JP2008210555A - 光学素子 - Google Patents
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Abstract
【課題】白色光を入射させた際の色ムラや白色光または単色光を入射させたときの輝度ムラの発生を抑制した光学素子を提供すること。
【解決手段】基板2と、基板2の出射面2aに設けられた複数の柱状体3とを有し、柱状体3は、ハニカム格子状に配置されていると共に、突出方向に対して垂直な面での断面における最大内接円の直径Rが使用波長の0.1倍以上3倍以下、高さHが直径Rの0.5倍以上5倍以下、隣接する他の柱状体3との中心間隔Pが直径Rの0.5倍以上5倍以下である。
【選択図】図1
【解決手段】基板2と、基板2の出射面2aに設けられた複数の柱状体3とを有し、柱状体3は、ハニカム格子状に配置されていると共に、突出方向に対して垂直な面での断面における最大内接円の直径Rが使用波長の0.1倍以上3倍以下、高さHが直径Rの0.5倍以上5倍以下、隣接する他の柱状体3との中心間隔Pが直径Rの0.5倍以上5倍以下である。
【選択図】図1
Description
本発明は、例えばフォトニック構造を有する光学素子に関する。
フォトニック結晶は、光の波長領域において周期的に屈折率が変化する構造体である。そして、このフォトニック結晶を例えば発光ダイオードのような発光体の発光面に設けることで、発光体で発生した光の取出効率の向上を図ることが提案されている(例えば、特許文献1参照)。ここで、フォトニック結晶は、発光面において格子状に配置された複数の円柱体で構成されており、互いに屈折率が異なる2つの物質である円柱体と空気層とが所定の間隔で規則的に配置された構造となっている。このため、発光面に対して臨界屈折角よりも大きい法線角度で発光面から出射する光が周期的に形成された円柱体と空気層とによる回折により、出射方向を臨界屈折角よりも小さくすることが可能となる。これにより、フォトニック結晶に入射した光は、円柱体により発光面に対してほぼ垂直な方向に回折する。したがって、発光面において全反射される光の割合が小さくなり、光の取出効率が向上する。
ところで、携帯電話機などの電子機器の表示部には、液晶表示装置が用いられている。この液晶表示装置には、通常、表示の視認性を高めるためのバックライトユニットが設けられている。このバックライトユニットは、光源からの照明光を内部で導光させた後、液晶パネルに向けて出射させる導光板を備えている。
そこで、このような導光板において、照明光の取出効率を向上させるため、出射面に上述したフォトニック結晶を設けることが考えられる。
特開2006−49855号公報
そこで、このような導光板において、照明光の取出効率を向上させるため、出射面に上述したフォトニック結晶を設けることが考えられる。
しかしながら、上記従来の光学素子においても、以下の課題が残されている。すなわち、円柱体を千鳥格子状に配置したフォトニック構造では、このフォトニック構造を経て出射する光の回折が顕著に現れる。このため、回折角度のフォトニック構造に入射する光の波長依存性が大きくなる。したがって、フォトニック構造に白色光を入射させた場合には分光(色ムラ)が発生し、また白色光または単色光を入射させた場合には出射角度に応じて輝度が大きく変化する(輝度ムラ)が発生するという問題がある。
本発明は、上記従来の問題に鑑みてなされたもので、白色光を入射させた際の色ムラや白色光または単色光を入射させたときの輝度ムラの発生を抑制した光学素子を提供することを目的とする。
本発明は、前記課題を解決するために以下の構成を採用した。すなわち、本発明にかかる光学素子は、基板と、該基板の一面に設けられた複数の柱状体とを有し、内部に光を導通させる光学素子であって、前記柱状体は、ハニカム格子状に配置されていると共に、突出方向に対して垂直な面での断面における最大内接円の直径が使用波長の0.1倍以上3倍以下、高さが前記直径の0.5倍以上5倍以下、隣接する他の柱状体との中心間隔が前記直径の0.5倍以上5倍以下であることを特徴とする。
この発明では、柱状体をハニカム格子状に配置することで柱状体及び柱状体の間の空気層による光の回折を低減し、白色光を入射させた際の色ムラや白色光または単色光を入射させたときの輝度ムラを軽減できる。すなわち、ハニカム格子状に配置された柱状体は、千鳥格子状に配置された柱状体の一部を周期的に取り除いた構造となっている。そのため、光の回折が、千鳥格子状に柱状体を配置した場合と比較して、柱状体を周期的に取り除いたことで弱くなる。したがって、使用波長における回折角度の波長依存性が小さくなり、色ムラや輝度ムラを低減できる。また、円柱体をハニカム格子状で均一に配置することで、基板の一面からの出射光の光量バラツキを抑制できる。
ここで、柱状体の断面における最大内接円の直径を使用波長の0.1倍以上3倍以下とすることにより、複数の柱状体及び空気層によって光を回折させて光学素子内を導光する光を効率よく取り出すことができる。また、高さを最大内接円の直径の0.5倍以上5倍以下とすることによっても、高い光の取出効率が得られる。そして、柱状体のピッチを最大内接円の直径の0.5倍以上5倍以下とすることにより、使用波長の光を確実に回折させることができる。
なお、隣接する2つの柱状体の一部が互いに重なっていてもよい。
ここで、柱状体の断面における最大内接円の直径を使用波長の0.1倍以上3倍以下とすることにより、複数の柱状体及び空気層によって光を回折させて光学素子内を導光する光を効率よく取り出すことができる。また、高さを最大内接円の直径の0.5倍以上5倍以下とすることによっても、高い光の取出効率が得られる。そして、柱状体のピッチを最大内接円の直径の0.5倍以上5倍以下とすることにより、使用波長の光を確実に回折させることができる。
なお、隣接する2つの柱状体の一部が互いに重なっていてもよい。
また、本発明における光学素子は、前記柱状体が、円柱形状を有することとしてもよい。
この発明では、基板の一面に複数の円柱体を形成することでフォトニック結晶を構成する。
この発明では、基板の一面に複数の円柱体を形成することでフォトニック結晶を構成する。
また、本発明における光学素子は、前記柱状体の前記使用波長における屈折率が、1.4以上であることが好ましい。
この発明では、柱状体と空気層との屈折率差を十分に確保することで、複数の柱状体及び空気層による光の回折をより確実に発生させて光の取出効率をより高くすることができる。
この発明では、柱状体と空気層との屈折率差を十分に確保することで、複数の柱状体及び空気層による光の回折をより確実に発生させて光の取出効率をより高くすることができる。
以下、本発明における光学素子の一実施形態を、図面を用いて説明する。なお、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能な大きさとするために縮尺を適宜変更している。ここで、図1は、導光板を示すもので(a)が平面図、(b)が(a)のA−A矢視断面図である。
[導光板]
本実施形態における光学素子は、例えば液晶表示装置のバックライトユニットに設けられる導光板(光学素子)1であって、図1に示すように、基板2と、基板2と一体的に形成されて基板2の一面から突出して形成された複数の円柱体(柱状体)3とを備えている。また、導光板1は、その一側面(図示略)が後述する光源56から照射された照明光が入射する入射面となっており、円柱体3が形成された一面が出射面2aとなっている。
本実施形態における光学素子は、例えば液晶表示装置のバックライトユニットに設けられる導光板(光学素子)1であって、図1に示すように、基板2と、基板2と一体的に形成されて基板2の一面から突出して形成された複数の円柱体(柱状体)3とを備えている。また、導光板1は、その一側面(図示略)が後述する光源56から照射された照明光が入射する入射面となっており、円柱体3が形成された一面が出射面2aとなっている。
そして、導光板1は、例えば使用する波長領域において透光性を有する樹脂材料で構成されている。
ここで、導光板1を構成する樹脂材料としては、例えば、ポリエチレンやポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)などのポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド(例えばナイロン6、ナイロン46、ナイロン66、ナイロン610、ナイロン612、ナイロン11、ナイロン12、ナイロン6−12、ナイロン6−66)、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート(PC)、ポリ−(4−メチルペンテン−1)、アイオノマー、アクリル系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体(ABS樹脂)、アクリロニトリル−スチレン共重合体(AS樹脂)、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール(PVA)、エチレン−ビニルアルコール共重合体(EVOH)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリシクロヘキサンテレフタレート(PCT)などのポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン(PEK)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリエーテルイミド、ポリアセタール(POM)、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル(液晶ポリマー)、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系などの各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂など、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイなどが挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて(例えば、ブレンド樹脂、ポリマーアロイ、積層体などとして)用いることができる。
なお、導光板1は、使用する波長領域において透光性を示せば、樹脂材料に限らず、他の材料で構成されてもよい。
ここで、導光板1を構成する樹脂材料としては、例えば、ポリエチレンやポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)などのポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド(例えばナイロン6、ナイロン46、ナイロン66、ナイロン610、ナイロン612、ナイロン11、ナイロン12、ナイロン6−12、ナイロン6−66)、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート(PC)、ポリ−(4−メチルペンテン−1)、アイオノマー、アクリル系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体(ABS樹脂)、アクリロニトリル−スチレン共重合体(AS樹脂)、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール(PVA)、エチレン−ビニルアルコール共重合体(EVOH)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリシクロヘキサンテレフタレート(PCT)などのポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン(PEK)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリエーテルイミド、ポリアセタール(POM)、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル(液晶ポリマー)、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系などの各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂など、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイなどが挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて(例えば、ブレンド樹脂、ポリマーアロイ、積層体などとして)用いることができる。
なお、導光板1は、使用する波長領域において透光性を示せば、樹脂材料に限らず、他の材料で構成されてもよい。
また、導光板1の透過率は、使用する光の波長領域において、85%以上であることが好ましく、90%以上であることがより好ましい。これにより、導光板1に入射した光の取出効率の向上を図る。
そして、導光板1は、その屈折率が使用する波長領域において1.4以上となっている。ここで、屈折率は、1.4以上1.7以下であることが好ましい。これにより、導光板1に入射した光の利用効率をさらに向上させることができると共に、出射する光に高い指向性を持たせることができる。また、導光板1の周辺環境の気温や湿度などによりフォトニック結晶としての機能が十分に発揮されないことを防止できる。
そして、導光板1は、その屈折率が使用する波長領域において1.4以上となっている。ここで、屈折率は、1.4以上1.7以下であることが好ましい。これにより、導光板1に入射した光の利用効率をさらに向上させることができると共に、出射する光に高い指向性を持たせることができる。また、導光板1の周辺環境の気温や湿度などによりフォトニック結晶としての機能が十分に発揮されないことを防止できる。
基板2は、ほぼ板形状を有しており、出射面2aとは反対側の面に複数の溝部4が形成されている。
この溝部4は、入射面とほぼ平行となるように形成されており、断面がほぼV字状となっている。また、溝部4は、入射面に向かって傾斜した傾斜面4aを有している。ここで、傾斜面4aの傾斜角度θは、出射面2aの法線方向に対して90°未満であることが好ましく、60°から85°であることがより好ましい。これにより、入射した光を円柱体3に向けて効率よく導くことができる。
そして、溝部4は、光源56から離間するにしたがって、その幅が小さくなっている。ここで、溝部4の幅Wは、例えば50μmから200μmであることが好ましい。また、溝部4の深さDは、0.5μmから10μmであることが好ましく、0.5μmから5μmであることがより好ましい。これにより、入射した光を円柱体3に向けて効率よく導くことができる。
この溝部4は、入射面とほぼ平行となるように形成されており、断面がほぼV字状となっている。また、溝部4は、入射面に向かって傾斜した傾斜面4aを有している。ここで、傾斜面4aの傾斜角度θは、出射面2aの法線方向に対して90°未満であることが好ましく、60°から85°であることがより好ましい。これにより、入射した光を円柱体3に向けて効率よく導くことができる。
そして、溝部4は、光源56から離間するにしたがって、その幅が小さくなっている。ここで、溝部4の幅Wは、例えば50μmから200μmであることが好ましい。また、溝部4の深さDは、0.5μmから10μmであることが好ましく、0.5μmから5μmであることがより好ましい。これにより、入射した光を円柱体3に向けて効率よく導くことができる。
円柱体3は、基板2の一面に規則的に配列されている。すなわち、円柱体3は、基板2の一面にハニカム格子状に配置されている。
また、円柱体3の直径Rは、使用する波長の0.1倍以上3倍以下となっている。ここで、使用する波長領域は、可視光領域である380nm以上780nm以下となっている。したがって、円柱体3の直径は、使用する波長領域のすべての波長において0.1倍以上3倍以下である、78nm以上1.14μm以下の範囲内となっている。
そして、円柱体3の高さHは、円柱体3の直径の0.5倍以上5倍以下となっている。さらに、隣接する他の円柱体3の中心との間隔であるピッチ(中心間隔)Pは、円柱体3の直径の0.5倍以上5倍以下となっている。
また、円柱体3の直径Rは、使用する波長の0.1倍以上3倍以下となっている。ここで、使用する波長領域は、可視光領域である380nm以上780nm以下となっている。したがって、円柱体3の直径は、使用する波長領域のすべての波長において0.1倍以上3倍以下である、78nm以上1.14μm以下の範囲内となっている。
そして、円柱体3の高さHは、円柱体3の直径の0.5倍以上5倍以下となっている。さらに、隣接する他の円柱体3の中心との間隔であるピッチ(中心間隔)Pは、円柱体3の直径の0.5倍以上5倍以下となっている。
[導光板の製造方法]
次に、以上のような構成の導光板1の製造方法について、図2から図4を参照しながら説明する。ここで、図2から図4は、導光板1の製造方法を示す工程図である。
まず、例えばSi(シリコン)などで構成された基材11上にレジスト層12を形成し(図2(a))、フォトリソグラフィ技術などにより円柱体3と同様の形状、配置を有する凸部13を形成する(図2(b))。
そして、凸部13が形成されたレジスト層12の表面に導電膜14を形成する(図2(c))。ここで、導電膜14を構成する導電材料としては、例えばNi(ニッケル)やAl(アルミニウム)、Cu(銅)、Fe(鉄)、Zn(亜鉛)、Ag(銀)など及びこれらの合金などが挙げられる。また、導電膜14の形成方法としては、例えば蒸着法やイオンプレーティング法、スパッタ法などの気相成長法、電解メッキや無電解メッキなどの湿式メッキ法などが挙げられる。
次に、以上のような構成の導光板1の製造方法について、図2から図4を参照しながら説明する。ここで、図2から図4は、導光板1の製造方法を示す工程図である。
まず、例えばSi(シリコン)などで構成された基材11上にレジスト層12を形成し(図2(a))、フォトリソグラフィ技術などにより円柱体3と同様の形状、配置を有する凸部13を形成する(図2(b))。
そして、凸部13が形成されたレジスト層12の表面に導電膜14を形成する(図2(c))。ここで、導電膜14を構成する導電材料としては、例えばNi(ニッケル)やAl(アルミニウム)、Cu(銅)、Fe(鉄)、Zn(亜鉛)、Ag(銀)など及びこれらの合金などが挙げられる。また、導電膜14の形成方法としては、例えば蒸着法やイオンプレーティング法、スパッタ法などの気相成長法、電解メッキや無電解メッキなどの湿式メッキ法などが挙げられる。
次に、導電膜14の表面に、電鋳法を用いて金属(電鋳金属)を電着させ、導電膜14上に電鋳金属層15を形成する(図2(d))。ここで、電鋳金属層15を構成する金属材料としては、例えばNi、Cu、Fe、Ag、Au(金)などが挙げられる。これにより、凸部13の形状が精密に転写される。
その後、基材11及びレジスト層12を除去することで、凸部13と対応する凹部16を有する第1型部材17を形成する(図2(e))。
その後、基材11及びレジスト層12を除去することで、凸部13と対応する凹部16を有する第1型部材17を形成する(図2(e))。
また、例えばSiなどで構成された基材21上にレジスト層22を形成し(図3(a))、上述と同様に、フォトリソグラフィ技術などにより溝部4と同様の形状、配置を有する凸部23を形成する(図3(b))。そして、凸部23が形成されたレジスト層22の表面に導電膜24を形成し(図3(c))、さらに電鋳金属層25を形成した後(図3(d))、基材21及びレジスト層22を除去することで、第2型部材27を形成する(図3(e))。
続いて、第1及び第2型部材17、27を、それぞれの凹部16、26が対向するようにして射出成形機に設置する(図4(a))。そして、第1及び第2型部材17、27の間に加熱により軟化した樹脂材料30を射出し、これを冷却硬化させる(図4(b))。その後、第1及び第2型部材17、27を離間させる。以上のようにして、図1に示すような導光板1を製造する。
[液晶表示装置]
以上のような構成の導光板1は、例えば図5に示すような液晶表示装置50に用いられる。ここで、図5は、液晶表示装置を示す概略断面図である。
この液晶表示装置50は、図5に示すように、素子基板51と、素子基板51に対向配置された対向基板52と、素子基板51及び対向基板52の間に配置された液晶層53と、素子基板51の外側(液晶層53から離間する側)に配置されたバックライトユニット54とを備えている。そして、液晶表示装置50は、素子基板51と対向基板52とをシール材55で貼り合わせており、このシール材55によって液晶層53が素子基板51と対向基板52との間で封止されている。
以上のような構成の導光板1は、例えば図5に示すような液晶表示装置50に用いられる。ここで、図5は、液晶表示装置を示す概略断面図である。
この液晶表示装置50は、図5に示すように、素子基板51と、素子基板51に対向配置された対向基板52と、素子基板51及び対向基板52の間に配置された液晶層53と、素子基板51の外側(液晶層53から離間する側)に配置されたバックライトユニット54とを備えている。そして、液晶表示装置50は、素子基板51と対向基板52とをシール材55で貼り合わせており、このシール材55によって液晶層53が素子基板51と対向基板52との間で封止されている。
素子基板51は、平面視でほぼ矩形状であってガラス基板を基体としており、このガラス基板上に種々の金属膜や絶縁膜、半導体層、不純物層などが形成されている。そして、素子基板51には、フォトリソグラフィ技術やインクジェット法などの所定の手法を用いてガラス基板上に形成された画素電極、薄膜トランジスタ(TFT:Thin Film Transistor)及び蓄積コンデンサなどを含む画素部分と、画素に電気信号などを供給する配線部分とを備えている。さらに、素子基板51の内側の面(液晶層53側の面)には、液晶層53を構成する液晶分子の配向を制御する配向膜が形成されている。
対向基板52は、素子基板51と同様に、平面視でほぼ矩形状であってガラス基板を基体としており、このガラス基板上にブラックマトリックスやカラーフィルタ層、保護膜及び電極などが形成されている。また、対向基板52の内側の面には、配向膜が形成されている。この配向膜は、液晶分子の配向方向が素子基板51に形成された配向膜による配向方向と直交するように形成されている。
バックライトユニット54は、上述した導光板1と、導光板1に向けて照明光を照射する光源56と、光を導光板1に向けて反射する反射板57とを備えている。
光源56は、例えば白色LEDなどの発光素子を備えており、照明光を導光板1の入射面に向けて照射する構成となっている。
反射板57は、導光板1の外側(出射面2aから離間する側)に配置されており、導光板1の溝部4において反射されずに透過した光を導光板1に向けて反射する構成となっている。
光源56は、例えば白色LEDなどの発光素子を備えており、照明光を導光板1の入射面に向けて照射する構成となっている。
反射板57は、導光板1の外側(出射面2aから離間する側)に配置されており、導光板1の溝部4において反射されずに透過した光を導光板1に向けて反射する構成となっている。
以上のような構成の液晶表示装置50では、光源56から出射した照明光が導光板1の入射面から導光板1内に入射する。そして、導光板1に入射した光は、溝部4において円柱体3が形成された出射面2aに向けて反射される。このとき、斜面部4aの傾斜角度θを出射面2aの法線方向に対して60°から85°とすることで、光源56から入射した光が出射面2aに向けて効率よく導かれる。また、溝部4の幅を光源56から離間するにしたがって狭くすることで、出射面2aに向けて光が均一に導かれる。そして、溝部4において導光板1から出射した光は、反射板57により反射されて導光板1に再入射する。
その後、出射面2aに向けて反射された光は、複数の円柱体3により出射面2aに対してほぼ垂直な方向に回折され、出射面2aから出射する。このとき、円柱体3をハニカム格子状に配置しているので、使用する波長領域における色ムラや輝度ムラが低減される。また、円柱体3の直径を使用する波長領域のすべての波長において0.1倍以上3倍以下である78nm以上1.14μm以下、高さを直径の0.5倍以上5倍以下、ピッチを直径の0.5倍以上5倍以下とすることで、使用波長領域において光の回折が発生する。
[電子機器]
そして、上述した液晶表示装置50は、例えば図6に示すような携帯電話機100の表示部101として用いられる。ここで、図6は、携帯電話機を示す斜視図である。
この携帯電話機100は、表示部101、複数の操作ボタン102、受話口103、送話口104及び上記表示部101を有する本体部を備えている。
そして、上述した液晶表示装置50は、例えば図6に示すような携帯電話機100の表示部101として用いられる。ここで、図6は、携帯電話機を示す斜視図である。
この携帯電話機100は、表示部101、複数の操作ボタン102、受話口103、送話口104及び上記表示部101を有する本体部を備えている。
以上のような構成の導光板1によれば、円柱体3をハニカム格子状に配置することで、使用波長領域における回折角度の波長依存性が小さくなり、使用波長領域における色ムラや輝度ムラの発生が抑制される。また、円柱体3の直径を使用する波長領域のすべての波長において0.1倍以上3倍以下である78nm以上1.14μm以下、高さを直径の0.5倍以上5倍以下、ピッチを直径の0.5倍以上5倍以下とすることで、使用波長領域において光の回折を発生させることができる。
そして、円柱体3の屈折率を1.4以上として空気層との屈折率差を十分に確保することで、複数の円柱体3による光の回折を確実に行って光の取出効率を向上させることができる。
そして、円柱体3の屈折率を1.4以上として空気層との屈折率差を十分に確保することで、複数の円柱体3による光の回折を確実に行って光の取出効率を向上させることができる。
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
例えば、基板及び円柱体の屈折率を1.4以上としているが、複数の円柱体によって光を回折させることができれば、1.4未満であってもよい。
また、柱状体を円柱形状としているが、四角柱のような角柱など、他の形状であってもよい。
例えば、基板及び円柱体の屈折率を1.4以上としているが、複数の円柱体によって光を回折させることができれば、1.4未満であってもよい。
また、柱状体を円柱形状としているが、四角柱のような角柱など、他の形状であってもよい。
また、上記実施形態では2つの型部材の間に樹脂を充填することによって導光板を形成しているが、例えば以下の製造方法など、他の製造方法であってもよい。ここで、図7は他の導光板の製造方法を示す工程図である。
まず、上述と同様に第1及び第2型部材17、27を形成する。そして、板状の樹脂基板110の一面に加熱した第2型部材27を押圧することで、第2型部材27の凹部26の形状が樹脂基板110に熱転写する(図7(a))。これにより、樹脂基板110の一面に溝部4が形成される。
次に、樹脂基板110の他方の面と第1型部材17の凹部16とを間隙をあけて対向配置する。そして、樹脂基板110と第1型部材17との間に樹脂111を注入し、第1型部材17及び樹脂基板110によって樹脂111を押圧した状態で紫外線照射や加熱により樹脂111を硬化させる(図7(b))。これにより、第1型部材17の凹部16の形状が樹脂111に転写され、硬化した樹脂111により円柱体3が形成される。
ここで、樹脂111の屈折率は、樹脂基板110の屈折率と同等であることが好ましい。これにより、樹脂基板110と硬化した樹脂111との間の界面における光の反射を防止できる。以上のようにして、導光板1を製造する。
また、型部材を用いず、例えば石英などで構成された基板にフォトリソグラフィ技術などを用いて円柱体や溝部を直接形成することで、導光板を製造してもよい。
まず、上述と同様に第1及び第2型部材17、27を形成する。そして、板状の樹脂基板110の一面に加熱した第2型部材27を押圧することで、第2型部材27の凹部26の形状が樹脂基板110に熱転写する(図7(a))。これにより、樹脂基板110の一面に溝部4が形成される。
次に、樹脂基板110の他方の面と第1型部材17の凹部16とを間隙をあけて対向配置する。そして、樹脂基板110と第1型部材17との間に樹脂111を注入し、第1型部材17及び樹脂基板110によって樹脂111を押圧した状態で紫外線照射や加熱により樹脂111を硬化させる(図7(b))。これにより、第1型部材17の凹部16の形状が樹脂111に転写され、硬化した樹脂111により円柱体3が形成される。
ここで、樹脂111の屈折率は、樹脂基板110の屈折率と同等であることが好ましい。これにより、樹脂基板110と硬化した樹脂111との間の界面における光の反射を防止できる。以上のようにして、導光板1を製造する。
また、型部材を用いず、例えば石英などで構成された基板にフォトリソグラフィ技術などを用いて円柱体や溝部を直接形成することで、導光板を製造してもよい。
また、基板の出射面と反対側の面に断面ほぼV字状の溝部を形成しているが、入射した光を円柱体に向けて効率よく導くことができれば、他の形状であってもよい。このとき、例えば図8(a)に示す導光板120のように、基板2の出射面2aと反対側の面にほぼ半球状である複数の凸部121を平面状に分散して設けてもよい。この凸部121は、その直径が例えば20μm以上200μm以下程度となっており、ドットパターンまたはMLA(マイクロレンズアレイ)を構成している。このように、複数の凸部121を設けることで、出射面2aと反対側の面において凸部121を2次元で配置することが可能となる。これにより、溝部4を形成する場合と比較して設計の自由度が向上し、より均一に光を散乱させることができる。ここで、凸部121は、入射した光を円柱体3に向けて効率よく導くことができれば、レンズとして機能する必要はない。
そして、凸部121に限らず、図8(b)に示す導光板130のように、ほぼ半球状の凹部131を設けてもよい。このように凹部131を形成しても、上述と同様の作用、効果を奏する。
そして、凸部121に限らず、図8(b)に示す導光板130のように、ほぼ半球状の凹部131を設けてもよい。このように凹部131を形成しても、上述と同様の作用、効果を奏する。
また、導光板が光源から出射した照明光を側面から入射させる構成となっているが、出射面とは反対側の面から照明光を入射させる構成としてもよい。この場合は、基板に溝部を形成する必要がなくなる。
また、光学素子が、バックライトユニットの導光板として設けられているが、導光板に限らず、有機EL装置やLEDなどの発光素子の出射面に直接設けられてもよい。
また、光学素子が、バックライトユニットの導光板として設けられているが、導光板に限らず、有機EL装置やLEDなどの発光素子の出射面に直接設けられてもよい。
1,120,130 導光板、2 基板、2a 出射面(一面)、3 円柱体(柱状体)、H 高さ、P ピッチ(中心間隔)、R 直径
Claims (3)
- 基板と、該基板の一面に設けられた複数の柱状体とを有し、内部に光を導通させる光学素子であって、
前記柱状体は、ハニカム格子状に配置されていると共に、突出方向に対して垂直な面での断面における最大内接円の直径が使用波長の0.1倍以上3倍以下、高さが前記直径の0.5倍以上5倍以下、隣接する他の前記柱状体との中心間隔が前記直径の0.5倍以上5倍以下であることを特徴とする光学素子。 - 前記柱状体が、円柱状であることを特徴とする請求項1に記載の光学素子。
- 前記柱状体の前記使用波長における屈折率が、1.4以上であることを特徴とする請求項1または2に記載の光学素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007043906A JP2008210555A (ja) | 2007-02-23 | 2007-02-23 | 光学素子 |
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JP (1) | JP2008210555A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010021275A1 (ja) | 2008-08-19 | 2010-02-25 | 日立化成工業株式会社 | 調光フィルム |
JP2016156971A (ja) * | 2015-02-25 | 2016-09-01 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 | トポロジカルフォトニック結晶 |
-
2007
- 2007-02-23 JP JP2007043906A patent/JP2008210555A/ja not_active Withdrawn
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WO2010021275A1 (ja) | 2008-08-19 | 2010-02-25 | 日立化成工業株式会社 | 調光フィルム |
JP2016156971A (ja) * | 2015-02-25 | 2016-09-01 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 | トポロジカルフォトニック結晶 |
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A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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