WO2022138003A1 - 導電性フィルム及び電子装置 - Google Patents
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Definitions
- the conductive film may further include a resin portion that fills the inside of the opening of the wiring portion.
- the conductive film provided with the resin portion that fills the opening of the wiring portion is particularly easy to manufacture by a method including pattern formation by imprinting.
- Resins furan resins, COPNA resins, silicon resins, diclopentadiene resins, benzocyclobutene resins, episulfide resins, en-thiol resins, polyazomethine resins, polyvinylbenzyl ether compounds, acenaphthylene, and unsaturated double bonds, cyclic ethers and Examples thereof include an ultraviolet curable resin containing a functional group that causes a polymerization reaction with ultraviolet rays such as vinyl ether.
- the width W3 is small, it is possible to efficiently and highly accurately form the trench for forming the ground terminal 3 while suppressing the generation of the resin residue in the trench portion.
- the resin remaining on the base layer 12 in the trenches 30a and 30b may be removed by etching such as dry etching.
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Abstract
フィルム状の基材と、基材の主面上に延在する導体部と、樹脂部とを備える導電性フィルムが開示される。導体部が、複数の線状部を含むメッシュ状のパターンを有する配線部と、端子部とを含む。端子部が、複数の開口を含むパターンを有する部分を有し、それがグランド端子であってもよい。樹脂部が、端子部における前記複数の開口内を埋めている。
Description
本発明は、導電性フィルム、及びこれを備える電子装置に関する。
液晶表示装置等の電子装置において、所定のパターンを有する導体配線を放射素子として有する平面アンテナが設けられることがある(例えば特許文献1)。
本発明は、メッシュ状のパターンを有する配線部と端子部とを含む導体部を備え、導体部を高い精度で容易に形成することのできる導電性フィルムを提供する。
本発明の一側面は、フィルム状の基材と、前記基材の主面上に延在する導体部と、を備える導電性フィルムを提供する。前記導体部は、複数の線状部を含むメッシュ状のパターンを有する配線部と、端子部と、を含む。
前記端子部が、複数の開口を含むパターンを有する部分を有し、当該導電性フィルムが、前記端子部における前記複数の開口内を埋めている樹脂部を更に備えていてもよい。あるいは、前記端子部が、複数の開口を含むパターンを有する部分であるグランド端子を有していてもよい。
メッシュ状のパターンを有する配線部に接続される端子部は、従来、開口を有しない形態を有し、所定の領域に設けられていた。しかし、開口を有しない端子部を、メッシュ状のパターンを有する配線部と同様の方法で形成すると、両者で幅の差が大きいために、高い精度を確保し難いことがある。これに対して、上記本発明のように端子部が複数の開口を含むパターンを有する部分を有すると、例えばインプリントによるパターン形成を含む方法によって、配線部及び端子部が高い精度で効率的に形成され易い。開口内を埋める樹脂部を備える導電性フィルムは、インプリントによるパターン形成を含む方法による製造が特に容易である。
前記配線部がアンテナの放射素子を含んでいてもよい。アンテナの放射素子を含む導電性フィルムは、平面状の透明アンテナとして用いることができる。
当該導電性フィルムが、前記配線部の開口内を埋める樹脂部を更に備えていてもよい。配線部の開口内を埋める樹脂部を備える導電性フィルムは、インプリントによるパターン形成を含む方法による製造が特に容易である。
前記端子部における前記複数の開口を含むパターンが、複数の線状部を含むメッシュ状のパターンであってもよい。メッシュ状のパターンを有する端子部は、インプリントによるパターン形成を含む方法による製造が特に容易である。
前記端子部における前記線状部の幅が、前記配線部における前記線状部の幅よりも大きくてもよい。端子部を構成する線状部の幅がある程度大きいと、端子部としての良好な機能が発揮され易い。
前記端子部における前記線状部の幅が200μm以下であってもよい。端子部を構成する線状部の幅が小さいと、インプリントによるパターン形成を含む方法によって、線状部が形成される領域での樹脂残渣の発生を回避しながら、特に高い精度で端子部を形成し易い。
前記端子部が、給電端子を更に含んでもよい。前記給電端子が、前記複数の開口を含むパターンを有する部分から離れた位置で、前記基材の主面内の閉じた1本の線で囲まれる領域全体を覆うように設けられていてもよい。この給電端子は、導電性フィルムが例えばアンテナとして機能するために必要な電圧を供給するために用いることができる。
前記基材の主面に垂直な方向から見たときに、前記端子部のうち、前記複数の開口を含むパターンを有する部分の輪郭で囲まれる領域の面積が、前記給電端子の面積よりも大きくてもよい。例えばグランド端子の場合、その輪郭で囲まれる面積が大きいほうが、開口を有していても良好な性能が発揮され易い。
前記端子部における前記線状部の幅が、前記給電端子の最小幅よりも小さくてもよい。
本発明の別の一側面は、上記導電性フィルムを具備する、電子装置を提供する。
本発明の一側面に係る導電性フィルムは、メッシュ状のパターンを有する配線部と、端子部とを含む導体部を備え、導体部が高い精度で容易に形成されることができる。
以下、本発明のいくつかの実施形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。
図1は、導電性フィルムの一実施形態を示す平面図である。図2は、導電性フィルムの一実施形態を示す断面図である。図2は、図1の導電性フィルムの一部に相当する断面図である。
図1及び図2に示される導電性フィルム20は、フィルム状の基材1と、基材1の主面1S上に延在する導体部2とを備える。図1において基材1は省略されている。導体部2は、複数の線状部を含むメッシュ状のパターンを有する配線部5と、配線部5に接続された端子部6とを含む。端子部6はグランド端子3、及び給電端子8を有する。導体部2は基材1の主面1Sの全体にわたって延在している必要はなく、主面1Sのうち一部の領域上に導体部2が設けられていてもよい。
グランド端子3は、端子部6のうち、基材1の主面1Sが露出する複数の開口3aを含むパターンを有する部分である。複数の開口3aを含むパターンは、互いに交差する複数の線状部によって形成された、規則的に配置された複数の開口3aを含むメッシュ状のパターンであってもよい。導電性フィルム20が組み込まれる電子装置において、通常、グランド端子3に接地電位が供給される。図1及び図2に例示される導電性フィルム20は2つのグランド端子3を有するが、1枚の導電性フィルム20が有するグランド端子3の数は2に限られず、例えば1~2個であってもよい。配線部5がアンテナの放射素子を複数有する場合、放射素子1個あたりのグランド端子の数が1~2個であってもよい。
端子部6(又はグランド端子3)における複数の開口3a内を埋める樹脂部7Aが設けられている。配線部5のメッシュ状のパターンによって形成される開口5a内を埋める樹脂部7Bも設けられている。
グランド端子3における線状部の幅W3は、200μm以下であってもよい。線状部の幅W3がある程度小さいと、例えば後述のインプリントによるパターン形成を含む方法によって、線状部が形成される領域での樹脂残渣の発生を回避しながら、特に高い精度で端子部を形成し易い。グランド端子はある程度大きな面積の領域にわたって設けられることが望ましいが、大きな面積の領域に開口を有しない端子部を形成することは、インプリント法における樹脂残渣の発生等を生じさせ易い。同様の観点から、グランド端子3における線状部の幅W3は、190μm以下、180μm以下、170μm以下、160μm以下、又は150μm以下であってもよい。グランド端子としての良好な機能を維持するために、グランド端子3における線状部の幅W3は、配線部5のメッシュ状のパターンを構成する線状部の幅W5よりも大きくてもよい。例えば、幅の比W3/W5が50以上であってもよく、400以下であってもよい。グランド端子3における線状部の幅W3は、例えば5μm以上であってもよい。ここで、本明細書において、「線状部の幅」は、線状部の長手方向に垂直で、基材1の主面1Sに平行な方向における、線状部の最大幅を意味する。
グランド端子3のメッシュ状のパターンは、互いに平行に配列された複数の第一の線状部と、互いに平行に配列された複数の第二の線状部とを含んでいてもよい。第一の線状部と第二の線状部とがなす角度、すなわち、メッシュ状のパターンによって形成される平行四辺形又は菱形の開口3aにおける2組の内角のうち小さいほうの角度は、例えば10~90度、又は10~45度であってもよい。端子部6のうち複数の開口3aを含むパターンを有する部分、すなわちグランド端子3は、第一の線状部及び第二の線状部の他に、グランド端子3の端部に沿う線状部等を更に含んでいてもよい。
給電端子8は、端子部6のうち複数の開口3aを含むパターンを有する部分(グランド端子3)から離れた位置で、基材1の主面1S内の閉じた1本の線で囲まれる領域全体を覆うように設けられている。言い換えると、給電端子8は、開口を含まないベタの形態を有し、基材1の主面1S上に設けられている。給電端子8がベタの形態を有することは、配線部5への効率的な給電の点で有利である。
給電端子が、基材の主面上に延在する導体部とは別に設けられていてもよい。例えば、給電端子が、開口を含むパターンを有する導体部の一部である端子部を覆うように平面状に延在していてもよい。図5はそのような給電端子を有する導電性フィルムの一例を示す平面図である。図6は図5の導電性フィルム20のうち給電端子8’が設けられた部分を示す拡大断面図である。図5及び図6に例示される導電性フィルム20は、開口を含むパターンを有する導体部2の一部であるグランド端子3と、グランド端子3から離れた位置に設けられた、開口を含むパターンを有する導体部2の一部である端子パターン部80とから構成される端子部6を有する。端子パターン部80は、導体部2のうち、配線部5の外側に向けて延出した部分である。端子パターン部80の一部が給電端子8’によって覆われている。給電端子8’は、ベタの形態を有する導体層である。平面視において、給電端子8’の外縁は、端子パターン部80(導体部2)の外縁より内側に位置していてもよい。この場合、給電端子8’の外縁が導体部2の外縁からはみ出ることが抑制され、それにより、配線部5が端子部6に隣り合う他の端子部とショートすることを抑制できる。また、給電端子8’が電極側にはみ出すことで導電性フィルムの視認性が向上してしまうことを抑制できる。給電端子8’によって覆われた端子パターン部80(導体部2)が、給電端子8’によって覆われていない配線部5(導体部2)と同様のメッシュ状のパターンを有していてもよい。
配線部5のメッシュ状のパターンによって形成される開口5a内を埋める樹脂部7Bも設けられている。図5及び図6に示される給電端子8’は、導体部2(又は配線部5)の表面、及び導体部2の開口を埋める樹脂部7Aの表面を覆うように形成されている。図5及び図6に示す例では、給電端子8’は、その外縁で囲まれる領域において隙間無く一体的に形成されている。給電端子8’は、複数の領域に分割されてもよく、分割された領域間では、配線部5及び樹脂部7Bがスリット状に露出してもよい。
図6の断面図に示されるように、給電端子8’によって覆われる部分の配線部5(導体部2)の基材1の主面1Sからの高さが、樹脂部7Aの主面1Sからの高さよりも大きくてもよい。給電端子8’の配線部5(導体部2)とは反対側の表面8’Sが、粗面化されていてもよい。言い換えると、表面8’Sの表面粗さが、配線部5(導体部2)の表面粗さよりも大きくてもよい。表面8’Sが粗面化されていると、外部の接続端子との接続強度が向上され得る。ここでの表面粗さは、例えば、算術平均粗さRaであってもよい。給電端子8’の厚みが、配線部5(導体部2)の厚みよりも大きくてもよい。
基材1の主面1Sに垂直な方向から見たときに、給電端子8の最小幅W8又は給電端子8’の最小幅W8’よりも、グランド端子3における線状部の幅W3が小さい。例えば、幅の比W3/W8又はW3/W8’が0.9以下、0.8以下、0.7以下、0.6以下、又は0.5以下であってもよく、0.25以上であってもよい。図1、図2、図3、図4、図5及び図6に例示される導電性フィルム20のように、給電端子8,8’が矩形の主面を有する場合、その矩形の短辺の長さが最小幅W8,W8’に相当する。
基材1の主面1Sに垂直な方向から見たときに、端子部6のうち複数の開口3aを含むパターンを有する部分(グランド端子3)の輪郭で囲まれる領域の面積(以下単に「グランド端子3の面積」ともいう。)が、給電端子8又は給電端子8’の面積よりも大きくてもよい。グランド端子3の面積が大きいほうが、グランド端子としての良好な性能が発揮され易い。給電端子8又は給電端子8’の面積に対するグランド端子3の面積の割合が、2.0以上、又は3.0以上であってもよく、10以下であってもよい。1枚の導電性フィルム20に、グランド端子3、給電端子8,8’又はこれらの両方が2以上設けられる場合、それらの合計の面積の比率が上記範囲内であってもよい。
グランド端子が、基材の主面上に延在する導体部とは別に設けられていてもよい。例えば、グランド端子が、開口を含むパターンを有する端子部としての端子パターン部を覆うように平面状に延在し、ベタの形態を有する導体層であってもよい。この場合、平面視において、グランド端子の外縁が、その下部に位置する端子パターン部(端子部、導体部)の外縁より内側に位置していてもよい。これにより、グランド端子が導体部の外縁からはみ出ることが抑制され、それにより、グランド端子が隣り合う他の端子部とショートすることを抑制できる。また、グランド端子が電極側にはみ出すことで導体部の視認性が向上してしまうことを抑制できる。ベタの形態を有するグランド端子によって覆われた端子パターン部が、グランド端子によって覆われていない部分の導体部と同様のメッシュ状のパターンを有していてもよい。導電性フィルムは、以上説明したような、端子部(端子パターン部)を覆うベタの形態を有する給電端子、端子部(端子パターン部)を覆うベタの形態を有するグランド端子、又はこれらの両方を有していてもよい。
配線部5は、交差する複数の線状部から構成されるメッシュ状のパターンを含む放射素子を含む。配線部5を構成する線状部の幅は、例えば0.5μm以上、1μm以上、又は2μm以上であってもよく、5μm以下、2μm以下、又は1μm以下であってもよい。
配線部5のメッシュ状のパターンは、互いに平行に配列された複数の第一の線状部と、互いに平行に配列された複数の第二の線状部とを含んでいてもよい。第一の線状部と第二の線状部とがなす角度、すなわち、メッシュ状のパターンによって形成される平行四辺形又は菱形の開口5aにおける2組の内角のうち小さいほうの角度は、例えば10~90度、又は10~45度であってもよい。
導体部2は、複数の線状部を含むメッシュ状のパターンを有するグランド電極9を有していてもよい。グランド電極9は、配線部5の放射素子を囲みながら、2つのグランド端子3の間にわたって設けられている。グランド電極9を構成する線状部の幅及び形状は、配線部5を構成する線状部の幅及び形状と同様であることができる。
導体部2は、金属を含んでいてもよい。導体部2は、銅、ニッケル、コバルト、パラジウム、銀、金、白金及びスズから選ばれる少なくとも1種の金属を含んでいてもよく、銅を含んでいてもよい。導体部2は、めっき法によって形成された金属めっきであってもよい。導体部2は、適切な導電性が維持される範囲で、リン等の非金属元素を更に含んでいてもよい。
基材1は、支持フィルム11と、支持フィルム11上に設けられた下地層12とを有する積層体であってもよい。下地層12は無電解めっき等によって導体部2を形成するために設けられた層である。他の方法によって導体部2を形成する場合、下地層12は必ずしも設けられなくてもよい。
支持フィルム11は、透明フィルムであってもよい。支持フィルム11の全光線透過率が90~100%であってもよい。支持フィルム11のヘイズが0~5%であってもよい。
透明フィルムは透明樹脂フィルムであってもよく、その例としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート(PC)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、シクロオレフィンポリマー(COP)、又はポリイミド(PI)のフィルムが挙げられる。あるいは、支持フィルム11がガラス基板であってもよい。
支持フィルム11の厚みは、10μm以上、20μm以上、又は35μm以上であってよく、500μm以下、200μm以下、又は100μm以下であってよい。
下地層12は、触媒及び樹脂を含有する。樹脂は、硬化性樹脂組成物の硬化物であってもよい。硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性樹脂の例としては、アミノ樹脂、シアネート樹脂、イソシアネート樹脂、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、ポリエステル、アリル樹脂、フェノール樹脂、ベンゾオキサジン樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹脂、フラン樹脂、COPNA樹脂、ケイ素樹脂、ジクロペンタジエン樹脂、ベンゾシクロブテン樹脂、エピスルフィド樹脂、エン-チオール樹脂、ポリアゾメチン樹脂、ポリビニルベンジルエーテル化合物、アセナフチレン、並びに、不飽和二重結合、環状エーテル及びビニルエーテル等の紫外線で重合反応を起こす官能基を含む紫外線硬化樹脂が挙げられる。
下地層12に含まれる触媒は、無電解めっき触媒であってもよい。無電解めっき触媒は、Pd、Cu、Ni、Co、Au、Ag、Pd、Rh、Pt、In、及びSnから選ばれる金属であってよく、Pdであってもよい。触媒は、1種類単独若しくは2種類以上の組合せであってもよい。通常、触媒は触媒粒子として樹脂中に分散している。
下地層12における触媒の含有量は、下地層12全量を基準として、3質量%以上、4質量%以上、又は5質量%以上であってもよく、50質量%以下、40質量%以下、又は25質量%以下であってもよい。
下地層12の厚みは、10nm以上、20nm以上、又は30nm以上であってもよく、500nm以下、300nm以下、又は150nm以下であってもよい。
樹脂部7A及び樹脂部7Bは、同じ又は異なる樹脂から形成されることができ、それぞれ、端子部6(グランド端子3)の開口3a、及び配線部5の開口5aを埋めるように設けられている。導体部2(配線部5及び端子部6)と、樹脂部7A,7Bとで平坦な表面が形成されていてもよい。言い換えると、導体部2の厚みと、樹脂部7A,7Bの厚みとが実質的に同じであってもよい。導体部2及び樹脂部7A,7Bの厚みは、0.5μm以上、1μm以上、又は2μm以上であってもよく、10μm以下、5μm以下、又は2μm以下であってもよい。
樹脂部7A,7Bは、透明な樹脂層であってもよい。樹脂部7A,7Bは、光硬化性樹脂組成物又は熱硬化性樹脂組成物の硬化物であってもよい。樹脂部7A,7Bを形成する光硬化性樹脂組成物又は熱硬化性樹脂組成物は、硬化性樹脂を含み、その例としては、アクリル樹脂、アミノ樹脂、シアネート樹脂、イソシアネート樹脂、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、ポリエステル、アリル樹脂、フェノール樹脂、ベンゾオキサジン樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹脂、フラン樹脂、COPNA樹脂、ケイ素樹脂、ジクロペンタジエン樹脂、ベンゾシクロブテン樹脂、エピスルフィド樹脂、エン-チオール樹脂、ポリアゾメチン樹脂、ポリビニルベンジルエーテル化合物、アセナフチレン、並びに、不飽和二重結合、環状エーテル及びビニルエーテル等の紫外線で重合反応を起こす官能基を含む紫外線硬化樹脂が挙げられる。
樹脂部7A,7Bの屈折率(nd25)は、例えば、1.0以上であってもよく、1.7以下、1.6以下、又は1.5以下であってよい。屈折率は、反射分光膜厚計により測定することができる。樹脂部7A,7Bの全光線透過率が90~100%であってもよい。樹脂部7A,7Bのヘイズが0~5%であってもよい。
図3及び図4は、図1及び図2に示される導電性フィルム20を製造する方法の一実施形態を模式的に示す工程図である。
図3及び図4に例示される方法は、図3の(a)に示されるように、支持フィルム11の一方の主面上に、触媒を含有する下地層12を形成させることと、図3の(b)に示されるように、下地層12の支持フィルム11とは反対側の面上に、樹脂部7A,7Bを含む樹脂層7を形成させることと、図4の(c)、(d)に示されるように、凸部15a,15bを有するモールド15を用いたインプリント法により、下地層12が露出するトレンチ30a,30bを形成させることと、トレンチ30a,30bを充填する導体部2(グランド端子3及び配線部5)を、下地層12から金属めっきを成長させる無電解めっき法により形成することとを含む。
インプリント法の工程では、モールド15を、樹脂層7(樹脂部7A,7B)の厚み方向に移動させることで、樹脂層7(樹脂部7A,7B)に押し込ませる。凸部15a,15bの先端が下地層12に到達するまでモールド15が押し込まれてもよい。その状態で、樹脂層7(樹脂部7A,7B)が未硬化の光硬化性又は熱硬化性樹脂組成物を含む層である場合にはこれを硬化させる。樹脂層7が光硬化性樹脂組成物を含む層である場合、紫外線等の光を照射することにより、樹脂層7を硬化させる。その後、モールド15を取り外すことにより、モールド15の凸部15a,15bの形状が反転した形状を有するトレンチ30a,30bが形成される(図4の(d))。トレンチ30a,30bを形成させる方法は、インプリント法に限定されず、例えば、レーザー、ドライエッチング、又はフォトリソグラフィーによりトレンチを形成させてもよい。凸部15a及びこれにより形成されるトレンチ30aは、グランド端子3を構成する線状部の幅W3に対応する幅を有する。凸部15b及びこれにより形成されるトレンチ30bは、配線部5を構成する線状部の幅W5に対応する幅を有する。上述のとおり、幅W3が小さいと、トレンチの部分における樹脂残渣の発生を抑制しながら、グランド端子3を形成するためのトレンチを効率的且つ高精度に形成することができる。モールド15を取り外した後、ドライエッチング等のエッチングにより、トレンチ30a,30b内の下地層12上に残存した樹脂を除去してもよい。
モールド15は、石英、Ni、紫外線硬化型液状シリコーンゴム(PDMS)等で形成されていてよい。モールド15の凸部15a,15bの形状は、形成させるトレンチの形状に応じて設計される。
トレンチ30a,30bが形成された後、トレンチ30a,30bを充填する導体部2(グランド端子3及び配線部5)を、下地層12から金属めっきを成長させる無電解めっき法により形成することができる。例えば、基材1及び基材1上の樹脂部7A,7Bから構成される積層体を、金属イオンを含有する無電解めっき液に浸漬させることにより、下地層12に含有される触媒を起点として、導体部2としての金属めっきを形成させることができる。導体部2を形成させることにより、図1及び図2に示される導電性フィルム20を得ることができる。導体部2のうち、グランド端子3及び配線部5以外の部分(例えば給電端子8)に対応する形状を有する凸部を更に有するモールドを用いることにより、導体部2の全体を一括して形成してもよい。
無電解めっき液は、導電パターン層を構成する金属のイオンを含む。無電解めっき液は、リン、ホウ素、鉄等を更に含有していてもよい。
導体部2を形成させる間の、無電解めっき液の温度は、例えば、40~90℃であってよい。無電解めっき液の浸漬時間は、導体部2の厚み等によって異なるが、例えば10~30分である。
以上例示的に説明された導電性フィルムを、例えば平面状の透明アンテナとして電子装置に組み込むことができる。電子装置は、例えば、液晶表示装置、又は有機EL表示装置のような表示装置であることができる。
1…基材、1S…基材の主面、2…導体部(配線部5,端子部6)、3…グランド端子、5…配線部、6…端子部(グランド端子3,給電端子8)、7…樹脂層(樹脂部7A,7B)、7A,7B…樹脂部、8…給電端子、11…支持フィルム、12…下地層、15…モールド、20…導電性フィルム、W3,W5…線状部の幅、W8…給電端子の最小幅。
Claims (12)
- フィルム状の基材と、前記基材の主面上に延在する導体部と、樹脂部と、を備え、
前記導体部が、複数の線状部を含むメッシュ状のパターンを有する配線部と、端子部と、を含み、
前記端子部が、複数の開口を含むパターンを有する部分を有し、
前記樹脂部が、前記端子部における前記複数の開口内を埋めている、
導電性フィルム。 - フィルム状の基材と、前記基材の主面上に延在する導体部と、を備え、
前記導体部が、複数の線状部を含むメッシュ状のパターンを有する配線部と、端子部と、を含み、
前記端子部が、複数の開口を含むパターンを有する部分であるグランド端子を有する、
導電性フィルム。 - 前記端子部における前記複数の開口内を埋めている樹脂部を更に備える、請求項2に記載の導電性フィルム。
- 前記配線部がアンテナの放射素子を含む、請求項1~3のいずれか一項に記載の導電性フィルム。
- 当該導電性フィルムが、前記配線部の開口内を埋めている樹脂部を更に備える、請求項1~4のいずれか一項に記載の導電性フィルム。
- 前記端子部における前記複数の開口を含むパターンが、複数の線状部を含むメッシュ状のパターンである、請求項1~5のいずれか一項に記載の導電性フィルム。
- 前記端子部における前記線状部の幅が、前記配線部における前記線状部の幅よりも大きい、請求項6に記載の導電性フィルム。
- 前記端子部における前記線状部の幅が200μm以下である、請求項6又は7に記載の導電性フィルム。
- 前記端子部が、給電端子を更に含み、前記給電端子が、前記複数の開口を含むパターンを有する部分から離れた位置で、前記基材の主面内の閉じた1本の線で囲まれる領域全体を覆うように設けられている、請求項1~8のいずれか一項に記載の導電性フィルム。
- 前記基材の主面に垂直な方向から見たときに、前記端子部のうち、前記複数の開口を含むパターンを有する部分の輪郭で囲まれる領域の面積が、前記給電端子の面積よりも大きい、請求項9に記載の導電性フィルム。
- 前記端子部における前記線状部の幅が、前記給電端子の最小幅よりも小さい、請求項9又は10に記載の導電性フィルム。
- 請求項1~11のいずれか一項に記載の導電性フィルムを具備する、電子装置。
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