JPH11250805A - 表示装置へ光反射防止膜を貼着する方法 - Google Patents
表示装置へ光反射防止膜を貼着する方法Info
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- JPH11250805A JPH11250805A JP10049775A JP4977598A JPH11250805A JP H11250805 A JPH11250805 A JP H11250805A JP 10049775 A JP10049775 A JP 10049775A JP 4977598 A JP4977598 A JP 4977598A JP H11250805 A JPH11250805 A JP H11250805A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】外光の反射や帯電の防止機能を有する光反射防
止膜（ＡＲフィルター）であって、従来のＡＲフィルタ
ー（鉛筆硬度３Ｈ相当の硬度）に比較して、高硬度であ
るＡＲフィルター（鉛筆硬度５Ｈ相当）を、ＡＲフィル
ターにクラックを発生させずに、表示装置のパネルガラ
ス前面に貼着する方法を提供する。 【解決手段】基材２１上に、接着剤層を介してハードコ
ート層２２、反射防止用薄膜（ＡＲ膜）２３ａ、２３ｂ
を順に積層し、ＡＲフィルターを形成する工程と、ＡＲ
フィルターを陰極線管等の表示装置のパネルガラスに面
着させる工程と、ＡＲフィルターを硬化させるための加
熱処理、好適には、８０〜１８０℃、特に８５〜１３０
℃において、７０〜１０分間の加熱処理を行う工程とを
有する、表示装置に光反射防止膜を貼着する方法。
止膜（ＡＲフィルター）であって、従来のＡＲフィルタ
ー（鉛筆硬度３Ｈ相当の硬度）に比較して、高硬度であ
るＡＲフィルター（鉛筆硬度５Ｈ相当）を、ＡＲフィル
ターにクラックを発生させずに、表示装置のパネルガラ
ス前面に貼着する方法を提供する。 【解決手段】基材２１上に、接着剤層を介してハードコ
ート層２２、反射防止用薄膜（ＡＲ膜）２３ａ、２３ｂ
を順に積層し、ＡＲフィルターを形成する工程と、ＡＲ
フィルターを陰極線管等の表示装置のパネルガラスに面
着させる工程と、ＡＲフィルターを硬化させるための加
熱処理、好適には、８０〜１８０℃、特に８５〜１３０
℃において、７０〜１０分間の加熱処理を行う工程とを
有する、表示装置に光反射防止膜を貼着する方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、パネルガラス前面
に、光反射防止膜が貼付された陰極線管等の表示装置の
製造方法に関し、特に、クラックがなく、硬度の高い光
反射防止膜が貼付された表示装置の製造方法に関する。
に、光反射防止膜が貼付された陰極線管等の表示装置の
製造方法に関し、特に、クラックがなく、硬度の高い光
反射防止膜が貼付された表示装置の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】表示装置として陰極線管（ＣＲＴ；ｃａ
ｔｈｏｄｅ ｒａｙ ｔｕｂｅ）について例示する。Ｃ
ＲＴにおいては、パネルガラス表面で外光が反射される
ために、ＣＲＴに表示された画像が見づらくなるという
問題がある。また、ＣＲＴのパネルガラス内面に形成さ
れた蛍光面に高電圧が印加されることにより、パネル表
面の電位が変化する。それにより、パネル表面にゴミが
付着したり、手で触れた場合に放電が起こるという問題
もある。
ｔｈｏｄｅ ｒａｙ ｔｕｂｅ）について例示する。Ｃ
ＲＴにおいては、パネルガラス表面で外光が反射される
ために、ＣＲＴに表示された画像が見づらくなるという
問題がある。また、ＣＲＴのパネルガラス内面に形成さ
れた蛍光面に高電圧が印加されることにより、パネル表
面の電位が変化する。それにより、パネル表面にゴミが
付着したり、手で触れた場合に放電が起こるという問題
もある。
【０００３】そのため、ＣＲＴのパネルガラス前面に低
反射率の光反射防止膜（ＡＲフィルター；ａｎｔｉ−ｒ
ｅｆｌｅｃｔｉｏｎ ｆｉｌｔｅｒ）を接着させ、ＣＲ
Ｔパネルにおける反射を低減させる方法が広く採用され
ている。このＡＲフィルターに導電物からなる層を設け
ることにより、ＡＲフィルターに帯電防止機能を付与す
ることも行われている。
反射率の光反射防止膜（ＡＲフィルター；ａｎｔｉ−ｒ
ｅｆｌｅｃｔｉｏｎ ｆｉｌｔｅｒ）を接着させ、ＣＲ
Ｔパネルにおける反射を低減させる方法が広く採用され
ている。このＡＲフィルターに導電物からなる層を設け
ることにより、ＡＲフィルターに帯電防止機能を付与す
ることも行われている。
【０００４】上記のようなＣＲＴパネルガラスに貼付す
るためのＡＲフィルターとして、種々のものが提案され
ており、例えば、特願平７−１７０９２５号公報には、
図４に断面図を示すようなＡＲフィルターが開示されて
いる。このＡＲフィルターは、基材４１上にハードコー
ト層４２と、多層の反射防止用光学薄膜（ＡＲ膜；ａｎ
ｔｉ−ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ膜）４３ａ、４３ｂとが形
成された構造を有する。
るためのＡＲフィルターとして、種々のものが提案され
ており、例えば、特願平７−１７０９２５号公報には、
図４に断面図を示すようなＡＲフィルターが開示されて
いる。このＡＲフィルターは、基材４１上にハードコー
ト層４２と、多層の反射防止用光学薄膜（ＡＲ膜；ａｎ
ｔｉ−ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ膜）４３ａ、４３ｂとが形
成された構造を有する。
【０００５】基材４１には、ポリエチレンテレフタレー
トやポリカーボネート等の樹脂が用いられ、ハードコー
ト層４２には、ポリメチルメタクリレート等の樹脂が用
いられる。ハードコート層４２と接して上層に形成され
る、第１層目のＡＲ膜（透明導電性光吸収膜）４３ａに
は、Ａｇ、Ａｕ、ＴｉＮx （ｘ＝０．３〜１）、ＴｉＯ
x Ｎy （ｘ＝０．３〜１、ｙ＜１、ｙ≦ｘ）、ＴａＮx
（ｘ＝０．２〜１）、Ｐｔ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｔａ、Ｎｉ−
Ｃｒ、Ｃｕ−Ａｌ、Ｃｕ−Ｚｎ−Ａｌ、Ｃｕ−Ｎｉ−Ａ
ｌおよびＣｕ−Ｓｎ−Ａｌから構成された群から選択さ
れた材料が用いられ、膜厚は４〜４０ｎｍ程度である。
トやポリカーボネート等の樹脂が用いられ、ハードコー
ト層４２には、ポリメチルメタクリレート等の樹脂が用
いられる。ハードコート層４２と接して上層に形成され
る、第１層目のＡＲ膜（透明導電性光吸収膜）４３ａに
は、Ａｇ、Ａｕ、ＴｉＮx （ｘ＝０．３〜１）、ＴｉＯ
x Ｎy （ｘ＝０．３〜１、ｙ＜１、ｙ≦ｘ）、ＴａＮx
（ｘ＝０．２〜１）、Ｐｔ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｔａ、Ｎｉ−
Ｃｒ、Ｃｕ−Ａｌ、Ｃｕ−Ｚｎ−Ａｌ、Ｃｕ−Ｎｉ−Ａ
ｌおよびＣｕ−Ｓｎ−Ａｌから構成された群から選択さ
れた材料が用いられ、膜厚は４〜４０ｎｍ程度である。
【０００６】第２層目のＡＲ膜４３ｂには、第１層目の
ＡＲ膜４３ａの材料よりも屈折率の低い材料を用い、好
適にはＳｉＯ2 またはＭｇＦ2 を用いる。第２層目のＡ
Ｒ膜４３ｂの膜厚は、例えば、１００ｎｍ程度とする。
ここで、ＡＲ膜４３は３層以上とすることもできる。
ＡＲ膜４３ａの材料よりも屈折率の低い材料を用い、好
適にはＳｉＯ2 またはＭｇＦ2 を用いる。第２層目のＡ
Ｒ膜４３ｂの膜厚は、例えば、１００ｎｍ程度とする。
ここで、ＡＲ膜４３は３層以上とすることもできる。
【０００７】また、特開平９−８０２０５号公報には、
帯電防止機能や電磁放射遮蔽機能が付与されたＡＲフィ
ルターであって、ＡＲ膜のハードコート層に対する密着
性がより優れた、図５に断面図を示すようなＡＲフィル
ターが開示されている。このＡＲフィルターは、特願平
７−１７０９２５号公報記載のＡＲフィルターと同様
に、基材５１上にハードコート層５２と、少なくとも２
層のＡＲ膜５３ａ〜ｃが積層された層構成を有する。図
５には、ＡＲ膜５３が３層からなる積層体の場合を示し
た。
帯電防止機能や電磁放射遮蔽機能が付与されたＡＲフィ
ルターであって、ＡＲ膜のハードコート層に対する密着
性がより優れた、図５に断面図を示すようなＡＲフィル
ターが開示されている。このＡＲフィルターは、特願平
７−１７０９２５号公報記載のＡＲフィルターと同様
に、基材５１上にハードコート層５２と、少なくとも２
層のＡＲ膜５３ａ〜ｃが積層された層構成を有する。図
５には、ＡＲ膜５３が３層からなる積層体の場合を示し
た。
【０００８】このＡＲフィルターは、上記の特願平７−
１７０９２５号公報記載のＡＲフィルターと同様に、２
層目のＡＲ膜５３ｂが、第１層目のＡＲ膜５３ａよりも
低屈折率であることを特徴とする（ＡＲ膜が２層からな
る場合）。さらに、第１層目のＡＲ膜５３ａが、反応性
物理的気相成長法により形成された透明導電性酸化膜か
らなり、第１層目のＡＲ膜５３ａには、酸素との親和力
が透明導電性酸化膜を構成する元素と同等以上である元
素が含有されていることを特徴とする。
１７０９２５号公報記載のＡＲフィルターと同様に、２
層目のＡＲ膜５３ｂが、第１層目のＡＲ膜５３ａよりも
低屈折率であることを特徴とする（ＡＲ膜が２層からな
る場合）。さらに、第１層目のＡＲ膜５３ａが、反応性
物理的気相成長法により形成された透明導電性酸化膜か
らなり、第１層目のＡＲ膜５３ａには、酸素との親和力
が透明導電性酸化膜を構成する元素と同等以上である元
素が含有されていることを特徴とする。
【０００９】これにより、ハードコート層５２上に、例
えば、Ｉｎ−Ｓｎを合金ターゲットとして、Ｏ2 雰囲気
において反応性スパッタリングを行った場合、ＩＴＯ
（ＳｎをドープしたＩ2 Ｏ3 ）膜からなる第１層目のＡ
Ｒ膜５３ａが、ハードコート層５２に対して、十分な付
着強度で形成される。
えば、Ｉｎ−Ｓｎを合金ターゲットとして、Ｏ2 雰囲気
において反応性スパッタリングを行った場合、ＩＴＯ
（ＳｎをドープしたＩ2 Ｏ3 ）膜からなる第１層目のＡ
Ｒ膜５３ａが、ハードコート層５２に対して、十分な付
着強度で形成される。
【００１０】上記の特開平９−８０２０５号公報記載の
ＡＲフィルターには、基材５１として、ポリエチレンテ
レフタレートやポリカーボネート等からなるロール状の
フィルムが用いられる。ハードコート層５２には、酸素
を構成元素として含有する材料、例えば、シリコン系材
料、多官能アクリレート系材料、ウレタン樹脂系材料お
よびエポキシ樹脂系材料の他、メラミン樹脂系材料が用
いられ、特に、強度等の点から、アクリル系材料のポリ
メチルメタクリレートが用いられる。
ＡＲフィルターには、基材５１として、ポリエチレンテ
レフタレートやポリカーボネート等からなるロール状の
フィルムが用いられる。ハードコート層５２には、酸素
を構成元素として含有する材料、例えば、シリコン系材
料、多官能アクリレート系材料、ウレタン樹脂系材料お
よびエポキシ樹脂系材料の他、メラミン樹脂系材料が用
いられ、特に、強度等の点から、アクリル系材料のポリ
メチルメタクリレートが用いられる。
【００１１】第１層目のＡＲ膜（透明導電性酸化膜）５
３ａには、ＩＴＯの他、ＳｎＯ2 、ＺｎＯ、Ｉ2 Ｏ3 、
ＺｒＯ2 、ＴｉＯ2 、ＳｉＯx （ｘ＝１〜２）、ＳｉＯ
x Ｎy （ｘ＝１〜２、ｙ＝０．２〜０．６）、ＣｒＯx
（ｘ＝０．２〜１．５）等を用いることができる。ま
た、ＡＲ膜を３層以上とし、第１層目以外のＡＲ膜に帯
電防止層（導電体層）を設ける場合には、第１層目のＡ
Ｒ膜５３ａの導電性は低くてもよい。
３ａには、ＩＴＯの他、ＳｎＯ2 、ＺｎＯ、Ｉ2 Ｏ3 、
ＺｒＯ2 、ＴｉＯ2 、ＳｉＯx （ｘ＝１〜２）、ＳｉＯ
x Ｎy （ｘ＝１〜２、ｙ＝０．２〜０．６）、ＣｒＯx
（ｘ＝０．２〜１．５）等を用いることができる。ま
た、ＡＲ膜を３層以上とし、第１層目以外のＡＲ膜に帯
電防止層（導電体層）を設ける場合には、第１層目のＡ
Ｒ膜５３ａの導電性は低くてもよい。
【００１２】第１層目のＡＲ膜５３ａを、上記の透明導
電性酸化物膜を用いて形成した場合は、第２層目のＡＲ
膜５３ｂには、材料としてＳｉＯ2 またはＭｇＦ2 等を
用いることができる。また、第１層目のＡＲ膜５３ａ
を、上記の透明酸化物膜を用いて形成し、第２層目のＡ
Ｒ膜５３ｂには、Ａｇ、Ａｕ、ＴｉＮx （ｘ＝０．３〜
１）、ＴｉＯxＮy （ｘ＝０．３〜１、ｙ＜１、ｙ≦
ｘ）、ＴａＮx （ｘ＝０．２〜１）、Ｐｔ、Ａｌ、Ｃ
ｕ、Ｔａ、Ｎｉ−Ｃｒ、Ｃｕ−Ａｌ、Ｃｕ−Ｚｎ−Ａ
ｌ、Ｃｕ−Ｎｉ−ＡｌおよびＣｕ−Ｓｎ−Ａｌから構成
された群から選択された材料を用い、第３層目のＡＲ膜
５３ｃに、材料としてＳｉＯ2 またはＭｇＦ2 を用いる
こともできる。
電性酸化物膜を用いて形成した場合は、第２層目のＡＲ
膜５３ｂには、材料としてＳｉＯ2 またはＭｇＦ2 等を
用いることができる。また、第１層目のＡＲ膜５３ａ
を、上記の透明酸化物膜を用いて形成し、第２層目のＡ
Ｒ膜５３ｂには、Ａｇ、Ａｕ、ＴｉＮx （ｘ＝０．３〜
１）、ＴｉＯxＮy （ｘ＝０．３〜１、ｙ＜１、ｙ≦
ｘ）、ＴａＮx （ｘ＝０．２〜１）、Ｐｔ、Ａｌ、Ｃ
ｕ、Ｔａ、Ｎｉ−Ｃｒ、Ｃｕ−Ａｌ、Ｃｕ−Ｚｎ−Ａ
ｌ、Ｃｕ−Ｎｉ−ＡｌおよびＣｕ−Ｓｎ−Ａｌから構成
された群から選択された材料を用い、第３層目のＡＲ膜
５３ｃに、材料としてＳｉＯ2 またはＭｇＦ2 を用いる
こともできる。
【００１３】上記のような構成を有するＡＲフィルター
は、接着剤層または粘着剤層を介して、ＣＲＴのパネル
ガラス表面に貼付されて使用される。ＡＲフィルターを
貼付する際には、真空引きしながらＡＲフィルターに圧
力を加えることにより、ＡＲフィルターとＣＲＴとの間
に空気が入るのを防ぐことができる。また、貼付された
ＡＲフィルターにしわが入るのを防ぐため、ＡＲフィル
ターを貼付する際、ＡＲフィルターを基材の軟化点以下
の温度で加熱してもよい。
は、接着剤層または粘着剤層を介して、ＣＲＴのパネル
ガラス表面に貼付されて使用される。ＡＲフィルターを
貼付する際には、真空引きしながらＡＲフィルターに圧
力を加えることにより、ＡＲフィルターとＣＲＴとの間
に空気が入るのを防ぐことができる。また、貼付された
ＡＲフィルターにしわが入るのを防ぐため、ＡＲフィル
ターを貼付する際、ＡＲフィルターを基材の軟化点以下
の温度で加熱してもよい。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来のＣＲＴ用ＡＲフィルターにおいては、ＡＲフィル
ターの耐擦傷性、耐久性を向上させるため、ＡＲフィル
ムの硬度を大きくしようとすると、ＡＲフィルター自体
にクラックが生じ、ＡＲフィルターが破損してしまうと
いう問題がある。
従来のＣＲＴ用ＡＲフィルターにおいては、ＡＲフィル
ターの耐擦傷性、耐久性を向上させるため、ＡＲフィル
ムの硬度を大きくしようとすると、ＡＲフィルター自体
にクラックが生じ、ＡＲフィルターが破損してしまうと
いう問題がある。
【００１５】図５に示すようなＡＲフィルターの場合、
例えばアクリル系樹脂からなるハードコート層の膜厚は
４〜６μｍであるのに対し、ＡＲ膜は極めて薄く、５層
程度積層した場合にも、ＡＲ膜の膜厚の合計は１００〜
３００ｎｍ程度である。上記のことから、ＡＲフィルタ
ーの硬度に対しては、ハードコート層および基材の硬度
が支配的であり、ＡＲフィルターの硬度を大きくするに
は、ハードコート層および基材の硬度を大きくすること
が効果的と推測される。
例えばアクリル系樹脂からなるハードコート層の膜厚は
４〜６μｍであるのに対し、ＡＲ膜は極めて薄く、５層
程度積層した場合にも、ＡＲ膜の膜厚の合計は１００〜
３００ｎｍ程度である。上記のことから、ＡＲフィルタ
ーの硬度に対しては、ハードコート層および基材の硬度
が支配的であり、ＡＲフィルターの硬度を大きくするに
は、ハードコート層および基材の硬度を大きくすること
が効果的と推測される。
【００１６】ハードコート層の樹脂の硬化を促進させ、
鉛筆硬度５Ｈ〜６Ｈ相当の硬度を有するＡＲフィルター
も作製されている。しかしながら、そのような高硬度の
基材を長尺ロールフィルムとして、スパッタロールコー
ター、湿式ロールコーター、スリッター、裁断機（カッ
ター）、ロール検査機等、一連のフィルター製造装置の
中を走行させた場合、ロール走行メカニズムの中で、裏
曲がり、表曲がりの変形を余儀なくされるため、フィル
ムにクラックが発生する。
鉛筆硬度５Ｈ〜６Ｈ相当の硬度を有するＡＲフィルター
も作製されている。しかしながら、そのような高硬度の
基材を長尺ロールフィルムとして、スパッタロールコー
ター、湿式ロールコーター、スリッター、裁断機（カッ
ター）、ロール検査機等、一連のフィルター製造装置の
中を走行させた場合、ロール走行メカニズムの中で、裏
曲がり、表曲がりの変形を余儀なくされるため、フィル
ムにクラックが発生する。
【００１７】このクラックを回避するためには、ガイド
ロールの直径を増大させ、ガイドロール表面の曲率を上
げればよい。しかしながら、直径３０〜５０ｃｍ程度の
ガイドロールで機械を構成することは現実的に不可能で
あり、実際には、直径１０ｃｍ以下のガイドロールが使
用される。したがって、直径１０ｃｍ以下のガイドロー
ルが用いられるロールフィルム走行メカニズムにおい
て、フィルムにクラックが発生しないよう、フィルムに
一定の柔軟性（鉛筆硬度の２Ｈ〜３Ｈ程度に相当する硬
度）を維持する必要がある。
ロールの直径を増大させ、ガイドロール表面の曲率を上
げればよい。しかしながら、直径３０〜５０ｃｍ程度の
ガイドロールで機械を構成することは現実的に不可能で
あり、実際には、直径１０ｃｍ以下のガイドロールが使
用される。したがって、直径１０ｃｍ以下のガイドロー
ルが用いられるロールフィルム走行メカニズムにおい
て、フィルムにクラックが発生しないよう、フィルムに
一定の柔軟性（鉛筆硬度の２Ｈ〜３Ｈ程度に相当する硬
度）を維持する必要がある。
【００１８】また、ロールフィルム走行メカニズム以外
においても、フィルムのハンドリング時における力点の
応力集中によりクラックが発生しやすいため、ハードコ
ート層および基材からなるＡＲフィルムをＣＲＴのパネ
ルガラスに貼付する以前の、屈曲加工が行われる工程に
おいては、ＡＲフィルムの硬化を十分に促進させること
はできない。
においても、フィルムのハンドリング時における力点の
応力集中によりクラックが発生しやすいため、ハードコ
ート層および基材からなるＡＲフィルムをＣＲＴのパネ
ルガラスに貼付する以前の、屈曲加工が行われる工程に
おいては、ＡＲフィルムの硬化を十分に促進させること
はできない。
【００１９】以上、ＣＲＴを例示して光反射防止膜を貼
着する方法について記述したが、ＣＲＴ以外の表示装
置、例えば、ＬＣＤパネル等についても同様の問題が発
生する場合がある。本発明は上記の問題点を鑑みてなさ
れたものであり、したがって本発明は、クラックがな
く、従来のＡＲフィルターに比較して高硬度であるＡＲ
フィルターが貼付されたＣＲＴ等の表示装置の製造方法
を提供することを目的とする。
着する方法について記述したが、ＣＲＴ以外の表示装
置、例えば、ＬＣＤパネル等についても同様の問題が発
生する場合がある。本発明は上記の問題点を鑑みてなさ
れたものであり、したがって本発明は、クラックがな
く、従来のＡＲフィルターに比較して高硬度であるＡＲ
フィルターが貼付されたＣＲＴ等の表示装置の製造方法
を提供することを目的とする。
【００２０】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明の表示装置へ光反射防止膜を貼着する方法
は、基材フィルム上に、接着剤層を介してハードコート
層を形成する工程と、前記ハードコート層上に反射防止
用光学薄膜を積層させ、光反射防止膜を形成する工程
と、前記光反射防止膜を表示装置のパネルガラスに面着
させる工程と、加熱処理により前記光反射防止膜を硬化
させる工程とを有することを特徴とする。
め、本発明の表示装置へ光反射防止膜を貼着する方法
は、基材フィルム上に、接着剤層を介してハードコート
層を形成する工程と、前記ハードコート層上に反射防止
用光学薄膜を積層させ、光反射防止膜を形成する工程
と、前記光反射防止膜を表示装置のパネルガラスに面着
させる工程と、加熱処理により前記光反射防止膜を硬化
させる工程とを有することを特徴とする。
【００２１】これにより、屈曲加工を伴う、一連のＡＲ
フィルター製造装置の中を走行させる製造工程において
は、フィルムに柔軟性が維持されているため、クラック
の発生を防止することができる。また、ＡＲフィルター
をＣＲＴ表面に貼付後、ＡＲフィルターを加熱硬化させ
るため、最終的には従来のＡＲフィルターに比較して高
硬度で耐擦傷性に優れるＡＲフィルターが得られる。
フィルター製造装置の中を走行させる製造工程において
は、フィルムに柔軟性が維持されているため、クラック
の発生を防止することができる。また、ＡＲフィルター
をＣＲＴ表面に貼付後、ＡＲフィルターを加熱硬化させ
るため、最終的には従来のＡＲフィルターに比較して高
硬度で耐擦傷性に優れるＡＲフィルターが得られる。
【００２２】また、ＣＲＴパネルガラス表面に貼付され
るフィルターは、主に、外光の反射、帯電および電磁放
射を防止する目的で設けられるが、一方では、ＣＲＴの
爆縮を防止し、爆縮によるガラスの飛散を防止する手段
（特開昭５２−８７３５２号公報、特開昭５２−８７３
５３号公報他）でもある。
るフィルターは、主に、外光の反射、帯電および電磁放
射を防止する目的で設けられるが、一方では、ＣＲＴの
爆縮を防止し、爆縮によるガラスの飛散を防止する手段
（特開昭５２−８７３５２号公報、特開昭５２−８７３
５３号公報他）でもある。
【００２３】本発明の表示装置へ光反射防止膜を貼着す
る方法によれば、高硬度なＡＲフィルターが形成される
ため、ＣＲＴの爆縮防止、爆縮によるガラスの飛散防止
という副次的な効果も得られる。特に、大型ＣＲＴや、
平面パネルを有するＣＲＴの場合、ＣＲＴの防爆には、
機械的強度の大きいパネルガラスが要求される。そのた
め、パネルガラスを厚くしてガラス強度を補強すること
が多いが、装置の軽量化の点からは好ましくない。
る方法によれば、高硬度なＡＲフィルターが形成される
ため、ＣＲＴの爆縮防止、爆縮によるガラスの飛散防止
という副次的な効果も得られる。特に、大型ＣＲＴや、
平面パネルを有するＣＲＴの場合、ＣＲＴの防爆には、
機械的強度の大きいパネルガラスが要求される。そのた
め、パネルガラスを厚くしてガラス強度を補強すること
が多いが、装置の軽量化の点からは好ましくない。
【００２４】本発明の表示装置へ光反射防止膜を貼着す
る方法によれば、高硬度なＡＲフィルターによりパネル
ガラスの強度が補強されるため、パネルガラスの薄膜化
が可能となり、したがって、装置を軽量化することもで
きる。
る方法によれば、高硬度なＡＲフィルターによりパネル
ガラスの強度が補強されるため、パネルガラスの薄膜化
が可能となり、したがって、装置を軽量化することもで
きる。
【００２５】上記の本発明の表示装置へ光反射防止膜を
貼着する方法は、好適には、前記加熱処理の温度は８０
〜１８０℃、さらに好適には、８５〜１３０℃であり、
前記加熱処理の時間は７０〜１０分間であることを特徴
とする。
貼着する方法は、好適には、前記加熱処理の温度は８０
〜１８０℃、さらに好適には、８５〜１３０℃であり、
前記加熱処理の時間は７０〜１０分間であることを特徴
とする。
【００２６】図１に、本発明の表示装置へ光反射防止膜
を貼着する方法において、加熱処理によりＡＲフィルタ
ーを硬化させる場合の、熱処理条件とＡＲフィルターに
及ぼす影響との関係を示す。曲線Ａより上部の領域で
は、接着剤層内に気泡が発生したり、また、紫外線硬化
型接着剤の場合には、接着剤層に浮き状剥離が発生した
りするという問題が生じる。曲線Ｃより下部の領域で
は、樹脂の硬化がほとんど進行しない。
を貼着する方法において、加熱処理によりＡＲフィルタ
ーを硬化させる場合の、熱処理条件とＡＲフィルターに
及ぼす影響との関係を示す。曲線Ａより上部の領域で
は、接着剤層内に気泡が発生したり、また、紫外線硬化
型接着剤の場合には、接着剤層に浮き状剥離が発生した
りするという問題が生じる。曲線Ｃより下部の領域で
は、樹脂の硬化がほとんど進行しない。
【００２７】曲線Ａと曲線Ｂで囲まれる領域では、ＡＲ
フィルターに剥離等の問題が発生せずに、樹脂の硬化が
起こる。しかしながら、曲線Ｂより上部の条件では、時
間が長過ぎるためコスト高となる。したがって、曲線Ｂ
と曲線Ｃで囲まれる領域の条件が、加熱硬化の最適条件
となり、これにより、高硬度で耐擦傷性に優れるＡＲフ
ィルターが得られる。
フィルターに剥離等の問題が発生せずに、樹脂の硬化が
起こる。しかしながら、曲線Ｂより上部の条件では、時
間が長過ぎるためコスト高となる。したがって、曲線Ｂ
と曲線Ｃで囲まれる領域の条件が、加熱硬化の最適条件
となり、これにより、高硬度で耐擦傷性に優れるＡＲフ
ィルターが得られる。
【００２８】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の表示装置へ光反
射防止膜を貼着する方法の実施の形態について、図面を
参照して下記に説明する。図２は、本実施形態により製
造されるＡＲフィルムの断面図の例である。基材２１上
にハードコート層２２が形成され、その上層に、高屈折
率材料からなるＡＲ膜２３ａ、低屈折率材料からなるＡ
Ｒ２３ｂが順に積層され、最上層には防汚層２４が形成
されている。
射防止膜を貼着する方法の実施の形態について、図面を
参照して下記に説明する。図２は、本実施形態により製
造されるＡＲフィルムの断面図の例である。基材２１上
にハードコート層２２が形成され、その上層に、高屈折
率材料からなるＡＲ膜２３ａ、低屈折率材料からなるＡ
Ｒ２３ｂが順に積層され、最上層には防汚層２４が形成
されている。
【００２９】本発明において、基材２１は光を透過し得
る材料であれば、いかなる材料から構成されてもよい。
基材の材料は、要求される仕様やＡＲフィルターの使用
分野に応じて、プラスチックまたはガラス材料から適宜
決定すればよい。基材２１に用いることのできるプラス
チック材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリメチル
メタクリレートおよびその共重合体、スチレンメチルメ
タクリレート、不飽和ポリエステル、ポリスチレン、ア
クリルニトリル−スチレン共重合体、塩化ビニル、ポリ
ウレタン、エポキシ樹脂、トリアセチルセルロースやジ
アセチルセルロース等のセルロース系樹脂が挙げられ
る。特に、光透過性、表面硬度、加工性の点からポリエ
チレンテレフタレートまたはポリカーボネートが好まし
い。
る材料であれば、いかなる材料から構成されてもよい。
基材の材料は、要求される仕様やＡＲフィルターの使用
分野に応じて、プラスチックまたはガラス材料から適宜
決定すればよい。基材２１に用いることのできるプラス
チック材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリメチル
メタクリレートおよびその共重合体、スチレンメチルメ
タクリレート、不飽和ポリエステル、ポリスチレン、ア
クリルニトリル−スチレン共重合体、塩化ビニル、ポリ
ウレタン、エポキシ樹脂、トリアセチルセルロースやジ
アセチルセルロース等のセルロース系樹脂が挙げられ
る。特に、光透過性、表面硬度、加工性の点からポリエ
チレンテレフタレートまたはポリカーボネートが好まし
い。
【００３０】基材２１上に、接着剤層を介してハードコ
ート層２２を形成する。ハードコート層２２は、シリコ
ン系材料、多官能アクリレート系材料またはウレタン樹
脂系材料、メラミン樹脂系材料またはエポキシ樹脂系材
料等を用いて形成することができる。ここで、シリコン
系材料としては、テトラアルコキシシランや、アルキル
トリアルコキシシランと、エポキシ基やメタクリル基等
を有するシランカップリング剤の共加水分解物が挙げら
れる。多官能アクリレート系材料としては、例えば、ポ
リオールアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウ
レタンアクリレート、エポキシアクリレート等が挙げら
れる。
ート層２２を形成する。ハードコート層２２は、シリコ
ン系材料、多官能アクリレート系材料またはウレタン樹
脂系材料、メラミン樹脂系材料またはエポキシ樹脂系材
料等を用いて形成することができる。ここで、シリコン
系材料としては、テトラアルコキシシランや、アルキル
トリアルコキシシランと、エポキシ基やメタクリル基等
を有するシランカップリング剤の共加水分解物が挙げら
れる。多官能アクリレート系材料としては、例えば、ポ
リオールアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウ
レタンアクリレート、エポキシアクリレート等が挙げら
れる。
【００３１】ハードコート層２２は、上記の樹脂の他、
アクリル−シリコンや、親水性ゾルや疎水性ゾルの形態
のコロイダルシリカを用いても形成することができる。
上記のハードコート層２２材料のうち、アクリル系樹
脂、特に、ポリメチルメタクリレートが耐擦傷性および
基材への密着性の点から好ましい。ハードコート層２２
は、ディップコーティング法、スピンコーティング法、
スプレーコーティング法、フローコーティング法等の従
来公知の塗布法により材料を塗布し、塗布された樹脂を
乾燥させ、熱または紫外線照射により樹脂を硬化させる
ことにより形成される。ハードコート層２２の膜厚は、
通常、４〜６μｍ程度とする。
アクリル−シリコンや、親水性ゾルや疎水性ゾルの形態
のコロイダルシリカを用いても形成することができる。
上記のハードコート層２２材料のうち、アクリル系樹
脂、特に、ポリメチルメタクリレートが耐擦傷性および
基材への密着性の点から好ましい。ハードコート層２２
は、ディップコーティング法、スピンコーティング法、
スプレーコーティング法、フローコーティング法等の従
来公知の塗布法により材料を塗布し、塗布された樹脂を
乾燥させ、熱または紫外線照射により樹脂を硬化させる
ことにより形成される。ハードコート層２２の膜厚は、
通常、４〜６μｍ程度とする。
【００３２】ハードコート層２２上に、高屈折率膜／低
屈折率膜の順に、少なくとも２層のＡＲ膜２３ａ、２３
ｂ、好適には、高屈折率膜／低屈折率膜／高屈折率膜／
低屈折率膜の順に、繰り返しＡＲ膜２３を成膜すること
により、反射防止機能が付与される。ＡＲ膜２３の材料
としては、導電性酸化物、非導電性酸化物のいずれも用
いることができるが、ＡＲフィルターの帯電および電磁
放射防止機能を向上させるには、導電性酸化物を用いる
のが好ましい。
屈折率膜の順に、少なくとも２層のＡＲ膜２３ａ、２３
ｂ、好適には、高屈折率膜／低屈折率膜／高屈折率膜／
低屈折率膜の順に、繰り返しＡＲ膜２３を成膜すること
により、反射防止機能が付与される。ＡＲ膜２３の材料
としては、導電性酸化物、非導電性酸化物のいずれも用
いることができるが、ＡＲフィルターの帯電および電磁
放射防止機能を向上させるには、導電性酸化物を用いる
のが好ましい。
【００３３】ＡＲ膜の高屈折率膜２３ａに用いることが
できる材料としては、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 、Ｔａ
2 Ｏ5 、Ｙ2 Ｏ3 、ＩＴＯ等が挙げられる。これらの材
質は、５５０ｎｍ付近における屈折率が１．８〜２．７
であり、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 、Ｔａ2 Ｏ5 、Ｙ2 Ｏ
3 は、ポリメチルメタクリレートからなるハードコート
層に対する密着性も優れる。
できる材料としては、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 、Ｔａ
2 Ｏ5 、Ｙ2 Ｏ3 、ＩＴＯ等が挙げられる。これらの材
質は、５５０ｎｍ付近における屈折率が１．８〜２．７
であり、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 、Ｔａ2 Ｏ5 、Ｙ2 Ｏ
3 は、ポリメチルメタクリレートからなるハードコート
層に対する密着性も優れる。
【００３４】ＡＲ膜の低屈折率膜２３ｂに用いることが
できる材料としては、ＳｉＯ2 およびＭｇＦ2 が挙げら
れる。５５０ｎｍにおける屈折率は、ＳｉＯ2 が１．４
６で、ＭｇＦ2 が１．３８である。その他にも、低屈折
率膜２３ｂには屈折率が約１．７以下の材料、例えば、
ＣａＦ2 、ＬａＦ3 、Ｎａ3 ＡｌＦ6 、Ｎａ5 Ａｌ3Ｆ
14、ＮｄＦ3 、ＣｅＦ3 、ＢａＦ2 、ＮａＦ、Ａｌ2 Ｏ
3 等を用いることができる。
できる材料としては、ＳｉＯ2 およびＭｇＦ2 が挙げら
れる。５５０ｎｍにおける屈折率は、ＳｉＯ2 が１．４
６で、ＭｇＦ2 が１．３８である。その他にも、低屈折
率膜２３ｂには屈折率が約１．７以下の材料、例えば、
ＣａＦ2 、ＬａＦ3 、Ｎａ3 ＡｌＦ6 、Ｎａ5 Ａｌ3Ｆ
14、ＮｄＦ3 、ＣｅＦ3 、ＢａＦ2 、ＮａＦ、Ａｌ2 Ｏ
3 等を用いることができる。
【００３５】ハードコート層２２上に、通常、スパッタ
リング法により上記のようなＡＲ膜２３ａ、２３ｂを形
成する。ＡＲ層２３の膜厚は、積層体としての合計で、
通常、１００〜３００ｎｍ程度とする。
リング法により上記のようなＡＲ膜２３ａ、２３ｂを形
成する。ＡＲ層２３の膜厚は、積層体としての合計で、
通常、１００〜３００ｎｍ程度とする。
【００３６】ＡＲ膜２３ａ、２３ｂの上層（ＡＲ膜が３
層以上の積層体である場合は、最上層のＡＲ膜の上層）
に、防汚層２４を形成することもできる。防汚層２４の
材料としては、例えば、ポリテトラフルオロエチレン、
テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニル
エーテル共重合体、テトラフルオロエチレン−ヘキサフ
ルオロプロピレン共重合体、ポリクロロトリフルオロエ
チレン、テトラフルオロエチレン−エチレン共重合体、
クロロトリフルオロエチレン−エチレン共重合体、ポリ
ビニリデンフルオライド、ポリビニルフルオライド等の
フッ素系材料が挙げられ、これにより、指紋等の付着を
低減することができる。防汚層２４の膜厚は、３〜１０
０ｎｍ程度とする。
層以上の積層体である場合は、最上層のＡＲ膜の上層）
に、防汚層２４を形成することもできる。防汚層２４の
材料としては、例えば、ポリテトラフルオロエチレン、
テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニル
エーテル共重合体、テトラフルオロエチレン−ヘキサフ
ルオロプロピレン共重合体、ポリクロロトリフルオロエ
チレン、テトラフルオロエチレン−エチレン共重合体、
クロロトリフルオロエチレン−エチレン共重合体、ポリ
ビニリデンフルオライド、ポリビニルフルオライド等の
フッ素系材料が挙げられ、これにより、指紋等の付着を
低減することができる。防汚層２４の膜厚は、３〜１０
０ｎｍ程度とする。
【００３７】上記のような構成からなるＡＲフィルター
を、接着剤層を介して、ＣＲＴのパネルガラスに貼付す
る。その後８０〜１８０℃、好適には８５〜１３０℃の
加熱処理を７０〜１０分間行う。ＡＲフィルターの加熱
は、例えば、ＡＲフィルターが貼着されたＣＲＴ表面に
赤外線ヒーターを照射することにより、また、パネル面
が加熱されるようにトンネル炉を通過させることにより
行うことができる。上記のように、ＡＲフィルターを加
熱硬化させることにより、高硬度で耐擦傷性に優れたＡ
ＲフィルターがＣＲＴパネルガラス表面に形成される。
を、接着剤層を介して、ＣＲＴのパネルガラスに貼付す
る。その後８０〜１８０℃、好適には８５〜１３０℃の
加熱処理を７０〜１０分間行う。ＡＲフィルターの加熱
は、例えば、ＡＲフィルターが貼着されたＣＲＴ表面に
赤外線ヒーターを照射することにより、また、パネル面
が加熱されるようにトンネル炉を通過させることにより
行うことができる。上記のように、ＡＲフィルターを加
熱硬化させることにより、高硬度で耐擦傷性に優れたＡ
ＲフィルターがＣＲＴパネルガラス表面に形成される。
【００３８】
【実施例】図３に、比較例１、２および実施例のＡＲフ
ィルターの断面図を示す。 （比較例１）本比較例は、従来法によりハードコート層
３２が形成された場合の例である。基材３１としては、
膜厚１８８μｍの透明ポリエチレンテレフタレートフィ
ルムを用いた。基材３１上に、ポリメチルメタクリレー
ト樹脂からなるハードコート層３２を膜厚５μｍで形成
した後、紫外線照射により鉛筆硬度３Ｈに相当する硬度
となるまでハードコート層３２の硬化を行った。この時
点においてハードコート層３２表面に、目視で確認でき
るクラック（以下、クラックの判定方法は同様とす
る。）は皆無であった。
ィルターの断面図を示す。 （比較例１）本比較例は、従来法によりハードコート層
３２が形成された場合の例である。基材３１としては、
膜厚１８８μｍの透明ポリエチレンテレフタレートフィ
ルムを用いた。基材３１上に、ポリメチルメタクリレー
ト樹脂からなるハードコート層３２を膜厚５μｍで形成
した後、紫外線照射により鉛筆硬度３Ｈに相当する硬度
となるまでハードコート層３２の硬化を行った。この時
点においてハードコート層３２表面に、目視で確認でき
るクラック（以下、クラックの判定方法は同様とす
る。）は皆無であった。
【００３９】次に、ハードコート層３２上に、５層から
なる膜厚２００ｎｍ程度のＡＲ膜３３ａ〜ｅを形成し
た。ＡＲ膜を構成する各層については、第１層目３３ａ
を膜厚３±２ｎｍのＳｉＯx 膜、第２層目３３ｂを膜厚
２１±３ｎｍのＩＴＯ膜、第３層目３３ｃを膜厚３２±
３ｎｍのＳｉＯ2 膜、第４層目３３ｄを膜厚４２±３ｎ
ｍのＩＴＯ膜、第５層目３３ｅを膜厚１０３±３ｎｍの
ＳｉＯ2 膜とした。ここで、ハードコート層３２上に高
屈折率膜としてＩＴＯ膜をマグネトロンスパッタリング
により成膜しようとすると、ハードコート層３２に対す
る付着強度が不十分となるため、ハードコート層３２へ
の密着性を向上させる目的で、第１層目のＳｉＯx 膜３
３ａを設ける。
なる膜厚２００ｎｍ程度のＡＲ膜３３ａ〜ｅを形成し
た。ＡＲ膜を構成する各層については、第１層目３３ａ
を膜厚３±２ｎｍのＳｉＯx 膜、第２層目３３ｂを膜厚
２１±３ｎｍのＩＴＯ膜、第３層目３３ｃを膜厚３２±
３ｎｍのＳｉＯ2 膜、第４層目３３ｄを膜厚４２±３ｎ
ｍのＩＴＯ膜、第５層目３３ｅを膜厚１０３±３ｎｍの
ＳｉＯ2 膜とした。ここで、ハードコート層３２上に高
屈折率膜としてＩＴＯ膜をマグネトロンスパッタリング
により成膜しようとすると、ハードコート層３２に対す
る付着強度が不十分となるため、ハードコート層３２へ
の密着性を向上させる目的で、第１層目のＳｉＯx 膜３
３ａを設ける。
【００４０】ＡＲ膜３３ａ〜ｅの各層は、Ｏ2 ガス／Ａ
ｒガスの混合ガス雰囲気で反応性スパッタリングを行う
ことにより形成した。フィルム走行スピードは共通に、
０．８ｍ／分とした。ＡＲ膜３３ａ〜ｅを形成した時点
において、ハードコート層３２にみられるクラックは皆
無であった。基材３１上にハードコート層３２が積層さ
れた広巾フィルム（１２００ｍｍ巾）を１７インチＣＲ
Ｔサイズにスリットし、裁断した。この時点においてハ
ードコート層３２のクラックは皆無であった。
ｒガスの混合ガス雰囲気で反応性スパッタリングを行う
ことにより形成した。フィルム走行スピードは共通に、
０．８ｍ／分とした。ＡＲ膜３３ａ〜ｅを形成した時点
において、ハードコート層３２にみられるクラックは皆
無であった。基材３１上にハードコート層３２が積層さ
れた広巾フィルム（１２００ｍｍ巾）を１７インチＣＲ
Ｔサイズにスリットし、裁断した。この時点においてハ
ードコート層３２のクラックは皆無であった。
【００４１】１７インチＣＲＴサイズに裁断したフィル
タの接着面に、アクリル系粘着剤を膜厚５０±２μｍで
均一に塗布した後、６０℃で乾燥させ、接着剤層を形成
した。上記のＡＲフィルターをゴムローラーを用いて押
圧しながら、ＣＲＴ用クリアガラスに貼付した。その
後、紫外線照射により接着剤層を固化させた。この時点
においてハードコート層３２のクラックは皆無であり、
ＣＲＴ前面に鉛筆硬度３Ｈに相当する硬度を有するＡＲ
フィルターが形成された。
タの接着面に、アクリル系粘着剤を膜厚５０±２μｍで
均一に塗布した後、６０℃で乾燥させ、接着剤層を形成
した。上記のＡＲフィルターをゴムローラーを用いて押
圧しながら、ＣＲＴ用クリアガラスに貼付した。その
後、紫外線照射により接着剤層を固化させた。この時点
においてハードコート層３２のクラックは皆無であり、
ＣＲＴ前面に鉛筆硬度３Ｈに相当する硬度を有するＡＲ
フィルターが形成された。
【００４２】形成されたＡＲフィルターの４５０〜６５
０ｎｍの波長域における光学反射率は０．４％であり、
全光線透過率は９０％であった。また、電気抵抗は５０
０Ω／□以下であり、十分な帯電防止機能が確認され
た。
０ｎｍの波長域における光学反射率は０．４％であり、
全光線透過率は９０％であった。また、電気抵抗は５０
０Ω／□以下であり、十分な帯電防止機能が確認され
た。
【００４３】（比較例２）本比較例は、基材３１上にハ
ードコート層３２を形成後、ＡＲ膜３３ａ〜ｅを形成す
る前に、ハードコート層３２を硬化させた場合の例であ
る。比較例１と同様に、基材３１としては膜厚１８８μ
ｍの透明ポリエチレンテレフタレートフィルムを用い
た。基材３１上に、ポリメチルメタクリレート樹脂から
なるハードコート層３２を膜厚５μｍで形成した後、比
較例１の場合よりも長時間の紫外線照射を行うことによ
り、鉛筆硬度５Ｈに相当する硬度となるまでハードコー
ト層３２を硬化させた。この時点においてハードコート
層３２表面に、２０〜３０ヶ所／ｍ2 のクラックが確認
された。
ードコート層３２を形成後、ＡＲ膜３３ａ〜ｅを形成す
る前に、ハードコート層３２を硬化させた場合の例であ
る。比較例１と同様に、基材３１としては膜厚１８８μ
ｍの透明ポリエチレンテレフタレートフィルムを用い
た。基材３１上に、ポリメチルメタクリレート樹脂から
なるハードコート層３２を膜厚５μｍで形成した後、比
較例１の場合よりも長時間の紫外線照射を行うことによ
り、鉛筆硬度５Ｈに相当する硬度となるまでハードコー
ト層３２を硬化させた。この時点においてハードコート
層３２表面に、２０〜３０ヶ所／ｍ2 のクラックが確認
された。
【００４４】次に、比較例１と同様にスパッタリングを
行い、ハードコート層３２上に５層からなる膜厚２００
ｎｍ程度のＡＲ膜３３ａ〜ｅを形成した。ＡＲ膜３３ａ
〜ｅの各層の膜厚および組成は、比較例１と同様とし
た。ＡＲ膜３３ａ〜ｅを形成した時点において、ハード
コート層３２のクラックは２５〜５０ヶ所／ｍ2 に増加
した。
行い、ハードコート層３２上に５層からなる膜厚２００
ｎｍ程度のＡＲ膜３３ａ〜ｅを形成した。ＡＲ膜３３ａ
〜ｅの各層の膜厚および組成は、比較例１と同様とし
た。ＡＲ膜３３ａ〜ｅを形成した時点において、ハード
コート層３２のクラックは２５〜５０ヶ所／ｍ2 に増加
した。
【００４５】基材３１上にハードコート層３２が積層さ
れた広巾フィルム（１２００ｍｍ巾）を１７インチＣＲ
Ｔサイズにスリットし、裁断した。この時点においてハ
ードコート層３２のクラックは３０〜４０ヶ所／枚（３
００〜４００ヶ所／ｍ2 に相当）となり、裁断工程にお
いてクラックは著しく増加した。
れた広巾フィルム（１２００ｍｍ巾）を１７インチＣＲ
Ｔサイズにスリットし、裁断した。この時点においてハ
ードコート層３２のクラックは３０〜４０ヶ所／枚（３
００〜４００ヶ所／ｍ2 に相当）となり、裁断工程にお
いてクラックは著しく増加した。
【００４６】１７インチＣＲＴサイズに裁断したフィル
タの接着面に、アクリル系粘着剤を膜厚５０±２μｍで
均一に塗布した後、６０℃で乾燥させ、接着剤層を形成
した。上記のＡＲフィルターをゴムローラーを用いて押
圧しながら、ＣＲＴ用クリアガラスに貼付した。その
後、紫外線照射により接着剤層を固化させた。この時点
においてハードコート層３２のクラックは４０〜５０ヶ
所／枚であり、ＣＲＴ前面に、鉛筆硬度５Ｈに相当する
硬度を有するＡＲフィルターが形成された。
タの接着面に、アクリル系粘着剤を膜厚５０±２μｍで
均一に塗布した後、６０℃で乾燥させ、接着剤層を形成
した。上記のＡＲフィルターをゴムローラーを用いて押
圧しながら、ＣＲＴ用クリアガラスに貼付した。その
後、紫外線照射により接着剤層を固化させた。この時点
においてハードコート層３２のクラックは４０〜５０ヶ
所／枚であり、ＣＲＴ前面に、鉛筆硬度５Ｈに相当する
硬度を有するＡＲフィルターが形成された。
【００４７】（実施例）本実施例は、本発明の製造方法
に従って、フィルムの屈曲加工を伴う工程においてはハ
ードコート層３２の硬化を行わず、ＣＲＴパネル上にＡ
Ｒフィルターを貼付した後、ハードコート層３２の硬化
を行った場合の例である。
に従って、フィルムの屈曲加工を伴う工程においてはハ
ードコート層３２の硬化を行わず、ＣＲＴパネル上にＡ
Ｒフィルターを貼付した後、ハードコート層３２の硬化
を行った場合の例である。
【００４８】基材３１としては、上記の比較例１・２と
同様に膜厚１８８μｍの透明ポリエチレンテレフタレー
トフィルムを用いた。基材３１上に、ポリメチルメタク
リレート樹脂からなるハードコート層３２を膜厚５μｍ
で形成した後、紫外線照射を行うことにより鉛筆硬度３
Ｈに相当する硬度となるまでハードコート層３２を硬化
させた。この時点において、ハードコート層３２表面の
クラックは皆無であった。
同様に膜厚１８８μｍの透明ポリエチレンテレフタレー
トフィルムを用いた。基材３１上に、ポリメチルメタク
リレート樹脂からなるハードコート層３２を膜厚５μｍ
で形成した後、紫外線照射を行うことにより鉛筆硬度３
Ｈに相当する硬度となるまでハードコート層３２を硬化
させた。この時点において、ハードコート層３２表面の
クラックは皆無であった。
【００４９】次に、比較例１・２と同様にスパッタリン
グを行い、ハードコート層３２上に５層からなる膜厚２
００ｎｍ程度のＡＲ膜３３ａ〜ｅを形成した。ＡＲ膜３
３ａ〜ｅの各層の膜厚および組成は、比較例１・２と同
様とした。ＡＲ膜３３ａ〜ｅを形成した時点においてハ
ードコート層３２のクラックは皆無であった。
グを行い、ハードコート層３２上に５層からなる膜厚２
００ｎｍ程度のＡＲ膜３３ａ〜ｅを形成した。ＡＲ膜３
３ａ〜ｅの各層の膜厚および組成は、比較例１・２と同
様とした。ＡＲ膜３３ａ〜ｅを形成した時点においてハ
ードコート層３２のクラックは皆無であった。
【００５０】基材３１上にハードコート層３２が積層さ
れた広巾フィルム（１２００ｍｍ巾）を１７インチＣＲ
Ｔサイズにスリットし、裁断した。この時点においてハ
ードコート層３２のクラックは皆無であった。１７イン
チＣＲＴサイズに裁断したフィルタの接着面に、アクリ
ル系粘着剤を膜厚５０±２μｍで均一に塗布した後、６
０℃で乾燥させ、接着剤層を形成した。上記のＡＲフィ
ルターをゴムローラーを用いて押圧しながら、ＣＲＴ用
クリアガラスに貼付した。その後、紫外線照射により接
着剤層を固化させた。この時点においてハードコート層
３２のクラックは皆無であった。
れた広巾フィルム（１２００ｍｍ巾）を１７インチＣＲ
Ｔサイズにスリットし、裁断した。この時点においてハ
ードコート層３２のクラックは皆無であった。１７イン
チＣＲＴサイズに裁断したフィルタの接着面に、アクリ
ル系粘着剤を膜厚５０±２μｍで均一に塗布した後、６
０℃で乾燥させ、接着剤層を形成した。上記のＡＲフィ
ルターをゴムローラーを用いて押圧しながら、ＣＲＴ用
クリアガラスに貼付した。その後、紫外線照射により接
着剤層を固化させた。この時点においてハードコート層
３２のクラックは皆無であった。
【００５１】上記のＡＲフィルターが貼付されたＣＲＴ
パネルガラスに、加熱処理（１００℃、３０分間）を施
した。この加熱工程においても、ハードコート層３２に
クラックは発生せず、鉛筆硬度５Ｈに相当する硬度を有
するＡＲフィルターが形成された。
パネルガラスに、加熱処理（１００℃、３０分間）を施
した。この加熱工程においても、ハードコート層３２に
クラックは発生せず、鉛筆硬度５Ｈに相当する硬度を有
するＡＲフィルターが形成された。
【００５２】形成されたＡＲフィルターの４５０〜６５
０ｎｍの波長域における光学反射率は０．４％であり、
全光線透過率は９０％であった。また、電気抵抗は５０
０Ω／□以下であり、十分な帯電防止機能が確認され
た。以上の比較例１・２および実施例について、各製造
工程におけるハードコート層の状態を表１にまとめた。
０ｎｍの波長域における光学反射率は０．４％であり、
全光線透過率は９０％であった。また、電気抵抗は５０
０Ω／□以下であり、十分な帯電防止機能が確認され
た。以上の比較例１・２および実施例について、各製造
工程におけるハードコート層の状態を表１にまとめた。
【００５３】
【表１】
【００５４】本発明の表示装置へ光反射防止膜を貼着す
る方法は、上記の実施の形態に限定されない。例えば、
ＡＲフィルターの基材として、ポリエチレンテレフタレ
ートの代わりにポリカーボネートからなるフィルムを用
いることもできる。また、本発明の表示装置へ光反射防
止膜を貼着する方法を、例えばＬＣＤ等の陰極線管以外
の表示装置に適用することも可能である。その他、本発
明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の変更が可能であ
る。
る方法は、上記の実施の形態に限定されない。例えば、
ＡＲフィルターの基材として、ポリエチレンテレフタレ
ートの代わりにポリカーボネートからなるフィルムを用
いることもできる。また、本発明の表示装置へ光反射防
止膜を貼着する方法を、例えばＬＣＤ等の陰極線管以外
の表示装置に適用することも可能である。その他、本発
明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の変更が可能であ
る。
【００５５】
【発明の効果】本発明の表示装置へ光反射防止膜を貼着
する方法によれば、屈曲加工を伴う、一連のＡＲフィル
ター製造装置の中を走行させる製造工程において、ＡＲ
フィルターのハードコート層にクラックが発生するのを
防ぐことができる。また、ＣＲＴ等の表示装置の表面に
ＡＲフィルターを貼付した後、加熱硬化させることによ
り、従来のＡＲフィルターに比較して、高硬度で耐擦傷
性に優れるＡＲフィルターを製造することができる。
する方法によれば、屈曲加工を伴う、一連のＡＲフィル
ター製造装置の中を走行させる製造工程において、ＡＲ
フィルターのハードコート層にクラックが発生するのを
防ぐことができる。また、ＣＲＴ等の表示装置の表面に
ＡＲフィルターを貼付した後、加熱硬化させることによ
り、従来のＡＲフィルターに比較して、高硬度で耐擦傷
性に優れるＡＲフィルターを製造することができる。
【図１】本発明の表示装置へ光反射防止膜を貼着する方
法において、加熱処理によりＡＲフィルターを硬化させ
る場合の、熱処理条件とＡＲフィルターに及ぼす影響と
の関係を表すグラフである。
法において、加熱処理によりＡＲフィルターを硬化させ
る場合の、熱処理条件とＡＲフィルターに及ぼす影響と
の関係を表すグラフである。
【図２】本発明の表示装置へ光反射防止膜を貼着する方
法により製造されるＡＲフィルターの断面図である。
法により製造されるＡＲフィルターの断面図である。
【図３】本発明の実施例および比較例１、２に示す製造
方法により製造されるＡＲフィルターの断面図である。
方法により製造されるＡＲフィルターの断面図である。
【図４】従来方法により製造されるＡＲフィルターの断
面図の例である。
面図の例である。
【図５】従来方法により製造されるＡＲフィルターの断
面図の例である。
面図の例である。
２１、３１、４１…基材、２２、３２、４２、５２…ハ
ードコート層、２３ａ…高屈折率の反射防止用光学薄膜
（ＡＲ膜）、２３ｂ…低屈折率のＡＲ膜、２４…防汚
層、３３ａ…第１層目のＡＲ膜（ＳｉＯx 膜）、３３ｂ
…第２層目のＡＲ膜（ＩＴＯ膜）、３３ｃ…第３層目の
ＡＲ膜（ＳｉＯ2 膜）、３３ｄ…第４層目のＡＲ膜（Ｉ
ＴＯ膜）、３３ｅ…第５層目のＡＲ膜（ＳｉＯ2 膜）、
４３ａ、５３ａ…第１層目のＡＲ膜、４３ｂ、５３ｂ…
第２層目のＡＲ膜、５３ｃ…第３層目のＡＲ膜。
ードコート層、２３ａ…高屈折率の反射防止用光学薄膜
（ＡＲ膜）、２３ｂ…低屈折率のＡＲ膜、２４…防汚
層、３３ａ…第１層目のＡＲ膜（ＳｉＯx 膜）、３３ｂ
…第２層目のＡＲ膜（ＩＴＯ膜）、３３ｃ…第３層目の
ＡＲ膜（ＳｉＯ2 膜）、３３ｄ…第４層目のＡＲ膜（Ｉ
ＴＯ膜）、３３ｅ…第５層目のＡＲ膜（ＳｉＯ2 膜）、
４３ａ、５３ａ…第１層目のＡＲ膜、４３ｂ、５３ｂ…
第２層目のＡＲ膜、５３ｃ…第３層目のＡＲ膜。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０４Ｎ 5/72 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ (72)発明者 原 忍 岐阜県瑞浪市小田町1905番地 ソニー瑞浪 株式会社内
Claims (3)
- 【請求項１】基材フィルム上に、接着剤層を介してハー
ドコート層を形成する工程と、 前記ハードコート層上に反射防止用光学薄膜を積層さ
せ、光反射防止膜を形成する工程と、 前記光反射防止膜を表示装置のパネルガラスに面着させ
る工程と、 加熱処理により前記光反射防止膜を硬化させる工程とを
有する表示装置へ光反射防止膜を貼着する方法。 - 【請求項２】前記加熱処理の温度は８０〜１８０℃であ
り、前記加熱処理の時間は７０〜１０分間である請求項
１記載の表示装置へ光反射防止膜を貼着する方法。 - 【請求項３】前記加熱処理の温度は、好適には、８５〜
１３０℃である請求項２記載の表示装置へ光反射防止膜
を貼着する方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10049775A JPH11250805A (ja) | 1998-03-02 | 1998-03-02 | 表示装置へ光反射防止膜を貼着する方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10049775A JPH11250805A (ja) | 1998-03-02 | 1998-03-02 | 表示装置へ光反射防止膜を貼着する方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11250805A true JPH11250805A (ja) | 1999-09-17 |
Family
ID=12840556
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10049775A Pending JPH11250805A (ja) | 1998-03-02 | 1998-03-02 | 表示装置へ光反射防止膜を貼着する方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11250805A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003040782A1 (fr) * | 2001-11-06 | 2003-05-15 | Sony Corporation | Dispositif d'affichage et substrat antireflet |
| CN114093257A (zh) * | 2021-11-12 | 2022-02-25 | 信利光电股份有限公司 | 一种车载盖板的制作方法 |
| WO2023210436A1 (ja) * | 2022-04-27 | 2023-11-02 | 日東電工株式会社 | 反射防止フィルム及びその製造方法、並びに画像表示装置 |
-
1998
- 1998-03-02 JP JP10049775A patent/JPH11250805A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003040782A1 (fr) * | 2001-11-06 | 2003-05-15 | Sony Corporation | Dispositif d'affichage et substrat antireflet |
| CN1329746C (zh) * | 2001-11-06 | 2007-08-01 | 索尼公司 | 显示装置以及防反射基体 |
| US7405005B2 (en) | 2001-11-06 | 2008-07-29 | Sony Corpotation | Display apparatus and antireflection substance |
| CN114093257A (zh) * | 2021-11-12 | 2022-02-25 | 信利光电股份有限公司 | 一种车载盖板的制作方法 |
| WO2023210436A1 (ja) * | 2022-04-27 | 2023-11-02 | 日東電工株式会社 | 反射防止フィルム及びその製造方法、並びに画像表示装置 |
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