WO2022054547A1

WO2022054547A1 - ヨウ素含有化合物の製造方法及びヨウ素含有化合物

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Publication number: WO2022054547A1
Application number: PCT/JP2021/030686
Authority: WO
Inventors: 俊渡貫
Original assignee: Ａｇｃ株式会社
Priority date: 2020-09-09
Filing date: 2021-08-20
Publication date: 2022-03-17
Also published as: EP4212553A1; CN116171287A; US20230203215A1; JPWO2022054547A1; CN116171287B

Abstract

ヨウ素含有化合物の製造方法は、式（２１）又は式（２２）の化合物の存在下、含ハロゲン有機ヨウ化化合物と、反応性炭素－炭素二重結合を有する化合物と、を反応させることを含む。式（２１）中、Ｒ^２１は水素原子、ヨウ素原子、又は炭素数１～２０の有機基を表し、Ｒ^２２は水素原子、ヨウ素原子、炭素数１～２０の有機基、又はホウ素含有基を表し、Ａ^１は水素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を表す。式（２２）中、Ｒ^２３及びＲ^２４は水素原子、ヨウ素原子、又は炭素数１～２０の有機基を表し、Ｒ^２５は水素原子、ヨウ素原子、炭素数１～２０の有機基、又はケイ素含有基を表し、Ａ^２は水素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を表す。

Description

ヨウ素含有化合物の製造方法及びヨウ素含有化合物

　本開示は、ヨウ素含有化合物の製造方法及びヨウ素含有化合物に関する。

　ラジカル重合反応は、モノマー汎用性に優れ、水などの極性媒体中でも簡便に行えるため、工業的に広く用いられている。しかしながら、一般的なラジカル重合法による分子量の制御は限定的で、得られる重合体の分子量分布が広くなりやすい。

　一方、リビングラジカル重合法は、分子量が制御された、分子量分布の狭い重合体が得られる重合法として注目され、種々の重合制御剤が開発されている。リビングラジカル重合法は、成長ラジカルを可逆的にドーマント種である保護基で保護することによって、ラジカル重合速度を制御し、これにより分子量分布の制御を可能にする重合法である。また、リビングラジカル重合法によれば、得られた重合体を重合開始剤又は連鎖移動剤として利用して、異なる化合物をラジカル反応により付加させることも可能となる。

　特許文献１には、特定の有機テルル化合物の存在下で特定のハロオレフィンをラジカル重合し、ハロオレフィン重合体又は共重合体を製造するリビングラジカル重合法が記載されている。この方法は、ＴＥＲＰ（organo tellurium mediated living radical polymerization；有機テルル化合物を用いるリビングラジカル重合法）法と呼ばれている。

　特許文献２には、リビングラジカル重合法の１つであるＲＡＦＴ（reversible addition fragmentation chain transfer；可逆的付加開裂連鎖移動重合）法によってフッ素含有モノマーを乳化重合させて重合体を製造する方法が開示されている。ＲＡＦＴ法は、ＲＡＦＴ剤と呼ばれる特定の連鎖移動剤の存在下で、可逆的な連鎖移動反応によって重合を行うことによって、分子量分布の制御を可能にする。

　また、リビングラジカル重合法のさらなる一形態として、ＩＴＰ（iodine transfer polymerization；ヨウ素移動重合）法が知られている。ＩＴＰ法は、連鎖移動剤として有機ヨウ化化合物を用いた重合法であり、フッ素系モノマーにも適用可能である点で有用である。

国際公開第２０１８／１６４１４７号国際公開第２０１５／１７３１９３号

　連鎖移動剤又は重合開始剤として有機ヨウ化化合物を用いる場合、この有機ヨウ化化合物を起点としてさらなるラジカル反応を進行させて伸長物を得るためには、末端のＣ－Ｉ結合におけるヨウ素が引き抜かれる必要がある。しかながら、フッ素原子又は塩素原子がＣ－Ｉ結合の炭素に直接結合している化合物（本開示において、便宜的に「含ハロゲン有機ヨウ化化合物」ともいう）を用いる場合、ヨウ素の引き抜きを適切な割合で発生させることは困難である。そのため、かかる含ハロゲン有機ヨウ化化合物を用いる場合、従来の方法では含ハロゲン有機ヨウ化化合物からの伸長物を得にくく、かつ十分な制御性が得られにくいという問題があった。

　上記事情に鑑みて、本開示は、フッ素原子又は塩素原子を含む含ハロゲン有機ヨウ化化合物を伸長させて、分子量分布の制御された伸長物を得ることが可能な、ヨウ素含有化合物の製造方法、及び分子量分布の制御されたヨウ素含有化合物を提供することを課題とする。

　本開示の実施形態は以下の実施形態を含む。
＜１＞　下記式（２１）で表される化合物及び下記式（２２）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１つの存在下、
　下記式（１）で表される部分構造を有する化合物（１０）と、下記式（３）で表される化合物と、を反応させることを含む、
ヨウ素含有化合物の製造方法。

（式（１）中、＊は有機基に結合する結合手を表す。Ｘはフッ素原子又は塩素原子を表す。Ｘ^１は水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、又は－ＣＸ^５Ｘ^６Ｘ^７を表す。Ｘ^５～Ｘ^７はそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、又は塩素原子を表す。）

（式（２１）中、Ｒ^２１は、水素原子、ヨウ素原子、又は置換又は非置換の炭素数１～２０の有機基を表し、Ｒ^２２は、水素原子、ヨウ素原子、置換又は非置換の炭素数１～２０の有機基、又はホウ素含有基を表し、前記ホウ素含有基におけるホウ素原子は式（２１）におけるホウ素原子に結合する。Ｒ^２１とＲ^２２は連結して環状構造を構成していてもよい。Ａ^１は水素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を表す。式（２１）におけるホウ素原子にはさらに配位子が配位していてもよい。）
（式（２２）中、Ｒ^２３及びＲ^２４は、それぞれ独立して、水素原子、ヨウ素原子、又は置換又は非置換の炭素数１～２０の有機基を表し、Ｒ^２５は、水素原子、ヨウ素原子、置換又は非置換の炭素数１～２０の有機基、又はケイ素含有基を表し、前記ケイ素含有基におけるケイ素原子は式（２２）におけるケイ素原子に結合する。ただし、Ｒ^２３～Ｒ^２５の全てが水素原子である場合を除く。Ｒ^２３、Ｒ^２４、及びＲ^２５のうち２つ以上が連結して環状構造を形成していてもよい。Ａ^２は水素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を表す。）

（式（３）中、Ｒ^１～Ｒ^４はそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、又は置換又は非置換の炭素数１～４０の有機基を表す。Ｒ^１とＲ^４、又はＲ^２とＲ^３は連結して環状構造を構成していてもよい。）
＜２＞　前記式（３）において、Ｒ^１～Ｒ^４はそれぞれ独立して、水素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、又は置換又は非置換の炭素数１～４０の少なくとも１つの反応性炭素－炭素二重結合を有する有機基を表し、Ｒ^１とＲ^４、又はＲ^２とＲ^３は連結して環状構造を構成していてもよく、前記式（３）は少なくとも２つの反応性炭素－炭素二重結合を有する、＜１＞に記載の製造方法。
＜３＞　前記式（３）で表される化合物が、下記式（５）で表される化合物を含む、＜１＞に記載の製造方法。

（式中、Ｘはフッ素原子又は塩素原子を表し、Ｘ^２～Ｘ^４はそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、又は－ＣＸ^５Ｘ^６Ｘ^７を表し、Ｘ^５～Ｘ^７はそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、又は塩素原子を表す。）
＜４＞　得られるヨウ素含有化合物が、前記式（５）で表される第１の化合物と、前記式（３）で表される化合物のうち前記第１の化合物とは異なる化合物と、を共重合させてなる共重合体である、＜３＞に記載の製造方法。
＜５＞　前記共重合がブロック共重合である、＜４＞に記載の製造方法。
＜６＞　前記共重合がランダム共重合又は交互共重合である、＜４＞に記載の製造方法。
＜７＞　前記式（３）で表される化合物のうち前記第１の化合物とは異なる化合物が、エチレン、プロピレン、イソブチレン、アルキルビニルエーテル、ヘキサフルオロプロピレン、ペルフルオロ（アルキルビニルエーテル）、トリアリルイソシアヌレート、１，４－ジビニルオクタフルオロブタン、１，６－ジビニルドデカフルオロヘキサン、酢酸ビニル、スチレン、アクリル酸ブチル、及びジビニルベンゼンからなる群より選択される少なくとも１つである、＜４＞～＜６＞のいずれか１項に記載の製造方法。
＜８＞　前記式（５）で表される化合物が、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、ブロモトリフルオロエチレン、ヨードトリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、１，３，３，３－テトラフルオロプロピレン、２，３，３，３－テトラフルオロプロピレン、１－クロロ－１－フルオロエチレン、１－ブロモ－１－フルオロエチレン、１－ヨード－１－フルオロエチレン、１，１－ジブロモ－２，２－ジフルオロエチレン、１，１－ジフルオロ－２，２－ジヨードエチレン、１，２－ジクロロ－１，２－ジフルオロエチレン、１，２－ジブロモ－１，２－ジフルオロエチレン、及び１，２－ジフルオロ－１，２－ジヨードエチレン、塩化ビニル、及び塩化ビニリデンからなる群より選択される少なくとも１つである、＜３＞～＜７＞のいずれか１項に記載の製造方法。
＜９＞　前記化合物（１０）が、下記式（１１）で表される化合物又は下記式（１２）で表される化合物である、＜１＞～＜８＞のいずれか１項に記載の製造方法。

（式中、Ｒ^１１は炭素数１～４のペルフルオロアルキル基を表す。Ｒ^１２は炭素数１～４のペルフルオロアルキレン基を表す。Ｘはそれぞれ独立してフッ素原子又は塩素原子を表す。Ｘ^２１～Ｘ^２３はそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又は－ＣＸ^２４Ｘ^２５Ｘ^２６を表し、Ｘ^２４～Ｘ^２６はそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、又は塩素原子を表す。）
＜１０＞　前記化合物（１０）が、下記式（４）で表される単位を複数含む化合物である、＜１＞～＜９＞のいずれか１項に記載の製造方法。

（式中、Ｘ^３１～Ｘ^３４はそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、又は－ＣＸ^３５Ｘ^３６Ｘ^３７を表し、Ｘ^３５～Ｘ^３７はそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、又は塩素原子を表す。）
＜１１＞　前記化合物（１０）のフッ素含量が５０質量％以上である、＜１０＞に記載の製造方法。
＜１２＞　得られるヨウ素含有化合物が重合体であり、前記重合体の多分散度が２．０以下である、＜１＞～＜１１＞のいずれか１項に記載の製造方法。
＜１３＞　式（２１）中、Ａ^１が水素原子であり、かつホウ素原子が配位子を有するか、又はＡ^１がヨウ素原子である、＜１＞～＜１２＞のいずれか１項に記載の製造方法。
＜１４＞　式（２２）中、Ｒ^２３、Ｒ^２４、及びＲ^２５のいずれか少なくとも１つが芳香族環を含む、＜１＞～＜１２＞のいずれか１項に記載の製造方法。
＜１５＞　アゾ系ラジカル開始剤又は過酸化物系ラジカル開始剤由来の構造を含む重合体であって、前記重合体末端に対する、前記アゾ系ラジカル開始剤又は前記過酸化物系ラジカル開始剤由来の構造の割合が４０ｍｏｌ％以下である、ヨウ素含有化合物。

　本開示によれば、フッ素原子又は塩素原子を含む含ハロゲン有機ヨウ化化合物を伸長させて、分子量分布の制御された伸長物を得ることが可能な、ヨウ素含有化合物の製造方法、及び分子量分布の制御されたヨウ素含有化合物が提供される。

　以下、本開示の実施形態を詳細に説明するが、本開示の実施形態は以下の実施形態に限定されるものではない。
　本開示において「工程」との語には、他の工程から独立した工程に加え、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の目的が達成されれば、当該工程も含まれる。
　本開示において「～」を用いて示された数値範囲には、「～」の前後に記載される数値がそれぞれ最小値及び最大値として含まれる。
　本開示において各成分は該当する物質を複数種含んでいてもよい。組成物中に各成分に該当する物質が複数種存在する場合、各成分の含有率又は含有量は、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の物質の合計の含有率又は含有量を意味する。
　本開示において、特段の指定がない場合、有機基又は炭化水素基は置換基を有していても有していなくてもよい。
　本開示において、化学構造中の炭素数とは、ある化学構造全体に含まれる炭素原子の総数を意味し、該化学構造が置換基を有さない場合は当該化学構造の骨格を形成する炭素原子の数を表し、該化学構造が置換基を有する場合は当該化学構造の骨格を形成する炭素原子の数に置換基中の炭素原子の数を加えた総数を表す。
　アリール基とは、芳香族化合物において芳香環を形成する炭素原子のうちいずれか１つの炭素原子に結合した１つの水素原子を取り去った残基に相当する一価の基を意味し、炭素環化合物から誘導されるホモアリール基と、ヘテロ環化合物から誘導されるヘテロアリール基とを合わせた総称で用いる。
　アリーレン基とは、アリール基の炭素原子のうちいずれか１つの炭素原子に結合した１つの水素原子を取り去った残基に相当する二価の基を意味する。
　本開示において、反応性炭素－炭素二重結合とは、オレフィンとして各種反応しうる炭素－炭素二重結合を意味し、芳香族性の二重結合は含まない。
　本開示において、（メタ）アクリル酸とは、アクリル酸及びメタクリル酸の総称である。（メタ）アクリレートとは、アクリレート及びメタクリレートの総称である。（メタ）アクリルアミドとは、アクリルアミド及びメタクリルアミドの総称である。
　本開示において、「重合体」は、モノマーが重合してなる化合物である。すなわち、「重合体」は構造単位を複数有する。
　本開示において、特段の指定がない限り、「化合物Ａを重合させる」との記載は、化合物Ａのみを重合させる場合、及び化合物Ａと他の化合物とを重合させる場合のいずれも包含する。また、「化合物Ａと化合物Ｂとを重合させる」との記載は、化合物Ａ及び化合物Ｂのみを重合させる場合、並びに化合物Ａ、化合物Ｂ及び他の化合物を重合させる場合のいずれも包含する。ここで、化合物Ａ及び化合物Ｂは分子中に炭素－炭素二重結合を有する本開示に記載の任意の化合物を表す。また、特段の指定がない限り、本開示に記載される重合体は、１種類の化合物の単独重合体であってもよく、２種以上の化合物の共重合体であってもよい。

　以下、本開示の実施形態について詳細に説明する。但し、本開示の実施形態は以下の実施形態に限定されるものではない。以下の実施形態において、その構成要素（要素ステップ等も含む）は、特に明示した場合を除き、必須ではない。数値及びその範囲についても同様であり、本開示の実施形態を制限するものではない。

≪ヨウ素含有化合物の製造方法≫
　本開示のヨウ素含有化合物の製造方法（以下、本開示の製造方法ともいう）は、下記式（２１）で表される化合物及び下記式（２２）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１つの存在下、下記式（１）で表される部分構造を有する化合物（１０）と、下記式（３）で表される化合物と、を反応させることを含む。

　式（２１）中、Ｒ^２１は、水素原子、ヨウ素原子、又は置換又は非置換の炭素数１～２０の有機基を表し、Ｒ^２２は、水素原子、ヨウ素原子、置換又は非置換の炭素数１～２０の有機基、又はホウ素含有基を表し、前記ホウ素含有基におけるホウ素原子は式（２１）におけるホウ素原子に結合する。Ｒ^２１とＲ^２２は連結して環状構造を構成していてもよい。Ａ^１は水素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を表す。式（２１）におけるホウ素原子にはさらに配位子が配位していてもよい。

　式（２２）中、Ｒ^２３及びＲ^２４は、それぞれ独立して、水素原子、ヨウ素原子、又は置換又は非置換の炭素数１～２０の有機基を表し、Ｒ^２５は、水素原子、ヨウ素原子、置換又は非置換の炭素数１～２０の有機基、又はケイ素含有基を表し、前記ケイ素含有基におけるケイ素原子は式（２２）におけるケイ素原子に結合する。ただし、Ｒ^２３～Ｒ^２５の全てが水素原子である場合を除く。Ｒ^２３、Ｒ^２４、及びＲ^２５のうち２つ以上が連結して環状構造を形成していてもよい。Ａ^２は水素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を表す。

（式（３）中、Ｒ^１～Ｒ^４はそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、又は置換又は非置換の炭素数１～４０の有機基を表す。Ｒ^１とＲ^４、又はＲ^２とＲ^３は連結して環状構造を構成していてもよい。）

　本開示の製造方法によれば、式（２１）で表される化合物及び式（２２）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１つを触媒として用いることによって、フッ素原子又は塩素原子を含む含ハロゲン有機ヨウ化化合物を伸長させて、分子量分布の制御された伸長物を得られることが見出された。本開示の製造方法は、ＲＴＣＰ（reversible chain transfer catalyzed living radical polymerization；可逆連鎖移動触媒重合）法と呼ばれるリビングラジカル重合法に基づくものであり、下図に示される機構により進行する。

Ｗ・　：ラジカル種（Ｗは任意の構造）
Ａ－Ｙ：触媒（式（２１）で表される化合物及び式（２２）で表される化合物の少なくとも１つ；式（２１）の場合、ＡはＡ^１、ＹはＡ^１以外の構造を表す。式（２２）の場合、ＡはＡ^２、ＹはＡ^２以外の構造を表す。
Ｚ－Ｉ：ヨウ化物（Ｉはヨウ素原子、Ｚは任意の構造（ヨウ化アルキル、重合体のヨウ素末端、Ｉ－Ｙ等））
Ｘ及びＸ^１：それぞれ式（１）におけるＸ及びＸ^１と同義
Ｒ^１～Ｒ^４：それぞれ式（３）におけるＲ^１～Ｒ^４と同義

　まず、反応系中に存在するラジカル種（Ｗ・）が、触媒（Ａ－Ｙ）と反応して、Ｙラジカル（Ｙ・）を発生させる。このＹラジカル（Ｙ・）は、含ハロゲン有機ヨウ化化合物のヨウ素を好適に引き抜ける。これにより、保護基であるヨウ素が引き抜かれ、含ハロゲン有機ヨウ化化合物からのラジカル反応が進行して伸長物が得られる。伸長末端のラジカルがヨウ化物（Ｚ－Ｉ）と反応すると、伸長末端が再保護される。

　従来の方法では、フッ素原子又は塩素原子がＣ－Ｉ結合の炭素に直接結合している含ハロゲン有機ヨウ化化合物、すなわち－ＣＸＸ^１Ｉ（Ｘはフッ素原子又は塩素原子）の部分構造を有する化合物からのヨウ素の引き抜きは困難であり、かかる含ハロゲン有機ヨウ化化合物の伸長を進行させて、分子量の制御された伸長物を得ることは困難であった。これは、Ｃ－Ｘ結合における炭素原子上のラジカルが不安定であることに一部起因するものと考えられる。一方、触媒（Ａ－Ｙ）として、式（２１）で表される化合物及び式（２２）で表される化合物からなる群より選択される特定の化合物を用いることによって、含ハロゲン有機ヨウ化化合物のヨウ素の引き抜きを容易にし、制御性の高い伸長反応を実現できることが見出された。
　したがって、例えば、本開示の製造方法を用いて含ハロゲンモノマーを重合させることによって、分子量分布の制御された含フッ素重合体又は含塩素重合体を生産することが可能となる。加えて、本開示の製造方法を用いて、含フッ素重合体又は含塩素重合体と架橋剤との反応を起こさせることで、架橋ゴム等の製造に応用することも可能となる。

　まず、本開示の製造方法に使用される化合物について説明する。

＜式（２１）で表される化合物及び式（２２）で表される化合物＞
　下記式（２１）で表される化合物は、含ハロゲン有機ヨウ化化合物のヨウ素引き抜きを媒介するための触媒として機能する。

（式（２１）で表される化合物）

　反応系において、式（２１）で表される化合物からＡ^１が引き抜かれて発生した原子上のラジカルが、含ハロゲン有機ヨウ化化合物のヨウ素を引き抜く。

　Ｒ^２１及びＲ^２２で表される置換又は非置換の炭素数１～２０の有機基は、それぞれ独立して、置換又は非置換の炭素数１～１５の有機基であることが好ましく、置換又は非置換の炭素数１～１０の有機基であることがより好ましい。当該有機基としては、例えば、飽和又は不飽和の炭化水素基、又は－ＯＲ（Ｒは置換又は非置換の炭素数１～２０の炭化水素基、好ましくは置換又は非置換の炭素数１～１５の炭化水素基、より好ましくは置換又は非置換の炭素数１～１０の炭化水素基）が挙げられる。
　Ｒ^２１及びＲ^２２で表される置換又は非置換の炭素数１～２０の有機基としては、ホウ素原子と結合する炭素原子を有する有機基が好ましい。さらに当該炭素原子はｓｐ３炭素原子であることが好ましい。これによりホウ素のラジカルが生成しやすく、かつ、該ラジカルのヨウ素引き抜き能力が高くなる。かかる観点からは、Ｒ^２１及びＲ^２２で表される置換又は非置換の炭素数１～２０の有機基としては、置換又は非置換のアルキル基が好ましい。

　Ｒ^２１又はＲ^２２で表される置換又は非置換の炭素数１～２０の有機基が置換基を有する場合、この置換基としては、例えば、ホウ素原子を含有する基が挙げられる。当該ホウ素原子を含有する基としては、－ＢＹ_２が挙げられ、ここで、Ｙはそれぞれ独立に水素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、又は置換又は非置換の炭素数１～２０の有機基であり、２つのＹは互いに連結して環状構造を形成していてもよい。形成された環状構造は、ビシクロ構造であってもよい。当該置換基中のホウ素原子にはさらに配位子が配位していてもよい。配位子の詳細は後述の式（２１）に示されるホウ素原子の配位子と同様である。

　Ｒ^２２がホウ素含有基である場合、当該ホウ素含有基におけるホウ素原子は、式（２１）におけるホウ素原子に結合する。Ｒ^２２で表されるホウ素含有基としては、－ＢＺ_２が挙げられ、ここで、Ｚはそれぞれ独立に水素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、又は置換又は非置換の炭素数１～２０の有機基であり、２つのＺは互いに連結して環状構造を形成していてもよい。当該ホウ素含有基におけるホウ素原子にはさらに配位子が配位していてもよい。配位子の詳細は後述の式（２１）に示されるホウ素原子の配位子と同様である。

　Ａ^１は水素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を表し、水素原子、臭素原子、又はヨウ素原子であることが好ましく、水素原子又はヨウ素原子であることがより好ましく、水素原子であることがさらに好ましい。
　式（２１）におけるホウ素原子にはさらに配位子が配位していてもよい。すなわち、式（２１）に示されるホウ素原子に対する３つの共有結合の他に、配位結合によってホウ素原子に結合する配位子が存在していてもよい。例えば後述のボラン・テトラヒドロフラン錯体等の錯体では、ＢＨ_３が配位子により安定化されることで、ハンドリング性が向上する傾向にある。また配位子が配位することによりホウ素のラジカルが生成しやすくなる。
　配位子としては、配位部位に窒素原子又は酸素原子を有し、当該窒素原子又は酸素原子の結合手に、それぞれ独立に、水素原子、又は置換又は非置換の炭素数１～２０の有機基が結合している配位子が挙げられる。前記置換又は非置換の炭素数１～２０の有機基は、複数存在する場合、連結して環構造を形成していてもよい。
　配位子の例としては、テトラヒドロフラン、ピリジン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、テトラメチルエチレンジアミン等が挙げられる。

　ホウ素原子からのＡ^１の引き抜き速度、及びハンドリング性の観点から、式（２１）で表される化合物の好ましい態様として、Ａ^１が水素原子であり、かつホウ素原子が配位子を有する態様、又はＡ^１がヨウ素原子である態様が挙げられる。

　一態様において、式（２１）は、下記式（２１ａ）で表される化合物であってもよい。

　式（２１ａ）中、Ａ^１及びＲ^２１は式（２１）中のＡ^１及びＲ^２１とそれぞれ同義である。Ｒ^２６は置換又は非置換の二価の有機基を表し、Ｒ^２７及びＲ^２８はそれぞれ独立に水素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、又は置換又は非置換の有機基を表し、Ｒ^２６～Ｒ^２８の炭素数の合計は１～２０である。式（２１ａ）に示される２つのホウ素原子には、それぞれ独立に、さらに配位子が配位していてもよい。

　式（２１ａ）中、Ｒ^２６は置換又は非置換の炭素数１～１０の二価の有機基であることが好ましく、置換又は非置換の炭素数１～６の二価の有機基であることがより好ましい。Ｒ^２７及びＲ^２８は、それぞれ独立に、水素原子、又は置換又は非置換の炭素数１～１５の有機基であることが好ましく、水素原子、又は置換又は非置換の炭素数１～１０の有機基であることがより好ましい。配位子の詳細は、式（２１）に示されるホウ素原子の配位子と同様である。

　さらなる一態様において、式（２１）は、下記式（２１ｂ）で表される化合物であってもよい。

　式（２１ｂ）中、Ａ^１及びＲ^２１は式（２１）におけるＡ^１及びＲ^２１とそれぞれ同義であり、Ｒ^２９及びＲ^３０はそれぞれ独立に水素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、又は置換又は非置換の有機基を表し、Ｒ^２９及びＲ^３０の炭素数の合計は１～２０である。式（２１ｂ）に示される２つのホウ素原子には、それぞれ独立に、さらに配位子が配位していてもよい。

　式（２１ｂ）中、Ｒ^２９及びＲ^３０は、それぞれ独立に、水素原子、又は置換又は非置換の炭素数１～１５の有機基であることが好ましく、水素原子、又は置換又は非置換の炭素数１～１０の有機基であることがより好ましい。配位子の詳細は、式（２１）に示されるホウ素原子の配位子と同様である。

　一態様において、式（２１）で表される化合物は複数集合して多量体、例えば二量体を形成していてもよい。

　式（２１）で表される化合物としては、例えば、９－ボラビシクロ［３．３．１］ノナン、９－ヨード－９－ボラビシクロ［３．３．１］ノナン、ボラン・テトラヒドロフラン錯体、ボラン・ピリジン錯体、ボラン・トリメチルアミン錯体、ボラン・トリエチルアミン錯体、ピナコールボラン、カテコールボラン、イソピノカンフェイルボラン・テトラメチルエチレンジアミン錯体、及び三ヨウ化ホウ素が挙げられる。なかでも好ましく用いられる化合物として、９－ボラビシクロ［３．３．１］ノナン、９－ヨード－９－ボラビシクロ［３．３．１］ノナン、及び三ヨウ化ホウ素からなる群より選択される少なくとも１つが好ましい。式（２１）で表される化合物は１種を単独で用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。

（式（２２）で表される化合物）

　反応系において、式（２２）で表される化合物からＡ^２が引き抜かれて発生したリン原子上のラジカルが、含ハロゲン有機ヨウ化化合物のヨウ素を引き抜く。

　Ｒ^２３、Ｒ^２４、及びＲ^２５で表される置換又は非置換の炭素数１～２０の有機基は、それぞれ独立して、置換又は非置換の炭素数１～１５の有機基であることが好ましく、置換又は非置換の炭素数１～１０の有機基であることがより好ましい。当該有機基としては、飽和又は不飽和の炭化水素基、又は－ＯＲ（Ｒは置換又は非置換の炭素数１～２０の炭化水素基、好ましくは置換又は非置換の炭素数１～１５の炭化水素基、より好ましくは置換又は非置換の炭素数１～１０の炭化水素基）が挙げられる。
　Ｒ^２３、Ｒ^２４、及びＲ^２５で表される置換又は非置換の炭素数１～２０の有機基としては、ケイ素原子と結合する炭素原子を有する有機基が好ましい。さらに当該炭素原子はｓｐ２炭素原子又はｓｐ３炭素原子であることが好ましい。これによりケイ素のラジカルが生成しやすく、かつ、該ラジカルのヨウ素引き抜き能力が高くなる。かかる観点からは、Ｒ^２３、Ｒ^２４、及びＲ^２５で表される置換又は非置換の炭素数１～２０の有機基としては、置換又は非置換のアルキル基又は置換又は非置換のアリール基が好ましい。

　Ｒ^２３、Ｒ^２４、及びＲ^２５で表される置換又は非置換の炭素数１～２０の有機基が置換基を有する場合、この置換基としては、例えば、ケイ素原子を含有する基が挙げられる。当該ケイ素原子を含有する基としては、－ＳｉＹ_３が挙げられ、ここで、Ｙはそれぞれ独立に水素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、又は置換又は非置換の炭素数１～２０の有機基であり、複数のＹは互いに連結して環状構造を形成していてもよい。

　Ｒ^２５がケイ素含有基である場合、当該ケイ素含有基におけるケイ素原子は、式（２２）におけるケイ素原子に結合する。Ｒ^２５で表されるケイ素含有基としては、－ＳｉＺ_３が挙げられ、ここで、Ｚはそれぞれ独立に水素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、又は置換又は非置換の炭素数１～２０の有機基であり、複数のＺは互いに連結して環状構造を形成していてもよい。

　一態様において、触媒の安定性及びハンドリング性の観点からは、Ｒ^２３、Ｒ^２４、及びＲ^２５は、それぞれ独立して、芳香族環を有することが好ましい。かかる観点から、Ｒ^２３、Ｒ^２４、及びＲ^２５の好ましい一態様として、それぞれ独立して、置換又は非置換のフェニル基が挙げられる。
　触媒の重合反応性の観点からは、Ｒ^２３、Ｒ^２４、及びＲ^２５は、それぞれ独立して、芳香族環を有していても有していなくてもよい。

　Ａ^２は、水素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を表し、水素原子であることがより好ましい。

　一態様において、Ｓｉ－Ａ^２結合からのＡ^２の引き抜き速度、及びハンドリング性の観点から、式（２２）で表される化合物は、Ａ^２が水素原子であって、Ｒ^２３、Ｒ^２４、及びＲ^２５の少なくとも１つに芳香族環を有する化合物であることが好ましい。

　一態様において、式（２２）は、下記式（２２ａ）で表される化合物であってもよい。

　式（２２ａ）中、Ａ^２、Ｒ^２３、及びＲ^２４は式（２２）中のＡ^２、Ｒ^２３、及びＲ^２４とそれぞれ同義である。Ｒ^３１は置換又は非置換の二価の有機基を表し、Ｒ^３２、Ｒ^３３、及びＲ^３４はそれぞれ独立に水素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、置換又は非置換の炭素数１～２０の有機基を表し、Ｒ^３１～Ｒ^３４の炭素数の合計は１～２０である。

　式（２２ａ）中、Ｒ^３１は置換又は非置換の炭素数１～１０の二価の有機基であることが好ましく、置換又は非置換の炭素数１～６の二価の有機基であることがより好ましい。Ｒ^３２、Ｒ^３３、及びＲ^３４は、それぞれ独立に、水素原子、又は置換又は非置換の炭素数１～１５の有機基であることが好ましく、水素原子、又は置換又は非置換の炭素数１～１０の有機基であることが好ましい。また、触媒の安定性及びハンドリング性の観点からは、Ｒ^３２、Ｒ^３３、及びＲ^３４の少なくとも１つ、好ましくは２つ以上、より好ましくは２つが、芳香族環を有することが好ましい。Ｒ^３２、Ｒ^３３、及びＲ^３４の好ましい一態様として、Ｒ^３２及びＲ^３３がそれぞれ独立して置換又は非置換のフェニル基であり、Ｒ^３４が水素原子である態様が挙げられる。

　さらなる一態様において、式（２２）は、下記式（２２ｂ）で表される化合物であってもよい。　

　式（２２ｂ）中、Ａ^２、Ｒ^２３及びＲ^２４は式（２２）におけるＡ^２、Ｒ^２３及びＲ^２４とそれぞれ同義であり、Ｒ^３５～Ｒ^３７はそれぞれ独立に水素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、又は置換又は非置換の有機基を表し、Ｒ^３５～Ｒ^３７の炭素数の合計は１～２０である。

　式（２２ｂ）中、Ｒ^３５～Ｒ^３７はそれぞれ独立に、水素原子、又は置換又は非置換の炭素数１～１５の有機基であることが好ましく、水素原子、又は置換又は非置換の炭素数１～１０の有機基であることがより好ましい。

　式（２２）で表される化合物としては、１，４－ビス（ジメチルシリル）ベンゼン、１，１，２，２－テトラフェニルジシラン、フェニルシラン、ジ－ｔｅｒｔ－ブチルシラン、トリ－ｔｅｒｔ－ブチルシラン、ジフェニルシラン、トリメチルシラン、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシラン、ジ－ｔｅｒｔ－ブチルメチルシラン、ジメチルフェニルシラン、ジフェニルメチルシラン、ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシラン、トリフェニルシラン、四ヨウ化ケイ素等が挙げられる。なかでも、Ｓｉ－Ａ^２結合からのＡ^２の引き抜き速度、及びハンドリング性の観点から、好ましく用いられる化合物として、１，４－ビス（ジメチルシリル）ベンゼン、１，１，２，２－テトラフェニルジシラン、ジメチルフェニルシラン、ジフェニルメチルシラン、ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシラン、トリフェニルシラン等が挙げられる。また、Ｓｉ－Ａ^２結合からのＡ^２の引き抜き速度の観点からは、トリメチルシラン、トリ－ｔｅｒｔ－ブチルシラン、及びｔｅｒｔ－ブチルジメチルシランも挙げられる。式（２２）で表される化合物は、１種を単独で用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。

　式（２１）で表される化合物及び式（２２）で表される化合物の添加量は、適宜調整してよい。好適に分子量分布の制御された含ハロゲン重合体を得る観点からは、化合物（１０）１ｍｏｌに対して式（２１）で表される化合物及び式（２２）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１つを０．０１ｍｏｌ～１００ｍｏｌ使用することが好ましく、０．１ｍｏｌ～５０ｍｏｌ使用することがより好ましく、０．２ｍｏｌ～１０ｍｏｌ使用することがさらに好ましく、０．３ｍｏｌ～１．０ｍｏｌ使用することが特に好ましい。

＜化合物（１０）＞
　化合物（１０）は下記式（１）で表される部分構造を有する含ハロゲン有機ヨウ化化合物である。

　式（１）中、＊は有機基に結合する結合手を表す。Ｘはフッ素原子又は塩素原子を表す。Ｘ^１は水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、又は－ＣＸ^５Ｘ^６Ｘ^７を表す。Ｘ^５～Ｘ^７はそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、又は塩素原子を表す。以下、式（１）で表される部分構造を部分構造（１）ともいう。

　ヨウ素原子の引き抜き速度、及び生じた炭素中心ラジカルの付加反応速度の観点からは、Ｘはフッ素原子であることが好ましい。

　ヨウ素原子の引き抜き速度、及び生じた炭素中心ラジカルの付加反応速度の観点からは、Ｘ^１は水素原子又はフッ素原子であることが好ましい。

　化合物（１０）は上記部分構造（１）を有していればよく、化合物全体の構造は何ら限定されるものではない。すなわち、＊が結合する有機基は炭化水素基に限定されず、ヒドロキシル基、アミノ基等の各種官能基、ハロゲノ基（ハロゲン原子）、水素原子などであってもよい。また、有機基はヘテロ原子を含んでいてもよく、その価数及び分子量も特に限定されない。

　化合物（１０）に含まれる部分構造（１）の数は特に制限されない。例えば、化合物（１０）は、部分構造（１）を１つ有するモノヨード含ハロゲン有機化合物であってもよく、部分構造（１）を２つ有するジヨード含ハロゲン有機化合物であってもよく、部分構造（１）を３つ以上有するポリヨージド含ハロゲン有機化合物であってもよい。
　例えば、化合物（１０）は、＊に、置換又は非置換のアルキル基、又はハロゲン原子若しくは水素原子が結合したモノヨード含ハロゲン有機化合物であってもよい。
　また、化合物（１０）は、＊に、置換又は非置換のアルキレン基、エーテル結合等の２価の有機基と、当該２価の有機基に結合する部分構造（１）と、が結合したジヨード含ハロゲン有機化合物であってもよい。

（モノヨード含ハロゲン有機化合物）
　化合物（１０）のうち、モノヨード含ハロゲン有機化合物は、下記式で表される構造を有する化合物であってもよい。式中、Ｒ^１０は、置換又は非置換のアルキル基、置換又は非置換のアリール基、置換又は非置換のアリールアルキル基、水素原子、フッ素原子、又は塩素原子を表す。Ｘはフッ素原子又は塩素原子を表す。Ｘ^２０は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又は－ＣＸ^５Ｘ^６Ｘ^７を表し、Ｘ^５～Ｘ^７はそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、又は塩素原子を表す。

　上記式中、Ｘはフッ素原子であることが好ましい。

　上記式中、Ｘ^２０は水素原子又はフッ素原子であることが好ましい。

　Ｒ^１０のうち、置換又は非置換のアルキル基としては、置換又は非置換の炭素数１～７の直鎖状、分岐鎖状、又は環状のアルキル基が好ましい。
　炭素数１～７のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ－ヘプチル基等が挙げられる。これらの中でも、炭素数１～４の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基がより好ましく、メチル基、又はエチル基がさらに好ましい。

　炭素数１～７の置換アルキル基としては、任意の位置にフッ素原子、塩素原子、アルコキシ基、フルオロアルコキシ基等の置換基を有するアルキル基が挙げられる。これらの中でも、フッ素原子を２～１５個有するアルキル基がより好ましく、ペルフルオロアルキル基が、ラジカルによる水素原子引き抜き反応の抑制の観点からさらに好ましく、炭素数１～６のペルフルオロアルキル基がよりさらに好ましく、生体蓄積性を低減する観点から炭素数１～４のペルフルオロアルキル基が特に好ましい。
　すなわち、Ｒ^１０が置換アルキル基である場合には、化合物（１０）としては下記式（１１）で表される化合物が好ましい。

　上記式中、Ｒ^１１は炭素数１～４のペルフルオロアルキル基を表し、Ｘはフッ素原子又は塩素原子を表し、Ｘ^２１は水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又は－ＣＸ^２４Ｘ^２５Ｘ^２６を表し、Ｘ^２４～Ｘ^２６はそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子を表す。

　上記式中、Ｘはフッ素原子であることが好ましい。

　上記式中、Ｘ^２１は水素原子又はフッ素原子であることが好ましい。

　Ｒ^１０のうち、アリール基としては、炭素数６～１２のアリール基、及び炭素数３～１２のヘテロアリール基が好ましく、具体的には、フェニル基、ナフチル基、ピリジル基、ピロール基、フリル基、及びチエニル基がより好ましい。
　Ｒ^１０のうち、アリールアルキル基としては、炭素数７～１５のアリールアルキル基、及び炭素数４～１５のヘテロアリールアルキル基が好ましく、具体的には、ベンジル基、２－ピリジルメチル基、３－ピリジルメチル基、及び４－ピリジルメチル基がより好ましい。

　モノヨード含ハロゲン有機化合物としては、具体的には、ジフルオロヨードメタン、トリフルオロヨードメタン、クロロジフルオロヨードメタン、１，１－ジフルオロエチルヨージド、１，１－ジフルオロ－ｎ－プロピルヨージド、１，１－ジフルオロ－ｎ－ブチルヨージド、１，１－ジフルオロ－イソブチルヨージド、１，１－ジフルオロ－ｎ－ペンチルヨージド、ｓｅｃ－ブチルジフルオロメチレンヨージド、ｔｅｒｔ－ブチルジフルオロメチレンヨージド、１，１－ジフルオロ－ｎ－ヘキシルヨージド、１，１－ジフルオロ－ｎ－ヘプチルヨージド、１，１－ジフルオロ－ｎ－オクチルヨージド、シクロヘキシルジフルオロメチレンヨージド、Ｃ_２Ｆ_５Ｉ、ＣＨＦ_２ＣＦ_２Ｉ、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２Ｉ、（ＣＦ_３）_２ＣＦＩ、ＣＦ_３（ＣＦ_２）_３Ｉ、（ＣＦ_３）_２ＣＦＣＦ_２Ｉ、ＣＦ_３（ＣＦ_２）_４Ｉ、ＣＦ_３（ＣＦ_２）_５Ｉ、１，２－ジクロロ－１，１，２－トリフルオロエチルヨージド、１－クロロ－１－ヨードテトラフルオロエタン、クロロヨード酢酸等が挙げられる。

　モノヨード含ハロゲン有機化合物は、従来公知の方法により製造することができ、例えば、（Ｒ^１０ＣＦ_２Ｃ（＝Ｏ）Ｏ）_２等のラジカル発生剤とＩ_２との反応により、製造することもできる。

（ジヨード含ハロゲン有機化合物）
　化合物（１０）のうち、ジヨード含ハロゲン有機化合物は、下記式で表される構造を有する化合物であってもよい。式中、Ｒ^１０’は、単結合、置換又は非置換のアルキレン基、置換又は非置換のアリーレン基、置換又は非置換のアリーレンアルキレン基、又は置換又は非置換のアルキレンアリーレンアルキレン基を表す。Ｘは、フッ素原子又は塩素原子を表す。Ｘ^２０は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又は－ＣＸ^５Ｘ^６Ｘ^７を表し、Ｘ^５～Ｘ^７はそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子を表す。

　ヨウ素原子の引き抜き速度、及び生じた炭素中心ラジカルの付加反応速度の観点からは、Ｘ^２０はそれぞれ独立に水素原子又はフッ素原子であることが好ましい。

　Ｒ^１０’のうち、置換又は非置換のアルキレン基としては、置換又は非置換の炭素数１～６の直鎖状、分岐鎖状、又は環状のアルキレン基が好ましい。
　炭素数１～６のアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、ｎ－プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ－ブチレン基、イソブチレン基、ｎ－ペンチレン基、ｎ－ヘキシレン基、１，４－シクロヘキシレン基等が挙げられる。これらの中でも、炭素数１～４の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基がより好ましく、エチレン基がさらに好ましい。

　炭素数１～６の置換アルキレン基としては、任意の位置にフッ素原子、塩素原子、アルコキシ基、フルオロアルコキシ基等の置換基を有するアルキレン基が挙げられる。これらの中でも、フッ素原子を２～１２個有するアルキレン基がより好ましく、ペルフルオロアルキレン基が、ラジカルによる水素原子引き抜き反応の抑制の観点からさらに好ましく、炭素数１～４のペルフルオロアルキレン基がよりさらに好ましく、炭素数２～４のペルフルオロアルキレン基が特に好ましい。
　すなわち、化合物（１０）は、Ｒ^１０’が炭素数１～４のペルフルオロアルキレン基である場合、下記式（１２）で表される化合物となる。

　上記式中、Ｒ^１２は炭素数１～４のペルフルオロアルキレン基を表す。Ｘはフッ素原子又は塩素原子を表す。Ｘ^２２及びＸ^２３はそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又は－ＣＸ^２４Ｘ^２５Ｘ^２６を表し、Ｘ^２４～Ｘ^２６はそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、又は塩素原子を表す。

　上記式中、Ｘはそれぞれ独立にフッ素原子であることが好ましい。

　上記式中、Ｘ^２２及びＸ^２３はそれぞれ独立に水素原子又はフッ素原子であることが好ましい。

　Ｒ^１０’のうち、アリーレン基としては、炭素数６～１２のアリーレン基、及び炭素数３～１２のヘテロアリーレン基が好ましい。具体的には、１，２－フェニレン基、１，３－フェニレン基、１，４－フェニレン基、４，４’－ビフェニレン基、２，２’－ビフェニレン基、２，６－ナフチレン基、２，７－ナフチレン基、２，４－ピリジレン基、２，５－ピリジレン基、２，６－ピリジレン基、ピローレン基、フリレン基、チエニレン基、及び１，５－フランジイル基がより好ましい。
　Ｒ^１０’のうち、アリーレンアルキレン基としては、炭素数７～１５のアリーレンアルキレン基、及び炭素数４～１５のヘテロアリーレンアルキレン基が好ましい。具体的には、ベンジレン基、２－ピリジレンメチレン基、３－ピリジレンメチレン基、及び４－ピリジレンメチレン基がより好ましい。

　Ｒ^１０’のうち、アルキレンアリーレンアルキレン基としては、炭素数８～１８のアルキレンアリーレンアルキレン基、及び炭素数５～１８のアルキレンヘテロアリーレンアルキレン基が好ましい。具体的には、１，２－ジメチレンフェニレン基、１，３－ジメチレンフェニレン基、１，４－ジメチレンフェニレン基、２，２’－ジメチレンビフェニレン基、２，４－ジメチレンピリジレン基、２，５－ジメチレンピリジレン基、２，６－ジメチレンピリジレン基、及び１，５－ジメチルフランジイル基がより好ましい。

　ジヨード含ハロゲン有機化合物としては、具体的には、１，２－ジヨードテトラフルオロエタン、１，４－ジヨードオクタフルオロブタン、１，６－ジヨードドデカフルオロヘキサン等が挙げられる。
　これらの中でも、扱いやすい低揮発性液体である観点からは、１，４－ジヨードオクタフルオロブタンが好ましい。

　ジヨード含ハロゲン有機化合物の製造方法は、特に限定されず、従来公知の方法により得られる。

（ポリヨージド含ハロゲン有機化合物）
　化合物（１０）のうち、ポリヨージド含ハロゲン有機化合物は、部分構造（１）を３つ以上有する。化合物（１０）のうち、ポリヨージド含ハロゲン有機化合物としては、部分構造（１）における＊に結合する有機基が、未加硫フルオロエラストマー等の含フッ素高分子の部分構造、又はポリシロキサンの部分構造を含んでおり、かつ化合物（１０）が部分構造（１）を３つ以上有する場合が挙げられる。「部分構造（１）における＊に結合する有機基がポリシロキサンの部分構造を含んでいる」とは、例えば、部分構造（１）が、置換又は非置換のアルキレン基、エーテル結合等の２価結合基を介してポリシロキサンと結合している場合が挙げられる。ポリシロキサンは、シリコーンであっても、シランカップリング剤の縮合反応により生じる生成物であってもよい。
　ポリヨージド含ハロゲン有機化合物は、従来公知の方法により製造できる。

　化合物（１０）は下記式（４）で表される単位を複数含む化合物であってもよい。化合物（１０）が下記式（４）で表される単位を複数含む場合において、耐熱性と難燃性の点からは、化合物（１０）のフッ素含量は、５０質量％以上であることが好ましく、６０質量％以上であることがより好ましい。化合物のフッ素含量は、燃焼イオンクロマトグラフィーにより求められる。

　上記式中、Ｘ^３１～Ｘ^３４はそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、又は－ＣＸ^３５Ｘ^３６Ｘ^３７を表し、Ｘ^３５～Ｘ^３７はそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子を表す。

　本開示の製造方法における化合物（１０）の使用量は特に制限されない。一態様において、式（３）で表される化合物１ｍｏｌに対して、化合物（１０）を０．０００１ｍｏｌ～３ｍｏｌ使用することが好ましく、０．００１ｍｏｌ～２ｍｏｌ使用することがより好ましく、０．００２ｍｏｌ～１ｍｏｌ使用することがさらに好ましい。

　化合物（１０）は、モノヨード含ハロゲン有機化合物及びジヨード含ハロゲン有機化合物からなる群より選択される少なくとも１つであることが好ましく、式（１１）で表される化合物及び式（１２）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１つであることが好ましい。

　化合物（１０）として、モノヨード含ハロゲン有機化合物とジヨード含ハロゲン有機化合物とを併用する場合、モノヨード含ハロゲン有機化合物１ｍｏｌに対して、ジヨード含ハロゲン有機化合物を０．０１ｍｏｌ以上使用することが好ましく、０．０５ｍｏｌ以上使用することがより好ましく、０．１ｍｏｌ以上使用することがさらに好ましい。また、モノヨード含ハロゲン有機化合物１ｍｏｌに対して、ジヨード含ハロゲン有機化合物を１００ｍｏｌ以下使用することが好ましく、１０ｍｏｌ以下使用することがより好ましく、５ｍｏｌ以下使用することがさらに好ましい。

＜式（３）で表される化合物＞
　式（３）で表される化合物は、本開示の製造方法によって、式（１）で表される部分構造を有する化合物（１０）に付加される化合物である。

　式（３）中、Ｒ^１～Ｒ^４はそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、又は置換又は非置換の炭素数１～４０の有機基を表す。Ｒ^１とＲ^４、又はＲ^２とＲ^３は連結して環状構造を構成していてもよい。

　Ｒ^１～Ｒ^４における置換又は非置換の炭素数１～４０の有機基の炭素数は、１～３０であることが好ましく、１～２０であることがより好ましく、１～１２であることがさらに好ましい。また、当該有機基は、直鎖状、分岐鎖状又は環状のいずれでもよく、不飽和結合を含んでいても含んでいなくてもよい。さらに、当該有機基はヘテロ原子を含んでいても含んでいなくてもよく、置換基主鎖にヘテロ原子を含んでいてもよい。

　置換又は非置換の炭素数１～４０の有機基としては、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルコキシ基、アリールアルキル基、ヘテロアリールアルキル基、アリールアルコキシ基、ヘテロアリールアルコキシ基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アシルアミノ基、アシルオキシ基、シアノ基等が挙げられる。

　置換又は非置換の炭素数１～４０の有機基が、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルコキシ基、アリールアルキル基、ヘテロアリールアルキル基、アリールアルコキシ基、又はヘテロアリールアルコキシ基等の、ヘテロ原子を有していてもよい炭化水素基である場合、当該炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状、又は環状のいずれでもよく、また、不飽和結合を含んでいて含んでいなくてもよい。

　アシルアミノ基又はアシルオキシ基のアシル基としては、カルボン酸又はスルホン酸からヒドロキシ基を除いた基が挙げられる。

　置換基を有する炭素数１～４０の有機基としては、置換アルキル基、置換アルコキシ基、置換アルコキシカルボニル基、Ｎ－置換カルバモイル基等が挙げられる。置換基の数は１個でも２個以上でもよい。
　置換アルキル基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アミノ基、カルボン酸基、スルホン酸基、１，３，５－トリアジントリオン骨格等が挙げられる。
　置換アルコキシ基の置換基としては、フッ素原子、ヒドロキシ基、アミノ基等が挙げられる。
　置換アルコキシカルボニル基の置換基としては、フッ素原子、ヒドロキシ基、アミノ基等が挙げられる。
　Ｎ－置換カルバモイル基の置換基としては、アルキル基、アルコキシアルキル基等が挙げられる。

　式（３）において、Ｒ^１とＲ^４、又はＲ^２とＲ^３は連結して環状構造を構成していてもよい。すなわち、式（３）で表される化合物は、無水マレイン酸、無水イタコン酸等の環状構造を有する化合物であってもよい。

　伸長反応における立体障害を低減させ、反応を進めやすくする観点からは、式（３）で表される化合物は、Ｒ^１～Ｒ^４のうち少なくとも２つが、水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基からなる群より選択される化合物であることが好ましい。

　式（３）で表される化合物は、反応性炭素－炭素二重結合を１つ有する化合物であってもよく、反応性炭素－炭素二重結合を複数有する化合物であってもよい。したがって、式（３）で表される化合物は、ジアリルアミン等のジアリル化合物、トリアリルイソシアヌレート等のトリアリル化合物などであってもよい。

　式（３）で表される化合物としては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸ラウリル、メタクリル酸ヒドロキシエチル等の（メタ）アクリル酸エステルモノマー；（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸メチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸シクロドデシル等のシクロアルキル基含有不飽和モノマー；（メタ）アクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、クロトン酸、無水マレイン酸、無水イタコン酸等のカルボキシル基含有不飽和モノマー；Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノエチル（メタ）アクリルアミド、２－（ジメチルアミノ）エチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート等の３級アミン含有不飽和モノマー；Ｎ－２－ヒドロキシ－３－アクリロイルオキシプロピル－Ｎ，Ｎ，Ｎ－トリメチルアンモニウムクロライド、Ｎ－メタクリロイルアミノエチル－Ｎ，Ｎ，Ｎ－ジメチルベンジルアンモニウムクロライド等の４級アンモニウム塩基含有不飽和モノマー；（メタ）アクリル酸グリシジル等のエポキシ基含有不飽和モノマー；スチレン、α－メチルスチレン、４－メチルスチレン、２－メチルスチレン、３－メチルスチレン、４－メトキシスチレン、２－ヒドロキシメチルスチレン、２－クロロスチレン、４－クロロスチレン、２，４－ジクロロスチレン、１－ビニルナフタレン、ジビニルベンゼン、４－（クロロメチル）スチレン、２－（クロロメチル）スチレン、３－（クロロメチル）スチレン、４－スチレンスルホン酸又はそのアルカリ金属塩（ナトリウム塩、カリウム塩等）等のスチレン系モノマー；２－ビニルチオフェン、Ｎ－メチル－２－ビニルピロール等のヘテロ環含有不飽和モノマー；Ｎ－ビニルホルムアミド、Ｎ－ビニルアセトアミド等のビニルアミド；ジアリルアミン、トリアリルイソシアヌレート、トリ（２－メチル－アリル）イソシアヌレート、エチレン、プロピレン、１－ブテン、イソブテン、１－ヘキセン、１－オクテン、１－デセン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、２，３，３，３－テトラフルオロプロピレン、塩化ビニリデン、塩化ビニル、１－クロロ－１－フルオロエチレン、又は１，２－ジクロロ－１，２－ジフルオロエチレン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ－ペルフルオロ（ｎ－１－ヘキセン）、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ－ペルフルオロ（ｎ－１－オクテン）等のα－オレフィン；酢酸ビニル等のビニルエステルモノマー；１，４－ジビニルオクタフルオロブタン、１，６－ジビニルドデカフルオロヘキサン等のジビニルフルオロアルカン；アクリロニトリル；アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアクリルアミド等のアクリルアミドモノマー；メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ｔ－ブチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル；ペルフルオロ（メチルビニルエーテル）、ペルフルオロ（エチルビニルエーテル）、ペルフルオロ（ｎ－プロピルビニルエーテル）等のペルフルオロ（アルキルビニルエーテル）；などが挙げられる。式（３）で表される化合物は、１種を単独で用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。

　好ましい一態様として、式（３）において、Ｒ^１～Ｒ^４はそれぞれ独立して、水素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、又は置換又は非置換の炭素数１～４０の少なくとも１つの反応性炭素－炭素二重結合を有する有機基を表し、Ｒ^１とＲ^４、又はＲ^２とＲ^３は連結して環状構造を構成していてもよく、前記式（３）は少なくとも２つの反応性炭素－炭素二重結合を有する態様が挙げられる。この場合の式（３）で表される化合物を「少なくとも２つの反応性炭素－炭素二重結合を有する式（３）で表される化合物」とも称する。少なくとも２つの反応性炭素－炭素二重結合を有する式（３）で表される化合物を、例えばＣ－Ｉ結合を有する含フッ素重合体、又はＣ－Ｉ結合を有する含塩素重合体と反応させることによって、含フッ素重合体又は含塩素重合体に架橋構造を導入できる。

　少なくとも２つの反応性炭素－炭素二重結合を有する式（３）で表される化合物における、置換又は非置換の炭素数１～４０の少なくとも１つの反応性炭素－炭素二重結合を有する有機基において、反応性炭素－炭素二重結合の数は１～５であることが好ましく、１～４であることがより好ましく、１～３であることがさらに好ましい。

　少なくとも２つの反応性炭素－炭素二重結合を有する式（３）で表される化合物における、置換又は非置換の炭素数１～４０の少なくとも１つの反応性炭素－炭素二重結合を有する有機基の炭素数は、１～３０であることが好ましく、１～２０であることがより好ましい。また、当該有機基は、直鎖状、分岐鎖状又は環状のいずれでもよく、不飽和結合を含んでいても含んでいなくてもよい。さらに、当該有機基はヘテロ原子を含んでいても含んでいなくてもよく、置換基主鎖にヘテロ原子を含んでいてもよい。

　少なくとも２つの反応性炭素－炭素二重結合を有する式（３）で表される化合物の具体例としては、ジアリルアミン、１，４－ジビニルオクタフルオロブタン、１，６－ジビニルドデカフルオロヘキサン、トリアリルイソシアヌレート、トリ（２－メチル－アリル）イソシアヌレート、ジビニルベンゼン、２つのマレイミド基を有する含フッ素化合物等が挙げられる。

　さらなる好ましい一態様として、式（３）で表される化合物が、下記式（５）で表される化合物を含む態様が挙げられる。

　式（５）中、Ｘはフッ素原子又は塩素原子を表し、Ｘ^２～Ｘ^４はそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、又は－ＣＸ^５Ｘ^６Ｘ^７を表し、Ｘ^５～Ｘ^７はそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、又は塩素原子を表す。

　式（５）において、Ｘ^２～Ｘ^４のうちいずれか１つのみが－ＣＸ^５Ｘ^６Ｘ^７である場合、式（５）はプロピレン構造となる。この場合には、反応性の観点から、Ｘ^３又はＸ^４が－ＣＸ^５Ｘ^６Ｘ^７であることが好ましく、Ｘ^３が－ＣＸ^５Ｘ^６Ｘ^７であることがより好ましい。
　また、Ｘ^２～Ｘ^４は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子であることも好ましい。

　式（５）で表される化合物としては、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、ブロモトリフルオロエチレン、ヨードトリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、１，３，３，３－テトラフルオロプロピレン、２，３，３，３－テトラフルオロプロピレン、１－クロロ－１－フルオロエチレン、１－ブロモ－１－フルオロエチレン、１－ヨード－１－フルオロエチレン、１，１－ジブロモ－２，２－ジフルオロエチレン、１，１－ジフルオロ－２，２－ジヨードエチレン、１，２－ジクロロ－１，２－ジフルオロエチレン、１，２－ジブロモ－１，２－ジフルオロエチレン、１，２－ジフルオロ－１，２－ジヨードエチレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等が挙げられる。

　式（５）で表される化合物としては、重合体を得る際の重合反応性の点から、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、２，３，３，３－テトラフルオロプロピレン、塩化ビニル、又は塩化ビニリデンが好ましい。

＜他の任意成分＞
　本開示の製造方法では、化合物（１０）以外のラジカル開始剤、溶媒、乳化剤、懸濁助剤、酸又はアルカリ、式（２１）で表される化合物及び式（２２）で表される化合物以外の反応制御剤等の他の成分をさらに用いてもよい。

（ラジカル開始剤）
　本開示の製造方法において、化合物（１０）以外のラジカル開始剤を併用してもよい。ラジカル開始剤としては、アゾ系ラジカル開始剤、過酸化物系ラジカル開始剤等が挙げられる。

　アゾ系ラジカル開始剤としては、２，２’－アゾビス（イソブチロニトリル）（ＡＩＢＮ）、２，２’－アゾビス（２－メチルブチロニトリル）（ＡＭＢＮ）、２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）（ＡＤＶＮ）、１，１’－アゾビス（１－シクロヘキサンカルボニトリル）（ＡＣＨＮ）、ジメチル－２，２’－アゾビスイソブチレート（ＭＡＩＢ）、４，４’－アゾビス（４－シアノバレリアン酸）（ＡＣＶＡ）、１，１’－アゾビス（１－アセトキシ－１－フェニルエタン）、２，２’－アゾビス（２－メチルブチルアミド）、２，２’－アゾビス（４－メトキシ－２，４－ジメチルバレロニトリル）、２，２’－アゾビス（２－メチルアミジノプロパン）二塩酸塩、２，２’－アゾビス［２－（２－イミダゾリン－２－イル）プロパン］、２，２’－アゾビス［２－メチル－Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）プロピオンアミド］、２，２’－アゾビス（２，４，４－トリメチルペンタン）、２－シアノ－２－プロピルアゾホルムアミド、２，２’－アゾビス（Ｎ－ブチル－２－メチルプロピオンアミド）、２，２’－アゾビス（Ｎ－シクロヘキシル－２－メチルプロピオンアミド）等が挙げられる。

　これらのアゾ系ラジカル開始剤は、反応条件に応じて適宜選択することが好ましい。
　例えば、４０℃以下の低温重合の場合は、２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）（ＡＤＶＮ）、２，２’－アゾビス（４－メトキシ－２，４－ジメチルバレロニトリル）等を用いることが好ましい。
　４０～８０℃の中温重合の場合は、２，２’－アゾビス（イソブチロニトリル）（ＡＩＢＮ）、２，２’－アゾビス（２－メチルブチロニトリル）（ＡＭＢＮ）、ジメチル－２，２’－アゾビスイソブチレート（ＭＡＩＢ）、１，１’－アゾビス（１－アセトキシ－１－フェニルエタン）、４，４’－アゾビス（４－シアノバレリアン酸）（ＡＣＶＡ）、２，２’－アゾビス（２－メチルブチルアミド）、２，２’－アゾビス（２－メチルアミジノプロパン）二塩酸塩、２，２’－アゾビス［２－（２－イミダゾリン－２－イル）プロパン］等を用いることが好ましい。
　８０℃以上の高温重合の場合は、１，１’－アゾビス（１－シクロヘキサンカルボニトリル）（ＡＣＨＮ）、２－シアノ－２－プロピルアゾホルムアミド、２，２’－アゾビス（Ｎ－ブチル－２－メチルプロピオンアミド）、２，２’－アゾビス（Ｎ－シクロヘキシル－２－メチルプロピオンアミド）、２，２’－アゾビス（２，４，４－トリメチルペンタン）、２，２’－アゾビス［２－メチル－Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）プロピオンアミド］等を用いることが好ましい。

　過酸化物系ラジカル開始剤としては、β開裂のしやすさの観点からジアルキルパーオキサイド、ジアシルパーオキサイド、パーオキシケタールが好ましく、ジアシルパーオキサイドがより好ましい。これらの過酸化物系ラジカル開始剤は、β開裂により速やかに炭素中心ラジカル種を生成させるため、式（２１）で表される化合物及び式（２２）で表される化合物の触媒機能を好適に発揮させやすい。

　過酸化物系ラジカル開始剤としては、具体的には、ｔｅｒｔ－ブチルクミルパーオキサイド、ジ－ｔｅｒｔ－ブチルパーオキサイド、ジ－ｔｅｒｔ－ヘキシルパーオキサイド等のジアルキルパーオキサイド；ジイソブチリルパーオキサイド、ジ（３，５，５－トリメチルヘキサノイル）パーオキサイド、ジラウロイルパーオキサイド、ジコハク酸パーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、並びにジベンゾイルパーオキサイド、ベンゾイルｍ－メチルベンゾイルパーオキサイド及びｍ－トルオイルパーオキサイドの混合物等のジアシルパーオキサイド；２，２－ビス（４，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシシクロヘキシル）プロパン、１，１－ジ（ｔｅｒｔ－ヘキシルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１－ジ（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、ｎ－ブチル４，４－ジ（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシ）バレレート、２，２－ジ（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシ）ブタン等のパーオキシケタールなどが挙げられる。さらに、特表平０８－５０６１４０号公報に記載の含フッ素パーオキサイドも使用できる。

　式（２１）で表される化合物及び式（２２）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１つの存在下での、化合物（１０）と式（３）で表される化合物との反応において、化合物（１０）以外のラジカル開始剤を併用する場合、化合物（１０）１ｍｏｌに対して、化合物（１０）以外のラジカル開始剤を０．０００１ｍｏｌ～１０ｍｏｌ使用することが好ましく、０．０１ｍｏｌ～５ｍｏｌ使用することがより好ましく、０．１ｍｏｌ～２ｍｏｌ使用することがさらに好ましい。
　式（２１）で表される化合物及び式（２２）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１つの存在下での、化合物（１０）と式（３）で表される化合物との反応において、アゾ系ラジカル開始剤又は過酸化物系ラジカル開始剤を併用する場合、化合物（１０）１ｍｏｌに対して、アゾ系ラジカル開始剤又は過酸化物系ラジカル開始剤を０．０００１ｍｏｌ～１０ｍｏｌ使用することが好ましく、０．０１ｍｏｌ～５ｍｏｌ使用することがより好ましく、０．１ｍｏｌ～２ｍｏｌ使用することがさらに好ましい。

（溶媒）
　本開示の製造方法における反応は、有機溶媒（イオン液体を含む）又は水性溶媒を使用して行ってもよい。

　有機溶媒としては、ベンゼン、トルエン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、アセトン、２－ブタノン（メチルエチルケトン）、ジオキサン、ヘキサフルオロイソプロパノール、クロロホルム、四塩化炭素、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、酢酸エチル、１Ｈ－ペルフルオロヘキサン、１Ｈ，１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ－ペルフルオロオクタン、トリフルオロメチルベンゼン、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、１，４－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、ベンゾトリフルオリド、クロロベンゼン、アセトニトリル等が挙げられる。
　また、Ｎ－メチル－Ｎ－メトキシメチルピロリジウムテトラフルオロボレート、Ｎ－メチル－Ｎ－エトキシメチルテトラフルオロボレート、１－メチル－３－メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、１－メチル－３－メチルイミダゾリウムヘキサフルオロフォスフェート、１－メチル－３－メチルイミダゾリウムクロライド等のイオン液体を用いてもよい。

　水性溶媒としては、例えば、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ－ブタノール、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、１－メトキシ－２－プロパノール、ジアセトンアルコール等が挙げられる。

　溶媒の使用量は、適宜調節できる。例えば、得られるヨウ素含有化合物１０００ｇに対して、溶媒を０．０１Ｌ～５０Ｌ使用することが好ましく、０．０５Ｌ～１０Ｌ使用することがより好ましく、０．１Ｌ～５Ｌ使用することがさらに好ましい。

（反応制御剤）
　本開示の製造方法において、式（２１）で表される化合物及び式（２２）で表される化合物以外の反応制御剤を併用してもよい。なかでも、式（２１）で表される化合物においてＡ^１が水素原子である場合、当該式（２１）で表される化合物に、反応制御剤として、窒素中心の配位性化合物又は酸素中心の配位性化合物を併用することで、特に好適な制御重合が進行する傾向にある。かかる反応制御剤としては、アンモニア、トリアルキルアミン、ピリジン等の含窒素芳香族化合物；水、アルコール、エーテル、含カルボニル基化合物などが挙げられる。Ａ^１が水素原子である式（２１）で表される化合物と、窒素中心の配位性化合物又は酸素中心の配位性化合物と、を併用する場合、式（２１）で表される化合物１ｍｏｌに対して、配位性化合物を０．１ｍｏｌ～１０ｍｏｌ併用することが好ましい。

＜生成物＞
　得られるヨウ素含有化合物は重合体であってもよい。当該重合体はブロック共重合体であっても、ランダム共重合体であっても、交互共重合体であってもよい。

　得られるヨウ素含有化合物が重合体である場合、重合体の分子量は、反応時間、式（２１）で表される化合物及び（２２）で表される化合物の種類と量、及び化合物（１０）の量により調節可能である。
　例えば、重合体の数平均分子量（Ｍｎ）は１００～１，０００，０００であってもよく、１，０００～５００，０００であってもよく、１０，０００～２００，０００であってもよい。
　また、重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００～１，０００，０００であってもよく、１，０００～５００，０００であってもよく、１０，０００～２００，０００であってもよい。
　本開示における数平均分子量（Ｍｎ）及び重量平均分子量（Ｍｗ）は、ＳＥＣ（Ｓｉｚｅ　Ｅｘｃｌｕｓｉｏｎ　Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ；サイズ排除クロマトグラフィー）測定により求めたものであり、分子量換算用の標準物質としてポリスチレンを用いる。装置、及び移動相を除く測定条件は特開２０１１－２２６８４６号公報の実施例に準じる。移動相にはテトラヒドロフランを用いて３０℃で測定を行う。３０℃でテトラヒドロフランに不溶な重合体については、イソホロン、２－クロロベンゾトリフルオリド、２，６－ジクロロベンゾトリフルオリド、３’，５’－ビス（トリフルオロメチル）アセトフェノン、及びこれらの混合物から、重合体が溶解可能な溶媒を選択して１４０℃～２００℃で測定を行う。

　本開示の製造方法によれば、得られる重合体の多分散度を、例えば２．５以下に制御することが可能である。本開示の製造方法によれば、多分散度が好ましくは２．１以下、２．０以下、１．９以下、１．８以下、１．７以下、１．６以下、又は１．５以下といった、非常に狭い分子量分布を有する重合体を得ることも可能である。なお、多分散度の下限値は、その定義から１．０である。
　分子量分布の指標である多分散度（ＰＤ）は下式により求められる。
｛ＰＤ＝Ｍｗ（重量平均分子量）／Ｍｎ（数平均分子量）｝
　多分散度の測定において、ＳＥＣによるＭｎとＭｗの測定には同じ溶媒を用いる。

　本開示の製造方法において、アゾ系ラジカル開始剤又は過酸化物系ラジカル開始剤を併用して重合体を製造する場合、得られるヨウ素含有化合物は、一部において使用したラジカル開始剤由来の構造を含む重合体となる。しかしながら、本開示の製造方法によれば、一般的なアゾ系ラジカル開始剤又は過酸化物系ラジカル開始剤を使用する重合方法と比べて、得られる重合体末端に対する、使用したアゾ系ラジカル開始剤又は過酸化物系ラジカル開始剤由来の構造の割合を低減できる。すなわち、本開示の製造方法によれば、アゾ系ラジカル開始剤又は過酸化物系ラジカル開始剤を起点としてモノマーを重合させるのではなく、化合物（１０）を起点とした重合を進行させられるため、併用したアゾ系ラジカル開始剤又は過酸化物系ラジカル開始剤由来の構造が重合体に組み込まれる割合を低減できる。アゾ系ラジカル開始剤又は過酸化物系ラジカル開始剤由来の構造の割合は、重合体末端のｍｏｌ数に対して、４０ｍｏｌ％以下であることが好ましく、３０ｍｏｌ％以下であることがより好ましく、２０ｍｏｌ％以下であることがさらに好ましく、１０ｍｏｌ％以下であることが特に好ましい。
　重合体末端のｍｏｌ数に対する、アゾ系ラジカル開始剤又は過酸化物系ラジカル開始剤由来の構造の割合が、４０ｍｏｌ％以下、３０ｍｏｌ％以下、２０ｍｏｌ％以下、又は１０ｍｏｌ％以下であるか否かは、ＮＭＲを用いて開始剤のｍｏｌ数を算出し、式Ｘにより定義される重合体末端のｍｏｌ数に対する開始剤のｍｏｌ数の割合を算出することにより判定する。式Ｘにおいて、繰り返し単位の平均分子量は繰り返し単位の分子量のモル分率で重みを付けた算術平均である。
（式Ｘ）
（重合体末端のｍｏｌ数）＝２×Ｍｎ／（重合体中の繰り返し単位の平均分子量）
　また、ラジカル開始剤の分解により生成するラジカルが炭素原子－ヘテロ原子間の多重結合を有する場合、上記事項はＩＲによっても判定できる。

〔ヨウ素含有化合物の製造方法〕
　本開示の製造方法は、上述したように、式（２１）で表される化合物及び式（２２）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１つの存在下、化合物（１０）と、式（３）で表される化合物と、を反応させることを含む。
　一実施形態において、本開示の製造方法により、含フッ素モノマーの重合体又は含塩素モノマーの重合体を製造できる。一実施形態において、本開示の製造方法により、含フッ素モノマー又は含塩素モノマーとその他のモノマーとの共重合体を製造できる。一実施形態において、本開示の製造方法により、含フッ素重合体又は含塩素モノマーに架橋構造を導入できる。
　以下、本開示の製造方法の例示的な実施形態（第１の実施形態～第３の実施形態）について説明する。

（１）第１の実施形態
　第１の実施形態に係るヨウ素含有化合物の製造方法は、式（２１）で表される化合物及び式（２２）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１つの存在下、式（１）で表される部分構造を有する化合物（１０）と、式（５）で表される化合物と、を反応させることを含む。以下、第１の実施形態に係るヨウ素含有化合物の製造方法を「第１の実施形態に係る製造方法」ともいう。

　第１の実施形態に係る製造方法では、式（２１）で表される化合物及び式（２２）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１つの存在により、化合物（１０）における末端のヨウ素が引き抜かれ、当該末端に発生したラジカルにより式（５）で表される化合物の重合反応が起こる。本手法を採用することにより、分子量分布が高度に制御された含フッ素重合体又は含塩素重合体が得られる。

　具体的な反応条件の例を以下に説明する。
　不活性ガスで置換した容器又は真空減圧した容器内で、式（２１）で表される化合物及び式（２２）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１つ、化合物（１０）、及び式（５）で表される化合物を混合する。式（５）で表される化合物を複数種混合してもよい。必要に応じて、アゾ系ラジカル開始剤、過酸化物系ラジカル開始剤等、化合物（１０）以外のラジカル開始剤を混合する。式（２１）で表される化合物及び式（２２）で表される化合物以外の反応制御剤を併用してもよい。
　不活性ガスとしては、窒素、アルゴン、ヘリウムが挙げられる。これらの中でも、窒素又はアルゴンが好ましく、窒素がより好ましい。

　第１の実施形態に係る製造方法では、式（５）で表される化合物１ｍｏｌに対して、化合物（１０）を０．００１ｍｏｌ～１ｍｏｌ使用することが好ましく、０．０１ｍｏｌ～１ｍｏｌ使用することがより好ましく、０．０２ｍｏｌ～０．５ｍｏｌ使用することがさらに好ましい。

　反応は、無溶媒でも行えるが、一般的なラジカル重合で通常使用される有機溶媒（イオン液体を含む）又は水性溶媒を使用して行ってもよい。

　次に、上記により得られた混合物を撹拌する。反応温度及び反応時間は、生成物の分子量、分子量分布等により適宜調節できる。反応温度は、分子量分布を好適に制御する観点からは、１０℃～１００℃であることが好ましく、２０℃～８０℃であることがより好ましく、３０℃～６０℃であってもよい。反応時間は、所望の分子量を得るために適宜調節でき、例えば１時間～２４時間であってもよく、２時間～１０時間であってもよい。撹拌は、通常は常圧で行われるが、加圧又は減圧してもよい。

　反応終了後、常法により使用溶媒及び残存モノマーを減圧下で除去して目的化合物を取り出したり、目的化合物が不溶である溶媒を使用して再沈澱処理したりすることにより目的化合物を単離する。反応処理は、目的化合物に支障がない限りどのような処理方法でもよい。

（２）第２の実施形態
　第２の実施形態に係るヨウ素含有化合物の製造方法は、得られるヨウ素含有化合物が、本開示の製造方法において、式（５）で表される第１の化合物と、式（３）で表される化合物のうち前記第１の化合物とは異なる化合物と、を共重合させてなる共重合体である実施形態である。第２の実施形態に係るヨウ素含有化合物の製造方法によれば、式（５）で表される含フッ素重合体又は含塩素重合体を含む共重合体が好適に得られる。以下、第２の実施形態に係るヨウ素含有化合物の製造方法を、「第２の実施形態に係る製造方法」ともいう。また、以下、共重合に用いる、式（３）で表される化合物のうち第１の化合物とは異なる化合物を共重合モノマーともいう。

　第１の化合物の詳細は、上述した式（５）に表される化合物についての詳細と同じである。

　共重合モノマーは、式（５）で表される化合物のうち第１の化合物とは異なる化合物であってもよく、式（３）で表される化合物のうち式（５）で表される化合物以外の化合物であってもよい。
　共重合モノマーとしては、（メタ）アクリル酸エステルモノマー、スチレン系モノマー、トリアリルイソシアヌレート、エチレン、プロピレン、イソブチレン、アルキルビニルエーテル、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ－ペルフルオロ（ｎ－１－ヘキセン）、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ－ペルフルオロ（ｎ－１－オクテン）、１，４－ジビニルオクタフルオロブタン、１，６－ジビニルドデカフルオロヘキサン、ペルフルオロ（アルキルビニルエーテル）等であって第１の化合物とは異なる化合物が挙げられる。

　好ましい（メタ）アクリル酸エステルモノマーとしては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、及び（メタ）アクリル酸ブチルが挙げられ、（メタ）アクリル酸メチル又は（メタ）アクリル酸ブチルがより好ましい。

　好ましいスチレン系モノマーとしては、スチレン、α－メチルスチレン、２－メチルスチレン、４－メチルスチレン、４－メトキシスチレン、４－クロロスチレン、４－（クロロメチル）スチレン、ジビニルベンゼン、及び４－スチレンスルホン酸又はそのアルカリ金属塩が挙げられ、スチレン、４－メトキシスチレン、４－クロロスチレン、及び４－（クロロメチル）スチレンがより好ましい。アルカリ金属塩としては、ナトリウム塩、カリウム塩等が挙げられる。

　好ましいアルキルビニルエーテルとしては、メチルビニルエーテル、及びエチルビニルエーテルが挙げられる。
　好ましいペルフルオロ（アルキルビニルエーテル）としては、ペルフルオロ（メチルビニルエーテル）、ペルフルオロ（エチルビニルエーテル）、及びペルフルオロ（ｎ－プロピルビニルエーテル）が挙げられる。　

　なかでも、共重合モノマーは、エチレン、プロピレン、イソブチレン、アルキルビニルエーテル、ヘキサフルオロプロピレン、ペルフルオロ（アルキルビニルエーテル）、トリアリルイソシアヌレート、１，４－ジビニルオクタフルオロブタン、１，６－ジビニルドデカフルオロヘキサン、酢酸ビニル、スチレン、アクリル酸ブチル、及びジビニルベンゼンからなる群より選択される少なくとも１つであることが好ましい。

　共重合はブロック共重合であっても、ランダム共重合であっても、交互共重合であってもよい。ブロック共重合体、ランダム共重合体、及び交互共重合体は、例えば以下の方法によって製造できる。

－ブロック共重合体－
　式（２１）で表される化合物及び式（２２）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１つと化合物（１０）とを用いることにより、例えば、トリフルオロエチレン－スチレン等のＡ－Ｂジブロック共重合体、スチレン－トリフルオロエチレン－スチレン等のＢ－Ａ－Ｂトリブロック共重合体等が得られる。

　ブロック共重合体は、例えば、式（２１）で表される化合物及び式（２２）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１つの存在下、式（５）で表される第１の化合物の重合体であって式（１）で表される部分構造を有する化合物（１０）と、式（３）で表される化合物のうち前記第１の化合物とは異なる化合物と、を反応させることを含む製造方法により得てもよい。ブロック共重合は、化合物（１０）以外のラジカル開始剤を併用して行ってもよい。

　例えば、Ａ－Ｂジブロック共重合体を得る場合、例えば、トリフルオロエチレン－スチレン共重合体を製造する場合は次のとおりである。まず、第１の実施形態に係る製造方法において説明した方法により、ポリトリフルオロエチレンを製造する。続いて得られたポリトリフルオロエチレンにスチレンを混合して、第１の実施形態に係る製造方法において説明した方法により反応を行うことによって、トリフルオロエチレン－スチレン共重合体が得られる。ただし、共重合モノマーの重合において、第１の実施形態において重合させる「式（５）で表される化合物」は「共重合モノマー」と読み替える。

　Ｂ－Ａ－Ｂトリブロック共重合体を製造する場合には、上記Ａ－Ｂジブロック共重合体の製造方法で、モノヨード含ハロゲン有機化合物の代わりにジヨード含ハロゲン有機化合物を用いる方法が挙げられる。

　上述のブロック共重合体の製造方法において、１つのブロックを製造後、そのまま次のブロックを製造する反応を開始してもよいし、一度反応を終了し、精製した後に、次のブロックの反応を開始してもよい。ブロック共重合体の単離は通常の方法により行える。

－ランダム共重合体、交互共重合体－　
　式（２１）で表される化合物及び式（２２）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１つの存在下で、式（５）で表される第１の化合物と共重合モノマーとを並行して反応させることによりランダム共重合体又は交互共重合体が得られる。共重合は、化合物（１０）以外のラジカル開始剤を併用して行ってもよい。

　得られる共重合体がランダム共重合体になるか、交互共重合体になるかは、第１の化合物及び共重合モノマーの種類、並びに相対的な量によって決定される。

　ランダム共重合、交互共重合のいずれの場合においても、その他の重合に係る条件としては、第１の実施形態の説明に記載したものと同様の条件を用いることができる。

（３）第３の実施形態
　第３の実施形態に係るヨウ素含有化合物の製造方法は、式（３）において、Ｒ^１～Ｒ^４はそれぞれ独立して、水素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、又は置換又は非置換の炭素数１～４０の少なくとも１つの反応性炭素－炭素二重結合を有する有機基を表し、Ｒ^１とＲ^４、又はＲ^２とＲ^３は連結して環状構造を構成していてもよく、前記式（３）は少なくとも２つの反応性炭素－炭素二重結合を有する実施形態である。すなわち、第３の実施形態に係るヨウ素含有化合物の製造方法は、式（３）で表される化合物として、少なくとも２つの反応性炭素－炭素二重結合を有する式（３）で表される化合物を用いる実施形態である。以下、第３の実施形態に係るヨウ素含有化合物の製造方法を、「第３の実施形態に係る製造方法」ともいう。
　少なくとも２つの反応性炭素－炭素二重結合を有する式（３）で表される化合物を用いることによって、フッ素を含有する化合物（１０）に架橋構造を導入できる。例えば、化合物（１０）として、末端がヨウ素で保護されている含フッ素重合体又は含塩素重合体を用いて、式（２１）で表される化合物及び式（２２）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１つの存在下、少なくとも２つの反応性炭素－炭素二重結合を有する式（３）で表される化合物を反応させることによって、架橋構造を導入できる。

　具体的な反応条件は、第１の実施形態において説明した反応条件と同じである。ただし、第１の実施形態において重合させる「式（５）で表される化合物」は「少なくとも２つの反応性炭素－炭素二重結合を有する式（３）で表される化合物」と読み替える。また、第３の実施形態において、少なくとも２つの反応性炭素－炭素二重結合を有する式（３）で表される化合物１ｍｏｌに対して、化合物（１０）は０．０１ｍｏｌ～１０ｍｏｌ使用することが好ましく、０．０５ｍｏｌ～５ｍｏｌ使用することがより好ましく、０．１ｍｏｌ～１．２ｍｏｌ使用することがさらに好ましい。

　以下に実施例を挙げ、本開示の実施形態を具体的に説明するが、本開示の実施形態は下記の実施例により限定されるものではない。なお、以下の例１～例１２は実施例に相当し、例１３～例１５は比較例に相当する。

（例１）
　窒素置換されたグローブボックス内で、内容積が３０ｍＬの撹拌機付きステンレス鋼製オートクレーブに、０．０２４ｇ（０．１０ｍｍｏｌ）のアゾ系ラジカル開始剤「Ｖ－４０」（商品名、富士フイルム和光純薬株式会社）、０．０１２ｇ（０．１０ｍｍｏｌ）の９－ボラビシクロ［３．３．１］ノナン、０．０１６ｇ（０．２０ｍｍｏｌ）のピリジン、０．０３５ｇ（０．１ｍｍｏｌ）のｎ－ノナフルオロブチルヨージド、及び１７．９ｇのベンゾトリフルオリドを仕込んだ。
　３．２ｇ（５０ｍｍｏｌ）のフッ化ビニリデンを圧入したのち、内温を１００℃まで昇温させながら撹拌を開始した。内温を保持したまま２００ｒｐｍ（毎分２００回転）で撹拌を５時間行ったところ、内圧は１．４ＭＰａ（ゲージ圧）から１．３ＭＰａまで減少した。
　オートクレーブを氷水浴で冷却した後、未反応のフッ化ビニリデンをパージした。

　得られた重合体溶液を真空乾燥させ、固体を得た。この固体を２０ｍＬのメタノール中に加えて３０分間撹拌し、その後遠心分離機を用いて固体と上澄みとを分離した。得られた固体を真空乾燥させたところ、０．１９ｇの固体を得た。
　得られた固体を移動相にテトラヒドロフランを用いたサイズ排除クロマトグラフィーで測定したところ、Ｍｎ＝４，９００、Ｍｗ＝９，７００であった。
　算出される含フッ素重合体の多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は２．０であった。
　得られた固体の１Ｈ－ＮＭＲ及び１９Ｆ－ＮＭＲを測定したところ、該重合体の末端のｍｏｌ数に対する、該重合体に含まれるＶ－４０由来の構造のｍｏｌ数の割合は５ｍｏｌ％以下と算出された。

（例２）
　窒素置換されたグローブボックス内で、内容積が３０ｍＬの撹拌機付きステンレス鋼製オートクレーブに、０．０２４ｇ（０．１０ｍｍｏｌ）のアゾ系ラジカル開始剤「Ｖ－４０」（商品名、富士フイルム和光純薬株式会社）、０．０１２ｇ（０．１０ｍｍｏｌ）の９－ボラビシクロ［３．３．１］ノナン、０．０１６ｇ（０．２０ｍｍｏｌ）のピリジン、０．０３５ｇ（０．１０ｍｍｏｌ）のｎ－ノナフルオロブチルヨージド、及び１７．９ｇのベンゾトリフルオリドを仕込み、凍結脱気した。
　３．２ｇ（５０ｍｍｏｌ）のフッ化ビニリデンを圧入したのち、内温を１００℃まで昇温させながら撹拌を開始した。内温を保持したまま２００ｒｐｍで撹拌を１０時間行ったところ、内圧は１．４ＭＰａから１．２ＭＰａまで減少した。
　オートクレーブを氷水浴で冷却した後、未反応のフッ化ビニリデンをパージした。

　得られた重合体溶液を真空乾燥させ、固体を得た。この固体を２０ｍＬのメタノール中に加えて３０分間撹拌し、その後遠心分離機を用いて固体と上澄みとを分離した。得られた固体を真空乾燥させたところ、０．３２ｇの固体を得た。
　得られた固体を移動相にテトラヒドロフランを用いたサイズ排除クロマトグラフィーで測定したところ、Ｍｎ＝６，９００、Ｍｗ＝１１，６００であった。
　算出される含フッ素重合体の多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．７であった。
　得られた固体の１Ｈ－ＮＭＲ及び１９Ｆ－ＮＭＲを測定したところ、該重合体の末端のｍｏｌ数に対する、該重合体に含まれるＶ－４０由来の構造のｍｏｌ数の割合は５ｍｏｌ％以下と算出された。

（例３）
　窒素置換されたグローブボックス内で、内容積が３０ｍＬの撹拌機付きステンレス鋼製オートクレーブに、０．０２４ｇ（０．１０ｍｍｏｌ）のアゾ系ラジカル開始剤「Ｖ－４０」（商品名、富士フイルム和光純薬株式会社）、０．０１２ｇ（０．１０ｍｍｏｌ）の９－ボラビシクロ［３．３．１］ノナン、０．０１６ｇ（０．２０ｍｍｏｌ）のピリジン、０．０３５ｇ（０．１０ｍｍｏｌ）のｎ－ノナフルオロブチルヨージド、及び１７．９ｇのベンゾトリフルオリドを仕込み、凍結脱気した。
　０．７５ｇ（５．０ｍｍｏｌ）のヘキサフルオロプロピレン及び２．９ｇ（４５ｍｍｏｌ）のフッ化ビニリデンを圧入したのち、内温を１００℃まで昇温させながら撹拌を開始した。内温を保持したまま２００ｒｐｍで撹拌を１０時間行ったところ、内圧は１．２ＭＰａから１．１ＭＰａまで減少した。
　オートクレーブを氷水浴で冷却した後、未反応のヘキサフルオロプロピレン及びフッ化ビニリデンをパージした。

　得られた重合体溶液を真空乾燥させ、固体を得た。この固体を２０ｍＬのメタノール中に加えて３０分間撹拌し、その後遠心分離機を用いて固体と上澄みとを分離した。得られた固体を真空乾燥させたところ、０．２５ｇの固体を得た。
　得られた固体を移動相にテトラヒドロフランを用いたサイズ排除クロマトグラフィーで測定したところ、Ｍｎ＝５，４００、Ｍｗ＝１０，１００であった。
　算出される含フッ素重合体の多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．９であった。
　得られた固体の１Ｈ－ＮＭＲ及び１９Ｆ－ＮＭＲを測定したところ、該重合体の末端のｍｏｌ数に対する、該重合体に含まれるＶ－４０由来の構造のｍｏｌ数の割合は５ｍｏｌ％以下と算出された。

（例４）
　窒素置換されたグローブボックス内で、内容積が３０ｍＬの撹拌機付きステンレス鋼製オートクレーブに、０．０１２ｇ（０．０５０ｍｍｏｌ）のアゾ系ラジカル開始剤「Ｖ－４０」（商品名、富士フイルム和光純薬株式会社）、０．０１０ｇ（０．０５０ｍｍｏｌ）の１，４－ビス（ジメチルシリル）ベンゼン、０．０３５ｇ（０．１０ｍｍｏｌ）のｎ－ノナフルオロブチルヨージド、及び１７．９ｇのベンゾトリフルオリドを仕込み、凍結脱気した。
　３．２ｇ（５０ｍｍｏｌ）のフッ化ビニリデンを圧入したのち、内温を１００℃まで昇温させながら撹拌を開始した。内温を保持したまま２００ｒｐｍで撹拌を１０時間行ったところ、内圧は１．４ＭＰａから１．２ＭＰａまで減少した。
　オートクレーブを氷水浴で冷却した後、未反応のフッ化ビニリデンをパージした。

　得られた重合体溶液を真空乾燥させ、固体を得た。この固体を２０ｍＬのメタノール中に加えて３０分間撹拌し、その後遠心分離機を用いて固体と上澄みとを分離した。得られた固体を真空乾燥させたところ、０．２９ｇの固体を得た。
　得られた固体を移動相にテトラヒドロフランを用いたサイズ排除クロマトグラフィーで測定したところ、Ｍｎ＝１７，１００、Ｍｗ＝３２，４００であった。
　算出される含フッ素重合体の多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．９であった。
　得られた固体の１Ｈ－ＮＭＲ及び１９Ｆ－ＮＭＲを測定したところ、該重合体の末端のｍｏｌ数に対する、該重合体に含まれるＶ－４０由来の構造のｍｏｌ数の割合は５ｍｏｌ％以下と算出された。

（例５）
　窒素置換されたグローブボックス内で、内容積が３０ｍＬの撹拌機付きステンレス鋼製オートクレーブに、０．０２６ｇ（０．１６ｍｍｏｌ）の２，２’－アゾビス（イソブチロニトリル）、０．０４０ｇ（０．１６ｍｍｏｌ）の９－ヨード－９－ボラビシクロ［３．３．１］ノナン、０．０２５ｇ（０．３２ｍｍｏｌ）のピリジン、０．０５５ｇ（０．１６ｍｍｏｌ）のｎ－ノナフルオロブチルヨージド、及び１７．９ｇのベンゾトリフルオリドを仕込み、凍結脱気した。
　９．３ｇ（８０ｍｍｏｌ）のクロロトリフルオロエチレンを圧入したのち、内温を７５℃まで昇温させながら撹拌を開始した。内温を保持したまま２００ｒｐｍで撹拌を６時間行ったところ、内圧は０．５ＭＰａから０．３ＭＰａまで減少した。
　オートクレーブを氷水浴で冷却した後、未反応のクロロトリフルオロエチレンをパージした。

　得られた重合体溶液を真空乾燥させ、固体を得た。この固体を５０ｍＬのメタノール中に加えて３０分間撹拌し、その後遠心分離機を用いて固体と上澄みとを分離した。得られた固体を真空乾燥させたところ、３．９ｇの固体を得た。
　得られた固体を移動相に３’，５’－ビス（トリフルオロメチル）アセトフェノンを用いたサイズ排除クロマトグラフィーで測定したところ、Ｍｎ＝２４，７００、Ｍｗ＝３４，８００であった。
　算出される含フッ素重合体の多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．４であり、このラジカル重合はリビングラジカル重合の特徴を示す。

（例６）
　窒素置換されたグローブボックス内で、内容積が３０ｍＬの撹拌機付きステンレス鋼製オートクレーブに、０．０３３ｇ（０．２０ｍｍｏｌ）の２，２’－アゾビス（イソブチロニトリル）、０．０２４ｇ（０．２０ｍｍｏｌ）の９－ボラビシクロ［３．３．１］ノナン、０．０３２ｇ（０．４０ｍｍｏｌ）のピリジン、０．０６９ｇ（０．２０ｍｍｏｌ）のｎ－ノナフルオロブチルヨージド、及び１１．５ｇのアセトニトリルを仕込み、凍結脱気した。
　８．２ｇ（１００ｍｍｏｌ）のトリフルオロエチレンを圧入したのち、内温を７５℃まで昇温させながら撹拌を開始した。内温を保持したまま２００ｒｐｍで撹拌を８時間行ったところ、内圧は１．４ＭＰａから１．３ＭＰａまで減少した。
　オートクレーブを氷水浴で冷却した後、未反応のトリフルオロエチレンをパージした。

　得られた重合体溶液を真空乾燥させ、粘稠性液体を得た。この粘稠性液体を５０ｍＬのメタノール中に加えて３０分間撹拌し、その後遠心分離機を用いて下層の粘稠性液体と上澄みとを分離した。得られた粘稠性液体を真空乾燥させたところ、０．５７ｇの固体を得た。
　得られた固体を移動相にテトラヒドロフランを用いたサイズ排除クロマトグラフィーで測定したところ、Ｍｎ＝３，３００、Ｍｗ＝６，７００であった。
　算出される含フッ素重合体の多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は２．０であった。
　得られた固体の１Ｈ－ＮＭＲ及び１９Ｆ－ＮＭＲを測定したところ、該重合体の末端のｍｏｌ数に対する、該重合体に含まれる２，２’－アゾビス（イソブチロニトリル）由来の構造のｍｏｌ数の割合は１０ｍｏｌ％以下と算出された。

（例７）
　窒素置換されたグローブボックス内で、内容積が３０ｍＬの撹拌機付きステンレス鋼製オートクレーブに、０．０３３ｇ（０．２０ｍｍｏｌ）の２，２’－アゾビス（イソブチロニトリル）、０．０２４ｇ（０．２０ｍｍｏｌ）の９－ボラビシクロ［３．３．１］ノナン、０．０３２ｇ（０．４０ｍｍｏｌ）のピリジン、０．０６９ｇ（０．２０ｍｍｏｌ）のｎ－ノナフルオロブチルヨージド、及び１１．５ｇのアセトニトリルを仕込み、凍結脱気した。
　６．３ｇ（１００ｍｍｏｌ）の塩化ビニルを圧入したのち、内温を７５℃まで昇温させながら撹拌を開始した。内温を保持したまま２００ｒｐｍで撹拌を４時間行ったところ、内圧は０．３ＭＰａから０．２ＭＰａまで減少した。
　オートクレーブを氷水浴で冷却した後、未反応の塩化ビニルをパージした。

　得られた重合体溶液を真空乾燥させ、固体を得た。この固体を２０ｍＬのメタノール中に加えて３０分間撹拌し、その後遠心分離機を用いて固体と上澄みとを分離した。得られた固体を真空乾燥させたところ、０．６３ｇの固体を得た。
　得られた固体を移動相にテトラヒドロフランを用いたサイズ排除クロマトグラフィーで測定したところ、Ｍｎ＝９，８００、Ｍｗ＝１８，６００であった。
　算出される含フッ素重合体の多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．９であった。
　得られた固体の１Ｈ－ＮＭＲ及び１９Ｆ－ＮＭＲを測定したところ、該重合体の末端のｍｏｌ数に対する、該重合体に含まれる２，２’－アゾビス（イソブチロニトリル）由来の構造のｍｏｌ数の割合は１０ｍｏｌ％以下と算出された。

（例８）
　窒素置換されたグローブボックス内で、内容積が２０ｍＬのガラス製反応器に、０．２５ｇの例２と同様にして得られた含フッ素重合体、０．００８２ｇ（０．０５０ｍｍｏｌ）の２，２’－アゾビス（イソブチロニトリル）、０．０２４ｇ（０．２０ｍｍｏｌ）の９－ボラビシクロ［３．３．１］ノナン、０．０３２ｇ（０．４０ｍｍｏｌ）のピリジン、１．０ｇ（１０ｍｍｏｌ）のスチレン、１．５ｇのアセトニトリル、及び磁気撹拌子を仕込んだ。
　油浴の温度を８０℃まで昇温させながら撹拌を開始した。温度を保持したまま２００ｒｐｍで撹拌を２時間行った。
　反応器を室温で放冷した。

　得られた重合体溶液を真空乾燥させ、固体を得た。この固体３０ｍＬのトルエン及び５Ｌのメタノールを加えて３０分間撹拌し、その後遠心分離機を用いて固体と上澄みとを分離した。得られた固体を真空乾燥させたところ、０．３３ｇの固体を得た。
　得られた固体を移動相にテトラヒドロフランを用いたサイズ排除クロマトグラフィーで測定したところ、Ｍｎ＝６，２００、Ｍｗ＝１３，９００であり、溶出曲線のピークは１つであった。
　算出される含フッ素重合体の多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は２．２であった。
　得られた固体の１Ｈ－ＮＭＲ及び１９Ｆ－ＮＭＲを測定したところ、含フッ素共重合体中のフッ化ビニリデンとスチレンのｍｏｌ比率は８６：１４と算出された。
　サイズ排除クロマトグラフィー及びＮＭＲの結果から、ブロック共重合体の製造が確認された。

（例９）
　窒素置換されたグローブボックス内で、内容積が２０ｍＬのガラス製反応器に、０．０１６ｇ（０．１０ｍｍｏｌ）の２，２’－アゾビス（イソブチロニトリル）、０．１２ｇ（１．０ｍｍｏｌ）の９－ボラビシクロ［３．３．１］ノナン、０．１６ｇ（２．０ｍｍｏｌ）のピリジン、０．３５（１．０ｍｍｏｌ）のｎ－ノナフルオロブチルヨージド、１．３ｇ（１０ｍｍｏｌ）のジビニルベンゼン（東京化成工業株式会社製）、及び５．５ｇのクロロベンゼンを仕込んだ。
　油浴の温度を８０℃まで昇温させながら撹拌を開始した。温度を保持したまま２００ｒｐｍで撹拌を２時間行った。その後、反応器を室温で放冷した。

　得られた重合体溶液に対し遠心分離機を用いて固体と上澄みとを分離した。
　得られた上澄みの１Ｈ－ＮＭＲ及び１９Ｆ－ＮＭＲを測定したところ、仕込んだｎ－ノナフルオロブチルヨージドに含まれるフッ素原子のｍｏｌ数に対する上澄みに含まれるフッ素原子のｍｏｌ数の割合は９１ｍｏｌ％であった。

（例１０）
　窒素置換されたグローブボックス内で、内容積が３０ｍＬの撹拌機付きステンレス鋼製オートクレーブに、０．０２６ｇ（０．１６ｍｍｏｌ）の２，２’－アゾビス（イソブチロニトリル）、０．０４２ｇ（０．１６ｍｍｏｌ）のトリフェニルシラン、０．０５５ｇ（０．１６ｍｍｏｌ）のｎ－ノナフルオロブチルヨージド、及び１７．９ｇのベンゾトリフルオリドを仕込み、凍結脱気した。
　９．３ｇ（８０ｍｍｏｌ）のクロロトリフルオロエチレンを圧入したのち、内温を７５℃まで昇温させながら撹拌を開始した。内温を保持したまま２００ｒｐｍで撹拌を６時間行ったところ、内圧は０．５ＭＰａから０．２ＭＰａまで減少した。
　オートクレーブを氷水浴で冷却した後、未反応のクロロトリフルオロエチレンをパージした。

　得られた重合体溶液を真空乾燥させ、固体を得た。この固体を５０ｍＬのメタノール中に加えて３０分間撹拌し、その後遠心分離機を用いて固体と上澄みとを分離した。得られた固体を真空乾燥させたところ、５．７ｇの固体を得た。
　得られた固体を移動相に３’，５’－ビス（トリフルオロメチル）アセトフェノンを用いたサイズ排除クロマトグラフィーで測定したところ、Ｍｎ＝１９，２００、Ｍｗ＝３７，３００であった。
　算出される含フッ素重合体の多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．９であった。
　得られた固体の１Ｈ－ＮＭＲ及び１９Ｆ－ＮＭＲを測定したところ、該重合体の末端のｍｏｌ数に対する、該重合体に含まれる２，２’－アゾビス（イソブチロニトリル）由来の構造のｍｏｌ数の割合は１０ｍｏｌ％以下と算出された。

（例１１）
　０．０４２ｇ（０．１６ｍｍｏｌ）のトリフェニルシランの代わりに０．０２９ｇ（０．０８０ｍｍｏｌ）の１，１，２，２－テトラフェニルジシランを用いる以外は例１０と同様にして攪拌を６時間行ったところ、内圧は０．５ＭＰａから０．３ＭＰａまで減少した。
　オートクレーブを氷水浴で冷却した後、未反応のクロロトリフルオロエチレンをパージした。

　得られた重合体溶液を真空乾燥させ、固体を得た。この固体を５０ｍＬのメタノール中に加えて３０分間撹拌し、その後遠心分離機を用いて固体と上澄みとを分離した。得られた固体を真空乾燥させたところ、５．１ｇの固体を得た。
　得られた固体を移動相に３’，５’－ビス（トリフルオロメチル）アセトフェノンを用いたサイズ排除クロマトグラフィーで測定したところ、Ｍｎ＝１８，６００、Ｍｗ＝３５，５００であった。
　算出される含フッ素重合体の多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．９であった。
　得られた固体の１Ｈ－ＮＭＲ及び１９Ｆ－ＮＭＲを測定したところ、該重合体の末端のｍｏｌ数に対する、該重合体に含まれる２，２’－アゾビス（イソブチロニトリル）由来の構造のｍｏｌ数の割合は１０ｍｏｌ％以下と算出された。

（例１２）
　窒素置換されたグローブボックス内で、内容積が３０ｍＬの撹拌機付きステンレス鋼製オートクレーブに、０．０３３ｇ（０．２０ｍｍｏｌ）の２，２’－アゾビス（イソブチロニトリル）、０．３９２ｇ（１．０ｍｍｏｌ）の三ヨウ化ホウ素、０．０７９ｇ（０．３２ｍｍｏｌ）のピリジン、０．０６９ｇ（０．２０ｍｍｏｌ）のｎ－ノナフルオロブチルヨージド、及び１１．５ｇのアセトニトリルを仕込み、凍結脱気した。
　８．２ｇ（１００ｍｍｏｌ）のトリフルオロエチレンを圧入したのち、内温を７５℃まで昇温させながら撹拌を開始した。内温を保持したまま２００ｒｐｍで撹拌を８時間行ったところ、内圧は１．４ＭＰａから１．３ＭＰａまで減少した。
　オートクレーブを氷水浴で冷却した後、未反応のトリフルオロエチレンをパージした。

　得られた重合体溶液を真空乾燥させ、粘稠性液体を得た。この粘稠性液体を５０ｍＬのメタノール中に加えて３０分間撹拌し、その後遠心分離機を用いて下層の粘稠性液体と上澄みとを分離した。得られた粘稠性液体を真空乾燥させたところ、０．７４ｇの固体を得た。
　得られた固体を移動相にテトラヒドロフランを用いたサイズ排除クロマトグラフィーで測定したところ、Ｍｎ＝４，２００、Ｍｗ＝６，０００であった。
　算出される含フッ素重合体の多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．４であり、このラジカル重合はリビングラジカル重合の特徴を示す。

（例１３）
　９－ボラビシクロ［３．３．１］ノナンを用いない以外は例２と同様にして攪拌を１０時間行ったところ、内圧は１．４ＭＰａから１．５ＭＰａに増加した。
　オートクレーブを氷水浴で冷却した後、未反応のフッ化ビニリデンをパージした。

　得られた反応溶液を真空乾燥させ、粘稠性の液体を得た。この液体を２０ｍＬのメタノール中に加えて３０分間撹拌し、その後遠心分離機にかけたところ、固体は得られなかった。

（例１４）
　９－ヨード－９－ボラビシクロ［３．３．１］ノナンを用いない以外は例５と同様にして攪拌を６時間行ったところ、内圧は０．５ＭＰａから０．２ＭＰａまで減少した。
　オートクレーブを氷水浴で冷却した後、未反応のクロロトリフルオロエチレンをパージした。

　得られた重合体溶液を真空乾燥させ、固体を得た。この固体を５０ｍＬのメタノール中に加えて３０分間撹拌し、その後遠心分離機を用いて固体と上澄みとを分離した。得られた固体を真空乾燥させたところ、６．１ｇの固体を得た。
　得られた固体を移動相に３’，５’－ビス（トリフルオロメチル）アセトフェノンを用いたサイズ排除クロマトグラフィーで測定したところ、Ｍｎ＝４２，２００、Ｍｗ＝７９，９００であった。
　算出される含フッ素重合体の多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．９であった。このことから、例５と比較して分子量分布が広いことがわかった。

（例１５）
　窒素置換されたグローブボックス内で、内容積が２０ｍＬのガラス製反応器に、０．２０ｇの例２と同様にして得られた含フッ素重合体、０．００８２ｇ（０．０５０ｍｍｏｌ）の２，２’－アゾビス（イソブチロニトリル）、１．０ｇ（１０ｍｍｏｌ）のスチレン、１．５ｇのアセトニトリル、及び磁気撹拌子を仕込んだ。
　油浴の温度を８０℃まで昇温させながら撹拌を開始した。温度を保持したまま２００ｒｐｍで撹拌を２時間行った。
　反応器を室温で放冷した。

　得られた重合体溶液を真空乾燥させ、固体を得た。この固体３０ｍＬのトルエン及び５ｍＬのメタノールを加えて３０分間撹拌し、その後遠心分離機を用いて固体と上澄みとを分離した。得られた固体を真空乾燥させたところ、０．１９ｇの固体を得た。
　得られた固体を移動相にテトラヒドロフランを用いたサイズ排除クロマトグラフィーで測定したところ、Ｍｎ＝５，１００、Ｍｗ＝１０，８００であり、溶出曲線のピークは１つであった。
　算出される含フッ素重合体の多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は２．１であった。
　得られた固体の１Ｈ－ＮＭＲを測定したところ、含フッ素共重合体中のフッ化ビニリデンとスチレンのｍｏｌ比率は９７：３と算出された。このことから、例２の方法で得られた含フッ素重合体がほとんど消費されず、例８と比較してブロック共重合体が合成し難いことがわかった。

　日本国特許出願第２０２０－１５１４２６号の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。
　本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び技術規格は、個々の文献、特許出願、及び技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に援用されて取り込まれる。

Claims

　下記式（２１）で表される化合物及び下記式（２２）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１つの存在下、
　下記式（１）で表される部分構造を有する化合物（１０）と、下記式（３）で表される化合物と、を反応させることを含む、
ヨウ素含有化合物の製造方法。

（式（１）中、＊は有機基に結合する結合手を表す。Ｘはフッ素原子又は塩素原子を表す。Ｘ^１は水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、又は－ＣＸ^５Ｘ^６Ｘ^７を表す。Ｘ^５～Ｘ^７はそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、又は塩素原子を表す。）

（式（２１）中、Ｒ^２１は、水素原子、ヨウ素原子、又は置換又は非置換の炭素数１～２０の有機基を表し、Ｒ^２２は、水素原子、ヨウ素原子、置換又は非置換の炭素数１～２０の有機基、又はホウ素含有基を表し、前記ホウ素含有基におけるホウ素原子は式（２１）におけるホウ素原子に結合する。Ｒ^２１とＲ^２２は連結して環状構造を構成していてもよい。Ａ^１は水素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を表す。式（２１）におけるホウ素原子にはさらに配位子が配位していてもよい。）
（式（２２）中、Ｒ^２３及びＲ^２４は、それぞれ独立して、水素原子、ヨウ素原子、又は置換又は非置換の炭素数１～２０の有機基を表し、Ｒ^２５は、水素原子、ヨウ素原子、置換又は非置換の炭素数１～２０の有機基、又はケイ素含有基を表し、前記ケイ素含有基におけるケイ素原子は式（２２）におけるケイ素原子に結合する。ただし、Ｒ^２３～Ｒ^２５の全てが水素原子である場合を除く。Ｒ^２３、Ｒ^２４、及びＲ^２５のうち２つ以上が連結して環状構造を形成していてもよい。Ａ^２は水素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を表す。）

（式（３）中、Ｒ^１～Ｒ^４はそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、又は置換又は非置換の炭素数１～４０の有機基を表す。Ｒ^１とＲ^４、又はＲ^２とＲ^３は連結して環状構造を構成していてもよい。）
　前記式（３）において、Ｒ^１～Ｒ^４はそれぞれ独立して、水素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、又は置換又は非置換の炭素数１～４０の少なくとも１つの反応性炭素－炭素二重結合を有する有機基を表し、Ｒ^１とＲ^４、又はＲ^２とＲ^３は連結して環状構造を構成していてもよく、前記式（３）は少なくとも２つの反応性炭素－炭素二重結合を有する、請求項１に記載の製造方法。
　前記式（３）で表される化合物が、下記式（５）で表される化合物を含む、請求項１に記載の製造方法。

（式中、Ｘはフッ素原子又は塩素原子を表し、Ｘ^２～Ｘ^４はそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、又は－ＣＸ^５Ｘ^６Ｘ^７を表し、Ｘ^５～Ｘ^７はそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、又は塩素原子を表す。）
　得られるヨウ素含有化合物が、前記式（５）で表される第１の化合物と、前記式（３）で表される化合物のうち前記第１の化合物とは異なる化合物と、を共重合させてなる共重合体である、請求項３に記載の製造方法。
　前記共重合がブロック共重合である、請求項４に記載の製造方法。
　前記共重合がランダム共重合又は交互共重合である、請求項４に記載の製造方法。
　前記式（３）で表される化合物のうち前記第１の化合物とは異なる化合物が、エチレン、プロピレン、イソブチレン、アルキルビニルエーテル、ヘキサフルオロプロピレン、ペルフルオロ（アルキルビニルエーテル）、トリアリルイソシアヌレート、１，４－ジビニルオクタフルオロブタン、１，６－ジビニルドデカフルオロヘキサン、酢酸ビニル、スチレン、アクリル酸ブチル、及びジビニルベンゼンからなる群より選択される少なくとも１つである、請求項４～請求項６のいずれか１項に記載の製造方法。
　前記式（５）で表される化合物が、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、ブロモトリフルオロエチレン、ヨードトリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、１，３，３，３－テトラフルオロプロピレン、２，３，３，３－テトラフルオロプロピレン、１－クロロ－１－フルオロエチレン、１－ブロモ－１－フルオロエチレン、１－ヨード－１－フルオロエチレン、１，１－ジブロモ－２，２－ジフルオロエチレン、１，１－ジフルオロ－２，２－ジヨードエチレン、１，２－ジクロロ－１，２－ジフルオロエチレン、１，２－ジブロモ－１，２－ジフルオロエチレン、及び１，２－ジフルオロ－１，２－ジヨードエチレン、塩化ビニル、及び塩化ビニリデンからなる群より選択される少なくとも１つである、請求項３～請求項７のいずれか１項に記載の製造方法。
　前記化合物（１０）が、下記式（１１）で表される化合物又は下記式（１２）で表される化合物である、請求項１～請求項８のいずれか１項に記載の製造方法。

（式中、Ｒ^１１は炭素数１～４のペルフルオロアルキル基を表す。Ｒ^１２は炭素数１～４のペルフルオロアルキレン基を表す。Ｘはそれぞれ独立してフッ素原子又は塩素原子を表す。Ｘ^２１～Ｘ^２３はそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又は－ＣＸ^２４Ｘ^２５Ｘ^２６を表し、Ｘ^２４～Ｘ^２６はそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、又は塩素原子を表す。）
　前記化合物（１０）が、下記式（４）で表される単位を複数含む化合物である、請求項１～請求項９のいずれか１項に記載の製造方法。

（式中、Ｘ^３１～Ｘ^３４はそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、又は－ＣＸ^３５Ｘ^３６Ｘ^３７を表し、Ｘ^３５～Ｘ^３７はそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、又は塩素原子を表す。）
　前記化合物（１０）のフッ素含量が５０質量％以上である、請求項１０に記載の製造方法。
　得られるヨウ素含有化合物が重合体であり、前記重合体の多分散度が２．０以下である、請求項１～請求項１１のいずれか１項に記載の製造方法。
　式（２１）中、
　Ａ^１が水素原子であり、かつホウ素原子が配位子を有するか、又は
　Ａ^１がヨウ素原子である、
請求項１～請求項１２のいずれか１項に記載の製造方法。
　式（２２）中、Ｒ^２３、Ｒ^２４、及びＲ^２５のいずれか少なくとも１つが芳香族環を含む、請求項１～請求項１２のいずれか１項に記載の製造方法。
　アゾ系ラジカル開始剤又は過酸化物系ラジカル開始剤由来の構造を含む重合体であって、前記重合体末端に対する、前記アゾ系ラジカル開始剤又は前記過酸化物系ラジカル開始剤由来の構造の割合が４０ｍｏｌ％以下である、ヨウ素含有化合物。