under high temperature and high humidity.”
  • a high temperature environment or a high temperature, high humidity environment may be referred to as a "harsh environment”.
  • the property that the antireflection layer is difficult to crack even when stored in a bent state in a harsh environment is sometimes simply referred to as "bending resistance under a harsh environment.”
  • a heat resistance test in which an antireflection film is held for 48 hours in an environment at a temperature of 85° C. may be simply referred to as a “heat resistance test.”
  • a heat-and-moisture resistance test in which an antireflection film is held for 48 hours in an environment with a temperature of 60° C.
  • a heat-and-moisture resistance test may be simply referred to as a "heat-and-moisture resistance test.”
  • a heat resistance test or a heat and humidity resistance test may be referred to as a "severe environment test.”
  • the "severe environment test” is a test for antireflection films.
  • the relative humidity of the atmosphere in the heat resistance test is, for example, 1% or less, and may be 0.5% or less or 0.1% or less.
  • the dimensional change rate in the first direction or the second direction is ⁇ 0%, it means that the length in the first direction or the second direction becomes smaller due to the severe environment test.
  • the dimensional change rate in the first direction or the second direction is >0%, it means that the length in the first direction or the second direction increases due to the severe environment test.
  • the method for measuring the dimensional change rate is the same method as in the examples described later or a method similar thereto.
  • the dimensional change rate in the second direction before and after the heat resistance test is preferably -0.10% or more and 0.10% or less.
  • the dimensional change rate in the first direction and the second direction before and after the heat resistance test is -0.09% or more. , more preferably -0.08% or more, and may be -0.07% or more, -0.06% or more, or -0.05% or more.
  • the dimensional change rate in the first direction and the second direction before and after the heat resistance test must be 0.09% or less. It is preferably 0.05% or less, more preferably 0.04% or less, 0.03% or less, 0.02% or less, or 0.01% or less.
  • At least one of the dimensional change rates in the first direction and the second direction before and after the heat resistance test is 0.00% or more and 0.10% or less. It is preferably 0.00% or more and 0.04% or less, even more preferably 0.00% or more and 0.03% or less, and 0.00% or more and 0.02% or less. It is even more preferable that it is, and it is especially preferable that it is 0.00% or more and 0.01% or less.
  • the dimensional change rate in the first direction before and after the heat resistance test must be 0.00% or more and 0.10% or less, and the It is preferable that the dimensional change rate in the second direction is -0.07% or more and 0.00% or less, and the dimensional change rate in the first direction before and after the heat resistance test is 0.00% or more and 0.04% or less. It is more preferable that the dimensional change rate in the second direction before and after the heat resistance test is -0.07% or more and 0.00% or less, and the dimensional change rate in the first direction before and after the heat resistance test is 0.00%.
  • the dimensional change rate in the second direction before and after the heat resistance test is -0.06% or more and 0.00% or less
  • the dimensional change rate in the first direction before and after the heat resistance test is It is even more preferable that the dimensional change rate is 0.00% or more and 0.02% or less, and the dimensional change rate in the second direction before and after the heat resistance test is -0.05% or more and 0.00% or less.
  • the dimensional change rate in the first direction before and after the heat resistance test is 0.00% or more and 0.01% or less
  • the dimensional change rate in the second direction before and after the heat resistance test is -0.05% or more and 0.00 % or less is particularly preferable.
  • an antireflection film should be used. It is preferable to store the ARF 1 in a state bent in the first direction.
  • the dimensional change rate in the second direction before and after the heat and humidity resistance test is preferably 0.01% or more and 0.20% or less.
  • the dimensional change rate in the first direction and the second direction before and after the heat and humidity resistance test must both be 0.02% or more.
  • it is 0.03% or more, more preferably 0.04% or more, 0.05% or more, 0.06% or more, 0.07% or more, 0.08% or more, or 0.09% or more.
  • the dimensional change rate in the first direction and the second direction before and after the heat and humidity resistance test must both be 0.15% or less.
  • the dimensional change rate in the first direction and the second direction before and after the heat and humidity resistance test must be 0.05% or more and 0.13%. % or less, more preferably 0.06% or more and 0.13% or less, even more preferably 0.07% or more and 0.13% or less, and 0.08% or more and 0.13%. % or less, and particularly preferably 0.09% or more and 0.13% or less.
  • the dimensional change rate in the first direction before and after the heat and humidity test must be 0.05% to 0.11%, and the film must be resistant to heat and humidity. It is preferable that the dimensional change rate in the second direction before and after the test is 0.10% or more and 0.13% or less, and the dimensional change rate in the first direction before and after the moist heat resistance test is 0.06% or more and 0.11% or less.
  • the dimensional change rate in the second direction before and after the heat-and-moisture test is 0.11% or more and 0.13% or less, and the dimensional change rate in the first direction before and after the heat-and-moisture test is 0.07 % or more and 0.11% or less, and it is more preferable that the dimensional change rate in the second direction before and after the heat-and-moisture test is 0.11% or more and less than 0.13%, and the dimensional change rate in the first direction before and after the heat-and-moisture test is more preferably It is even more preferable that the dimensional change rate is 0.08% or more and 0.11% or less, and the dimensional change rate in the second direction before and after the moisture and heat resistance test is 0.11% or more and 0.13% or less.
  • the dimensional change rate in the first direction before and after the thermal test is 0.09% or more and 0.11% or less
  • the dimensional change rate in the second direction before and after the moist heat resistance test is 0.12% or more and 0.13% or less. It is particularly preferable that there be. If the dimensional change rates in the first and second directions before and after the heat-and-moisture test are within the above ranges, it is necessary to It is preferable to store the prevention film ARF2 in a state bent in the first direction.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of an antireflection film ARF.
  • the antireflection film 10 shown in FIG. 1 has a transparent film base material 11, a hard coat layer 12, and an antireflection layer 13 in this order.
  • the dimensional change rate of the antireflection film 10 in the first direction before and after the heat resistance test is ⁇ 0.10% or more and 0.10% or less.
  • the dimensional change rate of the antireflection film 10 in the first direction before and after the heat and humidity resistance test is 0.01% or more and 0.20% or less.
  • the antireflection film 10 also includes a primer layer 18 disposed between the hard coat layer 12 and the antireflection layer 13, and an antifouling layer disposed on the opposite side of the antireflection layer 13 from the hard coat layer 12 side. 19. That is, the antireflection film 10 has a transparent film base material 11, a hard coat layer 12, a primer layer 18, an antireflection layer 13, and an antifouling layer 19 in this order.
  • the antireflection layer 13 has four layers in this order: a high refractive index layer 14, a low refractive index layer 15, a high refractive index layer 16, and a low refractive index layer 17 from the hard coat layer 12 side (primer layer 18 side). Details of the high refractive index layer and the low refractive index layer will be described later.
  • the antireflection layer of the antireflection film ARF is not limited to a four-layer structure like the antireflection layer 13, but may have a two-layer structure, a three-layer structure, a five-layer structure, or a laminated structure of six or more layers. good.
  • the antireflection layer of the antireflection film ARF is preferably an alternate laminate of two or more high refractive index layers and two or more low refractive index layers.
  • the outermost layer (the layer farthest from the hard coat layer 12) of the antireflection layer of the antireflection film ARF is preferably a low refractive index layer.
  • the antireflection film ARF may have a layer structure different from that of the antireflection film 10 shown in FIG.
  • the antireflection film ARF may be an antireflection film 20 that further includes an adhesive layer 21 disposed on the side opposite to the hard coat layer 12 side of the transparent film base material 11. good.
  • the adhesive constituting the adhesive layer 21 is not particularly limited, and includes, for example, acrylic polymer, silicone polymer, polyester, polyurethane, polyamide, polyvinyl ether, vinyl acetate-vinyl chloride copolymer, modified polyolefin, and epoxy resin. , a transparent adhesive having a base polymer such as fluororesin, natural rubber, or synthetic rubber can be appropriately selected and used.
  • the thickness of the adhesive layer 21 is not particularly limited, but from the viewpoint of achieving both thin layer property and adhesive property, it is preferably 5 ⁇ m or more and 100 ⁇ m or less.
  • a release liner may be temporarily attached to the main surface of the adhesive layer 21 on the side opposite to the transparent film base material 11 side.
  • the release liner protects the surface of the adhesive layer 21, for example, until the antireflection film 20 is bonded to an image display panel 101 (see FIG. 3), which will be described later.
  • a plastic film made of acrylic, polyolefin, cyclic polyolefin, polyester, etc. is suitably used as the constituent material of the release liner.
  • the thickness of the release liner is, for example, 5 ⁇ m or more and 200 ⁇ m or less.
  • the surface of the release liner is preferably subjected to a release treatment.
  • Materials for the mold release agent used in the mold release treatment include silicone materials, fluorine materials, long chain alkyl materials, fatty acid amide materials, and the like.
  • the anti-reflection film according to the present invention is not limited to the above-described structure.
  • the antireflection film according to the present invention has a dimensional change rate in the first direction before and after the heat resistance test of -0.10% or more and 0.10% or less, and a dimensional change in the first direction before and after the heat and humidity resistance test.
  • the ratio may be 0.01% or more and 0.20% or less.
  • an antireflection film can be obtained that has excellent bending resistance under high temperature conditions and also has excellent bending resistance under high temperature and high humidity conditions.
  • the antireflection film according to the present invention may be an antireflection film that does not include a primer layer and an antifouling layer. Further, the antireflection film according to the present invention may include an optical functional layer different from the layers included in the above-mentioned structure (transparent film base material, hard coat layer, primer layer, antireflection layer, and antifouling layer). good.
  • antireflection film More specifically, antireflection film ARF
  • antireflection film ARF antireflection film ARF
  • the transparent film base material is, for example, a flexible transparent resin film.
  • materials constituting the transparent film base material include polyester resin, polyolefin resin, polystyrene resin, acrylic resin, polycarbonate resin, polyethersulfone resin, polysulfone resin, polyamide resin, polyimide resin, cellulose resin, norbornene resin, and polyarylate. resin, and polyvinyl alcohol resin.
  • polyester resin include polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate.
  • polyolefin resins include polyethylene, polypropylene, and cycloolefin polymer (COP).
  • the cellulose resin examples include triacetyl cellulose (TAC). These materials may be used alone or in combination of two or more.
  • the material for the transparent film base material is preferably one selected from the group consisting of polyester resin, polyolefin resin, and cellulose resin, and selected from the group consisting of PET, COP, and TAC. One type is more preferable, and PET is even more preferable. That is, the transparent film base material is preferably a type of film selected from the group consisting of polyester resin film, polyolefin resin film, and cellulose resin film, and preferably selected from the group consisting of PET film, COP film, and TAC film. One type of film is more preferred, and a PET film is even more preferred.
  • the thickness of the transparent film base material is preferably 5 ⁇ m or more, more preferably 10 ⁇ m or more, and still more preferably 20 ⁇ m or more.
  • the thickness of the transparent film base material is preferably 300 ⁇ m or less, more preferably 200 ⁇ m or less from the viewpoint of handleability.
  • One or both main surfaces of the transparent film base material may be subjected to surface modification treatment.
  • surface modification treatments include corona treatment, plasma treatment, ozone treatment, primer treatment, glow treatment, and coupling agent treatment.
  • the total light transmittance (JIS K 7375-2008) of the transparent film base material is preferably 80% or more, more preferably 90% or more, and still more preferably 95% or more. % or less.
  • the hard coat layer is a layer that increases mechanical properties such as hardness and elastic modulus of the antireflection film.
  • the hard coat layer is made of, for example, a cured product of a curable resin composition (composition for forming a hard coat layer).
  • a curable resin composition composition for forming a hard coat layer.
  • the curable resin contained in the curable resin composition include polyester resin, acrylic resin, urethane resin, acrylic urethane resin, amide resin, silicone resin, epoxy resin, and melamine resin. These curable resins may be used alone or in combination of two or more. From the viewpoint of increasing the hardness of the hard coat layer, the curable resin is preferably one or more selected from the group consisting of acrylic resins and acrylic urethane resins, and acrylic resins are more preferred.
  • examples of the curable resin composition include an ultraviolet curable resin composition and a thermosetting resin composition. From the viewpoint of improving productivity of the antireflection film, the curable resin composition is preferably an ultraviolet curable resin composition.
  • the ultraviolet curable resin composition contains one or more types selected from the group consisting of ultraviolet curable monomers, ultraviolet curable oligomers, and ultraviolet curable polymers. Specific examples of ultraviolet curable resin compositions include the hard coat layer forming composition described in JP-A No. 2016-179686.
  • the curable resin composition may contain fine particles.
  • fine particles include metal oxide particles, glass particles, and organic particles.
  • materials for the metal oxide particles include silica, alumina, titania, zirconia, calcium oxide, tin oxide, indium oxide, cadmium oxide, and antimony oxide.
  • materials for the organic particles include polymethyl methacrylate, polystyrene, polyurethane, acrylic-styrene copolymer, benzoguanamine, melamine, and polycarbonate.
  • the thickness of the hard coat layer is preferably 1 ⁇ m or more, more preferably 2 ⁇ m or more. From the viewpoint of ensuring flexibility of the antireflection film, the thickness of the hard coat layer is preferably 50 ⁇ m or less, more preferably 40 ⁇ m or less, still more preferably 35 ⁇ m or less, and even more preferably 30 ⁇ m or less.
  • the main surface of the hard coat layer opposite to the transparent film substrate side may be subjected to surface modification treatment.
  • surface modification treatments include plasma treatment, corona treatment, ozone treatment, primer treatment, glow treatment, and coupling agent treatment.
  • plasma treatment corona treatment
  • ozone treatment primer treatment
  • glow treatment glow treatment
  • coupling agent treatment coupling agent treatment.
  • the main surface on the opposite side is preferably plasma-treated.
  • Primer layer In order to improve the adhesion between the hard coat layer and the antireflection layer, it is preferable to provide a primer layer between the hard coat layer and the antireflection layer.
  • Materials for the primer layer include metals (or metalloids) such as silicon, nickel, chromium, tin, gold, silver, platinum, zinc, titanium, indium, tungsten, aluminum, zirconium, and palladium; ); oxides, fluorides, sulfides, nitrides, etc. of these metals (or semimetals).
  • the oxide constituting the primer layer may be a composite oxide such as indium tin oxide (ITO).
  • ITO indium tin oxide
  • inorganic oxides are preferred, and silicon oxide, indium oxide, or ITO are particularly preferred.
  • the thickness of the primer layer is preferably 0.5 nm or more and 20 nm or less, and 0.5 nm or more. It is more preferably 10 nm or less, and even more preferably 1.0 nm or more and 10 nm or less.
  • the antireflection layer is composed of two or more thin films having different refractive indexes. Generally, the optical thickness (product of refractive index and thickness) of the thin film of the antireflection layer is adjusted so that the reversed phases of incident light and reflected light cancel each other out.
  • the antireflection layer a multilayer laminate of two or more thin films with different refractive indexes, the reflectance can be reduced in a wide wavelength range of visible light.
  • the antireflection layer examples include metal (or metalloid) oxides, nitrides, and fluorides.
  • the antireflection layer is preferably an alternating laminate of high refractive index layers and low refractive index layers.
  • the high refractive index layer has a refractive index of, for example, 1.9 or more, preferably 2.0 or more.
  • the material for the high refractive index layer include titanium oxide, niobium oxide, zirconium oxide, tantalum oxide, zinc oxide, indium oxide, ITO, and antimony-doped tin oxide (ATO). Among these, one or more selected from the group consisting of titanium oxide and niobium oxide are preferred.
  • the low refractive index layer has a refractive index of, for example, 1.6 or less, preferably 1.5 or less.
  • Examples of the material for the low refractive index layer include silicon oxide, titanium nitride, magnesium fluoride, barium fluoride, calcium fluoride, hafnium fluoride, and lanthanum fluoride. Among them, silicon oxide is preferred. In particular, it is preferable to alternately laminate niobium oxide (Nb 2 O 5 ) thin films as high refractive index layers and silicon oxide (SiO 2 ) thin films as low refractive index layers. In addition to the low refractive index layer and the high refractive index layer, a medium refractive index layer having a refractive index of more than 1.6 and less than 1.9 may be provided.
  • the film thickness of the high refractive index layer and the low refractive index layer is preferably 5 nm or more and 200 nm or less, and more preferably 10 nm or more and 150 nm or less.
  • the film thickness of each layer may be designed in accordance with the refractive index, laminated structure, etc. so that the reflectance of visible light is small.
  • a laminated structure of a high refractive index layer and a low refractive index layer includes, from the hard coat layer side, a high refractive index layer with an optical thickness of 20 nm or more and 55 nm or less, a low refractive index layer with an optical thickness of 35 nm or more and 55 nm or less, and an optical A four-layer structure consisting of a high refractive index layer with a film thickness of 80 nm or more and 250 nm or less, and a low refractive index layer with an optical film thickness of 100 nm or more and 150 nm or less is exemplified.
  • the antireflection layer is a four-layer alternating laminate in which niobium oxide (Nb 2 O 5 ) thin films as high refractive index layers and silicon oxide (SiO 2 ) thin films as low refractive index layers are alternately laminated.
  • the structure of the antireflection layer includes, from the hard coat layer side, a niobium oxide thin film with a thickness of 5 nm or more and 20 nm or less, a silicon oxide thin film with a thickness of 20 nm or more and 40 nm or less, a niobium oxide thin film with a thickness of 65 nm or more and 120 nm or less, and a niobium oxide thin film with a thickness of 60 nm or more.
  • An example is a structure in which silicon oxide thin films with a thickness of 100 nm or less are provided in this order.
  • the thickness of the antireflection layer is preferably 150 nm or more and 280 nm or less, more preferably 180 nm or more and 280 nm or less, and 190 nm or more and 260 nm or less. It is more preferably 200 nm or more and 250 nm or less.
  • the thickness of an antireflection layer is the sum total (total thickness) of the thickness of each layer which comprises an antireflection layer.
  • the antireflection film preferably includes an antifouling layer on the side opposite to the hard coat layer side of the antireflection layer, and more preferably includes the antifouling layer as the outermost layer of the antireflection film.
  • the antifouling layer for example, the influence of contamination from the external environment (fingerprints, hand marks, dust, etc.) can be reduced, and contaminants attached to the surface of the antireflection film can be easily removed.
  • the antifouling layer has a small refractive index difference with the outermost layer (for example, a low refractive index layer) of the antireflection layer.
  • the refractive index of the antifouling layer is preferably 1.6 or less, more preferably 1.55 or less.
  • fluorine-containing compounds are preferred as the material for the antifouling layer.
  • the fluorine-containing compound has excellent antifouling properties and can contribute to lowering the refractive index.
  • alkoxysilane compounds containing a perfluoropolyether skeleton are preferred because they have excellent water repellency and can exhibit high antifouling properties.
  • alkoxysilane compound containing a perfluoropolyether skeleton include alkoxysilane compounds having a plurality of linear or branched perfluoroalkylene oxide units having 1 to 4 carbon atoms.
  • linear or branched perfluoroalkylene oxide units having 1 to 4 carbon atoms examples include perfluoromethylene oxide units (-CF 2 O-) and perfluoroethylene oxide units (-CF 2 CF 2 O-), perfluoropropylene oxide unit (-CF 2 CF 2 CF 2 O-), perfluoroisopropylene oxide unit (-CF(CF 3 )CF 2 O-), and the like.
  • the thickness of the antifouling layer is, for example, 2 nm or more and 50 nm or less. The greater the thickness of the antifouling layer, the more the antifouling property tends to improve.
  • the thickness of the antifouling layer is preferably 5 nm or more, more preferably 7 nm or more, and even more preferably 8 nm or more.
  • the thickness of the antifouling layer is preferably 30 nm or less, more preferably 20 nm or less.
  • the antireflection film according to the first embodiment preferably satisfies the following condition 1, more preferably satisfies the following condition 2, and satisfies the following condition. It is more preferable that condition 3 is satisfied, and even more preferable that condition 4 below is satisfied.
  • Condition 1 At least one of the dimensional change rates in the first direction and the second direction before and after the heat resistance test is 0.00% or more and 0.04% or less.
  • Condition 2 Condition 1 above is satisfied, and the thickness of the antireflection layer is 150 nm or more and 280 nm or less.
  • Condition 3 The dimensional change rate in the first direction before and after the heat resistance test is 0.00% or more and 0.04% or less, and the dimensional change rate in the second direction before and after the heat resistance test is -0.07% or more and 0. .00% or less.
  • Condition 4 Condition 3 above is satisfied, and the thickness of the antireflection layer is 150 nm or more and 280 nm or less.
  • the antireflection film according to the first embodiment preferably satisfies the following condition i, and more preferably satisfies the following condition ii. It is preferable that the following condition iii is satisfied, and it is even more preferable that the following condition iv is satisfied.
  • Condition i The dimensional change rates in the first direction and the second direction before and after the heat and humidity resistance test are both 0.05% or more and 0.13% or less.
  • Condition ii The above condition i is satisfied, and the thickness of the antireflection layer is 150 nm or more and 280 nm or less.
  • Condition iii The dimensional change rate in the first direction before and after the heat-and-moisture test is 0.05% to 0.11%, and the dimensional change rate in the second direction before and after the heat-and-moisture test is 0.10% to 0. It is 13% or less.
  • Condition iv Condition iii above is satisfied, and the thickness of the antireflection layer is 150 nm or more and 280 nm or less.
  • the antireflection film according to the first embodiment must satisfy the above conditions 1 and i. It is preferable that conditions 2 and ii are satisfied, it is more preferable that conditions 3 and iii are satisfied, and it is even more preferable that conditions 4 and iv are satisfied.
  • the image display device includes an image display panel and the antireflection film according to the first embodiment, which is disposed on the viewing side of the image display panel.
  • the image display device includes an image display panel and the antireflection film according to the first embodiment, which is disposed on the viewing side of the image display panel.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view showing an example of an image display device according to the second embodiment.
  • the image display device 100 shown in FIG. 3 includes an image display panel 101 and a reflective film, which is an example of an antireflection film according to the first embodiment, disposed on the viewing side (upper side in FIG. 3) of the image display panel 101.
  • a prevention film 10 is provided.
  • the transparent film base material 11 of the antireflection film 10 and the image display panel 101 are bonded together with an adhesive layer 21 interposed therebetween.
  • Examples of the image display panel 101 include image display panels including image display cells such as liquid crystal cells and organic EL cells.
  • the image display device according to the second embodiment has an antireflection film disposed on the viewing side of the image display panel, so reflection of external light is reduced and visibility is excellent. Furthermore, since the image display device according to the second embodiment includes the antireflection film according to the first embodiment (an antireflection film with excellent bending resistance under harsh environments), the image display device can be bent with the antireflection layer forming side facing inside. Even when stored in a bent state, the anti-reflection layer is unlikely to crack at the bends. Therefore, the image display device according to the second embodiment can also be used as a foldable display, for example.
  • the bending point of the foldable display is a bending point where the antireflection film can be bent in the first direction.
  • the method for manufacturing the antireflection film according to the third embodiment is a preferred method for manufacturing the antireflection film according to the first embodiment.
  • descriptions of contents that overlap with those of the first embodiment will be omitted.
  • the method for manufacturing an antireflection film according to the third embodiment includes a step Sa of forming an antireflection layer on the side opposite to the transparent film substrate side of the hard coat layer using a roll-to-roll sputtering film forming apparatus; After the step Sa, a step Sb is provided in which the laminate on which the antireflection layer is formed is heated. Since the method for manufacturing the antireflection film according to the third embodiment includes the step Sa and the step Sb, the antireflection film according to the first embodiment can be easily manufactured.
  • step Sa will be referred to as "antireflection layer forming step.”
  • step Sb will be referred to as "antireflection layer heating step.”
  • the method for manufacturing an antireflection film according to the third embodiment may include steps (other steps) other than the antireflection layer forming step and the antireflection layer heating step.
  • Other steps include, for example, a hard coat layer forming step, a hard coat layer surface treatment step, a hard coat layer heating step, a primer layer forming step, and an antifouling layer forming step, which will be described later.
  • the hard coat layer forming step is a step of forming a hard coat layer on the transparent film base material.
  • a hard coat layer is formed by applying a curable resin composition (composition for forming a hard coat layer) onto a transparent film base material, and removing the solvent and curing the resin as necessary.
  • the composition for forming a hard coat layer contains, for example, the above-mentioned curable resin and a polymerization initiator (for example, a photopolymerization initiator), and optionally a solvent capable of dissolving or dispersing these components.
  • the composition for forming a hard coat layer contains fine particles, a leveling agent, a viscosity modifier (thixotropic agent, thickener, etc.), an antistatic agent, an antiblocking agent, a dispersant, a dispersion stabilizer, and an antioxidant. It may also contain additives such as UV absorbers, antifoaming agents, surfactants, and lubricants.
  • the hard coat layer forming composition can be applied by any suitable method such as bar coating, roll coating, gravure coating, rod coating, slot orifice coating, curtain coating, fountain coating, comma coating, etc. method can be adopted.
  • the drying temperature of the coating film after application may be set to an appropriate temperature depending on the composition of the composition for forming a hard coat layer, and is, for example, 50° C. or higher and 150° C. or lower.
  • the resin component in the composition for forming a hard coat layer is a thermosetting resin
  • the coating film is cured by heating.
  • the resin component in the composition for forming a hard coat layer is a photocurable resin
  • the coating film is cured by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays.
  • the cumulative amount of irradiation light is preferably 100 mJ/cm 2 or more and 500 mJ/cm 2 or less.
  • the main surface of the hard coat layer opposite to the transparent film substrate side is subjected to a surface modification treatment.
  • surface modification treatments include plasma treatment, corona treatment, ozone treatment, primer treatment, glow treatment, and coupling agent treatment.
  • plasma treatment for example, argon gas is used as the inert gas.
  • the discharge power in the plasma treatment is, for example, 10 W or more and 10,000 W or less.
  • the hard coat layer heating step is performed to heat a laminate including a hard coat layer (for example, a transparent film base material and a hard coat layer) before forming other layers (for example, a primer layer, an antireflection layer, etc.) on the hard coat layer.
  • This is a step of heating a film-like laminate (having a film-like laminate).
  • a roll-to-roll type sputtering film forming apparatus is used in the anti-reflection layer forming process, so from the viewpoint of increasing productivity, the above-mentioned laminate is transported in a roll-to-roll type in the hard coat layer heating process. It is preferable to heat the mixture while heating.
  • the heating device for heating include a hot air oven, an infrared heater, and the like.
  • the heating temperature of the laminate in the hard coat layer heating step is, for example, 100°C or more and 200°C or less.
  • the heating time of the laminate in the hard coat layer heating step is, for example, 30 seconds or more and 30 minutes or less.
  • the hard coat layer heating step may be performed before or after the hard coat layer surface treatment step.
  • the primer layer forming step is a step of forming (filming) a primer layer on the hard coat layer.
  • the method for forming the primer layer is not particularly limited, and may be either a wet coating method or a dry coating method.
  • a dry coating method such as a vacuum evaporation method, a CVD method, or a sputtering method is preferable because a thin film with a uniform thickness can be formed.
  • the roll-to-roll type sputtering film forming method is used as the method for forming the primer layer.
  • a method of forming a film using a film forming apparatus is preferable.
  • a long film for example, a transparent film base material on which a hard coat layer is formed
  • a primer layer and an antireflection layer are continuously applied.
  • film formation is performed while introducing an inert gas such as argon and, if necessary, a reactive gas such as oxygen into a film forming chamber.
  • an oxide layer can be formed by sputtering by either a method using an oxide target or a reactive sputtering method using a metal (or semimetal) target.
  • Examples of power sources for carrying out the sputtering method include DC power sources, AC power sources, RF power sources, and MFAC power sources (AC power sources with a frequency band of several kHz to several MHz).
  • the discharge power in the sputtering method is, for example, 1 kW or more and 100 kW or less, preferably 1 kW or more and 50 kW or less.
  • the surface temperature of the film forming roll when performing the sputtering method is, for example, -25°C or more and 25°C or less, preferably -20°C or more and 0°C or less.
  • the pressure in the film forming chamber when performing the sputtering method is preferably 0.01 Pa or more and 10 Pa or less, more preferably 0.05 Pa or more and 5 Pa or less, and still more preferably 0.1 Pa or more and 1 Pa or less.
  • an anti-reflection layer is formed on the side of the hard coat layer opposite to the transparent film substrate side (for example, on the surface of the hard coat layer or the surface of the primer layer) using a roll-to-roll sputtering film forming apparatus. do. That is, in the third embodiment, each layer of the antireflection layer is formed by a roll-to-roll sputtering method.
  • the film forming conditions can be appropriately set, for example, among the conditions described in the above-mentioned [primer layer forming step].
  • the inventors' studies have revealed that when each layer of the antireflection layer is formed by a roll-to-roll sputtering method, the antireflection film tends to shrink in harsh environments. In particular, when a stretched film such as a PET film is used as the transparent film base material, the shrinkage of the antireflection film becomes noticeable.
  • a laminate forming an antireflection layer for example, a film-like laminate having at least a transparent film base material and a hard coat layer
  • tension is applied to the laminate in the transport direction. It is presumed that this causes residual stress to occur in the laminate, making the antireflection film more likely to shrink in harsh environments.
  • the antifouling layer forming step is a step of forming an antifouling layer on the opposite side of the antireflection layer from the hard coat layer side.
  • a fluorine-containing compound is used as a material and the antifouling layer is formed by a dry coating method.
  • the dry coating method include vacuum evaporation, sputtering, and CVD, with vacuum evaporation being preferred.
  • the antireflection layer heating step is a step of heating a laminate on which an antireflection layer is formed (hereinafter sometimes referred to as a "film with an antireflection layer").
  • a film with an antireflection layer By heating the film with an antireflection layer, for example, at least a portion of the residual stress of the film with an antireflection layer is removed, and shrinkage of the antireflection film in a harsh environment is suppressed. As a result, an antireflection film with excellent bending resistance under harsh environments can be obtained.
  • the antireflection layer heating process may be implemented before or after the antifouling layer forming process.
  • the antireflection layer heating step is preferably carried out after the antifouling layer forming step in order to obtain an antireflection film with better bending resistance under harsh environments.
  • the anti-reflection layer-coated film is coated with a roll-to-roll type in the anti-reflection layer heating process. It is preferable to heat the material while conveying it.
  • the heating device for heating include a hot air oven, an infrared heater, and the like.
  • the heating temperature of the film with an antireflection layer in the antireflection layer heating step is preferably 110°C or higher, and preferably 115°C or higher.
  • the temperature is more preferably 120°C or higher, and may be 130°C or higher, 140°C or higher, 150°C or higher, 160°C or higher, 170°C or higher, or 180°C or higher.
  • the heating time of the film with an antireflection layer in the antireflection layer heating step is preferably 30 seconds or more, and preferably 1 minute or more. It is more preferable that the heating time is 2 minutes or more, even more preferably 2 minutes or more, and may be 5 minutes or more, 10 minutes or more, or 15 minutes or more.
  • the heating temperature of the antireflection layer-equipped film in the antireflection layer heating step is preferably 200°C or lower, more preferably 190°C or lower.
  • the heating time of the antireflection layer-coated film in the antireflection layer heating step is preferably 30 minutes or less, more preferably 20 minutes or less. .
  • the dimensional change rates in the first and second directions before and after the heat resistance test, and the dimensional change rates in the first and second directions before and after the moist heat resistance test are both based on the heating conditions in the antireflection layer heating step (see details below). can be adjusted by changing the heating temperature, heating time, etc.).
  • methyl isobutyl ketone was added to the obtained mixed solution to obtain a composition for forming a hard coat layer having a solid content concentration of 40% by weight.
  • the above composition for forming a hard coat layer was applied to one main surface of a PET film ("50U48" manufactured by Toray Industries, Inc., thickness: 50 ⁇ m) as a transparent film base material to form a coating film.
  • this coating film was dried by heating at a temperature of 80° C. for 60 seconds, and then cured by ultraviolet irradiation.
  • a high-pressure mercury lamp was used as a light source, ultraviolet rays with a wavelength of 365 nm were used, and the cumulative amount of light was 300 mJ/cm 2 . Thereby, a hard coat layer with a thickness of 3 ⁇ m was formed on the PET film.
  • the optical film F1 was heated at a temperature of 140° C. for 2 minutes using a hot air oven while being transported by a roll-to-roll transport device.
  • the heated optical film F1 was introduced into a roll-to-roll type sputtering film forming apparatus, and the pressure inside the film forming chamber was reduced to 1 ⁇ 10 ⁇ 4 Pa.
  • argon gas and oxygen gas are introduced at a volume ratio of 100:10, the surface temperature of the film forming roll is set to -8°C, and a film is formed on the hard coat layer to a thickness of 1 by sputtering.
  • a .5 nm ITO layer (primer layer) was formed.
  • an ITO target containing indium oxide and tin oxide at a weight ratio of 90:10 was used as a target material.
  • the power source was an MFAC power source
  • the discharge power was 2.5 kW
  • the pressure inside the film forming chamber was 0.2 Pa.
  • a first layer of Nb with a thickness of 12 nm is deposited on the primer layer by sputtering while transporting the optical film F1 after the primer layer has been formed using a roll-to-roll sputtering film forming apparatus.
  • 2 O 5 layer reffractive index: 2.33
  • 2nd layer 28 nm thick SiO 2 layer (refractive index: 1.46)
  • 3rd layer 100 nm thick Nb 2 O 5 layer
  • 4th layer Two SiO 2 layers with a thickness of 85 nm were deposited in this order.
  • an antireflection layer having a four-layer structure (a four-layer structure consisting of a first layer, a second layer, a third layer, and a fourth layer) was formed on the primer layer.
  • the surface temperature of the film forming roll was -8° C.
  • the MFAC power source was used as the power source
  • the pressure inside the film forming chamber was 0.7 Pa.
  • a Nb target was used, argon gas and oxygen gas were introduced at a volume ratio of 100:5, and the discharge power was set to 10.5 kW.
  • a Si target was used, argon gas and oxygen gas were introduced at a volume ratio of 100:30, and the discharge power was set at 14 kW.
  • a Nb target was used, argon gas and oxygen gas were introduced at a volume ratio of 100:13, and the discharge power was set at 22 kW.
  • a Si target was used, argon gas and oxygen gas were introduced at a volume ratio of 100:30, and the discharge power was 12 kW.
  • a dried and solidified coating agent (“SHIN-ETSU SUBELYN KY1903-1” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., active ingredient: alkoxysilane compound containing a perfluoropolyether skeleton) was used as a vapor deposition source, and the vapor deposition source was heated. At a temperature of 260° C., an antifouling layer with a thickness of 12 nm was formed on the antireflection layer by vacuum evaporation. Thereby, a laminate (hereinafter sometimes referred to as "optical film F2”) including a PET film, a hard coat layer, a primer layer, an antireflection layer, and an antifouling layer was obtained.
  • optical film F2 a laminate including a PET film, a hard coat layer, a primer layer, an antireflection layer, and an antifouling layer was obtained.
  • the optical film F2 was heated at a temperature of 120° C. for 2 minutes using a hot air oven while being transported by a roll-to-roll transport device. Thereby, the antireflection film of Example 1 was obtained.
  • Example 1 was produced using the same manufacturing method as Example 1, except that the heating conditions for optical film F1 in the hard coat layer heating step and the heating conditions for optical film F2 in the antireflection layer heating step were changed to the conditions shown in Table 1.
  • Antireflection films of Comparative Examples 2 to 9 and Comparative Examples 1 to 5 were obtained, respectively. Note that in the production of the antireflection films of Examples 6 to 9 and Comparative Example 4, the hard coat layer heating step was not performed. Further, in the production of the antireflection films of Comparative Examples 4 and 5, the antireflection layer heating step was not performed.
  • Method of measuring dimensional change rate before and after heat resistance test As a test piece for measuring the dimensional change rate before and after the heat resistance test, a 100 mm x 100 mm size (length in the MD direction) was cut from each antireflection film using a laser processing machine ("LaserPro Spirit GLS" manufactured by GCC). A test piece with a diameter of 100 mm and a length in the TD direction of 100 mm was cut out. The ambient temperature and relative humidity when cutting out the test pieces were 20° C. and 50%, respectively.
  • the dimensional change rate in each direction (MD direction and TD direction) of each test piece is calculated by comparing the length L1 (100 mm) in each direction at a temperature of 20°C and a relative humidity of 50% before the heat resistance test and after the heat resistance test. It was calculated using the above-mentioned formula from the length L2 in each direction measured after being allowed to stand for 24 hours in an atmosphere with a temperature of 20° C. and a relative humidity of 50%.
  • Test piece for measuring the dimensional change rate before and after the heat and humidity resistance test As a test piece for measuring the dimensional change rate before and after the heat and humidity resistance test, a size of 100 mm x 100 mm (length in the MD direction) was cut from each antireflection film using a laser processing machine ("LaserPro Spirit GLS" manufactured by GCC). A test piece with a diameter of 100 mm and a length in the TD direction of 100 mm was cut out. The ambient temperature and relative humidity when cutting out the test pieces were 20° C. and 50%, respectively.
  • each test piece was subjected to a heat-and-moisture resistance test in which it was left standing for 48 hours in a constant temperature and humidity tester (PL-2J manufactured by Espec) at a temperature of 60°C and a relative humidity of 95%.
  • the sample was left standing in an atmosphere with relative humidity of 50% for 24 hours, and the dimensional change rate before and after the heat and humidity resistance test was determined. That is, the dimensional change rate in each direction (MD direction and TD direction) of each test piece is calculated by comparing the length L1 (100 mm) in each direction at a temperature of 20°C and a relative humidity of 50% before the heat and humidity test and after the heat and humidity test. It was calculated using the above-mentioned formula from the length L2 in each direction measured after being allowed to stand for 24 hours in an atmosphere with a temperature of 20° C. and a relative humidity of 50%.
  • ⁇ Bending resistance evaluation> [Evaluation of bending resistance under high temperature]
  • 200 test pieces with a size of 10 mm width x 100 mm length were cut from each antireflection film using a laser processing machine ("LaserPro Spirit GLS" manufactured by GCC). (Length direction: MD direction, width direction: TD direction) was cut out.
  • the test piece 200 is bent in the MD direction (X direction in FIG. 4) so that the surface on the antireflection layer (not shown) side faces inside. Both ends were bonded to a spacer 300 having a thickness of D (D: 4.0 mm or 3.8 mm). In the state shown in FIG.
  • the bending radius of the bent portion of the test piece 200 was D/2.
  • the test piece 200 in the state shown in FIG. 4 was left undisturbed for 48 hours in a drying oven ("PH-202" manufactured by Espec) at a temperature of 85° C. and a relative humidity of 1% or less, and then taken out, and the bent portion was examined using an optical microscope. The presence or absence of cracks (white turbidity in the antireflection layer) was confirmed. When no cracks were observed, it was determined to be A. On the other hand, when cracks were confirmed, it was determined to be B.
  • test piece 200 As a test piece for evaluating bending resistance under high temperature and high humidity conditions, a test piece with a size of 10 mm width x 100 mm length was prepared from each antireflection film using a laser processing machine ("LaserPro Spirit GLS" manufactured by GCC). Piece 200 (length direction: MD direction, width direction: TD direction) was cut out. Next, as shown in FIG. 4, the test piece 200 is bent in the MD direction (X direction in FIG. 4) so that the surface on the antireflection layer (not shown) side faces inside. Both ends were bonded to a spacer 300 having a thickness of D (D: 4.0 mm or 3.8 mm). In the state shown in FIG.
  • the bending radius of the bent portion of the test piece 200 was D/2.
  • the test piece 200 in the state shown in FIG. 4 was left standing for 48 hours in a constant temperature and humidity tester ("PL-2J" manufactured by ESPEC Corporation) at a temperature of 60 ° C. and a relative humidity of 95%, and then taken out and examined under an optical microscope. The presence or absence of cracks (clouding of the antireflection layer) at the bent portion was confirmed. When no cracks were observed, it was determined to be A. On the other hand, when cracks were confirmed, it was determined to be B.
  • the dimensional change rate in the MD direction before and after the heat resistance test was -0.10% or more and 0.10% or less.
  • the dimensional change rate in the MD direction before and after the heat and humidity resistance test was 0.01% or more and 0.20% or less.
  • Example 1 to 9 As shown in Table 2, in Examples 1 to 9, the evaluation result of bending resistance under high temperature when using a spacer with a thickness of 4.0 mm was A. Therefore, the antireflection films of Examples 1 to 9 had excellent bending resistance at high temperatures. In Examples 1 to 9, the bending resistance evaluation result under high temperature and high humidity when using a spacer with a thickness of 4.0 mm was A. Therefore, the antireflection films of Examples 1 to 9 had excellent bending resistance under high temperature and high humidity conditions.
  • Comparative Examples 1 to 5 As shown in Table 2, in Comparative Examples 1 to 5, the evaluation result of the bending resistance under high temperature was B when using a spacer with a thickness of 4.0 mm. Therefore, the antireflection films of Comparative Examples 1 to 5 did not have excellent bending resistance at high temperatures. In Comparative Examples 1 to 5, the evaluation result of bending resistance under high temperature and high humidity when using a spacer with a thickness of 4.0 mm was B. Therefore, the antireflection films of Comparative Examples 1 to 5 did not have excellent bending resistance under high temperature and high humidity conditions.
  • the present invention can provide an antireflection film that has excellent bending resistance under harsh environments.
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Abstract

反射防止フィルム（１０）は、透明フィルム基材（１１）、ハードコート層（１２）及び反射防止層（１３）をこの順に有する。反射防止フィルム（１０）は、耐熱性試験前後の第１方向の寸法変化率が、－０．１０％以上０．１０％以下であることが好ましい。また、反射防止フィルム（１０）は、耐湿熱性試験前後の第１方向の寸法変化率が、０．０１％以上０．２０％以下であることが好ましい。透明フィルム基材（１１）は、ポリエチレンテレフタレートフィルムであることが好ましい。

Description

反射防止フィルム及びその製造方法、並びに画像表示装置
　本発明は、反射防止フィルム及びその製造方法、並びに画像表示装置に関する。
　液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイ等の画像表示装置の視認側には、外光の反射による画質低下の防止、コントラスト向上等を目的として、反射防止フィルムが配置されている。反射防止フィルムは、透明フィルム基材上に、屈折率の異なる複数の薄膜の積層体からなる反射防止層を備える。
　例えば、特許文献１には、ハードコートフィルム上にＳｉＯプライマー層を備え、その上に、高屈折率層としての酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）層と低屈折率層としての酸化シリコン（ＳｉＯ２）層との交互積層体からなる反射防止層を備える反射防止フィルムが開示されている。
特開２００９－４７８７６号公報
　近年では、樹脂フィルム等の折り曲げ可能な基板（フレキシブル基板）を用いた有機ＥＬパネルを備える折り曲げ可能な画像表示装置（フォルダブルディスプレイ）が実用化されている。フォルダブルディスプレイのカバーウインドウとしては、例えば、フレキシブル基板上に反射防止層を設けた反射防止フィルムが用いられる。
　フォルダブルディスプレイは、一般に折り畳んだ状態で保管される。折り畳み状態では、折り畳み箇所（屈曲箇所）の内側に圧縮応力が付与され、かつ屈曲箇所の外側に引張応力が付与されている。表示面を内側としてディスプレイを折り畳むと、反射防止フィルムは、反射防止層の形成面を内側として折り畳まれた状態（屈曲状態）となる。高温下又は高温高湿下で、ディスプレイを屈曲状態で保管すると、反射防止層に微細なクラックが発生する場合があり、ディスプレイの視認性低下の原因となっている。
　上記に鑑み、本発明は、高温下又は高温高湿下において屈曲状態で保管しても、反射防止層にクラックが生じ難く、耐屈曲性に優れる反射防止フィルム及びその製造方法、並びに当該反射防止フィルムを用いた画像表示装置の提供を目的とする。
＜本発明の態様＞
　本発明には、以下の態様が含まれる。
［１］透明フィルム基材、ハードコート層及び反射防止層をこの順に有する反射防止フィルムであって、
　温度８５℃の環境下で４８時間保持する耐熱性試験を行った際、前記耐熱性試験前後のいずれか１つの辺の方向の寸法変化率が、－０．１０％以上０．１０％以下である、反射防止フィルム。
［２］前記耐熱性試験前後の前記辺の方向と直交する方向の寸法変化率が、－０．１０％以上０．１０％以下である、前記［１］に記載の反射防止フィルム。
［３］透明フィルム基材、ハードコート層及び反射防止層をこの順に有する反射防止フィルムであって、
　温度６０℃かつ相対湿度９５％の環境下で４８時間保持する耐湿熱性試験を行った際、前記耐湿熱性試験前後のいずれか１つの辺の方向の寸法変化率が、０．０１％以上０．２０％以下である、反射防止フィルム。
［４］前記耐湿熱性試験前後の前記辺の方向と直交する方向の寸法変化率が、０．０１％以上０．２０％以下である、前記［３］に記載の反射防止フィルム。
［５］前記透明フィルム基材は、ポリエチレンテレフタレートフィルムである、前記［１］～［４］のいずれか一つに記載の反射防止フィルム。
［６］前記反射防止層の厚みが、１５０ｎｍ以上２８０ｎｍ以下である、前記［１］～［５］のいずれか一つに記載の反射防止フィルム。
［７］前記ハードコート層と前記反射防止層との間に配置されたプライマー層を更に備える、前記［１］～［６］のいずれか一つに記載の反射防止フィルム。
［８］前記反射防止層の前記ハードコート層側とは反対側に配置された防汚層を更に備える、前記［１］～［７］のいずれか一つに記載の反射防止フィルム。
［９］前記透明フィルム基材の前記ハードコート層側とは反対側に配置された粘着剤層を更に備える、前記［１］～［８］のいずれか一つに記載の反射防止フィルム。
［１０］画像表示パネルと、前記画像表示パネルの視認側に配置された、前記［１］～［９］のいずれか一つに記載の反射防止フィルムとを備える、画像表示装置。
［１１］前記［１］～［９］のいずれか一つに記載の反射防止フィルムの製造方法であって、
　前記ハードコート層の前記透明フィルム基材側とは反対側に、ロールトゥロール方式のスパッタ成膜装置により前記反射防止層を成膜する工程Ｓａと、
　前記工程Ｓａの後、前記反射防止層が形成された積層体を加熱する工程Ｓｂとを備える、反射防止フィルムの製造方法。
［１２］前記工程Ｓｂにおいて、温度１１０℃以上の条件で前記積層体を加熱する、前記［１１］に記載の反射防止フィルムの製造方法。
　本発明によれば、高温下又は高温高湿下において屈曲状態で保管しても、反射防止層にクラックが生じ難く、耐屈曲性に優れる反射防止フィルム及びその製造方法、並びに当該反射防止フィルムを用いた画像表示装置を提供できる。
本発明に係る反射防止フィルムの一例を示す断面図である。 本発明に係る反射防止フィルムの他の例を示す断面図である。 本発明に係る画像表示装置の一例を示す断面図である。 反射防止フィルムの耐屈曲性を評価する際の試験片の屈曲状態を示す断面図である。
　以下、本発明の好適な実施形態について説明する。まず、本明細書中で使用される用語について説明する。「屈折率」は、温度２３℃の雰囲気下における波長５５０ｎｍの光に対する屈折率である。層状物（より具体的には、透明フィルム基材、ハードコート層、粘着剤層等）の「主面」とは、層状物の厚み方向に直交する面をさす。反射防止フィルムを構成する各層の厚み（膜厚）の数値は、層を厚み方向に切断した断面の画像から無作為に測定箇所を１０箇所選択し、選択した１０箇所の測定箇所の厚みを測定して得られた１０個の測定値の算術平均値である。
　「いずれか１つの辺の方向」とは、長方形又は正方形の反射防止フィルムの４つの辺のうち、いずれか１つの辺に平行な方向を意味する。以下、反射防止フィルムのいずれか１つの辺の方向を、「第１方向」と記載することがある。また、第１方向と直交する方向（詳しくは、上記４つの辺のうち第１方向と直交する辺に平行な方向）を、「第２方向」と記載することがある。第１方向は、例えば、後述するロールトゥロール方式のスパッタ法で反射防止層を形成する際のフィルムの搬送方向（以下、「ＭＤ方向」と記載することがある）である。第２方向は、例えば、後述するロールトゥロール方式のスパッタ法で反射防止層を形成する際のフィルムの搬送方向と直交する方向（以下、「ＴＤ方向」と記載することがある）である。
　以下、化合物名の後に「系」を付けて、化合物及びその誘導体を包括的に総称する場合がある。また、化合物名の後に「系」を付けて重合体名を表す場合には、重合体の繰り返し単位が化合物又はその誘導体に由来することを意味する。本明細書に例示の成分や官能基等は、特記しない限り、単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
　以下の説明において参照する図面は、理解しやすくするために、それぞれの構成要素を主体に模式的に示しており、図示された各構成要素の大きさ、個数、形状等は、図面作成の都合上から実際とは異なる場合がある。また、説明の都合上、後に説明する図面において、先に説明した図面と同一構成部分については、同一符号を付して、その説明を省略する場合がある。
＜第１実施形態：反射防止フィルム＞
　以下、本発明の第１実施形態に係る反射防止フィルムの具体例として、反射防止フィルムＡＲＦ１及び反射防止フィルムＡＲＦ２について説明する。反射防止フィルムＡＲＦ１及び反射防止フィルムＡＲＦ２は、いずれも、透明フィルム基材、ハードコート層及び反射防止層をこの順に有する反射防止フィルム（積層体）である。反射防止フィルムＡＲＦ１は、温度８５℃の環境下で４８時間保持する耐熱性試験を行った際、耐熱性試験前後の第１方向の寸法変化率が、－０．１０％以上０．１０％以下である。反射防止フィルムＡＲＦ２は、温度６０℃かつ相対湿度９５％の環境下で４８時間保持する耐湿熱性試験を行った際、耐湿熱性試験前後の第１方向の寸法変化率が、０．０１％以上０．２０％以下である。
　反射防止フィルムＡＲＦ１は、高温下において第１方向の収縮が抑制されるため、高温下において屈曲状態で保管しても反射防止層にクラックが生じ難く、耐屈曲性に優れる。また、反射防止フィルムＡＲＦ２は、高温高湿下において第１方向の収縮が抑制されるため、高温高湿下において屈曲状態で保管しても反射防止層にクラックが生じ難く、耐屈曲性に優れる。以下において、区別する必要がない場合には、反射防止フィルムＡＲＦ１及び反射防止フィルムＡＲＦ２の各々を、「反射防止フィルムＡＲＦ」と記載する。また、高温下において屈曲状態で保管しても反射防止層にクラックが生じ難い性質を、単に「高温下の耐屈曲性」と記載することがある。また、高温高湿下において屈曲状態で保管しても反射防止層にクラックが生じ難い性質を、単に「高温高湿下の耐屈曲性」と記載することがある。
　以下、高温下又は高温高湿下を、「過酷環境下」と記載することがある。また、過酷環境下において屈曲状態で保管しても反射防止層にクラックが生じ難い性質を、単に「過酷環境下の耐屈曲性」と記載することがある。また、温度８５℃の環境下で反射防止フィルムを４８時間保持する耐熱性試験を、単に「耐熱性試験」と記載することがある。また、温度６０℃かつ相対湿度９５％の環境下で反射防止フィルムを４８時間保持する耐湿熱性試験を、単に「耐湿熱性試験」と記載することがある。また、耐熱性試験又は耐湿熱性試験を、「過酷環境試験」と記載することがある。以下、特に断りがない限り、「過酷環境試験」は、反射防止フィルムを対象とする試験である。
　なお、耐熱性試験の雰囲気の相対湿度は、例えば１％以下であり、０．５％以下又は０．１％以下であってもよい。
　過酷環境試験前後の第１方向又は第２方向の寸法変化率（単位：％）は、過酷環境試験前の第１方向又は第２方向の長さをＬ１（単位：ｍｍ）とし、過酷環境試験後の第１方向又は第２方向の長さをＬ２（単位：ｍｍ）とした場合に、式「寸法変化率＝１００×（Ｌ２－Ｌ１）／Ｌ１」に従って算出される。第１方向又は第２方向の寸法変化率＜０％である場合は、過酷環境試験により第１方向又は第２方向の長さが小さくなることを意味する。一方、第１方向又は第２方向の寸法変化率＞０％である場合は、過酷環境試験により第１方向又は第２方向の長さが大きくなることを意味する。寸法変化率の測定方法は、後述する実施例と同じ方法又はそれに準ずる方法である。
　高温下の耐屈曲性により優れる反射防止フィルムＡＲＦ１を得るためには、耐熱性試験前後の第２方向の寸法変化率が、－０．１０％以上０．１０％以下であることが好ましい。
　高温下の耐屈曲性により優れる反射防止フィルムＡＲＦ１を得るためには、耐熱性試験前後の第１方向及び第２方向の寸法変化率が、いずれも、－０．０９％以上であることが好ましく、－０．０８％以上であることがより好ましく、－０．０７％以上、－０．０６％以上又は－０．０５％以上であってもよい。また、高温下の耐屈曲性により優れる反射防止フィルムＡＲＦ１を得るためには、耐熱性試験前後の第１方向及び第２方向の寸法変化率が、いずれも、０．０９％以下であることが好ましく、０．０５％以下であることがより好ましく、０．０４％以下、０．０３％以下、０．０２％以下又は０．０１％以下であってもよい。高温下の耐屈曲性に更に優れる反射防止フィルムＡＲＦ１を得るためには、耐熱性試験前後の第１方向及び第２方向の寸法変化率の少なくとも一方が、０．００％以上０．１０％以下であることが好ましく、０．００％以上０．０４％以下であることがより好ましく、０．００％以上０．０３％以下であることが更に好ましく、０．００％以上０．０２％以下であることが更により好ましく、０．００％以上０．０１％以下であることが特に好ましい。
　高温下の耐屈曲性に特に優れる反射防止フィルムＡＲＦ１を得るためには、耐熱性試験前後の第１方向の寸法変化率が０．００％以上０．１０％以下であり、かつ耐熱性試験前後の第２方向の寸法変化率が－０．０７％以上０．００％以下であることが好ましく、耐熱性試験前後の第１方向の寸法変化率が０．００％以上０．０４％以下であり、かつ耐熱性試験前後の第２方向の寸法変化率が－０．０７％以上０．００％以下であることがより好ましく、耐熱性試験前後の第１方向の寸法変化率が０．００％以上０．０３％以下であり、かつ耐熱性試験前後の第２方向の寸法変化率が－０．０６％以上０．００％以下であることが更に好ましく、耐熱性試験前後の第１方向の寸法変化率が０．００％以上０．０２％以下であり、かつ耐熱性試験前後の第２方向の寸法変化率が－０．０５％以上０．００％以下であることが更により好ましく、耐熱性試験前後の第１方向の寸法変化率が０．００％以上０．０１％以下であり、かつ耐熱性試験前後の第２方向の寸法変化率が－０．０５％以上０．００％以下であることが特に好ましい。耐熱性試験前後の第１方向及び第２方向の寸法変化率が上記範囲内である場合、高温下、屈曲状態の反射防止層にクラックが発生することをより抑制するためには、反射防止フィルムＡＲＦ１を第１方向に屈曲させた状態で保管することが好ましい。
　高温高湿下の耐屈曲性により優れる反射防止フィルムＡＲＦ２を得るためには、耐湿熱性試験前後の第２方向の寸法変化率が、０．０１％以上０．２０％以下であることが好ましい。
　高温高湿下の耐屈曲性により優れる反射防止フィルムＡＲＦ２を得るためには、耐湿熱性試験前後の第１方向及び第２方向の寸法変化率が、いずれも、０．０２％以上であることが好ましく、０．０３％以上であることがより好ましく、０．０４％以上、０．０５％以上、０．０６％以上、０．０７％以上、０．０８％以上又は０．０９％以上であってもよい。また、高温高湿下の耐屈曲性により優れる反射防止フィルムＡＲＦ２を得るためには、耐湿熱性試験前後の第１方向及び第２方向の寸法変化率が、いずれも、０．１５％以下であることが好ましく、０．１４％以下であることがより好ましく、０．１３％以下であることが更に好ましい。高温高湿下の耐屈曲性に更に優れる反射防止フィルムＡＲＦ２を得るためには、耐湿熱性試験前後の第１方向及び第２方向の寸法変化率が、いずれも、０．０５％以上０．１３％以下であることが好ましく、０．０６％以上０．１３％以下であることがより好ましく、０．０７％以上０．１３％以下であることが更に好ましく、０．０８％以上０．１３％以下であることが更により好ましく、０．０９％以上０．１３％以下であることが特に好ましい。
　高温高湿下の耐屈曲性に特に優れる反射防止フィルムＡＲＦ２を得るためには、耐湿熱性試験前後の第１方向の寸法変化率が０．０５％以上０．１１％以下であり、かつ耐湿熱性試験前後の第２方向の寸法変化率が０．１０％以上０．１３％以下であることが好ましく、耐湿熱性試験前後の第１方向の寸法変化率が０．０６％以上０．１１％以下であり、かつ耐湿熱性試験前後の第２方向の寸法変化率が０．１１％以上０．１３％以下であることがより好ましく、耐湿熱性試験前後の第１方向の寸法変化率が０．０７％以上０．１１％以下であり、かつ耐湿熱性試験前後の第２方向の寸法変化率が０．１１％以上０．１３％以下であることが更に好ましく、耐湿熱性試験前後の第１方向の寸法変化率が０．０８％以上０．１１％以下であり、かつ耐湿熱性試験前後の第２方向の寸法変化率が０．１１％以上０．１３％以下であることが更により好ましく、耐湿熱性試験前後の第１方向の寸法変化率が０．０９％以上０．１１％以下であり、かつ耐湿熱性試験前後の第２方向の寸法変化率が０．１２％以上０．１３％以下であることが特に好ましい。耐湿熱性試験前後の第１方向及び第２方向の寸法変化率が上記範囲内である場合、高温高湿下、屈曲状態の反射防止層にクラックが発生することをより抑制するためには、反射防止フィルムＡＲＦ２を第１方向に屈曲させた状態で保管することが好ましい。
　以下、反射防止フィルムＡＲＦの構成について、図面を参照しながら説明する。図１は、反射防止フィルムＡＲＦの一例を示す断面図である。図１に示す反射防止フィルム１０は、透明フィルム基材１１、ハードコート層１２及び反射防止層１３をこの順に有する。反射防止フィルム１０が反射防止フィルムＡＲＦ１である場合、反射防止フィルム１０は、耐熱性試験前後の第１方向の寸法変化率が、－０．１０％以上０．１０％以下である。また、反射防止フィルム１０が反射防止フィルムＡＲＦ２である場合、反射防止フィルム１０は、耐湿熱性試験前後の第１方向の寸法変化率が、０．０１％以上０．２０％以下である。
　また、反射防止フィルム１０は、ハードコート層１２と反射防止層１３との間に配置されたプライマー層１８と、反射防止層１３のハードコート層１２側とは反対側に配置された防汚層１９とを更に備える。つまり、反射防止フィルム１０は、透明フィルム基材１１、ハードコート層１２、プライマー層１８、反射防止層１３及び防汚層１９をこの順に有する。
　反射防止層１３は、ハードコート層１２側（プライマー層１８側）から、高屈折率層１４、低屈折率層１５、高屈折率層１６及び低屈折率層１７の４層をこの順に有する。高屈折率層及び低屈折率層の詳細については、後述する。なお、反射防止フィルムＡＲＦの反射防止層は、反射防止層１３のような４層構成に限定されず、２層構成、３層構成、５層構成、又は６層以上の積層構成であってもよい。反射防止フィルムＡＲＦの反射防止層は、好ましくは、２層以上の高屈折率層と２層以上の低屈折率層との交互積層体である。空気界面での反射を低減するためには、反射防止フィルムＡＲＦの反射防止層は、最外層（ハードコート層１２から最も離れた層）が低屈折率層であることが好ましい。
　反射防止フィルムＡＲＦは、図１に示す反射防止フィルム１０とは異なる層構成であってもよい。例えば、反射防止フィルムＡＲＦは、図２に示すように、透明フィルム基材１１のハードコート層１２側とは反対側に配置された粘着剤層２１を更に備える、反射防止フィルム２０であってもよい。
　粘着剤層２１を構成する粘着剤は、特に限定されず、例えば、アクリル系ポリマー、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリビニルエーテル、酢酸ビニル－塩化ビニル共重合体、変性ポリオレフィン、エポキシ系樹脂、フッ素系樹脂、天然ゴム、合成ゴム等のポリマーをベースポリマーとする透明な粘着剤を、適宜に選択して用いることができる。粘着剤層２１の厚みは、特に限定されないが、薄層性及び接着性を両立させる観点から、５μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましい。
　粘着剤層２１の透明フィルム基材１１側とは反対側の主面には、はく離ライナー（不図示）が仮着されていてもよい。はく離ライナーは、例えば、反射防止フィルム２０を後述する画像表示パネル１０１（図３参照）と貼り合わせるまでの間、粘着剤層２１の表面を保護する。はく離ライナーの構成材料としては、アクリル、ポリオレフィン、環状ポリオレフィン、ポリエステル等から形成されたプラスチックフィルムが好適に用いられる。はく離ライナーの厚みは、例えば、５μｍ以上２００μｍ以下である。はく離ライナーの表面には、離型処理が施されていることが好ましい。離型処理に使用される離型剤の材料としては、シリコーン系材料、フッ素系材料、長鎖アルキル系材料、脂肪酸アミド系材料等が挙げられる。
　以上、図面を参照しながら第１実施形態に係る反射防止フィルムの構成について説明したが、本発明に係る反射防止フィルムは、上述した構成に限定されない。
　例えば、本発明に係る反射防止フィルムは、耐熱性試験前後の第１方向の寸法変化率が－０．１０％以上０．１０％以下であり、かつ耐湿熱性試験前後の第１方向の寸法変化率が０．０１％以上０．２０％以下であってもよい。この場合、高温下の耐屈曲性に優れつつ、高温高湿下の耐屈曲性に優れる反射防止フィルムが得られる。
　また、本発明に係る反射防止フィルムは、プライマー層及び防汚層を備えていない反射防止フィルムであってもよい。また、本発明に係る反射防止フィルムは、上述した構成に含まれる層（透明フィルム基材、ハードコート層、プライマー層、反射防止層及び防汚層）とは異なる光学機能層を備えていてもよい。
　次に、第１実施形態に係る反射防止フィルム（より詳しくは、反射防止フィルムＡＲＦ）の要素について説明する。
［透明フィルム基材］
　透明フィルム基材は、例えば可撓性を有する透明な樹脂フィルムである。透明フィルム基材を構成する材料としては、例えば、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、セルロース樹脂、ノルボルネン樹脂、ポリアリレート樹脂、及びポリビニルアルコール樹脂が挙げられる。ポリエステル樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、及びポリエチレンナフタレートが挙げられる。ポリオレフィン樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、及びシクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）が挙げられる。セルロース樹脂としては、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）が挙げられる。これらの材料は、単独で用いられてもよいし、二種類以上が併用されてもよい。透明フィルム基材の材料としては、透明性及び強度の観点から、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、及びセルロース樹脂からなる群より選択される一種が好ましく、ＰＥＴ、ＣＯＰ、及びＴＡＣからなる群より選択される一種がより好ましく、ＰＥＴが更に好ましい。つまり、透明フィルム基材としては、ポリエステル樹脂フィルム、ポリオレフィン樹脂フィルム、及びセルロース樹脂フィルムからなる群より選択される一種のフィルムが好ましく、ＰＥＴフィルム、ＣＯＰフィルム、及びＴＡＣフィルムからなる群より選択される一種のフィルムがより好ましく、ＰＥＴフィルムが更に好ましい。
　透明フィルム基材の厚みは、強度の観点から、好ましくは５μｍ以上、より好ましくは１０μｍ以上、更に好ましくは２０μｍ以上である。透明フィルム基材の厚みは、取扱い性の観点から、好ましくは３００μｍ以下、より好ましくは２００μｍ以下である。
　透明フィルム基材の一方の主面又は両主面は、表面改質処理されていてもよい。表面改質処理としては、例えば、コロナ処理、プラズマ処理、オゾン処理、プライマー処理、グロー処理、及びカップリング剤処理が挙げられる。
　透明フィルム基材の全光線透過率（ＪＩＳ　Ｋ　７３７５－２００８）は、反射防止フィルムの透明性を向上させる観点から、好ましくは８０％以上、より好ましくは９０％以上、更に好ましくは９５％以上１００％以下である。
［ハードコート層］
　ハードコート層は、反射防止フィルムの硬度や弾性率等の機械的特性を高める層である。ハードコート層は、例えば、硬化性樹脂組成物（ハードコート層形成用組成物）の硬化物からなる。硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性樹脂としては、例えば、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、アクリルウレタン樹脂、アミド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、及びメラミン樹脂が挙げられる。これらの硬化性樹脂は、単独で用いられてもよいし、二種類以上が併用されてもよい。ハードコート層の硬度を高める観点から、硬化性樹脂としては、アクリル樹脂及びアクリルウレタン樹脂からなる群より選択される一種以上が好ましく、アクリル樹脂がより好ましい。
　また、硬化性樹脂組成物としては、例えば、紫外線硬化型の樹脂組成物、及び熱硬化型の樹脂組成物が挙げられる。反射防止フィルムの生産性向上の観点から、硬化性樹脂組成物としては、紫外線硬化型の樹脂組成物が好ましい。紫外線硬化型の樹脂組成物には、紫外線硬化型モノマー、紫外線硬化型オリゴマー及び紫外線硬化型ポリマーからなる群より選択される一種以上が含まれる。紫外線硬化型の樹脂組成物の具体例としては、特開２０１６－１７９６８６号公報に記載のハードコート層形成用組成物が挙げられる。
　また、硬化性樹脂組成物は、微粒子を含有してもよい。硬化性樹脂組成物に微粒子を配合することにより、ハードコート層における、硬さの調整、表面粗さの調整、屈折率の調整及び防眩性の調整が可能となる。微粒子としては、例えば、金属酸化物粒子、ガラス粒子、及び有機粒子が挙げられる。金属酸化物粒子の材料としては、例えば、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化カルシウム、酸化スズ、酸化インジウム、酸化カドミウム、及び酸化アンチモンが挙げられる。有機粒子の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリウレタン、アクリル－スチレン共重合体、ベンゾグアナミン、メラミン、及びポリカーボネートが挙げられる。
　ハードコート層の厚みは、ハードコート層の硬度を高める観点から、好ましくは１μｍ以上、より好ましくは２μｍ以上である。ハードコート層の厚みは、反射防止フィルムの柔軟性確保の観点から、好ましくは５０μｍ以下、より好ましくは４０μｍ以下、更に好ましくは３５μｍ以下、更により好ましくは３０μｍ以下である。
　ハードコート層の透明フィルム基材側とは反対側の主面は、表面改質処理されていてもよい。表面改質処理としては、例えば、プラズマ処理、コロナ処理、オゾン処理、プライマー処理、グロー処理、及びカップリング剤処理が挙げられる。ハードコート層の透明フィルム基材側とは反対側に設けられる層（例えば、後述するプライマー層）とハードコート層との密着性を高めるためには、ハードコート層の透明フィルム基材側とは反対側の主面は、プラズマ処理されていることが好ましい。
［プライマー層］
　ハードコート層と反射防止層との密着性を高めるためには、ハードコート層と反射防止層との間にプライマー層が設けられることが好ましい。プライマー層の材料としては、シリコン、ニッケル、クロム、スズ、金、銀、白金、亜鉛、チタン、インジウム、タングステン、アルミニウム、ジルコニウム、パラジウム等の金属（又は半金属）；これらの金属（又は半金属）の合金；これらの金属（又は半金属）の酸化物、フッ化物、硫化物又は窒化物等が挙げられる。プライマー層を構成する酸化物は、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等の複合酸化物でもよい。中でも、プライマー層の材料としては、無機酸化物が好ましく、酸化シリコン、酸化インジウム又はＩＴＯが特に好ましい。
　ハードコート層と反射防止層との密着性を高めつつ、プライマー層の光透過性を確保するためには、プライマー層の厚みは、０．５ｎｍ以上２０ｎｍ以下であることが好ましく、０．５ｎｍ以上１０ｎｍ以下であることがより好ましく、１．０ｎｍ以上１０ｎｍ以下であることが更に好ましい。
［反射防止層］
　反射防止層は、屈折率の異なる２層以上の薄膜からなる。一般に、反射防止層は、入射光と反射光の逆転した位相が互いに打ち消し合うように、薄膜の光学膜厚（屈折率と厚みの積）が調整される。反射防止層を、屈折率の異なる２層以上の薄膜の多層積層体とすることにより、可視光の広帯域の波長範囲において、反射率を小さくできる。
　反射防止層を構成する薄膜の材料としては、金属（又は半金属）の酸化物、窒化物、フッ化物等が挙げられる。反射防止層は、好ましくは、高屈折率層と低屈折率層の交互積層体である。
　高屈折率層は、屈折率が、例えば１．９以上であり、好ましくは２．０以上である。高屈折率層の材料としては、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化亜鉛、酸化インジウム、ＩＴＯ、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）等が挙げられる。中でも、酸化チタン及び酸化ニオブからなる群より選択される一種以上が好ましい。低屈折率層は、屈折率が、例えば１．６以下であり、好ましくは１．５以下である。低屈折率層の材料としては、酸化シリコン、窒化チタン、フッ化マグネシウム、フッ化バリウム、フッ化カルシウム、フッ化ハフニウム、フッ化ランタン等が挙げられる。中でも酸化シリコンが好ましい。特に、高屈折率層としての酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）薄膜と、低屈折率層としての酸化シリコン（ＳｉＯ２）薄膜とを交互に積層することが好ましい。低屈折率層と高屈折率層に加えて、屈折率１．６超１．９未満の中屈折率層が設けられてもよい。
　高屈折率層及び低屈折率層の膜厚は、それぞれ、５ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であることがより好ましい。屈折率や積層構成等に応じて、可視光の反射率が小さくなるように、各層の膜厚を設計すればよい。例えば、高屈折率層と低屈折率層の積層構成としては、ハードコート層側から、光学膜厚２０ｎｍ以上５５ｎｍ以下の高屈折率層、光学膜厚３５ｎｍ以上５５ｎｍ以下の低屈折率層、光学膜厚８０ｎｍ以上２５０ｎｍ以下の高屈折率層、及び光学膜厚１００ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の低屈折率層からなる４層構成が挙げられる。
　反射防止層が、高屈折率層としての酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）薄膜と、低屈折率層としての酸化シリコン（ＳｉＯ２）薄膜とを交互に積層させた、４層の交互積層体である場合、反射防止層の構成としては、ハードコート層側から、厚み５ｎｍ以上２０ｎｍ以下の酸化ニオブ薄膜、厚み２０ｎｍ以上４０ｎｍ以下の酸化シリコン薄膜、厚み６５ｎｍ以上１２０ｎｍ以下の酸化ニオブ薄膜、及び厚み６０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の酸化シリコン薄膜をこの順に備える構成が挙げられる。
　過酷環境下の耐屈曲性により優れる反射防止フィルムを得るためには、反射防止層の厚みは、１５０ｎｍ以上２８０ｎｍ以下であることが好ましく、１８０ｎｍ以上２８０ｎｍ以下であることがより好ましく、１９０ｎｍ以上２６０ｎｍ以下であることが更に好ましく、２００ｎｍ以上２５０ｎｍ以下であることが更により好ましい。なお、本明細書において、「反射防止層の厚み」は、反射防止層を構成する各層の厚みの合計（合計厚み）である。
［防汚層］
　反射防止フィルムは、反射防止層のハードコート層側とは反対側に防汚層を備えることが好ましく、反射防止フィルムの最表層として防汚層を備えることがより好ましい。防汚層が設けられることにより、例えば、外部環境からの汚染（指紋、手垢、埃等）の影響を低減できるとともに、反射防止フィルムの表面に付着した汚染物質の除去が容易となる。
　反射防止層の反射防止性能の低下を抑制するためには、防汚層は、反射防止層の最表層（例えば低屈折率層）との屈折率差が小さいことが好ましい。防汚層の屈折率としては、１．６以下が好ましく、１．５５以下がより好ましい。
　防汚層の材料としては、フッ素含有化合物が好ましい。フッ素含有化合物は、防汚性に優れつつ、低屈折率化に寄与し得る。中でも、撥水性に優れ、高い防汚性を発揮できることから、パーフルオロポリエーテル骨格を含有するアルコキシシラン化合物が好ましい。パーフルオロポリエーテル骨格を含有するアルコキシシラン化合物としては、例えば、炭素原子数１以上４以下の直鎖状又は分枝鎖状のパーフルオロアルキレンオキシド単位を複数有するアルコキシシラン化合物が挙げられる。炭素原子数１以上４以下の直鎖状又は分枝鎖状のパーフルオロアルキレンオキシド単位としては、例えば、パーフルオロメチレンオキシド単位（－ＣＦ２Ｏ－）、パーフルオロエチレンオキシド単位（－ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－）、パーフルオロプロピレンオキシド単位（－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－）、パーフルオロイソプロピレンオキシド単位（－ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ－）等が挙げられる。
　防汚層の厚みは、例えば、２ｎｍ以上５０ｎｍ以下である。防汚層の厚みが大きいほど、防汚性が向上する傾向がある。防汚層の厚みは、５ｎｍ以上であることが好ましく、７ｎｍ以上であることがより好ましく、８ｎｍ以上であることが更に好ましい。一方、防眩性を高める観点から、防汚層の厚みは、３０ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以下であることがより好ましい。
［反射防止フィルムの好ましい態様］
　高温下の耐屈曲性に特に優れる反射防止フィルムを得るためには、第１実施形態に係る反射防止フィルムは、下記条件１を満たすことが好ましく、下記条件２を満たすことがより好ましく、下記条件３を満たすことが更に好ましく、下記条件４を満たすことが更により好ましい。
　条件１：耐熱性試験前後の第１方向及び第２方向の寸法変化率の少なくとも一方が、０．００％以上０．０４％以下である。
　条件２：上記条件１を満たし、かつ反射防止層の厚みが１５０ｎｍ以上２８０ｎｍ以下である。
　条件３：耐熱性試験前後の第１方向の寸法変化率が０．００％以上０．０４％以下であり、かつ耐熱性試験前後の第２方向の寸法変化率が－０．０７％以上０．００％以下である。
　条件４：上記条件３を満たし、かつ反射防止層の厚みが１５０ｎｍ以上２８０ｎｍ以下である。
　また、高温高湿下の耐屈曲性に特に優れる反射防止フィルムを得るためには、第１実施形態に係る反射防止フィルムは、下記条件ｉを満たすことが好ましく、下記条件ｉｉを満たすことがより好ましく、下記条件ｉｉｉを満たすことが更に好ましく、下記条件ｉｖを満たすことが更により好ましい。
　条件ｉ：耐湿熱性試験前後の第１方向及び第２方向の寸法変化率が、いずれも、０．０５％以上０．１３％以下である。
　条件ｉｉ：上記条件ｉを満たし、かつ反射防止層の厚みが１５０ｎｍ以上２８０ｎｍ以下である。
　条件ｉｉｉ：耐湿熱性試験前後の第１方向の寸法変化率が０．０５％以上０．１１％以下であり、かつ耐湿熱性試験前後の第２方向の寸法変化率が０．１０％以上０．１３％以下である。
　条件ｉｖ：上記条件ｉｉｉを満たし、かつ反射防止層の厚みが１５０ｎｍ以上２８０ｎｍ以下である。
　また、高温下の耐屈曲性に特に優れつつ、高温高湿下の耐屈曲性に特に優れる反射防止フィルムを得るためには、第１実施形態に係る反射防止フィルムは、上記条件１及びｉを満たすことが好ましく、上記条件２及びｉｉを満たすことがより好ましく、上記条件３及びｉｉｉを満たすことが更に好ましく、上記条件４及びｉｖを満たすことが更により好ましい。
＜第２実施形態：画像表示装置＞
　次に、本発明の第２実施形態に係る画像表示装置について説明する。第２実施形態に係る画像表示装置は、画像表示パネルと、画像表示パネルの視認側に配置された、第１実施形態に係る反射防止フィルムとを備える。以下、第１実施形態と重複する内容については説明を省略する。
　図３は、第２実施形態に係る画像表示装置の一例を示す断面図である。図３に示す画像表示装置１００は、画像表示パネル１０１と、画像表示パネル１０１の視認側（図３中の上方側）に配置された、第１実施形態に係る反射防止フィルムの一例である反射防止フィルム１０とを備える。画像表示装置１００では、反射防止フィルム１０の透明フィルム基材１１と画像表示パネル１０１とが粘着剤層２１を介して貼り合わせられている。
　画像表示パネル１０１としては、液晶セル、有機ＥＬセル等の画像表示セルを含む画像表示パネルが例示できる。
　第２実施形態に係る画像表示装置は、画像表示パネルの視認側に反射防止フィルムが配置されているため、外光の反射が低減され、視認性に優れる。また、第２実施形態に係る画像表示装置は、第１実施形態に係る反射防止フィルム（過酷環境下の耐屈曲性に優れる反射防止フィルム）を備えるため、反射防止層形成面側を内側として屈曲させた状態で保管しても、屈曲箇所での反射防止層のクラックが発生し難い。このため、第２実施形態に係る画像表示装置は、例えばフォルダブルディスプレイとして使用することもできる。過酷環境下において反射防止層のクラックの発生をより抑制できるフォルダブルディスプレイを得るためには、フォルダブルディスプレイの屈曲箇所が、反射防止フィルムを第１方向に屈曲可能な屈曲箇所であることが好ましい。
＜第３実施形態：反射防止フィルムの製造方法＞
　次に、本発明の第３実施形態に係る反射防止フィルムの製造方法について説明する。第３実施形態に係る反射防止フィルムの製造方法は、第１実施形態に係る反射防止フィルムの好適な製造方法である。以下、第１実施形態と重複する内容については説明を省略する。
　第３実施形態に係る反射防止フィルムの製造方法は、ハードコート層の透明フィルム基材側とは反対側に、ロールトゥロール方式のスパッタ成膜装置により反射防止層を成膜する工程Ｓａと、工程Ｓａの後、反射防止層が形成された積層体を加熱する工程Ｓｂとを備える。第３実施形態に係る反射防止フィルムの製造方法は、工程Ｓａ及び工程Ｓｂを備えるため、第１実施形態に係る反射防止フィルムを容易に製造できる。以下、工程Ｓａを、「反射防止層形成工程」と記載する。また、工程Ｓｂを、「反射防止層加熱工程」と記載する。
　第３実施形態に係る反射防止フィルムの製造方法は、反射防止層形成工程及び反射防止層加熱工程以外の工程（他の工程）を備えていてもよい。他の工程としては、例えば、後述するハードコート層形成工程、ハードコート層の表面処理工程、ハードコート層加熱工程、プライマー層形成工程及び防汚層形成工程が挙げられる。
　以下、第３実施形態に係る反射防止フィルムの製造方法の一例が備える各工程について説明する。
［ハードコート層形成工程］
　ハードコート層形成工程は、透明フィルム基材上にハードコート層を形成する工程である。例えば、透明フィルム基材上に硬化性樹脂組成物（ハードコート層形成用組成物）を塗布し、必要に応じて溶媒の除去及び樹脂の硬化を行うことにより、ハードコート層が形成される。ハードコート層形成用組成物は、例えば、上述した硬化性樹脂、及び重合開始剤（例えば光重合開始剤）を含み、必要に応じてこれらの成分を溶解又は分散可能な溶媒を含む。
　ハードコート層形成用組成物は、上記成分の他に、微粒子、レベリング剤、粘度調整剤（チクソトロピー剤、増粘剤等）、帯電防止剤、ブロッキング防止剤、分散剤、分散安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、消泡剤、界面活性剤、滑剤等の添加剤を含んでいてもよい。
　ハードコート層形成用組成物の塗布方法としては、バーコート法、ロールコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、スロットオリフィスコート法、カーテンコート法、ファウンテンコート法、コンマコート法等の任意の適切な方法を採用し得る。塗布後の塗膜の乾燥温度は、ハードコート層形成用組成物の組成等に応じて、適切な温度に設定すればよく、例えば、５０℃以上１５０℃以下である。ハードコート層形成用組成物中の樹脂成分が熱硬化性樹脂である場合は、加熱によって塗膜を硬化させる。ハードコート層形成用組成物中の樹脂成分が光硬化性樹脂である場合は、紫外線等の活性エネルギー線を照射することによって塗膜を硬化させる。照射光の積算光量は、好ましくは１００ｍＪ／ｃｍ２以上５００ｍＪ／ｃｍ２以下である。
［ハードコート層の表面処理工程］
　ハードコート層の表面処理工程では、ハードコート層の透明フィルム基材側とは反対側の主面を表面改質処理する。表面改質処理としては、例えば、プラズマ処理、コロナ処理、オゾン処理、プライマー処理、グロー処理、及びカップリング剤処理が挙げられる。表面改質処理がプラズマ処理である場合、不活性ガスとしては、例えばアルゴンガスが使用される。また、プラズマ処理における放電電力は、例えば１０Ｗ以上１００００Ｗ以下である。
［ハードコート層加熱工程］
　ハードコート層加熱工程は、ハードコート層上に他の層（例えば、プライマー層、反射防止層等）を設ける前に、ハードコート層を含む積層体（例えば、透明フィルム基材とハードコート層とを有するフィルム状積層体）を加熱する工程である。ハードコート層加熱工程を設けることにより、例えば、透明フィルム基材の熱収縮による反射防止フィルムの寸法変化を抑制できる。
　第３実施形態では、反射防止層形成工程においてロールトゥロール方式のスパッタ成膜装置を使用するため、生産性を高める観点から、ハードコート層加熱工程では、ロールトゥロール方式で上記積層体を搬送しながら加熱することが好ましい。加熱する際の加熱装置としては、例えば、熱風オーブン、赤外線ヒーター等が挙げられる。
　ハードコート層加熱工程における上記積層体の加熱温度は、例えば、１００℃以上２００℃以下である。ハードコート層加熱工程における上記積層体の加熱時間は、例えば、３０秒以上３０分以下である。なお、ハードコート層の表面処理工程及びハードコート層加熱工程を設ける場合、ハードコート層加熱工程は、ハードコート層の表面処理工程の前に実施しても後に実施してもよい。
［プライマー層形成工程］
　プライマー層形成工程は、ハードコート層上にプライマー層を形成（成膜）する工程である。プライマー層の成膜方法は、特に限定されず、ウェットコーティング法及びドライコーティング法のいずれでもよい。膜厚が均一な薄膜を形成できることから、真空蒸着法、ＣＶＤ法、スパッタ法等のドライコーティング法が好ましい。また、第３実施形態では、反射防止層形成工程においてロールトゥロール方式のスパッタ成膜装置を使用するため、生産性を高める観点から、プライマー層の成膜方法としては、ロールトゥロール方式のスパッタ成膜装置を用いて成膜する方法（ロールトゥロール方式のスパッタ法）が好ましい。
　ロールトゥロール方式のスパッタ法では、長尺のフィルム（例えば、ハードコート層が形成された透明フィルム基材）を長手方向（ＭＤ方向）に搬送しながら、例えば、プライマー層及び反射防止層を連続成膜できる。スパッタ法では、アルゴン等の不活性ガス、及び必要に応じて酸素等の反応性ガスを成膜室内に導入しながら成膜が行われる。プライマー層として酸化物層を成膜する場合、スパッタ法による酸化物層の成膜は、酸化物ターゲットを用いる方法、及び金属（又は半金属）ターゲットを用いる反応性スパッタのいずれでも実施できる。
　スパッタ法を実施するための電源としては、例えば、ＤＣ電源、ＡＣ電源、ＲＦ電源、及び、ＭＦＡＣ電源（周波数帯が数ｋＨｚ～数ＭＨｚのＡＣ電源）が挙げられる。スパッタ法における放電電力は、例えば１ｋＷ以上１００ｋＷ以下であり、好ましくは１ｋＷ以上５０ｋＷ以下である。スパッタ法を実施する際の成膜ロールの表面温度は、例えば－２５℃以上２５℃以下であり、好ましくは－２０℃以上０℃以下である。スパッタ法を実施する際の成膜室内の圧力は、好ましくは０．０１Ｐａ以上１０Ｐａ以下であり、より好ましくは０．０５Ｐａ以上５Ｐａ以下であり、更に好ましくは０．１Ｐａ以上１Ｐａ以下である。
［反射防止層形成工程］
　反射防止層形成工程では、ハードコート層の透明フィルム基材側とは反対側（例えば、ハードコート層表面又はプライマー層表面）に、ロールトゥロール方式のスパッタ成膜装置により反射防止層を成膜する。つまり、第３実施形態では、ロールトゥロール方式のスパッタ法により、反射防止層の各層を成膜する。反射防止層形成工程でスパッタ法を実施する際は、例えば、上述した［プライマー層形成工程］で説明した条件の中で成膜条件を適宜設定することができる。
　ロールトゥロール方式のスパッタ法により反射防止層の各層を成膜すると、過酷環境下において反射防止フィルムが収縮しやすくなることが、本発明者らの検討により判明した。特に、透明フィルム基材としてＰＥＴフィルム等の延伸フィルムを用いる場合に、上記反射防止フィルムの収縮が顕著になる。反射防止層を形成する積層体（例えば、透明フィルム基材とハードコート層とを少なくとも有するフィルム状積層体）をロールトゥロール方式で搬送する際、上記積層体に対して搬送方向に張力が付与されるため、上記積層体に残留応力が発生し、過酷環境下において反射防止フィルムが収縮しやすくなるものと推測される。
［防汚層形成工程］
　防汚層形成工程は、反射防止層のハードコート層側とは反対側に防汚層を形成する工程である。防汚層形成工程では、例えば、フッ素含有化合物を材料として用い、ドライコーティング法で防汚層を形成する。ドライコーティング法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタ法、及びＣＶＤ法が挙げられ、真空蒸着法が好ましい。
［反射防止層加熱工程］
　反射防止層加熱工程は、反射防止層が形成された積層体（以下、「反射防止層付きフィルム」と記載することがある）を加熱する工程である。反射防止層付きフィルムを加熱することにより、例えば反射防止層付きフィルムの残留応力の少なくとも一部が除去されて、過酷環境下における反射防止フィルムの収縮が抑制される。その結果、過酷環境下の耐屈曲性に優れる反射防止フィルムが得られる。なお、防汚層形成工程を設ける場合、反射防止層加熱工程は、防汚層形成工程の前に実施しても後に実施してもよい。防汚層形成工程を設ける場合、過酷環境下の耐屈曲性により優れる反射防止フィルムを得るためには、反射防止層加熱工程は、防汚層形成工程の後に実施することが好ましい。
　第３実施形態では、反射防止層形成工程においてロールトゥロール方式のスパッタ成膜装置を使用するため、生産性を高める観点から、反射防止層加熱工程では、ロールトゥロール方式で反射防止層付きフィルムを搬送しながら加熱することが好ましい。加熱する際の加熱装置としては、例えば、熱風オーブン、赤外線ヒーター等が挙げられる。
　過酷環境下の耐屈曲性により優れる反射防止フィルムを得るためには、反射防止層加熱工程における反射防止層付きフィルムの加熱温度は、１１０℃以上であることが好ましく、１１５℃以上であることがより好ましく、１２０℃以上であることが更に好ましく、１３０℃以上、１４０℃以上、１５０℃以上、１６０℃以上、１７０℃以上又は１８０℃以上であってもよい。また、過酷環境下の耐屈曲性により優れる反射防止フィルムを得るためには、反射防止層加熱工程における反射防止層付きフィルムの加熱時間は、３０秒以上であることが好ましく、１分以上であることがより好ましく、２分以上であることが更に好ましく、５分以上、１０分以上又は１５分以上であってもよい。
　反射防止フィルムの透明性低下を抑制するためには、反射防止層加熱工程における反射防止層付きフィルムの加熱温度は、２００℃以下であることが好ましく、１９０℃以下であることがより好ましい。また、反射防止フィルムの透明性低下を抑制するためには、反射防止層加熱工程における反射防止層付きフィルムの加熱時間は、３０分以下であることが好ましく、２０分以下であることがより好ましい。
　上記耐熱性試験前後の第１方向及び第２方向の寸法変化率、並びに上記耐湿熱性試験前後の第１方向及び第２方向の寸法変化率は、いずれも反射防止層加熱工程における加熱条件（詳しくは、加熱温度、加熱時間等）を変更することにより調整できる。
　以下、本発明の実施例について説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
＜実施例１の反射防止フィルムの作製＞
［ハードコート層形成工程］
　固形分換算で１００重量部の紫外線硬化型多官能アクリル樹脂組成物（アイカ工業社製「Ｚ－８５０－５０Ｈ－Ｄ」、固形分濃度：４４重量％）と、光重合開始剤（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ社製「Ｏｍｎｉｒａｄ２９５９」）４重量部と、レベリング剤（共栄社化学社製「ＬＥ－３０３」）０．０５重量部とを混合して、混合液を得た。次いで、得られた混合液にメチルイソブチルケトンを添加し、固形分濃度４０重量％のハードコート層形成用組成物を得た。次いで、透明フィルム基材としてのＰＥＴフィルム（東レ社製「５０Ｕ４８」、厚み：５０μｍ）の一方の主面に、上記ハードコート層形成用組成物を塗布し、塗膜を形成した。次に、この塗膜を、温度８０℃で６０秒間加熱することにより乾燥させた後、紫外線照射により硬化させた。紫外線照射する際は、光源として高圧水銀ランプを使用し、波長３６５ｎｍの紫外線を用い、積算光量を３００ｍＪ／ｃｍ２とした。これにより、ＰＥＴフィルム上に厚み３μｍのハードコート層を形成した。
［ハードコート層の表面処理工程］
　次いで、ロールトゥロール方式のプラズマ処理装置により、１．０Ｐａの真空雰囲気下、ハードコート層が形成されたＰＥＴフィルムを搬送しながら、ハードコート層の表面をプラズマ処理した。プラズマ処理する際は、不活性ガスとしてアルゴンガスを用い、放電電力を１５０Ｗとした。これにより、ＰＥＴフィルムと、プラズマ処理されたハードコート層とを備える積層体（以下、「光学フィルムＦ１」と記載することがある）を得た。
［ハードコート層加熱工程］
　次いで、光学フィルムＦ１を、ロールトゥロール方式の搬送装置により搬送しながら、熱風オーブンを用いて温度１４０℃で２分加熱した。
［プライマー層形成工程］
　次いで、加熱後の光学フィルムＦ１を、ロールトゥロール方式のスパッタ成膜装置に導入し、成膜室内を１×１０－４Ｐａまで減圧した。次いで、光学フィルムＦ１を搬送しながら、アルゴンガスと酸素ガスとを１００：１０の体積比で導入し、成膜ロールの表面温度を－８℃とし、スパッタ法により、ハードコート層上に厚み１．５ｎｍのＩＴＯ層（プライマー層）を形成した。プライマー層の形成には、ターゲット材料として、酸化インジウムと酸化スズとを９０：１０の重量比で含有するＩＴＯターゲットを用いた。また、スパッタ法により成膜する際は、電源をＭＦＡＣ電源とし、放電電力を２．５ｋＷとし、成膜室内の圧力を０．２Ｐａとした。
［反射防止層形成工程］
　プライマー層の形成に続いて、ロールトゥロール方式のスパッタ成膜装置を用いてプライマー層形成後の光学フィルムＦ１を搬送しながら、スパッタ法により、プライマー層上に、第１層：厚み１２ｎｍのＮｂ２Ｏ５層（屈折率：２．３３）、第２層：厚み２８ｎｍのＳｉＯ２層（屈折率：１．４６）、第３層：厚み１００ｎｍのＮｂ２Ｏ５層、及び第４層：厚み８５ｎｍのＳｉＯ２層をこの順に成膜した。これにより、プライマー層上に、４層構成（第１層、第２層、第３層及び第４層からなる４層構成）の反射防止層を形成した。第１層～第４層の各層の成膜では、いずれも、成膜ロールの表面温度を－８℃とし、電源をＭＦＡＣ電源とし、成膜室内の圧力を０．７Ｐａとした。また、第１層の成膜では、Ｎｂターゲットを用い、アルゴンガスと酸素ガスとを１００：５の体積比で導入し、放電電力を１０．５ｋＷとした。第２層の成膜では、Ｓｉターゲットを用い、アルゴンガスと酸素ガスとを１００：３０の体積比で導入し、放電電力を１４ｋＷとした。第３層の成膜では、Ｎｂターゲットを用い、アルゴンガスと酸素ガスとを１００：１３の体積比で導入し、放電電力を２２ｋＷとした。第４層の成膜では、Ｓｉターゲットを用い、アルゴンガスと酸素ガスとを１００：３０の体積比で導入し、放電電力を１２ｋＷとした。
［防汚層形成工程］
　コーティング剤（信越化学工業社製「ＳＨＩＮ－ＥＴＳＵ　ＳＵＢＥＬＹＮ　ＫＹ１９０３－１」、有効成分：パーフルオロポリエーテル骨格を含有するアルコキシシラン化合物）を乾燥して固化したものを蒸着源として用い、蒸着源の加熱温度を２６０℃にして、真空蒸着法により反射防止層上に厚み１２ｎｍの防汚層を形成した。これにより、ＰＥＴフィルムと、ハードコート層と、プライマー層と、反射防止層と、防汚層とを備える積層体（以下、「光学フィルムＦ２」と記載することがある）を得た。
［反射防止層加熱工程］
　次いで、光学フィルムＦ２を、ロールトゥロール方式の搬送装置により搬送しながら、熱風オーブンを用いて温度１２０℃で２分加熱した。これにより、実施例１の反射防止フィルムを得た。
＜実施例２～９及び比較例１～５の反射防止フィルムの作製＞
　ハードコート層加熱工程における光学フィルムＦ１の加熱条件及び反射防止層加熱工程における光学フィルムＦ２の加熱条件を、表１に示す条件に変更したこと以外は、実施例１と同じ作製方法により、実施例２～９及び比較例１～５の反射防止フィルムをそれぞれ得た。なお、実施例６～９及び比較例４の反射防止フィルムの作製では、ハードコート層加熱工程を実施しなかった。また、比較例４及び５の反射防止フィルムの作製では、反射防止層加熱工程を実施しなかった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
＜寸法変化率の測定方法＞
［耐熱性試験前後の寸法変化率の測定方法］
　耐熱性試験前後の寸法変化率を測定するための試験片として、レーザー加工機（ＧＣＣ社製「ＬａｓｅｒＰｒｏ　Ｓｐｉｒｉｔ　ＧＬＳ」）を用いて、各反射防止フィルムから、１００ｍｍ×１００ｍｍのサイズ（ＭＤ方向の長さ：１００ｍｍ、ＴＤ方向の長さ：１００ｍｍ）の試験片を切り出した。試験片を切り出す際の雰囲気温度及び相対湿度は、それぞれ２０℃及び５０％であった。次いで、各試験片を、温度８５℃かつ相対湿度１％以下の乾燥オーブン（エスペック社製「ＰＨ－２０２」）中で４８時間静置する耐熱性試験を行った後、温度２０℃かつ相対湿度５０％の雰囲気下に２４時間静置し、耐熱性試験前後の寸法変化率を求めた。即ち、各試験片の各方向（ＭＤ方向及びＴＤ方向）の寸法変化率を、耐熱性試験前の温度２０℃かつ相対湿度５０％における各方向の長さＬ１（１００ｍｍ）と、耐熱性試験後に温度２０℃かつ相対湿度５０％の雰囲気下に２４時間静置した後で測定した各方向の長さＬ２とから、上述した式により算出した。
［耐湿熱性試験前後の寸法変化率の測定方法］
　耐湿熱性試験前後の寸法変化率を測定するための試験片として、レーザー加工機（ＧＣＣ社製「ＬａｓｅｒＰｒｏ　Ｓｐｉｒｉｔ　ＧＬＳ」）を用いて、各反射防止フィルムから、１００ｍｍ×１００ｍｍのサイズ（ＭＤ方向の長さ：１００ｍｍ、ＴＤ方向の長さ：１００ｍｍ）の試験片を切り出した。試験片を切り出す際の雰囲気温度及び相対湿度は、それぞれ２０℃及び５０％であった。次いで、各試験片を、温度６０℃かつ相対湿度９５％の恒温恒湿試験機（エスペック社製「ＰＬ－２Ｊ」）中で４８時間静置する耐湿熱性試験を行った後、温度２０℃かつ相対湿度５０％の雰囲気下に２４時間静置し、耐湿熱性試験前後の寸法変化率を求めた。即ち、各試験片の各方向（ＭＤ方向及びＴＤ方向）の寸法変化率を、耐湿熱性試験前の温度２０℃かつ相対湿度５０％における各方向の長さＬ１（１００ｍｍ）と、耐湿熱性試験後に温度２０℃かつ相対湿度５０％の雰囲気下に２４時間静置した後で測定した各方向の長さＬ２とから、上述した式により算出した。
＜耐屈曲性評価＞
［高温下における耐屈曲性評価］
　高温下における耐屈曲性を評価するための試験片として、レーザー加工機（ＧＣＣ社製「ＬａｓｅｒＰｒｏ　Ｓｐｉｒｉｔ　ＧＬＳ」）を用いて、各反射防止フィルムから、幅１０ｍｍ×長さ１００ｍｍのサイズの試験片２００（長さ方向：ＭＤ方向、幅方向：ＴＤ方向）を切り出した。次いで、図４に示すように、試験片２００の反射防止層（図示せず）側の面が内側となるようにＭＤ方向（図４中のＸ方向）に屈曲させた状態で、ＭＤ方向の両端を厚みＤ（Ｄ：４．０ｍｍ又は３．８ｍｍ）のスペーサ３００に貼り合わせた。図４の状態において、試験片２００の屈曲部分の屈曲半径は、Ｄ／２であった。次いで、図４の状態の試験片２００を、温度８５℃かつ相対湿度１％以下の乾燥オーブン（エスペック社製「ＰＨ－２０２」）中で４８時間静置した後に取り出し、光学顕微鏡にて屈曲部分のクラック（反射防止層の白濁）の有無を確認した。そして、クラックが確認されなかった場合、Ａと判定した。一方、クラックが確認された場合、Ｂと判定した。厚み４．０ｍｍのスペーサを使用した際の判定結果がＡの場合、「高温下の耐屈曲性に優れている」と評価し、厚み４．０ｍｍのスペーサを使用した際の判定結果がＢの場合、「高温下の耐屈曲性に優れていない」と評価した。
［高温高湿下における耐屈曲性評価］
　高温高湿下における耐屈曲性を評価するための試験片として、レーザー加工機（ＧＣＣ社製「ＬａｓｅｒＰｒｏ　Ｓｐｉｒｉｔ　ＧＬＳ」）を用いて、各反射防止フィルムから、幅１０ｍｍ×長さ１００ｍｍのサイズの試験片２００（長さ方向：ＭＤ方向、幅方向：ＴＤ方向）を切り出した。次いで、図４に示すように、試験片２００の反射防止層（図示せず）側の面が内側となるようにＭＤ方向（図４中のＸ方向）に屈曲させた状態で、ＭＤ方向の両端を厚みＤ（Ｄ：４．０ｍｍ又は３．８ｍｍ）のスペーサ３００に貼り合わせた。図４の状態において、試験片２００の屈曲部分の屈曲半径は、Ｄ／２であった。次いで、図４の状態の試験片２００を、温度６０℃かつ相対湿度９５％の恒温恒湿試験機（エスペック社製「ＰＬ－２Ｊ」）中で４８時間静置した後に取り出し、光学顕微鏡にて屈曲部分のクラック（反射防止層の白濁）の有無を確認した。そして、クラックが確認されなかった場合、Ａと判定した。一方、クラックが確認された場合、Ｂと判定した。厚み４．０ｍｍのスペーサを使用した際の判定結果がＡの場合、「高温高湿下の耐屈曲性に優れている」と評価し、厚み４．０ｍｍのスペーサを使用した際の判定結果がＢの場合、「高温高湿下の耐屈曲性に優れていない」と評価した。
＜評価結果＞
　実施例１～９及び比較例１～５について、耐熱性試験前後の寸法変化率、耐湿熱性試験前後の寸法変化率、及び耐屈曲性の判定結果を表２に示す。なお、表２において、「４．０ｍｍ」及び「３．８ｍｍ」は、いずれも耐屈曲性評価において使用したスペーサの厚みを意味する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　表２に示すように、実施例１～９では、耐熱性試験前後のＭＤ方向の寸法変化率が、－０．１０％以上０．１０％以下であった。実施例１～９では、耐湿熱性試験前後のＭＤ方向の寸法変化率が、０．０１％以上０．２０％以下であった。
　表２に示すように、実施例１～９では、厚み４．０ｍｍのスペーサを使用した際の高温下における耐屈曲性の判定結果がＡであった。よって、実施例１～９の反射防止フィルムは、高温下の耐屈曲性に優れていた。実施例１～９では、厚み４．０ｍｍのスペーサを使用した際の高温高湿下における耐屈曲性の判定結果がＡであった。よって、実施例１～９の反射防止フィルムは、高温高湿下の耐屈曲性に優れていた。
　表２に示すように、比較例１～５では、耐熱性試験前後の寸法変化率が、ＴＤ方向及びＭＤ方向のいずれについても－０．１０％未満であった。比較例１～５では、耐湿熱性試験前後の寸法変化率が、ＴＤ方向及びＭＤ方向のいずれについても０．０１％未満であった。
　表２に示すように、比較例１～５では、厚み４．０ｍｍのスペーサを使用した際の高温下における耐屈曲性の判定結果がＢであった。よって、比較例１～５の反射防止フィルムは、高温下の耐屈曲性に優れていなかった。比較例１～５では、厚み４．０ｍｍのスペーサを使用した際の高温高湿下における耐屈曲性の判定結果がＢであった。よって、比較例１～５の反射防止フィルムは、高温高湿下の耐屈曲性に優れていなかった。
　以上の結果から、本発明によれば、過酷環境下の耐屈曲性に優れる反射防止フィルムを提供できることが示された。
１０、２０　反射防止フィルム
１１　透明フィルム基材
１２　ハードコート層
１３　反射防止層
１８　プライマー層
１９　防汚層
２１　粘着剤層
１００　画像表示装置
１０１　画像表示パネル

 

Claims (12)

  1. 　透明フィルム基材、ハードコート層及び反射防止層をこの順に有する反射防止フィルムであって、
    　温度８５℃の環境下で４８時間保持する耐熱性試験を行った際、前記耐熱性試験前後のいずれか１つの辺の方向の寸法変化率が、－０．１０％以上０．１０％以下である、反射防止フィルム。
  2. 　前記耐熱性試験前後の前記辺の方向と直交する方向の寸法変化率が、－０．１０％以上０．１０％以下である、請求項１に記載の反射防止フィルム。
  3. 　透明フィルム基材、ハードコート層及び反射防止層をこの順に有する反射防止フィルムであって、
    　温度６０℃かつ相対湿度９５％の環境下で４８時間保持する耐湿熱性試験を行った際、前記耐湿熱性試験前後のいずれか１つの辺の方向の寸法変化率が、０．０１％以上０．２０％以下である、反射防止フィルム。
  4. 　前記耐湿熱性試験前後の前記辺の方向と直交する方向の寸法変化率が、０．０１％以上０．２０％以下である、請求項３に記載の反射防止フィルム。
  5. 　前記透明フィルム基材は、ポリエチレンテレフタレートフィルムである、請求項１又は３に記載の反射防止フィルム。
  6. 　前記反射防止層の厚みが、１５０ｎｍ以上２８０ｎｍ以下である、請求項１又は３に記載の反射防止フィルム。
  7. 　前記ハードコート層と前記反射防止層との間に配置されたプライマー層を更に備える、請求項１又は３に記載の反射防止フィルム。
  8. 　前記反射防止層の前記ハードコート層側とは反対側に配置された防汚層を更に備える、請求項１又は３に記載の反射防止フィルム。
  9. 　前記透明フィルム基材の前記ハードコート層側とは反対側に配置された粘着剤層を更に備える、請求項１又は３に記載の反射防止フィルム。
  10. 　画像表示パネルと、前記画像表示パネルの視認側に配置された、請求項１又は３に記載の反射防止フィルムとを備える、画像表示装置。
  11. 　請求項１又は３に記載の反射防止フィルムの製造方法であって、
    　前記ハードコート層の前記透明フィルム基材側とは反対側に、ロールトゥロール方式のスパッタ成膜装置により前記反射防止層を成膜する工程Ｓａと、
    　前記工程Ｓａの後、前記反射防止層が形成された積層体を加熱する工程Ｓｂとを備える、反射防止フィルムの製造方法。
  12. 　前記工程Ｓｂにおいて、温度１１０℃以上の条件で前記積層体を加熱する、請求項１１に記載の反射防止フィルムの製造方法。

     
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