WO2023058406A1 - 印刷版の製造方法、及び印刷方法 - Google Patents

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WO2023058406A1
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photosensitive resin
resin composition
printing plate
layer
development
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PCT/JP2022/033844
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友香 吉田
匠 石井
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旭化成株式会社
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    • G03F7/40—Treatment after imagewise removal, e.g. baking

Definitions

  • the present invention relates to a printing plate manufacturing method and a printing method.
  • flexographic printing has been widely used as a method of printing on soft packaging materials such as paper and films.
  • Plate materials for letterpress printing represented by flexographic printing include, for example, photosensitive resin plates.
  • Examples of methods for producing a flexographic printing plate from a photosensitive resin plate include the following methods. First, the photosensitive resin composition layer is exposed to ultraviolet rays (referred to as back exposure) through the support to form a uniform photocurable layer. Next, relief exposure is performed from the back side, ie, the side of the uncured photosensitive resin composition layer opposite to the side exposed to ultraviolet rays, to obtain a flexographic printing original plate.
  • ultraviolet rays referred to as back exposure
  • relief exposure is performed from the back side, ie, the side of the uncured photosensitive resin composition layer opposite to the side exposed to ultraviolet rays, to obtain a flexographic printing original plate.
  • a method of the relief exposure there is a method of exposing to ultraviolet rays through a transparent image carrier such as a negative film which selectively transmits ultraviolet rays, or a method of ablating an image, which has become digital information, with an infrared laser to remove an ultraviolet-transmitting portion.
  • a method of exposing to ultraviolet rays through the formed thin layer and the like can be mentioned. Then, the photosensitive resin composition in the unexposed portion of the original flexographic printing plate is washed away with a developer to form a relief image, thereby obtaining a flexographic printing plate.
  • the thermal development method in which the flexographic printing original plate after relief exposure is heated to melt the unexposed areas and remove the melted unexposed areas with a developing medium such as non-woven fabric, is developed without using a solvent. It is possible to develop it, and it is attracting attention.
  • the thermal development method since the thermal development method does not dissolve or disperse the uncured resin in the solvent, it has poor developability and tends to leave residues as compared to the conventional developing method using a developer. , has a problem. Therefore, in the thermal development method, in order to improve the developability, it is necessary to strongly press the nonwoven fabric or the like, which is a development medium, against the flexographic printing original plate, or press it multiple times, and the thickness of the plate tends to decrease in the process. . Furthermore, as the size of the original flexographic printing plate increases, it becomes more difficult to press the developing medium against the entire original flexographic printing plate with uniform pressure, and the thickness uniformity of the finally obtained flexographic printing plate tends to be impaired.
  • the inventors of the present invention have found that, in dry development processing, by combining a developing medium having specific physical properties with a photosensitive resin composition, the above problems of the prior art can be solved.
  • the problem can be solved, and have completed the present invention. That is, the present invention is as follows.
  • an exposure step of forming a relief by exposing the photosensitive resin composition A developing step in which the unexposed portion of the photosensitive resin composition in the exposing step is attached or adsorbed to a developing medium for development; A method of manufacturing a printing plate having The storage elastic modulus of the photosensitive resin composition in the unexposed area at the developing temperature in the developing step is 100 Pa or more and 4000 Pa or less, The development medium is a wiper with an elastic recovery rate of 30% or more and 99% or less.
  • a method of making a printing plate [2] The method for producing a printing plate according to [1] above, wherein the storage elastic modulus of the photosensitive resin composition in the unexposed area is 100 Pa or more and 350 Pa or less at the development temperature.
  • [3] The method for producing a printing plate according to [1] above, wherein the storage elastic modulus of the photosensitive resin composition in the unexposed area is 100 Pa or more and 250 Pa or less at the development temperature.
  • [4] The method for producing a printing plate according to any one of [1] to [3] above, wherein the loss elastic modulus of the photosensitive resin composition in the unexposed area is 90 Pa or more and 500 Pa or less at the development temperature.
  • [5] The method for producing a printing plate as described in any one of [1] to [4] above, wherein the development medium is a wiper having an elastic recovery rate of 35% or more and 99% or less.
  • [6] The method for producing a printing plate as described in any one of [1] to [5] above, wherein the development medium is a wiper having an elastic recovery rate of 40% or more and 99% or less.
  • [7] The method for producing a printing plate as described in any one of [1] to [6] above, wherein the development medium is a wiper having an elastic recovery rate of 60% or more and 99% or less.
  • [8] The method for producing a printing plate according to any one of [1] to [7] above, wherein the printing plate has a relief depth of 0.1 mm or more and 10.0 mm or less.
  • [9] The method for producing a printing plate according to any one of [1] to [8], wherein the wiper is a nonwoven fabric.
  • a method for producing a printing plate according to 1. any one of the above [1] to [10], wherein the unexposed portion of the photosensitive resin composition adhered or adsorbed to the development medium is recovered and used as a photosensitive resin composition in the production of a new printing plate; A method for producing the printing plate described.
  • a printing method comprising a step of producing a printing plate by the method for producing a printing plate according to any one of [1] to [11] above, and a printing step of printing using the produced printing plate.
  • a printing plate having excellent thickness uniformity can be obtained when dry development processing is used.
  • the printing plate manufacturing method of the present embodiment includes: an exposure step of forming a relief by exposing the photosensitive resin composition; a developing step in which the unexposed portion of the photosensitive resin composition in the exposure step is adhered or adsorbed to a development medium and developed;
  • the storage elastic modulus of the photosensitive resin composition in the unexposed area at the developing temperature in the developing step is 100 to 4000 Pa, and the development medium is a wiper having an elastic recovery rate of 30% to 99%.
  • the printing plate obtained by the production method of the present embodiment is preferably a flexographic printing plate (letterpress printing plate).
  • the unexposed portion of the photosensitive resin composition of the printing original plate after the exposure step is removed using a developing medium.
  • the unexposed portion is adhered or adsorbed by contact with a wiper, which is a developing medium, and removed.
  • a printing plate having excellent thickness uniformity can be obtained.
  • Print original plate In the method for producing a printing plate of the present embodiment, in the exposure step, a relief is formed on the photosensitive resin composition layer by exposure to obtain a printing original plate, and in the development step, the photosensitive resin composition layer is not yet exposed. The exposed portion is removed by adhering or adsorbing to the developing medium.
  • the printing original plate comprises at least a support (a) and a photosensitive resin composition layer (b) laminated on the support (a) before the photosensitive resin composition layer is exposed to light.
  • a structure may be referred to as a "photosensitive resin structure for printing plates”. That is, as will be described later, a printing plate is obtained by forming a relief on a photosensitive resin composition for a printing plate by pattern exposure, and a printing plate is obtained by melting and removing an unexposed portion of the printing plate. is obtained.
  • the support (a) examples include, but are not limited to, polyester films, polyamide films, polyacrylonitrile films, and polyvinyl chloride films. Among these, a polyester film is preferable as the support (a). Examples of the polyester used for the support (a) include, but are not limited to, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, and the like.
  • the thickness of the support (a) is not particularly limited, but preferably 50 to 300 ⁇ m.
  • an adhesive layer may be provided on the support (a) for the purpose of increasing the adhesive strength between the support (a) and the photosensitive resin composition layer (b) described below.
  • the adhesive layer is not particularly limited, but includes, for example, the adhesive layers described in International Publication No. 2004/104701, Japanese Patent No. 3094647, and Japanese Patent No. 2634429.
  • the photosensitive resin composition for a printing plate has a photosensitive resin composition layer (b) on a support (a).
  • the photosensitive resin composition layer (b) may be directly laminated on the support (a), or may be indirectly laminated via the adhesive layer or the like.
  • the photosensitive resin composition layer (b) is not particularly limited, but for example, contains a polymer (b-1) described later, preferably an ethylenically unsaturated compound (b-2), a photopolymerization initiator (b -3) may be further contained. Moreover, the photosensitive resin composition layer (b) may further contain an auxiliary additive component described later, if necessary. Each component will be described in detail below.
  • the polymer (b-1) is not particularly limited, but may be, for example, a linear, branched or dendritic polymer, and may be a homopolymer or a copolymer.
  • the copolymers may be random, alternating, or block copolymers.
  • Suitable polymers (b-1) are, for example, fully or partially hydrolyzed polyvinyl esters, partially hydrolyzed polyvinyl acetates, polyvinyl alcohol derivatives, partially hydrolyzed vinyl acetate/ Alkylene oxide graft copolymers, or partially hydrolyzed vinyl acetate/alkylene oxide graft copolymers, and subsequently acrylated by polymer-analogous reactions, such as polyvinyl alcohol, polyamides and mixtures thereof, for the production of printing plates. Conventionally used ones can be mentioned.
  • examples of the polymer (b-1) include thermoplastic elastomer binders.
  • thermoplastic elastomer block copolymer can be used as the thermoplastic elastomer, and the thermoplastic elastomer block copolymer comprises at least one block containing an alkenyl aromatic monomer unit and a 1,3-diene monomer unit. and at least one block containing Examples of alkenyl aromatic compounds forming alkenyl aromatic monomer units include styrene, ⁇ -methylstyrene, and vinyl toluene. It is preferable to contain styrene from the viewpoint of being able to mold smoothly and improving the thickness uniformity of the surface.
  • the 1,3-diene may contain butadiene and/or isoprene from the viewpoint of reducing the steric hindrance of the vinyl group, increasing the photocrosslinking efficiency, and preventing the deterioration of thickness uniformity due to breakage of the finally obtained printing plate. preferable.
  • the polymer (b-1) contains polyurethane.
  • the polyurethane may have a (meth)acrylic group as a terminal group. preferable.
  • a method for producing a polyurethane having a (meth)acrylic terminal group for example, a diol having a repeating unit in the molecule is reacted with a diisocyanate to form a polyurethane having an isocyanate group at the terminal and having an arbitrary molecular weight.
  • a method of reacting the polyurethane with a compound containing active hydrogen and (meth)acrylic group in one molecule is a compound containing active hydrogen and (meth)acrylic group in one molecule.
  • a diol having a repeating unit in the molecule and a diisocyanate are reacted to form a polyurethane having an isocyanate group at the terminal and having an arbitrary molecular weight, and then the polyurethane, a hydroxyl group and a (meth)acrylic
  • a method of reacting with a compound containing a group is also included.
  • the polyurethane structure obtained by the production method described above is a structure formed by reacting a diol having repeating units in the molecule with a diisocyanate.
  • the "polyurethane having (meth)acrylic groups at the terminal groups" synthesized by the above method is referred to as "unsaturated prepolymer".
  • the "diol having a repeating unit in the molecule" used in the production of the unsaturated prepolymer is not limited to the following, but includes, for example, a polyester diol, a polyether diol, and a polyether polyester copolymerized diol consisting of a dicarboxylic acid and a diol. , 1,2-polybutadiene compounds having terminal hydroxyl groups, and the like. Diols having repeating units in the molecule may be used singly or in combination of two or more.
  • dicarboxylic acids constituting the polyester diol include, but are not limited to, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimenphosphoric acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, maleic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, and 1,5-naphthalenedicarboxylic acid and the like.
  • diols constituting the polyester diol include, but are not limited to, 1,4-butanediol, 2-methyl-1,3-propanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, and neopentyldiol. , 1,6-hexanediol, 1,9-nonanediol, 2-methyl-1,8-octanediol, and diethylene glycol (dioxyethylenediol).
  • polyether diol examples include, but are not limited to, polyoxyethylene diol, polyoxypropylene diol, polyoxytetramethylene diol, polyoxy-1,2-butylene diol, polyoxyethylene/polyoxypropylene random copolymer Examples include coalesced diols, polyoxyethylene/polyoxypropylene block copolymer diols, polyoxyethylene/polyoxytetramethylene random copolymer diols, and polyoxyethylene/polyoxytetramethylene block copolymer diols.
  • the polyether polyester copolymer polyol is not limited to the following, but for example, the repeating unit forming the molecular chain of the polyether polyol described above and the repeating unit forming the molecular chain of the polyester polyol described above are block or random.
  • the 1,2-polybutadiene compound having a terminal hydroxyl group may be a hydrogenated compound.
  • examples of the 1,2-polybutadiene compound having a terminal hydroxyl group include, but are not limited to, poly-1-butene hydrides and 1,2-polybutadiene hydrides.
  • the terminal hydroxyl group is not particularly limited, but from the viewpoint of maintaining the thickness uniformity of the finally obtained flexographic printing plate, it is preferably 1.2 or more and 2.0 or less per molecule, and 1.5 More preferably, the number is 2.0 or less.
  • diisocyanate examples include, but are not limited to, tolylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, cyclohexane diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, and norbornene diisocyanate. .
  • a diisocyanate is used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
  • the content of the polymer (b-1) in the photosensitive resin composition layer (b) is such that the storage elastic modulus and/or the loss elastic modulus of the photosensitive resin composition are adjusted to an appropriate numerical range, from the viewpoint of the photosensitive
  • the total amount of the resin composition layer (b) is 100% by mass, it is preferably 20% by mass or more, more preferably 40% by mass or more and 90% by mass or less, and 50% by mass or more and 90% by mass or less. and more preferably 60% by mass or more and 80% by mass or less.
  • the photosensitive resin composition layer (b) preferably contains the ethylenically unsaturated compound (b-2) as described above.
  • the ethylenically unsaturated compound (b-2) is a compound having a radically polymerizable unsaturated double bond.
  • ethylenically unsaturated compounds (b-2) include, but are not limited to, olefins such as ethylene, propylene, vinyltoluene, styrene, and divinylbenzene; acetylenes; (meth)acrylic acid and/or derivatives thereof.
  • the ethylenically unsaturated compound (b-2) includes: (Meth)acrylic acid and/or its derivatives are preferred.
  • Examples of the above derivatives include, but are not limited to, alicyclic compounds having a cycloalkyl group, bicycloalkyl group, cycloalkenyl group, bicycloalkenyl group, etc.; benzyl group, phenyl group, phenoxy group, or naphthalene skeleton; Aromatic compounds having an anthracene skeleton, biphenyl skeleton, phenanthrene skeleton, fluorene skeleton, etc.; compounds having alkyl groups, halogenated alkyl groups, alkoxyalkyl groups, hydroxyalkyl groups, aminoalkyl groups, glycidyl groups, etc.; alkylene glycol, polyoxy ester compounds with polyhydric alcohols such as alkylene glycol, polyalkylene glycol and trimethylolpropane; and compounds having a polysiloxane structure such as polydimethylsiloxane and polydiethylsiloxane.
  • the ethylenically unsaturated compound (b-2) may also be a heteroaromatic compound containing elements such as nitrogen and sulfur.
  • Examples of (meth)acrylic acid and/or derivatives thereof include, but are not limited to, diacrylates and dimethacrylates of alkanediols such as hexanediol and nonanediol; ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol; Diacrylates and dimethacrylates of glycols such as polyethylene glycol and butylene glycol; trimethylolpropane tri(meth)acrylate; dimethyloltricyclodecane di(meth)acrylate; isobornyl (meth)acrylate; phenoxypolyethylene glycol (meth)acrylate ; and pentaerythritol tetra(meth)acrylate. These may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more types.
  • At least one kind of (meth)acrylate may be used as the ethylenically unsaturated compound (b-2). It is preferable to use at least one or more bifunctional (meth)acrylates.
  • the number average molecular weight (Mn) of the ethylenically unsaturated compound (b-2) is 100 or more and 1500 or less from the viewpoint of controlling the storage modulus and/or loss modulus of the photosensitive resin composition within an appropriate numerical range. , more preferably 110 or more and 1000 or less, and even more preferably 130 or more and 800 or less.
  • the number average molecular weight (Mn) of ethylenically unsaturated compounds is determined by gel permeation chromatography (GPC).
  • the content of the ethylenically unsaturated compound (b-2) in the photosensitive resin composition layer (b) is, when the total amount of the photosensitive resin composition layer (b) is 100% by mass, that of the photosensitive resin composition. From the viewpoint of controlling the storage elastic modulus and/or loss elastic modulus within an appropriate numerical range, it is preferably 2% by mass or more and less than 60% by mass, more preferably 5% by mass or more and 50% by mass or less. More preferably, it is at least 40% by mass.
  • the photosensitive resin composition layer (b) preferably contains a photopolymerization initiator (b-3).
  • the photopolymerization initiator (b-3) is a compound that absorbs light energy and generates radicals. Examples thereof include compounds having a functioning site and a site functioning as a decaying photopolymerization initiator in the same molecule.
  • photopolymerization initiator (b-3) examples include, but are not limited to, benzophenone, 4,4-bis(diethylamino)benzophenone, 3,3′,4,4′-benzophenonetetracarboxylic anhydride, 3 benzophenones such as ,3′,4,4′-tetramethoxybenzophenone; anthraquinones such as t-butylanthraquinone and 2-ethylanthraquinone; thioxanthones such as 2,4-diethylthioxanthone, isopropylthioxanthone and 2,4-dichlorothioxanthone Michler ketone; diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethylketal, 1-hydroxycyclohexyl-phenylketone, 2- methyl-2-morpholino
  • the content of the photopolymerization initiator (b-3) in the photosensitive resin composition layer (b) is from the viewpoint of preventing damage to the printing plate finally obtained and maintaining thickness uniformity during printing.
  • the total amount of the flexible resin composition layer (b) is 100% by mass, it is preferably 0.1% by mass or more and 10% by mass or less, more preferably 0.1% by mass or more and 5% by mass or less. , more preferably 0.3% by mass or more and 5% by mass or less.
  • auxiliary additive ingredients include, but are not limited to, plasticizers, thermal polymerization inhibitors, antioxidants, light stabilizers, ultraviolet absorbers, dyes/pigments, and the like.
  • plasticizers include, but are not limited to, liquid polybutadiene, liquid polyisoprene, modified liquid polybutadiene, modified liquid polyisoprene, liquid acrylonitrile-butadiene copolymer, and liquid styrene-butadiene copolymer.
  • liquid dienes such as naphthenic oil, hydrocarbon oils such as paraffin oil; liquid acrylonitrile-butadiene copolymers, liquid styrene-butadiene copolymers and other liquid diene-based conjugated diene rubbers; number average molecular weight of 2000 or less polystyrene; and ester plasticizers such as sebacate and phthalate.
  • plasticizers may have a hydroxyl group or a carboxyl group. Moreover, a photopolymerizable reactive group such as a (meth)acryloyl group may be added to these plasticizers.
  • the said plasticizer may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
  • liquid as used herein means a property having properties such that it is easily flow-deformed and can be solidified into a deformed shape by cooling.
  • the content of the plasticizer in the photosensitive resin composition layer (b) is from the viewpoint of improving the flexibility of the finally obtained printing plate and improving the image uniformity during printing.
  • the total amount of b) is 100% by mass, it is preferably 0% by mass or more and 30% by mass or less, more preferably 8% by mass or more and 30% by mass or less, and even more preferably 8% by mass or more and 25% by mass or less.
  • thermal polymerization inhibitor and antioxidant those commonly used in the field of resin materials or rubber materials can be used, and examples thereof include phenolic materials.
  • Phenolic materials include, but are not limited to, vitamin E, tetrakis-(methylene-3-(3′,5′-di-t-butyl-4′-hydroxyphenyl)propionate)methane, 2, 5-di-t-butyl hydroquinone, 2,6-di-t-butyl-p-cresol, 3,9-bis- ⁇ 1,1-dimethyl-2-[3-(3-t-butyl-4- Hydroxy-5-methylphenyl)propionyloxy]ethyl ⁇ -2,4,8,10-tetraoxaspiro(5,5)undecane, 2-t-butyl-6-(3-t-butyl-2-hydroxy- 5-methylbenzyl)-4-methylphenyl acrylate and the like.
  • Other examples of thermal polymerization inhibitors and antioxidants include phosphine
  • Examples of light stabilizers and ultraviolet absorbers include, but are not limited to, known benzophenone-based compounds, salicylate-based compounds, acrylonitrile-based compounds, metal complex-based compounds, and hindered amine-based compounds. Dyes and pigments shown below may also be used as the ultraviolet absorber. Examples of such light stabilizers and UV absorbers include, but are not limited to, 2-ethoxy-2'-ethyloxalic acid bisanilide, 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, bis( 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl)-decanedioate, 1,2,3-benzotriazole and the like.
  • Dyes and pigments are effective as coloring means for improving visibility.
  • dyes include, but are not limited to, water-soluble basic dyes, acid dyes, direct dyes, and water-insoluble sulfur dyes, oil-soluble dyes, disperse dyes, and the like.
  • Anthraquinone dyes, indigoid dyes, and azo dyes are particularly preferred.
  • pigments include, but are not limited to, natural pigments, synthetic inorganic pigments, synthetic organic pigments, and the like. Synthetic organic pigments include azo-based pigments, triphenylmethane-based pigments, quinoline-based pigments, anthraquinone-based pigments, and phthalocyanine-based pigments.
  • a development step is performed in which the unexposed area of the photosensitive resin composition is adhered or adsorbed to a development medium for development.
  • the storage elastic modulus of the photosensitive resin composition in the unexposed area at the developing temperature in the developing step is 100 Pa or more and 4000 Pa or less, preferably 100 Pa or more and 350 Pa or less, more preferably 100 Pa or more and 250 Pa or less, and even more preferably. is 130 Pa or more and 240 Pa or less.
  • the development temperature in the development step in the printing plate manufacturing method of the present embodiment is 0 to 200° C., and the storage elastic modulus of the photosensitive resin composition in the unexposed area at such a development temperature is By adjusting the content of the polymer (b-1), the content of the ethylenically unsaturated compound (b-2), and/or the number average molecular weight (Mn), it is possible to control the above numerical range. .
  • a development step is performed in which the unexposed area of the photosensitive resin composition is adhered or adsorbed to a development medium for development.
  • the loss elastic modulus of the photosensitive resin composition in the unexposed area at the developing temperature in the developing step is preferably 90 Pa or more and 500 Pa or less, more preferably 100 Pa or more and 500 Pa or less, and even more preferably 130 Pa or more and 480 Pa or less.
  • the loss elastic modulus is 90 Pa or more, the photosensitive resin composition is less likely to be cut when the developing medium is separated from the printing original plate in the development step, and the unexposed photosensitive resin composition is less likely to remain as a residue on the printing original plate. .
  • the loss elastic modulus is 500 Pa or less, suitable fluidity can be obtained in removing the uncured resin.
  • the developing temperature in the developing step in the printing plate manufacturing method of the present embodiment is 0 to 200° C., and the loss elastic modulus of the photosensitive resin composition in the unexposed area at such a developing temperature is By adjusting the content of the polymer (b-1), the content of the ethylenically unsaturated compound (b-2), and/or the number average molecular weight (Mn), it is possible to control the above numerical range. .
  • the storage elastic modulus and loss elastic modulus described above can be measured by the methods described in Examples below.
  • the manufacturing method of the printing plate of this embodiment is not limited to the following forms.
  • the above-described photosensitive resin composition for a printing plate (a photosensitive resin composition laminated on a support) is used, and first, a step of irradiating ultraviolet rays from the support side.
  • first step in the case of digital plate making, the step of irradiating the infrared ablation layer with infrared rays to draw a pattern
  • second step in the case of analog plate making, the step of adhering the negative to the photosensitive resin composition layer
  • third step a step of pattern exposure by irradiating the photosensitive resin composition layer with ultraviolet rays using an infrared ablation layer or negative on which a pattern has been drawn as a mask
  • third step a photosensitive resin composition layer.
  • this (fourth step) in the present embodiment, as described above, the storage elastic modulus of the photosensitive resin composition and the elastic recovery rate of the developing medium are specified.
  • a step of post-exposure treatment is performed as necessary to obtain a printing plate of a cured product of the photosensitive resin composition layer.
  • a step of contacting the surface of the printing plate with a liquid containing a silicone compound and/or a fluorine compound may be included.
  • the photosensitive resin composition layer (b) is irradiated with ultraviolet rays from the support (a) side.
  • the ultraviolet irradiation method is not particularly limited, and can be carried out using a known irradiation unit.
  • the wavelength of the ultraviolet rays to be irradiated is preferably 150 nm or more and 500 nm or less, more preferably 300 nm or more and 400 nm or less.
  • the ultraviolet light source is not limited to the following, but for example, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an extra-high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a zirconium lamp, a carbon arc lamp, an ultraviolet fluorescent lamp, and the like can be used.
  • the first step may be performed before or after the second step, which will be described later.
  • the drawing processing method is not particularly limited, and a known irradiation unit can be used.
  • irradiation of infrared rays to the infrared ablation layer can be performed from the infrared ablation layer side.
  • the cover film is first peeled off before infrared irradiation. Thereafter, the infrared ablation layer is pattern-irradiated with infrared rays to decompose the resin in the infrared-irradiated portion, and the pattern is drawn.
  • Infrared lasers used in the second step include, for example, ND/YAG lasers (eg, 1064 nm) or diode lasers (eg, 830 nm).
  • Laser systems suitable for CTP plate making technology are commercially available, for example the diode laser system CDI Spark (manufactured by ESKO GRAPHICS) can be used.
  • the laser system includes a rotating cylindrical drum holding a photosensitive resin construction for a printing plate, an infrared laser irradiation device, and a layout computer, wherein image information is transmitted directly from the layout computer to the infrared laser irradiation device.
  • a mask can be similarly formed by using a negative film.
  • ⁇ Third step> pattern exposure is performed by irradiating the photosensitive resin composition layer with ultraviolet rays using the infrared ablation layer or negative film on which the pattern is drawn as a mask. At this time, the UV light passing through the mask accelerates the curing reaction of the photosensitive resin composition layer, and the pattern formed on the infrared ablation layer or negative film is reversed and transferred to the photosensitive resin composition layer. be.
  • the ultraviolet irradiation may be performed on the entire surface or partially.
  • the third step can be performed with the above-described photosensitive resin construction for printing plates attached to the laser cylinder of the laser system. Remove from and irradiate using a conventional irradiation unit. As the irradiation unit, the same units as those exemplified for the ultraviolet irradiation in the first step can be used.
  • the fourth step is to remove the unexposed portion of the photosensitive resin composition layer.
  • the fourth step (development step) the unexposed portion is removed by adhering or adsorbing the unexposed portion to the developing medium.
  • the fourth step is carried out at room temperature or by heating the photosensitive resin composition for a printing plate after the third step to 40° C. or higher and 200° C. or lower. Appropriate fluidity can be imparted to the masked photosensitive resin composition not irradiated with ultraviolet rays, that is, the unexposed area.
  • a conventionally known device can be used as long as it has a function of heating the photosensitive resin composition layer.
  • a heating device incorporated in the roll on which the photosensitive resin composition for printing plates is placed or a heating device placed outside the roll.
  • an infrared lamp that irradiates the photosensitive resin composition layer with infrared rays can be used.
  • the unexposed areas are then adhered to or absorbed by the development medium.
  • a pre-process for adsorption or absorption removal a part of the unexposed portion may be removed in advance with a predetermined spatula, roll, or the like.
  • the development medium has an absorbent layer, which is brought into contact with the unexposed areas, deposits or absorbs away the unexposed areas, and removes the unexposed areas. After that, a printing plate is produced by post-exposure treatment if necessary. If an intermediate layer is provided between the infrared ablative layer and the photosensitive resin composition layer, it may be removed at the same time during the development step.
  • the photosensitive resin composition When the photosensitive resin composition is liquid at room temperature, the photosensitive resin composition is usually placed on the support inside a dedicated device (plate making machine) during the first to third steps. includes a predetermined forming step for forming a film having a constant thickness.
  • a dedicated device plate making machine
  • the liquid photosensitive resin composition it is preferable to perform the following steps (A1) to (A3), for example, in the step of exposing the photosensitive resin composition.
  • step (A1) In the step (A1), a negative film is placed on an ultraviolet-transmitting glass plate (lower glass plate), the negative film is covered with a thin protective film, and a photosensitive resin composition is poured over it, A base film that serves as a support is attached via a spacer so that this has a constant plate thickness, and a UV-transmitting glass plate (upper glass plate) is pressed from above to form a photosensitive resin composition layer. It is a molding process of a photosensitive resin composition layer.
  • Step (A2) In the step (A2), after the step of molding the photosensitive resin composition layer, an actinic ray (e.g., a ray having a wavelength distribution of 300 nm or more) using an ultraviolet fluorescent lamp or the like as an actinic light source is applied from the upper glass plate side to the base film.
  • an actinic ray e.g., a ray having a wavelength distribution of 300 nm or more
  • an ultraviolet fluorescent lamp or the like as an actinic light source is applied from the upper glass plate side to the base film.
  • a masking film is provided in the photosensitive resin composition layer forming step
  • the shelf layer is formed by the same exposure. In this case, it is called a masking exposure process.
  • Both the back deposit layer and the shelf layer are formed by curing the photosensitive resin composition layer on the side opposite to the relief forming layer side, that is, the photosensitive resin composition layer on the base film side. be.
  • Step (A3) In the step (A3), after the back exposure step or the masking exposure step, the photosensitive resin composition layer is irradiated from the lower glass side through the negative film with the same actinic rays as the upper portion, and the image forming layer (relief formation layer) is deposited.
  • the shelf layer is formed by the masking exposure process, it is also a preferred embodiment to remove the masking film after the relief forming exposure process and then to form the back deposit layer on the entire surface of the base film by performing the back exposure process. one of.
  • the thickness of the relief forming layer that is, the relief depth is 0.1 mm or more and 10.0 mm or less from the viewpoint of removability of the photosensitive resin composition in the unexposed area. is preferred, 0.5 mm or more and 3.0 mm or less is more preferred, and 0.5 mm or more and 2.0 mm or less is even more preferred.
  • the relief depth is the length obtained by subtracting the height of the back deposition layer and/or the shelf layer from the plate thickness, that is, the depth of the printed image relief.
  • the relief depth is 0.1 mm or more, it is possible to secure the necessary relief depth when printing a design.
  • the relief depth is 10.0 mm or less, it is possible to ensure a large contact area with the development medium relative to the volume of the photosensitive resin composition in the unexposed portion in the development step, and the photosensitive resin composition in the unexposed portion can be secured. The adsorption and removal properties of are good.
  • the thickness of the relief-forming layer (relief depth) is controlled within the above numerical range by adjusting the exposure dose of actinic rays in the exposure step (A2) and adjusting the thickness of the shelf layer and/or the back deposition layer. be able to.
  • the development medium preferably has an adsorption layer in part or all of it, and as the development medium, a wiper having an adsorption layer formed of, for example, nonwoven fabric, sponge, woven or knitted fabric, paper, or the like is used.
  • the wiper is preferably a non-woven fabric, for example, from the viewpoint that residue derived from the wiper is less likely to occur during the development process and that the unexposed photosensitive resin composition is excellent in removability.
  • Non-woven fabric refers to a web formed by bonding or entangling fibers by thermal, mechanical, or chemical action.
  • the development medium used in the printing plate manufacturing method of the present embodiment has an elastic recovery rate of 30% or more and 99% or less. Pressure is applied to the development medium during the development process, but if the elastic recovery rate of the development medium is low, the development medium is excessively pressed against the unexposed areas due to the pressure, and the thickness of the finally obtained flexographic printing plate is reduced. Thickness uniformity tends to be impaired. This impairs image uniformity in printing. Since the elastic recovery rate of the development medium is within the above range, the contact area with the unexposed area is maintained appropriately, and the shape of the development medium is quickly restored in the process of weakening the pressure, resulting in a high porosity.
  • the elastic recovery rate of the development medium should be 30% or more and 99% or less, preferably 35% or more and 99% or less, more preferably 40% or more and 99% or less, It is more preferably 60% or more and 99% or less, and in particular, by specifying 69% or more, excellent adsorption and removability are exhibited. Furthermore, by combining with the photosensitive resin composition having the storage modulus described above, the removability of the photosensitive resin composition in the unexposed area is further improved, and the thickness uniformity of the finally obtained printing plate is improved. can be improved.
  • the elastic recovery rate of the developing medium can be measured by the method described in Examples below.
  • the elastic recovery rate of the development medium can be controlled within the above numerical range by adjusting the temperature when entering the press rolls that thermally bond the constituent materials in the production process of the development medium.
  • the method for adjusting the temperature is not particularly limited, examples thereof include a method of effectively utilizing the heat radiation of the press roll with a heat insulating plate, and a method of preheating the nonwoven fabric, which will be the developing medium, with a preheating roll.
  • thermoplastic resin can be used as the material of the development medium.
  • thermoplastic resins include polyester-based resins and/or polyester-based copolymers, and polyamide-based resins. Since the unexposed portion of the photosensitive resin composition layer may be wiped off while being heated, the developing medium preferably has heat resistance. satisfied enough. Further, from the viewpoint of improving the removability of the photosensitive resin composition due to the affinity with the photosensitive resin composition, the development medium for thermal development preferably contains a polyester resin and/or a polyester copolymer. preferable.
  • polyester resins include, but are not limited to, polyethylene terephthalate, polytrimethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene terephthalate, and polybutylene naphthalate.
  • polyester-based copolymer include resins obtained by copolymerizing the above-described polyester-based resins with another polymer, and resins modified by partially introducing functional groups.
  • polyamide-based resin include, but are not limited to, nylon 6, nylon 6,6, and the like.
  • the wiper as a development medium includes at least two fiber layers (II layer) having a fiber diameter of 5.0 ⁇ m or more and 30.0 ⁇ m or less, and the ultrafine fiber layer (I layer) having a fiber diameter of 0.1 ⁇ m or more and 5.0 ⁇ m. It is preferable that the nonwoven fabric has a laminated structure and is included as an intermediate layer of the fiber layer (II layer) having a fiber diameter of 5.0 ⁇ m or more and 30.0 ⁇ m or less.
  • the nonwoven fabric having a laminated structure has a fiber layer with a large fiber diameter (hereinafter sometimes referred to as a large fiber layer) on the surface layer, and the uneven shape of the large fibers present on the surface of the nonwoven fabric provides photosensitivity.
  • the wiping property is improved due to the scraping effect when the resin composition is in contact with the resin composition.
  • the wiped-off photosensitive resin composition can pass through the thick fiber layer with high voids and be held by the ultrafine fiber layer, and the number of times of repeated use can be extended.
  • the inclusion of the ultrafine fiber layer enables the formation of a dense network structure, which dramatically improves the resin-carrying capacity. Since this resin-supporting ability also contributes to suppression of strike-through of the wiped-off photosensitive resin composition, it is possible to produce a stable flexographic printing plate.
  • the elastic recovery rate of the entire wiper having a laminated structure is determined by the elastic recovery rate of the outermost surface layer, which tends to cause elastic change. For example, in the case of the nonwoven fabric having the laminated structure, the elastic recovery rate of the entire nonwoven fabric having the laminated structure is approximately the same as the elastic recovery rate of the outermost thick fiber layer (II layer).
  • the nonwoven fabric may be thermocompression bonded.
  • the thermocompression bonding rate (the area of the bonded portion with respect to the area of the nonwoven fabric) is preferably 5% or more and 20% or less, more preferably 11% or more and 17% or less.
  • the manufacturing method of the nonwoven fabric is not particularly limited, and known methods can be used.
  • the method for producing the thick fiber layer (layer II) is preferably a spunbond method, a dry method, a wet method, or the like.
  • Fibers used for the thick fiber layer (II layer) include thermoplastic resin fibers and the like.
  • the manufacturing method of the ultrafine fiber layer (I layer) composed of ultrafine fibers having a fiber diameter of 0.1 ⁇ m or more and 5.0 ⁇ m is, for example, a dry method or a wet method using ultrafine fibers, or an electrospinning method. , Melt-Blown method, force spinning, etc. can be used.
  • the ultrafine fiber layer (I) is particularly preferably formed by a meltblown method.
  • the fibers may be split or fibrillated by beating, partial dissolution, or the like, and then used for the production of the nonwoven fabric.
  • a method of forming a nonwoven fabric having a laminated structure having the thick fiber layer (I layer) and the ultrafine fiber layer (II layer) described above for example, a method by integration by thermal bonding, a method by jetting a high-speed water stream, and a tertiary A method of original entanglement, a method of integrating with a particulate or fibrous adhesive, and the like can be mentioned.
  • Methods of integration by thermal bonding include integration by thermal embossing (thermal embossing roll method) and integration by high-temperature hot air (air-through method). Integration by thermal bonding is preferable from the viewpoint of forming a laminated nonwoven fabric without using a binder.
  • Integration by thermal bonding can be performed, for example, by bonding using a press roll (flat roll or emboss roll) at a temperature 50 to 120° C. lower than the melting point of the synthetic resin and a linear pressure of 100 to 1000 N/cm. can.
  • a linear pressure of 100 N/cm or more in the heat bonding step provides a sufficient bonding effect and a sufficient strength.
  • the linear pressure is 1000 N/cm or less, it is possible to prevent the deformation of the fibers from becoming large, prevent the apparent density from increasing and the porosity from decreasing, and effectively obtain the effects of the present invention. be done.
  • the temperature of the nonwoven fabric when entering the press roll corresponds to the temperature 50 cm upstream from the roll nip point.
  • the elastic recovery rate and compressibility of the nonwoven fabric as described above can be obtained by setting the temperature of the nonwoven fabric in the range of 40 to 120° C. when entering the press roll.
  • the method for adjusting the temperature of the nonwoven fabric to the above range is not particularly limited, but for example, a method of effectively utilizing the heat radiation of the heating press roll using a predetermined heat insulating plate, or preheating the nonwoven fabric using a preheating roll. methods and the like.
  • the most preferred method for forming a nonwoven fabric as a development medium is to sequentially produce a spunbond nonwoven fabric layer, a meltblown nonwoven fabric layer and, if necessary, a spunbond nonwoven fabric layer, laminate these, and roll them with embossing rolls or hot press rolls. It is a method of crimping. This method is preferable when the purpose is to obtain a uniform nonwoven fabric with a low basis weight, because a laminated nonwoven fabric can be formed from the same material and can be produced on a continuously integrated production line. Specifically, one or more spunbond nonwoven fabric layers are spun on a conveyor using a thermoplastic resin, and a thermoplastic resin is used to melt-blown ultrafine fibers having a fiber diameter of 0.1 to 5 ⁇ m.
  • One or more nonwoven layers are sprayed on. After that, one or more spunbond nonwoven fabric layers made of thermoplastic resin fibers are laminated using a thermoplastic resin.
  • a method of integrating these layers by calendering in which metal rolls are used to crimp these layers, is preferred.
  • the calendering include a method of crimping a nonwoven fabric layer with a hot roll. This method can be carried out in a continuous integrated production line, and is therefore suitable for obtaining a uniform nonwoven fabric with a low basis weight.
  • the heat bonding process can be performed, for example, at a temperature lower than the melting point of the thermoplastic resin by 50° C. to 120° C. and a linear pressure of 100 to 1000 N/cm.
  • the hot rolls used in calendering may be rolls with uneven surfaces, such as embossed or satin-patterned rolls, or smooth flat rolls.
  • the surface pattern of the roll having an uneven surface is not limited as long as the fibers can be thermally bonded to each other, such as an embossed pattern, a satin pattern, a rectangular pattern, and a line pattern.
  • the photosensitive resin composition in the unexposed areas adhered or adsorbed to the development medium in the above-described development step is recovered as a photosensitive resin composition in manufacturing a new printing plate. It can have a process.
  • the recovered photosensitive resin composition can be reused as a photosensitive resin composition in the production of new printing plates.
  • the recovered photosensitive resin composition may be put into an exposure machine when manufacturing a new printing plate.
  • a flexible resin composition may also be used.
  • the exposing machine into which the recovered photosensitive resin composition is charged refers to an exposing machine equipped with a unit for laminating a support and a photosensitive resin in layers. When filling the photosensitive resin composition into the unit, A recovered photosensitive resin composition can be used. By using the recovered photosensitive resin composition, waste can be reduced, and material costs can be reduced.
  • the printing plate manufacturing method of the present embodiment has the following effects (1) to (5).
  • the development medium has an appropriate elastic recovery rate, so that the unexposed photosensitive resin composition can be easily separated by applying pressure to the development medium, and the recovery rate of the photosensitive resin composition is improved. Improvement is possible.
  • the printing method of this embodiment includes a step of manufacturing a printing plate by the method of manufacturing a printing plate of this embodiment described above, and a step of printing using the manufactured printing plate.
  • ⁇ Storage modulus and loss modulus> When a photosensitive resin composition that does not flow at 25°C is used, it is preliminarily kneaded with a pressure kneader at 120°C, then the photosensitive resin composition is put into an extruder and passed through a T-shaped die. After extruding to a thickness of 3 mm, the obtained molding was punched into a circular shape of 25 mm to obtain a measurement sample, and the storage modulus and loss modulus were measured under the following measurement conditions. When using a photosensitive resin composition that is fluid at 25°C, the photosensitive resin composition is directly set in the following rheometer without preliminary processing, and storage elastic modulus and loss elasticity are measured under the following measurement conditions. rate was measured.
  • the thickness of the relief-forming layer was measured as follows. Using an ABS digimatic indicator ID-C112 (manufactured by Mitutoyo Co., Ltd.) measuring instrument, the thickness of the entire printing plate, the thickness of the support, the thickness of the shelf layer or the back deposit layer are measured, and the relief is calculated by the following formula. Depth was calculated.
  • the relief-forming layer is a layer formed in (A3) of ⁇ Forming/exposure step> described later.
  • the shelf layer is a layer formed in (A2) of ⁇ Molding/exposure step> described later.
  • the back deposition layer is a layer formed in (A2) of ⁇ Forming/exposure step> described later.
  • Relief depth (mm) Thickness of entire printing plate (mm) - (thickness of back deposited layer or shelf layer + thickness of support) (mm)
  • the elastic recovery rate of the non-woven fabric used as the wiper for the developing medium used in the developing process was measured as follows.
  • the elastic recovery rate of the nonwoven fabric was measured using an MCT-50 microcompression tester manufactured by Shimadzu Corporation.
  • the test conditions were a load-unload mode in which the sample for measurement was loaded to the maximum test force and then unloaded to the minimum test force.
  • the minimum test force was set to 0.05 mN, and the maximum test force was set to the test force when the nonwoven fabric thickness d was deformed by 10% in compression mode.
  • the elastic recovery rate was calculated as follows.
  • Elastic recovery rate (%) L2/(L1-L2) x 100
  • L1 Displacement difference between maximum and minimum test force in load mode
  • L2 Displacement difference between maximum and minimum test force in unload mode
  • a wiper which is a developing medium used in the developing process, was produced as follows.
  • the wiper was made of non-woven fabric.
  • Nonwoven fabric 1 Polyethylene terephthalate (PET) was discharged from a spunbond spinneret (V-type nozzle) at a spinning temperature of 290 ° C., and the yarn was symmetrically cooled from both sides by a cooling device directly below the spinneret (both at a wind speed of 0.5 m / s), continuous long fibers (layer II, fiber diameter 16 ⁇ m) were obtained by drawing with a draw jet, and the fibers were opened and dispersed and deposited on a web conveyor to form a web. Next, a superfine fiber layer (I layer, fiber diameter 3 ⁇ m) was spun by a meltblowing method using a PET solution at a spinning temperature of 290° C.
  • PET Polyethylene terephthalate
  • nonwoven fabric 1 was produced by integrating the laminated web with a calender roll (roll temperature: 220° C., linear pressure: 500 N/cm).
  • the calender roll type "flat” is a calender roll for flat processing, and is a calender roll capable of crimping over the entire surface.
  • Embossing refers to a calender roll for embossing, and is a calender roll that allows pressure bonding only on a portion of the surface of the nonwoven fabric by means of a roll with unevenness.
  • the thermocompression bonding rate is the ratio of the area of the bonded portion to the area of the nonwoven fabric, and the unit is %. Production conditions other than those described above, physical properties of the produced nonwoven fabric, and evaluation results are shown in [Table 1] below.
  • the nonwoven fabric 2 was produced by integrating the web with a calender roll (roll temperature: 200° C., linear pressure: 500 N/cm). The position of the heat insulating plate of the heating roll was adjusted so that the cloth temperature before pressing, which is important for controlling the recovery rate from compression, was the temperature shown in [Table 1] below.
  • Nonwoven fabric 3 was produced in the same manner as nonwoven fabric 2, except that the fabric temperature before calendering was 71°C and the calender roll temperature was 220°C.
  • the nonwoven fabric 4 was produced in the same manner as the nonwoven fabric 2 except that the resin used was "PET/CoPET" and the calender roll type was flat. Production conditions other than those described above, physical properties of the produced nonwoven fabric, and evaluation results are shown in [Table 1] below.
  • Nonwoven fabrics 5 to 7 were produced in the same manner as the nonwoven fabric 2 except for the above. The manufacturing conditions used, the physical properties of the nonwoven fabrics produced, and the evaluation results are shown in Table 1 below.
  • An unsaturated prepolymer composition used for a photosensitive resin composition was produced in the following (Production Example 1) and (Production Example 2).
  • the photosensitive resin composition was molded and exposed according to (A1) to (A3) using "ALF-213E plate making machine" manufactured by Asahi Kasei Corporation.
  • A1 A negative film is placed on an ultraviolet-transmissive glass plate (lower glass plate), the negative film is covered with a thin protective film, and a photosensitive resin composition is poured over it to give a constant plate thickness.
  • a base film serving as a support was laminated with a spacer interposed therebetween, and was further pressed with an ultraviolet-transmitting glass plate (upper glass plate) to form a photosensitive resin composition layer.
  • a shelf layer serving as a base is formed on the portion of the photosensitive resin composition layer on the upper glass plate side.
  • a photosensitive resin composition layer was formed by sandwiching a special negative film (masking film) between the film and the base film.
  • A2 After molding the photosensitive resin composition layer, an actinic ray (light having a wavelength distribution of 300 nm or more) using an ultraviolet fluorescent lamp or the like as an actinic light source was irradiated from the upper glass plate side through the base film. Since the masking film was provided in the step of forming the photosensitive resin composition layer, the shelf layer was formed by masking exposure.
  • the photosensitive resin composition layer is irradiated with the same actinic rays as the upper portion through the negative film from the lower glass side, and a relief forming exposure step for forming an image is performed to obtain a relief forming layer. rice field.
  • a photosensitive resin composition layer provided with a negative film (masking film) for the shelf layer was formed in the same manner as in (A1) above.
  • the negative film (masking film) a film forming a shelf layer of 300 mm ⁇ 500 mm is used, and as the negative film for forming the relief, a 500 ⁇ m wide film is used in a solid image of 200 mm ⁇ 250 mm.
  • a design was used in which a linear non-exposed area (hereinafter referred to as "blank area” or "blank line”) was formed.
  • the photosensitive resin composition layer was exposed as in (A2) and (A3) above to obtain a flexographic printing original plate having a plate thickness of 3 mm and a relief depth shown in [Table 4] below.
  • the masking exposure amount was adjusted as appropriate.
  • the exposure dose was set to 300 mJ/cm 2 .
  • the flexographic printing original plate was brought into contact with the nonwoven fabric until the unexposed photosensitive resin composition stopped adhering to the nonwoven fabric, and the unexposed portions of the photosensitive resin composition layer were removed.
  • the developing process was performed in a 25° C. environment.
  • Post-exposure was carried out by an underwater exposure method using "AL-200UP type post-exposure machine" manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd. equipped with both an ultraviolet fluorescent lamp and a germicidal lamp. Post-exposure was carried out with an exposure time such that the exposure amount irradiated from each light source on the surface of the plate was 2000 mJ/cm 2 for an ultraviolet fluorescent lamp and 2000 mJ/cm 2 for a germicidal lamp.
  • Example 17 and 18 A flexographic printing plate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the plate thickness was 12 mm and the exposure dose in the relief forming exposure step was 600 mJ/cm 2 .
  • Examples 5 to 7 Except that the unsaturated prepolymer composition B of Production Example 2 was used as the unsaturated prepolymer composition, the photosensitive resin compositions 5 to 7 were used, and the exposure amount in the relief forming exposure step was 600 mJ/cm 2 , A flexographic printing plate was obtained in the same manner as in the manufacturing process of Example 1 described above.
  • a photosensitive resin composition is put into an extrusion molding machine, and a support (polyethylene terephthalate film) is attached to one side of the photosensitive resin composition layer extruded from a T-shaped die to form a photosensitive resin composition.
  • a release film (Mitsubishi Chemical Co., Ltd., Diafoil MRV100) was adhered to the opposite side of the support layer of the support layer to obtain a laminate of the support and the photosensitive resin composition layer.
  • Tufprene 315 manufactured by Asahi Kasei, styrene-butadiene block copolymer 7.8 parts by mass, toluene 70.4 parts by mass, and propylene glycol 1-monomethyl ether 2-acetate (PMA) 17.6 parts by mass, mixed. and the Tufprene 315 was dissolved in the solvent. After that, carbon black (manufactured by Mitsubishi Chemical, #30) was further added and mixed in a bead mill for 4 hours to obtain a carbon black dispersion.
  • PMA propylene glycol 1-monomethyl ether 2-acetate
  • the carbon black dispersion obtained as described above was coated on a PET film with a thickness of 100 ⁇ m as a cover film so that the film thickness after drying was 2.5 ⁇ m, and dried at 90 ° C. for 2 minutes. After treatment, an infrared ablative layer laminate, which is a laminate of the infrared ablative layer and the cover film, was obtained.
  • the cover film of the photosensitive resin composition 1 for a flexographic printing plate prepared as described above was peeled off, set on an Esko CDI SPARK2530, and a blank line with a width of 500 ⁇ m was drawn in a solid image of 200 mm ⁇ 250 mm at a laser intensity of 3.8 J. It was drawn so that the design would be formed.
  • On the "AFP-1216E” exposure machine (manufactured by Asahi Kasei Corporation, trade name), using a lower ultraviolet lamp (PHILIPS UV lamp TL80W/10R, trade name), first from the support side, finally obtained The entire surface was exposed at 530 mJ/cm 2 so that the relief depth of the flexographic printing plate was 2.0 mm to form a back deposit layer.
  • an upper lamp (UV lamp TL80W/10R manufactured by PHILIPS, trade name) was used to irradiate ultraviolet rays of 8000 mJ/cm 2 from the cover film side to perform pattern exposure to obtain a flexographic printing original plate.
  • the exposure intensity at this time was measured with a UV illuminance meter MO-2 model manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd. (trade name, UV-35 filter manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.).
  • the exposed flexographic printing original plate was fixed using a double-sided adhesive tape to a metal roll having a diameter of 35 cm driven by a motor.
  • the nonwoven fabrics shown in Tables 1, 4 and 5 were placed so as to be able to pass between a plurality of heatable metal rolls with a diameter of 5 cm.
  • An infrared lamp for heating the photosensitive resin composition layer relatively quickly was fixed on the metal roll holding the flexographic printing original plate.
  • An infrared lamp was turned on, and the metal roll heated to 170° C. was slowly rotated (2 rpm) by a motor.
  • the nonwoven fabric was brought into contact with the photosensitive resin composition layer surface of the flexographic printing original plate at a contact pressure of 1.0 ⁇ 10 5 Pa and allowed to pass through.
  • the flexographic printing original plate was brought into contact with the nonwoven fabric until the unexposed photosensitive resin composition stopped adhering to the nonwoven fabric, and the unexposed portions of the photosensitive resin composition layer were removed.
  • Thickness accuracy less than 0.05 mm B: Thickness accuracy 0.05 mm or more and less than 0.07 mm C: Thickness accuracy 0.07 mm or more and less than 0.10 mm D: Thickness accuracy 0.10 mm or more and less than 0.15 mm E: Thickness accuracy 0.05 mm or more 15 mm or more
  • Photosensitive resin composition recovery rate (%) (mass of unexposed photosensitive resin composition taken out from nonwoven fabric after development)/ ⁇ (mass of photosensitive resin composition used for producing flexographic printing plate) + (mass of support)-(mass of flexographic printing plate produced by developing with developer) ⁇ 100
  • ⁇ and ⁇ were evaluated as being practically usable without problems.
  • ⁇ recovery rate of photosensitive resin composition 80% or more
  • ⁇ recovery rate of photosensitive resin composition 40% or more and less than 80%
  • Example 5 Example 5-2, Example 5-3, Comparative Examples 4 and 5
  • the same method as in Example 5 was used except that the developing method and the photosensitive resin composition were changed as shown in Table 6 below.
  • a flexographic printing plate was prepared.
  • the following methods 1 to 4 were employed as developing methods for evaluating the recovery rate of the photosensitive resin composition.
  • 3 Development is carried out using only a rubber spatula to remove the unexposed photosensitive resin composition.
  • 4 Perform development using a developer.
  • Table 6 summarizes the recovery rate of the photosensitive resin composition obtained by the above-described development method and the above formula.
  • Photosensitive resin composition No. 5' in Table 6 represents the unexposed photosensitive resin composition (collected photosensitive resin composition) recovered after removal with a rubber spatula and nonwoven fabric.
  • Example 5-2 is an example in which the developing method in the manufacturing process of the flexographic printing plate of Example 5 was changed to the developing method of 2 above.
  • Example 5-3 is an example in which the recovered photosensitive resin composition was used as the photosensitive resin composition in the manufacturing process of the flexographic printing plate of Example 5.
  • Comparative Example 4 is an example in which the developing method in the manufacturing process of the flexographic printing plate of Example 5 was changed to the developing method of 3 above.
  • Comparative Example 5 is an example in which the developing method in the manufacturing process of the flexographic printing plate of Example 5 was changed to the developing method of 4 above.
  • the printing plate manufacturing method of the present invention has industrial applicability in a wide range of general commercial printing fields.

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Abstract

感光性樹脂組成物への露光によりレリーフを形成する露光工程と、前記露光工程における未露光部の感光性樹脂組成物を、現像媒体に付着又は吸着させて現像する現像工程を有する印刷版の製造方法であって、前記現像工程の現像温度における、前記未露光部の感光性樹脂組成物の貯蔵弾性率が１００Ｐａ以上４０００Ｐａ以下であり、前記現像媒体は、弾性回復率が３０％以上９９％以下のワイパーである、印刷版の製造方法。

Description

印刷版の製造方法、及び印刷方法
　本発明は、印刷版の製造方法、及び印刷方法に関する。
　近年、紙やフィルム等の軟らかい包装材に印刷を施す方法としてフレキソ印刷が広汎に用いられている。フレキソ印刷に代表される凸版印刷用の版材としては、例えば感光性樹脂版が挙げられる。
　感光性樹脂版からフレキソ印刷版を製造する方法としては、例えば、以下の方法が挙げられる。
　まず支持体を通じて感光性樹脂組成物層に紫外線露光（バック露光と呼ぶ）を施し、均一な光硬化層を設ける。次に、裏面、すなわち紫外線露光された面とは反対側の、未硬化状態の感光性樹脂組成物層面側からレリーフ露光を行い、フレキソ印刷原版を得る。前記レリーフ露光の方法としては、紫外線を選択的に透過するネガフィルム等の透明画像担体を介して紫外線露光を行う方法や、デジタル情報となった画像を赤外線レーザーでアブレーションして紫外線の透過部を形成した薄層を介して紫外線露光を行う方法等が挙げられる。そして、フレキソ印刷原版の未露光部分の感光性樹脂組成物を現像液で洗浄除去等することにより、レリーフ画像が形成され、これによりフレキソ印刷版が得られる。
　一方、近年の環境意識の高まりから、現像液を使用しない乾式の現像工程が検討されている。
　その中でも、レリーフ露光後のフレキソ印刷原版を加熱し、未露光部を溶融させ、溶融した未露光部を不織布等の現像媒体により除去することで現像する熱現像方式は、溶剤を使用することなく現像が可能であり、注目されている。
　前記現像液を使用しない乾式の現像工程として、熱現像方式を利用した現像方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。この現像方法は、従来の現像液を用いた現像方法のような有機溶剤廃棄物や汚染廃水副生成物が発生しないという利点を有している。また、現像処理後に長時間の乾燥処理を必要としないという利点を有している。
　一方において、前記熱現像方式は、溶剤中に未硬化樹脂を溶解させたり分散させたりしないことから、従来の現像液を用いた現像方法に比べて現像性に乏しく、残渣が残りやすい傾向にある、という問題点を有している。そのため前記熱現像方式においては、現像性を高めるために、現像媒体である不織布等をフレキソ印刷原版に強く押し付けたり、複数回押し付けたりする必要があり、その過程において版厚みが薄くなる傾向にある。さらに、フレキソ印刷原版のサイズが大きくなるほど、フレキソ印刷原版全体に均一な圧力で現像媒体を押し付けることが困難となり、最終的に得られるフレキソ印刷版の厚みの均一性が損なわれやすい。そのため、印刷時の画像均一性が悪化する等の弊害が起きやすいという問題点を有している。特に、近年需要が高まっている大型サイズのフレキソ印刷版においては、厚み均一性の維持が技術的な課題となっている。
　上述したような印刷時の画像均一性に関する熱現像方式の問題点に鑑み、熱現像時にフレキソ印刷原版の表面粗さを制御することにより、フレキソ印刷版を用いた印刷時の画像均一性を改善する技術が提案されている（例えば、特許文献２参照）。
特許第３１１７７４９号公報 特許第５８２７７４６号公報
　しかしながら、特許文献２に提案されている技術によれば、フレキソ印刷版の表面粗さは制御されるが、フレキソ印刷版の厚み均一性については、未だ改善の余地がある、という問題点を有している。
　そこで、本発明においては、上述した従来技術の問題点に鑑み、乾式の現像処理を用いた場合において、厚み均一性に優れる印刷版の製造方法を提供することを目的とする。
　本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討を重ねた結果、乾式の現像処理において、特定の物性を有する現像媒体と感光性樹脂組成物を組み合わせることにより、上述した従来技術の課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
　すなわち本発明は、下記の通りである。
〔１〕
　感光性樹脂組成物への露光によりレリーフを形成する露光工程と、
　前記露光工程における未露光部の感光性樹脂組成物を、現像媒体に付着又は吸着させて現像する現像工程と、
を、有する印刷版の製造方法であって、
　前記現像工程の現像温度における、前記未露光部の感光性樹脂組成物の貯蔵弾性率が１００Ｐａ以上４０００Ｐａ以下であり、
　前記現像媒体は、弾性回復率が３０％以上９９％以下のワイパーである、
　印刷版の製造方法。
〔２〕
　前記現像温度における、前記未露光部の感光性樹脂組成物の貯蔵弾性率が１００Ｐａ以上３５０Ｐａ以下である、前記〔１〕に記載の印刷版の製造方法。
〔３〕
　前記現像温度における、前記未露光部の感光性樹脂組成物の貯蔵弾性率が１００Ｐａ以上２５０Ｐａ以下である、前記〔１〕に記載の印刷版の製造方法。
〔４〕
　前記現像温度における、前記未露光部の感光性樹脂組成物の損失弾性率が９０Ｐａ以上５００Ｐａ以下である、前記〔１〕乃至〔３〕のいずれか一に記載の印刷版の製造方法。
〔５〕
　前記現像媒体が、弾性回復率３５％以上９９％以下のワイパーである、前記〔１〕乃至〔４〕のいずれか一に記載の印刷版の製造方法。
〔６〕
　前記現像媒体が、弾性回復率４０％以上９９％以下のワイパーである、前記〔１〕乃至〔５〕のいずれか一に記載の印刷版の製造方法。
〔７〕
　前記現像媒体が、弾性回復率６０％以上９９％以下のワイパーである、前記〔１〕乃至〔６〕のいずれか一に記載の印刷版の製造方法。
〔８〕
　前記印刷版のレリーフ深度を、０．１ｍｍ以上１０．０ｍｍ以下とする、前記〔１〕乃至〔７〕のいずれか一に記載の印刷版の製造方法。
〔９〕
　前記ワイパーが不織布である、前記〔１〕乃至〔８〕のいずれか一に記載の印刷版の製造方法。
〔１０〕
　前記現像媒体に付着又は吸着した前記未露光部の感光性樹脂組成物を、新たな印刷版の製造における感光性樹脂組成物として回収する工程を有する、前記〔１〕乃至〔９〕のいずれか一に記載の印刷版の製造方法。
〔１１〕
　前記現像媒体に付着又は吸着した前記未露光部の感光性樹脂組成物を回収し、新たな印刷版の製造における感光性樹脂組成物として用いる、前記〔１〕乃至〔１０〕のいずれか一に記載の印刷版の製造方法。
〔１２〕
　前記〔１〕乃至〔１１〕のいずれか一に記載の印刷版の製造方法で印刷版を製造する工程と、前記製造した印刷版を用いて印刷する印刷工程と、を有する、印刷方法。
　本発明によれば、乾式の現像処理を用いた場合において、厚み均一性に優れる印刷版を得ることができる。
　以下、本発明の実施の形態（以下、「本実施形態」という。）について詳細に説明するが、以下の本実施形態は、本発明を説明するための例示であり、本発明を以下の内容に限定する趣旨ではない。
　本発明は、その要旨を逸脱しない範囲で適宜変形して実施できる。
〔印刷版の製造方法〕
　本実施形態の印刷版の製造方法は、
　感光性樹脂組成物への露光によりレリーフを形成する露光工程と、
　前記露光工程における未露光部の感光性樹脂組成物を、現像媒体に付着又は吸着させて現像する現像工程を有し、
　前記現像工程の現像温度における、前記未露光部の感光性樹脂組成物の貯蔵弾性率が１００以上４０００Ｐａ以下であり、かつ現像媒体が弾性回復率３０％以上９９％以下のワイパーである。
　本実施形態の製造方法により得られる印刷版は、フレキソ印刷版（凸版印刷版）であることが好ましい。
　本実施形態の印刷版の製造方法においては、露光工程後の印刷原版の、感光性樹脂組成物の未露光部を、現像媒体を用いて除去する。
　前記未露光部は、現像媒体であるワイパーと接触することで付着又は吸着され、除去される。
　本実施形態の印刷版の製造方法によれば、厚み均一性に優れた印刷版が得られる。
（印刷原版）
　本実施形態の印刷版の製造方法においては、露光工程で、感光性樹脂組成物層に対して露光によりレリーフを形成して印刷原版を得、現像工程で、前記感光性樹脂組成物層の未露光部を現像媒体に付着又は吸着させて除去する。
　印刷原版は、感光性樹脂組成物層への露光前は、少なくとも、支持体（ａ）と、前記支持体（ａ）上に積層される感光性樹脂組成物層（ｂ）とを備えた構成を有する。本明細書においては、かかる構成を「印刷版用感光性樹脂構成体」と記載する場合がある。
　すなわち、後述するように、印刷版用感光性樹脂構成体に対してパターン露光によりレリーフ形成を行うことにより、印刷原版となり、前記印刷原版に対して未露光部を溶融除去することにより、印刷版が得られる。
＜支持体（ａ）＞
　支持体（ａ）としては、以下に限定されないが、例えば、ポリエステルフィルム、ポリアミドフィルム、ポリアクリロニトリルフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム等が挙げられる。
　これらの中でも、支持体（ａ）としては、ポリエステルフィルムが好ましい。
　支持体（ａ）に用いるポリエステルとしては、以下に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等が挙げられる。
　支持体（ａ）の厚みは、特に限定されないが、好ましくは５０～３００μｍである。
　また、支持体（ａ）と、後述する感光性樹脂組成物層（ｂ）との間の接着力を高める目的で、支持体（ａ）上に接着剤層を設けてもよい。前記接着剤層としては、特に限定されないが、例えば、国際公開第２００４／１０４７０１号公報、特許第３０９４６４７号公報、特許第２６３４４２９号公報に記載の接着剤層が挙げられる。
＜感光性樹脂組成物層（ｂ）＞
　前記印刷版用感光性樹脂構成体は、支持体（ａ）上に感光性樹脂組成物層（ｂ）を有する。
　感光性樹脂組成物層（ｂ）は、支持体（ａ）上に直接積層されていてもよいし、上記接着剤層等を介して間接的に積層されていてもよい。
　感光性樹脂組成物層（ｂ）は、特に限定されないが、例えば、後述するポリマー（ｂ－１）を含有し、好ましくは、エチレン性不飽和化合物（ｂ－２）、光重合開始剤（ｂ－３）をさらに含有していてもよい。
　また、感光性樹脂組成物層（ｂ）は、必要に応じて、後述する補助添加成分をさらに含有してもよい。
　以下、各成分について詳説する。
[ポリマー（ｂ－１）]
　ポリマー（ｂ－１）としては、特に限定されないが、例えば、直鎖状、分枝鎖状又は樹状ポリマーを使用でき、ホモポリマーであってもコポリマーであってもよい。コポリマーは、ランダムコポリマーであっても、交互コポリマーであっても、ブロックコポリマーであってもよい。
　好適なポリマー（ｂ－１）は、例えば、完全に又は部分的に加水分解されたポリビニルエステル、部分的に加水分解されたポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール誘導体、部分的に加水分解された酢酸ビニル／アルキレンオキシドグラフトコポリマー、又は部分的に加水分解された酢酸ビニル／アルキレンオキシドグラフトコポリマーであって、かつポリマー類似反応により続けてアクリル化されたポリビニルアルコール、ポリアミド及びその混合物等の、印刷版の製造に従来使用されているものが挙げられる。
　上述したものの他にも、ポリマー（ｂ－１）としては、例えば、熱可塑性エラストマーバインダーが挙げられる。
　前記熱可塑性エラストマーとしては、熱可塑性エラストマーブロックコポリマーを使用でき、前記熱可塑性エラストマーブロックコポリマーとしては、アルケニル芳香族単量体単位を含む少なくとも１種のブロックと、１，３－ジエン単量体単位を含む少なくとも１種のブロックとを含むものが挙げられる。アルケニル芳香族単量体単位を形成するアルケニル芳香族化合物は、例えば、スチレン、α－メチルスチレン、又はビニルトルエンが挙げられ、これらの中でも、感光性樹脂組成物層（ｂ）を比較的低温で平滑に成形可能であり、表面の厚み均一性を良化させる観点から、スチレンを含むことが好ましい。１，３－ジエンとしては、ビニル基の立体障害を小さくし光架橋効率を上げ、最終的に得られる印刷版の破損による厚み均一性低下を防ぐ観点から、ブタジエン及び／又はイソプレンを含むことが好ましい。
　さらに、長時間印刷を行った際に、印刷版が摩耗によって厚み均一性が低下してしまうことを抑制する観点から、前記ポリマー（ｂ－１）として、ポリウレタンを含むことが好ましい。さらに、光架橋により最終的に得られる印刷版の機械物性を向上させ、破損や摩耗による厚み均一性の低下を抑制する観点から、前記ポリウレタンは、末端基に（メタ）アクリル基を有することが好ましい。
　末端基に（メタ）アクリル基を有するポリウレタンの製造方法としては、例えば、分子内に繰り返し単位を有するジオールと、ジイソシアネートとを反応させて、末端にイソシアネート基を有するポリウレタンを任意の分子量で形成し、次いで、前記ポリウレタンと、一分子内に活性水素及び（メタ）アクリル基を含有する化合物とを反応させる方法が挙げられる。また、分子内に繰り返し単位を有するジオールと、ジイソシアネートとを反応させて、末端にイソシアネート基を有するポリウレタンを任意の分子量で形成し、次いで、前記ポリウレタンと、一分子内に水酸基及び（メタ）アクリル基を含有する化合物とを反応させる方法も挙げられる。
　上述した製造方法により得られるポリウレタン構造は、分子内に繰り返し単位を有するジオールとジイソシアネートとが反応することにより構成される構造である。
　以下、上述の方法で合成された、「末端基に（メタ）アクリル基を有するポリウレタン」を、「不飽和プレポリマー」と記載する。
　前記不飽和プレポリマーの製造に用いられる「分子内に繰り返し単位を有するジオール」は、以下に限定されないが、例えば、ジカルボン酸とジオールとから成るポリエステルジオール、ポリエーテルジオール、ポリエーテルポリエステル共重合ジオール、末端水酸基を有する１，２－ポリブタジエン化合物等が挙げられる。分子内に繰り返し単位を有するジオールは、１種を単独で用いてもよく、又は２種以上を併用することができる。
　前記ポリエステルジオールを構成するジカルボン酸としては、以下に限定されないが、例えば、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメンリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、マレイン酸、テレフタル酸、イソフタル酸、及び１，５－ナフタレンジカルボン酸等が挙げられる。
　前記ポリエステルジオールを構成するジオールとしては、以下に限定されないが、例えば、１，４－ブタンジオール、２－メチル－１，３－プロパンジオール、３－メチル－１，５－ペンタンジオール、ネオペンチルジオール、１，６－ヘキサンジオール、１，９－ノナンジオール、２－メチル－１，８－オクタンジオール、及びジエチレングリコール（ジオキシエチレンジオール）等が挙げられる。
　前記ポリエーテルジオールとしては、以下に限定されないが、例えば、ポリオキシエチレンジオール、ポリオキシプロピレンジオール、ポリオキシテトラメチレンジオール、ポリオキシ－１，２－ブチレンジオール、ポリオキシエチレン／ポリオキシプロピレンランダム共重合体ジオール、ポリオキシエチレン／ポリオキシプロピレンブロック共重合体ジオール、ポリオキシエチレン／ポリオキシテトラメチレンランダム共重合体ジオール、及びポリオキシエチレン／ポリオキシテトラメチレンブロック共重合体ジオール等が挙げられる。
　前記ポリエーテルポリエステル共重合ポリオールとしては、以下に限定されないが、例えば、前述したポリエーテルポリオールの分子鎖を形成する繰り返しユニットと、前述したポリエステルポリオールの分子鎖を形成する繰り返しユニットとがブロック又はランダムに連鎖した構造を有する共重合体が挙げられる。
　前記末端水酸基を有する１，２－ポリブタジエン化合物は、水素化された化合物であってもよい。末端水酸基を有する１，２－ポリブタジエン化合物としては、以下に限定されないが、例えば、ポリ－１－ブテンの水素化物や、１，２－ポリブタジエンの水素化物等が挙げられる。末端水酸基は、特に限定されないが、最終的に得られるフレキソ印刷版の厚み均一性を維持する観点から、１分子あたり１．２個以上２．０個以下であることが好ましく、１．５個以上２．０個以下であることがより好ましい。
　前記ジイソシアネートとしては、以下に限定されないが、例えば、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、シクロヘキサンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、及びノルボルネンジイソシアネート等が挙げられる。
　ジイソシアネートは、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いられる。
　感光性樹脂組成物層（ｂ）中のポリマー（ｂ－１）の含有量は、感光性樹脂組成物の貯蔵弾性率及び／又は損失弾性率を、適切な数値範囲にする観点から、感光性樹脂組成物層（ｂ）の全量を１００質量％としたとき、２０質量％以上であることが好ましく、４０質量％以上９０質量％以下であることがより好ましく、５０質量％以上９０質量％以下であることがさらに好ましく、６０質量％以上８０質量％以下であることがさらにより好ましい。
[エチレン性不飽和化合物（ｂ－２）]
　感光性樹脂組成物層（ｂ）は、上述したように、エチレン性不飽和化合物（ｂ－２）を含有することが好ましい。エチレン性不飽和化合物（ｂ－２）とは、ラジカル重合可能な不飽和二重結合を有する化合物である。
　エチレン性不飽和化合物（ｂ－２）としては、以下に限定されないが、例えば、エチレン、プロピレン、ビニルトルエン、スチレン、ジビニルベンゼン等のオレフィン類；アセチレン類；（メタ）アクリル酸及び／又はその誘導体；ハロオレフィン類；アクリロニトリル等の不飽和ニトリル類；アクリルアミドやメタクリルアミド等の不飽和アミド及びその誘導体；無水マレイン酸、マレイン酸、フマル酸等の不飽和ジカルボン酸及びその誘導体；酢酸ビニル類；Ｎ－ビニルピロリドン；Ｎ－ビニルカルバゾール；Ｎ－置換マレイミド化合物等が挙げられる。
　これらの中でも、紫外線硬化性や硬化後の感光性樹脂組成物層（ｂ）の耐刷性を向上させ、厚み均一性を維持する観点から、エチレン性不飽和化合物（ｂ－２）としては、（メタ）アクリル酸及び／又はその誘導体が好ましい。
　前記各誘導体としては、以下に限定されないが、例えば、シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基等を有する脂環族化合物；ベンジル基、フェニル基、フェノキシ基、あるいはナフタレン骨格、アントラセン骨格、ビフェニル骨格、フェナントレン骨格、フルオレン骨格等を有する芳香族化合物；アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アミノアルキル基、グリシジル基等を有する化合物；アルキレングリコール、ポリオキシアルキレングリコール、ポリアルキレングリコールやトリメチロールプロパン等の多価アルコールとのエステル化合物；ポリジメチルシロキサン、ポリジエチルシロキサン等のポリシロキサン構造を有する化合物等が挙げられる。
　また、エチレン性不飽和化合物（ｂ－２）は、窒素、硫黄等の元素を含有する複素芳香族化合物であってもよい。
　前記（メタ）アクリル酸及び／又はその誘導体としては、以下に限定されないが、例えば、ヘキサンジオール、ノナンジオール等のアルカンジオールのジアクリレート及びジメタクリレート；エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、及びブチレングリコール等のグリコール類のジアクリレート及びジメタクリレート；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート；ジメチロールトリシクロデカンジ（メタ）アクリレート；イソボロニル（メタ）アクリレート；フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート；ペンタエリトリットテトラ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
　これらは１種のみを単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
　最終的に得られる印刷版の耐刷性を向上させ、厚み均一性を維持する観点から、エチレン性不飽和化合物（ｂ－２）としては、少なくとも１種類以上の（メタ）アクリレートを用いることが好ましく、少なくとも１種類以上の２官能（メタ）アクリレートを用いることがより好ましい。
　エチレン性不飽和化合物（ｂ－２）の数平均分子量（Ｍｎ）は、感光性樹脂組成物の貯蔵弾性率及び／又は損失弾性率を、適切な数値範囲に制御する観点から、１００以上１５００以下であることが好ましく、１１０以上１０００以下であることがより好ましく、１３０以上８００以下であることがさらに好ましい。
　エチレン性不飽和化合物の数平均分子量（Ｍｎ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により求められる。
　感光性樹脂組成物層（ｂ）におけるエチレン性不飽和化合物（ｂ－２）の含有量は、感光性樹脂組成物層（ｂ）の全量を１００質量％としたとき、感光性樹脂組成物の貯蔵弾性率及び／又は損失弾性率を適切な数値範囲に制御する観点から、２質量％以上６０質量％未満であることが好ましく、５質量％以上５０質量％以下であることがより好ましく、１０質量％以上４０質量％以下であることがさらに好ましい。
[光重合開始剤（ｂ－３）]
　感光性樹脂組成物層（ｂ）は、光重合開始剤（ｂ－３）を含有することが好ましい。
　光重合開始剤（ｂ－３）とは、光のエネルギーを吸収し、ラジカルを発生する化合物であり、崩壊型光重合開始剤、水素引抜き型光重合開始剤、水素引抜き型光重合開始剤として機能する部位と崩壊型光重合開始剤として機能する部位を同一分子内に有する化合物等が挙げられる。
　光重合開始剤（ｂ－３）としては、以下に限定されないが、例えば、ベンゾフェノン、４，４－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’－ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、３，３’，４，４’－テトラメトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン類；ｔ－ブチルアントラキノン、２－エチルアントラキノン等のアントラキノン類；２，４－ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４－ジクロロチオキサントン等のチオキサントン類；ミヒラーケトン；ジエトキシアセトフェノン、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、ベンジルジメチルケタール、１－ヒドロキシシクロヘキシル－フェニルケトン、２－メチル－２－モルホリノ（４－チオメチルフェニル）プロパン－１－オン、２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルホリノ－プロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－ブタノン、トリクロロアセトフェノン等のアセトフェノン類；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル類；２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６－ジメトキシベンゾイル）－２，４，４－トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド類；メチルベンゾイルホルメート；１，７－ビスアクリジニルヘプタン；９－フェニルアクリジン；アゾビスイソブチロニトリル、ジアゾニウム化合物、テトラゼン化合物等のアゾ化合物類が挙げられる。
　これらは１種のみを単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
　感光性樹脂組成物層（ｂ）における光重合開始剤（ｂ－３）の含有量は、最終的に得られる印刷版の破損を防止し、印刷中の厚み均一性を維持する観点から、感光性樹脂組成物層（ｂ）の全量を１００質量％としたとき、０．１質量％以上１０質量％以下であることが好ましく、０．１質量％以上５質量％以下であることがより好ましく、０．３質量％以上５質量％以下であることがさらに好ましい。
[補助添加成分]
　補助添加成分としては、以下に限定されないが、例えば、可塑剤、熱重合防止剤、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、染料・顔料等が挙げられる。
　可塑剤としては、以下に限定されないが、例えば、液状ポリブタジエン、液状ポリイソプレン、液状ポリブタジエンの変性物、液状ポリイソプレンの変性物、液状アクリルニトリル－ブタジエンの共重合体、液状スチレン－ブタジエン共重合体等の液状ジエン；ナフテン油、パラフィン油等の炭化水素油；液状アクリルニトリル－ブタジエン共重合体、液状スチレン－ブタジエン共重合体等の液状のジエンを主体とする共役ジエンゴム；数平均分子量２０００以下のポリスチレン；セバシン酸エステル、フタル酸エステル等のエステル系可塑剤が挙げられる。
　これらの可塑剤は、ヒドロキシル基やカルボキシル基を有していてもよい。また、これら可塑剤には（メタ）アクリロイル基等の光重合性の反応基が付与されていてもよい。
　前記可塑剤は、１種のみを単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
　なお、本明細書中の「液状」とは、容易に流動変形し、かつ冷却により変形された形状に固化できるという性質を有する性状を意味する。
　感光性樹脂組成物層（ｂ）における可塑剤の含有量は、最終的に得られる印刷版の柔軟性を向上させ、印刷時の画像均一性を改善する観点から、感光性樹脂組成物層（ｂ）の全量を１００質量％としたとき、０質量％以上３０質量％以下が好ましく、８質量％以上３０質量％以下がより好ましく、８質量％以上２５質量％以下がさらに好ましい。
　熱重合防止剤及び酸化防止剤としては、樹脂材料又はゴム材料の分野において通常使用されるものを用いることができ、例えば、フェノール系の材料が挙げられる。
　フェノール系の材料としては、以下に限定されないが、例えば、ビタミンＥ、テトラキス－（メチレン－３－（３’，５’－ジ－ｔ－ブチル－４’－ヒドロキシフェニル）プロピオネート）メタン、２，５－ジ－ｔ－ブチルハイドロキノン、２，６－ジ－ｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、３，９－ビス－｛１，１－ジメチル－２－［３－（３－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロピオニルオキシ］エチル｝－２，４，８，１０－テトラオキサスピロ（５，５）ウンデカン、２－ｔ－ブチル－６－（３－ｔ－ブチル－２－ヒドロキシ－５－メチルベンジル）－４－メチルフェニルアクリレート等が挙げられる。
　熱重合防止剤及び酸化防止剤のその他の例として、トリフェニルホスファイト等のホスフィン系の材料が挙げられる。
　熱重合防止剤及び酸化防止剤は、１種のみを単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
　光安定剤及び紫外線吸収剤としては、以下に限定されないが、例えば、公知のベンゾフェノン系化合物、サルチレート系化合物、アクリロニトリル系化合物、金属錯塩系化合物、ヒンダートアミン系化合物が挙げられる。
　また下記に示す、染料・顔料を紫外線吸収剤として使用してもよい。
　このような光安定剤及び紫外線吸収剤としては、以下に限定されないが、例えば、２－エトキシ－２’－エチルオキザリックアシッドビスアニリド、２，２’－ジヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン、ビス（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル）－デカンジオアート、１，２，３－ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
　染料・顔料は、視認性向上のための着色手段として有効である。
　染料としては、以下に限定されないが、例えば、水溶性である塩基性染料、酸性染料、直接染料等や、非水溶性である硫化染料、油溶染料、分散染料等が挙げられる。特にアントラキノン系染料、インジゴイド系染料、アゾ系染料が好ましい。
　顔料としては、以下に限定されないが、例えば、天然顔料、合成無機顔料、合成有機顔料等が挙げられる。合成有機顔料としては、アゾ系顔料、トリフェニルメタン系顔料、キノリン系顔料、アントラキノン系顔料、フタロシアニン系顔料が挙げられる。
（感光性樹脂組成物の貯蔵弾性率）
　本実施形態の印刷版の製造方法においては、露光工程後に、未露光部の感光性樹脂組成物を、現像媒体に付着又は吸着させて現像する現像工程を行う。
　かかる現像工程の現像温度における、未露光部の感光性樹脂組成物の貯蔵弾性率は１００Ｐａ以上４０００Ｐａ以下であり、好ましくは１００Ｐａ以上３５０Ｐａ以下であり、より好ましくは１００Ｐａ以上２５０Ｐａ以下であり、さらに好ましくは１３０Ｐａ以上２４０Ｐａ以下である。
　未露光部の感光性樹脂組成物の貯蔵弾性率が前記数値範囲にあると、感光性樹脂組成物が現像媒体と接触した際に、感光性樹脂組成物が適切な流動性を示すため、現像媒体への良好な吸着性と、現像媒体との接触部分外への流出抑制とを両立できる傾向にある。その結果として、未露光部の除去性が向上し、現像装置の汚染を抑制できる。
　本実施形態の印刷版の製造方法における現像工程の現像温度は、０～２００℃であり、かかる現像温度における未露光部の感光性樹脂組成物の貯蔵弾性率は、感光性樹脂組成物中の前記ポリマー（ｂ－１）の含有量、前記エチレン性不飽和化合物（ｂ－２）の含有量及び／又は数平均分子量（Ｍｎ）等を調整することにより、上記数値範囲に制御することができる。
（感光性樹脂組成物の損失弾性率）
　本実施形態の印刷版の製造方法においては、露光工程後に、未露光部の感光性樹脂組成物を、現像媒体に付着又は吸着させて現像する現像工程を行う。かかる現像工程の現像温度における、未露光部の感光性樹脂組成物の損失弾性率は、９０Ｐａ以上５００Ｐａ以下が好ましく、１００Ｐａ以上５００Ｐａ以下がより好ましく、１３０Ｐａ以上４８０Ｐａ以下がさらに好ましい。
　損失弾性率が９０Ｐａ以上であると、現像工程において現像媒体を印刷原版から離す際に、感光性樹脂組成物が切れにくく、未露光の感光性樹脂組成物が印刷原版上に残渣として残りにくくなる。一方、損失弾性率が５００Ｐａ以下であると、未硬化樹脂の除去において適当な流動性が得られる。
　本実施形態の印刷版の製造方法における現像工程の現像温度は、０～２００℃であり、かかる現像温度における未露光部の感光性樹脂組成物の損失弾性率は、感光性樹脂組成物中の前記ポリマー（ｂ－１）の含有量、前記エチレン性不飽和化合物（ｂ－２）の含有量及び／又は数平均分子量（Ｍｎ）等を調整することにより、上記数値範囲に制御することができる。
　上述の貯蔵弾性率及び損失弾性率は、後述する実施例に記載する方法により測定することができる。
（本実施形態の印刷版の製造方法の好適な形態）
　本実施形態の印刷版の製造方法について、以下、好適な形態を示す。
　なお、本実施形態の印刷版の製造方法は、以下の形態に限定されるものではない。
　本実施形態の印刷版の製造方法は、上述した印刷版用感光性樹脂構成体（支持体に感光性樹脂組成物が積層されたもの）を用いて、まず、支持体側から紫外線を照射する工程（第一の工程）と、デジタル製版の場合は赤外線アブレーション層に赤外線を照射してパターンを描画加工する工程、アナログ製版の場合はネガを感光性樹脂組成物層に密着させる工程（第二の工程）と、パターンが描画加工された赤外線アブレーション層もしくはネガをマスクとして、感光性樹脂組成物層に紫外線を照射してパターン露光する工程（第三の工程）と、感光性樹脂組成物層の未露光部を除去する工程（第四の工程）を有することが好ましい。
　かかる（第四の工程）において、本実施形態においては、上述したように、感光性樹脂組成物の貯蔵弾性率、及び現像媒体の弾性回復率を特定する。
　その後、必要に応じて後露光処理する工程を行い、感光性樹脂組成物層の硬化物による印刷版を得る。
　なお、剥離性付与の観点から、印刷版の表面をシリコーン化合物及び／又はフッ素化合物を含有する液と接触させる工程を有してもよい。
＜第一の工程＞
　第一の工程においては、支持体（ａ）側から感光性樹脂組成物層（ｂ）へ紫外線照射する。
　紫外線照射方法としては、特に限定されず、公知の照射ユニットを使用して行うことができる。照射する紫外線の波長は、好ましくは１５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、より好ましくは３００以上４００ｎｍ以下である。
　紫外線の光源としては、以下に限定されないが、例えば、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ジルコニウムランプ、カーボンアーク灯、紫外線用蛍光灯等を使用できる。
　なお、この第一の工程は、後述する第二の工程の前に行っても、第二の工程の後に行ってもよい。
＜第二の工程＞
　第二の工程において、赤外線アブレーション層に赤外線を照射してパターンを描画加工する場合の、描画加工方法は、特に限定されず、公知の照射ユニットを使用して行うことができる。なお、赤外線アブレーション層への赤外線の照射は、赤外線アブレーション層側から行うことができる。
　上述した印刷版用感光性樹脂構成体が、カバーフィルムを有している場合には、赤外線照射前にまずカバーフィルムを剥離する。その後、赤外線アブレーション層に赤外線をパターン照射して、赤外線の照射部の樹脂を分解し、パターンを描画加工する。これにより、感光性樹脂組成物層上に赤外線アブレーション層のマスクを形成することができる。
　第二の工程において用いる赤外線レーザーとしては、例えば、ＮＤ／ＹＡＧレーザー（例えば、１０６４ｎｍ）又はダイオードレーザー（例えば、８３０ｎｍ）が挙げられる。ＣＴＰ製版技術に好適なレーザーシステムは市販されており、例えば、ダイオードレーザーシステムＣＤＩ　Ｓｐａｒｋ（ＥＳＫＯ　ＧＲＡＰＨＩＣＳ社製）を使用できる。このレーザーシステムは、印刷版用感光性樹脂構成体を保持する回転円筒ドラム、赤外線レーザーの照射装置、及びレイアウトコンピュータを含み、画像情報は、レイアウトコンピュータから赤外線レーザーの照射装置に直接送信される。
　第二の工程において、アナログ製版を行う場合においては、ネガフィルムを使用することにより、同様にマスクを形成することができる。
＜第三の工程＞
　第三の工程は、パターンが描画加工された赤外線アブレーション層又はネガフィルムをマスクとして、感光性樹脂組成物層に紫外線を照射してパターン露光を行う。
　この際、マスクを通過した紫外線が感光性樹脂組成物層の硬化反応を促進し、赤外線アブレーション層又はネガフィルムに形成されたパターンが、凹凸が反転して、感光性樹脂組成物層に転写される。紫外線の照射は、全面に行ってもよく、部分的に行ってもよい。
　第三の工程は、上述した印刷版用感光性樹脂構成体を前記レーザーシステムのレーザーシリンダに取り付けた状態で行うことができるが、一般的には、印刷版用感光性樹脂構成体をレーザーシステムから取り外し、慣用の照射ユニットを用いて照射する。照射ユニットは、第一の工程における紫外線照射で例示したものと同様のユニットを使用できる。
＜第四の工程＞
　第四の工程は、感光性樹脂組成物層の未露光部を除去する工程である。
　第四の工程（現像工程）における、未露光部の除去方法としては、未露光部を現像媒体に付着又は吸着させることにより除去する。
　第四の工程は、室温で、又は、第三の工程後の印刷版用感光性樹脂構成体を４０℃以上２００℃以下に加熱して行うこととし、これにより、赤外線アブレーション層又はネガフィルムによりマスクされ紫外線の照射されていない感光性樹脂組成物、すなわち未露光部に適度な流動性を付与することができる。
　感光性樹脂組成物を加熱する場合、感光性樹脂組成物層を加熱する機能を有するものであれば、従来公知の機器を使用できる。例えば、印刷版用感光性樹脂構成体を設置するロール内に組み込まれた加熱装置や、前記ロールの外部に設置された加熱装置のいずれも使用できる。例えば、感光性樹脂組成物層に対して赤外線を照射するようになされている赤外線ランプ等が挙げられる。
　次に、未露光部を現像媒体に付着又は吸収除去する。なお、吸着又は吸収除去の前工程として、予め所定のへらや、ロール等で未露光部の一部を除去してもよい。
　現像媒体は所定の吸収層を具備しており、当該吸収層を未露光部に接触させ、前記未露光部を付着又は吸収除去し、未露光部分を取り除く。
　その後に、必要に応じて後露光処理することによって、印刷版が製造される。
　なお、赤外線アブレーション層と感光性樹脂組成物層との間に中間層を有する場合には、現像工程において同時に取り除いてもよい。
　感光性樹脂組成物が室温で液状である場合には、前記第一～第三の工程中には、通常、感光性樹脂組成物が、専用の装置（製版機）の内部で、支持体上に一定厚みの膜状に成形された状態となるようにする所定の成形工程が含まれる。
　上記のように液状の感光性樹脂組成物を用いる場合、前記感光性樹脂組成物の露光工程は、例えば、下記（Ａ１）～（Ａ３）の各工程を実施することが好ましい。
（Ａ１）の工程：
　（Ａ１）の工程は、紫外線透過性のガラス板（下部ガラス板）上にネガフィルムを載置し、そのネガフィルムを薄い保護フィルムでカバーした後、その上に感光性樹脂組成物を流し、これが一定の版厚になるようスペーサーを介して支持体となるベースフィルムを貼り合わせ、さらにその上から紫外線透過性のガラス板（上部ガラス板）で押さえつけて感光性樹脂組成物層を形成する、感光性樹脂組成物層の成形工程である。
　例えば段ボール印刷に用いるような印刷版（厚みが４ｍｍ以上）を作製する場合には、印刷時の印圧に対して十分なレリーフの強度を確保するために、前記上部ガラス板側の感光性樹脂組成物層の部分に土台となるシェルフ層を形成することが好ましい。この場合、レリーフ露光を行う前に、上部ガラス板とベースフィルムとの間に専用のネガフィルム（マスキングフィルム）を挟んで感光性樹脂組成物層を成形する。
（Ａ２）の工程：
　（Ａ２）の工程は、感光性樹脂組成物層の成形工程の後、紫外線蛍光灯等を活性光源とする活性光線（例えば、３００ｎｍ以上に波長分布を有する光線）を上部ガラス板側からベースフィルムを介して照射することにより、版のベースフィルム側全面に均一な薄い硬化樹脂層（すなわち床部形成層（バック析出層））を析出させるバック露光工程である。
　感光性樹脂組成物層形成工程でマスキングフィルムが設けられた場合、同様の露光によりシェルフ層が形成される。この場合、マスキング露光工程と称する。
　バック析出層と、シェルフ層とは、いずれも感光性樹脂組成物層の、レリーフ形成層側とは反対側、すなわちベースフィルム側の感光性樹脂組成物層を硬化させることにより形成されたものである。ベースフィルム側の感光性樹脂組成物層を全面で硬化させた場合はバック析出層となり、レリーフ形成層の位置に応じて部分的に感光性樹脂組成物層を硬化させた場合は、シェルフ層となる。
（Ａ３）の工程：
　（Ａ３）の工程は、バック露光工程又はマスキング露光工程の後、感光性樹脂組成物層に対し、下部ガラス側からネガフィルムを介して上部と同様の活性光線を照射し、画像形成層（レリーフ形成層）を析出させるレリーフ形成露光工程である。
　なお、マスキング露光工程によりシェルフ層を形成した場合、レリーフ形成露光工程の後にマスキングフィルムを除去し、更にバック露光工程を経ることで、ベースフィルム上の全面にバック析出層を形成することも好ましい態様の一つである。
（レリーフ深度）
　本実施形態の印刷版の製造方法においては、未露光部の感光性樹脂組成物の除去性の観点から、レリーフ形成層の厚み、すなわちレリーフ深度が、０．１ｍｍ以上１０．０ｍｍ以下であることが好ましく、０．５ｍｍ以上３．０ｍｍ以下がより好ましく、０．５ｍｍ以上２．０ｍｍ以下であることがさらに好ましい。ここでレリーフ深度とは版厚からバック析出層及び／又はシェルフ層の高さを差引いた長さ、つまり印刷画像レリーフの深さである。
　すなわち、バック析出層のみが形成されている場合は、版厚からバック析出層の高さを差し引き、シェルフ層のみが形成されている場合はシェルフ層の高さを差し引く。
　レリーフ深度が０．１ｍｍ以上であることにより、デザインの印刷を行う場合において必要なレリーフ深度を確保することができる。一方、レリーフ深度が１０．０ｍｍ以下であることにより、現像工程において、未露光部の感光性樹脂組成物の体積に対する現像媒体との接触面積を大きく確保でき、未露光部の感光性樹脂組成物の吸着除去性が良好なものとなる。
　レリーフ形成層の厚み（レリーフ深度）は、前記（Ａ２）の露光工程において活性光線の露光量を調整し、シェルフ層及び／又はバック析出層の厚みを調整することにより、上記数値範囲に制御することができる。
（現像工程で用いる現像媒体）
　本実施形態の印刷版の製造方法においては、現像工程で、未露光部の感光性樹脂組成物を現像媒体に付着又は吸着させて現像を行う。
　現像媒体は、その一部又は全部に吸着層を有していることが好ましく、現像媒体としては、吸着層が例えば、不織布、スポンジ、織物及び編物、紙等により形成されたワイパーを用いる。
　ワイパーは、例えば、現像工程時にワイパー由来の残渣が発生しにくく、未露光の感光性樹脂組成物の除去性に優れるという観点から不織布が好ましい。「不織布」とは、繊維を熱的、機械的、又は化学的な作用によって、繊維同士を接着又は絡み合わせることでウェブ化したものを示す。
　本実施形態の印刷版の製造方法に用いる現像媒体は、弾性回復率が３０％以上９９％以下であるものとする。
　現像工程時には現像媒体に圧力がかかるが、現像媒体の弾性回復率が低い場合、その圧力により現像媒体が未露光部に過剰に押し付けられ、最終的に得られるフレキソ印刷版の厚みが減少し、厚み均一性が損なわれる傾向にある。それによって印刷における画像均一性が損なわれる。
　現像媒体の弾性回復率が上記範囲にあることにより、未露光部との接触面積が適度に保たれ、また、圧力が弱まっていく過程において現像媒体の形状が速やかに回復し、空隙率が高くなることで未露光部が容易に吸着され、より少ない加圧にて未露光部を除去することができる。
　これらの効果を得るために、現像媒体の弾性回復率は、３０％以上９９％以下であるものとし、好ましくは３５％以上９９％以下であり、より好ましくは４０％以上９９％以下であり、さらに好ましくは６０％以上９９％以下であり、特に、６９％以上に特定することにより優れた吸着性、除去性を発揮する。
　さらに、上述した貯蔵弾性率を有する感光性樹脂組成物と組み合わせることによって、未露光部の感光性樹脂組成物の除去性がより一層向上し、最終的に得られる印刷版の厚み均一性がより改善可能となる。
　なお、現像媒体の弾性回復率は、後述する実施例に記載する方法により測定することができる。
　現像媒体の弾性回復率は、現像媒体の製造工程において、構成材料の熱接着を実施するプレスロールに侵入する際の温度を調整することにより上記数値範囲に制御することができる。温度を調整する方法は特に限定されないが、例えば、保温板によりプレスロールの放熱を有効活用する方法や、予熱ロールで現像媒体となる不織布を予め熱しておく方法等が挙げられる。
　前記現像媒体の材料としては、例えば、熱可塑性樹脂を用いることができる。
　熱可塑性樹脂としては、ポリエステル系樹脂及び／又はポリエステル系共重合体、ポリアミド系樹脂が挙げられる。
　感光性樹脂組成物層の未露光部は、加温しながらふき取られる場合があるため、現像媒体に耐熱性があることが好ましく、現像媒体が上記の樹脂を含んでいればこの耐熱性を十分に満足する。また、感光性樹脂組成物との親和性による感光性樹脂組成物の除去性を改善する観点から、熱現像用の現像媒体は、ポリエステル系樹脂及び／又はポリエステル系共重合体を含むことがより好ましい。
　ポリエステル系樹脂としては、以下に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンナフタレート等が挙げられる。
　ポリエステル系共重合体としては、上述のポリエステル系樹脂を別のポリマーと共重合して得られる樹脂、又は部分的に官能基を導入して変性させた樹脂等が挙げられる。
　ポリアミド系樹脂としては、以下に限定されないが、例えば、ナイロン６、ナイロン６，６等が挙げられる。
　現像媒体としてのワイパーは、繊維径５．０μｍ以上３０．０μｍ以下の繊維層（ＩＩ層）を、少なくとも２層含み、前記繊維径０．１μｍ以上５．０μｍの極細繊維層（Ｉ層）を前記繊維径５．０μｍ以上３０．０μｍ以下の繊維層（ＩＩ層）の中間層として含む、積層構造を有する不織布であることが好ましい。
　前記積層構造を有する不織布は、表層に太繊維径の繊維層（以下、太繊維層と記載する場合がある。）を配置しており、不織布の表面に存在する太い繊維の凹凸形状による感光性樹脂組成物に対する接触時のかきとり効果により、ふき取り性が向上する。また、ふき取った感光性樹脂組成物は、高空隙の太繊維層を通過し極細繊維層で保持することが可能となり、繰り返し使用回数の長期化が達成できる。また、極細繊維層を含むことで、緻密なネットワーク構造の形成が可能となり、樹脂担持能力が飛躍的に向上する。この樹脂担持能力はふき取った感光性樹脂組成物の裏抜け抑制にも寄与するため、安定したフレキソ印刷版の製造が可能となる。
　なお、積層構造を有するワイパー全体の弾性回復率は、弾性変化が生じやすい最表面層の弾性回復率によって決まる。例えば、前記積層構造を有する不織布の場合、積層構造を有する不織布全体の弾性回復率は、最表面の太繊維層（ＩＩ層）の弾性回復率と同程度となる。
　現像媒体が不織布である場合、不織布は、熱圧着されていてもよい。この場合、熱圧着率（不織布面積に対する圧着されている部分の面積）は５％以上２０％以下が好ましく、より好ましくは１１％以上１７％以下である。
　不織布の製造方法は特に限定されず、公知の方法を用いることができる。なお、前記太繊維層（ＩＩ層）の製法は、好ましくはスパンボンド法、乾式法、湿式法等である。太繊維層（ＩＩ層）に用いる繊維は、熱可塑性樹脂繊維等が挙げられる。また、前記繊維径０．１μｍ以上５．０μｍの極細繊維で構成された極細繊維層（Ｉ層）の製法は、例えば、極細繊維を用いた乾式法、湿式法等の製法、又はエレクトロスピニング法、メルトブロウン（Ｍｅｌｔ－Ｂｌｏｗｎ）法、フォーススピニング等を用いることができる。極細繊維層（Ｉ）を容易かつ緻密に形成できるという観点から、極細繊維層（Ｉ層）は、特に好ましくはメルトブロウン法で形成される。また、繊維は、叩解、部分溶解等により割繊又はフィブリル化を実現した上で不織布の製造のために用いてもよい。
　上述した太繊維層（Ｉ層）と極細繊維層（ＩＩ層）とを有する積層構造を有する不織布を形成する方法としては、例えば、熱的結合による一体化による方法、高速水流を噴射して三次元交絡させる方法、粒子状又は繊維状の接着剤により一体化させる方法等が挙げられる。
　熱的結合による一体化の方法としては、熱エンボスによる一体化（熱エンボスロール方式）、及び高温の熱風による一体化（エアースルー方式）が挙げられる。
　熱的結合による一体化は、バインダーを用いることなく積層不織布を形成できる観点から好ましい。
　熱的結合による一体化は、例えば、合成樹脂の融点よりも５０～１２０℃低い温度で、線圧１００～１０００Ｎ／ｃｍで、プレスロール（フラットロール、あるいはエンボスロール）を用いる接合により行うことができる。
　熱接着工程における線圧が１００Ｎ／ｃｍ以上であることにより、十分な接着効果が得られ、十分な強度を発現できる。また、線圧が１０００Ｎ／ｃｍ以下であることにより、繊維の変形が大きくなることを防止でき、見掛け密度が高くなることや空隙率が低くなることを防止でき、本発明による効果が有効に得られる。
　また、熱的結合による一体化においては、前記プレスロールに侵入する際の不織布温度を制御することにより、その後の不織布の圧縮特性を制御することが可能である。プレスロールに侵入する際の不織布温度とは、ロールニップ点より５０ｃｍ上流側の温度に相当する。例えば、ポリエステルを用いる場合、プレスロールに侵入する際の不織布温度を４０～１２０℃の範囲に設定することで、上述したような不織布の弾性回復率や、圧縮率を得ることが可能となる。前記のように不織布温度を予め高く設定することで、糸の結晶性を予め促進させ、これにより、糸－糸接着に最低限必要な非晶量を確保しつつ、接点での過圧着を抑制し、弾性回復率の高い不織布とすることができる。
　不織布温度を上記の範囲に調整する方法としては、特に限定されないが、例えば、所定の保温板を用いて加熱プレスロールの放熱を有効活用する方法や、予熱ロールを用いて不織布を予熱しておく方法等が挙げられる。
　現像媒体としての不織布を形成する最も好ましい方法は、スパンボンド不織布層、メルトブロウン不織布層、さらに必要に応じてスパンボンド不織布層を順次製造し、これらを積層して、エンボスロール又は熱プレスロールで圧着する方法である。
　この方法は、同一素材で積層不織布を形成できること、及び連続一体化した生産ラインで生産できることから、低目付けで均一な不織布を得ることを目的とした場合に好ましい。
　具体的には、熱可塑性樹脂を用いて１層以上のスパンボンド不織布層をコンベア上に紡糸し、その上に熱可塑性樹脂を用いてメルトブロウン法で、繊維径０．１～５μｍの極細繊維よりなる不織布層を１層以上吹き付ける。その後、熱可塑性樹脂を用いた、熱可塑性樹脂繊維で構成されるスパンボンド不織布層を１層以上積層する。次に、金属ロールを用いてこれらの層を圧着するカレンダー加工によって一体化する方法が好ましい。前記カレンダー加工としては、不織布層を熱ロールで圧着させる方法が挙げられ、この方法は連続一体化した生産ラインで実施できることから、低目付けで均一な不織布を得る場合に適している。
　熱接着工程は、例えば、熱可塑性樹脂の融点を基準として５０℃～１２０℃低い温度、及び線圧１００～１０００Ｎ／ｃｍで行うことができる。カレンダー加工における線圧が上記範囲であると、不織布の強度や空隙率の向上の観点から好ましい。カレンダー加工において使用する熱ロールは、エンボス又は梨地柄のような、表面に凹凸のあるロールであってもよく、又は平滑なフラットロールであってもよい。表面に凹凸のあるロールの表面柄については、エンボス柄、梨地柄、矩形柄、線柄等、繊維同士を熱により結合できるものであれば限定されない。
（未露光部の感光性樹脂組成物の回収、再利用）
　本実施形態の印刷版の製造方法においては、上述の現像工程において現像媒体に付着又は吸着した未露光部の感光性樹脂組成物を、新たな印刷版の製造における感光性樹脂組成物として回収する工程を有するものとすることができる。この回収した感光性樹脂組成物は、新たな印刷版の製造における感光性樹脂組成物として再利用することができる。
　回収した感光性樹脂組成物は、新たな印刷版の製造の際に露光機に投入してもよく、露光前に感光性樹脂組成物を加工成形する場合は、その加工成形工程で回収した感光性樹脂組成物を使用してもよい。
　前記回収した感光性樹脂組成物を投入する露光機とは、支持体と感光性樹脂を層状に積層するユニットを備えた露光機をいい、前記ユニットに感光性樹脂組成物を充填する際に、回収した感光性樹脂組成物を使用できる。
　回収した感光性樹脂組成物を用いることにより廃棄物が削減されるとともに、材料コストの低減も可能となる。
　本実施形態の印刷版の製造方法は、下記（１）～（５）の効果を有する。
（１）現像工程における未露光の感光性樹脂組成物の除去性が向上する。
（２）現像媒体の弾性回復率と感光性樹脂組成物の貯蔵弾性率とのバランスに優れているため、未露光の感光性樹脂組成物が適度な流動性を有するとともに、現像媒体の空隙部分に多量の未露光の感光性樹脂組成物を保持でき、高い回収効率を達成できる。
（３）現像媒体が、適切な弾性回復率を有していることにより、現像媒体への加圧によって容易に未露光の感光性樹脂組成物を分離でき、感光性樹脂組成物の回収率の向上が可能である。
（４）現像工程において、過度の加圧や加熱等を行うことなく、未露光の感光性樹脂組成物の除去、及び回収が可能であり、これにより感光性樹脂組成物の変質を防止でき、さらには、現像媒体に由来する不純物の混入を低減化できるため、高品質の感光性樹脂組成物を再利用できる。
（５）現像媒体に残存する劣化感光性樹脂組成物残渣や、現像工程で生じる現像媒体自体の劣化が少なく、現像媒体の交換頻度を少なくすることができる。
〔印刷方法〕
　本実施形態の印刷方法は、上述した本実施形態の印刷版の製造方法によって印刷版を製造する工程と、前記製造した印刷版を用いて印刷する印刷する工程を有する。
　特に、本実施形態の印刷版の製造方法によってフレキソ印刷版を製造し、フレキソ印刷を実施することが好ましい態様である。
　以下に、具体的な実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は、以下の実施例によって何ら限定されるものではない。
〔感光性樹脂組成物の物性、及び特性〕
　以下、後述する実施例及び比較例に用いた感光性樹脂組成物の物性及び特性について示す。
＜貯蔵弾性率及び損失弾性率＞
　２５℃にて流動性のない感光性樹脂組成物を用いた場合は、予備加工として１２０℃の加圧ニーダーで混錬した後、押し出し成形機に感光性樹脂組成物を投入し、Ｔ型ダイスから３ｍｍの厚みで押し出し成形した後に、得られた成形物を２５ｍｍの円形状に打ち抜き、測定用サンプルとし、以下の測定条件で貯蔵弾性率及び損失弾性率を測定した。
　２５℃にて流動性のある感光性樹脂組成物を用いた場合は、予備加工をせずに直接下記レオメーターに感光性樹脂組成物をセットし、以下の測定条件で貯蔵弾性率及び損失弾性率を測定した。
　なお、後述の実施例にて使用する現像温度領域での貯蔵弾性率及び損失弾性率を測定するため、下記測定温度にて測定を実施した。
[測定条件]
　機器　　　　　　　：ＴＡインスツルメンツ社製「ＡＲ５５０」
　ジオメトリー　　　：２５ｍｍ
　法線応力　　　　　：０Ｎ制御
　測定温度　　　　　：２５～２００℃（変温速度３℃／分）
　負荷ひずみ　　　　：０．１％
　周波数　　　　　　：１Ｈｚ
＜レリーフ深度＞
　レリーフ形成層の厚み（レリーフ深度）を、下記のようにして測定した。
　ＡＢＳデジマチックインジケータ　ＩＤ－Ｃ１１２（株式会社ミツトヨ製）測定器を用いて、印刷版全体の厚み、支持体の厚みと、シェルフ層、又はバック析出層の厚みを測定し、下記計算式にてレリーフ深度を算出した。
　レリーフ形成層とは、後述する＜成形・露光工程＞の（Ａ３）において形成される層である。
　シェルフ層とは、後述する＜成形・露光工程＞の（Ａ２）において形成される層である。
　バック析出層とは、後述する＜成形・露光工程＞の（Ａ２）において形成される層である。なお、支持体全体に感光性樹脂組成物を硬化させた場合はバック析出層が形成され、一部のみ感光性樹脂組成物を残した場合はシェルフ層が形成されるものとする。
　レリーフ深度（ｍｍ）＝印刷版全体の厚み（ｍｍ）－（バック析出層又はシェルフ層の厚み＋支持体の厚み）（ｍｍ）
〔現像媒体のワイパー（不織布）の物性、及び特性〕
　以下、後述する実施例及び比較例に用いた、現像媒体のワイパーである不織布の物性及び特性について示す。
＜弾性回復率＞
　現像工程で用いる現像媒体のワイパーである不織布の弾性回復率を下記のようにして測定した。
　島津製作所製ＭＣＴ－５０微小圧縮試験機を用いて、不織布の弾性回復率を測定した。
　試験条件は、測定用試料に最大試験力まで負荷を与え、その後、最小試験力まで除荷を行う、負荷－除荷モードとし、測定を行った。
　最小試験力は０．０５ｍＮとし、最大試験力は圧縮モードにて不織布厚みｄが１０％変形した時の試験力を設定した。
　弾性回復率は以下のように算出した。
　　　弾性回復率（％）＝Ｌ２／（Ｌ１－Ｌ２）×１００
　　　　　　　Ｌ１：負荷モードでの最大試験力時と最小試験力時の変位差
　　　　　　　Ｌ２：除荷モードでの最大試験力時と最小試験力時の変位差
〔ワイパーの製造〕
　現像工程で用いる現像媒体であるワイパーを下記のようにして作製した。
　ワイパーは不織布により形成した。
＜不織布１の製造例＞
　ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）をスパンボンド用紡糸口金（Ｖ型ノズル）から、紡糸温度２９０℃で吐出し、紡糸口金直下で冷却装置により糸条を両側方から対称に冷却し（共に風速０．５ｍ／ｓ）、ドロージェットで牽引して連続長繊維（ＩＩ層、繊維径１６μｍ）を得て、前記繊維を開繊分散してウェブコンベア上に堆積しウェブを形成した。
　次いで、極細繊維層（Ｉ層、繊維径３μｍ）として、ＰＥＴ溶液を用い、紡糸温度２９０℃の条件下で、メルトブロウン法により紡糸して、上記のウェブ上に吹きつけた。この際、メルトブロウンノズルから上記ウェブまでの距離を３００ｍｍとし、メルトブロウンノズル直下の捕集面における吸引力を０．２ｋＰａ、風速を７ｍ／ｓｅｃに設定した。
　また、前記極細繊維層（Ｉ層）上に、上記と同様のスパンボンド法で作製した連続長繊維ウェブ（ＩＩ層、繊維径１６μｍ）を積層させ、積層ウェブを得た。
　さらに、カレンダーロール（ロール温度２２０℃、線圧５００Ｎ／ｃｍ）にて前記積層ウェブを一体化させ不織布１を作製した。なお、圧縮特性の制御に重要なプレス前の布温度は、下記〔表１〕に示す温度となるように、加熱ロールの保温板の位置を調整した。
　下記表１中、カレンダーロール種の「フラット」とはフラット加工用のカレンダーロールであり、全面で圧着をきかせるカレンダーロールである。「エンボス」とはエンボス加工用のカレンダーロールであり、凹凸があるロールにより不織布表面の一部分のみ圧着をきかせるカレンダーロールである。
　また、下記表１中、熱圧着率とは、不織布面積に対する圧着されている部分の面積の割合であり、単位は％である。
　上記以外の製造条件、作製した不織布の物性、及び評価結果を下記〔表１〕に示す。
＜不織布２、３、４の製造例＞
　下記〔表１〕に示す樹脂を、スパンボンド用紡糸口金（Ｖ型ノズル）から、紡糸温度２９０℃で吐出し、紡糸口金直下で冷却装置により糸条を両側方から対称に冷却し（共に風速０．５ｍ／ｓ）、ドロージェットで牽引して連続長繊維（繊維径１６μｍ）を得、前記繊維を開繊分散してウェブコンベア上に堆積しウェブを形成した。
　下記〔表１〕中、「ＰＥＴ／ＣｏＰＥＴ」はポリエステル、ポリエステル共重合体の鞘芯構造繊維である。
　さらに、カレンダーロール（ロール温度２００℃、線圧５００Ｎ／ｃｍ）にて前記ウェブを一体化させ不織布２を作製した。なお、圧縮回復率の制御に重要なプレス前の布温度は、下記〔表１〕に記載の温度となるように、加熱ロールの保温板の位置を調整した。
　不織布３においては、カレンダー加工前の布温度が７１℃であること、カレンダーロール温度が２２０℃であること以外は、不織布２と同様にして作製した。
　不織布４においては、使用した樹脂を「ＰＥＴ／ＣｏＰＥＴ」とし、カレンダーロール種としてフラットを用いたこと以外は、不織布２と同様にして作製した。
　上記以外の製造条件、作製した不織布の物性、及び評価結果を下記〔表１〕に示す。
＜不織布５、６、７の製造例＞
　素材樹脂をナイロン（不織布５）、ポリエチレンテレフタレート（不織布６、７）とし、カレンダー加工前の布温度が雰囲気温度である２４～２５℃であること、不織布７においてはカレンダーロール温度が１８０℃であること以外は、不織布２と同様にして不織布５～７を作製した。
　使用した製造条件、作製した不織布の物性、及び評価結果を下記〔表１〕に示す。
　下記表１中、「Ｎｙ」はナイロン（ポリアミド）であり、また、「ＰＥＴ」はポリエチレンテレフタレートの鞘芯構造繊維である。
　表１中、カレンダー条件の「熱圧着率（％）」とは、不織布面積に対する圧着されている部分の面積である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
  
〔フレキソ印刷版の製造〕
　以下の実施例及び比較例において、熱現像システムを用いてフレキソ印刷版を製造した。
　下記（製造例１）及び（製造例２）で、感光性樹脂組成物に用いる不飽和プレポリマー組成物を製造した。
（製造例１）不飽和プレポリマー組成物Ａの製造
　ジオールとして１２００ｇの水素化１，２－ポリブタジエングリコール（日本曹達株式会社製「ＧＩ－３０００」、以下「ＧＩ－３０００」と記載する。）、０．４６ｇのジブチル錫ジラウレートを加え、４０℃で均一になるまで攪拌し、混合物を得た。
　得られた混合物に、１００ｇのトリレンジイソシアネート（日本ポリウレタン株式会社製「コロネートＴ８０」、以下「ＴＤＩ」と略して記載する。）を加えてさらに攪拌した。
　均一となったところでその混合物を８０℃まで昇温した後、４～５時間反応させて両末端にイソシアネート基を有するプレポリマー前駆体を調製した。
　得られたプレポリマー前駆体に、（メタ）アクリル化剤として、６００ｇのポリ（オキシプロピレン）グリコールモノメタアクリレート（日油株式会社製「ブレンマーＰＰ」、以下「ＰＰＭ」と略して記載する。）を加えて２時間反応させ、反応生成物を得た。
　得られた反応生成物を一部取り出して、ＩＲ分光測定を行って、イソシアネート基の消失を確認した。これにより、不飽和プレポリマー組成物Ａを得た。
（製造例２）不飽和プレポリマー組成物Ｂの製造
　ジオールとして１２００ｇのポリ（３－メチル－１，５－ペンタンジオールアジペート）ジオール（クラレ株式会社製「クラポールＰ３０１０」、以下「Ｐ３０１０」と略して記載する。）、８００ｇのポリオキシエチレン（ＥＯ）－オキシプロピレン（ＰＯ）ブロック共重合ジオール（三洋化成工業株式会社製「サンニックスＰＬ２１００」、以下「ＰＬ２１００」と略して記載する。）、イソシアネートとしてＴＤＩを１３７ｇ、（メタ）アクリル化剤としてＰＰＭを３８７ｇ、ジブチル錫ジラウレートを０．０３ｇ用いた。その他の条件は、（製造例１）と同様にして不飽和プレポリマー組成物Ｂを得た。
〔実施例１～４、９～１６、比較例１、３〕
　前記（製造例１）の不飽和プレポリマー組成物Ａに、下記〔表２〕、〔表３〕に示すエチレン性不飽和化合物、光重合開始剤、酸化防止剤等を加え、６０℃の加温状態で攪拌混合して、下記〔表３〕に示す感光性樹脂組成物を得た。
　得られた感光性樹脂組成物１～４、９を用いて、下記に示す成形・露光工程、現像工程、後露光工程、乾燥工程を順次経ることによりフレキソ印刷版を作製した。
＜成形・露光工程＞
　旭化成株式会社製「ＡＬＦ－２１３Ｅ型製版機」を用いて、（Ａ１）～（Ａ３）により、感光性樹脂組成物の成形、露光を行った。
　（Ａ１）：
　紫外線透過性のガラス板（下部ガラス板）上にネガフィルムを載置し、そのネガフィルムを薄い保護フィルムでカバーした後、その上に感光性樹脂組成物を流し、これが一定の版厚になるようスペーサーを介して支持体となるベースフィルムを貼り合わせ、さらにその上から紫外線透過性のガラス板（上部ガラス板）で押さえつけて感光性樹脂組成物層を形成した。印刷時の印圧に対するレリーフの強度を補填するために、上部ガラス板側の感光性樹脂組成物層の部分に、土台となるシェルフ層を形成することとし、レリーフ露光前に、上部ガラス板とベースフィルムとの間に専用のネガフィルム（マスキングフィルム）を挟んで感光性樹脂組成物層を成形した。
（Ａ２）：
　感光性樹脂組成物層の成形後、紫外線蛍光灯等を活性光源とする活性光線（３００ｎｍ以上に波長分布を有する光線）を上部ガラス板側からベースフィルムを介して照射した。
　感光性樹脂組成物層の形成工程でマスキングフィルムを設けたため、マスキング露光によりシェルフ層が形成された。
（Ａ３）：
　マスキング露光工程の後、感光性樹脂組成物層に対し、下部ガラス側からネガフィルムを介して上部と同様の活性光線を照射し、画像形成を行うレリーフ形成露光工程を行い、レリーフ形成層を得た。
　前記（Ａ１）のようにして、シェルフ層用のネガフィルム（マスキングフィルム）を備える感光性樹脂組成物層を形成した。
　ここで、前記ネガフィルム（マスキングフィルム）としては、３００ｍｍ×５００ｍｍのシェルフ層が形成されるものを使用し、また、レリーフ形成用のネガフィルムとしては、２００ｍｍ×２５０ｍｍのベタ画像内に５００μｍ幅の線状の非露光部（以下、「白抜き」あるいは「白抜き線」と称する。）が形成されるデザインが施されたものを使用した。
　次いで、前記（Ａ２）、（Ａ３）のようにして、感光性樹脂組成物層を露光して、版厚３ｍｍ、レリーフ深度は、下記〔表４〕に記載のフレキソ印刷原版を得た。
　レリーフ深度を調整するために、マスキング露光量を適宜調整した。
　レリーフ形成露光工程においては、露光量を３００ｍＪ／ｃｍ2として行った。
＜現像工程＞
　未露光の感光性樹脂組成物を、ゴムへらを用いて回収除去した後に、露光後のフレキソ印刷原版を、モーターにより稼働する直径３５ｃｍの金属製ロールに両面接着テープを用いて固定した。
　下記〔表１〕、〔表４〕及び〔表５〕に示す不織布を、直径５ｃｍの加熱可能な複数の金属ロール間を通過可能なように設置した。
　金属製ロールをモーターにより２ｒｐｍで回転させた。
　金属製ロール上で、１．０×１０5Ｐａの接触圧にて不織布を、フレキソ印刷原版の感光性樹脂組成物層の面に接触させ、通過させた。
　フレキソ印刷原版を、不織布に未露光の感光性樹脂組成物が付着しなくなるまで不織布と接触させ、感光性樹脂組成物層の未露光部を除去した。
　上記現像工程は、２５℃環境にて行った。
＜後露光工程＞
　紫外線蛍光灯、殺菌灯の双方を装備した旭化成株式会社製「ＡＬ－２００ＵＰ型後露光機」を用い、水中露光方式により後露光を行った。
　それぞれの光源から照射される露光量が、版表面で紫外線蛍光灯：２０００ｍＪ／ｃｍ2、殺菌灯：２０００ｍＪ／ｃｍ2となる露光時間で後露光を行った。
＜乾燥工程＞
　旭化成株式会社製「ＡＬＦ－ＤＲＹＥＲ」を用い、後露光後の版を、その表面の水分がなくなるまで約３０分間乾燥し、フレキソ印刷版を得た。
〔実施例１７、１８〕
　版厚を１２ｍｍとし、レリーフ形成露光工程において、露光量を６００ｍＪ／ｃｍ2とした以外は、上述の実施例１の製造工程と同様にしてフレキソ印刷版を得た。
〔実施例５～７〕
　不飽和プレポリマー組成物を、製造例２の不飽和プレポリマー組成物Ｂとし、感光性樹脂組成物５～７を用い、レリーフ形成露光工程において露光量を６００ｍＪ／ｃｍ2、とした以外は、上述の実施例１の製造工程と同様にしてフレキソ印刷版を得た。
〔実施例８、比較例２〕
（支持体と感光性樹脂組成物層の積層体の製造）
＜感光性樹脂組成物８、１０の製造例＞
　下記〔表３〕に記載の原料を加圧ニーダー１６０℃で混練し、感光性樹脂組成物８、１０を得た。
＜感光性樹脂組成物８、１０を用いた感光性樹脂組成物層と支持体の積層体の製造＞
　次に、押し出し成形機に感光性樹脂組成物を投入し、Ｔ型ダイスから押し出し成形された感光性樹脂組成物層の片方の面に支持体（ポリエチレンテレフタレートフィルム）を貼り合わせ、感光性樹脂組成物層の支持体積層側とは反対の面に離型フィルム（三菱化学社製、ダイアホイルＭＲＶ１００）を貼り合わせて、支持体と感光性樹脂組成物層の積層体を得た。
（赤外線アブレーション層積層体の製造）
　タフプレン３１５（旭化成製、スチレン－ブタジエンブロック共重合体）７．８質量部と、トルエン７０．４質量部と、プロピレングリコール１－モノメチルエーテル２－アセタート（ＰＭＡ）１７．６質量部と、を混合し、タフプレン３１５を溶剤に溶解させた。
　その後、カーボンブラック（三菱ケミカル製、＃３０）をさらに投入し、ビーズミルで４時間混合しカーボンブラック分散液を得た。
　上記のようにして得られたカーボンブラック分散液をカバーフィルムとなる１００μｍの厚さのＰＥＴフィルム上に、乾燥後の膜厚が２．５μｍとなるようにコーティングし、９０℃で２分間の乾燥処理を施して、赤外線アブレーション層とカバーフィルムとの積層体である赤外線アブレーション層積層体を得た。
（実施例８、比較例２のフレキソ印刷版の製造）
　３００ｍｍ×５００ｍｍの支持体と感光性樹脂組成物層の積層体から離型フィルムをはがし、赤外線アブレーション層積層体を、赤外線アブレーション層が感光性樹脂組成物層に接するように、温度２５℃、湿度４０％の環境でラミネートし、１２０℃に設定したホットプレート上でカバーフィルム面をホットプレートの加熱部に接触するように配置して、１分間熱を加えて、フレキソ印刷版用感光性樹脂構成体１を得た。
　上述のようにして作製したフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体１のカバーフィルムをはがし、Ｅｓｋｏ　ＣＤＩ　ＳＰＡＲＫ２５３０に設置し、レーザー強度３．８Ｊにおいて２００ｍｍ×２５０ｍｍのベタ画像内に５００μｍ幅の白抜き線が形成されるデザインとなるよう描画した。
　「ＡＦＰ－１２１６Ｅ」露光機（旭化成株式会社製、商品名）上で、下側紫外線ランプ（ＰＨＩＬＩＰＳ社製ＵＶランプＴＬ８０Ｗ／１０Ｒ、商品名）を用いて、まず支持体側から、最終的に得られるフレキソ印刷版のレリーフ深度が２．０ｍｍになるように５３０ｍＪ／ｃｍ2で全面に露光を行い、バック析出層を形成した。
　続いて、上側ランプ（ＰＨＩＬＩＰＳ社製ＵＶランプＴＬ８０Ｗ／１０Ｒ、商品名）にてカバーフィルム側から８０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し、パターン露光を行い、フレキソ印刷原版を得た。なお、このときの露光強度はオーク製作所製のＵＶ照度計ＭＯ－２型機（オーク製作所製、商品名、ＵＶ－３５フィルター）にて測定した。
　露光後のフレキソ印刷原版を、モーターにより稼働する直径３５ｃｍの金属製ロールに両面接着テープを用いて固定した。
　表１、表４及び表５に示す不織布を、直径５ｃｍの加熱可能な複数の金属ロール間を通過可能なように設置した。
　感光性樹脂組成物層を比較的早く加熱するための赤外ランプを、フレキソ印刷原版を保持する前記金属製ロール上に固定した。
　赤外ランプを点灯させ、１７０℃に加熱された状態の金属製ロールをモーターによりゆっくりと（２ｒｐｍ）回転させた。金属製ロール上で、１．０×１０5Ｐａの接触圧にて不織布を、フレキソ印刷原版の感光性樹脂組成物層面に接触させ、通過させた。
　フレキソ印刷原版を、不織布に未露光の感光性樹脂組成物が付着しなくなるまで不織布と接触させ、感光性樹脂組成物層の未露光部を除去した。
〔フレキソ印刷版の評価〕
＜白抜き深度（残渣）の評価＞
　μＤＥＰＴＨ＆ＨＥＩＧＨＴ　ＭＥＡＳＵＲＩＮＧ　ＳＣＯＰＥ　ＫＹ－９０（日商精密光学株式会社製）を用いて、５００μｍ線幅の白抜き線の溝形状を観察し、溝の深さを測定した。
　測定結果の評価基準を以下に示す。
　下記評価基準において、Ａ～Ｄであれば実用上問題なく使用することができるものとして評価した。
　（評価基準）
　Ａ：深さ１５１μｍ以上
　Ｂ：深さ１２１～１５１μｍ未満
　Ｃ：深さ９１～１２１μｍ未満
　Ｄ：深さ７０～９１μｍ未満
　Ｅ：深さ７０μｍ未満
＜厚み精度による厚み均一性の評価＞
　ＡＢＳデジマチックインジケータ　ＩＤ－Ｃ１１２（株式会社ミツトヨ製）を用いて、フレキソ印刷版のベタ画像部の版厚を任意で９点測定し、最大値と最小値の差を厚み精度として算出することで、厚み均一性の評価とした。
　下記評価基準において、Ａ～Ｄであれば実用上問題なく使用することができるものとして評価した。
　（評価基準）
　Ａ：厚み精度０．０５ｍｍ未満
　Ｂ：厚み精度０．０５ｍｍ以上０．０７ｍｍ未満
　Ｃ：厚み精度０．０７ｍｍ以上０．１０ｍｍ未満
　Ｄ：厚み精度０．１０ｍｍ以上０．１５ｍｍ未満
　Ｅ：厚み精度０．１５ｍｍ以上
＜感光性樹脂組成物の回収率の評価＞
　フレキソ印刷版の製造に使用した感光性樹脂組成物の質量と支持体の質量の和から、現像液を用いた現像にて製造したフレキソ印刷版の質量を差し引いた質量を１００とした際の、上述の製造方法にて使用した不織布から取り出した未露光の感光性樹脂組成物の質量割合をもとに、下記の式にて感光性樹脂組成物の回収率を算出した。
　感光性樹脂組成物回収率（％）＝（現像後の不織布から取り出した未露光の感光性樹脂組成物の質量）／｛（フレキソ印刷版の製造に使用した感光性樹脂組成物の質量）＋（支持体の質量）－（現像液現像で製造したフレキソ印刷版の質量）｝×１００
　下記評価基準において、○、◎であれば実用上問題なく使用することができるものとして評価した。
　（評価基準）
　◎：感光性樹脂組成物の回収率８０％以上
　○：感光性樹脂組成物の回収率４０％以上８０％未満
　×：感光性樹脂組成物の回収率４０％未満
〔実施例５、実施例５－２、実施例５－３、比較例４、５〕
　実施例５－２、実施例５－３、比較例４、５においては、現像方法、感光性樹脂組成物を各々下記表６に示すように変更した以外は、実施例５と同様の方法によりフレキソ印刷版を作製した。
　実施例５、５－２、５－３、比較例４、５において、感光性樹脂組成物の回収率評価の際の現像方法として、下記１～４の方法を採用した。
（現像方法）
　１：実施例１に記載の方法で実施する。
　２：未露光の感光性樹脂組成物の除去にゴムへらを用いず、不織布への接触のみで現像を実施する。
　３：未露光の感光性樹脂組成物の除去にゴムへらのみを用いて現像を実施する。
　４：現像液を用いて現像を実施する。
　上述の評価にて用いた現像液による現像は、旭化成株式会社製「ＡＬ－４００Ｗ型現像機」（ドラム回転スプレー式、ドラム回転数：２０回転／分、スプレー圧：０．１５Ｐａ）に感光性樹脂組成物を乳化し得る旭化成株式会社製「ＡＰＲ（登録商標）洗浄剤　タイプＷ－１３」２質量％と、旭化成株式会社製「ＡＰＲ（登録商標）表面処理剤　タイプＡ－１０」０．６質量％と、旭化成株式会社製「消泡剤ＳＨ－４」（シリコーン混和物）０．３質量％と、を含む水溶液を現像液として調合し、液温４０℃、現像時間１５分間の条件で現像を行った。
　現像後、水道水で現像液による泡が落ちる程度に洗浄した。
　上述の現像方法と上記の式にて得られた、感光性樹脂組成物の回収率を表６にまとめた。
　なお、表６中の「感光性樹脂組成物番号５’」は、ゴムへら及び不織布によって除去した後に回収した未露光の感光性樹脂組成物（回収感光性樹脂組成物）を表す。
　なお、表６中、（実施例５－２）は、実施例５のフレキソ印刷版の製造工程において、現像方法を上記２の現像方法に変更した例である。（実施例５－３）は、実施例５のフレキソ印刷版の製造工程において、感光性樹脂組成物として、回収感光性樹脂組成物を用いた例である。また、（比較例４）は、実施例５のフレキソ印刷版の製造工程において、現像方法を上記３の現像方法に変更した例である。（比較例５）は、実施例５のフレキソ印刷版の製造工程において、現像方法を上記４の現像方法に変更した例である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
  
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
  
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
  
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
  
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
  
　本出願は、２０２１年１０月６日に日本国特許庁に出願された日本特許出願（特願２０２１－１６４４８２）に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
　本発明の印刷版の製造方法は、広く一般商業印刷分野において、産業上の利用可能性を有する。

Claims (12)

  1. 　感光性樹脂組成物への露光によりレリーフを形成する露光工程と、
    　前記露光工程における未露光部の感光性樹脂組成物を、現像媒体に付着又は吸着させて現像する現像工程と、
    を、有する印刷版の製造方法であって、
    　前記現像工程の現像温度における、前記未露光部の感光性樹脂組成物の貯蔵弾性率が１００Ｐａ以上４０００Ｐａ以下であり、
    　前記現像媒体は、弾性回復率が３０％以上９９％以下のワイパーである、
    　印刷版の製造方法。
  2. 　前記現像温度における、前記未露光部の感光性樹脂組成物の貯蔵弾性率が１００Ｐａ以上３５０Ｐａ以下である、
    　請求項１に記載の印刷版の製造方法。
  3. 　前記現像温度における、前記未露光部の感光性樹脂組成物の貯蔵弾性率が１００Ｐａ以上２５０Ｐａ以下である、
    　請求項１に記載の印刷版の製造方法。
  4. 　前記現像温度における、前記未露光部の感光性樹脂組成物の損失弾性率が９０Ｐａ以上５００Ｐａ以下である、
    　請求項１乃至３のいずれか一項に記載の印刷版の製造方法。
  5. 　前記現像媒体が、弾性回復率３５％以上９９％以下のワイパーである、
    　請求項１乃至４のいずれか一項に記載の印刷版の製造方法。
  6. 　前記現像媒体が、弾性回復率４０％以上９９％以下のワイパーである、
    　請求項１乃至５のいずれか一項に記載の印刷版の製造方法。
  7. 　前記現像媒体が、弾性回復率６０％以上９９％以下のワイパーである、
    　請求項１乃至６のいずれか一項に記載の印刷版の製造方法。
  8. 　前記印刷版のレリーフ深度を、０．１ｍｍ以上１０．０ｍｍ以下とする、
    　請求項１乃至７のいずれか一項に記載の印刷版の製造方法。
  9. 　前記ワイパーが不織布である、
    　請求項１乃至８のいずれか一項に記載の印刷版の製造方法。
  10. 　前記現像媒体に付着又は吸着した前記未露光部の感光性樹脂組成物を、新たな印刷版の製造における感光性樹脂組成物として回収する工程を有する、
    　請求項１乃至９のいずれか一項に記載の印刷版の製造方法。
  11. 　前記現像媒体に付着又は吸着した前記未露光部の感光性樹脂組成物を回収し、新たな印刷版の製造における感光性樹脂組成物として用いる、
    　請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の印刷版の製造方法。
  12. 　請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の印刷版の製造方法で印刷版を製造する工程と、
    　前記製造した印刷版を用いて印刷する印刷工程と、
    を有する、印刷方法。
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Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0519469A (ja) * 1990-07-26 1993-01-29 Minnesota Mining & Mfg Co <3M> フレキソ印刷版工程
JPH07234503A (ja) * 1994-01-28 1995-09-05 Minnesota Mining & Mfg Co <3M> 熱現像フレキソ印刷版
JP2634429B2 (ja) 1988-05-11 1997-07-23 大日本印刷株式会社 感光性樹脂版の支持体
JP3094647B2 (ja) 1992-04-06 2000-10-03 旭化成工業株式会社 印刷版製造用感光性樹脂支持構造体
WO2004104701A1 (ja) 2003-05-23 2004-12-02 Asahi Kasei Chemicals Corporation フレキソ印刷用感光性構成体
JP2014524049A (ja) * 2011-07-14 2014-09-18 マクダーミッド プリンティング ソリューションズ， エルエルシー フレキソ印刷版の表面粗さの制御方法
JP2021164482A (ja) 2013-12-20 2021-10-14 フレッド ハッチンソン キャンサー リサーチ センター タグ化キメラエフェクター分子およびそのレセプター

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5827746U (ja) 1981-08-17 1983-02-22 株式会社山武 半導体センサをもつ圧力計
JP3117749U (ja) 2005-10-18 2006-01-12 シュ−ルン ワン 歯型パウダー攪拌機の伝動調整平衡装置

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2634429B2 (ja) 1988-05-11 1997-07-23 大日本印刷株式会社 感光性樹脂版の支持体
JPH0519469A (ja) * 1990-07-26 1993-01-29 Minnesota Mining & Mfg Co <3M> フレキソ印刷版工程
JP3117749B2 (ja) 1990-07-26 2000-12-18 デュポン オペレーションズ ワールドワイド，インコーポレイテッド フレキソ印刷版工程
JP3094647B2 (ja) 1992-04-06 2000-10-03 旭化成工業株式会社 印刷版製造用感光性樹脂支持構造体
JPH07234503A (ja) * 1994-01-28 1995-09-05 Minnesota Mining & Mfg Co <3M> 熱現像フレキソ印刷版
WO2004104701A1 (ja) 2003-05-23 2004-12-02 Asahi Kasei Chemicals Corporation フレキソ印刷用感光性構成体
JP2014524049A (ja) * 2011-07-14 2014-09-18 マクダーミッド プリンティング ソリューションズ， エルエルシー フレキソ印刷版の表面粗さの制御方法
JP5827746B2 (ja) 2011-07-14 2015-12-02 マクダーミッド プリンティング ソリューションズ， エルエルシー フレキソ印刷版の表面粗さの制御方法
JP2021164482A (ja) 2013-12-20 2021-10-14 フレッド ハッチンソン キャンサー リサーチ センター タグ化キメラエフェクター分子およびそのレセプター

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