WO2017135510A1 - 유기 광전자 소자용 화합물, 유기 광전자 소자 및 표시 장치 - Google Patents

유기 광전자 소자용 화합물, 유기 광전자 소자 및 표시 장치 Download PDF

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WO2017135510A1
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김형선
유은선
이상신
장유나
장춘근
정성현
정호국
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    • H10K85/1135—Polyethylene dioxythiophene [PEDOT]; Derivatives thereof

Definitions

  • a compound for organic optoelectronic devices an organic optoelectronic device, and a display device.
  • An organic optoelectric diode is a device capable of converting electrical energy and light energy.
  • Organic optoelectronic devices can be divided into two types according to the principle of operation.
  • Examples of the organic optoelectronic device may be an organic photoelectric device, an organic light emitting device, an organic solar cell and an organic photo conductor drum.
  • the organic light emitting device converts electrical energy into light by applying an electric current to the organic light emitting material.
  • the organic light emitting device has a structure in which an organic layer is inserted between an anode and a cathode.
  • the organic layer may include a light emitting layer and an optional auxiliary layer, and the auxiliary layer may include, for example, a hole injection layer, a hole transport layer, an electron blocking layer, an electron transport layer, an electron injection layer, and the like, to increase the efficiency and stability of the organic light emitting device. It may comprise at least one layer selected from the hole blocking layer.
  • the performance of the organic light emitting device is greatly influenced by the characteristics of the organic layer, and in particular, is affected by the organic material included in the organic layer.
  • One embodiment provides a compound for an organic optoelectronic device capable of implementing high efficiency and long life organic optoelectronic devices.
  • Another embodiment provides an organic optoelectronic device including the compound for an organic optoelectronic device.
  • Another embodiment provides a display device including the organic optoelectronic device.
  • a compound for an organic optoelectronic device represented by Chemical Formula 1 is provided.
  • R 1 to R 5 are each independently hydrogen, deuterium, a substituted or unsubstituted C alkyl group in C1, or a phenyl group,
  • Z 1 to Z 3 are each independently CR a or N,
  • At least two of Z 1 to Z 3 are N,
  • R a and R 6 are hydrogen, deuterium, a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group, or a substituted or unsubstituted C6 to C12 aryl group,
  • Ar 1 and Ar 2 are each independently hydrogen, deuterium, a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group, or a substituted or unsubstituted C6 to C18 aryl group,
  • a, b, c, d, and e are each independently an integer of 0 or 1,
  • Substituted means that at least one hydrogen is deuterium, a C1 to C4 alkyl group, or Mean substituted with a C6 to C12 aryl group.
  • an anode and a cathode facing each other, and at least one organic layer positioned between the anode and the cathode, the organic layer comprises an organic optoelectronic device comprising the compound for an organic optoelectronic device described above to provide.
  • a display device including the organic optoelectronic device is provided.
  • 1 to 4 are cross-sectional views illustrating an organic light emitting device according to an embodiment.
  • At least one hydrogen in a substituent or compound is a deuterium, a halogen group, a hydroxyl group, an amino group, a substituted or unsubstituted C1 to C30 amine group, a nitro group, a substitution Or unsubstituted C1 to C40 Silyl group, CI to C30 alkyl group, CI to C10 alkylsilyl group, C6 to C30 arylsilyl group, C3 to C30 cycloalkyl group, C3 to C30 heterocycloalkyl group, C6 to C30 aryl group, C6 to C30 heteroaryl group, C1 to C30 C20 substituted with C1 to C10 trifluoroalkyl group or cyano group such as alky group, fluoro group, trifluoromethyl group, etc.
  • hetero means N in one functional group, unless otherwise defined.
  • It contains 1 to 3 hetero atoms selected from the group consisting of 0, S, P and Si, and the rest means carbon.
  • an "alkyl group” means an aliphatic hydrocarbon group.
  • the alkyl group may be a "saturated alkyl group” that does not contain any double or triple bonds.
  • the alkyl group may be an alkyl group of C1 to C30. More specifically, the alkyl group may be a C1 to C20 alkyl group or a C1 to C10 alkyl group.
  • a C1 to C4 alkyl group means that the alkyl chain contains 1 to 4 carbon atoms, and methyl, ethyl, propyl, iso-propyl, ⁇ -butyl, iso-butyl, sec -butyl and t butyl Selected from the group consisting of:
  • alkyl group examples include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group butyl group, isobutyl group, t-butyl group, pentyl group, nucleosil group, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group and cyclonuclear group And the like.
  • aryl group refers to a group of groups having one or more hydrocarbon aromatic moieties.
  • All the elements of the hydrocarbon aromatic moiety have a P-orbital, and include a form in which these P-orbitals form a conjugate, such as a phenyl group, a naphthyl group,
  • hydrocarbon aromatic moieties are linked through sigma bonds, such as biphenyl groups, terphenyl groups, quarterphenyl groups, etc.
  • Non-aromatic fused rings in which two or more hydrocarbon aromatic moieties are fused directly or indirectly may also be included.
  • Aryl groups include monocyclic, polycyclic or fused ring polycyclic (ie, rings having adjacent pairs of carbon atoms) functional groups.
  • heteroaryl group means containing 1 to 3 heteroatoms selected from the group consisting of N, 0, S, P, and Si in the aryl group, and the rest are carbon. Two or more heteroaryl groups may be directly connected through a sigma bond, or when the heteroaryl group includes two or more rings, two or more rings may be fused to each other. When the heteroaryl group is a fused ring, each ring may include 1 to 3 heteroatoms.
  • the heteroaryl group means, for example, a pyridinyl group, a pyrimidinyl group, a pyrazinyl group, a pyridazinyl group, a triazinyl group, a quinolinyl group, an isoquinolinyl group, and the like.
  • a substituted or unsubstituted C6 to C30 aryl group and / or a substituted or unsubstituted C2 to C30 heteroaryl group is a substituted or unsubstituted phenyl group, a substituted or unsubstituted naphthyl group, a substituted or unsubstituted anthra Senyl group, substituted or .
  • Fluorenyl group substituted or unsubstituted indenyl group, substituted or unsubstituted furanyl group, substituted or unsubstituted thiophenyl group, substituted or unsubstituted pyrilyl group, substituted or unsubstituted pyrazolyl group, substituted or unsubstituted Substituted imidazolyl group, substituted or unsubstituted triazolyl group, substituted or unsubstituted oxazolyl group, substituted or unsubstituted thiazolyl group, substituted or unsubstituted oxadiazoleyl group, substituted or unsubstituted thiadiazole Diary, substituted or unsubstituted pyridyl group, substituted or unsubstituted pyrimidinyl group, substituted or unsubstituted pyrazinyl group, substituted or unsubstituted triazinyl group
  • Benzoxazineyl group substituted or unsubstituted benzthiazinyl group, substituted or unsubstituted acridinyl group, substituted or unsubstituted phenazineyl group, chiwhite; Or unsubstituted
  • Phenothiazineyl substituted or unsubstituted phenoxazineyl group ? Substituted or unsubstituted Multibenzofuranyl group, substituted or unsubstituted dibenzothiophenyl group, or a combination thereof, but is not limited thereto.
  • the hole characteristic refers to a characteristic capable of forming holes by donating electrons when an electric field is applied, and injecting holes formed at the anode into the light emitting layer having conductive properties along the HOMO level, and emitting layer. It refers to a property that facilitates the movement of the hole formed in the anode and movement in the light emitting layer.
  • the electron characteristic refers to a characteristic that can receive electrons when an electric field is applied, and has a conductivity characteristic along the LUMO level, and injects electrons formed in the cathode into the light emitting layer, moves electrons formed in the light emitting layer to the cathode, and It means a property that facilitates movement.
  • a compound for an organic optoelectronic device according to one embodiment is described.
  • the compound for an organic optoelectronic device according to one embodiment is represented by the following formula (1).
  • R 1 to R 5 are each independently hydrogen, deuterium, .substituted or unsubstituted C1 to C4 alkyl groups, or phenyl groups,
  • Z 1 to Z 3 are each independently CR a or N,
  • At least two of Z 1 to Z 3 are N,
  • R a and R 6 are hydrogen, deuterium, a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group, or a substituted or unsubstituted C6 to C12 aryl group,
  • Ar 1 and Ar 2 are each independently hydrogen, deuterium, a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group, or a substituted or unsubstituted C6 to C18 aryl group, a, b, c, d, and e are each independently an integer of 0 or 1,
  • substituted means that at least one hydrogen is substituted with deuterium, a C1 to C4 alkyl group, or a C6 to C12 aryl group.
  • the compound for an organic optoelectronic device represented by Formula 1 is a structure in which a bulky aromatic group moiety substituted with four or more phenyl groups and a hexagonal ring containing nitrogen are connected by a phenyl linker.
  • the nitrogen-containing hexagonal ring facilitates the injection or movement of electrons in the device, and the bulky aromatic moiety assists the injection and movement of holes or increases the glass transition temperature of the compound, and intermolecular interactions. Due to the suppression of the luminous efficiency is increased, it is possible to have a low deposition temperature relative to the molecular weight. Therefore, the compound for an organic photoelectric device represented by Chemical Formula 1 has better packing of a hexagonal ring containing nitrogen having a relatively flat structure than a bulky aromatic group when forming a film in the device. There is an advantage of facilitating injection and movement.
  • the compound for an organic optoelectronic device represented by Chemical Formula 1 can reduce the driving voltage of the device due to the excellent electron transport characteristics, especially when used as the electron injection auxiliary layer, and improve the luminous efficiency due to the rapid injection of electrons into the light emitting layer Can be.
  • the driving voltage is reduced due to the excellent electron transport ability even when used in the light emitting layer due to the combination of materials with excellent hole injection and movement, and excellent light emission efficiency can be obtained due to the reduction of intermolecular interaction by the bulk aromatic group portion. have.
  • the compound for an organic optoelectronic device represented by the formula (1) can not only lower the deposition temperature due to the spherical structure of the bulk aromatic group portion but also has excellent solubility,
  • the molecular shape is further improved by shortening the distance between the nitrogen-containing substituent containing the hexagonal ring and the bulk aromatic group. It can be implemented close to the sphere, from which it can lower the deposition temperature and have excellent heat stability.
  • Formula 1 may be represented by any one of the following Formula 1-1 to 1-IV according to the number of phenyl groups included in the bulky aromatic group portion.
  • Formula 1-1 [Formula 1- ⁇ ]
  • R 1 to R 6 , Z 'to Z 3 , Ar 1, and Ar 2 are as described above.
  • Formula 1-1 may be represented by Formula 1-Ia, 1-Ib, or 1-Ic, respectively, as the linker is linked to a meta, ortho, or para position.
  • Formula 1_ I a [Formula 1-I b]
  • formula 1- ⁇ may also be specifically represented by the following formula 1-na, 1-nb, or 1-nc as the linker is linked to the meta, ortho, or para position.
  • the compound for an organic optoelectronic device may be represented by Chemical Formula 1-1 a, 1-I b, 1-I c, 1- ⁇ , or 1-IIc.
  • R 1 to R 6 , Z 1 to Z ⁇ Ar 1 and Ar 2 are as described above. As shown.
  • R 1 to R 5 may be each independently hydrogen, deuterium, a substituted or unsubstituted C1 to C4 alkyl group, or a phenyl group.
  • R 1 to R 5 may all be hydrogen.
  • R 6 may also be hydrogen, deuterium, a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group, or a substituted or unsubstituted C6 to C12 aryl group. Specifically, hydrogen or a substituted or unsubstituted ' C6 to C12 aryl group may be used. And, more specifically, hydrogen, a phenyl group, a biphenyl group, for example hydrogen, or a phenyl group.
  • Formula 1-1 may be represented by the following Formula 1-Id or 1-Ie,
  • Formula l- ⁇ may be represented by the following Formula 1-nd or 1-ne.
  • the compound for an organic optoelectronic device may be represented by Formula 1-I d, 1-I e, or 1-nd.
  • At least two of the Z 1 to Z 3 layer may be N.
  • it may be a pyrimidinyl group 3 ⁇ 4 wherein X 1 and X 3 are N or X 1 and X 2 are N, and a triazinyl group where X 1 to X 3 are both N.
  • Ar 1 and Ar 2 may be each independently a substituted or unsubstituted C6 to C18 aryl group.
  • Ar 1 and Ar 2 may each independently be a substituted or unsubstituted phenyl group, a substituted or unsubstituted biphenyl group, a substituted or unsubstituted terphenyl group, or a substituted or unsubstituted naphthyl group, for example, Group 1 It may be one of the substituents listed in.
  • the compound for an organic optoelectronic device may be selected from, for example, the compounds listed in Group 2, but is not limited thereto.
  • an organic optoelectronic device includes a positive electrode and a negative electrode facing each other. And at least one organic layer disposed between the anode and the cathode, wherein the organic layer may include the compound for an organic optoelectronic device described above. More specifically, the organic layer may include a light emitting layer, an electron transport layer, and a hole transport layer, the electron transport layer or the light emitting layer may include a compound for an organic optoelectronic device represented by the formula (1).
  • the electron transport layer may further include an electron transport auxiliary layer adjacent to the light emitting layer, and the aforementioned compound for an organic optoelectronic device may be included in the electron transport auxiliary layer.
  • the organic optoelectronic device may have a low driving voltage, high efficiency, high brightness and long life by providing an organic layer including the compound for an organic optoelectronic device represented by Chemical Formula 1 as described above.
  • the organic light emitting diode 100 has a structure in which the cathode 110, the organic layer 130, and the anode 120 are sequentially stacked.
  • a substrate may be additionally disposed below the cathode 110 or above the anode 120.
  • a substrate used in a conventional organic light emitting device may be used, and a glass substrate or a transparent plastic substrate having excellent mechanical strength, thermal stability, transparency, surface smoothness, ease of handling, and waterproofness may be used.
  • the anode 120 may be formed, for example, on the substrate by providing a material for the anode using a deposition method or a sputtering method.
  • the positive electrode material may be selected from materials having a high work function to facilitate hole injection.
  • the anode 120 may be a reflective electrode, a transflective electrode, or a transmissive electrode.
  • Indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), tin oxide (Sn0 2 ), zinc oxide (ZnO), or the like may be used as the material for the positive electrode.
  • metals such as magnesium (Mg), aluminum (A1), aluminum-lithium (Al-Li), calcium (Ca), magnesium-indium (Mg-In), magnesium-silver (Mg-Ag), and the like may be used. .
  • the anode 120 may have a single layer or a multilayer structure including two or more layers.
  • the organic layer 105 is disposed on the cathode 120.
  • the organic layer 105 includes a hole transport region; An emission layer; And an electron transport region.
  • a hole transport region For example, referring to FIG. 2, an organic light emitting diode according to an embodiment of the present invention will be described.
  • the organic layer 105 may further include a hole auxiliary layer 140 positioned between the anode 120 and the light emitting layer 130.
  • the hole transport region may include at least two hole assist layers, and in this case, a hole assist layer positioned in contact with the light emitting layer.
  • the hole transport auxiliary layer 33 and the hole auxiliary layer positioned in contact with the anode are defined as a hole transport layer 31.
  • the hole transport region may include at least one of a hole injection layer, a hole transport layer, an electron blocking layer and a buffer layer.
  • the hole transport region may include only a hole injection layer or only a hole transport layer. Alternatively, the hole transport region is sequentially stacked from the anode 120,
  • It may have a structure of a hole injection layer 37 / hole transport layer 31 or a hole injection layer 37 / hole transport layer 31 / electron blocking layer.
  • the hole injection layer 37 and the electron injection layer 36 are further included as shown in FIG. 4.
  • Anode 120 / hole injection layer 37 / hole transport layer 31 / hole transport auxiliary layer 33 / light emitting layer 130 / electron transport auxiliary layer 35 / electron transport layer 34 / electron injection layer (37) ) / Cathode 1 10 may be stacked in this order.
  • the hole injection layer 37 is composed of ⁇ used as the anode and a hole transport layer . Not only does it improve the interfacial properties between the organic materials used, but its surface is uneven
  • the hole injection layer 37 has a work function level of ITO that can be used as an anode.
  • a material having a median value between the work function level of ⁇ and the HOMO level of the hole transport layer 31 is particularly suitable.
  • the thickness of the hole transport layer may be about 50 A to about 2000 A, for example, about 100 A to about 1500 A.
  • the hole transport region may further include a charge-generating material in order to improve conductivity, in addition to the above materials.
  • the charge-generating material may be uniformly or heterogeneously dispersed in the hole transport region.
  • the charge-generating material may be, for example, a ⁇ -doped material.
  • the ⁇ -dopant may be one of a quinone derivative, a metal oxide, and a cyano group-containing compound, but is not limited thereto.
  • the ⁇ -dopants include tetracyanoquinonedimethane (TCNQ) and 2,3,5,6-tetrafluoro-tetracyano-1,4-benzoquinonedimethe Phosphorus (F4-TCNQ) .
  • Quinone derivatives such as these; Metal oxides such as tungsten oxide and molybdenum oxide; And cyano group-containing compounds such as Compound HT-D1, and the like, but are not limited thereto.
  • the hole transport region may further include a buffer layer.
  • the buffer layer may serve to increase efficiency by compensating an optical resonance distance according to a wavelength of light emitted from the light emitting layer.
  • An emission layer may be formed on the hole transport region by using a vacuum deposition method, a spin coating method, a cast method, an LB method, or the like.
  • the deposition conditions and the coating conditions vary depending on the compound used, and in general, may be selected from a range of conditions almost the same as that of the formation of the hole injection layer.
  • the light emitting layer may include a host and a dopant.
  • An organic optoelectronic device according to an embodiment of the present invention the compound for an organic optoelectronic device represented by the formula (1) alone or a compound for an organic optoelectronic device represented by the formula (1) as a first host,
  • the carbazole compound may be further included as a second host.
  • the carbazole-based compound may be specifically formed of a combination of a moiety represented by the following Formula 2 or represented by the following Formula 3 and a moiety represented by the following Formula 4.
  • Ar 3 to Ar 6 are each independently a substituted or unsubstituted C6 to C30 aryl group, or a substituted or unsubstituted C2 to C30 heteroaryl group,
  • n is an integer of 0 or 1
  • Adjacent two * of Formula 3 combines with two * of Formula 4 to form a fused ring, wherein * which does not form a fused ring in Formula 3 is each independently CR b ,
  • R b , and R 7 to R 14 are each independently hydrogen, deuterium, a substituted or unsubstituted C 1 to C 10 alkyl group, a C6 to C30 aryl group, or a substituted or unsubstituted C2 to C30 heteroaryl group.
  • Substituted or unsubstituted C6 to C30 aryl group, or substituted or unsubstituted C2 to C30 heteroaryl group is substituted or unsubstituted phenyl group, substituted or unsubstituted biphenyl group, substituted or unsubstituted terphenyl group, substituted or unsubstituted Substituted phenyl group, substituted or unsubstituted naphthyl group, substituted or unsubstituted triphenylene group, substituted or unsubstituted fluorenyl group, substituted or unsubstituted dibenzofuranyl group, substituted or unsubstituted
  • Substitution in the substituted or unsubstituted herein means that at least one hydrogen is substituted with deuterium, C1 to C10 alkyl group, C6 to C18 aryl group, and C3 to C20 heteroaryl group.
  • Isoquinolinyl group or a substituted or unsubstituted quinazolyl group, wherein in substituted or unsubstituted, the substitution is such that at least one hydrogen is deuterium, C 1 to C4 alkyl group, C6 to C12 aryl group, C3 to C15 Mean substituted by a heteroaryl group.
  • the bicarbazole represented by Formula 2 may be selected from, for example, the compounds listed in Group B below,
  • Indolocarbazole consisting of a combination of the moiety represented by Formula 3 and the moiety represented by Formula 4 may be selected from, for example, a compound listed in Group C below.
  • the first host and the second host described above may be prepared in various compositions by various S sums.
  • the weight ratio of the first host and the second host may be 1:99 to 99: 1, for example, 10: It may be selected within the range of 90 to 90:10.
  • the puncture transport characteristic by the crab 13 ⁇ 4 and the hole transport characteristic by the crab 2 host may be balanced.
  • the composition may be used as a light emitting material for an organic photonic device.
  • the light emitting material may use the organic compound as a host, and may further include at least one dopant.
  • the dopant may be a red, green or blue dopant.
  • the dopant is a material mixed with a small amount to generate light, and a material such as a metal complex that emits light by multiple excitation that excites above a triplet state may be used.
  • the dopant may be, for example, an inorganic, organic, or inorganic compound, and may be included in one kind or two kinds or more.
  • An example of the dopant may include a phosphorescent dopant, and an example of the phosphorescent dopant may be Ir, Pt, Os, Ti, Zr, Hf, Eu, Tb, Tm, Fe, Co, Ni, Ru, Rh, Pd, or these. And an organometallic compound including a combination of the above.
  • the phosphorescent dopant may be, for example, a compound represented by the following Chemical Formula z, but is not limited thereto.
  • ⁇ is a metal
  • L and X are the same or different from each other and a ligand forming a complex with ⁇ .
  • the ⁇ can be for example Ir, Pt, Os, Ti, Zr, Hf, Eu, Tb, Tm, Fe, Co, Ni, Ru, Rh, Pd or combinations thereof, wherein L and X are for example bidentate It may be a ligand.
  • the emission layer may have a thickness of about 100A to about 1000A, for example, about 200A to about 600A. When the thickness of the light emitting layer satisfies the aforementioned range, the light emitting layer may exhibit excellent light emission characteristics without a substantial increase in driving voltage.
  • an electron transport region is disposed on the emission layer.
  • the electron transport region may include at least one of a hole blocking layer, an electron transport layer, and an electron injection layer.
  • the electron transport region may have a structure of a hole blocking layer / electron transport layer / electron injection layer or an electron transport layer / electron injection layer, but is not limited thereto.
  • the organic light emitting device according to the embodiment of the present invention at least in the electron transport region
  • the electron transport layer located in contact with the light emitting layer is defined as the electron transport auxiliary layer (35).
  • the electron transport layer may be a single layer or a multilayer including two or more different materials. It may have a structure.
  • the electron transport region may include a compound for an organic optoelectronic device represented by Chemical Formula 1.
  • the electron transport region may include an electron transport layer, and the electron transport layer may include a compound for an organic optoelectronic device represented by Chemical Formula 1.
  • the electron transport auxiliary layer may include a compound for an organic optoelectronic device represented by the formula (1).
  • the formation conditions of the hole blocking layer, the electron transport layer, and the electron injection layer of the electron transport region are referred to the formation conditions of the hole injection dance.
  • the hole blocking layer may include, for example, at least one of BCP, Bphen, and BAlq, but is not limited thereto.
  • the hole blocking layer may have a thickness of about 20A to about 1000A, for example, about 30A to about 300A. When the thickness of the hole blocking layer satisfies the aforementioned range, excellent hole blocking characteristics may be obtained without a substantial increase in driving voltage.
  • the malleable electron transport layer may further include at least one of BCP, Bphen, and Alq 3 , Balq, TAZ, and NTAZ.
  • the electron transport layer may include at least one of the following compounds ET1 and ET2, but is not limited thereto.
  • the electron transport layer may have a thickness of about 100A to about 1000A, for example, about 150A to about 500A. When the thickness of the electron transport layer satisfies the aforementioned range, a satisfactory electron transport characteristic can be obtained without a substantial increase in driving voltage.
  • the electron transport layer may further include a metal-containing material in the material as described above.
  • the metal-containing material may include a Li complex.
  • the L i complex may include, for example, the following compound ET-D1 (lithium quinolate, LiQ) or ET-D2.
  • the electron transport region also facilitates the injection of electrons from the cathode 110. It may include an electron injection layer (EIL).
  • EIL electron injection layer
  • the electron injection layer 36 is a layer that is stacked on top of the electron transport layer to facilitate the injection of electrons from the cathode and ultimately improves the power efficiency, without any particular limitation as long as it is commonly used in the art.
  • a material such as LiF, Liq, NaCl, CsF, Li 2 O, BaO, or the like may be used.
  • the electron injection layer may include at least one selected from LiF, NaCl, CsF, Li 2 O, and BaO.
  • the electron injection layer may have a thickness of about 1 A to about 100 A, about 3 A to about 90 A. When the thickness of the electron injection layer satisfies the aforementioned range, a satisfactory electron injection characteristic may be obtained without a substantial increase in driving voltage.
  • the cathode 1 10 is provided above the organic layer 105.
  • a metal, an alloy, an electrically conductive compound having a relatively low work function, or a combination thereof may be used. Specific examples include lithium (Li), magnesium (Mg), aluminum (A1), aluminum-lithium (Al-Li), calcium (Ca), magnesium-indium (Mg-In), magnesium-silver (Mg-Ag), and the like. It can be used as a material for forming cathodes (1 to 10). Alternatively, various modifications are possible, such as to form the transmissive cathode 1 10 using ⁇ , ⁇ to obtain a front light emitting element.
  • the organic light emitting diode described above may be applied to an organic light emitting diode display.
  • the intermediate 1-1 (166 g, 655.6 mmol) was dissolved in 1000 mL of methanol, and then potassium carbonate (90.6 g, 655.6 mmol) was slowly added dropwise to the reaction vessel. Stir for about 30 minutes, filter the solution, remove all solvent,
  • the intermediate 1-11 (150 g, 592.4 mmol) was dissolved in 1000 mL of methane, and then potassium carbonate (81.6 g, 592.4 mmol) was slowly added dropwise to the reaction vessel. Stir for about 30 minutes, then filter the solution. Remove all solvents, then remove the reaction
  • the intermediate 1-12 (100.g, 552.5 mmol) and tetraphenylcyclopentadione (106.2 g ; 176.2 mmol) were dissolved in 700 mL of xylene, and then heated to reflux for 3 hours. The reaction is completed by pouring the reaction mixture into 2000 mL of methanol. The solid was filtered to give 116.0 g (78%) of intermediate 1-13.
  • 0.3 g (0.3 mmol) of tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) was added to 30 mL of 1,4-dioxane and 15 mL of water, and then heated to 60 ° C for 12 hours under a stream of nitrogen.
  • 0.3 g (0.3 mmol) of tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) was added to 30 mL of 1,4-dioxane and 15 mL of water, and then heated to 60 ° C. under nitrogen stream for 12 hours.
  • Tetraphenylcyclopentadione (180 g, 468.18 mmol) was used to synthesize 196 g (78%) of intermediate I-20 using the same synthesis method as for synthesis of Intermediate 1-3.
  • An organic light emitting diode was manufactured using the compound monool host obtained in Synthesis Example 1 and using Ir (PPy) 3 as a dopant.
  • ⁇ was used as a positive electrode with a thickness of 1000 A.
  • Aluminum (A1) was used at a thickness of 1000 A. Specifically, the method of manufacturing the organic light emitting device was described.
  • the anode was a 50 mm ⁇ 50 mm ⁇ 0.7 mm sized glass substrate having a sheet resistance of 15 ⁇ / ⁇ . After cutting with ultrasonic waves in acetone, isopropyl alcohol and pure water for 15 minutes each, UV ozone cleaning was used for 30 minutes.
  • N4, N4'-di (naphthalen-l-yl) -N4, N4'-diphenylbiphenyl-4,4'-diam ⁇ (on the substrate at a vacuum degree of 650xlO-7Pa and deposition rate of 0.1 to 3 nm / s) NPB) (80 nm) was deposited to form a 800 A hole transport layer.
  • a light emitting layer having a thickness of 300 A was formed using compound 1 obtained in Synthesis Example 1 under the same vacuum deposition conditions.
  • Ir (PPy) 3 which is a phosphorescent dopant, was simultaneously deposited.
  • Bis (2-methyl-8-quinolinolate) -4- (phenylphenolato) aluminum (BAlq) was deposited on the emission layer to form a hole blocking layer having a thickness of 50 A.
  • Alq3 was deposited under the same vacuum deposition conditions to form an electron transport layer having a thickness of 200 A.
  • LiF and A1 were sequentially deposited to manufacture an organic photoelectric device.
  • the structure of the organic photoelectric device is ITO / NPB (80 nm) / EML (Compound 1 (90 weight 0 /.) + Ir (PPy) 3 (10 weight 0 / o), 30 nm) / Balq (5 nm) / It was produced in the structure of Alq3 (20 nm) / LiF (1 nm) / Al (100 nm). Examples 2-15
  • NPB, BAlq, CBP and Ir (PPy) 3 used in the low-emission light emitting device is as follows.
  • the current value flowing through the unit device was measured by using a current-voltmeter (Keithley 2400) while increasing the voltage from 0V to 10V, and the measured current value was divided by the area to obtain a result.
  • the luminance was measured by using a luminance meter (Minolta Cs-IOOOA) while increasing the voltage from 0V to 10V to obtain a result.
  • a luminance meter Minolta Cs-IOOOA
  • the current efficiency (cd / A) of the same current density (10 mA / cm 2 ) was calculated using the luminance, current density and voltage measured from (1) and (2).
  • Glass substrates coated with ⁇ dium (Indium tin oxide) to a thickness of 1500 A were washed with distilled water ultrasonically. After washing the distilled water, ultrasonic washing with isopropyl alcohol, acetone, methane and the like, dried and transferred to a plasma cleaner, and then cleaned the substrate using oxygen plasma for 10 minutes and then transferred the substrate to a vacuum depositor.
  • Compound A was vacuum deposited on the ⁇ substrate using the prepared ⁇ transparent electrode as an anode to form a hole injection layer having a thickness of 700 A, and then Compound B was deposited to a thickness of 50 A on top of the injection layer, and then Compound C was deposited at 1020 A. Deposition to a thickness to form a hole transport layer.
  • a light emitting layer having a thickness of 400 A was formed.
  • compound 2 and compound B-1 were used in a 1: 1 ratio.
  • the compound D and Liq are simultaneously vacuum deposited on the light emitting layer at a ratio of 1 to 1 to form an electron transport layer having a thickness of 300 A, and the Liq 15 A and A1 1200A are sequentially vacuum deposited on the electron transport layer to form a cathode.
  • An organic light emitting device was manufactured.
  • the organic light emitting device has a structure having five organic thin film layers, specifically as follows.
  • Example 18 An organic light emitting diode was manufactured according to the same method as Example 16 except for using Compound 2 and Compound B-31 in a 1: 1 weight ratio.
  • Example 18 An organic light emitting diode was manufactured according to the same method as Example 16 except for using Compound 2 and Compound B-31 in a 1: 1 weight ratio.
  • Example 19 An organic light emitting diode was manufactured according to the same method as Example 16 except for using Compound 2 and Compound B-154 in a 1: 1 weight ratio.
  • Example 19 An organic light emitting diode was manufactured according to the same method as Example 16 except for using Compound 2 and Compound B-154 in a 1: 1 weight ratio.
  • Example 20 An organic light emitting diode was manufactured according to the same method as Example 16 except for using Compound 2 and Compound B-156 in a 1: 1 weight ratio.
  • Example 20 An organic light emitting diode was manufactured according to the same method as Example 16 except for using Compound 2 and Compound B-156 in a 1: 1 weight ratio.
  • Example 21 An organic light emitting diode was manufactured according to the same method as Example 16 except for using the compound 2 and the compound C-1 in a 1: 1 weight ratio.
  • Example 21 An organic light emitting diode was manufactured according to the same method as Example 16 except for using the compound 2 and the compound C-1 in a 1: 1 weight ratio.
  • Example 10 except that compound 10 and compound B-31 were used in a 1: 1 weight ratio
  • Example 23 An organic light emitting diode was manufactured according to the same method as Example 16 except for using gad using Compound 34 and Compound B-31 in a 1: 1 weight ratio.
  • Example 23
  • Example 16 An organic light emitting diode was manufactured according to the same method as Example 16 except for using the compound 42 and the compound B-31 in a 1: 1 weight ratio.
  • Example 24 An organic light emitting diode was manufactured according to the same method as Example 16 except for using Compound 65 and Compound B-31 in a 1: 1 weight ratio.
  • An organic light emitting diode was manufactured according to the same method as Example 16 except for using the compound 142 and the compound B-31 in a 1: 1 weight ratio. Comparative Examples 4 to 6
  • Example according to 16 to 25, and Comparative Examples 4 to 6 To evaluate the different light emission efficiency and lifetime characteristics of the organic light emitting element.
  • the current value flowing through the unit device was measured by using a current-voltmeter (Keithley 2400) while increasing the voltage from 0V to 10V, and the measured current value was divided by the area to obtain a result.
  • the luminance was measured by using a luminance meter (Minolta Cs-IOOOA) while increasing the voltage from 0V to 10V to obtain a result.
  • a luminance meter Minolta Cs-IOOOA
  • the current efficiency (cd / A) of the same current density (10 mA / cm 2 ) was calculated using the luminance, current density and voltage measured from (1) and (2).
  • Example 24 Compound 34 B-31 1: 1 54.0 72
  • Example 25 Compound 42 B-31 1: 1 52.4 69
  • Example 26 Compound 65 B-31 55.3 60
  • Example 27 Compound 142 B-31 54.4 69 Comparative Example 4 CBP-31.7 25 Bridge
  • Example 5 Compound a-35.6 36
  • Comparative Example 6 Compound b-36.1 35
  • Table 2 the organic light emitting diode according to Examples 16 to 25 was compared with the organic light emitting diode according to Comparative Examples 3 to 6. It can be seen that the luminous efficiency and lifespan characteristics are significantly improved.
  • ITO (Indium tin oxide) 7> A thin glass substrate coated with a thickness of 1500 A was washed with distilled water ultrasonically. After the washing of distilled water, ultrasonic washing with isopropyl alcohol, acetone, methanol and the like, dried and transferred to a plasma cleaner, and then washed the substrate using oxygen plasma for 10 minutes and then transferred to a vacuum evaporator. Compound A was vacuum deposited on the ⁇ substrate using the prepared ⁇ transparent electrode as an anode to form a hole injection layer having a thickness of 700 A, and then Compound B was deposited to a thickness of 50 A on top of the injection layer, and then Compound C was deposited at 1020 A. Deposition to a thickness to form a hole transport layer.
  • BH113 and BD370 (purchased from SFC Co., Ltd.) were doped with a blue fluorescence light emitting host and a dopant at a concentration of 5 wt% of a dopant to form a 200 A light emitting layer by vacuum deposition. Thereafter, Compound 1 was vacuum-deposited on the emission layer to form an electron transport auxiliary layer having a thickness of 50A.
  • the electron transport auxiliary layer may be used alone with the materials represented by the formula (1), and the compounds of groups B and C It can also be used in combination.
  • Compound D and Liq were simultaneously vacuum deposited at a weight ratio of 1: 1 in the electron transport auxiliary layer to form an electron transport layer having a thickness of 300 A, and Liq l5 A and A1 1200A were sequentially vacuum deposited on the electron transport layer to form a cathode.
  • an organic light emitting device was produced.
  • Example 26 Same as Example 26 except that the electron transport auxiliary layer was not used.
  • An organic light emitting device was manufactured by the method. evaluation
  • the current value flowing through the unit device was measured using a current-voltmeter (Keithley 2400) while increasing the voltage from 0V to 10V, and the result was divided by the measured current value area.
  • the luminance was measured by using a luminance meter (Minolta Cs-IOOOA) while increasing the voltage from 0V to 10V to obtain a result.
  • a luminance meter Minolta Cs-IOOOA
  • the current efficiency (cd / A) of the same current density (10 mA / cm 2 ) was calculated using the luminance, current density and voltage measured from (1) and (2).
  • the devices of Examples 26 to 40 and Comparative Examples 7 to 9 emit light at an initial luminance (cd / m 2 ) of 750 cd / m 2 and then over time. By measuring the decrease in luminance, the time point when the luminance was reduced to 97% of the initial luminance was measured as the life of T97.

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Abstract

화학식 1로 표현되는 유기 광전자 소자용 화합물, 이를 적용한 유기 광전자 소자 및 표시 장치에 관한 것이다. 상기 화학식 1에 대한 상세 내용은 명세서에서 정의한 바와 같다.

Description

【명세서】
【발명의 명칭】
유기 광전자 소자용 화합물, 유기 광전자 소자 및 표시 장치
【기술분야】
유기 광전자 소자용 화합물, 유기 광전자 소자 및 표시 장치에 관한 것이다.
【배경기술】
유기 광전자 소자 (organic optoelectric diode)는 전기 에너지와 광 에너지를 상호 전환할 수 있는 소자이다.
유기 광전자 소자는 동작 원리에 따라 크게 두 가지로 나눌 수 있다.
하나는 광 에너지에 의해 형성된 액시톤 (exciton)이 전자와 정공으로 분리되고 상기 전자와 정공이 각각 다른 전극으로 전달되면서 전기 에너지를 발생하는 광전 소자이고, 다른 하나는 전극에 전압 또는 전류를 공급하여 전기
에너지로부터 광 에너지를 발생하는 발광 소자이다.
유기 광전자 소자의 예로는 유기 광전 소자, 유기 발광 소자, 유기 태양 전지 및 유기 감광체 드럼 (organic photo conductor drum) 등을 들 수 있다.
이 중, 유기 발광 소자 (organic light emitting diode, OLED)는 근래 평판 표시 장치 (flat panel display device)의 수요 증가에 따라 크게 주목받고 있다. 상기 유기 발광 소자는 유기 발광 재료에 전류를 가하여 전기 에너지를 빛으로 전환시키는 소자로서, 통상 양극 (anode)과 음극 (cathode) 사이에 유기 층이 삽입된 구조로 이루어져 있다. 여기서 유기 층은 발광층과 선택적으로 보조층올 포함할 수 있으며, 상기 보조층은 예컨대 유기발광소자의 효율과 안정성을 높이기 위한 정공 주입 층, 정공 수송 층, 전자 차단 층, 전자 수송 층, 전자 주입 층 및 정공 차단 층에서 선택된 적어도 1층을 포함할 수 있다.
유기 발광 소자의 성능은 상기 유기 층의 특성에 의해 영향을 많이 받으며, 그 중에서도 상기 유기 층에 포함된 유기 재료에 의해 영향을 많이 받는다.
특히 상기 유기 발광 소자가 대형 평판 표시 장치에 적용되기 위해서는 정공 및 전자의 이동성을 높이는 동시에 전기화학적 안정성을 높일 수 았는 유기 재료의 개발이 필요하다.
【발명의 상세한 설명】
【기술적 과제】 일 구현예는 고효율 및 장수명 유기 광전자 소자를 구현할 수 있는 유기 광전자 소자용 화합물을 제공한다.
다른 구현예는 상기 유기 광전자 소자용 화합물을 포함하는 유기 광전자 소자를 제공한다.
또 다른 구현예는 상기 유기 광전자 소자를 포함하는 표시 장치를 제공한다.
【기술적 해결방법】
일 구현예에 따르면, 하가화학식 1로 표현되는 유기 광전자 소자용 화합물을 제공한다.
[화학식 1 ]
Figure imgf000003_0001
상기 화학식 1에서,
R1 내지 R5는 각각 독립적으로 수소, 중수소, 치환 또는 비치환된 C1 내 C 알킬기, 또는 페닐기이고,
Z1 내지 Z3은 각각 독립적으로 CRa 또는 N이고,
Z1 내지 Z3 중 적어도 둘은 N이고，
Ra 및 R6은 수소, 중수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기, 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C12 아릴기이고,
Ar1 및 Ar2는 각각 독립적으로 수소, 중수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기, 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C18 아릴기이고,
a, b, c, d, 및 e는 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이되,
4 < a+b+c+d+e < 5이고，
상기 "치환"이란, 적어도 하나의 수소가 중수소, C1 내지 C4 알킬기, 또는 C6 내지 C12 아릴기로 치환된 것을 의미한다.
또 다른 구현예에 따르면, 서로 마주하는 양극과 음극, 그리고 상기 양극과 상기 음극 사이에 위치하는 적어도 한 층의 유기층을 포함하고， 상기 유기층은 전술한 유기 광전자 소자용 화합물을 포함하는 유기 광전자 소자를 제공한다. 또 다른 구현예에 따르면 상기 유기 광전자 소자를 포함하는 표시 장치를 제공한다.
【발명의 효과】
고효율 장수명 유기 광전자소자를 구현할 수 있다.
【도면의 간단한 설명】
도 1 내지 도 4는 일 구현예에 따른 유기 발광 소자를—도시한 단면도이다.
<부호의 설명 >
100, 200, 300, 400: 유기 발광 소자
105: 유기층, 1 10: 음극
120: 양극
130: 발광층
140: 정공 보조층
10: 유기 발광 소자
31 : 정공수송층
33: 정공수송보조층
34: 전자수송층
35: 전자수송보조층
36: 전자주입층
37: 정공주입층
【발명의 실시를 위한 최선의 형태】
이하, 본 발명의 구현예를 상세히 설명하기로 한다. 다만, 이는 예시로서 제시되는 것으로, 이에 의해 본 발명이 제한되지는 않으며 본 발명은 후술할 청구범위의 범주에 의해 정의될 뿐이다.
본 명세서에서 "치환''이란 별도의 정의가 없는 한, 치환기 또는 화합물 중의 적어도 하나의 수소가 중수소, 할로겐기, 히드록실기, 아미노기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30 아민기, 니트로기， 치환 또는 비치환된 C1 내지 C40 실릴기, CI 내지 C30 알킬기, CI 내지 C10 알킬실릴기, C6 내지 C30 아릴실릴기, C3 내지 C30 시클로알킬기, C3 내지 C30 헤테로시클로알킬기, C6 내지 C30 아릴기, C6 내지 C30 헤테로아릴기, C1 내지 C20 알^시기, 플루오로기, 트리플루오로메틸기 등의 C1 내지 C10 트리플루오로알킬기 또는 시아노기로 치환된 것을 의미한다ᅳ
본 명세서에서 "헤테로 "란 별도의 정의가 없는 한, 하나의 작용기 내에 N,
0, S, P 및 Si로 이루어진 군에서 선택되는 헤테로 원자를 1 내지 3개 함유하고， 나머지는 탄소인 것을 의미한다.
본 명세서에서 "알킬 (alkyl)기"이란 별도의 정의가 없는 한, 지방족 탄화수소기를 의미한다. 알킬기는 어떠한 이중결합이나 삼중결합을 포함하고 있지 않은 "포화 알킬 (saturated alkyl)기"일 수 있다.
상기 알킬기는 C1 내지 C30인 알킬기일 수 있다. 보다 구체적으로 알킬기는 C1 내지 C20 알킬기 또는 C1 내지 C10 알킬기일 수도 있다. 예를 들어， C1 내지 C4 알킬기는 알킬쇄에 1 내지 4 개의 탄소원자가 포함되는 것을 의미하며, 메틸, 에틸， 프로필, 이소-프로필 , η-부틸, 이소-부틸, sec-부틸 및 tᅳ부틸로 이루어진 군에서 선택됨을 나타낸다.
상기 알킬기는 구체적인 예를 들어 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기 부틸기, 이소부틸기, t-부틸기, 펜틸기， 핵실기, 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로핵실기 등을 의미한다.
본 명세서에서 "아릴 (aryl)기"는 탄화수소 방향족 모이어티를 하나 이상 갖는 그룹을 총괄하는 개념으로서，
탄화수소 방향족 모이어티의 모든 원소가 P-오비탈을 가지면서 , 이들 P- 오비탈이 공액 (conjugation)을 형성하고 있는 형태， 예컨대 페닐기， 나프틸기 등을 포함하고,
2 이상의 탄화수소 방향족 모이어티들이 시그마 결합올 통하여 연결된 형태, 예컨대 바이페닐기， 터페닐기， 쿼터페닐기 등을 포함하며,
2 이상의 탄화수소 방향족 모이어티들이 직접 또는 간접적으로 융합된 비방향족 융합 고리도 포함할 수 있다ᅳ 예컨대, 플루오레닐기 등을 들 수 있다. 아릴기는 모노시클릭, 폴리시클릭 또는 융합 고리 폴리시클릭 (즉, 탄소원자들의 인접한 쌍들을 나워 가지는 고리) 작용기를 포함한다. 본 명세서에서 "헤테로아릴 (heteroaryl)기 "는 아릴기 내에 N, 0, S, P 및 Si로 이루어진 군에서 선택되는 헤테로 원자를 1 내지 3개 함유하고, 나머지는 탄소인 것을 의미한다. 2 이상의 헤테로아릴기는 시그마 결합을 통하여 직접 연결되거나, 상기 헤테로아릴기가 2 이상의 고리를 포함할 경우, 2 이상의 고리들은 서로 융합될 수 있다. 상기 헤테로아릴기가 융합고리인 경우, 각각의 고리마다 상기 헤테로 원자를 1 내지 3개 포함할 수 있다.
상기 해테로아릴기는 구체적인 예를 들어, 피리디닐기, 피리미디닐기， 피라지닐기, 피리다지닐기, 트리아지닐기, 퀴놀리닐기, 이소퀴놀리닐기 등을 의미한다.
보다 구체적으로， 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기 및 /또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30 헤테로아릴기는, 치환 또는 비치환된 페닐기, 치환 또는 비치환된 나프틸기, 치환 또는 비치환된 안트라세닐기, 치환 또는.비치환된 페난트릴기, 치환 또는 비치환된 나프타세닐기, 치환 또는 비치환된 피레닐기, 치환 또는 비치환된 바이페닐기, 치환 또는 비치환된 P-터페닐기, 치환 또는 비치환된 m-터페닐기, 치환 또는 비치환된 크리세닐기, 치환 또는 비치환된 트리페닐레닐기, 치환 또는 비치환된 페릴레닐기, 치환 또는 비치환된
플루오레닐기, 치환 또는 비치환된 인데닐기, 치환 또는 비치환된 퓨라닐기, 치환 또는 비치환된 티오페닐기, 치환 또는 비치환된 피를릴기, 치환 또는 비치환된 피라졸릴기 , 치환 또는 비치환된 이미다졸일기, 치환 또는 비치환된 트리아졸일기， 치환 또는 비치환된 옥사졸일기, 치환 또는 비치환된 티아졸일기, 치환 또는 비치환된 옥사디아졸일기, 치환 또는 비치환된 티아디아졸일기， 치환 또는 비치환된 피리딜기, 치환 또는 비치환된 피리미디닐기, 치환 또는 비치환된 피라지닐기, 치환 또는 비치환된 트리아지닐기, 치흰 : 또는 비치환된 벤조퓨라닐기, 치환 또는 비치환된 벤조티오페닐기, 치환 또는 비치환된 벤즈이미다졸일기, 치환 또는 비치환된 인돌일기, 치환 또는 비치환된 퀴놀리닐기, 치환 또는 비치환된 이소퀴놀리닐기, 치환 또는 비치환된 퀴나졸리닐기, 치환 또는 비치환된
퀴녹살 ;리닐기， 치환 또는 비치환된 나프티리디닐기, 치환 또는 비치환된
벤즈옥사진일기， 치환 또는 비치환된 벤즈티아진일기, 치환 또는 비치환된 아크리디닐기， 치환 또는 비치환된 페나진일기, 치흰; 또는 비치환된
페노티아진일기， 치환 또는 비치환된 페녹사진일기 ? 치환 또는 비치환된 다벤조퓨란일기, 또는 치환 또는 비치환된 디벤조티오펜일기, 또는 이들의 조합일 수 있으나, 이에 제한되지는 않는다.
본 명세서에서, 정공 특성이란, 전기장 (electric field)을 가했을 때 전자를 공여하여 정공을 형성할 수 있는 특성을 말하는 것으로 , HOMO 준위를 따라 전도 특성을 가져 양극에서 형성된 정공의 발광층으로의 주입, 발광층에서 형성된 정공의 양극으로의 이동 및 발광층에서의 이동을 용이하게 하는 특성을 의미한다. 또한 전자 특성이란, 전기장을 가했을 때 전자를 받을 수 있는 특성을 말하는 것으로, LUMO 준위를 따라 전도 특성을 가져 음극에서 형성된 전자의 발광층으로의 주입, 발광층에서 형성된 전자의 음극으로의 이동 및 발광층에서의 이동을 용이하게 하는 특성을 의미한다. 이하 일 구현예에 따른 유기 광전자 소자용 화합물을 설명한다. 일 구현예에 따른 유기 광전자 소자용 화합물은 하기 화학식 1로 표현된다.
[화학식 1]
Figure imgf000007_0001
상기 화학식 1에서,
R1 내지 R5는 각각 독립적으로 수소, 중수소, .치환 또는 비치환된 C1 내지 C4 알킬기, 또는 페닐기이고,
Z1 내지 Z3은 각각 독립적으로 CRa또는 N이고,
Z1 내지 Z3 중 적어도 둘은 N이고,
Ra 및 R6은 수소, 중수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기, 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C12 아릴기이고,
Ar1 및 Ar2는 각각 독립적으로 수소, 중수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기, 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C18 아릴기이고, a, b, c, d, 및 e는각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이되,
4 < a+b+c+d+e < 5이고，
상기 "치환''이란, 적어도 하나의 수소가 중수소， C1 내지 C4 알킬기， 또는 C6 내지 C12 아릴기로 치환된 것을 의미한다.
상기 화학식 1로 표현되는 유기 광전자 소자용 화합물은 4개 이상의 페닐기로 치환된 벌키한 방향족기 부분과 질소 함유 6각환이 페닐 링커로 연결된 구조이다.
상기 질소 함유 6각환은 소자 내에서 전자의 주입이나 이동을 용이하게 하는 역할을 하고， 상기 벌키한 방향족기 부분은 정공의 주입 및 이동을 도와주거나 혹은 화합물의 유리전이온도를 높게 하며, 분자간 상호작용의 억제로 인해 발광 효율이 높아지며, 분자량 대비 낮은 증착 온도를 가질 수 있게 한다. 따라서 상기 화학식 1로 표현되는 유기 광전소자용 화합물은 소자 내에서 막을 형성할 때, 벌키한 방향족기 부분보다 상대적으로 납작한 구조로 이루어진 질소 함유 6각환의 패킹이 우수하게 되며, 이는 소자 내에서 전자의 주입 및 이동을 용이하게 하는 장점이 있다. 따라서 상기 화학식 1로 표현되는 유기 광전자 소자용 화합물은 특히 전자주입보조층으로 사용할 시 우수한 전자 전달 특성으로 인해 소자의 구동 전압을 감소 시킬 수 있고, 발광층으로의 빠른 전자의 주입으로 인해 발광효율을 높일 수 있다. 한편 정공 주입 및 이동이 우수한 재료와의 흔합으로 발광층에 사용할 시에도 우수한 전자 전달 능력으로 인해 구동전압이 감소 되며, 벌키한 방향족기 부분에 의한 분자간 상호작용의 감소 효과로 인해 우수한 발광 효율을 얻을 수 있다. 또한, 상기 화학식 1로 표현되는 유기 광전자 소자용 화합물의 경우 벌키한 방향족기 부분의 구형 구조로 인하여 증착온도를 낮출 수 있을 뿐만 아니라 우수한 용해도를 가지게 되므로, 증착용과
용액공정용으로 모두 유용하게 사용할 수 있다.
특히, 상기 질소 함유 6각환과 상기 벌키한 방향족기가 링커로
연결됨으로써 Bonding 간의 prerotation을 증가시켜 결정화도를 줄이는 역할을 하며， 벌키한 방향족과 링커로 인하여 분자의 용해도가 증가되어 용액공정이 가능해지는 장점이 있다.
뿐만 아니라, 상기 링커를 페닐기로 고정함으로써 6각환이 포함된 질소 함육 치환기와 벌키한 방향족기 사이의 거리를 짧게 함으로써 분자 모양을 더욱 구형에 가깝게 구현할 수 있고， 이로부터 증착온도를 낮추고 우수한 내열안정성을 가질 수 있다.
상기 화학식 1은 벌키한 방향족기 부분에 포함되는 페닐기 개수에 따라 하기 화학식 1-1 내지 1-IV 중 어느 하나로 표현될 수 있다. 화학식 1-1 [화학식 1-Π]
Figure imgf000009_0001
상기 화학식 1-1 내지 1-IV에서, R1 내지 R6,Z' 내지 Z3, Ar1 및 Ar2는 전술한 바와 같다.
상기 화학식 1-1은 구체적으로 링커가 메타, 오르쏘, 또는 파라 위치로 연결됨에 따라 각각 하기 화학식 1-Ia, l-Ib,또는 1-Ic로 표현될 수 있다. [화학식 1_ I a [화학식 1- I b]
Figure imgf000010_0001
1- I c
Figure imgf000010_0002
또한, 상기 화학식 1-Π 역시 구체적으로 링커가 메타, 오르쏘, 또는 파라 위치로 연결됨에 따라 각각 하기 화학식 1-na, 1-nb, 또는 1-nc로 표현될 수 있다.
[화학식 i-na] [화학식 1-nb]
Figure imgf000010_0003
Figure imgf000011_0001
본 발명의 일 예에 따르면 유기 광전자 소자용 화합물은 상기 화학식 1-1 a, 1- I b, 1- I c, l-Πα또는 1-IIc로 표시될 수 있다.
상기 화학식 1- I a, 1- I b, 1- I c, 1-na, 1-nb, 및 1-IIc에서， R1 내지 R6, Z1 내지 Z^Ar1 및 Ar2는 전술한 바와 같다.
본 발명의 일 구현예에서， 상기 R1 내지 R5는 각각 독립적으로 수소， 중수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C4 알킬기, 또는 페닐기일 수 있다.
구체적으로는 수소, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 또는 페닐기일 수 있으며, 예컨대 R1 내지 R5 모두 수소일 수 있다.
또한, R6는 수소， 중수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기, 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C12 아릴기일 수 있다ᅳ 구체적으로는 수소, 또는 치환 또는 비치환된 'C6 내지 C12 아릴기일 수 있고, 더욱 구체적으로는 수소, 페닐기， 바이페닐기일 수 있으며, 예컨대 수소, 또는 페닐기일 수 있다.
더욱 구체적인 예로서 상기 화학식 1-1은 하기 화학식 1-Id또는 1-Ie로 표현될 수 있고，
[화학식 1- I d] [화학식 1-Ie]
Figure imgf000011_0002
상기 화학식 l-Π은 하기 화학식 1-nd또는 1-ne로 표현될 수 있다.
-nd] [화학식 1-ne]
Figure imgf000012_0001
본 발명의 일 예에 따르면 유기 광전자 소자용 화합물은 상기 화학식 1- I d, 1- I e, 또는 1-nd로 표시될 수 있다.
상기 화학식 1- I d, 1- I e, 1-nd, 및 1-IIe에서 ,Ζ1 내지 Z3, Ar1 및 Ar2는 전술한 바와 같다.
본 발명의 일 구현예에서, 상기 Z1 내지 Z3 층 적어도 둘은 N 일 수 있다. 예컨대 ,Ζ1 및 Ζ3가 Ν이거나 Ζ1 및 Ζ2가 Ν인 피리미디닐기 ¾ 수 있으며 ,Ζ1 내지 Ζ3가 모두 Ν인 트리아지닐기일 수 있다.
본 발명의 일 구현예에서, 상기 Ar1 및 Ar2는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C6 내지 C18 아릴기일 수 있다. 구체적으로 Ar1 및 Ar2는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 페닐기, 치환 또는 비치환된 바이페닐기, 치환 또는 비치환된 터페닐기， 또는 치환 또는 비치환된 나프틸기일 수 있으며, 예컨대 하기 그룹 1에 나열된 치환기 중 하나일 수 있다.
[그룹 1]
Figure imgf000012_0002
상기 그룹 1에서, *은 연결 지점이다.
상기 화학식 1에서, 가장 구체적인 예로서 하기 그룹 A에 나열된 치환기에서 선택될
Figure imgf000013_0001
[그룹 A]
Figure imgf000013_0002
Figure imgf000013_0003
Figure imgf000014_0001
상기 유기 광전자 소자용 화합물은 예컨대 하기 그룹 2에 나열된 화합물에서 선택될 수 있으나， 이에 한정되는 것은 아니다.
[그룹 2]
Figure imgf000015_0001
Figure imgf000016_0001
Figure imgf000017_0001
ΐ0ΐ700/9ΐ0ΖΗΜ/Χ3<Ι OTSSCl/.lOZ OAV
Figure imgf000018_0001
ΐ0ΐ700/9ΐ0ΖΗΜ/Χ3<Ι OTSSCl/.lOZ OAV
Figure imgf000019_0001
이하 다른 구현예에 따른 유기 광전자 소자에 대하여 설명한다. 다른 구현예에 따른 유기 광전자 소자는 서로 마주하는 양극과 음 그리고 상기 양극과 상기 음극 사이에 위치하는 적어도 한 층의 유기층을 포함하고, 상기 유기층은 전술한 유기 광전자 소자용 화합물을 포함할 수 있다. 더욱 구체적으로 상기 유기층은 발광층, 전자수송층, 및 정공수송층을 포함할 수 있고, 상기 전자수송층 또는 상기 발광층은 상기 화학식 1로 표현되는 유기 광전자 소자용 화합물을 포함할 수 있다.
또한, 상기 전자수송층은 발광층에 인접한 전자수송보조층을 더 포함할 수 있고, 전술한 유기 광전자 소자용 화합물은 상기 전자수송보조층에 포함될 수 았다. .
상기 유기 광전자 소자는 전술한 바와 같은 화학식 1로 표시되는 유기 광전자 소자용 화합물을 포함한 유기층을 구비함으로써， 저구동전압, 고효율, 고휘도 및 장수명을 가질 수 있다.
도 1 내지 도 4는 본발명의 일구현예를 따르는 유기발광소자 (100, 200, 300, 400)의 단면도를 개략적으로 도시한것이다. 이하, 도 I을 참조하여 본 발명의 일구현예를 따르는 유기발광소자의 구조 및 제조방법을 설명하면 다음과 같다. 유기발광소자 (100)는 음극 (110), 유기층 (130) 및 양극 (120)이 차례로 적층된 구조를 갖는다.
상기 음극 (110) 하부 또는 양극 (120) 상부에는 기판이 추가로 배치될 수 있다. 상기 기판으로는, 통상적인 유기발광소자에서 사용되는 기판을 사용할 수 있는데, 기계적 강도， 열안정성， 투명성, 표면평활성， 취급용이성 및 방수성이 우수한 유리기판 또는 투명플라스틱 기판을 사용할 수 있다.
상기 양극 (120)은 예를 들면, 기판 상부에， 양극용 물질을 증착법 또는 스퍼터링법 등을 이용하여 제공함으로써 형성될 수 있다. 상기 양극용 물질은 정공 주입이 용이하도록 높은 일함수를 갖는 물질 중에서 선택될 수 있다. 상기 양극 (120)은 반사형 전극, 반투과형 전극 또는 투과형 전극일 수 있다. 양극용 물질로는 산화인듐주석 (ITO), 산화인듐아연 (IZO), 산화주석 (Sn02), 산화아연 (ZnO) 등을 이용할 수 있다. 또는, 마그네슘 (Mg), 알루미늄 (A1), 알루미늄 -리튬 (Al-Li), 칼슘 (Ca), 마그네슘 -인듐 (Mg-In), 마그네슘-은 (Mg-Ag) 등과 같은 금속올 이용할 수 있다.
상기 양극 (120)은 단일층 또는 2 이상의 층을 포함한 다층 구조를 가질 수 있다. 상기 음극 (120) 상부로는 유기층 (105)이 배치되어 있다.
상기 유기층 (105)은 정공수송영역 (hole transport region); 발광층 (emission layer); 및 전자수송영역 (electron transport region);을 포함할 수 있다. 예컨대, 도 2를 참조하여 본 발명의 일구현예에 따른 유기발광소자를 설명하면 다음과 같다.
유기층 (105)은 양극 (120)과 발광층 (130) 사이에 위치하는 정공보조층 (140)을 더 포함할 수 있다.
도 3을 참고하면, 상기 정공수송영역에는 적어도 2층의 정공보조층이 포함될 수 있고, 이 경우 발광층에 접하여 위치하는 정공보조층을
정공수송보조층 (33), 그리고 양극에 접하여 위치하는 정공보조층을 정공수송층 (31) 이라고 정의한다.
상기 정공수송영역은 정공주입층, 정공수송층, 전자저지층 및 버퍼층 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
상기 정공수송영역은 정공주입층만을 포함하거나, 정공수송층만을 포함할 수 있다. 또는, 상기 정공수송영역은， 양극 (120)으로부터 차례로 적층된,
정공주입층 (37)/정공수송층 (31) 또는 정공주입층 (37)/정공수송층 (31)/전자저지층의 구조를 가질 수 있다.
예컨대， 정공주입층 (37) 및 전자주입층 (36)을 추가로 포함하여 도 4에 나타낸 바와 같이
양극 (120)/정공주입층 (37)/정공수송층 (31)/정공수송보조층 (33)/발광층 (130)/전자수송보 조층 (35)/전자수송층 (34)/전자주입층 (37)/음극 (1 10)이 차례로 적층된 구조를 가질 수 있다.
정공주입층 (37)은 양극으로 사용되는 ΠΌ와, 정공수송층 (Ή)으로 .사용되는 유기 물질 사이의 계면 특성을 개선할 뿐만 아니라 그 표면이 평탄하지 않은
ΠΌ의 상부에 도포되어 ΠΌ의 표면을 부드럽게 만들어 주는 기능을 한다. 예를 들어 정공주입층 (37)은 애노드로 사용될 수 있는 ITO의 일함수 수준과
정공수송층 (31)의 HOMO 수준의 차이를 조절하기 위하여 ΠΌ의 일함수 수준과 정공수송층 (31)의 HOMO 수준의 중간값을 가지는 물질로서, 특히 적절한
전도성을 갖는 물질을 선택한다. 본 발명과 관련하여 정공주입층 (37)을 구성하는 물질로서 Ν4,Ν4'-디페닐 -Ν4,Ν4'-비스 (9-페닐 -9Η-카바졸 -3-일)바이페닐 -4,4'- ^ 0>¾(N4,N4'-diphenyl-N4,N4'-bis(9-phenyl-9H-carbazol-3-yl)biphenyl-4,4'-diamine)°l CO
n
Figure imgf000022_0001
10000 A, 예를들면, 약 100 A 내지 약 1000 A이고, 상기 정공수송층의 두께는 약 50A 내지 약 2000 A , 예를 들면 약 100A 내지 약 1500A일 수 있다. 상기 정공 수송 영역, 정공주입층 및 정공수송층의 두께가 전슬한 바와 같은 범위를 만족할 경우, 실질적인 구동 전압 상승없이 만족스러운 정도의 정공 수송 특성을 얻을 수 있다.
상기 정공수송영역은 상술한 바와 같은 물질외에, 도전성 향상올 위하여 전하 -생성물질을 더 포함할 수 있다. 상기 전하 -생성 물질은 상기 정공 수송 영역 내에 균일하게 또는 불균일하게 분산되어 있을 수 있다.
상기 전하 -생성물질은 예를들면 , ρ-도편트일 수 있다. 상기 Ρ-도편트는 퀴논유도체, 금속산화물 및 시아노기 -함유 화합물 중 하나일 수 있으나， 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어 , 상기 Ρ-도펀트의 비제한적인 예로는, 테트라사이아노퀴논다이메테인 (TCNQ) 및 2,3,5,6-테트라플루오로-테트라사이아노- 1,4-벤조퀴논다이메테인 (F4-TCNQ).등과 같은 퀴논 유도체; 텅스텐산화물 및 몰리브덴산화물 등과 같은 금속산화물; 및 하기 화합물 HT-D1 등과 같은 시아노기 -함유 화합물 등을 들 수 있으나， 이에 한정되는 것은 아니다.
< HT-D1> <F4-TCNQ>
Figure imgf000023_0001
상기 정공수송영역은, 버퍼층을 더 포함할 수 있다.
상기 버퍼층은 발광층에서 방출되는 광의 파장에 따른 광학적 공진거리를 보상하여 효율을 증가시키는 역할을 할 수 있다.
상기 정공 수송 영역 상부에 진공증착법， 스핀코팅법, 캐스트법, LB법 등과 같은 방법을 이용하여 발광층 (EML)을 형성할 수 있다. 진공증착법 및
스핀코팅법에 의해 발광층을 형성하는 경우, 그 증착조건 및 코팅조건은 사용하는 화합물에 따라 다르지만, 일반적으로 정공주입층의 형성과 거의 동일한 조건 범위 중에서 선택될 수 있다.
상기 발광층은 호스트 및 도편트를 포함할 수 있다. 본 발명의 일구현예에 따른 유기 광전자 소자는, 전술한 화학식 1로 표현되는 유기 광전자 소자용 화합물을 단독으로 포함하거나, 상기 화학식 1로 표현되는 유기 광전자 소자용 화합물을 제 1호스트로서 포함하고, 카바졸계 화합물을 제 2 호스트로서 더 포함할 수 있다.
상기 카바졸계 화합물은 구체적으로 하기 화학식 2로 표현되거나 하기 화학식 3으로 표현되는 모이어티와 하기 화학식 4로 표현되는 모이어티의 조합으로 이루어질 수 있다.
[화학식 2]
Figure imgf000024_0001
[화학식 3] [화학식 4]
Figure imgf000024_0002
상기 화학식 2 내지 4에서
Ar3 내지 Ar6는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기, 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30 해테로아릴기이고,
m은 0 또는 1의 정수이고，
상기 화학식 3의 인접한 두 개의 *는 상기 화학식 4의 2개의 *와 결합하여 융합고리를 형성하고， 이 때 상기 화학식 3에서 융합고리를 형성하지 않은 *는 각각 독립적으로 CRb이고,
Rb, 및 R7 내지 R14는 각각 독립적으로 수소, 중수소, 치환 또는 비치환된 C 1 내지 C 10 알킬기, C6 내지 C30 아릴기, 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30 헤테로아릴기이다.
본 발명의 일예에서, 상기 화학식 2 내지 4에서, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기， 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30 해테로아릴기는 치환 또는 비치환돤 페닐기 , 치환 또는 비치환된 바이페닐기, 치환 또는 비치환된 터페닐기, 치환 또는 비치환된 쿼터페닐기, 치환 또는 비치환된 나프틸기, 치환 또는 비치환된 트리페닐렌기， 치환 또는 비치환된 플루오레닐기, 치환 또는 비치환된 디벤조퓨란일기, 치환 또는 비치환된
디벤조티오펜일기, 치환 또는 비치환된 피리디닐기, 치환 또는 비치환된
피리미디닐기, 치환 또는 비치환된 트리아지닐기, 치환 또는 비치환된 퀴놀리닐기， 치환 또는 비치환된 이소퀴놀리닐기, 또는 치환 또는 비치환된 퀴나졸일기 중에서 선택된 것이며,
여기서 치환되거나 비치환된에서 치환은 적어도 하나의 수소가 중수소, C1 내지 C10 알킬기, C6 내지 C18 아릴기, C3 내지 C20 헤테로아릴기로 치환된 것을 의미한다.
본 발명의 일예에서, 상기 화학식 2 내지 4에서,
치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기, 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30 헤테로아릴기는 치환 또는 비치환된 페닐기， 치환 또는 비치환된 바이페닐기， 치환 또는 비치환된 터페닐기, 치환 또는 비치환된 나프틸기, 치환 또는 비치환된 트리페닐렌기， 치환 또는 비치환된 플루오레닐기, 치환 또는 비치환된 디벤조퓨란일기, 치환 또는 비치환된 디벤조티오펜일기 , 치환 또는 비치환된 피리디닐기, 치환 또는 비치환된 피리미디닐기， 치환 또는 비치환된 트리아지닐기, 치환 또는 비치환된 퀴놀리닐기, 치환 또는 비치환된
이소퀴놀리닐기, 또는 치환 또는 비치환된 퀴나졸일기 중에서 선택된 것이며, 여기서 치환되거난 비치환된에서 치환은 적어도 하나의 수소가 중수소, C 1 내지 C4 알킬기， C6 내지 C12 아릴기, C3 내지 C15 헤테로아릴기로 치환된 것을 의미한다.
상기 화학식 2로 표현되는 바이카바졸은 예컨대 하기 그룹 B에 나열된 화합물에서 선택될 수 있고，
상기 화학식 3으로 표현되는 모이어티와 상기 화학식 4로 표현되는 모이어티의 조합으로 이루어진 인돌로카바졸은 예컨대 하기 그룹 C에 나열된 화합물에서 선택될 수 있다.
Figure imgf000026_0001
-
Figure imgf000027_0001
Figure imgf000028_0001
Figure imgf000029_0001
//:/ O 6SS09S2M12 SSS2/J0ZAV
Figure imgf000030_0001
ο
Figure imgf000031_0001
o
Figure imgf000032_0001
[B-114] [B-115] [B-116]
Figure imgf000032_0002
-117] [B-118 [B-119]
Figure imgf000033_0001
[B-123] B-124] [B-
Figure imgf000033_0002
[B-126] [B-127] [B-128]
Figure imgf000033_0003
Figure imgf000034_0001
in
r
Figure imgf000035_0001
[C-6] [C-7] [C-8 [C-9] [C-10]
Figure imgf000036_0001
[C-21] [C-22] [C-23] [C-24] [C-25]
Figure imgf000036_0002
상술한 제 1 호스트와 게 2 호스트는 다양한 S합에 의해 다양한 조성물로 준비될 수 있다ᅳ 예컨대 상기 제 1호스트와 상기 제 2호스트의 중량비는 1 :99 내지 99: 1， 예를 들면, 10 :90 내지 90 : 10의 범위 내에서 선택될 수 있다.
예컨대 ,2:8 내지 8:2,3:7 내지 7:3,4:6 내지 6:4, 그리고 5:5의 중량비로 포함될 수 있다. 상기 중량비 범위를 만족할 경우, 상기 게 1¾스^에 의한 천자 수송 특성 및 상기 게 2호스트에 의한 정공 수송 특성이 균형을 이를 수 있어,
유기발광소자의 발광.효율 및 수명이 향상될 수 있다. 일 예로, 상기 조성물은 유기 광잔자 소자용 발광 재료로 사용될 수 있다. 이 때 발광 재료는 상기 유기화합물을 호스트 (host)로 사용할 수 있으며, 적어도 1종의 도펀트 (dopant)를 더 포함할 수 았다. 상기 도편트는 적색, 녹색 또는 청색의 도펀트일 수 있다.
상기 도펀트는 미량 흔합되어 발광을 일으키는 물질로, 일반적으로 삼중항 상태 이상으로 여기시키는 다중항 여기 (multiple excitation)에 의해 발광하는 금속 착체 (metal complex)와 같은물질이 사용될 수 있다. 상기 도편트는 예컨대 무기， 유기, 유무기 화합물일 수 있으며 , 1종 또는 2종 이상 포함될 수 있다.
상기 도편트의 일 예로 인광 도펀트를 들 수 있으며, 인광 도편트의 예로는 Ir, Pt, Os, Ti, Zr, Hf, Eu, Tb, Tm, Fe, Co, Ni, Ru, Rh, Pd 또는 이들의 조합을 포함하는 유기 금속화합물을 들 수 있다ᅳ 상기 인광 도편트는 예컨대 하기 화학식 z로 표현되는 화합물을 사용할 수 있으나， 이에 한정되는 것은 아니다.
[화학식 Z]
L2MX
상기 화학식 Z에서 , Μ은 금속이고, L 및 X는 서로 같거나 다르며 Μ과 착화합물을 형성하는 리간드이다.
상기 Μ은 예컨대 Ir, Pt, Os, Ti, Zr, Hf, Eu, Tb, Tm, Fe, Co, Ni, Ru, Rh, Pd 또는 이들의 조합일 수 있고, 상기 L 및 X는 예컨대 바이덴테이트 리간드일 수 있다. 상기 발광층의 두께는 약 100A 내지 약 1000A, 예를 들면 약 200A 내지 약 600A일 수 있다. 상기 발광층의 두께가 전술한 바와 같은 범위를 만족할 경우， 실질적인 구동 전압 상승 없이 우수한 발광 특성을 나타낼 수 있다.
다음으로 발광층 상부에 전자 수송 영역이 배치된다.
전자수송영역은 정공저지층, 전자수송층 및 전자주입층 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
예를들어， 전자수송영역은 정공저지층 /전자수송층 /전자주입충 또는 전자수송층 /전자주입층의 구조를 가질 수 있으나， 이에 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 본 발명의 일구현예에 따른 유기발광소자는, 전자수송영역에 적어도
2층의 전자수송층을 포함할 수 있고, 이 경우 발광층에 접하여 위치하는 전자수송층을 전자수송보조층 (35) 이라고 정의한다.
상기 전자수송층은 단일층 또는 2 이상의 서로 다른 물질을 포함한 다층 구조를 가질 수 있다.
상기 전자수송영역은 상기 화학식 1로 표시되는 유기 광전자 소자용 화합물을 포함할 수 있다. 예를 들어, 전자 수송 영역은 전자수송층을 포함하고 상기 전자수송층에 상기 화학식 1로 표현되는 유기 광전자 소자용 화합물이 포함될 수 있다. 더욱 구체적으로, 전자수송보조층에 상기 화학식 1로 표시되는 유기 광전자 소자용 화합물이 포함될 수 있다.
상기 전자 수송 영역의 정공저지층, 전자수송층 및 전자주입층의 형성 조건은 정공주입춤의 형성 조건올 참조한다.
상기 전자수송영역이 정공저지층을 포함할 경우, 상기 정공저지층은 예를들면, 하기 BCP, Bphen 및 BAlq 중 적어도 하나를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
Figure imgf000038_0001
BCP Bphen 상기 정공저지층의 두께는 약 20A 내지 약 1000A, 예를 들면 약 30A 내지 약 300A일 수 있다. 상기 정공저지층의 두께가 전술한 바와 같은 범위를 만족할 경우, 실질적인 구동 전압 상승 없이 우수한 정공 저지 특성을 얻을 수 있다.
상가 전자수송층은 상기 BCP, Bphen 및 하기 Alq3, Balq, TAZ 및 NTAZ 중 적어도 하나를 더 포함할 수 있다.
Figure imgf000039_0001
Figure imgf000039_0002
또는, 상기 전자수송층은 하기 화합물 ET1 및 ET2 중 적어도 하나를 포함할 으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
Figure imgf000039_0003
상기 전자수송층의 두께는 약 100A 내지 약 1000A, 예를 들면 약 150A 내지 약 500A일 수 있다. 상기 전자수송층의 두께가 전술한 바와 같은 범위를 만족할 경우, 실질적인 구동 전압 상승 없이 만족스러운 정도의 전자 수송특성을 얻을 수 있다.
상기 전자수송층은 상술한 바와 같은 물질의에, 금속 -함유물질을 더 포함할 수 있다.
상기 금속 -함유물질은 Li 착체를 포함할 수 있다ᅳ 상기 Li 착체는, 예를들 하기 화합물 ET-D1 (리튬퀴놀레이트, LiQ) 또는 ET-D2을 포함할 수 있다.
Figure imgf000039_0004
또한 전자수송영역은, 음극 (110)으로부터 전자의 주입을 용이하게 하는 전자주입층 (EIL)을 포함할 수 있다.
전자주입층 (36)은 전자수송층의 상부에 적층되어음극으로부터의 전자 주입을 용이하게 해주어 궁극적으로 전력효율을 개선시키는 기능을수행하는 층으로, 당 기술분야에서 통상적으로 사용돠는 것이면 특별한 제한없이 사용할 수 있으며, 예컨대， LiF, Liq, NaCl, CsF, Li20, BaO 등의 물질을 이용할,수 있다.
상기 전자주입층은, LiF, NaCl, CsF, Li20 및 BaO 중에서 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있다ᅳ
상기 전자주입층의 두께는 약 1 A 내지 약 100 A, 약 3 A 내지 약 90 A일 수 있다. 상기 전자주입층의 두께가 전술한 바와 같은 범위를 만족할 경우, 실질적인 구동 전압 상승 없이 만족스러운 정도의 전자 주입 특성을 얻을 수 있다.
상기 유기층 (105) 상부로는 음극 (1 10)이 구비되어 있다. 상기 음극 (1 10)용 물질로는 상대적으로 낮은 일함수를 가지는 금속, 합금， 전기전도성 화합물 및 이들의 조합을 사용할 수 있다. 구체적인 예로서는 리튬 (Li), 마그네슘 (Mg), 알루미늄 (A1), 알루미늄 -리튬 (Al-Li), 칼슘 (Ca), 마그네슘 -인듐 (Mg-In), 마그네슘- 은 (Mg-Ag)등을 음극 (1 10) 형성용 물질로 사용할 수 .있다. 또는, 전면 발광소자를 얻기 위하여 ΠΌ, ΙΖΟ를 이용하여 투과형 음극 (1 10)을 형성할 수 있는 등, 다양한 변형이 가능하다.
이하에서는 본 발명의 구체적인 실시예들을 계시한다. 다만， 하기에 기재된 실시예들은 본 발명을 구체적으로 예시하거나 설명하기 위한 것에 불과하며, 이로서 본 발명이 제한되어서는 아니된다.
상술한 유기 발광 소자는 유기 발광 표시 장치에 적용될 수 있다.
【발명의 실시를 위한 형태】
이하에서는 본 발명의 구체적인 실시예들올 제시한다. 다만, 하기에 기재된 실시예들은 본 발명을 구체적으로 예시하거나 설명하기 위한 .것에 불과하며, 이로서 본 발명이 제한되어서는 아니된다.
(유기 광전자 소자용 화합물의 합성)
이하, 실시예 및 합성예에서 사용된 출발물질 및 반웅물질은 특별한 언급이 없는한 Sigma- Aldrich 社 또는 TCI 社에서 구입하였으며, 이미 공지된 물질로 용이하게 합성이 가능한 것이다. 하기 합성예 중 "'Α' 대신 Ήᅳ를 사용하였다" ¾ 표현 중 'B'의 사용량과 'A'의 사용량은 몰당량 기준으로 동일하다.
본 발명의 유기광전자 소자용 화합물의 보다 구체적인 예로서 제시된 상기 화학식 1의 화합물을 하기 반웅식들을 통해 합성하였다.
합성예 1 : 화합물 1의 합성
반웅식 1]
Figure imgf000041_0001
제 1 단계: 중간체 1-1의 합성
질소 환경의 3L 등근바닥 플라스크에 1-브로모 -3-아이오도밴젠 (200.0g, 704.8mmol)과 (Ι ,Γ-비스 (디페닐포스핀)페로센)디클로로팔라듐 ( Π ) (25.8g, 35.4 mmol), 요오드화구리 (4.04g, 21.2 mmol), 트리에틸아민 (295.6ml, 2120 mmol) 및 테트라하이드로퓨란 1700 mL를 넣는다. 트리메틸 실릴아세틸렌 (107.6ml, 776.6 mmol)을 적가한 다음 상온에서 세시간 동안 교반한다. 반웅물을 거른 다음 용매를 제거한다. 칼럼크로마토 그래피를 통하여 화합물을 정제하여 중간체 Ι-Γ 166.0g (93%)를 얻었다.
저 12단계: 중간체 1-2의 합성
상기 중간체 1-1 (166g, 655.6 mmol)을 메탄올 1000 mL에 넣어 녹인 다음， 반웅기에 포타슘카보네이트 (90.6g, 655.6 mmol)를 서서히 적가한다. 약 30분간 교반한 다음 용액을 거른다ᅳ 용매를 모두 제거한 다음， 반웅물을
에틸아세테이트에 녹이고 증류수로 두번 씻어 준다. 용매를 제거하여 중간체 1-2 1 16g (98%)을 얻었다.
제 3단계 ： 중간체 1-3의 합성
상기 중간체 1-2 (1 13.0g, 624.2 mmol)와 테트라페닐사이클로펜타디온 (120.0g: 312.1 mmol)을 크실렌 700 mL에 넣어 녹인 다음 세 시간 동안 가열 환류 한다. 반웅물을 메탄을 2000 mL에 부어 반웅을 종결한다. 고형물을 걸러 중간체 1-3 124.1g (74%)를 얻었다.
제 4단계 ： 중간체 1-4의 합성
질소 환경에서 상기 중간체 1-3 (52.0g, 96.75 mmol)을
디메틸포름아미드 (DMF) 350 ml에 녹인 후, 비스 (피나콜라토)디보론 (29.5 g, 1 16.1 1 1101), (1,1，-비스(디페닐포스핀)페로센)디클로로팔라듐( 11 ) (4.74 §, 5.8 ^^01) 및 포타슘 아세테이트 (28.5 g, 290.2 mmol)을 넣고 150 °C에서 24시간 동안 가열하여 환류 시켰다. 반웅 완료 후 반웅액에 물을 넣고 흔합물을 필터한 후,
진공오븐에서 건조하였다. 이렇게 얻어진 잔사를 컬럼 크로마토그래피로 분리 정제하여 중간체 I-4 35 g(62 %)을 얻었다.
제 5단계 ： 화합물 1의 합성
100 mL플라스크에 중간체 1-4 5.0 g (8.6 mmol), 2-클로로 -4,6-디페닐 -1 ,3,5- 트리아진 2.8 g (10.3 mmol), 탄산칼륨 3.0 g (21.4 mmol) 테트라키스 (트리페닐포스핀) 팔라듐 (0) 0.3 g (0.3 mmol)을 1,4-다이옥산 30 mL, 물 15 mL 에 넣어준 후, 질소 기류 하에서 12시간 동안 60 °C로 가열하였다. 이로부터 수득한 흔합물을 메탄올 150 mL에 가하여 결정화된 고형분을 여과한 후, 를루엔에 녹여
실리카겔 /셀라이트로 여과하고, 유기 용매를 적당량 제거한 후, 메탄올로
재결정하여 화합물 1 (3.78 g, 64%의 수율)를 수득하였다.
calcd. C51H35N3： C, 88.79; H, 5.11 ; N, 6.09; found： C, 88.78; H, 5.10; N, 6.10 합성예 2 : 화합물 2의 합성
Figure imgf000042_0001
제 1단계: 중간체 1-6의 합성
3L 플라스크에 Cyanuric chloride (200.0 g, L085 mmol)와 무수 THF 1.4L를 넣은 후, Phenyl magnesium bromide (3M, 361.4 mL)를 0 °C에서 서서히 적가하였다. 반웅 완료 후, 반웅 용액에 물을 부어 30분간 교반시킨 후, 유기층올 분리하여 황산마그네슘을 사용하여 수분을 제거하고 농축하여, 메탄올, 핵산으로 정제하여 중간체 1-6 을 흰색의 고체 (127.4 g, 수율 = 52 %)로 얻었다. 제 2단계: 중간체 1-7의 합성
2L 등근 플라스크에 중간체 1-6 60.0 g (265.4 mmol), 3-바이페닐 보로닉에시드 50.0g (252.0 mmol), 탄산칼륨 91.6 g (660.0 mmol), 테트라키스 (트리페닐포스핀) 팔라듐 (0) 8.0 g (9.2 mmol)을 1 ,4-다이옥산 880 mL, 물 440 mL에 넣어준 후, 질소 기류 하에서 16시간 동안 가열하여 환류하였다. 이로부터 수득한 흔합물을 메탄올 3000 L에 가하여 결정화된 고형분을 여과한 후, 를루엔에 녹여 실리카겔 / 셀라이트로 여과하고, 유기 용매를 적당량 제거한 후, 메탄올로 재결정하여 중간체 1-7 (63.6 g, 70%의 수율)를 수득하였다.
■ 제 3단계 ： 화합물 2의 합성
100 mL플라스크에 중간체 1-7 3.0 g (8.7 mmol), 중간체 1-4 6.1 g (10.5 mmol), 탄산칼륨 3.0 g (21.8 mmol) 테트라키스 (트리페닐포스핀) 팔라듐 (0) 0.3 g (0.3 mmol)을 1 ,4-다이옥산 30 mL, 물 15 mL 에 넣어준 후, 질소 기류 하에서 12시간 동안 60 °C로 가열하였다. 이로부터 수득한 흔합물 I： 메탄올 150 mL에 가하여 결정화된 고형분을 여과한 후, 를루엔에 녹여 실리카겔 /샐라이트로 여과하고， 유기 용매를 적당량 제거한 후， 메탄올로 재결정하여 화합물 2 (4.13 g, 62%의 수율)를 수득하였다.
calcd. C57H39N3： C, 89.38; H, 5.13 ; N, 5.49; found： C, 89.38; H, 5.13; N, 5.49
Figure imgf000043_0001
Figure imgf000043_0002
제 1단계: 중간체 1-8의 합성
2L 등근 플라스크에 중간체 1-6 60.0 g (265.4 mmol), 4-바이페닐 보로닉에시드 50.0g (252.0 mmol), 탄산칼륨 91.6 g (660.0 mmol), 테트라키스 (트리페닐포스핀) 팔라듐 (0) 8.0 g (9.2 mmol)을 1 ,4-다이옥산 880 mL, 물 440 mL에 넣어준 후, 질소 기류 하에서 16시간 동안 가열하여 환류하였다. 이로부터 수득한 흔합물을 메탄올 3000 L에 가하여 결정화된 고형분올 여과한 후, 모노클로로벤젠에 녹여 실리카겔 / 셀라이트로 여과하고， 유기 용매를 적당량 제거한 후, 메탄올로 재결정하여 중간체 1-8 (60.2 g, 66%의 수율)를 수득하였다. 제 2단계 ： 화합물 3의 합성
l OO mL플라스크에 중간체 1-8 3.0 g (8.7 mmol), 중간체 1-4 6.1 g (10.5 mmol) 탄산칼륨 3.0 g (21.8 mmol) 테트라키스 (트리페닐포스핀) 팔라듐 (0) 0.3 g (0.3 mmol)을 1 ,4-다이옥산 30 mL, 물 15 mL 에 넣어준 후, 질소 기류 하에서 12시간 동안 60 °C로 가열하였다. 이로부터 수득한 흔합물올 메탄올 150 mL에 가하여 결정화된 고형분올 여과한 후， 모노클로로벤젠에 녹여 실리카겔 /셀라이트로 여과하고, 유기 용매를 적당량 제거한 후， 메탄올로 재결정하여 화합물 3 (4.39 g, 66%의 수율)를 수득하였다.
calcd. C57H39N3： C, 89.38; H, 5.13; N, 5.49; found： C, 89.37; H, 5.13; N, 5.49 합성예 4 : 화합물 6의 합성
Figure imgf000044_0001
거 U단계: 증간체 1-9의 합성
2L 플라스크에 Cyanuric chloride (100.0 g, 542.3 mmol)와 무수 THF 700mL를 넣은 후, 3-Biphenylmagnesium bromide (3M, 361.4 mL)를 0 °C에서 서서히
적가하였다. 반웅 완료 후, 반응 용액에 물을 부어 30분간 교반시킨 후， 유기층을 분리하여 황산마그네슘을 사용하여 수분을 제거하고 농축하여, 메탄올, 핵산으로 정제하여 중간체 1-9을 흰색의 고체 (122.9 g, 수율 = 55 %)로 얻었다. 제 2단계 ： 화합물 6의 합성
100 mL플라스크에 중간체 1-9 3.0 g (7.1 mmol), 중간체 1-4 5.0 g (8.6 mmol), 탄산칼륨 2.5 g (17.9 mmol) 테트라키스 (트리페닐포스핀) 팔라듐 (0) 0.3 g (0.2 mmol)을 1,4-다이옥산 20 mL, 물 10 mL 에 넣어준 후, 질소 기류 하에서 12시간 동안 60°C로 가열하였다. 이로부터 수득한 흔합물을 메탄올 lOO mL에 가하여 결정화된 고형분을 여과한 후, 를루엔에 녹여 실리카겔 /셀라이트로 여과하고, 유기 용매를 적당량 제거한 후， 메탄올로 재결정하여 화 물 6 (4.07 g, 68%의 수율)를 수득하였다.
calcd. C63H43N3： C, 89.86; H, 5.15; N, 4.99; found： C, 89.86; H, 5.15; N, 4.98 합성예 5： 화합물 7의 합성
Figure imgf000045_0001
화합울 7 거 U단계: 중간체 1-10의 합성
2L폴라스크에 Cyanuric chloride (100.0 g, 542.3 mmol)와무수 THF 700mL를 넣은 후, 4-Biphenylmagnesium bromide (3M, 361.4 mL)를 0°C에서 서서히
적가하였다. 반웅 완료 후, 반웅 용액에 물을 부어 30분간 교반시킨 후, 유기층을 분리하여 황산마그네슘올 사용하여 수분을 제거하고 농축하여, 메탄을， 핵산으로 정제하여 중간체 1-10을 흰색의 고체 (127.4 g, 수율 = 57 %)로 얻었다. 거 12단계 ： 화합물 7의 합성
100 mL플라스크에 중간체 1-10 3.0 g (7.1 mmol), 중간체 1-4 5.0 g (8.6 mmol), 탄산칼륨 2.5 g (17.9 mmol) 테트라키스 (트리페닐포스핀) 팔라듐 (0)으 3 g (0.2 mmol)을 1,4-다이옥산 20 mL, 물 10 mL 에 넣어준 후, 질소 기류 하에서 12시간 동안 60°C로 가열하였다. 이로부터 수득한 흔합물을 메탄을 100 mL에 가하여 결정화된 고형분을 여과한후, 다이클로로벤젠에 녹여 실리카겔 /셀라이트로 여과하고, 유기 용쩨를 적당량 제거한 후, 메탄을로 재결정하여 화합물 7 (4.19 g, 70%의 수율)를 수득하였다.
calcd. C63H43N3： C, 89.86; H, 5.15; N, 4.99; found： C, 89.85; H, 5.16; N, 4.99 합성예 6： 화합물 9의 합성 6]
Figure imgf000046_0001
제 1 단계: 중간체 1-11의 합성
질소 환경의 3L 둥근바닥 플라스크에 1-브로모 -4-아이오도벤젠 (20().0g, 704.8mmol)과 (Ι,Γ-비스 (디페닐포스핀)페로센)디클로로팔라듐 (Π) (25.8g, 35.4 mmol), 요오드화구리 (4.04g, 21.2 mmol), 트리에틸아민 (295.6ml, 2120 mmol) 및 테트라하이드로퓨란 1700mL를 넣는다ᅳ 트리메틸 실릴아세틸렌 (107.6ml, 776.6 mmol)을 적가한 다음 상온에서 세시간 동안 교반한다. 반웅물을 거른 다음 ■ 용매를 제거한다. 칼럼크로마토 그래피를 통하여 화합물을 정제하여 중간체 1-11 155.3g(87%)를 얻었다.
제 2단계: 중간체 1-12의 합성
상기 중간체 1-11 (150g, 592.4 mmol)을 메탄을 1000 mL에 넣어 녹인 다음， 반웅기에 포타슘카보네이트 (81.6g,592.4mmol)를 서서히 적가한다. 약 30분간 교반한 다음 용액을 거른다. 용매를 모두 제거한 다음, 반응물을
에틸아세테이트에 녹이고 증류수로 두번 씻어 준다. 용매를 제거하여 중간체 1-12 103g(96%)을 얻었다.
거 13단계 ： 중간체 1-13의 합성
상기 중간체 1-12 (lOO.Og, 552.5 mmol)와 테트라페닐사이클로펜타디온 (106.2g; 176.2 mmol)을 크실렌 700 mL에 넣어 녹인 다음 세 시간 동안 가열 환류 한다. 반웅물을 메탄올 2000 mL에 부어 반웅을 종결한다. 고형물을 걸러 중간체 1-13 116.0g(78%)를 얻었다.
. 제 4단계 ： 중간체 1-14의 합성
질소 환경에서 상기 중간체 1-13 (50.0g, 93.02 mmol)을
디메틸포름아미드 (DMF) 350 ml에 녹인 후， 비스 (피나콜라토)디보론 (28.4g, 111.6 mmol), (Ι,Γ-비스 (디페닐포스핀)페로센)디클로로팔라듐 (n)(4.6g, 5.6mmol) 및 포타슘 아세테이트 (27.4 g, 279.1 mmol)을 넣고 150 °C에서 24시간 동안 가열하여 환류 시켰다. 반웅 완료 후 반응액에 물을 넣고 흔합물을 필터한 후,
진공오븐에서 건조하였다. 이렇게 얻어진 잔사를 컬럼 크로마토그래피로 분리 정제하여 중간체 I-14 37 g(68 %)을 얻었다.
제 5단계 ： 화합물 9의 합성
100 mL플라스크에 중간체 1-14 5.0 g (8.6 mmol), 2-클로로 -4,6-디페닐 -1,3,5- 트리아진 2.8 g (10.3 mmol), 탄산칼륨 3.0 g (21.4 mmol) 테트라키스 (트리페닐포스핀) 팔라듐 (0) 0.3 g (0.3 mmol)을 1,4-다이옥산 30 mL, 물 15 mL 에 넣어준 후, 질소 기류 하에서 12시간 동안 60 °C로 가열하였다. 이로부터 수득한 흔합물을 메탄올 150 mL에 가하여 결정화된 고형분을 여과한 후, 를루엔에 녹여
실리카겔 /셀라이트로 여과하고, 유기 용매를 적당량 제거한 후, 메탄을로
재결정하여 화합물 9 (3.89 g, 66%의 수율)를 수득하였다.
calcd. C51 H35N3： C, 88.79; H, 5.11 ; N, 6.09; found： C, 88.79; H, 5.11 ; N, 6.10 합성예 7 : 화합물 10의 합성
Figure imgf000047_0001
저 U단계 ： 화합물 10의 합성
100 mL 플라스크에 2-클로로 -4- (바이페닐 -3-일) -6—페닐 -1 ,3,5-트리아진 3.0 g (8.7 mmol), 중간체 1-14 6.1 g (10.5 mmol), 탄산칼륨 3.0 g (21.8 mmol)
테트라키스 (트리페닐포스핀) 팔라듐 (0) 0.3 g (0.3 mmol)을 1 ,4-다이옥산 30 mL, 물 15 mL 에 넣어준 후, 질소 기류 하에서 12시간 동안 60 °C로 가열하였다.
이로부터 수득한 흔합물을 메탄올 150 mL에 가하여 결정화된 고형분을 여과한 후, 틀루엔에 녹여 실리카겔 /샐라이트로 여과하고， 유기 용매를 적당량 제거한 후, 메탄을로 재결정하여 화합물 10 (4.59 g, 69%의 수율)를 수득하였다.
calcd. C57H39N3： C, 89.38; H, 5.13; N, 5.49; found： C, 89.38; H, 5.13; N, 5.48 합성예 8 : 화합물 11의 합성
Figure imgf000048_0001
lOO mL플라스크에 2-클로로 -4- (바이페닐 -4-일) -6-페닐 -1,3,5-트리아진 3.0 g (8.7 mmol), 중간체 1-14 6.1 g (10.5 mmol), 탄산칼륨 3.0 g (21.8 mmol)
테트라키스 (트리페닐포스핀) 팔라듐 (0) 0.3 g (0.3 mmol)을 1,4-다이옥산 30 mL, 물 15 mL 에 넣어준 후, 질소 기류 하에서 12시간 동안 60°C로 가열하였다.
이로부터 수득한 흔합물을 메탄을 150 mL에 가하여 결정화된 고형분을 여과한후 모노클로로벤젠에 녹여 실리카겔 /샐라이트로 여과하고, 유기 용매를 적당량 제거한 후, 메탄올로 재결정하여 화합물 l l (4.06 g, 61%의 수율)를 수득하였다. calcd. C57H39N3： C, 89.38; H, 5.13; N, 5.49; found： C, 89.38; H, 5.12; N, 5.48 합성예 9 : 화합물 14의 합성
[반웅식 9]
Figure imgf000048_0002
100 mL 플라스크에 중간체 1-9 3.0 g (7.1 mmol), 중간체 1-14 5.0 g (8.6 mmol): 탄산칼륨 2.5 g (17.9 mmol) 테트라키스 (트리페닐포스핀) 팔라듐 (0) 0.3 g (0.2 mmol)을 1,4-다이옥산 20 mL, 물 10 mL 에 넣어준 후, 질소 기류 하에서 12시간 동안 60°C로 가열하였다. 이로부터 수득한 흔합물을 메탄올 100 mL에 가하여 결정화된 고형분을 여과한 후, 를루엔에 녹여 실라카겔 /셀라이트로 여과하고, 유기 용매를 적당량 제거한 후, 메탄을로 재결정하여 화합물 14 (4.19 g, 70%의 수율)를 수득하였다.
calcd. C63H43N3： C, 89.86; H, 5.15; N, 4.99; found： C, 89.84; H, 5.15; N, 4.99 합성예 10 : 화합물 15의 합성
Figure imgf000049_0001
100 mL플라스크에 중간체 1-10 3.0 g (7.1 mmol), 중간체 1-14 5.0 g (8.6 mmol) 탄산칼륨 2.5 g (17.9 mmol) 테트라키스 (트리페닐포스핀) 팔라듐 (0) 0.3 g (0.2 mmol)을 1,4-다이옥산 20 mL, 물 10 mL 에 넣어준 후, 질소 기류 하에서 12시간 동안 60°C로 가열하였다. 이로부터 수득한 흔합물을 메탄올 100 mL에 가하여 결정화된 고형분을 여과한 후, 다이클로로벤젠에 녹여 실리카겔 /셀라이트로 여과하고, 유기 용매를 적당량 제거한 후, 메탄을로 재결정하여 화합물 15 (4.13 g,
69%의 수율)를 수득하였다.
calcd. C63H43N3： C, 89.86; H, 5.15; N, 4.99; found： C, 89.86; H, 5.16; N, 4.99 합성예 11： 화합물 18의 합성
11]
Figure imgf000049_0002
중간체 I-4 중간체 1-15 화합물
18 100 mL플라스크에 중간체 I-4 5.0 g (8.6 mmol), 중간체 1-15 3.5 g (10.3 mmol), 탄산칼륨 3.0 g (21.4 mmol) 테트라키스 (트리페닐포스¾) 팔라듐 (0) 0.3 g (0.3 mmol)을 1 ,4-다이옥산 30 mL, 물 15 mL 에 넣어준 후, 질소 기류 하에서 12시간 동안 60 °C로 가열하였다. 이로부터 수득한 흔합물올 메탄을 100 mL에 가하여 결정화된 고형분을 여과한 후, 를루엔에 녹여 실리카겔 /샐라이트로 여과하고， 유기 용매를 적당량 제거한 후, 메탄올로 재결정하여 화합물 18 (4.39 g, 67%의 수율)를 수득하였다.
calcd. C58H40N2： C, 91.07; H, 5.27; N, 3.66; found： C, 91.08; H, 5.26; N, 3.65 합성예 12： 화합물 26의 합성
12]
Figure imgf000050_0001
100 mL플라스크에 증간체 1-14 5.0 g (8.6 mmol), 중간체 1-15 3.5 g (10.3 mmol), 탄산칼륨 3.0 g (21.4 mmol) 테트라키스 (트리페닐포스핀) 팔라듐 (0) 0.3 g (0.3 mmol)을 1,4-다이옥산 30 mL, 물 15 mL 에 넣어준 후, 질소 기류 하에서 12시간 동안 60 °C로 가열하였다. 이로부터 수득한 흔합물을 메탄을 100 mL에 가하여 결정화된 고형분을 여과한 후, 를루엔에 녹여 실리카겔 /셀라이트로 여과하고， 유기 용매를 적당량 제거한 후, 메탄올로 재결정하여 화합물 26 (4.19 g, 64%의 수율)를 수득하였다.
calcd. C58H40N2： C, 91.07; H, 5.27; N, 3.66; found： C, 91.07; H, 5.26; N, 3.67 합성예 13： 화합물 33의 합성 반웅식 13]
Figure imgf000051_0001
제 1 단계: 중간체 1-16 의 합성
질소 환경에서 상기 중간체 I-2 (100 g, 549.0 mmol) 과 아이오도벤젠 (l20g: 488.18 mmol)을 사용하여 상기 중간체 1-1의 합성법과 동일한 합성법을 사용하여 중간체 1-16 100 g(79%)을 얻었다.
제 2 단계: 중간체 1-17의 합성
질소 환경에서 상기 중간체 1-16 (93.0 g, 514.98 mmol) 과
테트라페닐사이클로펜타디온 (180g, 468.18 mmol)을 사용하여 상기 중간체 1-3의 합성법과 동일한 합성법을 사용하여 중간체 I-17 186 g(74%)을 얻었다.
제 3 단계: 중간체 1-18의 합성
질소 환경에서 상기 중간체 1-17 (90.0 g, 146.71 mmol) 을 사용하여 상기 중간체 1-4의 합성법과 동일한 합성법을 사용하여 중간체 1-18 72 g(75%)를 얻었다.
제 4 단계 ： 화합물 33의 합성
100 mL플라스크에 증간체 1-18 5.0 g (7.6 mmol), 2-클로로 -4,6-디페닐 -1,3,5- 트리아잔 2.4 g (9.1 mmol), 탄산칼륨 2.6 g (18.9 mmol) 테트라키스 (트리페닐포스핀) 팔라듐 (0) 0.26 g (0.23 mmol)을 1 ,4-다이옥산 30 mL, 물 15 mL 에 넣어준 후, 질소 기류 하에서 12시간 동안 60 °C로 가열하였다. 이로부터 수득한 흔합물을 메탄을 100 mL에 가하여 결정화된 고형분올 여과한 후, 를루엔에 녹여
실리카겔 /셀라이트로 여과하고， 유기 용매를 적당량 제거한 후, 메탄을로
재결정하여 화합물 33 (4.18 g, 72%의 수율)를 수득하였다.
calcd. C57H39N3： C, 89.38; H, 5.13; N, 5.49 found： C, 89.37; H, 5.13; N, 5.48 합성예 14 : 화합물 34의 합성
Figure imgf000052_0001
중간체 1-18 중간체
100 mL플라스크에 중간체 1-18 5.0 g (7.6 mmol), 중간체 1-7 3.1 g (9.1 mmol), 탄산칼륨 2.6 g (18.9 mmol) 테트라키스 (트리페닐포스핀) 팔라듐 (0) 0.26 g (0.23 mmol)을 1,4-다이옥산 30 mL, 물 15 mL 에 넣어준 후, 질소 기류 하에서 12시간 동안 60°C로 가열하였다. 이로부터 수득한 흔합물을 메탄올 100 mL에 가하여 결정화된 고형분을 여과한 후, 를루엔에 녹여 실리카겔 /셀라이트로 여과하고, 유기 용매를 적당량 제거한 후, 메탄올로 재결정하여 화합물 34 (3.83 g, 60%의 수율)를 수득하였다.
calcd. C63H43N3: C, 89.86; H, 5.15; N, 4.99 found： C, 89.85; H, 5.15; N, 4.99 합성예 15： 화합물 35의 합성
Figure imgf000052_0002
100 mL플라스크에 중간체 1-18 5.0 g (7.6 mmol), 중간체 1-8 3.1 g (9.1 mmol), 탄산칼륨 2.6 g (18.9 mmol) 테트라키스 (트리페닐포스핀) 팔라듐 (0) 0.26 g (0.23 mmol)을 1,4-다이옥산 30 mL, 물 15 mL 에 넣어준 후, 질소 기류 하에서 12시간 동안 60°C로 가열하였다. 이로부터 수득한 흔합물을 메탄올 100 mL에 가하여 결정화된 고형분을 여과한 후, 모노클로로벤젠에 녹여 실리카겔 /셀라이트로 여과하고, 유기 용매를 적당량 제거한 후, 메탄올로 재결정하여 화합물 35 (4.01 g, 63%의 수율)를 수득하였다.
calcd. C63H43N3: C, 89.86; H, 5.15; N, 4.99 found： C, 89.86; H, 5.15; N, 4.99 합성예 16 : 화합물 41의 합성
Figure imgf000053_0001
제 1 단계: 중간체 1-19 의 합성
질소 환경에서 상기 중간체 1-12 (100 g, 549.0 mmol) 과 아이오도벤젠 (120g,
488.18 mmol)을 사용하여 상기 중간체 1-1의 합성법과 동일한 합성법을 사용하여 중간체 1-19 102 g(80%)을 얻었다.
제 2 단계: 중간체 1-20의 합성
질소 환경에서.상기 중간체 1-19 (93.0 g, 514.98 mmol) 과
테트라페닐사이클로펜타디온 (180g, 468.18 mmol)을 사용하여 상기 중간체 1-3의 합성법과동일한 합성법을 사용하여 중간체 I-20 196 g(78%)을 얻었다.
제 3 단계: 중간체 1-21의 합성
질소 환경에서 상기 중간체 1-20 (90.0 g, 146.71 mmol) 을 사용하여 상기 중간체 1_4의 합성법과 동일한 합성법을 사용하여 중간체 I-21 78 g(81 %)를 얻었다.
제 4 단계 ： 화합물 41의 합성
100 mL플라스크에 중간체 1-21 5.0 g (7.6 mmol), 2-클로로 -4,6-디페닐 -1,3,5- 트리아진 2.4 g (9.1 mmol), 탄산칼륨 2.6 g (18.9 mmol) 테트라키스 (트리페닐포스핀) 팔라듐 (0) 0.26 g (0.23 mmol)을 1,4-다이옥산 30 mL, 물 15 mL 에 넣어준 후, 질소 기류 하에서 12시간 동안 60°C로 가열하였다. 이로부터 수득한 흔합물을 메탄올 100 mL에 가하여 결정화된 고형분을 여과한 후， 를루엔에 녹여
실리카겔 /샐라이트로 여과하고, 유기 용매를 적당량 제거한 후, 메탄올로
재결정하여 화합물 41 (3.88 g, 67%의 수율)를 수득하였다.
calcd. C57H39N3： C, 89.38; H, 5.13; N, 5.49 found： C, 89.38; H, 5.13; N, 5.49 합성예 17 : 화합물 42의 합성
Figure imgf000054_0001
100 mL플라스크에 중간체 1-21 5.0 g (7.6 mmot), 중간체 1-7 3.1 g (9.1 mmol), 탄산칼륨 2.6 g (18.9 mmol) 테트라키스 (트리페닐포스핀) 팔라듐 (0) 0.26 g (0.23 mmol)을 1 ,4-다이옥산 30 mL, 물 15 mL 에 넣어준 후, 질소 기류 하에서 12시간 동안 60 °C로 가열하였다. 이로부터 수득한 흔합물을 메탄올 100 mL에 가하여 결정화된 고형분을 여과한 후, 를루엔에 녹여 실리카겔 /셀라이트로 여과하고, 유기 용매를 적당량 제거한 후, 메탄올로 재결정하여 화합물 42 (4.08 g, 64%의 수율)를 수득하였다.
calcd. C63H43N3 : C, 89.86; H, 5.15; N, 4.99 found： C, 89.86; H, 5.15; N, 4.98 합성예 18： 화합물 43의 합성
18]
Figure imgf000054_0002
100 mL플라스크에 중간체 1-21 5.0 g (7.6 mmol), 중간체 , 1-8 3.1 g (9.1 mmol), 탄산칼륨 2.6 g (18.9 mmol) 테트라키스 (트리페닐포스핀) 팔라듐 (0) 0.26 g (0.23 mmol)을 1 ,4-다이옥산 30 mL, 물 15 mL 에 넣어준 후, 질소 기류 하에서 12시간 동안 60 t로 가열하였다. 이로부터 수득한 흔합물을 메탄올 100 mL에 가하여 결정화된 고형분을 여과한 후, 모노클로로벤젠에 녹여 실리카겔 /셀라이트로 여과하고, 유기 용매를 적당량 제거한 후， 메탄을로 재결정하여 화합물 43 (4.26 g, 67%의 수율)를 수득하였다.
calcd. C63H43N3 : C, 89.86; H, 5.15; N, 4.99 found： C, 89.86; H, 5.14; N, 4.99 합성예 19： 화합물 50의 합성
19]
Figure imgf000055_0001
100 mL플라스크에 중간체 1- 18 5.0 g (7.6 mmol), 중간체 1-15 3.1 g (9.1 mmol), 탄산칼륨 2.6 g (18.9 mmol) 테트라키스 (트리페닐포스핀) 팔라듐 (0) 0.26 g (0.23 mmol)을 1 ,4-다이옥산 30 mL, 물 15 mL 에 넣어준 후， 질소 기류 하에서 12시간 동안 60 °C로 가열하였다. 이로부터 수득한.흔합물을 메탄올 l OO mL에 가하여 결정화된 고형분을 여과한 후, 를루엔에 녹여 실리카겔 /샐라이트로 여과하고, 유기 용매를 적당량 제거한 후, 메탄올로 재결정하여 화합물 50 (4.32 g, 68%의 수율)를 수득하였다ᅳ
calcd. C64H44N2: C, 91.40; H, 5.27; N, 3.33, found： C, 91.40; H, 5.27; N, 3.32 합성예 20： 화합물 58의 합성
Figure imgf000055_0002
100 mL플라스크에 중간체 1-21 5.0 g (7.6 mmol), 중간체 1-15 3.1 g (9.1 mmol), 탄산칼륨 2.6 g (18.9 mmol) 테트라키스 (트리페닐포스핀) 팔라듐 (0) 0.26 g (0.23 mmol)을 1 ,4-다이옥산 30 mL, 물 15 mL 에 넣어준 후, 질소 기류 하에서 12시간 동안 60 °C로 가열하였다. 이로부터 수득한 흔합물을 메탄을 lOO mL에 가하여 결정화된 고형분을 여과한 후, 를루엔에 녹여 실리카겔 /샐라이트로 여과하고， 유기 용매를 적당량 제거한 후， 메탄을로 재결정하여 화합물 58 (3.78 g, 61%의 수율)를 수득하였다.
calcd. C64H44N2: C, 91.40; H, 5.27; N, 3.33, found： C, 91.39; H, 5.27; N, 3.32 합성예 21： 화합물 65의 합성
Figure imgf000056_0001
중간체 1-24 중간체 1-25 중간체 ᅵ-5 화합울 65 제 1 단계 ： 중간체 1-25의 합성
합성예 1 의 [반응식 1]에서 출발물질을 1-브로모 -3-아이오도벤젠 대신에 1-브로모 -2-아이오도벤젠을 사용한 것을 제외하고는, 중간체 1-4 합성 방법과 동일하게 중간체 1-25 (30.2 g, 65%의 수율)를 수득하였다.
제 2 단계 ： 화합물 65의 합성
100 mL플라스크에 중간체 1-25 5.0 g (8.6 mmol), 2-클로로 -4,6-디페닐 -1,3,5- 트리아진 2.8 g (10.3 mmol), 탄산칼륨 3.0 g (21.4 mmol) 테트라키스 (트리페닐포스핀) 팔라듐 (0) 0.3 g (0.3 mmol)을 1,4-다이옥산 30 mL, 물 15 mL 에 넣어준 후， 질소 기류 하에서 12시간 동안 60 °C로 가열하였다. 이로부터 수득한 흔합물을 메탄올 150 mL에 가하여 결정화된 고형분을 여과한 후, 를루엔에 녹여
실리카겔 /셀라이트로 여과하고, 유기 용매를 적당량 제거한 후, 메탄을로
재결정하여 화합물 66 (4.06 g, 68%의 수율)를 수득하였다.
calcd. C51H35N3 ： C, 88.79; H, 5.11 ; N, 6.09; found： C, 88.79; H, 5.11 ; N, 6.10 합성예 22： 화합물 113의 합성 22]
Figure imgf000057_0001
제 1 단계 ： 중간체 1-26의 합성
합성예 2 의 중간체 1-7 합성 방법에서 3-바이페닐 보로닉에시드 대신에 나프틸보로닉에시드를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 반웅시켜 중간체 1-26 (15.2 g, 45%의 수율)를 수득하였다.
제 2 단계 ： 화합물 1 13의 합성
100 mL플라스크에 중간체 1-26 3.0 g (9.4 mmol), 중간체 1-4 6.6 g (11.3 mmol), 탄산칼륨 3.3 g (23.6 mmol) 테트라키스 (트리페닐포스핀) 팔라듐 (0) 0.3 g (0.3 mmol)을 ί,4-다이옥산 30 mL, 물 15 mL 에 넣어준 후, 질소 기류 하에서 12시간 동안 60°C로 가열하였다. 이로부터 수득한 흔합물을 메탄올 150 mL에 가하여 결정화된 고형분을 여과한 후, 를루엔에 녹여 실리카겔 /셀라이트로 여과하고, 유기 용매를 적당량 제거한 후, 메탄올로 재결정하여 화합물 113 (4.51 g, 65%와 수율)를 수득하였다.
calcd. C55H37N3 ： C, 89.28; H, 5.04; N, 5.68; found： C, 89.28; H, 5.03; N, 5.68 합성예 23 : 화합물 125의 합성
Figure imgf000057_0002
100 mL플라스크에 중간체 1-26 3.0 g (9.4 mmol), 중간체 1-14 6.6 g (11.3 mmol), 탄산칼륨 3.3 g (23.6 mmol) 테트라키스 (트리페닐포스핀) 팔라듐 (0) 0.3 g (0.3 mmol)을 1 ,4-다이옥산 30 mL, 물 15 mL 에 넣어준 후, 질소 기류 하에서 12시간 등안 60 °C로 가열하였다. 이로부터 수득한 흔합물을 메탄을 150 mL에 가하여 결정화된 고형분을 여과한 후, 를루엔에 녹여 실리카겔 /셀라이트로 여과하고， 유기 용매를 적당량 제거한 후, 메탄올로 재결정하여 화 물 125 (4.67 g, 66%의 수율)를 수득하였다.
calcd. C55H37N3： C, 89.28; H, 5.04; N, 5.68; found： C, 89.29; H, 5.03; N, 5.67 합성예 24 : 화합물 141의 합성
Figure imgf000058_0001
제 1 단계 : 중간체 1-31의 합성
합성예 1 의 중간체 1-4 합성 방법에서, 출발물질로 1-브로모 -3- 아이오도벤젠 대신에 1 ,3-디브로모 -5-아이오도벤젠을 사용한 것을 제외하고는 동일하게 반웅시켜 중간체 1-31 (48.4 g, 65%의 수율)를 수득하였다.
제 2 단계 ： 화합물 141의 합성
100 mL플라스크에 중간체 1-31 5.0 g (7.6 mmol), 중간체 1-5 2.4 g (9.1 mmol), 탄산칼륨 2.6 g (18.9 mmol) 테트라키스 (트리페닐포스핀) 팔라듐 (0) 0.3 g (0.2 mmol)을 1 ,4-다이옥산 30 mL, 물 15 mL 에 넣어준 후, 질소 기류 하에서 12시간 동안 60 °C로 가열하였다. 이로부터 수득한 흔합물을 메탄을 150 mL에 가하여 결정화된 고형분을 여과한 후, 를루엔에 녹여 실리카겔 /셀라이트로 여과하고, 유기 용매를 적당량 제거한 후, 메탄을로 재결정하여 화합물 141 (3.99 g, 69%의 수율)를 수득하였다.
calcd. C57H39N3： C, 89.38; H, 5.13; N, 5.49; found： C, 89.38; H, 5.12; N, 5.47 합성예 25 : 화합물 142의 합성
Figure imgf000059_0001
100 mL플라스크에 중간체 1-31 5.0 g (7.6 mmol), 중간체 1-7 3.1 g (9.1 mmol), 탄산칼륨 2.6 g (18.9 mmol) 테트라키스 (트리페닐포스핀) 팔라듐 (0) 0.3 g (0.2 mmol)을 1,4-다이옥산 30 mL, 물 15 mL 에 넣어준 후, 질소 기류 하에서 12시간 동안 60°C로 가열하였다. 이로부터 수득한 흔합물을 메탄올 150 mL에 가하여 결정화된 고형분올 여과한 후, 를루엔에 녹여 실리카겔 /셀라이트로 여과하고， 유기 용매를 적당량 제거한 후, 메탄올로 재결정하여 화합물 142 (4.22 g, 66%와수율)를 수득하였다.
calcd. C63H43N3： C, 89.86; H, 5.15; N, 4.99; found： C, 89.86; H, 5.15; N, 4.99 비교합성예 1
[화합물 a]
Figure imgf000059_0002
화합물 a의 합성
합성예 1 의 화합물 1의 합성 방법에서, 중간체 1-2 대신에 중간체 1-34를 사용한 것을 제외하고는 이와 동일한 방법으로 제조하여 화합물 a를 (6.3 g, 51%의 수율)를 수득하였다. 비교합성예 2 b]
Figure imgf000060_0001
화합물 b의 합성
합성예 1 의 화합물 1의 합성 방법에서, 중간체 1-2 대신에
(bromoethynyl)trimethylsilane을 사용한 것을 제외하고 이와 동일하게 반웅시켜 화합물 b를 (3.4 g, 41%의 수율)를 수득하였다. (유기발광소자의 제작: 발광층 소자 1)
실시예 1
합성예 1에서 얻은 화합물 1올 호스트로 사용하고, Ir(PPy)3를 도편트로 사용하여 유기발광소자를 제작하였다ᅳ
양극으로는 ΠΌ를 1000 A의 두께로 사용하였고， 음극으로는
알루미늄 (A1)을 1000 A의 두께로 사용하였다ᅳ 구체적으로, 유기발광소자의 제조방법을 설명하면, 양극은 15 Ω/αιί의 면저항값을 가진 ΠΌ 유리 기판을 50mm X 50 mm X 0.7 mm의 크기로 잘라서 아세톤과 이소프로필알코을과 순수물 속에서 각 15 분 동안 초음파세정한 후， 30 분 동안 UV 오존 세정하여 사용하였다.
상기 기판 상부에 진공도 650xlO-7Pa, 증착속도 0.1 내지 으 3 nm/s의 조건으로 N4,N4'-di(naphthalen-l-yl)-N4,N4'-diphenylbiphenyl-4,4'-diam^ (NPB) (80 nm)를 증착하여 800 A의 정공수송층을 형성하였다. 이어서, 동일한 진공 증착조건에서 합성예 1에서 얻은 화합물 1을 이용하여 막 두께 300 A의 발광층올 형성하였고, 이 때， 인광 도펀트인 Ir(PPy)3을 동시에 증착하였다. 이 때, 인광 도펀트의 증착속도를 조절하여, 발광층의 전체량을 100 중량0 /。로 하였올 때, 인광 도편트의 배합량이 10 중량0 /0가 되도록 증착하였다.
상기 발광층 상부에 동일한 진공 증착조건을 이용하여 Bis(2-methyl-8- quinolinolate)-4-(phenylphenolato)aluminium (BAlq)를 증착하여 막 두께 50 A의 정공저지층을 형성하였다. 이어서， 동일한 진공 증착조건에서 Alq3를 증착하여， 막 두께 200 A의 전자수송층을 형성하였다. 상기 전자수송층 상부에 음극으로서
LiF와 A1을 순차적으로 증착하여 유기광전소자를 제작하였다.
상기 유기광전소자의 구조는 ITO/ NPB (80 nm)/ EML (화합물 1 (90 중량0 /。) + Ir(PPy)3(10 중량0 /o), 30 nm)/ Balq (5 nm)/ Alq3 (20 nm)/ LiF (1 nm) / Al (100 nm) 의 구조로 제작하였다. 실시예 2 내지 실시예 15
합성예 1의 화합물 1 대신 합성예 2 내지 4, 합성예 6， 합성예 7， 합성예 1 1 내지 합성예 14, 합성예 16, 합성예 17, 합성예 21 , 합성예 22, 합성예 25의 화합물 2, 화합물 3， 화합물 6, 화합물 9, 화합물 10， 화합물 18, 화합물 26， 화합물 33， 화합물 34, 화합물 41， 화합물 42, 화합물 65, 화합물 1 13, 화합물 142를 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 실시예 2 내지 15의
유기발광소자를 제조하였다. 비교예 1 내지 비교예 3
합성예 1의 화합물 1 대신 하기 구조의 CBP, 화합물 a, 화합물 b를 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 비교예 1 내지 3의
유기발광소자를 제조하였다. 상기 유가발광소자 제작에 사용된 NPB, BAlq, CBP 및 Ir(PPy)3의 구조는 하기와 같다.
Figure imgf000062_0001
Figure imgf000062_0002
평가
실시예 1 내지 15와 비교예 1 내지 3에 따른 유기발광소자의 전압에 따른 전류밀도 변화, 휘도 변화 및 발광효율을 측정하였다.
구체적인 측정방법은 하기와 같고， 그 결과는 표 1과 같다.
(1) 전압변화에 따른 전류밀도의 변화 측정
제조된 유기발광소자에 대해, 전압을 0V 부터 10V까지 상승시키면서 전류- 전압계 (Keithley 2400)를 이용하여 단위소자에 흐르는 전류값을 측정하고, 측정된 전류값을 면적으로 나누어 결과를 얻었다.
(2) 전압변화에 따른 휘도변화 측정
제조된 유기발광소자에 대해, 전압을 0V 부터 10V까지 상승시키면서 휘도계 (Minolta Cs-IOOOA)를 이용하여 그 때의 휘도를 측정하여 결과를 얻었다.
(3) 발광효율 측정
상기 (1) 및 (2)로부터 측정된 휘도와 전류밀도 및 전압을 이용하여 동일 전류밀도 (10 mA/cm2)의 전류 효율 (cd/A) 을 계산하였다.
(4) 수명 측정
휘도 (cd/m2)를 5000 cd/m2로 유지하고 전류 효율 (cd/A)이 90%로 감소하는 시간을 측정하여 결과를 얻었다.
【표 1】
No. 화합물 구동전압 (V) 색 (EL color) 효율 (cd/A) 90%수명 (h)(@5000cd/ni2) 실시예 1 화합물 1 4.01 Green 39.2 53 실시예 2 화합물 2 3.84 Green 42.3 54 실시예 3 화합물 3 3.81 Green 41.7 48 실시예 4 화합물 6 3.78 Green 41.0 52 실시예 5 화합물 9 3.98 Green 38.9 42 실시예 6 화합물 10 3.82 Green 41.5 43 실시예 7 화합물 18 4.13 Green 36.2 46 실시예 8 화합물 26 4.09 Green 37.5 47 실시예 9 화합물 33 4.02 Green 39.4 54 실시예 10 화합물 34 3.83 Green 42.3 55 실시예 1 1 화합물 41 3.96 Green 39.0 51 ' 실시예 12 화합물 42 3.81 Green 41.7 53 샬시예 13 화합물 65 3.71 Green" 40.2 56 실시예 14 화합물 1 13 4.1 1 Green 37.1 40 실시예 15 화합물 ' 142 3.82 Green 42.3 48 비교예 1 CBP 4.29 Green 31 .7 25 비교예 2 화합물 a 4.19 Green 35.6 36 비교예 3 화합물 b 4.14 Green 36.1 35 표 1을 참고하면, 실시예 1 내지 15에 따른뮴기발광소자는 비교예 1 내지 3에 따른 유기발광소자와 비교하여 우수한 수준의 구동 전압 및 효율올 가지면서 수명 특성이 개선된 것올 확인할 수 있다. 전술한 바와 같이 벌키 치환체에 의해 상대적으로 평면인 해테로고리부분의 스태킹에 의해서 전자의 주,입.및 아동이 용이해져 구동전압이 감소된 것으로 보인다. 본 발명의 화합물과 비교하여 비교예는 링커가 없기 때문에 분자의 packing이 상대적으로 잘 쌓이지 않아 소자결과가 좋지 않았다ᅳ 이와는 달리, 본 발명 중에서도 오르쏘 (ortho) 결합을 갖는 실시예 13의 경우는 오르쏘 결합으로 인해 분자구조가 꺾인 형태가 되고 이는 ET 특성 치환체인 헤테로고리부분의 스태킹을 유리하게 만들어 구동전압이 가장 빠르게 나타났다.
(유기발광소자의 제작: 발광층 소자 2)
실시예 16
ΠΌ (Indium tin oxide)가 1500 A 두께로 박막 코팅된 유리 기판을 증류수 초음파로 세척하였다. 증류수 세척이 끝나면 이소프로필 알코올， 아세톤, 메탄을 등의 용제로 초음파 세척을 하고 건조시킨 후 플라즈마 세정기로 이송 시킨 다음 산소 플라즈마를 이용하여 상기 기판을 10분간 세정 한 후 진공 층착기로 기판을 이송하였다. 이렇게 준비된 ΠΌ 투명 전극을 양극으로 사용하여 ΠΌ 기판 상부에 화합물 A을 진공 증착하여 700A 두께의 정공 주입층을 형성하고 상기 주입층 상부에 화합물 B를 50A의 두께로 증착한 후, 화합물 C를 1020A의 두께로 증착하여 정공수송층을 형성하였다. 정공수송층 상부에 합성예 2에서 얻은 화합물 2과 제 2 호스트 화합물로서 화합물 B-1을 동시에 호스트로 사용하고 도판트로 트리스 (2-페닐피리딘)이리듐 (ΠΙ) [Ir(ppy)3]를 lOwt0/。로 도핑하여 진공 증착으로
400 A 두께의 발광층을 형성하였다. 여기서 화합물 2과 화합물 B-1은 1 : 1 비율로 사용되었다.
이어서 상기 발광층 상부에 화합물 D와 Liq를 동시에 1: 1 비율로 진공 증착하여 300 A 두께의 전자수송층을 형성하고 상기 전자수송층 상부에 Liq 15 A과 A1 1200A을 순차적으로 진공 증착 하여 음극을 형성함으로써
유기발광소자를 제작하였다.
상기 유기발광소자는 5층의 유기 박막층을 가지는 구조로 되어 있으며, 구체적으로 다음과 같다.
ΠΌ/화합물 A(700A)/화합물 B(50 A)/화합물 C(1020A)/EML [화합물 l :B-l :Ir(ppy)3
= 45wt%:45wt%:10wt%](400A)/화합물 D:Liq(300A)/Liq(l 5 A)/AlG 구조로 제작하였다.
화합물 A: N4,N4'-diphenyl-N4,N4'-bis(9-phenyl-9H-carbazol-3-yl)biphenyl-4,4'- diamine
화합물 B: 1 ,4,5,8,9, 1 1 -hexaazatriphenylene-hexacarbonitrile (HAT-CN),
화합물 C:N-(biphenyl-4-yl)-9,9-dimethyl-N-(4-(9-phenyl-9H-carba
9H-fluoren-2-amine 화합물 D: 8-(4-(4,6-di(naphthalen-2-yl)-l,3,5-triazin-2-yl)phenyl)quinoline 실시예 17
화합물 2와 화합물 B-31을 1:1 중량비로 사용한 것을 제외하고는 실시예 16과 동일한 방법으로 유기발광소자를 제작하였다. 실시예 18
화합물 2와 화합물 B-154을 1:1 중량비로 사용한 것을 제외하고는 실시예 16과 동일한 방법으로 유기발광소자를 제작하였다. 실시예 19
화합물 2와 화합물 B-156을 1:1중량비로 사용한 것을 제외하고는 실시예 16과 동일한 방법으로 유기발광소자를 제작하였다. 실시예 20
화합물 2와 화합물 C-1를 1:1 중량비로 사용한 것을 제외하고는 실시예 16과 동일한 방법으로 유기발광소자를 제작하였다. 실시예 21
화합물 10과 화합물 B-31를 1:1 중량비로 사용한 것을 제외하고는 실시예
16과 동일한 방법으로 유기발광소자를 제작하였다. 실시예 22
화합물 34와 화합물 B-31을 1:1 중량비로 사용한 갓을 제외하고는 실시예 16과 동일한 방법으로 유기발광소자를 제작하였다. 실시예 23
화합물 42와 화합물 B-31을 1:1 중량비로 사용한 것을 제외하고는 실시예 16과 동일한 방법으로 유기발광소자를 제작하였다. 실시예 24 화합물 65와 화합물 B-31을 1 : 1 중량비로 사용한 것을 제외하고는 실시예 16과 동밀한 방법으로 유기발광소자를 제작하였다.
실시예 25
화합물 142와 화합물 B-31을 1 : 1 중량비로 사용한 것을 제외하고는 실시예 16과 동일한 방법으로 유기발광소자를 제작하였다. 비교예 4 내지 비교예 6
CBP, 화합물 a, 또는 화합물 b를 각각 단독 호스트로 사용한 것을
제외하고는 실시예 16과 동일한 방법으로 비교예 4 내지 6의 유기발광소자를 제작하였다. 평가
실시예 16 내지 25, 및 비교예 4 내지 6에 따 :른 유기발광소자의 발광효율 및 수명특성을 평가하였다.
구체적인 측정방법은 하기와 같고, 그 결과는 표 2와 같다.
(1) 전압변화에 따른 전류밀도의 변화 측정
제조된유기발광소자에 대해, 전압을 0V 부터 10V까지 상승시키면서 전류- 전압계 (Keithley 2400)를 이용하여 단위소자에 흐르는 전류값을 측정하고, 측정된 전류값을 면적으로 나누어 결과를 얻었다.
(2) 전압변화에 따른 휘도변화 측정
제조된 유기발광소자에 대해, 전압을 0V 부터 10V까지 상승시키면서 휘도계 (Minolta Cs-IOOOA)를 이용하여 그 때의 휘도를 측정하여 결과를 얻었다.
(3) 발광효율 측정
상기 (1) 및 (2)로부터 측정된 휘도와 전류밀도 및 전압을 이용하여 동일 전류밀도 (10 mA/cm2)의 전류 효율 (cd/A) 을 계산하였다.
(4) 수명 측정
휘도 (cd/m2)를 6000 cd/m2로 유지하고 전류 효율 (cd/A)이 97%로 감소하는 시간을 측정하여 결과를 얻었다.
【표 2】
제 1호스트 제 2호스트 제 1호스트：제 2호스트 발광효율 (cd/A) 수명 T97(h) 실시예 16 화합물 2 B-1 1:1 46.2 65 실시예 17 화합물 2 B-31 53.5 71 실시예 18 화합물 2 B-154 1:1 52.8 68 실시예 19 화합물 2 B-156 1:1 52.5 67 실시예 20 화합물 2 C-1 1:1 50.1 62 실시예 23 화합물 10 B-31 1:1 52.5 70
.실시예 24 화합물 34 B-31 1:1 54.0 72 실시예 25 화합물 42 B-31 1:1 52.4 69 실시예 26 화합물 65 B-31 55.3 60 실시예 27 화합물 142 B-31 54.4 69 비교예 4 CBP - 31.7 25 바교예 5 화합물 a - 35.6 36 비교예 6 화합물 b - 36.1 35 표 2를 참고하면, 실시예 16 내지 25에 따른 유기발광소자는 비교예 3 내지 6에 따른 유기발광소자와 비교하여 발광효율 및 수명특성이 현저하게 개선된 것을 확인할 수 있다.
(유기발광소자의 제작)
실시예 26
ITO (Indium tin oxide) 7> 1500A의 두께로 박막 코팅된 유리 기판을 증류수 초음파로 세척하였다. 증류수 세척이 끝나면 이소프로필 알코을， 아세톤, 메탄올 등의 용제로 초음파 세척올 하고 건조시킨 후 플라즈마 세정기로 이송 시킨 다음 산소 플라즈마를 이용하여 상기 기판을 10분간 세정한 후 진공 증착기로 기판을 이송하였다. 이렇게 준비된 ΠΌ 투명 전극을 양극으로 사용하여 ΠΌ 기판 상부에 화합물 A을 진공 증착하여 700A 두께의 정공 주입층을 형성하고 상기 주입층 상부에 화합물 B를 50A의 두께로 증착한 후, 화합물 C를 1020A의 두께로 증착하여 정공수송층을 형성하였다. 그 위에 청색형광 발광 호스트 및 도판트로 BH113 및 BD370 (구입처: SFC社)을 도판트 농도 5wt%로 도핑하여 진공 증착으로 200 A 두께의 발광층을 형성하였다. 이후 상기 발광층 상부에 화합물 1을 진공증착하여 50A 두께의 전자수송보조층을 형성하였다. 전자수송보조층은 화학식 1 로 표현되는 물질들 단독으로 사용할 수도 있고, 그룹 B,C의 화합물과 흔합하여 사용할 수도 있다. 상기 전자수송보조층 상부에 화합물 D와 Liq를 동시에 1 : 1 중량 비율로 진공 증착하여 300 A 두께의 전자수송층을 형성하고 상기 전자수송층 상부에 Liq l5 A과 A1 1200A을 순차적으로 진공 증착 하여 음극을 형성함으로써 유기발광소자를 제작하였다. 상기 유기발광소자는 5층의 유기 박막층을 가지는 구조로 되어 있으며, 구체적으로 ITO/화합물 A(700A)/화합물 Β(50Α)/ 화합물 C(1020 A)/EML[BH1 13 :BD370 = 95:5(wt:wt)](200A)/화합물 1 (50A)/ 화합물 D:Liq(300A) = l : l/Liq(15 A)/Al(1200A)의 구조로 제작하였다. 화합물 A: N4,N4'-diphenyl-N4,N4'-bis(9-phenyl-9H-carbazol-3-yl)biphenyl-4,4'- diamine
화합물 B: 1 ,4,5,8,9,1 1-hexaazatriphenylene-hexacarbonitrile (HAT-CN), 화합물 C:N-(biphenyl-4-yl)-9,9-dimethyl-N-(4-(9-phenyl-9H-carbazol-3-yl)^^ 9H-fluoren-2-amine
화합물 D: 8-(4-(4,6-di(naphthalen-2-yl)-l ,3,5-triazin-2-yl)phenyl)quinoline 실시예 27 내지 실시예 40
화합물 2, 화합물 3, 화합물 6, 화합물 9, 화합물 10， 화합물 18， 화합물 26, 화합물 33, 화합물 34, 화합물 41， 화합물 42, 화합물 65, 화합물 1 13, 화합물 142를 각각 사용한 것을 제외하고는 실시예 26과 동일한 방법으로 실시예 27 내지 실시예 40의 유기발광소자를 제작하였다. 비교예 7
화합물 a를 사용한 것을 제외하고는 실시예 26과 동일한 방법으로 유기발광소자를 제작하였다. 비교예 8
화합물 b를 사용한 것을 제외하고는 실시예 26과 동일한 방법으로 유기발광소자를 제작하였다. 비교예 9
전자수송보조층을 사용하지 않은 것을 제외하고는 실시예 26과 동일한 방법으로 유기발광 소자를 제조하였다. 평가
실시예 26 내지 40 및 비교예 7 내지 9에서 제조된 유기발광소자에 대하여 전압에 따른 전류밀도 변화， 휘도변화 및 발광효율을 측정하였다.
구체적인 측정방법은 하기와 같고, 그 결과는 표 3과 같다.
(1) 전압변화에 따른 전류밀도의 변화 측정
제조된 유기발광소자에 대해, 전압을 0V 부터 10V까지 상승시키면서 전류- 전압계 (Keithley 2400)를 이용하여 단위소자에 흐르는 전류값을 측정하고, 측정된 전류값올 면적으로 나누어 결과를 얻었다.
(2) 전압변화에 따른 휘도변화 측정
제조된 유기발광소자에 대해, 전압을 0V 부터 10V까지 상승시키면서 휘도계 (Minolta Cs-IOOOA)를 이용하여 그 때의 휘도를 측정하여 결과를 얻었다.
(3) 발광효율 측정
상기 (1) 및 (2)로부터 측정된 휘도와 전류밀도 및 전압을 이용하여 동일 전류밀도 (10 mA/cm2)의 전류 효율 (cd/A) 을 계산하였다.
(5) 수명 측정
제조된 유기발광소자에 대해 폴라로닉스 수명측정 시스템을 사용하여 실시예 26 내지 40 및 비교예 7 내지 9의 소자를 초기휘도 (cd/m2)를 750 cd/m2 로 발광시키고 시간경과에 따른 휘도의 감소를 측정하여 초기 휘도 대비 97%로 휘도가 감소된 시점을 T97 수명으로 측정하였다.
[표 3]
발광효율 색좌표 T97(h) 소자 전자수송보조층 (증량비)
(cd/A) (X, y) @750nit 실시예 26 화합물 1 8.5 (0.132, 0.149) 66 실시예 27 화합물 2 8.8 (0.133, 0.148) 69 실시예 28 화합물 3 8.5 (0.132, 0.149) 66 실시예 29 화합물 6 8.5 (0.132, 0.150) 65 실시예 30 화합물 9 8.4 (0.132, 0.149) 65 실시예 31 화합물 10 8.6 (0.133, 0.148) 67 실시예 32 화합물 18 7.9 (0.132, 0.149) 62 실시예 33 화합물 26 7.7 (0.132, 0.159) 61 실시예 34 화합물 33 8.3 (0.133, 0.149) 65 실시예 35 화합물 34 8.5 (0.133, 0.148) 68 실시예 36 화합물 41 8.2 (0.132, 0.149) 64 실시예 37 화합물 42 8.5 (0.133, 0.149) 66 실시예 38 화합물 65 8.7 (0.132, 0.149) 62 실시예 39 화합물 1 13 8.1 (0.133, 0.148) 63 실시예 40 화합물 142 8.8 (0.132, 0.149) 69 비교예 7 화합물 a 7.5 (0.132, 0.149) 58 비교예 8 화합물 b 7.5 (0.132, 0.149) 57 비교예 9 사용안함 5.8 (0.135, 0.147) 25 표 3을 참고하면, 실시예 26 내지 40에 따른 유기발광소자는 비교예 7 내지 9 에 따른 유기발광소자와 각각 비교하여 발광 효율 및 수명 특성이 동시에 개선된 것을 확인할 수 있다. 본 발명은 상기 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 제조될 수 있으며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.

Claims

【청구의 범위】
【청구항 11
하기 화학식 1로 표현되는 유기 광전자 소자용 화합물:
화학식 1]
Figure imgf000071_0001
상기 화학식 1에서,
R1 내지 R5는 각각 독립적으로 수소, 중수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C4 알킬기, 또는 페닐기이고,
Z1 내지 Z3은 각각 독립적으로 CRa 또는 N이고,
Z1 내지 Z3 중 적어도 둘은 N이고，
Ra 및 R6은 수소, 중수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기, 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C12 아릴기이고,
Ar1 및 Ar2는 각각 독립적으로 수소， 중수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기 , 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C18 아릴기이고，
a, b, c, d, 및 e는 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이되,
4 < a+b+c+d+e < 5이'고,
상기 "치환"이란， 적어도 하나의 수소가 중수소, C1 내지 C4 알킬기, 또는 C6 내지 C12 아릴기로 치환된 것을 의미한다.
【청구항 2】
제 1항에 있어서,
상기 화학식 1은 하기 화학식 1- 1 또는 1- Π로 표현되는 유기 광전자 소자용 화합물: 식 1-1] [화학식 1-Π]
Figure imgf000072_0001
상기 화학식 1-1 및 1-Π에서,
R1 내지 R5는 각각 독립적으로 수소, 중수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C4 알킬기, 또는 페닐기이고,
Z1 내지 Z3은 각각 독립적으로 CRa또는 N이고,
Z1 내지 Z3 중 적어도 둘은 N이고，
Ra 및 R6은 수소, 중수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기, 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C12 아릴기이고,
Ar1 및 Ar2는 각각 독립적으로 수소, 중수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기, 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C18 아릴기이다.
【청구항 3]
제 2항에 있어서,
상기 화학식 1_1는 하기 화학식 1-Ia, 1-Ib, 또는 1-Ic로 표현되는 유기 광전자 소자용 화합물:
[화학식 1- I a] [화학식 1- I b]
Figure imgf000072_0002
Figure imgf000073_0001
상기 화학식 1-Ia 내지 1-Ic에서,
R2 내지 R5는 각각 독립적으로 수소, 중수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C4 알킬기 , 또는 페닐기이고,
Z1 내지 Z3은 각각 독립적으로 CRa또는 N이고,
Z1 내지 Z3 중 적어도 둘은 N이고，
Ra 및 R6은 수소, 중수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기 , 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C12 아릴기이고，
Ar1 및 Ar2는 각각 독립적으로 수소, 중수소， 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기, 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C18 아릴기이다.
【청구항 4】
제 2항에 있어서,
상기 화학식 ΐ-Π는 하기 화학식 1-na, 1-nb,또는 1-nc로 표현되는 유기 광전자 소자용 화합물:
[화학식 1-na] [화학식 1-nb]
Figure imgf000073_0002
Figure imgf000074_0001
상기 화학식 1-na내지 1-nc에서,
R1 내지 R5는 각각 독립적으로 수소, 중수소， 치환 또는 비치환된 C1 내지 C4 알킬기， 또는 페닐기이고,
Z1 내지 Z3은 각각 독립적으로 CRa 또는 N이고,
Z1 내지 Z3 중 적어도 둘은 N이고,
Ra 및 R6은 수소, 중수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기, 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C12 아릴기이고,
Ar1 및 Ar2는 각각 독립적으로 수소, 중수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기, 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C18 아릴기이다.
【청구항 5】
게 2항에 있어서,
상기 화학식 1-1은 하기 화학식 1-Id 또는 1-Ie로 표현되는 유기 광전자 소자용 화합물:
[화학식 1- I d] [화학식 1-Ie]
Figure imgf000074_0002
Z1 내지 Ζ3은 각각 독립적으로 CRa 또는 N이고,
Z1 내지 Z3 중 적어도 둘은 N이고,
Ra는 수소, 중수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기, 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C12 아릴기이고,
Ar1 및 Ar2는 각각 독립적으로 수소, 중수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기, 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C18 아릴기이다.
【청구항 6】
게 2항에 있어서,
상기 화학식 1-Π은 하기 화학식 1 또는 1-ne로 표현되는 유기 광전자 소자용 화합물:
[화학식 i- nd] [화학식 1- ne]
Figure imgf000075_0001
상기 화학식 1-nd 및 1-ne 에서,
Z1 내지 Z3은 각각 독립적으로 CRa또는 N이고,
Z1 내지 Z3 중 적어도 둘은 N이고，
Ra는 수소， 중수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기， 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C12 아릴기이고,
Ar1 및 Ar2는 각각 독립적으로 수소， 중수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기, 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C18 아릴기이다.
【청구항 7】
게 1항에 있어서,
상기 Ar1 및 Ar2는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 페닐기, 치환 또는 비치환된 바이페닐기, 치환 또는 비치환된 터페닐기, 또는 치환 또는 비치환된 나프틸기인 유기 광전자 소자용 화합물.
【청구항 8】
게 7항에 있어서,
상기 Ar1 및 Ar2는 하기 그룹 1에 나열된 치환기 중 하나인 유기 광전자 소자용 화합물: 그룹 1]
Figure imgf000076_0001
상기 그룹 1에서, *은 연결 지점이다.
【청구항 9】
게 1항에 있어서,
하기 그룹 2에 나열된 화합물 중 하나인 유기 광전자 소자용 화합물:
Figure imgf000077_0001
OA\/:/1200910612.
Figure imgf000078_0001
Figure imgf000079_0001
69 8S IS ΐ0ΐ700/9ΐ0ΖΗΜ/Χ3<Ι 0TSSCI/.10Z OAV
Figure imgf000080_0001
6L
l01-00/9T0ZaM/X3d OTSSCl/.lOZ 0Λ\
Figure imgf000081_0001
【청구항 10】
서로 마주하는 양극과 음극， 그리고
상기 양극과 상기 음극 사이에 위치하는 적어도 한 층의 유기층을 포함하고,
상기 유기층은 게 1항 내지 제 9항 중 어느 한 항에 따른 유기 광전자 소자용 화합물을 포함하는 유기 광전자 소자.
【청구항 1 1】
제 10항에 있어서，
상기 유기충은 발광층， 전자수송층, 및 정공수송층을 포함하고,
상기 전자수송층 또는 상기 발광층은 상기 유기 광전자소자용 화합물을 포함하는 유기 광전자 소자.
【청구항 12]
제 1 1항에 있어서,
상기 전자수송층은 발광층에 인접한 전자수송보조층을 더 포함하고， 상기 전자수송보조층은 상기 유기 광전자 소자용 화합물을 포함하는 유기 광전자 소자.
【청구항 13】
제 1 1항에 있어서,
상기 발광층은 하기 화학식 2로 표현되는 화합물; 및 하기 화학식 3으로 표현되는 모이어티와 하기 화학식 4로 표현되는 모이어티의 조합으로 이루어진 화합물 중 적어도 1종의 화합물을 더 포함하는 유기 광전자 소자.
[화학식 2]
Figure imgf000082_0001
[화학식 3] [화학식 4]
Figure imgf000082_0002
상기 화학식 2 내지 4에서,
Ar3 내지 Ar6는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기， 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30 헤테로아릴기이고,
m은 0 또는 1의 정수이고,
상기 화학식 3의 인접한 두 개의 *는 상기 화학식 4의 2개의 *와
결합하여 융합고리를 형성하고， 이 때 상기 화학식 3에서 융합고리를 형성하지 않은 *는 각각 독립적으로 CRb이고,
Rb, 및 R7 내지 R14는 각각 독립적으로 수소， 중수소, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기, C6 내지 C30 아릴기, 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30 헤테로아릴기이다.
【청구항 14】
제 13항에 있어서,
상기 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기는 치환또는 비치환된 페닐기, 치환 또는 비치환된 바이페닐기, 치환 또는 비치환된 터페닐기, 치환 또는 비치환된 쿼터페닐기, 치환 또는 비치환된 나프틸기, 치환 또는 비치환된
트리페닐렌기， 또는 치환 또는 비치환된 플루오레닐기이고,
상기 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30 헤테로아릴기는 치환 또는
비치환된 디벤조퓨란일기， 치환 또는 비치환된 디벤조티오펜일기, 치환 또는 비치환된 피리디닐기, 치환 또는 비치환된 피리미디닐기， 치환또는 비치환된 트리아지닐기， 치환 또는 비치환된 퀴놀리닐기, 치환 또는 비치환된
이소퀴놀리닐기, 또는 치환 또는 비치환된 퀴나졸일기이며,
여기서 치환은 적어도 하나의 수소가 중수소, C1 내지 C10 알킬기, C6 내지 C18 아릴기, C3 내지 C20 헤테로아릴기로 치환된 것을 의미한다.
【청구항 15】
제 10항에 따른 유기 광전자 소자를 포함하는 표시장치.
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