JP2017001223A - 物品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
さらに、光重合開始剤として、波長380nm〜430nmの波長域で有効な光重合開始剤を含有させ、且つ波長380〜430nmに発光スペクトルの極大値を有するLED光源を使用して硬化させることにより、上記の課題を解決することができる。
[1]紫外線吸収性基材の一方の表面に光重合開始剤を含む活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物が配置された物品の製造方法であって、紫外線吸収性基材の一方の表面に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を配置し、もう一方の表面にLED光源によって発生した活性エネルギー線を照射し、紫外線吸収性基材上に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物を形成する、物品の製造方法。
[2]LED光源の発光スペクトルが、380〜430nmの範囲内に極大値を有する、前記[1]に記載の物品の製造方法。
[3]LED光源の発光スペクトルが、400〜410nmの範囲内に極大値を有する、前記1に記載の物品の製造方法。
[4]光重合開始剤が、波長380〜430nmの範囲内の紫外線を吸収する、前記[1]〜[3]に記載の物品の製造方法。
[5]光重合開始剤が、アシルフォスフィンオキサイド系の光重合開始剤である、前記[1]〜[4]に記載の物品の製造方法。
[6]紫外線吸収性基材の各波長における紫外線透過率Tと前記光重合開始剤(E)の各波長における紫外線吸収率Aの値からT×Aを算出した際にT×Aが最大となる波長Xと、LED光源の発光スペクトルが極大値を示す波長Yの差の絶対値|X−Y|が10nm以下である、前記[1]〜[5]に記載の物品の製造方法。
[7]波長Xの値と波長Yの値が共に400〜410nmの範囲内である、前記[6]に記載の物品の製造方法。
[8]活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を、紫外線吸収性基材と微細凹凸構造を有する型との間に配置し、紫外線吸収性基材の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物と接していない方の面に活性エネルギー線を照射して活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させた後、型を離型することで表面に微細凹凸構造を有する積層体を得る、前記[1]〜[7]に記載の物品の製造方法。
[9]物品表面の微細凹凸構造が、可視光波長より短い周期を有する、前記[8]に記載の物品の製造方法。
[10]物品表面が反射防止機能を有する、前記[1]〜[9]に記載の物品の製造方法。
[11]前記[1]〜[10]に記載の物品の製造方法により製造される物品。
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層4の硬さとしては、JIS K5400に準拠した鉛筆硬度試験で「H」以上の硬度を示すことが好ましい。
ハード成分(A)としては、例えば、ペンタエリスリトール(トリ)テトラアクリレート、ジペンタエリスリトール(ペンタ)ヘキサアクリレート、ポリペンタエリスリトールポリアクリレート、及びこれらの多官能アクリレートとジイソシアネートの反応生成物である多官能ウレタンアクリレートなどが挙げられる。
ハード成分(A)の市販品としては、例えば、東亞合成製アロニックスシリーズ:M−303,M−305,M−306,M−450,M−452,M-400,M−402,M−403,M−404,M−405,M−406、日本化薬製KAYARADシリーズ:PET−30,DPHA、大阪有機化学工業製ビスコートシリーズ:V#300,V#802、などが挙げられる。
ソフト成分(B)の市販品としては、例えば、東亞合成製アロニックスシリーズ:M−240,M−260,M−460、日本化薬製KAYARADシリーズ:DPEA−12,RP−1040、新中村化学工業製:A-200,A-400,A−600,A−1000,ATM−4E,ATM−35E,A−GLY−20E,A−PG5009E,A−PG5027E,A−PG5054E,A−PTMG−65、東邦化学製:T−130EA、などが挙げられる。
その他の成分(C)の添加量は、0〜25質量%が好ましく、0〜10%がより好ましく、0〜5%がさらに好ましい。その他の成分(C)の添加量は、多すぎて耐擦傷性や硬度などの表面物性に悪影響を及ぼさない範囲で添加することが好ましい。
光重合開始剤の配合量は、活性エネルギー線硬化性組成物100質量部に対し、0.1〜10質量部である。活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層4の厚みにもよるが、過度に配合すると、紫外線吸収性基材2と活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層層4との密着性を低下させることもある。なお、光重合開始剤をプライマー層3に配合することにより、紫外線吸収性基材2と活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層4との密着性をさらに向上させることもできる。
380nm未満でのみ反応し得る光重合開始剤を使用すると、反応が充分起こらない。また430nmを超えるものは、人間の目に見える吸収を持つために、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層4が着色して見える恐れがある。
具体的には、例えばフェニルビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)ホスフィン=オキシド(BASF社製:Irgacure 819)、ジフェニル−2,4,6−トリメチルベンゾイルフォスフィン=オキサイド(BASF社製:Irgacure TPO)は、上記した範囲の配合割合であれば、波長が380nm〜430nmの紫外線を利用して光重合を開始し得る光重合開始剤であり、特に好ましいものである。
アシルフォスフィンオキサイド系の開始剤は波長が380nm〜430nmの紫外線に対して特に高い反応性を有することから、UV−LEDのような発光スペクトルのピークが急峻で特定波長のみを発生させる光源と組み合わせた場合でも十分な反応性を維持可能となる。
なお、上記の特に好ましい光重合開始剤に、その光重合開始機能を阻害しない範囲で、他の波長域で光重合を開始させる光重合開始剤を添加して併用することもできる。併用により硬化速度が上昇する等の利点が生じるからである。
一方、各波長ごとのT×Aの値は、波長Xから±5nmずれると90〜95%程度、±10nmずれると70〜85%程度、±20nmずれると20〜50%程度まで落ちることになる。そのため、|X−Y|の値は、20nm以下が好ましく、10nm以下がさらに好ましく、5nm以下が特に好ましい。
本発明においては、凹凸を付与する場合も、凹凸ではなく平坦な、極端な場合にはミラー面を形成する場合にも、酸素不透過性素材で塗膜を被覆しつつ、基材フィルム側から活性エネルギー線を照射することが好ましい。
塗膜に凹凸を付与する際の凹凸の程度は、防眩性を付与する場合は、凹凸の高低差が0.2〜10μm、ピッチが20〜200μm程度がよく、Raが0.10〜0.40μm、Rzが1.10〜6.00μm、Smが10〜70μmがより好ましい。また、モスアイ構造と呼ばれる微細凹凸形状で反射防止性能を付与する場合は、凹凸の高低差が120〜250nm、ピッチが80〜400nm程度であることが好ましく、凹凸の高低差が150〜220nm、ピッチが100〜300nm程度であることがより好ましく、凹凸の高低差が180〜210nm、ピッチが100〜250nm程度であることが特に好ましい。
(a)アルミニウム基材を電解液中、定電圧下で陽極酸化してアルミニウム基材の表面に酸化皮膜を形成する工程。
(b)酸化皮膜を除去し、アルミニウム基材の表面に陽極酸化の細孔発生点を形成する工程。
(c)工程(b)の後、アルミニウム基材を電解液中、再度陽極酸化し、細孔発生点に細孔を有する酸化皮膜を形成する工程。
(d)工程(c)の後、細孔の径を拡大させる工程。
(e)工程(d)の後、電解液中、再度陽極酸化する工程。
(f)工程(d)と工程(e)を繰り返し行い、複数の細孔を有する陽極酸化アルミナがアルミニウム基材の表面に形成されたスタンパを得る工程。
2 紫外線吸収性基材
3 プライマー層
4 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層
5 防汚層
6 凹凸
10 アルミニウム基材
12 細孔(微細凹凸構造の反転構造)
14 酸化皮膜
18 スタンパ(型)
20 ロール状スタンパ
22 タンク
24 空気圧シリンダ
26 ニップロール
28 活性エネルギー線照射装置
30 剥離ロール
40 光透過性物品
42 光透過性基材
44 硬化樹脂層
Claims (11)
- 紫外線吸収性基材の一方の表面に光重合開始剤を含む活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物が配置された物品の製造方法であって、
紫外線吸収性基材の一方の表面に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を配置し、もう一方の表面にLED光源によって発生した活性エネルギー線を照射し、
紫外線吸収性基材上に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物を形成する、物品の製造方法。 - LED光源の発光スペクトルが、380〜430nmの範囲内に極大値を有する、請求項1に記載の物品の製造方法。
- LED光源の発光スペクトルが、400〜410nmの範囲内に極大値を有する、請求項1に記載の物品の製造方法。
- 光重合開始剤が、波長380〜430nmの範囲内の紫外線を吸収する、請求項1〜3に記載の物品の製造方法。
- 光重合開始剤が、アシルフォスフィンオキサイド系の光重合開始剤である、請求項1〜4に記載の物品の製造方法。
- 紫外線吸収性基材の各波長における紫外線透過率Tと前記光重合開始剤(E)の各波長における紫外線吸収率Aの値からT×Aを算出した際にT×Aが最大となる波長Xと、
LED光源の発光スペクトルが極大値を示す波長Yの差の絶対値|X−Y|が10nm以下である、請求項1〜5に記載の物品の製造方法。 - 波長Xの値と波長Yの値が共に400〜410nmの範囲内である、請求項6に記載の物品の製造方法。
- 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を、紫外線吸収性基材と微細凹凸構造を有する型との間に配置し、紫外線吸収性基材の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物と接していない方の面に活性エネルギー線を照射して活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させた後、型を離型することで表面に微細凹凸構造を有する積層体を得る、請求項1〜7に記載の物品の製造方法。
- 物品表面の微細凹凸構造が、可視光波長より短い周期を有する、請求項8に記載の物品の製造方法。
- 物品表面が反射防止機能を有する、請求項1〜9に記載の物品の製造方法。
- 請求項1〜10に記載の物品の製造方法により製造される物品。
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