WO2019087287A1 - 蒸着マスクおよび表示デバイスの製造方法 - Google Patents

蒸着マスクおよび表示デバイスの製造方法 Download PDF

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WO2019087287A1
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extending portion
mask
vapor deposition
frame
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Inventor
荘介 田中
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シャープ株式会社
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • GPHYSICS
    • G09EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09FDISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
    • G09F9/00Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
    • GPHYSICS
    • G09EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09FDISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
    • G09F9/00Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
    • G09F9/30Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00Electroluminescent light sources
    • H05B33/10Apparatus or processes specially adapted to the manufacture of electroluminescent light sources
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00

Definitions

  • the present invention relates to a deposition mask and a method of manufacturing a display device.
  • Patent Document 1 a state in which a sheet-like mask sheet in which vapor deposition holes for forming a vapor deposition layer are patterned is stretched on a mask frame which is a strong frame-like frame. It is fixed by.
  • the frame-shaped part 111 c is an area surrounding the periphery of the frame opening 111 a and is an area for fixing each sheet-like member attached to the mask frame 111.
  • the frame-shaped portion 111c is configured such that the first extending portion 111c1 and the second extending portion 111c2 which are disposed opposite to each other through the frame opening 111a, and the third extending portion 111c3 which is disposed opposite to the first extending portion 111c2 through the frame opening 111a. It has a portion 111c4.
  • the top surface 111g of the protruding portion adjacent to the groove 111d and in the third extending portion 111c3 and the fourth extending portion 111c4, the top surface 111h of the protruding portion adjacent to the groove 111e And the same height.
  • alignment sheets 114 which are sheet-like members, are attached to the frame-like portion 111c so as to be along both ends of the frame opening 111a.
  • Each alignment sheet 114 is provided with an alignment mark 114 a.
  • the alignment sheet 114A1 is disposed so as to cover a part of the third extending portion 111c3, and both ends thereof are welded by a laser.
  • the alignment sheet 114A1 has the fixing portions 114b welded to both end portions, and is fixed to the top surface 111g of the first extending portion 111c1 and the second extending portion 111c2.
  • the alignment sheet 114A2 is disposed so as to cover a part of the fourth extending portion 111c4, and both ends thereof are welded by a laser.
  • the alignment sheet 114A2 has the fixing portions 114b welded to both end portions, and is fixed to the top surface 111g of the first extending portion 111c1 and the second extending portion 111c2.
  • a plurality of mask sheets 115 which are sheet-like members are attached to the frame-like portion 111c between the alignment sheets 114A1 and 114A2.
  • the mask sheet 115 is provided with a plurality of effective portions 115 a in which a plurality of vapor deposition holes are provided side by side.
  • the vapor deposition holes are through holes for forming a vapor deposition layer in each of the pixels of the vapor deposition substrate. Since the mask sheet 115 needs to be attached at the correct position on the mask frame 111, the mask sheet 115 is positioned with reference to the alignment mark 114 a of the alignment sheet 114. Then, both ends of the mask sheet 115 are welded to the top surface 111 g of the first extending portion 111 c 1 and the second extending portion 111 c 2 by laser.
  • the vapor deposition mask is completed by fixing a predetermined number of mask sheets 115 to the top surface 111 g of the first extension part 111 c 1 and the second extension part 111 c 2.
  • the deposition mask is cleaned to remove foreign matter generated during the production of the deposition mask, and to remove deposition particles attached during deposition.
  • both ends of the alignment sheet 114A1 are in contact with the top surface 111g of the first extending portion 111c1 and the second extending portion 111c2 as shown in the area AR101 of FIG.
  • the area AR101 is fixed by the fixing portion 114b.
  • the alignment sheet 114 is in close contact with the top surface 111g of the first extending portion 111c1 and the second extending portion 111c2 so that foreign matter hardly enters.
  • the cleaning liquid does not easily flow and foreign matter is likely to remain.
  • the alignment sheet 114A2 the area AR102 covering the fourth stretched portion 111c4 is in contact with the top surface 111h of the fourth stretched portion 111c4 but is not fixed. Therefore, the foreign matter intrudes between the alignment sheet 114A2 and the top surface 111h of the fourth extending portion 111c4. However, since the alignment sheet 114A2 and the top surface 111h of the fourth stretched portion 111c4 are in contact with each other, the cleaning liquid does not easily flow and foreign matter is likely to remain.
  • the present invention has been made in view of the above-described conventional problems, and an object thereof is to provide a deposition mask having an enhanced cleaning effect.
  • a vapor deposition mask includes a mask frame provided with a frame opening, and a plurality of sheet-like members fixed to the mask frame so as to cover the frame opening.
  • the mask frame has a frame-like portion surrounding the frame opening in a frame shape, and the frame-like portion includes a first stretched portion, a second stretched portion, a third stretched portion, and a fourth stretched portion. It has an extending portion, and the first extending portion and the second extending portion are arranged side by side through the frame opening, and extend in the first direction, respectively, and the third extending portion and the fourth extending.
  • the portions are arranged side by side through the frame opening and each extend in the second direction, and the plurality of sheet-like members are ends of the plurality of sheet-like members provided side by side in the first direction.
  • the first sea located in The first sheet-like member is fixed to the top surface of the first extension portion and the second extension portion, covers at least a part of the third extension portion, and the third extension portion Is thinner than the first extending portion and the second extending portion, and is not in contact with the first sheet-like member.
  • a method of manufacturing a display device includes a mask frame provided with a frame opening, and a plurality of sheet shapes fixed to the mask frame so as to cover the frame opening.
  • a method of manufacturing a display device including a method of manufacturing a deposition mask having a member, wherein the mask frame has a frame-like portion surrounding the frame opening in a frame shape, and the frame-like portion is a first extension portion , The second extending portion, the third extending portion, and the fourth extending portion, and the first extending portion and the second extending portion are arranged side by side through the frame opening, and respectively in the first direction.
  • the third and fourth extending portions are arranged side by side through the frame opening, and are each extended in the second direction, and the third extending portion is the first extending portion and the third extending portion.
  • the fourth extension portion is thinner than the first extension portion and the second extension portion, and the plurality of sheet-like members are provided in a plurality in the first direction.
  • the first sheet-like member out of the plurality of sheet-like members provided side by side in the first direction covers at least a part of the third extending portion, and And (3) fixing them on the top surface of the first and second extending portions at the end in the first direction so as not to be in contact with the extending portions, and providing them in line with the first direction.
  • the first extending portion and the first extending portion A plurality of mask sheets provided with a plurality of vapor deposition holes corresponding to the pixels of the vapor deposition substrate among the plurality of sheet-like members provided side by side in the first direction, and a step of fixing on the top surface of the extension Securing the mask frame on the basis of alignment marks provided on the first sheet-like member and the second sheet-like member, respectively, the vapor deposition mask manufactured by the method of manufacturing the vapor deposition mask And forming a deposition layer on the pixels of the deposition substrate.
  • FIG. 7 is a view showing a manufacturing process of the organic EL display panel according to Embodiment 1.
  • FIG. 2 is a plan view of a substrate of the organic EL display panel according to Embodiment 1. It is sectional drawing of the organic electroluminescent display panel formation area of the board
  • FIG. 5 is a schematic view showing a state of a vapor deposition process when forming a vapor deposition layer of the organic EL display device according to Embodiment 1.
  • FIG. 5 is an enlarged view of a part of the active area 3 of the first embodiment.
  • FIG. 5 is a diagram illustrating a production process of the vapor deposition mask according to Embodiment 1.
  • (A) is a top view showing a mode that the howling sheet is attached to the mask frame in the vapor deposition mask of Embodiment 1
  • (b) is the X1-X1 line sectional view shown to (a)
  • (c) is It is Y1-Y1 line sectional drawing shown to (a).
  • (A) is a top view showing a mode that the alignment sheet is attached to the mask frame in the vapor deposition mask of Embodiment 1
  • (b) is a X1-X1 line sectional view shown to (a)
  • (c) is It is Y1-Y1 line sectional drawing shown to (a).
  • (A) is the top view to which the attachment part vicinity of the alignment sheet shown to (a) of FIG.
  • (b) is a X1-X1 line sectional view shown to (a)
  • (c) is (a) ) Is a cross-sectional view taken along line Y1-Y1.
  • (A) is a top view showing a mode that a mask sheet
  • (b) is a X1-X1 line sectional view shown to (a)
  • (c) is It is Y1-Y1 line sectional drawing shown to (a).
  • (A) is a top view showing the vapor deposition mask of Embodiment 1
  • (b) is a X1-X1 line sectional view shown to (a)
  • (c) is a Y1-Y1 line sectional view shown to (a) It is.
  • (A) is a top view of the mask sheet
  • (b) is an enlarged view of the effective part shown to (a)
  • (c) is a BB sectional drawing shown to (b).
  • (D) is a cross-sectional view taken along line CC shown in (b). It is a figure showing a mode that one part of the vapor deposition mask of Embodiment 1 was seen from the 2nd surface side.
  • the organic EL display panel forming area 9 is an area to be an organic EL display panel after being separated into pieces by being cut out from a mother glass.
  • the TFT substrate 2 is manufactured in the TFT process S11.
  • the TFT substrate 2 is a mother glass on which a film as a base of a flexible substrate is formed of a material such as polyimide, and a TFT (transistor, drive element included in a pixel circuit disposed in each pixel is formed thereon by a known method. ), Gate wiring and source wiring, and other various wirings are formed, passivation film (protective film), interlayer insulating film (planarization film), etc. are formed, and contact with the anode is taken on the inorganic insulating film.
  • a reflective electrode layer, an ITO layer, and a pixel bank (edge cover) for defining a light emitting region are formed.
  • the passivation film prevents the peeling of the metal film in the TFT and protects the TFT.
  • the passivation film is formed on the mother glass or through another layer and covers the TFT.
  • the passivation film is an inorganic insulating film made of silicon nitride, silicon oxide or the like.
  • an organic EL layer is formed on the reflective electrode layer in each pixel of the TFT substrate 2 (that is, in the opening of the pixel bank formed in the TFT step S11).
  • the organic EL layer includes a light emitting layer, a hole transport layer and other functional layers.
  • the light emitting layer emits light of different colors such as red, green or blue for each pixel.
  • At least one of the light emitting layer and the hole transporting layer (hereinafter, may be referred to as a light emitting layer or the like) is a predetermined position of each pixel by vapor deposition using the vapor deposition mask according to the present embodiment in vacuum in the vapor deposition process. Is formed.
  • a deposition mask used in a deposition process for forming a deposition layer to be deposited for each pixel is prepared in advance by a production process S20 of a deposition mask before the deposition process.
  • a production process S20 of a deposition mask is mentioned later.
  • the layer formed using this vapor deposition mask is not limited to the light emitting layer and the hole transport layer, and may be a layer formed for each pixel (that is, in the opening of the pixel bank).
  • a transparent electrode facing the reflective electrode through the organic EL layer is formed to cover the organic EL layer.
  • the sealing layer 5 can have, for example, a three-layer structure in which an inorganic film 6, an organic film 7, and an inorganic film 8 are stacked in this order from the TFT substrate 2 side. Since the frame-like bank 4 is formed, the film thickness of the organic film 7 can be thickened to, for example, 1.0 ⁇ m or more.
  • a flexible step S14 is performed.
  • the glass of the substrate is peeled off and a film or the like to be a support is attached.
  • each organic EL display panel formation region 9 is cut out. Thereby, each organic EL display panel formation area 9 is singulated. Thereby, a flexible display panel (organic EL display panel) having a different shape is formed.
  • FIG. 4 shows a state of a vapor deposition process when forming a light emitting layer or the like (vapor deposited layer vapor deposited for each pixel such as a light emitting layer and a hole transport layer) of the organic EL display device according to Embodiment 1 of the present invention. It is a schematic diagram.
  • a deposition mask 10 provided with a mask sheet 15 having a plurality of through holes is adhered to the TFT substrate 2 and deposition particles Z evaporated by a deposition source 70 under vacuum (for example, The organic light emitting material is deposited on the pixels of the TFT substrate 2 through the mask sheet 15. Thereby, a vapor deposition pattern of a pattern corresponding to the through hole of the mask sheet 15 is formed on the TFT substrate 2.
  • FIG. 5 is an enlarged view of a part of the active area 3 of the first embodiment.
  • pixels pix contributing to the display of an image are arranged in a matrix.
  • a light emitting layer 80 is formed in the pixel pix.
  • a surrounding area surrounding the pixel pix is a pixel bank bk.
  • FIG. 6 is a view showing a manufacturing process of the vapor deposition mask according to the first embodiment.
  • a region adjacent to the groove 11d is a convex portion, and the top surface 11g of the convex portion is provided side by side in the Y direction.
  • the crown surface 11g is a surface to which the alignment sheet 14 (FIGS. 10 and 11) or the mask sheet 15 (FIGS. 12 and 13) is fixed.
  • the crown surface 11g is provided in the Y direction in each of the first extending portion 11c1 and the second extending portion 11c2 via the groove 11d.
  • the thickness of the third extension part 11c3 and the fourth extension part 11c4 in the region where the groove 11e is provided is thinner than the thickness of the region where the groove 11d in the first extension part 11c1 and the second extension part 11c2 is provided. .
  • the howling sheet 13 is a sheet-like member which is fixed to the frame-like portion 11 c side by side in the X direction.
  • the howling sheet 13 plays a role of supporting the mask sheet to be attached later to the mask frame 11 so as not to be loosened or blocking a dummy pattern formed on the mask sheet.
  • FIG. 10A is a plan view showing how the alignment sheet is attached to the mask frame in the vapor deposition mask of Embodiment 1
  • FIG. 10B is a sectional view taken along line X1-X1 shown in FIG. c) is a cross-sectional view taken along line Y1-Y1 shown in (a).
  • A) of FIG. 11 is a plan view enlarging the vicinity of the attachment portion of the alignment sheet shown in (a) of FIG. 10
  • (b) is a sectional view taken along line X1-X1 shown in (a)
  • (c) Is a cross-sectional view taken along line Y1-Y1 shown in (a).
  • the alignment marks 14 a serve as a reference for positioning when attaching the mask sheet 15 to the mask frame 11 later.
  • the two alignment sheets 14 are provided at the same height (that is, provided on the top surface 11g), and among the sheet-like members (that is, the plurality of alignment sheets 14 and the plurality of mask sheets 15) provided side by side in the Y direction. , Sheet-like members located at both ends. Further, in the present embodiment, the two alignment sheets 14 are sheet-like members provided at different heights (that is, provided on the top surface 11g and the bottom of the groove 11d), and provided side by side in the Y direction. Among the sheet-like members (that is, the plurality of alignment sheets 14, the plurality of mask sheets 15, and the plurality of cover sheets 12), the sheet-like members are positioned at both ends.
  • the two alignment sheets 14 are at least one of the third extending portion 11c3 and the fourth extending portion 11c4 provided between the first extending portion 11c1 and the second extending portion 11c2 in the frame portion 11c. Cover the department.
  • the thickness of the region of the first extension portion 11c1 where the top surface 11g is provided is a thickness t1
  • the top of the third extension portion 11c3 is Assuming that the thickness of the region where the surface 11 h is provided is a thickness t2, t1> t2.
  • the thickness of the area where the fourth extension 11c4 is provided is the area where the top 11g of the first extension 11c1 and the area where the top 11g of the second extension 11c2 is provided. Thinner than thickness.
  • FIG. 13 (a) is a plan view showing the vapor deposition mask 10 of Embodiment 1
  • (b) is a cross-sectional view taken along line X1-X1 shown in (a)
  • (c) is Y1- shown in (a). It is Y1 line sectional drawing.
  • step Sd before attaching the mask sheet 15 to the mask frame 11, a plurality of vapor deposition holes are formed side by side to form the effective portion YA on the mask sheet 15 (effective portion forming step ).
  • a plurality of effective portions YA are formed on one mask sheet 15 for each active area 3. The details of the effective part YA will be described later.
  • the mask sheet 15 is in the form of a strip wider than the cover sheet 12 and the howling sheet 13, and extends in the X direction from one end to the other end.
  • step Sf of FIG. 6 the vapor deposition mask 10 to which the mask sheet 15 is attached is cleaned, and various mask inspections such as foreign matter inspection and accuracy inspection are performed. After this, the deposition mask 10 which has no problem in the mask inspection is stored in the stocker and supplied to the deposition apparatus used in the deposition process as needed. Thereby, the vapor deposition mask 10 is completed.
  • the thickness of the region where the top surface 11h is provided is the top surface 11g of the first extending portion 11c1 and the second extending portion 11c2. It is thinner than the thickness of the provided area.
  • the area AR2 of the top surface 11h covered by the alignment sheet 14A1 does not contact the alignment sheet 14A1, and a gap is provided.
  • the area AR2 of the top surface 11h covered by the alignment sheet 14A2 is not in contact with the alignment sheet 14A2, and a gap is provided.
  • the cleaning solution flows between the alignment sheet 14A1 and the top surface 11h of the third extending portion 11c3 in the area AR2. Therefore, the cleaning effect between the alignment sheet 14A1 and the top surface 11h of the third extension portion 11c3 in the region AR2 can be enhanced. For this reason, it is possible to prevent foreign matter from remaining between the alignment sheet 14A1 and the top surface 11h of the third extension portion 11c3 in the region AR2.
  • the cleaning solution flows between the alignment sheet 14A2 and the top surface 11h of the fourth extending portion 11c4 in the region AR2. Therefore, the cleaning effect between the alignment sheet 14A2 and the top surface 11h of the fourth extending portion 11c4 in the region AR2 can be enhanced. For this reason, it is possible to prevent foreign matter from remaining between the alignment sheet 14A2 and the top surface 11h of the fourth extension portion 11c4 in the region AR2.
  • FIG. 14 is a diagram showing the configuration of the mask sheet 15 of the first embodiment.
  • (A) of FIG. 14 is a plan view of the mask sheet 15,
  • (b) is an enlarged view of the effective portion shown in (a), and
  • (c) is a cross-sectional view taken along line B-B shown in (b).
  • (D) is a cross-sectional view taken along line CC shown in (b).
  • a plurality of effective portions YA extending in the longitudinal direction of the mask sheet 15 are formed side by side between the two end portions of the mask sheet 15.
  • a plurality of vapor deposition holes H corresponding to pixels are formed side by side.
  • the effective portion YA is a region in which the deposition holes H are provided at equal pitches.
  • a resist pattern is formed on both sides of the long plate by exposing and developing the resist film on the first surface and the second surface using an exposure mask. Then, the first surface 15b of the effective portion YA (the surface facing the TFT substrate 2 during deposition) is etched (the upper surface of the edge is not etched) using the first surface resist pattern as a mask, and the first surface 15b of the effective portion YA Pattern the opening K (do not form a through hole at this stage).
  • the first surface 15b is covered with a resistant resin having etching resistance
  • the second surface 15c (surface opposite to the surface facing the TFT substrate 2 at the time of vapor deposition) uses a resist pattern as a mask, the effective portion YA and the edge portion Etch the bottom of the
  • the deposition holes H through holes are formed by erosion from the second surface 15c side, and a plurality of dents are formed on the lower surface of the edge.
  • the plurality of vapor deposition holes H in the effective portion YA are formed in a matrix or in a diagonal grid in the longitudinal direction and the transverse direction (width direction) of the mask sheet 15, and the opening K (opening on the upper surface) is a pixel of the substrate It has a square shape with rounded corners or a circular or oval shape so as to correspond to the opening shape of the bank.
  • the etching on the second surface 15c side is performed wider and deeper than the first surface 15b side with respect to each vapor deposition hole H, so that a shaded portion (a height of a partition between two adjacent vapor deposition holes To reduce deposition accuracy and deposition efficiency for the substrate.
  • FIG. 15 is a view showing a part of the vapor deposition mask 10 as viewed from the second surface 15 c side.
  • FIG. 16 is a cross-sectional view of the deposition mask 10 and the TFT substrate 2 during deposition in the deposition step.
  • the third extending portion 11c3 and the fourth extending portion 11c4 are provided with a recess 11f extending from the connecting portion with the first extending portion 11c1 to the connecting portion with the second extending portion 11c2.
  • the bottom surface of each recess 11 f is flat without any unevenness.
  • the third extending portion 11c3 and the fourth extending portion 11c4 are not provided with the grooves 11e (FIGS. 10 and 11) for each of the plurality of howling sheets 13, but a plurality of howlings.
  • Recesses 11 f for fixing the sheet 13 are provided so as to straddle the plurality of howling sheets 13.

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Abstract

マスクフレーム(11)の枠状部(11c)は、アライメントシート(14)が固定される第1延伸部(11c1)および第2延伸部(11c2)よりも、第1延伸部(11c1)および第2延伸部(11c2)間の第3延伸部(11c3)の方が厚みが薄く、第3延伸部(11c3)とアライメントシート(14)とは非接触である。

Description

蒸着マスクおよび表示デバイスの製造方法
 本発明は、蒸着マスクおよび表示デバイスの製造方法に関する。
 特許文献1に記載のように、蒸着マスクは、丈夫な枠状のフレームであるマスクフレームに、蒸着層を蒸着するための蒸着孔がパターン形成されたシート状のマスクシートが、架張した状態で固定される。
 図22に示すように、枠状のマスクフレーム111は、枠状部111cと、枠状部111cを囲む外周部111bとを有する。
 枠状部111cは、フレーム開口111aの周縁を囲む領域であり、マスクフレーム111に取り付けられる各シート状部材を固定するための領域である。枠状部111cは、フレーム開口111aを介して対向配置されている第1延伸部111c1および第2延伸部111c2と、フレーム開口111aを介して対向配置されている第3延伸部111c3および第4延伸部111c4を有する。
 シート部材であるカバーシート112は、第1延伸部111c1および第2延伸部111c2に形成されている溝111d内に両端部が挿入されて溶接されている。シート部材であるハウリングシート113は、第3延伸部111c3および第4延伸部111c4に形成されている溝111e内に両端部が挿入されて溶接されている。
 第1延伸部111c1および第2延伸部111c2における、溝111dに隣接する凸部の頭頂面111gと、第3延伸部111c3および第4延伸部111c4における、溝111eに隣接する凸部の頭頂面111hとは同じ高さとなっている。
 図23に示すように、次に、シート状部材である2つのアライメントシート114が、フレーム開口111aの両端に沿うように枠状部111cに取り付けられる。各アライメントシート114には、アライメントマーク114aが設けられている。
 2つのアライメントシート114のうち、アライメントシート114A1は、第3延伸部111c3の一部を覆うように配置され、両端部がレーザにより溶接される。これにより、アライメントシート114A1は、両端部に溶接された固定部114bが形成されて、第1延伸部111c1および第2延伸部111c2の頭頂面111gに固定される。
 2つのアライメントシート114のうち、アライメントシート114A2は、第4延伸部111c4の一部を覆うように配置され、両端部がレーザにより溶接される。これにより、アライメントシート114A2は、両端部に溶接された固定部114bが形成されて、第1延伸部111c1および第2延伸部111c2の頭頂面111gに固定される。
 次に、シート状部材である複数のマスクシート115が、アライメントシート114A1・114A2間であって枠状部111cに取り付けられる。
 マスクシート115には、複数の蒸着孔が並んで設けられている有効部115aが複数設けられている。蒸着孔は、被蒸着基板の画素それぞれに蒸着層を形成するための貫通孔である。マスクシート115は、マスクフレーム111における正確な位置に取り付ける必要があるため、アライメントシート114のアライメントマーク114aを基準にして位置決めがされる。そして、マスクシート115は、両端部がレーザにより、第1延伸部111c1および第2延伸部111c2の頭頂面111gに溶接される。所定枚数のマスクシート115が第1延伸部111c1および第2延伸部111c2の頭頂面111gに固定されることで、蒸着マスクが完成する。
日本国公開特許公報「特開2010‐135269号」
 蒸着マスクは、蒸着マスクの製造時に発生した異物を取り除いたり、蒸着時に付着した蒸着粒子を取り除いたりするために洗浄される。
 ここで、アライメントシート114A1のうち、両端部は、図23の領域AR101に示すように、第1延伸部111c1および第2延伸部111c2の頭頂面111gと接触している。この領域AR101は、固定部114bにより固定されている。このため、アライメントシート114と、第1延伸部111c1および第2延伸部111c2の頭頂面111gとは密着しており異物が侵入しにくい。
 一方、第3延伸部111c3のうち、アライメントシート114A1が覆う頭頂面111hの一部領域AR102と、アライメントシート114A1とは接触しているが、固定されていない。このため、異物が、アライメントシート114A1と、第3延伸部111c3の頭頂面111hとの間に侵入する。しかし、アライメントシート114A1が覆う頭頂面111hと、アライメントシート114A1とは接触しているため、洗浄液が流れにくく、異物が残りやすい。
 アライメントシート114A2も同様に、第1延伸部111c1および第2延伸部111c2の頭頂面111gと接触している領域AR101は、固定されて密着しているため、異物は侵入しにくい。
 一方、アライメントシート114A2のうち、第4延伸部111c4を覆う領域AR102は、アライメントシート114A2と、第4延伸部111c4の頭頂面111hとは接触しているが、固定されていない。このため、異物が、アライメントシート114A2と、第4延伸部111c4の頭頂面111hとの間に侵入する。しかし、アライメントシート114A2と、第4延伸部111c4の頭頂面111hとは接触しているため、洗浄液が流れにくく、異物が残りやすい。
 異物が残っていると、次に、蒸着マスクを用いて蒸着をした際、当該残っている異物が、被蒸着基板に付着してしまう。
 本発明は、上記従来の問題点に鑑みなされたものであって、その目的は、洗浄効果を高めた蒸着マスクを提供することである。
 上記の課題を解決するために、本発明の一態様に係る蒸着マスクは、フレーム開口が設けられたマスクフレームと、当該フレーム開口を覆うようにマスクフレームに固定される複数のシート状部材とを有する蒸着マスクであって、上記マスクフレームは、上記フレーム開口を枠状に囲む枠状部を有し、上記枠状部は、第1延伸部、第2延伸部、第3延伸部および第4延伸部を有し、上記第1延伸部および上記第2延伸部は、上記フレーム開口を介して並んで配置されており、それぞれ第1方向に延伸し、上記第3延伸部および上記第4延伸部は、上記フレーム開口を介して並んで配置されており、それぞれ第2方向に延伸し、上記複数のシート状部材は、上記第1方向に並んで設けられる複数のシート状部材のうち、端に位置する第1シート状部材を含み、上記第1シート状部材は、上記第1延伸部および上記第2延伸部の頭頂面に固定されており、上記第3延伸部の少なくとも一部を覆い、上記第3延伸部は、上記第1延伸部および上記第2延伸部より厚みが薄く、上記第1シート状部材と非接触であることを特徴とする。
 上記の課題を解決するために、本発明の一態様に係る表示デバイスの製造方法は、フレーム開口が設けられたマスクフレームと、当該フレーム開口を覆うようにマスクフレームに固定される複数のシート状部材とを有する蒸着マスクの製造方法を含む表示デバイスの製造方法であって、上記マスクフレームは、上記フレーム開口を枠状に囲む枠状部を有し、上記枠状部は、第1延伸部、第2延伸部、第3延伸部および第4延伸部を有し、上記第1延伸部および上記第2延伸部は、上記フレーム開口を介して並んで配置されており、それぞれ第1方向に延伸し、上記第3延伸部および上記第4延伸部は、上記フレーム開口を介して並んで配置されており、それぞれ第2方向に延伸し、上記第3延伸部は、上記第1延伸部および上記第2延伸部より厚みが薄く、上記第4延伸部は、上記第1延伸部および上記第2延伸部より厚みが薄く、上記複数のシート状部材は、上記第1方向に並んで設けられる複数のシート状部材を含み、上記蒸着マスクの製造方法は、上記第1方向に並んで設けられる上記複数のシート状部材のうち、第1シート状部材を、上記第3延伸部の少なくとも一部を覆うと共に当該第3延伸部とは非接触となるように、上記第1方向の端であって、上記第1延伸部および上記第2延伸部の頭頂面に固定する工程と、上記第1方向に並んで設けられる上記複数のシート状部材のうち、第2シート状部材を、上記第4延伸部の少なくとも一部を覆うと共に当該第4延伸部とは非接触となるように、記第1シート状部材とは逆側の端であって、上記第1延伸部および上記第2延伸部の頭頂面に固定する工程と、上記第1方向に並んで設けられる上記複数のシート状部材のうち、被蒸着基板の画素に対応する複数の蒸着孔が設けられた複数のマスクシートを、上記第1シート状部材および上記第2シート状部材それぞれに設けられたアライメントマークを基準として、上記マスクフレームに固定する工程とを有し、上記蒸着マスクの製造方法によって製造された上記蒸着マスクを用いて、上記被蒸着基板の上記画素に蒸着層を形成する蒸着工程を有することを特徴とする。
 本発明の一態様によれば、洗浄効果を高めた蒸着マスクを提供することができるという効果を奏する。
実施形態1に係る有機EL表示パネルの製造工程を表す図である。 実施形態1に係る有機EL表示パネルの基板の平面図である。 図2の基板の有機EL表示パネル形成領域の断面図である。 実施形態1に係る有機EL表示装置の蒸着層を形成する際の蒸着工程の様子を示す模式図である。 実施形態1のアクティブ領域3の一部を拡大した図である。 実施形態1に係る蒸着マスクの作製工程を表す図である。 (a)は実施形態1の蒸着マスクにおけるマスクフレームの構成を表す平面図であり、(b)は(a)に示すX1‐X1線断面図であり、(c)は(a)に示すY1‐Y1線断面図である。 (a)は実施形態1の蒸着マスクにおけるマスクフレームにカバーシートを取り付けている様子を表す平面図であり、(b)は(a)に示すX1‐X1線断面図であり、(c)は(a)に示すY1‐Y1線断面図である。 (a)は実施形態1の蒸着マスクにおけるマスクフレームにハウリングシートを取り付けている様子を表す平面図であり、(b)は(a)に示すX1‐X1線断面図であり、(c)は(a)に示すY1‐Y1線断面図である。 (a)は実施形態1の蒸着マスクにおけるマスクフレームにアライメントシートを取り付けている様子を表す平面図であり、(b)は(a)に示すX1‐X1線断面図であり、(c)は(a)に示すY1‐Y1線断面図である。 (a)は図10の(a)に示すアライメントシートの取付部近傍を拡大した平面図であり、(b)は(a)に示すX1‐X1線断面図であり、(c)は(a)に示すY1‐Y1線断面図である。 (a)は実施形態1の蒸着マスクにおけるマスクフレームにマスクシートを取り付けている様子を表す平面図であり、(b)は(a)に示すX1‐X1線断面図であり、(c)は(a)に示すY1‐Y1線断面図である。 (a)は実施形態1の蒸着マスクを表す平面図であり、(b)は(a)に示すX1‐X1線断面図であり、(c)は(a)に示すY1‐Y1線断面図である。 (a)は実施形態1のマスクシートの平面図であり、(b)は(a)に示す有効部の拡大図であり、(c)は(b)に示すB‐B線断面図であり、(d)は(b)に示すC-C線断面図である。 実施形態1の蒸着マスクの一部を、第2面側から見た様子を表す図である。 実施形態1の蒸着工程において蒸着をしている際の蒸着マスクおよびTFT基板の断面図である。 (a)は実施形態2の蒸着マスクにおけるマスクフレームにアライメントシートを取り付けている様子を表す平面図であり、(b)は(a)に示すX1‐X1線断面図であり、(c)は(a)に示すY1‐Y1線断面図である。 (a)は図17の(a)に示すアライメントシートの取付部近傍を拡大した平面図であり、(b)は(a)に示すX1‐X1線断面図であり、(c)は(a)に示すY1‐Y1線断面図である。 (a)は実施形態2の蒸着マスクにおけるマスクフレームにマスクシートを取り付けている様子を表す平面図であり、(b)は(a)に示すX1‐X1線断面図であり、(c)は(a)に示すY1‐Y1線断面図である。 (a)は実施形態2の蒸着マスクを表す平面図であり、(b)は(a)に示すX1‐X1線断面図であり、(c)は(a)に示すY1‐Y1線断面図である。 実施形態2の蒸着マスクの一部を、第2面側から見た様子を表す図である。 (a)は、従来の蒸着マスクのうち、マスクフレームに、カバーシートと、ハウリングシートとを取り付けた様子を表す平面図であり、(b)は、(a)に示すX0‐X0線断面図であり、(c)は(a)に示すY0‐Y0線断面図である。 (a)は、従来の蒸着マスクのうち、マスクフレームに、アライメントシートとマスクシートとを取り付けている様子を表す平面図であり、(b)は、(a)に示すX0‐X0線断面図であり、(c)は(a)に示すY0‐Y0線断面図である。
 〔実施形態1〕
 (有機EL表示パネルの製造方法の概略)
 図1は、実施形態1に係る有機EL表示パネルの製造工程を表す図である。図2は本発明の実施形態1に係る有機EL表示パネルの基板1の平面図である。図3は図2の基板の有機EL表示パネル形成領域の断面図である。図3では、1枚のマザーガラスから有機EL表示パネルを18面取りする場合の構成を示している。なお、1枚のマザーガラスから有機EL表示パネルを面取りする個数は18個に限らず、17個以下、または19個以上であってもよい。
 基板1には有機EL表示パネル形成領域9が18個配置されている。有機EL表示パネル形成領域9は、マザーガラスから切り出されることで個片化された後、有機EL表示パネルとなる領域である。
 基板1は、TFT基板(被蒸着基板)2と、アクティブ領域3と、枠状バンク4と、封止層5とを有する。
 アクティブ領域3はマトリクス状に複数設けられる。アクティブ領域3は、例えばRGBそれぞれの画素が形成される領域である。有機EL表示パネル形成領域9のうち、アクティブ領域3が形成されている領域が表示領域43であり、有機EL表示パネル形成領域9のうち、アクティブ領域3を囲む周囲の領域が額縁領域44である。なお、図2において、額縁領域44は、有機EL表示パネル形成領域9のうちにおける破線で示した領域(アクティブ領域3)よりも外側の領域である。
 図1~図3に示すように、まず、TFT工程S11においてTFT基板2を作製する。TFT基板2は、マザーガラスに、ポリイミドなどの材料でフレキシブル基板のベースとなるフィルムを形成し、その上に公知の方法により、各画素に配される画素回路に含まれるTFT(トランジスタ、駆動素子)、ゲート配線およびソース配線、その他各種の配線が形成され、パッシベーション膜(保護膜)、および層間絶縁膜(平坦化膜)などが形成され、さらにその無機絶縁膜上に、アノードとコンタクトを取った反射電極層、ITO層及び発光領域を規定するための画素バンク(エッジカバー)が形成されることで作製される。
 これにより、アクティブ領域3に発光領域が形成される。
 パッシベーション膜はTFTにおける金属膜の剥離を防止し、TFTを保護する。パッシベーション膜はマザーガラス上又は他の層を介して形成されており、TFTを覆っている。パッシベーション膜は、窒化シリコンや酸化シリコンなどからなる無機絶縁性膜である。
 層間絶縁膜は、パッシベーション膜上の凹凸を平坦化する。層間絶縁膜はパッシベーション膜上に形成されている。層間絶縁膜はアクリルなどの感光性樹脂またはポリイミドなどの熱可塑性樹脂からなる有機絶縁膜である。
 また、このアクティブ領域3を形成する際に、当該アクティブ領域3を枠状に囲む枠状バンク4もTFT基板2上に形成する。枠状バンク4は、アクリルなどの感光性樹脂またはポリイミドなどの熱可塑性樹脂からなる。
 次に、有機EL工程S12において、TFT基板2の各画素内(すなわち、TFT工程S11にて形成した画素バンクの開口部内)における反射電極層上に有機EL層を形成する。有機EL層は、発光層、正孔輸送層およびその他の機能層を含む。発光層は、画素毎に、例えば、赤色、緑色または青色等、異なる色の光を発光する。発光層及び正孔輸送層の少なくとも一方(以下、発光層等と称する場合がある)は、蒸着工程において、真空中で本実施形態に係る蒸着マスクを用いた蒸着により、各画素の所定の位置に形成される。
 発光層及び正孔輸送層等の画素毎に蒸着される蒸着層を形成するための蒸着工程で用いる蒸着マスクは、蒸着工程の前に、蒸着マスクの作製工程S20により予め作製しておく。なお、蒸着マスクの作製工程S20の詳細は後述する。また、この蒸着マスクを用いて形成する層は、発光層及び正孔輸送層に限定されず、画素毎に(すなわち画素バンクの開口部内に)形成される層であればよい。
 そして、有機EL層を介して反射電極と対向する透明電極を、有機EL層を覆うように形成する。
 そして、次に、封止工程S13において、封止層5を形成する。封止層5は、一例として、無機膜6、有機膜7、および無機膜8が、TFT基板2側からこの順に積層された3層構造とすることができる。枠状バンク4が形成されているため、有機膜7の膜厚を、例えば、1.0μm以上と厚く形成することができる。
 この封止層5を形成した後、フレキシブル工程S14を行う。フレキシブル工程S14では、基板のガラスを剥離して支持体となるフィルムなどを貼る。
 そして、次に、個片化工程S15において、各有機EL表示パネル形成領域9が切り出される。これにより各有機EL表示パネル形成領域9が個片化される。これにより、可撓性を有し、異形の表示パネル(有機EL表示パネル)が形成される。
 次いで、実装工程S16において、個片化された各有機EL表示パネル形成領域9にドライバ等の部材を実装する。これにより有機EL表示装置が完成する。
 図4は、本発明の実施形態1に係る有機EL表示装置の発光層等(発光層及び正孔輸送層等の画素毎に蒸着される蒸着層)を形成する際の蒸着工程の様子を示す模式図である。
 発光層等を蒸着する蒸着工程では、TFT基板2に、複数の貫通孔を有するマスクシート15を設けた蒸着マスク10を密着させ、真空下において、蒸着源70で蒸発させた蒸着粒子Z(例えば、有機発光材)をマスクシート15越しにTFT基板2における画素に蒸着させる。これにより、TFT基板2に、マスクシート15の貫通孔に対応するパターンの蒸着パターンが形成される。
 図5は、実施形態1のアクティブ領域3の一部を拡大した図である。アクティブ領域3には、画像の表示に寄与する画素pixがマトリクス状に並んで配置されている。画素pixには、発光層80が形成されている。画素pixを囲む周囲の領域が画素バンクbkである。
 一例として、図5では、赤色光を発光する赤発光層80Rが形成された赤画素Rpixと、緑色光を発光する緑発光層80Gを有する緑画素Gpixと、青色光を発光する青発光層80Bを有する青画素Bpixとがペンタイル配列となっている。しかし、画素配列は、特にペンタイル配列に限定されるものではなく、例えばストライプ配列等、他の配列であってもよい。
 なお、発光層80の形状は、当該発光層80が内部に形成される画素バンクbkの開口部の形状である。
 (蒸着マスク)
 次に、蒸着工程で用いる蒸着マスクの構成および蒸着マスクの作製工程S20について説明する。
 図6は、実施形態1に係る蒸着マスクの作製工程を表す図である。
 図7の(a)は実施形態1の蒸着マスクにおけるマスクフレームの構成を表す平面図であり、(b)は(a)に示すX1‐X1線断面図であり、(c)は(a)に示すY1‐Y1線断面図である。
 図7に示すように、マスクフレーム11は、フレーム開口11aが設けられている枠状部材である。マスクフレーム11は、マスクシート等の複数のシート状部材のマスクを固定するため支持体である。例えば、マスクフレーム11に、フレーム開口11aを覆うように固定されるシート状部材とは、後述するように、カバーシート12(図8)と、ハウリングシート13(図9)と、アライメントシート14(図10、図11)と、マスクシート15(図12、図13)等が挙げられる。
 マスクフレーム11は、例えば、母材として、厚さ20mm~30mmの熱膨張が極めて少ないインバー材等が用いられる。マスクフレーム11は、マスクシートに比べて十分に厚く、マスクシートを架張して溶接した際にも十分な精度を確保できるよう、高い剛性を持っている。
 マスクフレーム11は、例えば、正方形または長方形等の四角形である枠状部材である。本実施形態では、マスクフレーム11は、長方形である。
 マスクフレーム11は、フレーム開口11aを枠状に囲む枠状部11cと、枠状部11cの外周を囲む外周部11bとを有する。
 枠状部11cは、マスクフレーム11に取り付けられるシート状部材と接触し、当該シート状部材を固定するための領域である。
 外周部11bは枠状部11cより厚みが薄い。外周部11bは、枠状部11cを補強するための領域であり、シート状部材と接触しなくてもよい。本実施形態では、外周部11bは、シート状部材とは接触しない。
 枠状部11cは、例えば、フレーム開口11aの周縁であって、フレーム開口11aを一周囲むように設けられている。
 枠状部11cは、第1延伸部11c1、第2延伸部11c2、第3延伸部11c3および第4延伸部11c4を有する。第1延伸部11c1および第2延伸部11c2は、フレーム開口11aを介して並んで対向配置されており、それぞれY方向(第1方向:紙面上下方向)に延伸している。第3延伸部11c3および第4延伸部11c4は、フレーム開口11aを介して並んで対向配置されており、それぞれX方向(第2方向:紙面左右方向)に延伸している。
 フレーム開口11aは、正方形および長方形等の四角形、または他の形状であってもよい。本実施形態では、フレーム開口11aは長方形である。そして、第1延伸部11c1、第2延伸部11c2、第3延伸部11c3および第4延伸部11c4は、四角形の枠状となるように並んで設けられている。
 本実施形態では、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2の延伸方向(Y方向)は、フレーム開口11aおよびマスクフレーム11の長手方向に平行な方向である。また、第3延伸部11c3および第4延伸部11c4の延伸方向(X方向)は、フレーム開口11aおよびマスクフレーム11の長手方向に直交する短手方向に平行な方向である。
 第3延伸部11c3および第4延伸部11c4は、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2間に設けられている。例えば、第3延伸部11c3は、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2それぞれの一方の端部間に設けられており、第4延伸部11c4は、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2それぞれの他方の端部間に設けられている。
 第1延伸部11c1および第2延伸部11c2には、Y方向に並んで設けられる複数のカバーシート12(図8)を固定するための溝11dが並んで設けられている。溝11dは、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2に取り付けられるカバーシート12(図8)毎に設けられており、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2それぞれに、フレーム開口11aを介して対向するによう、Y方向に並んで設けられている。
 第1延伸部11c1および第2延伸部11c2は、溝11dに隣接する領域は凸部になっており、当該凸部の頭頂面11gは、Y方向に並んで設けられている。頭頂面11gは、アライメントシート14(図10、図11)または、マスクシート15(図12、図13)が固定される面である。頭頂面11gは、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2それぞれにおいて、溝11dを介して、Y方向に並んで設けられている。
 第3延伸部11c3および第4延伸部11c4には、X方向に並んで設けられる複数のハウリングシート13(図9)を固定するための溝11eが並んで設けられている。溝11eは、第3延伸部11c3および第4延伸部11c4に取り付けられるハウリングシート13(図9)毎に設けられており、第3延伸部11c3および第4延伸部11c4それぞれに、フレーム開口11aを介して対向するによう、X方向に並んで設けられている。
 第3延伸部11c3および第4延伸部11c4は、溝11eに隣接する領域は凸部になっており、当該凸部は頭頂面11hを有する。
 第3延伸部11c3および第4延伸部11c4は、溝11eが設けられている領域の厚さは、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2の溝11dが設けられている領域の厚さより薄い。
 また、第3延伸部11c3および第4延伸部11c4は、頭頂面11hが設けられている領域の厚さは、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2の頭頂面11gが設けられている領域の厚さより薄い。
 第3延伸部11c3および第4延伸部11c4は、後述するように、アライメントシート14がマスクフレーム11に固定された際、少なくとも一部が、アライメントシート14に覆われる。
 図6の工程Sa、図8に示すように、フレーム開口11aを覆うようにマスクフレーム11に、複数のカバーシート12をY方向に並び互いに平行になるように取り付ける(カバーシート取り付け工程)。
 カバーシート12は、Y方向に並んで枠状部11cに固定されるシート状部材である。カバーシート12は、後にマスクフレーム11に取り付けられるマスクシート間の隙間を埋めたり、マスクシートに形成されたダミーパターンを塞いだりする役割を果たす。
 カバーシート12は、例えば、母材として、厚さ30μm~50μmのインバー材等が用いられる。カバーシート12は、細長い形状であり、一方の端部から他方の端部にかけて直線状にX方向に延伸している。
 カバーシート12をマスクフレーム11に取り付ける際、両端部それぞれに外向き方向(互いに離れる方向)に力を加えることで架張し(引張り)つつ、カバーシート12の両端部を、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2それぞれに設けられた溝11d内に配置する。そして、カバーシート12のうち、当該溝11d内に配置された部分を、レーザ等によって溶接することでカバーシート12を枠状部11cに固定する。これにより、各カバーシート12は、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2それぞれの溝11d内に固定される。そして、必要に応じて、カバーシート12における溶接した部分より外側の不要部分をカットする。
 図9の(a)は、実施形態1の蒸着マスクにおけるマスクフレームにハウリングシートを取り付けている様子を表す平面図であり、(b)は(a)に示すX1‐X1線断面図であり、(c)は(a)に示すY1‐Y1線断面図である。
 次に、図6の工程Sbおよび図9に示すように、カバーシート12が取り付けられたマスクフレーム11に、ハウリングシート13(サポートシートとも呼ばれる)を、X方向に並び互いに平行になるように取り付ける(ハウリングシート取り付け工程)。
 ハウリングシート13は、X方向に並んで枠状部11cに固定されるシート状部材である。ハウリングシート13は、後にマスクフレーム11に取り付けられるマスクシートを弛まないように支持したり、マスクシートに形成されたダミーパターンを塞いだりする役割を果たす。
 ハウリングシート13は、例えば、母材として、厚さ30μm~100μmのインバー材等が用いられる。ハウリングシート13の幅は、例えば、8mm~10mm程度であり、パネルが配置される基板上のレイアウトによって決定される。ハウリングシート13は、細長い形状であり、一方の端部から他方の端部にかけて直線状に延伸している。
 ハウリングシート13をマスクフレーム11に取り付ける際、両端部それぞれに外向き方向(互いに離れる方向)に力を加えることで架張し(引張り)つつ、ハウリングシート13の両端部を、第3延伸部11c3および第4延伸部11c4それぞれに設けられた溝11e内に配置する。そして、ハウリングシート13のうち、当該溝11e内に配置された部分を、レーザ等によって溶接することで固定する。これにより、各ハウリングシート13は、第3延伸部11c3および第4延伸部11c4それぞれの溝11e内に固定される。そして、必要に応じて、ハウリングシート13における溶接した部分より外側の不要部分をカットする。
 図9の(a)に示すように、マスクフレーム11に、複数のカバーシート12と、複数のハウリングシート13とを格子状に取り付けることにより、互いに対向するカバーシート12と、互いに対向するハウリングシート13とによって区画された開口部が並んで形成される。
 なお、マスクフレーム11に、カバーシート12とハウリングシート13とを取り付ける順番を逆にして(図6の工程Saと工程Sbとを入れ替えて)、マスクフレーム11に、先にハウリングシート13を取り付けた後、次に、カバーシート12を取り付けてもよい。
 この場合、第3延伸部11c3および第4延伸部11c4における溝11eが設けられている領域の厚さは、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2における溝11dが設けられている領域の厚さより厚くする必要がある。
 図10の(a)は実施形態1の蒸着マスクにおけるマスクフレームにアライメントシートを取り付けている様子を表す平面図であり、(b)は(a)に示すX1‐X1線断面図であり、(c)は(a)に示すY1‐Y1線断面図である。図11の(a)は図10の(a)に示すアライメントシートの取付部近傍を拡大した平面図であり、(b)は(a)に示すX1‐X1線断面図であり、(c)は(a)に示すY1‐Y1線断面図である。
 次に、図6の工程Scおよび図10に示すように、アライメントマーク14aが形成されたアライメントシート14を、アライメントマーク14aが所定位置に来るように、Y方向に並び互いに平行になるように、マスクフレーム11に取り付ける(アライメントシート取り付け工程)。
 アライメントシート14は、Y方向に並んで枠状部11cに固定されるシート状部材である。アライメントシート14は、Y方向に並んで枠状部11cに固定されるシート状部材のうち両端に位置する。2つのアライメントシート14のうち、第3延伸部11c3に近い側をアライメントシート14A1と称し、第4延伸部11c4に近い側をアライメントシート14A2と称する場合がある。
 アライメントマーク14aは、後に、マスクシート15をマスクフレーム11に取り付けるときの位置決めをする基準となる。
 アライメントシート14は、例えば、母材として、厚さ10μm~50μm、好ましくは25μm程度のインバー材等が用いられる。アライメントシート14は、カバーシート12およびハウリングシート13よりも幅が広い短冊状であり、一方の端部から他方の端部にかけてX方向に延伸している。
 アライメントシート14をマスクフレーム11に取り付ける際、両端部それぞれに外向き方向(互いに離れる方向)に力を加えることで架張し(引張り)つつ、アライメントシート14の両端部を、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2それぞれに設けられた頭頂面11gに接触させ配置する。そして、アライメントシート14のうち、当該頭頂面11gに接触している部分をレーザ等によって溶接する。これにより、アライメントシート14の両端部に溶接された固定部14bが形成される。この固定部14bによって、アライメントシート14は、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2の頭頂面11gに固定される。そして、必要に応じて、アライメントシート14における溶接した部分(固定部14b)より外側の不要部分をカットする。
 これにより、各アライメントシート14は、マスクフレーム11の所定位置に取り付けられる。本実施形態では、2つのアライメントシート14が、それぞれ、マスクフレーム11のフレーム開口11aの短辺に沿って互いに平行になるように、マスクフレーム11に取り付けられている。
 2つのアライメントシート14は、同じ高さに設けられ(すなわち頭頂面11gに設けられ)、Y方向に並んで設けられるシート状部材(すなわち、複数のアライメントシート14および複数のマスクシート15)のうち、両端に位置するシート状部材である。また、本実施形態では、2つのアライメントシート14は、異なる高さに設けられる(すなわち、頭頂面11gおよび溝11dの底面に設けられる)シート状部材であって、Y方向に並んで設けられるシート状部材(すなわち、複数のアライメントシート14、複数のマスクシート15および複数のカバーシート12)のうちでも、両端に位置するシート状部材である。
 このため、2つのアライメントシート14は、枠状部11cのうち、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2間に設けられている、第3延伸部11c3および第4延伸部11c4のうち少なくとも一部を覆う。
 例えば、図10および図11に示すように、アライメントシート14A1を、第3延伸部11c3の少なくとも一部を覆うと共に当該第3延伸部11c3とは非接触となるように、Y方向の端であって、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2の頭頂面11gに固定する。
 これにより、アライメントシート14A1は、固定されている、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2の頭頂面11gとは、領域AR1に示すように接触している。そして、アライメントシート14A1は、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2間に設けられている第3延伸部11c3の少なくとも一部と重なっている。
 ここで、上述のように、第3延伸部11c3は、頭頂面11hが設けられている領域の厚さは、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2の頭頂面11gが設けられている領域の厚さより薄い。
 図11の(a)に示すように、枠状部11cにおいて、第1延伸部11c1のうち頭頂面11gが設けられている領域の厚さを厚さt1とし、第3延伸部11c3のうち頭頂面11hが設けられている領域の厚さを厚さt2とすると、t1>t2となっている。
 このため、第3延伸部11c3のうち、アライメントシート14A1が覆う頭頂面11hの一部領域AR2と、アライメントシート14A1とは非接触となり、距離t3だけ隙間が設けられている。
 アライメントシート14A2の方も同じように、図10に示すように、アライメントシート14A2を、第4延伸部11c4の少なくとも一部を覆うと共に第4延伸部11c4とは非接触となるように、アライメントシート14A2とは逆側の端であって、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2の頭頂面11gに固定する。
 これにより、アライメントシート14A2は、固定されている、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2の頭頂面11gとは、領域AR1に示すように接触している。そして、アライメントシート14A2は、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2間に設けられている第4延伸部11c4の少なくとも一部と重なっている。
 そして、上述のように、第4延伸部11c4は、頭頂面11hが設けられている領域の厚さは、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2の頭頂面11gが設けられている領域の厚さより薄い。
 このため、第4延伸部11c4のうち、アライメントシート14A2が覆う頭頂面11hの一部領域AR2と、アライメントシート14A2とは非接触となり、隙間が設けられている。
 図12の(a)は実施形態1の蒸着マスクにおけるマスクフレームにマスクシートを取り付けている様子を表す平面図であり、(b)は(a)に示すX1‐X1線断面図であり、(c)は(a)に示すY1‐Y1線断面図である。
 図13の(a)は実施形態1の蒸着マスク10を表す平面図であり、(b)は(a)に示すX1‐X1線断面図であり、(c)は(a)に示すY1‐Y1線断面図である。
 次に、図6の工程Sd、図12および図13に示すように、マスクフレーム11に、複数のマスクシート15をY方向に並び互いに平行になるように取り付ける(マスクシート取り付け工程)。
 マスクシート15は、Y方向に並んで枠状部11cに固定されるシート状部材である。マスクシート15は、2つのアライメントシート14A1・14A2間に複数設けられる。
 マスクシート15は、図2および図3に示したアクティブ領域3における画素内に蒸着層をパターン形成するため、例えば、RGBそれぞれに塗り分けるためのシートである。
 また工程Sdの前に、工程S101として、マスクシート15をマスクフレーム11に取り付ける前に、蒸着孔を複数並んで形成することで有効部YAをマスクシート15に形成しておく(有効部形成工程)。有効部YAは、アクティブ領域3毎に、1つのマスクシート15に複数形成する。この有効部YAの詳細は後述する。
 マスクシート15は、カバーシート12およびハウリングシート13よりも幅が広い短冊状であり、一方の端部から他方の端部にかけてX方向に延伸している。
 マスクシート15をマスクフレーム11に取り付ける際、両端部それぞれに外向き方向(互いに離れる方向)に力を加えることで架張し(引張り)つつ、アライメントシート14に形成されているアライメントマーク14aを基準に、有効部YAを構成する蒸着孔が所定位置に来るように、マスクシート15の両端部を、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2それぞれに設けられた頭頂面11gに接触させ配置する。
 そして、マスクシート15のうち、当該頭頂面11gに接触している部分を、レーザ等によって溶接することで固定する。これにより、マスクシート15は、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2それぞれの頭頂面11gに精度よく固定される。
 そして、図6の工程Seに示すように、マスクシート15における溶接した部分より外側の不要部分をカットする。
 次に、図6の工程Sfに示すように、マスクシート15が取り付けられた蒸着マスク10を洗浄し、異物検査および精度検査等の各種のマスク検査を行う。この後、マスク検査にて問題がなかった蒸着マスク10はストッカに格納され、必要に応じて、蒸着工程にて使用される蒸着装置に供給される。これにより、蒸着マスク10が完成する。
 蒸着マスク10は、蒸着マスク10の製造時に発生した異物を取り除くために洗浄される。また、蒸着マスク10を用いて蒸着した後、蒸着マスク10に付着した蒸着粒子を取り除くために洗浄される。
 ここで、上述のように、アライメントシート14A1・14A2は、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2の頭頂面11gに固定されており、領域AR1は接触している。この領域AR1では、アライメントシート14A1・14A2は、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2の頭頂面11gと密着しているため、異物は、アライメントシート14A1・14A2は、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2の頭頂面11gとの間には侵入しない。
 また、アライメントシート14A1は、Y方向に並んで設けられているシート状部材のうち、一方の端に位置するため、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2間に設けられている第3延伸部11c3の少なくとも一部と重なっている。
 同様に、アライメントシート14A2は、Y方向に並んで設けられているシート状部材のうち、他方の端に位置するため、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2間に設けられている第4延伸部11c4の少なくとも一部と重なっている。
 しかし、上述のように、第3延伸部11c3および第4延伸部11c4は、頭頂面11hが設けられている領域の厚さが、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2の頭頂面11gが設けられている領域の厚さより薄い。
 このため、第3延伸部11c3のうち、アライメントシート14A1が覆う頭頂面11hの領域AR2と、アライメントシート14A1とは非接触となり、隙間が設けられている。
 同様に、第4延伸部11c4のうち、アライメントシート14A2が覆う頭頂面11hの領域AR2と、アライメントシート14A2とは非接触となり、隙間が設けられている。
 これにより、蒸着マスク10を洗浄した際、洗浄液は、領域AR2における、アライメントシート14A1と、第3延伸部11c3の頭頂面11hとの間を流れる。このため、領域AR2における、アライメントシート14A1と、第3延伸部11c3の頭頂面11hとの間の洗浄効果を高めることができる。このため、領域AR2における、アライメントシート14A1と、第3延伸部11c3の頭頂面11hとの間に、異物が残ってしまうことを防止することができる。
 同様に、蒸着マスク10を洗浄した際、洗浄液は領域AR2における、アライメントシート14A2と、第4延伸部11c4の頭頂面11hとの間を流れる。このため、領域AR2における、アライメントシート14A2と、第4延伸部11c4の頭頂面11hとの間の洗浄効果を高めることができる。このため、領域AR2における、アライメントシート14A2と、第4延伸部11c4の頭頂面11hとの間に、異物が残ってしまうことを防止することができる。
 これにより、洗浄残りによる異物が蒸着マスク10を用いた蒸着時に、被蒸着基板(TFT基板2)に付着してしまうことを防止することができる。この結果、完成したパネル品質の低下を防止することができる。
 (有効部YA)
 図14は、実施形態1のマスクシート15の構成を表す図である。図14の(a)はマスクシート15の平面図であり、(b)は(a)に示す有効部の拡大図であり、(c)は(b)に示すB‐B線断面図であり、(d)は(b)に示すC-C線断面図である。
 図14の(a)に示すようにマスクシート15は、短冊状であり、母材として、例えば、厚さ10μm~50μm、好ましくは25μm程度のインバー材等が用いられている。マスクシート15は、蒸着された蒸着層の厚みが不均一となることを防ぐため、厚みが薄いシートにより構成されている。
 マスクシート15の両端部間には、マスクシート15の長手方向に延伸する複数の有効部YAが並んで形成されている。有効部YAには、画素に対応した複数の蒸着孔Hが並んで形成されている。有効部YAとは、蒸着孔Hが等ピッチで設けられている領域である。
 各有効部YAの外形は、マスクシート15を架張した際に加わる応力がなるべく均一となるよう異形ではなく、正方形または長方形であることが好ましい。本実施形態では、各有効部YAの外形は長方形である。各有効部YAは、TFT基板2のアクティブ領域3毎に設けられており、有効部YA同士は離れて形成されている。
 蒸着孔Hは貫通孔である。マスクシート15を通して発光層をTFT基板に蒸着する場合、蒸着孔Hは、有効部YAにおいて、発光層が発光する色のうち何れかの色の光を発光する発光層の形成領域に対応して形成されている。例えば、アクティブ領域3に、赤色光を発光する発光層と、緑色光を発光する発光層と、青色光を発光する発光層とが形成される場合、蒸着孔Hは、赤色光を発光する発光層と、緑色光を発光する発光層と、青色光を発光する発光層とのうちいずれかの発光層のパターンと同じパターンで形成されている。
 マスクシート15には、図6に示した工程S101にて、例えば以下のように蒸着孔Hが作製される。
 まず、インバー材等からなる長尺板の両面にネガ型もしくはポジ型の感光性レジスト材料を塗布し、両主面(第1面および第2面)にレジスト膜を形成する。
 次いで、露光マスクを用いて第1面および第2面のレジスト膜を露光および現像することで長尺板の両面にレジストパターンを形成する。次いで、第1面レジストパターンをマスクとして有効部YAの第1面15b(蒸着時にTFT基板2と対向する面)をエッチングし(縁部の上面はエッチングしない)、有効部YAの第1面15bに開口Kをパターン形成する(この段階では貫通した蒸着孔とはならない)。
 次いで、エッチング耐性を有する耐性樹脂で第1面15bを覆い、第2面15c(蒸着時にTFT基板2との対向面とは逆側となる面)レジストパターンをマスクとし、有効部YAおよび縁部の下面をエッチングする。これにより、有効部YAでは第2面15c側からの浸食によって蒸着孔H(貫通孔)が形成され、縁部の下面に複数の凹みが形成される。
 有効部YAの複数の蒸着孔Hは、マスクシート15の長手方向および短手方向(幅方向)にマトリクス状に又は斜め格子状に形成され、その開口K(上面の開口)は、基板の画素バンクの開口形状に対応するように、角が丸まった四角形形状もしくは円形又は楕円形の形状となる。有効部YAでは、各蒸着孔Hに対して第1面15b側よりも第2面15c側のエッチングを広範かつ深く行うことで、陰になる部分(隣り合う2つの蒸着孔間の仕切りの高さ)を小さくし、基板に対する蒸着精度および蒸着効率を高めている。
 有効部YAでは、横方向に隣り合う2つの開口Kの中心を通るB-Bラインで断面をとると、図14の(c)のように母材が最小(空洞が最大)の構成となり、縦方向に隣り合う2つの開口Kから等距離の点を通り、B-B線に平行なC-Cラインで断面をとると、図14の(c)(d)のように母材が最大(空洞が最小)の構成(最大厚みは母材の厚みTi)となる。これにより、マスクシート15が作製される。
 図15は、蒸着マスク10の一部を、第2面15c側から見た様子を表す図である。図16は、蒸着工程において蒸着をしている際の蒸着マスク10およびTFT基板2の断面図である。
 図15および図16に示すように、複数の蒸着孔Hが並んで形成された有効部YAは、有効部YAは、アクティブ領域3に対応する形状であって、アクティブ領域3毎に設けられている。
 蒸着マスク10は、カバーシート12、ハウリングシート13およびマスクシート15が、この順に、蒸着源からTFT基板2に向かって並んでいる。そして、蒸着時、マスクシート15の第1面15bとTFT基板2とは密着しているため、マスクシート15の有効部YAとTFT基板2とが離れることで生じるシャドウの発生を防止している。
 〔実施形態2〕
 図17の(a)は実施形態2の蒸着マスクにおけるマスクフレームにアライメントシートを取り付けている様子を表す平面図であり、(b)は(a)に示すX1‐X1線断面図であり、(c)は(a)に示すY1‐Y1線断面図である。
 図18の(a)は図17の(a)に示すアライメントシートの取付部近傍を拡大した平面図であり、(b)は(a)に示すX1‐X1線断面図であり、(c)は(a)に示すY1‐Y1線断面図である。
 図17および図18に示すように、本実施形態では、第3延伸部11c3および第4延伸部11c4には、複数のハウリングシート13毎に溝11e(図10および図11)が設けられるのではなく、複数のハウリングシート13を固定するための凹部11fが、複数のハウリングシート13に跨るように設けられている。
 図6に示した工程Sa(カバーシート取り付け工程)にてマスクフレーム11に複数のカバーシート12を取り付けた後、工程Sb(ハウリングシート取り付け工程)にて、複数のハウリングシート13を取り付ける。
 ここで、第3延伸部11c3および第4延伸部11c4には、第1延伸部11c1との接続部から、第2延伸部11c2との接続部に至るまで延伸する凹部11fが設けられている。それぞれの凹部11fの底面は、凹凸が形成されておらず平面である。
 このため、各ハウリングシート13を、第3延伸部11c3および第4延伸部11c4それぞれの凹部11f内のうち、X方向の任意の位置に固定することができる。このため、蒸着するTFT基板2のアクティブ領域3(図2、図3)の形状に応じて、第3延伸部11c3および第4延伸部11c4それぞれの凹部11fに固定する各ハウリングシート13のX方向の位置を調整することができる。
 第3延伸部11c3および第4延伸部11c4それぞれの凹部11fの底面は、各ハウリングシート13と接触している領域と、当該ハウリングシート13に隣接する領域とは、同じ高さである。このため、第3延伸部11c3および第4延伸部11c4は、凹部11fの底面が設けられている領域の厚さは、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2の頭頂面11gが設けられている領域の厚さより薄い。
 すなわち、本実施形態では、複数のハウリングシート13は、第3延伸部11c3および第4延伸部11c4それぞれの凹部11fを共有している。
 次に、図6の工程Sc(アライメントシート取り付け工程)にてアライメントシート14をマスクフレーム11に取り付ける。
 アライメントシート14の両端部を、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2それぞれに設けられた頭頂面11gに接触させ配置する。そして、アライメントシート14のうち、当該頭頂面11gに接触している部分を、レーザ等によって溶接することで固定する。これにより、アライメントシート14は、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2それぞれの頭頂面11gに固定される。そして、必要に応じて、アライメントシート14における溶接した部分より外側の不要部分をカットする。
 図17および図18に示すように、アライメントシート14A1を、第3延伸部11c3の少なくとも一部を覆うと共に当該第3延伸部11c3とは非接触となるように、Y方向の端であって、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2の頭頂面11gに固定する。
 これにより、アライメントシート14A1は、固定されている、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2の頭頂面11gと、領域AR1に示すように接触している。そして、アライメントシート14A1は、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2間に設けられている第3延伸部11c3の少なくとも一部と重なっている。
 ここで、上述のように、第3延伸部11c3は、凹部11fの底面が設けられている領域の厚さは、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2の頭頂面11gが設けられている領域の厚さより薄い。
 図18の(a)に示すように、枠状部11cにおいて、第1延伸部11c1のうち頭頂面11gが設けられている領域の厚さを厚さt1とし、第3延伸部11c3のうち凹部11fの底面が設けられている領域の厚さt4とすると、t1>t4となっている。
 このため、第3延伸部11c3のうち、アライメントシート14A1が覆う凹部11fの底面の一部領域AR3と、アライメントシート14A1とは非接触となり、距離t5だけ隙間が設けられている。
 アライメントシート14A2の方も同じように、図17に示すように、アライメントシート14A2を、第4延伸部11c4の少なくとも一部を覆うと共に第4延伸部11c4とは非接触となるように、アライメントシート14A2とは逆側の端であって、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2の頭頂面11gに固定する。
 これにより、アライメントシート14A2は、固定されている、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2の頭頂面11gとは、領域AR1に示すように接触している。そして、アライメントシート14A2は、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2間に設けられている第4延伸部11c4の少なくとも一部と重なっている。
 そして、上述のように、第4延伸部11c4は、凹部11fの底面が設けられている領域の厚さは、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2の頭頂面11gが設けられている領域の厚さより薄い。
 このため、第4延伸部11c4のうち、アライメントシート14A2が覆う凹部11fの底面の一部領域AR3と、アライメントシート14A2とは非接触となり、隙間が設けられている。
 次に、図6の工程Sd(マスクシート取り付け工程)にてマスクシート15をマスクフレーム11に取り付ける。
 図19の(a)は実施形態2の蒸着マスクにおけるマスクフレームにマスクシートを取り付けている様子を表す平面図であり、(b)は(a)に示すX1‐X1線断面図であり、(c)は(a)に示すY1‐Y1線断面図である。
 図20の(a)は実施形態2の蒸着マスクを表す平面図であり、(b)は(a)に示すX1‐X1線断面図であり、(c)は(a)に示すY1‐Y1線断面図である。
 図19に示すように、マスクシート15をマスクフレーム11に取り付ける際、両端部それぞれに外向き方向(互いに離れる方向)に力を加えることで架張し(引張り)つつ、アライメントシート14に形成されているアライメントマーク14aを基準に、有効部YAを構成する蒸着孔が所定位置に来るように、マスクシート15の両端部を、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2それぞれに設けられた頭頂面11gに接触させ配置する。
 そして、マスクシート15のうち、当該頭頂面11gに接触している部分を、レーザ等によって溶接することで固定する。これにより、マスクシート15は、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2それぞれの頭頂面11gに精度よく固定される。
 また工程Sdの前に、図6に示した工程S101として、マスクシート15をマスクフレーム11に取り付ける前に、蒸着孔を複数並んで形成することで有効部YAをマスクシート15に形成しておく(有効部形成工程)。
 本実施形態では、有効部YAは、複数のアクティブ領域3(図2、図3)に跨るように、複数のアクティブ領域3と重なる程度の面積を有する。このため、有効部YAは、複数のハウリングシート13と重なる。
 図20に示すように、本実施形態では、この工程Sdによって、マスクシート15の有効部YAに、第1領域YA1と、第2領域YA2とが設けられる。
 第1領域YA1は、アクティブ領域3(図2参照)毎に形成され、当該アクティブ領域3に対応する形状を有する。第2領域YA2は、有効部YAにおける、第1領域YA1とは異なる領域であって、ハウリングシート13と重なる領域である。
 そして、2つのアライメントシート14A1・14A2間に所定枚数のマスクシート15を複数固定した後、図6の工程Seおよび図20に示すように、マスクシート15における溶接した部分より外側の不要部分をカットする。
 次に、図6の工程Sfに示すように、マスクシート15が取り付けられた蒸着マスクを洗浄し、異物検査および精度検査等の各種のマスク検査を行う。この後、マスク検査にて問題がなかった蒸着マスク10はストッカに格納され、必要に応じて、蒸着工程にて使用される蒸着装置に供給される。これにより、蒸着マスク10が完成する。
 図21は、実施形態2の蒸着マスクの一部を、第2面側から見た様子を表す図である。
 図20および図21に示すように、有効部YAにおいて、第1領域YAに含まれる蒸着孔は貫通しており、第2領域YA2に含まれる蒸着孔は、ハウリングシート13により遮蔽されている。
 第1領域YAに含まれる蒸着孔は、画素毎に、蒸着層をパターン形成するための蒸着孔である。第2領域YA2に含まれる蒸着孔は、画素毎に、蒸着層をパターン形成することに寄与しないダミーの蒸着孔である。
 蒸着工程において、マスクシート15の有効部YAのうち、第1領域YA1は、TFT基板2のアクティブ領域3(図2及び図3参照)と重なり、第1領域YA1の外側である第2領域YA2及び有効部YAを囲む縁部は、額縁領域44(図2及び図3参照)と重なる。そして、蒸着源から発せられた蒸着粒子は、第1領域YA1に含まれる蒸着孔Hを通ってTFT基板2のアクティブ領域3の画素に蒸着する。このとき、マスクシート15のうち第2領域YA2及び有効部YAを囲む縁部は、TFT基板2の額縁領域44と重なるため、蒸着粒子は、第2領域YA2及び有効部YAを囲む縁部によって遮蔽され、額縁領域44には到達しない。
 上述のように、本実施形態では、第3延伸部11c3および第4延伸部11c4には、複数のハウリングシート13毎に溝11e(図10および図11)が設けられるのではなく、複数のハウリングシート13を固定するための凹部11fが、複数のハウリングシート13に跨るように設けられている。
 このため、ハウリングシート13のX方向の位置を自由に調整することができる。
 加えて、マスクシート15の有効部YAは、複数のアクティブ領域に跨って重なる程度の面積を有する。
 このため、第1領域YA1の外形を規定する第2領域YA2の位置および形状は、ハウリングシート13の位置および形状によって規定することができる。これにより、有効部YAの外形は、アクティブ領域3の外形が変わっても変更する必要がない。従って、種々の外形を有する基板間で、有効部YAが形成されたマスクシート15と、マスクフレーム11とを共通化することができる。
 例えば、4:3、16:9、18:9など、アスペクト比が異なるアクティブ領域3を形成するためのマスクシート15を共通化することができる。
 また、上述のように、第3延伸部11c3は、凹部11fの底面が設けられている領域の厚さは、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2の頭頂面11gが設けられている領域の厚さより薄い。
 このため、第3延伸部11c3のうち、アライメントシート14A1が覆う凹部11fの底面の領域AR3と、アライメントシート14A1とは非接触となり、隙間が設けられている。
 これにより、蒸着マスク10を洗浄した際、洗浄液は、領域AR3における、アライメントシート14A1と、第3延伸部11c3の頭頂面11hとの間を流れる。このため、領域AR3における、アライメントシート14A1と、第3延伸部11c3の凹部11fの底面との間の洗浄効果を高めることができる。これにより、領域AR3における、アライメントシート14A1と、第3延伸部11c3の凹部11fの底面との間に異物が残ってしまうことを防止することができる。
 また、第4延伸部11c4も、凹部11fの底面が設けられている領域の厚さは、第1延伸部11c1および第2延伸部11c2の頭頂面11gが設けられている領域の厚さより薄い。
 このため、第4延伸部11c4のうち、アライメントシート14A2が覆う凹部11fの底面の一部領域AR3と、アライメントシート14A2とは非接触となり、隙間が設けられている。
 これにより、蒸着マスク10を洗浄した際、洗浄液は、領域AR3における、アライメントシート14A2と、第4延伸部11c4の頭頂面11hとの間を流れる。このため、領域AR3における、アライメントシート14A2と、第4延伸部11c4の凹部11fの底面との間の洗浄効果を高めることができる。これにより、領域AR3における、アライメントシート14A2と、第4延伸部11c4の凹部11fの底面との間に異物が残ってしまうことを防止することができる。
 この結果、洗浄残りによる異物が蒸着マスク10を用いた蒸着時に、被蒸着基板(TFT基板2)に付着してしまうことを防止することができる。このため、完成したパネル品質の低下を防止することができる。
 また、実施形態1、2にかかるディスプレイは、表示素子を備えた表示パネルであれば、特に限定されるものではない。上記表示素子は、電流によって輝度や透過率が制御される表示素子であり、電流制御の表示素子としては、OLED(Organic Light Emitting Diode:有機発光ダイオード)を備えた有機EL(Electro Luminescence:エレクトロルミネッセンス)ディスプレイ、又は無機発光ダイオードを備えた無機ELディスプレイ等のELディスプレイQLED(Quantum dot Light Emitting Diode:量子ドット発光ダイオード)を備えたQLEDディスプレイ等がある。
 〔まとめ〕
 態様1に係る蒸着マスクは、フレーム開口が設けられたマスクフレームと、当該フレーム開口を覆うようにマスクフレームに固定される複数のシート状部材とを有する蒸着マスクであって、上記マスクフレームは、上記フレーム開口を枠状に囲む枠状部を有し、上記枠状部は、第1延伸部、第2延伸部、第3延伸部および第4延伸部を有し、上記第1延伸部および上記第2延伸部は、上記フレーム開口を介して並んで配置されており、それぞれ第1方向に延伸し、上記第3延伸部および上記第4延伸部は、上記フレーム開口を介して並んで配置されており、それぞれ第2方向に延伸し、上記複数のシート状部材は、上記第1方向に並んで設けられる上記複数のシート状部材のうち、端に位置する第1シート状部材を含み、上記第1シート状部材は、上記第1延伸部および上記第2延伸部の頭頂面に固定されており、上記第3延伸部の少なくとも一部を覆い、上記第3延伸部は、上記第1延伸部および上記第2延伸部より厚みが薄く、上記第1シート状部材と非接触であることを特徴とする。
 態様2に係る蒸着マスクでは、上記複数のシート状部材は、上記第1方向に並んで設けられる上記複数のシート状部材のうち、上記第1シート状部材とは逆側の端に位置する第2シート状部材を含み、上記第2シート状部材は、上記第1延伸部および上記第2延伸部の頭頂面に固定されており、上記第4延伸部の少なくとも一部を覆い、上記第4延伸部は、上記第1延伸部および上記第2延伸部より厚みが薄く、上記第2シート状部材と非接触であってもよい。
 態様3に係る蒸着マスクでは、複数のシート部材は、上記第2方向に並んで設けられる複数のハウリングシートを含み、上記第3延伸部および上記第4延伸部には、上記複数のハウリングシートを固定するための溝が、上記ハウリングシート毎に設けられてもよい。
 態様4に係る蒸着マスクでは、上記第1方向に並んで設けられる上記複数のシート状部材は、上記第1延伸部および上記第2延伸部の上記頭頂面に固定されている複数のマスクシートを含み、上記各マスクシートは、表示に寄与する画素が並ぶアクティブ領域が複数設けられた被蒸着基板の当該画素に対応する複数の蒸着孔が並んで設けられている複数の有効部を有し、上記有効部は、上記アクティブ領域毎に設けられていてもよい。
 態様5に係る蒸着マスクでは、複数のシート部材は、上記第2方向に並んで設けられる複数のハウリングシートを含み、上記第3延伸部および上記第4延伸部には、上記複数のハウリングシートを固定するための凹部が、上記複数のハウリングシートに跨って設けられていてもよい。
 態様6に係る蒸着マスクでは、上記第1方向に並んで設けられる上記複数のシート状部材は、上記第1延伸部および上記第2延伸部の上記頭頂面に固定されている複数のマスクシートを含み、上記各マスクシートは、表示に寄与する画素が並ぶアクティブ領域が複数設けられた被蒸着基板の当該画素に対応する複数の蒸着孔が並んで設けられている有効部を有し、上記有効部は、上記複数のアクティブ領域に跨るように設けられていてもよい。
 態様7に係る蒸着マスクでは、上記第1延伸部、上記第2延伸部、上記第3延伸部、および、上記第4延伸部は、四角形となるように並んで設けられていてもよい。
 態様8に係る蒸着マスクでは、複数のシート部材は、上記第1方向に並んで設けられる複数のカバーシートを含み、上記第1延伸部および上記第2延伸部には、上記複数のカバーシートを固定するための溝が、上記カバーシート毎に設けられていてもよい。
 態様9に係る蒸着マスクでは、上記第1シート状部材および上記第2シート状部材は、それぞれ、被蒸着基板の画素に対応する複数の蒸着孔が設けられたマスクシートを上記マスクフレームに固定するときに基準となるアライメントマークが設けられたアライメントシートであってもよい。
 態様10に係る表示デバイスの製造方法は、フレーム開口が設けられたマスクフレームと、当該フレーム開口を覆うようにマスクフレームに固定される複数のシート状部材とを有する蒸着マスクの製造方法を含む表示デバイスの製造方法であって、上記マスクフレームは、上記フレーム開口を枠状に囲む枠状部を有し、上記枠状部は、第1延伸部、第2延伸部、第3延伸部および第4延伸部を有し、上記第1延伸部および上記第2延伸部は、上記フレーム開口を介して並んで配置されており、それぞれ第1方向に延伸し、上記第3延伸部および上記第4延伸部は、上記フレーム開口を介して並んで配置されており、それぞれ第2方向に延伸し、上記第3延伸部は、上記第1延伸部および上記第2延伸部より厚みが薄く、上記第4延伸部は、上記第1延伸部および上記第2延伸部より厚みが薄く、上記複数のシート状部材は、上記第1方向に並んで設けられる複数のシート状部材を含み、上記蒸着マスクの製造方法は、上記第1方向に並んで設けられる上記複数のシート状部材のうち、第1シート状部材を、上記第3延伸部の少なくとも一部を覆うと共に当該第3延伸部とは非接触となるように、上記第1方向の端であって、上記第1延伸部および上記第2延伸部の頭頂面に固定する工程と、上記第1方向に並んで設けられる上記複数のシート状部材のうち、第2シート状部材を、上記第4延伸部の少なくとも一部を覆うと共に当該第4延伸部とは非接触となるように、記第1シート状部材とは逆側の端であって、上記第1延伸部および上記第2延伸部の頭頂面に固定する工程と、上記第1方向に並んで設けられる上記複数のシート状部材のうち、被蒸着基板の画素に対応する複数の蒸着孔が設けられた複数のマスクシートを、上記第1シート状部材および上記第2シート状部材それぞれに設けられたアライメントマークを基準として、上記マスクフレームに固定する工程とを有し、上記蒸着マスクの製造方法によって製造された上記蒸着マスクを用いて、上記被蒸着基板の上記画素に蒸着層を形成する蒸着工程を有することを特徴とする。
 本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。さらに、各実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を組み合わせることにより、新しい技術的特徴を形成することができる。
1 基板
2 TFT基板(被蒸着基板)
3 アクティブ領域
4 枠状バンク
5 封止層
6、8 無機膜
7 有機膜
9 有機EL表示パネル形成領域
10 蒸着マスク
11 マスクフレーム
11a フレーム開口
11b 外周部
11c 枠状部
11c1 第1延伸部
11c2 第2延伸部
11c3 第3延伸部
11c4 第4延伸部
11f 凹部
11g、11h 頭頂面
12 カバーシート(シート状部材)
13 ハウリングシート(シート状部材)
14 アライメントシート(シート状部材)
14A1 アライメントシート(第1シート状部材、シート状部材)
14A2 アライメントシート(第2シート状部材、シート状部材)
14a アライメントマーク
14b 固定部
15 マスクシート(シート状部材)
43 表示領域
44 額縁領域
70 蒸着源
80 発光層(蒸着層)
AR1、AR2、AR3 領域
bk 画素バンク
YA 有効部
YA1 有効部YAの第1領域
YA2 有効部YAの第2領域

Claims (10)

  1.  フレーム開口が設けられたマスクフレームと、当該フレーム開口を覆うようにマスクフレームに固定される複数のシート状部材とを有する蒸着マスクであって、
     上記マスクフレームは、上記フレーム開口を枠状に囲む枠状部を有し、
     上記枠状部は、第1延伸部、第2延伸部、第3延伸部および第4延伸部を有し、
     上記第1延伸部および上記第2延伸部は、上記フレーム開口を介して並んで配置されており、それぞれ第1方向に延伸し、
     上記第3延伸部および上記第4延伸部は、上記フレーム開口を介して並んで配置されており、それぞれ第2方向に延伸し、
     上記複数のシート状部材は、上記第1方向に並んで設けられる上記複数のシート状部材のうち、端に位置する第1シート状部材を含み、
     上記第1シート状部材は、上記第1延伸部および上記第2延伸部の頭頂面に固定されており、上記第3延伸部の少なくとも一部を覆い、
     上記第3延伸部は、上記第1延伸部および上記第2延伸部より厚みが薄く、上記第1シート状部材と非接触であることを特徴とする蒸着マスク。
  2.  上記複数のシート状部材は、上記第1方向に並んで設けられる上記複数のシート状部材のうち、上記第1シート状部材とは逆側の端に位置する第2シート状部材を含み、
     上記第2シート状部材は、上記第1延伸部および上記第2延伸部の頭頂面に固定されており、上記第4延伸部の少なくとも一部を覆い、
     上記第4延伸部は、上記第1延伸部および上記第2延伸部より厚みが薄く、上記第2シート状部材と非接触であることを特徴とする請求項1に記載の蒸着マスク。
  3.  複数のシート部材は、上記第2方向に並んで設けられる複数のハウリングシートを含み、
     上記第3延伸部および上記第4延伸部には、上記複数のハウリングシートを固定するための溝が、上記ハウリングシート毎に設けられていることを特徴とする請求項1または2に記載の蒸着マスク。
  4.  上記第1方向に並んで設けられる上記複数のシート状部材は、上記第1延伸部および上記第2延伸部の上記頭頂面に固定されている複数のマスクシートを含み、
     上記各マスクシートは、表示に寄与する画素が並ぶアクティブ領域が複数設けられた被蒸着基板の当該画素に対応する複数の蒸着孔が並んで設けられている複数の有効部を有し、
     上記有効部は、上記アクティブ領域毎に設けられていることを特徴とする請求項3に記載の蒸着マスク。
  5.  複数のシート部材は、上記第2方向に並んで設けられる複数のハウリングシートを含み、
     上記第3延伸部および上記第4延伸部には、上記複数のハウリングシートを固定するための凹部が、上記複数のハウリングシートに跨って設けられていることを特徴とする請求項1または2に記載の蒸着マスク。
  6.  上記第1方向に並んで設けられる上記複数のシート状部材は、上記第1延伸部および上記第2延伸部の上記頭頂面に固定されている複数のマスクシートを含み、
     上記各マスクシートは、表示に寄与する画素が並ぶアクティブ領域が複数設けられた被蒸着基板の当該画素に対応する複数の蒸着孔が並んで設けられている有効部を有し、
     上記有効部は、上記複数のアクティブ領域に跨るように設けられていることを特徴とする請求項5に記載の蒸着マスク。
  7.  上記第1延伸部、上記第2延伸部、上記第3延伸部、および、上記第4延伸部は、四角形となるように並んで設けられていることを特徴とする請求項1~6の何れか1項に記載の蒸着マスク。
  8.  複数のシート部材は、上記第1方向に並んで設けられる複数のカバーシートを含み、
     上記第1延伸部および上記第2延伸部には、上記複数のカバーシートを固定するための溝が、上記カバーシート毎に設けられていることを特徴とする請求項1~7の何れか1項に記載の蒸着マスク。
  9.  上記第1シート状部材および上記第2シート状部材は、それぞれ、被蒸着基板の画素に対応する複数の蒸着孔が設けられたマスクシートを上記マスクフレームに固定するときに基準となるアライメントマークが設けられたアライメントシートであることを特徴とする請求項2に記載の蒸着マスク。
  10.  フレーム開口が設けられたマスクフレームと、当該フレーム開口を覆うようにマスクフレームに固定される複数のシート状部材とを有する蒸着マスクの製造方法を含む表示デバイスの製造方法であって、
     上記マスクフレームは、上記フレーム開口を枠状に囲む枠状部を有し、
     上記枠状部は、第1延伸部、第2延伸部、第3延伸部および第4延伸部を有し、
     上記第1延伸部および上記第2延伸部は、上記フレーム開口を介して並んで配置されており、それぞれ第1方向に延伸し、
     上記第3延伸部および上記第4延伸部は、上記フレーム開口を介して並んで配置されており、それぞれ第2方向に延伸し、
     上記第3延伸部は、上記第1延伸部および上記第2延伸部より厚みが薄く、
     上記第4延伸部は、上記第1延伸部および上記第2延伸部より厚みが薄く、
     上記複数のシート状部材は、上記第1方向に並んで設けられる複数のシート状部材を含み、
     上記蒸着マスクの製造方法は、
     上記第1方向に並んで設けられる上記複数のシート状部材のうち、第1シート状部材を、上記第3延伸部の少なくとも一部を覆うと共に当該第3延伸部とは非接触となるように、上記第1方向の端であって、上記第1延伸部および上記第2延伸部の頭頂面に固定する工程と、
     上記第1方向に並んで設けられる上記複数のシート状部材のうち、第2シート状部材を、上記第4延伸部の少なくとも一部を覆うと共に当該第4延伸部とは非接触となるように、上記第1シート状部材とは逆側の端であって、上記第1延伸部および上記第2延伸部の頭頂面に固定する工程と、
     上記第1方向に並んで設けられる上記複数のシート状部材のうち、被蒸着基板の画素に対応する複数の蒸着孔が設けられた複数のマスクシートを、上記第1シート状部材および上記第2シート状部材それぞれに設けられたアライメントマークを基準として、上記マスクフレームに固定する工程とを有し、
     上記蒸着マスクの製造方法によって製造された上記蒸着マスクを用いて、上記被蒸着基板の上記画素に蒸着層を形成する蒸着工程を有することを特徴とする表示デバイスの製造方法。
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