WO2019230617A1

WO2019230617A1 - 面発光パネル及び面発光パネルの製造方法

Info

Publication number: WO2019230617A1
Application number: PCT/JP2019/020792
Authority: WO
Inventors: 正数遠西; 川原　雄介; 北　弘志
Original assignee: コニカミノルタ株式会社
Priority date: 2018-05-31
Filing date: 2019-05-27
Publication date: 2019-12-05
Also published as: JPWO2019230617A1

Abstract

本発明の課題は、簡易な構成を有し、印加電圧差による発光品質の低下や発光輝度差が改良された有機ＥＬデバイスと、製造手段として大型設備を必要とせず、低コストで製造することができる有機ＥＬデバイスの製造方法と、それを具備した画像表示装置を提供することである。　本発明の有機ＥＬデバイスは、複数の有機ＥＬ素子を含む画素ユニットを有し、前記有機ＥＬ素子が、基材上に、少なくとも、第１電極と、発光層を含む有機機能層と、第２電極とを有し、前記画素ユニットが、発光色が異なる複数の前記有機ＥＬ素子を同一面上に配置した構成を有し、かつ、複数の前記有機ＥＬ素子のそれぞれの第１電極に電圧を印加するバスラインと、前記有機ＥＬ素子のそれぞれに印加する電圧を調整する抵抗値を有する導電部材と、前記有機ＥＬ素子に電圧を印加する印加電源部とを有することを特徴とする。

Description

面発光パネル及び面発光パネルの製造方法

　本発明は、複数の有機エレクトロルミネッセンス素子を具備した面発光パネルと、面発光パネルの製造方法に関し、更に詳しくは、封止性能とフレキシブル性を両立し、製造容易性に優れた有機エレクトロルミネッセンス素子を具備した面発光パネルと、面発光パネルの製造方法に関する。

　近年、有機材料のエレクトロルミネッセンス（Ｅｌｅｃｔｒｏlｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ：以下、「ＥＬ」と略記する。）を利用した有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、「有機ＥＬ素子」と略記する。）等が急速に普及しており、この有機ＥＬ素子は、数Ｖ～数十Ｖ程度の比較的低電圧で発光が可能な薄膜型の完全固体素子であり、高輝度、高発光効率、薄型、軽量といった多くの優れた特徴を有する。このため、表示装置用や照明光源等の面発光体として、その適用分野の検討が精力的になされている。

　有機ＥＬ素子を構成する層を形成する際、高い生産性を可能とする製造方法としては、ウェットプロセスが着目されている。従来適用されてきた真空蒸着法では、大型の真空装置が必要になると共に、基板等の真空操作や、蒸着プロセスに時間を要し、また、材料の利用効率も低いという問題を抱えていた。加えて、発光形状やサイズを変更する場合には、使用するマスクの変更等が必要となるため、マスクの設計及び作製において、長い作業期間と費用がかかり、多様なパネルに対応するための製造適性に問題があった。また、マスクの形状維持のために、表現可能な図形等に制限が生じているのが現状である。

　一方、有機ＥＬ素子は薄膜構成であることが特徴の一つであり、フレキシブル基材を適用することで、有機ＥＬ素子に可撓性を付与でき、フレキシブル化が図れる。しかしながら、有機ＥＬ素子を構成する有機機能層等は、水や酸素による影響を受けやすいため、それらをガスバリアー層と封止層で保護する必要がある。しかし、これらガスバリアー層や封止層は、ガスバリアー性能や封止性能を高めるため、剛性の高い塗膜、例えば、金属の酸化物、窒化物、酸窒化物等で塗膜を構成する必要があるために、これらの塗膜の多くは折り曲げ等の応力を受けた際、塗膜が破断しやすくなり、ガスバリアー性の低下を招くため、ガスバリアー性とフレキシブル性の両立には限界があった。

　上記問題に対し、伸縮性を有する基材上に、互いに離間した位置に形成された、画素電極、発光層、共通電極から構成される複数の発光ユニットを有し、それぞれの発光ユニットが個別の封止部材で封止されている構成の伸縮可能な表示部材が開示されている（例えば、特許文献１参照。）。

　特許文献１で開示されている後述の図１Ｂで示すような構成の表示部材では、伸縮性を有する基材上にガスバリアー層の記載、更に詳しくは、互いに離間した位置に形成されている発光ユニットごとに、独立したガスバリアー層を形成する形態の記載はなく、そのため、ガスバリアー性能あるいは封止性能としては十分ではなく、また、その製造方法に関しての明確な記載はないが、ディスプレイであるがゆえにその製造工程が複雑であり、製造容易性にも懸念がある。

　また、基材上にガスバリアー層が複数に分割パターニングされ、それぞれのガスバリアー層上に表示エレメントが形成されているガスバリアー層つき基板とそれを具備した表示素子が開示されている（例えば、特許文献２参照。）。

　特許文献２で開示されているガスバリアー層つき基板や表示素子は、あくまでも中間製品であり、最終的には、ガスバリアー層により分割されたユニットごとに切断して、実装用の表示素子を得ることを目的とするものである。したがって、各ユニット間には各電極を接続するための配線が存在していない。また、特許文献２に記載の方法では、有機機能層を除いては、スパッタや蒸着等の乾式法であり、使用する装置が大型化し、製造工程も複雑となり、製造容易性に問題を抱えている。

米国特許公開第２０１６／０２１１４８３号明細書特開２００９－３７７９８号公報

　本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、封止性能とフレキシブル性を両立し、製造容易性に優れた有機エレクトロルミネッセンス素子を具備した面発光パネルとその製造方法を提供することである。

　本発明者は、上記課題に鑑み鋭意検討を進めた結果、ガスバリアー層、第１電極、有機機能層群、第２電極及び封止層がこの順で積層されている小面積の有機ＥＬ素子を複数個有し、前記ガスバリアー層が、個々の有機ＥＬ素子に対応して有し、前記複数の有機ＥＬ素子が、配線を介して電気的に接続されていることを特徴とする面発光パネルにより、封止性能とフレキシブル性を両立し、製造容易性に優れた有機ＥＬ素子を具備した面発光パネルを実現することができることを見いだし、本発明に至った。

　すなわち、本発明の上記課題は、下記の手段により解決される。

　１．フレキシブル基材の一方の面側に、少なくとも、ガスバリアー層、第１電極、有機機能層群、第２電極及び封止層がこの順で積層されている有機エレクトロルミネッセンス素子を複数個有する面発光パネルであって、
　前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子の１個当たりの発光面積が１００ｍｍ^２以下であり、
　前記ガスバリアー層を、前記有機エレクトロルミネッセンス素子ごとに独立して有し、かつ、
　前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子が、配線を介して電気的に接続されている
　ことを特徴とする面発光パネル。

　２．前記封止層を、前記有機エレクトロルミネッセンス素子ごとに独立して有していることを特徴とする第１項に記載の面発光パネル。

　３．前記封止層に隣接して、更に粘着層を有することを特徴とする第１項又は第２項に記載の面発光パネル。

　４．前記フレキシブル基材の前記有機エレクトロルミネッセンス素子を有する面とは反対側の面に、更に粘着層を有することを特徴とする第１項から第３項までのいずれか一項に記載の面発光パネル。

　５．第１項から第４項のいずれか一項に記載の面発光パネルを製造する面発光パネルの製造方法であって、
　前記面発光パネルが、フレキシブル基材の一方の面側に、少なくとも、ガスバリアー層、第１電極、有機機能層群、第２電極及び封止層を、湿式塗布法又はインクジェットプリント法により積層して製造することを特徴とする面発光パネルの製造方法。

　本発明によれば、封止性能とフレキシブル性を両立し、製造容易性に優れた有機エレクトロルミネッセンス素子を具備した面発光パネルとその製造方法を提供することができる。

　本発明で規定する構成からなる面発光パネルの技術的特徴とその効果の発現機構は、以下のように推察される。

　有機ＥＬ素子は、前述のとおり、薄膜構造が一つの特徴であり、フレキシブル基材を適用することでフレキブル化が図れるが、薄膜がゆえに、外部から侵入する水や酸素に対する耐性が低いため、ガスバリアー層や封止層で、水や酸素等の有害ガスから有機機能層等を保護する必要がある。

　このような有害ガスを遮断し、封止性能を高める方法としては、フレキシブル基材の全面にガスバリアー層や封止層を形成する方法が知られている。しかしながら、これらのガスバリアー層や封止層は、基本的には硬く緻密な膜（例えば、金属の酸化物、窒化物、酸窒化物等により構成される層）で構成されている場合が多い。このような金属酸化物、例えば、ＳｉＯ_２等で構成される層は剛性が高く、折り曲げ応力等を受けた際、形成した塗膜が割れ易い特性であるため、これらの構成からなるガスバリアー層や封止層を適用した面発光パネルでは、構成しているフレキシブル基材に対し、当該ガスバリアー層や封止層のフレキシブル性が対応していないため、亀裂や膜破壊を生じやすくなり、その破壊箇所よりリークやショートパスが生じ、ガスバリアー性が低下する問題を有している。

　本発明では、上記問題について鋭意検討を進めた結果、フレキシブル基材上に、それぞれの有機ＥＬ素子に対応してガスバリアー層を独立（離間）して有する発光面積が１００ｍｍ^２以下の小面積の有機ＥＬ素子を複数設置し、各離間して存在する有機ＥＬ素子間を、配線を介して電気的に接続することにより、屈曲した際のガスバリアー層への応力を分散させることで、面発光パネル全体のフレキシブル性を向上させることができた。

　また、本発明の面発光パネルの製造方法として、フレキシブル基材の一方の面側に、少なくとも、ガスバリアー層、第１電極、有機機能層群、第２電極及び封止層を、湿式塗布法又はインクジェットプリント法により積層して製造する方法を適用することにより、大型の真空装置等が不要なため、設備負荷が軽く、フレキシブル基材の材料選択や発光形状の自由度が高く、製造容易性に優れた面発光パネルの製造方法を提供することができる。

従来型の比較例の面発光パネルの構成の一例を示す概略配置図従来型の比較例の面発光パネルの構成の他の一例を示す概略配置図本発明の面発光パネルの代表的な構成の一例を示す概略配置図（実施形態１）本発明の面発光パネルの代表的な構成の他の一例を示す概略配置図（実施形態２）本発明の面発光パネルの製造フローの一例を示す上面図（第１ステップ）本発明の面発光パネルの製造フローの一例を示す上面図（第２ステップ）本発明の面発光パネルの製造フローの一例を示す上面図（第３ステップ）本発明の面発光パネルの製造フローの一例を示す上面図（第４ステップ）本発明の面発光パネルの製造フローの一例を示す上面図（第５ステップ）本発明の面発光パネルの製造フローの一例を示す上面図（第６ステップ）図５Ｃで示す面発光パネルの切断面Ａ－Ａで表される構成を示す断面図（実施形態３）図５Ｃで示す面発光パネルの切断面Ｂ－Ｂで表される構成を示す断面図（実施形態３）図６に示す構成で、更に透明吸湿剤層を組み入れた面発光パネルの一例を示す断面図(実施形態４) 本発明の面発光パネルの代表的な構成で、封止部材にアルペットを用いた一例を示す概略配置図（実施形態５）封止層上に粘着層を介して保護基板を設けた面発光パネルの一例を示す概略配置図（実施形態６）封止層上に粘着層を介して保護基板を設けた面発光パネルの他の一例を示す概略配置図有機ＥＬ素子の両面に粘着層と保護基板を設けた面発光パネルの一例を示す概略配置図（実施形態７）有機ＥＬ素子の両面に粘着層と保護基板を設けた面発光パネルの他の一例を示す概略配置図ガスバリアー層の形成に適用可能な真空紫外線照射装置の構成の一例を示す概略正面図湿式塗布方式の一例であるインクジェットプリント法の一例を示す概略図インクジェットプリント法に適用可能なインクジェットヘッドの構造の一例を示す概略斜視図インクジェットプリント法に適用可能なインクジェットヘッドの構造の一例を示す底面図図６で表される面発光パネルのインクジェットプリント法を用いた製造プロセスの一例を示す概略フロー図（その１）図６で表される面発光パネルのインクジェットプリント法を用いた製造プロセスの一例を示す概略フロー図（その２）

　本発明の面発光パネルは、フレキシブル基材の一方の面側に、少なくとも、ガスバリアー層、第１電極、有機機能層群、第２電極及び封止層がこの順で積層されている有機エレクトロルミネッセンス素子を複数個有する面発光パネルであって、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子の１個当たりの発光面積が１００ｍｍ^２以下であり、前記ガスバリアー層は、前記有機エレクトロルミネッセンス素子ごとに独立して有し、かつ、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子が、配線を介して電気的に接続されていることを特徴とする。この特徴は、下記各実施形態に係る発明に共通する技術的特徴である。

　本発明の実施形態としては、本発明の目的とする効果をより発現できる観点から、各有機ＥＬ素子を構成する封止層も、ガスバリアー層と同様に独立して有する構成とすることにより、面発光パネルのフレキシブル性をより一層向上させることができる点で好ましい。

　また、前記封止層に隣接して粘着層を有する構成とすることにより、フレキシブル性を取り崩さずに封止層を物理的に保護でき、かつ面発光パネルを、紙、布、壁材、窓ガラス等の別の部材に容易に貼り付けることが可能となり、好ましい。

　また、フレキシブル基材から光を取り出す場合、有機ＥＬ素子を有する面とは反対側の面に粘着層を有する構成とすることにより、別の部材に貼り付け、当該部材の裏面側から光を照射することができ、意匠的に好ましい。

　また、面発光パネルの製造方法においては、面発光パネルが、フレキシブル基材の一方の面側に、少なくとも、ガスバリアー層、第１電極、有機機能層群、第２電極及び封止層を、湿式塗布法又はインクジェットプリント法により積層して製造することを特徴とする。

　以下、本発明の面発光パネルの構成要素、及び本発明を実施するための形態について、図を交えて詳細な説明をする。なお、本願において、数値範囲を表す「～」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用している。なお、各図の説明において、構成要素の末尾に記載した数字は、各図における符号を表す。

　《有機ＥＬデバイスの基本構成》
　本発明の面発光パネルは、ガスバリアー層が、それぞれの微小面積の有機ＥＬ素子ごとに独立して形成され、かつ複数の有機ＥＬ素子間が、配線を介して電気的に接続されていることを特徴とする。

　本発明の面発光パネルの詳細な説明の前に、従来型の比較例である面発光パネルの構成について説明する。

　図１Ａ及び図１Ｂは、従来型の比較例の面発光パネルの構成の一例を示す概略配置図である。

　図１Ａは、従来型の面発光パネルの一例で、フレキシブル基材Ｆの全面に、共通のガスバリアー層２を形成し、その上に、それぞれ離間した状態で、第１電極４（陽極）、発光層を含む有機機能層群６、第２電極７（陰極）が積層されて有機ＥＬ素子を構成し、その積層体の周辺部を第１封止層８で封止した後、面発光パネルＰの全面を、共通の第２封止層９で被覆した構成である。各有機ＥＬ素子の第１電極４間は、電極配線１１により接続され、面発光体Ｐを構成している。

　このような面発光パネルＰでは、ガスバリアー層２が全面に形成されている構成であり、基材がフレキシブル基材Ｆで構成されている場合、折り曲げや引張等の応力を受けた際、共通構成のガスバリアー層に応力が集中し、その結果、ガスバリアー層で亀裂（ショートバス）や膜破壊が生じ、ガスバリアー性能の低下を招く。

　図１Ｂに示す構成の比較例である面発光パネルＰは、上記図１Ａで説明した面発光パネルＰに対し、第２封止層９が、それぞれ離間して形成されている有機ＥＬ素子（第１電極４、有機機能層群６、第２電極７）に対し独立して形成されている例を示しているが、この構成でも、ガスバリアー層２は共通の構成であり、応力を受けた場合には、上記と同様の問題が生じる。

　上記で示した構成は、例えば、特許文献１である米国特許公開第２０１６／０２１１４８３号明細書に記載されている構成である。

　次いで、本発明の面発光パネルの構成について、図を交えて説明する。なお、以下に説明する面発光パネルの各構成要素の詳細については、後述する。

　本発明の面発光パネルは、前述のとおり、フレキシブル基材の一方の面側に、少なくとも、ガスバリアー層、第１電極、有機機能層群、第２電極及び封止層がこの順で積層され、ガスバリアー層が有機ＥＬ素子ごとに独立・分離して形成され、かつ小面積の複数の有機ＥＬ素子間が配線を介して接続されていることを特徴とする。

　（実施形態１）
　図２は、本発明の面発光パネルの代表的な構成の一例である実施形態１を示す概略配置図である。

　図２に示す本発明の面発光パネルＰは、フレキシブル基材Ｆ上に、１個当たりの発光面積が１００ｍｍ^２以下である有機ＥＬ素子ＥＬを複数個、独立して配置している。有機ＥＬ素子の１個当たりの発光面積としては、２５ｍｍ^２以下であることが更に好ましい。下限は特に制限はないが、４ｍｍ^２以上であることが好ましい。

　それぞれの有機ＥＬ素子ＥＬごとに、独立したガスバリアー層２を有し、その上に、第１電極４（陽極）、発光層を含む有機機能層群６、第２電極７（陰極）が積層されている。その積層体の周辺部を、共通の第１封止層８及び第２封止層９で被覆して、面発光パネルＰを構成している。また、必要に応じて、フレキシブル基材Ｆとガスバリアー層２の間に、両者の密着性向上を目的として下地層（不図示）設けてもよい。また、各有機ＥＬ素子ＥＬでは、それぞれの第１電極４（陽極）間を電極配線１１で電気的に接続して、各有機ＥＬ素子ＥＬの発光制御を行う。各素子間の電極配線１１はフレキシブル基材Ｆ上に直接設置されていても良いが、下地層（不図示）を設け、その上に設置してもよい。なお、各有機ＥＬ素子においては、それぞれの第２電極７（陰極）間は電極配線により電気的に接続されているが、本図では便宜上、その記載は省略している。

　図２で示す面発光パネルＰにおいては、フレキシブル基材Ｆ、第１電極４、第２電極７、第１封止層８及び第２封止層９に適用する材料の光透過性を調整あるいは選択することにより、面発光パネルＰ上面側(封止層側)に発光光Ｌを取り出す、トップエミッション型ＴＥとすること、あるいは、面発光パネルＰの下面側（フレキシブル基材の裏面側）から発光光Ｌを取り出す、ボトムエミッション型ＢＥとすることができる。

　（実施形態２）
　図３は、本発明の面発光パネルの代表的な構成の一例である実施形態２を示す概略配置図である。

　図３に示す実施形態２である面発光パネルＰでは、上記説明した図２で示すガスバリアー層２のみを独立した構成とした面発光パネル（実施形態１）に対し、更に、第１封止層８及び第２封止層９を独立して形成している形態を示しており、より折り曲げ等のストレスを受けた際の折り曲げ耐性が向上する点で好ましい形態の一つである。

　（実施形態３）
　次いで、有機ＥＬ素子（ＥＬ）を含む面発光パネルＰのより詳細な構成（実施形態３）について、図４Ａ～図４Ｃ、図５～図５Ｃ、図６及び図７を用いて説明する。

　図４Ａ～図４Ｃ、図５～図５Ｃ、図６及び図７に示す面発光パネルＰでは、上記図２及び図３で説明した概略構成に対し、更にフレキシブル基材Ｆとガスバリアー層２の間に下地層１と、第１電極４（陽極）、発光層を含む有機機能層群６と第２電極７（陰極）と間に絶縁層５を設けた、より具体的な面発光パネルＰの構成を示す。

　図４Ａ～図４Ｃ、図５～図５Ｃは、後述する図６及び図７で示す構成の面発光パネルＰの製造ステップを示す製造フロー図（上面図）である。図６は上記製造フローで作製した面発光パネルＰの図５Ｃで示す切断面Ａ－Ａで表される構成を示す詳細断面図であり、図７は、図５Ｃで示す面発光パネルの切断面Ｂ－Ｂで表される構成を示す詳細断面図である。

　はじめに、図４Ａ～図４Ｃ、図５～図５Ｃを用いて、面発光パネル（実施形態３）の製造フローについて説明する。図４Ａ～図４Ｃ、図５～図５Ｃでは、フレキシブル基材Ｆ上に、各構成部材を順次積層して、面発光パネルＰを作製するフローを示してある。本発明の面発光パネルの製造方法においては、以下に説明する少なくとも、ガスバリアー層、第１電極、有機機能層群、第２電極及び封止層を、湿式塗布法又はインクジェットプリント法により積層して製造することを特徴とする。

　図４Ａでは、最下部に配置するフレキシブル基材Ｆ上に、例えば、紫外線硬化型樹脂より構成される下地層１を設置し、次いで、下地層１上に有機ＥＬ素子に対応した独立のガスバリアー層２を形成する。

　次いで、図４Ａで示す位置に、格子状のグリッド、例えば、Ａｇグリッド３を形成し、その上の所定の位置に、例えば、導電性ポリマー等で第１電極４（陽極）を形成する。

　次いで、図４Ｂで示すように、絶縁層５により第１電極４の端部である取り出し部を除いた領域のＡｇグリッド３表面を被覆する。

　次いで、図４Ｃで示すように、上記形成した絶縁層５で囲まれた開放部である第１電極４上に、発光層を含む有機機能層群６をパターン成膜する。

　次いで、図５Ａで示す位置に、第２電極７（陰極）を、有機機能層群６上で、Ａｇグリッド３間に格子状で形成する。

　次いで、図５Ｂで示すように、有機機能層群６と絶縁層５を被覆する様に、例えば、ポリオルガノシロキサン、ポリジメチルシロキサン（略称：ＰＤＭＳ）等により第１封止層８を形成する。

　最後に、図５Ｃで示すように、第１封止層８を被覆する様に、例えば、パーヒドロポリシラザン（略称：ＰＨＰＳ）等を用いて第２封止層９を形成して、面発光パネルＰを構成する有機ＥＬ素子ＥＬを作製する。

　この時、第２封止層９は、第１封止層８を被覆するため、第１封止層８より広い面積を有している。

　図６は、図５Ｃで示す面発光パネルの切断面Ａ－Ａで表される構成を示す断面図で、Ａ－Ａラインは、有機機能層群６が形成され、その全面に第２電極７が形成されている領域である。

　図６で示すように、フレキシブル基材Ｆの一部の領域に、下地層１を介して、独立したガスバリアー層２が形成されている。その上に、格子状のＡｇグリッド３を被覆する様に第１電極４が設けられている、その第１電極４の両端部を被覆する様に絶縁層５が設けられ、絶縁層５を形成していない非形成部（開口部）に有機機能層群６が形成され、その全面にわたり第２電極７が形成され、その上の一部領域に、第１封止層８と第２封止層９が形成され、面発光パネルＰを形成している。

　この切断面Ａ－Ａで表される構成においては、全面に形成され、露出部を有する第２電極７のガスバリアー性も重要になってくる。

　図７は、図５Ｃで示す面発光パネルの切断面Ｂ－Ｂで表される構成を示す断面図で、Ｂ－Ｂラインで表される領域は、Ａｇグリッド３及び絶縁層５が全面にわたり形成されている。

　図７で示す断面図は、Ａｇグリッド３及び絶縁層５が全巾にわたり形成されている構成であり、このような場合には、絶縁層５のガスバリアー性も重要になってくる。

　（実施形態４）
　図８は、図５Ｃで示す面発光パネルの切断面Ａ－Ａで表される構成に対し、更に透明吸湿剤層を組み入れた面発光パネルの一例を示す断面図（実施形態４）である。

　透明吸湿剤層１６は、封止層の封止性能を高めるため、図８に示すように、面発光パネル内の第１封止層８と第２封止層９の間に設置することが好ましい。

　透明吸湿剤層１６の詳細については後述する。

　（実施形態５）
　図９は、本発明の面発光パネルの代表的な構成で、第２封止層としてアルペットを適用した一例を示す概略配置図（実施形態５）である。

　図９で示す面発光パネルＰでは、前述の図２で説明した実施形態１の面発光パネルに対し、第２封止層としてアルペットＡＰを適用し、同時に、第１封止層として封止樹脂層１５を形成している一例を示してある。

　実施形態５に記載の構成においては、アルペット自身が光不透過性のため、発光光Ｌがフレキシブル基材Ｆの背面側（下面側）から放射されるボトムエミッション型となる。

　（実施形態６）
　上記説明した実施形態２～４においては、面発光パネルの基本的な構成について説明したが、次に、面発光パネルとして、より実用的な形態について説明する。

　図１０Ａ及び図１０Ｂは、封止層上に粘着層を介して保護基板を設けた面発光パネルの一例を示す概略配置図（実施形態６）である。

　図１０Ａで示す面発光パネルＰは、先に説明した図３に記載の面発光パネルの第２封止層９上に、第１粘着層１２と、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリエチレン（ＰＥ）等で構成されている第１保護部材１３が積層されている構成を示してある。この構造においては、各有機ＥＬ素子ＥＬ間には、間隙Ｖが形成されうるが、この間隙Ｖは極めて狭い空間であり、特に充填物を添加しない状態、又は、必要に応じて粘着層を構成する粘着剤が充填されて封止構造を形成することもできる。

　この第１保護部材１３は、面発光パネルＰが外圧を受けた際の有機ＥＬ素子ＥＬを保護する役割と、下記の図１０Ｂで説明するようなセパレートフィルムとしての役割も果たす。

　また、図１０Ａで示した構成の面発光パネルＰは、図１０Ｂで示すように、面発光パネルＰの最表面に設けた第１保護部材１３を剥離（セパレート）し、露出している第１粘着層１２を介して、設置部材１４、例えば、紙、布、壁面、あるいは窓ガラスなどの様々な形状を有する部材に貼付して、フレキシブル性に優れた面状照明装置やサインボードを得ることができる。

　（実施形態７）
　図１１Ａ及び図１１Ｂは、有機ＥＬ素子の両面に粘着層と保護基板を設けた面発光パネルの一例を示す概略配置図（実施形態７）である。

　実施形態７である図１１Ａで示す面発光パネルＰは、上記説明した図１０Ａに記載の面発光パネルに対し、更に、フレキシブル基材Ｆの裏面側に、第２粘着層１２Ｂを介して、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリエチレン（ＰＥ）等で構成されている第２保護部材１３Ｂが積層されている。図１１Ａで示す場合においても、各有機ＥＬ素子（ＥＬ）間には、間隙Ｖが形成されている。この間隙Ｖは極めて狭い空間であり、特に充填物を添加しない状態、又は、必要に応じて粘着層を構成する粘着剤が充填されて封止構造を形成することもできる。

　また、図１１Ａで示した構成の面発光パネル（Ｐ）においても、図１１Ｂで示すように、面発光パネルＰの裏面に設けた第２保護部材１３Ｂを剥離（セパレート）し、露出している第２粘着層１２Ｂを介して、設置部材１４、例えば、紙、布、壁面、あるいは窓ガラスなどの様々な形状を有する部材に貼付して、フレキシブル性に優れた面状照明装置やサインボードを得ることができる。

　《有機ＥＬデバイスの構成部材》
　次いで、上記各図を用いて説明した本発明の面発光パネルの主要構成部材の詳細について、以下に説明する。

　〔フレキシブル基材Ｆ〕
　本発明の面発光パネルに適用可能なフレキシブル基材Ｆとしては、フレキシブル性を備えた基材であればよく、例えば、薄膜ガラス、樹脂フィルム、メタルホイル、ファブリック（例えば、生地や織物等）、紙、エラストマー（ゴム生地）等を適用することができ、また、透明であっても不透明であってもよい。

　有機ＥＬ素子ＥＬとして、フレキシブル基材Ｆ側から発光光Ｌを取り出すボトムエミッション型ＢＥの場合には、フレキシブル基材Ｆは光透過性であることが好ましい。光透過性であるということは、可視光領域における全光線透過率が２０％以上であることをいい、５０％以上であることが好ましく、８０％以上の透明性を有していることがより好ましい。特に好ましいフレキシブル基材Ｆは、有機ＥＬ素子にフレキシブル性を与えることが可能な樹脂フィルムである。

　樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）、セルロースアセテートフタレート、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類またはそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート（ＰＣ）、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド（ＰＩ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン類、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリルあるいはポリアリレート類、アートン（商品名ＪＳＲ社製）あるいはアペル（商品名三井化学社製）といったシクロオレフィン系樹脂等を挙げられる。

　ファブリックとしては、例えば、綿、羊毛、絹、ナイロン、リネン、レーヨン、アクリル、ポリエステル、ポリウレタン等により構成されている生地、織物、編物、不織布等いずれの形態でもよい。

　エラストマーとしては、天然ゴムの他に、合成ゴムを挙げることができ、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、スチレン・ブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ニトリルゴム、ブチルゴム、エチレンプロピレンゴム、アクリルゴム、フッ素ゴム、ウレタンゴム、シリコーンゴム等を挙げることができる。

　フレキシブル基材は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。フレキシブル基材が２層以上の積層構造である場合、各基材は同じ種類であってもよいし異なる種類であってもよい。また、有機ＥＬ素子を作製した後に剥離、分離できる構成でもよい。

　〔フレキシブル基材の密着性向上処理〕
　フレキシブル基材Ｆ表面には、フレキシブル基材上に形成するガスバリアー層２との密着性を高めるため、表面活性化処理が施されていてもよいし、下地層が設けられていてもよい。また、耐衝撃性を高めるため、ハードコート層が設けられていてもよい。

　表面活性化処理としては、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理等が挙げられる。

　下地層及びハードコート層の材料としては、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタン、ビニル系共重合体、ブタジエン系共重合体、アクリル系共重合体、ビニリデン系共重合体、エポキシ系共重合体等が挙げられ、なかでも紫外線硬化型樹脂を好ましく使用できる。下地層は単層でもよいが、多層構造であると密着性がより向上する。予めハードコート層が形成されている市販のプラスチック基材を用いても良いし、フレキシブル基材の必要な部分にのみ塗布、硬化して、下地層やハードコート層を設置しても良い。

　〔ガスバリアー層２〕
　ガスバリアー層は、有機ＥＬ素子に対し、外部から有害成分（酸素、水分等）の侵入を防止する機能を有する層で、本発明の面発光パネルにおいては、複数個存在する各有機ＥＬ素子に対応し、独立した形態で形成されていることが特徴である。

　本発明に係るガスバリアー層の厚さは、目的に応じて適宜設定することができるが、一般的には、１００ｎｍ～１０μｍの範囲内とすることができる。

　また、本発明に係るガスバリアー層は、湿式塗布法又はインクジェットプリント法により形成することを特徴とする。

　（ケイ素含有ポリマー）
　本発明に係るガスバリアー層の形成に適用可能な材料としては、繰り返し構造中にケイ素と酸素（Ｓｉ－Ｏ）、ケイ素と窒素（Ｓｉ－Ｎ）等の結合を有するケイ素含有ポリマーを含有している構成を一例として挙げることができる。

　ケイ素含有ポリマーの具体例としては、繰り返し構造中に、Ｓｉ－Ｏ結合を有するポリシロキサン（ポリシルセスキオキサンを含む）、Ｓｉ－Ｎ結合を有するポリシラザン、Ｓｉ－Ｏ結合とＳｉ－Ｎ結合の両方を含むポリシロキサザン等が挙げられる。これらは２種以上を混合して使用することができる。また、異なる種類のケイ素含有ポリマーの層を積層することもできる。

　〈ポリシロキサン〉
　ポリシロキサンは、繰り返し構造中に、－〔ＲａＳｉＯ_１／２〕－、－〔ＲｂＳｉＯ〕－、－〔ＲｃＳｉＯ_３／２〕－、－〔ＳｉＯ_２〕－等を含む化合物である。

　Ｒａ、Ｒｂ及びＲｃは、それぞれ独立に、水素原子、１～２０の炭素原子を含むアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、不飽和アルキル基）等の置換基を表す。好ましい一例は、ポリオルガノシロキサン、ポリジメチルシロキサン（略称：ＰＤＭＳ）である。ポリシルセスキオキサンは、上記ポリシロキサンのなかでもシルセスキオキサンと同じ構造を繰り返し構造中に含む化合物である。シルセスキオキサンは、上記－［ＲｃＳｉＯ_３／２］－で表される構造を有する化合物である。

　〈ポリシラザン〉
　ポリシラザンの構造は、下記一般式（Ａ）で表すことができる。

　一般式（Ａ）
　　　－［Ｓｉ（Ｒ_１）（Ｒ_２）－Ｎ（Ｒ_３）］－
　上記一般式（Ａ）において、Ｒ_１、Ｒ_２及びＲ_３は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アルキルシリル基、アルキルアミノ基又はアルコキシ基を表す。

　上記一般式（Ａ）中のＲ_１、Ｒ_２及びＲ_３の全てが水素原子であるポリシラザンが、パーヒドロポリシラザン（略称：ＰＨＰＳ）である。パーヒドロポリシラザンは、緻密な膜が得られる点で好ましい。

　パーヒドロポリシラザンは、直鎖構造と、６員環及び８員環を中心とする環構造が存在した構造と推定されている。その分子量は、数平均分子量（Ｍｎ）で約６００～２０００程度（ポリスチレン換算）で、液体又は固体の物質があり、その状態は分子量により異なる。

　一方、上記一般式（Ａ）において、Ｓｉと結合する水素原子の一部がアルキル基等で置換されたポリシランがオルガノポリシラザンである。オルガノポリシラザンは、メチル基等のアルキル基によって下地層との密着性が向上し、かつ硬くてもろい特性を有するポリシラザンに靭性を付与することができるため、膜を厚くした場合でもクラックの発生が抑えられるという利点がある。したがって、用途に応じて適宜、パーヒドロポリシラザンとオルガノポリシラザンを選択するか、又は両者を混合して使用すればよい。

　〈ポリシロキサザン〉
　ポリシロキサザンは、繰り返し構造中に、－［（ＳｉＨ_２）_ｎ（ＮＨ）_ｒ］－と－［（ＳｉＨ_２）_ｍＯ］－で表される構造を含む。ｎ、ｍ及びｒは、それぞれ独立に、１～３を表す。

　〈その他のポリシラザン〉
　低温でセラミック化するポリシラザンの他の例としては、上記一般式（Ａ）で表される単位からなる主骨格を有するポリシラザンに、ケイ素アルコキシドを反応させて得られるケイ素アルコキシド付加ポリシラザン（例えば、特開平５－２３８８２７号公報参照。）、グリシドールを反応させて得られるグリシドール付加ポリシラザン（例えば、特開平６－１２２８５２号公報参照。）、アルコールを反応させて得られるアルコール付加ポリシラザン（例えば、特開平６－２４０２０８号公報参照。）、金属カルボン酸塩を反応させて得られる金属カルボン酸塩付加ポリシラザン（例えば、特開平６－２９９１１８号公報参照。）、金属を含むアセチルアセトナート錯体を反応させて得られるアセチルアセトナート錯体付加ポリシラザン（例えば、特開平６－３０６３２９号公報参照。）、金属微粒子を添加して得られる金属微粒子添加ポリシラザン（例えば、特開平７－１９６９８６号公報参照。）等が挙げられる。

　（ガスバリアー層の成膜方法）
　本発明に係るガスバリアー層は、湿式塗布法又はインクジェットプリント法により形成することを特徴とする。その形成方法としては、ロールコート法、フローコート法、スプレーコート法、プリント法、ディップコート法、バーコート法、流延成膜法、インクジェットプリント法、グラビア印刷法等が挙げられるが、製造容易性を重視する場合には、インクジェットプリント法が好ましい。

　（ガスバリアー層形成用塗布液）
　ガスバリアー層の形成用塗布液の調製に用いる溶媒としては、ポリシラザンと容易に反応するアルコール系有機溶媒又は水分を含む有機溶媒の使用を避けることが好ましい。したがって、ガスバリアー層形成用塗布液の調製に使用できる有機溶媒としては、例えば、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、芳香族炭化水素等の炭化水素溶媒、ハロゲン化炭化水素溶媒、脂肪族エーテル、脂環式エーテル等のエーテル類等が挙げられる。具体的には、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、ソルベッソ、ターベン等の炭化水素類、塩化メチレン、トリクロロエタン等のハロゲン炭化水素類、ジブチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類等が挙げられる。これらの有機溶媒は、ポリシラザンの溶解度や有機溶媒の蒸発速度等の特性に合わせて選択し、複数の有機溶媒を混合してもよい。

　ガスバリアー層形成用塗布液としては、ポリシラザンを有機溶媒中に溶解させた市販品を使用することができる。使用できる市販品としては、ＡＺエレクトロニックマテリアルズ社製のアクアミカＮＡＸ１２０－２０、ＮＮ１１０、ＮＮ３１０、ＮＮ３２０、ＮＬ１１０Ａ、ＮＬ１２０Ａ、ＮＬ１５０Ａ、ＮＰ１１０、ＮＰ１４０、ＳＰ１４０等が挙げられる。

　ガスバリアー層形成用塗布液は、改質処理を促進する観点から、触媒を含有することもできる。触媒としては、塩基性触媒が好ましく、例えば、Ｎ，Ｎ－ジエチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、トリエチルアミン、３－モルホリノプロピルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′－テトラメチル－１，３－ジアミノプロパン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′－テトラメチル－１，６－ジアミノヘキサン等のアミン触媒、Ｐｔアセチルアセトナート等のＰｔ化合物、プロピオン酸Ｐｄ等のＰｄ化合物、Ｒｈアセチルアセトナート等のＲｈ化合物等の金属触媒、Ｎ－複素環式化合物等が挙げられる。

　ガスバリアー層形成用塗布液におけるケイ素含有ポリマーの含有量は、形成するケイ素含有ポリマー改質層の厚さや塗布液のポットライフによっても異なるが、おおむね０．２～３５．０質量％の範囲内であることが好ましい。

　形成したガスバリアー層塗膜には、塗膜中の有機溶媒を除去する観点から、加熱による乾燥処理を施すことができる。

　乾燥処理工程における加熱温度は、５０～２００℃の範囲内とすることができる。加熱時間は、樹脂フィルム等で構成されているフレキシブル基材の変形等を防ぐため、短時間に設定することが好ましい。例えば、フレキシブル基材として、ガラス転移温度が７０℃のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）で構成されている樹脂フィルムの場合、乾燥処理時の温度としては、樹脂フィルムの変形を防止するため、１５０℃以下に設定することができる。

　また、形成したガスバリアー層の塗膜に、塗膜中の水分を取り除く観点から、低湿度環境に維持して除湿する乾燥処理を施すこともできる。低湿度環境における湿度は、温度により変化するので、温度と湿度の関係は露点温度の規定により決定することができる。好ましい露点温度は４℃以下（温度２５℃／湿度２５％）で、より好ましい露点温度は－８℃（温度２５℃／湿度１０％）以下、さらに好ましい露点温度は－３１℃（温度２５℃／湿度１％）以下である。水分を取り除きやすくするため、減圧乾燥してもよい。減圧乾燥における圧力は常圧～０．１ＭＰａの範囲内で選ぶことができる。

　（ガスバリアー層の改質処理）
　ガスバリアー層は、上述したケイ素含有ポリマーを含有する塗布液を用いて塗膜を形成した後、当該塗膜に改質処理を施すことにより形成することができる。なお、改質処理によりケイ素含有ポリマーをシリカ等に転化させて改質処理物を得ることができるが、ケイ素含有ポリマーの全てを改質する必要はなく、少なくとも一部、例えば、紫外線照射面側が改質されていればよい。

　ガスバリアー層の改質処理の方法としては、樹脂フィルム等で構成されているフレキシブル基材への熱ダメージ等が少ない公知の方法を適用することができ、低温処理が可能なプラズマ処理、オゾン処理、紫外線又は真空紫外線の照射処理等を用いることができる。なかでも、真空紫外線の照射処理は、ケイ素含有ポリマーを改質したガスバリアー層を形成してから、次工程までの間の環境の影響によってガスバリアー性が低下しにくいことから、好ましい。

　真空紫外線照射処理は、ケイ素含有ポリマーを構成する原子間結合力より大きい１００～２００ｎｍの波長範囲にある真空紫外光（Ｖａｃｃｕｍ　Ｕｌｔｒａ　Ｖｉｌｅｔ、略称：ＶＵＶ）の光エネルギーを用い、原子間の結合を光量子プロセスと呼ばれる、光子のみによる作用により直接切断するとともに、活性酸素やオゾンによる酸化反応を進行させることで、約２００℃以下の比較的低温の環境下で、ケイ素含有ポリマーをシリカ等に転化させる処理である。

　真空紫外光の光源としては、１００～２００ｎｍの範囲内にある波長の光を発生させるものであればよく、照射波長が、約１７２ｎｍの希ガスエキシマランプ（例えば、エム・ディ・コム社製のＸｅエキシマランプ　ＭＯＤＥＬ：ＭＥＣＬ－Ｍ－１－２００）、約１８５ｎｍの低圧水銀蒸気ランプ、２００ｎｍ以下の中圧及び高圧水銀蒸気ランプ等が挙げられる。

　エキシマランプの特徴としては、単一波長の光を放射し、発光効率が極めて高いこと、放射する光が短波長で照射対象の温度を低温状態に保てること、瞬時の点灯及び点滅が可能であること等が挙げられ、熱の影響を受けやすい樹脂フィルムで構成されているフレキシブル基材にも適用しやすい光源である。特に、Ｘｅエキシマランプが放射する１７２ｎｍという短い単一波長の真空紫外光は、酸素の吸収係数が大きく、微量な酸素から高濃度の活性酸素又はオゾンを発生させ、有機物の結合の解離能力が高いことから、短時間での改質処理を可能とする。

　真空紫外線の照射条件は、ケイ素含有ポリマー改質によるガスバリアー層より下のフレキシブル基材を劣化させない範囲内で設定すればよい。例えば、紫外線の照射時間は、フレキシブル基材や下地層、ガスバリアー層形成用塗布液の組成、濃度等にもよるが、一般に０．１秒～１０分の範囲内であり、０．５秒～３分の範囲内であることが好ましい。なお、均一に紫外線を照射する観点から、光源からの紫外線を反射板で反射させた反射光をケイ素含有ポリマー改質層の塗膜に照射することが好ましい。

　真空紫外線の照度は、１ｍＷ／ｃｍ^２～１０Ｗ／ｃｍ^２の範囲内とすることができる。１ｍＷ／ｃｍ^２以上であれば、改質効率が向上し、１０Ｗ／ｃｍ^２以下であれば、塗膜に生じ得るアブレーション、フレキシブル基材や下地層のダメージ等を低減することができる。真空紫外線の照射エネルギー量（照射量）は、０．１～１０．０Ｊ／ｃｍ^２での範囲内にすることができる。この範囲であれば、過剰な改質によるクラックの発生、フレキシブル基材の熱変形等を防止することができ、生産性も向上する点で好ましい。

　真空紫外線照射処理は、バッチ処理でも連続処理でもよい。バッチ処理の場合、真空紫外線の光源を備える紫外線焼成炉（例えば、アイグラフィクス社製の紫外線焼成炉。）を用いて処理することができる。連続処理の場合、フレキシブル基材を搬送して真空紫外線の光源を備えるゾーン内で連続的に真空紫外線を照射すればよい。

　真空紫外線照射時の反応には酸素が必要であるが、真空紫外線は酸素による吸収があり、改質効率が低下しやすいことから、できる限り酸素濃度及び水蒸気濃度の低い雰囲気内で真空紫外線の照射を行うことが好ましい。例えば、真空紫外線照射時の酸素濃度は、１０～２００００体積ｐｐｍ（０．００１～２体積％）の範囲内とすることができる。水蒸気濃度は、好ましくは１０００～４０００体積ｐｐｍの範囲内である。上記雰囲気の調整には、乾燥不活性ガス、特にコストの観点から乾燥窒素ガスを用いることが好ましい。酸素濃度の調整は、室内に導入する酸素ガス及び不活性ガスの流量比を調整することにより、行うことができる。

　次いで、本発明にガスバリアー層の形成に用いる真空紫外線照射装置について説明する。

　図１２は、ガスバリアー層の形成に適用可能な真空紫外線照射装置の構成の一例を示す概略正面図である。

　図１２に示すように、真空紫外線照射装置１００は、ステージ１０４上に下地層１及びガスバリアー層の前駆体であるケイ素含有ポリマー含有膜を有するフレキシブル基材Ｆを載せてチャンバー１０１内を搬送する。チャンバー１０１内は、排気によって水蒸気が除去され、不活性ガスの導入により酸素濃度が一定に調整されている。

　ステージ１０４はヒーターを内蔵し、フレキシブル基材Ｆを加熱することが可能である。チャンバー１０１内は、遮蔽板１０６によってフレキシブル基材Ｆの搬送方向Ｖで３つのゾーンに分けられ、中央の真空紫外線照射ゾーンには複数のＸｅエキシマランプ１０２が設置されている。Ｘｅエキシマランプ１０２は、電源を内蔵するホルダー１０３によって支持され、点灯制御される。ケイ素含有ポリマー含有膜が形成されたフレキシブル基材Ｆを、このＸｅエキシマランプ１０２が設置された真空紫外線照射ゾーン内を通過させることにより、真空紫外線を照射して、ガスバリアー層に改質することができる。

　ケイ素含有ポリマー改質層は単層でも良いが、ガスバリアー性をより高める観点から２層以上の積層構造であってもよい。積層構造をとる場合には、例えば、ポリシロキサン／ポリシラザンのように、ケイ素含有ポリマーの種類が異なる構成の積層でもよい。種類を変えることにより、ガスバリアー性だけでなく層間密着性の制御も可能となる。

　〔グリッド３〕
　図４Ａで示すグリッド３は、導電性の金属細線から構成されている。グリッド３の形状は、格子状に限らず、ストライプ状、ハニカム構造状、網目状等の様々な形状のグリッドを使用できる。位置によらず均一な導電性を得る観点からは、本発明の面発光パネルにおいては、格子状であることが好ましい。

　グリッド３を構成する金属細線の線幅ｄｗは、１０～２０００μｍの範囲内にあることが好ましい。線幅ｄｗが１０μｍ以上であれば十分な導電性が得られ、２０００μｍ以下であれば透明性の低下を抑制できる。

　グリッド３を構成する金属細線の高さｄｈは、０．１～１０．０μｍの範囲内にあることが好ましい。高さｄｈが０．１μｍ以上であれば十分な導電性が得られ、１０．０μｍ以下であれば電子デバイスに用いたときに電流リークを防ぐことができる。

　グリッド３の抵抗率は、１００Ω／ｓｑ．以下であることが好ましく、大面積化するには２０Ω／ｓｑ．以下であることがより好ましい。グリッド３の抵抗率は、ＪＩＳ　Ｋ　７１９４－１９９４に準拠して測定することができる。

　グリッド３の開口率は、透明性を高める観点から、８０％以上であることが好ましい。開口率とは、面発光部の全面積のうち、グリッドを形成する金属細線が配置されていない領域が占める面積の割合である。例えば、線幅が１ｍｍ、線間隔が１０ｍｍの金属細線が、格子状に形成されたグリッドの開口率は、約９０％である。

　グリッド３の金属細線に使用可能な導電性の金属材料としては、例えば、金、銀、銅、鉄、コバルト、ニッケル、クロム、これらの合金等が挙げられる。低抵抗という観点からは、銀又は銅が好ましく、特に好ましくは銀である。

　グリッド３は、上記金属材料を用いた金属ナノ粒子、金属錯体等を含有する塗布液を、凸版印刷法、凹版印刷法、孔版印刷法、スクリーン印刷法、インクジェットプリント法、インクジェット平行線描画法等により所望の形状に塗布することにより、形成することができる。インクジェット平行線描画法は、塗布液を線状に塗布したときに線の中央部から端部へと塗布液が流動して端部の固形化がすすむコーヒーステイン現象を利用して、１本の線から２本の平行線を形成する方法である。ランダムな網目形状を形成する場合は、特表２００５－５３０００５号公報に記載のように、金属微粒子を含有する塗布液を塗布した後、乾燥することにより、自発的に金属微粒子が無秩序な網目形状を形成する方法を利用できる。なかでも、形状の制御が容易なインクジェットプリント法又は細線形成の精度が高いインクジェット平行線描画法が好ましい。

　金属錯体を含有する塗布液は、錯体を形成する金属が溶媒中に分散又は溶解されていればよい。溶媒としては、ケトカルボン酸、ベヘン酸、ステアリン酸等を使用できる。また、特表２００８－５３０００１号公報には、銀化合物とアンモニウムカーボネート系化合物とを反応して誘導された銀錯体化合物も挙げられている。塗布液は、還元剤として、アミン系化合物を含有することもできる。

　グリッド形成時、フレキシブル基材Ｆにダメージを与えない範囲で加熱処理を施すことが好ましい。これにより、金属ナノ粒子や金属錯体等の金属材料の融着が進み、グリッドの導電性が高まる。加熱処理には、一般的なオーブンやホットプレートによる加熱方法等を用いることができる。また、フラッシュパルス光照射処理、マイクロ波処理、プラズマ処理、誘電加熱処理、エキシマ光照射処理、紫外線処理、赤外ヒーター処理、熱風ヒーター処理等により、局所的な加熱処理を施してもよく、上記オーブン等による加熱処理と併用してもよい。

　グリッド３表面の平滑性としては、ＪＩＳ　Ｂ　０６０１－２０１３に準拠して測定される最大断面高さＲｔ（ｐ）が５００ｎｍ以下であることが好ましく、２００ｎｍ以下であることがより好ましく、１００ｎｍ以下がさらに好ましい。平滑性が高いほど、電極として用いたときの有機ＥＬ素子の歩留りや連続駆動性が向上する。

　〔第１電極４〕
　第１電極４は、陽極又はアノードとも称され、図６で一例を示すように、ガスバリアー層２上に上記グリッド３を形成し、当該グリッド３上を被覆するように第１電極４が形成されている。あるいは、ガスバリアー層２上に第１電極４を形成し、当該第１電極４上にグリッド３が形成されている構成であってもよい。第１電極４は、主には、導電性ポリマー、カーボン材料、金属ナノ材料、又はこれらの混合で構成され、湿式塗布法又はインクジェットプリント法により形成可能なことが好ましい。

　第１電極層４の厚さは、３０～２０００ｎｍの範囲内にすることができる。導電性を高める観点からは、厚さが１００ｎｍ以上であることが好ましい。表面の平滑性を高める観点からは、厚さが２００ｎｍ以上であることが好ましく、透明性を高める観点からは、厚さが１０００ｎｍ以下であることがより好ましい。

　（導電性ポリマー）
　本発明において、第１電極の形成に適用可能な導電性ポリマーの一例として、ポリアニオンを含有するπ共役系導電性高分子を挙げることができる。

　本発明に適用可能なπ共役系導電性高分子としては、例えば、ポリチオフェン類、ポリピロール類、ポリインドール類、ポリカルバゾール類、ポリアニリン類、ポリアセチレン類、ポリフラン類、ポリパラフェニレンビニレン類、ポリアズレン類、ポリパラフェニレン類、ポリパラフェニレンサルファイド類、ポリイソチアナフテン類、ポリチアジル類等が挙げられる。なかでも、導電性、透明性、安定性等を高める観点から、ポリチオフェン類又はポリアニリン類が好ましく、ポリエチレンジオキシチオフェンがより好ましい。

　π共役系導電性高分子は、π共役系導電性高分子を形成する前駆体モノマーを、酸化剤、酸化触媒及びポリアニオンの存在の下で、化学酸化重合させることによって容易に製造できる。π共役系導電性高分子の形成に用いられる前駆体モノマーは、分子内にπ共役系を有し、酸化剤の作用によって高分子化した際にも主鎖にπ共役系を有する。そのような前駆体モノマーとしては、例えば、ピロール類、チオフェン類、アニリン類、及びこれらの誘導体等が挙げられる。

　前駆体モノマーの具体例としては、ピロール、３－メチルピロール、３－エチルピロール、３－ｎ－プロピルピロール、３－ブチルピロール、３－オクチルピロール、３－デシルピロール、３－ドデシルピロール、３，４－ジメチルピロール、３，４－ジブチルピロール、３－カルボキシルピロール、３－メチル－４－カルボキシルピロール、３－メチル－４－カルボキシエチルピロール、３－メチル－４－カルボキシブチルピロール、３－ヒドロキシピロール、３－メトキシピロール、３－エトキシピロール、３－ブトキシピロール、３－ヘキシルオキシピロール、３－メチル－４－ヘキシルオキシピロール、チオフェン、３－メチルチオフェン、３－エチルチオフェン、３－プロピルチオフェン、３－ブチルチオフェン、３－ヘキシルチオフェン、３－ヘプチルチオフェン、３－オクチルチオフェン、３－デシルチオフェン、３－ドデシルチオフェン、３－オクタデシルチオフェン、３－ブロモチオフェン、３－クロロチオフェン、３－ヨードチオフェン、３－シアノチオフェン、３－フェニルチオフェン、３，４－ジメチルチオフェン、３，４－ジブチルチオフェン、３－ヒドロキシチオフェン、３－メトキシチオフェン、３－エトキシチオフェン、３－ブトキシチオフェン、３－ヘキシルオキシチオフェン、３－ヘプチルオキシチオフェン、３－オクチルオキシチオフェン、３－デシルオキシチオフェン、３－ドデシルオキシチオフェン、３－オクタデシルオキシチオフェン、３，４－ジヒドロキシチオフェン、３，４－ジメトキシチオフェン、３，４－ジエトキシチオフェン、３，４－ジプロポキシチオフェン、３，４－ジブトキシチオフェン、３，４－ジヘキシルオキシチオフェン、３，４－ジヘプチルオキシチオフェン、３，４－ジオクチルオキシチオフェン、３，４－ジデシルオキシチオフェン、３，４－ジドデシルオキシチオフェン、３，４－エチレンジオキシチオフェン、３，４－プロピレンジオキシチオフェン、３，４－ブテンジオキシチオフェン、３－メチル－４－メトキシチオフェン、３－メチル－４－エトキシチオフェン、３－カルボキシチオフェン、３－メチル－４－カルボキシチオフェン、３－メチル－４－カルボキシエチルチオフェン、３－メチル－４－カルボキシブチルチオフェン、アニリン、２－メチルアニリン、３－イソブチルアニリン、２－アニリンスルホン酸、３－アニリンスルホン酸等が挙げられる。

　ポリアニオンは、置換若しくは未置換のポリアルキレン、置換若しくは未置換のポリアルケニレン、置換若しくは未置換のポリイミド、置換若しくは未置換のポリアミド、置換若しくは未置換のポリエステル、又はこれらの共重合体であって、アニオン基を有する構成単位とアニオン基を有さない構成単位とからなる化合物である。ポリアニオンは、π共役系導電性高分子を溶媒に可溶化又は分散させ、ポリアニオンのアニオン基はπ共役系導電性高分子に対するドーパントとして機能して、π共役系導電性高分子の導電性と耐熱性を向上させる。

　ポリアニオンのアニオン基としては、π共役系導電性高分子への化学酸化ドープが起こりうる官能基であればよいが、製造を容易とし、安定性を高める観点からは、一置換硫酸エステル基、一置換リン酸エステル基、リン酸基、カルボキシ基、スルホ基等が好ましい。なかでも、官能基のπ共役系導電性高分子へのドープ効果の観点から、スルホ基、一置換硫酸エステル基又はカルボキシ基がより好ましい。

　ポリアニオンの具体例としては、ポリビニルスルホン酸、ポリスチレンスルホン酸、ポリアリルスルホン酸、ポリアクリル酸エチルスルホン酸、ポリアクリル酸ブチルスルホン酸、ポリ－２－アクリルアミド－２－メチルプロパンスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸、ポリビニルカルボン酸、ポリスチレンカルボン酸、ポリアリルカルボン酸、ポリアクリルカルボン酸、ポリメタクリルカルボン酸、ポリ－２－アクリルアミド－２－メチルプロパンカルボン酸、ポリイソプレンカルボン酸、ポリアクリル酸等が挙げられる。さらに、これらの単独重合体であってもよいし、２種以上の共重合体であってもよい。

　また、分子内にさらにフッ素原子を有するフッ素化ポリアニオンも使用することができる。具体的には、パーフルオロスルホン酸基を含有するナフィオン（Ｄｕｐｏｎｔ社製）、カルボン酸基を含有するパーフルオロ型ビニルエーテルからなるフレミオン（旭硝子社製）等が挙げられる。フッ素化ポリアニオンは、非フッ素化ポリアニオンと併用することにより、正孔注入機能を付加した透明電極を一体形成することができ、生産性が高まることから好ましい。

　ポリアニオンの重合度は、モノマー単位が１０～１０００００個の範囲内にあることが好ましく、溶媒への溶解性及び導電性を高める点からは、５０～１００００個の範囲内にあることがより好ましい。

　導電性ポリマーにおけるπ共役系導電性高分子とポリアニオンの比率、すなわちπ共役系導電性高分子：ポリアニオンの質量比は、１：１～１：２０の範囲内とすることができ、導電性及び分散性を高める観点からは、１：２～１：１０の範囲内とすることが好ましい。

　導電性ポリマーは市販品を使用してもよく、例えば、ポリ（３，４－エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸からなる導電性ポリマー（以下、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳと略す）の市販品としては、Ｈｅｒａｅｕｓ社のＣｌｅｖｉｏｓシリーズ、Ａｌｄｒｉｃｈ社のＰＥＤＯＴ－ＰＳＳの４８３０９５、５６０５９６、Ｎａｇａｓｅ　Ｃｈｅｍｔｅｘ社のＤｅｎａｔｒｏｎシリーズ等がある。また、ポリアニリンの市販品としては、日産化学工業社製のＯＲＭＥＣＯＮシリーズ等を使用できる。

　（非導電性ポリマー）
　第１電極４は、透明性を高める観点から、上記説明した導電性ポリマーとともに、非導電性ポリマーを含有することが好ましく、さらに非導電性ポリマーが自己分散型ポリマー及びヒドロキシ基含有ポリマーの少なくとも一つを含有することがより好ましい。非電導性ポリマーを用いることにより、第１電極４の導電性を損なうことなく、導電性ポリマーの含有量を減らすことができ、第１電極として高い導電性と透明性の両方を備える透明電極を得ることができる。

　〈自己分散型ポリマー〉
　導電性ポリマーと併用できる自己分散型ポリマーは、解離性基を有し、ミセル形成を補助する界面活性剤や乳化剤等がなくても、自己分散型ポリマーにより形成されるコロイド粒子が凝集することなく、自己分散型ポリマー単体で水系媒体中に分散することが可能な非導電性ポリマーである。自己分散型ポリマーは透明性が高いと、第１電極４の透明性を高めることができ、好ましい。

　自己分散型ポリマーの使用量は、導電性ポリマーに対して５０～１０００質量％の範囲内とすることができる。

　自己分散型ポリマーの主骨格としては、ポリエチレン、ポリエチレン－ポリビニルアルコール、ポリエチレン－ポリ酢酸ビニル、ポリエチレン－ポリウレタン、ポリブタジエン、ポリブタジエン－ポリスチレン、ポリアミド（ナイロン）、ポリ塩化ビニリデン、ポリエステル、ポリアクリレート、ポリアクリレート－ポリエステル、ポリアクリレート－ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、ポリウレタン－ポリカーボネート、ポリウレタン－ポリエーテル、ポリウレタン－ポリエステル、ポリウレタン－ポリアクリレート、シリコーン、シリコーン－ポリウレタン、シリコーン－ポリアクリレート、ポリフッ化ビニリデン－ポリアクリレート、ポリフルオロオレフィン－ポリビニルエーテル等が挙げられる。また、これらの骨格をベースに、さらに他のモノマーを使用した共重合体でもよい。なかでも、エステル骨格を有するポリエステル樹脂エマルジョン、ポリエステル－アクリル樹脂エマルジョン、アクリル骨格を有するアクリル樹脂エマルジョン又はエチレン骨格を有するポリエチレン樹脂エマルジョンが好ましい。

　自己分散型ポリマーの市販品としては、例えば、ヨドゾールＡＤ－１７６、ＡＤ－１３７（以上、アクリル樹脂：ヘンケルジャパン社製）、バイロナールＭＤ－１２００、ＭＤ－１２４５、ＭＤ－１５００（以上、ポリエステル樹脂：東洋紡社製）、プラスコートＲＺ５７０、プラスコートＺ５６１、プラスコートＺ５６５、プラスコートＺ６８７、プラスコートＺ６９０（以上、ポリエステル樹脂：互応化学社製）等を用いることができる。上記水系媒体に分散可能な、解離性基を含有する自己分散型ポリマー分散液は、１種でも複数種でも使用することができる。

　〈ヒドロキシ基含有ポリマー〉
　ヒドロキシ基含有ポリマーは、ヒドロキシ基を有する非導電性ポリマーである。第１電極４における導電性ポリマーとヒドロキシ基含有ポリマーの比率、すなわち導電性ポリマー：ヒドロキシ基含有ポリマーの質量比は、１００：３０～１００：９００の範囲内であることが好ましく、電流リークを防止し、透明性を高める観点からは、１００：１００～１００：９００の範囲内であることがより好ましい。

　ヒドロキシ基含有ポリマーとしては、例えば、下記一般式（１）で表される構造単位を含むポリマーが挙げられる。

　上記一般式（１）において、Ｒは、水素原子又はメチル基を表す。－Ｑ－は、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、又は－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲｄ－を表し、Ｒｄは、水素原子又はアルキル基を表す。Ａは、置換もしくは無置換のアルキレン基、又は－（ＣＨ_２ＣＨＲｅＯ）_ｘＣＨ_２ＣＨＲｅ－を表し、Ｒｅは、水素原子又はアルキル基を表す。ｘは、平均繰り返しユニット数を表す。

　ヒドロキシ基含有ポリマーは、第１電極４の形成工程において、塗膜の乾燥に赤外線を用いる場合、溶媒の除去が容易となることから、赤外線と同じ２．５～３．０μｍの波長範囲内に吸光度０．１以上の吸収を持つことが好ましい。ここでいう吸光度は、形成する第１電極４の厚さの塗布膜における吸光度をいう。

　（カーボン材料）
　第１電極４の形成に適用可能なカーボン材料としては、グラフェン、カーボンナノチューブ、フラーレン等が挙げられる。これらカーボン材料は、それぞれ単独で使用してもよいし、複数種を併用してもよい。また、カーボン材料により形成する第１電極は、単層であってもよいし、カーボン材料が同じ又は異なる複数の層からなる多層構造であってもよい。カーボン材料により形成する第１電極４の厚さは、１０ｎｍ～１０μｍの範囲内とすることができる。

　〈グラフェン〉
　グラフェンは、ハニカム構造状に結合した炭素原子のシートであり、このシートを、例えば、ガスバリアー層上に転写することにより、カーボンから構成される第１電極を形成することができる。グラフェンの生成方法としては、例えば、特開２０１１－２４１４７９号公報に記載の酸化グラフェンを塗布して還元する方法、ＳｉＣ基材上にエピタキシャル成長を用いる方法、ＣｕやＮｉ等を触媒金属として熱ＣＶＤによりグラフェンを生成する方法、サファイア等の非金属基材上にグラフェンを生成する方法等の公知の方法を適用して生成することができる。

　〈カーボンナノチューブ〉
　カーボンナノチューブは、中空状のグラフェンからなるカーボンファイバーである。カーボンナノチューブは、二酸化炭素の接触水素還元、アーク放電法、レーザー蒸発法、ＣＶＤ法、一酸化炭素を高温高圧化で鉄触媒とともに反応させて気相で成長させるＨｉＰｃｏ法等によって生成することができる。フラーレンとしては、フラーレンＣ６０、フラーレンＣ７０、フラーレンＣ７６、フラーレンＣ７８、フラーレンＣ８４、フラーレンＣ２４０、フラーレンＣ５４０、ミックスドフラーレン、フラーレンナノチューブ等を用いることができる。カーボンナノチューブ又はフラーレンを用いる場合は、これらを含有する塗布液を調製してガスバリアー層上に塗布することにより、カーボンナノチューブから構成される第１電極を形成することができる。

　（金属ナノ材料）
　第１電極の形成に適用可能な金属ナノ材料は、サイズがナノスケールの金属材料であり、形状によってナノチューブ、ナノワイヤー、ナノファイバー等とも呼ばれる。金属の種類としては、銀（Ａｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、これらの合金等が挙げられる。なかでも、銀は低抵抗で導電性が高く、所望の形状に加工しやすいことから、好ましい。

　第１電極を金属ナノ材料により形成する場合、金属ナノ材料を含有する塗布液を調製してガスバリアー層上に塗布することにより、形成することができる。金属ナノ材料により形成する第１電極の厚さは、１０ｎｍ～１０μｍの範囲内とすることができる。

　〔第１電極配線１１〕
　本発明の面発光パネルにおいては、離間した位置に配置されている複数の有機ＥＬ間を、図２や図３で示すように、第１電極配線１１を介して電気的に接続されていることを特徴の一つとする。

　第１電極配線１１は、第１電極４を非発光領域に延長した形態であり、隣接する有機ＥＬ素子の第１電極と接続することで両者間を電気的に接続する。

　従って、第１電極配線１１の構成材料は、上記説明した第１電極の形成に用いる材料と同一である。

　〔有機機能層群６〕
　本発明に係る有機ＥＬ素子における代表的な有機機能層群の構成としては、以下の構成を挙げることができる。下記に示す構成では、有機ＥＬ素子全体の構成を示すため、便宜上、第１電極及び第２電極を併せて記載してある。以下に示す有機機能層群の構成はその一例を示すものであり、本発明に適用可能な有機機能層群の構成はこれらに限定されるものではない。

　（１）（第１電極）／発光層／（第２電極）
　（２）（第１電極）／発光層／電子輸送層／（第２電極）
　（３）（第１電極）／正孔輸送層／発光層／（第２電極）
　（４）（第１電極）／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／（第２電極）
　（５）（第１電極）／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層／（第２電極）
　（６）（第１電極）／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／（第２電極）
　（７）（第１電極）／正孔注入層／正孔輸送層／（電子阻止層／）発光層／（正孔阻止層／）電子輸送層／電子注入層／（第２電極）
　本発明に係る各有機機能層において、具体的な構成や形成方法等に関しては特に限定はなく、公知の構成や材料、また形成方法を適用することができる。例えば、特開２０１３－０８９６０８号公報の段落番号〔００１４〕～同〔０１２１〕、特開２０１４－１２０３３４号公報の段落番号〔００６５〕～同〔０２６２〕、特開２０１５－２０１５０８号公報の段落番号〔００４４〕～同〔０１１８〕等に記載されている内容を参照することができる。

　〔第２電極７〕
　第２電極７は、陰極又はカソードとも称され、第２電極の形成材料としては、上述した第１電極の形成に用いることができる導電性ポリマー、カーボン材料、金属ナノ材料、あるいはこれらの混合物を挙げることができるが、第２電極においては、特に、金属ナノ材料を用いて形成することが好ましい。

　第２電極７の形成に適用可能な金属ナノ材料は、サイズがナノスケールの金属材料であり、形状によってナノ粒子、ナノチューブ、ナノワイヤー、ナノファイバー等とも呼ばれる。金属の種類としては、銀（Ａｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、これらの合金等が挙げられる。なかでも、銀は低抵抗で導電性が高く、所望の形状に加工しやすいことから、好ましい。

　第２電極は、金属ナノ材料を含有する塗布液を調製して有機機能層群６上に塗布、乾燥することにより、形成することができる。金属ナノ材料による形成する第２電極７の厚さは、１０ｎｍ～１０μｍの範囲内とすることができる。

　第２電極の形成時には、下部に位置する有機機能層群６にダメージを与えない範囲で、加熱処理（アニール処理）を施すことが好ましい。これにより、金属ナノ粒子等の金属材料の融着が進み、第２電極の導電性が高まる。加熱処理には、一般的なオーブンやホットプレートによる加熱方法等を用いることができる。また、フラッシュパルス光照射処理、マイクロ波処理、プラズマ処理、誘電加熱処理、エキシマ光照射処理、紫外線処理、赤外ヒーター処理、熱風ヒーター処理等により、局所的な加熱処理を施してもよく、上記オーブン等による加熱処理と併用してもよい。

　〔絶縁層５〕
　図４Ｂで記載の本発明に係る絶縁層５の形成材料としては、種々の絶縁材料を用いることができるが、特に、比誘電率の高い無機酸化物皮膜が好ましい。無機酸化物としては、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化タンタル、酸化チタン、酸化スズ、酸化バナジウム、チタン酸バリウム・ストロンチウム、ジルコニウム酸チタン酸バリウム、ジルコニウム酸チタン酸鉛、チタン酸鉛ランタン、チタン酸ストロンチウム、チタン酸バリウム、フッ化バリウム・マグネシウム、チタン酸ビスマス、チタン酸ストロンチウム・ビスマス、タンタル酸ストロンチウム・ビスマス、タンタル酸ニオブ酸ビスマス、トリオキサイドイットリウムなどが挙げられるが、それらのうち好ましいのは、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化タンタル、酸化チタンである。窒化ケイ素、窒化アルミニウムなどの無機窒化物も好適に用いることができる。

　無機酸化皮膜により構成される絶縁層の形成方法としては、スプレーコート法、スピンコート法、ブレードコート法、デイップコート法、キャスト法、ロールコート法、バーコート法、ダイコート法や、インクジェットプリント法などのパターニングによる方法などの湿式形成法が挙げられ、材料に応じて使用できる。これらのうち好ましいのは、インクジェットプリント法である。

　また、本発明に係る絶縁層５の形成材料として、有機化合物を挙げることができ、有機化合物としては、例えば、ポリイミド、ポリアミド、ポリエステル、ポリアクリレート、光ラジカル重合系、光カチオン重合系の光硬化性樹脂、アクリロニトリル成分を含有する共重合体、ポリビニルフェノール、ポリビニルアルコール、ノボラック樹脂、およびシアノエチルプルラン、ポリマー体、エラストマー体を含むホスファゼン化合物、等を用いることもできる。また、市販品としては、ダイセル社製のセルビーナス等を挙げることができる。

　〔封止層〕
　本発明においては、有機ＥＬ素子を構成する第１電極から第２電極までの有機ＥＬユニットの周辺部を、封止層により封止構造を形成する。

　封止層としては、複数の有機ＥＬ素子において共通の封止層を形成しても、あるいは有機ＥＬ素子ごとに独立した封止層を形成する構成であってもよい。

　封止層の構成材料及び形成方法は、前述のガスバリアー層の形成で記載したケイ素含有ポリマー等の材料とその形成方法を、同様に適用することができる。

　本発明に係る封止層は、上記関連する各図に示すように、第１封止層８と第２封止層９により構成されていることが好ましい形態である。第１封止層８及び第２封止層９は、同一の材料で形成しても、あるいは異なる材料で形成してもよい。

　例えば、第１封止層８をポリオルガノシロキサン、ポリジメチルシロキサン（略称：ＰＤＭＳ）等で形成し、第２封止層をパーヒドロポリシラザン（略称：ＰＨＰＳ）で形成する方法を一例として挙げることができる。

　〔透明吸湿剤層〕
　封止層の封止性能を高めるために、透明吸湿剤層１６を設置しても良い。

　図８に、図６に示す構成の面発光パネルにおいて、更に透明吸湿剤層を組み入れた面発光パネルの概略断面図の一例を示す。

　図８に示すように、面発光パネル内に透明吸湿剤層１６を設置する場合は、第１封止層８と第２封止層９の間に設置することが好ましい。

　透明吸湿剤層１６は、吸湿性化合物を含んで構成される。例えば、吸湿性化合物のみによる構成や、粒子状の吸湿性化合物や吸湿性化合物を含む粒子を、バインダー樹脂中に分散させた構成が挙げられる。

　吸湿性化合物は、水分の吸着機能を有する化合物であれば特に限定することなく用いることができる。吸湿性化合物としては、化学的に水分を吸着することが可能であり、水分を吸着した後でも、固体状態を維持する化合物であることが好ましい。

　透明吸湿剤層１６に用いられる吸湿性化合物としては、金属酸化物（例えば、酸化ナトリウム、酸化カリウム、酸化カルシウム、酸化バリウム、酸化マグネシウム等）、硫酸塩（例えば、硫酸リチウム、硫酸ナトリウム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム等）、金属ハロゲン化物（例えば、塩化カルシウム、塩化マグネシウム、フッ化セシウム等）、過塩素酸類（例えば、過塩素酸バリウム、過塩素酸マグネシウム等）等が挙げられる。また、金属アルコキシドを用いることもできる。例えば、アルミニウムアルコキシド、チタニウムアルコキシド、アルコキシシランなどを挙げることができる。

　透明吸湿剤層１６の形成に適用されるバインダー樹脂としては、吸湿性化合物の水分吸着作用を阻害しないことが好ましく、気体透過性の高い材料を用いることが好ましい。バインダー樹脂としては、例えば、ポリオレフィン系、ポリアクリル系、ポリアクリロニトリル系、ポリアミド系、ポリエステル系、エポキシ系、ポリカーボネート系、フッ素系等の高分子材料を挙げることできる。

　透明吸湿剤層１６の製造方法としては、塗布法又はインクジェットプリント法により製造する方法を適用することが好ましい。製造適性と吸湿性能の観点より、金属アルコキシド溶液を原料とし、一般にゾル・ゲル法と呼ばれる、金属アルコキシドの加水分解とそれに続く重縮合反応により、有機無機ハイブリッド化合物を合成して、膜形成する方法が好ましい。金属アルコキシドを過剰のフッ素化アルコールに溶解する方法は、ゾル・ゲル反応速度を緩和することができ、塗布液の安定性を高められるため好ましい。

　フッ素化アルコールとしては、例えば、２，２，３，３－テトラフルオロプロパノール、２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロパノール、１，１，１，３，３，３－ヘキサフルオロイソプロパノール、２，２，３，３，４，４，５，５－オクタフルオロペンタノール等が挙げられる。例えば、チタニウムテトライソプロポキシド（Ｔｉ（ＯｉＰｒ）_４）の３質量％脱水テトラフルオロプロパノール溶液に極微量の水を添加することで、ゾル・ゲル反応を一部進めたものを塗布し、溶媒を乾燥除去した後、紫外光を照射して、表面のゾル・ゲル反応を促進させる製造方法が好ましい。

　この方法で形成した透明吸湿剤層１６は、未反応の金属フッ化アルコキシドが内部に残存しているため、透明吸湿剤層として機能する。更に、層内に侵入してきた水分子と反応して生成するフッ素化アルコールが撥水性のため、本来の吸湿性に加え、撥水機能が付加されて、封止性に相乗効果を発揮するという、従来の乾燥剤にはない特徴を有する。

　透明吸湿剤層１６の膜厚は、ドライ膜で１０ｎｍ～１００μｍの範囲内であり、より好ましくは、０．１～１μｍの範囲内であることが効果を発現する上で好ましい。

　〔アルペットＡＰ〕
　本発明においては、図９で示すように、封止部材、例えば、第２封止層としてアルペットＡＰを適用することもできる。

　本発明に適用可能なアルミニウム（Ａｌ）が蒸着されたポリエチレンテレフタレートフィルムであるアルペットＡＰとしては、例えば、アジアアルミ社製のアルペット１２／３４、パナック社製の９－１００（アルミ箔：９μｍ、ＰＥＴ：１００μｍ）、９－１２５Ｋ（アルミ箔：９μｍ、ＰＥＴ：１２５μｍ）、１０－７５（アルミ箔：１０μｍ、ＰＥＴ：７５μｍ）、１２－５０（アルミ箔：１２μｍ、ＰＥＴ：５０μｍ）、１２－１８８（アルミ箔：１２μｍ、ＰＥＴ：１８８μｍ）、２０－７５（アルミ箔：２０μｍ、ＰＥＴ：７５μｍ）、２０－１００（アルミ箔：２０μｍ、ＰＥＴ：１００μｍ）、３０－１８８（アルミ箔：３０μｍ、ＰＥＴ：１８８μｍ）、東海東洋アルミ販売社製「アルペット１Ｎ３０」、福田金属社製「アルペット３０２５」、大同化工社製「ＡＬＰＥＴ１０２５」等が挙げられる。

　〔封止樹脂層１５〕
　また、第２封止層としてアルペットＡＰを適用する場合には、第１封止層としては、封止樹脂層１５を設けることが好ましい。樹脂封止層１５を構成する材料としては、例えば、エポキシ系、アクリル酸系オリゴマー又はメタクリル酸系オリゴマーの反応性ビニル基を有する光硬化性又は熱硬化性樹脂や、２－シアノアクリル酸エステル等の湿気硬化性樹脂等が挙げられる。

　〔粘着層１２Ａ及び１２Ｂ〕
　本発明に係る粘着層１２Ａ及び１２Ｂの形成に適用可能な粘着材料としては、例えば、ポリアクリル酸系粘着剤に代表される親水性アクリルポリマー系粘着剤、ポリビニルアセタール系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、酢酸ビニル系粘着剤、ゴム系粘着剤（例えば、天然ゴム、合成ゴム、スチレン－イソプレン－スチレンブロック共重合体、イソプレンゴム、ポリイソブチレン（ＰＩＢ）、スチレン－ブタジエン－スチレンブロック共重合体、スチレン－ブタジエンゴム、ポリブテン等）を挙げることができる。

　粘着材料により形成する粘着層の厚さは特に制限はないが、０．１～１０μｍの範囲内で選択することが好ましい。

　〔保護部材１３〕
　図１０Ａ、図１０Ｂ及び図１１Ａ、図１１Ｂに記載した保護部材１３、１３Ａ及び１３Ｂとしては、特に制限はないが、前述のフレキシブル基材Ｆの説明で記載した薄膜ガラス、樹脂フィルム、メタルホイル、ファブリック（例えば、生地や織物等）、紙、エラストマー（ゴム生地）等を同様に適用することができ、また、透明であっても不透明であってもよい。

　また、図１０Ａ及び図１０Ｂに記載の第１保護部材１３や図１１Ａ及び図１１Ｂに記載の第２保護部材１３Ｂのように、粘着層面から剥離し、例えば、設置部材、例えば、紙、布、壁面、あるいは窓ガラス等に面発光パネルを貼付する用途に適用する場合には、これらの保護部材は、セパレーター（隔離シート）として機能させることが好ましく。例えば、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、紙等の基材にシリコンコート、ポリアルキレンコート、フッ素樹脂コートしたものが使用できるが、寸法安定性、平滑性、剥離安定性の点からポリエステルフィルムにシリコンコートしたものが好ましい。

　また、保護部材の厚さは１０～２００μｍの範囲が好ましく、更に好ましくは２０～１００μｍである。

　《面発光パネルの製造方法》
　一般に、有機ＥＬ素子を具備する面発光パネルは、例えば、化学蒸着法や真空蒸着法等を用いた乾式形成方法や、スピンコート法、キャスト法、ＬＢ法（ラングミュア・ブロジェット、Ｌａｎｇｍｕｉｒ　Ｂｌｏｄｇｅｔｔ法）及びインクジェット印刷法等の湿式塗布方法等、公知の薄膜形成方法を適用することにより形成することができるが、本発明の面発光パネルの製造方法においては、フレキシブル基材の一方の面側に、少なくとも、ガスバリアー層、第１電極、有機機能層群、第２電極及び封止層を、湿式塗布法又はインクジェットプリント法により積層して、面発光パネルを製造することを特徴とする。

　〔面発光パネルの形成方法〕
　本発明においては、湿式塗布法又はインクジェットプリント法により面発光パネルを製造することを特徴とする。

　（湿式塗布法）
　本発明に適用可能なインクジェットプリント法を除く湿式塗布法としては、スピンコート法、キャスト法、スクリーン印刷法、ダイコート法、ブレードコート法、ロールコート法、スプレーコート法、カーテンコート法、ＬＢ法（ラングミュア－ブロジェット法）等が挙げられ、均質な薄膜が得られやすく、かつ高生産性の点から、ダイコート法、ロールコート法、スプレーコート法などが好ましい。

　（インクジェットプリント法）
　本発明の面発光パネルの製造においては、特に、少なくとも、ガスバリアー層、第１電極、有機機能層群、第２電極及び封止層の形成に、インクジェットプリント法を適用することが、面発光パネルの任意の位置に、微小面積の有機ＥＬ素子を複数個、効率よく形成することができる点で好ましい。

　以下、インクジェットプリント法に使用するインクジェットヘッド、インク液滴の射出条件、インクジェット記録方法と記録装置及び具体的な面発光パネルのインクジェットプリント法により製造フローについて、図を交えて説明する。

　〈インクジェットヘッド〉
　インクジェットプリント法で用いられるインクジェットヘッドとしては、オンデマンド方式でもコンティニュアス方式でもよい。また、吐出方式としては、電気－機械変換方式（例えば、シングルキャビティー型、ダブルキャビティー型、ベンダー型、ピストン型、シェアーモード型、シェアードウォール型等）、電気－熱変換方式（例えば、サーマルインクジェット型、バブルジェット（登録商標）型等）、静電吸引方式（例えば、電界制御型、スリットジェット型等）、放電方式（例えば、スパークジェット型等）などを具体的な例として挙げることができるが、いずれの吐出方式を用いてもよい。また、印字方式としては、シリアルヘッド方式、ラインヘッド方式等を制限なく用いることができる。

　〈インク滴サイズ〉
　各構成層の形成において、インクジェットヘッドから射出するインク滴の体積は、０．５～１００ｐＬの範囲内とすることが好ましい。形成層の塗布ムラが少なく、かつ印字速度を高速化できる観点から、２～２０ｐＬの範囲であることが、より好ましい。なお、インク滴の体積は、印加電圧の調整等によって、所望の条件に適宜調整が可能である。

　〈印字方法〉
　インクジェットプリント法による印字方法には、ワンパス印字法とマルチパス印字法がある。ワンパス印字法は、所定の印字領域に複数のインクジェットヘッドを固定配置し、１回のヘッドスキャンで印字する方法である。これに対し、マルチパス印字法（シリアルプリント方式ともいう。）は、所定の印字領域を複数回のヘッドスキャンで印字する方法である。

　ワンパス印字法では、所望とする塗布パターンの幅以上の幅に亘ってノズルが並設された広幅のヘッドを用いることが好ましい。同一の基材上に、互いにパターンが連続していない独立した複数の塗布パターンを形成する場合は、少なくとも各塗布パターンの幅以上の広幅ヘッドを用いればよい。

　図１３は、ワンパス印字法のインクジェットプリント法を用いた有機ＥＬ素子の形成方法の一例を示す概略図である。

　図１３は、インクジェットヘッド３０を具備したインクジェットプリンターを用いて、フレキシブル基材Ｆ上に、有機ＥＬ素子を構成するガスバリアー層、第１電極、有機機能層群、第２電極及び封止層の各形成材料を含むインクを順次吐出して、複数の独立した形態の有機ＥＬ素子ＥＬを形成する方法の一例を示してある。

　図１３に示すように、フレキシブル基材Ｆを連続的に搬送しながら、インクジェットヘッド３０により有機ＥＬ素子形成材料を含むインクを、インク液滴として順次射出して、所望の構成層（ガスバリアー層、第１電極、有機機能層群、第２電極及び封止層）より構成される有機ＥＬ素子ＥＬを形成する。

　本発明の面発光パネルの製造方法に適用可能なインクジェットヘッド３０としては、特に限定はなく、例えばインク圧力室に圧電素子を備えた振動板を有しており、この振動板によるインク圧力室の圧力変化でインク液を吐出させる剪断モード型（ピエゾ型）のヘッドでもよいし、発熱素子を有しており、この発熱素子からの熱エネルギーによりインク液の膜沸騰による急激な体積変化によりノズルからインク液を吐出させるサーマルタイプのヘッドであってもよい。

　インクジェットヘッド３０には、射出用のインク液の供給機構などが接続されている。インク液の供給はタンク３８Ａにより行われる。インクジェットヘッド３０内のインク液圧力を常に一定に保つようにこの例ではタンク液面を一定にする。その方法としては、インク液をタンク３８Ａからオーバーフローさせてタンク３８Ｂに自然流下で戻している。タンク３８Ｂからタンク３８Ａへのインク液の供給は、ポンプ３１により行われており、射出条件に合わせて安定的にタンク３８Ａの液面が一定となるように制御されている。

　なお、ポンプ３１からタンク３８Ａへインク液を戻す際には、フィルター３２を通してから行われている。このように、インク液はインクジェットヘッド３０へ供給される前に絶対濾過精度又は準絶対濾過精度が０．０５～５０μｍの濾材を少なくとも１回は通過させることが好ましい。

　また、インクジェットヘッド３０の洗浄作業や液体充填作業などを実施するためにタンク３６よりインク液が、タンク３７より洗浄溶媒がポンプ３９によりインクジェットヘッド３０へ強制的に供給可能となっている。インクジェットヘッド３０に対してこうしたタンクポンプ類は複数に分けても良いし、配管の分岐を使用しても良い、またそれらの組み合わせでもかまわない。図１２では配管分岐１３を使用している。さらにインクジェットヘッド３０内のエアーを十分に除去するため、タンク３６よりポンプ３９によりインクジェット３０へインク液を強制的に送液しながらエアー抜き配管からインク液を抜き出して廃液タンク３４に送ることもある。

　図１４Ａ及び図１４Ｂは、インクジェットプリント方式に適用可能なインクジェットヘッドの構造の一例を示す概略外観図である。

　図１４Ａは、本発明に適用可能なインクジェットヘッド１００を示す概略斜視図であり、図１４Ｂは、インクジェットヘッド１００の底面図である。

　本発明に適用可能なインクジェットヘッド１００は、インクジェットプリンター（図示略）に搭載されるものであり、インクをノズルから吐出させるヘッドチップと、このヘッドチップが配設された配線基板と、この配線基板とフレキシブル基板を介して接続された駆動回路基板と、ヘッドチップのチャネルにフィルターを介してインクを導入するマニホールドと、内側にマニホールドが収納された筐体５６と、この筐体５６の底面開口を塞ぐように取り付けられたキャップ受板５７と、マニホールドの第１インクポート及び第２インクポートに取り付けられた第１及び第２ジョイント８１ａ及び８１ｂと、マニホールドの第３インクポートに取り付けられた第３ジョイント８２と、筐体５６に取り付けられたカバー部材５９とを備えている。また、筐体５６をプリンタ本体側に取り付けるための取り付け用孔６８がそれぞれ形成されている。

　また、図１４Ｂで示すキャップ受板５７は、キャップ受板取り付け部６２の形状に対応して、外形が左右方向に長尺な略矩形板状として形成され、その略中央部に複数のノズルが配置されているノズルプレート６１を露出させるため、左右方向に長尺なノズル用開口部７１が設けられている。また、図１４Ａで示すインクジェットヘッド内部の具体的な構造に関しては、例えば、特開２０１２－１４００１７号公報に記載されている図２等を参照することができる。

　図１４Ａ及び図１４Ｂにインクジェットヘッドの代表例を示したが、そのほかにも、例えば、特開２０１２－１４００１７号公報、特開２０１３－０１０２２７号公報、特開２０１４－０５８１７１号公報、特開２０１４－０９７６４４号公報、特開２０１５－１４２９７９号公報、特開２０１５－１４２９８０号公報、特開２０１６－００２６７５号公報、特開２０１６－００２６８２号公報、特開２０１６－１０７４０１号公報、特開２０１７－１０９４７６号公報、特開２０１７－１７７６２６号公報等に記載されている構成からなるインクジェットヘッドを適宜選択して適用することができる。

　〔面発光パネルの製造フロー〕
　以下、面発光パネルの製造方法の一例として、図６に記載の切断面Ａ－Ａで表される有機ＥＬ素子ＥＬを、インクジェットプリント法を用いて製造する工程フローについて、図を交えて説明する。

　図１５及び図１６は、図６で表されるＡ－Ａ切断面における構成からなる有機ＥＬ素子ＥＬのインクジェットプリント法を用いた製造プロセスの一例を示す概略フロー図である。

　〈ステップ１：下地層の形成〉
　図１５のａで示す方法で、前記製造フロー図（上面図）である図４Ａで記載したフレキシブル基材Ｆ上の位置に、例えば、紫外線硬化型樹脂を含む下地層形成用インク液を、インクジェットヘッド３０より吐出してパターン形成した後、紫外線を照射することにより硬化させて、下地層１を形成する。

　〈ステップ２：ガスバリアー層の形成〉
　次いで、図１５のｂで示す方法で、前記図４Ａ（上面図）で記載した位置に、例えば、ケイ素含有ポリマー等を含むガスバリアー層形成用インク液を、インクジェットヘッド３０より吐出してパターン形成し、溶媒を乾燥除去させた後、酸素濃度と水蒸気濃度を制御した環境下において、Ｘｅエキシマランプを用いて１７２ｎｍの真空紫外光を照射することによって改質処理を行い、ガスバリアー層２を形成する。

　〈ステップ３：グリッドの形成〉
　次いで、図１５のｃで示す方法で、前記図４Ａ（上面図）で記載したガスバリアー層２上の所定の位置に、例えば、銀ナノ粒子を含むグリッド形成用インク液を、インクジェットヘッド３０より吐出して、グリッド３を格子状にパターン形成した後、フレキシブル基材Ｆにダメージを与えない範囲で加熱処理を施すことで、導電性を高めたグリッド３を形成する。

　〈ステップ４：第１電極の形成〉
　次いで、図１５のｄで示す方法で、前記図４Ａ（上面図）で記載した所定の発光位置で、かつグリッド３上に、導電性ポリマー、例えば、ポリ（３，４－エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との複合物（ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ）を含む第１電極形成用インク液を、インクジェットヘッド３０より吐出してパターン形成した後、溶媒を乾燥除去させることにより、第１電極４を形成する。

　〈ステップ５：絶縁層の形成〉
　次いで、図１５のｅで示す方法で、前記図４Ａ（上面図）で記載したように、絶縁材料を含む絶縁層形成用インクを用い、インクジェットヘッド３０により、電極取り出し部を除くグリッド３上面を被覆するようにパターン形成した後、溶媒を乾燥除去し、絶縁層形成用インクに適した硬化処理を施して、絶縁層５を形成する。この時、図４Ｂで示すように、次工程で有機機能層群を形成する領域を開口部として設けた。

　〈ステップ６：有機機能層群の形成〉
　次いで、図１６のａで示す方法で、前記図４Ｃ（上面図）で記載したように、絶縁層５で囲まれた開口部の第１電極４上に、インクジェットヘッド３０より、各有機機能層（例えば、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層等）形成用材料を含む各有機機能層群形成用インクを順次吐出した後、溶媒を乾燥除去して、有機機能層群６を形成する。

　〈ステップ７：第２電極の形成〉
　次いで、図１６のｂで示す方法で、前記図５Ａ（上面図）で記載したように、第２電極形成材料を含む第２電極形成用インクを用い、インクジェットヘッド３０より、格子状に第２電極７を形成した後、溶媒を乾燥除去し、有機機能層群６にダメージを与えない範囲で加熱処理を施すことで第２電極７を形成する。Ａ－Ａ切断面では、全面での形成となる。

　〈ステップ８：第１封止層の形成〉
　次いで、図１６のｃで示す方法で、前記図５Ｂ（上面図）で記載したように、第１封止層形成材料、例えば、ポリジメチルシロキサン（略称：ＰＤＭＳ）を含む第１封止層形成用インクを用い、インクジェットヘッド３０より、有機機能層群６と絶縁層５とを被覆する形態で、第２電極７上にパターン形成し、溶媒を乾燥除去させた後、紫外光を照射することによって改質処理を行い、第１封止層８を形成する。

　〈ステップ９：第２封止層の形成〉
　次いで、図１６のｄで示す方法で、前記図５Ｃ（上面図）で記載したように、第２封止層形成材料、例えば、パーヒドロポリシラザン（略称：ＰＨＰＳ）を含む第２封止層形成用インクを用い、インクジェットヘッド３０より、第１封止層８をカバーする形態でパターン形成し、溶媒を乾燥除去させた後、酸素濃度と水蒸気濃度を制御した環境下において、Ｘｅエキシマランプを用いて１７２ｎｍの真空紫外光を照射することによって改質処理を行い、第２封止層９を形成して、有機ＥＬ素子を含む面発光パネルを形成することができる。

　また、封止層の封止性能を高めるために、透明吸湿剤層１６を設置してもよい。当該透明吸湿剤層１６を設置する場合には、図８に示したように、第１封止層８と第２封止層９の間に設置することが好ましい。

　本発明の面発光パネルにより、封止性能とフレキシブル性を両立し、製造容易性に優れた有機ＥＬ素子を具備した面発光パネルを実現することができ、本発明の面発光パネルは、表示装置、ディスプレイ、照明光源等の面発光体として好適に利用できる。

　１　下地層
　２　ガスバリアー層
　３　グリッド（Ａｇグリッド）
　４　第１電極（陽極）
　５　絶縁層
　６　有機機能層群
　７　第２電極（陰極）
　８　第１封止層
　９　第２封止層
　１０、３０、１００ジェットヘッド
　１１　第１電極配線
　１２、１２Ａ　第１粘着層
　１２Ｂ　第２粘着層
　１３、１３Ａ　第１保護部材
　１３Ｂ　第２保護部材
　１４　設置部材
　１５　封止樹脂層
　１６　透明吸湿剤層
　３１、３９　ポンプ
　３２　フィルター
　３３　配管分岐
　３４　廃液タンク
　３５　制御部
　３６、３７、３８Ａ、３８Ｂ　タンク
　５６　筐体
　５７　キャップ受板
　５９　カバー部材
　６１　ノズルプレート
　６２　キャップ受板取り付け部
　６８　取り付け用孔
　７１　ノズル用開口部
　８１ａ　第１ジョイト
　８１ｂ　第２ジョイント
　８２　第３ジョイント
　１００　真空紫外線照射装置
　１０１　チャンバー
　１０２　Ｘｅエキシマランプ
　１０４　ステージ
　ＡＰ　アルペット
　Ｆ　フレキシブル基材
　Ｌ　発光光
　ＬＡ　発光エリア
　ＥＬ　有機ＥＬ素子
　Ｐ　面発光パネル
　Ｖ　間隙

Claims

　フレキシブル基材の一方の面側に、少なくとも、ガスバリアー層、第１電極、有機機能層群、第２電極及び封止層がこの順で積層されている有機エレクトロルミネッセンス素子を複数個有する面発光パネルであって、
　前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子の１個当たりの発光面積が１００ｍｍ^２以下であり、
　前記ガスバリアー層を、前記有機エレクトロルミネッセンス素子ごとに独立して有し、かつ、
　前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子が、配線を介して電気的に接続されていることを特徴とする面発光パネル。
　前記封止層を、前記有機エレクトロルミネッセンス素子ごとに独立して有していることを特徴とする請求項１に記載の面発光パネル。
　前記封止層に隣接して、更に粘着層を有することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の面発光パネル。
　前記フレキシブル基材の前記有機エレクトロルミネッセンス素子を有する面とは反対側の面に、更に粘着層を有することを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載の面発光パネル。
　請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の面発光パネルを製造する面発光パネルの製造方法であって、
　前記面発光パネルが、フレキシブル基材の一方の面側に、少なくとも、ガスバリアー層、第１電極、有機機能層群、第２電極及び封止層を、湿式塗布法又はインクジェットプリント法により積層して製造することを特徴とする面発光パネルの製造方法。