WO2021045209A1

WO2021045209A1 - 含フッ素共重合体

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Publication number: WO2021045209A1
Application number: PCT/JP2020/033655
Authority: WO
Inventors: 祥太澁谷; 晋吾奥野; 雅聡能勢
Original assignee: ダイキン工業株式会社
Priority date: 2019-09-04
Filing date: 2020-09-04
Publication date: 2021-03-11
Also published as: EP4026694A4; CN114174362A; KR20220007664A; JPWO2021045209A1; TWI827881B; US20220195115A1; JP7189476B2; TW202120588A; EP4026694A1

Abstract

本発明は、下記式（１）または（２）で表される含フッ素共重合体を提供する。

Description

含フッ素共重合体

　本開示は、含フッ素共重合体および該含フッ素共重合体を含有する表面処理剤に関する。

　ある種の含フッ素化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。特許文献１には、アクリル樹脂やポリカーボネート等の透明プラスチック等の樹脂材料の基材に対して、含フッ素基および特定の置換基（特許文献１において、置換基群Ａ）を有する含フッ素ポリマーを用いることが開示されている。

国際公開第２０１７／２００１０５号

　上記した特許文献１に記載の含フッ素ポリマーは、基材に撥水撥油性などの機能を与え得るが、溶剤に対する溶解性が十分でなく、表面処理層の形成に不具合を生じ得る場合がある。

　本開示は、樹脂を含む種々の材料から成る基材に、撥水性、撥油性および防汚性に加え、かつ溶剤への溶解性が高い含フッ素共重合体を提供することを目的とする。

　本開示は、以下の態様を含む。
［１］　下記式（１）または（２）：

［式中：
　Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり；
　Ｒ^Ｆ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり；
　Ｒｆ^１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基であり；
　Ｒｆ^２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基であり；
　Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり；
　ｐは、０または１であり；
　ｑは、それぞれ独立して、０または１であり；
　Ｒ^４は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^４ａまたはＲ^４ｂであり；
　Ｒ^４ａは、各出現においてそれぞれ独立して、置換基群Ａより選択される官能基を有する２価の有機基であり；
　Ｒ^４ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、置換基群Ａより選択される官能基を有しない２価の有機基であり；
　前記置換基群Ａは、炭素－炭素二重結合、炭素－炭素三重結合、環状エーテル基、水酸基、チオール基、アミノ基、アジド基、含窒素複素環基、イソシアネート基、ハロゲン原子、リン酸含有基、又はシランカップリング基を含む基、あるいはこれらの前駆体基であり；
　ｎは１～１００の整数であり；
　Ｘ^ａは、それぞれ独立して、二価の有機基であり；
　Ｘ^ｂは、それぞれ独立して、二価の有機基であり；
　Ｒ^ａは、それぞれ独立して、アルキル、フェニル、－ＳＲ^ａ１、－ＯＲ^ａ２、－ＮＲ^ａ３ _２、

であり；
　Ｒ^ａ１、Ｒ^ａ２、Ｒ^ａ３、Ｒ^ａ４、Ｒ^ａ５およびＲ^ａ６は、それぞれ独立して、アルキル基またはフェニル基であり；
　Ｒ^ａ７は、水素またはハロゲン原子である。］
で表される含フッ素共重合体。
［２］　Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、式：
　　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
［式中、Ｒ^Ｆａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、
　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、上記［１］に記載の含フッ素共重合体。
［３］　Ｒ^Ｆａは、フッ素原子である、上記［２］に記載の含フッ素共重合体。
［４］　Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）または（ｆ５）：
　　－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－　　　（ｆ１）
［式中、ｄは１～２００の整数である。］、
　　－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　（ｆ２）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０～３０の整数であり；
　ｅおよびｆは、それぞれ独立して、１～２００の整数であり；
　ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、１０～２００の整数であり；
　添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］、
　　－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－　　　（ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり；
　Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２または３つの基の組み合わせであり；
　ｇは、２～１００の整数である。］、
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ４）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、上記［１］～［３］のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体。
［５］　Ｒ^４は、Ｒ^４ａである、上記［１］～［４］のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体。
［６］　Ｒ^４ａは、下記式：

［式中：
　Ｒ^３１は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子、またはアルキル基であり；
　Ｒ^３２は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子、塩素原子、フッ素原子、またはフッ素により置換されていてもよいアルキル基でありであり；
　Ｒ^３３は、各出現において、それぞれ独立して、置換基群Ａより選択される官能基であり；
　Ｙ^１は、単結合、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｎ（Ｒ^ｃ）－、フェニレンまたはカルバゾリレンであり；
　Ｒ^ｃは、有機基であり、
　Ｙ^２は、単結合または主鎖の原子数が１～１６であるリンカーである。］
で表される基である、上記［１］～［５］のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体。
［７］　Ｒ^４ａにおける置換基群Ａより選択される官能基は、エポキシ基、グリシジル基、脂環式エポキシ基、アクリロイル基またはメタクリロイル基を有する基である、上記［１］～［６］のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体。
［８］　ｎは、２～５０の整数である、上記［１］～［７］のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体。
［９］　ｎは、２～３０の整数である、上記［１］～［８］のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体。
［１０］　１種またはそれ以上の上記［１］～［９］のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体を含む、表面処理剤。
［１１］　上記［１］～［９］のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体または上記［１０］に記載の表面処理剤；および
　マトリックスを形成する組成物
を含む、硬化性組成物。
［１２］　上記［１０］に記載の表面処理剤あるいは上記［１１］に記載の硬化性組成物により形成された膜。
［１３］　基材と、該基材の表面に上記［１０］に記載の表面処理剤あるいは上記［１１］に記載の硬化性組成物により形成された層とを含む物品。
［１４］　上記物品が光学部材である、上記［１３］に記載の物品。
［１５］　ＬｉＤＡＲカバー部材である、上記［１３］に記載の物品。
［１６］　センサー部材である、上記［１３］に記載の物品。
［１７］　インストルメントパネルカバー部材である、上記［１３］に記載の物品。
［１８］　自動車内装部材である、上記［１３］に記載の物品。
［１９］　上記物品が絶縁体、誘電体である、上記［１３］に記載の物品。

　本開示の含フッ素共重合体は、溶剤への溶解性が高く、表面処理剤として好適に使用することができる。

　本明細書において用いられる場合、「１価の有機基」とは、炭素を含有する１価の基を意味する。１価の有機基としては、特に記載が無い限り、炭化水素基またはその誘導体であり得る。炭化水素基の誘導体とは、炭化水素基の末端または分子鎖中に、１つまたはそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有している基を意味する。尚、単に「有機基」と示す場合、１価の有機基を意味する。また、「２価の有機基」とは、炭素を含有する２価の基を意味する。かかる２価の有機基としては、特に限定されないが、有機基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。

　本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素および水素を含む基であって、炭化水素から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つまたはそれ以上の置換基により置換されていてもよい、Ｃ_１－２０炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状または環状のいずれであってもよく、飽和または不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つまたはそれ以上の環構造を含んでいてもよい。

　本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、１個またはそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、Ｃ_２－６アルキニル基、Ｃ_３－１０シクロアルキル基、Ｃ_３－１０不飽和シクロアルキル基、５～１０員のヘテロシクリル基、５～１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ_６－１０アリール基および５～１０員のヘテロアリール基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられる。

　本明細書において用いられる場合、「アルキル基」としては、特に記載が無い限り、例えば、炭素数１～１２（好ましくは１～６、より好ましくは１～３、さらに好ましくは１）のアルキル基（例、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基）が挙げられる。当該「アルキル基」は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよいが、好ましくは、直鎖状である。また、当該「アルキル基」は官能基を含んでいてもよい。

　以下、本開示の含フッ素共重合体について説明する。

　本開示は、一般式（１）または（２）：

［式中：
　Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり；
　Ｒ^Ｆ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり；
　Ｒｆ^１は、それぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基であり；
　Ｒｆ^２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基であり；
　Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり；
　ｐは、０または１であり；
　ｑは、それぞれ独立して、０または１であり；
　Ｒ^４は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^４ａまたはＲ^４ｂであり；
　Ｒ^４ａは、各出現においてそれぞれ独立して、置換基群Ａより選択される官能基を有する２価の有機基であり；
　Ｒ^４ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、置換基群Ａより選択される官能基を有しない２価の有機基であり；
　上記置換基群Ａは、炭素－炭素二重結合、炭素－炭素三重結合、環状エーテル基、水酸基、チオール基、アミノ基、アジド基、含窒素複素環基、イソシアネート基、ハロゲン原子、リン酸含有基、又はシランカップリング基を含む基、あるいはこれらの前駆体基であり；
　ｎ１は１～１００の整数であり；
　Ｘ^ａは、それぞれ独立して、二価の有機基であり；
　Ｘ^ｂは、それぞれ独立して、二価の有機基であり；
　Ｒ^ａは、それぞれ独立して、アルキル、フェニル、－ＳＲ^ａ１、－ＯＲ^ａ２、－ＮＲ^ａ３ _２、

であり；
　Ｒ^ａ１、Ｒ^ａ２、Ｒ^ａ３、Ｒ^ａ４、Ｒ^ａ５およびＲ^ａ６は、それぞれ独立して、アルキル基またはフェニル基であり；
　Ｒ^ａ７は、水素またはハロゲン原子である。］
で表される含フッ素共重合体を提供する。

　上記式（１）において、Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－である。

　上記式（２）において、Ｒ^Ｆ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－である。

　上記式において、Ｒｆ^１は、それぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基である。

　上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基における「Ｃ_１－１６アルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１－６アルキル基、特にＣ_１－３アルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－６アルキル基、特にＣ_１－３アルキル基である。

　上記Ｒｆ^１は、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ_１－１６アルキル基であり、より好ましくはＣＦ_２Ｈ－Ｃ_１－１５ペルフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ_１－１６ペルフルオロアルキル基である。

　上記Ｃ_１－１６ペルフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１－６ペルフルオロアルキル基、特にＣ_１－３ペルフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－６ペルフルオロアルキル基、特にＣ_１－３ペルフルオロアルキル基、具体的には－ＣＦ_３、－ＣＦ_２ＣＦ_３、または－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３である。

　上記式において、Ｒｆ^２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基である。

　上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基における「Ｃ_１－６アルキレン基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１－３アルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－３アルキレン基である。

　上記Ｒｆ^２は、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ_１－６アルキレン基であり、より好ましくはＣ_１－６ペルフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ_１－３ペルフルオロアルキレン基である。

　上記Ｃ_１－６ペルフルオロアルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１－３ペルフルオロアルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－３ペルフルオロアルキル基、具体的には－ＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＦ_２－、または－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－である。

　上記式において、ｐは、０または１である。一の態様において、ｐは０である。別の態様においてｐは１である。

　上記式において、ｑは、それぞれ独立して、０または１である。一の態様において、ｑは０である。別の態様においてｑは１である。

　上記式（１）および（２）において、Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基である。

　Ｒ^Ｆは、好ましくは、式：
　　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
［式中：
　Ｒ^Ｆａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、
　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である。

　Ｒ^Ｆａは、好ましくは、水素原子またはフッ素原子であり、より好ましくは、フッ素原子である。

　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、好ましくは、それぞれ独立して、０～１００の整数であってもよい。

　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上または２０以上であってもよい。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは２００以下、より好ましくは１００以下、さらに好ましくは６０以下であり、例えば５０以下または３０以下であってもよい。

　これら繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよい。例えば、上記繰り返し単位は、－（ＯＣ_６Ｆ_１２）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－等であってもよい。－（ＯＣ_５Ｆ_１０）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－等であってもよい。－（ＯＣ_４Ｆ_８）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）－および－（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））－のいずれであってもよい。－（ＯＣ_３Ｆ_６）－（即ち、上記式中、Ｒ^Ｆａはフッ素原子である）は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－および－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよい。－（ＯＣ_２Ｆ_４）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－および－（ＯＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよい。

　一の態様において、上記繰り返し単位は直鎖状である。上記繰り返し単位を直鎖状とすることにより、表面処理層の表面滑り性、摩擦耐久性等を向上させることができる。

　一の態様において、上記繰り返し単位は分枝鎖状である。上記繰り返し単位を分枝鎖状とすることにより、表面処理層の動摩擦係数を大きくすることができる。

　一の態様において、Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、下記式（ｆ１）～（ｆ５）のいずれかで表される基である。
　　－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－　　　（ｆ１）
［式中、ｄは、１～２００の整数である。］；
　　－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　（ｆ２）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、
　ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は２以上であり、
　添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］；
　　－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－　　　（ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり、
　Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、
　ｇは、２～１００の整数である。］；
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ４）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］

　上記式（ｆ１）において、ｄは、好ましくは５～２００、より好ましくは１０～１００、さらに好ましくは１５～５０、例えば２５～３５の整数である。上記式（ｆ１）は、好ましくは、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ－または－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）_ｄ－で表される基であり、より好ましくは、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ－で表される基である。

　上記式（ｆ２）において、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０～２００の整数である。また、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上または２０以上であってもよい。一の態様において、上記式（ｆ２）は、好ましくは、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－で表される基である。別の態様において、式（ｆ２）は、－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－で表される基であってもよい。

　上記式（ｆ３）において、Ｒ^６は、好ましくは、ＯＣ_２Ｆ_４である。上記（ｆ３）において、Ｒ^７は、好ましくは、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、より好ましくは、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から選択される基である。ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、および－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４－等が挙げられる。上記式（ｆ３）において、ｇは、好ましくは３以上、より好ましくは５以上の整数である。上記ｇは、好ましくは５０以下の整数である。上記式（ｆ３）において、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、上記式（ｆ３）は、好ましくは、－（ＯＣ_２Ｆ_４－ＯＣ_３Ｆ_６）_ｇ－または－（ＯＣ_２Ｆ_４－ＯＣ_４Ｆ_８）_ｇ－である。

　上記式（ｆ４）において、ｅは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。

　上記式（ｆ５）において、ｆは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。

　一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ１）で表される基である。

　一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ２）で表される基である。

　一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ３）で表される基である。

　一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ４）で表される基である。

　一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ５）で表される基である。

　上記Ｒ^Ｆにおいて、ｆに対するｅの比（以下、「ｅ／ｆ比」という）は、０．１～１０であり、好ましくは０．２～５であり、より好ましくは０．２～２であり、さらに好ましくは０．２～１．５であり、さらにより好ましくは０．２～０．８５である。ｅ／ｆ比を１０以下にすることにより、この化合物から得られる表面処理層の滑り性、摩擦耐久性および耐ケミカル性（例えば、人工汗に対する耐久性）がより向上する。ｅ／ｆ比がより小さいほど、表面処理層の滑り性および摩擦耐久性はより向上する。一方、ｅ／ｆ比を０．１以上にすることにより、化合物の安定性をより高めることができる。ｅ／ｆ比がより大きいほど、化合物の安定性はより向上する。

　一の態様において、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは０．２～０．９５であり、より好ましくは０．２～０．９である。

　一の態様において、耐熱性の観点から、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは１．０以上であり、より好ましくは１．０～２．０である。

　上記フルオロポリエーテル基含有化合物において、Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２部分の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、例えば５００～３０，０００、好ましくは１，５００～３０，０００、より好ましくは２，０００～１０，０００である。本明細書において、Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２の数平均分子量は、^１９Ｆ－ＮＭＲにより測定される値とする。

　別の態様において、Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２部分の数平均分子量は、５００～３０，０００、好ましくは１，０００～２０，０００、より好ましくは２，０００～１５，０００、さらにより好ましくは２，０００～１０，０００、例えば３，０００～６，０００であり得る。

　別の態様において、Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２部分の数平均分子量は、４，０００～３０，０００、好ましくは５，０００～１０，０００、より好ましくは６，０００～１０，０００であり得る。

　上記式において、Ｒ^４は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^４ａまたはＲ^４ｂである。

　上記Ｒ^４ａは、各出現においてそれぞれ独立して、置換基群Ａより選択される官能基を有する２価の有機基である。

　上記「置換基群Ａより選択される官能基」における置換基群Ａとしては、特に限定されるものではないが、例えば、炭素－炭素二重結合、炭素－炭素三重結合、環状エーテル基、水酸基、チオール基、アミノ基、アジド基、含窒素複素環基、イソシアネート基、ハロゲン原子、リン酸含有基、又はシランカップリング基を含む基、あるいはこれらの前駆体基が挙げられる。

　一の態様において、置換基群Ａは、アリル基、ケイヒ酸基、ソルビン酸基、エポキシ基、グリシジル基、脂環式エポキシ基、アクリロイル基およびメタクリロイル基（以下、アクリロイル基およびメタクリロイル基を合わせて、「（メタ）アクリロイル基」とも言う。）、ハロゲン原子、ビニルエーテル（ビニロキシ）基、水酸基、オキセタニル基、カテコール基、チオール基、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アジド基、リン酸含有基、カルボキシル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、テトラゾリル基、またはシランカップリング基、あるいはこれらの前駆体基であり得る。

　一の態様において、上記置換基群Ａは、例えば、エポキシ基、グリシジル基、脂環式エポキシ基、ビニル基、アリル基、置換されていてもよいアクリロイル基、シンナモイル基、２，４－ヘキサジエノイル基、ビニルエーテル（ビニルオキシ）基、水酸基、オキセタニル基、イソシアネート基、カテコール基、チオール基、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アジド基、リン酸含有基、カルボキシル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、テトラゾリル基、ハロゲン原子、又はシランカップリング基、あるいはこれらの前駆体基であり得る。

　好ましい置換基群Ａより選択される官能基はコーティングの対象の材料によって異なり、例えば、当該材料が非晶質の合成樹脂（例、アクリル樹脂）である場合、当該「置換基群Ａより選択される官能基」としては、好ましくは、アリル基、ケイヒ酸基、ソルビン酸基、エポキシ基、グリシジル基、脂環式エポキシ基またはＣＨ_２＝ＣＸ^１－Ｃ（Ｏ）－（式中、Ｘ^１は、水素原子、塩素原子、フッ素原子またはフッ素により置換されていてもよい炭素数１～１０のアルキル基（好ましくは炭素数１～１０のアルキル基、例えばメチル基）を表す）（例、（メタ）アクリロイル基）であり、より好ましくは、エポキシ基、グリシジル基、脂環式エポキシ基、アクリロイル基またはメタクリロイル基である。

　上記脂環式エポキシ基は、好ましくは下記式：

（式中、ｎは、１～５の整数である。）
で表される基である。

　上記脂環式エポキシ基は、より好ましくは

である。

　Ｒ^４ａは、好ましくは、下記式：

で表される基である。

　上記式中、Ｒ^３１は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子、またはアルキル基を表す。当該Ｒ^３１は、好ましくは水素原子である。

　上記式中、Ｒ^３２は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又はフッ素により置換されていてもよいアルキル基を表す。当該Ｒ^３２は、好ましくはメチル基または水素原子であり、より好ましくは水素原子である

　上記式中、Ｒ^３３は、各出現において、それぞれ独立して、置換基群Ａより選択される官能基を表す。

　かかる置換基群Ａより選択される官能基としては、上記と同様のものが挙げられるが、エポキシ基、グリシジル基、脂環式エポキシ基またはＣＨ_２＝ＣＸ^１－Ｃ（Ｏ）－（式中、Ｘ^１は、水素原子、塩素原子、フッ素原子またはフッ素により置換されていてもよい炭素数１～１０のアルキル基（好ましくは炭素数１～１０のアルキル基、例えばメチル基）を表す）が好ましく、具体的にはエポキシ基、グリシジル基、脂環式エポキシ基、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）－Ｃ（Ｏ）－またはＣＨ_２＝ＣＨ－Ｃ（Ｏ）－が挙げられる。

　上記式中、Ｙ^１は、単結合、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｎ（Ｒ^ｃ）－、フェニレンまたはカルバゾリレンを表す。ここでＲ^ｃは有機基を表し、好ましくはアルキル基である。Ｙ^１に関するこれらの基は、左側が式中のＣに結合し、右側がＹ^２に結合する。

　Ｙ^１は、好ましくは－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－、またはカルバゾリレンであり、より好ましくは－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－または－Ｏ－であり、さらに好ましくは－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－である。

　上記式中、Ｙ^２は、単結合または主鎖の原子数が１～１６（より好ましくは２～１２、さらに好ましくは２～１０）であるリンカーを表す。

　当該Ｙ^２としては、特に限定されるものではないが、例えば、
　－（ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ）_ｐ１－（ｐ１は、１～１０の整数を表す）、
　－（ＣＨＲ^ｄ）_ｐ２－Ｏ－（ｐ２は、１～４０の整数であり、Ｒ^ｄは、水素、またはメチル基を表す）、
　－（ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ）_ｐ３－ＣＯ－ＮＨ－ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ－（ｐ３は、１～１０の整数を表す）、
　－ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＨ_２－、
　－（ＣＨ_２）_ｐ４－（ｐ４は１～６の整数を表す）、
　－（ＣＨ_２）_ｐ５－Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｐ６－（ｐ５は１～８の整数、好ましくは、２または４を表し、ｐ６は１～６の整数、好ましくは３を表す）、
　－（ＣＨ_２）_ｐ７－ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｏ－（ＣＨ_２）_ｐ８－（ｐ７は１～６の整数、好ましくは３を表し、ｐ８は１～８の整数、好ましくは、２または４を表す）、または
　－Ｏ－（但し、Ｙ^１は－Ｏ－ではない）が挙げられる。

　好ましいＹ^２としては、－（ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ）_ｐ１－（ｐ１は、１～１０の整数を表す）または－（ＣＨＲ^ｄ）_ｐ２－Ｏ－（ｐ２は、１～４０の整数であり、Ｒ^ｄは、水素、またはメチル基を表す）、具体的には－ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ－が挙げられる。なお、これらの基は、左端が分子主鎖側（Ｙ^１側）に結合し、右端が置換基群Ａより選択される官能基側（Ｒ^３３側）に結合する。

　Ｒ^４ａは、さらに好ましくは、下記式：

で表される基である。

　上記式中、ｑ１は、１～１０の整数であり、好ましくは１～５の整数、例えば１である。ｑ２は、１～１０の整数であり、好ましくは１～５の整数、例えば２である。ｑ３は、１～１０の整数であり、好ましくは１～５の整数、例えば１である。

　上記Ｒ^４ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、置換基群Ａより選択される官能基を有しない２価の有機基である。

　Ｒ^４ｂは、好ましくは、－ＣＨＲ^４ｃ－ＣＲ^４ｄＲ^４ｅ－である。ここに、Ｒ^４ｃおよびＲ^４ｄは、それぞれ独立して、水素原子、またはアルキル基を表し、Ｒ^４ｅ基は、－Ｙ^３－Ｒ^４ｆである。ここに、Ｙ^３は上記Ｙ^１と同意義であり、Ｒ^４ｆは、置換基群Ａより選択される官能基を有しない有機基であり、後記の基Ｒ^４ｇがリンカーを介して、または直接Ｙ^３に結合する基である。

　当該リンカーは、好ましくは、
（ａ）－（ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ）_ｓ１－（ｓ１は、１～１０の整数を表す。）、
（ｂ）－（ＣＨＲ^４ｈ）_ｓ２－Ｏ－（ｓ２は、１～４０の整数である繰り返し数を表す。Ｒ^４ｈは、水素またはメチル基を表す。）、
（ｃ）－（ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ）_ｓ１－ＣＯ－ＮＨ－ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ－（ｓ１は、上記と同意義である。）、
（ｄ）－ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＨ_２－、
（ｅ）－（ＣＨ_２）_ｓ３－（ｓ３は１～６の整数を表す。）、または
（ｆ）－（ＣＨ_２）_ｓ４－Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｓ５－（ｓ４は１～８の整数、好ましくは、２または４を表す。ｓ５は１～６の整数、好ましくは３を表す。）、または
（ｇ）－Ｏ－（但し、Ｙ^３は－Ｏ－ではない）
である。

　Ｒ^４ｇは、好ましくは以下の基である。
　（ｉ）アルキル基
　例：メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ドデシル、オクタデシル

　（ｉｉ）フッ素で置換されたアルキル基を含有する鎖状基
　例：

　（ｉｉｉ）単環式炭素環、二環式炭素環、三環式炭素環、および四環式炭素環からなる群より選択される１個以上の環状部を含有する基
　例：

　（ｉｖ）水素（ただし、該水素原子は、リンカーの酸素原子とは結合しない）
　（ｖ）イミダゾリウム塩を含有する基
　例：

（ｖｉ）ケイ素を含有する基

　上記式中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６およびＲ^１７は、それぞれ独立して、アルキル基またはアリール基を表す。

　上記アルキル基としては、特に限定されるものではないが、炭素数１～１０のアルキル基、および炭素数３～２０のシクロアルキル基が挙げられ、好ましくは炭素数１～６のアルキル基であり、具体的には、Ｒ^１１に関しては炭素数ｎ－ブチル基であり、Ｒ^１２～Ｒ^１７に関してはメチル基である。

　上記アリール基としては、特に限定されるものではないが、炭素数６～２０のアリール基が挙げられる。当該アリール基は、２個またはそれ以上の環を含んでいてもよい。好ましいアリール基は、フェニル基である。

　上記アルキル基およびアリール基は、所望により、その分子鎖または環中に、ヘテロ原子、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子を含有していてもよい。

　さらに、上記アルキル基およびアリール基は、所望により、ハロゲン；１個またはそれ以上のハロゲンにより置換されていてもよい、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、Ｃ_２－６アルキニル基、Ｃ_３－１０シクロアルキル基、Ｃ_３－１０不飽和シクロアルキル基、５～１０員のヘテロシクリル基、５～１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ_６－１０アリール基、５～１０員のヘテロアリール基から選択される、１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

　上記式中、Ｒ^１８は、２価の有機基を表す。

　上記Ｒ^１８は、好ましくは、－（ＣＨ_２）_ｒ”－（式中、ｒ”は１以上２０以下の整数、好ましくは１以上１０以下の整数である）であり、より好ましくは、－（ＣＨ_２）_ｒ”－（式中、ｒ”は１以上１０以下の整数である）である。

　上記式中、ｎ４は、それぞれ独立して、１以上５００以下の整数である。当該ｎ４は、好ましくは１以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下である。

　Ｒ^４ｇは、より好ましくは、水素原子（ただし、Ｏに結合し水酸基を形成するものを除く）、またはフッ素化されていてもよく、かつエチレン鎖またはオキシエチレン鎖を介して結合してもよいアルキル基であり、より好ましくは、水素原子、メトキシエチル基、イソブチル基、またはＲ^４ｉ－ＣＦ_２－（ＣＦ_２）_ｓ６－（ＣＨ_２）_ｓ７－Ｏ－（ＣＨ_２）_２－（Ｒ^４ｉはフッ素原子または水素原子であり、ｓ６は０～６の整数であり、およびｓ７は１～６の整数である）であり、さらに好ましくは、３－（ペルフルオロエチル）プロポキシエチル基［示性式：ＣＦ_３－（ＣＦ_２）－（ＣＨ_２）_３－Ｏ－（ＣＨ_２）_２－］である。

　上記Ｒ^４中、構成単位Ｒ^４ａと構成単位Ｒ^４ｂは、それぞれがブロックを形成していてもよく、ランダムに結合していてもよい。

　一の態様において、Ｒ^４中、構成単位Ｒ^４ａと構成単位Ｒ^４ｂは、それぞれがブロックを形成する。

　一の態様において、Ｒ^４中、構成単位Ｒ^４ａと構成単位Ｒ^４ｂは、ランダムに結合する。

　一の態様において、Ｒ^４は、Ｒ^４ａである。即ち、Ｒ^４は、置換基群Ａより選択される官能基を有する構成単位Ｒ^４ａからなる。

　好ましい態様において、Ｒ^４ａの数（重合度）は、１～１００であり、好ましくは２～７０、より好ましくは２～５０、さらに好ましくは２～３０である。

　一の態様において、Ｒ^４は、Ｒ^４ｂである。即ち、Ｒ^４は、置換基群Ａより選択される官能基を有しない構成単位Ｒ^４ｂからなる。

　好ましい態様において、Ｒ^４ｂの数（重合度）は、１～１００であり、好ましくは２～７０、より好ましくは２～５０、さらに好ましくは２～３０である。

　上記式において、ｎは１～１００の整数であり、好ましくは２～７０の整数、より好ましくは２～５０の整数、さらに好ましくは２～３０の整数である。

　上記式中、Ｘ^ａは、それぞれ独立して、二価の有機基である。

　上記式中、Ｘ^ｂは、それぞれ独立して、二価の有機基である。

　上記式中、－Ｘ^ａ－Ｘ^ｂ－は、式（１）および（２）で表される含フッ素共重合体において、Ｒ^Ｆ１と、Ｒ^４とを連結するリンカーの一部と解される。したがって、Ｘ^ａおよびＸ^ｂは、式（１）および（２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの２価の有機基であってもよい。

　一の態様において、Ｘ^ａは、それぞれ独立して、下記式：
　　　－（Ｑ）_ｅ－（ＣＦＺ）_ｆ－（ＣＨ_２）_ｇ－
で表される基である。式中、ｅ、ｆおよびｇは、それぞれ独立して、０～１０の整数であり、ｅ、ｆおよびｇの和は１以上であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。

　上記式中、Ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子、フェニレン、カルバゾリレン、－ＮＲ^ｑ－（式中、Ｒ^ｑ１は、水素原子または有機基を表す）または２価の極性基である。好ましくは、Ｑは、酸素原子または２価の極性基である。

　上記Ｑにおける「２価の極性基」としては、特に限定されないが、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（＝ＮＲ^ｂ）－、および－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^ｑ２－（これらの式中、Ｒ^ｑ２は、水素原子または低級アルキル基を表す）が挙げられる。当該「低級アルキル基」は、例えば、炭素数１～６のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ－プロピルであり、これらは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい。

　上記式中、Ｚは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または低級フルオロアルキル基であり、好ましくはフッ素原子である。当該「低級フルオロアルキル基」は、例えば、炭素数１～６、好ましくは炭素数１～３のフルオロアルキル基、好ましくは炭素数１～３のペルフルオロアルキル基、より好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、さらに好ましくはトリフルオロメチル基である。

　Ｘ^ａは、好ましくは、下記式：
　　　－（Ｏ）_ｅ－（ＣＦ_２）_ｆ－（ＣＨ_２）_ｇ－
［式中、ｅ、ｆおよびｇは、上記と同意義であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である］
で表される基である。なお、これらの基は左端がＲ^Ｆ１に結合する。

　一の態様において、Ｘ^ａは、
　　－（Ｏ）_ｅ１－（ＣＨ_２）_ｇ２－Ｏ－［（ＣＨ_２）_ｇ３－Ｏ－］_ｇ４、
　　－（Ｏ）_ｅ１－（ＣＦ_２）_ｆ２－（ＣＨ_２）_ｇ２－Ｏ－［（ＣＨ_２）_ｇ３－Ｏ－］_ｇ４
［式中、
　ｅ１は０または１であり、
　ｆ２、ｇ２およびｇ３は、それぞれ独立して、１～１０の整数であり、
　ｇ４は、０または１である］
で表される基であり得る。なお、これらの基は左端がＲ^Ｆ１に結合する。

　好ましい態様において、Ｘ^ａは、
　　－（ＣＨ_２）_ｇ２－Ｏ－
［式中、ｇ２は、１～１０の整数である。］
で表される基であり得る。なお、かかる基は左端がＲ^Ｆ１に結合する。

　一の態様において、Ｘ^ｂは、下記式：
　　　－ＣＯ－Ｒ^ｂ３－ＣＲ^ｂ１Ｒ^ｂ２－
［式中：
　Ｒ^ｂ１およびＲ^ｂ２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１－３アルキル基、フェニル基または－ＣＮであり、
　Ｒ^ｂ３は、単結合または置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基である。］
で表される基であり得る。なお、かかる基は右端がＲ^４に結合する。

　上記Ｒ^ｂ１およびＲ^ｂ２は、それぞれ独立して、好ましくは、Ｃ_１－３アルキル基、フェニル基または－ＣＮであり、より好ましくは、Ｃ_１－３アルキル基または－ＣＮである。Ｃ_１－３アルキル基は、好ましくはメチル基またはエチル基であり、より好ましくはメチル基である。

　一の態様において、Ｒ^ｂ１は、Ｃ_１－３アルキル基、好ましくはメチル基であり、Ｒ^ｂ２は、水素原子または－ＣＮである。

　上記Ｒ^ｂ３における「置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基」における置換基は、好ましくはＣ_１－３アルキル基またはフェニル基であり、好ましくはＣ_１－３アルキル基である。Ｃ_１－３アルキル基は、好ましくはメチル基またはエチル基であり、より好ましくはメチル基である。該置換基は、１つであってもよく、または２つ以上であってもよい。

　上記Ｒ^ｂ３におけるＣ_１－６アルキレン基は、好ましくはＣ_１－３アルキレン基、より好ましくはＣ_２－３アルキレン基、例えばジメチレン基であり得る。

　一の態様において、Ｒ^ｂ３は、単結合である。

　別の態様において、Ｒ^ｂ３は、置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基であり、好ましくはＣ_１－６アルキレン基である。

　上記式中、Ｒ^ａは、アルキル、フェニル、－ＳＲ^ａ１、－ＯＲ^ａ２、－ＮＲ^ａ３ _２、

である。Ｒ^ａは、いわゆるＲＡＦＴ剤の一部であり得る。

　上記式中、Ｒ^ａ１、Ｒ^ａ２、Ｒ^ａ３、Ｒ^ａ４、Ｒ^ａ５およびＲ^ａ６は、それぞれ独立して、アルキル基またはフェニル基である。

　上記Ｒ^ａ１は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基、より好ましくはＣ_３－１８アルキル基、さらに好ましくはＣ_４－１２アルキル基である。

　上記Ｒ^ａ２は、好ましくはフェニル基またはＣ_１－２０アルキル基である。該Ｃ_１－２０アルキル基は、好ましくはＣ_１－１０アルキル基、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはＣ_１－３アルキル基である。

　上記Ｒ^ａ３は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基、より好ましくはＣ_１－１０アルキル基、さらに好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらにより好ましくはＣ_１－３アルキル基である。

　上記Ｒ^ａ４は、好ましくはＣ_１－６アルキル基、より好ましくはＣ_１－３アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

　上記Ｒ^ａ５は、好ましくはＣ_１－６アルキル基、より好ましくはＣ_１－３アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

　上記Ｒ^ａ６は、好ましくはＣ_１－６アルキル基、より好ましくはＣ_１－３アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

　上記Ｒ^ａ７は、水素またはハロゲン原子（例えば、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素、好ましくは塩素）である。

　一の態様において、Ｒ^ａは、－ＳＲ^ａ１または－ＯＲ^ａ２である。

　好ましい態様において、本開示の含フッ素共重合体は、式（１）で表される含フッ素共重合体であり得る。

　本開示の含フッ素共重合体の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、２×１０^２～１×１０^５、好ましくは１×１０^３～５×１０^４、より好ましくは３×１０^３～２×１０^４であり得る。かかる範囲の数平均分子量を有することにより、溶剤への溶解性および表面処理層の接触角をより大きくすることができる。当該数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により求めることができる。

　本開示の含フッ素共重合体の多分散度（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ））は、好ましくは３．０以下、より好ましくは２．５以下、さらに好ましくは２．０以下、さらにより好ましくは１．５以下であり得る。多分散度を小さくすることにより、より均質な表面処理層を形成することができ、表面処理層の耐久性を向上させることができる。

　本開示の含フッ素重合体は、例えば、いわゆるＲＡＦＴ（Reversible addition-fragmentation chain transfer）型のラジカル重合を利用して合成することができる。

　まず、ペルフルオロポリエーテル基を有するＲＡＦＴ剤を調製する。例えば、ペルフルオロポリエーテルを有する化合物（Ａ）とＲＡＦＴ骨格（－ＳＣ（＝Ｓ）－）を有する化合物（Ｂ１）または（Ｂ２）：

［式中、Ｒ^ａ、Ｒ^Ｆ１、Ｒ^Ｆ２、Ｘ^ａおよびＸ^ｂは、上記と同意義であり；
　Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ、脱離部分である。］
を反応させて、ペルフルオロポリエーテル基を有する連鎖移動剤（１ａ）または（２ａ）：

［式中、Ｒ^ａ、Ｒ^Ｆ１、Ｒ^Ｆ２、Ｘ^ａおよびＸ^ｂは、上記と同意義である。］
を得ることができる。

　上記で得られた連鎖移動剤（１ａ）または（２ａ）と、不飽和結合を有する単量体とを反応させることにより、上記式（１）または（２）で表される化合物を得ることができる。かかる反応は、いわゆるＲＡＦＴ重合であり、反応条件は、ＲＡＦＴ重合で一般的に用いられる条件を用いることができる。

　次に、上記一般式（１）および（２）で表される含フッ素共重合体を含有する表面処理剤について説明する。

　本開示の含フッ素共重合体は、好ましくは、樹脂を含む種々の材料から成る基材の表面の処理に用いられる。すなわち、本開示は、１種またはそれ以上の上記式（１）および（２）で表される含フッ素共重合体を含有する表面処理剤を提供する。

　本開示の表面処理剤は、さらに、下記一般式（Ｃ）：

で表される少なくとも１種の含フッ素オイル（以下、「含フッ素オイル（Ｃ）」とも称する）を含有してもよい。

　上記式（Ｃ）中、Ｒｆ^２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６のアルキル基を表し、Ｒｆ^３は、水素原子、フッ素原子、または１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６のアルキル基を表す。好ましくは、Ｒｆ^２およびＲｆ^３は、それぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～３のアルキル基であり、より好ましくは炭素数１～３のペルフルオロアルキル基である。

　上記式（Ｃ）中、ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するペルフルオロ（ポリ）エーテルの３種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数、好ましくは０以上２００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１～３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’またはｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、－（ＯＣ_４Ｆ_８）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）－および－（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））のいずれであってもよく、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－である。－（ＯＣ_３Ｆ_６）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－および－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよく、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－である。－（ＯＣ_２Ｆ_４）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－および－（ＯＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－である。

　上記一般式（Ｃ）で表される含フッ素オイルの例として、以下の一般式（Ｃ１）および（Ｃ２）のいずれか：
　Ｒｆ^２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ”－Ｒｆ^３　　　　　　　　　　・・・（Ｃ１）
［式中、Ｒｆ^２およびＲｆ^３は上記の通りであり、ｂ”は、０～３００の整数であり、添字ｂ”を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
　Ｒｆ^２－(ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２)_ａ”－(ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２)_ｂ”－(ＯＣＦ_２ＣＦ_２)_ｃ”－(ＯＣＦ_２)_ｄ”－Ｒｆ^３　　　　　　　　　　　　　　　　・・・（Ｃ２）
［式中、Ｒｆ^２およびＲｆ^３は上記の通りであり、ａ”およびｂ”は、それぞれ独立して、０～３０の整数であり、ｃ”およびｄ”は、それぞれ独立して、０～３００の整数であり、添字ａ”、ｂ”、ｃ”およびｄ”を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
で表される化合物（１種または２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。

　上記含フッ素オイル（Ｃ）は、約１，０００～３０，０００の平均分子量を有していてよい。これにより、高い表面滑り性を得ることができる。

　本開示の表面処理剤中、かかる含フッ素オイル（Ｃ）は、上記含フッ素共重合体の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０～８０質量部、好ましくは０～４０質量部で含まれ得る。

　本開示の表面処理剤中、かかる含フッ素オイル（Ｃ）は、上記含フッ素共重合体と含フッ素オイル（Ｃ）の合計に対して、好ましくは４０質量％以下で含まれ得る。

　上記含フッ素オイル（Ｃ）は、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

　本開示の表面処理剤は、上記以外に、他の成分、例えばシリコーンオイル、活性エネルギー線ラジカル硬化開始剤、熱酸発生剤、活性エネルギー線カチオン硬化開始剤などを含んでいてもよい。

　上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が２，０００以下の直鎖状または環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイルおよび変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。

　本開示の表面処理剤中、かかるシリコーンオイルは、上記含フッ素共重合体の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０～５０質量部、好ましくは０～１０質量部で含まれ得る。

　上記活性エネルギー線ラジカル硬化開始剤としては、例えば、３５０ｎｍ以下の波長領域の電磁波、つまり紫外光線、電子線、Ｘ線、γ線などが照射されることによって初めてラジカルを発生し、置換基群Ａより選択される官能基として硬化性部位を有する含フッ素共重合体の硬化性部位（例えば、炭素－炭素二重結合）の硬化（架橋反応）を開始させる触媒として働くものであり、通常、紫外光線でラジカルを発生させるものを使用する。

　本開示の表面処理剤における活性エネルギー線ラジカル硬化開始剤は、含フッ素共重合体中の硬化性部位の種類、使用する活性エネルギー線の種類（波長域など）と照射強度などによって適宜選択されるが、一般に紫外線領域の活性エネルギー線を用いてラジカル反応性の硬化性部位（炭素－炭素二重結合）を有する含フッ素共重合体を硬化させる開始剤としては、例えば、以下のものが例示できる。

・アセトフェノン系
　アセトフェノン、クロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、ヒドロキシアセトフェノン、α－アミノアセトフェノン、ヒドロキシプロピオフェノン、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルホリノプロパンー１－オンなど

・ベンゾイン系
　ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタールなど

・ベンゾフェノン系
　ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４－フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ヒドロキシ－プロピルベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、ミヒラーズケトンなど

・チオキサンソン類
　チオキサンソン、クロロチオキサンソン、メチルチオキサンソン、ジエチルチオキサンソン、ジメチルチオキサンソンなど

・その他
　ベンジル、α－アシルオキシムエステル、アシルホスフィンオキサイド、グリオキシエステル、３－ケトクマリン、２－エチルアンスラキノン、カンファーキノン、アンスラキノンなど

　これらの活性エネルギー線硬化開始剤は、１種を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

　上記活性エネルギー線硬化開始剤は、特に限定されるものではないが、含フッ素共重合体、ならびに、存在する場合、含フッ素オイル（Ｃ）の合計１００質量部に対して、０．０１～１０００質量部、好ましくは０．１～５００質量部で含まれる。

　上記熱酸発生剤を用いることにより、熱によりカチオン種を含む化合物の分解反応が起こり、硬化性部位を有する含フッ素共重合体の硬化性部位（例えば、環状エーテル）の硬化（架橋反応）を開始させる。

　上記熱酸発生剤としては、例えば、下記一般式（ａ）：
（Ｒ^１ _ａＲ^２ _ｂＲ^３ _ｃＲ^４ _ｄＺ）^＋ｍ（ＡＸｎ）^－ｍ　　　（ａ）
（式中、Ｚは、Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｏ、Ｎ及びハロゲン元素からなる群より選ばれる少なくとも一つの元素を表す。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、同一又は
異なって、有機基を表す。ａ、ｂ、ｃ及びｄは、０又は正数であり、ａ、ｂ、ｃ及びｄの合計はＺの価数に等しい。カチオン（Ｒ^１ _ａＲ^２ _ｂＲ^３ _ｃＲ^４ _ｄＺ）^＋ｍはオニウム塩を表す。Ａは、ハロゲン化物錯体の中心原子である金属元素又は半金属元素（ｍｅｔａｌｌ
ｏｉｄ）を表し、Ｂ、Ｐ、Ａｓ、Ａｌ、Ｃａ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏからなる群より選ばれる少なくとも一つである。Ｘは、ハロゲン元素を表す。ｍは、ハロゲン化物錯体イオンの正味の電荷である。ｎは、ハロゲン化物錯体イオン中のハロゲン元素の数である。）で表される化合物が好適である。

　上記一般式（ａ）の陰イオン（ＡＸｎ）^－ｍの具体例としては、テトラフルオロボレート
（ＢＦ_４ ^－）、ヘキサフルオロホスフェート（ＰＦ_６ ^－）、ヘキサフルオロアンチモネート（ＳｂＦ_６ ^－）、ヘキサフルオロアルセネート（ＡｓＦ_６ ^－）、ヘキサクロロアンチモネート（ＳｂＣｌ_６ ^－）等が挙げられる。
更に一般式ＡＸｎ（ＯＨ）^－で表される陰イオンも用いることができる。また、その他の陰イオンとしては、過塩素酸イオン（ＣｌＯ_４ ^－）、トリフルオロメチル亜硫酸イオン（ＣＦ_３ＳＯ_３ ^－）、フルオロスルホン酸イオン（ＦＳＯ_３ ^－）、トルエンスルホン酸イオン、トリニトロベンゼンスルホン酸イオン等が挙げられる。

　上記熱酸発生剤の具体的な商品としては、例えば、ＡＭＥＲＩＣＵＲＥシリーズ（アメリカン・キャン社製）、ＵＬＴＲＡＳＥＴシリーズ（アデカ社製）、ＷＰＡＧシリーズ（和光純薬社製）等のジアゾニウム塩タイプ；ＵＶＥシリーズ（ゼネラル・エレクトリック社製）、ＦＣシリーズ（３Ｍ社製）、ＵＶ９３１０Ｃ（ＧＥ東芝シリコーン社製）、Ｐｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒ　２０７４（ローヌプーラン社製）、ＷＰＩシリーズ（和光純薬社製）等のヨードニウム塩タイプ；ＣＹＲＡＣＵＲＥシリーズ（ユニオンカーバイド社製）、ＵＶＩシリーズ（ゼネラル・エレクトリック社製）、ＦＣシリーズ（３Ｍ社製）、ＣＤシリーズ（サトーマー社製）、オプトマーＳＰシリーズ・オプトマーＣＰシリーズ（アデカ社製）、サンエイドＳＩシリーズ（三新化学工業社製）、ＣＩシリーズ（日本曹達社製）、ＷＰＡＧシリーズ（和光純薬社製）、ＣＰＩシリーズ（サンアプロ社製）等のスルホニウム塩タイプ等が挙げられる。

　これらの熱酸発生剤は、１種を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

　上記熱酸発生剤は、特に限定されるものではないが、含フッ素共重合体、ならびに、存在する場合、含フッ素オイル（Ｃ）の合計１００質量部に対して、０．０１～１，０００質量部、好ましくは０．１～５００質量部で含まれる。

　上記活性エネルギー線カチオン硬化開始剤を用いることにより、光によりカチオン種を含む化合物が励起されて光分解反応が起こり、硬化性部位を有する含フッ素共重合体の硬化性部位（例えば、環状エーテル）の硬化（架橋反応）を開始させる。

　上記活性エネルギー線カチオン硬化開始剤としては、例えば、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムホスフェート、ｐ－（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ｐ－（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、４－クロルフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、４－クロルフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス［４－（ジフェニルスルフォニオ）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオロフォスフェート、ビス［４－（ジフェニルスルフォニオ）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオロアンチモネート、（２，４－シクロペンタジエン－１－イル）［（１－メチルエチル）ベンゼン］－Ｆｅ－ヘキサフルオロホスフェート、ジアリルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート等が好適である。

　上記活性エネルギー線カチオン硬化開始剤の具体的な商品としては、例えば、ＵＶＩ－６９５０、ＵＶＩ－６９７０、ＵＶＩ－６９７４、ＵＶＩ－６９９０（ユニオンカーバイド社製）；アデカオプトマーＳＰ－１５０、ＳＰ－１５１、ＳＰ－１７０、ＳＰ－１７２（ＡＤＥＫＡ社製）；Ｉｒｇａｃｕｒｅ２５０（チバ・ジャパン社製）；ＣＩ－２４８１、ＣＩ－２６２４、ＣＩ－２６３９、ＣＩ－２０６４（日本曹達社製）；ＣＤ－１０１０、ＣＤ－１０１１、ＣＤ－１０１２（サートマー社製）；ＤＴＳ－１０２、ＤＴＳ－１０３、ＮＡＴ－１０３、ＮＤＳ－１０３、ＴＰＳ－１０３、ＭＤＳ－１０３、ＭＰＩ－１０３、ＢＢＩ－１０３（みどり化学社製）；ＰＣＩ－０６１Ｔ、ＰＣｌ－０６２Ｔ、ＰＣｌ－０２０Ｔ、ＰＣｌ－０２２Ｔ（日本化薬社製）；ＣＰｌ－１００Ｐ、ＣＰＴ－１０１Ａ、ＣＰＩ－２００Ｋ（サンアプロ社製）；サンエイドＳＩ－６０Ｌ、サンエイドＳＩ－８０Ｌ、サンエイドＳＩ－１００Ｌ、サンエイドＳＴ－１１０Ｌ、サンエイドＳＩ－１４５、サンエイドＳＩ－１５０、サンエイドＳＩ－１６０、サンエイドＳＩ－１８０Ｌ（三新化学工業社製）；ＷＰＡＧシリーズ（和光純薬社製）等のジアゾニウム塩タイプ、ヨードニウム塩タイプ、スルホニウム塩タイプが好ましい。__

　これらの活性エネルギー線カチオン硬化開始剤は、１種を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

　　上記活性エネルギー線ラジカル硬化開始剤は、特に限定されるものではないが、含フッ素共重合体、ならびに、存在する場合、含フッ素オイル（Ｃ）の合計１００質量部に対して、０．０１～１，０００質量部、好ましくは０．１～５００質量部で含まれる。

　本開示の表面処理剤は、溶剤を含んでいてもよい。本開示の表面処理剤に含まれる含フッ素共重合体は、フッ素含有有機溶媒のみならず、汎用溶剤であるフッ素非含有有機溶媒に対しても高い溶解性を示すので、上記溶剤としては、フッ素含有有機溶媒およびフッ素非含有有機溶媒を用いることができる。

　このようなフッ素含有有機溶媒としては、例えば、ペルフルオロヘキサン、ペルフルオロオクタン、ペルフルオロジメチルシクロヘキサン、ペルフルオロデカリン、ペルフルオロアルキルエタノール、ペルフルオロベンゼン、ペルフルオロトルエン、ペルフルオロアルキルアミン（フロリナート（商品名）等）、ペルフルオロアルキルエーテル、ペルフルオロブチルテトラヒドロフラン、ポリフルオロ脂肪族炭化水素（アサヒクリンＡＣ６０００（商品名））、ハイドロクロロフルオロカーボン（アサヒクリンＡＫ－２２５（商品名）等）、ハイドロフルオロエーテル（ノベック（商品名）、ＨＦＥ－７１００（商品名）等）、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、含フッ素アルコール、ペルフルオロアルキルブロミド、ペルフルオロアルキルヨージド、ペルフルオロポリエーテル（クライトックス（商品名）、デムナム（商品名）、フォンブリン（商品名）等）、１，３－ビストリフルオロメチルベンゼン、メタクリル酸２－（ペルフルオロアルキル）エチル、アクリル酸２－（ペルフルオロアルキル）エチル、ペルフルオロアルキルエチレン、フロン１３４ａ、およびヘキサフルオロプロペンオリゴマーが挙げられる。

　また、このようなフッ素非含有有機溶媒としては、例えば、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテルペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、二硫化炭素、ベンゼン、トルエン、キシレン、ニトロベンゼン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、ダイグライム、トリグライム、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、２－ブタノン、アセトニトリル、ベンゾニトリル、ブタノール、１－プロパノール、２－プロパノール、エタノール、メタノール、およびジアセトンアルコールが挙げられる。

　なかでも、本開示の表面処理剤に用いられる溶剤は、好ましくは、メチルイソブチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ヘキサデカン、酢酸ブチル、アセトン、２－ブタノン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、ジアセトンアルコールまたは２－プロパノールである。

　これらの溶剤は、１種を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

　かかる溶剤は、含フッ素共重合体、ならびに、存在する場合、含フッ素オイル（Ｃ）の合計１００質量部に対して、５～１００，０００質量部、好ましくは５～５０，０００質量部で含まれる。

　一の態様において、本開示の表面処理剤は、マトリックスを形成する組成物に加えることにより、硬化性組成物とすることができる。

　上記硬化性組成物は、本開示の含フッ素共重合体または表面処理剤を、０．０１～２０質量％、好ましくは０．０１～１０質量％、より好ましくは０．１～１０質量％含有する。

　上記マトリックスを形成する組成物とは、少なくとも１つの炭素―炭素二重結合を有する化合物、例えば、特に限定されるものではないが、単官能および／または多官能アクリレートおよびメタクリレート（以下、アクリレートおよびメタクリレートを合わせて、「（メタ）アクリレート」とも言う）、単官能および／または多官能ウレタン（メタ）アクリレート、単官能および／または多官能エポキシ（メタ）アクリレートである化合物を含有する組成物を意味する。当該マトリックスを形成する組成物としては、特に限定されるものではないが、一般的にハードコーティング剤または反射防止剤とされる組成物であり、例えば多官能性（メタ）アクリレートを含むハードコーティング剤または含フッ素（メタ）アクリレートを含む反射防止剤が挙げられる。当該ハードコーティング剤は、例えば、ビームセット５０２Ｈ、５０４Ｈ、５０５Ａ－６、５５０Ｂ、５７５ＣＢ、５７７、１４０２（商品名）として荒川化学工業株式会社から、ＥＢＥＣＲＹＬ４０（商品名）としてダイセルサイテックから、ＨＲ３００系（商品名）として横浜ゴムから市販されている。上記反射防止剤は、例えばオプツールＡＲ－１１０（商品名）としてダイキン工業株式会社から市販されている。

　上記マトリックスを形成する組成物として単官能及び／又は多官能エポキシである化合物を含有する組成物も好ましい。例えばビスフェノールＡジグリシジルエーテル、２，２’－ビス（４－グリシジルオキシシクロヘキシル）プロパン、３，４－エポキシシクロヘキシルメチル－３，４－エポキシシクロヘキサンカーボキシレート、ビニルシクロヘキセンジオキサイド、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）－５，５－スピロ－（３，４－エポキシシクロヘキサン）－１，３－ジオキサン、ビス（３，４－エポキシシクロヘキシル）アジペート、１，２－シクロプロパンジカルボン酸ビスグリシジルエステル、トリグリシジルイソシアヌレート等のエポキシ樹脂を使用できる。

　また、水添型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、又はイソシアヌレート環を含有するエポキシ樹脂、あるいは、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、前記各種エポキシ樹脂の芳香環を水素添加した水添型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂を使用できる。

　本開示の表面処理剤および硬化性組成物は、さらに、酸化防止剤、増粘剤、レベリング剤、消泡剤、帯電防止剤、防曇剤、紫外線吸収剤、顔料、染料、シリカなどの無機微粒子、アルミニウムペースト、タルク、ガラスフリット、金属粉などの充填剤、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、フェノチアジン（ＰＴＺ）などの重合禁止剤などを含んでいてもよい。

　次に、本開示の物品について説明する。

　本開示は、基材と、該基材の表面に本開示の表面処理剤または硬化性組成物（以下、本開示の表面処理剤または硬化性組成物を合わせて、「表面処理剤」または「表面処理組成物」ともいう）により形成された層（表面処理層）とを含む物品を提供する。この物品は、例えば以下のようにして製造できる。

　まず、基材を準備する。本開示に使用可能な基材は、例えばガラス、樹脂（天然または合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料、好ましくは、ポリカーボネート樹脂、ポリ（メタ）アクリレート樹脂、ポリエチレンテレフタラート樹脂、トリアセチルセルロース樹脂、ポリイミド樹脂、モディファイド（透明）ポリイミド樹脂、ポリシクロオレフィン樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂であってよく、板状、フィルム、その他の形態であってよい）、金属（アルミニウム、銅、銀、鉄等の金属単体または合金等の複合体であってよい）、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材、建築部材等、任意の適切な材料で構成され得る。

　例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラスまたは透明プラスチックなどであってよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ－ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、位相差フィルム、有機ＥＬ表示モジュールおよび液晶表示モジュールなどを有していてもよい。

　例えば、製造すべき物品が絶縁部材や誘電体部材である場合、基材の表面を構成する材料は、電子又は電気用材料、例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド、ポリフェニレンエーテル、液晶ポリマー、フッ素樹脂あるいは、それらの複合材料、例えば紙フェノールやガラスクロス含侵エポキシ等、または銅、アルミなどの金属材料、アルミナ、ガラスといった無機材料であってもよい。

　基材の形状は特に限定されない。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途および具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。

　次に、かかる基材の表面に、上記の本開示の表面処理剤の膜を形成し、この膜を必要に応じて後処理し、これにより、本開示の表面処理剤から表面処理層を形成する。

　本開示の表面処理剤の膜形成は、上記の表面処理剤を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法を使用できる。

　湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、マイクログラビアコーティング、バーコーティング、ダイコーティング、スクリーン印刷および類似の方法が挙げられる。

　湿潤被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。当該溶媒としては、上記したフッ素含有有機溶媒およびフッ素非含有有機溶媒を用いることができる。本開示の表面処理剤の安定性および溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される：炭素数５～１２のペルフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、ペルフルオロヘキサン、ペルフルオロメチルシクロヘキサンおよびペルフルオロ－１，３－ジメチルシクロヘキサン）；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、ペルフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＨ_３）、ペルフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）、ペルフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）、ペルフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ_２Ｆ_５ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７）などのアルキルペルフルオロアルキルエーテル（ペルフルオロアルキル基およびアルキル基は直鎖または分枝状であってよい））、ハイドロクロロフルオロカーボン（アサヒクリンＡＫ－２２５（商品名）等）、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテートなどのセロソルブ系溶剤；ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル－２－ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酪酸エチル、酪酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、２－ヒドロキシイソ酪酸メチル、２－ヒドロキシイソ酪酸エチルなどのエステル系溶剤；プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテルなどのプロピレングリコール系溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２－ヘキサノン、シクロヘキサノン、メチルアミノケトン、２－ヘプタノンなどのケトン系溶剤；メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール系溶剤；トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類など。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上の混合物として用いることができる。なかでも、ヒドロフルオロエーテル、グリコール系溶剤、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、アルコール系溶剤が好ましく、ペルフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）および／またはペルフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）、プロピレングリコールモノメチルエーテル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソプロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコールが特に好ましい。

　次に、膜を後処理する。この後処理は、特に限定されないが、例えば、活性エネルギー線、例えば、３５０ｎｍ以下の波長領域の電磁波、つまり紫外光線、電子線、Ｘ線、γ線などを照射することにより行われる。もしくは所定時間加熱することにより行われる。かかる後処理を施すことにより、硬化性部位を有する含フッ素共重合体の硬化性部位、ならびに存在する場合にはハードコーティング剤の硬化性部位の硬化を開始させ、これらの化合物間、また、これらの化合物と基材間に結合が形成される。

　上記のようにして、基材の表面に、本開示の表面処理剤に由来する表面処理層が形成され、本開示の物品が製造される。これにより得られる表面処理層は、高い表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）と高い摩擦耐久性の双方を有する。また、この表面処理層は、高い摩擦耐久性および表面滑り性に加えて、使用する表面処理剤の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。

　すなわち本開示はさらに、上記表面処理層を最外層に有する光学材料にも関する。

　光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例、ＴＶ、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；ＦｉｅｌｄＥｍｉｓｓｉｏｎＤｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイまたはそれらのディスプレイの保護板、フィルムまたはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。

　本開示によって得られる表面処理層を有する物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、飛散防止フィルム、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ－ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ－Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバーなど。

　一の態様において、本開示によって得られる表面処理層を有する物品としては、例えば、ＬｉＤＡＲ（Light Detection and Ranging）カバー部材、センサー部材、インストルメントパネルカバー部材、自動車内装部材等、特に自動車用のこれらの部材が挙げられる。

　表面処理層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、表面処理層の厚さは、０．１～３０μｍ、好ましくは０．５～２０μｍの範囲であることが、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性および防汚性の点から好ましい。

　また、本開示の含フッ素共重合体は、フッ素を含んでいるため電気特性の優れた絶縁体や誘電体としても使用することができる。

　すなわち、本開示はさらに、硬化性組成物から形成された絶縁体、および誘電体にも関する。

　上記絶縁体および誘電体は膜を形成してもよい。すなわち、上記絶縁体および誘電体は、絶縁膜や誘電膜としても好適に使用される。絶縁膜は、ゲート絶縁膜、層間絶縁膜、レジスト剥離及び洗浄後に形成される絶縁膜等の半導体用絶縁膜、プリント基板に積層される絶縁膜、セラミック配線基板の絶縁膜、フィルムコンデンサー、信号線（例えば電線）被覆材用の絶縁膜などとして使用できる。

　上記絶縁膜又は誘電膜は、高周波伝送路の誘電体絶縁層に使用可能である。高周波伝送路の例としては自動運転用ミリ波レーダー基板があげられる。絶縁膜又は誘電膜は、フッ素を含有しているため低誘電正接 tanδ、低誘電率であるため、車載レーダーの感度を向上できる。

　上記絶縁膜は、高速通信対応基板の絶縁体として使用できる。高周波電気信号の伝送損失を示す次の式から理解されるように、誘電率又は誘電正接を低下させることによって伝送損失を低下できる。

　本開示の絶縁膜は、フッ素の効果で誘電率、誘電正接が低いため、高速対応基板の絶縁体として有利である。

　そのような高速通信対応基板としては、基地局アンテナ基板、アンテナ分配基板、無線基地局の無線部分であるＲＲＨ（Remote Radio Head）用基板、無線基地局の制御部又はベースバンド部（BBU：Base Band Unit）用基板、高速通信用トランシーバー基板、ＲＮＣ（Radio Network Contoroler）用基板、高速トランスミッター用基板、高速レシーバー用基板、高速信号多重回路用基板、６０ＧＨｚ帯使用のＷｉＦｉｇ用基板、データセンター用のサーバーで使用されるデーター転送用基板などがあげられる。

　また、高速通信対応基板としては、アンテナ用基板、例えば５Ｇ以降の規格で求められる大容量通信に向けた、超多素子アンテナ(Massive MIMO)向けの基板等も例示できる。

　上記絶縁膜は、基板用の絶縁体のみならず、信号線被覆材用の絶縁体として使用できる。例えば、高速信号を伝送する導波管、高速ＬＡＮ用のＱＳＦＰケーブル、高速通信対応用の同軸ケーブル（例；SFP+ケーブル、QSFP+ケーブルなど）、低損失用の同軸ケーブル等の絶縁被覆材（例；絶縁チューブ）として使用できる。

　こうした高周波を使用する場合、コネクタなどの電気部品、ケーシングなどの通信機器に使用される資材には、安定して低い誘電率（εｒ）及び低い誘電正接（ｔａｎ　δ）といった電気的特性が求められる。絶縁膜は、そのような資材用の絶縁材料としても使用できる。

　絶縁膜は、ハンダ付けが必要となるコネクタプリント配線基板用の絶縁材料としても使用できる。絶縁体は優れた耐熱性を有しているので、ハンダ付け時の高温でも問題が生じにくい。

　誘電体導波線路においては、高周波のミリ波又はサブミリ波を低損失で伝送させために、低誘電損失な材料が求められている。誘電膜は、ミリ波、サブミリ波等を伝送する誘電体導波線路用の絶縁材料としても使用できる。誘電体導波線路としては、円柱状誘電体線路、方形状誘電体線路、だ円形状誘電体線路、チューブ状誘電体線路、イメージ線路、インシュラーイメージ線路、トラップドイメージ線路、リブガイド、ストリップ誘電体線路、逆ストリップ線路、Ｈガイド、非放射性誘電体線路（ＮＲＤガイド）等が挙げられる。

　本発明の絶縁膜又は誘電膜が用いられる部品としては絶縁性が求められる部品であればよく、例えば、電子部品、タッチパネル用、太陽電池パネル用、ディスプレイ用各種部品、などが挙げられる。構成部品としては、具体的には、半導体、プリント基板、素子封止材、素子保護膜などが挙げられる。

　以上、本開示の表面処理剤を使用して得られる物品について詳述した。なお、本開示の表面処理剤の用途、使用方法ないし物品の製造方法などは、上記で例示したものに限定されない。

　以下、本開示について、実施例において説明するが、本開示は以下の実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、以下に示される化学式はすべて平均組成を示し、ペルフルオロポリエーテルを構成する繰り返し単位（（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）、（ＯＣＦ_２）等）の存在順序は任意である。

　１．ペルフルオロポリエーテル含有連鎖移動剤の合成
　合成例１
　連鎖移動剤（Ａ－１）の合成
　フラスコに２－［（ドデシルスルファニルチオカルボニル）スルファニル］プロパン酸（富士フイルム和光純薬社製）０．５０５ｇ、４－ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）（東京化成工業社製）０．０１９ｇ、１－エチル－３－（３－ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣＩ）（東京化成工業社製）０．２９３ｇ、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ（ｎの平均値≒２５）で表されるペルフルオロポリエーテルを含有するアルコール（ダイキン工業社製）５．０ｇをとり、アサヒクリンＡＫ－２２５（ＡＧＣ社製）の１３ｍＬを加えて室温で撹拌し反応を行った。一晩撹拌後、反応液を飽和重曹水、食塩水で洗浄した。有機層を分離して濃縮し、メタノール中に滴下して、２－［（ドデシルスルファニルチオカルボニル）スルファニル］プロパン酸とペルフルオロポリエーテルを含有するアルコールとの脱水縮合反応物である黄色油状の目的物（Ａ－１）４．５６ｇを得た。化合物の構造は^１Ｈおよび^１９ＦＮＭＲ測定により確認した。

　合成例２
　連鎖移動剤（Ａ－２）の合成
　２－［（ドデシルスルファニルチオカルボニル）スルファニル］プロパン酸０．５０５ｇに替えて２－［（ブチルスルファニルチオカルボニル）スルファニル］プロパン酸（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，２００５，３８，２１９１－２２０４を参照し合成）０．３４３ｇに変更した以外は合成例１と同様にして、目的物（Ａ－２）４．２８ｇを得た。

　合成例３
　連鎖移動剤（Ａ－３）の合成
　２－［（ドデシルスルファニルチオカルボニル）スルファニル］プロパン酸０．５０５ｇに替えて４－シアノ－４－［（チオエトキシル）スルファニル］ペンタン酸（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔｅｒｓ，１９９９，４０，２７７－２８０を参照し合成）０．３５６ｇに変更した以外は合成例１と同様にして、目的物（Ａ－３）４．２０ｇを得た。

　合成例４
　連鎖移動剤（Ａ－４）の合成
　ペルフルオロポリエーテルを含むアルコールとしてＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ（ｎの平均値≒１４）３．１ｇを用いた以外は合成例１と同様にして、目的物（Ａ－４）２．５９ｇを得た。

　合成例５
　連鎖移動剤（Ａ－５）の合成
　２－［（ドデシルスルファニルチオカルボニル）スルファニル］プロパン酸を０．４２１ｇ、ＤＭＡＰを０．０１５ｇ、ＥＤＣＩを０．２３０ｇに変更し、ペルフルオロポリエーテルを含有するアルコールとしてＣＦ_３ＣＦ_２（ＯＣＦ_２）_ｍ（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎＯＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ（数平均分子量４２００、ｎ／ｍ＝１．１）４．２ｇを用いたこと以外は合成例１と同様にして、目的物（Ａ－５）４．２７ｇを得た。

　合成例６
　連鎖移動剤（Ａ－６）の合成
　ペルフルオロポリエーテルを含むアルコールとしてＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２［ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２］_ｎＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＨ_２ＯＨ（ｎ≒２５）５．０ｇを用いた以外は合成例１と同様にして目的物（Ａ－６）４．６８ｇを得た。

　連鎖移動剤（Ａ－７）の合成
　ペルフルオロポリエーテルを含むアルコールとしてＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ（ｎの平均値≒３５）８．１ｇを用いた以外は合成例１と同様にして、目的物（Ａ－７）７．７０ｇを得た。

　２．エポキシ基を有するＰＦＰＥブロックポリマーの合成
　（１）エポキシ基を有するＰＦＰＥブロックポリマー（Ｐ－１）～（Ｐ－６）の合成
　反応容器内に連鎖移動剤（Ａ－１）の１．０ｇ、４－ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル（４ＨＢＡＧＥ）（三菱ケミカル社製）０．９２ｇ、Ｎ，Ｎ’－アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）（富士フイルム和光純薬社製）１２ｍｇを加え、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（東京化成工業社製）２．９ｍＬに溶解した。７５℃で１７時間加熱し、反応液をヘキサンに滴下してブロックポリマー（Ｐ－１）を沈殿させて回収した。^１Ｈ－ＮＭＲ測定より４ＨＢＡＧＥの重合度は２０と算出された。
　上記と同様にして、４ＨＢＡＧＥの仕込み量を０．４６ｇ、０．２３ｇ、１．４０ｇ、０．１４ｇ、４．８３ｇに変えることにより表１に示すように重合度が１０、５、３０、３、１０５のブロックポリマー（Ｐ－２）～（Ｐ－６）を合成した。

　（２）エポキシ基を有するＰＦＰＥブロックポリマー（Ｐ－７）の合成
　連鎖移動剤（Ａ－１）１．０ｇを連鎖移動剤（Ａ－２）１．０ｇに変更したこと以外はＰ－１の合成と同様に重合を行い、重合度２０のブロックポリマー（Ｐ－７）を得た。

　（３）エポキシ基を有するＰＦＰＥブロックポリマー（Ｐ－８）の合成
　連鎖移動剤（Ａ－１）１．０ｇを連鎖移動剤（Ａ－３）１．０ｇに変更したこと以外はＰ－１の合成と同様に重合を行い、重合度２０のブロックポリマー（Ｐ－８）を得た。

　（４）エポキシ基を有するＰＦＰＥブロックポリマー（Ｐ－９）の合成
　連鎖移動剤（Ａ－１）１．０ｇを連鎖移動剤（Ａ－４）０．６２ｇに、４ＨＢＡＧＥの仕込み量を０．４６ｇに変更したこと以外はＰ－１の合成と同様に重合を行い、重合度１０のブロックポリマー（Ｐ－９）を得た。

　（５）エポキシ基を有するＰＦＰＥブロックポリマー（Ｐ－１０）の合成
　連鎖移動剤（Ａ－１）１．０ｇを連鎖移動剤（Ａ－５）１．０ｇに変更したこと以外はＰ－１の合成と同様に重合を行い、重合度２０のブロックポリマー（Ｐ－１０）を得た。

　（６）エポキシ基を有するＰＦＰＥブロックポリマー（Ｐ－１１）の合成
　連鎖移動剤（Ａ－１）１．０ｇを連鎖移動剤（Ａ－６）１．０ｇに変更したこと以外はＰ－１の合成と同様に重合を行い、重合度２０のブロックポリマー（Ｐ－１１）を得た。

　３．架橋性基を持たないＰＦＰＥブロックポリマーの合成
　４ＨＢＡＧＥをアクリル酸－ｎ－ブチル（ｎＢＡ）０．５９ｇに変更し、ポリマーを沈殿させる際にメタノールを用いたこと以外は、Ｐ－１の合成と同様に重合を行い、重合度２０のブロックポリマー（Ｐ－１２）を得た。

　４．（メタ）アクリル基を有するＰＦＰＥブロックポリマーの合成
　（１）アクリル基を有するＰＦＰＥブロックポリマー（Ｐ－１５），（Ｐ－１６）の合成
　反応容器内に連鎖移動剤（Ａ－１）１．３ｇ、２－ヒドロキシエチルアクリレート（ＨＥＡ）（東京化成工業社製）０．１８ｇ、ＡＩＢＮ１５．５ｍｇを加え１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン２．１ｍＬに溶解した。７０℃で２２．５時間加熱し重合させ、ブロックポリマー（Ｐ－１３）の溶液を得た。^１Ｈ－ＮＭＲ測定よりＨＥＡの重合度は５と算出された。
　同様にして、ＨＥＡの仕込み量を０．３６ｇに変更し表に示すように重合度１０のブロックポリマー（Ｐ－１４）を合成した。

　続けて上記で得られたブロックポリマー（Ｐ－１３）溶液に、ポリマー（Ｐ－１３）中ＨＥＡユニットに対して１．１当量のカレンズＡＯＩ（昭和電工社製）、０．０１当量のジブチルスズジラウレート（ＤＢＴＤＬ）（東京化成工業社製）を加え、４０℃で２時間撹拌した。^１Ｈ－ＮＭＲ測定により、水酸基が１００％反応していることを確認したのち反応液をヘキサンに滴下してアクリル基を有するブロックポリマー（Ｐ－１５）を沈殿させ、回収した。
　ブロックポリマー（Ｐ－１４）についても同様の反応を行い、重合度の異なるブロックポリマー（Ｐ－１６）を合成した。

　（２）メタクリル基を有するＰＦＰＥブロックポリマー（Ｐ－１７），（Ｐ－１８）の合成
　カレンズＡＯＩをカレンズＭＯＩ（昭和電工社製）に変更したこと以外はＰ－１５およびＰ－１６の合成と同様にして表に示すようにメタクリル基を有するブロックポリマー（Ｐ－１７），（Ｐ－１８）を合成した。

　（３）アクリル基を有するＰＦＰＥブロックポリマー（Ｐ－２１），（Ｐ－２２）の合成
　反応容器内に（Ａ－１）１．２ｇ、４－ヒドロキシブチルアクリレート（ＨＢＡ）（東京化成工業社製）０．２０ｇ、ＡＩＢＮ１４．０ｍｇを加え１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン２．１ｍＬに溶解した。７０℃で２２．５時間加熱し重合させ、ブロックポリマー（Ｐ－１９）の溶液を得た。^１Ｈ－ＮＭＲ測定よりＨＢＡの重合度は５と算出された。
　同様にして、ＨＢＡの仕込み量を０．４０ｇに変更し表に示すように重合度１０のブロックポリマー（Ｐ－２０）を合成した。

　続けて上記で得られたブロックポリマー（Ｐ－１９）溶液に、ポリマー（Ｐ－１９）中ＨＢＡユニットに対して１．１当量のカレンズＡＯＩ（昭和電工社製）、０．０１当量のジブチルスズジラウレート（ＤＢＴＤＬ）（東京化成工業社製）を加え、４０℃で２時間撹拌した。^１Ｈ－ＮＭＲ測定により、水酸基が１００％反応していることを確認したのち反応液をヘキサンに滴下してアクリル基を有するブロックポリマー（Ｐ－２１）を沈殿させ、回収した。
　ブロックポリマー（Ｐ－２０）についても同様の反応を行い、重合度の異なるブロックポリマー（Ｐ－２２）を合成した。

　（４）アクリル基を有するＰＦＰＥブロックポリマー（Ｐ－２３），（Ｐ－２４）の合成
　カレンズＡＯＩをカレンズＭＯＩ（昭和電工社製）に変更したこと以外はＰ－１９およびＰ－２０と同様にして表に示すようにメタクリル基を有するブロックポリマー（Ｐ－２３），（Ｐ－２４）を合成した。

　（５）メタクリル基を有するＰＦＰＥブロックポリマー（Ｐ－２５）の合成
　下図に示すブロックポリマー（Ｐ－２５）を特許第５８４０２３６号の実施例４５を参考に合成した。

（Ｐ－２５：ｍ＝５，ｎ＝２５）

　（６）アクリル基を有するＰＦＰＥブロックポリマー（Ｐ－２６）の合成
　下図に示すブロックポリマー（Ｐ－２６）を特許第５８４０２３６号実施例４５の単量体２－（ビニロキシ）エトキシエチルメタクリレートを２－（ビニロキシ）エトキシエチルアクリレート（日本触媒社製）に変更することで合成した。

（Ｐ－２６：ｍ＝５，ｎ＝２５）

　エポキシ基を有するＰＦＰＥブロックポリマー（Ｐ－２７）～（Ｐ－２９）の合成
　反応容器内に連鎖移動剤（Ａ－７）０．９ｇ、４ＨＢＡＧＥ０．４３ｇ、ＡＩＢＮ７ｍｇを加え、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン３．０ｍＬに溶解した。７５℃で１７時間加熱し、反応液をヘキサンに滴下してブロックポリマー（Ｐ－２７）を沈殿させて回収した。^１Ｈ－ＮＭＲ測定より４ＨＢＡＧＥの重合度は１７と算出された。

　上記と同様にして４ＨＢＡＧＥの仕込み量を０．２８ｇ、０．２２ｇに変えることにより表１に示すように重合度が１０、７のブロックポリマー（Ｐ－２８）、（Ｐ－２９）を合成した。

　脂環式エポキシ基を有するＰＦＰＥブロックポリマー（Ｐ－３０）、（Ｐ－３１）の合成
　４ＨＢＡＧＥ０．９２ｇを（３，４－エポキシシクロヘキシル）メチルアクリレート（ＥＣＨＭＡ）（東京化成工業社製）０．７６ｇに変更した以外はＰ－１の合成と同様に重合を行い、重合度２０のブロックポリマー（Ｐ－３０）を得た。また、ＥＣＨＭＡの仕込み量を０．３８ｇに変更した以外はＰ－３０の合成と同様に重合を行い、重合度１０のブロックポリマー（Ｐ－３１）を得た。

（評価）
　５．溶解性試験
　上記で得られたポリマー（Ｐ－１）～（Ｐ－１２）、（Ｐ－１５）～（Ｐ－１８）、および（Ｐ－２１）～（Ｐ－３１）を固形分濃度が２０ｗｔ％となるようにメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、またはメチルエチルケトン（ＭＥＫ）中に加え、ミックスローターで２時間撹拌して溶解させ、溶液状態を目視で確認した。評価基準は以下の通りとした。結果を下記表１に示す。
　Ｇ　透明かつ均一に溶解した。
　ＮＧ　濁りが認められる。

　６．塗膜作成
　（１）アクリル系コーティング
　アクリル系ハードコート剤ビームセット５７５ＣＢ（荒川化学工業社製）をＭＩＢＫに溶解し、さらにその溶液にブロックポリマー（Ｐ－１）～（Ｐ－１２）、（Ｐ－１５）～（Ｐ－１８）、（Ｐ－２１）～（Ｐ－３１）をハードコート剤樹脂固形分に対して固形分濃度換算で１％になるように添加し、５０質量％のＰＦＰＥ含有ハードコート剤を得た。
　市販のＰＥＴ基板（東レ社製、ルミラーＳ１０）に前記のＰＦＰＥ含有ハードコート剤をバーコーターで塗装し、７０℃、１０分間の条件で乾燥後、紫外線照射して硬化被膜を得た。紫外線照射はベルトコンベア式の紫外線照射装置を用い、照射量は６００ｍＪ／ｃｍ^２とした。

　（２）エポキシ系コーティング
　セロキサイド２０２１Ｐ（ダイセル社製）をＭＩＢＫに溶解し、さらにその溶液にブロックポリマー（Ｐ－１）～（Ｐ－１２）、（Ｐ－１５）～（Ｐ－１８）、（Ｐ－２１）～（Ｐ－３１）をエポキシ化合物固形分に対して固形分濃度換算で１％になるように添加し、５０質量％のエポキシ化合物溶液を調製した。さらに熱酸発生剤であるサンエイドＳＩ－６０Ｌ（三新化学社製）をエポキシ化合物に対して３ｗｔ％添加してＰＦＰＥ含有処理剤を得た。
　ＰＥＴ基板にＰＦＰＥ含有処理剤をバーコーターで塗装し、９０℃、２時間の条件で加熱し、硬化被膜を得た。

　７．接触角評価
　上記塗膜作成工程で作製した硬化被膜について、水の静的接触角を接触角計（協和界面科学社製、「ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ」）を用いて、２μＬの液量で測定した。結果を下記表１に示す。

＊は、比較例を示す。

　８．誘電率・誘電正接測定
　実施例
　ブロックポリマー（Ｐ－１）１重量部、セロキサイド２０２１Ｐ（ダイセル社製）１０重量部を、ＭＥＫ８重量部に均一溶解させた。さらに熱酸発生剤であるサンエイドＳＩ－６０Ｌ（三新化学社製）をエポキシ化合物に対して３ｗｔ％添加してコーティング剤を得た。

　ＰＥＴ基板にＰＦＰＥ含有処理剤をバーコーターで塗装し、９０℃、２時間の条件で加熱し、厚さ約５０μｍの硬化被膜を得た。
　また、上記のブロックポリマー（Ｐ－１）のみを、ブロックポリマーＰ－２、Ｐ－９、Ｐ－１１、Ｐ－１２、Ｐ－２７及びＰ－３０に変えて、後は同様にして厚さ約５０μｍの硬化被膜を得た。

　１０ＧＨｚの誘電率及び誘電正接は、スプリットシリンダ共振器法で求めた。スプリットシリンダとして関東電子応用開発社製の共振器を使用し、ネットワークスペクトルアナライザーとしてＫｅｙｓｉｇｈｔ　Ｎ５２９０Ａを用いた。測定対象のサンプルとしては、厚み５０μｍ×幅６２ｍｍ×長さ７５ｍｍのフィルムを使用した。測定温度は２５℃とした。結果を表２に示す。

　比較例
　上記実施例から、ブロックポリマー（Ｐ－１）のみ除き、後は同様にして厚み５０μｍの硬化被膜（比較例）を作製し、同様に誘電率、誘電正接を測定した。結果を表２に示す。

　上記の結果から、ＲＡＦＴ重合で作製された－Ｓ－Ｃ（＝Ｓ）－骨格を有し、重合度が本発明の範囲内になる含フッ素共重合体（Ｐ－１～Ｐ－５、Ｐ－７～Ｐ－１２、Ｐ－１５～Ｐ－１８、Ｐ－２１～Ｐ－２４、Ｐ－２７～Ｐ－３１）は、溶剤への溶解性が高く、高い接触角を有することが確認された。また、Ｐ－１、Ｐ－２、Ｐ－９、Ｐ－１０、Ｐ－１１、Ｐ－２７及びＰ－３０を用いた硬化被膜において、低誘電率、低誘電正接になる事が確認された。

　本開示の表面処理剤は、種々多様な基材、特に透過性が求められる光学部材の表面に、表面処理層を形成するために好適に利用され得る。また絶縁体、誘電体としても好適である。

Claims

　下記式（１）または（２）：

［式中：
　Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり；
　Ｒ^Ｆ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり；
　Ｒｆ^１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基であり；
　Ｒｆ^２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基であり；
　Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり；
　ｐは、０または１であり；
　ｑは、それぞれ独立して、０または１であり；
　Ｒ^４は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^４ａまたはＲ^４ｂであり；
　Ｒ^４ａは、各出現においてそれぞれ独立して、置換基群Ａより選択される官能基を有する２価の有機基であり；
　Ｒ^４ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、置換基群Ａより選択される官能基を有しない２価の有機基であり；
　前記置換基群Ａは、炭素－炭素二重結合、炭素－炭素三重結合、環状エーテル基、水酸基、チオール基、アミノ基、アジド基、含窒素複素環基、イソシアネート基、ハロゲン原子、リン酸含有基、又はシランカップリング基を含む基、あるいはこれらの前駆体基であり；
　ｎは１～１００の整数であり；
　Ｘ^ａは、それぞれ独立して、二価の有機基であり；
　Ｘ^ｂは、それぞれ独立して、二価の有機基であり；
　Ｒ^ａは、それぞれ独立して、アルキル、フェニル、－ＳＲ^ａ１、－ＯＲ^ａ２、－ＮＲ^ａ３ _２、

であり；
　Ｒ^ａ１、Ｒ^ａ２、Ｒ^ａ３、Ｒ^ａ４、Ｒ^ａ５およびＲ^ａ６は、それぞれ独立して、アルキル基またはフェニル基であり；
　Ｒ^ａ７は、水素またはハロゲン原子である。］
で表される含フッ素共重合体。
　Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、式：
　　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
［式中、Ｒ^Ｆａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、
　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、請求項１に記載の含フッ素共重合体。
　Ｒ^Ｆａは、フッ素原子である、請求項２に記載の含フッ素共重合体。
　Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）または（ｆ５）：
　　－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－　　　（ｆ１）
［式中、ｄは１～２００の整数である。］、
　　－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　（ｆ２）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０～３０の整数であり；
　ｅおよびｆは、それぞれ独立して、１～２００の整数であり；
　ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、１０～２００の整数であり；
　添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］、
　　－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－　　　（ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり；
　Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２または３つの基の組み合わせであり；
　ｇは、２～１００の整数である。］、
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ４）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、請求項１～３のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体。
　Ｒ^４は、Ｒ^４ａである、請求項１～４のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体。
　Ｒ^４ａは、下記式：

［式中：
　Ｒ^３１は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子、またはアルキル基であり；
　Ｒ^３２は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子、塩素原子、フッ素原子、またはフッ素により置換されていてもよいアルキル基であり；
　Ｒ^３３は、各出現において、それぞれ独立して、置換基群Ａより選択される官能基であり；
　Ｙ^１は、単結合、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｎ（Ｒ^ｃ）－、フェニレンまたはカルバゾリレンであり；
　Ｒ^ｃは、有機基であり、
　Ｙ^２は、単結合または主鎖の原子数が１～１６であるリンカーである。］
で表される基である、請求項１～５のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体。
　Ｒ^４ａにおける置換基群Ａより選択される官能基は、エポキシ基、グリシジル基、脂環式エポキシ基、アクリロイル基またはメタクリロイル基を有する基である、請求項１～６のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体。
　ｎは、２～５０の整数である、請求項１～７のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体。
　ｎは、２～３０の整数である、請求項１～８のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体。
　１種またはそれ以上の請求項１～９のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体を含む、表面処理剤。
　請求項１～９のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体または請求項１０に記載の表面処理剤；および
　マトリックスを形成する組成物
を含む、硬化性組成物。
　請求項１０に記載の表面処理剤あるいは請求項１１に記載の硬化性組成物により形成された膜。
　基材と、該基材の表面に請求項１０に記載の表面処理剤あるいは請求項１１に記載の硬化性組成物により形成された層とを含む物品。
　上記物品が光学部材である、請求項１３に記載の物品。
　ＬｉＤＡＲカバー部材である、請求項１３に記載の物品。
　センサー部材である、請求項１３に記載の物品。
　インストルメントパネルカバー部材である、請求項１３に記載の物品。
　自動車内装部材である、請求項１３に記載の物品。
　上記物品が絶縁体、誘電体である、請求項１３に記載の物品。