JP6719851B2 - 透明発光ディスプレイフィルム、透明発光ディスプレイフィルムの製造方法、及び透明発光ディスプレイフィルムを用いた透明発光サイネージ - Google Patents
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Description
図3A(c)に示すように、透明基板上に形成したレジン層に、電極パターン溝121を形成する。
110:透明基板
120:レジン層
121:電極パターン溝
122:貫通ホール
130:メタルメッシュ電極(透明電極)
140、440:発光素子
141、442:発光素子電極
150:電極接続部(接続部)
160:第1保護層
170:第2保護層
210:レンズ部
220:散乱部
441:ウィング
Claims (21)
- フィルム形状の透明基板と、
前記透明基板の一面に形成された、第一透明電極と第二透明電極とを含む所定のパターンの透明電極と、
前記透明基板の前記一面に垂直な方向に前記透明基板を貫通するように形成した貫通ホールと、
第一素子電極と第二素子電極とが設けられた面が前記透明基板の前記一面と同一平面を形成するように前記貫通ホール内に装着されており、前記透明基板の前記一面に垂直な方向に光を放出する発光素子と、
前記第一透明電極と、前記発光素子の前記第一素子電極とを電気的に接続する第一接続部と、
前記第二透明電極と、前記発光素子の前記第二素子電極とを電気的に接続する第二接続部と、
を備える、
透明発光ディスプレイフィルム。 - 前記第一透明電極と前記第二透明電極とは、ITO、IZO、IZTO、及びZnOを含む金属酸化物薄膜形態の透明電極、CNT、シルバーナノワイヤ、シルバーナノファイバー、及びグラフェンを含む2次元または3次元構造のナノ物質コーティング形態の透明電極、金、銀、及び銅を含む金属または合金でできたナノまたはマイクロ線幅を有するメタルメッシュ形態の透明電極、またはこれらの組合せでできた透明電極を含む、
請求項1に記載の透明発光ディスプレイフィルム。 - 前記透明基板の厚さは0.3mm以下である、
請求項1または2に記載の透明発光ディスプレイフィルム。 - 前記透明基板の厚さは0.25mm以下である、
請求項1または2に記載の透明発光ディスプレイフィルム。 - 前記透明基板の厚さは0.188mm以下である、
請求項1または2に記載の透明発光ディスプレイフィルム。 - 前記透明基板の前記一面に形成され、前記透明基板の前記一面、前記第一透明電極、前記第二透明電極、及び前記発光素子の一面を覆う第1保護層をさらに備える、
請求項1ないし5の何れか一項に記載の透明発光ディスプレイフィルム。 - 前記透明基板の前記一面の反対側の他面に形成され、前記透明基板の前記他面及び前記発光素子の他面を覆う第2保護層をさらに備える、
請求項1ないし6の何れか一項に記載の透明発光ディスプレイフィルム。 - 前記発光素子から光が放出される領域にレンズ部または散乱部をさらに備える、
請求項1ないし7の何れか一項に記載の透明発光ディスプレイフィルム。 - 前記発光素子は、前記貫通ホール内の中心部付近に装着され、
前記第一接続部は、前記第一透明電極と前記発光素子の前記第一素子電極とをダイレクトに電気的に接続し、
前記第二接続部は、前記第二透明電極と前記発光素子の前記第二素子電極とをダイレクトに電気的に接続する、
請求項1ないし8の何れか一項に記載の透明発光ディスプレイフィルム。 - 前記貫通ホールは、前記発光素子が略内接する大きさを有し、
前記発光素子は、少なくとも一部の外周面が前記貫通ホールの内壁に近接して囲まれるように前記貫通ホール内に装着される、
請求項1ないし8の何れか一項に記載の透明発光ディスプレイフィルム。 - フィルム形態の透明基板の一面にレジン層を塗布する工程と、
前記レジン層に電極パターン溝を形成する工程と、
前記電極パターン溝に第一透明電極と第二透明電極とを形成する工程と、
前記第一透明電極と前記第二透明電極とが形成された前記透明基板の発光素子が装着される位置に前記透明基板の前記一面に垂直な方向に前記透明基板及び前記レジン層を貫通するように貫通ホールを形成する工程と、
前記貫通ホールに、第一素子電極と第二素子電極とが設けられた面が前記透明基板の前記一面と同一平面を形成するように、前記透明基板の前記一面に垂直な方向に光を放出する前記発光素子を挿入する工程と、
前記第一透明電極と、前記発光素子の前記第一素子電極とを電気的に接続する第一接続工程と、
前記第二透明電極と、前記発光素子の前記第二素子電極とを電気的に接続する第二接続工程と、
を備える、
透明発光ディスプレイフィルムの製造方法。 - 前記第一透明電極と前記第二透明電極とは、ITO、IZO、IZTO、及びZnOを含む金属酸化物薄膜形態の透明電極、CNT、シルバーナノワイヤ、シルバーナノファイバー、及びグラフェンを含む2次元または3次元構造のナノ物質コーティング形態の透明電極、金、銀、及び銅を含む金属または合金でできたナノまたはマイクロ線幅を有するメタルメッシュ形態の透明電極、またはこれらの組合せでできた透明電極を含む、
請求項11に記載の透明発光ディスプレイフィルムの製造方法。 - 前記透明基板の厚さは0.3mm以下である、
請求項11または12に記載の透明発光ディスプレイフィルムの製造方法。 - 前記透明基板の厚さは0.25mm以下である、
請求項11または12に記載の透明発光ディスプレイフィルムの製造方法。 - 前記透明基板の厚さは0.188mm以下である、
請求項11または12に記載の透明発光ディスプレイフィルムの製造方法。 - 前記透明基板の前記一面に、前記透明基板の前記一面、前記第一透明電極、前記第二透明電極及び前記発光素子の一面を覆う第1保護層を形成する工程をさらに備える、
請求項11ないし15の何れか一項に記載の透明発光ディスプレイフィルムの製造方法。 - 前記透明基板の前記一面の反対側の他面に、前記透明基板の前記他面及び前記発光素子の他面を覆う第2保護層を形成する工程をさらに備える、
請求項11ないし16の何れか一項に記載の透明発光ディスプレイフィルムの製造方法。 - 前記発光素子から光が放出される領域にレンズ部または散乱部を形成する工程をさらに備える、
請求項11ないし17の何れか一項に記載の透明発光ディスプレイフィルムの製造方法。 - 前記発光素子を挿入する工程において、前記貫通ホール内の中心部付近に前記発光素子を挿入し、
前記第一接続工程において、前記第一透明電極と前記発光素子の前記第一素子電極とをダイレクトに電気的に接続し、
前記第二接続工程において、前記第二透明電極と前記発光素子の前記第二素子電極とをダイレクトに電気的に接続する、
請求項11ないし18の何れか一項に記載の透明発光ディスプレイフィルムの製造方法。 - 前記貫通ホールを形成する工程は、前記貫通ホールを、前記発光素子が略内接する大きさで形成する工程を含み、
前記発光素子を挿入する工程は、前記発光素子を、少なくとも一部の外周面が前記貫通ホールの内壁に近接して囲まれるように前記貫通ホール内に装着する工程を含む、
請求項11ないし18の何れか一項に記載の透明発光ディスプレイフィルムの製造方法。 - 請求項1ないし10の何れか一項に記載の透明発光ディスプレイフィルムを備える、
透明発光サイネージ。
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