WO2021166209A1 - 加工エネルギーの制御方法およびレーザ加工装置 - Google Patents

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laser
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靖弘 滝川
鈴木 寛之
秀則 深堀
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三菱電機株式会社
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    • B23K2101/00Articles made by soldering, welding or cutting
    • B23K2101/36Electric or electronic devices
    • B23K2101/42Printed circuits

Definitions

  • This disclosure relates to a method for controlling the processing energy of laser light for laser processing a material to be processed and a laser processing apparatus.
  • via holes for electrical connection between the layers of the printed circuit board are processed by irradiating the surface of the printed circuit board with laser light. It is formed by.
  • a via hole is formed by using a laser processing apparatus using a carbon dioxide gas laser, a step of laser light absorption processing on a multilayer printed circuit board is performed in a step prior to the step of drilling.
  • a via hole is formed by using a laser processing device using an ultraviolet laser, the laser beam is directly applied to the surface of the copper foil without performing the laser light absorption treatment step on the copper foil constituting the multilayer printed circuit board. Irradiate and process.
  • the processing energy of the laser beam used in laser processing is determined by the type and thickness of the copper foil or resin layer, the desired hole diameter of the machined hole, and the like.
  • the processing energy is set in the trial processing stage before the processing in which the product is actually produced, and after the processing energy is set, the process shifts to mass production processing.
  • mass production processing if there are variations in the laser light absorption treatment of the multi-layer printed circuit board, or if there are variations in the state of the copper foil surface such as the oxidation reaction, the hole diameter of the machined holes may be out of the desired range. However, it leads to product defects such as poor continuity.
  • a laser processing apparatus provided with an imaging means for observing the surface of a multilayer printed circuit board in an optical path through which laser light propagates is disclosed.
  • a plurality of optical elements that propagate the laser light and propagate the illumination light that illuminates the surface of the multilayer printed circuit board are arranged in the optical path.
  • an illumination light having the same wavelength as the laser light is irradiated onto the multilayer printed substrate coaxially with the laser light, and the surface thereof is photographed by a TV camera as an imaging means to process the image.
  • the absorption rate of the surface of the multilayer printed circuit board is obtained from the brightness distribution of the surface on which the image is processed, and the processing energy is controlled so as to be the optimum energy for drilling according to the absorption rate.
  • the thin film applied to the optical element that propagates the laser light and the illumination light deteriorates over time, and as a result, the optical element Surface absorption increases. There is no change in the amount of light from the light source of the illumination light, but if the optical element that also serves as the propagation of the illumination light and the propagation of the laser light deteriorates, the brightness distribution cannot be measured correctly, and the processing quality deteriorates over time. There is.
  • the conventional laser processing device is installed in a lighting installation environment and is combined with peripheral devices such as a device for carrying in and out a multi-layered printed substrate. Consideration is not given when the illuminance or color of the illumination light emitted by the combined peripheral device changes, and as the lighting installation environment or the illuminance or color of the illumination light emitted by the combined peripheral device changes, There is a problem that the brightness distribution cannot be measured correctly and the processing quality deteriorates.
  • This disclosure is made in order to solve the above-mentioned problems, and in mass production processing, when a change in the absorption rate of laser light occurs among a plurality of materials to be processed, or when the absorption rate measuring means is used. It is an object of the present invention to obtain a laser light processing energy control method and a laser processing apparatus capable of performing stable laser processing even when deterioration over time or even when the lighting state of the surrounding environment changes. ..
  • a first conversion step of converting the surface state of the work material into a first value in the color space and a conversion step of the surface state of the reference material into a second value in the color space The second conversion step to be performed, the color difference calculation step to calculate the color difference which is the difference between the first value and the second value, and the machining information corresponding to the relationship between the machining variables and the color difference acquired by laser machining the reference material. Based on the above, it has an energy derivation step of deriving the processing energy of the laser beam for laser processing the material to be processed.
  • the material to be machined is laser-machined with the processing energy obtained based on the processing information corresponding to the relationship between the processing variables and the color difference obtained by laser-machining the reference material, so that the surface of the product substrate is absorbed. It has the effect of controlling the machining energy according to the change in the rate and facilitating stable laser machining on the product substrate.
  • FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a laser machining apparatus that performs drilling according to the first embodiment of the disclosure.
  • the laser processing apparatus 100 shown in FIG. 1 includes a laser oscillator 1 which is a laser light oscillating unit, reflection mirrors 3a and 3b, an energy control unit 4, a galvano scanner 5a and 5b, an f ⁇ lens 6, and an XY table 7. , The absorption rate measuring unit 10 and the processing control device 11.
  • the laser beam 2a emitted as a pulse from the laser oscillator 1 is reflected by the reflection mirror 3a and propagates to the energy control unit 4.
  • the energy control unit 4 is a device that adjusts the laser beam 2a to a desired energy.
  • the energy-adjusted laser beam 2b by the energy control unit 4 is reflected by the reflection mirror 3b and propagates to the galvano scanners 5a and 5b.
  • the galvano scanner 5a scans the irradiation position of the laser beam 2b on the product substrate 8a as the work material in the X direction, and the galvano scanner 5b scans the irradiation position of the laser beam 2b on the product substrate 8a in the Y direction.
  • the laser beam 2b scanned in the two-dimensional direction by the galvano scanners 5a and 5b propagates to the f ⁇ lens 6.
  • the product substrate 8a is a multi-layer printed circuit board and has a structure in which three layers of a copper foil, a resin layer, and a copper foil are laminated. However, a copper foil whose surface has been subjected to laser light absorption treatment may be used. , An organic layer may be further provided on the surface of the copper foil.
  • the f ⁇ lens 6 is a lens that concentrates the laser beam 2b on the product substrate 8a placed on the XY table 7.
  • the XY table 7 can be moved in the two-dimensional directions of the X direction and the Y direction by the attached drive mechanisms 12a and 12b.
  • the XY table 7 has a region 9a on which the product substrate 8a is placed and a region 9b on which the reference substrate 8b, which is a reference material, is placed.
  • the absorption rate measuring unit 10 is composed of an image acquisition unit 10a and an image processing unit 10b.
  • the image acquisition unit 10a is a device that irradiates illumination light of a specific wavelength to acquire an image of the surface state of the product substrate 8a and the reference substrate 8b placed on the XY table 7, and is acquired by the image acquisition unit 10a. Images of the surface states of the product substrate 8a and the reference substrate 8b are transmitted to the image processing unit 10b.
  • the image processing unit 10b analyzes various data used in the drilling process and transmits the analysis data to the processing control device 11.
  • the processing control device 11 is connected to the laser oscillator 1, the energy control unit 4, the absorption rate measuring unit 10, the galvano scanners 5a and 5b, and the XY table 7, and controls the entire laser processing device 100. do. Further, the machining control device 11 has a memory area for storing various analysis data used in drilling.
  • the energy control unit 4 In the laser machining apparatus 100, before mass production of the product substrate 8a is started, the energy control unit 4 generates energy so as to be the machining energy required for drilling the product substrate 8a registered in advance in the machining control device 11. adjust.
  • FIG. 2 is a functional block diagram of the machining control device showing the first embodiment of this disclosure.
  • the processing control device 11 includes a color difference calculation unit 11a that calculates a color difference that is the difference between the color space values of the product substrate 8a and the reference substrate 8b that have been internally converted by the image processing unit 10b, and an upper limit value and a lower limit value for the color difference. Is provided, and a processing determination unit 11b for determining to stop laser processing when the formula difference exceeds the permissible range is provided.
  • the color difference calculation unit 11a is connected to the image processing unit 10b, and the processing determination unit 11b is connected to the laser oscillator 1 and the energy control unit 4.
  • FIG. 3 is an explanatory diagram of the variation in the diameter of the machined hole with respect to the machining energy in the drilling of the product substrate showing the first embodiment of this disclosure.
  • the upper limit value 30a and the lower limit value 30b of the diameter of the machined hole are determined based on the quality value of the machined hole required for each customer. For example, the intermediate value between the upper limit value 30a and the lower limit value 30b of the diameter of the machined hole is set as the target machined hole diameter 31.
  • drilling is performed using a test substrate in advance before mass production machining, and based on the transition line 32 of the diameter of the drilled hole obtained when the machining energy is changed. Then, the machining reference energy 33 at which the diameter 31 of the target machining hole is obtained is set.
  • the absorption rate of the surface between the plurality of product substrates 8a is slightly different due to the manufacturing variation of the product substrate 8a, for example, the processing selected for one product substrate 8a.
  • the diameter of the actually machined hole is the upper limit of the diameter of the machined hole as shown in the hole diameter result group 34 of the plurality of product boards 8a shown in FIG.
  • the range of the value 30a and the lower limit value 30b is not satisfied, and as a result, a product substrate 8a that is defective in processing may be generated.
  • FIG. 4 is an explanatory diagram of the color difference and the diameter of the machined hole of the product substrate showing the first embodiment of this disclosure. Since the color space of an object is determined by the characteristics of the absorption rate of the object, the difference in surface absorption rate between a plurality of product substrates 8a caused by manufacturing variations of the product substrate 8a is the color difference on the surface of the product substrate 8a. It can be related to the difference in a certain color space.
  • the machining reference energy 33 is set to a predetermined value and the machining is performed, the color difference on the surface of the test substrate from which the target diameter 31 of the machining hole is obtained is set to zero as the reference. As shown in FIG.
  • FIG. 4 shows the relationship between the color difference obtained from the difference in lightness in the color space and the diameter of the machined hole, but the color difference may be calculated from the saturation or both the lightness and the saturation.
  • the procedure for drilling will be explained. First of all, based on the result of FIG. 3, from the transition line 32 of the diameter of the machined hole obtained when the machined energy is changed, a functional formula corresponding to the relationship between the machined energy and the diameter of the machined hole is derived. back. Next, the target drilled hole diameter 31 is determined from the upper limit value 30a and the lower limit value 30b of the drilled hole diameter given by the customer, and the machining reference energy 33 at which the target drilled hole diameter 31 is obtained is set. .. Next, the value of the machining reference energy 33 and the functional expression corresponding to the relationship between the machining energy and the diameter of the machining hole are stored in the machining control device 11. In this disclosure, the processing reference energy 33 and the test substrate used to derive the functional formula corresponding to the relationship between the processing energy and the diameter of the processing hole are the reference substrate 8b placed on the XY table 7.
  • FIG. 5 is an operation processing flow in the processing energy control of the laser processing apparatus showing the first embodiment of this disclosure.
  • the product substrate 8a is placed in the region 9a of the XY table 7, and the reference substrate 8b is placed in the region 9b.
  • the reference substrate 8b is a test substrate that derives a functional formula corresponding to the relationship between the machining reference energy 33, the machining energy, and the diameter of the machining hole.
  • the processing control device 11 moves the XY table 7 and acquires an image of the surface state of the reference substrate 8b by the image acquisition unit 10a (step S401).
  • the image processing unit 10b converts an image of the surface state of the reference substrate 8b into a second value 41b in the color space (step S402), and stores the image in the memory area of the processing control device 11.
  • the conversion reliability to the second value 41b in the color space is obtained. Is kept.
  • the processing control device 11 moves the XY table 7 and acquires an image of the surface state of the product substrate 8a by the image acquisition unit 10a (step S403).
  • the image of the surface state of the product substrate 8a is converted into the first value 41a in the color space by the image processing unit 10b (step S404), and stored in the memory area of the processing control device 11.
  • the conversion reliability to the first value 41a in the color space is obtained. Is kept.
  • the processing control device 11 calculates the color difference 42 from the difference between the second value 41b of the reference substrate 8b and the first value 41a of the product substrate 8a stored in the memory area (step S405).
  • the machining control device 11 is a function corresponding to the relationship between the calculated color difference 42 and the diameter of the machining hole, which is a machining variable obtained by drilling the color difference and the reference substrate 8b stored in the machining control device 11.
  • the equation is read out (step S406), and the diameter 43 of the machined hole machined with the color difference 42 is derived (step S407).
  • the processing information is a functional expression corresponding to the relationship between the color difference and the diameter of the machined hole obtained by drilling the reference substrate 8b.
  • the machining control device 11 reads out a preset target machined hole diameter 31 (step S408), and calculates a difference ⁇ d between the read target machined hole diameter 31 and the machined hole diameter 43 (step S409).
  • the machining control device 11 reads out a functional expression corresponding to the relationship between the machining energy stored in the machining control device 11 and the diameter of the machining hole (step S410), and reads out the target machining hole diameter 31 and the machining hole diameter.
  • Complementary processing energy ⁇ E for complementing the difference ⁇ d of 43 is calculated (step S411).
  • the processing information is a functional expression corresponding to the relationship between the processing energy and the diameter of the processing hole.
  • the machining control device 11 calculates the machining energy 44 for achieving the target drilled hole diameter 31 on the product substrate 8a by considering the complementary machining energy ⁇ E in the machining reference energy 33 (step S412).
  • the processing control device 11 commands the energy control unit 4 (step S413) so that the energy of the laser beam 2b becomes the calculated processing energy 44, and the processing energy 44 adjusted by the energy control unit 4 is used as the product.
  • the substrate 8a is processed.
  • the product substrate 8a for which the drilling process has been completed is carried out from the XY table 7, and the next new product substrate 8a is placed in the area 9a of the XY table 7.
  • the target drilled hole diameter 31 is achieved from the color difference 42 calculated from the image of the surface state of the product substrate 8a and the reference substrate 8b in the same manner as the operation processing flow shown in FIG.
  • the energy control unit 4 adjusts the energy of the laser beam 2b so that the processing energy is 44, and drilling is performed.
  • the machining energy 44 is calculated from the color difference 42, and the machining energy 44 is controlled to control the machining hole. Drilling can be performed that satisfies the range of the upper limit value 30a and the lower limit value 30b of the diameter.
  • Example 1 of this disclosure it is calculated from not only the value in the color space of the product substrate 8a alone but also the difference between the two values in the color space of the surface of the product substrate 8a and the reference substrate 8b for which the processing reference energy 33 is selected. Since the processing energy 44 is derived from the color difference 42, the product is not affected by the degree of deterioration of the absorption rate measuring unit 10, the lighting installation environment in which the laser processing device 100 is installed, or the illuminance and color of the illumination light emitted by the combined peripheral device. The processing energy 44 can be controlled according to the change in the absorption rate on the surface of the substrate 8a, and stable drilling can be easily performed on the product substrate 8a.
  • Example 1 of this disclosure one image acquisition unit 10a irradiates illumination light having a specific wavelength, and the difference in absorption rate between the surfaces of the product substrate 8a and the reference substrate 8b is calculated as a color difference 42, and the processing energy 44 is calculated.
  • the laser processing apparatus 100 for processing the product substrate 8a by controlling the above is described, a plurality of image acquisition units 10a are arranged, and a plurality of image acquisition units 10a are irradiated with illumination light having different wavelengths and arranged.
  • the processing energy 44 may be controlled from the color difference 42 calculated based on the images of the surface states of the product substrate 8a and the reference substrate 8b acquired from each image acquisition unit 10a. Further, a plurality of illumination lights having different wavelengths may be irradiated from one image acquisition unit 10a.
  • Example 1 of this disclosure a case where one XY table 7 is attached to the drive mechanisms 12a and 12b and laser processing is performed with one laser beam 2b has been described, but two or more XYs are attached to the drive mechanisms 12a and 12b.
  • a table 7 may be attached, the laser beam 2b may be split into a plurality of laser beams, and a plurality of product substrates 8a placed on the plurality of XY tables 7 may be processed at the same time.
  • the reference substrate 8b is divided into the same product substrate 8a according to the number of product substrates 8a, and the same substrate as the product substrate 8a is used as the reference substrate 8b.
  • Example 1 of this disclosure a method of controlling the energy of the laser beam 2a emitted from the laser oscillator 1 by the energy control unit 4 has been described, but the laser oscillator 1 is equipped with a function of adjusting the energy of the emitted laser beam 2a. If this is the case, the energy of the laser beam 2a emitted from the laser oscillator 1 may be directly controlled by a command from the processing control device 11 without installing the energy control unit 4.
  • Example 1 of this disclosure images of the product substrate 8a and the reference substrate 8b placed on the XY table 7 of the laser processing apparatus 100 are acquired, converted into two values in the color space, and then the difference between the two values.
  • the absorption rate measuring unit 10 is mounted on a transfer device (not shown) used for mounting the product substrate 8a on the XY table 7, and the absorption rate is increased.
  • the data of the color difference 42 may be sent from the measuring unit 10 to the processing control device 11, and the processing energy 44 may be controlled to process the product substrate 8a.
  • the data of the color difference 42 of the product substrate 8a to be processed next can be acquired in parallel, so that the process required for processing can be reduced.
  • Example 1 of this disclosure a laser is mounted on which a laser oscillator 1 that emits a laser beam 2a as a pulse is mounted, a processing energy 44 is calculated from a color difference 42, the processing energy 44 is controlled, and a hole is drilled in the product substrate 8a.
  • the processing energy control method of the present disclosure may be applied to a laser processing apparatus equipped with a laser oscillator that oscillates a continuous wave for cutting or removing processing.
  • an image processing result different from the diameter of the machined hole for example, in the case of cutting processing, a color difference obtained from the image processing result of the processing cutting groove width is used in the case of removal processing. May calculate the processing output and control the processing output by using the color difference obtained from the image processing result of the bottom surface after the removal processing is completed. As a result, even if the absorption rate of the material to be processed changes, stable cutting and removal processing can be performed.
  • Example 2 In Example 1 of this disclosure, a case where the processing energy 44 is calculated from the color difference 42 and the processing energy 44 is controlled to process the product substrate 8a has been described, but the upper limit value and the lower limit value of the color difference 42 are set. If the color difference 42 exceeds the range of the upper limit value and the lower limit value, the laser processing of the product substrate 8a may be stopped and the product substrate 8a may be carried out from the XY table 7 as a defective substrate.
  • FIG. 6 is an operation processing flow in the processing energy control of the laser processing apparatus showing the second embodiment of the disclosure.
  • steps S501 to S505 are the same as steps S401 to S405 shown in FIG. 5 described in the first embodiment.
  • the machining control device 11 determines whether or not the calculated color difference 42 exceeds the range of the upper limit value and the lower limit value (step S506). If the allowable range determined by the preset upper limit value and lower limit value is exceeded, the machining control device 11 stops the laser machining of the product substrate 8a and carries it out from the XY table 7 as a defective substrate ( Step S507). Whether or not to stop the laser machining is determined by the machining determination unit 11b inside the machining control device 11 as shown in FIG.
  • Step S508 the machining control device 11 reads out the function formula corresponding to the relationship between the color difference stored in the machining control device 11 and the diameter of the drilled hole.
  • Step S509 the diameter 43 of the machined hole machined with the calculated color difference 42 is derived (step S509).
  • Steps S509 to S515 are the same as steps S407 to S413 shown in FIG. 5 described in the first embodiment of this disclosure.
  • Example 2 of this disclosure the upper limit value and the lower limit value of the color difference 42 are determined in advance, and when the color difference 42 exceeds the allowable range determined by the upper limit value and the lower limit value, the laser processing of the product substrate 8a is stopped. Then, it is carried out from the XY table 7 as a defective substrate.
  • the processing energy 44 can be controlled according to the change in the absorption rate on the surface of the product substrate 8a, and stable drilling can be easily performed on the product substrate 8a, and the defective substrate can be drilled. It is possible to prevent the outflow to the subsequent process through the above process.
  • Example 3 the machining energy 44 is calculated by referring to the function formula corresponding to the relationship between the color difference and the diameter of the machined hole stored in the machining control device 11 in advance, and the machining is adjusted by the energy control unit 4.
  • the processing control device 11 sets the XY table 7 so that the image acquisition unit 10a comes to the processing position of the product substrate 8a after the processing of the product substrate 8a is completed. It may be moved and the image acquisition unit 10a may acquire an image of the surface state of the product substrate 8a after processing is completed.
  • FIG. 7 is an operation processing flow in the processing energy control of the laser processing apparatus showing the third embodiment of the disclosure.
  • steps S601 to S613 are the same as steps S401 to S413 shown in FIG. 5 described in the first embodiment of this disclosure.
  • the processing control device 11 commands the energy control unit 4 so that the energy of the laser beam 2b becomes the calculated processing energy 44, and the processing energy 44 adjusted by the energy control unit 4 is used to display the product substrate 8a.
  • Processing is performed (step S614).
  • the machining control device 11 moves the XY table 7 and again acquires an image of the surface state of the machined hole of the product substrate 8a after the machining is completed by the image acquisition unit 10a (step S615).
  • the processing control device 11 binarizes the image of the surface state of the processed hole of the product substrate 8a by the image processing unit 10b, extracts the contour, and acquires the hole diameter processing result 51 (step S616).
  • the machining control device 11 updates the data of the hole diameter processing result 51 and stores it internally, and updates the function formula corresponding to the relationship between the color difference, which is the machining information, and the diameter of the drilled hole.
  • the machining energy 44 is calculated from the function formula and the machining energy 44 is controlled to machine the product substrate 8a, stable drilling can be performed.

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Abstract

従来の加工エネルギーの制御方法の問題点であった、レーザ加工で使用する加工ネルギー44に経時的な変動が生じ、製品基板8aの加工品質が劣化するという点を解消し、製品基板8aの表面状態を色空間における第1の値41aに変換する第1変換工程と、基準基板8bの表面状態を色空間における第2の値41bに変換する第2変換工程と、第1の値41aと第2の値41bの差分である色差42を算出する色差算出工程と、基準基板8bをレーザ加工して取得した加工変数43と色差42との関係に対応する加工情報に基づき、製品基板8aをレーザ加工するレーザ光の加工エネルギー44を導くエネルギー導出工程と、を有する。

Description

加工エネルギーの制御方法およびレーザ加工装置
 この開示は、被加工材をレーザ加工するレーザ光の加工エネルギーの制御方法およびレーザ加工装置に関する。
 銅箔と樹脂層と銅箔の3層が積層された構造を有する多層のプリント基板において、プリント基板の層間の電気的接続を行うビアホールは、プリント基板の表面にレーザ光を照射して加工することで形成される。炭酸ガスレーザを使用したレーザ加工装置を用いてビアホールを形成する場合、穴あけ加工する工程よりも前の工程で、多層のプリント基板へのレーザ光吸収処理の工程を実施する。一方、紫外レーザを使用したレーザ加工装置を用いてビアホールを形成する場合は、多層のプリント基板を構成する銅箔にレーザ光吸収処理の工程を実施せずに、銅箔表面に直接レーザ光を照射して加工する。レーザ加工で使用するレーザ光の加工エネルギーは、銅箔や樹脂層の種類や厚み、所望する加工穴の穴径等によって決まる。加工エネルギーは、実際に製品を生産する加工よりも前に、試し加工段階で設定され、加工エネルギーを設定した後で量産加工に移行する。量産加工において、多層のプリント基板のレーザ光吸収処理にばらつきがある場合、または銅箔表面の酸化反応等の状態にばらつきがある場合、加工穴の穴径が所望の範囲外となる場合が発生し、導通不良等の製品不良に至る。
 このため、レーザ光が伝搬する光路中に、多層のプリント基板の表面観察を行う撮像手段を設けたレーザ加工装置が開示されている。このレーザ加工装置では、レーザ光を伝搬させると共に、多層のプリント基板の表面を照明する照明光を伝搬させる光学素子を光路中に複数配置する。そして、レーザ光と同一波長の照明光を、レーザ光と同軸で多層のプリント基板に照射し、その表面を撮像手段であるTVカメラで撮影し、画像の処理を行う。そして、画像を処理した表面の明るさ分布から多層のプリント基板の表面の吸収率を求め、吸収率に応じて穴あけ加工に最適なエネルギーとなるように、加工エネルギーを制御する。
特開平04―288988号公報(第8頁、第1図)
 従来のレーザ加工装置では、多層のプリント基板の表面の画像を処理した明るさ分布から表面の吸収率を求め、最適なエネルギーとなるように加工エネルギーを制御することが可能である。しかし、撮像用の照明光の光源の経時劣化等により、照明光の光量と加工エネルギーの相対関係に差異が生じると、経時的に加工品質が劣化するという問題がある。
 また、穴あけ加工を行うレーザ加工装置で使用するレーザ光の光エネルギー密度が高いため、レーザ光と照明光を伝搬させる光学素子に施された薄膜が経時的に劣化し、その結果、光学素子の表面の吸収率が増加する。照明光の光源の光量に変化はないが、照明光の伝搬とレーザ光の伝搬の役割を兼ねる光学素子が劣化すると、明るさ分布が正しく測定できず、経時的に加工品質が劣化するという問題がある。
 さらに、従来のレーザ加工装置は、照明設置環境の下に設置され、かつ多層のプリント基板の搬入や搬出を行う装置等の周辺装置と組み合わされるが、従来のレーザ加工装置では、照明設置環境や組み合わせた周辺装置が発する照明光の照度や色に変化が生じた場合の配慮がされておらず、照明設置環境や組み合わせた周辺装置が発する照明光の照度や色に変化が生じることに伴い、明るさ分布が正しく測定できず、加工品質が劣化するという問題がある。
 この開示は、上述のような問題点を解決するためになされたもので、量産加工において、複数の被加工材の中でレーザ光の吸収率の変化が生じた場合、または吸収率測定手段が経時的に劣化した場合、さらには周辺環境の照明状態に変化が生じた場合でも、安定したレーザ加工を行うことができるレーザ光の加工エネルギーの制御方法およびレーザ加工装置を得ることを目的とする。
 この開示に係る加工エネルギーの制御方法においては、被加工材の表面状態を色空間における第1の値に変換する第1変換工程と、基準材の表面状態を色空間における第2の値に変換する第2変換工程と、第1の値と第2の値の差分である色差を算出する色差算出工程と、基準材をレーザ加工して取得した加工変数と色差との関係に対応する加工情報に基づき、被加工材をレーザ加工するレーザ光の加工エネルギーを導くエネルギー導出工程と、を有する。
 この開示は、基準材をレーザ加工して取得した加工変数と色差との関係に対応する加工情報に基づいて得られた加工エネルギーにより、被加工材をレーザ加工するので、製品基板の表面の吸収率の変化に応じて、加工エネルギーを制御し、製品基板への安定したレーザ加工を容易に行うことが可能になるという効果を奏する。
この開示の実施例1を示すレーザ加工装置の概略構成図である。 この開示の実施例1を示す加工制御装置の機能ブロック図である。 この開示の実施例1を示す製品基板のレーザ加工における加工エネルギーに対する加工穴の直径のばらつきの説明図である。 この開示の実施例1を示す製品基板の色差と加工穴の直径の説明図である。 この開示の実施例1を示すレーザ加工装置の加工エネルギー制御における動作処理フローである。 この開示の実施例2を示すレーザ加工装置の加工エネルギー制御における動作処理フローである。 この開示の実施例3を示すレーザ加工装置の加工エネルギー制御における動作処理フローである。
実施例1.
 図1は、この開示の実施例1を示す穴あけ加工を行うレーザ加工装置の概略構成図である。図1に示すレーザ加工装置100は、レーザ光発振部であるレーザ発振器1と、反射ミラー3a、3bと、エネルギー制御部4と、ガルバノスキャナ5a、5bと、fθレンズ6と、XYテーブル7と、吸収率測定部10と、加工制御装置11と、で構成される。レーザ発振器1からパルスとして出射したレーザ光2aは、反射ミラー3aで反射してエネルギー制御部4に伝搬する。エネルギー制御部4は、レーザ光2aを所望のエネルギーに調整する装置である。エネルギー制御部4でエネルギー調整されたレーザ光2bは、反射ミラー3bで反射してガルバノスキャナ5aと5bに伝搬する。
 ガルバノスキャナ5aは、被加工材である製品基板8aに対するレーザ光2bの照射位置をX方向に走査し、ガルバノスキャナ5bは、製品基板8aに対するレーザ光2bの照射位置をY方向に走査する。ガルバノスキャナ5aと5bによって二次元方向に走査されたレーザ光2bは、fθレンズ6に伝搬する。製品基板8aは、多層のプリント基板であり、銅箔と樹脂層と銅箔の3層が積層された構造を有するが、表面にレーザ光吸収処理が施された銅箔を用いても良いし、銅箔表面にさらに有機層を設けても良い。
 fθレンズ6は、レーザ光2bをXYテーブル7に載置された製品基板8aに集光させるレンズである。XYテーブル7は、取り付けられた駆動機構12aと12bによってX方向とY方向の二次元方向に移動可能である。XYテーブル7は、製品基板8aを載置するための領域9aと、基準材である基準基板8bを載置するための領域9bを有する。
 吸収率測定部10は、画像取得部10aと画像処理部10bで構成される。画像取得部10aは、特定の波長の照明光を照射してXYテーブル7に載置された製品基板8aと基準基板8bの表面状態の画像を取得する装置であり、画像取得部10aで取得した製品基板8aと基準基板8bの表面状態の画像は、画像処理部10bへ送信される。画像処理部10bは、穴あけ加工で使用する種々のデータを解析し、その解析データを加工制御装置11へ送信する。
 加工制御装置11は、レーザ発振器1と、エネルギー制御部4と、吸収率測定部10と、ガルバノスキャナ5a、5bと、XYテーブル7と、に接続されており、レーザ加工装置100の全体を制御する。また、加工制御装置11は、穴あけ加工で使用する種々の解析データを格納するメモリ領域を有する。
 レーザ加工装置100では、製品基板8aの量産加工を開始する前に、加工制御装置11に予め登録された製品基板8aの穴あけ加工に必要な加工エネルギーとなるように、エネルギー制御部4でエネルギーを調整する。
 図2はこの開示の実施例1を示す加工制御装置の機能ブロック図である。加工制御装置11は、内部に画像処理部10bで変換した製品基板8aと基準基板8bの色空間の値の差分である色差を算出する色差算出部11aと、色差に上限の値と下限の値を設け、式差が許容範囲を超えるとレーザ加工を中止する判断を行う加工判断部11bを備える。色差算出部11aは画像処理部10bに接続され、加工判断部11bはレーザ発振器1とエネルギー制御部4に接続されている。
 図3は、この開示の実施例1を示す製品基板の穴あけ加工における加工エネルギーに対する加工穴の直径のばらつきの説明図である。加工穴の直径の上限の値30aと下限の値30bは、顧客毎に要求される加工穴の品質値に基づいて決定する。例えば、加工穴の直径の上限の値30aと下限の値30bの中間値を目標の加工穴の直径31とする。穴あけ加工で用いる加工エネルギーを設定するために、量産加工よりも前に、予め試験基板を用いて穴あけ加工を行い、加工エネルギーを変化させたときに得られる加工穴の直径の推移線32に基づいて、目標の加工穴の直径31が得られる加工基準エネルギー33を設定する。
 製品基板8aの表面材料、あるいは表面処理が同じでも製品基板8aの製造ばらつき等によって、複数の製品基板8aの間の表面の吸収率が微妙に異なり、例えば、1つの製品基板8aで選定した加工基準エネルギー33を用いて複数の製品基板8aを加工した場合、図3に示す複数の製品基板8aの穴径結果群34のように、実際に加工した加工穴の直径が加工穴の直径の上限の値30aと下限の値30bの範囲を満たさず、その結果、加工不良となる製品基板8aが発生する場合がある。
 図4は、この開示の実施例1を示す製品基板の色差と加工穴の直径の説明図である。物体の色空間は、その物体の吸収率の特性で決まるので、製品基板8aの製造ばらつき等により生じる複数の製品基板8aの間の表面の吸収率の差は、製品基板8aの表面の色差である色空間の差分と関係付けることができる。図4では、加工基準エネルギー33を所定の値に設定して加工した時に、目標の加工穴の直径31が得られる試験基板の表面の色差を基準のゼロとしている。図4に示すように、色差が正の符号の色差領域40aでは、目標の加工穴の直径31に対して加工穴の直径が小さくなる傾向にあり、一方、色差が負の符号の色差領域40bでは、目標の加工穴の直径31に対して、加工穴の直径が大きくなる傾向にある。図4では、色空間における明度の差から求めた色差と加工穴の直径の関係を示しているが、彩度、あるいは明度と彩度両方から色差を算出しても良い。
 次に穴あけ加工の手順について説明する。まず始めに、図3の結果を基にして、加工エネルギーを変化させたときに得られる加工穴の直径の推移線32から、加工エネルギーと加工穴の直径の関係に対応する関数式を導いておく。次に、顧客から与えられる加工穴の直径の上限の値30aと下限の値30bから目標の加工穴の直径31を決定し、目標の加工穴の直径31が得られる加工基準エネルギー33を設定する。次に、加工基準エネルギー33の値と、加工エネルギーと加工穴の直径の関係に対応する関数式を加工制御装置11に格納する。なお、この開示では、加工基準エネルギー33と、加工エネルギーと加工穴の直径の関係に対応する関数式を導くために使用する試験基板は、XYテーブル7に載置される基準基板8bとしている。
 次に、量産加工よりも前に、図4の結果を基にして、複数の製品基板8aに対して、製品基板8aと基準基板8bの色差42と、加工基準エネルギー33で加工した際の加工穴の直径の関係を示す推移線35から、色差と加工穴の直径の関係に対応する関数式を導いておく。色差42は、画像取得部10aで取得した製品基板8aと基準基板8bの表面状態の画像を、画像処理部10bで色空間の値に変換処理し、製品基板8aと基準基板8bの色空間の値の差分を算出することによって導く。色差42の算出は、図2に示す加工制御装置11の内部にある色差算出部11aで行う。次に、算出した色差と加工穴の直径の関係に対応する関数式を加工制御装置11に格納する。
 図5は、この開示の実施例1を示すレーザ加工装置の加工エネルギー制御における動作処理フローである。XYテーブル7の領域9aに製品基板8aを載置すると共に、領域9bに基準基板8bを載置する。基準基板8bは、加工基準エネルギー33と加工エネルギーと加工穴の直径の関係に対応する関数式を導く試験基板である。
 製品基板8aへの加工エネルギーの制御フローを図5に基づいて説明する。まず、第2変換工程について説明する。加工制御装置11はXYテーブル7を移動させ、画像取得部10aで基準基板8bの表面状態の画像を取得する(ステップS401)。次に、基準基板8bの表面状態の画像を画像処理部10bで色空間における第2の値41bに変換処理し(ステップS402)、加工制御装置11のメモリ領域に格納する。この開示では、複数回、または複数の個所で基準基板8bの表面状態の画像を取得し、色空間における第2の値41bを取得すれば、色空間における第2の値41bへの変換信頼性が保たれる。
 次に、第1変換工程について説明する。加工制御装置11はXYテーブル7を移動させ、画像取得部10aで製品基板8aの表面状態の画像を取得する(ステップS403)。製品基板8aの表面状態の画像を画像処理部10bで色空間における第1の値41aに変換処理し(ステップS404)、加工制御装置11のメモリ領域に格納する。この開示では、複数回、または複数の個所で製品基板8aの表面状態の画像を取得し、色空間における第1の値41aを取得すれば、色空間における第1の値41aへの変換信頼性が保たれる。
 次に、色差算出工程について説明する。加工制御装置11はメモリ領域に格納された基準基板8bの第2の値41bと製品基板8aの第1の値41aとの差分から、色差42を算出する(ステップS405)。次に、加工制御装置11は算出した色差42と、加工制御装置11に格納されている、色差と基準基板8bを穴あけ加工して取得した加工変数である加工穴の直径の関係に対応する関数式を読み出し(ステップS406)、色差42で加工される加工穴の直径43を導く(ステップS407)。この開示では、色差と基準基板8bを穴あけ加工して取得した加工穴の直径の関係に対応する関数式が加工情報となる。
 次に、エネルギー導出工程について説明する。加工制御装置11は予め設定されている目標の加工穴の直径31を読み出し(ステップS408)、読み出した目標の加工穴の直径31と加工穴の直径43の差Δdを算出する(ステップS409)。次に、加工制御装置11は加工制御装置11に格納されている加工エネルギーと加工穴の直径の関係に対応する関数式を読み出し(ステップS410)、目標の加工穴の直径31と加工穴の直径43の差Δdを補完するための補完加工エネルギーΔEを算出する(ステップS411)。この開示では、加工エネルギーと加工穴の直径の関係に対応する関数式が加工情報となる。次に、加工制御装置11は加工基準エネルギー33に補完加工エネルギーΔEを考慮することで、製品基板8aで目標の加工穴の直径31を達成するための加工エネルギー44を算出する(ステップS412)。次に、加工制御装置11はレーザ光2bのエネルギーが算出した加工エネルギー44となるように、エネルギー制御部4へ指令し(ステップS413)、エネルギー制御部4で調整された加工エネルギー44で、製品基板8aの加工を行う。
 穴あけ加工が完了した製品基板8aはXYテーブル7から搬出され、次の新たな製品基板8aがXYテーブル7の領域9aへ載置される。新たな製品基板8aに対しても、図5に示す動作処理フローと同様に、製品基板8aと基準基板8bの表面状態の画像から算出した色差42から、目標の加工穴の直径31を達成するための加工エネルギー44となるように、エネルギー制御部4でレーザ光2bのエネルギーを調整し、穴あけ加工を行う。これにより、製品基板8aの製造ばらつき等により、製品基板8aの表面の吸収率に変化が生じた場合でも、色差42から加工エネルギー44を算出し、加工エネルギー44を制御することで、加工穴の直径の上限の値30aと下限の値30bの範囲を満たす穴あけ加工を行うことができる。
 この開示の実施例1では、製品基板8aの単体の色空間における値だけでなく、加工基準エネルギー33を選定した製品基板8aと基準基板8bの表面の色空間における2つの値の差分から算出した色差42から加工エネルギー44を導くので、吸収率測定部10の劣化度合やレーザ加工装置100が設置される照明設置環境や組み合わせた周辺装置が発する照明光の照度や色の影響に依らず、製品基板8aの表面の吸収率の変化に応じて、加工エネルギー44を制御し、製品基板8aへの安定した穴あけ加工を容易に行うことが可能となる。
 この開示の実施例1では、1つの画像取得部10aから特定の波長の照明光を照射して、製品基板8aと基準基板8bの表面の吸収率の差を色差42として算出し、加工エネルギー44を制御して製品基板8aを加工するレーザ加工装置100について説明したが、画像取得部10aを複数配置し、複数配置した画像取得部10aから各々異なる波長の照明光を照射して、複数配置した各々の画像取得部10aから取得した製品基板8aと基準基板8bの表面状態の画像を基に算出した色差42から加工エネルギー44を制御しても良い。また、1つの画像取得部10aから異なる波長の複数の照明光を照射しても良い。
 この開示の実施例1では、駆動機構12aと12bに1つのXYテーブル7を取り付け、1つのレーザ光2bでレーザ加工する場合について説明したが、駆動機構12aと12bに2つ以上の複数のXYテーブル7を取り付け、レーザ光2bを複数に分光し、複数のXYテーブル7に載置された複数の製品基板8aを同時に加工しても良い。その場合、基準基板8bは製品基板8aの枚数に応じて、同じ製品基板8aを分割して、製品基板8aと同一の基板を基準基板8bとすることが望ましい。
 この開示の実施例1では、レーザ発振器1から出射したレーザ光2aのエネルギーをエネルギー制御部4で制御する方法について説明したが、出射するレーザ光2aのエネルギーを調整する機能をレーザ発振器1が搭載している場合は、エネルギー制御部4を設置せずに、加工制御装置11からの指令でレーザ発振器1から出射するレーザ光2aのエネルギーを直接制御しても良い。
 この開示の実施例1では、レーザ加工装置100のXYテーブル7に載置された製品基板8aと基準基板8bの画像を取得し、色空間における2つの値に変換した後、2つの値の差分である色差42に基づいて加工エネルギー44を制御する場合について説明したが、製品基板8aをXYテーブル7に載置するために使用する図示しない搬送装置に吸収率測定部10を搭載し、吸収率測定部10から加工制御装置11へ色差42のデータを送り、加工エネルギー44を制御して製品基板8aを加工しても良い。その結果、製品基板8aの加工時間中に、並行して次に加工する製品基板8aの色差42のデータを取得することができるので、加工に要する工程を削減することができる。
 この開示の実施例1では、パルスとしてレーザ光2aを出射するレーザ発振器1を搭載し、色差42から加工エネルギー44を算出して、加工エネルギー44を制御し、製品基板8aへ穴あけ加工を行うレーザ加工装置100について説明したが、連続波発振するレーザ発振器を搭載し切断加工や除去加工するレーザ加工装置に、この開示の加工エネルギーの制御方法を適用しても良い。色空間における基準材と被加工材の色差から加工出力を算出し、加工出力を制御することで、所望の加工品質結果を得ることが可能になる。切断加工や除去加工するレーザ加工装置においては、加工穴の直径とは異なる画像処理結果、例えば、切断加工の場合は加工切断溝幅の画像処理結果から求めた色差を用いて、除去加工の場合は除去加工の終了後の底面の画像処理結果から求めた色差を用いて、加工出力を算出し、加工出力を制御しても良い。その結果、被加工材の吸収率が変化しても、安定した切断加工や除去加工を行うことが可能となる。
実施例2.
 この開示の実施例1では、色差42から、加工エネルギー44を算出し、加工エネルギー44を制御して製品基板8aの加工を行う場合について説明したが、色差42の上限の値と下限の値を予め決めておき、色差42が上限の値と下限の値の範囲を超えると製品基板8aのレーザ加工を中止して、不良品基板としてXYテーブル7から搬出しても良い。図6は、この開示の実施例2を示すレーザ加工装置の加工エネルギー制御における動作処理フローである。
 次に、加工判断工程について説明する。図6において、ステップS501からステップS505までは、実施例1で説明した図5に示すステップS401からステップS405と同じである。ステップS505にて、加工制御装置11が色差42を算出した後、加工制御装置11は算出した色差42が上限の値と下限の値の範囲を超えているか否かを判定し(ステップS506)、予め設定されている上限の値と下限の値で決まる許容範囲を超えている場合は、加工制御装置11は製品基板8aのレーザ加工を中止して、不良品基板としてXYテーブル7から搬出する(ステップS507)。レーザ加工を中止するか否かは、図2に示すように加工制御装置11の内部にある加工判断部11bで行う。算出した色差42が上限の値と下限の値で決まる許容範囲内の場合は、加工制御装置11は加工制御装置11に格納されている色差と加工穴の直径の関係に対応する関数式を読み出し(ステップS508)、算出した色差42で加工される加工穴の直径43を導く(ステップS509)。ステップS509からステップS515までは、この開示の実施例1で説明した図5に示すステップS407からステップS413と同じである。
 この開示の実施例2では、色差42の上限の値と下限の値を予め決めておき、色差42が上限の値と下限の値で決まる許容範囲を超えると製品基板8aのレーザ加工を中止して、不良品基板としてXYテーブル7から搬出する。その結果、製品基板8aの表面の吸収率の変化に応じて、加工エネルギー44を制御し、製品基板8aへの安定した穴あけ加工を容易に行うことが可能になると共に、不良品基板を穴あけ加工の工程を経て後工程へ流出することを防ぐことができる。
実施例3.
 この開示の実施例1では、予め加工制御装置11に格納された色差と加工穴の直径の関係に対応する関数式を参照して、加工エネルギー44を算出し、エネルギー制御部4で調整した加工エネルギー44で、製品基板8aの加工を行う場合について説明したが、製品基板8aの加工終了後に、画像取得部10aが製品基板8aの加工位置にくるように、加工制御装置11はXYテーブル7を移動させ、再度、画像取得部10aで加工終了後の製品基板8aの表面状態の画像を取得しても良い。図7は、この開示の実施例3を示すレーザ加工装置の加工エネルギー制御における動作処理フローである。
 図7において、ステップS601からステップS613までは、この開示の実施例1で説明した図5に示すステップS401からステップS413と同じである。ステップS613にて、加工制御装置11はレーザ光2bのエネルギーが算出した加工エネルギー44となるように、エネルギー制御部4へ指令し、エネルギー制御部4で調整した加工エネルギー44で、製品基板8aの加工を行う(ステップS614)。次に、加工制御装置11はXYテーブル7を移動させ、再度、画像取得部10aで加工終了後の製品基板8aの加工穴の表面状態の画像を取得する(ステップS615)。
 次に、加工情報更新工程について説明する。加工制御装置11は画像処理部10bで製品基板8aの加工穴の表面状態の画像を二値化し、輪郭を抽出することで、穴径処理結果51を取得する(ステップS616)。次に、加工制御装置11は穴径処理結果51のデータを更新して内部に再格納し、加工情報である色差と加工穴の直径の関係に対応する関数式を更新する。その結果、製品基板8aの表面状態が経時的に変化して、表面の吸収率が変化した場合でも、吸収率の変化を色差の変化として更新反映した色差と加工穴の直径の関係に対応する関数式から加工エネルギー44を算出し、加工エネルギー44を制御して製品基板8aを加工するので、安定した穴あけ加工を行うことが可能となる。
 1 レーザ発振器、2a,2b レーザ光、3a,3b 反射ミラー、4 エネルギー制御部、5a,5b ガルバノスキャナ、6 fθレンズ、7 XYテーブル、8a       製品基板、8b 基準基板、9a,9b 領域、10 吸収率測定部、10a 画像取得部、10b 画像処理部、11 加工制御装置、11a 色差算出部、11b 加工判断部、12a,12b 駆動機構、30a 上限の値、30b 下限の値、31 目標の加工穴の直径、32,35 推移線、33 加工基準エネルギー、34 穴径結果群、40a,40b 色差領域、41a 第1の値、41b 第2の値、42 色差、43 加工穴の直径、44 加工エネルギー、51 穴径処理結果、100 レーザ加工装置。

Claims (7)

  1.  被加工材の表面状態を色空間における第1の値に変換する第1変換工程と、
     基準材の表面状態を色空間における第2の値に変換する第2変換工程と、
     前記第1の値と前記第2の値の差分である色差を算出する色差算出工程と、
     前記基準材をレーザ加工して取得した加工変数と前記色差との関係に対応する加工情報に基づき、前記被加工材をレーザ加工するレーザ光の加工エネルギーを導くエネルギー導出工程と、
     を有することを特徴とする加工エネルギーの制御方法。
  2.  前記加工変数は加工穴の穴径であることを特徴とする請求項1に記載の加工エネルギーの制御方法。
  3.  前記色差に許容範囲を設定し、前記色差が許容範囲を超える場合は前記被加工材へのレーザ加工を中止する加工判断工程を有することを特徴とする請求項2に加工エネルギーの制御方法。
  4.  前記被加工材をレーザ加工して取得した加工穴の穴径を用いて、前記加工情報を更新する加工情報更新工程を有することを特徴とする請求項3に記載の加工エネルギーの制御方法。
  5.  レーザ光を出力するレーザ光発振部と
     被加工材と基準材の表面状態を取得する画像取得部と、
     該画像取得部で取得した前記被加工材の表面状態を色空間における第1の値に変換すると共に、前記基準材の表面状態を色空間における第2の値に変換する画像処理部と、
     前記第1の値と前記第2の値の差分である色差を算出する色差算出部と、
     前記基準材をレーザ加工して取得した加工変数と前記色差との関係に対応する加工情報に基づき、前記被加工材をレーザ加工するレーザ光の加工エネルギーを導くエネルギー制御部と、
    を備えるレーザ加工装置。
  6.  前記色差に許容範囲を設定し、前記色差が許容範囲を超える場合は前記被加工材へのレーザ加工を中止する加工判断部を備えることを特徴とする請求項5に記載のレーザ加工装置。
  7.  前記被加工材はプリント基板であり、該プリント基板に穴あけ加工を行うことを特徴とする請求項6に記載のレーザ加工装置。
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