CN109642973B

CN109642973B - 光学滤波器及使用光学滤波器的装置

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Publication number: CN109642973B
Application number: CN201780052711.5A
Authority: CN
Inventors: 葛西达也; 长屋胜也; 堀内正子; 重冈大介
Original assignee: JSR Corp
Current assignee: JSR Corp
Priority date: 2016-08-31
Filing date: 2017-08-30
Publication date: 2021-06-08
Anticipated expiration: 2037-08-30
Also published as: CN109642973A; JPWO2018043564A1; JP2021028726A; KR20210150591A; KR102434709B1; CN112946804B; WO2018043564A1; JP7088261B2; JP6791251B2; KR102388961B1; CN112946804A; KR20190040973A

Abstract

本发明的课题在于提供一种可以高水平兼顾以往的光学滤波器中无法充分实现的照相机图像的颜色阴影抑制与重影抑制的光学滤波器及使用光学滤波器的装置。本发明的光学滤波器的特征在于：具有满足必要条件(a)～(c)的基材：(a)具有包含在波长650nm以上且760nm以下的区域具有最大吸收的化合物(A)的层；(b)在波长640nm以上的区域中透过率成为10％的最短波长(X₁)与第二短波长(X₂)的差(X₂‑X₁)为50nm以上；(c)波长900nm、1000nm及1100nm中的透过率均为65％以下。

Description

光学滤波器及使用光学滤波器的装置

技术领域

本发明涉及一种光学滤波器及使用光学滤波器的装置。详细而言，本发明涉及一种包含在特定的波长区域中具有吸收的化合物的光学滤波器、以及使用所述光学滤波器的固体摄像装置及照相机模块。

背景技术

在摄像机、数字静态照相机、带有照相机功能的移动电话等固体摄像装置中，使用作为彩色图像的固体摄像元件的电荷耦合元件(charge coupled device，CCD)或互补金属氧化物半导体(complementary metal oxide semiconductor，CMOS)图像传感器，这些固体摄像元件在其光接收部中使用对于人眼无法察觉的近红外线具有灵敏度的硅光二极管(silicon photodiode)。在这些固体摄像元件中，大多使用必须进行以人眼来看呈现自然的色泽的能见度修正，且选择性地透过或截止特定的波长区域的光线的光学滤波器(例如近红外线截止滤波器)。

作为此种近红外线截止滤波器，自以往以来使用利用各种方法所制造者。例如，已知有一种将透明树脂用作基材，并使透明树脂中含有近红外线吸收色素的近红外线截止滤波器(例如参照专利文献1)。然而，专利文献1中所记载的近红外线截止滤波器存在近红外线吸收特性未必充分的情况。

本发明人进行努力研究的结果，发现通过使用含有在特定的波长区域中具有最大吸收的近红外线吸收色素的透明树脂制基板，即便使入射角度变化，也可获得光学特性的变化少的近红外线截止滤波器，并在专利文献2中提出一种兼具广视角及高可见光透过率的近红外线截止滤波器。另外，在专利文献3中记载有以下内容：通过使用具有特定的结构的酞菁系色素，可获得作为以往的课题的以高水平兼顾优异的可见透过率与最大吸收波长的长波长化的近红外线截止滤波器。但是，在专利文献2及专利文献3中记载的近红外线截止滤波器中，所应用的基材虽在700nm附近具有充分强度的吸收带，但例如在900nm～1200nm等近红外波长区域几乎不具有吸收。因此，近红外波长区域的光线几乎仅通过介电体多层膜的反射而截止，关于此种构成，存在由光学滤波器中的内部反射或光学滤波器与透镜间的反射而引起的稍微的杂散光于在暗环境下进行拍摄时导致重影或光斑的情况。特别是近年来即便为智能手机等移动机器也强烈要求照相机的高画质化，存在无法优选地用于以往的光学滤波器中的情况。

另一方面，作为使用在近红外波长区域具有宽广的吸收的基材的光学滤波器，提出如专利文献4的红外线遮蔽滤波器。在专利文献4中，通过应用主要具有硫醇烯结构的化合物来达成近红外波长区域的宽广的吸收，但700nm附近的吸收强度并不充分。特别是在伴随近年来的照相机模块低背化的高入射角条件(例如45度入射)下使用时，存在产生由颜色阴影引起的图像劣化的情况。

另外，在专利文献5中公开一种具有近红外线吸收玻璃基材与含有近红外线吸收色素的层的近红外线截止滤波器，在专利文献5中记载的构成中也存在无法对颜色阴影进行充分改良的情况(例如，专利文献5的图5中示出0度入射时与30度入射时的光学特性图表，在30度入射时在可见光透过带的边缘部分的区域(630nm～700nm)也观测到大的波长偏移)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利特开平6-200113号公报

专利文献2：日本专利特开2011-100084号公报

专利文献3：国际公开2015/025779号手册

专利文献4：国际公开2014/168190号手册

专利文献5：国际公开2014/030628号手册

发明内容

发明所要解决的问题

本发明的课题在于提供一种可以高水平兼顾以往的光学滤波器中无法充分实现的照相机图像的颜色阴影抑制与重影抑制的光学滤波器。

解决问题的技术手段

本发明人等人为了解决所述课题而进行了努力研究，结果发现，通过应用在波长700nm附近具有充分强度的吸收带、且在900nm以上的近红外波长区域具有宽广的吸收带的基材，可获得可达成作为目标的近红外线截止特性、可见光透过率、颜色阴影抑制效果及重影抑制效果的光学滤波器，从而完成了本发明。以下示出本发明的实施方式的例子。

[1]一种光学滤波器，具有满足下述必要条件(a)、(b)及(c)的基材，且满足下述必要条件(d)及(e)：

(a)具有包含在波长650nm以上且760nm以下的区域具有最大吸收的化合物(A)的层；

(b)在波长640nm以上的区域中透过率成为10％的最短波长(X₁)与第二短波长(X₂)的差(X₂-X₁)为50nm以上；

(c)波长900nm中的透过率、波长1000nm中的透过率、及波长1100nm中的透过率均为65％以下；

(d)在波长430nm～580nm的区域中，自光学滤波器的垂直方向测定时的透过率的平均值为75％以上；

(e)在波长1100nm～1200nm的区域中，自光学滤波器的垂直方向测定时的透过率的平均值为5％以下。

[2]根据项[1]所述的光学滤波器，包含所述化合物(A)的层为透明树脂层。

[3]根据项[1]或项[2]所述的光学滤波器，在所述基材的至少一面具有介电体多层膜。

[4]根据项[1]至项[3]中任一项所述的光学滤波器，所述基材进而满足下述必要条件(f)：

(f)波长690nm～720nm的区域中的透过率的最小值(T₁)为5％以下。

[5]根据项[1]至项[4]中任一项所述的光学滤波器，所述基材进而满足下述必要条件(g)：

(g)包含在波长1050nm以上且1200nm以下的区域具有最大吸收的化合物(S)。

[6]根据项[5]所述的光学滤波器，所述化合物(S)为选自由下述式(I)及式(II)所表示的化合物所组成的群组中的至少一种化合物。

[化1]

[化2]

式(I)及式(II)中，

R¹～R³分别独立地表示氢原子、卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-NR^gR^h基、-SRⁱ基、-SO₂Rⁱ基、-OSO₂Rⁱ基或下述L^a～L^h的任一者，R^g及R^h分别独立地表示氢原子、-C(O)Rⁱ基或下述L^a～L^e的任一者，Rⁱ表示下述L^a～L^e的任一者，

(L^a)碳数1～12的脂肪族烃基

(L^b)碳数1～12的卤素取代烷基

(L^c)碳数3～14的脂环式烃基

(L^d)碳数6～14的芳香族烃基

(L^e)碳数2～14的杂环基

(L^f)碳数1～12的烷氧基

(L^g)可具有取代基L的碳数1～12的酰基

(L^h)可具有取代基L的碳数1～12的烷氧基羰基

取代基L为选自由碳数1～12的脂肪族烃基、碳数1～12的卤素取代烷基、碳数3～14的脂环式烃基、碳数6～14的芳香族烃基及碳数3～14的杂环基所组成的群组中的至少一种，

相邻的R³彼此也可形成可具有取代基L的环，

n表示0～4的整数，

X表示中和电荷所需的阴离子，

M表示金属原子，

Z表示D(Rⁱ)₄，D表示氮原子、磷原子或铋原子，

y表示0或1。

[7]根据项[3]至项[6]中任一项所述的光学滤波器，所述介电体多层膜形成于所述基材的两面。

[8]根据项[1]至项[7]中任一项所述的光学滤波器，所述化合物(A)为选自由方酸内鎓盐系化合物、酞菁系化合物及花青系化合物所组成的群组中的至少一种化合物。

[9]根据项[2]至项[8]中任一项所述的光学滤波器，构成所述透明树脂层的透明树脂为选自由环状聚烯烃系树脂、芳香族聚醚系树脂、聚酰亚胺系树脂、芴聚碳酸酯系树脂、芴聚酯系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚芳酯系树脂、聚砜系树脂、聚醚砜系树脂、聚对苯系树脂、聚酰胺酰亚胺系树脂、聚萘二甲酸乙二酯系树脂、氟化芳香族聚合物系树脂、(改性)丙烯酸系树脂、环氧系树脂、烯丙酯系硬化型树脂、倍半硅氧烷系紫外线硬化型树脂、丙烯酸系紫外线硬化型树脂及乙烯基系紫外线硬化型树脂所组成的群组中的至少一种树脂。

[10]根据项[1]至项[9]中任一项所述的光学滤波器，所述基材含有包含化合物(A)及化合物(S)的透明树脂制基板。

[11]根据项[1]至项[10]中任一项所述的光学滤波器，其用于固体摄像装置。

[12]一种固体摄像装置，其具备根据项[1]至项[11]中任一项所述的光学滤波器。

[13]一种照相机模块，其具备根据项[1]至项[11]中任一项所述的光学滤波器。

发明的效果

根据本发明，可提供一种近红外线截止特性优异、入射角依存性少、可见波长区域下的透过率特性、颜色阴影抑制效果及重影抑制效果优异的光学滤波器。

附图说明

图1A、图1B是表示本发明的光学滤波器的优选的构成的例子的示意图。

图2A是表示测定自光学滤波器的垂直方向进行测定时的透过率的方法的概略图。图2B是表示测定自相对于光学滤波器的垂直方向为30°的角度进行测定时的透过率的方法的概略图。

图3是实施例1中所获得的基材的分光透过光谱。

图4是实施例1中所获得的光学滤波器的分光透过光谱。

图5是实施例2中所获得的基材的分光透过光谱。

图6是实施例6中所获得的基材的分光透过光谱。

图7是实施例7中所获得的基材的分光透过光谱。

图8是比较例3中使用的基材(近红外线吸收玻璃基板)的分光透过光谱。

图9是比较例4中所获得的基材的分光透过光谱。

图10是比较例5中所获得的基材的分光透过光谱。

图11是用以说明实施例及比较例中进行的照相机图像的颜色阴影评价的示意图。

图12是用以说明实施例及比较例中进行的照相机图像的重影评价的示意图。

符号的说明

1：光学滤波器；

2：分光光度计；

3：光；

10：基材；

11：第一光学层；

12：第二光学层；

13：第三光学层；

14：第四光学层；

111：照相机图像；

112：白色板；

113：白色板的中央部的例子；

114：白色板的端部的例子；

121：照相机图像；

122：光源；

123：光源周边的重影的例子。

具体实施方式

以下，对本发明的光学滤波器及使用所述光学滤波器的装置进行详细说明。

本发明的光学滤波器具有满足后述的必要条件(a)、(b)及(c)的基材，且满足后述的必要条件(d)及(e)。另外，本发明的光学滤波器优选为在所述基材的至少一面具有介电体多层膜。

[基材]

本发明中所使用的基材满足下述必要条件(a)、(b)及(c)

(c)波长900nm中的透过率(c1)、波长1000nm中的透过率(c2)、及波长1100nm中的透过率(c3)均为65％以下。

另外，所述基材优选为进而满足下述必要条件(f)～(h)的至少一个必要条件：

(f)波长690nm～720nm的区域中的透过率的最小值(T₁)为5％以下；

(g)包含在波长1050nm以上且1200nm以下的区域具有最大吸收的化合物(S)；

(h)在波长600nm以上的区域中透过率自超过50％成为50％以下时的透过率成为50％的最短波长(Xc)处于波长628nm～658nm的范围。

以下，对各必要条件进行说明。

＜必要条件(a)＞

在必要条件(a)中，构成包含化合物(A)的层的成分并无特别限定，例如可列举透明树脂、溶胶凝胶材料、低温硬化玻璃材料等，就操作容易或与化合物(A)的相容性的观点而言，优选为透明树脂。

《化合物(A)》

化合物(A)若为在波长650nm以上且760nm以下的区域中具有最大吸收的化合物，则并无特别限制，但优选为溶剂可溶型的色素化合物，更优选为选自由方酸内鎓盐系化合物、酞菁系化合物及花青系化合物所组成的群组中的至少一种，进而优选为包含方酸内鎓盐系化合物，特别优选为包含方酸内鎓盐系化合物在内的两种以上。在化合物(A)为包含方酸内鎓盐系化合物在内的两种以上的情况下，结构不同的方酸内鎓盐系化合物可为两种以上，也可为方酸内鎓盐系化合物与其他化合物(A)的组合。作为其他化合物(A)，特别优选为酞菁系化合物及花青系化合物。

方酸内鎓盐系化合物具有优异的可见光透过性、陡峭的吸收特性及高摩尔吸光系数，但存在吸收光线时产生成为散射光的原因的荧光的情况。在此种情况下，通过将方酸内鎓盐系化合物与其他化合物(A)组合使用，可获得散射光少且照相机画质更良好的光学滤波器。

化合物(A)的最大吸收波长优选为660nm以上且755nm以下，更优选为670nm以上且750nm以下，进而优选为680nm以上且745nm以下。

在化合物(A)为两种以上的化合物的组合的情况下，应用的化合物(A)中最大吸收波长最短者与最大吸收波长最长者的最大吸收波长的差优选为10nm～60nm，更优选为15nm～55nm，进而优选为20nm～50nm。若最大吸收波长的差处于所述范围，则可充分减少由荧光引起的散射光，并且可兼顾700nm附近的宽广的吸收带与优异的可见光透过率，故优选。

例如在使用包含含有化合物(A)的透明树脂制基板的基材、或在含有化合物(A)的透明树脂制基板上层叠包含硬化性树脂等的外涂层等树脂层而成的基材作为所述基材的情况下，相对于透明树脂100重量份，化合物(A)整体的含量优选为0.04重量份～2.0重量份，更优选为0.06重量份～1.5重量份，进而优选为0.08重量份～1.0重量份，在使用在玻璃支撑体或成为衬底的树脂制支撑体等支撑体上层叠含有化合物(A)的包含硬化性树脂等的外涂层等透明树脂层而成的基材作为所述基材的情况下，相对于形成包含化合物(A)的透明树脂层的树脂100重量份，化合物(A)整体的含量优选为0.4重量份～5.0重量份，更优选为0.6重量份～4.0重量份，进而优选为0.8重量份～3.5重量份。

＜必要条件(b)＞

所述波长X₁与X₂的差(X₂-X₁)优选为53nm以上，更优选为55nm以上，进而优选为58nm以上。上限并无特别限定，根据化合物(A)或其他近红外线吸收剂的特性，若值过大，则存在可见透过率降低的情况，因此优选为例如100nm以下。若所述差(X₂-X₁)处于所述之类的范围，则在靠近可见区域的近红外波长区域中具有充分强度(宽度)的吸收带，例如在入射角度45度等之类的入射角度大的条件下也可抑制颜色阴影，故优选。

处于X₁与X₂的中间的波长的值(X₁+X₂)/2可称为靠近可见区域的近红外波长区域中的吸收带的中心波长，优选为670nm以上且740nm以下，更优选为680nm以上且730nm以下，进而优选为690nm以上且720nm以下。若(X₁+X₂)/2所表示的波长的值处于所述范围，则可更有效地截止可见区域的长波长端附近的波长区域的光，故优选。

所述X₁优选为波长650nm以上且720nm以下，更优选为波长655nm以上且710nm以下，进而优选为波长660nm以上且700nm以下。若X₁处于此种范围，则有获得噪声少且色彩再现性优异的照相机图像的倾向，故优选。

＜必要条件(c)＞

所述透过率(c1)、(c2)及(c3)均优选为60％以下，更优选为55％以下，进而优选为50％以下。下限并无特别限定，根据近红外线吸收剂的特性，若近红外波长区域的透过率的值过低，则存在可见透过率降低或基材的厚度变得极厚的情况，因此优选为例如5％以上。若所述透过率(c1)、(c2)及(c3)处于所述范围，则可获得实用方面充分的水平的重影抑制效果，故优选。

所述基材若具有包含化合物(A)的层，则可为单层也可为多层。另外，为了满足必要条件(c)，所述基材优选为含有近红外线吸收剂，所述近红外线吸收剂与化合物(A)可包含于相同的层中也可包含于不同的层中。

在包含化合物(A)的层与包含近红外线吸收剂的层相同的情况下，例如可列举：包含含有化合物(A)及近红外线吸收剂的透明树脂制基板的基材、在包含化合物(A)及近红外线吸收剂的透明树脂制基板上层叠包含硬化性树脂等的外涂层等树脂层而成的基材、在玻璃支撑体或成为衬底的树脂制支撑体等支撑体上层叠含有化合物(A)及近红外线吸收剂的包含硬化性树脂等的外涂层等透明树脂层而成的基材。

在包含化合物(A)的层与包含近红外线吸收剂的层不同的情况下，例如可列举：在包含近红外线吸收剂的透明树脂制基板上层叠含有化合物(A)的包含硬化性树脂等的外涂层等树脂层而成的基材、在包含化合物(A)的透明树脂制基板上层叠含有近红外线吸收剂的包含硬化性树脂等的外涂层等树脂层而成的基材、在玻璃支撑体或成为衬底的树脂制支撑体等支撑体上层叠含有化合物(A)的包含硬化性树脂等的外涂层与含有近红外线吸收剂的包含硬化性树脂等的外涂层而成的基材、在包含近红外线吸收剂的玻璃基板上层叠含有化合物(A)的包含硬化性树脂等的外涂层等树脂层而成的基材等。

作为近红外线吸收剂，若在900nm～1200nm的波长区域具有宽广的吸收，则并无特别限定，例如可列举：近红外线吸收色素、近红外线吸收微粒子、导电性金属氧化物、及磷酸系玻璃中的过渡金属成分等。

＜必要条件(f)＞

所述T₁优选为3％以下，更优选为2％以下，进而优选为1％以下。若T₁处于所述范围，则可称为吸收带的透过率截止充分，在照相机图像中可抑制光源周边的光斑，故优选。

＜必要条件(g)＞

本发明的基材优选为包含近红外线吸收剂，若所述近红外线吸收剂为所述化合物(S)，则有可以高水平兼顾近红外线波长区域的吸收强度与可见透过率的倾向，故优选。

《化合物(S)》

化合物(S)若在波长1050nm以上且1200nm以下的区域具有最大吸收，则并无特别限制，优选为溶剂可溶型的色素化合物，更优选为选自由二亚铵系化合物、金属二硫醇盐络合物系化合物、吡咯并吡咯系化合物、花青系化合物、克酮鎓系化合物及萘酞菁系化合物所组成的群组中的至少一种化合物，进而优选为选自由二亚铵系化合物及金属二硫醇盐络合物系化合物所组成的群组中的至少一种化合物，特别优选为选自由下述式(I)所表示的二亚铵系化合物及下述式(II)所表示的金属二硫醇盐络合物系化合物所组成的群组中的至少一种。通过使用此种化合物(S)，可达成良好的近红外线吸收特性与优异的可见光透过率。

[化3]

[化4]

式(I)及式(II)中，

(L^a)碳数1～12的脂肪族烃基

(L^b)碳数1～12的卤素取代烷基

(L^c)碳数3～14的脂环式烃基

(L^d)碳数6～14的芳香族烃基

(L^e)碳数2～14的杂环基

(L^f)碳数1～12的烷氧基

(L^g)可具有取代基L的碳数1～12的酰基

(L^h)可具有取代基L的碳数1～12的烷氧基羰基

相邻的R³彼此也可形成可具有取代基L的环，

n表示0～4的整数，

X表示中和电荷所需的阴离子，

M表示金属原子，

Z表示D(Rⁱ)₄，D表示氮原子、磷原子或铋原子，

y表示0或1。

作为所述R¹，优选为氢原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基、环己基、金刚烷基、三氟甲基、五氟乙基、3-吡啶基、环氧基、苯基、苄基、芴基，更优选为异丙基、仲丁基、叔丁基、苄基。

作为所述R²，优选为氯原子、氟原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基、环己基、苯基、羟基、氨基、二甲基氨基、氰基、硝基、甲氧基、乙氧基、正丙氧基、正丁氧基、乙酰基氨基、丙酰基氨基、N-甲基乙酰基氨基、三氟甲酰基氨基、五氟乙酰基氨基、叔丁酰基氨基、环己酰基氨基、正丁基磺酰基、甲硫基、乙硫基、正丙硫基、正丁硫基，更优选为氯原子、氟原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基、叔丁基、羟基、二甲基氨基、甲氧基、乙氧基、乙酰基氨基、丙酰基氨基、三氟甲酰基氨基、五氟乙酰基氨基、叔丁酰基氨基、环己酰基氨基，特别优选为甲基、乙基、正丙基、异丙基。键结于相同的芳香环的R²的个数(n的值)若为0～4，则并无特别限制，优选为0或1。

所述X为中和电荷所需的阴离子，在阴离子为二价的情况下，需要一分子，在阴离子为一价的情况下，需要两分子。在后者的情况下，两个阴离子可相同也可不同，但就合成上的观点而言，优选为相同。X若为此种阴离子，则并无特别限制，作为一例，可列举下述表1中记载者。

[表1]

表1

作为X，就二亚铵系化合物的耐热性、耐光性及分光特性的观点而言，特别优选为所述表1中的(X-10)、(X-16)、(X-17)、(X-21)、(X-22)、(X-24)、(X-28)。

作为所述式(I)所表示的二亚铵系化合物，例如可列举下述表2-1～表2-4中记载者。

[表2-1]

表2-1

[表2-2]

表2-2

[表2-3]

表2-3

[表2-4]

表2-4

作为所述R³，优选为甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基、环己基、正戊基、正己基、正庚基、正辛基、正壬基、正癸基、苯基、甲硫基、乙硫基、正丙硫基、正丁硫基、苯硫基、苄硫基，在相邻的R³彼此形成环的情况下，优选为在环中包含至少一个以上的硫原子或氮原子的杂环。

作为所述M，优选为过渡金属，更优选为Ni、Pd、Pt。

所述D优选为氮原子、磷原子，所述Rⁱ优选为乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、正己基、正庚基、苯基。

化合物(S)的最大吸收波长优选为1060nm以上且1190nm以下，更优选为1070nm以上且1180nm以下，进而优选为1080nm以上且1170nm以下。若化合物(S)的最大吸收波长处于此种范围，则可高效地截止不需要的近红外线，可获得优异的重影抑制效果。

化合物(S)只要利用一般为人所知的方法来合成即可，例如可参照日本专利第4168031号公报、日本专利第4252961号公报、日本专利特表2010-516823号公报、日本专利特开昭63-165392号公报等中所记载的方法等来合成。

例如在使用包含含有化合物(A)及化合物(S)的透明树脂制基板的基材、或在含有化合物(S)的透明树脂制基板上层叠含有化合物(A)的包含硬化性树脂等的外涂层等树脂层而成的基材作为所述基材的情况下，相对于透明树脂100重量份，化合物(S)的含量优选为0.01重量份～2.0重量份，更优选为0.02重量份～1.5重量份，特别优选为0.03重量份～1.0重量份，在使用在玻璃支撑体或成为衬底的树脂制支撑体等支撑体上层叠含有化合物(A)及化合物(S)的包含硬化性树脂等的外涂层等透明树脂层而成的基材、或在含有化合物(A)的透明树脂制基板上层叠含有化合物(S)的包含硬化性树脂等的外涂层等树脂层而成的基材作为所述基材的情况下，相对于形成包含化合物(A)的透明树脂层的树脂100重量份，化合物(S)的含量优选为0.1重量份～5.0重量份，更优选为0.2重量份～4.0重量份，特别优选为0.3重量份～3.0重量份。若化合物(S)的含量处于所述范围内，则可获得兼顾良好的近红外线吸收特性与高可见光透过率的光学滤波器。

＜必要条件(h)＞

所述Xc优选为630nm～655nm，更优选为632nm～652nm，进而优选为634nm～650nm。若Xc未满628nm，则有相当于红色的波长区域的透过率变低、色彩再现性降低的倾向，若超过658nm，则有无法确保充分强度的吸收强度、在照相机图像产生颜色阴影的倾向。

在所述基材满足所述必要条件(h)的情况下，即便在基材上制造介电体多层膜时也可减少可见波长～近红外波长区域附近的光学特性的入射角依存性，可以高水平兼顾红色的再现性与颜色阴影抑制效果，故优选。再者，Xc是表示自短波长侧向长波长侧评价分光透过率时满足规定条件的波长者。

＜其他特性及物性＞

波长430nm～580nm的区域中的基材的平均透过率优选为75％以上，进而优选为78％以上，特别优选为80％以上。若使用具有此种透过特性的基材，则可在可见区域中达成高光线透过特性，并可达成高灵敏度的照相机功能。

基材的厚度可根据所期望的用途而适宜选择，并无特别限制，优选为10μm～200μm，更优选为20μm～180μm，进而优选为25μm～150μm。若基材的厚度处于所述范围，则可将使用所述基材的光学滤波器加以薄型化及轻量化，可优选地用于固体摄像装置等各种用途。特别是在将包含所述透明树脂制基板的基材用于照相机模块等的透镜单元的情况下，可实现透镜单元的低背化、轻量化，故优选。

＜透明树脂＞

作为用于构成所述基材的透明树脂层、透明树脂制基板及树脂制支撑体的透明树脂，只要是无损本发明的效果者，则并无特别限制，例如，为了确保热稳定性及对于膜的成形性、且制成可通过以100℃以上的蒸镀温度进行的高温蒸镀来形成介电体多层膜的膜，可列举玻璃化温度(Tg)优选为110℃～380℃、更优选为110℃～370℃、进而优选为120℃～360℃的树脂。另外，若所述树脂的玻璃化温度为140℃以上，则可获得可以更高的温度蒸镀形成介电体多层膜的膜，因此特别优选。

作为透明树脂，在形成包含所述树脂的厚度为0.1mm的树脂板的情况下，可使用所述树脂板的总光线透过率(日本工业标准(Japanese Industrial Standards，JIS)K7105)优选为变成75％～95％、更优选为变成78％～95％、进而优选为变成80％～95％的树脂。若使用总光线透过率成为此种范围的树脂，则所获得的基板作为光学膜而显示出良好的透明性。

透明树脂的利用凝胶渗透色谱(gel permeation chromatography，GPC)法所测定的聚苯乙烯换算的重量平均分子量(Mw)通常为15,000～350,000，优选为30,000～250,000，数量平均分子量(Mn)通常为10,000～150,000，优选为20,000～100,000。

作为透明树脂，例如可列举：环状聚烯烃系树脂、芳香族聚醚系树脂、聚酰亚胺系树脂、芴聚碳酸酯系树脂、芴聚酯系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺(芳族聚酰胺)系树脂、聚芳酯系树脂、聚砜系树脂、聚醚砜系树脂、聚对苯系树脂、聚酰胺酰亚胺系树脂、聚萘二甲酸乙二酯(polyethylene naphthalate，PEN)系树脂、氟化芳香族聚合物系树脂、(改性)丙烯酸系树脂、环氧系树脂、烯丙酯系硬化型树脂、倍半硅氧烷系紫外线硬化型树脂、丙烯酸系紫外线硬化型树脂及乙烯基系紫外线硬化型树脂。

透明树脂可单独使用一种，也可将两种以上组合而使用。

《环状聚烯烃系树脂》

作为环状聚烯烃系树脂，优选为由选自由下述式(X₀)所表示的单量体及下述式(Y₀)所表示的单量体所组成的群组中的至少一种单量体所获得的树脂、及通过将所述树脂加以氢化所获得的树脂。

[化5]

式(X₀)中，R^x1～R^x4分别独立地表示选自下述(i')～(ix')中的原子或基，k^x、m^x及p^x分别独立地表示0或正的整数。

(i')氢原子

(ii')卤素原子

(iii')三烷基硅烷基

(iv')具有包含氧原子、硫原子、氮原子或硅原子的连结基的经取代或未经取代的碳数1～30的烃基

(v')经取代或未经取代的碳数1～30的烃基

(vi')极性基(其中，(iv')除外)

(vii')R^x1与R^x2或R^x3与R^x4相互键结而形成的亚烷基(其中，不参与所述键结的R^x1～R^x4分别独立地表示选自所述(i')～(vi')中的原子或基)

(viii')R^x1与R^x2或R^x3与R^x4相互键结而形成的单环或多环的烃环或杂环(其中，不参与所述键结的R^x1～R^x4分别独立地表示选自所述(i')～(vi')中的原子或基)

(ix')R^x2与R^x3相互键结而形成的单环的烃环或杂环(其中，不参与所述键结的R^x1与R^x4分别独立地表示选自所述(i')～(vi')中的原子或基)

[化6]

式(Y₀)中，R^y1及R^y2分别独立地表示选自所述(i')～(vi')中的原子或基，或者表示R^y1与R^y2相互键结而形成的单环或多环的脂环式烃、芳香族烃或杂环，k^y及p^y分别独立地表示0或正的整数。

《芳香族聚醚系树脂》

芳香族聚醚系树脂优选为具有选自由下述式(1)所表示的结构单元及下述式(2)所表示的结构单元所组成的群组中的至少一种结构单元。

[化7]

式(1)中，R¹～R⁴分别独立地表示碳数1～12的一价有机基，a～d分别独立地表示0～4的整数。

[化8]

式(2)中，R¹～R⁴及a～d分别独立地与所述式(1)中的R¹～R⁴及a～d为相同含义，Y表示单键、-SO₂-或＞C＝O，R⁷及R⁸分别独立地表示卤素原子、碳数1～12的一价有机基或硝基，g及h分别独立地表示0～4的整数，m表示0或1。其中，当m为0时，R⁷不为氰基。

另外，所述芳香族聚醚系树脂优选为进而具有选自由下述式(3)所表示的结构单元及下述式(4)所表示的结构单元所组成的群组中的至少一种结构单元。

[化9]

式(3)中，R⁵及R⁶分别独立地表示碳数1～12的一价有机基，Z表示单键、-O-、-S-、-SO₂-、＞C＝O、-CONH-、-COO-或碳数1～12的二价有机基，e及f分别独立地表示0～4的整数，n表示0或1。

[化10]

式(4)中，R⁷、R⁸、Y、m、g及h分别独立地与所述式(2)中的R⁷、R⁸、Y、m、g及h为相同含义，R⁵、R⁶、Z、n、e及f分别独立地与所述式(3)中的R⁵、R⁶、Z、n、e及f为相同含义。

《聚酰亚胺系树脂》

作为聚酰亚胺系树脂，并无特别限制，只要是在重复单元中包含酰亚胺键的高分子化合物即可，例如可利用日本专利特开2006-199945号公报或日本专利特开2008-163107号公报中所记载的方法来合成。

《芴聚碳酸酯系树脂》

作为芴聚碳酸酯系树脂，并无特别限制，只要是包含芴部位的聚碳酸酯树脂即可，例如可利用日本专利特开2008-163194号公报中所记载的方法来合成。

《芴聚酯系树脂》

作为芴聚酯系树脂，并无特别限制，只要是包含芴部位的聚酯树脂即可，例如可利用日本专利特开2010-285505号公报或日本专利特开2011-197450号公报中所记载的方法来合成。

《氟化芳香族聚合物系树脂》

作为氟化芳香族聚合物系树脂，并无特别限制，但优选为含有具有至少一个氟原子的芳香族环与包含选自由醚键、酮键、砜键、酰胺键、酰亚胺键及酯键所组成的群组中的至少一个键的重复单元的聚合物，例如可利用日本专利特开2008-181121号公报中所记载的方法来合成。

《丙烯酸系紫外线硬化型树脂》

作为丙烯酸系紫外线硬化型树脂，并无特别限制，可列举由含有分子内具有一个以上的丙烯酸基或甲基丙烯酸基的化合物、及通过紫外线而分解并产生活性自由基的化合物的树脂组合物所合成者。在使用在玻璃支撑体上或成为衬底的树脂制支撑体上层叠包含化合物(A)及硬化性树脂的透明树脂层而成的基材、或在含有化合物(A)的透明树脂制基板上层叠包含硬化性树脂等的外涂层等树脂层而成的基材作为所述基材的情况下，丙烯酸系紫外线硬化型树脂可特别优选地用作所述硬化性树脂。

《环氧系树脂》

作为环氧系树脂，并无特别限制，可大致划分为紫外线硬化型与热硬化型。作为紫外线硬化型环氧系树脂，例如可列举由含有分子内具有一个以上的环氧基的化合物、与通过紫外线而产生酸的化合物(以下也称为“光酸产生剂”)的组合物所合成者，作为热硬化型环氧系树脂，例如可列举由含有分子内具有一个以上的环氧基的化合物、与酸酐的组合物所合成者。在使用在玻璃支撑体上或成为衬底的树脂制支撑体上层叠包含化合物(A)的透明树脂层而成的基材、或在含有化合物(A)的透明树脂制基板上层叠包含硬化性树脂等的外涂层等树脂层而成的基材作为所述基材的情况下，环氧系紫外线硬化型树脂可特别优选地用作所述硬化性树脂。

《市售品》

作为透明树脂的市售品，可列举以下的市售品等。作为环状聚烯烃系树脂的市售品，可列举：JSR(股)制造的阿通(Arton)、日本瑞翁(Zeon)(股)制造的瑞翁诺阿(Zeonor)、三井化学(股)制造的阿派尔(APEL)、宝理塑料(Polyplastics)(股)制造的托帕斯(TOPAS)等。作为聚醚砜系树脂的市售品，可列举住友化学(股)制造的斯密卡爱克塞尔(Sumikaexcel)PES等。作为聚酰亚胺系树脂的市售品，可列举三菱瓦斯化学(股)制造的尼欧普利姆(Neopulim)L等。作为聚碳酸酯系树脂的市售品，可列举帝人(股)制造的普艾斯(PURE-ACE)等。作为芴聚碳酸酯系树脂的市售品，可列举三菱瓦斯化学(股)制造的优比泽塔(Iupizeta)EP-5000等。作为芴聚酯系树脂的市售品，可列举大阪燃气化学(Osaka GasChemicals)(股)制造的OKP4HT等。作为丙烯酸系树脂的市售品，可列举日本催化剂(股)制造的阿库利维阿(Acryviewa)等。作为倍半硅氧烷系紫外线硬化型树脂的市售品，可列举新日铁化学(股)制造的希鲁普拉斯(Silplus)等。

＜其他色素(X)＞

所述基材中可进而包含不与化合物(A)及化合物(S)相当的其他色素(X)。

作为其他色素(X)，若为最大吸收波长处于未满波长650nm或超过波长760nm且未满1050nm的区域的色素，则并无特别限制，但优选为最大吸收波长处于超过760nm且未满1050nm的区域的色素。作为此种色素，例如可列举选自由方酸内鎓盐系化合物、酞菁系化合物、花青系化合物、萘酞菁系化合物、克酮鎓系化合物、八元卟啉系化合物、二亚铵系化合物、吡咯并吡咯系化合物、硼二吡咯亚甲基(borondipyrromethene，BODIPY)系化合物、苝系化合物及金属二硫醇盐系化合物所组成的群组中的至少一种化合物。

例如在使用包含含有其他色素(X)的透明树脂制基板的基材作为所述基材的情况下，相对于透明树脂100重量份，其他色素(X)的含量优选为0.005重量份～1.0重量份，更优选为0.01重量份～0.9重量份，特别优选为0.02重量份～0.8重量份，在使用在玻璃支撑体或成为衬底的树脂制支撑体等支撑体上层叠含有其他色素(X)的包含硬化性树脂等的外涂层等透明树脂层而成的基材、或在含有化合物(A)的透明树脂制基板上层叠含有其他色素(X)的包含硬化性树脂等的外涂层等树脂层而成的基材作为所述基材的情况下，相对于形成包含其他色素(X)的透明树脂层的树脂100重量份，其他色素(X)的含量优选为0.05重量份～4.0重量份，更优选为0.1重量份～3.0重量份，特别优选为0.2重量份～2.0重量份。

＜其他成分＞

在无损本发明的效果的范围内，所述基材可进而含有抗氧化剂、近紫外线吸收剂及荧光消光剂等作为其他成分。这些其他成分可单独使用一种，也可并用两种以上。

作为所述近紫外线吸收剂，例如可列举：甲亚胺系化合物、吲哚系化合物、苯并三唑系化合物、三嗪系化合物等。

作为所述抗氧化剂，例如可列举：2,6-二-叔丁基-4-甲基苯酚、2,2'-二氧基-3,3'-二-叔丁基-5,5'-二甲基二苯基甲烷、四[亚甲基-3-(3,5-二-叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯]甲烷、及三(2,4-二-叔丁基苯基)亚磷酸酯等。

再者，这些其他成分可在制造基材时与树脂等一起混合，也可在合成树脂时添加。另外，添加量根据所期望的特性而适宜选择，相对于树脂100重量份，通常为0.01重量份～5.0重量份，优选为0.05重量份～2.0重量份。

＜基材的制造方法＞

在所述基材为包含含有化合物(A)的透明树脂制基板的基材的情况下，所述透明树脂制基板例如可通过熔融成形或浇铸成形而形成，进而，视需要可通过在成形后涂布抗反射剂、硬涂剂和/或抗静电剂等涂布剂而制造层叠有外涂层的基材。

在所述基材为在玻璃支撑体或成为衬底的树脂制支撑体等支撑体上或不含有化合物(A)的透明树脂制基板上层叠含有化合物(A)的包含硬化性树脂等的外涂层等透明树脂层而成的基材的情况下，例如在所述支撑体或所述透明树脂制基板上对包含化合物(A)的树脂溶液进行熔融成形或浇铸成形，优选为利用旋涂、狭缝涂布、喷墨等方法进行涂敷后将溶剂干燥去除，视需要进而进行光照射或加热，由此可制造在所述支撑体或所述透明树脂制基板上形成有包含化合物(A)的透明树脂层的基材。

《熔融成形》

作为所述熔融成形，具体可列举：对将树脂与化合物(A)及视需要的其他成分熔融混练而得的颗粒进行熔融成形的方法；对含有树脂与化合物(A)及视需要的其他成分的树脂组合物进行熔融成形的方法；或者对自包含化合物(A)、树脂、溶剂及视需要的其他成分的树脂组合物中去除溶剂而得的颗粒进行熔融成形的方法等。作为熔融成形方法，可列举射出成形、熔融挤出成形或吹塑成形等。

《浇铸成形》

作为所述浇铸成形，还可利用以下方法而制造：将包含化合物(A)、树脂、溶剂及视需要的其他成分的树脂组合物浇铸在适当的支撑体上而去除溶剂的方法；或者将包含化合物(A)、与光硬化性树脂和/或热硬化性树脂、及视需要的其他成分的硬化性组合物浇铸在适当的支撑体上而去除溶剂后，利用紫外线照射或加热等适当的方法进行硬化的方法等。

在所述基材为包含含有化合物(A)的透明树脂制基板的基材的情况下，所述基材可通过在浇铸成形后自支撑体剥离涂膜而获得，另外，在所述基材为在玻璃支撑体或成为衬底的树脂制支撑体等支撑体上或者不含有化合物(A)的透明树脂制基板上层叠含有化合物(A)的包含硬化性树脂等的外涂层等透明树脂层而成的基材的情况下，所述基材可通过在浇铸成形后不剥离涂膜而获得。

作为所述支撑体，例如可列举：近红外吸收玻璃板(例如，松浪硝子工业公司制造的“BS-11”或AGC科技玻璃(AGC Technoglass)公司制造的“NF-50T”等之类的含有铜成分的磷酸盐系玻璃板)、透明玻璃板(例如，日本电气硝子公司制造的“OA-10G”或旭硝子公司制造的“AN100”等之类的无碱玻璃板)、钢带、钢桶及透明树脂(例如，聚酯膜、环状烯烃系树脂膜)制支撑体。

进而，还可利用如下方法等而在光学零件上形成透明树脂层：将所述树脂组合物涂布于玻璃板、石英或透明塑料制等的光学零件上而使溶剂进行干燥的方法，或涂布所述硬化性组合物而进行硬化及干燥的方法。

利用所述方法而获得的透明树脂层(透明树脂制基板)中的残留溶剂量优选为尽可能少。具体而言，相对于透明树脂层(透明树脂制基板)的重量，所述残留溶剂量优选为3重量％以下，更优选为1重量％以下，进而优选为0.5重量％以下。若残留溶剂量处于所述范围，则可获得难以变形或特性难以变化、且可容易地发挥所期望的功能的透明树脂层(透明树脂制基板)。

[光学滤波器]

本发明的光学滤波器的特征在于：具有满足所述必要条件(a)、(b)及(c)的基材、且满足下述必要条件(d)及(e)：

(d)在波长430nm～580nm的区域中，自光学滤波器的垂直方向测定时的透过率的平均值(d1)为75％以上；

(e)在波长1100nm～1200nm的区域中，自光学滤波器的垂直方向测定时的透过率的平均值(e1)为5％以下。

本发明的光学滤波器满足所述必要条件(d)及(e)，故为可见波长区域的透过率特性及近红外线截止特性优异、入射角依存性少、颜色阴影抑制效果及重影抑制效果优异的光学滤波器。

＜必要条件(d)＞

必要条件(d)中的所述透过率的平均值(d1)优选为78％以上，更优选为80％以上，进而优选为82％以上。若所述透过率的平均值(d1)处于所述范围，则在将本发明的光学滤波器用于固体摄像元件用途的情况下，可达成优异的摄像灵敏度。

＜必要条件(e)＞

必要条件(e)中的所述透过率的平均值(e1)优选为4％以下，更优选为3％以下，进而优选为2％以下。若所述透过率的平均值(e1)处于所述范围，则在照相机图像的中心附近可达成良好的黑色再现性。

＜其他特性及物性＞

本发明的光学滤波器具有所述基材，因此在具有介电体多层膜的形态中也可减少光学特性的入射角依存。具体而言，在波长600nm～800nm的范围中，自光学滤波器的垂直方向测定时的透过率成为50％的最短波长的值(Xa)、与自相对于光学滤波器的垂直方向为30°的角度测定时的透过率成为50％的波长的值(Xb)的差的绝对值|Xa-Xb|优选为未满20nm，更优选为未满15nm，进而优选为未满10nm。

本发明的光学滤波器的厚度若考虑近年来的固体摄像装置的薄型化、轻量化等的趋势，则优选为薄。本发明的光学滤波器因包含所述基材，故可实现薄型化。

本发明的光学滤波器的厚度优选为210μm以下，更优选为190μm以下，进而优选为160μm以下，特别优选为130μm以下，下限并无特别限制，但优选为20μm以上。

[介电体多层膜]

本发明的光学滤波器优选为在所述基材的至少一面具有介电体多层膜。所谓本发明的介电体多层膜，是具有反射近红外线的能力的膜或具有可见区域中的抗反射效果的膜，通过具有介电体多层膜，可达成更优异的可见光透过率与近红外线截止特性。

在本发明中，介电体多层膜可设置于所述基材的单面，也可设置于两面。在设置于单面的情况下，制造成本或制造容易性优异，在设置于两面的情况下，可获得具有高强度、且不易产生翘曲或扭曲的光学滤波器。在将光学滤波器应用于固体摄像元件用途的情况下，优选为光学滤波器的翘曲或扭曲小，故优选为将介电体多层膜设置于树脂制基板的两面。

所述介电体多层膜理想的是遍及优选为波长700nm～1100nm、更优选为波长700nm～1150nm、进而优选为700nm～1200nm的整个范围具有反射特性。

作为在基材的两面上具有介电体多层膜的形态，可列举：在自相对于光学滤波器的垂直方向为5°的角度进行测定的情况下，在基材的单面上具有主要在波长700nm～950nm附近具有反射特性的第一光学层，在基材的另一面上具有主要在900nm～1150nm附近具有反射特性的第二光学层的形态(参照图1A)，或在自相对于光学滤波器的垂直方向为5°的角度进行测定的情况下，在基材的单面上具有主要在波长700nm～1150nm附近具有反射特性的第三光学层，在基材的另一面上具有具备可见区域的抗反射特性的第四光学层的形态(参照图1B)等。

作为介电体多层膜，可列举使高折射率材料层与低折射率材料层交替地层叠而成者。作为构成高折射率材料层的材料，可使用折射率为1.7以上的材料，选择折射率通常为1.7～2.5的材料。作为此种材料，例如可列举：将氧化钛、氧化锆、五氧化钽、五氧化铌、氧化镧、氧化钇、氧化锌、硫化锌或氧化铟等作为主成分，并含有少量(例如，相对于主成分而为0重量％～10重量％)的氧化钛、氧化锡和/或氧化铈等者。

作为构成低折射率材料层的材料，可使用折射率为1.6以下的材料，选择折射率通常为1.2～1.6的材料。作为此种材料，例如可列举：二氧化硅、氧化铝、氟化镧、氟化镁及六氟化铝钠。

关于将高折射率材料层与低折射率材料层层叠的方法，只要形成将这些材料层层叠的介电体多层膜，则并无特别限制。例如可在基材上利用化学气相沉积(chemical vapordeposition，CVD)法、溅镀法、真空蒸镀法、离子辅助蒸镀法或离子镀敷法等，直接形成将高折射率材料层与低折射率材料层交替地层叠的介电体多层膜。

通常，若将想要阻断的近红外线波长设为λ(nm)，则高折射率材料层及低折射率材料层的各层的厚度优选为0.1λ～0.5λ的厚度。作为λ(nm)的值，例如为700nm～1400nm，优选为750nm～1300nm。若厚度为所述范围，则折射率(n)与膜厚(d)的积(n×d)成为与利用λ/4所算出的光学膜厚、以及高折射率材料层及低折射率材料层的各层的厚度大致相同的值，根据反射与折射的光学特性的关系，有可容易地控制特定波长的阻断与透过的倾向。

关于介电体多层膜中的高折射率材料层与低折射率材料层的合计的层叠数，以光学滤波器整体计优选为16层～70层，更优选为20层～60层。若各层的厚度、以光学滤波器整体计的介电体多层膜的厚度或合计的层叠数处于所述范围，则可确保充分的制造余裕(margin)，而且可减少光学滤波器的翘曲或介电体多层膜的龟裂。

在本发明中，结合化合物(A)或化合物(S)等近红外线吸收剂的吸收特性来适当地选择构成高折射率材料层及低折射率材料层的材料种类、高折射率材料层及低折射率材料层的各层的厚度、层叠的顺序、层叠数，由此在可见区域中确保充分的透过率，而且在近红外波长区域中具有充分的光线截止特性，且可降低近红外线自倾斜方向入射时的反射率。

此处，为了使所述条件最优化，例如只要使用光学薄膜设计软件(例如，核心麦克劳德(Essential Macleod)，薄膜中心(Thin Film Center)公司制造)，以可兼顾可见区域的抗反射效果与近红外区域的光线截止效果的方式设定参数即可。在所述软件的情况下，例如可列举：在第一光学层的设计时，将波长400nm～700nm的目标透过率设为100％，并将目标公差(Target Tolerance)的值设为1后，将波长705nm～950nm的目标透过率设为0％，将目标公差的值设为0.5等的参数设定方法。这些参数也可结合基材(i)的各种特性等而更细地划分波长范围来改变目标公差的值。

[其他功能膜]

本发明的光学滤波器在无损本发明的效果的范围内，在基材与介电体多层膜之间、与基材的设置有介电体多层膜的面为相反侧的面、或与介电体多层膜的设置有基材的面为相反侧的面，为了提高基材或介电体多层膜的表面硬度、提高耐化学品性、抗静电及消除损伤等，可适宜设置抗反射膜、硬涂膜或抗静电膜等功能膜。

本发明的光学滤波器可含有一层包含所述功能膜的层，也可含有两层以上。在本发明的光学滤波器含有两层以上的包含所述功能膜的层的情况下，可含有两层以上的相同的层，也可含有两层以上的不同的层。

作为层叠功能膜的方法，并无特别限制，可列举：与所述同样地在基材或介电体多层膜上对抗反射剂、硬涂剂和/或抗静电剂等涂布剂等进行熔融成形或浇铸成形的方法等。

另外，还可通过利用棒涂机等将包含所述涂布剂等的硬化性组合物涂布于基材或介电体多层膜上后，利用紫外线照射等进行硬化来制造。

作为所述涂布剂，可列举紫外线(Ultraviolet，UV)/电子束(electron beam，EB)硬化型树脂或热硬化型树脂等，具体可列举：乙烯基化合物类或氨基甲酸酯系、丙烯酸氨基甲酸酯系、丙烯酸酯系、环氧系及环氧丙烯酸酯系树脂等。作为包含这些涂布剂的所述硬化性组合物，可列举：乙烯基系、氨基甲酸酯系、丙烯酸氨基甲酸酯系、丙烯酸酯系、环氧系及环氧丙烯酸酯系硬化性组合物等。

另外，所述硬化性组合物也可包含聚合引发剂。作为所述聚合引发剂，可使用公知的光聚合引发剂或热聚合引发剂，也可并用光聚合引发剂与热聚合引发剂。聚合引发剂可单独使用一种，也可并用两种以上。

所述硬化性组合物中，在将硬化性组合物的总量设为100重量％的情况下，聚合引发剂的调配比例优选为0.1重量％～10重量％，更优选为0.5重量％～10重量％，进而优选为1重量％～5重量％。若聚合引发剂的调配比例处于所述范围，则可获得硬化性组合物的硬化特性及操作性优异并具有所期望的硬度的抗反射膜、硬涂膜或抗静电膜等功能膜。

进而，也可向所述硬化性组合物中加入作为溶剂的有机溶剂，作为有机溶剂，可使用公知者。作为有机溶剂的具体例，可列举：甲醇、乙醇、异丙醇、丁醇、辛醇等醇类；丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮等酮类；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯、γ-丁内酯、丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单乙醚乙酸酯等酯类；乙二醇单甲醚、二乙二醇单丁醚等醚类；苯、甲苯、二甲苯等芳香族烃类；二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮等酰胺类。

这些溶剂可单独使用一种，也可并用两种以上。

所述功能膜的厚度优选为0.1μm～20μm，进而优选为0.5μm～10μm，特别优选为0.7μm～5μm。

另外，为了提高基材与功能膜和/或介电体多层膜的密接性、或功能膜与介电体多层膜的密接性，也可对基材、功能膜或介电体多层膜的表面进行电晕处理或等离子体处理等表面处理。

[光学滤波器的用途]

本发明的光学滤波器的视角广，且具有优异的近红外线截止性能等。因此，作为照相机模块的CCD或CMOS图像传感器等固体摄像元件的能见度修正用途有用。特别是在数字静态照相机、智能手机用照相机、移动电话用照相机、数字摄像机、可穿戴设备用照相机、个人计算机(personal computer，PC)照相机、监视照相机、汽车用照相机、电视机、汽车导航、便携式信息终端、视频游戏机、便携式游戏机、指纹认证系统、数字音乐播放器等中有用。进而，作为安装于汽车或建筑物等的玻璃板等上的红外线截止滤波器等也有用。

[固体摄像装置]

本发明的固体摄像装置具备本发明的光学滤波器。此处，所谓固体摄像装置，是包括CCD或CMOS图像传感器等固体摄像元件的图像传感器，具体可用于数字静态照相机、智能手机用照相机、移动电话用照相机、可穿戴设备用照相机、数字摄像机等用途。例如，本发明的照相机模块具备本发明的光学滤波器。

实施例

以下，基于实施例来对本发明进行更具体的说明，但本发明不受这些实施例任何限定。再者，“份”只要无特别说明，则是指“重量份”。另外，各物性值的测定方法及物性的评价方法如以下那样。

＜分子量＞

树脂的分子量是考虑各树脂在溶剂中的溶解性等，利用下述(a)或(b)的方法进行测定。

(a)使用沃特斯(WATERS)公司制造的凝胶渗透色谱(GPC)装置(150C型，管柱：东曹(Tosoh)公司制造的H型管柱，展开溶剂：邻二氯苯)，测定标准聚苯乙烯换算的重量平均分子量(Mw)及数量平均分子量(Mn)。

(b)使用东曹公司制造的GPC装置(HLC-8220型，管柱：TSKgelα-M，展开溶剂：四氢呋喃(tetrahydrofuran，THF))，测定标准聚苯乙烯换算的重量平均分子量(Mw)及数量平均分子量(Mn)。

再者，关于后述的树脂合成例3中合成的树脂，不利用所述方法测定分子量，而利用下述方法(c)来进行对数粘度的测定。

(c)将聚酰亚胺树脂溶液的一部分投入至无水甲醇中来使聚酰亚胺树脂析出，进行过滤而自未反应单量体中分离。将在80℃下真空干燥12小时而获得的聚酰亚胺0.1g溶解于N-甲基-2-吡咯烷酮20mL中，使用坎农-芬斯克(Cannon-Fenske)粘度计，根据下述式来求出30℃下的对数粘度(μ)。

μ＝{ln(t_s/t₀)}/C

t₀：溶剂的流下时间

t_s：稀薄高分子溶液的流下时间

C：0.5g/dL

＜玻璃化温度(Tg)＞

使用精工电子纳米科技(SII Nanotechnologies)股份有限公司制造的示差扫描热量计(DSC6200)，在升温速度：每分钟20℃、氮气流下进行测定。

＜分光透过率＞

基材的各波长下的透过率、(T₁)、(X₁)、(X₂)及(Xc)、以及光学滤波器的各波长区域中的透过率、(Xa)及(Xb)是使用日立先端科技(Hitachi High-Technologies)股份有限公司制造的分光光度计(U-4100)来测定。

此处，若为自光学滤波器的垂直方向测定时的透过率，则如图2A测定相对于滤波器垂直地透过的光，若为自相对于光学滤波器的垂直方向为30°的角度测定时的透过率，则如图2B测定以相对于滤波器的垂直方向为30°的角度透过的光。

再者，除测定(Xb)的情况外，所述透过率是在光相对于基板及滤波器垂直地入射的条件下，使用所述分光光度计进行测定所得者。在测定(Xb)的情况下，所述透过率是在光以相对于滤波器的垂直方向为30°的角度入射的条件下，使用所述分光光度计进行测定所得者。

＜照相机图像的颜色阴影评价＞

将光学滤波器组入至照相机模块时的颜色阴影评价是利用下述方法进行。利用与日本专利特开2016-110067号公报相同的方法制成照相机模块，使用所制成的照相机模块在D65光源(爱色丽(X-Rite)公司制造的标准光源装置“麦克贝斯甲及(Macbeth Judge)II”)下对300mm×400mm尺寸的白色板进行拍摄，利用以下基准评价照相机图像中的白色板的中央部与端部的颜色的不同。

将完全无问题而可容许的水平判定为A，将确认到若干颜色的不同但作为高画质照相机模块在实用上无问题而可容许的水平判定为B，将有颜色的不同且作为高画质照相机模块用途而无法容许的水平判定为C，将有明显的颜色的不同，作为一般的照相机模块用途也无法容许的水平判定为D。

再者，如图11所示，在进行拍摄时以在照相机图像111中白色板112占据面积的90％以上的方式调节白色板112与照相机模块的位置关系。

＜照相机图像的重影评价＞

将光学滤波器组入至照相机模块时的重影评价是利用下述方法进行。利用与日本专利特开2016-110067号公报相同的方法制成照相机模块，使用所制成的照相机模块在暗室中卤素灯光源(林时计工业公司制造的“鲁米纳艾斯(Luminar Ace)LA-150TX”)下进行拍摄，利用以下基准评价照相机图像中的光源周边的重影产生情况。

将完全无问题而可容许的水平判定为A，将确认到若干重影但作为高画质照相机模块在实用上无问题而可容许的水平判定为B，将产生重影且作为高画质照相机模块用途而无法容许的水平判定为C，将重影的程度严重，作为一般的照相机模块用途也无法容许的水平判定为D。

再者，如图12所示，在进行拍摄时以光源122成为照相机图像121的右上端部的方式进行调节。

[合成例]

下述实施例中使用的化合物(A)及化合物(S)是利用一般为人所知的方法来合成。作为一般的合成方法，例如可列举日本专利特开昭60-228448号公报、日本专利特开平1-146846号公报、日本专利特开平1-228960号公报、日本专利第4081149号公报、《酞菁-化学与功能-》(IPC、1997年)、日本专利特开2009-108267号公报、日本专利特开2010-241873号公报、日本专利第3699464号公报、日本专利第4740631号公报等中所记载的方法。

＜树脂合成例1＞

将下述式(a)所表示的8-甲基-8-甲氧基羰基四环[4.4.0.1^2,5.1^7,10]十二-3-烯(以下也称为“DNM”)100g、1-己烯(分子量调节剂)18g及甲苯(开环聚合反应用溶剂)300g装入至经氮气置换的反应容器中，将所述溶液加热至80℃。继而，向反应容器内的溶液中添加作为聚合催化剂的三乙基铝的甲苯溶液(0.6mol/升)0.2g、与甲醇改性的六氯化钨的甲苯溶液(浓度0.025mol/升)0.9g，将所述溶液在80℃下加热搅拌3小时，由此进行开环聚合反应而获得开环聚合体溶液。所述聚合反应中的聚合转化率为97％。

[化11]

将如此而获得的开环聚合体溶液1,000g装入至高压釜中，向所述开环聚合体溶液中添加0.12g的RuHCl(CO)[P(C₆H₅)₃]₃，在氢气压为100kg/cm²、反应温度为165℃的条件下，加热搅拌3小时而进行氢化反应。将所获得的反应溶液(氢化聚合体溶液)冷却后，将氢气放压。将所述反应溶液注入至大量的甲醇中并分离回收凝固物，对其进行干燥，从而获得氢化聚合体(以下也称为“树脂A”)。所获得的树脂A的数量平均分子量(Mn)为32,000，重量平均分子量(Mw)为137,000，玻璃化温度(Tg)为165℃。

＜树脂合成例2＞

向3L的四口烧瓶中添加2,6-二氟苯甲腈35.12g、9,9-双(4-羟基苯基)芴87.60g、碳酸钾41.46g、N,N-二甲基乙酰胺(以下也称为“DMAc(Dimethylacetamide)”)443g及甲苯111g。继而，在四口烧瓶中安装温度计、搅拌机、带有氮气导入管的三通旋塞、迪安斯塔克(Dean-Stark)管及冷却管。继而，在对烧瓶内进行氮气置换后，使所获得的溶液在140℃下反应3小时，随时自迪安斯塔克管去掉生成的水。在未确认到水的生成时，缓慢地将温度上升至160℃，在所述状态的温度下反应6小时。冷却至室温(25℃)后，利用滤纸将生成的盐去除，并将滤液投入至甲醇中进行再沉淀，利用过滤分离使滤物(残渣)分离。将所获得的滤物在60℃下真空干燥一夜，获得白色粉末(以下也称为“树脂B”)(产率为95％)。所获得的树脂B的数量平均分子量(Mn)为75,000，重量平均分子量(Mw)为188,000，玻璃化温度(Tg)为285℃。

＜树脂合成例3＞

在氮气流下，向包括温度计、搅拌器、氮气导入管、带有侧管的滴加漏斗、迪安斯塔克管及冷却管的500mL的五口烧瓶中放入1,4-双(4-氨基-α,α-二甲基苄基)苯27.66g及4,4'-双(4-氨基苯氧基)联苯7.38g，并溶解于γ-丁内酯68.65g及N,N-二甲基乙酰胺17.16g中。使用冰水浴将所获得的溶液冷却至5℃，保持为等温并且一次性添加1,2,4,5-环己烷四羧酸二酐22.62g及作为酰亚胺化催化剂的三乙基胺0.50g。添加结束后，升温至180℃，随时馏去馏出液并且进行6小时回流。反应结束后，进行气冷直至内温成为100℃为止后，加入N,N-二甲基乙酰胺143.6g来进行稀释，进行搅拌并且加以冷却，从而获得固体成分浓度为20重量％的聚酰亚胺树脂溶液264.16g。将所述聚酰亚胺树脂溶液的一部分注入至1L的甲醇中来使聚酰亚胺沉淀。利用甲醇对过滤分离的聚酰亚胺进行清洗后，在100℃的真空干燥机中进行24小时干燥而获得白色粉末(以下也称为“树脂C”)。对所获得的树脂C的红外线(Infrared，IR)光谱进行测定，结果看到酰亚胺基中特有的1704cm^-1、1770cm^-1的吸收。树脂C的玻璃化温度(Tg)为310℃，测定对数粘度的结果为0.87。

[实施例1]

在实施例1中，通过以下的顺序及条件来制成具有包含透明树脂制基板的基材的光学滤波器。

向容器中加入树脂合成例1中所获得的树脂A 100份、作为化合物(A)的下述式(a-1)所表示的化合物(a-1)(在二氯甲烷(dichloromethane)中的最大吸收波长为698nm)0.04份及下述式(a-2)所表示的化合物(a-2)(在二氯甲烷中的最大吸收波长为733nm)0.04份、作为化合物(S)的所述表2-2中记载的化合物(s-6)(在二氯甲烷中的最大吸收波长为1093nm)0.07份、以及二氯甲烷(methylene chloride)，从而制备树脂浓度为20重量％的溶液。将所获得的溶液浇铸至平滑的玻璃板上，在20℃下进行8小时干燥后，自玻璃板剥离。进而，在减压下以100℃对所剥离的涂膜进行8小时干燥，从而获得包含厚度为0.1mm、长度为60mm、宽度为60mm的透明树脂制基板的基材。测定所述基材的分光透过率，并求出(T₁)、(X₁)、(X₂)、(Xc)及各波长下的透过率。将结果示于图3及表5-1。

[化12]

[化13]

继而，在所获得的基材的单面上形成作为第一光学层的介电体多层膜(I)，进而在基材的另一面上形成作为第二光学层的介电体多层膜(II)，从而获得厚度约0.105mm的光学滤波器。

介电体多层膜(I)是在蒸镀温度100℃下将二氧化硅(SiO₂)层与二氧化钛(TiO₂)层交替地层叠而成(合计26层)。介电体多层膜(II)是在蒸镀温度100℃下将二氧化硅(SiO₂)层与二氧化钛(TiO₂)层交替地层叠而成(合计20层)。介电体多层膜(I)及(II)的任一介电体多层膜中，二氧化硅层及二氧化钛层是自基材侧依序交替地层叠二氧化钛层、二氧化硅层、二氧化钛层、···二氧化硅层、二氧化钛层、二氧化硅层，并将光学滤波器的最外层设为二氧化硅层。

介电体多层膜(I)及(II)的设计是如以下般进行。

关于各层的厚度与层数，以可达成可见区域的抗反射效果与近红外区域的选择性的透过与反射性能的方式，结合基材折射率的波长依存特性、或所应用的化合物(S)及化合物(A)的吸收特性，使用光学薄膜设计软件(核心麦克劳德(Essential Macleod)，薄膜中心(Thin Film Center)公司制造)进行最优化。进行最优化时，在本实施例中将针对软件的输入参数(目标(Target)值)设为如下述表3那样。

[表3]

表3

关于膜构成最优化的结果，在实施例1中，介电体多层膜(I)成为将膜厚31nm～157nm的二氧化硅层与膜厚10nm～95nm的二氧化钛层交替地层叠而成的层叠数为26的多层蒸镀膜，介电体多层膜(II)成为将膜厚37nm～194nm的二氧化硅层与膜厚12nm～114nm的二氧化钛层交替地层叠而成的层叠数为20的多层蒸镀膜。将进行最优化的膜构成的一例示于下述表4。

[表4]

表4

*λ＝550nm

测定从所获得的光学滤波器的垂直方向及自垂直方向起为30°的角度所测定的分光透过率，并评价各波长区域中的光学特性。将结果示于图4及表5-1。波长430nm～580nm中的透过率的平均值为84％，波长1100nm～1200nm中的透过率的平均值为1％以下，绝对值|Xa-Xb|为2nm。

另外，使用所获得的光学滤波器制成照相机模块，并进行照相机图像的颜色阴影及重影的评价。将结果示于表5-1。所获得的照相机图像在颜色阴影及重影中为良好的结果。

[实施例2]

在实施例2中，通过以下的顺序及条件来制成具有包含透明树脂制基板的基材的光学滤波器。

在实施例1中，使用作为化合物(A)的下述式(a-3)所表示的化合物(a-3)(在二氯甲烷中的最大吸收波长为703nm)0.04份及下述式(a-4)所表示的化合物(a-4)(在二氯甲烷中的最大吸收波长为736nm)0.08份，使用作为化合物(S)的所述表2-3中记载的化合物(s-8)(在二氯甲烷中的最大吸收波长为1096nm)0.06份，以及使用作为其他色素(X)的下述式(X-1)所表示的色素(X-1)(在二氯甲烷中的最大吸收波长为887nm)0.01份，除此以外通过与实施例1相同的顺序及条件来获得包含含有化合物(A)及化合物(S)的透明树脂制基板的基材。测定所述基材的分光透过率，并求出(T₁)、(X₁)、(X₂)、(Xc)及各波长下的透过率。将结果示于图5及表5-1。

[化14]

[化15]

[化16]

继而，与实施例1同样地，在所获得的基材的单面上形成作为第一光学层的将二氧化硅(SiO₂)层与二氧化钛(TiO₂)层交替地层叠而成(合计26层)的介电体多层膜(III)，进而在基材的另一面上形成作为第二光学层的将二氧化硅(SiO₂)层与二氧化钛(TiO₂)层交替地层叠而成(合计20层)的介电体多层膜(IV)，从而获得厚度约0.105mm的光学滤波器。介电体多层膜的设计是考虑基材折射率的波长依存性后，使用与实施例1相同的设计参数而进行。测定从所获得的光学滤波器的垂直方向及自垂直方向起为30°的角度所测定的分光透过率，并评价各波长区域中的光学特性。另外，使用所获得的光学滤波器制成照相机模块，并进行照相机图像的颜色阴影及重影的评价。将结果示于表5-1。

[实施例3]

在实施例3中，通过以下的顺序及条件来制成具有包含在两面具有树脂层的透明树脂制基板的基材的光学滤波器。

在实施例1中，使用作为化合物(A)的化合物(a-4)0.06份及下述式(a-5)所表示的化合物(a-5)(在二氯甲烷中的最大吸收波长为713nm)0.06份，使用作为化合物(S)的所述表2-4中记载的化合物(s-13)(在二氯甲烷中的最大吸收波长为1096nm)0.08份，除此以外通过与实施例1相同的顺序及条件来获得包含化合物(A)及化合物(S)的透明树脂制基板。

[化17]

利用棒涂机将下述组成的树脂组合物(1)涂布于所获得的透明树脂制基板的单面上，并在烘箱中以70℃加热2分钟而将溶剂挥发去除。此时，以干燥后的厚度成为2μm的方式调整棒涂机的涂布条件。其次，使用输送机式曝光机进行曝光(曝光量为500mJ/cm²、200mW)，使树脂组合物(1)硬化，从而在透明树脂制基板上形成树脂层。同样地，在透明树脂制基板的另一面上也形成包含树脂组合物(1)的树脂层，获得在包含化合物(A)及化合物(S)的透明树脂制基板的两面上具有树脂层的基材。测定所述基材的分光透过率，并求出(T₁)、(X₁)、(X₂)、(Xc)及各波长下的透过率。将结果示于表5-1。

树脂组合物(1)：三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯60重量份、二季戊四醇六丙烯酸酯40重量份、1-羟基环己基苯基酮5重量份、甲基乙基酮(溶剂，固体成分浓度(total solidconcentration，TSC)：30％)

继而，与实施例1同样地，在所获得的基材的单面上形成作为第一光学层的将二氧化硅(SiO₂)层与二氧化钛(TiO₂)层交替地层叠而成(合计26层)的介电体多层膜(V)，进而在基材的另一面上形成作为第二光学层的将二氧化硅(SiO₂)层与二氧化钛(TiO₂)层交替地层叠而成(合计20层)的介电体多层膜(VI)，从而获得厚度约0.109mm的光学滤波器。介电体多层膜的设计是与实施例1同样地，考虑基材折射率的波长依存性等后，使用与实施例1相同的设计参数而进行。测定从所获得的光学滤波器的垂直方向及自垂直方向起为30°的角度所测定的分光透过率，并评价各波长区域中的光学特性。另外，使用所获得的光学滤波器制成照相机模块，并进行照相机图像的颜色阴影及重影的评价。将结果示于表5-1。

[实施例4]

在实施例4中，通过以下的顺序及条件来制成具有在树脂制支撑体的两面上形成包含化合物(A)的透明树脂层而成的基材的光学滤波器。

向容器中加入树脂合成例1中所获得的树脂A及二氯甲烷来制备树脂浓度为20重量％的溶液，并使用所获得的溶液，除此以外与实施例1的树脂制基板的制成同样地制成树脂制支撑体。

与实施例3同样地，在所获得的树脂制支撑体的两面上形成包含下述组成的树脂组合物(2)的树脂层，从而获得在树脂制支撑体的两面上形成包含化合物(A)及化合物(S)的透明树脂层而成的基材。测定所述基材的分光透过率，并求出(T₁)、(X₁)、(X₂)、(Xc)及各波长下的透过率。将结果示于表5-1。

树脂组合物(2)：三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯100重量份、1-羟基环己基苯基酮4重量份、化合物(a-1)0.10重量份、化合物(a-2)0.10重量份、化合物(s-6)1.75重量份、甲基乙基酮(溶剂，TSC：25％)

继而，与实施例1同样地，在所获得的基材的单面上形成作为第一光学层的将二氧化硅(SiO₂)层与二氧化钛(TiO₂)层交替地层叠而成(合计26层)的介电体多层膜(VII)，进而在基材的另一面上形成作为第二光学层的将二氧化硅(SiO₂)层与二氧化钛(TiO₂)层交替地层叠而成(合计20层)的介电体多层膜(VIII)，从而获得厚度约0.109mm的光学滤波器。介电体多层膜的设计是与实施例1同样地，考虑基材折射率的波长依存性等后，使用与实施例1相同的设计参数而进行。测定从所获得的光学滤波器的垂直方向及自垂直方向起为30°的角度所测定的分光透过率，并评价各波长区域中的光学特性。另外，使用所获得的光学滤波器制成照相机模块，并进行照相机图像的颜色阴影及重影的评价。将结果示于表5-1。

[实施例5]

在实施例5中，通过以下的顺序及条件来制成具有包含在单面具有包含化合物(A)的透明树脂层的透明玻璃基板的基材的光学滤波器。

利用旋涂机将下述组成的树脂组合物(3)涂布于切割成长度为60mm、宽度为60mm的大小的透明玻璃基板“OA-10G(厚度为150μm)”(日本电气硝子(股)制造)，并在加热板上以80℃加热2分钟而将溶剂挥发去除。此时，以干燥后的厚度成为2μm的方式调整旋涂机的涂布条件。其次，使用输送机式曝光机进行曝光(曝光量为500mJ/cm²、200mW)，使树脂组合物(3)硬化，从而获得包含具有含有化合物(A)及化合物(S)的透明树脂层的透明玻璃基板的基材。测定所述基材的分光透过率，并求出(T₁)、(X₁)、(X₂)、(Xc)及各波长下的透过率。将结果示于表5-1。

树脂组合物(3)：三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯20重量份、二季戊四醇六丙烯酸酯80重量份、1-羟基环己基苯基酮4重量份、化合物(a-1)0.20重量份、化合物(a-2)0.20重量份、化合物(s-6)3.50重量份、甲基乙基酮(溶剂，TSC：35％)

继而，与实施例1同样地，在所获得的基材的单面上形成作为第一光学层的将二氧化硅(SiO₂)层与二氧化钛(TiO₂)层交替地层叠而成(合计26层)的介电体多层膜(IX)，进而在基材的另一面上形成作为第二光学层的将二氧化硅(SiO₂)层与二氧化钛(TiO₂)层交替地层叠而成(合计20层)的介电体多层膜(X)，从而获得厚度约0.107mm的光学滤波器。介电体多层膜的设计是与实施例1同样地，考虑基材折射率的波长依存性等后，使用与实施例1相同的设计参数而进行。测定从所获得的光学滤波器的垂直方向及自垂直方向起为30°的角度所测定的分光透过率，并评价各波长区域中的光学特性。另外，使用所获得的光学滤波器制成照相机模块，并进行照相机图像的颜色阴影及重影的评价。将结果示于表5-1。

[实施例6]

在实施例6中，通过以下的顺序及条件来制成具有包含在单面具有包含化合物(A)的透明树脂层的近红外线吸收玻璃基板的基材的光学滤波器。

利用旋涂机将下述组成的树脂组合物(4)涂布于切割成长度为60mm、宽度为60mm的近红外线吸收玻璃基板“BS-11(厚度为120μm)”(松浪硝子工业(股)制造)上，并在加热板上以80℃加热2分钟而将溶剂挥发去除。此时，以干燥后的厚度成为2μm的方式调整旋涂机的涂布条件。其次，使用输送机式曝光机进行曝光(曝光量为500mJ/cm²、200mW)，使树脂组合物(4)硬化，从而获得包含具有包含化合物(A)的透明树脂层的近红外线吸收玻璃基板的基材。测定所述基材的分光透过率，并求出(T₁)、(X₁)、(X₂)、(Xc)及各波长下的透过率。将结果示于图6及表5-1。

树脂组合物(4)：三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯20重量份、二季戊四醇六丙烯酸酯80重量份、1-羟基环己基苯基酮4重量份、化合物(a-3)0.15重量份、化合物(a-4)0.30重量份、甲基乙基酮(溶剂，TSC：35％)

继而，与实施例1同样地，在所获得的基材的单面上形成作为第一光学层的将二氧化硅(SiO₂)层与二氧化钛(TiO₂)层交替地层叠而成(合计26层)的介电体多层膜(XI)，进而在基材的另一面上形成作为第二光学层的将二氧化硅(SiO₂)层与二氧化钛(TiO₂)层交替地层叠而成(合计20层)的介电体多层膜(XII)，从而获得厚度约0.107mm的光学滤波器。介电体多层膜的设计是与实施例1同样地，考虑基材折射率的波长依存性等后，使用与实施例1相同的设计参数而进行。测定从所获得的光学滤波器的垂直方向及自垂直方向起为30°的角度所测定的分光透过率，并评价各波长区域中的光学特性。另外，使用所获得的光学滤波器制成照相机模块，并进行照相机图像的颜色阴影及重影的评价。将结果示于表5-1。

[实施例7]

在实施例7中，通过以下的顺序及条件来制成具有包含透明树脂制基板的基材的光学滤波器，所述透明树脂制基板在两面具有包含近红外线吸收微粒子的透明树脂层、且包含化合物(A)。

在实施例2中，不使用化合物(S-8)与其他色素(X-1)，除此以外通过与实施例2相同的顺序及条件来获得包含化合物(A)的透明树脂制基板。

与实施例3同样地，在所获得的树脂制基板的两面上形成包含下述组成的树脂组合物(5)的树脂层，从而获得包含在两面具有包含近红外线吸收微粒子的透明树脂层、且包含化合物(A)的透明树脂制基板的基材。测定所述基材的分光透过率，并求出(T₁)、(X₁)、(X₂)、(Xc)及各波长下的透过率。将结果示于图7及表5-1。

树脂组合物(5)：三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯100重量份、1-羟基环己基苯基酮4重量份、近红外线吸收微粒子分散液(住友金属矿山(股)制造的YMF-02A)35重量份(以固体成分换算计约10重量份)、甲基乙基酮(溶剂，TSC：30％)

继而，与实施例1同样地，在所获得的基材的单面上形成作为第一光学层的将二氧化硅(SiO₂)层与二氧化钛(TiO₂)层交替地层叠而成(合计26层)的介电体多层膜(XIII)，进而在基材的另一面上形成作为第二光学层的将二氧化硅(SiO₂)层与二氧化钛(TiO₂)层交替地层叠而成(合计20层)的介电体多层膜(XIV)，从而获得厚度约0.109mm的光学滤波器。介电体多层膜的设计是与实施例1同样地，考虑基材折射率的波长依存性等后，使用与实施例1相同的设计参数而进行。测定从所获得的光学滤波器的垂直方向及自垂直方向起为30°的角度所测定的分光透过率，并评价各波长区域中的光学特性。另外，使用所获得的光学滤波器制成照相机模块，并进行照相机图像的颜色阴影及重影的评价。将结果示于表5-1。

[实施例8～实施例13]

如表5-1所示变更树脂、溶剂、树脂制基板的干燥条件、化合物(A)、化合物(S)及其他色素(X)，除此以外与实施例3同样地制成基材及光学滤波器。将所获得的基材及光学滤波器的光学特性示于表5-1。另外，使用所获得的光学滤波器制成照相机模块，并进行照相机图像的颜色阴影及重影的评价。将结果示于表5-1。

[比较例1]

在实施例1中，不使用化合物(S)及化合物(A)，除此以外与实施例1同样地制成基材及光学滤波器，并评价光学特性。另外，使用所获得的光学滤波器制成照相机模块，并进行照相机图像的颜色阴影及重影的评价。将结果示于表5-2。比较例1中所获得的光学滤波器虽显示出比较良好的可见光透过率，但光学特性的入射角依存性大，基材在700nm附近或近红外波长区域不具有吸收，故确认到颜色阴影抑制效果或重影抑制效果差。

[比较例2]

使用透明玻璃基板“OA-10G(厚度为150μm)”(日本电气硝子(股)制造)作为基材，除此以外与实施例1同样地制成光学滤波器，并评价光学特性。另外，使用所获得的光学滤波器制成照相机模块，并进行照相机图像的颜色阴影及重影的评价。将结果示于表5-2。比较例2中所获得的光学滤波器虽显示出比较良好的可见光透过率，但光学特性的入射角依存性大，基材在700nm附近或近红外波长区域不具有吸收，故确认到颜色阴影抑制效果或重影抑制效果差。

[比较例3]

使用近红外线吸收玻璃基板“BS-11(厚度为120μm)”(松浪硝子工业(股)制造)作为基材，除此以外与实施例1同样地制成光学滤波器，并评价光学特性。另外，使用所获得的光学滤波器制成照相机模块，并进行照相机图像的颜色阴影及重影的评价。将结果示于表5-2。另外，将基材的分光透过光谱示于图8。比较例3中所获得的光学滤波器虽显示出比较良好的光学特性，但基材在700nm附近的吸收强度不充分，确认到颜色阴影抑制效果差。

[比较例4]

在实施例3中，不使用化合物(S)而使用作为化合物(A)的化合物(a-4)0.08份及化合物(a-5)0.06份，以及使用色素(X-1)0.01份，除此以外与实施例3同样地制成基材及光学滤波器，并评价光学特性。另外，使用所获得的光学滤波器制成照相机模块，并进行照相机图像的颜色阴影及重影的评价。将结果示于表5-2。另外，将基材的分光透过光谱示于图9。比较例5中所获得的光学滤波器虽显示出比较良好的光学特性，但基材在近红外波长区域中的吸收强度不充分，确认到重影抑制效果差。

[比较例5]

在实施例6中，使用下述组成的树脂组合物(6)代替树脂组合物(4)，除此以外与实施例6同样地制成基材及光学滤波器。

树脂组合物(6)：三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯20重量份、二季戊四醇六丙烯酸酯80重量份、1-羟基环己基苯基酮4重量份、化合物(a-1)0.15重量份、甲基乙基酮(溶剂，TSC：35％)

对所获得的基材及光学滤波器的光学特性进行评价。另外，使用所获得的光学滤波器制成照相机模块，并进行照相机图像的颜色阴影及重影的评价。将结果示于表5-2。另外，将基材的分光透过光谱示于图10。比较例5中所获得的光学滤波器虽显示出比较良好的光学特性，但基材在700nm附近的吸收强度不充分，确认到颜色阴影抑制效果差。

[比较例6]

在实施例3中，使用作为化合物(A)的化合物(a-3)0.04份及化合物(a-4)0.08份，使用作为化合物(S)的化合物(s-6)0.01份，除此以外与实施例3同样地制成基材及光学滤波器，并评价光学特性。另外，使用所获得的光学滤波器制成照相机模块，并进行照相机图像的颜色阴影及重影的评价。将结果示于表5-2。比较例6中所获得的光学滤波器虽显示出比较良好的光学特性，但基材在近红外波长区域中的吸收强度不充分，确认到重影抑制效果差。

[比较例7]

在实施例3中，使用作为化合物(A)的化合物(a-1)0.04份，使用作为化合物(S)的化合物(s-6)0.07份，除此以外与实施例3同样地制成基材及光学滤波器，并评价光学特性。另外，使用所获得的光学滤波器制成照相机模块，并进行照相机图像的颜色阴影及重影的评价。将结果示于表5-2。比较例7中所获得的光学滤波器虽显示出比较良好的光学特性，但基材在700nm附近的吸收强度不充分，确认到颜色阴影抑制效果差。

[比较例8]

在实施例3中，使用作为化合物(A)的化合物(a-1)0.04份，使用作为化合物(S)的所述表2-4中记载的化合物(s-14)(在二氯甲烷中的最大吸收波长为1097nm)0.45份，除此以外与实施例3同样地制成基材及光学滤波器，并评价光学特性。另外，使用所获得的光学滤波器制成照相机模块，并进行照相机图像的颜色阴影及重影的评价。将结果示于表5-2。比较例8中所获得的光学滤波器虽显示出比较良好的光学特性，但基材在700nm附近的吸收强度不充分，确认到颜色阴影抑制效果差。

实施例及比较例中所应用的基材的构成、各种化合物等如下述那样。

＜基材的形态＞

形态(1)：包含化合物(A)的透明树脂制基板

形态(2)：在包含化合物(A)的透明树脂制基板的两面具有树脂层

形态(3)：在树脂制支撑体的两面具有包含化合物(A)的透明树脂层

形态(4)：在透明玻璃基板的单个面上具有包含化合物(A)的透明树脂层

形态(5)：在近红外线吸收玻璃基板的单个面上具有包含化合物(A)的透明树脂层

形态(6)：在包含化合物(A)的透明树脂制基板的两面具有包含近红外线吸收微粒子的透明树脂层

形态(7)：不包含化合物(A)的透明树脂制基板(比较例)

形态(8)：透明玻璃基板(比较例)

形态(9)：近红外线吸收玻璃基板(比较例)

＜透明树脂＞

树脂A：环状聚烯烃系树脂(树脂合成例1)

树脂B：芳香族聚醚系树脂(树脂合成例2)

树脂C：聚酰亚胺系树脂(树脂合成例3)

树脂D：环状烯烃系树脂“瑞翁诺阿(Zeonor)1420R”(日本瑞翁(Zeon)(股)制造)

＜玻璃基板＞

玻璃基板(1)：切割成长度为60mm、宽度为60mm的大小的透明玻璃基板“OA-10G(厚度为150μm)”(日本电气硝子(股)制造)

玻璃基板(2)：切割成长度为60mm、宽度为60mm的大小的近红外线吸收玻璃基板“BS-11(厚度为120μm)”(松浪硝子工业(股)制造)

＜近红外线吸收色素＞

《化合物(A)》

化合物(a-1)：所述化合物(a-1)(在二氯甲烷中的最大吸收波长为698nm)

化合物(a-2)：所述化合物(a-2)(在二氯甲烷中的最大吸收波长为733nm)

化合物(a-3)：所述化合物(a-3)(在二氯甲烷中的最大吸收波长为703nm)

化合物(a-4)：所述化合物(a-4)(在二氯甲烷中的最大吸收波长为736nm)

化合物(a-5)：所述化合物(a-5)(在二氯甲烷中的最大吸收波长为713nm)

化合物(a-6)：下述式(a-6)所表示的花青系化合物(在二氯甲烷中的最大吸收波长为681nm)

[化18]

《化合物(S)》

化合物(s-6)：所述化合物(s-6)(在二氯甲烷中的最大吸收波长为1093nm)

化合物(s-8)：所述化合物(s-8)(在二氯甲烷中的最大吸收波长为1096nm)

化合物(s-13)：所述化合物(s-14)(在二氯甲烷中的最大吸收波长为1096nm)

化合物(s-14)：所述化合物(s-15)(在二氯甲烷中的最大吸收波长为1097nm)

《其他色素(X)》

色素(X-1)：所述色素(X-1)(在二氯甲烷中的最大吸收波长为887nm)

色素(X-2)：下述式(X-2)所表示的色素(在二氯甲烷中的最大吸收波长为811nm)

[化19]

＜溶剂＞

溶剂(1)：二氯甲烷

溶剂(2)：N,N-二甲基乙酰胺

溶剂(3)：环己烷/二甲苯(重量比：7/3)

表5-1及表5-2中的实施例及比较例的(透明)树脂制基板的干燥条件如以下那样。再者，在减压干燥前将涂膜自玻璃板剥离。

＜膜干燥条件＞

条件(1)：20℃/8hr→减压下100℃/8hr

条件(2)：60℃/8hr→80℃/8hr→减压下140℃/8hr

条件(3)：60℃/8hr→80℃/8hr→减压下100℃/24hr

[表5-2]

表5-2

Claims

1.一种光学滤波器，其特征在于：具有满足下述必要条件(a)、(b)、(c)及(g)的基材，且满足下述必要条件(d)及(e)：

(a)具有包含在波长650nm以上且760nm以下的区域具有最大吸收的化合物A的层；

(b)在波长640nm以上的区域中透过率成为10％的最短波长X₁与第二短波长X₂的差X₂-X₁为50nm以上；

(g)包含在波长1050nm以上且1200nm以下的区域具有最大吸收的化合物S；

(e)在波长1100nm～1200nm的区域中，自光学滤波器的垂直方向测定时的透过率的平均值为5％以下

所述基材含有包含所述化合物A及所述化合物S的透明树脂制基板，相对于所述透明树脂100重量份，所述化合物S的含量为0.02重量份～2.0重量份。

2.根据权利要求1所述的光学滤波器，其特征在于：在所述基材的至少一面具有介电体多层膜。

3.根据权利要求1所述的光学滤波器，其特征在于：所述基材进而满足下述必要条件(f)：

(f)波长690nm～720nm的区域中的透过率的最小值T₁为5％以下。

4.根据权利要求1所述的光学滤波器，其特征在于：所述化合物S为选自由下述式(I)及式(II)所表示的化合物所组成的群组中的至少一种化合物，

式(I)及式(II)中，

L^a：碳数1～12的脂肪族烃基

L^b：碳数1～12的卤素取代烷基

L^c：碳数3～14的脂环式烃基

L^d：碳数6～14的芳香族烃基

L^e：碳数2～14的杂环基

L^f：碳数1～12的烷氧基

L^g：可具有取代基L的碳数1～12的酰基

L^h：可具有取代基L的碳数1～12的烷氧基羰基

相邻的R³彼此也可形成可具有取代基L的环，

n表示0～4的整数，

X表示中和电荷所需的阴离子，

M表示金属原子，

Z表示D(Rⁱ)₄，D表示氮原子、磷原子或铋原子，

y表示0或1。

5.根据权利要求2所述的光学滤波器，其特征在于：所述介电体多层膜形成于所述基材的两面。

6.根据权利要求1所述的光学滤波器，其特征在于：所述化合物A为选自由方酸内鎓盐系化合物、酞菁系化合物及花青系化合物所组成的群组中的至少一种化合物。

7.根据权利要求1所述的光学滤波器，其特征在于：构成所述透明树脂层的透明树脂为选自由环状聚烯烃系树脂、芳香族聚醚系树脂、聚酰亚胺系树脂、芴聚碳酸酯系树脂、芴聚酯系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚芳酯系树脂、聚砜系树脂、聚醚砜系树脂、聚对苯系树脂、聚酰胺酰亚胺系树脂、聚萘二甲酸乙二酯系树脂、氟化芳香族聚合物系树脂、(改性)丙烯酸系树脂、环氧系树脂、烯丙酯系硬化型树脂、倍半硅氧烷系紫外线硬化型树脂、丙烯酸系紫外线硬化型树脂及乙烯基系紫外线硬化型树脂所组成的群组中的至少一种树脂。

8.根据权利要求1所述的光学滤波器，其用于固体摄像装置。

9.一种固体摄像装置，其具备如权利要求1至8中任一项所述的光学滤波器。

10.一种照相机模块，其具备如权利要求1至8中任一项所述的光学滤波器。