WO2020196054A1 - 光学素子 - Google Patents

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WO2020196054A1
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平野　智也
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スタンレー電気株式会社
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    • G02F2001/1517—Cyano complex compounds, e.g. Prussian blue

Definitions

  • the present invention relates to an optical element capable of switching at least two types of optical states.
  • Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-181389 discloses a so-called electrodeposition element.
  • the electrodeposition element mainly has a pair of transparent electrodes arranged to face each other, and an electrolyte layer sandwiched between the pair of transparent electrodes and containing an electrodeposition material containing silver.
  • the electrolyte layer is almost transparent, and the electrodeposition element is in a transparent state in the steady state (when no voltage is applied).
  • the electrodeposition material (silver) of the electrolyte layer is deposited and deposited on the electrodes by an electrochemical reaction (oxidation / reduction reaction).
  • the electrodeposition material deposited and deposited on the surface of the flat electrode constitutes a mirror surface, and the electrodeposition element is in a mirror surface (light reflection) state.
  • Japanese Unexamined Patent Publication No. 2007-134143 discloses a so-called electrochemical luminescence device. It has a layer containing an electrochemical luminescence material sandwiched between a pair of substrates and a transparent electrode. Light emission is generated by excitation and deactivation of cation radicals and anion radicals by applying a voltage.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-170613 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-521103 disclose so-called electrochromic devices. It has a layer containing an electrochromic material sandwiched between a pair of substrates and a transparent electrode. When a voltage is applied, the electrochromic material changes its molecular structure by an electrochemical reaction, causing discoloration.
  • the optical characteristics generally vary depending on the position.
  • a main object of the present invention is to provide an optical element having uniform optical characteristics in the element plane.
  • the lower electrode including at least the adjacent first and second lower electrode portions arranged side by side in the first direction in the lower substrate surface and the surface of the upper substrate facing the lower substrate are spread over.
  • the first upper electrode portion facing the first lower electrode portion, a part of the first lower electrode portion, and the second lower electrode portion are provided as described above. It is sandwiched between the upper electrode portion including at least the second upper electrode portion facing the portion, the first lower electrode portion and the second upper electrode portion, and the first lower electrode portion and the said portion.
  • an optical element having a conductive member selectively arranged in a superposed region where the upper electrode portion of the upper electrode portion overlaps, and an electrolyte layer filled between the lower substrate and the upper substrate.
  • 1A to 1C are a plan view and a cross-sectional view showing an electrodeposition element according to a reference example.
  • 2A to 2C are a plan view and a cross-sectional view showing an electrodeposition element according to the first embodiment.
  • 3A to 3C are a plan view and a cross-sectional view showing the electrodeposition element according to the second embodiment.
  • 4A to 4D are a plan view and a cross-sectional view showing a modification of the electrodeposition element according to the second embodiment.
  • 5A and 5B are a plan view and a cross-sectional view showing the electrodeposition element according to the third embodiment.
  • FIG. 6A is a cross-sectional view showing the electrodeposition element according to the fourth embodiment
  • FIG. 6B is a cross-sectional view showing the electrodeposition element according to the fifth embodiment.
  • FIGS. 1B and 1C are a plan view and a cross-sectional view showing the ED element 110 according to a reference example.
  • the IBC-IBC cross section in the plan view shown in FIG. 1A corresponds to the cross section shown in FIGS. 1B and 1C.
  • the relative size and positional relationship of each component shown in the figure are different from the actual ones.
  • the ED element 110 is mainly composed of an electrolyte layer (electrolyte solution) 51 sandwiched between the lower and upper substrates 10 and 20 arranged to face each other and the lower and upper substrates 10 and 20.
  • a seal frame member 70 is provided. In the figure, the portion of the lower substrate 10 hidden by the upper substrate 20 and the outline of the seal frame member 70 are shown by broken lines.
  • Power supply connection electrodes 12p and 22p connected to an external power source are provided on the opposite surfaces of the lower and upper substrates 10 and 20 respectively.
  • the outline of the power supply connection electrode 22p provided on the upper substrate 20 is also shown by a broken line.
  • the power supply connection electrodes 12p and 22p are arranged so as to face each other on both sides of the electrolyte layer 51 on the outside of the seal frame member 70 in the lateral direction (width direction, X direction, first direction). Further, each of the power supply connection electrodes 12p and 22p has a rectangular shape extending in the vertical direction (longitudinal direction, Y direction, second direction), for example.
  • a seal frame member 70 is provided on the peripheral edge of the region where the lower and upper substrates 10 and 20 overlap each other.
  • the electrolytic solution 51 is filled in the spaces defined by the lower and upper substrates 10, 20 and the seal frame member 70.
  • the region surrounded by the seal frame member 70 and filled with the electrolytic solution 51 is a switching region As in which the optical state can be switched, and the size thereof is, for example, 250 mm in length (length) ⁇ 64 mm in width (width).
  • the lower substrate 10 has a structure in which the transparent electrode 12 is laminated on the surface (opposing surface) of the transparent substrate 11.
  • the upper substrate 20 has a structure in which the transparent electrode 22 is laminated on the surface (opposing surface) of the transparent substrate 21.
  • the transparent electrodes 12 and 22 are arranged so as to face each other.
  • a translucent substrate such as a glass substrate is used.
  • members having translucency and conductivity such as indium tin oxide (ITO) and indium zinc oxide (IZO) are used.
  • An electrode 12p connected to an external power source (for example, its positive electrode terminal or common terminal) is provided on the surface of the lower electrode 12 and outside the seal frame member 70. Further, an electrode 22p connected to an external power source (for example, its negative electrode terminal) is provided on the surface of the upper electrode 22 and outside the seal frame member 70.
  • a metal member such as silver or a conductive tape having a lower electrical resistivity (higher electrical conductivity) than a transparent electrode such as ITO is used.
  • the seal frame member 70 is made of a resin member or the like, and is provided in a closed shape along the peripheral edges of the lower and upper substrates 10 and 20 within the lower or upper substrates 10 and 20 (see FIG. 1A).
  • the spacing (cell gap) between the lower and upper substrates 10 and 20 is defined by the seal frame member 70 and a gap control agent (not shown).
  • the distance between the lower and upper substrates 10 and 20 is, for example, about 100 ⁇ m.
  • the electrolyte layer (electrolyte solution) 51 is a solvent in which an electrodeposition (ED) material (for example, silver) is dissolved, and is defined by lower and upper substrates 10 and 20 and a seal frame member 70. It is filled in the space.
  • the electrolyte layer 51 is substantially transparent, and in the steady state (when no voltage is applied), the ED element 110 (switching region As) realizes a light transmitting state as a whole.
  • the ED element 110 can be manufactured, for example, as follows.
  • the ITO films to be the electrodes 12 and 22 can be formed by sputtering, CVD (chemical vapor deposition), thin film deposition, or the like. It is also possible to pattern the ITO film into a desired planar shape by photolithography.
  • the gap control agent is sprayed on one of the upper and lower substrates 10 and 20, for example, the lower substrate 10.
  • the thickness (cell gap) of the electrolyte layer (electrolyte solution) 51 can be adjusted to, for example, in the range of 1 ⁇ m to 500 ⁇ m.
  • a main seal pattern (a rectangular seal pattern with a part missing) is formed on one of the upper and lower substrates 10 and 20, for example, on the lower substrate 10.
  • it can be formed by using an ultraviolet curable type sealing material, specifically, a sealing material (acrylic resin material) TB3035B (viscosity 51 Pa ⁇ s) manufactured by ThreeBond Holdings Co., Ltd.
  • the upper and lower substrates 10 and 20 are superposed to create an empty cell.
  • the injection port is sealed and the sealing material is irradiated with ultraviolet rays to cure the sealing material.
  • the seal frame member 70 and the electrolyte layer (electrolyte solution) 51 sealed inside the seal frame member 70 are formed.
  • the electrolytic solution 51 containing the ED material is composed of an ED material (AgBr or the like), a mediator (CuCl 2 or the like), a supporting electrolyte (LiBr or the like), a solvent ( ⁇ -butyrolactone or the like) or the like.
  • an ED material AgBr or the like
  • a mediator CuCl 2 or the like
  • LiBr or the like a supporting electrolyte
  • ⁇ -butyrolactone or the like ⁇ -butyrolactone or the like
  • the ED material for example, AgBr containing silver, AgNO 3 , AgClO 4, and the like can be used.
  • the mediator in addition to CuCl 2 , TaCl 5 , TaBr 5 , TaI 5 , GeCl 4 , GeBr 4 , GeI 4 , GeI 4 , CuSO 4 , CuBr 2, and the like containing Ta can be used.
  • the supporting electrolyte is not limited as long as it promotes the oxidation-reduction reaction of the electrodeposition material, for example, lithium salts (LiCl, LiBr, LiI, LiBF 4 , LiClO 4, etc.), potassium salts (KCl, KBr, KI, etc.). Etc.), sodium salts (NaCl, NaBr, NaI, etc.) can be preferably used.
  • the concentration of the supporting electrolyte is preferably, for example, 10 mM or more and 1 M or less, but is not particularly limited.
  • the solvent is not limited as long as it can stably hold the electrodeposition material or the like. It is possible to use a polar solvent such as water or propylene carbonate, a non-polar organic solvent, an ionic liquid, an ionic conductive polymer, a polymer electrolyte, or the like. Specifically, in addition to ⁇ -butyrolactone, DMSO (dimethyl sulfoxide), propylene carbonate, N, N-dimethylformamide, tetrahydrofuran, acetonitrile, polyvinyl sulfuric acid, polystyrene sulfonic acid, polyacrylic acid and the like can be preferably used.
  • DMSO dimethyl sulfoxide
  • propylene carbonate N, N-dimethylformamide, tetrahydrofuran, acetonitrile
  • polyvinyl sulfuric acid polystyrene sulfonic acid
  • polyacrylic acid and the like can be preferably used.
  • the ED element 110 can be manufactured.
  • a negative potential for example, -2.5 V
  • the ED material (silver) in the electrolyte layer 51 is deposited and deposited on the surface of the upper electrode 22 due to the oxidation-reduction reaction on the surfaces of the electrodes 12 and 22 (due to the current flowing in the thickness direction in the electrolyte layer 51).
  • the light reflecting film (silver thin film) 51d is formed.
  • the ED element 110 (particularly the switching region As) realizes a light reflection state.
  • the ED material (light reflecting film 51d) deposited and deposited on the electrode surface is dissolved again in the electrolyte layer (electrolyte solution) 51 and disappears from the electrode surface. That is, the ED element 110 returns to the light transmitting state.
  • the electrolyte layer 51 can be switched between a transparent state and an ED material precipitation state.
  • the ED element 110 (particularly the switching region As) can be switched between a light transmission state (when no voltage is applied) and a light reflection state (when a voltage is applied).
  • the film thickness of the light reflecting film 51d deposited on the surface of the upper electrode 22 can be non-uniform. Specifically, the film thickness of the light reflecting film 51d becomes relatively thick at both ends in the width direction of the switching region As close to the power supply connection electrodes 12p and 22p, and the film thickness of the light reflecting film 51d increases at the center of the switching region As in the width direction.
  • the film thickness can be relatively thin (or not formed). Therefore, in the light reflection state, the light reflectance may be relatively high at both ends of the switching region As close to the power supply connection electrodes 12p and 22p, and the light reflectance may be relatively low at the center of the switching region As. ..
  • the non-uniformity of the film thickness (light reflectance) is the current density Id of the current flowing between the upper and lower electrodes 12 and 22 (in the thickness direction of the electrolyte layer 51) in the width direction X. Due to the distribution (variation) of.
  • the distribution (variation) of the current density Id is such that the electrodes 12 and 22 are composed of members having a high electrical resistivity (low electrical conductivity) such as ITO, and the width of the switching region As (or the electrolyte layer 51). It becomes more remarkable when is wide (for example, 64 mm or more).
  • the current density Id of the current flowing between the electrodes 12 and 22 is determined. It is relatively high in the region near the current supply source and relatively low in the region far from the current supply source. Since the precipitation amount of the ED material (thickness of the deposited film) has a positive correlation with the current density of the current flowing in the thickness direction of the electrolyte layer, the switching region close to the current supply source, that is, the power supply connection electrodes 12p and 22p. The film thickness of the light reflecting film 51d becomes thicker at both ends of As, and the film thickness of the light reflecting film 51d becomes thinner at the center of the switching region As.
  • the optical characteristics (light reflectance) in the element surface also change depending on the position.
  • the optical properties of an optical element are preferably uniform within the element plane.
  • FIGS. 2B and 2C are a plan view and a cross-sectional view showing the ED element 101 according to the first embodiment.
  • the IIB-IIB cross section and the IIC-IIC cross section in the plan view shown in FIG. 2A correspond to the cross sections shown in FIGS. 2B and 2C, respectively.
  • the ED element 101 has the lower and upper substrates 10, 20 and the lower and upper substrates 10, 20 which are arranged to face each other, similarly to the ED element 110 according to the reference example.
  • a seal frame member 70 provided on the periphery thereof and an electrolytic solution (electrolyte layer) 51 filled in the space defined by them are provided.
  • power supply connection electrodes 12p and 22p are provided on the lower and upper substrates 10 and 20, respectively.
  • the ED element 101 according to the first embodiment is different from the ED element 110 according to the reference example mainly in the presence / absence of the conductive member 72 and the shapes of the upper and lower electrodes 12 and 22.
  • the ED element 101 has a conductive member 72 that traverses the electrolytic solution 51.
  • the electrolytic solution 51 is divided into a left electrolytic solution (first electrolytic solution) 51L and a right electrolytic solution (second electrolytic solution) 51R by the conductive member 72.
  • the electrodes 12 and 22 constituting the upper and lower substrates 10 and 20 are also divided into two rows on the left and right (see FIG. 2C).
  • the electrolytic solution 51L and the upper and lower electrodes 12L and 22L arranged on the left side form the switching region AsL
  • the electrolytic solution 51R and the upper and lower electrodes 12R and 22R arranged on the right side form the switching region AsR.
  • the conductive member 72 is continuously provided (in a partition shape) from one end side to the other end side of the seal frame member 70.
  • the electrolytic solution 51 is divided into first and second electrolytic solutions 51L and 51R by a conductive member 72 (see FIG. 2A).
  • the lower electrode 12 provided on the lower substrate 10 is divided into a lower left electrode (first lower electrode) 12L and a lower right electrode (second lower electrode) 12R.
  • the upper electrode 22 provided on the upper substrate 20 is divided into an upper left electrode (first upper electrode) 22L and an upper right electrode (second upper electrode) 22R.
  • the distance between the lower left electrode 12L and the lower right electrode 12R and the distance between the upper left electrode 22L and the upper right electrode 22R are, for example, 500 ⁇ m.
  • the lower left electrode 12L and the upper left electrode 22L are arranged so as to face each other, and the lower right electrode 12R and the upper right electrode 22R face each other.
  • the region where the lower left electrode 12L and the upper left electrode 22L face each other across the left electrolytic solution 51L constitutes the left switching region AsL, and the lower right electrode 12R and the upper right electrode 22R face each other across the right electrolytic solution 51R.
  • the region to be used constitutes the right switching region AsR.
  • the width of the switching regions AsL and AsR (electrolyte solutions 51L and 51R) is, for example, 63 mm or less.
  • the lower left electrode 12L and the upper right electrode 22R have regions that partially face each other.
  • the region where the lower left electrode 12L and the upper right electrode 22R face each other is referred to as a superimposing region Ao.
  • the width of the overlapping region Ao is, for example, 1000 ⁇ m.
  • the conductive member 72 is formed in the superposed region Ao or overlapped with the superposed region Ao in a plan view (see FIG. 2A).
  • the conductive member 72 electrically connects the lower left electrode 12L and the upper right electrode 22R.
  • the conductive member 72 is formed of, for example, a resin member mixed with conductive particles.
  • the conductive particles are formed of, for example, glass beads having a diameter of about 70 ⁇ m coated on an Ag thin film.
  • the conductive member 72 can be formed, for example, by mixing 10 wt% of Ag film-coated glass beads (powder electric resistance 0.004 ⁇ ⁇ cm) manufactured by Unitika Co., Ltd. with the sealing material TB3035B manufactured by ThreeBond Holdings Co., Ltd.
  • a negative potential is applied to the power supply connection electrode 22p of the upper substrate 20 with reference to the potential of the power supply connection electrode 12p of the lower substrate 10.
  • the current flows from the lower right electrode 12R to the upper right electrode 22R via the right electrolytic solution 51R, further passes through the conduction member 72, and passes from the lower left electrode 12L to the upper left electrode 22L via the left electrolytic solution 51L.
  • a light reflection film 51d is formed on the surfaces of the upper electrodes 22L and 22R by the redox reaction generated on the electrode surface.
  • the ED element 101 is composed of a left ED element composed of a lower left electrode 12L, an upper left electrode 22L and a left electrolytic solution 51L, and a lower right electrode 12R, an upper right electrode 22R and a right electrolytic solution 51R.
  • the right-hand side ED element is equivalent to an element electrically connected in series by a conductive member 72.
  • the widths of the switching regions AsL and AsR are narrow (for example, 63 mm or less). Therefore, the current density distribution (variation) in the width direction of the currents flowing through the electrolytic solutions 51L and 51R is small, and the film thickness of the light reflecting film 51d formed on the surfaces of the upper electrodes 22L and 22R is also relatively uniform. It is formed. Therefore, when the entire ED element 101 is viewed (when the switching regions AsL and AsR are viewed as a unit), the change due to the position of the optical characteristics (light reflectance) is suppressed (the light reflectance is uniform in the element surface). Will be).
  • the gap between the switching regions AsL and AsR (that is, the gap between the lower left electrode 12L and the lower right electrode 12R, the gap between the upper left electrode 22L and the upper right electrode 22R, and the region where the conduction member 72 is arranged, that is, the overlapping region Ao. ) Is an uncontrolled region in which the optical state cannot be switched. In order to make the optical characteristics uniform throughout the ED element 101, it is desirable to make the width of this non-control region as narrow as possible.
  • the distance between the lower left electrode 12L and the lower right electrode 12R and between the upper left electrode 22L and the upper right electrode 22R is such that the lower electrode 12 and the upper electrode 22R do not allow direct current to flow. It is preferable that the distance is, for example, 5 times or more than the distance of 22 (thickness of the electrolyte layer 51).
  • the conductive member 72 does not have to be continuously formed from one end side to the other end side of the seal frame member 70. By selectively providing the conductive member 72, the non-control area can be reduced.
  • 3A to 3C are a plan view and a cross-sectional view showing the ED element 102 according to the second embodiment.
  • the cross-sections IIIB-IIIB and IIIC-IIIC in the plan view shown in FIG. 3A correspond to the cross-sectional views shown in FIGS. 3B and 3C, respectively.
  • the conductive member 72a is formed intermittently (in a broken line shape) in the overlapping region Ao. Therefore, the electrolytic solution 51 is continuous in the region where the conductive member 72a is not provided.
  • the switching region is divided into a left switching region AsL and a right switching region AsR by the conduction member 72a.
  • the other configuration of the ED element 102 according to the second embodiment is the same as the configuration of the ED element 101 according to the first embodiment.
  • the conductive member 72a is provided intermittently or intermittently from one end side to the other end side of the seal frame member 70.
  • the electrolytic solution 51 is not divided by the conductive member 72a and is continuous in the region where the conductive member 72a is not provided (see FIG. 3A).
  • the region where the conductive member 72a is not provided has a cross-sectional structure similar to the cross section shown in FIG. 2C.
  • the optical state differs from that of the switching regions AsL and AsR. It is possible to reduce the non-control area (make it inconspicuous and difficult to see). As a result, the appearance quality of the ED element is further improved.
  • the conductive member 72a may be formed so as to protrude outside the overlapping region Ao.
  • the superposed region Ao is a non-control region
  • the region other than the region where the conductive member 72a is arranged is as small as possible or does not exist. That is, in the region other than the region where the conductive member 72a is arranged, the lower left electrode 12L and the upper left electrode 22L are arranged (overlapping in a plan view), or the lower right electrode 12R and the upper right are overlapped. It is desirable that the side electrodes 22R are arranged (overlapping in a plan view). For example, in a plan view, it is desirable that the boundary between the divided upper and lower electrodes has an uneven shape corresponding to the region where the conductive member is arranged.
  • auxiliary electrodes having a resistivity lower than that of the upper and lower electrodes between the conductive member and the upper and lower electrodes.
  • FIGS. 4B, 4C, and 4D are a plan view and a cross-sectional view showing a modification 102a of the ED element according to the second embodiment.
  • the IVB-IVB cross section, IVC-IVC cross section, and IVD-IVD cross section in the plan view shown in FIG. 4A correspond to the cross sections shown in FIGS. 4B, 4C, and 4D, respectively.
  • a low resistance member 74 extending in the vertical direction (longitudinal direction) is provided in the superposed region Ao. Further, the conductive member 72b overlaps with the low resistance member 74 and is sparsely formed. Since the non-control region of the ED element 102a is preferably small, the width of the low resistance member 74 is preferably as narrow as possible.
  • the conductive member 72b is connected to the lower left electrode 12L and the upper right electrode 22R via the low resistance member 74.
  • the low resistance member 74 is formed of, for example, platinum, and can be formed and patterned by, for example, a mask sputtering method.
  • the low resistance member 74 is formed relatively thin in the region where the conductive member 72b is not formed. Even when the conductive members 72b are sparsely formed, by providing the low resistance member 74, the current density can be made uniform in the vertical direction (longitudinal direction), and the unevenness of the optical characteristics of the ED element can be improved. ..
  • FIG. 5A and 5B are a plan view and a cross-sectional view showing the ED element 103 according to the third embodiment.
  • the VB-VB cross section in the plan view shown in FIG. 5A corresponds to the cross section shown in FIG. 5B.
  • the conductive member 72c is continuously formed in a part of the overlapping region Ao. Therefore, the electrolytic solution 51 is continuous in the region where the conductive member 72c is not provided.
  • the other configuration of the ED element 103 according to the third embodiment is the same as the configuration of the ED element 101 according to the first embodiment.
  • the conductive member 72c is continuously formed in the central region in the overlapping region Ao.
  • the electrolytic solution 51 is not divided by the conductive member 72c and is continuous in the region where the conductive member 72c is not provided (see FIG. 5A).
  • the region where the conductive member 72c is provided has a cross-sectional structure similar to the cross section shown in FIG. 2C. Further, the region where the conductive member 72c is not provided has a cross-sectional structure similar to that shown in FIG. 3C.
  • the conductive member 72c that electrically connects the lower left electrode 12L and the upper right electrode 22R is selectively provided (continuously in a part of the regions) in the overlapping region Ao, whereby the switching region AsL, The non-control region where the optical state may differ from AsR can be reduced. As a result, the appearance quality of the ED element is further improved.
  • FIG. 6A is a cross-sectional view showing the ED element 104 according to the fourth embodiment.
  • the electrochemical reaction layers 14L and 14R are provided on the surfaces of the lower electrodes 12L and 12R, respectively.
  • an electrochemical reaction layer 14L is formed so as to avoid a region where the conductive member 72a is provided.
  • the electrolytic solution does not have to contain a mediator.
  • the electrolytic solution 52 contains ED in the solvent ⁇ -butyrolactone. As a material, 200 mM of AgBr and 800 mM of LiBr as a supporting electrolyte are added.
  • the other configuration of the ED element 104 according to the fourth embodiment is the same as the configuration of the ED element 103 according to the third embodiment.
  • the other configuration of the ED element 104 according to the fourth embodiment, particularly the planar shape of the conductive member, may be the same as the configuration of the ED element according to the first or second embodiment (FIGS. 2A and 3A). And see Figure 5A).
  • Prussian blue iron (II) hexacyanide iron (III), Fe 4 [Fe (CN) 6 ] 3
  • nickel oxide is colorless and transparent in the reduced state and becomes brown (brown) in the oxidized state.
  • Prussian blue can be produced, for example, by applying a dispersion liquid to the electrode surface by a spin coating method using a mask, and then firing the mixture. Further, nickel oxide can be produced on the electrode by, for example, a sputtering method using a mask.
  • the ED element 104 when viewed from the upper substrate 20 side, it is recognized as a general mirror. Further, when viewed from the lower substrate 10 side, it is recognized as a colored (blue to brown) mirror.
  • the light reflecting film 51d is placed on the upper electrodes 22L and 22R for a long time (for example, 1 hour or more) even if the voltage application is stopped after the voltage is applied in the forward direction. (The electrochemical reaction layers 14L and 14R also retain blue or brown color).
  • a voltage is applied in the opposite direction (a positive potential is applied to the upper power supply connection electrode 22p with reference to the potential of the lower power supply connection electrode 12p)
  • the light reflecting film on the surface of the upper power supply connection electrodes 22L and 22R is applied. 51d disappears instantly, and the electrochemical reaction layers 14L and 14R also return to transparent.
  • FIG. 6B is a cross-sectional view showing the optical element 105 according to the fifth embodiment.
  • the electrochemical reaction layers 14L, 14R, 24L, and 24R are provided on the surfaces of the lower electrodes 12L and 12R and the surfaces of the upper electrodes 22L and 22R, respectively.
  • Prussian blue is used for the lower electrochemical reaction layers 14L and 14R
  • nickel oxide is used for the upper electrochemical reaction layers 24L and 24R.
  • the electrolytic solution does not have to contain the ED material and the mediator.
  • an electrolytic solution 53 to which 800 mM of LiCl is added as a supporting electrolyte to ⁇ -butyrolactone as a solvent is used.
  • the other configuration of the optical element 105 according to the fifth embodiment is the same as the configuration of the ED element 103 according to the third embodiment.
  • the other configuration of the optical element 105 according to the fifth embodiment, particularly the shape of the conductive member, may be the same as the configuration of the ED element according to the first or second embodiment (see FIGS. 2A, 3A and 5A). ).
  • the electrochemical reaction layers 14 and 24 are provided on the upper and lower electrodes 12 and 22, a voltage is applied in the forward direction (a negative potential is applied to the upper power supply connection electrode 22p with reference to the potential of the lower power supply connection electrode 12p). When applied), the lower electrochemical reaction layers 14L and 14R (Prussian blue) turn blue. Further, when a voltage is applied in the opposite direction (a positive potential is applied to the upper power supply connection electrode 22p with reference to the potential of the lower power supply connection electrode 12p), the upper electrochemical reaction layers 24L and 24R (oxidation) are applied. Nickel) turns brown.
  • the optical element according to the fifth embodiment could be applied to, for example, a color filter capable of color control.
  • the lower electrode and the upper electrode may be divided into three or more rows. That is, the configuration may be such that three or more rows of divided electrodes that are separated from each other are spread over each other.
  • the widths of the lower electrode and the upper electrode to be divided are adjusted so as not to cause unevenness in optical characteristics according to the distance between the upper and lower electrodes (thickness of the electrolyte layer) and the type and concentration of the material constituting the electrolyte layer. Is preferable. Further, it is preferable that the lower electrode and the upper electrode are each divided into the same width so that the electrical or optical characteristics of each switching region do not vary.
  • n-1 conductive members are provided.
  • the individual conductive members are arranged so as to electrically connect the adjacent upper dividing electrode and the lower dividing electrode.

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Abstract

実施例による光学素子は、下側基板の表面に、敷き詰められるように設けられる複数の下側電極であって、該下側基板面内の第１の方向に並んで隣接する第１および第２の下側電極部を少なくとも含む下側電極と、上側基板の表面に、敷き詰められるように設けられる複数の上側電極であって、前記第１の下側電極部と向い合う第１の上側電極部と、前記第１の下側電極部の一部および前記第２の下側電極部と向い合う第２の上側電極部と、を少なくとも含む上側電極と、前記第１の下側電極部と前記第２の上側電極部とに挟持され、該第１の下側電極部と該第２の上側電極部とを電気的に接続する導通部材であって、前記下側基板または前記上側基板に平行な仮想平面上に投影したときに、前記第１の下側電極部と前記第２の上側電極部とが重なる重畳領域に選択的に配置される導通部材と、を少なくとも有する。

Description

光学素子
　本発明は、少なくとも２種の光学状態を切り替えることができる光学素子に関する。
　光学状態を切り替えることができる光学素子が提案されている。
　特開２０１２－１８１３８９号公報には、いわゆるエレクトロデポジション素子が開示されている。エレクトロデポジション素子は、主に、対向配置される一対の透明電極と、その一対の透明電極に挟持され、銀を含むエレクトロデポジション材料を含有する電解質層と、を有する。
　電解質層はほぼ透明であり、定常時（電圧無印加時）、エレクトロデポジション素子は透明状態となる。一対の透明電極間に電圧を印加すると、電気化学反応（酸化・還元反応）により、電解質層のエレクトロデポジション材料（銀）が、電極上に析出・堆積する。平坦な電極の表面に析出・堆積するエレクトロデポジション材料は鏡面を構成し、エレクトロデポジション素子は鏡面（光反射）状態となる。
　特開２００７－１３４１４３号公報には、いわゆるエレクトロケミカルルミネッセンス素子が開示されている。一対の基板及び透明電極に挟持されたエレクトロケミカルルミネッセンス材料を含む層を有している。電圧の印加によるカチオンラジカルとアニオンラジカルの励起と失活により発光を生じさせる。
　特開２００４－１７０６１３号公報および特表２００５－５２１１０３号公報には、いわゆるエレクトロクロミック素子が開示されている。一対の基板及び透明電極に挟持されたエレクトロクロミック材料を含む層を有している。電圧の印加によりエレクトロクロミック材料が電気化学反応により分子構造を変化させ、変色を生じさせる。
　電気化学反応を利用した光学素子では、素子サイズが大きくなると、一般に、その光学特性が位置によってバラつく。
　本発明の主な目的は、素子面内において一様な光学特性を有する光学素子を提供することにある。
　本発明の主な観点によると、対向配置される下側基板および上側基板と、前記下側基板の前記上側基板と対向する面に、敷き詰められるように設けられる複数の下側電極であって、該下側基板面内の第１の方向に並んで隣接する第１および第２の下側電極部を少なくとも含む下側電極と、前記上側基板の前記下側基板と対向する面に、敷き詰められるように設けられる複数の上側電極であって、前記第１の下側電極部と向い合う第１の上側電極部と、前記第１の下側電極部の一部および前記第２の下側電極部と向い合う第２の上側電極部と、を少なくとも含む上側電極と、前記第１の下側電極部と前記第２の上側電極部とに挟持され、該第１の下側電極部と該第２の上側電極部とを電気的に接続する導通部材であって、前記下側基板または前記上側基板に平行な仮想平面上に投影したときに、前記１の下側電極部と前記第２の上側電極部とが重なる重畳領域に選択的に配置される導通部材と、前記下側基板と前記上側基板との間に充填される電解質層と、を有する光学素子、が提供される。
　本発明によれば、素子面内において一様な光学特性を有する光学素子を得ることができる。
　図１Ａ～図１Ｃは、参考例によるエレクトロデポジション素子を示す平面図および断面図である。
　図２Ａ～図２Ｃは、第１の実施例によるエレクトロデポジション素子を示す平面図および断面図である。
　図３Ａ～図３Ｃは、第２の実施例によるエレクトロデポジション素子を示す平面図および断面図である。
　図４Ａ～図４Ｄは、第２の実施例によるエレクトロデポジション素子の変形例を示す平面図および断面図である。
　図５Ａおよび図５Ｂは、第３の実施例によるエレクトロデポジション素子を示す平面図および断面図である。
　図６Ａは、第４の実施例によるエレクトロデポジション素子を示す断面図であり、図６Ｂは、第５の実施例によるエレクトロデポジション素子を示す断面図である。
　最初に、参考例によるエレクトロデポジション素子（ＥＤ素子）を参照して、ＥＤ素子の基本的な構造および機能について説明する。
　図１Ａ～図１Ｃは、参考例によるＥＤ素子１１０を示す平面図および断面図である。図１Ａに示す平面図のなかのＩＢＣ－ＩＢＣ断面が、図１Ｂおよび図１Ｃに示す断面図に対応する。なお、図中に示す各構成部材の相対的なサイズや位置関係は、実際とは異なっている。
　図１Ａに示すように、ＥＤ素子１１０は、主に、対向配置される下側および上側基板１０，２０と、下側および上側基板１０，２０の間に挟まれる電解質層（電解液）５１およびシール枠部材７０と、を備える。図中では、下側基板１０の、上側基板２０に隠れる部分、および、シール枠部材７０の輪郭を、破線で示す。
　なお、下側および上側基板１０，２０各々の対向面には、外部電源に接続される電源接続電極１２ｐ，２２ｐが設けられている。図中において、上側基板２０に設けられる電源接続電極２２ｐの輪郭も破線で示す。電源接続電極１２ｐ，２２ｐは、横方向（幅方向，Ｘ方向，第１の方向）において、シール枠部材７０の外側であって電解質層５１の両側に、向かい合うように配置されている。また、電源接続電極１２ｐ，２２ｐ各々は、縦方向（長さ方向，Ｙ方向，第２の方向）に伸長する、たとえば矩形形状である。
　下側および上側基板１０，２０が相互に重なる領域において、その周縁にシール枠部材７０が設けられている。下側および上側基板１０，２０、ならびに、シール枠部材７０によって画定される空間内に、電解液５１が充填される。シール枠部材７０に囲われ、電解液５１が充填する領域は、光学状態を切り替えることができるスイッチング領域Ａｓであり、そのサイズは、たとえば縦（長さ）２５０ｍｍ×横（幅）６４ｍｍである。
　図１Ｂに示すように、下側基板１０は、透明基板１１の表面（対向面）に、透明電極１２が積層する構造を有する。また、上側基板２０は、透明基板２１の表面（対向面）に、透明電極２２が積層する構造を有する。透明電極１２，２２が、互いに向かい合うように配置されている。
　透明基板１１，２１には、ガラス基板など、透光性を有する基板が用いられる。透明電極１２，２２には、たとえばインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）やインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）など、透光性および導電性を有する部材が用いられる。
　下側電極１２の表面であって、シール枠部材７０の外側には、外部電源（たとえばその正極端子ないしコモン端子）に接続される電極１２ｐが設けられる。また、上側電極２２の表面であって、シール枠部材７０の外側にも、外部電源（たとえばその負極端子）に接続される電極２２ｐが設けられる。電源接続電極１２ｐ，２２ｐには、ＩＴＯなどの透明電極よりも電気抵抗率が低い（電気伝導度が高い）、たとえば銀などの金属部材ないし導電テープが用いられる。
　シール枠部材７０は、樹脂部材などで構成され、下側ないし上側基板１０，２０面内において、下側および上側基板１０，２０の周縁に沿って閉じた形状で設けられる（図１Ａ参照）。下側および上側基板１０，２０の間隔（セルギャップ）は、シール枠部材７０および図示しないギャップコントロール剤により規定される。下側および上側基板１０，２０の間隔は、たとえば１００μｍ程度である。
　電解質層（電解液）５１は、溶媒中にエレクトロデポジション（ＥＤ）材料（たとえば銀）が溶解しているものであり、下側および上側基板１０，２０、ならびに、シール枠部材７０により画定される空間内に充填されている。電解質層５１は、概ね透明であり、定常時（電圧無印加時）、ＥＤ素子１１０（スイッチング領域Ａｓ）は、全体として光透過状態を実現する。
　ＥＤ素子１１０は、たとえば以下のように作製することができる。
　上下基板１０，２０として、５Ω／□ＩＴＯ付ソーダ石灰ガラス基板を用意する。電極１２，２２となるＩＴＯ膜は、スパッタ、ＣＶＤ（化学気相成長）法、蒸着等により成膜することができる。またフォトリソグラフィにより、ＩＴＯ膜を所望の平面形状にパターニングすることも可能である。
　上下基板１０，２０の一方、たとえば下側基板１０上に、ギャップコントロール剤を散布する。ギャップコントロール剤の径を選択することで、電解質層（電解液）５１の厚さ（セルギャップ）を、たとえば１μｍ～５００μｍの範囲に調整することが可能である。
　上下基板１０，２０の一方、たとえば下側基板１０上に、シール材を用いてメインシールパターン（一部が欠けた矩形のシールパターン）を形成する。たとえば紫外線硬化タイプのシール材、具体的には、株式会社スリーボンドホールディングス製のシール材（アクリル系樹脂材料）ＴＢ３０３５Ｂ（粘度５１Ｐａ・ｓ）を用いて形成することができる。
　上下基板１０，２０を重ねあわせて、空セルを作製する。空セル内に、たとえば真空注入法を用い、ＥＤ材料を含む電解液５１を注入した後、注入口を封止し、紫外線をシール材に照射して、シール材を硬化させる。これにより、シール枠部材７０とその内側に封入される電解質層（電解液）５１を形成する。
　ＥＤ材料を含む電解液５１は、ＥＤ材料（ＡｇＢｒ等）、メディエータ（ＣｕＣｌ２等）、支持電解質（ＬｉＢｒ等）、溶媒（γ－ブチロラクトン等）などにより構成される。たとえば、溶媒であるγ－ブチロラクトン中に、ＥＤ材料としてＡｇＢｒを２００ｍＭ、支持電解質としてＬｉＢｒを８００ｍＭ、メディエータとしてＣｕＣｌ２を３０ｍＭ添加して構成する。
　ＥＤ材料には、たとえば銀を含むＡｇＢｒ、ＡｇＮＯ３、ＡｇＣｌＯ４等を使用することができる。メディエータは、ＣｕＣｌ２の他、Ｔａを含むＴａＣｌ５、ＴａＢｒ５、ＴａＩ５、Ｇｅを含むＧｅＣｌ４、ＧｅＢｒ４、ＧｅＩ４、Ｃｕを含むＣｕＳＯ４、ＣｕＢｒ２などを用いることができる。
　支持電解質は、エレクトロデポジション材料の酸化還元反応等を促進するものであれば限定されず、たとえばリチウム塩（ＬｉＣｌ、ＬｉＢｒ、ＬｉＩ、ＬｉＢＦ４、ＬｉＣｌＯ４等）、カリウム塩（ＫＣｌ、ＫＢｒ、ＫＩ等）、ナトリウム塩（ＮａＣｌ、ＮａＢｒ、ＮａＩ等）を好適に用いることができる。支持電解質の濃度は、たとえば１０ｍＭ以上１Ｍ以下であることが好ましいが、特に限定されるものではない。
　溶媒は、エレクトロデポジション材料等を安定的に保持することができるものであれば限定されない。水や炭酸プロピレン等の極性溶媒、極性のない有機溶媒、更にはイオン性液体、イオン導電性高分子、高分子電解質等を使用することが可能である。具体的には、γ－ブチロラクトンの他、ＤＭＳＯ(dimethyl sulfoxide)、炭酸プロピレン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ポリビニル硫酸、ポリスチレンスルホン酸、ポリアクリル酸等を好適に用いることができる。
　このようにして、ＥＤ素子１１０を作製することができる。
　図１Ｃの上段に示すように、下側の電源接続電極１２ｐ（下側電極１２）の電位を基準とし、上側の電源接続電極２２ｐ（上側電極２２）に負の電位（たとえば－２．５Ｖ）を印加すると、電極１２，２２表面における酸化還元反応により（電解質層５１中を厚み方向に電流が流れることにより）、上側電極２２表面に、電解質層５１中のＥＤ材料（銀）が析出・堆積して、光反射膜（銀薄膜）５１ｄが形成される。このとき、ＥＤ素子１１０（特にスイッチング領域Ａｓ）は、光反射状態を実現する。
　なお、電圧の印加を停止すると、電極表面に析出・堆積したＥＤ材料（光反射膜５１ｄ）は、再度、電解質層（電解液）５１中に溶解して、電極表面から消失する。つまり、ＥＤ素子１１０は、光透過状態に戻る。
　このように、電解質層５１は、透明状態とＥＤ材料析出状態とに切り換えることができる。これに伴って、ＥＤ素子１１０（特にスイッチング領域Ａｓ）は、光透過状態（電圧無印加時）と光反射状態（電圧印加時）とに切り換えることができる。
　参考例において、上側電極２２表面に堆積する光反射膜５１ｄの膜厚は不均一になりうる。具体的には、電源接続電極１２ｐ，２２ｐに近いスイッチング領域Ａｓの幅方向両端で、光反射膜５１ｄの膜厚は相対的に厚くなり、スイッチング領域Ａｓの幅方向中央で、光反射膜５１ｄの膜厚は相対的に薄くなりうる（または形成されない）。このため、光反射状態において、電源接続電極１２ｐ，２２ｐに近いスイッチング領域Ａｓの両端では、相対的に光反射率が高くなり、スイッチング領域Ａｓの中央では、相対的に光反射率が低くなりうる。
　図１Ｃの下段に示すように、この膜厚（光反射率）の不均一性は、上下電極１２，２２の間（電解質層５１の厚み方向）に流れる電流の、幅方向Ｘにおける電流密度Ｉｄの分布（バラつき）に起因する。この電流密度Ｉｄの分布（バラつき）は、電極１２，２２が、ＩＴＯなど、電気抵抗率が高い（電気伝導度が低い）部材から構成され、かつ、スイッチング領域Ａｓ（ないし電解質層５１）の幅が広い（たとえば６４ｍｍ以上）ときに、より顕著となる。
　電極１２，２２の電気抵抗率が高く（電気伝導度が低く）、スイッチング領域Ａｓの幅が広い場合、電極１２，２２の間（電解質層５１の厚み方向）に流れる電流の電流密度Ｉｄは、電流供給源に近い領域で相対的に高くなり、電流供給源から離れた領域で相対的に低くなる。ＥＤ材料の析出量（堆積膜の膜厚）は、電解質層の厚み方向に流れる電流の電流密度と、正の相関関係を有するため、電流供給源、つまり電源接続電極１２ｐ，２２ｐに近いスイッチング領域Ａｓの両端で光反射膜５１ｄの膜厚は厚くなり、スイッチング領域Ａｓの中央で光反射膜５１ｄの膜厚は薄くなる。
　光反射膜５１ｄの膜厚が位置により変化すると、素子面内における光学特性（光反射率）も位置により変化する。一般に、光学素子の光学特性は、素子面内において一様であることが好ましい。
　図２Ａ～図２Ｃは、第１の実施例によるＥＤ素子１０１を示す平面図および断面図である。図２Ａに示す平面図のなかのＩＩＢ－ＩＩＢ断面およびＩＩＣ－ＩＩＣ断面が、それぞれ図２Ｂおよび図２Ｃに示す断面図に対応する。
　図２Ａに示すように、第１の実施例によるＥＤ素子１０１は、参考例によるＥＤ素子１１０と同様に、対向配置される下側および上側基板１０，２０と、下側および上側基板１０，２０が相互に重なる領域において、その周縁に設けられるシール枠部材７０と、それらによって画定される空間内に充填される電解液（電解質層）５１と、を備える。また、下側および上側基板１０，２０各々には、電源接続電極１２ｐ，２２ｐが設けられている。
　第１の実施例によるＥＤ素子１０１は、参考例によるＥＤ素子１１０と、主に、導通部材７２の有無および上下電極１２，２２の形状の点において異なっている。
　第１の実施例によるＥＤ素子１０１は、電解液５１を縦断する導通部材７２を有している。導通部材７２により、電解液５１は、左側電解液（第１電解液）５１Ｌおよび右側電解液（第２電解液）５１Ｒに分断されている。
　また、上下基板１０，２０を構成する電極１２，２２も、左右２列に分割されている（図２Ｃ参照）。左側に配置される電解液５１Ｌおよび上下電極１２Ｌ，２２Ｌがスイッチング領域ＡｓＬを構成し、右側に配置される電解液５１Ｒおよび上下電極１２Ｒ，２２Ｒがスイッチング領域ＡｓＲを構成する。
　図２Ｂに示すように、導通部材７２は、シール枠部材７０の一端側から他端側まで連続的に（隔壁状に）設けられている。電解液５１は、導通部材７２によって、第１および第２の電解液５１Ｌ，５１Ｒに分断されている（図２Ａ参照）。
　図２Ｃに示すように、下側基板１０に設けられる下側電極１２は、左下側電極（第１下側電極）１２Ｌおよび右下側電極（第２下側電極）１２Ｒに分割されている。同様に、上側基板２０に設けられる上側電極２２は、左上側電極（第１上側電極）２２Ｌおよび右上側電極（第２上側電極）２２Ｒに分割されている。左下側電極１２Ｌと右下側電極１２Ｒとの間隔、および、左上側電極２２Ｌと右上側電極２２Ｒとの間隔、は、たとえば５００μｍである。
　より具体的には、左下側電極１２Ｌと左上側電極２２Ｌとが対向し、右下側電極１２Ｒと右上側電極２２Ｒとが対向するように配置される。左下側電極１２Ｌと左上側電極２２Ｌとが左側電解液５１Ｌを挟んで対向する領域が左側スイッチング領域ＡｓＬを構成し、右下側電極１２Ｒと右上側電極２２Ｒとが右側電解液５１Ｒを挟んで対向する領域が右側スイッチング領域ＡｓＲを構成する。スイッチング領域ＡｓＬ，ＡｓＲ（電解液５１Ｌ，５１Ｒ）の幅は、たとえば６３ｍｍ以下である。
　なお、左下側電極１２Ｌと右上側電極２２Ｒとは、互いに一部対向する領域を有している。左下側電極１２Ｌと右上側電極２２Ｒとが対向する領域を、重畳領域Ａｏと呼ぶこととする。重畳領域Ａｏの幅は、たとえば１０００μｍである。
　導通部材７２は、平面視において、重畳領域Ａｏ内に、または、重畳領域Ａｏと重なって形成される（図２Ａ参照）。導通部材７２は、左下側電極１２Ｌと右上側電極２２Ｒとを電気的に接続する。
　導通部材７２は、たとえば導電性粒子が混合された樹脂部材により形成される。導電性粒子は、たとえばＡｇ薄膜に被覆された、直径７０μｍ程度のガラスビーズにより形成される。導通部材７２は、たとえば株式会社スリーボンドホールディングス製のシール材ＴＢ３０３５Ｂに、ユニチカ株式会社製のＡｇ膜被覆ガラスビーズ（粉体電気抵抗０．００４Ω・ｃｍ）を１０ｗｔ％混合して形成することができる。
　下側基板１０の電源接続電極１２ｐの電位を基準とし、上側基板２０の電源接続電極２２ｐに負の電位を印加する。このとき、電流は、右下側電極１２Ｒから右側電解液５１Ｒを介して右上側電極２２Ｒに流れ、さらに導通部材７２を通って、左下側電極１２Ｌから左側電解液５１Ｌを介して左上側電極２２Ｌに流れる。電極表面で生じる酸化還元反応により、上側電極２２Ｌ，２２Ｒ各々の表面に、光反射膜５１ｄが形成される。
　なお、第１の実施例によるＥＤ素子１０１は、左下側電極１２Ｌ、左上側電極２２Ｌおよび左側電解液５１Ｌからなる左側ＥＤ素子と、右下側電極１２Ｒ、右上側電極２２Ｒおよび右側電解液５１Ｒからなる右側ＥＤ素子と、が、導通部材７２により電気的に直列に接続された素子と、等価である。
　第１の実施例において、スイッチング領域ＡｓＬ，ＡｓＲ（電解液５１Ｌ，５１Ｒ）各々の幅は狭い（たとえば６３ｍｍ以下）。このため、電解液５１Ｌ，５１Ｒ各々を流れる電流の、幅方向における電流密度分布（バラつき）は小さく、上側電極２２Ｌ，２２Ｒ各々の表面に形成される光反射膜５１ｄの膜厚も比較的均一に形成される。したがって、ＥＤ素子１０１全体をみたときに（スイッチング領域ＡｓＬ，ＡｓＲを一体としてみたときに）、光学特性（光反射率）の位置による変化は抑制される（素子面内において光反射率が一様となる）。
　なお、スイッチング領域ＡｓＬ，ＡｓＲの間隙（つまり左下側電極１２Ｌおよび右下側電極１２Ｒの間隙、左上側電極２２Ｌおよび右上側電極２２Ｒの間隙、ならびに、導通部材７２が配置される領域つまり重畳領域Ａｏ）は、光学状態を切り替えることができない非制御領域となる。ＥＤ素子１０１全体で光学特性を一様にするためには、この非制御領域の幅をできるだけ狭くすることが望ましい。一方で、左下側電極１２Ｌおよび右下側電極１２Ｒの間、ならびに、左上側電極２２Ｌおよび右上側電極２２Ｒの間に直接電流が流れないように、それらの間隔は、下側電極１２および上側電極２２の間隔（電解質層５１の厚み）よりもたとえば５倍以上離れていることが好ましい。
　導通部材７２は、シール枠部材７０の一端側から他端側まで連続的に形成されていなくてもよい。導通部材７２を選択的に設けることにより、非制御領域を小さくすることができる。
　図３Ａ～図３Ｃは、第２の実施例によるＥＤ素子１０２を示す平面図および断面図である。図３Ａに示す平面図のなかのＩＩＩＢ－ＩＩＩＢ断面およびＩＩＩＣ－ＩＩＩＣ断面が、それぞれ図３Ｂおよび図３Ｃに示す断面図に対応する。
　図３Ａに示すように、ＥＤ素子１０２では、導通部材７２ａが、重畳領域Ａｏ内において断続的に（破線状に）形成されている。このため、電解液５１は、導通部材７２ａが設けられていない領域において連続している。スイッチング領域は、導通部材７２ａにより、左側スイッチング領域ＡｓＬおよび右側スイッチング領域ＡｓＲに区分されている。第２の実施例によるＥＤ素子１０２の他の構成は、第１の実施例によるＥＤ素子１０１の構成と同じである。
　図３Ｂに示すように、導通部材７２ａは、シール枠部材７０の一端側から他端側まで断続的・間欠的に設けられている。電解液５１は、導通部材７２ａによって分断されておらず、導通部材７２ａが設けられていない領域において連続している（図３Ａ参照）。
　図３Ｃに示すように、左下側電極１２Ｌと右上側電極２２Ｒとが対向する重畳領域Ａｏには、導通部材７２ａが設けられていない領域が存在する。なお、ＥＤ素子１０２の幅方向において、導通部材７２ａが設けられている領域は、図２Ｃに示す断面と同様の断面構造となる。
　このように、左下側電極１２Ｌと右上側電極２２Ｒとを電気的に接続する導通部材７２ａを重畳領域Ａｏ内において選択的（断続的）に設けることにより、スイッチング領域ＡｓＬ，ＡｓＲと光学状態が異なりうる非制御領域を小さくする（目立たなくして視認しづらくする）ことができる。これにより、ＥＤ素子の外観品質がより改善される。
　なお、導通部材７２ａは、重畳領域Ａｏの外側にはみ出して形成されていてもよい。
　また、重畳領域Ａｏは非制御領域であるため、導通部材７２ａが配置されている領域以外の領域は、できるだけ小さい、または、存在しないことが望ましい。つまり、導通部材７２ａが配置されている領域以外の領域では、左下側電極１２Ｌおよび左上側電極２２Ｌが配置されている（平面視において重畳している）か、または、右下側電極１２Ｒと右上側電極２２Ｒが配置されている（平面視において重畳している）ことが望ましい。たとえば、平面視において、分割された上下電極の境界が、導通部材が配置されている領域に対応して、凸凹状になっていることが望ましい。
　なお、導通部材の配置間隔が広くなりすぎる（導通部材が疎に配置される）と、電流密度の偏りが顕著になり、縦方向（長さ方向）に光学特性（光反射率）のムラが生じる可能性がある。この場合には、たとえば上下電極よりも抵抗率の低い補助電極を、導通部材と上下電極との間にそれぞれ設けることが好ましい。
　図４Ａ～図４Ｄは、第２の実施例によるＥＤ素子の変形例１０２ａを示す平面図および断面図である。図４Ａに示す平面図のなかのＩＶＢ－ＩＶＢ断面，ＩＶＣ－ＩＶＣ断面，ＩＶＤ－ＩＶＤ断面が、それぞれ図４Ｂ，図４Ｃ，図４Ｄに示す断面図に対応する。
　図４Ａに示すように、ＥＤ素子１０２ａでは、重畳領域Ａｏ内に、縦方向（長さ方向）に伸長する低抵抗部材７４が設けられている。また、導通部材７２ｂが、低抵抗部材７４と重なってまばらに（疎に）形成されている。ＥＤ素子１０２ａの非制御領域は小さいほうが好ましいため、低抵抗部材７４の幅はできるだけ細いほうが好ましい。
　図４Ｂおよび図４Ｃに示すように、導通部材７２ｂは、低抵抗部材７４を介して、左下側電極１２Ｌおよび右上側電極２２Ｒに接続されている。低抵抗部材７４は、たとえば白金により形成され、たとえばマスクスパッタ法により形成・パターニングすることができる。
　図４Ｄに示すように、低抵抗部材７４は、導通部材７２ｂが形成されていない領域で、相対的に細く形成されている。導通部材７２ｂがまばらに形成される場合であっても、低抵抗部材７４を設けることにより、縦方向（長さ方向）において電流密度が均一化され、ＥＤ素子の光学特性のムラが改善されうる。
　図５Ａ，図５Ｂは、第３の実施例によるＥＤ素子１０３を示す平面図および断面図である。図５Ａに示す平面図のなかのＶＢ－ＶＢ断面が、図５Ｂに示す断面図に対応する。
　図５Ａに示すように、ＥＤ素子１０５では、導通部材７２ｃが、重畳領域Ａｏ内の一部の領域において連続的に形成されている。このため、電解液５１は、導通部材７２ｃが設けられていない領域において連続している。なお、第３の実施例によるＥＤ素子１０３の他の構成は、第１の実施例によるＥＤ素子１０１の構成と同じである。
　図５Ｂに示すように、導通部材７２ｃは、重畳領域Ａｏ内の中央領域において連続的に形成されている。電解液５１は、導通部材７２ｃによって分断されておらず、導通部材７２ｃが設けられていない領域において連続している（図５Ａ参照）。
　なお、ＥＤ素子１０３の幅方向において、導通部材７２ｃが設けられている領域は、図２Ｃに示す断面と同様の断面構造となる。また、導通部材７２ｃが設けられていない領域は、図３Ｃに示す断面と同様の断面構造となる。
　このように、左下側電極１２Ｌと右上側電極２２Ｒとを電気的に接続する導通部材７２ｃを、重畳領域Ａｏ内において選択的（一部の領域において連続的）に設けることにより、スイッチング領域ＡｓＬ，ＡｓＲと光学状態が異なりうる非制御領域を小さくすることができる。これにより、ＥＤ素子の外観品質がより改善される。
　図６Ａは、第４の実施例によるＥＤ素子１０４を示す断面図である。第４の実施例によるＥＤ素子１０４では、下側電極１２Ｌ，１２Ｒの表面に、それぞれ電気化学反応層１４Ｌ，１４Ｒが設けられている。なお、左下側電極１２Ｌの表面では、導通部材７２ａが設けられた領域を避けるように、電気化学反応層１４Ｌが形成されている。
　下側電極１２に電気化学反応層１４Ｌ，１４Ｒを設ける場合、電解液にメディエータは含まれていなくともよい、第４の実施例では、電解液５２に、溶媒であるγ－ブチロラクトン中に、ＥＤ材料としてＡｇＢｒを２００ｍＭ、支持電解質としてＬｉＢｒを８００ｍＭ添加したものを用いる。
　第４の実施例によるＥＤ素子１０４の他の構成は、第３の実施例によるＥＤ素子１０３の構成と同じである。なお、第４の実施例によるＥＤ素子１０４の他の構成、特に導通部材の平面形状は、第１または第２の実施例によるＥＤ素子の構成と同じであってもよい（図２Ａ，図３Ａおよび図５Ａ参照）。
　電気化学反応層１４Ｌ，１４Ｒには、たとえば通称プルシアンブルー（ヘキサシアニド鉄（ＩＩ）酸鉄（ＩＩＩ），Ｆｅ４［Ｆｅ（ＣＮ）６］３）や酸化ニッケルを用いることができる。プルシアンブルーは、還元状態において無色透明であり、酸化状態において青色となる。また、酸化ニッケルは、還元状態において無色透明であり、酸化状態において褐色（茶色）となる。
　プルシアンブルーは、たとえば、分散液を、マスクを用いたスピンコート法により電極表面に塗布し、その後焼成することにより作製することができる。また、酸化ニッケルは、たとえば、マスクを用いたスパッタ法により、電極上に作製することができる。
　電気化学反応層１４Ｌ，１４Ｒにプルシアンブルーを用いた場合、順方向に電圧を印加する（下側の電源接続電極１２ｐの電位を基準とし、上側の電源接続電極２２ｐに負の電位を印加する）と、上側電極２２Ｌ，２２Ｒの表面に光反射膜５１ｄが形成され、電気化学反応層１４Ｌ，１４Ｒが青色に変色する。また、電気化学反応層１４Ｌ，１４Ｒに酸化ニッケルを用いた場合、順方向に電圧を印加すると、上側電極２２Ｌ，２２Ｒの表面に光反射膜５１ｄが形成され、電気化学反応層１４Ｌ，１４Ｒが褐色に変色する。
　このとき、ＥＤ素子１０４を上側基板２０側からみると、一般的な鏡として認識される。また、下側基板１０側からみると、色付き（青色ないし褐色）の鏡として認識される。
　電気化学反応層１４Ｌ，１４Ｒを設けた場合、順方向に電圧を印加した後に、電圧の印加を停止しても、長時間（たとえば１時間以上）、光反射膜５１ｄが上側電極２２Ｌ，２２Ｒ上に残存する（電気化学反応層１４Ｌ，１４Ｒも青色ないし褐色を保持する）。なお、逆方向に電圧を印加する（下側の電源接続電極１２ｐの電位を基準とし、上側の電源接続電極２２ｐに正の電位を印加する）と、上側電極２２Ｌ，２２Ｒの表面の光反射膜５１ｄは瞬時に消失し、電気化学反応層１４Ｌ，１４Ｒも透明に戻る。
　図６Ｂは、第５の実施例による光学素子１０５を示す断面図である。第５の実施例による光学素子１０５では、下側電極１２Ｌ，１２Ｒの表面および上側電極２２Ｌ，２２Ｒの表面に、それぞれ電気化学反応層１４Ｌ，１４Ｒ，２４Ｌ，２４Ｒが設けられている。下側の電気化学反応層１４Ｌ，１４Ｒにはたとえばプルシアンブルーを用い、上側の電気化学反応層２４Ｌ，２４Ｒにはたとえば酸化ニッケルを用いる。
　上下電極１２，２２に電気化学反応層１４，２４を設ける場合、電解液にＥＤ材料およびメディエータは含まれていなくてよい。第５の実施例では、電解液５３に、溶媒であるγ－ブチロラクトン中に、支持電解質としてＬｉＣｌを８００ｍＭ添加したものを用いる。
　第５の実施例による光学素子１０５の他の構成は、第３の実施例によるＥＤ素子１０３の構成と同じである。なお、第５の実施例による光学素子１０５の他の構成、特に導通部材の形状は、第１または第２の実施例によるＥＤ素子の構成と同じでもよい（図２Ａ，図３Ａおよび図５Ａ参照）。
　上下電極１２，２２に電気化学反応層１４，２４を設けた場合、順方向に電圧を印加する（下側の電源接続電極１２ｐの電位を基準とし、上側の電源接続電極２２ｐに負の電位を印加する）と、下側の電気化学反応層１４Ｌ，１４Ｒ（プルシアンブルー）が青色に変色する。また、逆方向に電圧を印加する（下側の電源接続電極１２ｐの電位を基準とし、上側の電源接続電極２２ｐに正の電位を印加する）と、上側の電気化学反応層２４Ｌ，２４Ｒ（酸化ニッケル）が褐色に変色する。
　第５の実施例による光学素子は、たとえば色制御可能なカラーフィルターなどに応用することができるであろう。
　以上、実施例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに限定されるものではない。
　たとえば、下側電極および上側電極は、３列以上に分割されていてもよい。つまり、相互に離間する３列以上の分割電極が敷き詰められるように配置される構成であってもよい。
　分割される下側電極および上側電極の幅は、上下電極の間隔（電解質層の厚み）や電解質層を構成する材料の種類・濃度に応じて、光学特性にムラが生じないよう、調整されることが好ましい。また、各スイッチング領域の電気的または光学的な特性がバラつかないように、下側電極および上側電極は、それぞれ同じ幅で分割されることが好ましいであろう。
　下側電極および上側電極がｎ列に分割される場合、ｎ－１個の導通部材が設けられる。個々の導通部材は、隣接する上側の分割電極と下側の分割電極とを電気的に接続するように配置される。
　その他、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者には自明であろう。
 

Claims (5)

  1. 　対向配置される下側基板および上側基板と、
    　前記下側基板の前記上側基板と対向する面に、敷き詰められるように設けられる複数の下側電極であって、該下側基板面内の第１の方向に並んで隣接する第１および第２の下側電極部を少なくとも含む下側電極と、
    　前記上側基板の前記下側基板と対向する面に、敷き詰められるように設けられる複数の上側電極であって、前記第１の下側電極部と向い合う第１の上側電極部と、前記第１の下側電極部の一部および前記第２の下側電極部と向い合う第２の上側電極部と、を少なくとも含む上側電極と、
    　前記第１の下側電極部と前記第２の上側電極部とに挟持され、該第１の下側電極部と該第２の上側電極部とを電気的に接続する導通部材であって、前記下側基板または前記上側基板に平行な仮想平面上に投影したときに、前記１の下側電極部と前記第２の上側電極部とが重なる重畳領域に選択的に配置される導通部材と、
    　前記下側基板と前記上側基板との間に充填される電解質層と、
    　を有する光学素子。
  2. 　前記第１の下側電極部と前記導通部材との間、および、前記第２の上側電極部と前記導通部材との間、に配置され、該第１の下側電極および該第２の上側電極よりも低い抵抗率を有する低抵抗部材と、をさらに有する請求項１に記載の光学素子。
  3. 　前記低抵抗部材は、前記１の下側電極部と前記第２の上側電極部とが重なる重畳領域内において前記第１の方向と交差する第２の方向に伸長して設けられており、前記導通部材が形成されている位置よりも、該導通部材が形成されていない位置のほうが細く形成されている、請求項２に記載の光学素子。
  4. 　前記下側電極の表面に形成され、酸化状態であるかまたは還元状態であるかに応じて光学状態が変化する第１の電気化学層と、をさらに有する請求項１～３いずれか１項に記載の光学素子。
  5. 　前記上側電極の表面に形成され、酸化状態であるかまたは還元状態であるかに応じて光学状態が変化する第２の電気化学層と、をさらに有する請求項４に記載の光学素子。
     
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112782899A (zh) * 2021-01-13 2021-05-11 深圳市光羿科技有限公司 一种电致变色器件及电致变色器件的控制方法
CN116699917B (zh) * 2023-08-09 2024-01-26 合肥威迪变色玻璃有限公司 一种电致变色器件及方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004170613A (ja) 2002-11-19 2004-06-17 Fuji Photo Film Co Ltd 光学素子およびカメラユニット
JP2007134143A (ja) 2005-11-09 2007-05-31 Chiba Univ 交流駆動電気化学発光素子
JP2012181389A (ja) 2011-03-02 2012-09-20 Chiba Univ 表示装置
JP2013519925A (ja) * 2010-02-19 2013-05-30 サン−ゴバン グラス フランス 直列接続されたセルを含むエレクトロクロミックグレイジング、およびその製造方法
CN107991824A (zh) * 2018-01-19 2018-05-04 姜卫东 电致变色器件用分区式双面电极片
US20190004386A1 (en) * 2017-06-29 2019-01-03 Kinestral Technologies, Inc. Tiled electrochromic devices on carrier glass and methods of making the same
JP2019066619A (ja) * 2017-09-29 2019-04-25 スタンレー電気株式会社 電気化学光学装置

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61249026A (ja) * 1985-04-27 1986-11-06 Nippon Kogaku Kk <Nikon> 直列に接続したエレクトロクロミック素子群
JPH01142620A (ja) * 1987-11-30 1989-06-05 Toppan Printing Co Ltd エレクトロクロミック表示体
JP2001013531A (ja) * 1999-07-01 2001-01-19 Sony Corp 光学装置及びその製造方法、並びに撮像装置
CN101322068B (zh) * 2005-07-01 2010-09-22 Ppg工业俄亥俄公司 具有多层底漆的显示板
EP2049943B1 (en) * 2006-07-28 2011-03-02 Chromogenics Sweden AB Electrochromic device contacting
US8228587B2 (en) * 2010-04-22 2012-07-24 Sage Electrochromics, Inc. Series connected electrochromic devices
US8493646B2 (en) * 2010-04-22 2013-07-23 Sage Electrochromics, Inc. Series connected electrochromic devices
US9013777B2 (en) 2012-02-03 2015-04-21 Itn Energy Systems, Inc. Integrated device architectures for electrochromic devices
US9091895B2 (en) * 2012-08-08 2015-07-28 Kinestral Technologies, Inc. Electrochromic multi-layer devices with composite electrically conductive layers
JP6278384B2 (ja) * 2013-10-24 2018-02-14 スタンレー電気株式会社 光学装置、撮像装置、光学素子の駆動方法
JP7048215B2 (ja) * 2017-03-22 2022-04-05 スタンレー電気株式会社 光学素子
JP7146417B2 (ja) 2018-03-08 2022-10-04 株式会社カネカ エレクトロクロミックデバイス

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004170613A (ja) 2002-11-19 2004-06-17 Fuji Photo Film Co Ltd 光学素子およびカメラユニット
JP2007134143A (ja) 2005-11-09 2007-05-31 Chiba Univ 交流駆動電気化学発光素子
JP2013519925A (ja) * 2010-02-19 2013-05-30 サン−ゴバン グラス フランス 直列接続されたセルを含むエレクトロクロミックグレイジング、およびその製造方法
JP2012181389A (ja) 2011-03-02 2012-09-20 Chiba Univ 表示装置
US20190004386A1 (en) * 2017-06-29 2019-01-03 Kinestral Technologies, Inc. Tiled electrochromic devices on carrier glass and methods of making the same
JP2019066619A (ja) * 2017-09-29 2019-04-25 スタンレー電気株式会社 電気化学光学装置
CN107991824A (zh) * 2018-01-19 2018-05-04 姜卫东 电致变色器件用分区式双面电极片

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
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CN113614630B (zh) 2024-01-05
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