JP2005510441A - 障壁被膜を備えたガラスパネルおよび関連する方法 - Google Patents

Abstract

屈折率整合被膜を低放射率（「低放射」）薄膜被膜に直接被覆する。低放射被膜中の箇所から成長する小瘤を除去して欠損が屈折率整合被膜を通過して拡散するのを防止する。酸素含有雰囲気中の強化工程によって、低放射被膜中に圧縮応力を生成し、かつ被膜を硬化させる。圧縮応力によって小瘤の除去が容易になり、また硬化によって屈折率整合被膜の前に低放射被膜の機械的洗浄が可能になり、小瘤をさらに除去する。摩耗耐性を高めるために、一実施形態ではマグネシウムフッ化物を屈折率整合被膜の最終層として用いる。得られるガラスパネルは、例えば、プラズマディスプレイまたは有機発光ダイオードディスプレイにおけるディスプレイパネルとして使用することができる。

Description

本発明は、一般的には、ディスプレイおよび類似の応用例に使用する被覆ガラスパネルの環境耐久性を向上させることに関し、さらに具体的には、小片により残される空隙を保護膜材料で埋め戻す前に小片の除去処理を行う被覆ガラスパネルに関する。

ガラスパネルは非常に多様なディスプレイ技術に使用されている。ガラスパネルを使用できるディスプレイには、幾つか列挙すると、テレビ受像器、コンピュータ画面、および計器盤などが含まれる。これらのガラスパネルは、ディスプレイの性能特性を向上させたり、またはその特定の要件を満足させたりするために、しばしば被膜もしくは別の処理を施す。例えば、反射率を低下させるためにわずかにパネルをエッチングしたり、または反射防止フィルムまたは被膜をガラスパネルの前面および／または背面に施したりすることができる。

フィルムまたは被膜は様々な方法で施すことができる。１つの手法は、ポリエチレンテレフタレート（「ＰＥＴ」）の接着性シートをガラスパネルに貼付する。このＰＥＴシート自体には、反射防止（「ＡＲ」）膜などを被覆することができる。ＡＲ膜は、典型的にはＰＥＴと空気の間の光学的整合性を向上させる１層または複数層の材料である。他の技術では、１層または複数層の材料をガラスパネルの表面上に直接付着させる。

幾つかのディスプレイ製品は電磁干渉（「ＥＭＩ」）を生ずるが、このようなディスプレイに使用されるガラスパネルを処理して、前記パネルから環境中に、特に使用者に向かって放射されるＥＭＩを低減することができる。幾つかの事例では、放射電磁波を低減するために細いワイヤメッシュをガラスパネルに付着させたりまたは埋め込んだりする。典型的には、ワイヤを介してワイヤメッシュを接地する。このような組立体は、高価でありかつディスプレイの鮮明度または解像度を低下させる恐れがある。別の方法では、ガラスパネルの表面上に低放射率（「低放射」）被膜を付着させてきた。低放射被膜は、数多くの供給業者によって開発されかつそれらから入手可能であり、１層または複数層の被膜に混和された、しばしば銀、銅、または金を含む。低放射被膜は、典型的には可視スペクトルでは４５％よりも高い透過率と５オーム毎平方よりも小さい面積抵抗を有し、幾つかの事例では約０．５オーム毎平方の面積抵抗を有する。

残念ながら、低放射被膜はしばしば感湿性があり、湿気の侵入によって被膜層の中に腐食を引き起こす恐れがある。特に、湿気は低放射被膜に浸透して「曇り」を出現させ、そのために前記パネルの外観を損なう恐れがある。湿気は、被膜層中の欠損を通じて浸透するのが典型である。幾つかの技術によって欠損の形成を減らす取り組みがなされ、また欠損を封止するために他の技術も開発されてきた。１つの方法は、感圧接着剤によってＰＥＴシートを低放射被膜に付着させて欠損を封止するものである。相対的に厚いＰＥＴ層が環境中の湿気から低放射被膜を保護する。幾つかの事例では、反射率を低下させるために、ＰＥＴシートをガラスに貼付する前に、典型的にはロールコータ（ｒｏｌｌ ｃｏａｔｅｒ）中で、ＰＥＴシートの前面を被覆する。

しかし、このようなポリマーシートを使用すると、ガラスパネルに要する構成要素と組立工程の数が増加する。これが結果としてコストを上昇させ、かつ生産量および機械的耐久性を低下させる。

したがって、ＥＭＩ遮蔽、高透明度を提供することができ、かつ湿気による腐食に耐性のあるガラスパネルが望ましい。

ガラスパネル上の感湿性被膜を環境から保護するために、この感湿性被膜の上に薄膜の障壁保護膜を直接付着させる。特定の一実施形態では、感湿性被膜が、低放射被膜に共通に見られるような金属層を含む。別の一実施形態では、障壁保護膜がＡＲ膜である。障壁保護膜の付着工程の前に、除去しないと薄膜の障壁保護膜を通過して欠損を拡大する恐れがある小瘤（ｎｏｄｕｌｅｓ）が除去される。一実施形態では、小瘤の除去を容易にし、かつ機械的な洗浄に対して低放射被膜を十分に硬化させるために、前記パネルを酸素含有雰囲気中で強化（ｔｅｍｐｅｒ）する。他の被膜は、小瘤の除去を容易にするために強化しない場合も、あるいは硬化する必要がない場合もある。特定の一実施形態では、障壁保護膜の最終薄膜層が、ＭｇＦ_２などの低摩擦材料である。プラズマディスプレイなどのディスプレイから前記パネルを通過する光の透過率を高めるために、第２のＡＲ膜をガラスの他方の面に施すことが可能であるし、またはガラスのその表面が有機発光ダイオードなどの素子を支持する場合もある。

別の実施形態では、ポリマーシートが、強化または非強化ガラスであり得るガラス基板の、低放射被膜とＡＲ膜の対向する面上に付着されている。第２のＡＲ膜は、それをガラスに付着する前にポリマーシートに被覆可能である。

被覆ガラスパネルは、湿気の侵入源または他の汚染源になり得る小瘤を除去するために処理される。次いで前記パネルに保護膜層を施して、除去した小瘤の後に残された空隙を封止し、幾つかの事例ではそれらを充填したり、または一部を埋めたりする。一実施形態では、ガラスパネル上の被膜が、１層または複数層の銀含有材料を含む低放射被膜である。被覆ガラスパネルは、プラズマディスプレイまたは有機発光ダイオードディスプレイなどのディスプレイパネル応用品に使用可能であり、典型的には長方形で、１辺が数センチメートルから数メートルになるが、他の形状および寸法も可能である。他の実施形態では、この感湿性被膜がミラー被膜などのように不透明である。

図１は、被覆ガラスパネル１０中の欠損を例示する顕微鏡写真の単純化した図である。湿気が被膜中の小穴１２に進入して被膜中の１つまたは複数の銀の層を通過して拡散し、これらの層を腐食した。このような腐食は、被覆ガラスパネルの、他の透明領域１６中に明るい「曇り」１４として現れる。被膜表面の小穴は様々な大きさ、すなわち、直径であり得るが、一般には１から１０００ミクロンの範囲内にある。より大きな小穴は、たとえ湿気の侵入および腐食がなくても被膜の光学的品質を損なう。十分に小さい小穴には湿気の侵入に対する耐性がある。特定の応用例では、ほとんどの小穴が５から４０ミクロンの間にあり、その上限は被膜部分の望ましい光学上の品質に適合する。

図２Ａは、小瘤を例示する被覆ガラスパネル２０の一部断面の走査型電子顕微鏡写真の単純化した図である。低放射被膜２２をガラス基板２４上に形成した。このガラス基板は、「窓ガラス」、強化ガラス、光学ガラス、合せガラス、または、所期の処理工程および仕上がり部分の品質に適したプラスチックパネルおよび薄膜などの同様の材料のパネルであり得る。低放射被膜は、酸化亜鉛、酸化チタン、窒化ケイ素、酸化ケイ素、酸化ニオブ他などの材料の保護層３０、３２、３４によって挟まれた銀、銀合金、または銅の導電層２６、２８を有する８層から１５層の厚みであるのが典型である。

典型的には３層から５層の導電層があり、それぞれの層の面積抵抗が被膜の全面積抵抗となる。他の設計では、より多くのまたはより少ない導電層を有する場合もある。これらの導電層は、光を透過するのに十分に薄いが、被膜を貫通する電磁放射を抑止するのに十分な導電性がある。導電層の面積抵抗は、５０オーム／平方から１．５オーム／平方よりも低い面積抵抗まで様々であり、可視透過率は、可視スペクトル全体で約９５％から約４５％の範囲にある。たとえ一部に透過損が発生しても、またこのような被膜が可視スペクトル全体にわたって同等の透過性がない場合であっても、議論の便宜上、このような膜を「透明」であると言う。保護層は、相対的に耐湿性があり、湿気による腐食から金属層を保護する。低放射被膜中の層は相対的に薄く、典型的には１回の真空工程で付着される。

導電層は、典型的にはパネル組立体の周囲に形成した母線を介して接地される。この母線は、例えば、銀フリットから作製可能であり、低放射被膜の導電層に対する信頼性のある電気接点となる。他の種類の電気接点を使用して低放射被膜に接続することもできる。

小瘤３６、３８、４０が低放射積層体中に生じている。小瘤４０は、被膜の飛散金属粒子または外からの他の混入物による基板上または薄膜積層体内部の欠損箇所４２から成長し得る。処理時または使用中の薄膜積層体の温度変化など、様々な応力変化によって幾つかの小瘤がくずれて脱落し、その結果、小穴４３が生じる。たとえ小瘤が被膜中に留まっていても、湿気が小瘤−被膜界面の境界線４４を下方に移動して導電層中に腐食を引き起こす可能性がある。

図２Ｂは、本発明の一実施形態に従って小瘤を除去して小穴が形成された図２Ａに例示した被覆ガラスパネルを単純化して示す断面図である。欠損中の小瘤の有無にかかわらず被膜中の欠損を「小穴」と呼ぶ場合があるが、この議論の便宜上、「小穴」という用語は、小瘤が除去され、したがって後に空隙が残る欠損を指す。小瘤を除去する工程を以下でさらに詳細に論じる。

図２Ｃは、本発明の一実施形態に従う障壁保護膜を有する図２Ｂに例示した被覆ガラスパネルを単純化して示す断面図である。小穴が障壁保護膜５０によって封止されている。幾つかの小穴は本質的に保護膜材料が充填されているが、他の小穴は一部のみが充填されるかまたは基本的に被膜の表面で封止されている場合もある。被膜は低放射被膜か、または湿気による腐食を受けやすい層を有する他の被膜であり得る。障壁保護膜の厚さは一律の尺度に従わずに示してあり、ガラスパネル上の被膜に対する障壁保護膜の形態は例示にすぎない。例えば、より粘性が高い障壁保護膜は、より粘性の低い保護膜ほどには小穴に貫入することができない。

１つの特定の実施形態では、低放射被膜が、導電層２６、２８および保護層３０、３２、３４を含めて、幾つもの材料の様々な層を含む。障壁保護膜は、小穴の中に露出した導電層の縁部５２、５４を封止しても、または封止しなくてもよい。障壁保護膜は、真空蒸着した追加的な薄膜層であってもよく、または吹付け、スピンコート、蒸着、もしくは被覆ガラスパネルの表面に別に施したペルフルオロシランなどの化学層であってもよい。一実施形態では、障壁保護膜が被覆ガラスパネルとＰＥＴシートの間の接着剤層である。別の一実施形態では、この接着剤層がガラスパネル組立体の出力を色変化させる染料を含む。

別の実施形態では、障壁保護膜が真空蒸着した一連の薄膜である。特定の一実施形態では、このような一連の真空蒸着薄膜が、ガラスパネル上の低放射被膜または他の被膜と空気の間の屈折率を整合させるように選択されている。１例では、低放射被膜が、ワシントン州タムウオータ所在のカーディナルシージー（ＣＡＲＤＩＮＡＬ ＣＧ）から入手可能なＱ４（商標）として一般に知られている。この反射抑制被膜は、チタン／プラセオジム酸化物の厚さ５．２５ｎｍの層、ＭｇＦ_２の８４．６２ｎｍの層、チタン／プラセオジム酸化物の８６．８２ｎｍの層、インジウム錫酸化物の２５ｎｍの層、およびＭｇＦ_２の６３．３６ｎｍの層を含み、それは空気と接する。屈折率整合積層体は低放射被膜積層体上に直接付着される。別の実施形態では、第１および第３層が二酸化アイテニウム（ｉｔａｎｉｕｍ ｄｉｏｘｉｄｅ）層である。他の実施形態では、他の金属酸化物も使用可能である。屈折率整合する保護膜の厳密な材料と厚さは整合（保護被覆）されている被膜の種類によって様々であり、材料と化合物の数多くの様々な組合せによって所与の屈折率整合系を解決することができる。媒体の中でも特に、例えば、空気または圧着ポリマー薄膜の接着剤層に被膜を屈折率整合することができる。他の種類の感湿性被膜は、ＡＲ膜の技術分野で知られているように、異なる薄膜積層体を使用して屈折率整合されているのが一般的である。

図３は、前段で説明した屈折率整合積層体を備える場合６２と備えていない場合６４の、Ｑ４（商標）導電性被膜積層体の予測反射率の単純化したグラフ６０である。このモデルは、空気媒体中で白色光を使用し、被膜をガラスパネル上に施しかつ理想的な検出器を使用して実施された。１５°の入射角を想定した。

実験データでは、無保護低放射型の被膜は２０回擦りのイレーザ摩耗試験に一貫して合格することはなかった。最上層としてＭｇＦ_２層を設ける保護膜処理によって、ガラスパネルは一貫して４０回擦りのイレーザ摩耗試験に合格することになる。前記パネルの表面の摩擦係数が相対的に滑らかで表面上により低い摩擦係数を与えるＭｇＦ_２によって変更されるものと考えられる。

図４は、本発明の一実施形態に従って被覆されたガラスパネル７０の単純化した断面である。ガラス基板２２には、低放射被膜２４と障壁保護膜７６が被覆されている。このガラス基板を強化してガラスの破壊強度を高め、かつ前記パネルの破損で生じる恐れのあるガラス片の大きさを小さくすることによって安全性を高めることができる。ガラスの強化は、ガラスを加熱し、次いでガラスを急冷する工程が一般的であり、急冷することによってガラス表面が圧縮状態となり、したがって破壊に耐える。この強化工程によって低放射被膜中に圧縮応力も生じ得る。強化は、幾つかの異なる雰囲気の中で、また幾つかの異なる温度で実現可能である。幾つかの実施形態では、ガラス基板を被覆前に強力に強化するが、小瘤をまだ除去していないか、または被膜を熱処理によってまだ硬化させていないようなときには、ガラスの強化を変更しないことが望ましい場合がある。例えば、ガラスの軟化点よりも低い温度において酸素中で長時間にわたって均熱することによって、小瘤の除去を容易にしながら、基板の強化特性を保持することができる。幾つかの実施形態では、被膜中に圧縮応力を生成する熱処理を施すことが一般に望ましい。被膜の応力特性の圧縮変化によって小瘤の除去が容易になると考えられるが、被膜を圧縮する必要はない。

低放射被膜は小瘤の除去処理が行われており、それによって障壁保護膜が湿気から小穴を封止することができる。特定の一実施形態では、障壁保護膜が薄膜層の積層体（ｓｔａｃｋ）である。別の一実施形態では、この保護膜の最上層が低摩擦層である。障壁保護膜の積層体も周囲環境（典型的には空気）に低放射被膜を屈折率整合することができる。ガラス基板の反対面上の随意選択的な反射防止（「ＡＲ」）膜７８は、ガラスパネルを通過する広いスペクトル範囲の光の合計透過率が高いことが望ましいプラズマディスプレイ画面などの応用例では望ましい場合がある。ＡＲ膜は、典型的には空気またはプラズマディスプレイ内側の他の１つまたは複数の気体である周囲環境にガラス基板を屈折率整合するように設計されている。換言すれば、障壁保護膜は周囲環境に面しており、それは一実施形態ではプラズマディスプレイであり、また別の実施形態では有機発光ダイオード（「ＯＬＥＤ」）ディスプレイである。別法として、屈折率整合被膜は、室内の周辺空気、または圧着ポリマーシートの接着剤層もしくは他の媒体と接し得る。

図５は、本発明の別の実施形態に従うＯＬＥＤディスプレイ８０の単純化した一部断面である。ガラス基板２４は、一方の面に低放射被膜２２と障壁保護膜７６が被覆されている。ガラスパネルの他方の面には、インジウム錫酸化物（「ＩＴＯ」）などの透明な導電体層８２、ＯＬＥＤ構造８４、およびパターン形成したアルミニウム層などの導電体層８６が含まれる。ＯＬＥＤ構造は、幾つかの層を含むのが典型であり、この図では例示の便宜上単純化されている。様々な材料の他の層も同様に存在するのが典型であるが、この図では例示を明瞭にするために割愛してある。

ＯＬＥＤ構造は、導電層間で電気信号を印加することによって電源が入り、ガラスパネルを通過して低放射被膜および障壁保護膜から外に光を発する。低放射被膜は、ＯＬＥＤディスプレイからのＥＭＩを抑止し、図２Ａに関連して上で説明したプラズマディスプレイパネルと同様に、典型的には周辺コンタクト線を介して接地されている。別法による一実施形態では、第２の基板上に作製されたＯＬＥＤディスプレイと共に、低放射および遮断被膜を備えたガラスパネルを使用することができる。

図６は、本発明の別の実施形態に従って被覆されたガラスパネル８０の単純化した断面である。非強化、強化、または半強化ガラスであり得るガラス基板２４が、一方の面上にＡＲ膜７８を有し、他方の面上に低放射被膜２２を有する。好ましい一実施形態では、低放射被膜を処理して小瘤を除去する。１つの工程では、低放射被膜を有するガラス基板を強化する。別の一実施形態では、同時に強化されたガラス基板と低放射被膜を洗浄してさらに小瘤を除去する。他の工程では、低放射被膜または他の被膜を施す前にガラス基板を強化する。さらに他の実施形態では、ガラス基板もあるいは被膜も強化せず、他の技術を用いて小瘤を除去する。

感圧接着剤８６の層および別のＡＲ膜８４を伴うＰＥＴ８２の薄膜が、低放射被膜２２に付着されている。ＰＥＴ薄膜は、破損に対する保護を行うもので、非強化ガラス基板の破損時にガラス破片の少なくとも一部を護るものである。ガラス基板の背面上に直接施されたＡＲ膜と、組立体の前面に付着したＰＥＴ薄膜との組合せによって、幾つかの応用例では破損に対する十分な耐性と安全性が備わるものと考えられる。「前面」と「背面」という用語は、論議の便宜上用いるにすぎず、ガラスパネルの目的を限定するものではない。前記パネルを通過する光の高い合計透過率を実現するために、ＡＲ膜を背面に直接施すことによって、そうしなければ組立体に対するかなりの費用の追加になりかねない、ＡＲ膜を施したＰＥＴ薄膜の第２の被覆を回避する。

別の一実施形態では、ガラスパネル組立体８０を介して色変化または修正を行うために感圧接着剤層８６を染色する。例えば、感圧接着剤は、プラズマディスプレイの色平衡を確立するために染色可能であり、またはＯＬＥＤの出力を修正または変更するために着色可能である。別法として、ＰＥＴ薄膜を着色することもできる。

特定の一実施形態では、ガラス基板２４を強化するかまたは半強化する。このようなガラス基板をガラスに付着した単一層のＰＥＴ薄膜８２と組み合わせると、特に安全上の理由にとって望ましい。強化ガラスパネルがこわれるようなことがあれば、このパネルは破片ではなく相対的に細かいサイコロ状片にこわれる。ＰＥＴ薄膜は、非強化ガラス基板によって生じる恐れがある破片よりも、さらに容易に安全な方法でサイコロ状片を食い止めるものと考えられる。

図７は、本発明のさらに別の実施形態に従って被覆されたガラスパネル組立体９０の単純化した断面図である。低放射被膜または他の被膜２２が、非強化、半強化、または強化ガラスであり得るガラス基板２４の一方の面上に形成されている。被膜２２を処理して小瘤が除去してあり、それによって障壁保護膜７６が、小瘤の除去後に残っている小穴を環境中の湿気から封止することができる。感圧接着剤８６’の層を伴うＰＥＴ薄膜８２’がガラス基板の他方の面に付着してある。随意選択のＡＲ膜８４’は、典型的にはＰＥＴ薄膜を前記ガラスに付着する前に、前記薄膜に付着される。紫外線硬化性接着剤、樹脂、および熱硬化性接着剤など、他の種類の接着剤を使用してポリエステル薄膜などの別種類のポリマー薄膜をガラスパネルに付着することができる。ガラスパネルの色変化または色平衡のために染料を接着剤層８６’またはポリマー薄膜に添加することができる。

図８は、本発明の１実施例に従って被覆ガラスパネルを製造する工程８００の単純化したフローチャートである。ガラス基板が用意され（ステップ８０１）、感湿性被膜で被覆され、それは一実施形態では低放射被膜であるが（ステップ８０３）、他の被膜を使用することもできる。低放射被膜は、ほとんどの光を透過し、他方では少なくとも一部の電磁放射を遮蔽する銀含有層を含むＱ４（商標）であった。他の低放射被膜を含めて他の被膜も使用可能である。

低放射被膜を有するガラス基板を酸素含有雰囲気（例えば、空気）中で約９０秒間６５０℃の温度に加熱し、次いで空気中で約３０秒間冷却することによってＱ４（商標）低放射被膜を強化した（ステップ８０５）。これによって被膜中に圧縮応力が生じ、小穴を免れた小瘤欠損を破壊することによって小穴を空けるのが容易になる。強化工程によって被覆も硬化される。蒸着したままの低放射被膜中の少なくとも幾つかの層が強化工程時にさらに酸化されるものと考えられる。すなわち、追加的な酸素が被膜の層中に取り込まれて被膜を硬化しかつ圧縮応力を生成する。強化に関する厳密な工程パラメータは、幾つかの要因に従って異なる。一実施形態では、被膜を強化するのに十分な時間、被覆ガラスパネルをより低い温度に加熱し、次いでガラスの熱破壊を防止するために被覆ガラスをゆっくりと冷却することによって、ガラスを著しく強化せずに被膜を硬化する。

次いで、基板および被膜を機械的洗浄工程で洗浄する（ステップ８０７）。この洗浄工程では、高圧の水と洗浄剤噴霧を使用して残存する小瘤を崩す。次いで、高圧のすすぎ水かまたは柔らかい回転ブラシを使って小瘤または他の人為産物を一掃した。非強化の低放射被膜は、柔らかすぎて強化させずに機械洗浄を行うには耐えられなかったが、他の被膜は機械洗浄するのに十分な強さがあり、硬化ステップを経ずに小瘤の除去が可能である。例えば、ガラス上のＡｌ_２Ｏ_３の化学障壁被膜は、強化させずに機械的に小瘤を除去するのに十分な耐久性を有することができる。表面鏡などの他の被膜では、被膜表面と同様の接着剤を用いて感圧薄膜を付着し、次いでこの薄膜と接着剤に接着する小瘤とを除去することによって、強化または洗浄を行わないで、小瘤の除去が可能である。

強化は、低放射被膜の透過率の向上および抵抗の低減にも望ましい場合がある。１つの事例では、透過率が約６８％から約７８％にまで向上し、面積抵抗が約４．３オーム毎平方から約２．３オーム毎平方にまで減少した。強化および洗浄ステップ８０５、８０７は、感湿性被膜から小瘤を除去するステップの一実施形態である。接着剤の剥取り、吹付け、吸込み、またはブラシなし洗浄を含む強化を行わない洗浄など、他の除去技術も用いることができる。

次いで、被膜基板を暖かい高圧空気流を使って乾燥し、かつ湿気に低放射被膜の金属層を腐食する時間を与える前に障壁保護膜を施すために真空室中に装填した（ステップ８０９）。この実施形態では、真空に引き落とすことによって被膜からの水分除去が促進されたものと考えられる。障壁保護膜は、可視スペクトル全体にわたって低反射率が備わるように設計された薄膜ＡＲ積層体であった。この薄膜ＡＲ積層体を付着させる前に小瘤を除去することによって、ＡＲ積層体を低放射被膜上に直接付着させることが可能になる。小瘤を除去し、したがって低放射被膜を湿気の侵入から防護し、かつＡＲ膜が障壁保護膜として働くようにすることによって、別の方法では薄膜ＡＲ積層体を通過して広がることになる欠損を防止する。この障壁保護膜は、薄膜ＡＲ積層体である必要はなく、他の薄膜または、例えば、厚い化学（ポリマー）障壁保護膜でもよい。

特定の実施形態に関して本発明を以上に説明してきたが、他の実施形態も当業者には明らかであり得る。説明した本発明の実施形態の様々な細部は、本発明の趣旨および範囲から逸脱することなく変更可能である。例えば、湿気の侵入を受けやすい金属含有層を典型的に有する低放射被膜に関連して実施形態を説明したが、本発明の実施形態にしたがって化学的な障壁保護膜などの他の被膜を使用することができる。したがって、本発明の実施形態に関する以上の説明は、例示目的のためのみに供されているものであり、特許請求の範囲およびそれらの均等物によって定義した本発明を限定しようとするものではない。

被覆ガラスパネル中の欠損を例示する顕微鏡写真を単純化して示す図である。 被覆ガラスパネルの一部断面の走査型電子顕微鏡写真を単純化して示す図である。 本発明の一実施形態に従って小瘤を除去して小穴が形成された図２Ａの被覆ガラスパネルを単純化して示す断面図である。 本発明の一実施形態に従う障壁保護膜を有する被覆ガラスパネルを単純化して示す断面図である。 屈折率整合被膜を備えた場合と備えない場合の導電性被膜積層体の予測反射率を単純化して示すグラフである。 本発明の一実施形態に従って被覆されたガラスパネルを単純化して示す断面図である。 本発明の別の実施形態に従う有機発光ダイオードを有する被覆ガラスパネルを単純化して示す断面図である。 本発明のさらに別の実施形態に従って被覆されたガラスパネルを単純化して示す断面図である。 本発明のさらに別の実施形態に従って被覆されたガラスパネルを単純化して示す断面図である。 本発明の一実施形態に従って被膜パネルを製造する工程を簡単に示すフローチャートである。

Claims (39)

1. ガラス基板と、
   前記ガラス基板の第１表面上に配置された、小穴を有する感湿性被膜と、
   前記感湿性被膜を湿気から保護するために前記小穴を封止する、前記感湿性被膜上に配置された複数の薄膜層と、
   を備えたガラスパネル。
2. 前記感湿性被膜が薄膜層の積層体である請求項１に記載のガラスパネル。
3. 前記薄膜層の積層体が少なくとも１つの導電層を含み、かつ前記薄膜層の積層体が５オーム毎平方よりも小さい面積抵抗を有する請求項２に記載のガラスパネル。
4. 前記複数の薄膜層が反射防止膜を備えた請求項１に記載のガラスパネル。
5. 前記複数の薄膜層が低摩擦最上層を含む請求項１に記載のガラスパネル。
6. 前記低摩擦最上層がＭｇＦ_２を含む請求項５に記載のガラスパネル。
7. 前記ガラス基板が強化ガラスを含む請求項１に記載のガラスパネル。
8. 前記ガラス基板が前記感湿性被膜と一緒に強化された請求項７に記載のガラスパネル。
9. 前記感湿性被膜が透明な膜である請求項１に記載のガラスパネル。
10. 強化ガラス基板と、
    前記強化ガラス基板の第１表面上に配置された低放射被膜と、
    前記低放射被膜上に配置された第１反射防止膜と、
    を備えたガラスパネル。
11. 前記強化ガラス基板の第２表面上に配置された第２反射防止膜をさらに備えた請求項１０に記載のガラスパネル。
12. 前記強化ガラス基板の第２表面上に配置された有機発光ダイオードをさらに備えた請求項１０に記載のガラスパネル。
13. 前記第１反射防止膜がＭｇＦ_２の最上層を含む請求項１０に記載のガラスパネル。
14. ガラス基板と、
    前記ガラス基板の第１表面上に配置された第１薄膜積層体であって、前記第１薄膜積層体から小瘤を除去することによって形成された小穴と湿気による腐食の影響を受けやすい少なくとも１つの導電層とを含む前記第１薄膜積層体と、
    前記導電層の湿気による腐食を防止するために前記小穴を封止する、前記第１薄膜積層体上に配置された第２薄膜積層体と、
    を備えたガラスパネル。
15. 前記第２薄膜積層体が屈折率整合被膜を含む請求項１４に記載のガラスパネル。
16. 前記屈折率整合被膜が反射防止膜である請求項１５に記載のガラスパネル。
17. 前記第２薄膜積層体がＭｇＦ_２を含む最上層を備えた請求項１４に記載のガラスパネル。
18. 前記ガラス基板の第２表面に付着されたポリマー薄膜をさらに備えた請求項１４に記載のガラスパネル。
19. 前記ポリマー薄膜が、ポリエチレンテレフタレートを含み、感圧接着剤によって前記ガラス基板の第２表面に付着された請求項１８に記載のガラスパネル。
20. 前記ポリマー薄膜の表面上に配置された反射防止膜をさらに備えた請求項１８に記載のガラスパネル。
21. 前記ガラス基板が強化された請求項１４に記載のガラスパネル。
22. 前記第１薄膜積層体が低放射被膜である請求項１４に記載のガラスパネル。
23. ガラス基板と、
    前記ガラス基板の第１表面上に配置された低放射被膜と、
    前記低放射被膜上に配置された屈折率整合薄膜積層体と、
    感圧接着剤によって前記ガラス基板の第２表面に付着されたポリマー薄膜のシートと、
    を備えたガラスパネル。
24. 前記ポリマー薄膜がポリエチレンテレフタレートを含む請求項２３に記載のガラスパネル。
25. ガラス基板を用意する工程と、
    前記ガラス基板上に感湿性被膜を付着する工程と、
    前記感湿性被膜中に小穴を形成するために前記感湿性被膜から小瘤を除去する工程と、
    前記小穴を封止する工程と、
    を含むガラスパネルを製造する方法。
26. 前記感湿性被膜が薄膜積層体を含む請求項２５に記載の方法。
27. 前記薄膜積層体が低放射被膜である請求項２６に記載の方法。
28. 前記除去工程が強化工程および機械的洗浄工程を含む請求項２５に記載の方法。
29. 前記機械的洗浄工程が高圧洗浄工程および乾燥工程を含む請求項２７に記載の方法。
30. 前記機械的洗浄工程が前記乾燥工程の前にブラシがけ工程をさらに含む請求項２８に記載の方法。
31. 前記除去工程が、酸素含有雰囲気中で、前記ガラス基板と前記薄膜積層体を少なくとも６５０℃の温度に加熱する強化工程を含む請求項２６に記載の方法。
32. 前記除去工程が、前記薄膜積層体中に圧縮応力を追加するのに十分な温度に前記薄膜積層体を加熱する工程を含む請求項２６に記載の方法。
33. 前記封止工程が、前記感湿性被膜上に第２薄膜積層体を付着する工程を含む請求項２５に記載の方法。
34. 前記第２薄膜積層体が屈折率整合積層体である請求項３３に記載の方法。
35. 前記第２薄膜積層体を付着する工程が、前記第２薄膜積層体の最上層としてＭｇＦ_２層を付着する工程を含む請求項３３に記載の方法。
36. 前記封止工程が、前記第１薄膜積層体上に有機被膜を被覆する工程を含む請求項２６に記載の方法。
37. 前記有機被膜が感圧接着剤を含む請求項３４に記載の方法。
38. ガラス基板を用意する工程と、
    前記ガラス基板の第１面上に低放射被膜を付着する工程と、
    前記ガラス基板および前記低放射被膜を酸素含有雰囲気中で同時に強化する工程と、
    前記低放射被膜を機械的に洗浄する工程と、
    屈折率整合薄膜積層体を前記低放射被膜上に付着する工程と、
    を含むガラスパネルを製造する方法。
39. 反射防止膜を前記ガラス基板の第２面上に付着する工程をさらに含む請求項３８に記載の方法。

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