WO2018043564A1 - 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 - Google Patents

光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 Download PDF

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勝也 長屋
正子 堀内
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    • H10F39/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one element covered by group H10F30/00, e.g. radiation detectors comprising photodiode arrays
    • H10F39/10—Integrated devices
    • H10F39/12—Image sensors

Definitions

  • the present invention relates to an optical filter and an apparatus using the optical filter. Specifically, the present invention relates to an optical filter containing a compound having absorption in a specific wavelength region, and a solid-state imaging device and a camera module using the optical filter.
  • a solid-state image pickup device such as a video camera, a digital still camera, or a mobile phone with a camera function uses a CCD or CMOS image sensor, which is a solid-state image pickup device for a color image.
  • Silicon photodiodes that are sensitive to near infrared rays that cannot be sensed by the eyes are used. These solid-state image sensors need to be corrected for visibility so that they appear natural to the human eye.
  • Optical filters that selectively transmit or cut light in a specific wavelength region (for example, near-infrared cut) Filter) is often used.
  • a near-infrared cut filter those manufactured by various methods are conventionally used.
  • a near-infrared cut filter in which a transparent resin is used as a substrate and a near-infrared absorbing pigment is contained in the transparent resin is known (see, for example, Patent Document 1).
  • the near-infrared cut filter described in Patent Document 1 may not always have sufficient near-infrared absorption characteristics.
  • Patent Document 2 proposes a near-infrared cut filter having both a wide viewing angle and a high visible light transmittance.
  • Patent Document 3 discloses a near-infrared cut filter that uses a phthalocyanine dye having a specific structure to achieve both a high visible light transmittance and a long absorption maximum wavelength, both of which have been the conventional problems. It is described that can be obtained.
  • the applied base material has a sufficiently strong absorption band in the vicinity of 700 nm, but the near-infrared wavelength region of 900 to 1200 nm, for example. Has almost no absorption. For this reason, light in the near-infrared wavelength region is cut almost only by the reflection of the dielectric multilayer film, but in such a configuration, slight stray light due to internal reflection in the optical filter and reflection between the optical filter and the lens is obtained.
  • ghosts and flares may occur.
  • Patent Document 4 As an optical filter using a substrate having a wide absorption in the near-infrared wavelength region, an infrared shielding filter as in Patent Document 4 has been proposed.
  • a broad absorption in the near-infrared wavelength region is achieved mainly by applying a compound having a dithiolene structure, but the absorption intensity near 700 nm is not sufficient.
  • image degradation may occur due to color shading.
  • Patent Document 5 discloses a near-infrared cut filter having a near-infrared absorbing glass substrate and a layer containing a near-infrared absorbing pigment, but the color shading is sufficiently improved even with the configuration described in Patent Document 5.
  • FIG. 5 of Patent Document 5 shows an optical characteristic graph when incident at 0 degrees and incident at 30 degrees. However, the visible light transmission band is also observed when incident at 30 degrees. A large wavelength shift is observed in the skirt region (630 to 700 nm).
  • the present inventors have a base material that has an absorption band with sufficient intensity in the vicinity of a wavelength of 700 nm and a wide absorption band in the near-infrared wavelength region of 900 nm or more.
  • an optical filter capable of achieving the intended near-infrared cut characteristics, visible light transmittance, color shading suppression effect and ghost suppression effect can be obtained, and the present invention has been completed. Examples of embodiments of the present invention are shown below.
  • An optical filter having a substrate that satisfies the following requirements (a), (b), and (c), and that satisfies the following requirements (d) and (e): (A) having a layer containing the compound (A) having an absorption maximum in a wavelength region of 650 nm to 760 nm; (B) The difference (X 2 ⁇ X 1 ) between the shortest wavelength (X 1 ) with a transmittance of 10% and the second shortest wavelength (X 2 ) in the wavelength region of 640 nm or more is 50 nm or more; (C) The transmittance at a wavelength of 900 nm, the transmittance at a wavelength of 1000 nm, and the transmittance at a wavelength of 1100 nm are all 65% or less; (D) In the wavelength range of 430 to 580 nm, the average transmittance when measured from the vertical direction of the optical filter is 75% or more; (E) In the wavelength region of 1100 nm to 1200
  • R 1 to R 3 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a sulfo group, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, a carboxy group, a phosphoric acid group, a —NR g R h group, a —SR i group, —SO 2 R i group, —OSO 2 R i group or any of the following L a to L h , wherein R g and R h are each independently a hydrogen atom, —C (O) R i group or the following L a to L e It represents either, R i represents any of the following L a ⁇ L e, (L a ) an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms (L b ) a halogen-substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (L c ) an alicyclic hydrocarbon group having 3
  • the substituent L is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, a halogen-substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, At least one selected from the group consisting of an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 14 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 14 carbon atoms and a heterocyclic group having 3 to 14 carbon atoms, Adjacent R 3 may form a ring which may have a substituent L, n represents an integer of 0 to 4, X represents an anion necessary to neutralize the charge, M represents a metal atom, Z represents D (R i ) 4 , D represents a nitrogen atom, a phosphorus atom or a bismuth atom; y represents 0 or 1.
  • the transparent resin constituting the transparent resin layer is a cyclic polyolefin resin, aromatic polyether resin, polyimide resin, fluorene polycarbonate resin, fluorene polyester resin, polycarbonate resin, polyamide resin, polyarylate.
  • Resin polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyparaphenylene resin, polyamideimide resin, polyethylene naphthalate resin, fluorinated aromatic polymer resin, (modified) acrylic resin, epoxy resin, Item characterized by being at least one resin selected from the group consisting of an allyl ester curable resin, a silsesquioxane ultraviolet curable resin, an acrylic ultraviolet curable resin, and a vinyl ultraviolet curable resin [ [2] to [8] Optical filter.
  • optical filter according to any one of items [1] to [10], which is for a solid-state imaging device.
  • a solid-state imaging device comprising the optical filter according to any one of items [1] to [11].
  • an optical filter that has excellent near-infrared cut characteristics, little incident angle dependency, and excellent transmittance characteristics in the visible wavelength region, color shading suppression effect, and ghost suppression effect.
  • FIGS. 1A and 1B are schematic views showing examples of preferable configurations of the optical filter of the present invention.
  • FIG. 2A is a schematic diagram illustrating a method for measuring the transmittance when measured from the vertical direction of the optical filter.
  • FIG. 2B is a schematic diagram illustrating a method of measuring the transmittance when measured from an angle of 30 ° with respect to the vertical direction of the optical filter.
  • FIG. 3 is a spectral transmission spectrum of the substrate obtained in Example 1.
  • FIG. 4 is a spectral transmission spectrum of the optical filter obtained in Example 1.
  • FIG. 5 is a spectral transmission spectrum of the substrate obtained in Example 2.
  • FIG. 6 is a spectral transmission spectrum of the substrate obtained in Example 6.
  • FIG. 7 is a spectral transmission spectrum of the base material obtained in Example 7.
  • FIG. 1A is a schematic diagram illustrating a method for measuring the transmittance when measured from the vertical direction of the optical filter.
  • FIG. 2B is a schematic diagram illustrating a method of
  • FIG. 8 is a spectral transmission spectrum of the base material (near infrared absorbing glass substrate) used in Comparative Example 3.
  • FIG. 9 is a spectral transmission spectrum of the base material obtained in Comparative Example 4.
  • FIG. 10 is a spectral transmission spectrum of the base material obtained in Comparative Example 5. It is a schematic diagram for demonstrating the color shading evaluation of the camera image performed in the Example and the comparative example. It is a schematic diagram for demonstrating the ghost evaluation of the camera image performed in the Example and the comparative example.
  • the optical filter of the present invention is characterized by having a base material that satisfies the requirements (a), (b), and (c) described later, and that satisfies the requirements (d) and (e) described later.
  • the optical filter of the present invention preferably has a dielectric multilayer film on at least one surface of the substrate.
  • the substrate used in the present invention satisfies the following requirements (a), (b) and (c); (A) having a layer containing the compound (A) having an absorption maximum in a wavelength region of 650 nm to 760 nm; (B) The difference (X 2 ⁇ X 1 ) between the shortest wavelength (X 1 ) with a transmittance of 10% and the second shortest wavelength (X 2 ) in the wavelength region of 640 nm or more is 50 nm or more; (C) The transmittance (c1) at a wavelength of 900 nm, the transmittance (c2) at a wavelength of 1000 nm, and the transmittance (c3) at a wavelength of 1100 nm are all 65% or less.
  • the substrate preferably further satisfies at least one of the following requirements (f) to (h):
  • the component constituting the layer containing the compound (A) is not particularly limited, and examples thereof include a transparent resin, a sol-gel material, a low-temperature-curing glass material, and the like.
  • a transparent resin is preferable from the viewpoint of compatibility with A).
  • the compound (A) is not particularly limited as long as it has a maximum absorption in the wavelength region of 650 nm or more and 760 nm or less, but is preferably a solvent-soluble dye compound, and is a squarylium compound, a phthalocyanine compound, and a cyanine compound. It is more preferable that it is at least one selected from the group consisting of compounds, it is more preferable that a squarylium compound is included, and it is particularly preferable that there are two or more compounds including a squarylium compound.
  • the compound (A) is two or more types including a squarylium compound, two or more types of squarylium compounds having different structures may be used, or a combination of a squarylium compound and another compound (A) may be used.
  • the other compound (A) a phthalocyanine compound and a cyanine compound are particularly preferable.
  • the squarylium-based compound has excellent visible light permeability, steep absorption characteristics, and a high molar extinction coefficient, but may generate fluorescence that causes scattered light during light absorption. In such a case, an optical filter with less scattered light and better camera image quality can be obtained by using a combination of the squarylium compound and the other compound (A).
  • the absorption maximum wavelength of the compound (A) is preferably 660 nm or more and 755 nm or less, more preferably 670 nm or more and 750 nm or less, and further preferably 680 nm or more and 745 nm or less.
  • the difference between the absorption maximum wavelengths of the compound (A) to be applied having the shortest absorption maximum wavelength and the longest absorption maximum wavelength is preferably 10 to The thickness is 60 nm, more preferably 15 to 55 nm, still more preferably 20 to 50 nm. It is preferable that the difference in absorption maximum wavelength is in the above-mentioned range because scattered light due to fluorescence can be sufficiently reduced and a wide absorption band near 700 nm and an excellent visible light transmittance can be compatible.
  • the total content of the compound (A) is, for example, a base material made of a transparent resin substrate containing the compound (A) or a curable resin on the transparent resin substrate containing the compound (A).
  • a base material on which a resin layer such as an overcoat layer made of, etc. is used it is preferably 0.04 to 2.0 parts by weight, more preferably 0.06 to 2.0 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the transparent resin. 1.5 parts by weight, more preferably 0.08 to 1.0 part by weight, and the compound (A) is contained as a base on a support such as a glass support or a resin support as a base.
  • a base material on which a transparent resin layer such as an overcoat layer made of a curable resin or the like is used it is preferably 0.1% with respect to 100 parts by weight of the resin forming the transparent resin layer containing the compound (A). 4 to 5.0 parts by weight, more preferably 0 6 to 4.0 parts by weight, more preferably 0.8 to 3.5 parts by weight.
  • the difference (X 2 ⁇ X 1 ) between the wavelengths X 1 and X 2 is preferably 53 nm or more, more preferably 55 nm or more, and further preferably 58 nm or more.
  • an upper limit is not specifically limited, Since a visible transmittance
  • the difference (X 2 ⁇ X 1 ) is in the above range, it has an absorption band with sufficient intensity (width) in the near-infrared wavelength region close to the visible region. It is preferable because color shading can be suppressed even under such a large incident angle condition.
  • the value of the wavelength (X 1 + X 2 ) / 2 between X 1 and X 2 can be said to be the center wavelength of the absorption band in the near infrared wavelength region close to the visible region, preferably 670 nm or more and 740 nm or less. Is 680 nm to 730 nm, more preferably 690 nm to 720 nm. It is preferable that the value of the wavelength represented by (X 1 + X 2 ) / 2 be in the above range because light in the wavelength region near the long wavelength end of the visible region can be cut more efficiently.
  • X 1 preferably has a wavelength of 650 nm to 720 nm, more preferably a wavelength of 655 nm to 710 nm, and still more preferably a wavelength of 660 nm to 700 nm.
  • X 1 in such a range is preferable because it tends to provide a camera image with less noise and excellent color reproducibility.
  • All of the transmittances (c1), (c2) and (c3) are preferably 60% or less, more preferably 55% or less, and even more preferably 50% or less.
  • the lower limit is not particularly limited, but depending on the properties of the near-infrared absorber, if the transmittance value in the near-infrared wavelength region is too low, the visible transmittance may decrease, or the thickness of the substrate may become extremely thick. For example, it is preferably 5% or more. It is preferable that the transmittances (c1), (c2), and (c3) are in the above ranges because a ghost suppressing effect at a practically sufficient level can be obtained.
  • the substrate may be a single layer or a multilayer as long as it has a layer containing the compound (A).
  • the substrate preferably contains a near infrared absorber, and the near infrared absorber is contained in a different layer even if it is contained in the same layer as the compound (A). It may be.
  • the layer containing the compound (A) and the layer containing the near-infrared absorber are the same, for example, a base material composed of a transparent resin substrate containing the compound (A) and the near-infrared absorber, the compound (A) and the near-infrared absorber A compound (on a base material in which a resin layer such as an overcoat layer made of a curable resin or the like is laminated on a transparent resin substrate containing an infrared absorber, a glass support or a base resin support)
  • an overcoat layer made of a curable resin containing the compound (A) on the transparent resin substrate containing the near infrared absorber for example, an overcoat layer made of a curable resin containing the compound (A) on the transparent resin substrate containing the near infrared absorber, etc.
  • Base material on which a resin layer is laminated base material on which a resin layer such as an overcoat layer made of a curable resin containing a near infrared absorber is laminated on a transparent resin substrate containing the compound (A), a glass support
  • An overcoat layer made of a curable resin containing the compound (A) and an overcoat layer made of a curable resin containing a near infrared absorber are laminated on a support such as a resin support as a body or a base.
  • the near-infrared absorber is not particularly limited as long as it has a wide absorption in the wavelength range of 900 to 1200 nm.
  • the near-infrared absorbing dye, the near-infrared absorbing fine particles, the conductive metal oxide, and the phosphate glass Examples thereof include transition metal components therein.
  • T 1 is preferably 3% or less, more preferably 2% or less, and still more preferably 1% or less. If T 1 is in the above range, it can be said that the transmittance cut of the absorption band is sufficient, and flare around the light source can be suppressed in the camera image, which is preferable.
  • the substrate of the present invention preferably contains a near-infrared absorber, but when the near-infrared absorber is the compound (S), the absorption intensity and visible transmittance in the near-infrared wavelength region can be compatible at a high level. It is preferable because of its tendency.
  • the compound (S) is not particularly limited as long as it has an absorption maximum in a wavelength region of 1050 nm or more and 1200 nm or less, but is preferably a solvent-soluble dye compound, more preferably a diimonium compound or a metal dithiolate complex system. At least one compound selected from the group consisting of compounds, pyrrolopyrrole compounds, cyanine compounds, croconium compounds and naphthalocyanine compounds, more preferably selected from the group consisting of diimonium compounds and metal dithiolate complex compounds, more preferably selected from the group consisting of diimonium compounds and metal dithiolate complex compounds, more preferably selected from the group consisting of diimonium compounds and metal dithiolate complex compounds, more preferably selected from the group consisting of diimonium compounds and metal dithiolate complex compounds At least one compound selected from the group consisting of a diimonium compound represented by the following formula (I) and a metal dithiolate complex compound represented by the following formula (II
  • R 1 to R 3 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a sulfo group, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, a carboxy group, a phosphoric acid group, a —NR g R h group, a —SR i group, —SO 2 R i group, —OSO 2 R i group or any of the following L a to L h , wherein R g and R h are each independently a hydrogen atom, —C (O) R i group or the following L a to L e It represents either, R i represents any of the following L a ⁇ L e, (L a ) an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms (L b ) a halogen-substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (L c ) an alicyclic hydrocarbon group having 3
  • the substituent L is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, a halogen-substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, At least one selected from the group consisting of an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 14 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 14 carbon atoms and a heterocyclic group having 3 to 14 carbon atoms, Adjacent R 3 may form a ring which may have a substituent L, n represents an integer of 0 to 4, X represents an anion necessary to neutralize the charge, M represents a metal atom, Z represents D (R i ) 4 , D represents a nitrogen atom, a phosphorus atom or a bismuth atom, y represents 0 or 1.
  • R 1 is preferably a hydrogen atom, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, cyclohexyl group, adamantyl group, trifluoromethyl group.
  • R 2 is preferably a chlorine atom, fluorine atom, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, cyclohexyl group, phenyl group, hydroxyl group , Amino group, dimethylamino group, cyano group, nitro group, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, n-butoxy group, acetylamino group, propionylamino group, N-methylacetylamino group, trifluoromethanoylamino Group, pentafluoroethanoylamino group, tert-butanoylamino group, cyclohexylinoylamino group, n-butylsulfonyl group, methylthio group, ethylthio group, n-propylthio
  • X is an anion necessary for neutralizing the electric charge, and one molecule is required when the anion is divalent, and two molecules are required when the anion is monovalent.
  • the two anions may be the same or different, but are preferably the same from the viewpoint of synthesis.
  • X will not be restrict
  • X is (X-10), (X-16), (X-17), (X-21), (X-21) in Table 1 above from the viewpoint of heat resistance, light resistance and spectral properties of the diimonium compound.
  • X-22), (X-24) and (X-28) are particularly preferred.
  • Examples of the diimonium compound represented by the above formula (I) include those listed in Tables 2-1 to 2-4 below.
  • R 3 is preferably a methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, cyclohexyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, phenyl group, methylthio group, ethylthio group, n-propylthio group, n-butylthio group, phenylthio group, benzylthio group, adjacent R When 3 forms a ring, it is preferably a heterocyclic ring in which at least one sulfur atom or nitrogen atom is contained in the ring.
  • the M is preferably a transition metal, more preferably Ni, Pd, or Pt.
  • the D is preferably a nitrogen atom or a phosphorus atom
  • the R i is preferably an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, or an n-pentyl group.
  • the absorption maximum wavelength of the compound (S) is preferably from 1060 nm to 1190 nm, more preferably from 1070 nm to 1180 nm, still more preferably from 1080 nm to 1170 nm.
  • the absorption maximum wavelength of the compound (S) is in such a range, unnecessary near-infrared rays can be efficiently cut, and an excellent ghost suppression effect can be obtained.
  • the compound (S) may be synthesized by a generally known method.
  • Japanese Patent No. 4168031 Japanese Patent No. 4225296, JP-T 2010-516823, JP-A 63-165392 Etc. can be synthesized with reference to the methods described in the above.
  • the content of the compound (S) is, for example, a base material made of a transparent resin substrate containing the compound (A) and the compound (S) or a transparent resin substrate containing the compound (S) as the base material.
  • a substrate on which a resin layer such as an overcoat layer made of a curable resin containing the compound (A) is laminated it is preferably 0.01-2. 0 parts by weight, more preferably 0.02 to 1.5 parts by weight, particularly preferably 0.03 to 1.0 parts by weight.
  • the substrate include a glass support and a resin support as a base.
  • a transparent resin layer such as an overcoat layer composed of a curable resin containing the compound (A) and the compound (S) is laminated on a support, or on a transparent resin substrate containing the compound (A)
  • Curable resin containing compound (S) in
  • a base material on which a resin layer such as an overcoat layer is used it is preferably 0.1 to 5.0 with respect to 100 parts by weight of the resin forming the transparent resin layer containing the compound (A). Parts by weight, more preferably 0.2 to 4.0 parts by weight, particularly preferably 0.3 to 3.0 parts by weight.
  • an optical filter having both good near infrared absorption characteristics and high visible light transmittance can be obtained.
  • Xc is preferably 630 to 655 nm, more preferably 632 to 652 nm, and still more preferably 634 to 650 nm. If Xc is less than 628 nm, the transmittance in the wavelength region corresponding to red tends to be low, and color reproducibility tends to decrease. If it exceeds 658 nm, sufficient absorption intensity cannot be ensured, and the camera image Color shading tends to occur.
  • Xc represents a wavelength that satisfies a predetermined condition when the spectral transmittance is evaluated from the short wavelength side toward the long wavelength side.
  • the average transmittance of the substrate in the wavelength region of 430 to 580 nm is preferably 75% or more, more preferably 78% or more, and particularly preferably 80% or more.
  • a substrate having such transmission characteristics is used, high light transmission characteristics can be achieved in the visible range, and a highly sensitive camera function can be achieved.
  • the thickness of the substrate can be appropriately selected according to the desired application and is not particularly limited, but is preferably 10 to 200 ⁇ m, more preferably 20 to 180 ⁇ m, and further preferably 25 to 150 ⁇ m.
  • an optical filter using the substrate can be reduced in thickness and weight, and can be suitably used for various applications such as a solid-state imaging device.
  • a base material made of the transparent resin substrate is used in a lens unit such as a camera module, it is preferable because the lens unit can be reduced in height and weight.
  • the transparent resin used for the transparent resin layer, the transparent resin substrate and the resin support constituting the base material is not particularly limited as long as it does not impair the effects of the present invention.
  • thermal stability and film Glass transition temperature (Tg) is preferably 110 to 380 ° C., in order to obtain a film capable of forming a dielectric multilayer film by high temperature vapor deposition performed at a vapor deposition temperature of 100 ° C. or higher while ensuring moldability to
  • a resin having a temperature of 110 to 370 ° C., more preferably 120 to 360 ° C. is used.
  • the glass transition temperature of the resin is 140 ° C. or higher because a film capable of depositing a dielectric multilayer film at a higher temperature can be obtained.
  • the total light transmittance (JIS K7105) of the resin plate is preferably 75 to 95%, more preferably 78 to 95. %, More preferably 80 to 95% of the resin can be used. If a resin having a total light transmittance in such a range is used, the resulting substrate exhibits good transparency as an optical film.
  • the weight average molecular weight (Mw) in terms of polystyrene measured by a gel permeation chromatography (GPC) method of the transparent resin is usually 15,000 to 350,000, preferably 30,000 to 250,000.
  • the average molecular weight (Mn) is usually 10,000 to 150,000, preferably 20,000 to 100,000.
  • transparent resins examples include cyclic polyolefin resins, aromatic polyether resins, polyimide resins, fluorene polycarbonate resins, fluorene polyester resins, polycarbonate resins, polyamide (aramid) resins, polyarylate resins, and polysulfones.
  • ester-based curable resins examples include ester-based curable resins, silsesquioxane-based ultraviolet curable resins, acrylic-based ultraviolet curable resins, and vinyl-based ultraviolet curable resins.
  • Transparent resins may be used alone or in combination of two or more.
  • the cyclic polyolefin-based resin is obtained from at least one monomer selected from the group consisting of a monomer represented by the following formula (X 0 ) and a monomer represented by the following formula (Y 0 ).
  • a resin and a resin obtained by hydrogenating the resin are preferable.
  • R x1 to R x4 each independently represents an atom or group selected from the following (i ′) to (ix ′), and k x , mx and p x are each independently 0 Or represents a positive integer.
  • R x1 and R x2 or R x3 and R x4 are bonded to each other to form a monocyclic or polycyclic hydrocarbon ring or heterocyclic ring (provided that R x1 to R which are not involved in the bond) x4 each independently represents an atom or group selected from (i ′) to (vi ′).
  • Ix ′ A monocyclic hydrocarbon ring or heterocycle formed by bonding R x2 and R x3 to each other (provided that R x1 and R x4 not involved in the bonding are each independently the above (i Represents an atom or group selected from ') to (vi').
  • R y1 and R y2 each independently represent an atom or group selected from the above (i ′) to (vi ′), or R y1 and R y2 are bonded to each other formed monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon, an aromatic hydrocarbon or heterocyclic, k y and p y are each independently, represent 0 or a positive integer.
  • the aromatic polyether-based resin preferably has at least one structural unit selected from the group consisting of a structural unit represented by the following formula (1) and a structural unit represented by the following formula (2).
  • R 1 to R 4 each independently represents a monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms, and a to d each independently represents an integer of 0 to 4.
  • R 1 ⁇ R 4 and a ⁇ d independently has the same meaning as R 1 ⁇ R 4 and a ⁇ d of the formula (1)
  • Y represents a single bond
  • -SO 2 -Or> C O
  • R 7 and R 8 each independently represent a halogen atom, a monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms or a nitro group
  • g and h each independently represent 0 to 4
  • m represents 0 or 1.
  • R 7 is not a cyano group.
  • the aromatic polyether resin further has at least one structural unit selected from the group consisting of a structural unit represented by the following formula (3) and a structural unit represented by the following formula (4). Is preferred.
  • R 5 and R 6 each independently represents a monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms
  • Z represents a single bond, —O—, —S—, —SO 2 —,> C ⁇ O, —CONH—, —COO— or a divalent organic group having 1 to 12 carbon atoms
  • e and f each independently represent an integer of 0 to 4, and n represents 0 or 1.
  • R 7 , R 8 , Y, m, g and h are each independently synonymous with R 7 , R 8 , Y, m, g and h in formula (2), and R 5 , R 6 , Z, n, e and f are each independently synonymous with R 5 , R 6 , Z, n, e and f in the formula (3).
  • the polyimide resin is not particularly limited as long as it is a polymer compound containing an imide bond in a repeating unit.
  • the method described in JP-A-2006-199945 and JP-A-2008-163107 is used. Can be synthesized.
  • the fluorene polycarbonate resin is not particularly limited as long as it is a polycarbonate resin containing a fluorene moiety, and can be synthesized, for example, by the method described in JP-A-2008-163194.
  • the fluorene polyester resin is not particularly limited as long as it is a polyester resin containing a fluorene moiety.
  • the fluorene polyester resin can be synthesized by the method described in JP 2010-285505 A or JP 2011-197450 A. Can do.
  • the fluorinated aromatic polymer resin is not particularly limited, but is selected from the group consisting of an aromatic ring having at least one fluorine atom, an ether bond, a ketone bond, a sulfone bond, an amide bond, an imide bond, and an ester bond.
  • the polymer preferably contains a repeating unit containing at least one bond, and can be synthesized, for example, by the method described in JP-A-2008-181121.
  • the acrylic ultraviolet curable resin is not particularly limited, but is synthesized from a resin composition containing a compound having one or more acrylic or methacrylic groups in the molecule and a compound that decomposes by ultraviolet rays to generate active radicals. Can be mentioned.
  • the acrylic ultraviolet curable resin is a base material in which a transparent resin layer containing a compound (A) and a curable resin is laminated on a glass support or a resin support as a base, or a compound ( When using a base material in which a resin layer such as an overcoat layer made of a curable resin or the like is used on a transparent resin substrate containing A), it can be particularly preferably used as the curable resin.
  • Epoxy resin Although it does not restrict
  • the ultraviolet curable epoxy resin for example, synthesized from a composition containing a compound having one or more epoxy groups in the molecule and a compound that generates an acid by ultraviolet rays (hereinafter also referred to as “photo acid generator”).
  • thermosetting epoxy resins include those synthesized from a composition containing one or more epoxy groups in the molecule and an acid anhydride. Can do.
  • the epoxy ultraviolet curable resin contains, as the base material, a base material obtained by laminating a transparent resin layer containing the compound (A) on a glass support or a base resin support, and the compound (A). In the case of using a base material in which a resin layer such as an overcoat layer made of a curable resin is laminated on a transparent resin substrate to be used, it can be particularly suitably used as the curable resin.
  • cyclic polyolefin resins examples include Arton manufactured by JSR Corporation, ZEONOR manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., APEL manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., and TOPAS manufactured by Polyplastics Corporation.
  • polyethersulfone resins examples include Sumika Excel PES manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.
  • polyimide resins examples include Neoprim L manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.
  • commercially available polycarbonate resins include Pure Ace manufactured by Teijin Limited.
  • Examples of commercially available fluorene polycarbonate resins include Iupizeta EP-5000 manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.
  • Examples of commercially available fluorene polyester resins include OKP4HT manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd.
  • Examples of commercially available acrylic resins include NIPPON CATALYST ACRYVIEWER.
  • Examples of commercially available silsesquioxane-based ultraviolet curable resins include Silplus manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.
  • the base material may further contain other dye (X) that does not correspond to the compound (A) and the compound (S).
  • the other dye (X) is not particularly limited as long as it has a maximum absorption wavelength in the region of wavelength less than 650 nm or more than 760 nm and less than 1050 nm, but a dye having an absorption maximum wavelength in the region of more than 760 nm and less than 1050 nm is preferable.
  • examples of such dyes include squarylium compounds, phthalocyanine compounds, cyanine compounds, naphthalocyanine compounds, croconium compounds, octaphyrin compounds, diimonium compounds, pyrrolopyrrole compounds, and boron dipyrromethene (BODIPY). And at least one compound selected from the group consisting of a compound, a perylene compound, and a metal dithiolate compound.
  • the content of the other pigment (X) is, for example, when a substrate made of a transparent resin substrate containing the other pigment (X) is used as the substrate, with respect to 100 parts by weight of the transparent resin.
  • the amount is preferably 0.005 to 1.0 part by weight, more preferably 0.01 to 0.9 part by weight, particularly preferably 0.02 to 0.8 part by weight.
  • It contains a base material in which a transparent resin layer such as an overcoat layer made of a curable resin containing other dye (X) is laminated on a support such as a resin support, or a compound (A).
  • a transparent resin containing other pigment (X) When using a base material in which a resin layer such as an overcoat layer made of a curable resin containing other pigment (X) is laminated on a transparent resin substrate, a transparent resin containing other pigment (X) For 100 parts by weight of the resin forming the layer, 0.05 to 4.0 parts by weight preferred, and more preferably from 0.1 to 3.0 parts by weight, particularly preferably 0.2 to 2.0 parts by weight.
  • the base material may further contain an antioxidant, a near-ultraviolet absorber, a fluorescence quencher, and the like as other components as long as the effects of the present invention are not impaired. These other components may be used alone or in combination of two or more.
  • Examples of the near ultraviolet absorber include azomethine compounds, indole compounds, benzotriazole compounds, triazine compounds, and the like.
  • antioxidants examples include 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol, 2,2′-dioxy-3,3′-di-t-butyl-5,5′-dimethyldiphenylmethane, tetrakis [Methylene-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] methane, tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite and the like.
  • these other components may be mixed with a resin or the like when producing a substrate, or may be added when a resin is synthesized.
  • the addition amount is appropriately selected according to the desired properties, but is usually 0.01 to 5.0 parts by weight, preferably 0.05 to 2.0 parts by weight, based on 100 parts by weight of the resin. Part.
  • the transparent resin substrate can be formed by, for example, melt molding or cast molding, and further, if necessary, After molding, a substrate on which an overcoat layer is laminated can be produced by coating a coating agent such as an antireflection agent, a hard coating agent and / or an antistatic agent.
  • a coating agent such as an antireflection agent, a hard coating agent and / or an antistatic agent.
  • the base material is an overcoat comprising a curable resin containing the compound (A) on a support such as a glass support or a base resin support or a transparent resin substrate containing no compound (A).
  • a support such as a glass support or a base resin support or a transparent resin substrate containing no compound (A).
  • the resin solution containing the compound (A) is melt-molded or cast-molded on the support or the transparent resin substrate, preferably spin After coating by a method such as coating, slit coating or ink jetting, the solvent is dried and removed, and if necessary, further irradiation with light or heating is performed, whereby the compound (A) is formed on the support or the transparent resin substrate.
  • the base material in which the transparent resin layer containing this was formed can be manufactured.
  • melt molding a method of melt molding a pellet obtained by melt-kneading a resin, a compound (A) and other components as necessary; a resin, a compound (A) and a necessary
  • Examples include a method of melt-molding pellets.
  • the melt molding method include injection molding, melt extrusion molding, and blow molding.
  • ⁇ Cast molding As the cast molding, a method of removing a solvent by casting a resin composition containing a compound (A), a resin, a solvent and other components as required on a suitable support; or a compound (A) and After removing a solvent by casting a curable composition containing a photocurable resin and / or a thermosetting resin and other components as necessary on an appropriate support, ultraviolet irradiation, heating, etc. It can also be produced by a method of curing by an appropriate method.
  • the base material is a base material made of a transparent resin substrate containing the compound (A)
  • the base material can be obtained by peeling the coating film from the support after cast molding
  • the base material is made of a curable resin containing the compound (A) on a support such as a glass support or a base resin support or a transparent resin substrate containing no compound (A).
  • the substrate can be obtained by not peeling the coating film after cast molding.
  • the support examples include phosphates containing copper components such as near-infrared absorbing glass plates (for example, “BS-11” manufactured by Matsunami Glass Industrial Co., Ltd. and “NF-50T” manufactured by AGC-Techno Glass Co., Ltd.). Glass plate), transparent glass plate (for example, non-alkali glass plate such as “OA-10G” manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd., “AN100” manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), steel belt, steel drum, and transparent resin (for example, polyester) Film, cyclic olefin resin film) support.
  • BS-11 manufactured by Matsunami Glass Industrial Co., Ltd. and “NF-50T” manufactured by AGC-Techno Glass Co., Ltd.
  • Glass plate for example, non-alkali glass plate such as “OA-10G” manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd., “AN100” manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.
  • steel belt for example, steel drum
  • transparent resin for example,
  • the optical component such as glass plate, quartz or transparent plastic is coated with the resin composition and the solvent is dried, or the curable composition is coated and cured and dried.
  • a transparent resin layer can also be formed on the component.
  • the amount of residual solvent in the transparent resin layer (transparent resin substrate) obtained by the above method should be as small as possible.
  • the amount of the residual solvent is preferably 3% by weight or less, more preferably 1% by weight or less, and still more preferably 0.5% by weight with respect to the weight of the transparent resin layer (transparent resin substrate). It is as follows. When the amount of residual solvent is in the above range, a transparent resin layer (transparent resin substrate) that can easily exhibit a desired function, in which deformation and characteristics hardly change can be obtained.
  • the optical filter according to the present invention has a base material that satisfies the requirements (a), (b), and (c), and satisfies the following requirements (d) and (e): (D) In the wavelength range of 430 to 580 nm, the average value (d1) of transmittance when measured from the vertical direction of the optical filter is 75% or more; (E) In the wavelength region of 1100 nm to 1200 nm, the average value (e1) of transmittance when measured from the vertical direction of the optical filter is 5% or less.
  • the optical filter of the present invention satisfies the above requirements (d) and (e), it has excellent transmittance characteristics and near-infrared cut characteristics in the visible wavelength region, has little incident angle dependency, has a color shading suppression effect, and a ghost. It is an optical filter with excellent suppression effect.
  • the average value (d1) of the transmittance in the requirement (d) is preferably 78% or more, more preferably 80% or more, and further preferably 82% or more.
  • the average value (d1) of the transmittance is in this range, excellent imaging sensitivity can be achieved when the optical filter of the present invention is used as a solid-state imaging device.
  • the average value (e1) of the transmittance in requirement (e) is preferably 4% or less, more preferably 3% or less, and even more preferably 2% or less. When the average value (e1) of the transmittance is within this range, good black reproducibility can be achieved near the center of the camera image.
  • the optical filter of the present invention has the base material, the incident angle dependency of the optical characteristics can be reduced even in the form having the dielectric multilayer film.
  • of the difference from the wavelength value (Xb) at which the transmittance when measured from the angle is 50% is preferably less than 20 nm, more preferably less than 15 nm, and even more preferably less than 10 nm. is there.
  • the thickness of the optical filter of the present invention is preferably thin in consideration of the recent trend of thinner and lighter solid-state imaging devices. Since the optical filter of the present invention includes the substrate, it can be thinned.
  • the thickness of the optical filter of the present invention is preferably 210 ⁇ m or less, more preferably 190 ⁇ m or less, further preferably 160 ⁇ m or less, particularly preferably 130 ⁇ m or less, and the lower limit is not particularly limited, but is preferably 20 ⁇ m or more.
  • the optical filter of the present invention preferably has a dielectric multilayer film on at least one surface of the substrate.
  • the dielectric multilayer film in the present invention is a film having the ability to reflect near-infrared rays or a film having an antireflection effect in the visible range. By having a dielectric multilayer film, a better visible light transmittance and near-infrared radiation are obtained. Cut characteristics can be achieved.
  • the dielectric multilayer film may be provided on one side of the substrate or on both sides.
  • the optical filter When it is provided on one side, it is possible to obtain an optical filter that is excellent in production cost and manufacturability and has high strength and is less likely to warp or twist when provided on both sides.
  • the optical filter When the optical filter is applied to a solid-state imaging device, it is preferable that the optical filter is less warped or twisted. Therefore, it is preferable to provide a dielectric multilayer film on both surfaces of the resin substrate.
  • the dielectric multilayer film preferably has reflection characteristics over the entire wavelength range of 700 to 1100 nm, more preferably 700 to 1150 nm, and even more preferably 700 to 1200 nm.
  • the first optical layer mainly having a reflection characteristic in the vicinity of a wavelength of 700 to 950 nm when measured from an angle of 5 ° with respect to the vertical direction of the optical filter is used.
  • a configuration (see FIG. 1 (a)) having a second optical layer on one side of the material and having a reflection characteristic mainly in the vicinity of 900 nm to 1150 nm on the other side of the substrate, and the vertical direction of the optical filter
  • the fourth optical layer having a third optical layer having a reflection characteristic mainly in the vicinity of a wavelength of 700 to 1150 nm on one side of the substrate and having an antireflection characteristic in the visible range.
  • the form (refer FIG.1 (b)) which has on the other surface of material is mentioned.
  • Examples of the dielectric multilayer film include those in which a high refractive index material layer and a low refractive index material layer are alternately laminated.
  • a material constituting the high refractive index material layer a material having a refractive index of 1.7 or more can be used, and a material having a refractive index of usually 1.7 to 2.5 is selected.
  • Such materials include titanium oxide, zirconium oxide, tantalum pentoxide, niobium pentoxide, lanthanum oxide, yttrium oxide, zinc oxide, zinc sulfide, or indium oxide as the main components, and titanium oxide, tin oxide, and / or Alternatively, a material containing a small amount of cerium oxide or the like (for example, 0 to 10% by weight based on the main component) can be used.
  • a material having a refractive index of 1.6 or less can be used, and a material having a refractive index of usually 1.2 to 1.6 is selected.
  • examples of such materials include silica, alumina, lanthanum fluoride, magnesium fluoride, and sodium hexafluoride sodium.
  • the method for laminating the high refractive index material layer and the low refractive index material layer is not particularly limited as long as a dielectric multilayer film in which these material layers are laminated is formed.
  • a multilayer film can be formed.
  • each of the high refractive index material layer and the low refractive index material layer is usually preferably from 0.1 ⁇ to 0.5 ⁇ , where ⁇ (nm) is the near infrared wavelength to be blocked.
  • the value of ⁇ (nm) is, for example, 700 to 1400 nm, preferably 750 to 1300 nm.
  • the optical thickness obtained by multiplying the refractive index (n) by the thickness (d) (n ⁇ d) by ⁇ / 4 the high refractive index material layer, and the low refractive index.
  • the thicknesses of the respective layers of the refractive index material layer are almost the same value, and there is a tendency that the blocking / transmission of a specific wavelength can be easily controlled from the relationship between the optical characteristics of reflection / refraction.
  • the total number of high refractive index material layers and low refractive index material layers in the dielectric multilayer film is preferably 16 to 70 layers, more preferably 20 to 60 layers, as a whole. If the thickness of each layer, the thickness of the dielectric multilayer film as a whole of the optical filter, and the total number of layers are within the above ranges, a sufficient manufacturing margin can be secured, and the warpage of the optical filter and cracks in the dielectric multilayer film can be reduced. can do.
  • the thickness of each layer of the rate material layer, the order of stacking, and the number of stacks it has sufficient light cut characteristics in the near infrared wavelength region while ensuring sufficient transmittance in the visible region, In addition, it is possible to reduce the reflectance when near infrared rays are incident from an oblique direction.
  • optical thin film design software for example, manufactured by Essential Macleod, Thin Film Center Co., Ltd.
  • optical thin film design software for example, manufactured by Essential Macleod, Thin Film Center Co., Ltd.
  • the target transmittance at a wavelength of 400 to 700 nm is set to 100%
  • the target Tolerance value is set to 1
  • the target transmittance at a wavelength of 705 to 950 nm is set to 0%.
  • Parameter setting method such as setting Target Tolerance value to 0.5 can be mentioned.
  • These parameters can change the value of Target Tolerance by further finely dividing the wavelength range according to various characteristics of the substrate (i).
  • the optical filter of the present invention is within the range not impairing the effects of the present invention, between the base material and the dielectric multilayer film, the surface opposite to the surface on which the dielectric multilayer film is provided, or the dielectric multilayer film.
  • an anti-reflection film On the opposite side of the surface of the film where the substrate is provided, an anti-reflection film, a hard layer is used for the purpose of improving the surface hardness of the substrate or the dielectric multilayer film, improving the chemical resistance, antistatic and scratching.
  • Functional films such as a coating film and an antistatic film can be provided as appropriate.
  • the optical filter of the present invention may include one layer made of the functional film or two or more layers.
  • the optical filter of the present invention may include two or more similar layers or two or more different layers.
  • the method of laminating the functional film is not particularly limited, but a coating agent such as an antireflection agent, a hard coating agent and / or an antistatic agent is melt-molded or cast in the same manner as described above on a base material or a dielectric multilayer film. Examples of the method include molding.
  • it can also be produced by applying a curable composition containing the coating agent or the like on a substrate or a dielectric multilayer film with a bar coater or the like and then curing it by ultraviolet irradiation or the like.
  • the coating agent examples include ultraviolet (UV) / electron beam (EB) curable resins and thermosetting resins. Specifically, vinyl compounds, urethanes, urethane acrylates, acrylates, epoxy And epoxy acrylate resins. Examples of the curable composition containing these coating agents include vinyl, urethane, urethane acrylate, acrylate, epoxy, and epoxy acrylate curable compositions.
  • UV ultraviolet
  • EB electron beam
  • the curable composition may contain a polymerization initiator.
  • a polymerization initiator a known photopolymerization initiator or a thermal polymerization initiator can be used, and a photopolymerization initiator and a thermal polymerization initiator may be used in combination.
  • a polymerization initiator may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
  • the blending ratio of the polymerization initiator in the curable composition is preferably 0.1 to 10% by weight, more preferably 0.5 to 10% by weight, when the total amount of the curable composition is 100% by weight. More preferably, it is 1 to 5% by weight.
  • a functional film such as an antireflective film, a hard coat film or an antistatic film having excellent curing characteristics and handleability of the curable composition and having a desired hardness. it can.
  • organic solvent may be added as a solvent to the curable composition, and known organic solvents can be used.
  • organic solvents include alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol and octanol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate, ⁇ -butyrolactone, propylene Esters such as glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monoethyl ether acetate; Ethers such as ethylene glycol monomethyl ether and diethylene glycol monobutyl ether; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; Dimethylformamide, dimethylacetamide, N- Examples include amides such as methylpyrrolidone.
  • solvents may be used alone or in combination of two or more.
  • the thickness of the functional film is preferably 0.1 to 20 ⁇ m, more preferably 0.5 to 10 ⁇ m, and particularly preferably 0.7 to 5 ⁇ m.
  • the corona is applied to the surface of the base material, the functional film or the dielectric multilayer film.
  • Surface treatment such as treatment or plasma treatment may be performed.
  • the optical filter of the present invention has a wide viewing angle and has excellent near-infrared cutting ability and the like. Therefore, it is useful for correcting the visibility of a solid-state imaging device such as a CCD or CMOS image sensor of a camera module.
  • a solid-state imaging device such as a CCD or CMOS image sensor of a camera module.
  • digital still cameras, smartphone cameras, mobile phone cameras, digital video cameras, wearable device cameras, PC cameras, surveillance cameras, automotive cameras, TVs, car navigation systems, personal digital assistants, video game machines, and portable game machines It is useful for fingerprint authentication system, digital music player, etc. Furthermore, it is also useful as a heat ray cut filter attached to a glass plate of an automobile or a building.
  • the solid-state imaging device of the present invention includes the optical filter of the present invention.
  • the solid-state imaging device is an image sensor including a solid-state imaging device such as a CCD or a CMOS image sensor.
  • a digital still camera a camera for a smartphone, a camera for a mobile phone, a camera for a wearable device, a digital camera It can be used for applications such as video cameras.
  • the camera module of the present invention includes the optical filter of the present invention.
  • Parts means “parts by weight” unless otherwise specified.
  • the measurement method of each physical property value and the evaluation method of the physical property are as follows.
  • the molecular weight of the resin was measured by the following method (a) or (b) in consideration of the solubility of each resin in a solvent.
  • GPC gel permeation chromatography
  • Standard polystyrene equivalent weight average molecular weight (Mw) and number average molecular weight (Mn) were measured using a GPC apparatus (HLC-8220 type, column: TSKgel ⁇ -M, developing solvent: THF) manufactured by Tosoh Corporation.
  • the logarithmic viscosity was measured by the following method (c) instead of the molecular weight measurement by the said method.
  • (C) A part of the polyimide resin solution was added to anhydrous methanol to precipitate the polyimide resin, and filtered to separate from the unreacted monomer.
  • 0.1 g of polyimide obtained by vacuum drying at 80 ° C. for 12 hours is dissolved in 20 mL of N-methyl-2-pyrrolidone, and the logarithmic viscosity ( ⁇ ) at 30 ° C. is obtained by the following formula using a Canon-Fenske viscometer. Asked.
  • ⁇ ⁇ ln (t s / t 0) ⁇ / C t 0 : Flowing time of solvent t s : Flowing time of dilute polymer solution C: 0.5 g / dL ⁇ Glass transition temperature (Tg)> Using a differential scanning calorimeter (DSC6200) manufactured by SII Nano Technologies, Inc., the rate of temperature increase was measured at 20 ° C. per minute under a nitrogen stream.
  • the transmittance when measured from the vertical direction of the optical filter the light transmitted perpendicular to the filter is measured as shown in FIG. 2A, and the angle is 30 ° with respect to the vertical direction of the optical filter.
  • the transmittance when measured from the above the light transmitted at an angle of 30 ° with respect to the vertical direction of the filter as shown in FIG. 2B was measured.
  • this transmittance is measured using the spectrophotometer under the condition that light is perpendicularly incident on the substrate and the filter, except when measuring (Xb).
  • it is measured using the spectrophotometer under the condition that light is incident at an angle of 30 ° with respect to the vertical direction of the filter.
  • ⁇ Camera image color shading evaluation> The color shading evaluation when the optical filter was incorporated in the camera module was performed by the following method.
  • a camera module is created in the same manner as in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2016-110067, and a white plate having a size of 300 mm ⁇ 400 mm is formed using the created camera module as a D65 light source (standard light source device “Macbeth Judge II” manufactured by X-Rite) Images were taken below, and the difference in color between the center and edge of the white plate in the camera image was evaluated according to the following criteria.
  • the positional relationship between the white plate 112 and the camera module was adjusted so that the white plate 112 occupied 90% or more of the area in the camera image 111 when shooting.
  • Ghost evaluation when the optical filter was incorporated in the camera module was performed by the following method.
  • a camera module is created in the same manner as in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2016-110067, and the camera module is used to take a picture under a halogen lamp light source (“Luminer Ace LA-150TX” manufactured by Hayashi Watch Industry Co., Ltd.) in a dark room.
  • a halogen lamp light source (“Luminer Ace LA-150TX” manufactured by Hayashi Watch Industry Co., Ltd.) in a dark room.
  • the degree of ghost generation around the light source in the image was evaluated according to the following criteria.
  • DCM dodec-3-ene
  • ⁇ Resin synthesis example 2> In a 3 L four-necked flask, 35.12 g of 2,6-difluorobenzonitrile, 87.60 g of 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene, 41.46 g of potassium carbonate, N, N-dimethylacetamide (hereinafter referred to as “DMAc”). 443 g and 111 g of toluene were added. Subsequently, a thermometer, a stirrer, a three-way cock with a nitrogen introduction tube, a Dean Stark tube and a cooling tube were attached to the four-necked flask.
  • DMAc N, N-dimethylacetamide
  • the obtained resin B had a number average molecular weight (Mn) of 75,000, a weight average molecular weight (Mw) of 188,000, and a glass transition temperature (Tg) of 285 ° C.
  • ⁇ Resin synthesis example 3> In a 500 mL five-necked flask equipped with a thermometer, stirrer, nitrogen inlet tube, dropping funnel with side tube, Dean-Stark tube and condenser tube, 1,4-bis (4-amino- ⁇ , ⁇ -Dimethylbenzyl) benzene (27.66 g) and 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl (7.38 g) were added and dissolved in ⁇ -butyrolactone (68.65 g) and N, N-dimethylacetamide (17.16 g). The resulting solution was cooled to 5 ° C.
  • resin C A part of this polyimide resin solution was poured into 1 L of methanol to precipitate the polyimide.
  • the IR spectrum of the obtained resin C was measured, 1704 cm -1 characteristic of imido group, absorption of 1770 cm -1 were observed.
  • Resin C had a glass transition temperature (Tg) of 310 ° C. and a logarithmic viscosity of 0.87.
  • Example 1 an optical filter having a base material made of a transparent resin substrate was prepared according to the following procedure and conditions.
  • the peeled coating film was further dried at 100 ° C. under reduced pressure for 8 hours to obtain a base material composed of a transparent resin substrate having a thickness of 0.1 mm, a length of 60 mm, and a width of 60 mm.
  • the spectral transmittance of this substrate was measured, and the transmittance at (T 1 ), (X 1 ), (X 2 ), (Xc) and each wavelength was determined. The results are shown in FIG. 3 and Table 5-1.
  • a dielectric multilayer film (I) is formed as a first optical layer on one side of the obtained base material, and a dielectric multilayer film (II) is formed as a second optical layer on the other side of the base material.
  • an optical filter having a thickness of about 0.105 mm was obtained.
  • the dielectric multilayer film (I) is formed by alternately laminating silica (SiO 2 ) layers and titania (TiO 2 ) layers at a deposition temperature of 100 ° C. (26 layers in total).
  • the dielectric multilayer film (II) is formed by alternately laminating silica (SiO 2 ) layers and titania (TiO 2 ) layers at a deposition temperature of 100 ° C. (20 layers in total).
  • the silica layer and the titania layer are in order of the titania layer, the silica layer, the titania layer,..., The silica layer, the titania layer, and the silica layer from the substrate side.
  • the outermost layer of the optical filter was a silica layer.
  • the dielectric multilayer films (I) and (II) were designed as follows.
  • the wavelength-dependent characteristics of the base material refractive index and the applied compound (S) and compound (in order to achieve the antireflection effect in the visible range and the selective transmission / reflection performance in the near infrared range Optimization was performed using optical thin film design software (Essential Macleod, Thin Film Center) according to the absorption characteristics of A).
  • optical thin film design software Essential Macleod, Thin Film Center
  • the input parameters (Target values) to the software are as shown in Table 3 below.
  • the dielectric multilayer film (I) is formed by alternately stacking a silica layer having a film thickness of 31 to 157 nm and a titania layer having a film thickness of 10 to 95 nm.
  • the dielectric multi-layer film (II) is a multi-layer vapor-deposited film having 20 layers, in which a silica layer having a thickness of 37 to 194 nm and a titania layer having a thickness of 12 to 114 nm are alternately stacked. It was.
  • An example of the optimized film configuration is shown in Table 4 below.
  • the spectral transmittance measured from the vertical direction of the obtained optical filter and an angle of 30 ° from the vertical direction was measured, and the optical characteristics in each wavelength region were evaluated.
  • the results are shown in FIG. 4 and Table 5-1.
  • the average value of transmittance at a wavelength of 430 to 580 nm was 84%
  • the average value of transmittance at a wavelength of 1100 to 1200 nm was 1% or less
  • Example 2 an optical filter having a base material made of a transparent resin substrate was prepared according to the following procedure and conditions.
  • Example 1 0.04 part of the compound (A-3) represented by the following formula (a-3) (absorption maximum wavelength 703 nm in dichloromethane) as the compound (A) and the following formula (a-4) Compound (a-4) (absorption maximum wavelength in dichloromethane 736 nm) 0.08 part was used, and compound (s-8) described in Table 2-3 above as compound (S) (in dichloromethane) 0.06 parts of absorption maximum wavelength (1096 nm) and other dye (X) represented by the following formula (X-1) (X-1) (absorption maximum wavelength in dichloromethane: 887 nm)
  • X-1 absorption maximum wavelength in dichloromethane: 887 nm
  • a base material made of a transparent resin substrate containing the compound (A) and the compound (S) was obtained in the same procedure and conditions as in Example 1 except that 0.01 part was used. The spectral transmittance of this substrate was measured, and the transmittance at (T 1 ), (X 1
  • a silica (SiO 2 ) layer and a titania (TiO 2 ) layer are alternately laminated as a first optical layer on one side of the obtained base material (26 layers in total).
  • the multilayer film (III) is formed, and a silica (SiO 2 ) layer and a titania (TiO 2 ) layer are alternately laminated as the second optical layer on the other surface of the base material (20 layers in total).
  • a dielectric multilayer film (IV) was formed to obtain an optical filter having a thickness of about 0.105 mm.
  • the dielectric multilayer film was designed using the same design parameters as in Example 1 in consideration of the wavelength dependency of the base material refractive index.
  • the spectral transmittance measured from the vertical direction of the obtained optical filter and an angle of 30 ° from the vertical direction was measured, and the optical characteristics in each wavelength region were evaluated.
  • a camera module was created using the obtained optical filter, and color shading and ghost of the camera image were evaluated. The results are shown in Table 5-1.
  • Example 3 an optical filter having a base material composed of a transparent resin substrate having a resin layer on both sides was prepared according to the following procedure and conditions.
  • Example 1 0.06 part of compound (a-4) as compound (A) and compound (a-5) represented by the following formula (a-5) (absorption maximum wavelength in dichloromethane: 713 nm) 0.06 Example 1 except that 0.08 part of the compound (s-13) described in Table 2-4 (maximum absorption wavelength 1096 nm in dichloromethane) was used as the compound (S). A transparent resin substrate containing the compound (A) and the compound (S) was obtained in the same procedure and conditions.
  • a resin composition (1) having the following composition was applied to one side of the obtained transparent resin substrate with a bar coater and heated in an oven at 70 ° C. for 2 minutes to volatilize and remove the solvent. At this time, the coating conditions of the bar coater were adjusted so that the thickness after drying was 2 ⁇ m. Next, it exposed using the conveyor type exposure machine (exposure amount 500mJ / cm ⁇ 2 >, 200mW), the resin composition (1) was hardened, and the resin layer was formed on the substrate made from transparent resin. Similarly, a resin layer made of the resin composition (1) is formed on the other surface of the transparent resin substrate, and the resin layers are provided on both surfaces of the transparent resin substrate containing the compound (A) and the compound (S). A substrate was obtained. The spectral transmittance of this substrate was measured, and the transmittance at (T 1 ), (X 1 ), (X 2 ), (Xc) and each wavelength was determined. The results are shown in Table 5-1.
  • Resin composition (1) 60 parts by weight of tricyclodecane dimethanol diacrylate, 40 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate, 5 parts by weight of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, methyl ethyl ketone (solvent, solid content concentration (TSC): 30% )
  • a silica (SiO 2 ) layer and a titania (TiO 2 ) layer are alternately laminated as a first optical layer on one side of the obtained base material (26 layers in total).
  • a dielectric multilayer film (VI) was formed to obtain an optical filter having a thickness of about 0.109 mm.
  • the dielectric multilayer film was designed using the same design parameters as in Example 1 in consideration of the wavelength dependence of the refractive index of the substrate as in Example 1.
  • the spectral transmittance measured from the vertical direction of the obtained optical filter and an angle of 30 ° from the vertical direction was measured, and the optical characteristics in each wavelength region were evaluated.
  • a camera module was created using the obtained optical filter, and color shading and ghost of the camera image were evaluated. The results are shown in Table 5-1.
  • Example 4 an optical filter having a substrate formed by forming a transparent resin layer containing the compound (A) on both surfaces of a resin support was prepared according to the following procedure and conditions.
  • Resin A obtained in Resin Synthesis Example 1 and methylene chloride were added to a container to prepare a solution having a resin concentration of 20% by weight, and the resin substrate of Example 1 was used except that the obtained solution was used.
  • a resin support was prepared in the same manner as the preparation.
  • Example 3 In the same manner as in Example 3, a resin layer made of the resin composition (2) having the following composition was formed on both surfaces of the obtained resin support, and the compound (A) and the compound ( A base material formed by forming a transparent resin layer containing S) was obtained. The spectral transmittance of this substrate was measured, and the transmittance at (T 1 ), (X 1 ), (X 2 ), (Xc) and each wavelength was determined. The results are shown in Table 5-1.
  • Resin composition (2) 100 parts by weight of tricyclodecane dimethanol diacrylate, 4 parts by weight of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 0.10 parts by weight of compound (a-1), 0.10 parts by weight of compound (a-2) Parts, 1.75 parts by weight of compound (s-6), methyl ethyl ketone (solvent, TSC: 25%)
  • a silica (SiO 2 ) layer and a titania (TiO 2 ) layer are alternately laminated as a first optical layer on one side of the obtained base material (26 layers in total).
  • a dielectric multilayer film (VIII) was formed to obtain an optical filter having a thickness of about 0.109 mm.
  • the dielectric multilayer film was designed using the same design parameters as in Example 1 in consideration of the wavelength dependence of the refractive index of the substrate as in Example 1.
  • the spectral transmittance measured from the vertical direction of the obtained optical filter and an angle of 30 ° from the vertical direction was measured, and the optical characteristics in each wavelength region were evaluated.
  • a camera module was created using the obtained optical filter, and color shading and ghost of the camera image were evaluated. The results are shown in Table 5-1.
  • Example 5 an optical filter having a base material composed of a transparent glass substrate having a transparent resin layer containing the compound (A) on one side was prepared by the following procedure and conditions.
  • a resin composition (3) having the following composition was applied with a spin coater.
  • the solvent was volatilized and removed by heating on a hot plate at 80 ° C. for 2 minutes.
  • coating conditions of the spin coater were adjusted so that the thickness after drying might be set to 2 micrometers.
  • Resin composition (3) 20 parts by weight of tricyclodecane dimethanol diacrylate, 80 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate, 4 parts by weight of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 0.20 part by weight of compound (a-1), compound (A-2) 0.20 part by weight, compound (s-6) 3.50 part by weight, methyl ethyl ketone (solvent, TSC: 35%)
  • a silica (SiO 2 ) layer and a titania (TiO 2 ) layer are alternately laminated as a first optical layer on one side of the obtained base material (26 layers in total).
  • a multilayer film (IX) is formed, and a silica (SiO 2 ) layer and a titania (TiO 2 ) layer are alternately laminated as a second optical layer on the other surface of the base material (20 layers in total)
  • a dielectric multilayer film (X) was formed to obtain an optical filter having a thickness of about 0.107 mm.
  • the dielectric multilayer film was designed using the same design parameters as in Example 1 in consideration of the wavelength dependence of the refractive index of the substrate as in Example 1.
  • the spectral transmittance measured from the vertical direction of the obtained optical filter and an angle of 30 ° from the vertical direction was measured, and the optical characteristics in each wavelength region were evaluated.
  • a camera module was created using the obtained optical filter, and color shading and ghost of the camera image were evaluated. The results are shown in Table 5-1.
  • Example 6 an optical filter having a base material composed of a near-infrared absorbing glass substrate having a transparent resin layer containing the compound (A) on one side was prepared by the following procedure and conditions.
  • a resin composition (4) having the following composition was applied on a near infrared absorbing glass substrate “BS-11 (thickness 120 ⁇ m)” (manufactured by Matsunami Glass Industry Co., Ltd.) cut to a size of 60 mm in length and 60 mm in width with a spin coater. Then, the solvent was volatilized and removed by heating at 80 ° C. for 2 minutes on a hot plate. Under the present circumstances, the application
  • Resin composition (4) 20 parts by weight of tricyclodecane dimethanol diacrylate, 80 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate, 4 parts by weight of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 0.15 part by weight of compound (a-3), compound (A-4) 0.30 part by weight, methyl ethyl ketone (solvent, TSC: 35%)
  • a silica (SiO 2 ) layer and a titania (TiO 2 ) layer are alternately laminated as a first optical layer on one side of the obtained base material (26 layers in total).
  • a multilayer film (XI) is formed, and a silica (SiO 2 ) layer and a titania (TiO 2 ) layer are alternately laminated as a second optical layer on the other surface of the substrate (20 layers in total).
  • a dielectric multilayer film (XII) was formed to obtain an optical filter having a thickness of about 0.107 mm.
  • the dielectric multilayer film was designed using the same design parameters as in Example 1 in consideration of the wavelength dependence of the refractive index of the substrate as in Example 1.
  • the spectral transmittance measured from the vertical direction of the obtained optical filter and an angle of 30 ° from the vertical direction was measured, and the optical characteristics in each wavelength region were evaluated.
  • a camera module was created using the obtained optical filter, and color shading and ghost of the camera image were evaluated. The results are shown in Table 5-1.
  • Example 7 an optical filter having a base material made of a transparent resin substrate containing the compound (A) and having a transparent resin layer containing near-infrared absorbing fine particles on both surfaces was prepared according to the following procedure and conditions.
  • Example 2 a transparent resin substrate containing compound (A) was obtained by the same procedure and conditions as in Example 2 except that compound (S-8) and the other dye (X-1) were not used. It was.
  • a base material made of a transparent resin substrate containing (A) was obtained.
  • the spectral transmittance of this substrate was measured, and the transmittance at (T 1 ), (X 1 ), (X 2 ), (Xc) and each wavelength was determined.
  • the results are shown in FIG. 7 and Table 5-1.
  • Resin composition (5) 100 parts by weight of tricyclodecane dimethanol diacrylate, 4 parts by weight of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 35 parts by weight of near-infrared absorbing fine particle dispersion (YMF-02A manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.) About 10 parts by weight in terms of solid content), methyl ethyl ketone (solvent, TSC: 30%)
  • a silica (SiO 2 ) layer and a titania (TiO 2 ) layer are alternately laminated as a first optical layer on one side of the obtained base material (26 layers in total).
  • a dielectric multilayer film (XIV) was formed to obtain an optical filter having a thickness of about 0.109 mm.
  • the dielectric multilayer film was designed using the same design parameters as in Example 1 in consideration of the wavelength dependence of the refractive index of the substrate as in Example 1.
  • the spectral transmittance measured from the vertical direction of the obtained optical filter and an angle of 30 ° from the vertical direction was measured, and the optical characteristics in each wavelength region were evaluated.
  • a camera module was created using the obtained optical filter, and color shading and ghost of the camera image were evaluated. The results are shown in Table 5-1.
  • Example 8 to 13 Resin, solvent, drying conditions of resin substrate, compound (A), compound (S), and other dye (X) were changed in the same manner as in Example 3 except for changing as shown in Table 5-1. Materials and optical filters were made. The optical properties of the obtained substrate and optical filter are shown in Table 5-1. In addition, a camera module was created using the obtained optical filter, and color shading and ghost of the camera image were evaluated. The results are shown in Table 5-1.
  • Example 1 In Example 1, except that the compound (S) and the compound (A) were not used, a substrate and an optical filter were prepared in the same manner as in Example 1, and optical characteristics were evaluated. In addition, a camera module was created using the obtained optical filter, and color shading and ghost of the camera image were evaluated. The results are shown in Table 5-2. Although the optical filter obtained in Comparative Example 1 exhibits relatively good visible light transmittance, the optical property has a large incident angle dependency, and the base material has no absorption in the vicinity of 700 nm or in the near infrared wavelength region. Therefore, it was confirmed that the color shading suppression effect and the ghost suppression effect were inferior.
  • Comparative Example 2 An optical filter was prepared and the optical characteristics were evaluated in the same manner as in Example 1 except that a transparent glass substrate “OA-10G (thickness 150 ⁇ m)” (manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd.) was used as the substrate. In addition, a camera module was created using the obtained optical filter, and color shading and ghost of the camera image were evaluated. The results are shown in Table 5-2. Although the optical filter obtained in Comparative Example 2 shows relatively good visible light transmittance, the optical property has a large incident angle dependency, and the base material has no absorption in the vicinity of 700 nm or near infrared wavelength region. Therefore, it was confirmed that the color shading suppression effect and the ghost suppression effect were inferior.
  • OA-10G thickness 150 ⁇ m
  • Example 3 An optical filter was prepared in the same manner as in Example 1 except that a near-infrared absorbing glass substrate “BS-11 (thickness 120 ⁇ m)” (manufactured by Matsunami Glass Industry Co., Ltd.) was used as a base material, and optical characteristics were evaluated. did. In addition, a camera module was created using the obtained optical filter, and color shading and ghost of the camera image were evaluated. The results are shown in Table 5-2. The spectral transmission spectrum of the substrate is shown in FIG. Although the optical filter obtained in Comparative Example 3 showed relatively good optical characteristics, it was confirmed that the absorption intensity in the vicinity of 700 nm of the substrate was not sufficient and the color shading suppression effect was poor.
  • BS-11 thickness 120 ⁇ m
  • Example 4 In Example 3, 0.08 part of compound (a-4) and 0.06 part of compound (a-5) were used as compound (A) without using compound (S), and dye (X— 1) Except having used 0.01 part, the base material and the optical filter were created like Example 3, and the optical characteristic was evaluated. In addition, a camera module was created using the obtained optical filter, and color shading and ghost of the camera image were evaluated. The results are shown in Table 5-2. The spectral transmission spectrum of the substrate is shown in FIG. Although the optical filter obtained in Comparative Example 5 showed relatively good optical characteristics, it was confirmed that the absorption intensity in the near-infrared wavelength region of the substrate was not sufficient and the ghost suppression effect was inferior.
  • Example 6 a substrate and an optical filter were prepared in the same manner as in Example 6 except that the resin composition (6) having the following composition was used instead of the resin composition (4).
  • Resin composition (6) 20 parts by weight of tricyclodecane dimethanol diacrylate, 80 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate, 4 parts by weight of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 0.15 part by weight of compound (a-1), methyl ethyl ketone (Solvent, TSC: 35%)
  • the optical properties of the obtained substrate and optical filter were evaluated.
  • a camera module was created using the obtained optical filter, and color shading and ghost of the camera image were evaluated. The results are shown in Table 5-2.
  • the spectral transmission spectrum of the substrate is shown in FIG. Although the optical filter obtained in Comparative Example 5 showed relatively good optical properties, it was confirmed that the absorption intensity in the vicinity of 700 nm of the substrate was not sufficient and the color shading suppression effect was poor.
  • Example 6 In Example 3, 0.04 part of the compound (a-3) and 0.08 part of the compound (a-4) were used as the compound (A), and 0.01% of the compound (s-6) was used as the compound (S). A substrate and an optical filter were prepared in the same manner as in Example 3 except that the parts were used, and the optical characteristics were evaluated. In addition, a camera module was created using the obtained optical filter, and color shading and ghost of the camera image were evaluated. The results are shown in Table 5-2. Although the optical filter obtained in Comparative Example 6 showed relatively good optical properties, it was confirmed that the absorption intensity in the near infrared wavelength region of the substrate was not sufficient and the ghost suppression effect was inferior.
  • Example 3 except that 0.04 part of the compound (a-1) was used as the compound (A) and 0.07 part of the compound (s-6) was used as the compound (S) in Example 3.
  • a substrate and an optical filter were prepared in the same manner as described above, and the optical characteristics were evaluated.
  • a camera module was created using the obtained optical filter, and color shading and ghost of the camera image were evaluated. The results are shown in Table 5-2.
  • the optical filter obtained in Comparative Example 7 showed relatively good optical properties, it was confirmed that the absorption intensity in the vicinity of 700 nm of the substrate was not sufficient and the color shading suppression effect was inferior.
  • Example 8 In Example 3, 0.04 part of compound (a-1) was used as compound (A), and compound (s-14) described in Table 2-4 above (absorption in dichloromethane) was used as compound (S). A substrate and an optical filter were prepared in the same manner as in Example 3 except that 0.45 part of the maximum wavelength (1097 nm) was used, and the optical characteristics were evaluated. In addition, a camera module was created using the obtained optical filter, and color shading and ghost of the camera image were evaluated. The results are shown in Table 5-2. Although the optical filter obtained in Comparative Example 8 showed relatively good optical characteristics, it was confirmed that the absorption intensity in the vicinity of 700 nm of the substrate was not sufficient and the color shading suppression effect was inferior.
  • Optical filter 2 Spectrophotometer 3: Light 10: Base material 11: First optical layer 12: Second optical layer 13: Third optical layer 14: Fourth optical layer 111: Camera image 112: White plate 113: Example of the center of the white plate 114: Example of the edge of the white plate 121: Camera image 122: Light source 123: Example of ghost around the light source

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Abstract

従来の光学フィルターでは十分になし得なかった、カメラ画像の色シェーディング抑制とゴースト抑制を高いレベルで両立可能な光学フィルターを提供することを課題とする。本発明の光学フィルターは、要件（ａ）～（ｃ）を満たす基材を有することを特徴とする：（ａ）波長６５０ｎｍ以上７６０ｎｍ以下の領域に吸収極大を有する化合物（Ａ）を含む層を有する；（ｂ）波長６４０ｎｍ以上の領域において透過率が１０％となる一番短い波長（Ｘ1）と二番目に短い波長（Ｘ2）との差（Ｘ2－Ｘ1）が５０ｎｍ以上である；（ｃ）波長９００ｎｍ、１０００ｎｍおよび１１００ｎｍにおける透過率がいずれも６５％以下である。

Description

光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置
　本発明は、光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置に関する。詳しくは、特定の波長領域に吸収を有する化合物を含む光学フィルター、ならびに該光学フィルターを用いた固体撮像装置およびカメラモジュールに関する。
　ビデオカメラ、デジタルスチルカメラ、カメラ機能付き携帯電話などの固体撮像装置にはカラー画像の固体撮像素子であるＣＣＤやＣＭＯＳイメージセンサーが使用されているが、これら固体撮像素子は、その受光部において人間の目では感知できない近赤外線に感度を有するシリコンフォトダイオードが使用されている。これらの固体撮像素子では、人間の目で見て自然な色合いにさせる視感度補正を行うことが必要であり、特定の波長領域の光線を選択的に透過もしくはカットする光学フィルター（例えば近赤外線カットフィルター）を用いることが多い。
　このような近赤外線カットフィルターとしては、従来から、各種方法で製造されたものが使用されている。例えば、基材として透明樹脂を用い、透明樹脂中に近赤外線吸収色素を含有させた近赤外線カットフィルターが知られている（例えば特許文献１参照）。しかしながら、特許文献１に記載された近赤外線カットフィルターは、近赤外線吸収特性が必ずしも充分ではない場合があった。
　本出願人は、鋭意検討の結果、特定の波長領域に吸収極大がある近赤外線吸収色素を含有する透明樹脂製基板を用いることで、入射角度を変化させても光学特性の変化が少ない近赤外線カットフィルターが得られることを見出し、特許文献２にて広い視野角および高い可視光透過率を兼ね備えた近赤外線カットフィルターを提案している。また、特許文献３では、特定の構造を有するフタロシアニン系色素を用いることで、従来の課題であった優れた可視透過率と吸収極大波長の長波長化とを高いレベルで両立した近赤外線カットフィルターを得ることができる旨が記載されている。しかし、特許文献２および３に記載の近赤外線カットフィルターでは、適用されている基材が、７００ｎｍ付近には十分な強度の吸収帯を持っているものの、例えば９００～１２００ｎｍといった近赤外波長領域にはほぼ吸収を持たない。そのため、近赤外波長領域の光線は、ほぼ誘電体多層膜の反射でのみカットしているが、このような構成では光学フィルター中の内部反射や、光学フィルターとレンズ間の反射によるわずかな迷光が、暗い環境下で撮影を行う際にゴーストやフレアの原因となる場合があった。特に、近年はスマートフォンなどのモバイル機器であってもカメラの高画質化が強く求められており、従来の光学フィルターでは好適に使用できない場合があった。
　一方、近赤外波長領域に幅広い吸収をもつ基材を用いた光学フィルターとして、特許文献４のような赤外線遮蔽フィルタが提案されている。特許文献４では、主にジチオレン構造を有する化合物を適用することで近赤外波長領域の幅広い吸収を達成しているが、７００ｎｍ付近の吸収強度は十分ではない。特に、近年のカメラモジュール低背化に伴う高入射角条件（例えば４５度入射）での使用では、色シェーディングによる画像劣化が起こる場合があった。
　また、特許文献５には、近赤外線吸収ガラス基材と近赤外線吸収色素を含有する層とを有する近赤外線カットフィルタが開示されているが、特許文献５に記載の構成でも色シェーディングを十分改良することができない場合があった（例えば、特許文献５の図５には、０度入射時と３０度入射時の光学特性グラフが示されているが、３０度入射時においても可視光透過帯の裾部分の領域（６３０～７００ｎｍ）で大きな波長シフトが観測されている）。
特開平６－２００１１３号公報 特開２０１１－１０００８４号公報 国際公開２０１５／０２５７７９号パンフレット 国際公開２０１４／１６８１９０号パンフレット 国際公開２０１４／０３０６２８号パンフレット
　本発明は、従来の光学フィルターでは十分になし得なかった、カメラ画像の色シェーディング抑制とゴースト抑制を高いレベルで両立可能な光学フィルターを提供することを課題とする。
　本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意検討した結果、波長７００ｎｍ付近に十分な強度の吸収帯を有し、且つ、９００ｎｍ以上の近赤外波長領域に幅広い吸収帯を有する基材を適用することにより、目的とする近赤外線カット特性、可視光透過率、色シェーディング抑制効果およびゴースト抑制効果を達成可能な光学フィルターが得られることを見出し、本発明を完成するに至った。本発明の態様の例を以下に示す。
　［１］　下記要件（ａ）、（ｂ）および（ｃ）を満たす基材を有し、かつ、下記要件（ｄ）および（ｅ）を満たすことを特徴とする光学フィルター：
（ａ）波長６５０ｎｍ以上７６０ｎｍ以下の領域に吸収極大を有する化合物（Ａ）を含む層を有する；
（ｂ）波長６４０ｎｍ以上の領域において透過率が１０％となる一番短い波長（Ｘ1）と二番目に短い波長（Ｘ2）との差（Ｘ2－Ｘ1）が５０ｎｍ以上である；
（ｃ）波長９００ｎｍにおける透過率、波長１０００ｎｍにおける透過率、および波長１１００ｎｍにおける透過率がいずれも６５％以下である；
（ｄ）波長４３０～５８０ｎｍの領域において、光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が７５％以上である；
（ｅ）波長１１００ｎｍ～１２００ｎｍの領域において、光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が５％以下である。
　［２］　前記化合物（Ａ）を含む層が透明樹脂層であることを特徴とする、項［１］に記載の光学フィルター。
　［３］　前記基材の少なくとも一方の面に誘電体多層膜を有することを特徴とする、項［１］または［２］に記載の光学フィルター。
　［４］　前記基材が、さらに下記要件（ｆ）を満たすことを特徴とする、項［１］～［３］のいずれか一項に記載の光学フィルター：
（ｆ）波長６９０～７２０ｎｍの領域における透過率の最小値（Ｔ1）が５％以下である。
　［５］　前記基材が、さらに下記要件（ｇ）を満たすことを特徴とする、項［１］～［４］のいずれに一項に記載の光学フィルター：
（ｇ）波長１０５０ｎｍ以上１２００ｎｍ以下の領域に吸収極大を有する化合物（Ｓ）を含む。
　［６］　前記化合物（Ｓ）が、下記式（Ｉ）および（ＩＩ）で表される化合物からなる群より
選ばれる少なくとも１種の化合物であることを特徴とする、項［５］に記載の光学フィルター。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 　式（Ｉ）および式（ＩＩ）中、
　Ｒ1～Ｒ3は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、－ＮＲgＲh基、－ＳＲi基、－ＳＯ2Ｒi基、－ＯＳＯ2Ｒi基または下記Ｌa～Ｌhのいずれかを表し、ＲgおよびＲhは、それぞれ独立に水素原子、－Ｃ（Ｏ）Ｒi基または下記Ｌa～Ｌeのいずれかを表し、Ｒiは下記Ｌa～Ｌeのいずれかを表し、
（Ｌa）炭素数１～１２の脂肪族炭化水素基
（Ｌb）炭素数１～１２のハロゲン置換アルキル基
（Ｌc）炭素数３～１４の脂環式炭化水素基
（Ｌd）炭素数６～１４の芳香族炭化水素基
（Ｌe）炭素数２～１４の複素環基
（Ｌf）炭素数１～１２のアルコキシ基
（Ｌg）置換基Ｌを有してもよい炭素数１～１２のアシル基、
（Ｌh）置換基Ｌを有してもよい炭素数１～１２のアルコキシカルボニル基
　置換基Ｌは、炭素数１～１２の脂肪族炭化水素基、炭素数１～１２のハロゲン置換アルキル基、炭素数３～１４の脂環式炭化水素基、炭素数６～１４の芳香族炭化水素基および炭素数３～１４の複素環基からなる群より選ばれる少なくとも１種であり、
　隣り合うＲ3同士は、置換基Ｌを有してもよい環を形成してもよく、
　ｎは０～４の整数を表し、
　Ｘは電荷を中和させるのに必要なアニオンを表し、
　Ｍは金属原子を表し、
　ＺはＤ（Ｒi）4を表し、Ｄは窒素原子、リン原子またはビスマス原子を表し、
　ｙは０もしくは１を表す。
　［７］　前記誘電体多層膜が前記基材の両面に形成されていることを特徴とする項［３］～［６］のいずれか１項に記載の光学フィルター。
　［８］　前記化合物（Ａ）が、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物およびシアニン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物であることを特徴とする項［１］～［７］のいずれか１項に記載の光学フィルター。
　［９］　前記透明樹脂層を構成する透明樹脂が、環状ポリオレフィン系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フルオレンポリカーボネート系樹脂、フルオレンポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリパラフェニレン系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、フッ素化芳香族ポリマー系樹脂、（変性）アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アリルエステル系硬化型樹脂、シルセスキオキサン系紫外線硬化型樹脂、アクリル系紫外線硬化型樹脂およびビニル系紫外線硬化型樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種の樹脂であることを特徴とする項［２］～［８］のいずれか１項に記載の光学フィルター。
　［１０］　前記基材が、化合物（Ａ）および化合物（Ｓ）を含む透明樹脂製基板を含有することを特徴とする項［１］～［９］のいずれか１項に記載の光学フィルター。
　［１１］　固体撮像装置用である項［１］～［１０］のいずれか１項に記載の光学フィルター。
　［１２］　項［１］～［１１］のいずれか１項に記載の光学フィルターを具備する固体撮像装置。
　［１３］　項［１］～［１１］のいずれか１項に記載の光学フィルターを具備するカメラモジュール。
　本発明によれば、近赤外線カット特性に優れ、入射角依存性が少なく、可視波長域での透過率特性、色シェーディング抑制効果およびゴースト抑制効果に優れた光学フィルターを提供することができる。
図１（ａ）、（ｂ）は、本発明の光学フィルターの好ましい構成の例を示した模式図である。 図２（ａ）は、光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率を測定する方法を示す概略図である。図２（ｂ）は、光学フィルターの垂直方向に対して３０°の角度から測定した場合の透過率を測定する方法を示す概略図である。 図３は、実施例１で得られた基材の分光透過スペクトルである。 図４は、実施例１で得られた光学フィルターの分光透過スペクトルである。 図５は、実施例２で得られた基材の分光透過スペクトルである。 図６は、実施例６で得られた基材の分光透過スペクトルである。 図７は、実施例７で得られた基材の分光透過スペクトルである。 図８は、比較例３で用いた基材（近赤外線吸収ガラス基板）の分光透過スペクトルである。 図９は、比較例４で得られた基材の分光透過スペクトルである。 図１０は、比較例５で得られた基材の分光透過スペクトルである。 実施例および比較例で行ったカメラ画像の色シェーディング評価を説明するための模式図である。 実施例および比較例で行ったカメラ画像のゴースト評価を説明するための模式図である。
　以下、本発明に係る光学フィルターおよび該光学フィルターを用いた装置について詳細に説明する。
　本発明の光学フィルターは、後述する要件（ａ）、（ｂ）および（ｃ）を満たす基材を有し、かつ、後述する要件（ｄ）および（ｅ）を満たすことを特徴とする。また、本発明の光学フィルターは、前記基材の少なくとも一方の面に誘電体多層膜を有することが好ましい。
　［基材］
　本発明で用いられる基材は、下記要件（ａ）、（ｂ）および（ｃ）を満たす；
（ａ）波長６５０ｎｍ以上７６０ｎｍ以下の領域に吸収極大を有する化合物（Ａ）を含む層を有する；
（ｂ）波長６４０ｎｍ以上の領域において透過率が１０％となる一番短い波長（Ｘ1）と二番目に短い波長（Ｘ2）との差（Ｘ2－Ｘ1）が５０ｎｍ以上である；
（ｃ）波長９００ｎｍにおける透過率（ｃ１）、波長１０００ｎｍにおける透過率（ｃ２）、および波長１１００ｎｍにおける透過率（ｃ３）がいずれも６５％以下である。
　また、前記基材は、下記要件（ｆ）～（ｈ）の少なくとも一つの要件をさらに満たすことが好ましい：
（ｆ）波長６９０～７２０ｎｍの領域における透過率の最小値（Ｔ1）が５％以下である；
（ｇ）波長１０５０ｎｍ以上１２００ｎｍ以下の領域に吸収極大を有する化合物（Ｓ）を含む；
（ｈ）波長６００ｎｍ以上の領域において透過率が５０％超から５０％以下となる際の透過率が５０％となる最も短い波長（Ｘｃ）が波長６２８～６５８ｎｍの範囲にある。
　以下、各要件について説明する。
　＜要件（ａ）＞
　要件（ａ）において、化合物（Ａ）を含む層を構成する成分は特に限定されないが、例えば、透明樹脂、ゾルゲル材料、低温硬化ガラス材料などが挙げられるが、取扱いが容易であることや化合物（Ａ）との相溶性の観点から透明樹脂であることが好ましい。
　≪化合物（Ａ）≫
　化合物（Ａ）は、波長６５０ｎｍ以上７６０ｎｍ以下の領域に吸収極大を有する化合物であれば特に制限されないが、溶剤可溶型の色素化合物であることが好ましく、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物およびシアニン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種であることがより好ましく、スクアリリウム系化合物を含むことがさらに好ましく、スクアリリウム系化合物を含む２種以上であることが特に好ましい。化合物（Ａ）がスクアリリウム系化合物を含む２種以上である場合、構造の異なるスクアリリウム系化合物が２種以上でもよく、スクアリリウム系化合物とその他の化合物（Ａ）との組み合わせでもよい。その他の化合物（Ａ）としては、フタロシアニン系化合物およびシアニン系化合物が特に好ましい。
　スクアリリウム系化合物は、優れた可視光透過性、急峻な吸収特性および高いモル吸光係数を有するが、光線吸収時に散乱光の原因となる蛍光を発生させる場合がある。そのような場合、スクアリリウム系化合物とその他の化合物（Ａ）とを組み合わせて使用することにより、散乱光が少なくカメラ画質がより良好な光学フィルターを得ることができる。
　化合物（Ａ）の吸収極大波長は、好ましくは６６０ｎｍ以上７５５ｎｍ以下、より好ましくは６７０ｎｍ以上７５０ｎｍ以下、さらに好ましくは６８０ｎｍ以上７４５ｎｍ以下である。
　化合物（Ａ）が２種以上の化合物の組み合わせである場合、適用する化合物（Ａ）のうち最も吸収極大波長が短いものと最も吸収極大波長の長いものの吸収極大波長の差は、好ましくは１０～６０ｎｍ、より好ましくは１５～５５ｎｍ、さらに好ましくは２０～５０ｎｍである。吸収極大波長の差が上記範囲にあると、蛍光による散乱光を十分低減できるとともに、７００ｎｍ付近の幅広い吸収帯と優れた可視光透過率を両立できるため好ましい。
　化合物（Ａ）全体の含有量は、前記基材として、例えば、化合物（Ａ）を含有する透明樹脂製基板からなる基材や、化合物（Ａ）を含有する透明樹脂製基板上に硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの樹脂層が積層された基材を用いる場合には、透明樹脂１００重量部に対して、好ましくは０．０４～２．０重量部、より好ましくは０．０６～１．５重量部、さらに好ましくは０．０８～１．０重量部であり、前記基材として、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体などの支持体上に化合物（Ａ）を含有する硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの透明樹脂層が積層された基材を用いる場合には、化合物（Ａ）を含む透明樹脂層を形成する樹脂１００重量部に対して、好ましくは０．４～５．０重量部、より好ましくは０．６～４．０重量部、さらに好ましくは０．８～３．５重量部である。
　＜要件（ｂ）＞
　前記波長Ｘ1とＸ2との差（Ｘ2－Ｘ1）は、好ましくは５３ｎｍ以上、より好ましくは５５ｎｍ以上、さらに好ましくは５８ｎｍ以上である。上限は特に限定されないが、化合物（Ａ）やその他の近赤外線吸収剤の特性によっては値が大きすぎると可視透過率が低下する場合があるため、例えば１００ｎｍ以下であることが好ましい。前記差（Ｘ2－Ｘ1）が上記のような範囲にあると、可視領域に近い近赤外波長領域において十分な強度（幅）の吸収帯を有することとなり、例えば入射角度４５度などのような入射角度が大きい条件においても色シェーディングを抑制できるため好ましい。
　Ｘ1とＸ2の中間にあたる波長の値（Ｘ1＋Ｘ2）／２は、可視領域に近い近赤外波長領域における吸収帯の中心波長ということができ、好ましくは６７０ｎｍ以上７４０ｎｍ以下、より好ましくは６８０ｎｍ以上７３０ｎｍ以下、さらに好ましくは６９０ｎｍ以上７２０ｎｍ以下である。（Ｘ1＋Ｘ2）／２で表される波長の値が上記範囲にあると、可視領域の長波長端付近の波長領域の光をより効率的にカットできるため好ましい。
　前記Ｘ1は、好ましくは波長６５０ｎｍ以上７２０ｎｍ以下、より好ましくは波長６５５ｎｍ以上７１０ｎｍ以下、さらに好ましくは波長６６０ｎｍ以上７００ｎｍ以下である。Ｘ1がこのような範囲にあると、ノイズが少なく色再現性に優れたカメラ画像を得られる傾向にあるため好ましい。
　＜要件（ｃ）＞
　前記透過率（ｃ１）、（ｃ２）および（ｃ３）はいずれも、好ましくは６０％以下、より好ましくは５５％以下、さらに好ましくは５０％以下である。下限は特に限定されないが、近赤外線吸収剤の特性によっては近赤外波長領域の透過率の値が低すぎると可視透過率が低下したり、基材の厚みが極端に厚くなってしまう場合があるため、例えば５％以上であることが好ましい。前記透過率（ｃ１）、（ｃ２）および（ｃ３）が上記範囲にあれば、実用上十分なレベルのゴースト抑制効果を得ることができるため好ましい。
　前記基材は、化合物（Ａ）を含む層を有していれば、単層であっても多層であってもよい。また、要件（Ｃ）を満たすために、前記基材は近赤外線吸収剤を含有することが好ましく、該近赤外線吸収剤は化合物（Ａ）と同一の層に含まれていても異なる層に含まれていてもよい。
　化合物（Ａ）を含む層と近赤外線吸収剤を含む層とが同一である場合、例えば、化合物（Ａ）および近赤外線吸収剤を含む透明樹脂製基板からなる基材、化合物（Ａ）および近赤外線吸収剤を含む透明樹脂製基板上に硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの樹脂層が積層された基材、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体などの支持体上に化合物（Ａ）および近赤外線吸収剤を含有する硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの透明樹脂層が積層された基材を挙げることができる。
　化合物（Ａ）を含む層と近赤外線吸収剤を含む層とが異なる場合、例えば、近赤外線吸収剤を含む透明樹脂製基板上に化合物（Ａ）を含む硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの樹脂層が積層された基材、化合物（Ａ）を含む透明樹脂製基板上に近赤外線吸収剤を含む硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの樹脂層が積層された基材、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体などの支持体上に化合物（Ａ）を含む硬化性樹脂等からなるオーバーコート層と近赤外線吸収剤を含む硬化性樹脂等からなるオーバーコート層とが積層された基材、近赤外線吸収剤を含むガラス基板上に化合物（Ａ）を含む硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの樹脂層が積層された基材などを挙げることができる。
　近赤外線吸収剤としては、９００～１２００ｎｍの波長領域に幅広い吸収を有していれば特に限定されないが、例えば、近赤外線吸収色素、近赤外線吸収微粒子、導電性金属酸化物、およびリン酸系ガラス中の遷移金属成分などを挙げることができる。
　＜要件（ｆ）＞
　前記Ｔ1は、好ましくは３％以下、より好ましくは２％以下、さらに好ましくは１％以下である。Ｔ1が上記の範囲にあれば、吸収帯の透過率カットが十分であるということができ、カメラ画像において光源周辺のフレアを抑制することができるため好ましい。
　＜要件（ｇ）＞
　本発明の基材は近赤外線吸収剤を含むことが好ましいが、該近赤外線吸収剤が前記化合物（Ｓ）であると、近赤外線波長領域の吸収強度と可視透過率とを高いレベルで両立できる傾向にあるため好ましい。
　≪化合物（Ｓ）≫
　化合物（Ｓ）は、波長１０５０ｎｍ以上１２００ｎｍ以下の領域に吸収極大を有していれば特に制限されないが、好ましくは溶剤可溶型の色素化合物であり、より好ましくはジイモニウム系化合物、金属ジチオラート錯体系化合物、ピロロピロール系化合物、シアニン系化合物、クロコニウム系化合物およびナフタロシアニン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物であり、さらに好ましくはジイモニウム系化合物および金属ジチオラート錯体系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物であり、特に好ましくは下記式（Ｉ）で表されるジイモニウム系化合物および下記式（ＩＩ）で表される金属ジチオラート錯体系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種である。このような化合物（Ｓ）を用いることにより、良好な近赤外線吸収特性と優れた可視光透過率を達成することができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
 　式（Ｉ）および式（ＩＩ）中、
　Ｒ1～Ｒ3は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、－ＮＲgＲh基、－ＳＲi基、－ＳＯ2Ｒi基、－ＯＳＯ2Ｒi基または下記Ｌa～Ｌhのいずれかを表し、ＲgおよびＲhは、それぞれ独立に水素原子、－Ｃ（Ｏ）Ｒi基または下記Ｌa～Ｌeのいずれかを表し、Ｒiは下記Ｌa～Ｌeのいずれかを表し、
（Ｌa）炭素数１～１２の脂肪族炭化水素基
（Ｌb）炭素数１～１２のハロゲン置換アルキル基
（Ｌc）炭素数３～１４の脂環式炭化水素基
（Ｌd）炭素数６～１４の芳香族炭化水素基
（Ｌe）炭素数２～１４の複素環基
（Ｌf）炭素数１～１２のアルコキシ基
（Ｌg）置換基Ｌを有してもよい炭素数１～１２のアシル基、
（Ｌh）置換基Ｌを有してもよい炭素数１～１２のアルコキシカルボニル基
　置換基Ｌは、炭素数１～１２の脂肪族炭化水素基、炭素数１～１２のハロゲン置換アルキル基、炭素数３～１４の脂環式炭化水素基、炭素数６～１４の芳香族炭化水素基および炭素数３～１４の複素環基からなる群より選ばれる少なくとも１種であり、
　隣り合うＲ3同士は置換基Ｌを有してもよい環を形成してもよく、
　ｎは０～４の整数を表し、
　Ｘは電荷を中和させるのに必要なアニオンを表し、
　Ｍは金属原子を表し、
　ＺはＤ（Ｒi）4を表し、　Ｄは窒素原子、リン原子またはビスマス原子を表し、
　ｙは０もしくは１を表す。
　前記Ｒ1としては、好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、３－ピリジニル基、エポキシ基、フェニル基、ベンジル基、フルオレニル基であり、より好ましくはイソプロピル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ベンジル基である。
　前記Ｒ2としては、好ましくは塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、水酸基、アミノ基、ジメチルアミノ基、シアノ基、ニトロ基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、Ｎ－メチルアセチルアミノ基、トリフルオロメタノイルアミノ基、ペンタフルオロエタノイルアミノ基、ｔｅｒｔ－ブタノイルアミノ基、シクロヘキシノイルアミノ基、ｎ－ブチルスルホニル基、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ－プロピルチオ基、ｎ－ブチルチオ基であり、より好ましくは塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、水酸基、ジメチルアミノ基、メトキシ基、エトキシ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、トリフルオロメタノイルアミノ基、ペンタフルオロエタノイルアミノ基、ｔｅｒｔ－ブタノイルアミノ基、シクロヘキシノイルアミノ基であり、特に好ましくは、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基である。同じ芳香環に結合しているＲ2の数（ｎの値）は、０～４であれば特に制限されないが、０もしくは１であることが好ましい。
　前記Ｘは電荷を中和するのに必要なアニオンであり、アニオンが２価である場合には１分子、アニオンが１価の場合には２分子が必要となる。後者の場合は２つのアニオンが同一であっても異なっていてもよいが、合成上の観点から同一である方が好ましい。Ｘはこのようなアニオンであれば特に制限されないが、一例として、下記表１に記載のものを挙げることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
 　Ｘとしては、ジイモニウム系化合物の耐熱性、耐光性および分光特性の観点から、上記表１中の（Ｘ－１０）、（Ｘ－１６）、（Ｘ－１７）、（Ｘ－２１）、（Ｘ－２２）、（Ｘ－２４）、（Ｘ－２８）が特に好ましい。
　上記式（Ｉ）で表されるジイモニウム系化合物としては、例えば、下記表２－１～２－４に記載のものを挙げることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000009
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000010
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000011
 　前記Ｒ3としては、好ましくはメチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、シクロヘキシル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基、フェニル基、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ－プロピルチオ基、ｎ－ブチルチオ基、フェニルチオ基、ベンジルチオ基であり、隣り合うＲ3同士が環を形成する場合、環の中に少なくとも一つ以上の硫黄原子もしくは窒素原子が含まれる複素環であることが好ましい。
　前記Ｍとしては、好ましくは遷移金属であり、より好ましくはＮｉ，Ｐｄ，Ｐｔである。
　前記Ｄは、好ましくは窒素原子、リン原子であり、前記Ｒiは、好ましくはエチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、フェニル基である。
　化合物（Ｓ）の吸収極大波長は、好ましくは１０６０ｎｍ以上１１９０ｎｍ以下、より好ましくは１０７０ｎｍ以上１１８０ｎｍ以下、さらに好ましくは１０８０ｎｍ以上１１７０ｎｍ以下である。化合物（Ｓ）の吸収極大波長がこのような範囲にあると、不要な近赤外線を効率よくカットすることができ、優れたゴースト抑制効果を得ることができる。
　化合物（Ｓ）は、一般的に知られている方法で合成すればよく、例えば、特許第４１６８０３１号公報、特許第４２５２９６１号公報、特表２０１０－５１６８２３号公報、特開昭６３－１６５３９２号公報等に記載されている方法などを参照して合成することができる。
　化合物（Ｓ）の含有量は、前記基材として、例えば、化合物（Ａ）および化合物（Ｓ）を含有する透明樹脂製基板からなる基材や、化合物（Ｓ）を含有する透明樹脂製基板上に化合物（Ａ）を含有する硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの樹脂層が積層された基材を用いる場合には、透明樹脂１００重量部に対して、好ましくは０．０１～２．０重量部、より好ましくは０．０２～１．５重量部、特に好ましくは０．０３～１．０重量部であり、前記基材として、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体などの支持体上に化合物（Ａ）および化合物（Ｓ）を含有する硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの透明樹脂層が積層された基材や、化合物（Ａ）を含有する透明樹脂製基板上に化合物（Ｓ）を含有する硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの樹脂層が積層された基材を用いる場合には、化合物（Ａ）を含む透明樹脂層を形成する樹脂１００重量部に対して、好ましくは０．１～５．０重量部、より好ましくは０．２～４．０重量部、特に好ましくは０．３～３．０重量部である。化合物（Ｓ）の含有量が前記範囲内にあると、良好な近赤外線吸収特性と高い可視光透過率とを両立した光学フィルターを得ることができる。
　＜要件（ｈ）＞
　前記Ｘｃは、好ましくは６３０～６５５ｎｍ、より好ましくは６３２～６５２ｎｍ、さらに好ましくは６３４～６５０ｎｍである。Ｘｃが６２８ｎｍ未満であると、赤色に相当する波長領域の透過率が低くなり、色再現性が低下する傾向にあり、６５８ｎｍ超であると、十分な強度の吸収強度を確保できず、カメラ画像に色シェーディングが発生してしまう傾向にある。
　前記基材が前記要件（ｈ）を満たす場合、基材上に誘電体多層膜を製膜した際でも、可視波長～近赤外波長域付近における光学特性の入射角依存性を低減することができ、赤色の再現性と色シェーディング抑制効果を高いレベルで両立できるため好ましい。なお、Ｘｃは短波長側から長波長側に向かって分光透過率を評価した際に、所定の条件を満たす波長を示すものである。
　＜その他の特性および物性＞
　波長４３０～５８０ｎｍの領域における基材の平均透過率は、好ましくは７５％以上、さらに好ましくは７８％以上、特に好ましくは８０％以上である。このような透過特性を有する基材を用いると、可視域において高い光線透過特性を達成でき、高感度なカメラ機能を達成することができる。
　基材の厚みは、所望の用途に応じて適宜選択することができ、特に制限されないが、好ましくは１０～２００μｍ、より好ましくは２０～１８０μｍ、さらに好ましくは２５～１５０μｍである。基材の厚みが前記範囲にあると、該基材を用いた光学フィルターを薄型化および軽量化することができ、固体撮像装置等の様々な用途に好適に用いることができる。特に、前記透明樹脂製基板からなる基材をカメラモジュール等のレンズユニットに用いた場合には、レンズユニットの低背化、軽量化を実現することができるため好ましい。
　＜透明樹脂＞
　前記基材を構成する透明樹脂層、透明樹脂製基板および樹脂製支持体に用いられる透明樹脂としては、本発明の効果を損なわないものである限り特に制限されないが、例えば、熱安定性およびフィルムへの成形性を確保し、かつ、１００℃以上の蒸着温度で行う高温蒸着により誘電体多層膜を形成しうるフィルムとするため、ガラス転移温度（Ｔｇ）が、好ましくは１１０～３８０℃、より好ましくは１１０～３７０℃、さらに好ましくは１２０～３６０℃である樹脂が挙げられる。また、前記樹脂のガラス転移温度が１４０℃以上であると、誘電体多層膜をより高温で蒸着形成しえるフィルムが得られるため、特に好ましい。
　透明樹脂としては、当該樹脂からなる厚さ０．１ｍｍの樹脂板を形成した場合に、この樹脂板の全光線透過率（ＪＩＳ　Ｋ７１０５）が、好ましくは７５～９５％、より好ましくは７８～９５％、さらに好ましくは８０～９５％となる樹脂を用いることができる。全光線透過率がこのような範囲となる樹脂を用いれば、得られる基板は光学フィルムとして良好な透明性を示す。
　透明樹脂のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法により測定される、ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は、通常１５，０００～３５０，０００、好ましくは３０，０００～２５０，０００であり、数平均分子量（Ｍｎ）は、通常１０，０００～１５０，０００、好ましくは２０，０００～１００，０００である。
　透明樹脂としては、例えば、環状ポリオレフィン系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フルオレンポリカーボネート系樹脂、フルオレンポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド（アラミド）系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリパラフェニレン系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）系樹脂、フッ素化芳香族ポリマー系樹脂、（変性）アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アリルエステル系硬化型樹脂、シルセスキオキサン系紫外線硬化型樹脂、アクリル系紫外線硬化型樹脂およびビニル系紫外線硬化型樹脂を挙げることができる。
　透明樹脂は、１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　≪環状ポリオレフィン系樹脂≫
　環状ポリオレフィン系樹脂としては、下記式（Ｘ0）で表される単量体および下記式（Ｙ0）で表される単量体からなる群より選ばれる少なくとも１種の単量体から得られる樹脂、および当該樹脂を水素添加することで得られる樹脂が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
 　式（Ｘ0）中、Ｒx1～Ｒx4はそれぞれ独立に、下記（i'）～（ix'）より選ばれる原子または基を表し、ｋx、ｍxおよびｐxはそれぞれ独立に、０または正の整数を表す。
（i'）水素原子
（ii'）ハロゲン原子
（iii'）トリアルキルシリル基
（iv'）酸素原子、硫黄原子、窒素原子またはケイ素原子を含む連結基を有する、置換または非置換の炭素数１～３０の炭化水素基
（v'）置換または非置換の炭素数１～３０の炭化水素基
（vi'）極性基（但し、（iv'）を除く。）
（vii'）Ｒx1とＲx2またはＲx3とＲx4とが、相互に結合して形成されたアルキリデン基（但し、前記結合に関与しないＲx1～Ｒx4は、それぞれ独立に前記（ｉ'）～（vi'）より選ばれる原子または基を表す。）
（viii'）Ｒx1とＲx2またはＲx3とＲx4とが、相互に結合して形成された単環もしくは多環の炭化水素環または複素環（但し、前記結合に関与しないＲx1～Ｒx4は、それぞれ独立に前記（i'）～（vi'）より選ばれる原子または基を表す。）
（ix'）Ｒx2とＲx3とが、相互に結合して形成された単環の炭化水素環または複素環（但し、前記結合に関与しないＲx1とＲx4は、それぞれ独立に前記（i'）～（vi'）より選ばれる原子または基を表す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
 　式（Ｙ0）中、Ｒy1およびＲy2はそれぞれ独立に、前記（i'）～（vi'）より選ばれる原子または基を表すか、Ｒy1とＲy2とが、相互に結合して形成された単環もしくは多環の脂環式炭化水素、芳香族炭化水素または複素環を表し、ｋyおよびｐyはそれぞれ独立に、０または正の整数を表す。
　≪芳香族ポリエーテル系樹脂≫
　芳香族ポリエーテル系樹脂は、下記式（１）で表される構造単位および下記式（２）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも１種の構造単位を有することが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
 　式（１）中、Ｒ1～Ｒ4はそれぞれ独立に、炭素数１～１２の１価の有機基を示し、ａ～ｄはそれぞれ独立に、０～４の整数を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
 　式（２）中、Ｒ1～Ｒ4およびａ～ｄはそれぞれ独立に、前記式（１）中のＲ1～Ｒ4およびａ～ｄと同義であり、Ｙは、単結合、－ＳＯ2－または＞Ｃ＝Ｏを示し、Ｒ7およびＲ8はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１～１２の１価の有機基またはニトロ基を示し、ｇおよびｈはそれぞれ独立に、０～４の整数を示し、ｍは０または１を示す。但し、ｍが０のとき、Ｒ7はシアノ基ではない。
　また、前記芳香族ポリエーテル系樹脂は、さらに下記式（３）で表される構造単位および下記式（４）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも１種の構造単位を有することが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
 　式（３）中、Ｒ5およびＲ6はそれぞれ独立に、炭素数１～１２の１価の有機基を示し、Ｚは、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ2－、＞Ｃ＝Ｏ、－ＣＯＮＨ－、－ＣＯＯ－または炭素数１～１２の２価の有機基を示し、ｅおよびｆはそれぞれ独立に、０～４の整数を示し、ｎは０または１を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
 　式（４）中、Ｒ7、Ｒ8、Ｙ、ｍ、ｇおよびｈはそれぞれ独立に、前記式（２）中のＲ7、Ｒ8、Ｙ、ｍ、ｇおよびｈと同義であり、Ｒ5、Ｒ6、Ｚ、ｎ、ｅおよびｆはそれぞれ独立に、前記式（３）中のＲ5、Ｒ6、Ｚ、ｎ、ｅおよびｆと同義である。
　≪ポリイミド系樹脂≫
　ポリイミド系樹脂としては、特に制限されず、繰り返し単位にイミド結合を含む高分子化合物であればよく、例えば、特開２００６－１９９９４５号公報や特開２００８－１６３１０７号公報に記載されている方法で合成することができる。
　≪フルオレンポリカーボネート系樹脂≫
　フルオレンポリカーボネート系樹脂としては、特に制限されず、フルオレン部位を含むポリカーボネート樹脂であればよく、例えば、特開２００８－１６３１９４号公報に記載されている方法で合成することができる。
　≪フルオレンポリエステル系樹脂≫
　フルオレンポリエステル系樹脂としては、特に制限されず、フルオレン部位を含むポリエステル樹脂であればよく、例えば、特開２０１０－２８５５０５号公報や特開２０１１－１９７４５０号公報に記載されている方法で合成することができる。
　≪フッ素化芳香族ポリマー系樹脂≫
　フッ素化芳香族ポリマー系樹脂としては、特に制限されないが、フッ素原子を少なくとも１つ有する芳香族環と、エーテル結合、ケトン結合、スルホン結合、アミド結合、イミド結合およびエステル結合からなる群より選ばれる少なくとも１つの結合を含む繰り返し単位とを含有するポリマーであることが好ましく、例えば特開２００８－１８１１２１号公報に記載されている方法で合成することができる。
　≪アクリル系紫外線硬化型樹脂≫
　アクリル系紫外線硬化型樹脂としては、特に制限されないが、分子内に一つ以上のアクリル基もしくはメタクリル基を有する化合物と、紫外線によって分解して活性ラジカルを発生させる化合物を含有する樹脂組成物から合成されるものを挙げることができる。アクリル系紫外線硬化型樹脂は、前記基材として、ガラス支持体上やベースとなる樹脂製支持体上に化合物（Ａ）および硬化性樹脂を含む透明樹脂層が積層された基材や、化合物（Ａ）を含有する透明樹脂製基板上に硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの樹脂層が積層された基材を用いる場合、該硬化性樹脂として特に好適に使用することができる。
　≪エポキシ系樹脂≫
　エポキシ系樹脂としては、特に制限されないが、紫外線硬化型と熱硬化型に大別することができる。紫外線硬化型エポキシ系樹脂としては、例えば、分子内に一つ以上のエポキシ基を有する化合物と、紫外線によって酸を発生させる化合物（以下「光酸発生剤」ともいう）を含有する組成物から合成されるものを挙げることができ、熱硬化型エポキシ系樹脂としては、例えば、分子内に一つ以上のエポキシ基を有する化合物と、酸無水物を含有する組成物から合成されるものを挙げることができる。エポキシ系紫外線硬化型樹脂は、前記基材として、ガラス支持体上やベースとなる樹脂製支持体上に化合物（Ａ）を含む透明樹脂層が積層された基材や、化合物（Ａ）を含有する透明樹脂製基板上に硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの樹脂層が積層された基材を用いる場合、該硬化性樹脂として特に好適に使用することができる。
　≪市販品≫
　透明樹脂の市販品としては、以下の市販品等を挙げることができる。環状ポリオレフィン系樹脂の市販品としては、ＪＳＲ（株）製アートン、日本ゼオン（株）製ゼオノア、三井化学（株）製ＡＰＥＬ、ポリプラスチックス（株）製ＴＯＰＡＳなどを挙げることができる。ポリエーテルサルホン系樹脂の市販品としては、住友化学（株）製スミカエクセルＰＥＳなどを挙げることができる。ポリイミド系樹脂の市販品としては、三菱ガス化学（株）製ネオプリムＬなどを挙げることができる。ポリカーボネート系樹脂の市販品としては、帝人（株）製ピュアエースなどを挙げることができる。フルオレンポリカーボネート系樹脂の市販品としては、三菱ガス化学（株）製ユピゼータＥＰ－５０００などを挙げることができる。フルオレンポリエステル系樹脂の市販品としては、大阪ガスケミカル（株）製ＯＫＰ４ＨＴなどを挙げることができる。アクリル系樹脂の市販品としては、（株）日本触媒製アクリビュアなどを挙げることができる。シルセスキオキサン系紫外線硬化型樹脂の市販品としては、新日鐵化学（株）製シルプラスなどを挙げることができる。
　＜その他の色素（Ｘ）＞
　前記基材には、さらに、化合物（Ａ）および化合物（Ｓ）に該当しない、その他の色素（Ｘ）が含まれていてもよい。
　その他の色素（Ｘ）としては、吸収極大波長が波長６５０ｎｍ未満もしくは波長７６０ｎｍ超１０５０ｎｍ未満の領域にある色素であれば特に制限されないが、吸収極大波長が７６０ｎｍ超１０５０ｎｍ未満の領域にある色素が好ましい。このような色素としては、例えば、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、シアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、クロコニウム系化合物、オクタフィリン系化合物、ジイモニウム系化合物、ピロロピロール系化合物、ボロンジピロメテン（ＢＯＤＩＰＹ）系化合物、ペリレン系化合物および金属ジチオラート系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物が挙げられる。
　その他の色素（Ｘ）の含有量は、前記基材として、例えば、その他の色素（Ｘ）を含有する透明樹脂製基板からなる基材を用いる場合には、透明樹脂１００重量部に対して、好ましくは０．００５～１．０重量部、より好ましくは０．０１～０．９重量部、特に好ましくは０．０２～０．８重量部であり、前記基材として、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体などの支持体上にその他の色素（Ｘ）を含有する硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの透明樹脂層が積層された基材や、化合物（Ａ）を含有する透明樹脂製基板上にその他の色素（Ｘ）を含有する硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの樹脂層が積層された基材を用いる場合には、その他の色素（Ｘ）を含む透明樹脂層を形成する樹脂１００重量部に対して、好ましくは０．０５～４．０重量部、より好ましくは０．１～３．０重量部、特に好ましくは０．２～２．０重量部である。
　＜その他成分＞
　前記基材は、本発明の効果を損なわない範囲において、その他成分として、さらに酸化防止剤、近紫外線吸収剤および蛍光消光剤などを含有してもよい。これらその他成分は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
　前記近紫外線吸収剤としては、例えばアゾメチン系化合物、インドール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物などが挙げられる。
　前記酸化防止剤としては、例えば２，６－ジ－ｔ－ブチル－４－メチルフェノール、２，２'－ジオキシ－３，３'－ジ－ｔ－ブチル－５，５'－ジメチルジフェニルメタン、テトラキス［メチレン－３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、およびトリス（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル）ホスファイトなどが挙げられる。
　なお、これらその他成分は、基材を製造する際に、樹脂などとともに混合してもよいし、樹脂を合成する際に添加してもよい。また、添加量は、所望の特性に応じて適宜選択されるものであるが、樹脂１００重量部に対して、通常０．０１～５．０重量部、好ましくは０．０５～２．０重量部である。
　＜基材の製造方法＞
　前記基材が、化合物（Ａ）を含有する透明樹脂製基板を含む基材である場合、該透明樹脂製基板は、例えば、溶融成形またはキャスト成形により形成することができ、さらに、必要により、成形後に、反射防止剤、ハードコート剤および／または帯電防止剤等のコーティング剤をコーティングすることで、オーバーコート層が積層された基材を製造することができる。
　前記基材が、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体などの支持体上または化合物（Ａ）を含有しない透明樹脂製基板上に化合物（Ａ）を含有する硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの透明樹脂層が積層された基材である場合、例えば、前記支持体または前記透明樹脂製基板上に化合物（Ａ）を含む樹脂溶液を溶融成形またはキャスト成形することで、好ましくはスピンコート、スリットコート、インクジェットなどの方法にて塗工した後に溶媒を乾燥除去し、必要に応じてさらに光照射や加熱を行うことで、前記支持体または前記透明樹脂製基板上に化合物（Ａ）を含む透明樹脂層が形成された基材を製造することができる。
　≪溶融成形≫
　前記溶融成形としては、具体的には、樹脂と化合物（Ａ）と必要に応じて他の成分とを溶融混練りして得られたペレットを溶融成形する方法；樹脂と化合物（Ａ）と必要応じて他の成分とを含有する樹脂組成物を溶融成形する方法；または、化合物（Ａ）、樹脂、溶剤および必要に応じて他の成分を含む樹脂組成物から溶剤を除去して得られたペレットを溶融成形する方法などが挙げられる。溶融成形方法としては、射出成形、溶融押出成形またはブロー成形などを挙げることができる。
　≪キャスト成形≫
　前記キャスト成形としては、化合物（Ａ）、樹脂、溶剤および必要に応じて他の成分を含む樹脂組成物を適当な支持体の上にキャスティングして溶剤を除去する方法；または化合物（Ａ）と、光硬化性樹脂および／または熱硬化性樹脂と、必要に応じて他の成分とを含む硬化性組成物を適当な支持体の上にキャスティングして溶媒を除去した後、紫外線照射や加熱などの適切な手法により硬化させる方法などにより製造することもできる。
　前記基材が、化合物（Ａ）を含有する透明樹脂製基板からなる基材である場合には、該基材は、キャスト成形後、支持体から塗膜を剥離することにより得ることができ、また、前記基材が、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体などの支持体上または化合物（Ａ）を含有しない透明樹脂製基板上に化合物（Ａ）を含有する硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの透明樹脂層が積層された基材である場合には、該基材は、キャスト成形後、塗膜を剥離しないことで得ることができる。
　前記支持体としては、例えば、近赤外吸収ガラス板（例えば、松浪硝子工業社製「ＢＳ－１１」やＡＧＣ テクノグラス社製「ＮＦ－５０Ｔ」などのような銅成分を含有するリン酸塩系ガラス板）、透明ガラス板（例えば、日本電気硝子社製「ＯＡ－１０Ｇ」や旭硝子社製「ＡＮ１００」などのような無アルカリガラス板）、スチールベルト、スチールドラムおよび透明樹脂（例えば、ポリエステルフィルム、環状オレフィン系樹脂フィルム）製支持体が挙げられる。
　さらに、ガラス板、石英または透明プラスチック製等の光学部品に、前記樹脂組成物をコーティングして溶剤を乾燥させる方法、または、前記硬化性組成物をコーティングして硬化および乾燥させる方法などにより、光学部品上に透明樹脂層を形成することもできる。
　前記方法で得られた透明樹脂層（透明樹脂製基板）中の残留溶剤量は可能な限り少ない方がよい。具体的には、前記残留溶剤量は、透明樹脂層（透明樹脂製基板）の重さに対して、好ましくは３重量％以下、より好ましくは１重量％以下、さらに好ましくは０．５重量％以下である。残留溶剤量が前記範囲にあると、変形や特性が変化しにくい、所望の機能を容易に発揮できる透明樹脂層（透明樹脂製基板）が得られる。
　［光学フィルター］
　本発明に係る光学フィルターは、前記要件（ａ）、（ｂ）および（ｃ）を満たす基材を有し、かつ、下記要件（ｄ）および（ｅ）を満たすことを特徴とする：
（ｄ）波長４３０～５８０ｎｍの領域において、光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値（ｄ１）が７５％以上である；
（ｅ）波長１１００ｎｍ～１２００ｎｍの領域において、光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値（ｅ１）が５％以下である。
　本発明の光学フィルターは、前記要件（ｄ）および（ｅ）を満たすことから、可視波長域での透過率特性および近赤外線カット特性に優れ、入射角依存性が少なく、色シェーディング抑制効果およびゴースト抑制効果に優れた光学フィルターである。
　＜要件（ｄ）＞
　要件（ｄ）における前記透過率の平均値（ｄ１）は、好ましくは７８％以上、より好ましくは８０％以上、さらに好ましくは８２％以上である。前記透過率の平均値（ｄ１）がこの範囲にあると、本発明の光学フィルターを固体撮像素子用途として使用した場合、優れた撮像感度を達成することができる。
　＜要件（ｅ）＞
　要件（ｅ）における前記透過率の平均値（ｅ１）は、好ましくは４％以下、より好ましくは３％以下、さらに好ましくは２％以下である。前記透過率の平均値（ｅ１）がこの範囲にあると、カメラ画像の中心付近において良好な黒色再現性を達成することができる。
　＜その他の特性および物性＞
　本発明の光学フィルターは、前記基材を有するため、誘電体多層膜を有する形態においても光学特性の入射角依存を低減することができる。具体的には、波長６００～８００ｎｍの範囲において、光学フィルターの垂直方向から測定した時の透過率が５０％となる最も短い波長の値（Ｘａ）と、光学フィルターの垂直方向に対して３０°の角度から測定した時の透過率が５０％となる波長の値（Ｘｂ）との差の絶対値｜Ｘａ－Ｘｂ｜は、好ましくは２０ｎｍ未満、より好ましくは１５ｎｍ未満、さらに好ましくは１０ｎｍ未満である。
　本発明の光学フィルターの厚みは、近年の固体撮像装置の薄型化、軽量化等の流れを考慮すると、薄いことが好ましい。本発明の光学フィルターは、前記基材を含むため、薄型化が可能である。
　本発明の光学フィルターの厚みは、好ましくは２１０μｍ以下、より好ましくは１９０μｍ以下、さらに好ましくは１６０μｍ以下、特に好ましくは１３０μｍ以下であり、下限は特に制限されないが、２０μｍ以上であることが好ましい。
　［誘電体多層膜］
　本発明の光学フィルターは、前記基材の少なくとも一方の面に誘電体多層膜を有することが好ましい。本発明における誘電体多層膜とは、近赤外線を反射する能力を有する膜または可視域における反射防止効果を有する膜であり、誘電体多層膜を有することでより優れた可視光透過率と近赤外線カット特性を達成することができる。
　本発明では、誘電体多層膜は前記基材の片面に設けてもよいし、両面に設けてもよい。片面に設ける場合、製造コストや製造容易性に優れ、両面に設ける場合、高い強度を有し、反りやねじれが生じにくい光学フィルターを得ることができる。光学フィルターを固体撮像素子用途に適用する場合、光学フィルターの反りやねじれが小さい方が好ましいことから、誘電体多層膜を樹脂製基板の両面に設けることが好ましい。
　前記誘電体多層膜は、好ましくは波長７００～１１００ｎｍ、より好ましくは波長７００～１１５０ｎｍ、さらに好ましくは７００～１２００ｎｍの範囲全体にわたって反射特性を有することが望ましい。
　基材の両面に誘電体多層膜を有する形態として、光学フィルターの垂直方向に対して５°の角度から測定した場合に、主に波長７００～９５０ｎｍ付近に反射特性を有する第一光学層を基材の片面に有し、主に９００ｎｍ～１１５０ｎｍ付近に反射特性を有する第二光学層を基材の他方の面上に有する形態（図１（ａ）参照）や、光学フィルターの垂直方向に対して５°の角度から測定した場合に、主に波長７００～１１５０ｎｍ付近に反射特性を有する第三光学層を基材の片面に有し、可視域の反射防止特性を有する第四光学層を基材の他方の面上に有する形態（図１（ｂ）参照）などが挙げられる。
　誘電体多層膜としては、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層したものが挙げられる。高屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が１．７以上の材料を用いることができ、屈折率が通常は１．７～２．５の材料が選択される。このような材料としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、五酸化タンタル、五酸化ニオブ、酸化ランタン、酸化イットリウム、酸化亜鉛、硫化亜鉛または酸化インジウム等を主成分とし、酸化チタン、酸化錫および／または酸化セリウム等を少量（例えば、主成分に対して０～１０重量％）含有させたものが挙げられる。
　低屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が１．６以下の材料を用いることができ、屈折率が通常は１．２～１．６の材料が選択される。このような材料としては、例えば、シリカ、アルミナ、フッ化ランタン、フッ化マグネシウムおよび六フッ化アルミニウムナトリウムが挙げられる。
　高屈折率材料層と低屈折率材料層とを積層する方法については、これらの材料層を積層した誘電体多層膜が形成される限り特に制限はない。例えば、基材上に、直接、ＣＶＤ法、スパッタ法、真空蒸着法、イオンアシスト蒸着法またはイオンプレーティング法等により、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した誘電体多層膜を形成することができる。
　高屈折率材料層および低屈折率材料層の各層の厚さは、通常、遮断しようとする近赤外線波長をλ（ｎｍ）とすると、０．１λ～０．５λの厚さが好ましい。λ（ｎｍ）の値としては、例えば７００～１４００ｎｍ、好ましくは７５０～１３００ｎｍである。厚さがこの範囲であると、屈折率（ｎ）と膜厚（ｄ）との積（ｎ×ｄ）がλ／４で算出される光学的膜厚と、高屈折率材料層および低屈折率材料層の各層の厚さとがほぼ同じ値となって、反射・屈折の光学的特性の関係から、特定波長の遮断・透過を容易にコントロールできる傾向にある。
　誘電体多層膜における高屈折率材料層と低屈折率材料層との合計の積層数は、光学フィルター全体として１６～７０層であることが好ましく、２０～６０層であることがより好ましい。各層の厚み、光学フィルター全体としての誘電体多層膜の厚みや合計の積層数が前記範囲にあると、十分な製造マージンを確保できる上に、光学フィルターの反りや誘電体多層膜のクラックを低減することができる。
　本発明では、化合物（Ａ）や化合物（Ｓ）などの近赤外線吸収剤の吸収特性に合わせて高屈折率材料層および低屈折率材料層を構成する材料種、高屈折率材料層および低屈折率材料層の各層の厚さ、積層の順番、積層数を適切に選択することで、可視域に十分な透過率を確保した上で近赤外波長域に十分な光線カット特性を有し、且つ、斜め方向から近赤外線が入射した際の反射率を低減することができる。
　ここで、前記条件を最適化するには、例えば、光学薄膜設計ソフト（例えば、Ｅｓｓｅｎｔｉａｌ　Ｍａｃｌｅｏｄ、Ｔｈｉｎ　Ｆｉｌｍ　Ｃｅｎｔｅｒ社製）を用い、可視域の反射防止効果と近赤外域の光線カット効果を両立できるようにパラメーターを設定すればよい。上記ソフトの場合、例えば第一光学層の設計にあたっては、波長４００～７００ｎｍの目標透過率を１００％、Ｔａｒｇｅｔ　Ｔｏｌｅｒａｎｃｅの値を１とした上で、波長７０５～９５０ｎｍの目標透過率を０％、Ｔａｒｇｅｔ　Ｔｏｌｅｒａｎｃｅの値を０．５にするなどのパラメーター設定方法が挙げられる。これらのパラメーターは基材（ｉ）の各種特性などに合わせて波長範囲をさらに細かく区切ってＴａｒｇｅｔ　Ｔｏｌｅｒａｎｃｅの値を変えることもできる。
　［その他の機能膜］
　本発明の光学フィルターは、本発明の効果を損なわない範囲において、基材と誘電体多層膜との間、基材の誘電体多層膜が設けられた面と反対側の面、または誘電体多層膜の基材が設けられた面と反対側の面に、基材や誘電体多層膜の表面硬度の向上、耐薬品性の向上、帯電防止および傷消しなどの目的で、反射防止膜、ハードコート膜や帯電防止膜などの機能膜を適宜設けることができる。
　本発明の光学フィルターは、前記機能膜からなる層を１層含んでもよく、２層以上含んでもよい。本発明の光学フィルターが前記機能膜からなる層を２層以上含む場合には、同様の層を２層以上含んでもよいし、異なる層を２層以上含んでもよい。
　機能膜を積層する方法としては、特に制限されないが、反射防止剤、ハードコート剤および／または帯電防止剤等のコーティング剤などを基材または誘電体多層膜に、前記と同様に溶融成形またはキャスト成形する方法等を挙げることができる。
　また、前記コーティング剤などを含む硬化性組成物をバーコーター等で基材または誘電体多層膜上に塗布した後、紫外線照射等により硬化することによっても製造することができる。
　前記コーティング剤としては、紫外線（ＵＶ）／電子線（ＥＢ）硬化型樹脂や熱硬化型樹脂などが挙げられ、具体的には、ビニル化合物類や、ウレタン系、ウレタンアクリレート系、アクリレート系、エポキシ系およびエポキシアクリレート系樹脂などが挙げられる。これらのコーティング剤を含む前記硬化性組成物としては、ビニル系、ウレタン系、ウレタンアクリレート系、アクリレート系、エポキシ系およびエポキシアクリレート系硬化性組成物などが挙げられる。
　また、前記硬化性組成物は、重合開始剤を含んでいてもよい。前記重合開始剤としては、公知の光重合開始剤または熱重合開始剤を用いることができ、光重合開始剤と熱重合開始剤を併用してもよい。重合開始剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
　前記硬化性組成物中、重合開始剤の配合割合は、硬化性組成物の全量を１００重量％とした場合、好ましくは０．１～１０重量％、より好ましくは０．５～１０重量％、さらに好ましくは１～５重量％である。重合開始剤の配合割合が前記範囲にあると、硬化性組成物の硬化特性および取り扱い性が優れ、所望の硬度を有する反射防止膜、ハードコート膜や帯電防止膜などの機能膜を得ることができる。
　さらに、前記硬化性組成物には溶剤として有機溶剤を加えてもよく、有機溶剤としては、公知のものを使用することができる。有機溶剤の具体例としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ－ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン等のアミド類を挙げることができる。
　これら溶剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
　前記機能膜の厚さは、好ましくは０．１～２０μｍ、さらに好ましくは０．５～１０μｍ、特に好ましくは０．７～５μｍである。
　また、基材と機能膜および／または誘電体多層膜との密着性や、機能膜と誘電体多層膜との密着性を上げる目的で、基材、機能膜または誘電体多層膜の表面にコロナ処理やプラズマ処理等の表面処理をしてもよい。
　［光学フィルターの用途］
　本発明の光学フィルターは、視野角が広く、優れた近赤外線カット能等を有する。したがって、カメラモジュールのＣＣＤやＣＭＯＳイメージセンサー等の固体撮像素子の視感度補正用として有用である。特に、デジタルスチルカメラ、スマートフォン用カメラ、携帯電話用カメラ、デジタルビデオカメラ、ウェアラブルデバイス用カメラ、ＰＣカメラ、監視カメラ、自動車用カメラ、テレビ、カーナビゲーション、携帯情報端末、ビデオゲーム機、携帯ゲーム機、指紋認証システム、デジタルミュージックプレーヤー等に有用である。さらに、自動車や建物等のガラス板等に装着される熱線カットフィルターなどとしても有用である。
　［固体撮像装置］
　本発明の固体撮像装置は、本発明の光学フィルターを具備する。ここで、固体撮像装置とは、ＣＣＤやＣＭＯＳイメージセンサー等といった固体撮像素子を備えたイメージセンサーであり、具体的にはデジタルスチルカメラ、スマートフォン用カメラ、携帯電話用カメラ、ウェアラブルデバイス用カメラ、デジタルビデオカメラ等の用途に用いることができる。例えば、本発明のカメラモジュールは、本発明の光学フィルターを具備する。
　以下、実施例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に何ら限定されるものではない。なお、「部」は、特に断りのない限り「重量部」を意味する。また、各物性値の測定方法および物性の評価方法は以下のとおりである。
　＜分子量＞
　樹脂の分子量は、各樹脂の溶剤への溶解性等を考慮し、下記の（ａ）または（ｂ）の方法にて測定を行った。
（ａ）ウォターズ（ＷＡＴＥＲＳ）社製のゲルパーミエ－ションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置（１５０Ｃ型、カラム：東ソー社製Ｈタイプカラム、展開溶剤：ｏ－ジクロロベンゼン）を用い、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）および数平均分子量（Ｍｎ）を測定した。
（ｂ）東ソー社製ＧＰＣ装置（ＨＬＣ－８２２０型、カラム：ＴＳＫｇｅｌα‐Ｍ、展開溶剤：ＴＨＦ）を用い、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）および数平均分子量（Ｍｎ）を測定した。
　なお、後述する樹脂合成例３で合成した樹脂については、上記方法による分子量の測定ではなく、下記方法（ｃ）による対数粘度の測定を行った。
（ｃ）ポリイミド樹脂溶液の一部を無水メタノールに投入してポリイミド樹脂を析出させ、ろ過して未反応単量体から分離した。８０℃で１２時間真空乾燥して得られたポリイミド０．１ｇをＮ－メチル－２－ピロリドン２０ｍＬに溶解し、キャノン－フェンスケ粘度計を使用して３０℃における対数粘度（μ）を下記式により求めた。
　μ＝｛ｌｎ（ｔs／ｔ0）｝／Ｃ
　ｔ0：溶媒の流下時間
　ｔs：希薄高分子溶液の流下時間
　Ｃ：０．５ｇ／ｄＬ
　＜ガラス転移温度（Ｔｇ）＞
　エスアイアイ・ナノテクノロジーズ株式会社製の示差走査熱量計（ＤＳＣ６２００）を用いて、昇温速度：毎分２０℃、窒素気流下で測定した。
　＜分光透過率＞
　基材の各波長における透過率、（Ｔ1）、（Ｘ1）、（Ｘ2）および（Ｘｃ）、ならびに、光学フィルターの各波長域における透過率、（Ｘａ）および（Ｘｂ）は、株式会社日立ハイテクノロジーズ製の分光光度計（Ｕ－４１００）を用いて測定した。
　ここで、光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率では、図２（ａ）のようにフィルターに対して垂直に透過した光を測定し、光学フィルターの垂直方向に対して３０°の角度から測定した場合の透過率では、図２（ｂ）のようにフィルターの垂直方向に対して３０°の角度で透過した光を測定した。
　なお、この透過率は、（Ｘｂ）を測定する場合を除き、光が基板およびフィルターに対して垂直に入射する条件で、該分光光度計を使用して測定したものである。（Ｘｂ）を測定する場合には、光がフィルターの垂直方向に対して３０°の角度で入射する条件で該分光光度計を使用して測定したものである。
　＜カメラ画像の色シェーディング評価＞
　光学フィルターをカメラモジュールに組み込んだ際の色シェーディング評価は下記の方法で行った。特開２０１６－１１００６７号公報と同様の方法でカメラモジュールを作成し、作成したカメラモジュールを用いて３００ｍｍ×４００ｍｍサイズの白色板をＤ６５光源（Ｘ－Ｒｉｔｅ社製標準光源装置「マクベスジャッジII」）下で撮影し、カメラ画像における白色板の中央部と端部における色目の違いを以下の基準で評価した。
　全く問題がなく許容可能なレベルをＡ、若干色目の違いは認められるが高画質カメラモジュールとして実用上問題がなく許容可能なレベルをＢ、色目の違いが有り高画質カメラモジュール用途としては許容不可能なレベルをＣ、明らかな色目の違いが有り一般的なカメラモジュール用途としても許容不可能なレベルをＤと判定した。
　なお、図１１に示すように、撮影を行う際はカメラ画像１１１の中で白色板１１２が面積の９０％以上を占めるように白色板１１２とカメラモジュールの位置関係を調節した。
　＜カメラ画像のゴースト評価＞
　光学フィルターをカメラモジュールに組み込んだ際のゴースト評価は下記の方法で行った。特開２０１６－１１００６７号公報と同様の方法でカメラモジュールを作成し、作成したカメラモジュールを用いて暗室中ハロゲンランプ光源（林時計工業社製「ルミナーエースＬＡ－１５０ＴＸ」）下で撮影し、カメラ画像における光源周辺のゴースト発生具合を以下の基準で評価した。
　全く問題がなく許容可能なレベルをＡ、若干のゴーストは認められるが高画質カメラモジュールとして実用上問題がなく許容可能なレベルをＢ、ゴーストが発生しており高画質カメラモジュール用途としては許容不可能なレベルをＣ、ゴーストの度合いがひどく一般的なカメラモジュール用途としても許容不可能なレベルをＤと判定した。
　なお、図１２に示すように、撮影を行う際は、光源１２２がカメラ画像１２１の右上端部となるように調節した。
　［合成例］
　下記実施例で用いた化合物（Ａ）および化合物（Ｓ）は、一般的に知られている方法で合成した。一般的合成方法としては、例えば、特開昭６０－２２８４４８号公報、特開平１－１４６８４６号公報、特開平１－２２８９６０号公報、特許第４０８１１４９号公報、「フタロシアニン　－化学と機能―」（アイピーシー、１９９７年）、特開２００９－１０８２６７号公報、特開２０１０－２４１８７３号公報、特許第３６９９４６４号公報、特許第４７４０６３１号公報などに記載されている方法を挙げることができる。
　＜樹脂合成例１＞
　下記式（ａ）で表される８－メチル－８－メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ－３－エン（以下「ＤＮＭ」ともいう。）１００ｇ、１－ヘキセン（分子量調節剤）１８ｇおよびトルエン（開環重合反応用溶媒）３００ｇを、窒素置換した反応容器に仕込み、この溶液を８０℃に加熱した。次いで、反応容器内の溶液に、重合触媒として、トリエチルアルミニウムのトルエン溶液（０．６ｍｏｌ／リットル）０．２ｇと、メタノール変性の六塩化タングステンのトルエン溶液（濃度０．０２５ｍｏｌ／リットル）０．９ｇとを添加し、この溶液を８０℃で３時間加熱攪拌することにより開環重合反応させて開環重合体溶液を得た。この重合反応における重合転化率は９７％であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
 　このようにして得られた開環重合体溶液１，０００ｇをオートクレーブに仕込み、この開環重合体溶液に、ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）［Ｐ（Ｃ6Ｈ5）3］3を０．１２ｇ添加し、水素ガス圧１００ｋｇ／ｃｍ2、反応温度１６５℃の条件下で、３時間加熱撹拌して水素添加反応を行った。得られた反応溶液（水素添加重合体溶液）を冷却した後、水素ガスを放圧した。この反応溶液を大量のメタノール中に注いで凝固物を分離回収し、これを乾燥して、水素添加重合体（以下「樹脂Ａ」ともいう。）を得た。得られた樹脂Ａは、数平均分子量（Ｍｎ）が３２，０００、重量平均分子量（Ｍｗ）が１３７，０００であり、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１６５℃であった。
　＜樹脂合成例２＞
　３Ｌの４つ口フラスコに２，６－ジフルオロベンゾニトリル３５．１２ｇ、９，９－ビス（４－ヒドロキシフェニル）フルオレン８７．６０ｇ、炭酸カリウム４１．４６ｇ、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（以下「ＤＭＡｃ」ともいう。）４４３ｇおよびトルエン１１１ｇを添加した。続いて、４つ口フラスコに温度計、撹拌機、窒素導入管付き三方コック、ディーンスターク管および冷却管を取り付けた。次いで、フラスコ内を窒素置換した後、得られた溶液を１４０℃で３時間反応させ、生成する水をディーンスターク管から随時取り除いた。水の生成が認められなくなったところで、徐々に温度を１６０℃まで上昇させ、そのままの温度で６時間反応させた。室温（２５℃）まで冷却後、生成した塩をろ紙で除去し、ろ液をメタノールに投じて再沈殿させ、ろ別によりろ物（残渣）を単離した。得られたろ物を６０℃で一晩真空乾燥し、白色粉末（以下「樹脂Ｂ」ともいう。）を得た（収率９５％）。得られた樹脂Ｂは、数平均分子量（Ｍｎ）が７５，０００、重量平均分子量（Ｍｗ）が１８８，０００であり、ガラス転移温度（Ｔｇ）が２８５℃であった。
　＜樹脂合成例３＞
　温度計、撹拌器、窒素導入管、側管付き滴下ロート、ディーンスターク管および冷却管を備えた５００ｍＬの５つ口フラスコに、窒素気流下、１，４－ビス（４－アミノ－α,α－ジメチルベンジル）ベンゼン２７．６６ｇおよび４，４’－ビス（４－アミノフェノキシ）ビフェニル７．３８ｇを入れて、γ―ブチロラクトン６８．６５ｇ及びＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド１７．１６ｇに溶解させた。得られた溶液を、氷水バスを用いて５℃に冷却し、同温に保ちながら１，２，４，５－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物２２．６２ｇおよびイミド化触媒としてトリエチルアミン０．５０ｇを一括添加した。添加終了後、１８０℃に昇温し、随時留出液を留去させながら、６時間還流させた。反応終了後、内温が１００℃になるまで空冷した後、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド１４３．６ｇを加えて希釈し、攪拌しながら冷却し、固形分濃度２０重量％のポリイミド樹脂溶液２６４．１６ｇを得た。このポリイミド樹脂溶液の一部を１Ｌのメタノール中に注ぎいれてポリイミドを沈殿させた。濾別したポリイミドをメタノールで洗浄した後、１００℃の真空乾燥機中で２４時間乾燥させて白色粉末（以下「樹脂Ｃ」ともいう。）を得た。得られた樹脂ＣのＩＲスペクトルを測定したところ、イミド基に特有の１７０４ｃｍ-1、１７７０ｃｍ-1の吸収が見られた。樹脂Ｃはガラス転移温度（Ｔｇ）が３１０℃であり、対数粘度を測定したところ、０．８７であった。
　［実施例１］
　実施例１では、透明樹脂製基板からなる基材を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作成した。
　容器に、樹脂合成例１で得られた樹脂Ａ １００部、化合物（Ａ）として下記式（ａ－１）で表わされる化合物（ａ－１）（ジクロロメタン中での吸収極大波長６９８ｎｍ）０．０４部および下記式（ａ－２）で表わされる化合物（ａ－２）（ジクロロメタン中での吸収極大波長７３３ｎｍ）０．０４部、化合物（Ｓ）として上記表２－２に記載の化合物（ｓ－６）（ジクロロメタン中での吸収極大波長１０９３ｎｍ）０．０７部、および塩化メチレンを加えて樹脂濃度が２０重量％の溶液を調製した。得られた溶液を平滑なガラス板上にキャストし、２０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下１００℃で８時間乾燥して、厚さ０．１ｍｍ、縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの透明樹脂製基板からなる基材を得た。この基材の分光透過率を測定し、（Ｔ1）、（Ｘ1）、（Ｘ2）、（Ｘｃ）および各波長における透過率を求めた。結果を図３および表５－１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
 　続いて、得られた基材の片面に第一光学層として誘電体多層膜（Ｉ）を形成し、さらに基材のもう一方の面に第二光学層として誘電体多層膜（ＩＩ）を形成し、厚さ約０．１０５ｍｍの光学フィルターを得た。
　誘電体多層膜（Ｉ）は、蒸着温度１００℃でシリカ（ＳｉＯ2）層とチタニア（ＴｉＯ2）層とが交互に積層されてなる（合計２６層）。誘電体多層膜（ＩＩ）は、蒸着温度１００℃でシリカ（ＳｉＯ2）層とチタニア（ＴｉＯ2）層とが交互に積層されてなる（合計２０層）。誘電体多層膜（Ｉ）および（ＩＩ）のいずれにおいても、シリカ層およびチタニア層は、基材側からチタニア層、シリカ層、チタニア層、・・・シリカ層、チタニア層、シリカ層の順で交互に積層されており、光学フィルターの最外層をシリカ層とした。
　誘電体多層膜（Ｉ）および（ＩＩ）の設計は、以下のようにして行った。
　各層の厚さと層数については、可視域の反射防止効果と近赤外域の選択的な透過・反射性能を達成できるよう基材屈折率の波長依存特性や、適用した化合物（Ｓ）および化合物（Ａ）の吸収特性に合わせて光学薄膜設計ソフト（Ｅｓｓｅｎｔｉａｌ　Ｍａｃｌｅｏｄ、Ｔｈｉｎ　Ｆｉｌｍ　Ｃｅｎｔｅｒ社製）を用いて最適化を行った。最適化を行う際、本実施例においてはソフトへの入力パラメーター（Ｔａｒｇｅｔ値）を下記表３の通りとした。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000021
 　膜構成最適化の結果、実施例１では、誘電体多層膜（Ｉ）は、膜厚３１～１５７ｎｍのシリカ層と膜厚１０～９５ｎｍのチタニア層とが交互に積層されてなる、積層数２６の多層蒸着膜となり、誘電体多層膜（ＩＩ）は、膜厚３７～１９４ｎｍのシリカ層と膜厚１２～１１４ｎｍのチタニア層とが交互に積層されてなる、積層数２０の多層蒸着膜となった。最適化を行った膜構成の一例を下記表４に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000022
 　得られた光学フィルターの垂直方向および垂直方向から３０°の角度から測定した分光透過率を測定し、各波長領域における光学特性を評価した。結果を図４および表５－１に示す。波長４３０～５８０ｎｍにおける透過率の平均値は８４％、波長１１００～１２００ｎｍにおける透過率の平均値は１％以下、絶対値｜Ｘａ－Ｘｂ｜は２ｎｍであった。
　また、得られた光学フィルターを用いてカメラモジュールを作成し、カメラ画像の色シェーディングおよびゴーストの評価を行った。結果を表５－１に示す。得られたカメラ画像は色シェーディングおよびゴーストにおいて良好な結果であった。
　［実施例２］
　実施例２では、透明樹脂製基板からなる基材を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作成した。
　実施例１において、化合物（Ａ）として下記式（ａ－３）で表わされる化合物（ａ－３）（ジクロロメタン中での吸収極大波長７０３ｎｍ）０．０４部および下記式（ａ－４）で表わされる化合物（ａ－４）（ジクロロメタン中での吸収極大波長７３６ｎｍ）０．０８部を用いたこと、化合物（Ｓ）として上記表２－３に記載の化合物（ｓ－８）（ジクロロメタン中での吸収極大波長１０９６ｎｍ）０．０６部を用いたこと、ならびにその他の色素（Ｘ）として下記式（Ｘ－１）で表される色素（Ｘ－１）（ジクロロメタン中での吸収極大波長８８７ｎｍ）０．０１部を用いたこと以外は、実施例１と同様の手順および条件で化合物（Ａ）および化合物（Ｓ）を含む透明樹脂製基板からなる基材を得た。この基材の分光透過率を測定し、（Ｔ1）、（Ｘ1）、（Ｘ2）、（Ｘｃ）および各波長における透過率を求めた。結果を図５および表５－１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
 　続いて、実施例１と同様に、得られた基材の片面に第一光学層としてシリカ（ＳｉＯ2）層とチタニア（ＴｉＯ2）層とが交互に積層されてなる（合計２６層）誘電体多層膜（ＩＩＩ）を形成し、さらに基材のもう一方の面に第二光学層としてシリカ（ＳｉＯ2）層とチタニア（ＴｉＯ2）層とが交互に積層されてなる（合計２０層）誘電体多層膜（ＩＶ）を形成し、厚さ約０．１０５ｍｍの光学フィルターを得た。誘電体多層膜の設計は、基材屈折率の波長依存性を考慮した上で、実施例１と同じ設計パラメーターを用いて行った。得られた光学フィルターの垂直方向および垂直方向から３０°の角度から測定した分光透過率を測定し、各波長領域における光学特性を評価した。また、得られた光学フィルターを用いてカメラモジュールを作成し、カメラ画像の色シェーディングおよびゴーストの評価を行った。結果を表５－１に示す。
　［実施例３］
　実施例３では、両面に樹脂層を有する透明樹脂製基板からなる基材を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作成した。
　実施例１において、化合物（Ａ）として化合物（ａ－４）０．０６部および下記式（ａ－５）で表わされる化合物（ａ－５）（ジクロロメタン中での吸収極大波長７１３ｎｍ）０．０６部を用いたこと、化合物（Ｓ）として上記表２－４に記載の化合物（ｓ－１３）（ジクロロメタン中での吸収極大波長１０９６ｎｍ）０．０８部を用いたこと以外は、実施例１と同様の手順および条件で化合物（Ａ）および化合物（Ｓ）を含む透明樹脂製基板を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
 　得られた透明樹脂製基板の片面に、下記組成の樹脂組成物（１）をバーコーターで塗布し、オーブン中７０℃で２分間加熱し、溶剤を揮発除去した。この際、乾燥後の厚みが２μｍとなるように、バーコーターの塗布条件を調整した。次に、コンベア式露光機を用いて露光（露光量５００ｍＪ／ｃｍ2，２００ｍＷ）を行い、樹脂組成物（１）を硬化させ、透明樹脂製基板上に樹脂層を形成した。同様に、透明樹脂製基板のもう一方の面にも樹脂組成物（１）からなる樹脂層を形成し、化合物（Ａ）および化合物（Ｓ）を含む透明樹脂製基板の両面に樹脂層を有する基材を得た。この基材の分光透過率を測定し、（Ｔ1）、（Ｘ1）、（Ｘ2）、（Ｘｃ）および各波長における透過率を求めた。結果を表５－１に示す。
　樹脂組成物（１）：トリシクロデカンジメタノールジアクリレート　６０重量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート　４０重量部、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン　５重量部、メチルエチルケトン（溶剤、固形分濃度（ＴＳＣ）：３０％）
　続いて、実施例１と同様に、得られた基材の片面に第一光学層としてシリカ（ＳｉＯ2）層とチタニア（ＴｉＯ2）層とが交互に積層されてなる（合計２６層）誘電体多層膜（Ｖ）を形成し、さらに基材のもう一方の面に第二光学層としてシリカ（ＳｉＯ2）層とチタニア（ＴｉＯ2）層とが交互に積層されてなる（合計２０層）誘電体多層膜（ＶＩ）を形成し、厚さ約０．１０９ｍｍの光学フィルターを得た。誘電体多層膜の設計は、実施例１と同様に基材屈折率の波長依存性等を考慮した上で、実施例１と同じ設計パラメーターを用いて行った。得られた光学フィルターの垂直方向および垂直方向から３０°の角度から測定した分光透過率を測定し、各波長領域における光学特性を評価した。また、得られた光学フィルターを用いてカメラモジュールを作成し、カメラ画像の色シェーディングおよびゴーストの評価を行った。結果を表５－１に示す。
　［実施例４］
　実施例４では、樹脂製支持体の両面に化合物（Ａ）を含む透明樹脂層を形成してなる基材を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作成した。
　容器に、樹脂合成例１で得られた樹脂Ａおよび塩化メチレンを加えて樹脂濃度が２０重量％の溶液を調製し、得られた溶液を用いたこと以外は、実施例１の樹脂製基板の作成と同様にして樹脂製支持体を作成した。
　得られた樹脂製支持体の両面に、実施例３と同様にして、下記組成の樹脂組成物（２）からなる樹脂層を形成し、樹脂製支持体の両面に化合物（Ａ）および化合物（Ｓ）を含む透明樹脂層を形成してなる基材を得た。この基材の分光透過率を測定し、（Ｔ1）、（Ｘ1）、（Ｘ2）、（Ｘｃ）および各波長における透過率を求めた。結果を表５－１に示す。
　樹脂組成物（２）：トリシクロデカンジメタノールジアクリレート　１００重量部、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン　４重量部、化合物（ａ－１）０．１０重量部、化合物（ａ－２）０．１０重量部、化合物（ｓ－６）１．７５重量部、メチルエチルケトン（溶剤、ＴＳＣ：２５％）
　続いて、実施例１と同様に、得られた基材の片面に第一光学層としてシリカ（ＳｉＯ2）層とチタニア（ＴｉＯ2）層とが交互に積層されてなる（合計２６層）誘電体多層膜（ＶＩＩ）を形成し、さらに基材のもう一方の面に第二光学層としてシリカ（ＳｉＯ2）層とチタニア（ＴｉＯ2）層とが交互に積層されてなる（合計２０層）誘電体多層膜（ＶＩＩＩ）を形成し、厚さ約０．１０９ｍｍの光学フィルターを得た。誘電体多層膜の設計は、実施例１と同様に基材屈折率の波長依存性等を考慮した上で、実施例１と同じ設計パラメーターを用いて行った。得られた光学フィルターの垂直方向および垂直方向から３０°の角度から測定した分光透過率を測定し、各波長領域における光学特性を評価した。また、得られた光学フィルターを用いてカメラモジュールを作成し、カメラ画像の色シェーディングおよびゴーストの評価を行った。結果を表５－１に示す。
　［実施例５］
　実施例５では、片面に化合物（Ａ）を含む透明樹脂層を有する透明ガラス基板からなる基材を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作成した。
　縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの大きさにカットした透明ガラス基板「ＯＡ－１０Ｇ（厚み１５０ｕｍ）」（日本電気硝子（株）製）上に下記組成の樹脂組成物（３）をスピンコーターで塗布し、ホットプレート上８０℃で２分間加熱して溶剤を揮発除去した。この際、乾燥後の厚みが２μｍとなるように、スピンコーターの塗布条件を調整した。次に、コンベア式露光機を用いて露光（露光量５００ｍＪ／ｃｍ2，２００ｍＷ）を行い、樹脂組成物（３）を硬化させ、化合物（Ａ）および化合物（Ｓ）を含む透明樹脂層を有する透明ガラス基板からなる基材を得た。この基材の分光透過率を測定し、（Ｔ1）、（Ｘ1）、（Ｘ2）、（Ｘｃ）および各波長における透過率を求めた。結果を表５－１に示す。
　樹脂組成物（３）：トリシクロデカンジメタノールジアクリレート　２０重量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート　８０重量部、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン　４重量部、化合物（ａ－１）０．２０重量部、化合物（ａ－２）０．２０重量部、化合物（ｓ－６）３．５０重量部、メチルエチルケトン（溶剤、ＴＳＣ：３５％）
　続いて、実施例１と同様に、得られた基材の片面に第一光学層としてシリカ（ＳｉＯ2）層とチタニア（ＴｉＯ2）層とが交互に積層されてなる（合計２６層）誘電体多層膜（ＩＸ）を形成し、さらに基材のもう一方の面に第二光学層としてシリカ（ＳｉＯ2）層とチタニア（ＴｉＯ2）層とが交互に積層されてなる（合計２０層）誘電体多層膜（Ｘ）を形成し、厚さ約０．１０７ｍｍの光学フィルターを得た。誘電体多層膜の設計は、実施例１と同様に基材屈折率の波長依存性等を考慮した上で、実施例１と同じ設計パラメーターを用いて行った。得られた光学フィルターの垂直方向および垂直方向から３０°の角度から測定した分光透過率を測定し、各波長領域における光学特性を評価した。また、得られた光学フィルターを用いてカメラモジュールを作成し、カメラ画像の色シェーディングおよびゴーストの評価を行った。結果を表５－１に示す。
　［実施例６］
　実施例６では、片面に化合物（Ａ）を含む透明樹脂層を有する近赤外線吸収ガラス基板からなる基材を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作成した。
　縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの大きさにカットした近赤外線吸収ガラス基板「ＢＳ－１１（厚み１２０μｍ）」（松浪硝子工業（株）製）上に下記組成の樹脂組成物（４）をスピンコーターで塗布し、ホットプレート上８０℃で２分間加熱して溶剤を揮発除去した。この際、乾燥後の厚みが２μｍとなるように、スピンコーターの塗布条件を調整した。次に、コンベア式露光機を用いて露光（露光量５００ｍＪ／ｃｍ2，２００ｍＷ）を行い、樹脂組成物（４）を硬化させ、化合物（Ａ）を含む透明樹脂層を有する近赤外線吸収ガラス基板からなる基材を得た。この基材の分光透過率を測定し、（Ｔ1）、（Ｘ1）、（Ｘ2）、（Ｘｃ）および各波長における透過率を求めた。結果を図６および表５－１に示す。
　樹脂組成物（４）：トリシクロデカンジメタノールジアクリレート　２０重量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート　８０重量部、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン　４重量部、化合物（ａ－３）０．１５重量部、化合物（ａ－４）０．３０重量部、メチルエチルケトン（溶剤、ＴＳＣ：３５％）
　続いて、実施例１と同様に、得られた基材の片面に第一光学層としてシリカ（ＳｉＯ2）層とチタニア（ＴｉＯ2）層とが交互に積層されてなる（合計２６層）誘電体多層膜（ＸＩ）を形成し、さらに基材のもう一方の面に第二光学層としてシリカ（ＳｉＯ2）層とチタニア（ＴｉＯ2）層とが交互に積層されてなる（合計２０層）誘電体多層膜（ＸＩＩ）を形成し、厚さ約０．１０７ｍｍの光学フィルターを得た。誘電体多層膜の設計は、実施例１と同様に基材屈折率の波長依存性等を考慮した上で、実施例１と同じ設計パラメーターを用いて行った。得られた光学フィルターの垂直方向および垂直方向から３０°の角度から測定した分光透過率を測定し、各波長領域における光学特性を評価した。また、得られた光学フィルターを用いてカメラモジュールを作成し、カメラ画像の色シェーディングおよびゴーストの評価を行った。結果を表５－１に示す。
　［実施例７］
　実施例７では、両面に近赤外線吸収微粒子を含む透明樹脂層を有する、化合物（Ａ）を含む透明樹脂製基板からなる基材を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作成した。
　実施例２において、化合物（Ｓ－８）とその他の色素（Ｘ－１）を用いなかったこと以外は、実施例２と同様の手順および条件で化合物（Ａ）を含む透明樹脂製基板を得た。
　得られた樹脂製基板の両面に、実施例３と同様にして、下記組成の樹脂組成物（５）からなる樹脂層を形成し、両面に近赤外線吸収微粒子を含む透明樹脂層を有する、化合物（Ａ）を含む透明樹脂製基板からなる基材を得た。この基材の分光透過率を測定し、（Ｔ1）、（Ｘ1）、（Ｘ2）、（Ｘｃ）および各波長における透過率を求めた。結果を図７および表５－１に示す。
　樹脂組成物（５）：トリシクロデカンジメタノールジアクリレート　１００重量部、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン　４重量部、近赤外線吸収微粒子分散液（住友金属鉱山（株）製ＹＭＦ－０２Ａ）３５重量部（固形分換算で約１０重量部）、メチルエチルケトン（溶剤、ＴＳＣ：３０％）
　続いて、実施例１と同様に、得られた基材の片面に第一光学層としてシリカ（ＳｉＯ2）層とチタニア（ＴｉＯ2）層とが交互に積層されてなる（合計２６層）誘電体多層膜（ＸＩＩＩ）を形成し、さらに基材のもう一方の面に第二光学層としてシリカ（ＳｉＯ2）層とチタニア（ＴｉＯ2）層とが交互に積層されてなる（合計２０層）誘電体多層膜（ＸＩＶ）を形成し、厚さ約０．１０９ｍｍの光学フィルターを得た。誘電体多層膜の設計は、実施例１と同様に基材屈折率の波長依存性等を考慮した上で、実施例１と同じ設計パラメーターを用いて行った。得られた光学フィルターの垂直方向および垂直方向から３０°の角度から測定した分光透過率を測定し、各波長領域における光学特性を評価した。また、得られた光学フィルターを用いてカメラモジュールを作成し、カメラ画像の色シェーディングおよびゴーストの評価を行った。結果を表５－１に示す。
　［実施例８～１３］
　樹脂、溶媒、樹脂製基板の乾燥条件、化合物（Ａ）、化合物（Ｓ）およびその他の色素（Ｘ）を表５－１に示すように変更したこと以外は、実施例３と同様にして基材および光学フィルターを作成した。得られた基材および光学フィルターの光学特性を表５－１に示す。また、得られた光学フィルターを用いてカメラモジュールを作成し、カメラ画像の色シェーディングおよびゴーストの評価を行った。結果を表５－１に示す。
　［比較例１］
　実施例１において、化合物（Ｓ）および化合物（Ａ）を用いなかったこと以外は、実施例１と同様にして基材および光学フィルターを作成し、光学特性を評価した。また、得られた光学フィルターを用いてカメラモジュールを作成し、カメラ画像の色シェーディングおよびゴーストの評価を行った。結果を表５－２に示す。比較例１で得られた光学フィルターは、比較的良好な可視光透過率を示すものの、光学特性の入射角依存性が大きく、基材が７００ｎｍ付近や近赤外波長領域に吸収を持たないことから、色シェーディング抑制効果やゴースト抑制効果に劣ることが確認された。
　［比較例２］
　基材として透明ガラス基板「ＯＡ－１０Ｇ（厚み１５０ｕｍ）」（日本電気硝子（株）製）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして光学フィルターを作成し、光学特性を評価した。また、得られた光学フィルターを用いてカメラモジュールを作成し、カメラ画像の色シェーディングおよびゴーストの評価を行った。結果を表５－２に示す。比較例２で得られた光学フィルターは、比較的良好な可視光透過率を示すものの、光学特性の入射角依存性が大きく、基材が７００ｎｍ付近や近赤外波長領域に吸収を持たないことから、色シェーディング抑制効果やゴースト抑制効果に劣ることが確認された。
　［比較例３］
　基材として近赤外線吸収ガラス基板「ＢＳ－１１（厚み１２０ｕｍ）」（松浪硝子工業（株）製）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして光学フィルターを作成し、光学特性を評価した。また、得られた光学フィルターを用いてカメラモジュールを作成し、カメラ画像の色シェーディングおよびゴーストの評価を行った。結果を表５－２に示す。また、基材の分光透過スペクトルを図８に示す。比較例３で得られた光学フィルターは、比較的良好な光学特性を示すものの、基材の７００ｎｍ付近の吸収強度が十分でなく、色シェーディング抑制効果に劣ることが確認された。
　［比較例４］
　実施例３において、化合物（Ｓ）を用いずに、化合物（Ａ）として化合物（ａ－４）０．０８部および化合物（ａ－５）０．０６部を用いたこと、ならびに色素（Ｘ－１）０．０１部を用いたこと以外は、実施例３と同様にして基材および光学フィルターを作成し、光学特性を評価した。また、得られた光学フィルターを用いてカメラモジュールを作成し、カメラ画像の色シェーディングおよびゴーストの評価を行った。結果を表５－２に示す。また、基材の分光透過スペクトルを図９に示す。比較例５で得られた光学フィルターは、比較的良好な光学特性を示すものの、基材の近赤外波長領域における吸収強度が十分でなく、ゴースト抑制効果に劣ることが確認された。
　［比較例５］
　実施例６において、樹脂組成物（４）の代わりに下記組成の樹脂組成物（６）を用いたこと以外は、実施例６と同様にして基材および光学フィルターを作成した。
　樹脂組成物（６）：トリシクロデカンジメタノールジアクリレート　２０重量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート　８０重量部、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン　４重量部、化合物（ａ－１）０．１５重量部、メチルエチルケトン（溶剤、ＴＳＣ：３５％）
　得られた基材および光学フィルターの光学特性を評価した。また、得られた光学フィルターを用いてカメラモジュールを作成し、カメラ画像の色シェーディングおよびゴーストの評価を行った。結果を表５－２に示す。また、基材の分光透過スペクトルを図１０に示す。比較例５で得られた光学フィルターは、比較的良好な光学特性を示すものの、基材の７００ｎｍ付近の吸収強度が十分でなく、色シェーディング抑制効果に劣ることが確認された。
　［比較例６］
　実施例３において、化合物（Ａ）として化合物（ａ－３）０．０４部および化合物（ａ－４）０．０８部を用いたこと、化合物（Ｓ）として化合物（ｓ－６）０．０１部を用いたこと以外は、実施例３と同様にして基材および光学フィルターを作成し、光学特性を評価した。また、得られた光学フィルターを用いてカメラモジュールを作成し、カメラ画像の色シェーディングおよびゴーストの評価を行った。結果を表５－２に示す。比較例６で得られた光学フィルターは、比較的良好な光学特性を示すものの、基材の近赤外波長領域における吸収強度が十分でなく、ゴースト抑制効果に劣ることが確認された。
　［比較例７］
　実施例３において、化合物（Ａ）として化合物（ａ－１）０．０４部を用いたこと、化合物（Ｓ）として化合物（ｓ－６）０．０７部を用いたこと以外は、実施例３と同様にして基材および光学フィルターを作成し、光学特性を評価した。また、得られた光学フィルターを用いてカメラモジュールを作成し、カメラ画像の色シェーディングおよびゴーストの評価を行った。結果を表５－２に示す。比較例７で得られた光学フィルターは、比較的良好な光学特性を示すものの、基材の７００ｎｍ付近の吸収強度が十分でなく、色シェーディング抑制効果に劣ることが確認された。
　［比較例８］
　実施例３において、化合物（Ａ）として化合物（ａ－１）０．０４部を用いたこと、化合物（Ｓ）として上記表２－４に記載の化合物（ｓ－１４）（ジクロロメタン中での吸収極大波長１０９７ｎｍ）０．４５部を用いたこと以外は、実施例３と同様にして基材および光学フィルターを作成し、光学特性を評価した。また、得られた光学フィルターを用いてカメラモジュールを作成し、カメラ画像の色シェーディングおよびゴーストの評価を行った。結果を表５－２に示す。比較例８で得られた光学フィルターは、比較的良好な光学特性を示すものの、基材の７００ｎｍ付近の吸収強度が十分でなく、色シェーディング抑制効果に劣ることが確認された。
　実施例および比較例で適用した基材の構成、各種化合物などは下記の通りである。
　＜基材の形態＞
　形態（１）：化合物（Ａ）を含む透明樹脂製基板
　形態（２）：化合物（Ａ）を含む透明樹脂製基板の両面に樹脂層を有する
　形態（３）：樹脂製支持体の両面に化合物（Ａ）を含む透明樹脂層を有する
　形態（４）：透明ガラス基板の片方の面に化合物（Ａ）を含む透明樹脂層を有する
　形態（５）：近赤外線吸収ガラス基板の片方の面に化合物（Ａ）を含む透明樹脂層を有する
　形態（６）：化合物（Ａ）を含む透明樹脂製基板の両面に近赤外線吸収微粒子を含む透明樹脂層を有する
　形態（７）：化合物（Ａ）を含まない透明樹脂製基板（比較例）
　形態（８）：透明ガラス基板（比較例）
　形態（９）：近赤外線吸収ガラス基板（比較例）
　＜透明樹脂＞
　樹脂Ａ：環状ポリオレフィン系樹脂（樹脂合成例１）
　樹脂Ｂ：芳香族ポリエーテル系樹脂（樹脂合成例２）
　樹脂Ｃ：ポリイミド系樹脂（樹脂合成例３）
　樹脂Ｄ：環状オレフィン系樹脂「ゼオノア　１４２０Ｒ」（日本ゼオン（株）製）
　＜ガラス基板＞
　ガラス基板（１）：縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの大きさにカットした透明ガラス基板「ＯＡ－１０Ｇ（厚み１５０μｍ）」(日本電気硝子（株）製)
　ガラス基板（２）：縦６０ｍｍ、横６０ｍｍの大きさにカットした近赤外線吸収ガラス基板「ＢＳ－１１（厚み１２０μｍ）」（松浪硝子工業（株）製）
　＜近赤外線吸収色素＞
　≪化合物（Ａ）≫
　化合物（ａ－１）：上記の化合物（ａ－１）（ジクロロメタン中での吸収極大波長６９８ｎｍ）
　化合物（ａ－２）：上記の化合物（ａ－２）（ジクロロメタン中での吸収極大波長７３３ｎｍ）
　化合物（ａ－３）：上記の化合物（ａ－３）（ジクロロメタン中での吸収極大波長７０３ｎｍ）
　化合物（ａ－４）：上記の化合物（ａ－４）（ジクロロメタン中での吸収極大波長７３６ｎｍ）
　化合物（ａ－５）：上記の化合物（ａ－５）（ジクロロメタン中での吸収極大波長７１３ｎｍ）
　化合物（ａ－６）：下記式（ａ－６）で表されるシアニン系化合物（ジクロロメタン中での吸収極大波長６８１ｎｍ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
 　≪化合物（Ｓ）≫
　化合物（ｓ－６）：上記の化合物（ｓ－６）（ジクロロメタン中での吸収極大波長１０９３ｎｍ）
　化合物（ｓ－８）：上記の化合物（ｓ－８）（ジクロロメタン中での吸収極大波長１０９６ｎｍ）
　化合物（ｓ－１３）：上記の化合物（ｓ－１４）（ジクロロメタン中での吸収極大波長１０９６ｎｍ）
　化合物（ｓ－１４）：上記の化合物（ｓ－１５）（ジクロロメタン中での吸収極大波長１０９７ｎｍ）
　≪その他の色素（Ｘ）≫
　色素（Ｘ－１）：上記の色素（Ｘ－１）（ジクロロメタン中での吸収極大波長８８７ｎｍ）
　色素（Ｘ－２）：下記式（Ｘ－２）で表される色素（ジクロロメタン中での吸収極大波長８１１ｎｍ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
 　＜溶媒＞
　溶媒（１）：塩化メチレン
　溶媒（２）：Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド
　溶媒（３）：シクロヘキサン／キシレン（重量比：７／３）
　表５－１および表５－２における、実施例および比較例の（透明）樹脂製基板の乾燥条件は以下の通りである。なお、減圧乾燥前に、塗膜をガラス板から剥離した。
　＜フィルム乾燥条件＞
　条件（１）：２０℃／８ｈｒ→減圧下　１００℃／８ｈｒ
　条件（２）：６０℃／８ｈｒ→８０℃／８ｈｒ→減圧下　１４０℃／８ｈｒ
　条件（３）：６０℃／８ｈｒ→８０℃／８ｈｒ→減圧下　１００℃／２４ｈｒ
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000029
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000030
１：光学フィルター
２：分光光度計
３：光
１０：基材
１１：第一光学層
１２：第二光学層
１３：第三光学層
１４：第四光学層
１１１：カメラ画像
１１２：白色板
１１３：白色板の中央部の例
１１４：白色板の端部の例
１２１：カメラ画像
１２２：光源
１２３：光源周辺のゴーストの例

Claims (13)

  1. 　下記要件（ａ）、（ｂ）および（ｃ）を満たす基材を有し、かつ、下記要件（ｄ）および（ｅ）を満たすことを特徴とする光学フィルター：
    （ａ）波長６５０ｎｍ以上７６０ｎｍ以下の領域に吸収極大を有する化合物（Ａ）を含む層を有する；
    （ｂ）波長６４０ｎｍ以上の領域において透過率が１０％となる一番短い波長（Ｘ1）と二番目に短い波長（Ｘ2）との差（Ｘ2－Ｘ1）が５０ｎｍ以上である；
    （ｃ）波長９００ｎｍにおける透過率、波長１０００ｎｍにおける透過率、および波長１１００ｎｍにおける透過率がいずれも６５％以下である；
    （ｄ）波長４３０～５８０ｎｍの領域において、光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が７５％以上である；
    （ｅ）波長１１００ｎｍ～１２００ｎｍの領域において、光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が５％以下である。
  2. 　前記化合物（Ａ）を含む層が透明樹脂層であることを特徴とする、請求項１に記載の光学フィルター。
  3. 　前記基材の少なくとも一方の面に誘電体多層膜を有することを特徴とする、請求項１または２に記載の光学フィルター。
  4. 　前記基材が、さらに下記要件（ｆ）を満たすことを特徴とする、請求項１～３のいずれか一項に記載の光学フィルター：
    （ｆ）波長６９０～７２０ｎｍの領域における透過率の最小値（Ｔ1）が５％以下である。
  5. 　前記基材が、さらに下記要件（ｇ）を満たすことを特徴とする、請求項１～４のいずれに一項に記載の光学フィルター：
    （ｇ）波長１０５０ｎｍ以上１２００ｎｍ以下の領域に吸収極大を有する化合物（Ｓ）を含む。
  6. 　前記化合物（Ｓ）が、下記式（Ｉ）および（ＩＩ）で表される化合物からなる群より選ばれる
    少なくとも１種の化合物であることを特徴とする、請求項５に記載の光学フィルター。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     ［式（Ｉ）および式（ＩＩ）中、
    　Ｒ1～Ｒ3は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、－ＮＲgＲh基、－ＳＲi基、－ＳＯ2Ｒi基、－ＯＳＯ2Ｒi基または下記Ｌa～Ｌhのいずれかを表し、ＲgおよびＲhは、それぞれ独立に水素原子、－Ｃ（Ｏ）Ｒi基または下記Ｌa～Ｌeのいずれかを表し、Ｒiは下記Ｌa～Ｌeのいずれかを表し、
    （Ｌa）炭素数１～１２の脂肪族炭化水素基
    （Ｌb）炭素数１～１２のハロゲン置換アルキル基
    （Ｌc）炭素数３～１４の脂環式炭化水素基
    （Ｌd）炭素数６～１４の芳香族炭化水素基
    （Ｌe）炭素数２～１４の複素環基
    （Ｌf）炭素数１～１２のアルコキシ基
    （Ｌg）置換基Ｌを有してもよい炭素数１～１２のアシル基、
    （Ｌh）置換基Ｌを有してもよい炭素数１～１２のアルコキシカルボニル基
    　置換基Ｌは、炭素数１～１２の脂肪族炭化水素基、炭素数１～１２のハロゲン置換アルキル基、炭素数３～１４の脂環式炭化水素基、炭素数６～１４の芳香族炭化水素基および炭素数３～１４の複素環基からなる群より選ばれる少なくとも１種であり、
    　隣り合うＲ3同士は、置換基Ｌを有してもよい環を形成してもよく、
    　ｎは０～４の整数を表し、
    　Ｘは電荷を中和させるのに必要なアニオンを表し、
    　Ｍは金属原子を表し、
    　ＺはＤ（Ｒi）4を表し、Ｄは窒素原子、リン原子またはビスマス原子を表し、
    　ｙは０もしくは１を表す。）
  7. 　前記誘電体多層膜が前記基材の両面に形成されていることを特徴とする請求項３～６のいずれか１項に記載の光学フィルター。
  8. 　前記化合物（Ａ）が、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物およびシアニン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物であることを特徴とする請求項１～７のいずれか１項に記載の光学フィルター。
  9. 　前記透明樹脂層を構成する透明樹脂が、環状ポリオレフィン系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フルオレンポリカーボネート系樹脂、フルオレンポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリパラフェニレン系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、フッ素化芳香族ポリマー系樹脂、（変性）アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アリルエステル系硬化型樹脂、シルセスキオキサン系紫外線硬化型樹脂、アクリル系紫外線硬化型樹脂およびビニル系紫外線硬化型樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種の樹脂であることを特徴とする請求項２～８のいずれか１項に記載の光学フィルター。
  10. 　前記基材が、化合物（Ａ）および化合物（Ｓ）を含む透明樹脂製基板を含有することを特徴とする請求項１～９のいずれか１項に記載の光学フィルター。
  11. 　固体撮像装置用である請求項１～１０のいずれか１項に記載の光学フィルター。
  12. 　請求項１～１１のいずれか１項に記載の光学フィルターを具備する固体撮像装置。
  13. 　請求項１～１１のいずれか１項に記載の光学フィルターを具備するカメラモジュール。
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