WO2020066338A1 - 転写材料、積層体、及び、積層体の製造方法 - Google Patents

転写材料、積層体、及び、積層体の製造方法 Download PDF

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WO2020066338A1
WO2020066338A1 PCT/JP2019/031441 JP2019031441W WO2020066338A1 WO 2020066338 A1 WO2020066338 A1 WO 2020066338A1 JP 2019031441 W JP2019031441 W JP 2019031441W WO 2020066338 A1 WO2020066338 A1 WO 2020066338A1
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mass
transfer material
group
layer
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中村　秀之
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富士フイルム株式会社
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    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B32B3/00—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar form; Layered products having particular features of form
    • B32B3/26—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar form; Layered products having particular features of form characterised by a particular shape of the outline of the cross-section of a continuous layer; characterised by a layer with cavities or internal voids ; characterised by an apertured layer
    • B32B3/30—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar form; Layered products having particular features of form characterised by a particular shape of the outline of the cross-section of a continuous layer; characterised by a layer with cavities or internal voids ; characterised by an apertured layer characterised by a layer formed with recesses or projections, e.g. hollows, grooves, protuberances, ribs
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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers

Definitions

  • the present disclosure relates to a transfer material, a laminate, and a method for producing the laminate.
  • a black anti-reflection member is known as an anti-reflection member for preventing reflection of light from an LED display.
  • Patent Document 1 As a conventional method for forming a substrate with a black pattern, a method described in Patent Document 1 can be mentioned.
  • Patent Document 1 includes the following steps (1) and (2), and when the laminate with a black pattern formed in the above step (2) is heat-treated at 200 ° C. or more and 300 ° C. or less, the following formula ( A method for producing a substrate with a black pattern, which satisfies the condition of A), is described.
  • Step of disposing a transparent resin layer and a photosensitive black resin layer on a substrate in this order (2) Exposure and development of the photosensitive black resin layer with a mask having a pattern to form a laminate with a black pattern
  • Formula (A) Ra-Rb ⁇ 0.5 (In the formula (A), Rb represents the reflectance at a wavelength of 550 nm in the black pattern region of the laminate with the black pattern before the heat treatment, and Ra is the black pattern region of the laminate with the black pattern after the heat treatment. Represents the reflectance at a wavelength of 550 nm.)
  • Patent Document 2 is characterized in that a polymer compound is dissolved in an organic solvent to prepare a polymer compound solution having a viscosity of 20 to 30,000 cP, and carbon nanotubes are added to the polymer compound solution and dispersed. A method for producing a carbon nanotube dispersion is described.
  • Patent Literature 3 discloses a first substrate having a first surface, a second surface facing the first surface, a first substrate facing the first substrate, and a first substrate facing the second surface of the first substrate.
  • a second substrate having a surface and a second surface facing the first surface; and a plurality of light emitting units provided on the second surface of the first substrate so as to be separated from the second substrate.
  • a light transmission suppression layer provided with a light transmission part for transmitting light from the light emission part is formed on the second surface of the second substrate corresponding to each light emission part.
  • a display device in which an antireflection layer is formed is described.
  • Patent Document 1 JP-A-2015-87409
  • Patent Document 2 JP-A-2007-138109
  • Patent Document 3 JP-A-2014-209198
  • the problem to be solved by one embodiment of the present invention is to provide a transfer material in which both the diffuse reflectance and the regular reflectance are low. It is another object of another embodiment of the present invention to provide a laminate using the above transfer material and a method for producing the laminate.
  • Means for solving the above problems include the following aspects.
  • ⁇ 1> having a temporary support, a photosensitive layer containing at least one compound selected from the group consisting of a binder polymer and an ethylenically unsaturated compound, and carbon nanotubes;
  • a transfer material having an uneven shape on at least a part of the interface with the layer.
  • ⁇ 2> The transfer material according to ⁇ 1>, wherein the average height of the protrusions in the uneven shape is 150 nm to 1,000 nm.
  • ⁇ 3> The transfer material according to ⁇ 1> or ⁇ 2>, wherein the average pitch of the projections in the uneven shape is 50 nm to 500 nm.
  • ⁇ 4> The transfer material according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 3>, wherein the photosensitive layer has an average thickness of 5 ⁇ m or more.
  • ⁇ 5> The photosensitive layer according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 4>, wherein the content of the carbon nanotubes is 0.5% by mass to 10% by mass based on the total mass of the photosensitive layer.
  • ⁇ 6> The transfer material according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 5>, wherein the carbon nanotube has an average fiber diameter of 8 nm to 25 nm.
  • ⁇ 7> Any one of ⁇ 1> to ⁇ 6>, wherein the regular reflectance of the photosensitive layer having the uneven shape is 1% or less and the diffuse reflectance is 0.5% or less.
  • the transfer material according to any one of the above. ⁇ 8> The transfer material according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 7>, wherein the tint L value of the photosensitive layer on the side having the uneven shape is 2 or less.
  • ⁇ 9> The transfer material according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 8>, wherein the photosensitive layer contains an ethylenically unsaturated compound and further contains a photopolymerization initiator.
  • the transfer material according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 9> which is a transfer material for removing stray light of light.
  • ⁇ 12> A laminate having a colored layer formed by transferring and curing a photosensitive layer of the transfer material according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 10> on a support.
  • Lamination including a step of forming a photosensitive layer on a support using the transfer material according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 10>, and a step of patterning the photosensitive layer How to make the body.
  • the present invention it is possible to provide a transfer material in which both the diffuse reflectance and the regular reflectance have low values. Further, according to another embodiment of the present invention, it is possible to provide a laminate using the transfer material and a method for producing the laminate.
  • the notation of not indicating substituted or unsubstituted includes not only a group having no substituent but also a group having a substituent.
  • the “alkyl group” includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
  • total solids refers to the total mass of components excluding the solvent from the total composition of the composition.
  • the “solid content” is a component excluding the solvent, and may be a solid or a liquid at 25 ° C., for example.
  • the amount of each component in the composition when there are a plurality of substances corresponding to each component in the composition, unless otherwise specified, means the total amount of the plurality of substances present in the composition I do.
  • the term “step” is included in the term, not only as an independent step but also as long as the intended purpose of the step is achieved even when it cannot be clearly distinguished from other steps.
  • (meth) acrylic acid is a concept including both acrylic acid and methacrylic acid
  • (meth) acrylate is a concept including both acrylate and methacrylate
  • (meth) acrylate” is a concept encompassing both acryloyl and methacryloyl groups.
  • columns of TSKgel GMHxL, TSKgel G4000HxL, and TSKgel G2000HxL are used for the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) in the present disclosure unless otherwise specified.
  • the ratio of the structural unit in the resin represents a molar ratio unless otherwise specified.
  • the molecular weight when there is a molecular weight distribution represents a weight average molecular weight (Mw) unless otherwise specified.
  • the transfer material according to the present disclosure has a temporary support, a photosensitive layer containing at least one compound selected from the group consisting of a binder polymer and an ethylenically unsaturated compound, and carbon nanotubes. At least a part of the interface between the body and the photosensitive layer has an uneven shape.
  • the transfer material according to the present disclosure is preferably a transfer material for removing stray light of light, more preferably a transfer material for removing stray light of light in a display device, and a transfer material for removing stray light of light in an LED display. Is more preferable, and a transfer material for removing stray light of light in a micro LED display is particularly preferable.
  • the size (maximum diameter) of the LED in the micro LED display is preferably less than 100 ⁇ m.
  • the transfer material according to the present disclosure can be suitably used as a transfer material for forming an antireflection layer.
  • a conventional black layer for example, one having a black layer containing carbon black is known.
  • a diffuse reflectance (SCE reflectance) and a regular reflectance (SCI reflectance) are used. %) Showed high values, and when used in a display device, for example, the visibility of the displayed contents was poor.
  • SCE reflectance diffuse reflectance
  • SCI reflectance regular reflectance
  • the carbon nanotubes absorb light that is diffusely reflected by incident light, thereby suppressing diffuse reflectance.
  • the regular reflection of the incident light can be suppressed while the regular reflection can be suppressed by absorbing the incident light.
  • the transfer material according to the present disclosure can suppress both specular reflection and diffuse reflection, a layer having excellent antireflection properties can be formed. It is possible to display a tight black image with little intrusion and stray light, and the display content is excellent in visibility.
  • the transfer material according to the present disclosure has an uneven shape at least at a part of the interface between the temporary support and the photosensitive layer.
  • the uneven shape may be provided only on a part of the interface between the temporary support and the photosensitive layer, or may be provided on the entire interface.
  • the shape of the concavo-convex itself in the concavo-convex shape is not particularly limited and may be a desired shape, and examples thereof include a prismatic shape, a cylindrical shape, a pyramid shape, a conical shape, a truncated pyramid shape, a truncated cone shape, and an irregular shape.
  • the unevenness in the uneven shape may be the same or different (similar shape, random shape, etc.).
  • the uneven shape in which the shape of the unevenness itself is uniform can be easily formed.
  • the uneven shape has a random shape.
  • the average height of the protrusions in the uneven shape is preferably from 10 nm to 1,500 nm, more preferably from 50 nm to 1,200 nm, and more preferably from 150 nm to 1,000 nm, from the viewpoint of suppressing the regular reflectance. More preferably, it is particularly preferably from 150 nm to 500 nm.
  • the average pitch of the protrusions in the uneven shape is preferably from 10 nm to 1,500 nm, more preferably from 50 nm to 500 nm, and further preferably from 75 nm to 400 nm, from the viewpoint of suppressing the regular reflectance. It is particularly preferably from 100 nm to 300 nm.
  • the average pitch of the projections in the uneven shape is an average distance between the projections, more specifically, an average distance on a plane between the center portions of the projections (not including a distance in a thickness direction).
  • the average height and average pitch of the projections in the above-mentioned uneven shape are measured by the following method.
  • the photosensitive layer is cut in a direction perpendicular to the thickness direction, the cross section is observed with a scanning electron microscope, and the height of the protrusion and the pitch of the protrusion are measured.
  • the height of at least 100 protrusions, and the pitch of at least 100 protrusions are measured, the average value is taken, and the average height and the average pitch of the protrusions in the uneven shape are calculated. I do.
  • the transfer material according to the present disclosure has a photosensitive layer containing at least one compound selected from the group consisting of a binder polymer and an ethylenically unsaturated compound and a carbon nanotube, and the temporary support and the photosensitive layer At least a part of the interface with the substrate has an uneven shape.
  • the photosensitive layer is preferably a layer containing an ethylenically unsaturated compound, and more preferably a layer containing an ethylenically unsaturated compound and a photopolymerization initiator. Further, the photosensitive layer is preferably a negative photosensitive layer. By having the photosensitive layer, an arbitrary pattern shape can be easily formed in the photosensitive layer after transfer.
  • the average thickness of the photosensitive layer is preferably 1 ⁇ m or more, more preferably 5 ⁇ m or more, from the viewpoint of suppression of regular reflectance and diffuse reflectance, and space saving of a member to be formed. It is more preferably 5 ⁇ m or more and 100 ⁇ m or less, particularly preferably 7 ⁇ m or more and 50 ⁇ m or less.
  • the average thickness of the photosensitive layer is measured by measuring the thickness of the photosensitive layer at 10 or more positions by using an optical microscope or a scanning electron microscope on a cross section obtained by cutting the photosensitive layer in a direction perpendicular to the thickness direction. Then, the average value is obtained, and the average thickness of the photosensitive layer is calculated.
  • the photosensitive layer contains a carbon nanotube.
  • the carbon nanotube used in the present disclosure is not particularly limited, and a known one can be used.
  • the carbon nanotube (Carbon Nano-Tube, CNT) has a shape in which a graphene (6-membered ring network) sheet is wound into a cylindrical shape, and the diameter is preferably, for example, several nm to 100 nm, and the length is For example, the thickness is preferably several nm to several ⁇ m.
  • the carbon nanotube may partially have a five-membered ring structure or a seven-membered ring structure in addition to the six-membered ring structure that is a graphene structure.
  • the carbon nanotube used in the present disclosure only needs to be at least partially tubular, and includes a closed tube (carbon nanohorn).
  • carbon nanotubes are very regular, have a high aspect ratio, and have high mechanical strength and thermal conductivity, they are preferably used for the photosensitive layer in the present disclosure.
  • carbon nanotubes are easily synthesized in grams.
  • a carbon nanotube is basically a single graphene layer wound in a tube shape, and a multi-walled carbon nanotube (MWCNT) in which a graphene sheet is wound so as to form several concentric layers.
  • MWCNT multi-walled carbon nanotube
  • SWCNT Single-Walled Carbon Nano-Tube
  • SWCNTs consist of a single layer of hexagonally bonded graphene sheets (graphite is formed by stacking graphene sheets in pancakes).
  • Carbon nanotubes have a large surface area. For example, many carbon nanotubes reach 1,000 m 2 / g in a closed state and 2,000 m 2 / g in an open state. Depending on the tube shape of the carbon nanotube and the size of the surface area, the number of times light is absorbed in the photosensitive layer increases, and the regular reflectance and the diffuse reflectance, particularly the diffuse reflectance, can be effectively suppressed. The inventor estimates.
  • the hexagonal orientation of graphene can take various directions with respect to the axis of the tube, and the spiral structure generated at this time is called chiral, and the hexagonal shape of graphene from the reference point of a certain six-membered ring on graphene to a two-dimensional lattice vector is referred to as a chiral vector (C h).
  • the carbon nanotubes used in the present disclosure may be single-walled carbon nanotubes or multi-walled carbon nanotubes, but are single-walled carbon nanotubes from the viewpoint of suppression of regular reflectance and diffuse reflectance. Is preferred. Further, the carbon nanotube used in the present disclosure may be a semiconductor-type carbon nanotube or a metal-type carbon nanotube, but the dispersion stability in a dispersion described below, and the dispersibility in the photosensitive layer From the viewpoint, a semiconductor carbon nanotube is preferable.
  • the average fiber diameter of the carbon nanotube is preferably 1 nm to 100 nm, more preferably 5 nm to 50 nm, and particularly preferably 8 nm to 25 nm, from the viewpoint of suppressing the regular reflectance and the diffuse reflectance. .
  • the average fiber diameter of the carbon nanotube is measured by the following method.
  • a scanning transmission electron microscope manufactured by JEOL Ltd.
  • the cross section of the photosensitive layer or the colored layer obtained by curing the photosensitive layer or the isolated carbon nanotube is observed.
  • an arbitrary 100 carbon nanotubes are selected, their outer diameters are measured, and the number average value thereof is calculated to calculate the average fiber diameter (nm) of the carbon nanotubes.
  • the photosensitive layer may include one type of carbon nanotube alone, or may include two or more types of carbon nanotubes.
  • the content of the carbon nanotubes in the photosensitive layer is preferably 0.1% by mass to 20% by mass with respect to the total mass of the photosensitive layer, from the viewpoint of suppressing the regular reflectance and the diffuse reflectance. , Preferably from 0.5 to 10% by mass, more preferably from 1 to 5% by mass, particularly preferably from 1.5 to 4% by mass.
  • the photosensitive layer preferably contains a dispersant from the viewpoint of suppressing the regular reflectance and the diffuse reflectance.
  • the dispersant include a polymer dispersant.
  • the polymer dispersant may function as a binder polymer described later.
  • the polymer dispersant include an acrylic polymer, a styrene polymer, an epoxy polymer, an amide polymer, an amide epoxy polymer, an alkyd polymer, a phenol polymer, and a cellulose polymer.
  • the polymer dispersant is preferably an alkali-soluble resin, and more preferably a polymer having a carboxy group.
  • acrylic polymers from the viewpoint of dispersibility, and suppression of regular reflectance and diffuse reflectance, acrylic polymers, epoxy polymers, and cellulose polymers are preferable, and acrylic polymers are more preferable. And (meth) acrylic acid copolymers are particularly preferred.
  • the acrylic polymer can be produced, for example, by polymerizing a (meth) acrylic compound.
  • the polymerizable monomer include polymerizable styrene derivatives such as styrene, vinyltoluene, ⁇ -methylstyrene, p-methylstyrene, p-ethylstyrene, and vinyl such as acrylamide, acrylonitrile, and vinyl-n-butyl ether.
  • Alcohol esters alkyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid, ⁇ -bromo (meth) acrylic acid, ⁇ -chloro (meth) ) Acrylic acid, ⁇ -furyl (me ) Acrylic acid, ⁇ -styryl (meth) acrylic acid, maleic acid, maleic anhydride, monomethyl maleate, monoethyl maleate, monoethyl maleate and other monoesters of maleic acid, fumaric acid, cinnamic acid, ⁇ -cyanosilicate Examples thereof include cinnamic
  • the alkyl (meth) acrylate includes, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, Examples include hexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, and structural isomers thereof.
  • the acid value of the polymer dispersant is preferably from 30 mgKOH / g to 200 mgKOH / g, and more preferably from 45 mgKOH / g to 150 mgKOH / g.
  • the weight average molecular weight of the polymer dispersant is preferably from 1,000 to 1,000,000, and more preferably from 4,000 to 200,000.
  • the photosensitive layer may contain one kind of the dispersant alone, or may contain two or more kinds thereof.
  • the content of the dispersant in the photosensitive layer is not particularly limited, but is preferably 0.05% by mass to 15% by mass based on the total mass of the photosensitive layer.
  • a carbon nanotube dispersion is prepared by dispersing carbon nanotubes, and a photosensitive composition described later is prepared using the obtained carbon nanotube dispersion to form the photosensitive layer.
  • the carbon nanotube dispersion preferably contains carbon nanotubes and a dispersant, and more preferably contains carbon nanotubes, a dispersant and an organic solvent. If it is necessary to lower the viscosity to apply the obtained dispersion, it can be diluted with an organic solvent, and by adding a polymer to further increase the viscosity, it is adjusted to an appropriate viscosity according to the purpose of use can do. It can be used for preparing the above dispersion.
  • the organic solvent is not particularly limited, and methanol, ethanol, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, toluene, N, N-dimethylformamide, propylene glycol monomethyl ether, and the like, and a mixed solvent thereof are preferably used. it can.
  • the organic solvent may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the carbon nanotubes in the carbon nanotube dispersion is not particularly limited, and may be appropriately adjusted according to the dispersion state and the desired concentration. Is done.
  • a good dispersion is obtained by dispersing the aggregates while loosening the aggregates and preventing reaggregation, and for this purpose, it is preferable that a sufficient shear force is applied during the dispersion.
  • the dispersion of the carbon nanotubes may be performed while setting the filling level of the carbon nanotubes, or may be performed while monitoring the solution with an optical microscope to determine aggregation.
  • an apparatus using an ultrasonic mixing technique or a high shear mixing technique is particularly preferable, and a stirrer, a homogenizer, a colloid mill, a flow jet mixer, a dissolver, a Manton emulsifying apparatus, an ultrasonic
  • the dispersion can be obtained by emulsification and dispersion by a dispersing means such as an apparatus.
  • the dispersion can be carried out by a known pulverizing means such as ball milling (ball mill, vibrating ball mill, planetary ball mill, etc.), sand milling, colloid milling, jet milling, roller milling and the like.
  • Dispersion of vertical or horizontal agitator mills, attritors, colloid mills, ball mills, three-roll mills, pearl mills, super mills, impellers, dispersers, KD mills, dynatrons, pressure kneaders, etc. used for pigment dispersion Machine can also be used.
  • the photosensitive layer preferably contains a binder polymer from the viewpoints of the strength of the photosensitive layer, the maintenance of the uneven shape, and the pattern formability. Among them, it is particularly preferable that the photosensitive layer contains a carbon nanotube, a binder polymer, an ethylenically unsaturated compound, and a photopolymerization initiator.
  • the binder polymer is preferably an alkali-soluble resin.
  • the acid value of the binder polymer is not particularly limited, but is preferably a binder polymer having an acid value of 60 mgKOH / g or more, more preferably an alkali-soluble resin having an acid value of 60 mgKOH / g or more, from the viewpoint of developability.
  • a carboxyl group-containing acrylic resin having an acid value of 60 mg KOH / g or more is particularly preferable. It is presumed that when the binder polymer has an acid value, it can be thermally crosslinked with a compound capable of reacting with an acid by heating to increase the three-dimensional crosslinking density. Further, it is presumed that the carboxy group of the carboxy group-containing acrylic resin is dehydrated and hydrophobized, thereby contributing to improvement in wet heat resistance.
  • the carboxy group-containing acrylic resin having an acid value of 60 mg KOH / g or more (hereinafter, may be referred to as a specific polymer A) is not particularly limited as long as it satisfies the above acid value conditions, and is appropriately selected from known resins. Can be used.
  • a binder polymer which is a carboxy group-containing acrylic resin having an acid value of 60 mg KOH / g or more, described in paragraphs 0033 to 0052 of JP-A-2010-237589 are examples of the polymers described in paragraphs 0033 to 0052 of JP-A-2010-237589.
  • a carboxy group-containing acrylic resin having an acid value of 60 mg KOH / g or more can be preferably used as the specific polymer A in the present embodiment.
  • the (meth) acrylic resin refers to a resin containing at least one of a structural unit derived from (meth) acrylic acid and a structural unit derived from (meth) acrylate.
  • the total ratio of the structural units derived from (meth) acrylic acid and the structural units derived from (meth) acrylic acid ester in the (meth) acrylic resin is preferably at least 30 mol%, more preferably at least 50 mol%.
  • the preferred range of the copolymerization ratio of the monomer having a carboxy group in the specific polymer A is 5% by mass to 50% by mass, more preferably 5% by mass to 40% by mass, based on 100% by mass of the specific polymer A. And more preferably within the range of 20% by mass to 30% by mass.
  • the specific polymer A may have a reactive group, and as a means for introducing the reactive group into the specific polymer A, a hydroxyl group, a carboxy group, a primary amino group, a secondary amino group, A method in which an acetyl group, sulfonic acid, or the like is reacted with an epoxy compound, a blocked isocyanate, an isocyanate, a vinyl sulfone compound, an aldehyde compound, a methylol compound, a carboxylic anhydride, or the like.
  • the reactive group is preferably a radical polymerizable group, more preferably an ethylenically unsaturated group, and particularly preferably a (meth) acryloxy group.
  • the binder polymer particularly the specific polymer A, preferably has a structural unit having an aromatic ring from the viewpoint of moisture permeability and strength after curing.
  • the monomer forming the structural unit having an aromatic ring include styrene, tert-butoxystyrene, methylstyrene, ⁇ -methylstyrene, benzyl (meth) acrylate, and the like.
  • the structural unit having an aromatic ring preferably contains at least one structural unit represented by Formula P-2 described below.
  • the constituent unit having an aromatic ring is preferably a constituent unit derived from a styrene compound.
  • the content of the constituent unit having an aromatic ring is preferably from 5% by mass to 90% by mass, and more preferably from 10% by mass to 90% by mass, based on the total mass of the binder polymer.
  • the content is more preferably 70% by mass, and even more preferably 20% by mass to 50% by mass.
  • the binder polymer particularly the specific polymer A, preferably has a structural unit having an aliphatic cyclic skeleton from the viewpoint of tackiness and strength after curing.
  • Specific examples of the monomer forming the structural unit having an aliphatic cyclic skeleton include dicyclopentanyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, and isobornyl (meth) acrylate.
  • aliphatic ring contained in the structural unit having the aliphatic cyclic skeleton a dicyclopentane ring, a cyclohexane ring, an isoboron ring, a tricyclodecane ring, and the like are preferably exemplified. Among them, a tricyclodecane ring is particularly preferred.
  • the content of the constituent unit having an alicyclic skeleton may be 5% by mass to 90% by mass based on the total mass of the binder polymer. It is more preferably from 10% by mass to 80% by mass.
  • the binder polymer particularly the specific polymer A, preferably has a structural unit having an ethylenically unsaturated group from the viewpoint of tackiness and strength after curing, and has an ethylenically unsaturated group in a side chain. It is more preferred to have a structural unit.
  • the “main chain” represents a relatively longest binding chain in the molecule of the polymer compound constituting the resin, and the “side chain” represents an atomic group branched from the main chain. .
  • the ethylenically unsaturated group a (meth) acryl group is preferable, and a (meth) acryloxy group is more preferable.
  • the content of the constituent unit having an ethylenically unsaturated group may be 5% by mass to 70% by mass based on the total mass of the binder polymer. Preferably, it is from 10% by mass to 50% by mass, more preferably from 20% by mass to 40% by mass.
  • the specific polymer A the following compound A is preferable.
  • the content ratio of each structural unit shown below can be appropriately changed according to the purpose.
  • the acid value of the binder polymer used in the present disclosure is preferably 60 mgKOH / g or more, more preferably 60 mgKOH / g to 200 mgKOH / g, and still more preferably 60 mgKOH / g to 150 mgKOH / g. It is particularly preferred that it is between 60 mgKOH / g and 110 mgKOH / g.
  • the acid value means a value measured according to the method described in JIS K0070 (1992).
  • the binder polymer contains a binder polymer having an acid value of 60 mg KOH / g or more.
  • the second resin layer described later contains an acrylic resin having an acid group, and thus the photosensitive layer and Interlayer adhesion with the second resin layer can be improved.
  • the weight average molecular weight of the specific polymer A is preferably 10,000 or more, more preferably 20,000 to 100,000.
  • any film-forming resin other than the specific polymer can be appropriately selected and used depending on the purpose.
  • a film having good surface hardness and heat resistance is preferable, an alkali-soluble resin is more preferable, and among the alkali-soluble resins, a known photosensitive siloxane resin material is used. And the like.
  • the binder polymer used in the present disclosure preferably includes a polymer containing a structural unit having a carboxylic anhydride structure (hereinafter, also referred to as a specific polymer B).
  • a polymer containing a structural unit having a carboxylic anhydride structure (hereinafter, also referred to as a specific polymer B).
  • the carboxylic acid anhydride structure may be either a chain carboxylic acid anhydride structure or a cyclic carboxylic acid anhydride structure, but is preferably a cyclic carboxylic acid anhydride structure.
  • the ring having a cyclic carboxylic anhydride structure is preferably a 5- to 7-membered ring, more preferably a 5- or 6-membered ring, and still more preferably a 5-membered ring.
  • the cyclic carboxylic acid anhydride structure may form a polycyclic structure by condensing or bonding with another ring structure, but preferably does not form a polycycl
  • the polycyclic structure is preferably a bicyclo structure or a spiro structure.
  • the number of other ring structures condensed or bonded to the cyclic carboxylic acid anhydride structure is preferably from 1 to 5, more preferably from 1 to 3.
  • the other ring structure include a cyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, a heterocyclic group having 3 to 20 carbon atoms, and the like.
  • the heterocyclic group is not particularly limited, but includes an aliphatic heterocyclic group and an aromatic heterocyclic group.
  • heterocyclic group a 5-membered ring or a 6-membered ring is preferable, and a 5-membered ring is particularly preferable.
  • a heterocyclic group a heterocyclic group containing at least one oxygen atom (eg, an oxolane ring, an oxane ring, a dioxane ring, etc.) is preferable.
  • the structural unit having a carboxylic acid anhydride structure is a structural unit containing a divalent group obtained by removing two hydrogen atoms from a compound represented by the following formula P-1 in the main chain, or a compound represented by the following formula P
  • the structural unit is preferably a structural unit in which a monovalent group obtained by removing one hydrogen atom from the compound represented by -1 is bonded to the main chain directly or via a divalent linking group.
  • R A1a represents a substituent
  • n 1a R A1a s may be the same or different.
  • n 1a represents an integer of 0 or more.
  • Examples of the substituent represented by RA1a include the same substituents as those described above for the carboxylic acid anhydride structure, and the same preferable ranges.
  • Z 1a is preferably an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, more preferably an alkylene group having 2 or 3 carbon atoms, and particularly preferably an alkylene group having 2 carbon atoms.
  • the partial structure represented by the formula P-1 may be condensed with or bonded to another ring structure to form a polycyclic structure, but preferably does not form a polycyclic structure.
  • the other ring structure here, the same as the above-mentioned other ring structure which may be condensed or bonded to the carboxylic acid anhydride structure, and the preferred range is also the same.
  • n 1a represents an integer of 0 or more.
  • Z 1a represents an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms
  • n 1a is preferably an integer of 0 to 4, more preferably an integer of 0 to 2, and even more preferably 0.
  • a plurality of RA 1a may be the same or different.
  • a plurality of R A1a may be bonded to each other to form a ring, but are preferably not bonded to each other to form a ring.
  • the constituent unit having a carboxylic acid anhydride structure is preferably a constituent unit derived from an unsaturated carboxylic acid anhydride, more preferably a constituent unit derived from an unsaturated cyclic carboxylic acid anhydride, and More preferably, it is a structural unit derived from an aliphatic cyclic carboxylic anhydride, more preferably, it is a structural unit derived from maleic anhydride or itaconic anhydride, and it is a structural unit derived from maleic anhydride. Is particularly preferred.
  • Rx represents a hydrogen atom, a methyl group, a CH 2 OH group, or a CF 3 group
  • Me represents a methyl group
  • the structural unit having a carboxylic acid anhydride structure is preferably at least one of the structural units represented by any of the above formulas a2-1 to a2-21, and is preferably one of the above formulas a2-1 to a2-21. More preferably, it is one of the structural units represented by any one of a2-21.
  • the structural unit having a carboxylic acid anhydride structure is at least one of the structural unit represented by the formula a2-1 and the structural unit represented by the formula a2-2 from the viewpoints of developability and moisture permeability of the obtained cured film. It preferably contains one of them, and more preferably contains the structural unit represented by the formula a2-1.
  • the content of the structural unit having a carboxylic acid anhydride structure in the specific polymer B (the total content when two or more types are used, the same applies hereinafter) is 0 mol% to 60% based on the total amount of the specific polymer B. Mol%, preferably 5 mol% to 40 mol%, more preferably 10 mol% to 35 mol%.
  • the “structural unit” when the content of the “structural unit” is defined by a molar ratio, the “structural unit” has the same meaning as the “monomer unit”.
  • the “monomer unit” may be modified after polymerization by a polymer reaction or the like. The same applies to the following.
  • Specific polymer B preferably contains at least one type of structural unit represented by the following formula P-2. Thereby, the moisture permeability of the obtained cured film is lower, and the strength is further improved.
  • R P1 represents a hydroxyl group, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, a carboxy group, or a halogen atom
  • R P2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group
  • nP represents 0 to 5 Represents an integer. If nP is an integer of 2 or more, R P1 which there are two or more may be be the same or different.
  • R P1 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, a carboxy group, an F atom, a Cl atom, a Br atom, or an I atom. And more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a Cl atom or a Br atom.
  • R P2 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, It is more preferably a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, and particularly preferably a hydrogen atom.
  • ⁇ nP is preferably an integer of 0 to 3, more preferably 0 or 1, and even more preferably 0.
  • the structural unit represented by the formula P-2 is preferably a structural unit derived from a styrene compound.
  • the styrene compound include styrene, p-methylstyrene, ⁇ -methylstyrene, ⁇ , p-dimethylstyrene, p-ethylstyrene, pt-butylstyrene, 1,1-diphenylethylene, and the like.
  • -Methylstyrene is preferred, styrene is particularly preferred.
  • the styrene compound for forming the structural unit represented by the formula P-2 may be only one kind or two or more kinds.
  • the content of the structural unit represented by the formula P-2 in the specific polymer B (when two or more kinds, the total content Hereinafter the same) is preferably 5 mol% to 90 mol%, more preferably 30 mol% to 90 mol%, and more preferably 40 mol% to 90 mol%, based on the total amount of the specific polymer B. Is more preferable.
  • the specific polymer B may include at least one other structural unit other than the structural unit having a carboxylic acid anhydride structure and the structural unit represented by Formula P-2.
  • the other constituent units preferably do not contain an acid group.
  • Other structural units are not particularly limited, and include structural units derived from monofunctional ethylenically unsaturated compounds. As the monofunctional ethylenically unsaturated compound, known compounds can be used without particular limitation.
  • Acrylate derivatives such as acrylate, carbitol (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate and epoxy (meth) acrylate; N-vinyl such as N-vinylpyrrolidone and N-vinylcaprolactam Compounds; derivatives of allyl compounds such as allyl glycidyl ether; and the like.
  • the content of other structural units in the specific polymer B is preferably from 10% by mass to 100% by mass relative to the total amount of the specific polymer B. More preferably, it is from 100% by mass to 100% by mass.
  • the weight average molecular weight of the binder polymer is not particularly limited, but is preferably more than 3,000, more preferably more than 3,000 and not more than 60,000, and more preferably 5,000 to 50,000. More preferred.
  • the binder polymer may be used alone, or may contain two or more kinds.
  • the content of the binder polymer is from 10% by mass to 90% by mass with respect to the total mass of the photosensitive layer from the viewpoint of the strength of the colored layer obtained by curing the photosensitive layer and the handling property of the transfer film. Preferably, it is 20% by mass to 80% by mass, more preferably 30% by mass to 70% by mass.
  • the photosensitive layer preferably contains an ethylenically unsaturated compound from the viewpoint of pattern formability.
  • the ethylenically unsaturated compound is a component that contributes to the photosensitivity (that is, photocurability) and the strength of the colored layer formed by curing the photosensitive layer. Further, the ethylenically unsaturated compound is a compound having one or more ethylenically unsaturated groups.
  • the photosensitive layer preferably contains a bifunctional or higher functional ethylenically unsaturated compound as the ethylenically unsaturated compound.
  • the bifunctional or higher functional ethylenically unsaturated compound means a compound having two or more ethylenically unsaturated groups in one molecule.
  • a (meth) acryloyl group is more preferred.
  • a (meth) acrylate compound is preferable.
  • the photosensitive layer preferably contains a trifunctional or higher functional ethylenically unsaturated compound (preferably, a trifunctional or higher functional (meth) acrylate compound) from the viewpoint of strength after curing, and is preferably a bifunctional ethylenically unsaturated compound. It is particularly preferable to contain a saturated compound (preferably, a bifunctional (meth) acrylate compound) and a trifunctional or higher functional ethylenically unsaturated compound (preferably, a trifunctional or higher functional (meth) acrylate compound).
  • the bifunctional ethylenically unsaturated compound is not particularly limited, and can be appropriately selected from known compounds.
  • Examples of the bifunctional ethylenically unsaturated compound include tricyclodecane dimethanol di (meth) acrylate, tricyclodecane dimethanol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, and 1,6-hexane. And diol di (meth) acrylate.
  • bifunctional ethylenically unsaturated compound more specifically, tricyclodecanedimethanol diacrylate (A-DCP, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), tricyclodecanedimenanol dimethacrylate (DCP, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), 1,9-nonanediol diacrylate (A-NOD-N, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), 1,6-hexanediol diacrylate (A-HD-N, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.).
  • A-DCP tricyclodecanedimethanol diacrylate
  • DCP Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.
  • DCP Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.
  • 1,9-nonanediol diacrylate A-NOD-N, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.
  • 1,6-hexanediol diacrylate A
  • the trifunctional or higher functional ethylenically unsaturated compound is not particularly limited and can be appropriately selected from known compounds.
  • Examples of the trifunctional or higher functional ethylenically unsaturated compound include dipentaerythritol (tri / tetra / penta / hexa) (meth) acrylate, pentaerythritol (tri / tetra) (meth) acrylate, and trimethylolpropane tri (meth) Examples include acrylate, ditrimethylolpropanetetra (meth) acrylate, isocyanuric acid (meth) acrylate, and a (meth) acrylate compound having a glycerin tri (meth) acrylate skeleton.
  • (tri / tetra / penta / hexa) (meth) acrylate” is a concept including tri (meth) acrylate, tetra (meth) acrylate, penta (meth) acrylate, and hexa (meth) acrylate.
  • (Tri / tetra) (meth) acrylate” is a concept including tri (meth) acrylate and tetra (meth) acrylate.
  • Examples of the ethylenically unsaturated compound include caprolactone-modified compounds of (meth) acrylate compounds (KAYARAD (registered trademark) DPCA-20 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., A-9300-1CL manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), Alkylene oxide-modified compound of (meth) acrylate compound (KAYARAD RP-1040 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., ATM-35E, A-9300 manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., EBECRYL (registered trademark) 135 manufactured by Daicel Ornex) Ethoxylated glycerin triacrylate (A-GLY-9E manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) and the like.
  • KYARAD registered trademark
  • DPCA-20 Alkylene oxide-modified compound of (meth) acrylate compound
  • ATM-35E Alkylene oxide-modified compound of (meth) acrylate compound
  • Examples of the ethylenically unsaturated compound also include a urethane (meth) acrylate compound (preferably a trifunctional or more functional urethane (meth) acrylate compound).
  • Examples of trifunctional or higher functional urethane (meth) acrylate compounds include 8UX-015A (manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd.), UA-32P (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), and UA-1100H (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) Co., Ltd.).
  • the ethylenically unsaturated compound preferably contains an ethylenically unsaturated compound having an acid group from the viewpoint of improving developability.
  • the acid group include a phosphoric acid group, a sulfonic acid group, and a carboxy group, and a carboxy group is preferable.
  • PETA penentaerythritol tri and tetraacrylate
  • DPHA dipentaerythritol penta and hexaacrylate
  • the ethylenically unsaturated compound having an acid group at least one selected from the group consisting of a bifunctional or higher-functional ethylenically unsaturated compound having a carboxy group and a carboxylic anhydride thereof is preferable. This increases the developability and the strength of the cured film.
  • the bifunctional or higher functional ethylenically unsaturated compound containing a carboxy group is not particularly limited, and can be appropriately selected from known compounds.
  • Examples of the bifunctional or higher-functional ethylenically unsaturated compound containing a carboxy group include Aronix (registered trademark) TO-2349 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), Aronix M-520 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), or And Aronix M-510 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) can be preferably used.
  • the ethylenically unsaturated compound having an acid group is a polymerizable compound having an acid group described in paragraphs 0025 to 0030 of JP-A-2004-239942. The contents of this publication are incorporated herein.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the ethylenically unsaturated compound used in the present disclosure is preferably from 200 to 3,000, more preferably from 250 to 2,600, still more preferably from 280 to 2,200, and more preferably from 300 to 2,2. 200 is particularly preferred.
  • the proportion of the content of the ethylenically unsaturated compound having a molecular weight of 300 or less is relative to all the ethylenically unsaturated compounds contained in the photosensitive layer. Therefore, the content is preferably 30% by mass or less, more preferably 25% by mass or less, and even more preferably 20% by mass or less.
  • Ethylenically unsaturated compounds may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the ethylenically unsaturated compound is preferably from 1% by mass to 70% by mass, more preferably from 10% by mass to 70% by mass, and further preferably from 20% by mass to 60% by mass, based on the total mass of the photosensitive layer. It is particularly preferably from 20% by mass to 50% by mass.
  • the photosensitive layer contains an ethylenically unsaturated compound having an acid group (preferably, a bifunctional or more functional ethylenically unsaturated compound having a carboxy group or a carboxylic anhydride thereof).
  • the content of the ethylenically unsaturated compound is preferably 1% by mass to 50% by mass, more preferably 1% by mass to 20% by mass, and more preferably 1% by mass to 10% by mass, based on the total mass of the photosensitive layer. More preferred.
  • the photosensitive layer preferably further contains a photopolymerization initiator from the viewpoint of pattern formability and sensitivity, and more preferably contains the above-mentioned ethylenically unsaturated compound and further contains a photopolymerization initiator.
  • the photopolymerization initiator is not particularly limited, and a known photopolymerization initiator can be used.
  • the photopolymerization initiator examples include a photopolymerization initiator having an oxime ester structure (hereinafter, also referred to as an “oxime-based photopolymerization initiator”) and a photopolymerization initiator having an ⁇ -aminoalkylphenone structure (hereinafter, “ ⁇ - Aminoalkylphenone-based photopolymerization initiator "), photopolymerization initiator having an ⁇ -hydroxyalkylphenone structure (hereinafter also referred to as” ⁇ -hydroxyalkylphenone-based polymerization initiator "), acylphosphine oxide structure (Hereinafter also referred to as “acylphosphine oxide-based photopolymerization initiator”), and a photopolymerization initiator having an N-phenylglycine structure (hereinafter “N-phenylglycine-based photopolymerization initiator”) ).
  • ⁇ - Aminoalkylphenone-based photopolymerization initiator
  • the photopolymerization initiator is at least selected from the group consisting of an oxime-based photopolymerization initiator, an ⁇ -aminoalkylphenone-based photopolymerization initiator, an ⁇ -hydroxyalkylphenone-based polymerization initiator, and an N-phenylglycine-based photopolymerization initiator. It is preferable to include at least one kind, more preferably at least one selected from the group consisting of an oxime-based photopolymerization initiator, an ⁇ -aminoalkylphenone-based photopolymerization initiator, and an N-phenylglycine-based photopolymerization initiator. .
  • the photopolymerization initiator for example, the polymerization initiators described in paragraphs 0031 to 0042 of JP-A-2011-95716 and paragraphs 0064 to 0081 of JP-A-2015-014783 may be used.
  • photopolymerization initiators include 1- [4- (phenylthio)]-1,2-octanedione-2- (O-benzoyloxime) (trade name: IRGACURE® OXE-01, BASF) 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] ethanone-1- (O-acetyloxime) (trade name: IRGACURE @ OXE-02, manufactured by BASF) 2- (dimethylamino) -2-[(4-methylphenyl) methyl] -1- [4- (4-morpholinyl) phenyl] -1-butanone (trade name: IRGACURE @ 379EG, BASF), 2- Methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one (trade name: IRGACURE @ 907, manufactured by BASF), 2- Droxy-1- ⁇ 4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-pro
  • the photopolymerization initiator may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the photopolymerization initiator is not particularly limited, but is preferably 0.1% by mass or more, more preferably 0.5% by mass or more, and preferably 1.0% by mass or more based on the total mass of the photosensitive layer. Is more preferred.
  • the content of the photopolymerization initiator is preferably 10% by mass or less, more preferably 5% by mass or less, based on the total mass of the photosensitive layer.
  • the photosensitive layer preferably contains a surfactant from the viewpoint of uniformity of the film thickness.
  • a surfactant any of anionic, cationic, nonionic (nonionic) and amphoteric surfactants can be used, and a preferred surfactant is a nonionic surfactant.
  • the nonionic surfactant include polyoxyethylene higher alkyl ethers, polyoxyethylene higher alkyl phenyl ethers, higher fatty acid diesters of polyoxyethylene glycol, silicone-based, and fluorine-based surfactants. .
  • KP manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
  • Polyflow manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • F-Top manufactured by JEMCO
  • Mega Fac manufactured by DIC
  • Florard manufactured by Sumitomo 3M Series, such as Asahi Guard, Surflon (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), PolyFox (manufactured by OMNOVA), and SH-8400 (manufactured by Dow Corning Toray).
  • the composition contains a structural unit A and a structural unit B represented by the following formula I-1 as a surfactant, and has a weight average in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography using tetrahydrofuran (THF) as a solvent.
  • a copolymer having a molecular weight (Mw) of 1,000 or more and 10,000 or less can be mentioned as a preferable example.
  • R 401 and R 403 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group
  • R 402 represents a linear alkylene group having 1 to 4 carbon atoms
  • R 404 represents a hydrogen atom or a carbon atom.
  • L represents an alkyl group having a number of 1 or more and 4 or less
  • L represents an alkylene group having 3 or more and 6 or less carbon atoms
  • p and q are mass percentages representing a polymerization ratio
  • p is a numerical value of 10 mass% or more and 80 mass% or less.
  • q represents a numerical value of 20% by mass or more and 90% by mass or less
  • r represents an integer of 1 or more and 18 or less
  • s represents an integer of 1 or more and 10 or less
  • * represents a bonding site with another structure. Represent.
  • L is preferably a branched alkylene group represented by the following formula (I-2).
  • R 405 in the formula (I-2) represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and is preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms in terms of compatibility and wettability to a surface to be coated. Two or three alkyl groups are more preferred.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the copolymer is more preferably 1,500 or more and 5,000 or less.
  • the content of the surfactant is preferably 10% by mass or less, more preferably 0.001% by mass to 10% by mass, and more preferably 0.01% by mass to the total mass of the photosensitive layer. More preferably, it is 3% by mass.
  • the photosensitive layer may contain at least one polymerization inhibitor.
  • a thermal polymerization inhibitor also referred to as a polymerization inhibitor
  • phenothiazine, phenoxazine or 4-methoxyphenol can be preferably used.
  • the content of the polymerization inhibitor is preferably 0.01% by mass to 3% by mass, and more preferably 0.01% by mass to 1% by mass based on the total mass of the photosensitive layer. % By mass, more preferably 0.01% by mass to 0.8% by mass.
  • the photosensitive layer further contains a hydrogen donating compound.
  • the hydrogen-donating compound has effects such as further improving the sensitivity of the photopolymerization initiator to actinic rays or suppressing polymerization inhibition of the polymerizable compound by oxygen.
  • Examples of such hydrogen donating compounds include amines such as M.P. R. Sander et al., "Journal of Polymer Society," Vol. 10, p. 3173 (1972), JP-B-44-20189, JP-A-51-82102, JP-A-52-134692, and JP-A-59-138205.
  • JP-A-60-84305, JP-A-62-18537, JP-A-64-33104, and Research Disclosure 33825 Specific examples include triethanolamine. , P-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, p-formyldimethylaniline, p-methylthiodimethylaniline and the like.
  • hydrogen donating compound examples include amino acid compounds (eg, N-phenylglycine), organometallic compounds described in JP-B-48-42965 (eg, tributyltin acetate, etc.), and JP-B-55 And hydrogen compounds described in JP-A-6-308727 (eg, trithiane).
  • amino acid compounds eg, N-phenylglycine
  • organometallic compounds described in JP-B-48-42965 eg, tributyltin acetate, etc.
  • JP-B-55 And hydrogen compounds described in JP-A-6-308727 eg, trithiane
  • the content of these hydrogen-donating compounds is preferably in the range of 0.1% by mass or more and 30% by mass or less based on the total mass of the photosensitive layer, from the viewpoint of improving the curing speed by the balance between the polymerization growth rate and the chain transfer.
  • the range is more preferably from 1% by mass to 25% by mass, and still more preferably from 0.5% by mass to 20% by mass.
  • the above-mentioned photosensitive layer may contain other components other than the above-mentioned components.
  • other components include a heterocyclic compound, a thiol compound, a thermal polymerization inhibitor described in paragraph 0018 of Japanese Patent No. 4502784, and other additives described in paragraphs 0058 to 0071 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-310706. And the like.
  • the photosensitive layer may contain at least one kind of particles (for example, metal oxide particles) as another component for the purpose of adjusting the refractive index and the light transmittance.
  • the metal of the metal oxide particles includes semimetals such as B, Si, Ge, As, Sb, and Te.
  • the average primary particle diameter of the particles is preferably 1 nm to 200 nm, more preferably 3 nm to 80 nm. The average primary particle diameter is calculated by measuring the particle diameter of 200 arbitrary particles using an electron microscope and arithmetically averaging the measurement results. If the shape of the particles is not spherical, the longest side is the particle diameter.
  • the content of the particles is preferably 0% by mass to 35% by mass, more preferably 0% by mass to 10% by mass, still more preferably 0% by mass to 5% by mass, and more preferably 0% by mass with respect to the total mass of the photosensitive layer. % To 1% by weight, more preferably 0% by weight (that is, no particles are contained in the photosensitive layer).
  • the photosensitive layer may contain a trace amount of a coloring agent (a pigment, a dye, or the like) other than the carbon nanotube as another component.
  • a coloring agent a pigment, a dye, or the like
  • the content of the coloring agent other than carbon nanotubes in the photosensitive layer is preferably less than 1% by mass, more preferably less than 0.1% by mass, based on the total mass of the photosensitive layer.
  • the regular reflectance of the photosensitive layer having the irregular shape is 4% or less, and the diffuse reflectance is 4% or less. , 0.5% or less, the regular reflectance is 1% or less, and the diffuse reflectance is more preferably 0.5% or less, and the regular reflectance is 0.5% or less. Or less, and the diffuse reflectance is more preferably 0.2% or less, and the regular reflectance is 0.1% or less, and the diffuse reflectance is 0.1% or less. Particularly preferred.
  • the regular reflectance of the colored layer formed by curing the photosensitive layer on the side having the uneven shape is 4%. Or less, and the diffuse reflectance is preferably 0.5% or less, the regular reflectance is 1% or less, and the diffuse reflectance is more preferably 0.5% or less, More preferably, the regular reflectance is 0.5% or less, and the diffuse reflectance is 0.2% or less, and the regular reflectance is 0.1% or less, and the diffuse reflectance is It is particularly preferred that the content be 0.1% or less. Note that the lower limits of the regular reflectance and the diffuse reflectance are each 0%.
  • the method for measuring the regular reflectance and the diffuse reflectance of the photosensitive layer or the colored layer on the side having the uneven shape uses CM-700D manufactured by Konica Minolta, Inc.
  • the values of the regular reflectance and the diffuse reflectance are measured on the surface having the uneven shape.
  • the measurement is performed in the range of 360 nm to 740 nm at intervals of 10 nm, and the values at the value of 550 nm as representative values of the reflectance are defined as the regular reflectance and the diffuse reflectance.
  • the tint L value of the photosensitive layer on the side having the uneven shape is preferably 20 or less, and preferably 10 or less. Is more preferable, it is more preferably 5 or less, and particularly preferably 2 or less.
  • the tint L value of the colored layer formed by curing the photosensitive layer on the side having the uneven shape is 20. It is preferably at most 10, more preferably at most 10, even more preferably at most 5, particularly preferably at most 2. Note that the lower limit of the color L value is 0%.
  • the method of measuring the tint L value on the side having the uneven shape of the photosensitive layer or the colored layer is the same as the method of measuring the regular reflectance and the diffuse reflectance described above by CM manufactured by Konica Minolta, Inc.
  • the color L value is measured on the surface of the photosensitive layer or the colored layer on the side having the uneven shape in the range of 360 nm to 740 nm in increments of 10 nm.
  • the method for forming the photosensitive layer is not particularly limited, but the photosensitive composition containing the above-described components is applied to the above-described protective film, dried and formed, and then a temporary support having an uneven shape is laminated. A preferred method is to use Further, it is preferable to prepare the above-described carbon nanotube dispersion and prepare the above-mentioned photosensitive composition using the above-mentioned carbon nanotube dispersion.
  • the method for applying and drying the photosensitive composition is not particularly limited, and a known method can be used.
  • the photosensitive composition further contains a solvent from the viewpoint of forming a layer by coating.
  • a solvent a commonly used solvent can be used without any particular limitation.
  • an organic solvent is preferable.
  • the organic solvent include methyl ethyl ketone, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate (alias: 1-methoxy-2-propyl acetate), diethylene glycol ethyl methyl ether, cyclohexanone, methyl isobutyl ketone, butyl acetate, propyl acetate, and acetic acid.
  • the solvent used may contain a mixed solvent that is a mixture of these compounds.
  • the solvent at least one solvent selected from the group consisting of butyl acetate and propyl acetate is preferable.
  • the solid content of the photosensitive composition is preferably 5% by mass to 80% by mass, more preferably 5% by mass to 40% by mass, and more preferably 5% by mass, based on the total amount of the photosensitive composition. % To 30% by weight is particularly preferred.
  • the viscosity (25 ° C.) of the photosensitive composition is preferably from 1 mPa ⁇ s to 50 mPa ⁇ s, more preferably from 2 mPa ⁇ s to 40 mPa ⁇ s, and preferably from 3 mPa ⁇ s, from the viewpoint of applicability. -30 mPa ⁇ s is particularly preferred.
  • the viscosity is measured using, for example, VISCOMTER TV-22 (manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.).
  • the surface tension (25 ° C.) of the photosensitive composition is preferably 5 mN / m to 100 mN / m, more preferably 10 mN / m to 80 mN / m from the viewpoint of applicability. , 15 mN / m to 40 mN / m are particularly preferred.
  • the surface tension is measured using, for example, an Automatic Surface Tensiometer CBVP-Z (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.).
  • solvent Solvent described in paragraphs 0054 and 0055 of US Patent Application Publication No. 2005/280733 can also be used, and the contents of this specification are incorporated herein. Further, as a solvent, an organic solvent having a boiling point of 180 ° C. to 250 ° C. (high boiling point solvent) can be used as necessary.
  • the transfer material according to the present disclosure has a temporary support, and at least a part of an interface between the temporary support and the photosensitive layer has an uneven shape.
  • the temporary support is preferably a film, and more preferably a resin film.
  • a film which is flexible and does not significantly deform, shrink, or elongate under pressure or under pressure and heat can be used. Examples of such a film include a polyethylene terephthalate film, a cellulose triacetate film, a polystyrene film, a polyimide film, and a polycarbonate film.
  • a resin film stamper to which a fine molding pattern on the order of micrometers or nanometers has been transferred can be formed by pressing a mold using the above-described resin film as an object to be molded.
  • the mold for transferring the mold pattern is a mold formed of silicon or metal.
  • a pattern is formed on a silicon substrate or the like by a semiconductor fine processing technique such as photolithography or etching.
  • the mold made of metal is formed by applying metal plating to the surface of a mold made of silicon by an electroforming (electroforming) method (for example, nickel plating method), and peeling off the metal plating layer.
  • the film used as the temporary support preferably has no deformation such as wrinkles or scratches.
  • the thickness of the temporary support is not particularly limited, but is preferably 5 ⁇ m to 200 ⁇ m, and particularly preferably 10 ⁇ m to 150 ⁇ m from the viewpoint of easy handling and versatility.
  • the temporary support is preferably a temporary support having an uneven shape, and more preferably a temporary support having a moth-eye structure.
  • the moss eye structure is an uneven shape having a period (pitch) of less than 780 nm, which is the wavelength of visible light, and the uneven shape can be suitably formed.
  • the temporary support having the uneven shape is preferably a film having the uneven shape, and a resin film having the uneven shape is more preferable.
  • a stamper having the film-shaped uneven shape is preferably exemplified.
  • the uneven shape of the temporary support is a shape in which the concave and convex portions of the uneven shape formed on the photosensitive layer are inverted, and the preferred embodiment of the uneven shape is the same as the preferred embodiment of the uneven shape described above.
  • a known support as a stamper can be used, and a commercial product such as a stamper manufactured by SCIVAX can be used.
  • the transfer material according to the present disclosure is preferably manufactured by laminating a temporary support having an uneven shape on a photosensitive layer.
  • the conditions for laminating the temporary support to the photosensitive layer in the case of using the temporary support having an uneven shape are not particularly limited, and are appropriately determined according to the physical properties of the photosensitive layer, the material of the temporary support, and the like.
  • the linear pressure at the time of pressing is preferably 5 N / cm to 1,000 N / cm, more preferably 10 N / cm to 500 N / cm, and more preferably 20 N / cm to 200 N / cm. Is particularly preferred.
  • the lamination temperature is preferably from 0 ° C. to 200 ° C., more preferably from 25 ° C. to 150 ° C., and particularly preferably from 50 ° C. to 120 ° C.
  • the transfer material according to the present disclosure may have a protective film on the side opposite to the temporary support when viewed from the photosensitive layer.
  • the protective film include a polyethylene terephthalate film, a polypropylene film, a polystyrene film, and a polycarbonate film.
  • the protective film for example, those described in paragraphs 0083 to 0087 and 0093 of JP-A-2006-259138 may be used.
  • the thickness of the protective film is not particularly limited, but is preferably 5 ⁇ m to 200 ⁇ m, and particularly preferably 10 ⁇ m to 150 ⁇ m from the viewpoint of easy handling and versatility.
  • the transfer material according to the present disclosure may have a layer (other layer) other than the support and the photosensitive layer.
  • a layer known as a transfer material can be used as the other layer.
  • an adhesive layer may be provided between the protective film and the photosensitive layer. Known adhesives and pressure-sensitive adhesives can be used as the material of the adhesive layer.
  • the first embodiment of the laminate according to the present disclosure has a layer formed by transferring the photosensitive layer of the transfer material according to the present disclosure on a support.
  • the second embodiment of the laminate according to the present disclosure has a colored layer formed by transferring and curing the photosensitive layer of the transfer material according to the present disclosure on a support.
  • the layer formed by transferring the photosensitive layer in the first embodiment of the laminate according to the present disclosure is preferably a layer that can be patterned.
  • the colored layer formed by transferring and curing the photosensitive layer in the second embodiment of the laminate according to the present disclosure is preferably a patterned layer.
  • the laminate according to the present disclosure can be used as a front member of an LED (light emitting diode) display, and can be particularly suitably used as a front member of a micro LED ( ⁇ -LED) display.
  • the size (maximum diameter) of the LED in the micro LED display is preferably less than 100 ⁇ m.
  • the front member is a member provided on the display side of the LED display.
  • the front member of the LED display according to the present disclosure is preferably a front member for removing stray light of light from the LED display.
  • an LED display having a front member of an LED display using the laminate according to the present disclosure Can display a tight black image with little reflection and stray light, and is excellent in the visibility of display contents.
  • Examples of the front member of the LED display include front members used for the LED display described in paragraphs 0032 to 0038 of JP-A-2014-209198.
  • the colored layer in the present disclosure is a light transmission suppressing layer.
  • the support corresponds to the second substrate 12.
  • LED displays described in paragraphs 0039 to 0042 of JP-A-2014-209198 are also exemplified.
  • the colored layer in the present disclosure corresponds to the light-impermeable layer 34, and the support corresponds to the light-transmitting portion 35.
  • the laminate according to the present disclosure has a support.
  • the support is not particularly limited, and a known support can be used.
  • the support include a resin film, a glass substrate, a ceramic substrate, a metal substrate, a semiconductor substrate, and a substrate provided with an LED element.
  • the support may have a known structure in a display device such as an LED display, if necessary, such as a wiring, an insulating layer, a light transmission suppressing layer, a light opaque layer, and a protective layer.
  • the thickness of the support is not particularly limited, and can be appropriately set as desired.
  • the laminate according to the present disclosure may have a layer and a structure (other layers and structures) other than a layer formed by transferring the support and the photosensitive layer or a colored layer.
  • Other layers and structures include layers and structures known as display devices such as LED displays and transfer materials.
  • a protective layer for protecting the uneven shape may be provided on a layer formed by transferring the photosensitive layer or a colored layer (preferably a colored layer).
  • the material of the protective layer is not particularly limited, and includes a known resin and a known cured resin.
  • the method for producing a laminate according to the present disclosure is not particularly limited except that it is a method using the transfer material according to the present disclosure, and a photosensitive layer is formed on a support using the transfer material according to the present disclosure. It is preferable to include a step (also referred to as a “transfer step”) and a step of patterning the photosensitive layer (also referred to as a “patterning step”).
  • the method for manufacturing a laminate according to the present disclosure preferably includes a step (transfer step) of forming a photosensitive layer on a support using the transfer material according to the present disclosure.
  • a step (transfer step) of forming a photosensitive layer on a support using the transfer material according to the present disclosure it is preferable to laminate the photosensitive layer of the transfer material according to the present disclosure to the support from a side opposite to the side having the temporary support.
  • the transfer material to be used has a protective film
  • the above-mentioned lamination is preferably performed after the protective film is peeled off.
  • the lamination (transfer of the photosensitive layer) can be performed using a known laminator such as a vacuum laminator or an auto cut laminator.
  • the laminating temperature is not particularly limited, but is preferably from 80 ° C to 150 ° C, more preferably from 90 ° C to 150 ° C, and particularly preferably from 100 ° C to 150 ° C.
  • the lamination temperature refers to the rubber roller temperature.
  • the substrate temperature at the time of lamination includes 10 ° C. to 150 ° C., preferably 20 ° C. to 150 ° C., and more preferably 30 ° C. to 150 ° C.
  • the substrate temperature during lamination is preferably from 10 ° C to 80 ° C, more preferably from 20 ° C to 60 ° C, and particularly preferably from 30 ° C to 50 ° C.
  • the linear pressure at the time of lamination is not particularly limited, but is preferably 0.5 N / cm to 20 N / cm, more preferably 1 N / cm to 10 N / cm, and particularly preferably 1 N / cm to 5 N / cm.
  • the transport speed (lamination speed) during lamination is preferably from 0.5 m / min to 5 m / min, more preferably from 1.5 m / min to 3 m / min.
  • the method for manufacturing a laminate according to the present disclosure preferably includes a step of patterning the photosensitive layer (a step of patterning).
  • the patterning step is not particularly limited, and a known patterning method can be used.
  • the step of pattern-exposing the photosensitive layer also referred to as a “pattern exposure step”
  • the pattern-exposing step It is preferable to include a step of developing the photosensitive layer (also referred to as a “development step”).
  • the pattern exposure step is a step of pattern-exposing the photosensitive layer.
  • the pattern exposure refers to an exposure in a mode of exposing in a pattern, that is, an exposure mode in which an exposed portion and a non-exposed portion exist.
  • the photosensitive layer is a negative photosensitive layer
  • the photosensitive layer is a layer containing an ethylenically unsaturated compound and a photopolymerization initiator, among the photosensitive layers
  • the exposed portion is cured, and finally becomes a cured film.
  • the non-exposed portions in the pattern exposure are not cured, and are removed (dissolved) by a developing solution in the next developing step.
  • the non-exposed portion may form an opening of the cured film after the developing step.
  • the pattern exposure may be exposure through a mask or digital exposure using a laser or the like.
  • any light source that can irradiate light for example, 365 nm or 405 nm
  • the light source include various lasers, light emitting diodes (LEDs), ultra-high pressure mercury lamps, high pressure mercury lamps, and metal halide lamps.
  • Exposure is preferably 5mJ / cm 2 ⁇ 2,000mJ / cm 2, more preferably 10mJ / cm 2 ⁇ 1,000mJ / cm 2.
  • the pattern exposure may be performed after peeling the temporary support, or exposed before peeling the temporary support, Thereafter, the temporary support may be peeled off.
  • the development step is a step of developing the photosensitive layer that has been subjected to the pattern exposure (that is, dissolving a non-exposed part in the pattern exposure in a developer).
  • the developer used for the development is not particularly limited, and a known developer such as a developer described in JP-A-5-72724 can be used. It is preferable to use an alkaline aqueous solution as the developer.
  • the pH of the alkaline aqueous solution at 25 ° C. is preferably from 8 to 13, more preferably from 9 to 12, and particularly preferably from 10 to 12.
  • the content of the alkaline compound in the alkaline aqueous solution is preferably from 0.1% by mass to 5% by mass, more preferably from 0.1% by mass to 3% by mass, based on the total amount of the alkaline aqueous solution.
  • the developer may contain an organic solvent miscible with water.
  • the organic solvent include methanol, ethanol, 2-propanol, 1-propanol, butanol, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, benzyl alcohol, acetone, and methyl ethyl ketone. , Cyclohexanone, ⁇ -caprolactone, ⁇ -butyrolactone, dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphoramide, ethyl lactate, methyl lactate, ⁇ -caprolactam, and N-methylpyrrolidone.
  • the concentration of the organic solvent is preferably from 0.1% by mass to 30% by mass.
  • the developer may contain a known surfactant.
  • the concentration of the surfactant is preferably 0.01% by mass to 10% by mass.
  • Examples of the development method include paddle development, shower development, shower and spin development, and dip development.
  • a non-exposed portion of the photosensitive layer may be removed by spraying a developer in a shower shape on the photosensitive layer after pattern exposure. After development, it is preferable to remove development residues by rubbing with a brush or the like while spraying a detergent or the like with a shower.
  • the temperature of the developer is preferably from 20 ° C to 40 ° C.
  • the development step may include a step of performing the development and a step of performing a heat treatment (hereinafter, also referred to as “post-bake”) on the cured film obtained by the development.
  • post-bake a heat treatment
  • the temperature of the post-baking is preferably from 100 ° C to 160 ° C, more preferably from 130 ° C to 160 ° C.
  • the developing step may include a step of performing the above-described development and a step of exposing the cured film (colored layer) obtained by the above-described development (hereinafter, also referred to as “post-exposure”).
  • post-exposure a step of exposing the cured film (colored layer) obtained by the above-described development
  • the development process includes a post-exposure step and a post-bake step, it is preferably performed in the order of post-exposure and post-bake.
  • the method for manufacturing a laminate according to the present disclosure may include other steps other than the above-described steps.
  • a step that may be provided in a normal photolithography step (for example, a cleaning step) can be applied without any particular limitation.
  • CNT carbon nanotubes
  • styrene-acrylic polymer John Krill 683, manufactured by Johnson Polymer Co.
  • the following coating liquid was prepared as a coating liquid for forming a black layer.
  • Black dispersion K1 20 parts by mass Propyl acetate: 7.37 parts by mass Dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.): 5.63 parts by mass Benzyl methacrylate / methacrylic acid random copolymer (molar ratio 70 / 30, weight average molecular weight 5,000) 45 mass% propylene glycol monomethyl ether acetate solution: 18.19 mass parts IRGACURE OXE-02 (manufactured by BASF): 0.55 mass parts Megafax F551 (Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) Co., Ltd.): 0.09 parts by mass
  • a black layer coating solution composed of the black layer coating solution 1 was applied to a 75 ⁇ m-thick polyethylene terephthalate film temporary support (protective film 1) using a slit nozzle, and dried.
  • a black resin layer (photosensitive layer) having a dry film thickness of 8.0 ⁇ m was provided on the temporary support, and finally a protective film 2 (12 ⁇ m thick polypropylene film) was pressed as a protective release layer.
  • a transfer material in which the temporary support, the photosensitive layer, and the protective release layer were integrated was produced, and the sample name was Transfer Material Black 1.
  • Example 1 ⁇ Preparation of transfer material> Using Transfer Material Black 1, a substrate with a black pattern was produced in the following steps. The surface of the black layer exposed by peeling off the protective film 2 is superimposed on a stamper FMES250 / 300 (manufactured by SCIVAX Co., Ltd.) and a laminator LamicII type (manufactured by Hitachi Industries, Ltd.) is used. / Cm, the upper roll 100 ° C, and the lower roll 100 ° C under pressure and heating conditions, and were bonded at a transport speed of 4 m / min to produce a transfer material 1 (transfer material according to the present disclosure).
  • a stamper FMES250 / 300 manufactured by SCIVAX Co., Ltd.
  • LamicII type manufactured by Hitachi Industries, Ltd.
  • the obtained transfer material 1 was cut into a shape of 10 cm ⁇ 10 cm, and a light-shielding pattern (having a diameter of 3 mm) having a hole shape was formed using a proximity type exposure machine (manufactured by Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co., Ltd.) having an ultra-high pressure mercury lamp. And a proximity exposure with an exposure dose of 500 mJ / cm 2 at a mask gap of 100 ⁇ m from the stamper side through an exposure mask having the following formula, and then the stamper was peeled off.
  • a proximity type exposure machine manufactured by Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co., Ltd.
  • the black layer of the laminate from which the stamper was peeled off was developed for 40 seconds using a 1% by weight aqueous solution of sodium carbonate (liquid temperature: 32 ° C.) as a developing solution. After the development, a shower of pure water was sprayed for 120 seconds, the pure water was washed, and air was blown to obtain a black pattern image.
  • a 1% by weight aqueous solution of sodium carbonate liquid temperature: 32 ° C.
  • Examples 2 to 12 Same as Example 1 except that the height of the projections to be formed, the average pitch of the projections, the content of the carbon nanotubes, the average fiber diameter of the carbon nanotubes, and the average thickness of the photosensitive layer were changed as shown in Table 1. Thus, a black pattern image was obtained.
  • Example 13 A black pattern image was obtained in the same manner as in Example 1, except that the carbon nanotubes (single-layer, average fiber diameter: 20 nm) were changed to carbon nanotubes (multilayer, average fiber diameter: 10 nm).
  • the multi-walled carbon nanotube was produced with reference to the method described in paragraphs 0076 to 0078 of WO 16/084697.
  • Example 14 A black pattern image was obtained in the same manner as in Example 1 except that dipentaerythritol hexaacrylate in the black layer coating solution was changed to pentaerythritol tetraacrylate (A-TMMT manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.).
  • Example 15 A black pattern image was obtained in the same manner as in Example 1, except that dipentaerythritol hexaacrylate in the black layer coating solution was changed to trimethylolpropane triacrylate (A-TMPT manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.). .
  • Example 16 A black pattern image was obtained in the same manner as in Example 1, except that the benzyl methacrylate / methacrylic acid random copolymer in the black layer coating solution was changed to the following polymer D as a solid content.
  • the preparation of the dripping liquid (1) 107.1 g of methacrylic acid (trade name: Acryester M, manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), 5.46 g of methyl methacrylate (trade name: MMA, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.), and 231.42 g of cyclohexyl methacrylate (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., trade name: CHMA) was mixed and diluted with 60 g of PGM-Ac to obtain a dropping solution (1).
  • methacrylic acid trade name: Acryester M, manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.
  • MMA manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.
  • CHMA cyclohexyl methacrylate
  • the dropping solution (2) To prepare the dropping solution (2), 9.637 g of dimethyl 2,2′-azobis (2-methylpropionate) (polymerization initiator, product name: V-601, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added to PGM- Ac was dissolved in 136.56 g to obtain a dropping solution (2).
  • the dripping liquid (1) and the dripping liquid (2) were simultaneously dripped into the above-mentioned 2,000 mL flask (specifically, a 2,000 mL flask containing a liquid heated to 90 ° C.) over 3 hours. did.
  • the container of the dropping solution (1) was washed with 12 g of PGM-Ac, and the washing solution was dropped into the 2000 mL flask.
  • the container of the dropping solution (2) was washed with 6 g of PGM-Ac, and the washing solution was dropped into the 2,000 mL flask.
  • the reaction solution in the 2,000 mL flask was kept at 90 ° C. and stirred at a stirring speed of 250 rpm. Further, the mixture was stirred at 90 ° C. for 1 hour as a post-reaction.
  • 2.401 g of V-601 was added as the first addition of the initiator. Further, the container of V-601 was washed with 6 g of PGM-Ac, and the washing solution was introduced into the reaction solution. Thereafter, the mixture was stirred at 90 ° C. for 1 hour.
  • the second additional addition of the initiator 2.401 g of V-601 was added to the reaction solution. Further, the container of V-601 was washed with 6 g of PGM-Ac, and the washing solution was introduced into the reaction solution. Thereafter, the mixture was stirred at 90 ° C. for 1 hour.
  • the third addition of the initiator 2.401 g of V-601 was added to the reaction solution. Further, the container of V-601 was washed with 6 g of PGM-Ac, and the washing solution was introduced into the reaction solution. Thereafter, the mixture was stirred at 90 ° C. for 3 hours.
  • glycidyl methacrylate (trade name: Blenmer G, manufactured by NOF CORPORATION) was dropped into the reaction solution over 1 hour.
  • the container of Blemmer G was washed with 6 g of PGM-Ac, and the washing solution was introduced into the reaction solution. Thereafter, the mixture was stirred at 100 ° C. for 6 hours as an addition reaction.
  • the reaction solution was cooled and filtered through a dust filter (100 mesh) to obtain 1,158 g of a solution of the polymer D (solid content concentration: 36.3% by mass).
  • the weight average molecular weight of the obtained polymer D was 27,000, the number average molecular weight was 15,000, and the acid value was 95 mgKOH / g.
  • Example 17 Except that dipentaerythritol hexaacrylate in the above black layer coating solution was changed to biscoat # 802 (a mixture of tripentaerythritol acrylate, mono and dipentaerythritol acrylate, and polypentaerythritol acrylate, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.) In the same manner as in Example 1, a black pattern image was obtained.
  • Example 18 In Example 1, after the stamper was bonded, the temporary support (protective film 1) was peeled off, and the following optically transparent adhesive sheet (OCA) was bonded. , Peeling and development to obtain a black pattern image.
  • OCA optically transparent adhesive sheet
  • Optical transparent pressure-sensitive adhesive sheet Clear Fit JHA200 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, 200 ⁇ m thick, UV curable
  • Example 1 A black pattern image was obtained in the same manner as in Example 1, except that the carbon nanotubes were changed to carbon black (CB, average particle diameter 20 nm, MA600 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation).
  • Comparative Example 2 A black pattern image was obtained in the same manner as in Comparative Example 1, except that the stamper FMES250 / 300 was not used, and the protective film was exposed without peeling, and the protective film was peeled off and developed.
  • Example 3 A black pattern image was obtained in the same manner as in Example 1, except that the protective film was peeled off and developed without using the stamper FMES250 / 300 and without peeling off the protective film.
  • the values in the column of average fiber diameter of carbon nanotubes of Comparative Examples 1 and 2 in Table 1 are values of the average particle diameter of carbon black. From the results shown in Table 1, the black member formed from the transfer materials of Examples 1 to 18 has lower diffuse reflectance and lower regular reflectance than the black member formed from the transfer material of Comparative Example. It turns out that it is a value.

Abstract

仮支持体と、バインダーポリマー及びエチレン性不飽和化合物よりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物とカーボンナノチューブとを含む感光性層とを有し、上記仮支持体と上記感光性層との界面の少なくとも一部に、凹凸形状を有する転写材料、並びに、上記転写材料を用いた積層体、及び、積層体の製造方法。

Description

転写材料、積層体、及び、積層体の製造方法
　本開示は、転写材料、積層体、及び、積層体の製造方法に関する。
　ＬＥＤディスプレイにあっては、画像表示部の正反射率を低減させることが、コントラストの向上、画像表示品質の向上といった観点から極めて重要である。
　例えば、ＬＥＤディスプレイの光の反射を防止する反射防止部材としては、黒色の反射防止部材が知られている。
　従来の黒色パターン付き基板の形成方法としては、特許文献１に記載のものが挙げられる。
　特許文献１には、下記の工程（１）及び（２）を含み、かつ、上記工程（２）で形成された黒色パターン付積層体を２００℃以上３００℃以下で熱処理したとき、下記式（Ａ）の条件を満たすことを特徴とする黒色パターン付基板の製造方法が記載されている。
（１）基板上に透明樹脂層及び感光性黒色樹脂層をこの順で設置する工程
（２）上記感光性黒色樹脂層を、パターンを有するマスクで露光、現像して黒色パターン付積層体を形成する工程
　式（Ａ）　　Ｒａ－Ｒｂ＜０．５
（式（Ａ）において、Ｒｂは、熱処理前の上記黒色パターン付積層体の黒色パターン領域での波長５５０ｎｍにおける反射率を表し、Ｒａは、熱処理後の上記黒色パターン付積層体の黒色パターン領域での波長５５０ｎｍにおける反射率を表す。）
　また、カーボンナノチューブの製造方法としては、特許文献２に記載のものが挙げられる。
　特許文献２には、有機溶媒に高分子化合物を溶解して、粘度が２０～３００００ｃＰである高分子化合物溶液を調製し、上記高分子化合物溶液にカーボンナノチューブを添加、分散することを特徴とするカーボンナノチューブ分散物の製造方法が記載されている。
　また、従来の表示装置としては、特許文献３に記載されたものが知られている。
　特許文献３には、第１面、及び、上記第１面と対向する第２面を有する第１基板、第１基板と対向して配置され、第１基板の第２面と対向する第１面、及び、上記第１面と対向する第２面を有する第２基板、並びに、第１基板の第２面に、第２基板と離間して設けられた複数の発光部、を備えており、各発光部に対応して、第２基板の第２面には、発光部からの光を透過させる光透過部が設けられた光透過抑制層が形成されており、光透過部には、反射防止層が形成されている表示装置が記載されている。
　　特許文献１：特開２０１５－８７４０９号公報
　　特許文献２：特開２００７－１３８１０９号公報
　　特許文献３：特開２０１４－２０９１９８号公報
　本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、拡散反射率及び正規反射率のいずれも低い値である転写材料を提供することである。
　また、本発明の他の実施形態が解決しようとする課題は、上記転写材料を用いた積層体、及び、積層体の製造方法を提供することである。
　上記課題を解決するための手段には、以下の態様が含まれる。
＜１＞　仮支持体と、バインダーポリマー及びエチレン性不飽和化合物よりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物とカーボンナノチューブとを含む感光性層とを有し、上記仮支持体と上記感光性層との界面の少なくとも一部に、凹凸形状を有する転写材料。
＜２＞　上記凹凸形状における突起の平均高さが、１５０ｎｍ～１，０００ｎｍである＜１＞に記載の転写材料。
＜３＞　上記凹凸形状における突起の平均ピッチが、５０ｎｍ～５００ｎｍである＜１＞又は＜２＞に記載の転写材料。
＜４＞　上記感光性層の平均厚さが、５μｍ以上である＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の転写材料。
＜５＞　上記感光性層における上記カーボンナノチューブの含有量が、上記感光性層の全質量に対し、０．５質量％～１０質量％である＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の転写材料。
＜６＞　上記カーボンナノチューブの平均繊維径が、８ｎｍ～２５ｎｍである＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載の転写材料。
＜７＞　上記感光性層の上記凹凸形状を有する側の正規反射率が、１％以下であり、かつ拡散反射率が、０．５％以下である＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載の転写材料。
＜８＞　上記感光性層の上記凹凸形状を有する側の色味Ｌ値が、２以下である＜１＞～＜７＞のいずれか１つに記載の転写材料。
＜９＞　上記感光性層が、エチレン性不飽和化合物を含み、光重合開始剤を更に含む＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の転写材料。
＜１０＞　光の迷光除去用転写材料である＜１＞～＜９＞のいずれか１つに記載の転写材料。
＜１１＞　支持体上に、＜１＞～＜１０＞のいずれか１つに記載の転写材料の感光性層を転写してなる層を有する積層体。
＜１２＞　支持体上に、＜１＞～＜１０＞のいずれか１つに記載の転写材料の感光性層を転写及び硬化してなる着色層を有する積層体。
＜１３＞　＜１＞～＜１０＞のいずれか１つに記載の転写材料を用いて、支持体上に感光性層を形成する工程、及び、上記感光性層をパターニングする工程、を含む積層体の製造方法。
　本発明の一実施形態によれば、拡散反射率及び正規反射率のいずれも低い値である転写材料を提供することができる。
　また、本発明の他の実施形態によれば、上記転写材料を用いた積層体、及び、積層体の製造方法を提供することができる。
　以下において、本開示の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本開示の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本開示はそのような実施態様に限定されるものではない。
　なお、本開示において、数値範囲を示す「～」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
　本明細書中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本明細書中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
　また、本開示における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。
　本明細書において「全固形分」とは、組成物の全組成から溶剤を除いた成分の総質量をいう。また、「固形分」とは、上述のように、溶剤を除いた成分であり、例えば、２５℃において固体であっても、液体であってもよい。
　また、本開示において、「質量％」と「重量％」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
　更に、本開示において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
　本開示において、組成物中の各成分の量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する上記複数の物質の合計量を意味する。
　本開示において、「工程」との語は、独立した工程だけでなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。
　本開示において、「（メタ）アクリル酸」は、アクリル酸及びメタクリル酸の両方を包含する概念であり、「（メタ）アクリレート」は、アクリレート及びメタクリレートの両方を包含する概念であり、「（メタ）アクリロイル基」は、アクリロイル基及びメタクリロイル基の両方を包含する概念である。
　また、本開示における重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、特に断りのない限り、ＴＳＫｇｅｌ　ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ　Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ　Ｇ２０００ＨｘＬ（何れも東ソー（株）製の商品名）のカラムを使用したゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）分析装置により、溶媒ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、示差屈折計により検出し、標準物質としてポリスチレンを用いて換算した分子量である。
　本開示において、樹脂中の構成単位の割合は、特に断りが無い限り、モル割合を表す。
　本開示において、分子量分布がある場合の分子量は、特に断りが無い限り、重量平均分子量（Ｍｗ）を表す。
　以下、本開示を詳細に説明する。
（転写材料）
　本開示に係る転写材料は、仮支持体と、バインダーポリマー及びエチレン性不飽和化合物よりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物とカーボンナノチューブとを含む感光性層とを有し、上記仮支持体と上記感光性層との界面の少なくとも一部に、凹凸形状を有する。
　また、本開示に係る転写材料は、光の迷光除去用転写材料であることが好ましく、表示装置における光の迷光除去用転写材料であることがより好ましく、ＬＥＤディスプレイにおける光の迷光除去用転写材料であることが更に好ましく、マイクロＬＥＤディスプレイにおける光の迷光除去用転写材料であることが特に好ましい。
　上記マイクロＬＥＤディスプレイにおけるＬＥＤの大きさ（最大径）は、１００μｍ未満であることが好ましい。
　更に、本開示に係る転写材料は、反射防止層形成用転写材料として好適に用いることができる。
　従来の黒色層には、例えば、カーボンブラックを含有する黒色層を有するものが知られているが、上記黒色層を有するフロント部材では、拡散反射率（ＳＣＥ反射率）及び正規反射率（ＳＣＩ反射率）のいずれもが高い値を示し、例えば、表示装置に用いた場合、表示内容の視認性に劣るものであった。
　本発明者が鋭意検討した結果、上記構成をとることにより、拡散反射率及び正規反射率のいずれも低い値である転写材料を提供することができることを見出した。
　これによる優れた効果の作用機構は明確ではないが、以下のように推定している。
　カーボンナノチューブを含み、かつ表面に凹凸形状を有する感光性層又は上記感光性層を硬化してなる着色層を有することにより、カーボンナノチューブにより入射光が拡散反射した光を吸収し拡散反射率を抑制するとともに、カーボンナノチューブを含みかつ表面の凹凸形状を有することにより入射光の正反射を抑制するとともに吸収し正規反射率を抑制することができる。
　本開示に係る転写材料は、正反射及び拡散反射の両方を抑制することができるため、反射防止性に優れる層を形成することができ、例えば、表示装置における反射防止部材に用いた場合、映り込みや迷光が少ない引き締まった黒色画像を表示することができ、表示内容の視認性に優れる。
　以下、本開示に係る転写材料について、詳細に説明する。
＜凹凸形状＞
　本開示に係る転写材料は、上記仮支持体と上記感光性層との界面の少なくとも一部に、凹凸形状を有する。
　上記凹凸形状は、上記仮支持体と上記感光性層との界面の一部のみに有していても、界面全面に有していてもよい。
　上記凹凸形状における凹凸自体の形状は、特に制限はなく、所望の形状であればよく、例えば、角柱形状、円柱形状、角錐形状、円錐形状、角錐台形状、円錐台形状、不定形状等が挙げられる。
　また、上記凹凸形状における凹凸はそれぞれ、同じ形状であっても、異なる形状（相似形状、ランダム形状等）であってもよい。
　例えば、後述するモスアイ構造を有するスタンパを用いて上記凹凸形状を形成した場合は、凹凸自体の形状がそろった凹凸形状を容易に形成することができ、また、後述するイオンビームを使用して上記凹凸形状を形成した場合は、ランダムな形状の凹凸を有する凹凸形状となる。
　上記凹凸形状における突起の平均高さは、正規反射率の抑制の観点から、１０ｎｍ～１，５００ｎｍであることが好ましく、５０ｎｍ～１，２００ｎｍであることがより好ましく、１５０ｎｍ～１，０００ｎｍであることが更に好ましく、１５０ｎｍ～５００ｎｍであることが特に好ましい。
　また、上記凹凸形状における突起の平均ピッチは、正規反射率の抑制の観点から、１０ｎｍ～１，５００ｎｍであることが好ましく、５０ｎｍ～５００ｎｍであることがより好ましく、７５ｎｍ～４００ｎｍであることが更に好ましく、１００ｎｍ～３００ｎｍであることが特に好ましい。
　なお、上記凹凸形状における突起の平均ピッチとは、突起間の平均距離であり、より詳しくは突起の中央部の間の平面上の平均距離（厚さ方向の距離は含めない）である。
　上記凹凸形状における突起の平均高さ、及び、平均ピッチは、以下の方法により測定するものとする。
　上記感光性層を厚さ方向に垂直な方向に切断し、断面を走査型電子顕微鏡により観察し、突起の高さ、及び、突起のピッチを測定する。これを繰り返すことにより、少なくとも１００個の突起の高さ、及び、少なくとも１００箇所の突起のピッチを測定し、各平均値をとり、上記凹凸形状における突起の平均高さ、及び、平均ピッチを算出する。
＜感光性層＞
　本開示に係る転写材料は、バインダーポリマー及びエチレン性不飽和化合物よりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物とカーボンナノチューブとを含む感光性層を有し、上記仮支持体と上記感光性層との界面の少なくとも一部に、凹凸形状を有する。
　上記感光性層は、エチレン性不飽和化合物を含む層であることが好ましく、エチレン性不飽和化合物及び光重合開始剤を含む層であることがより好ましい。
　また、上記感光性層は、ネガ型感光性層であることが好ましい。上記感光性層を有することにより、転写後の上記感光性層において、任意のパターン形状を容易に形成することができる。
＜＜平均厚さ＞＞
　上記感光性層の平均厚さは、正規反射率及び拡散反射率の抑制、並びに、形成する部材の省スペース性の観点から、１μｍ以上であることが好ましく、５μｍ以上であることがより好ましく、５μｍ以上１００μｍ以下であることが更に好ましく、７μｍ以上５０μｍ以下であることが特に好ましい。
　上記感光性層の平均厚さは、上記感光性層を厚さ方向に垂直な方向に切断した断面を光学顕微鏡又は走査型電子顕微鏡により、１０箇所以上において、上記感光性層の厚さを測定し、平均値をとり、上記感光性層の平均厚さを算出する。
　また、上記凹凸形状における突起の平均高さ、及び、平均ピッチの測定とともに、上記感光性層を厚さ方向に垂直な方向に切断した断面を走査型電子顕微鏡により観察し、上記感光性層の厚さを測定することもできる。
＜＜カーボンナノチューブ＞＞
　上記感光性層は、カーボンナノチューブを含有する。
　本開示に用いられるカーボンナノチューブとしては、特に制限はなく、公知のものを用いることができる。
　カーボンナノチューブ（Carbon Nano-Tube、ＣＮＴ）は、グラフェン（６員環ネットワーク）シートを筒型に巻いた形状しており、その直径は、例えば、数ｎｍ～１００ｎｍであることが好ましく、長さは、例えば、数ｎｍ～数μｍであることが好ましい。
　また、カーボンナノチューブは、グラフェン構造である６員環構造だけでなく、５員環構造又は７員環構造を一部に有していてもよい。
　本開示に用いられるカーボンナノチューブは、少なくとも一部がチューブ状となっているものであればよく、チューブが閉塞したもの（カーボンナノホーン）等も含まれるものとする。
　カーボンナノチューブは、非常に規則正しく、アスペクト比が高いとともに、機械的強度及び熱伝導率が高いため、本開示における感光性層に好ましく用いられる。
　現在、カーボンナノチューブは、グラム単位の量で簡単に合成される。
　カーボンナノチューブは、基本的に、チューブ状に巻回される単一のグラフェン層であり、グラフェンシートが同心の幾つかの層を形成するように巻き付けられる多層ナノチューブ（Multi wall Carbon Nano-Tube；ＭＷＣＮＴ）、及び、単層ナノチューブ（Single wall carbon Nano-Tube；ＳＷＣＮＴ）が一例として挙げられる。
　ＳＷＣＮＴは、六角形状に結合されたグラフェンシートの単層から成る（グラファイトは、グラフェンシートをパンケーキ状に積み重ねることによって形成される）。
　カーボンナノチューブは、表面積が大きく、例えば、その大きさが、閉口状態で１，０００ｍ２／ｇに達し、開口状態で２，０００ｍ２／ｇに達するものが多い。
　カーボンナノチューブのチューブ形状及び上記表面積の大きさによって、上記感光性層における光の吸収回数が増加し、正規反射率及び拡散反射率、特に拡散反射率を効果的に抑制することができるものと本発明者は推定している。
　更に、カーボンナノチューブにおいて、グラフェンの六角形の向きはチューブの軸に対し様々な方向をとることができ、このとき発生したらせん構造をカイラルといい、グラフェン上のある６員環の基準点からの二次元格子ベクトルのことをカイラルベクトル（Ｃｈ）と呼ぶ。カイラルベクトルは二次元六角格子の２つの基本並進ベクトルａ１及びａ２を用いて、以下のように表される。
　　　Ｃｈ＝ｎａ１＋ｍａ２
　この二つの整数の組（ｎ，ｍ）はカイラル指数（chiral index）と呼ばれ、ナノチューブの構造を表すのに使われる。カーボンナノチューブにおけるチューブの直径や螺旋角はカイラル指数によって決まる。
　また、カーボンナノチューブの立体構造は、カイラル指数に従い、ｎ＝ｍの場合、アームチェア型と称されるチューブ状の炭素原子の配列構造をとり、金属性を示し、ｍ＝０の場合、ジグザグ型と称されるチューブ状の炭素原子の配列構造をとり、上記以外の場合、カイラル型と称される螺旋構造を持つ一般的なチューブ構造をとる。また、カーボンナノチューブにおいて、（ｎ－ｍ）の値が３の倍数では金属性（金属型カーボンナノチューブ）を、３の倍数以外のときは半導体の特性（半導体型カーボンナノチューブ）を示す。
　本開示においては、いずれのカイラル指数の構造を有するカーボンナノチューブであっても、好適に用いることができる。
　本開示に用いられるカーボンナノチューブは、単層のカーボンナノチューブであっても、多層のカーボンナノチューブであってもよいが、正規反射率及び拡散反射率の抑制の観点から、単層のカーボンナノチューブであることが好ましい。
　また、本開示に用いられるカーボンナノチューブは、半導体型カーボンナノチューブであっても、金属型カーボンナノチューブであってもよいが、後述する分散液における分散安定性、及び、上記感光性層における分散性の観点から、半導体型カーボンナノチューブであることが好ましい。
　上記カーボンナノチューブの平均繊維径は、正規反射率及び拡散反射率の抑制の観点から、１ｎｍ～１００ｎｍであることが好ましく、５ｎｍ～５０ｎｍであることがより好ましく、８ｎｍ～２５ｎｍであることが特に好ましい。
　上記カーボンナノチューブの平均繊維径は、以下の方法により測定するものとする。
　走査透過電子顕微鏡（日本電子（株）製）によって、感光性層若しくは上記感光性層を硬化してなる着色層の断面又は単離したカーボンナノチューブを観測する。観測写真において、任意の１００個のカーボンナノチューブを選び、それぞれの外径を計測し、その数平均値を求めることによりカーボンナノチューブの平均繊維径（ｎｍ）を算出する。
　上記感光性層は、カーボンナノチューブを１種単独で含んでいても、２種以上を含んでいてもよい。
　上記感光性層における上記カーボンナノチューブの含有量は、正規反射率及び拡散反射率の抑制の観点から、上記感光性層の全質量に対し、０．１質量％～２０質量％であることが好ましく、０．５質量％～１０質量％であることがより好ましく、１質量％～５質量％であることが更に好ましく、１．５質量％～４質量％であることが特に好ましい。
＜＜分散剤＞＞
　上記感光性層は、正規反射率及び拡散反射率の抑制の観点から、分散剤を含むことが好ましい。
　分散剤としては、高分子分散剤が好ましく挙げられる。また、上記高分子分散剤は、後述するバインダーポリマーとしても機能するものであってもよい。
　上記高分子分散剤としては、例えば、アクリル系ポリマー、スチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、アミド系ポリマー、アミドエポキシ系ポリマー、アルキド系ポリマー、フェノール系ポリマー、セルロース系ポリマー等が挙げられる。
　また、上記高分子分散剤は、アルカリ可溶性樹脂であることが好ましく、カルボキシ基を有するポリマーであることがより好ましい。
　これらの中でも、上記高分子分散剤としては、分散性、並びに、正規反射率及び拡散反射率の抑制の観点から、アクリル系ポリマー、エポキシ系ポリマー、セルロース系ポリマーが好ましく、アクリル系ポリマーがより好ましく、（メタ）アクリル酸共重合体が特に好ましい。
　上記アクリル系ポリマーは、例えば、（メタ）アクリル化合物を重合させることにより製造することができる。
　上記重合性単量体としては、例えば、スチレン、ビニルトルエン、α－メチルスチレン、ｐ－メチルスチレン、ｐ－エチルスチレン等の重合可能なスチレン誘導体、アクリルアミド、アクリロニトリル、ビニル－ｎ－ブチルエーテル等のビニルアルコールのエステル類、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリルエステル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸ジエチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、２，２，２－トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３－テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、α－ブロモ（メタ）アクリル酸、α－クロロ（メタ）アクリル酸、β－フリル（メタ）アクリル酸、β－スチリル（メタ）アクリル酸、マレイン酸、マレイン酸無水物、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、マレイン酸モノイソプロピル等のマレイン酸モノエステル、フマル酸、ケイ皮酸、α－シアノケイ皮酸、イタコン酸、クロトン酸、プロピオール酸などが挙げられる。
　なお、上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸ペンチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸ヘプチル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸２－エチルヘキシルやこれらの構造異性体等が挙げられる。
　上記高分子分散剤の酸価は、３０ｍｇＫＯＨ／ｇ～２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましく、４５ｍｇＫＯＨ／ｇ～１５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがより好ましい。
　また、上記高分子分散剤の重量平均分子量は、１，０００～１００万であることが好ましく、４，０００～２０万であることがより好ましい。
　上記感光性層は、上記分散剤を、１種単独で含んでいても、２種以上を含んでいてもよい。
　上記感光性層における分散剤の含有量は、特に制限はないが、上記感光性層の全質量に対し、０．０５質量％～１５質量％であることが好ましい。
　上記感光性層を形成する際に、カーボンナノチューブを分散しカーボンナノチューブ分散物を調製し、得られたカーボンナノチューブ分散物を用いて後述する感光性組成物を調製し、上記感光性層を形成することが好ましい。
　上記カーボンナノチューブ分散物は、カーボンナノチューブ及び分散剤を含むことが好ましく、カーボンナノチューブ、分散剤及び有機溶剤を含むことがより好ましい。
　得られた分散物を塗布等するため粘度を下げる必要がある場合には有機溶剤で希釈することもでき、更に粘度を上げるためポリマーを追加することによって、使用目的に応じた適度な粘度に調整することができる。
　上記分散物の調製に用いることができる。有機溶剤としては、特に限定はなく、メタノール、エタノール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、トルエン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、プロピレングリコールモノメチルエーテル等やこれらの混合溶剤を好ましく用いることができる。
　有機溶剤は、１種単独で使用しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
　また、上記カーボンナノチューブ分散物におけるカーボンナノチューブの含有量は、特に制限はなく、分散状態や所望の濃度に応じて、適宜調整すればよい。
される。
　カーボンナノチューブの添加に際しては、凝集物をほぐしつつ再度の凝集を防止しながら分散することによって良好な分散物が得られ、そのためには分散時に十分なせん断力が与えられることが好ましい。
　カーボンナノチューブの分散は、カーボンナノチューブの充填レベルを設定しながら分散を行ってもよいし、また凝集を判断するために光学顕微鏡によって溶液を監視しながら分散を行ってもよい。
　カーボンナノチューブの分散に用いることのできる装置としては、超音波混合技術又は高剪断混合技術を用いたものが特に好ましく、撹拌器、ホモジナイザー、コロイドミル、フロージェットミキサー、ディゾルバー、マントン乳化装置、超音波装置等の分散手段によって乳化分散して分散物を得ることができる。また、公知の粉砕化手段、例えば、ボールミリング（ボールミル、振動ボールミル、遊星ボールミル等）、サンドミリング、コロイドミリング、ジェットミリング、ローラーミリング等によって処理することによっても分散することができる。また、顔料分散に用いられる、縦型あるいは横型のアジテーターミル、アトライター、コロイドミル、ボールミル、３本ロールミル、パールミル、スーパーミル、インペラー、デスパーサー、ＫＤミル、ダイナトロン、加圧ニーダー等の分散機を用いることもできる。
＜＜バインダーポリマー＞＞
　上記感光性層は、感光性層の強度、凹凸形状の維持性、及び、パターン形成性の観点から、バインダーポリマーを含むことが好ましい。
　中でも、上記感光性層は、カーボンナノチューブ、バインダーポリマー、エチレン性不飽和化合物、及び、光重合開始剤を含むことが特に好ましい。
　上記バインダーポリマーは、アルカリ可溶性樹脂であることが好ましい。
　上記バインダーポリマーの酸価は、特に制限はないが、現像性の観点から、酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のバインダーポリマーであることが好ましく、酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のアルカリ可溶性樹脂であることがより好ましく、酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシル基含有アクリル樹脂であることが特に好ましい。
　バインダーポリマーが、酸価を有することで、加熱により酸と反応可能な化合物と熱架橋し、３次元架橋密度を高めることができると推定される。また、カルボキシ基含有アクリル樹脂のカルボキシ基が無水化され、疎水化することにより湿熱耐性の改善に寄与すると推定される。
　酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有アクリル樹脂（以下、特定重合体Ａと称することがある。）としては、上記酸価の条件を満たす限りにおいて特に制限はなく、公知の樹脂から適宜選択して用いることができる。
　例えば、特開２０１１－９５７１６号公報の段落００２５に記載のポリマーのうちの酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有アクリル樹脂であるバインダーポリマー、特開２０１０－２３７５８９号公報の段落００３３～００５２に記載のポリマーのうちの酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有アクリル樹脂等が、本実施形態における特定重合体Ａとして好ましく用いることができる。
　ここで、（メタ）アクリル樹脂は、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位及び（メタ）アクリル酸エステルに由来する構成単位の少なくとも一方を含む樹脂を指す。
　（メタ）アクリル樹脂中における（メタ）アクリル酸に由来する構成単位及び（メタ）アクリル酸エステルに由来する構成単位の合計割合は、３０モル％以上が好ましく、５０モル％以上がより好ましい。
　特定重合体Ａにおける、カルボキシ基を有するモノマーの共重合比の好ましい範囲は、特定重合体Ａ１００質量％に対して、５質量％～５０質量％であり、より好ましくは５質量％～４０質量％、更に好ましくは２０質量％～３０質量％の範囲内である。
　特定重合体Ａは、反応性基を有していてもよく、反応性基を特定重合体Ａに導入する手段としては、水酸基、カルボキシ基、第一級アミノ基、第二級アミノ基、アセトアセチル基、スルホン酸などに、エポキシ化合物、ブロックイソシアネート、イソシアネート、ビニルスルホン化合物、アルデヒド化合物、メチロール化合物、カルボン酸無水物などを反応させる方法が挙げられる。
　これらの中でも、反応性基としては、ラジカル重合性基であることが好ましく、エチレン性不飽和基であることがより好ましく、（メタ）アクリロキシ基であることが特に好ましい。
　また、バインダーポリマー、特に特定重合体Ａは、硬化後の透湿度及び強度の観点から、芳香環を有する構成単位を有することが好ましい。
　芳香環を有する構成単位を形成するモノマーとしては、スチレン、ｔｅｒｔ－ブトキシスチレン、メチルスチレン、α－メチルスチレン、ベンジル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
　芳香環を有する構成単位としては、後述する式Ｐ－２で表される構成単位を少なくとも１種含有することが好ましい。また、芳香環を有する構成単位としては、スチレン化合由来の構成単位であることが好ましい。
　バインダーポリマーが芳香環を有する構成単位を含有する場合、芳香環を有する構成単位の含有量は、バインダーポリマーの全質量に対し、５質量％～９０質量％であることが好ましく、１０質量％～７０質量％であることがより好ましく、２０質量％～５０質量％であることが更に好ましい。
　また、バインダーポリマー、特に特定重合体Ａは、タック性、及び、硬化後の強度の観点から、脂肪族環式骨格を有する構成単位を有することが好ましい。
　脂肪族環式骨格を有する構成単位を形成するモノマーとして、具体的には、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
　上記脂肪族環式骨格を有する構成単位が有する脂肪族環としては、ジシクロペンタン環、シクロヘキサン環、イソボロン環、トリシクロデカン環等が好ましく挙げられる。中でも、トリシクロデカン環が特に好ましく挙げられる。
　バインダーポリマーが脂肪族環式骨格を有する構成単位を含有する場合、脂肪族環式骨格を有する構成単位の含有量は、バインダーポリマーの全質量に対し、５質量％～９０質量％であることが好ましく、１０質量％～８０質量％であることがより好ましい。
　また、バインダーポリマー、特に特定重合体Ａは、タック性、及び、硬化後の強度の観点から、エチレン性不飽和基を有する構成単位を有することが好ましく、側鎖にエチレン性不飽和基を有する構成単位を有することがより好ましい。
　なお、本開示において、「主鎖」とは樹脂を構成する高分子化合物の分子中で相対的に最も長い結合鎖を表し、「側鎖」とは主鎖から枝分かれしている原子団を表す。
　エチレン性不飽和基としては、（メタ）アクリル基が好ましく、（メタ）アクリロキシ基がより好ましい。
　バインダーポリマーがエチレン性不飽和基を有する構成単位を含有する場合、エチレン性不飽和基を有する構成単位の含有量は、バインダーポリマーの全質量に対し、５質量％～７０質量％であることが好ましく、１０質量％～５０質量％であることがより好ましく、２０質量％～４０質量％であることが更に好ましい。
　特定重合体Ａとしては、以下に示す化合物Ａが好ましい。なお、以下に示す各構成単位の含有比率は目的に応じて適宜変更することができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
　本開示に用いられるバインダーポリマーの酸価は、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることが好ましく、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ～２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることがより好ましく、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ～１５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが更に好ましく、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ～１１０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが特に好ましい。
　本明細書において、酸価は、ＪＩＳ　Ｋ００７０（１９９２年）に記載の方法に従って、測定された値を意味する。
　上記バインダーポリマーが、酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のバインダーポリマーを含むことで、既述の利点に加え、後述する第二の樹脂層が酸基を有するアクリル樹脂を含有することにより、感光性層と第二の樹脂層との層間密着性を高めることができる。
　特定重合体Ａの重量平均分子量は、１万以上が好ましく、２万～１０万がより好ましい。
　また、上記バインダーポリマーは、上記特定ポリマー以外にも、任意の膜形成樹脂を目的に応じて適宜選択して用いることができる。転写フィルムを静電容量型入力装置の電極保護膜として用いる観点から、表面硬度、耐熱性が良好な膜が好ましく、アルカリ可溶性樹脂がより好ましく、アルカリ可溶性樹脂の中でも、公知の感光性シロキサン樹脂材料などを好ましく挙げることができる。
　本開示に用いられるバインダーポリマーとしては、カルボン酸無水物構造を有する構成単位を含む重合体（以下、特定重合体Ｂとも称する。）を含むことが好ましい。特定重合体Ｂを含むことにより、現像性、及び、硬化後の強度により優れる。
　カルボン酸無水物構造は、鎖状カルボン酸無水物構造及び環状カルボン酸無水物構造のいずれであってもよいが、環状カルボン酸無水物構造であることが好ましい。
　環状カルボン酸無水物構造の環としては、５～７員環が好ましく、５員環又は６員環がより好ましく、５員環が更に好ましい。
　また、環状カルボン酸無水物構造は、他の環構造と縮環又は結合して多環構造を形成していてもよいが、多環構造を形成していないことが好ましい。
　環状カルボン酸無水物構造に他の環構造が縮環又は結合して多環構造を形成している場合、多環構造としては、ビシクロ構造又はスピロ構造が好ましい。
　多環構造において、環状カルボン酸無水物構造に対し縮環又は結合している他の環構造の数としては、１～５が好ましく、１～３がより好ましい。
　他の環構造としては、炭素数３～２０の環状の炭化水素基、炭素数３～２０のヘテロ環基等が挙げられる。
　ヘテロ環基としては、特に限定されないが、脂肪族ヘテロ環基及び芳香族ヘテロ環基が挙げられる。
　また、ヘテロ環基としては、５員環又は６員環が好ましく、５員環が特に好ましい。
　また、ヘテロ環基としては、酸素原子を少なくとも一つ含有するヘテロ環基（例えば、オキソラン環、オキサン環、ジオキサン環等）が好ましい。
　カルボン酸無水物構造を有する構成単位は、下記式Ｐ－１で表される化合物から水素原子を２つ除いた２価の基を主鎖中に含む構成単位であるか、又は、下記式Ｐ－１で表される化合物から水素原子を１つ除いた１価の基が主鎖に対して直接又は２価の連結基を介して結合している構成単位であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
　式Ｐ－１中、ＲＡ１ａは置換基を表し、ｎ１ａ個のＲＡ１ａは、同一でも異なっていてもよい。
　Ｚ１ａは、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－を含む環を形成する２価の基を表す。ｎ１ａは０以上の整数を表す。
　ＲＡ１ａで表される置換基としては、上述したカルボン酸無水物構造が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられ、好ましい範囲も同様である。
　Ｚ１ａとしては、炭素数２～４のアルキレン基が好ましく、炭素数２又は３のアルキレン基がより好ましく、炭素数２のアルキレン基が特に好ましい。
　式Ｐ－１で表される部分構造は、他の環構造と縮環又は結合して多環構造を形成していてもよいが、多環構造を形成していないことが好ましい。
　ここでいう他の環構造としては、上述した、カルボン酸無水物構造と縮環又は結合してもよい他の環構造と同様のものが挙げられ、好ましい範囲も同様である。
　ｎ１ａは、０以上の整数を表す。
　Ｚ１ａが炭素数２～４のアルキレン基を表す場合、ｎ１ａは０～４の整数が好ましく、０～２の整数がより好ましく、０が更に好ましい。
　ｎ１ａが２以上の整数を表す場合、複数存在するＲＡ１ａは、同一でも異なっていてもよい。また、複数存在するＲＡ１ａは、互いに結合して環を形成してもよいが、互いに結合して環を形成していないことが好ましい。
　カルボン酸無水物構造を有する構成単位は、不飽和カルボン酸無水物に由来する構成単位であることが好ましく、不飽和環式カルボン酸無水物に由来する構成単位であることがより好ましく、不飽和脂肪族環式カルボン酸無水物に由来する構成単位であることが更に好ましく、無水マレイン酸又は無水イタコン酸に由来する構成単位であることが更に好ましく、無水マレイン酸に由来する構成単位であることが特に好ましい。
　以下、カルボン酸無水物構造を有する構成単位の具体例を挙げるが、カルボン酸無水物構造を有する構成単位はこれらの具体例に限定されるものではない。
　下記の構成単位中、Ｒｘは、水素原子、メチル基、ＣＨ２ＯＨ基、又はＣＦ３基を表し、Ｍｅは、メチル基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
　カルボン酸無水物構造を有する構成単位としては、上記式ａ２－１～式ａ２－２１のいずれかで表される構成単位のうちの少なくとも１種であることが好ましく、上記式ａ２－１～式ａ２－２１のいずれかで表される構成単位のうちの１種であることがより好ましい。
　カルボン酸無水物構造を有する構成単位は、現像性、及び、得られる硬化膜の透湿度の観点から、式ａ２－１で表される構成単位及び式ａ２－２で表される構成単位の少なくとも一方を含むことが好ましく、式ａ２－１で表される構成単位を含むことがより好ましい。
　特定重合体Ｂにおけるカルボン酸無水物構造を有する構成単位の含有量（２種以上である場合には総含有量。以下同じ。）は、特定重合体Ｂの全量に対し、０モル％～６０モル％であることが好ましく、５モル％～４０モル％であることがより好ましく、１０モル％～３５モル％であることが更に好ましい。
　なお、本開示において、「構成単位」の含有量をモル比で規定する場合、当該「構成単位」は「モノマー単位」と同義であるものとする。また、本開示において上記「モノマー単位」は、高分子反応等により重合後に修飾されていてもよい。以下においても同様である。
　特定重合体Ｂは、下記式Ｐ－２で表される構成単位を少なくとも１種含有することが好ましい。これにより、得られる硬化膜の透湿度がより低くなり、また、強度がより向上する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
　式Ｐ－２中、ＲＰ１は、水酸基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、カルボキシ基、又はハロゲン原子を表し、ＲＰ２は、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、ｎＰは０～５の整数を表す。ｎＰが２以上の整数である場合、２つ以上存在するＲＰ１は、同一であっても異なっていてもよい。
　ＲＰ１としては、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数６～１２のアリール基、炭素数１～１０のアルコキシ基、カルボキシ基、Ｆ原子、Ｃｌ原子、Ｂｒ原子、又はＩ原子であることが好ましく、炭素数１～４のアルキル基、フェニル基、炭素数１～４のアルコキシ基、Ｃｌ原子、又はＢｒ原子であることがより好ましい。
　ＲＰ２としては、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基、又は炭素原子６～１２のアリール基であることが好ましく、水素原子又は炭素数１～４のアルキル基であることがより好ましく、水素原子、メチル基、又はエチル基であることが更に好ましく、水素原子であることが特に好ましい。
　ｎＰは、０～３の整数であることが好ましく、０又は１であることがより好ましく、０であることが更に好ましい。
　式Ｐ－２で表される構成単位としては、スチレン化合物に由来する構成単位であることが好ましい。
　スチレン化合物としては、スチレン、ｐ－メチルスチレン、α－メチルスチレン、α，ｐ－ジメチルスチレン、ｐ－エチルスチレン、ｐ－ｔ－ブチルスチレン、１，１－ジフェニルエチレン等が挙げられ、スチレン又はα－メチルスチレンが好ましく、スチレンが特に好ましい。
　式Ｐ－２で表される構成単位を形成するためのスチレン化合物は、１種のみであっても２種以上であってもよい。
　特定重合体Ｂが式Ｐ－２で表される構成単位を含有する場合、特定重合体Ｂにおける式Ｐ－２で表される構成単位の含有量（２種以上である場合には総含有量。以下同じ。）は、特定重合体Ｂの全量に対し、５モル％～９０モル％であることが好ましく、３０モル％～９０モル％であることがより好ましく、４０モル％～９０モル％であることが更に好ましい。
　特定重合体Ｂは、カルボン酸無水物構造を有する構成単位及び式Ｐ－２で表される構成単位以外のその他の構成単位を少なくとも１種含んでいてもよい。
　その他の構成単位は、酸基を含有しないことが好ましい。
　その他の構成単位としては特に限定されないが、単官能エチレン性不飽和化合物に由来する構成単位が挙げられる。
　上記単官能エチレン性不飽和化合物としては、公知の化合物を特に限定なく用いることができ、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、カルビトール（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸誘導体；Ｎ－ビニルピロリドン、Ｎ－ビニルカプロラクタム等のＮ－ビニル化合物；アリルグリシジルエーテル等のアリル化合物の誘導体；等が挙げられる。
　特定重合体Ｂにおけるその他の構成単位の含有量（２種以上である場合には総含有量）は、特定重合体Ｂの全量に対し、１０質量％～１００質量％であることが好ましく、５０質量％～１００質量％であることがより好ましい。
　バインダーポリマーの重量平均分子量は、特に制限はないが、３，０００を超えることが好ましく、３，０００を超え６０，０００以下であることがより好ましく、５，０００～５０，０００であることが更に好ましい。
　バインダーポリマーは、１種単独で使用しても、２種以上を含有してもよい。
　バインダーポリマーの含有量は、上記感光性層を硬化してなる着色層の強度、及び、転写フィルムにおけるハンドリング性の観点から、上記感光性層の全質量に対し、１０質量％～９０質量％であることが好ましく、２０質量％～８０質量％であることがより好ましく、３０質量％～７０質量％であることが更に好ましい。
＜＜エチレン性不飽和化合物＞＞
　上記感光性層は、パターン形成性の観点から、エチレン性不飽和化合物を含有することが好ましい。
　エチレン性不飽和化合物は、感光性（すなわち、光硬化性）、及び、上記感光性層を硬化してなる着色層の強度に寄与する成分である。
　また、エチレン性不飽和化合物は、１つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物である。
　上記感光性層は、エチレン性不飽和化合物として、２官能以上のエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましい。
　ここで、２官能以上のエチレン性不飽和化合物とは、一分子中にエチレン性不飽和基を２つ以上有する化合物を意味する。
　エチレン性不飽和基としては、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。
　エチレン性不飽和化合物としては、（メタ）アクリレート化合物が好ましい。
　上記感光性層は、硬化後の強度の観点から、３官能以上のエチレン性不飽和化合物（好ましくは、３官能以上の（メタ）アクリレート化合物）を含有することが好ましく、２官能のエチレン性不飽和化合物（好ましくは、２官能の（メタ）アクリレート化合物）と、３官能以上のエチレン性不飽和化合物（好ましくは、３官能以上の（メタ）アクリレート化合物）とを含有することが特に好ましい。
　２官能のエチレン性不飽和化合物としては、特に制限はなく、公知の化合物の中から適宜選択できる。
　２官能のエチレン性不飽和化合物としては、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
　２官能のエチレン性不飽和化合物としては、より具体的には、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（Ａ－ＤＣＰ、新中村化学工業（株）製）、トリシクロデカンジメナノールジメタクリレート（ＤＣＰ、新中村化学工業（株）製）、１，９－ノナンジオールジアクリレート（Ａ－ＮＯＤ－Ｎ、新中村化学工業（株）製）、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（Ａ－ＨＤ－Ｎ、新中村化学工業（株）製）等が挙げられる。
　３官能以上のエチレン性不飽和化合物としては、特に制限はなく、公知の化合物の中から適宜選択できる。
　３官能以上のエチレン性不飽和化合物としては、例えば、ジペンタエリスリトール（トリ／テトラ／ペンタ／ヘキサ）（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール（トリ／テトラ）（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート骨格の（メタ）アクリレート化合物、等が挙げられる。
　ここで、「（トリ／テトラ／ペンタ／ヘキサ）（メタ）アクリレート」は、トリ（メタ）アクリレート、テトラ（メタ）アクリレート、ペンタ（メタ）アクリレート、及びヘキサ（メタ）アクリレートを包含する概念であり、「（トリ／テトラ）（メタ）アクリレート」は、トリ（メタ）アクリレート及びテトラ（メタ）アクリレートを包含する概念である。
　エチレン性不飽和化合物としては、（メタ）アクリレート化合物のカプロラクトン変性化合物（日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＣＡ－２０、新中村化学工業（株）製Ａ－９３００－１ＣＬ等）、（メタ）アクリレート化合物のアルキレンオキサイド変性化合物（日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ　ＲＰ－１０４０、新中村化学工業（株）製ＡＴＭ－３５Ｅ、Ａ－９３００、ダイセル・オルネクス社製　ＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）　１３５等）、エトキシル化グリセリントリアクリレート（新中村化学工業（株）製Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ等）等も挙げられる。
　エチレン性不飽和化合物としては、ウレタン（メタ）アクリレート化合物（好ましくは３官能以上のウレタン（メタ）アクリレート化合物）も挙げられる。
　３官能以上のウレタン（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、８ＵＸ－０１５Ａ（大成ファインケミカル（株）製）、ＵＡ－３２Ｐ（新中村化学工業（株）製）、ＵＡ－１１００Ｈ（新中村化学工業（株）製）等が挙げられる。
　また、エチレン性不飽和化合物は、現像性向上の観点から、酸基を有するエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましい。
　酸基としては、例えば、リン酸基、スルホン酸基、及び、カルボキシ基が挙げられ、カルボキシ基が好ましい。
　酸基を有するエチレン性不飽和化合物としては、例えば、酸基を有する３～４官能のエチレン性不飽和化合物（ペンタエリスリトールトリ及びテトラアクリレート（ＰＥＴＡ）骨格にカルボキシ基を導入したもの（酸価＝８０ｍｇＫＯＨ／ｇ～１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ））、酸基を有する５～６官能のエチレン性不飽和化合物（ジペンタエリスリトールペンタ及びヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）骨格にカルボキシ基を導入したもの（酸価＝２５ｍｇＫＯＨ／ｇ～７０ｍｇＫＯＨ／ｇ））、等が挙げられる。
　これら酸基を有する３官能以上のエチレン性不飽和化合物は、必要に応じ、酸基を有する２官能のエチレン性不飽和化合物と併用してもよい。
　酸基を有するエチレン性不飽和化合物としては、カルボキシ基を含有する２官能以上のエチレン性不飽和化合物及びそのカルボン酸無水物よりなる群から選ばれる少なくとも１種が好ましい。これにより現像性、及び、硬化膜の強度が高まる。
　カルボキシ基を含有する２官能以上のエチレン性不飽和化合物は、特に制限されず、公知の化合物の中から適宜選択できる。
　カルボキシ基を含有する２官能以上のエチレン性不飽和化合物としては、例えば、アロニックス（登録商標）ＴＯ－２３４９（東亞合成（株）製）、アロニックスＭ－５２０（東亞合成（株）製）、又は、アロニックスＭ－５１０（東亞合成（株）製）を好ましく用いることができる。
　酸基を有するエチレン性不飽和化合物は、特開２００４－２３９９４２号公報の段落００２５～００３０に記載の酸基を有する重合性化合物であることも好ましい。この公報の内容は本明細書に組み込まれる。
　本開示に用いられるエチレン性不飽和化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）としては、２００～３，０００が好ましく、２５０～２，６００がより好ましく、２８０～２，２００が更に好ましく、３００～２，２００が特に好ましい。
　また、上記感光性層に用いられるエチレン性不飽和化合物のうち、分子量３００以下のエチレン性不飽和化合物の含有量の割合は、上記感光性層に含有されるすべてのエチレン性不飽和化合物に対して、３０質量％以下が好ましく、２５質量％以下がより好ましく、２０質量％以下が更に好ましい。
　エチレン性不飽和化合物は、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。
　エチレン性不飽和化合物の含有量は、上記感光性層の全質量に対し、１質量％～７０質量％が好ましく、１０質量％～７０質量％がより好ましく、２０質量％～６０質量％が更に好ましく、２０質量％～５０質量％が特に好ましい。
　また、上記感光性層が、酸基を有するエチレン性不飽和化合物（好ましくは、カルボキシ基を含有する２官能以上のエチレン性不飽和化合物又はそのカルボン酸無水物）を含有する場合、酸基を有するエチレン性不飽和化合物の含有量は、上記感光性層の全質量に対し、１質量％～５０質量％が好ましく、１質量％～２０質量％がより好ましく、１質量％～１０質量％が更に好ましい。
＜＜光重合開始剤＞＞
　上記感光性層は、パターン形成性、及び、感度の観点から、光重合開始剤を更に含むことが好ましく、上記エチレン性不飽和化合物を含み、光重合開始剤を更に含むことがより好ましい。
　光重合開始剤としては特に制限はなく、公知の光重合開始剤を用いることができる。
　光重合開始剤としては、オキシムエステル構造を有する光重合開始剤（以下、「オキシム系光重合開始剤」ともいう。）、α－アミノアルキルフェノン構造を有する光重合開始剤（以下、「α－アミノアルキルフェノン系光重合開始剤」ともいう。）、α－ヒドロキシアルキルフェノン構造を有する光重合開始剤（以下、「α－ヒドロキシアルキルフェノン系重合開始剤」ともいう。）、アシルフォスフィンオキサイド構造を有する光重合開始剤（以下、「アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤」ともいう。）、Ｎ－フェニルグリシン構造を有する光重合開始剤（以下、「Ｎ－フェニルグリシン系光重合開始剤」ともいう。）等が挙げられる。
　光重合開始剤は、オキシム系光重合開始剤、α－アミノアルキルフェノン系光重合開始剤、α－ヒドロキシアルキルフェノン系重合開始剤及びＮ－フェニルグリシン系光重合開始剤よりなる群から選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましく、オキシム系光重合開始剤、α－アミノアルキルフェノン系光重合開始剤及びＮ－フェニルグリシン系光重合開始剤よりなる群から選ばれる少なくとも１種を含むことがより好ましい。
　また、光重合開始剤としては、例えば、特開２０１１－９５７１６号公報の段落００３１～００４２、特開２０１５－０１４７８３号公報の段落００６４～００８１に記載された重合開始剤を用いてもよい。
　光重合開始剤の市販品としては、１－［４－（フェニルチオ）］－１，２－オクタンジオン－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）　ＯＸＥ－０１、ＢＡＳＦ社製）、１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］エタノン－１－（Ｏ－アセチルオキシム）（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ－０２、ＢＡＳＦ社製）、２－（ジメチルアミノ）－２－［（４－メチルフェニル）メチル］－１－［４－（４－モルホリニル）フェニル］－１－ブタノン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　３７９ＥＧ、ＢＡＳＦ社製）、２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　９０７、ＢＡＳＦ社製）、２－ヒドロキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－プロピオニル）ベンジル］フェニル｝－２－メチルプロパン－１－オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　１２７、ＢＡＳＦ社製）、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタノン－１（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　３６９、ＢＡＳＦ社製）、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　１１７３、ＢＡＳＦ社製）、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４、ＢＡＳＦ社製）、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　６５１、ＢＡＳＦ社製）、オキシムエステル系の（商品名：Ｌｕｎａｒ　６、ＤＫＳＨジャパン（株）製）などが挙げられる。
　光重合開始剤は、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。
　光重合開始剤の含有量は、特に制限はないが、上記感光性層の全質量に対し、０．１質量％以上が好ましく、０．５質量％以上がより好ましく、１．０質量％以上が更に好ましい。
　また、光重合開始剤の含有量は、上記感光性層の全質量に対し、１０質量％以下が好ましく、５質量％以下がより好ましい。
＜＜界面活性剤＞＞
　上記感光性層は、膜厚均一性の観点から、界面活性剤を含有することが好ましい。
　界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系（非イオン系）、又は、両性のいずれでも使用することができるが、好ましい界面活性剤はノニオン界面活性剤である。
　ノニオン系界面活性剤の例としては、ポリオキシエチレン高級アルキルエーテル類、ポリオキシエチレン高級アルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレングリコールの高級脂肪酸ジエステル類、シリコーン系、フッ素系界面活性剤を挙げることができる。また、以下商品名で、ＫＰ（信越化学工業（株）製）、ポリフロー（共栄社化学（株）製）、エフトップ（ＪＥＭＣＯ社製）、メガファック（ＤＩＣ（株）製）、フロラード（住友スリーエム（株）製）、アサヒガード、サーフロン（旭硝子（株）製）、ＰｏｌｙＦｏｘ（ＯＭＮＯＶＡ社製）、及び、ＳＨ－８４００（東レ・ダウコーニング（株）製）等の各シリーズを挙げることができる。
　また、界面活性剤として、下記式Ｉ－１で表される構成単位Ａ及び構成単位Ｂを含み、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を溶剤とした場合のゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）が１，０００以上１０，０００以下である共重合体を好ましい例として挙げることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
　式（Ｉ－１）中、Ｒ４０１及びＲ４０３はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ４０２は炭素数１以上４以下の直鎖アルキレン基を表し、Ｒ４０４は水素原子又は炭素数１以上４以下のアルキル基を表し、Ｌは炭素数３以上６以下のアルキレン基を表し、ｐ及びｑは重合比を表す質量百分率であり、ｐは１０質量％以上８０質量％以下の数値を表し、ｑは２０質量％以上９０質量％以下の数値を表し、ｒは１以上１８以下の整数を表し、ｓは１以上１０以下の整数を表し、＊は他の構造との結合部位を表す。
　Ｌは、下記式（Ｉ－２）で表される分岐アルキレン基であることが好ましい。式（Ｉ－２）におけるＲ４０５は、炭素数１以上４以下のアルキル基を表し、相溶性と被塗布面に対する濡れ性の点で、炭素数１以上３以下のアルキル基が好ましく、炭素数２又は３のアルキル基がより好ましい。ｐとｑとの和（ｐ＋ｑ）は、ｐ＋ｑ＝１００、すなわち、１００質量％であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
　共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１，５００以上５，０００以下がより好ましい。
　その他、特許第４５０２７８４号公報の段落００１７、特開２００９－２３７３６２号公報の段落００６０～段落００７１に記載の界面活性剤も用いることができる。
　界面活性剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
　界面活性剤の含有量は、感光性層の全質量に対して、１０質量％以下であることが好ましく、０．００１質量％～１０質量％であることがより好ましく、０．０１質量％～３質量％であることが更に好ましい。
＜＜重合禁止剤＞＞
　上記感光性層は、重合禁止剤を少なくとも１種含有してもよい。
　重合禁止剤としては、例えば、特許第４５０２７８４号公報の段落００１８に記載された熱重合防止剤（重合禁止剤ともいう）を用いることができる。
　中でも、フェノチアジン、フェノキサジン又は４－メトキシフェノールを好適に用いることができる。
　上記感光性層が重合禁止剤を含有する場合、重合禁止剤の含有量は、感光性層の全質量に対して、０．０１質量％～３質量％が好ましく、０．０１質量％～１質量％がより好ましく、０．０１質量％～０．８質量％が更に好ましい。
＜＜水素供与性化合物＞＞
　上記感光性層は、水素供与性化合物を更に含むことが好ましい。
　本開示において水素供与性化合物は、光重合開始剤の活性光線に対する感度を一層向上させる、或いは酸素による重合性化合物の重合阻害を抑制する等の作用を有する。
　このような水素供与性化合物の例としては、アミン類、例えば、Ｍ．Ｒ．Ｓａｎｄｅｒら著「Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｏｃｉｅｔｙ」第１０巻３１７３頁（１９７２）、特公昭４４－２０１８９号公報、特開昭５１－８２１０２号公報、特開昭５２－１３４６９２号公報、特開昭５９－１３８２０５号公報、特開昭６０－８４３０５号公報、特開昭６２－１８５３７号公報、特開昭６４－３３１０４号公報、Ｒｅｓｅａｒｃｈ　Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ　３３８２５号記載の化合物等が挙げられ、具体的には、トリエタノールアミン、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、ｐ－ホルミルジメチルアニリン、ｐ－メチルチオジメチルアニリン等が挙げられる。
　また、水素供与性化合物の更に別の例としては、アミノ酸化合物（例、Ｎ－フェニルグリシン等）、特公昭４８－４２９６５号公報記載の有機金属化合物（例、トリブチル錫アセテート等）、特公昭５５－３４４１４号公報記載の水素供与体、特開平６－３０８７２７号公報記載のイオウ化合物（例、トリチアン等）等が挙げられる。
　これら水素供与性化合物の含有量は、重合成長速度と連鎖移動のバランスによる硬化速度の向上の観点から、感光性層の全質量に対し、０．１質量％以上３０質量％以下の範囲が好ましく、１質量％以上２５質量％以下の範囲がより好ましく、０．５質量％以上２０質量％以下の範囲が更に好ましい。
＜＜その他の成分＞＞
　上記感光性層は、上述した成分以外のその他の成分を含有していてもよい。
　その他の成分としては、例えば、複素環化合物、チオール化合物、特許第４５０２７８４号公報の段落００１８に記載の熱重合防止剤、特開２０００－３１０７０６号公報の段落００５８～００７１に記載のその他の添加剤等が挙げられる。
　また、上記感光性層は、その他の成分として、屈折率や光透過性を調節することを目的として、粒子（例えば金属酸化物粒子）を少なくとも１種含んでもよい。
　金属酸化物粒子の金属には、Ｂ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｔｅ等の半金属も含まれる。硬化膜の透明性の観点から、粒子（例えば金属酸化物粒子）の平均一次粒子径は、１ｎｍ～２００ｎｍが好ましく、３ｎｍ～８０ｎｍがより好ましい。平均一次粒子径は、電子顕微鏡を用いて任意の粒子２００個の粒子径を測定し、測定結果を算術平均することにより算出される。粒子の形状が球形でない場合には、最も長い辺を粒子径とする。
　粒子の含有量は、感光性層の全質量に対して、０質量％～３５質量％が好ましく、０質量％～１０質量％がより好ましく、０質量％～５質量％が更に好ましく、０質量％～１質量％が更に好ましく、０質量％（即ち、上記感光性層に粒子が含まれないこと）が特に好ましい。
　また、上記感光性層は、その他の成分として、カーボンナノチューブ以外の、微量の着色剤（顔料、染料、等）を含有してもよい。
　具体的には、上記感光性層におけるカーボンナノチューブ以外の着色剤の含有量は、感光性層の全質量に対し、１質量％未満が好ましく、０．１質量％未満がより好ましい。
＜＜反射率＞＞
　反射防止性、及び、表示装置に使用した場合における表示内容の視認性の観点から、上記感光性層の上記凹凸形状を有する側の正規反射率が、４％以下であり、かつ拡散反射率が、０．５％以下であることが好ましく、正規反射率が、１％以下であり、かつ拡散反射率が、０．５％以下であることがより好ましく、正規反射率が、０．５％以下であり、かつ拡散反射率が、０．２％以下であることが更に好ましく、正規反射率が、０．１％以下であり、かつ拡散反射率が、０．１％以下であることが特に好ましい。
　また、反射防止性、及び、表示装置に使用した場合における表示内容の視認性の観点から、上記感光性層を硬化してなる着色層の上記凹凸形状を有する側の正規反射率が、４％以下であり、かつ拡散反射率が、０．５％以下であることが好ましく、正規反射率が、１％以下であり、かつ拡散反射率が、０．５％以下であることがより好ましく、正規反射率が、０．５％以下であり、かつ拡散反射率が、０．２％以下であることが更に好ましく、正規反射率が、０．１％以下であり、かつ拡散反射率が、０．１％以下であることが特に好ましい。
　なお、上記正規反射率、及び、上記拡散反射率の下限値はそれぞれ、０％である。
　本開示における上記感光性層又は着色層の上記凹凸形状を有する側の正規反射率及び拡散反射率の測定方法は、コニカミノルタ（株）製ＣＭ－７００Ｄを使用し、上記感光性層又は着色層の上記凹凸形状を有する側の表面において、正規反射率及び拡散反射率の値を測定する。測定は３６０ｎｍ～７４０ｎｍの範囲で、１０ｎｍ刻みで測定を行い、反射率の代表値として５５０ｎｍの値での値を上記正規反射率及び拡散反射率とする。
＜＜色味＞＞
　反射防止性、及び、表示装置に使用した場合における表示内容の視認性の観点から、上記感光性層の上記凹凸形状を有する側の色味Ｌ値は、２０以下であることが好ましく、１０以下であることがより好ましく、５以下であることが更に好ましく、２以下であることが特に好ましい。
　また、反射防止性、及び、表示装置に使用した場合における表示内容の視認性の観点から、上記感光性層を硬化してなる着色層の上記凹凸形状を有する側の色味Ｌ値は、２０以下であることが好ましく、１０以下であることがより好ましく、５以下であることが更に好ましく、２以下であることが特に好ましい。
　なお、上記色味Ｌ値の下限値はそれぞれ、０％である。
　本開示における上記感光性層又は着色層の上記凹凸形状を有する側の色味Ｌ値の測定方法は、上記の正規反射率及び拡散反射率の測定方法と同様に、コニカミノルタ（株）製ＣＭ－７００Ｄを使用し、上記感光性層又は着色層の上記凹凸形状を有する側の表面において、測定は３６０ｎｍ～７４０ｎｍの範囲で、１０ｎｍ刻みで測定を行い色味Ｌ値を測定する。
＜＜感光性層の形成方法＞＞
　上記感光性層の形成方法としては、特に制限はないが、上述した成分を含む感光性組成物を、上述する保護フィルムに塗布及び乾燥し、形成した後、凹凸形状を有する仮支持体をラミネートする方法が好ましく挙げられる。
　また、上述したカーボンナノチューブ分散物を作製し、上記カーボンナノチューブ分散物を用いて上記感光性組成物を調製することが好ましい。
　上記感光性組成物の塗布方法及び乾燥方法は、特に制限はなく、公知の方法を用いることができる。
－溶剤－
　上記感光性組成物は、塗布による層形成の観点から、溶剤を更に含むことが好ましい。
　溶剤としては、通常用いられる溶剤を特に制限なく用いることができる。
　溶剤としては、有機溶剤が好ましい。
　有機溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（別名：１－メトキシ－２－プロピルアセテート）、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、乳酸メチル、カプロラクタム、ｎ－プロパノール、２－プロパノールなどを挙げることができる。また、使用する溶剤は、これらの化合物の混合物である混合溶剤を含有してもよい。
　溶剤としては、酢酸ブチル、及び、酢酸プロピルよりなる群から選ばれた少なくとも１種の溶剤が好ましい。
　溶剤を使用する場合、感光性組成物の固形分含有量としては、感光性組成物の全量に対し、５質量％～８０質量％が好ましく、５質量％～４０質量％がより好ましく、５質量％～３０質量％が特に好ましい。
　また、溶剤を使用する場合、感光性組成物の粘度（２５℃）は、塗布性の観点から、１ｍＰａ・ｓ～５０ｍＰａ・ｓが好ましく、２ｍＰａ・ｓ～４０ｍＰａ・ｓがより好ましく、３ｍＰａ・ｓ～３０ｍＰａ・ｓが特に好ましい。
　粘度は、例えば、ＶＩＳＣＯＭＥＴＥＲ ＴＶ－２２（東機産業（株）製）を用いて測定する。
　感光性組成物が溶剤を含有する場合、感光性組成物の表面張力（２５℃）は、塗布性の観点から、５ｍＮ／ｍ～１００ｍＮ／ｍが好ましく、１０ｍＮ／ｍ～８０ｍＮ／ｍがより好ましく、１５ｍＮ／ｍ～４０ｍＮ／ｍが特に好ましい。
　表面張力は、例えば、Ａｕｔｏｍａｔｉｃ　Ｓｕｒｆａｃｅ　Ｔｅｎｓｉｏｍｅｔｅｒ　ＣＢＶＰ-Ｚ（協和界面科学（株）製）を用いて測定する。
　溶剤としては、米国特許出願公開第２００５／２８２０７３号明細書の段落００５４及び００５５に記載のＳｏｌｖｅｎｔを用いることもでき、この明細書の内容は本明細書に組み込まれる。
　また、溶剤として、必要に応じて沸点が１８０℃～２５０℃である有機溶剤（高沸点溶剤）を使用することもできる。
＜仮支持体＞
　本開示に係る転写材料は、仮支持体を有し、上記仮支持体と上記感光性層との界面の少なくとも一部に、凹凸形状を有する。
　仮支持体は、フィルムであることが好ましく、樹脂フィルムであることがより好ましい。
　仮支持体としては、可撓性を有し、かつ、加圧下、又は、加圧及び加熱下において、著しい変形、収縮又は伸びを生じないフィルムを用いることができる。
　このようなフィルムとして、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリイミドフィルム、及びポリカーボネートフィルムが挙げられる。
　上記の樹脂フィルムを被成型物として型を押し、マイクロメートル又はナノメートルオーダーの微細な成型パターンが転写された樹脂フィルムスタンパを形成することができる。上記の型パターンを転写する型としては、シリコンや金属によって形成された型であることが好ましい。シリコンからなる型は、シリコン基板等にフォトリソグラフィやエッチング等の半導体微細加工技術によってパターンを形成している。また、金属からなる型は、シリコンからなる型の表面に電気鋳造（エレクトロフォーミング）法（例えばニッケルメッキ法）によって金属メッキを施し、この金属メッキ層を剥離して形成している。
　また、仮支持体として使用するフィルムは、シワ等の変形や、傷がないものであることが好ましい。
　仮支持体の厚みは、特に制限はないが、５μｍ～２００μｍであることが好ましく、取扱い易さ及び汎用性の観点から、１０μｍ～１５０μｍであることが特に好ましい。
　また、上記仮支持体は、凹凸形状を有する仮支持体であることが好ましく、モスアイ構造を有する仮支持体であることが好ましい。
　上記モスアイ（moss eye）構造とは、周期（ピッチ）が可視光の波長である７８０ｎｍ未満の凹凸形状のことであり、上記凹凸形状を好適に形成することができる。
　上記凹凸形状を有する仮支持体は、上記凹凸形状を有するフィルムが好ましく挙げられ、上記凹凸形状を有する樹脂フィルムがより好ましく挙げられる。
　上記凹凸形状を有するフィルムとしては、フィルム状の上記凹凸形状を有するスタンパが好適に挙げられる。
　上記仮支持体の凹凸形状は、上記感光性層に形成される凹凸形状の凹部と凸部とが反転した形状となり、上記凹凸形状の好ましい態様は、上述した凹凸形状の好ましい態様と同様である。
　また、モスアイ構造を有する仮支持体としては、スタンパとして公知のものを用いることができ、更に、ＳＣＩＶＡＸ（株）製スタンパ等の市販品を用いることもできる。
　本開示に係る転写材料は、感光性層に凹凸形状を有する仮支持体をラミネートして作製されることが好ましい。
　凹凸形状を有する仮支持体を用いる場合における感光性層への仮支持体のラミネートの条件としては、特に制限はなく、上記感光性層の物性、及び、仮支持体の材質等に応じて適宜選択すればよいが、押圧時の線圧としては、５Ｎ／ｃｍ～１，０００Ｎ／ｃｍであることが好ましく、１０Ｎ／ｃｍ～５００Ｎ／ｃｍであることがより好ましく、２０Ｎ／ｃｍ～２００Ｎ／ｃｍであることが特に好ましい。また、ラミネート温度としては、０℃～２００℃であることが好ましく、２５℃～１５０℃であることがより好ましく、５０℃～１２０℃であることが特に好ましい。
＜保護フィルム＞
　本開示に係る転写材料は、上記感光性層からみて上記仮支持体とは反対側に、保護フィルムを有していてもよい。
　保護フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリスチレンフィルム、及びポリカーボネートフィルムが挙げられる。
　保護フィルムとしては、例えば、特開２００６－２５９１３８号公報の段落００８３～００８７及び００９３に記載のものを用いてもよい。
　保護フィルムの厚みは、特に制限はないが、５μｍ～２００μｍであることが好ましく、取扱い易さ及び汎用性の観点から、１０μｍ～１５０μｍであることが特に好ましい。
　本開示に係る転写材料は、上記支持体及び上記感光性層以外の層（他の層）を有していてもよい。
　他の層としては、転写材料として公知の層が挙げられる。
　更に、上記保護フィルムと上記感光性層との間に、接着層を有していてもよい。
　接着層の材質としては、公知の接着剤及び粘着剤を用いることができる。
（積層体）
　本開示に係る積層体の第１の実施態様は、支持体上に、本開示に係る転写材料の感光性層を転写してなる層を有する。
　本開示に係る積層体の第２の実施態様は、支持体上に、本開示に係る転写材料の感光性層を転写及び硬化してなる着色層を有する。
　本開示に係る積層体の第１の実施態様における上記感光性層を転写してなる層は、パターニング可能な層であることが好ましい。
　また、本開示に係る積層体の第２の実施態様における上記感光性層を転写及び硬化してなる着色層は、パターニングされた層であることが好ましい。
＜ＬＥＤディスプレイのフロント部材＞
　本開示に係る積層体は、ＬＥＤ（発光ダイオード、light emitting diode）ディスプレイのフロント部材として用いることができ、特にマイクロＬＥＤ（μ－ＬＥＤ）ディスプレイのフロント部材として好適に用いることができる。
　上記マイクロＬＥＤディスプレイにおけるＬＥＤの大きさ（最大径）は、１００μｍ未満であることが好ましい。
　また、上記フロント部材とは、ＬＥＤディスプレイの表示側に設けられる部材である。
　更に、本開示に係るＬＥＤディスプレイのフロント部材は、ＬＥＤディスプレイの光の迷光除去用フロント部材であることが好ましい。
　本開示に係る積層体をＬＥＤディスプレイのフロント部材として用いた場合、正反射及び拡散反射の両方を抑制することができるため、本開示に係る積層体を用いたＬＥＤディスプレイのフロント部材を有するＬＥＤディスプレイは、映り込みや迷光が少ない引き締まった黒色画像を表示することができ、表示内容の視認性に優れる。
　ＬＥＤディスプレイのフロント部材としては、例えば特開２０１４－２０９１９８号公報の段落００３２～００３８に記載のＬＥＤディスプレイに用いられるフロント部材が挙げられ、この例においては本開示における着色層は、光透過抑制層３１にあたり、支持体は第２基板１２にあたる。また、特開２０１４－２０９１９８号公報の段落００３９～００４２に記載のＬＥＤディスプレイも例示され、この例においては本開示における着色層は、光不透過層３４にあたり、支持体は光透過部３５にあたる。
＜支持体＞
　本開示に係る積層体は、支持体を有する。
　支持体としては、特に制限はなく、公知の支持体を用いることができる。
　支持体としては、例えば、樹脂フィルム、ガラス基板、セラミックス基板、金属基板、半導体基板、ＬＥＤ素子を備えた基板等が挙げられる。
　また、上記支持体には、必要に応じて、配線、絶縁層、光透過抑制層、光不透過層、保護層等、ＬＥＤディスプレイ等の表示装置において、公知の構造を有していてもよい。
　また、支持体の厚さは、特に制限はなく、所望に応じ、適宜設定することができる。
＜他の層及び構造＞
　本開示に係る積層体は、上記支持体及び上記感光性層を転写してなる層又は着色層以外の層及び構造（他の層及び構造）を有していてもよい。
　他の層及び構造としては、ＬＥＤディスプレイ等の表示装置や転写材料として公知の層や構造が挙げられる。
　また、上記感光性層を転写してなる層又は着色層（好ましくは着色層）上に、凹凸形状を保護するための保護層を有していてもよい。
　上記保護層の材質としては、特に制限はなく、公知の樹脂や公知の硬化樹脂が挙げられる。
（積層体の製造方法）
　本開示に係る積層体の製造方法は、本開示に係る転写材料を用いる方法であること以外特に制限はないが、本開示に係る転写材料を用いて、支持体上に感光性層を形成する工程（「転写工程」ともいう。）、及び、上記感光性層をパターニングする工程（「パターニングする工程」ともいう。）、を含むことが好ましい。
＜転写工程＞
　本開示に係る積層体の製造方法は、本開示に係る転写材料を用いて、支持体上に感光性層を形成する工程（転写工程）を含むことが好ましい。
　上記転写工程においては、本開示に係る転写材料における上記感光性層を、上記仮支持体を有する側とは反対側から上記支持体へラミネートすることが好ましい。
　また、用いる転写材料が保護フィルムを有する場合は、保護フィルムを剥離した後、上記ラミネートを行うことが好ましい。
　上記ラミネート（上記感光性層の転写）は、真空ラミネーター、オートカットラミネーター等の公知のラミネーターを用いて行うことができる。
　ラミネート条件としては、一般的な条件を適用できる。
　ラミネート温度としては、特に制限はないが、８０℃～１５０℃が好ましく、９０℃～１５０℃がより好ましく、１００℃～１５０℃が特に好ましい。
　ゴムローラーを備えたラミネーターを用いる場合、ラミネート温度は、ゴムローラー温度を指す。
　ラミネート時の基板温度には特に制限はない。ラミネート時の基板温度としては、１０℃～１５０℃が挙げられ、２０℃～１５０℃が好ましく、３０℃～１５０℃がより好ましい。基板として樹脂基板を用いる場合には、ラミネート時の基板温度としては、１０℃～８０℃が好ましく、２０℃～６０℃がより好ましく、３０℃～５０℃が特に好ましい。
　また、ラミネート時の線圧としては、特に制限はないが、０．５Ｎ／ｃｍ～２０Ｎ／ｃｍが好ましく、１Ｎ／ｃｍ～１０Ｎ／ｃｍがより好ましく、１Ｎ／ｃｍ～５Ｎ／ｃｍが特に好ましい。
　また、ラミネート時の搬送速度（ラミネート速度）としては、０．５ｍ／分～５ｍ／分が好ましく、１．５ｍ／分～３ｍ／分がより好ましい。
＜パターニングする工程＞
　本開示に係る積層体の製造方法は、上記感光性層をパターニングする工程（パターニングする工程）、を含むことが好ましい。
　上記パターニングする工程としては、特に制限はなく、公知のパターニング方法を用いることができるが、上記感光性層をパターン露光する工程（「パターン露光工程」ともいう。）、及び、パターン露光された上記感光性層を現像する工程（「現像工程」ともいう。）を含むことが好ましい。
＜＜パターン露光工程＞＞
　パターン露光工程は、上記感光性層をパターン露光する工程である。
　ここで、パターン露光とは、パターン状に露光する態様、すなわち、露光部と非露光部とが存在する態様の露光を指す。
　例えば、上記感光性層がネガ型の感光性層である、例えば、上記感光性層がエチレン性不飽和化合物及び光重合開始剤を含む層である場合、上記感光性層のうち、パターン露光における露光部が硬化され、最終的に硬化膜となる。上記感光性層のうち、パターン露光における非露光部は硬化せず、次の現像工程で、現像液によって除去（溶解）される。非露光部は、現像工程後、硬化膜の開口部を形成し得る。
　パターン露光は、マスクを介した露光でもよいし、レーザー等を用いたデジタル露光でもよい。
　パターン露光の光源としては、感光性層を硬化し得る波長域の光（例えば、３６５ｎｍ又は４０５ｎｍ）を照射できるものであれば適宜選定して用いることができる。光源としては、例えば、各種レーザー、発光ダイオード（ＬＥＤ）、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、及び、メタルハライドランプが挙げられる。露光量は、好ましくは５ｍＪ／ｃｍ２～２，０００ｍＪ／ｃｍ２であり、より好ましくは１０ｍＪ／ｃｍ２～１，０００ｍＪ／ｃｍ２である。
　転写フィルムを用いて上記支持体上に上記感光性層を形成した場合には、パターン露光は、仮支持体を剥離してから行ってもよいし、仮支持体を剥離する前に露光し、その後、仮支持体を剥離してもよい。
＜＜現像工程＞＞
　現像工程は、パターン露光された上記感光性層を現像する（即ち、パターン露光における非露光部を現像液に溶解させる）工程である。
　現像に用いる現像液は特に制限されず、特開平５－７２７２４号公報に記載の現像液など、公知の現像液を用いることができる。
　現像液としては、アルカリ性水溶液を用いることが好ましい。
　アルカリ性水溶液に含有され得るアルカリ性化合物としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、コリン（２－ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド）等が挙げられる。
　アルカリ性水溶液の２５℃におけるｐＨとしては、８～１３が好ましく、９～１２がより好ましく、１０～１２が特に好ましい。
　アルカリ性水溶液中におけるアルカリ性化合物の含有量は、アルカリ性水溶液全量に対し、０．１質量％～５質量％が好ましく、０．１質量％～３質量％がより好ましい。
　現像液は、水に対して混和性を有する有機溶剤を含有してもよい。
　有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、２－プロパノール、１－プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε－カプロラクトン、γ－ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε－カプロラクタム、及び、Ｎ－メチルピロリドンを挙げることができる。
　有機溶剤の濃度は、０．１質量％～３０質量％が好ましい。
　現像液は、公知の界面活性剤を含んでもよい。界面活性剤の濃度は０．０１質量％～１０質量％が好ましい。
　現像の方式としては、例えば、パドル現像、シャワー現像、シャワー及びスピン現像、ディップ現像等の方式が挙げられる。
　シャワー現像を行う場合、パターン露光後の感光性層に現像液をシャワー状に吹き付けることにより、感光性層の非露光部を除去してもよい。
　また、現像の後に、洗浄剤などをシャワーにより吹き付けつつブラシなどで擦ることにより、現像残渣を除去することが好ましい。
　現像液の液温度は、２０℃～４０℃が好ましい。
　現像工程は、上記現像を行う段階と、上記現像によって得られた硬化膜を加熱処理（以下、「ポストベーク」ともいう）する段階と、を含んでいてもよい。
　基板が樹脂基板である場合には、ポストベークの温度は、１００℃～１６０℃が好ましく、１３０℃～１６０℃がより好ましい。
　このポストベークにより、透明電極パターンの抵抗値を調整することもできる。
　また、現像工程は、上記現像を行う段階と、上記現像によって得られた硬化膜（着色層）を露光（以下、「ポスト露光」ともいう。）する段階と、を含んでいてもよい。
　現像工程がポスト露光する段階及びポストベークする段階を含む場合、好ましくは、ポスト露光、ポストベークの順序で実施する。
　パターン露光、現像などについては、例えば、特開２００６－２３６９６号公報の段落００３５～００５１の記載を参照することもできる。
　本開示に係る積層体の製造方法は、上述した工程以外のその他の工程を含んでいてもよい。その他の工程としては、通常のフォトリソグラフィ工程に設けられることがある工程（例えば、洗浄工程など）を特に制限なく適用できる。
　以下に実施例を挙げて本開示を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本開示の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本開示の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、「％」は質量基準である。
＜黒色分散物Ｋ１の作製＞
　カーボンナノチューブ（ＣＮＴ、単層、平均繊維径２０ｎｍ）２．０質量部、スチレン・アクリル系ポリマー（ジョンソンポリマー社製、ジョンクリル６８３）６．０質量部、酢酸ブチル９２．０質量部をガラス瓶に仕込み、ジルコニアビーズ０．５ｍｍφをメディアとしてペイントコンディショナーを用いて１時間分散を行い、黒色分散物Ｋ１を得た。
　黒色分散物Ｋ１を用いて、黒色層形成用の塗布液として、以下の塗布液を調製した。
＜黒色層塗布液１の調製＞
　黒色分散物Ｋ１：２０質量部
　酢酸プロピル：７．３７質量部
　ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬（株）製）：５．６３質量部
　ベンジルメタクリレート／メタクリル酸ランダム共重合体（モル比７０／３０、重量平均分子量５，０００）４５質量％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート溶液：１８．１９質量部
　ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製）：０．５５質量部
　メガファックＦ５５１（大日本インキ化学工業（株）製）：０．０９質量部
＜黒色フィルムの作製＞
　厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体（保護フィルム１）の上に、スリット状ノズルを用いて、黒色層塗布液１からなる黒色層用塗布液を塗布、乾燥させた。このようにして仮支持体の上に乾燥膜厚が８．０μｍの黒色樹脂層（感光性層）を設け、最後に保護剥離層として保護フィルム２（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着した。こうして仮支持体と感光性層と保護剥離層とが一体となった転写材料を作製し、サンプル名を転写材料黒１とした。
（実施例１）
＜転写材料の作製＞
　転写材料黒１を用い、下記の工程で黒色パターン付基板を作製した。
　保護フィルム２を剥離して露出した黒色層の表面を、スタンパＦＭＥＳ２５０／３００（ＳＣＩＶＡＸ（株）製）に重ね合わせ、ラミネーターＬａｍｉｃＩＩ型（（株）日立インダストリイズ製）を用いて、線圧１００Ｎ／ｃｍ、上ロール１００℃、下ロール１００℃の加圧加熱条件下で搬送速度４ｍ／分にて貼り合わせ、転写材料１（本開示に係る転写材料）を作製した。
＜パターン形成＞
　得られた転写材料１を、１０ｃｍ×１０ｃｍの形状に切りだし、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）を用いて、ホール形状の遮光パターン（直径３ｍｍ）を有する露光マスクを介してスタンパ側から露光量ｉ線５００ｍＪ／ｃｍ２にてマスクギャップ１００μｍにてプロキシミティー露光し、その後、スタンパを引き剥がした。
　次に、スタンパが剥離された積層体の黒色層を、現像液としての炭酸ナトリウム１質量％水溶液（液温：３２℃）を用いて４０秒間現像した。現像後、１２０秒間、純水をシャワーを吹き付け、純水シャワー洗浄し、エアを吹きかけて黒色パターン像を得た。
（実施例２～実施例１２）
　形成する突起の高さ、突起の平均ピッチ、カーボンナノチューブの含有量、カーボンナノチューブの平均繊維径、及び、感光性層の平均厚さを表１のように変更した以外は、実施例１と同様にして、黒色パターン像を得た。
（実施例１３）
　カーボンナノチューブ（単層、平均繊維径２０ｎｍ）をカーボンナノチューブ（多層、平均繊維径１０ｎｍ）に変更した以外は、実施例１と同様にして、黒色パターン像を得た。なお、多層カーボンナノチューブは、国際公開第１６／０８４６９７号の段落００７６～００７８に記載された方法を参考に作製した。
（実施例１４）
　上記黒色層塗布液におけるジペンタエリスリトールヘキサアクリレートをペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製Ａ－ＴＭＭＴ）に変更した以外は、実施例１と同様にして、黒色パターン像を得た。
（実施例１５）
　上記黒色層塗布液におけるジペンタエリスリトールヘキサアクリレートをトリメチロールプロパントリアクリレート（新中村化学工業（株）製Ａ－ＴＭＰＴ）に変更した以外は、実施例１と同様にして、黒色パターン像を得た。
（実施例１６）
　上記黒色層塗布液におけるベンジルメタクリレート／メタクリル酸ランダム共重合体を、固形分として、下記重合体Ｄに変更した以外は、実施例１と同様にして、黒色パターン像を得た。
＜重合体Ｄの固形分３６．３質量％溶液の準備＞
　バインダーポリマーとして、下記の構造を有する重合体Ｄの固形分３６．３質量％溶液（溶剤：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）を用いた。重合体Ｄにおいて、各構成単位の右下の数値は、各構成単位の含有比率（モル％）を示す。
　重合体Ｄの固形分３６．３質量％溶液は、下記に示す重合工程及び付加工程により準備した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
－重合工程－
　２，０００ｍＬのフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（三和化学産業（株）製、商品名ＰＧＭ－Ａｃ）６０ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテル（三和化学産業製、商品名ＰＧＭ）２４０ｇを導入した。得られた液体を、撹拌速度２５０ｒｐｍ（revolutions per minute；以下同じ。）で撹拌しつつ９０℃に昇温した。
　滴下液（１）の調製として、メタクリル酸（三菱レイヨン（株）製、商品名アクリエステルＭ）１０７．１ｇ、メタクリル酸メチル（三菱ガス化学（株）製、商品名ＭＭＡ）５．４６ｇ、及びシクロヘキシルメタクリレート（三菱ガス化学（株）製、商品名ＣＨＭＡ）２３１．４２ｇを混合し、ＰＧＭ－Ａｃ　６０ｇで希釈することにより、滴下液（１）を得た。
　滴下液（２）の調製として、ジメチル２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオネート）（重合開始剤、和光純薬工業（株）製、商品名Ｖ－６０１）９．６３７ｇをＰＧＭ－Ａｃ　１３６．５６ｇで溶解させることにより、滴下液（２）を得た。
　滴下液（１）と滴下液（２）とを同時に３時間かけて、上述した２，０００ｍＬのフラスコ（詳細には、９０℃に昇温された液体が入った２，０００ｍＬのフラスコ）に滴下した。次に、滴下液（１）の容器をＰＧＭ－Ａｃ　１２ｇで洗浄し、洗浄液を上記２０００ｍＬのフラスコに滴下した。次に、滴下液（２）の容器をＰＧＭ－Ａｃ　６ｇで洗浄し、洗浄液を上記２，０００ｍＬのフラスコに滴下した。これらの滴下中、上記２，０００ｍＬのフラスコ内の反応液を９０℃に保ち、撹拌速度２５０ｒｐｍで撹拌した。更に、後反応として、９０℃で１時間撹拌した。
　後反応後の反応液に、開始剤の追加添加１回目として、Ｖ－６０１の２．４０１ｇを添加した。更に、Ｖ－６０１の容器をＰＧＭ－Ａｃ　６ｇで洗浄し、洗浄液を反応液に導入した。その後、９０℃で１時間撹拌した。
　次に、開始剤の追加添加２回目として、Ｖ－６０１の２．４０１ｇを反応液に添加した。更にＶ－６０１の容器をＰＧＭ－Ａｃ　６ｇで洗浄し、洗浄液を反応液に導入した。その後９０℃で１時間撹拌した。
　次に、開始剤の追加添加３回目として、Ｖ－６０１の２．４０１ｇを反応液に添加した。更に、Ｖ－６０１の容器をＰＧＭ－Ａｃ　６ｇで洗浄し、洗浄液を反応液に導入した。その後９０℃で３時間撹拌した。
－付加工程－
　９０℃で３時間撹拌後、ＰＧＭ－Ａｃ　１７８．６６ｇを反応液へ導入した。次に、テトラエチルアンモニウムブロミド（和光純薬工業（株）製）１．８ｇとハイドロキノンモノメチルエーテル（和光純薬工業（株）製）０．８ｇとを反応液に添加した。更にそれぞれの容器をＰＧＭ－Ａｃ　６ｇで洗浄し、洗浄液を反応液へ導入した。その後、反応液の温度を１００℃まで昇温させた。
　次に、グリシジルメタクリレート（日油（株）製、商品名ブレンマーＧ）７６．０３ｇを１時間かけて反応液に滴下した。ブレンマーＧの容器をＰＧＭ－Ａｃ　６ｇで洗浄し、洗浄液を反応液に導入した。この後、付加反応として、１００℃で６時間撹拌した。
　次に、反応液を冷却し、ゴミ取り用のメッシュフィルター（１００メッシュ）でろ過し、重合体Ｄの溶液を１，１５８ｇ得た（固形分濃度３６．３質量％）。得られた重合体Ｄの重量平均分子量は２７，０００、数平均分子量は１５，０００、酸価は９５ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
（実施例１７）
　上記黒色層塗布液におけるジペンタエリスリトールヘキサアクリレートをビスコート＃８０２（トリペンタエリスリトールアクリレート、モノ及びジペンタエリスリトールアクリレート、並びに、ポリペンタエリスリトールアクリレートの混合物、大阪有機化学工業（株）製）に変更した以外は、実施例１と同様にして、黒色パターン像を得た。
（実施例１８）
　実施例１において、スタンパを貼り合せた後、仮支持体（保護フィルム１）をはくりして、以下の光学用透明粘着シート（ＯＣＡ）を貼り合わせ、その後、実施例１と同様に、露光、剥離及び現像を行い、黒色パターン像を得た。
　光学用透明粘着シート：三菱ケミカル（株）製クリアフィットＪＨＡ２００、膜厚２００μｍ、ＵＶ硬化型
（比較例１）
　カーボンナノチューブをカーボンブラック（ＣＢ、平均粒子径２０ｎｍ、三菱ケミカル（株）製ＭＡ６００）に変更した以外は、実施例１と同様にして、黒色パターン像を得た。
（比較例２）
　スタンパＦＭＥＳ２５０／３００を使用せず、保護フィルムを剥離せずそのまま露光し、保護フィルムを剥離して現像した以外は、比較例１と同様にして、黒色パターン像を得た。
（比較例３）
　スタンパＦＭＥＳ２５０／３００を使用せず、保護フィルムを剥離せずそのまま露光し、保護フィルムを剥離して現像した以外は、実施例１と同様にして、黒色パターン像を得た。
＜評価＞
－正規反射率（ＳＣＩ反射率）及び拡散反射率（ＳＣＥ反射率）評価－
　コニカミノルタ（株）製ＣＭ－７００Ｄを使用し、得られた黒色パターン像における黒色パターンを有する側からの表面反射率を、正規反射率及び拡散反射率の値を測定した。測定は３６０ｎｍ～７４０ｎｍの範囲で、１０ｎｍ刻みで測定を行い、反射率の代表値として５５０ｎｍの値で判断を行い、以下の評価基準により評価した。
　　Ａ：正規反射率及び拡散反射率ともに反射率が０．１％以下である
　　Ｂ：正規反射率が０．１％を超え２．０％以下であるか、拡散反射率が０．２以下であるか、又は、その両方である
　　Ｃ：正規反射率が２．０％を超え４．０％未満であるか、拡散反射率が０．２％以下であるか、又は、その両方である
　　Ｄ：正規反射率が４．０％以上であるか、拡散反射率が０．２％を超える値であるか、又は、その両方である
－映り込み目視評価－
　蛍光灯（天井照明（蛍光灯２，５００ｃｄ／ｍ２））の下に、各実施例及び比較例において得られた黒色パターン像が形成された基板を置き、基板に対して左右上下の方向から、基板の底面に対して角度５度及び４５度の２角度において目視評価を行い、黒色パターン像に写り込む蛍光灯の強度を官能評価した。
　　Ａ：ほとんど写り込まない
　　Ｂ：よく見るとうっすら写り込んでいる
　　Ｃ：うっすら写り込んでいる
　　Ｄ：どの角度からもはっきり確認できる
－明度Ｌ値の測定－
　コニカミノルタ（株）製ＣＭ－７００Ｄを使用し、上記反射率測定と同時にＬ＊値（Ｄ６５）もあわせて算出した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000009
　なお、表１における比較例１及び比較例２のカーボンナノチューブの平均繊維径の欄の値は、カーボンブラックの平均粒子径の値である。
　表１に記載の結果から、実施例１～実施例１８の転写材料により形成した黒色部材は、比較例の転写材料により形成した黒色部材に比べて、拡散反射率及び正規反射率のいずれも低い値であることがわかる。
　２０１８年９月２８日に出願された日本国特許出願第２０１８－１８３５１３号の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。
　本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び、技術規格は、個々の文献、特許出願、及び、技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。

Claims (13)

  1. 　仮支持体と、
    　バインダーポリマー及びエチレン性不飽和化合物よりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物とカーボンナノチューブとを含む感光性層とを有し、
    　前記仮支持体と前記感光性層との界面の少なくとも一部に、凹凸形状を有する
    　転写材料。
  2. 　前記凹凸形状における突起の平均高さが、１５０ｎｍ～１，０００ｎｍである請求項１に記載の転写材料。
  3. 　前記凹凸形状における突起の平均ピッチが、５０ｎｍ～５００ｎｍである請求項１又は請求項２に記載の転写材料。
  4. 　前記感光性層の平均厚さが、５μｍ以上である請求項１～請求項３のいずれか１項に記載の転写材料。
  5. 　前記感光性層における前記カーボンナノチューブの含有量が、前記感光性層の全質量に対し、０．５質量％～１０質量％である請求項１～請求項４のいずれか１項に記載の転写材料。
  6. 　前記カーボンナノチューブの平均繊維径が、８ｎｍ～２５ｎｍである請求項１～請求項５のいずれか１項に記載の転写材料。
  7. 　前記感光性層の前記凹凸形状を有する側の正規反射率が、１％以下であり、かつ拡散反射率が、０．５％以下である請求項１～請求項６のいずれか１項に記載の転写材料。
  8. 　前記感光性層の前記凹凸形状を有する側の色味Ｌ値が、２以下である請求項１～請求項７のいずれか１項に記載の転写材料。
  9. 　前記感光性層が、エチレン性不飽和化合物を含み、光重合開始剤を更に含む請求項１～請求項８のいずれか１項に記載の転写材料。
  10. 　光の迷光除去用転写材料である請求項１～請求項９のいずれか１項に記載の転写材料。
  11. 　支持体上に、請求項１～請求項１０のいずれか１項に記載の転写材料の感光性層を転写してなる層を有する積層体。
  12. 　支持体上に、請求項１～請求項１０のいずれか１項に記載の転写材料の感光性層を転写及び硬化してなる着色層を有する積層体。
  13. 　請求項１～請求項１０のいずれか１項に記載の転写材料を用いて、支持体上に感光性層を形成する工程、及び、
    　前記感光性層をパターニングする工程、を含む
    　積層体の製造方法。
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