WO2017101553A1 - 一种芴类多官能度光引发剂及其制备和应用、含芴类光引发剂的感光性树脂组合物及其应用 - Google Patents

一种芴类多官能度光引发剂及其制备和应用、含芴类光引发剂的感光性树脂组合物及其应用 Download PDF

Info

Publication number
WO2017101553A1
WO2017101553A1 PCT/CN2016/100601 CN2016100601W WO2017101553A1 WO 2017101553 A1 WO2017101553 A1 WO 2017101553A1 CN 2016100601 W CN2016100601 W CN 2016100601W WO 2017101553 A1 WO2017101553 A1 WO 2017101553A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
group
compound
linear
resin composition
photosensitive resin
Prior art date
Application number
PCT/CN2016/100601
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
钱晓春
Original Assignee
常州强力先端电子材料有限公司
常州强力电子新材料股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from CN201510937328.0A external-priority patent/CN106883114B/zh
Priority claimed from CN201610210118.6A external-priority patent/CN107272336A/zh
Application filed by 常州强力先端电子材料有限公司, 常州强力电子新材料股份有限公司 filed Critical 常州强力先端电子材料有限公司
Priority to KR1020187019720A priority Critical patent/KR102079026B1/ko
Priority to EP16874613.9A priority patent/EP3392232B1/en
Priority to US16/061,490 priority patent/US11054743B2/en
Priority to DK16874613.9T priority patent/DK3392232T3/da
Priority to JP2018530699A priority patent/JP6725663B2/ja
Publication of WO2017101553A1 publication Critical patent/WO2017101553A1/zh

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C29/00Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring
    • C07C29/09Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring by hydrolysis
    • C07C29/12Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring by hydrolysis of esters of mineral acids
    • C07C29/124Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring by hydrolysis of esters of mineral acids of halides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C45/00Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
    • C07C45/45Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by condensation
    • C07C45/46Friedel-Crafts reactions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C49/00Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
    • C07C49/20Unsaturated compounds containing keto groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C49/213Unsaturated compounds containing keto groups bound to acyclic carbon atoms containing six-membered aromatic rings
    • C07C49/215Unsaturated compounds containing keto groups bound to acyclic carbon atoms containing six-membered aromatic rings polycyclic
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C49/00Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
    • C07C49/76Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C49/00Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
    • C07C49/76Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring
    • C07C49/82Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring containing hydroxy groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C49/00Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
    • C07C49/76Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring
    • C07C49/82Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring containing hydroxy groups
    • C07C49/83Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring containing hydroxy groups polycyclic
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D273/00Heterocyclic compounds containing rings having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by groups C07D261/00 - C07D271/00
    • C07D273/01Heterocyclic compounds containing rings having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by groups C07D261/00 - C07D271/00 having one nitrogen atom
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D295/00Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
    • C07D295/04Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms
    • C07D295/10Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by doubly bound oxygen or sulphur atoms
    • C07D295/104Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by doubly bound oxygen or sulphur atoms with the ring nitrogen atoms and the doubly bound oxygen or sulfur atoms attached to the same carbon chain, which is not interrupted by carbocyclic rings
    • C07D295/108Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by doubly bound oxygen or sulphur atoms with the ring nitrogen atoms and the doubly bound oxygen or sulfur atoms attached to the same carbon chain, which is not interrupted by carbocyclic rings to an acyclic saturated chain
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/039Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/40Treatment after imagewise removal, e.g. baking
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2603/00Systems containing at least three condensed rings
    • C07C2603/02Ortho- or ortho- and peri-condensed systems
    • C07C2603/04Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing three rings
    • C07C2603/06Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing three rings containing at least one ring with less than six ring members
    • C07C2603/10Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing three rings containing at least one ring with less than six ring members containing five-membered rings
    • C07C2603/12Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing three rings containing at least one ring with less than six ring members containing five-membered rings only one five-membered ring
    • C07C2603/18Fluorenes; Hydrogenated fluorenes

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

本发明公开一种如通式(I)所示的芴类多官能度光引发剂、含有其的感光性树脂组合物、其制备和二者的应用。该化合物合成简单、成本低、溶解性好,在光固化组合物中应用效果佳,相比于传统小分子光引发剂,不仅光引发活性优异,而且具有低迁移性、低气味性、耐黄变等优点。该组合物具有高感光度和良好的显影性,分辨率高且与基板密合性优异,非常适合用以制备高遮光性的黑色矩阵、高精细且高品质的滤色器和液晶显示装置,并且也能够在光间隔物和肋栅、光刻胶、湿膜、干膜等方面得到应用。

Description

一种芴类多官能度光引发剂及其制备和应用、含芴类光引发剂的感光性树脂组合物及其应用 技术领域
本发明属于有机化学领域,具体涉及一种芴类多官能度光引发剂及其制备、含芴类光引发剂的感光性树脂组合物及其在制备彩色滤光片膜(RGB)、黑色矩阵(BM)、光刻胶、光间隔物(photo-spacer)、肋栅(rib)、湿膜及干膜等中的应用。
背景技术
在液晶显示器等显示装置中,液晶层通常设于两块基板之间,每块基板上配置相对向的电极,且在其中一块基板的内侧,在液晶层对面,配制有由红色(R)、绿色(G)、蓝色(B)及黑色等各像素形成的滤色层。其中,通常以设置矩阵的形式区分R、G、B各色的色重。
目前,生产滤色器的方法主要有染色法、印刷法、颜料分散法和阳极法,其中颜料分散法使用最为广泛。颜料分散法是在透明基片上涂布含有着色材料的感光性树脂组合物,然后进行图像曝光、显影和视情况需要的后固化,通过重复这些过程形成滤色器图像。该方法得到的滤色器像素的定位精度和膜厚度精度高,具有优异的耐久性(如耐光性和耐热性等),而且针孔缺陷少。
在滤色器制造中,BM通常以格子状、条形状或马赛克状配制在红、绿、蓝图案之间,用以防止薄膜晶体管因漏光而出现故障或通过阻止各种颜色间的混色来提高对比度,而这就要求BM应具有较高的遮光性。因此,如何使用分散有遮光颜料或染料的感光性树脂低成本地形成高效BM成为了研究的一个热点。一般来说,需要通过增加膜厚度或提高遮光颜料或染料的含量来改善BM的遮光性,但在整个光波长区域都需要遮光性的情况下,这些措施易导致组合物的感光特性出现显著障碍,主要表现为:在曝光部分与未曝光部分以及曝光底部出现交联密度差;不溶于显影液的颜料使显影性降低,进而导致图案的直线性降低,或图案发生剥离,产生残渣;等等。
目前常用为含有有咔唑或二苯硫醚为主体结构的肟酯类光引发剂的感光性组合物,但这类光引发剂成本较高,在一定程度上限制了其应用,因此,价格合适的光引发剂需要被开发。
传统小分子光引发剂具有优异的感光性能和溶解性,但在实际应用中存在光解碎片容易迁移和挥发性大等问题。人们设法通过增加化合物分子量来解决这些不足,但是分子量增加通常会降低光引发效果。
芴类化合物分子量较大,且在油墨、涂料、粘合剂等紫外光固化中的应用已被本领域所熟知。若能将芴类化合物与传统小分子光引发剂的优势相结合,制成多官能度光引发剂,那么不仅能够降低光引发剂分子及其光解产物的迁移作用,缓解挥发性问题,而且有望通过多 个不同光活性基团彼此之间的共同作用乃至协同作用,提高光引发效率,进一步提高其在感光性组合物中的应用性能。因此,寻求具有这种结构和特性的光引发剂化合物具有很高的应用价值。
发明内容
本发明的目的首先在于提供一种芴类多官能度光引发剂。该化合物合成简单、成本低、溶解性好,在光固化组合物中应用效果佳,相比于传统小分子光引发剂,不仅光引发活性优异,而且具有低迁移性、低气味性、耐黄变等优点。
本发明所述的芴类多官能度光引发剂,具有如下式(I)所示的结构:
Figure PCTCN2016100601-appb-000001
其中,R1各自独立地表示氢、卤素、C1-C20的直链或支链烷基、C4-C20的环烷基烷基、C2-C20的链烯基;R2和R3相互独立地表示C1-C20的直链或支链烷基、C3-C20的环烷基、C4-C20的环烷基烷基、C4-C20的烷基环烷基、C6-C20的芳基,且R2和R3可彼此相连以形成环;R4表示光活性基团;A表示氢、硝基、卤素或-CO-CR2R3R4基团。
作为优选技术方案,在上述式(I)所示多官能度光引发剂中,R1各自独立地代表氢、卤素、C1-C10的直链或支链烷基、C4-C10的环烷基烷基。进一步优选地,R1各自独立地代表氢、C1-C4的直链或支链烷基、被C3-C6环烷基单取代的C1-C3烷基。
优选地,R2和R3相互独立地表示C1-C10的直链或支链烷基、C4-C10的环烷基烷基,或R2和R3彼此相连以形成C3-C10的环烷基。进一步优选地,R2和R3相互独立地表示C1-C4的直链或支链烷基、C4-C8的环烷基烷基,或者R2和R3彼此相连以形成C3-C6的环烷基。
优选地,R4表示羟基或者N-吗啉基。
优选地,A表示氢、硝基、或-CO-CR2R3R4基团。当取-CO-CR2R3R4基团时,R2、R3和R4具有如上所述的相同定义。
本发明还包括上述式(I)所示芴类多官能度光引发剂的制备方法,包括以下步骤:
(1)傅克反应
原料a与原料b在三氯化铝或氯化锌的催化作用下于有机溶剂中发生傅克反应,得到中间体a,
Figure PCTCN2016100601-appb-000002
(2)溴代反应
中间体a在溶剂存在条件下与液溴发生溴代反应,生成中间体b,
Figure PCTCN2016100601-appb-000003
(3)脱卤反应
中间体b经水解或者与含非羟基光活性基团的化合物反应,得到目标产物,
Figure PCTCN2016100601-appb-000004
本领域技术人员容易理解的是,当原料a是仅由R1取代的芴(即A取H)时,通过调整反应原料比例,可以使A保留为氢或者经傅克、溴代和脱卤反应成为-CO-CR2R3R4基团,从而得到两种不同结构的产物。
上述制备方法中,使用的原料均是现有技术中的已知化合物,可通过商业购得或者经已知的合成方法简便地制备而成。并且,步骤(1)-(3)中涉及的反应都是本领域合成类似化合物的常规反应。在知晓了本发明公开的合成思路的基础上,具体反应条件对本领域技术人员而言是容易确定的。
步骤(1)的傅克反应中,反应温度通常为-10-30℃。对反应中使用的有机溶剂种类并没有特别限定,只要能够溶解原料且对反应无不良影响即可,优选二氯甲烷、二氯乙烷、苯、二甲苯等。
步骤(2)的溴代反应温度通常为30-50℃。对使用的溶剂种类并没有特别限定,只要能够溶解原料且对反应无不良影响即可,优选二氯甲烷、二氯乙烷、苯、二甲苯等。
在步骤(3)的脱卤反应中,中间体b通过水解或者与包含非羟基光活性基团的化合物反应,在结构中引入光活性基团,从而生成目标光引发剂。
中间体b通过水解进行脱卤时,可在R4位置引入羟基。除中间体b之外,反应体系中还包含由有机溶剂和水构成的溶剂体系以及无机碱和相转移催化剂。所述有机溶剂可选用二氯甲烷、二氯乙烷、苯、二甲苯、乙腈等;所述无机碱优选KOH、NaOH等无机强碱;所述相转移催化剂优选是季铵盐类相转移催化剂,如四丁基溴化铵、四丙基溴化铵、四正丁基铵、氯化三乙基苄基铵、硫酸氢四丁基铵等。水解反应温度通常为60-150℃。
中间体b通过与包含非羟基光活性基团的化合物反应进行脱卤时,可在R4位置引入相应光活性基团,反应温度通常为40-160℃。反应体系中可根据需要选择使用或不使用溶剂,对使用的溶剂种类并没有特别限定,只要能够溶解原料且对反应无不良影响即可,优选二氯甲烷、二氯乙烷、苯、二甲苯、乙腈等。作为所述含非羟基光活性基团的化合物的实例,例如可以是吗啉、硫代吗啉等。
相应地,本发明还涉及上述式(I)所示光引发剂在光固化领域中的应用。具体可应用于制作:在塑料、金属、玻璃、陶瓷、木材、墙体、光纤等基材上进行涂布的涂料;硬涂层剂、防污膜、防反射膜、冲击缓冲膜等保护膜材料;光固化黏合剂、黏着剂,光分解型涂料、涂膜、成型物;全息影像材料等的光记录介质;光学成型树脂,例如,3D打印用油墨(树脂),电子电路和半导体制造用光刻胶,显示器中彩色滤光片、黑色矩阵、干膜、湿膜等电子材料用光刻胶等;层间绝缘膜,光提取膜,增亮膜,密封材料;丝网印刷、胶板印刷、凹版印刷等印刷用油墨,喷墨打印用光固化油墨;镜片、透镜阵列、光导波路、导光板、光扩散板、衍射元件等光学部件;光间隙物,肋壁,纳米压印用材料等。
优选该应用包括在制备彩色滤光片膜、光刻、黑色矩阵、光间隔物、肋栅、湿膜、干膜、油墨、涂料和粘合剂的应用。
通过在芴类化合物中引入小分子活性基团,本发明的多官能度光引发剂相比于传统小分子光引发剂,不仅光引发活性优异,而且具有低迁移性、低气味性、耐黄变等优点,成膜性能优异。
鉴于上述情况,本发明的目的还在于提供一种新的感光性树脂组合物,它具有成本相对较低的优点,并且具有良好的曝光灵敏度(即,高感光度)和显影性,在体系含有高含量遮光剂或曝光剂量很低的情况下,固化后图案完整且显影清晰,分辨率高,与基板密合性优异。
为了实现上述目的,采用如下技术方案。
一种感光性树脂组合物,包含下列组分:(A)自由基聚合性化合物;(B)光引发剂,该光引发剂选自式(I)所示的芴类化合物为主体结构化合物或其衍生化合物中的至少一种:
Figure PCTCN2016100601-appb-000005
其中,A代表氢、卤素、硝基、C1-C10的直链或支链烷基、C3-C10的烷基环烷基、C4-C10的烷基环烷基或环烷基烷基,A中的-CH2-能够被O、N、S或C(=O)所取代;X代表连接符或羰基;R1代表氢、卤素、C1-C20的直链或支链烷基、C4-C20的环烷基烷基或C2-C20的链烯基,R1中的-CH2-能够被O、N、S或C(=O)所取代,R1之间能够成环;R2和R3相互独立地表示C1-C20的直链或支链烷基、C3-C20的环烷基、C4-C20的环烷基烷基或C4-C20的烷基环烷基,R2和R3中的-CH2-能够被O、N、S或C(=O)所取代,且R,2和R3彼此相连以形成环;R4表示羟基、N-吗啉基或N-二烷基光活性基团;(C)任选地(optionally),着色剂。(D)任选地(optionally),碱溶性树脂,优选所述碱溶性树脂的质量份为大于0且小于等于80份,更优选为20~60份。
本发明的聚合性组合物可以与碱可溶性树脂混合并用,碱溶性树脂(D)只要是起到粘合剂的作用,在形成图像图案时对于显影处理工序中使用的显影液优选可溶性碱性显影液,优选作为含羧基共聚物的碱可溶性树脂、特别优选具有1个以上羧基的烯属不饱和单体和其他可共聚的烯属不饱和单体的共聚物。
进一步地,优选上述以式(I)所示的芴类化合物为主体结构的化合物,包括如下结构:
Figure PCTCN2016100601-appb-000006
其中,A代表氢、硝基、C1-C10的直链或支链烷基;R1代表氢、C1-C20的直链或支链烷基,或被O、N、S或C(=O)所取代的C1-C20的直链或支链烷基;R2和R3相互独立地表示C1-C20的直链或支链烷基、C3-C20的环烷基、C4-C20的环烷基烷基、C4-C20的烷基环烷基或C6-C20的芳基,R4和R5中的-CH2-能被O、N、S或C(=O)所取代,且R4和R5彼此相连以形成环;R4表示羟基、N-吗啉基或N-二烷基。
进一步地,优选以式(I)所示的芴类化合物为主体结构的化合物,包括如下所示结构:
Figure PCTCN2016100601-appb-000007
Figure PCTCN2016100601-appb-000008
进一步地,优选以式(I)所示的芴类化合物为主体结构的衍生化合物为:式(Ⅵ)、(Ⅷ)所示的化合物:
Figure PCTCN2016100601-appb-000009
其中,M表示R1、R2、R3二聚化而形成的连接基团,M为空、C1-C24的直链或支链亚烷基、C6-C36的亚芳基或亚杂芳基,M中的-CH2-任选地被硫、氧、NH或羰基所取代,氢原子任选地被OH或NO2所取代。
进一步地,优选以式(I)所示的芴类化合物为主体结构的衍生化合物为下列结构的化合物:
Figure PCTCN2016100601-appb-000010
本发明的另一个目的在于提供上述感光性树脂组合物在光固化领域的应用,该应用包括在制备彩色滤光片膜、光刻、黑色矩阵、光间隔物、肋栅、湿膜、干膜、油墨、涂料和粘合剂的应用。
本发明的另一个目的在于提供上述感光性树脂组合物在制备彩色滤光片膜、黑色矩阵、光间隔物、肋栅和干膜用光刻胶中的应用。
本发明所述的感光性树脂组合物中各组分组配合理,组合物具有非常高的感光度,在很低的曝光剂量下就可以很好的交联固化,且固化效果极佳。由该组合物制成的膜边缘平整无缺陷,没有浮渣,图案完整清晰,且硬度高。制成的滤光片光学透明度高,不漏光,在很低的曝光剂量下完成制作,并且精度好、平坦、耐久。
具体实施方式
需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将结合实施例来详细说明本发明。
如背景技术所分析的,现有技术的肟酯类光引发剂与基体树脂的溶解性不足,为了解决该问题,本申请一种典型实施方式提供了一种芴类多官能度光引发剂,具有如下式(I)所示的结构:
Figure PCTCN2016100601-appb-000011
其中,R1各自独立地表示氢、卤素、C1-C20的直链或支链烷基、C4-C20的环烷基烷基、C2-C20的链烯基;R2和R3相互独立地表示C1-C20的直链或支链烷基、C3-C20的环烷基、C4-C20的环烷基烷基、C4-C20的烷基环烷基、C6-C20的芳基,且R2和R3可彼此相连以形成环;R4表示光活性基团;A表示氢、硝基、卤素或-CO-CR2R3R4基团。
上述化合物合成简单、成本低,溶解性好,应用于光固化组合物时具有优异的储存稳定性和成膜性能。
在本申请另一种典型的实施方式中,提供了一种感光性树脂组合物,本发明的感光性树脂组合物包含组分(A)、(B)以及任选的组分(C)、(D),由于具有上述结构是(I)的化合物中芴官能团、羰基及光活性基团的有效结合,因此,其溶解性能、储存稳定性及引发性能优异。
本发明的上述感光性树脂组合物具有高感光度和良好的显影性,分辨率高且与基板密合性优异,非常适合用以制备高遮光性的黑色矩阵、高精细且高品质的滤色器和液晶显示装置,并且也能够在光间隔物和肋栅等方面得到应用。
另外,感光性树脂组合物中各组分组配合理,组合物具有非常高的感光度,在很低的曝光剂量下就可以很好的交联固化,且固化效果极佳。由该组合物制成的膜边缘平整无缺陷,没有浮渣,图案完整清晰,且硬度高。制成的滤光片光学透明度高,不漏光,在很低的曝光剂量下完成制作,并且精度好、平坦、耐久。
以下将对各组分进行更加详细的说明。
<组分(A)自由基聚合性化合物>
本发明的感光性树脂组合物中,组分(A)为具有可自由基聚合的烯属不饱和键的化合物或/和环氧化合物。所谓具有可自由基聚合的烯属不饱和键的化合物只要是在分子中具有至少一个以上可自由基聚合的烯属不饱和键的化合物,上述化合物可以具有单体、低聚物、聚合物等化学形态。
作为这种具有可自由基聚合的烯属不饱和键的化合物的例子可举出丙烯酸酯类、甲基丙烯酸酯类、衣康酸、巴豆酸、异巴豆酸、马来酸等不饱和羧酸及其盐、酯、氨基甲酸酯、酰胺和酸酐,丙烯腈,苯乙烯,乙烯基醚,还有各种不饱和聚酯、不饱和聚醚、不饱和聚酰胺、不饱和聚氨酯等自由基聚合性化合物,本发明并不限于此。
进一步的,本发明所述的丙烯酸类化合物可列举如下化合物:丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸异丙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸异戊酯、丙烯酸己酯、丙烯酸-2-乙基己酯、丙烯酸辛酯、丙烯酸癸酯、丙烯酸十二烷酯、丙烯酸十八烷酯、丙烯酸异冰片酯、丙烯酸环己酯、丙烯酸二环戊烯酯、丙烯酸二环戊烯基氧乙酯、丙烯酸苄酯、丙烯酸-2-羟基乙酯、丙烯酸-2-羟基丙酯、丙烯酸-2-羟基-3-氯丙酯、丙烯酸-2-羟基-3-苯氧基丙酯、丙烯酸-2-羟基-3-烯丙氧基丙酯、2-丙烯酰氧基乙基-2-羟基丙基邻苯二甲酸酯、丙烯酸-2,2,2-三氟乙酯、1,3-丁二醇甲基醚丙烯酸酯、丙烯酸丁氧基乙酯、丙烯酸-β-羧基乙酯、琥珀酸单丙烯酰氧基乙酯、ω-羧基聚己内酯单丙烯酸酯、三甲基甲硅烷氧基乙基丙烯酸酯、二苯基-2-丙烯酰氧基乙基磷酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯、四乙二醇二丙烯酸酯、双酚A二丙烯酸酯、EO改性双酚A二丙烯酸酯、PO改性双酚A二丙烯酸酯、氢化双酚A二丙烯酸酯、EO改性氢化双酚A二丙烯酸酯、PO改性氢化双酚A二丙烯酸酯、双酚F二丙烯酸酯、EO改性双酚F二丙烯酸 酯、PO改性双酚F二丙烯酸酯、EO改性四溴双酚A二丙烯酸酯、三环癸烷二羟甲基二丙烯酸酯、甘油PO改性三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯单丙酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、四羟甲基甲烷四丙烯酸酯等。
进一步的,本发明所述的甲基丙烯酸类化合物可列举如下化合物:甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸羟乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸异戊酯、甲基丙烯酸己酯、甲基丙烯酸-2-己酯、甲基丙烯酸-2-乙基己酯、甲基丙烯酸辛酯、甲基丙烯酸癸酯、甲基丙烯酸十二烷酯、甲基丙烯酸十八烷酯、甲基丙烯酸异冰片酯、甲基丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸二环戊烯酯、甲基丙烯酸二环戊烯基氧乙酯、甲基丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸-2-羟基乙酯、甲基丙烯酸-2-羟基丙酯、甲基丙烯酸-2-羟基-3-氯丙酯、甲基丙烯酸-2-羟基-3-苯氧基丙酯、甲基丙烯酸-2,2,2-三氟乙酯、甲基丙烯酸-2,2,3,3-四氟丙酯、甲基丙烯酸-1H-六氟异丙酯、甲基丙烯酸-2-甲氧基乙酯、1,3-丁二醇甲基醚甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸丁氧基乙酯、甲氧基三乙二醇甲基丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇#400甲基丙烯酸酯、甲氧基二丙二醇甲基丙烯酸酯、甲氧基三丙二醇甲基丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇甲基丙烯酸酯、乙氧基二乙二醇甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸-2-乙基己基卡必醇酯、甲基丙烯酸四氢糠酯、甲基丙烯酸苯氧基乙酯、季戊四醇四甲基丙烯酸酯、二季戊四醇五甲基丙烯酸酯单丙酸酯、二季戊四醇六甲基丙烯酸酯等。
进一步的,本发明所述的还可列举烯丙基缩水甘油醚、邻苯二甲酸二烯丙酯、偏苯三酸三烯丙酯、异氰尿酸三烯丙酯、丙烯酰胺、N-羟甲基丙烯酰胺、二丙酮丙烯酰胺、N,N-二甲基丙烯酰胺、N,N-二乙基丙烯酰胺、N-异丙基丙烯酰胺、丙烯酰基吗啉、苯乙烯、对羟基苯乙烯、对氯苯乙烯、对溴苯乙烯、对甲基苯乙烯、醋酸乙烯酯、单氯醋酸乙烯酯、苯甲酸乙烯酯、特戊酸乙烯酯、丁酸乙烯酯、月桂酸乙烯酯、己二酸二乙烯酯等。
本发明的自由基聚合性化合物(A)可以仅使用一种,为了提高期望的特性也可以按任意比率混合两种或两种以上而使用。
组分(A)在感光性树脂组合物中的用量可以是0.1-100质量份,优选为30-80质量份,更优选为40-70质量份。
<组分(B)光引发剂>
本发明使用的组分(B)光引发剂选自式(I)或式(II)所示芴类化合物和以式(I)或式(II)所示化合物为主体结构的衍生化合物中的至少一种。该光引发剂可以仅由式(I)或式(II)所示芴类化合物或以其为主体结构的衍生化合物构成,也可以是两类化合物的组合。
进一步的,本发明所述的式(I)和(II)所示的化合物分别为:
Figure PCTCN2016100601-appb-000012
其中,A代表氢、卤素、硝基、C1-C10的直链或支链烷基、C3-C10的烷基环烷基、C4-C10的烷基环烷基或环烷基烷基,A中的-CH2-能够被O、N、S或C(=O)所取代;X代表连接符或羰基;R1代表氢、卤素、C1-C20的直链或支链烷基、C4-C20的环烷基烷基或C2-C20的链烯基,R1中的-CH2-能够被O、N、S或C(=O)所取代,R1之间能够成环;R2和R3相互独立地表示C1-C20的直链或支链烷基、C3-C20的环烷基、C4-C20的环烷基烷基或C4-C20的烷基环烷基,R2和R3中的-CH2-能够被O、N、S或C(=O)所取代,且R2和R3彼此相连以形成环;R4表示羟基、N-吗啉基或N-二烷基光活性基团;R5和R6相互独立地表示C1-C20的直链或支链烷基、C3-C20的环烷基、C4-C20的环烷基烷基或C4-C20的烷基环烷基,R2和R3中的-CH2-能够被O、N、S或C(=O)所取代。
作为优选方案,式(I)或式(II)所示芴类化合物包括下列结构所示的化合物:
Figure PCTCN2016100601-appb-000013
Figure PCTCN2016100601-appb-000014
Figure PCTCN2016100601-appb-000015
上述以式(I)或式(II)所示化合物为主体结构的衍生化合物是指在保持式(I)或式(II)化合物主体结构不变的前提下,通过其支链取代或彼此连接而得到的衍生物。在本发明中作为光引发剂使用时,所述以式(I)或式(II)所示化合物为主体结构的衍生化合物是如下式(III)、(IV)、(Ⅴ)、(Ⅵ)、(Ⅷ)所示的化合物:
Figure PCTCN2016100601-appb-000016
其中,M表示R1、R2、R3、R5、R6二聚化而形成的连接基团,M为空、C1-C24的直链或支链亚烷基、C6-C36的亚芳基或亚杂芳基,M中的-CH2-任选地被硫、氧、NH或羰基所取代,氢原子任选地被OH或NO2所取代。
示例性地,上述衍生化合物可以是下列结构的化合物:
Figure PCTCN2016100601-appb-000017
组分(B)在感光性树脂组合物中的用量优选为1-5质量份。
<组分(C)着色剂>
本发明的感光性树脂组合物可进一步含有组分(C)着色剂。非限制性地,通过含有着色剂,本发明的组合物可用于形成液晶显示器的滤色器;并且在以遮光剂作为着色剂时,组合物可用于形成显示装置的滤色器中的黑底显像管。
本发明对于组分(C)着色剂的种类没有特别限定,可以是颜色指数(color index)(C.I.;The Society of Dyers and Colourists社发行)中被分类成颜料(Pigment)的那些化合物,优选具有下述C.I.序号的着色剂,如:
C.I.颜料黄1(以下由于“C.I.颜料黄”是相同的所以仅记载序号)、3、11、12、13、14、15、16、17、20、24、31、53、55、60、61、65、71、73、74、81、83、86、93、95、97、98、99、100、101、104、106、108、109、110、113、114、116、117、119、120、125、126、127、128、129、137、138、139、147、148、150、151、152、153、154、155、156、166、 167、168、175、180、185;C.I.颜料橙1(以下由于“C.I.颜料橙”是相同的所以仅记载序号)、5、13、14、16、17、24、34、36、38、40、43、46、49、51、55、59、61、63、64、71、73;C.I.颜料紫1(以下由于“C.I.颜料紫”是相同的所以仅记载序号)、19、23、29、30、32、36、37、38、39、40、50;C.I.颜料红1(以下由于“C.I.颜料红”是相同的所以仅记载序号)、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、14、15、16、17、18、19、21、22、23、30、31、32、37、38、40、41、42、48:1、48:2、48:3、48:4、49:1、49:2、50:1、52:1、53:1、57、57:1、57:2、58:2、58:4、60:1、63:1、63:2、64:1、81:1、83、88、90:1、97、101、102、104、105、106、108、112、113、114、122、123、144、146、149、150、151、155、166、168、170、171、172、174、175、176、177、178、179、180、185、187、188、190、192、193、194、202、206、207、208、209、215、216、217、220、223、224、226、227、228、240、242、243、245、254、255、264、265;C.I.颜料蓝1(以下由于“C.I.颜料蓝”是同样的所以仅记载序号)、2、15、15:3、15:4、15:6、16、22、60、64、66;C.I.颜料绿7、C.I.颜料绿36、C.I.颜料绿37;C.I.颜料棕23、C.I.颜料棕25、C.I.颜料棕26、C.I.颜料棕28;C.I.颜料黑1、C.I.颜料黑7。
在选用遮光剂作为着色剂时,优选使用黑色颜料作为遮光剂。作为黑色颜料,可列举:炭黑,钛黑(titanium black),铜、铁、锰、钴、铬、镍、锌、钙、银等的金属氧化物、复合氧化物、金属硫化物、金属硫酸盐或金属碳酸盐等。这些黑色颜料中,优选使用具有高遮光性的炭黑,可以是槽法炭黑、炉法炭黑、热裂炭黑、灯烟炭黑等常见炭黑,优选使用遮光性优异的槽法炭黑;还可使用树脂涂覆炭黑。此外,为了调整炭黑的色调,可适宜添加上面列出的有机颜料作为辅助颜料。实践表明,即使本发明的感光性树脂组合物中使用遮光性高的黑色颜料,也能够表现出非常好的显影性和图案完整性。
组分(C)在感光性树脂组合物中的用量为0-50质量份,优选为5-40质量份。
<组分(D)碱可溶性树脂>
本发明的聚合性组合物可以与碱可溶性树脂混合并用,碱溶性树脂(D)只要是起到粘合剂的作用,在形成图像图案时对于显影处理工序中使用的显影液优选可溶性碱性显影液,优选作为含羧基共聚物的碱可溶性树脂、特别优选具有1个以上羧基的烯属不饱和单体(以下简称“含羧基不饱和单体”(P))和其他可共聚的烯属不饱和单体(以下简称“共聚性不饱和单体”(Q))的共聚物(以下简称“含羧基共聚物”(R))。
作为含羧基不饱和单体可列举如下化合物:丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、α-氯丙烯酸、桂皮酸等不饱和单羧酸类;马来酸、马来酸酐、富马酸、衣康酸、衣康酸酐、柠康酸、柠康酸酐、中康酸等不饱和二羧酸或其酸酐类;三元以上的不饱和多元羧酸或其酸酐类;琥珀酸单(2-丙烯酰氧基乙基)、琥珀酸单(2-甲基丙烯酰氧基乙基)、邻苯二甲酸单(2-丙烯酰氧基乙基)、邻苯二甲酸单(2-甲基丙烯酰氧基乙基)等二元以上的多元羧酸的单[(甲基)丙烯酰氧基烷基]酯类;ω-羧基聚己内酯单丙烯酸酯、ω-羧基聚己内酯单甲基丙烯酸酯等在两末端具有羧基和羟基的聚合物的单(甲基)丙烯酸酯类等。
另外,作为共聚性不饱和单体可举出例如苯乙烯、α-甲基苯乙烯、邻乙烯基甲苯、间乙烯基甲苯、对乙烯基甲苯、对氯苯乙烯、邻甲氧基苯乙烯、间甲氧基苯乙烯、对甲氧基苯乙烯、邻乙烯基苄基甲醚、间乙烯基苄基甲醚、对乙烯基苄基甲醚、邻乙烯基苄基缩水甘油醚、间乙烯基苄基缩水甘油醚、对乙烯基苄基缩水甘油醚等芳香族乙烯基化合物,茚、1-甲基茚等茚类丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯等不饱和羧酸缩水甘油酯类,醋酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯、苯甲酸乙烯酯等羧酸乙烯酯类,乙烯基甲醚、乙烯基乙醚、烯丙基缩水甘油醚等不饱和醚类,丙烯腈、甲基丙烯腈、α-氯丙烯腈、氰化乙烯叉等氰化乙烯基化合物,丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、α-氯丙烯酰胺、N-2-羟乙基丙烯酰胺、N-2-羟乙基甲基丙烯酰胺等不饱和酰胺类,马来酰亚胺、N-苯基马来酰亚胺、N-环己基马来酰亚胺等不饱和酰亚胺类,1,3-丁二烯、异戊二烯、氯丁二烯等脂肪族共轭二烯类,聚苯乙烯、聚丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯酸正丁酯、聚甲基丙烯酸正丁酯、聚硅氧烷等聚合物分子链的末端具有单丙烯酰基或单甲基丙烯酰基的大分子单体类等。这些共聚性不饱和单体可以单独使用或者混合2种以上而使用。
本发明中优选的含羧基共聚物(以下称为“含羧基共聚物(R)”)是将(P)和(Q)聚合而得;所述(P)是以丙烯酸和/或甲基丙烯酸作为必要成分,根据情况进一步含有选自琥珀酸单(2-丙烯酰氧基乙基)、琥珀酸单(2-甲基丙烯酰氧基乙基)、ω-羧基聚己内酯单丙烯酸酯和ω-羧基聚己内酯单甲基丙烯酸酯中的至少1种化合物的含羧基不饱和单体成分;所述(Q)是选自苯乙烯、丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸-2-羟基乙酯、甲基丙烯酸-2-羟基乙酯、丙烯酸烯丙酯、甲基丙烯酸烯丙酯、丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸苄酯、甘油单丙烯酸酯、甘油单甲基丙烯酸酯、N-苯基马来酰亚胺、聚苯乙烯大分子单体和聚甲基丙烯酸甲酯大分子单体中的至少1种。
作为含羧基共聚物(R)的具体例可举出(甲基)丙烯酸/(甲基)丙烯酸甲酯共聚物、(甲基)丙烯酸/(甲基)丙烯酸苄酯共聚物、(甲基)丙烯酸/(甲基)丙烯酸-2-羟基乙酯/(甲基)丙烯酸苄酯共聚物、(甲基)丙烯酸/(甲基)丙烯酸甲酯/聚苯乙烯大分子单体共聚物、(甲基)丙烯酸/(甲基)丙烯酸甲酯/聚甲基丙烯酸甲酯大分子单体共聚物、(甲基)丙烯酸/(甲基)丙烯酸苄酯/聚苯乙烯大分子单体共聚物、(甲基)丙烯酸/(甲基)丙烯酸苄酯/聚甲基丙烯酸甲酯大分子单体共聚物、(甲基)丙烯酸/(甲基)丙烯酸-2-羟基乙酯/(甲基)丙烯酸苄酯/聚苯乙烯大分子单体共聚物、(甲基)丙烯酸/(甲基)丙烯酸-2-羟基乙酯/(甲基)丙烯酸苄酯/聚甲基丙烯酸甲酯大分子单体共聚物、甲基丙烯酸/苯乙烯/(甲基)丙烯酸苄酯/N-苯基马来酰亚胺共聚物、(甲基)丙烯酸/琥珀酸单[2-(甲基)丙烯酰氧基乙基]/苯乙烯/(甲基)丙烯酸苄酯/N-苯基马来酰亚胺共聚物、(甲基)丙烯酸/琥珀酸单[2-(甲基)丙烯酰氧基乙基]/苯乙烯/(甲基)丙烯酸烯丙酯/N-苯基马来酰亚胺共聚物、(甲基)丙烯酸/苯乙烯/(甲基)丙烯酸苄酯/甘油单(甲基)丙烯酸酯/N-苯基马来酰亚胺共聚物、(甲基)丙烯酸/ω-羧基聚己内酯单(甲基)丙烯酸酯/苯乙烯/(甲基)丙烯酸苄酯/甘油单(甲基)丙烯酸酯/N-苯基马来酰亚胺共聚物等含羧基共聚物分子中存在的取代基还可以由其他材料进行修饰。
本发明中,碱可溶性树脂(D)可以单独使用或者混合2种以上而使用。
组分(D)在感光性树脂组合物中的用量为0-80质量份,优选为20-60质量份。
<其它任选组分>
根据产物应用需要,该组合物中还可根据需要添加一种或多种大分子或高分子化合物来提高组合物在使用过程中的应用性能,这种大分子或高分子化合物可以是多元醇或聚酯多元醇,也可选择性的加入不含有反应官能团的聚合物,这些聚合物通常是含有酚羟基、羟基等酸性官能团的树脂,也可和其他光引发剂搭配使用。
另外在本发明的感光性树脂组合物中还可选择性地加入本领域中常用的其它助剂,包括但不限于敏化剂、分散剂、表面活性剂、溶剂等。
本发明的聚合性组合物在聚合反应时通过赋予紫外线、可见光线、近红外线等、电子束等产生的能量而聚合,可以得到作为目标的聚合物。作为赋予能量的光源,优选具有在250nm至450nm的波长区域中发光的主波长的光源。作为具有在250nm至450nm的波长区域中发光的主波长的光源的例子,可以举出超高压汞灯、高压汞灯、中压汞灯、汞氙灯、金属卤化物灯、大功率金属卤化物灯、氙灯、脉冲发光氙灯、氘灯、Led灯、荧光灯、Nd-YAG3倍波激光、He-Cd激光、氮激光、Xe-Cl准分子激光、Xe-F准分子激光、半导体激发固体激光等各种光源。
<制备及应用>
将各组分按量称取后混合均匀,即可获得本发明的感光性树脂组合物,这对于本领域技术人员来说属于公知的常规性技术,本发明所述的感光性组合物不仅能够应用于油墨、涂料、粘合剂等普通光固化领域,而且能够应用于高端光固化领域,比如用于制备彩色滤光片膜、光刻、黑色矩阵、光间隔物、肋栅、湿膜、干膜。
本发明的目的还在于提供上述感光性树脂组合物在制备彩色滤光片膜、黑色矩阵、光间隔物、肋栅和干膜用光刻胶中的应用。
利用感光性树脂组合物通过光固化和光刻工艺制备RGB、BM、光间隔物等的技术已经为本领域的技术人员所熟知。通常包括以下步骤:
i)将感光性树脂组合物溶解在合适的有机溶剂中,混合均匀,获得液状组合物;ii)利用涂布机,例如旋转涂布机、绕线棒涂布机、轴涂布机或喷涂布机等,将液状组合物均匀涂布在基板上;iii)进行前烘烤干燥,除去溶剂;iv)将掩膜板附在样品上进行曝光,随后显影除去未曝光区域;v)进行后烘烤,得到具有所希望形状的光致抗蚀剂干膜。
含有黑色颜料的光致抗蚀剂膜就是黑色矩阵BM,含有红、绿、蓝色颜料的光致抗蚀剂膜就是对应的R、G、B光阻。
制备实施例
实施例1
Figure PCTCN2016100601-appb-000018
步骤(1):中间体1a的制备
向500mL的四口烧瓶中加入97g原料1a、三氯化铝67g、二氯甲烷100mL,冰水浴降至0℃,滴加54g原料1b即异丁酰氯与50mL二氯甲烷的混合溶液,控温10℃以下,约2h滴加完,滴加完继续搅拌2h,液相跟踪反应至完全,接着将物料缓慢倒入800g冰水与100mL浓盐酸(37%)配成的稀盐酸中,边加边搅拌,后倒入分液漏斗中,分出下层二氯甲烷层,并用50mL二氯甲烷继续清洗水层,合并二氯甲烷层,用5%的碳酸氢钠水溶液(每次300mL,3次)清洗二氯甲烷层,接着水洗二氯甲烷层至pH呈中性,用150g无水硫酸镁干燥二氯甲烷层,过滤后旋蒸二氯甲烷产物溶液,甲醇重结晶,60℃烘箱干燥2h,得121中间体1a,收率92%,纯度98%。
该中间产物的结构表征数据如下所示。
1H-NMR(CDCl3,500MHz):1.2146-1.3005(6H,d),1.6788(6H,s),3.3005-3.3994(1H,m),7.2881-8.0231(7H,m)。
MS(m/z):265(M+1)+
步骤(2):中间体1b的制备
向500mL四口烧瓶中加入中间体1a 49g、二氯甲烷50mL,边搅拌边升温至40℃,并连接尾气吸收装置,滴加含16g溴素的二氯甲烷溶液80mL,约2h滴加完,继续保温搅拌2h,接着倒入25%的NaOH冰水溶液中搅拌30min,分液漏斗分出二氯甲烷层,并再次用50mL二氯甲烷萃取水层,合并二氯甲烷层,水洗至中性,旋蒸后甲醇重结晶,得白色固体60g,即中间体1b,收率86%,纯度98%。
该中间产物的结构表征数据如下所示。
1H-NMR(CDCl3,500MHz):1.6642(6H,s),2.0629(6H,s),7.3080-7.8346(7H,m);
MS(m/z):344(M+1)+
步骤(3):化合物1’的合成
向250mL四口烧瓶中加入34g中间体1b、50mL二氯乙烷、四丁基溴化铵0.2g、75g浓度为40%的NaOH水溶液,80℃加热回流2h,液相跟踪至反应完毕,接着降至室温,分液漏斗分出二氯乙烷层,水洗二氯乙烷层至中性,旋蒸除去二氯乙烷,甲醇重结晶,得白色固体产物24g,即化合物1’,收率87%,纯度99%。
产物结构通过核磁共振氢谱和质谱得到确认。1H-NMR(CDCl3,500MHz):1.5062(6H,s),1.6669(6H,s),2.0755-2.2992(1H,s),7.2251-7.8325(7H,m)。MS(m/z):281M+1)+
实施例2
Figure PCTCN2016100601-appb-000019
步骤(1):中间体2a的制备
向500mL的四口烧瓶中加入106g原料2a、三氯化铝67g、二氯甲烷100mL,冰水浴降至0℃,滴加54g异丁酰氯与50mL二氯甲烷的混合溶液,控温10℃以下,约2h滴加完,滴加完继续搅拌2h,液相跟踪反应至完全,接着将物料缓慢倒入800g冰水与100mL浓盐酸配成的稀盐酸中,边加边搅拌,后倒入分液漏斗中,分出下层二氯甲烷层,并用50mL二氯甲烷继续清洗水层,合并二氯甲烷层,用5%的碳酸氢钠水溶液(每次300mL,3次)清洗二氯甲烷层,接着水洗二氯甲烷层至pH呈中性,用150g无水硫酸镁干燥二氯甲烷层,过滤后旋蒸二氯甲烷产物溶液,甲醇重结晶,60℃烘箱干燥2h,得128g中间体2a,收率91%,纯度98%。
该中间产物的结构表征数据如下所示。1H-NMR(CDCl3,500MHz):1.2007-1.2316(6H,d),3.3208-3.3447(1H,m),3.8676-3.8801(2H,s),7.9111-8.0352(6H,m)MS(m/z):282(M+1)+
步骤(2):中间体2b的制备
向500mL四口烧瓶中加入中间体2a 56g、二氯甲烷50mL,边搅拌边升温至40℃,并连接尾气吸收装置,滴加含16g溴素的二氯甲烷溶液80mL,约2h滴加完,继续保温搅拌2h,接着倒入25%的NaOH冰水溶液中搅拌30min,分液漏斗分出二氯甲烷层,并再次用50mL二氯甲烷萃取水层,合并二氯甲烷层,水洗至中性,旋蒸后甲醇重结晶,得白色固体61g,即中间体2b,收率86%,纯度98%。
该中间产物的结构表征数据如下所示。
1H-NMR(CDCl3,500MHz):2.0632(6H,s),3.8679(2H,s),7.9083-8.0956(6H,m)。MS(m/z):361(M+1)+
步骤(3):化合物2’的合成
向250mL四口烧瓶中加入36g中间体2b、吗啉60g,130℃加热回流60h,液相跟踪至反应完全,接着将反应液倒入水中搅拌,析出米白色固体,抽滤,水洗,甲醇重结晶得白色固体22.3g,即化合物2’,收率60%,纯度99%。
产物结构通过核磁共振氢谱和质谱得到确认。1H-NMR(CDCl3,500MHz):1.3613(6H,s),2.3629-2.4101(4H,t),3.6765-3.7242(4H,t),3.8740(2H,s),7.9225-8.4366(6H,m)。MS(m/z):367(M+1)+
实施例3
Figure PCTCN2016100601-appb-000020
步骤(1):中间体3a的制备
向1000mL的四口烧瓶中加入111g原料3a、三氯化铝134g、二氯甲烷200mL,冰水浴降至0℃,滴加107g异丁酰氯与100mL二氯甲烷的混合溶液,控温10℃以下,约2h滴加完,滴加完继续搅拌2h,液相跟踪反应至完全,接着将物料缓慢倒入800g冰水与150mL浓盐酸配成的稀盐酸中,边加边搅拌,后倒入分液漏斗中,分出下层二氯甲烷层,并用100mL二氯甲烷继续清洗水层,合并二氯甲烷层,用5%的碳酸氢钠水溶液(每次300mL,3次)清洗二氯甲烷层,接着水洗二氯甲烷层至pH呈中性,用200g无水硫酸镁干燥二氯甲烷层,过滤后旋蒸二氯甲烷产物溶液,甲醇重结晶,60℃烘箱干燥2h,得163g中间体3a,收率90%,纯度98%。
该中间产物的结构表征数据如下所示。
1H-NMR(CDCl3,500MHz):0.9667-1.0002(6H,t),1.2149-1.2355(12H,d),1.9062-1.9147(2H,m),3.3265-3.4272(2H,m),7.9327-8.1753(6H,m)。
MS(m/z):363(M+1)+
步骤(2):中间体3b的制备
向500mL四口烧瓶中加入中间体3a 73g、二氯甲烷80mL,边搅拌边升温至40℃,并连接尾气吸收装置,滴加含32g溴素的二氯甲烷溶液100mL,约2h滴加完,继续保温搅拌2h,接着倒入25%的NaOH冰水溶液中搅拌30min,分液漏斗分出二氯甲烷层,并再次用80mL二氯甲烷萃取水层,合并二氯甲烷层,水洗至中性,旋蒸后甲醇重结晶,得白色固体87g,即中间体3b,收率84%,纯度98%。
该中间产物的结构表征数据如下所示。
1H-NMR(CDCl3,500MHz):0.9664(6H,t),1.8991-1.9132(4H,m),2.0632(12H,s),3.8679(2H,s),7.9111-8.1506(6H,m)。
MS(m/z):521(M+1)+
步骤(3):化合物3’的合成
向500mL四口烧瓶中加入52g中间体3b、100mL二氯乙烷、四丁基溴化铵0.3g、150g浓度为40%的NaOH水溶液,80℃加热回流2h,液相跟踪至反应完毕,接着降至室温,分液漏斗分出二氯乙烷层,水洗二氯乙烷层至中性,旋蒸除去二氯乙烷,甲醇重结晶,得白色固体产物33g,即化合物3’,收率85%,纯度99%。
产物结构通过核磁共振氢谱和质谱得到确认。1H-NMR(CDCl3,500MHz):0.9599-0.9754(6H,t),1.4927(12H,s),1.8976-1.9088(4H,t),2.0146-2.1961(2H,s),7.91571-8.1677(6H,m)。MS(m/z):395(M+1)+
实施例4-14
参照实施例1-3的方法,由相应原料制备了如下表1所示的化合物4’-14’。
表1
Figure PCTCN2016100601-appb-000021
Figure PCTCN2016100601-appb-000022
Figure PCTCN2016100601-appb-000023
性能评价
通过配制代表性光固化树脂组合物,对本发明式(I)所示光引发剂的各项应用性能进行评价,包括光固化性能、气味性/迁移性和耐黄变性等方面,具体步骤如下:
(1)配制如下组成的光固化树脂组合物:
Figure PCTCN2016100601-appb-000024
上述组合物中,光引发剂为本发明的式(I)化合物或现有技术中已知光引发剂(作为对比)。
(2)成膜性能测试
将上述组合物在黄光灯下搅拌,取料于PET模板上利用滚涂成膜,在90℃下干燥2min,得到干膜厚为2μm的涂膜,然后冷却至室温,用高压汞灯(曝光机型号:RW-UV70201,曝光量150mJ/cm2)照射对涂膜进行曝光,使其固化成膜。
成膜性能测试结果示于表2中。其中,膜颜色和膜表面情况均采用肉眼直接观察,气味采用直接扇闻法进行评价。膜颜色越深,说明黄变越深;表面越平整,说明固化效果越好;气味越低,说明迁移性越小。
表2
实施例/比较例 光引发剂 膜颜色 膜气味 膜表面
15 化合物1’ 无色 无气味 无瑕疵
16 化合物2’ 无色 无气味 无瑕疵
17 化合物3’ 无色 无气味 无瑕疵
18 化合物6’ 无色 无气味 无瑕疵
19 化合物10’ 无色 无气味 无瑕疵
比较例1 光引发剂907 黄色 有气味 无瑕疵
比较例2 光引发剂1173 黄色 无气味 无瑕疵
比较例3 光引发剂184 无色 有气味 无瑕疵
比较例4 光引发剂369 无色 有气味 无瑕疵
表2中可以看出,本发明的多官能度光引发剂应用后得到的膜表面无瑕疵,固化效果好,膜颜色均为无色,且无气味。与传统的小分子光引发剂相比,固化效果相当,但是在缓解黄变方面优于光引发剂907和1173,且迁移性明显优于光引发剂907、184和369。
综上所述,本发明公开的式(I)所示芴类多官能度光引发剂的应用性能优异,具有良好的感光性能,且具有气味小、迁移少、耐黄变、易合成、成本低等优点,在光固化领域中具有很好的应用前景。
组合物的相关试验
按照表3所列配方,配制实施例20-27和比较例5-8的感光性树脂组合物。其中,比较例5-8中的光引发剂A1-A4的结构如下所示:
Figure PCTCN2016100601-appb-000025
Figure PCTCN2016100601-appb-000026
表3
Figure PCTCN2016100601-appb-000027
注:以上均为质量份,实施例20至27中光引发剂所采用的化合物对应前述具体实施方式所列举的化合物。
将依照表3所示配方配制好的感光性树脂组合物溶解在100质量份的溶剂丙二醇单甲醚醋酸酯(PGMEA)中,混合均匀,形成液态组合物;
利用旋转涂布机将液态组合物涂覆在玻璃基板上,然后在100℃下干燥5min除去溶剂,形成膜厚为10μm的涂膜;为获得上述厚度的涂膜,涂覆过程可以是一次完成也可以分多次进行;
将带有涂膜的基板冷却至室温,附上掩膜板,采用LED光源(依瓦塔LED UV固化照射装置,最大照射强度400mW/cm2),通过掩膜板的缝隙在370-420nm波长的紫外线照射下对涂膜进行曝光;
在25℃温度下,使用1%的NaOH水溶液显影,再用超纯水洗涤,风干;
最后,在240℃的烘箱中后烘烤30min,得到掩膜板转移的图案。
性能评价
1、曝光灵敏度评价
将在曝光步骤中光辐照区域显影后残膜率在90%或以上的最小曝光量评价为曝光需求量,曝光需求量越小表示灵敏度越高。
2、显影性和图案完整性评价
用扫描电子显微镜(SEM)观察基板上图案,以评价显影性和图案完整性。
显影性根据以下标准评价:○:在未曝光部分未观察到残留物;◎:在未曝光部分观察到少量残留物,但残留量可以接受;●:在未曝光部分观察到明显残留物。
图案完整性根据以下标准评价:△:没有观察到图案缺陷;□:观察到小部分图案有些许缺陷;▲:明显观察到许多图案缺陷。
3、硬度评价
参照GB/T 6739-1996《涂膜硬度铅笔测定法》进行评价。使用涂膜铅笔划痕硬度仪,观察漆膜划痕痕迹,以未见划痕的铅笔为涂膜的铅笔硬度。
4、附着力评价
参照GB9286-88《色漆和清漆漆膜的划格试验》,通过划格实验方法评价涂膜附着力好坏。根据破坏程度分为0-5级(共6个等级),其中最好为0级,膜面没有任一个小格脱落;5级为极差,膜面产生了严重的剥落。
评价结果如表4中所示。
表4
  曝光需求量mJ/cm2 显影性 图案完整性 附着力 硬度
实施例20 68 0 5H
实施例21 69 0 5H
实施例22 65 0 5H
实施例23 69 0 5H
实施例24 68 0 5H
实施例25 66 0 5H
实施例26 70 0 5H
实施例27 70 0 5H
比较例5 102 4 H
比较例6 98 2 2H
比较例7 85 3 2H
比较例8 78 2 4H
从表4的结果可以看出,实施例20-27的组合物所制得的滤光片光阻具有很好的显影性和图案完整性,附着力及硬度方面也非常优异,而比较例5-8在这些方面明显存在不足。需要特别注意的是,实施例20-27的曝光剂量均不高于70mJ/cm2,远远低于比较实施例5-8,表现出了极其优异的感光灵敏度。
综上所述,本发明的感光性树脂组合物表现出了非常优异的应用性能,具有广阔的应用前景。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,对于本领域的技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (19)

  1. 一种芴类多官能度光引发剂,具有如下式(I)所示的结构:
    Figure PCTCN2016100601-appb-100001
    其中,
    R1各自独立地表示氢、卤素、C1-C20的直链或支链烷基、C4-C20的环烷基烷基、C2-C20的链烯基;
    R2和R3相互独立地表示C1-C20的直链或支链烷基、C3-C20的环烷基、C4-C20的环烷基烷基、C4-C20的烷基环烷基、C6-C20的芳基,且R2和R3可彼此相连以形成环;
    R4表示光活性基团;
    A表示氢、硝基、卤素或-CO-CR2R3R4基团。
  2. 根据权利要求1所述的芴类多官能度光引发剂,其特征在于:R1各自独立地代表氢、卤素、C1-C10的直链或支链烷基、C4-C10的环烷基烷基。
  3. 根据权利要求1或2所述的芴类多官能度光引发剂,其特征在于:R1各自独立地代表氢、C1-C4的直链或支链烷基、被C3-C6环烷基单取代的C1-C3烷基。
  4. 根据权利要求1所述的芴类多官能度光引发剂,其特征在于:R2和R3相互独立地表示C1-C10的直链或支链烷基、C4-C10的环烷基烷基,或R2和R3彼此相连以形成C3-C10的环烷基。
  5. 根据权利要求1或4所述的芴类多官能度光引发剂,其特征在于:R2和R3相互独立地表示C1-C4的直链或支链烷基、C4-C8的环烷基烷基,或者R2和R3彼此相连以形成C3-C6的环烷基。
  6. 根据权利要求1所述的芴类多官能度光引发剂,其特征在于:R4表示羟基或者N-吗啉基。
  7. 根据权利要求1所述的芴类多官能度光引发剂,其特征在于:A表示氢、硝基、或-CO-CR2R3R4基团。
  8. 一种感光性树脂组合物,其特征在于,包含下列组分:
    (A)具有烯属不饱和键的化合物,所述具有烯属不饱和键的化合物用于自由基聚合反应;
    (B)光引发剂,所述光引发剂为以式(I)所示的芴类化合物为主体结构的化合物 中的至少一种,或所述光引发剂为以式(I)所示的芴类化合物为主体结构的衍生化合物中的至少一种:
    Figure PCTCN2016100601-appb-100002
    其中,
    A代表氢、卤素、硝基、C1-C10的直链或支链烷基、C3-C10的烷基环烷基、C4-C10的烷基环烷基或环烷基烷基,A中的-CH2-能够被O、N、S或C(=O)所取代;
    X代表连接符或羰基;
    R1代表氢、卤素、C1-C20的直链或支链烷基、C4-C20的环烷基烷基或C2-C20的链烯基,R1中的-CH2-能够被O、N、S或C(=O)所取代,R1之间能够成环;
    R2和R3相互独立地表示C1-C20的直链或支链烷基、C3-C20的环烷基、C4-C20的环烷基烷基或C4-C20的烷基环烷基,R2和R3中的-CH2-能够被O、N、S或C(=O)所取代,且R2和R3彼此相连以形成环;
    R4表示羟基、N-吗啉基或N-二烷基光活性基团;
    (C)着色剂。
  9. 根据权利要求8所述的感光性树脂组合物,其特征在于,以式(I)所示的芴类化合物为主体结构的化合物,包括如下结构:
    Figure PCTCN2016100601-appb-100003
    其中,
    A代表氢、硝基、C1-C10的直链或支链烷基;
    R1代表氢、C1-C20的直链或支链烷基,或被O、N、S或C(=O)所取代的C1-C20的直链或支链烷基;
    R2和R3相互独立地表示C1-C20的直链或支链烷基、C3-C20的环烷基、C4-C20的环烷基烷基、C4-C20的烷基环烷基或C6-C20的芳基,R4和R5中的-CH2-能被O、N、S或C(=O)所取代,且R4和R5彼此相连以形成环;
    R4表示羟基、N-吗啉基或N-二烷基。
  10. 根据权利要求8或9所述的感光性树脂组合物,其特征在于,以式(I)所示的芴类化合物为主体结构的化合物,包括如下所示结构:
    Figure PCTCN2016100601-appb-100004
  11. 根据权利要求8所述的感光性树脂组合物,其特征在于,以式(I)所示的芴类化合物为主体结构的衍生化合物为:式(Ⅵ)、(Ⅷ)所示的化合物:
    Figure PCTCN2016100601-appb-100005
    其中,M表示R1、R2、R3二聚化而形成的连接基团,M为空、C1-C24的直链或支链亚烷基、C6-C36的亚芳基或亚杂芳基,M中的-CH2-任选地被硫、氧、NH或羰基所取代,氢原子任选地被OH或NO2所取代。
  12. 根据权利要求8或11所述的感光性树脂组合物,其特征在于,以式(I)所示的芴类化合物为主体结构的衍生化合物为下列结构的化合物:
    Figure PCTCN2016100601-appb-100006
  13. 权利要求8所述的感光性树脂组合物,其特征在于,可进一步含有碱溶性树脂(D)。
  14. 权利要求1-7中任一项所述的芴类多官能度光引发剂或权利要求8至13中任一项所述的感光性树脂组合物在光固化领域中的应用。
  15. 根据权利要求14所述的应用,其特征在于,所述应用包括在制备彩色滤光片膜、光刻、黑色矩阵、光间隔物、肋栅、湿膜、干膜、油墨、涂料和粘合剂的应用。
  16. 权利要求1-7中任一项所述的芴类多官能度光引发剂的制备方法,包括以下步骤:
    (1)傅克反应
    原料a与原料b在三氯化铝或氯化锌的催化作用下于有机溶剂中发生傅克反应,得到中间体a,
    Figure PCTCN2016100601-appb-100007
    (2)溴代反应
    中间体a在溶剂存在条件下与液溴发生溴代反应,生成中间体b,
    Figure PCTCN2016100601-appb-100008
    (3)脱卤反应
    中间体b经水解或者与含非羟基光活性基团的化合物反应,得到目标产物,
    Figure PCTCN2016100601-appb-100009
  17. 根据权利要求16所述的制备方法,其特征在于:中间体b通过水解进行脱卤时,除中间体b之外,反应体系中还包含由有机溶剂和水构成的溶剂体系以及无机碱和相转移催化剂。
  18. 根据权利要求17所述的制备方法,其特征在于:所述相转移催化剂是季铵盐类相转移催化剂,如四丁基溴化铵、四丙基溴化铵、四正丁基铵、氯化三乙基苄基铵、硫酸氢四丁基铵等。
  19. 根据权利要求16所述的制备方法,其特征在于:所述含非羟基光活性基团的化合物是吗啉或硫代吗啉。
PCT/CN2016/100601 2015-12-15 2016-09-28 一种芴类多官能度光引发剂及其制备和应用、含芴类光引发剂的感光性树脂组合物及其应用 WO2017101553A1 (zh)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020187019720A KR102079026B1 (ko) 2015-12-15 2016-09-28 플루오렌 다작용성 광개시제 및 이의 제조 및 용도, 및 플루오렌 광개시제를 포함하는 광감성 수지 조성물 및 이의 용도
EP16874613.9A EP3392232B1 (en) 2015-12-15 2016-09-28 Fluorene multifunctional photoinitiator and preparation and use thereof, and photosensitive resin composition containing fluorene photoinitiator and use thereof
US16/061,490 US11054743B2 (en) 2015-12-15 2016-09-28 Fluorene polyfunctional photoinitiator and preparation and use thereof, and photosensitive resin composition containing fluorene photoinitiator and use thereof
DK16874613.9T DK3392232T3 (da) 2015-12-15 2016-09-28 Multifunktionel fluorenfotoinitiator og fremstilling og anvendelse deraf, og fotosensitiv resinsammensætning indeholdende fluorenfotoinitiator og anvendelse deraf
JP2018530699A JP6725663B2 (ja) 2015-12-15 2016-09-28 フルオレン類多官能光開始剤およびその製造ならびに使用、フルオレン類光開始剤含有感光性樹脂組成物およびその使用

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201510937328.0 2015-12-15
CN201510937328.0A CN106883114B (zh) 2015-12-15 2015-12-15 一种芴类多官能度光引发剂及其制备和应用
CN201610210118.6 2016-04-06
CN201610210118.6A CN107272336A (zh) 2016-04-06 2016-04-06 一种含芴类光引发剂的感光性树脂组合物及其应用

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2017101553A1 true WO2017101553A1 (zh) 2017-06-22

Family

ID=59055689

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/CN2016/100601 WO2017101553A1 (zh) 2015-12-15 2016-09-28 一种芴类多官能度光引发剂及其制备和应用、含芴类光引发剂的感光性树脂组合物及其应用

Country Status (7)

Country Link
US (1) US11054743B2 (zh)
EP (1) EP3392232B1 (zh)
JP (1) JP6725663B2 (zh)
KR (1) KR102079026B1 (zh)
DK (1) DK3392232T3 (zh)
TW (1) TWI591050B (zh)
WO (1) WO2017101553A1 (zh)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018149370A1 (zh) * 2017-02-17 2018-08-23 常州强力先端电子材料有限公司 芴氨基酮类光引发剂、其制备方法及含芴氨基酮类光引发剂的uv光固化组合物
JP2021507058A (ja) * 2017-12-22 2021-02-22 常州強力先端電子材料有限公司Changzhou Tronly Advanced Electronic Materials Co.,Ltd. フッ素含有フルオレンオキシムエステル系光開始剤、それを含む光硬化組成物およびその適用
US10976660B2 (en) 2016-09-13 2021-04-13 Changzhou Tronly Advanced Electronic Materials Co , Ltd. Fluorene photoinitiator, preparation method therefor, photocurable composition having same, and use of same in photocuring field
US11054743B2 (en) 2015-12-15 2021-07-06 Changzhou Tronly Advanced Electronic Materials Co., Ltd. Fluorene polyfunctional photoinitiator and preparation and use thereof, and photosensitive resin composition containing fluorene photoinitiator and use thereof

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108117616B (zh) * 2017-11-22 2019-08-09 惠州市华泓新材料股份有限公司 二丁基芴基衍生物与其作为光引发剂的应用
JP6998490B1 (ja) 2021-08-30 2022-01-18 サカタインクス株式会社 光硬化型インクジェット印刷用インク組成物

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4374984A (en) * 1980-03-05 1983-02-22 Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung Aromatic-aliphatic ketones useful as photoinitiators
CN102267887A (zh) * 2011-07-18 2011-12-07 连云港升南化学有限公司 1-羟基环己基苯基甲酮的合成工艺
KR20140144809A (ko) * 2013-06-11 2014-12-22 애경화학 주식회사 플루오렌 구조를 갖는 신규한 광개시제 및 이를 포함하는 반응성 액정 조성물 및 감광성 조성물

Family Cites Families (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH491848A (de) 1966-07-22 1970-06-15 Sandoz Ag Verfahren zur Herstellung neuer Arylketone
US4533670A (en) 1983-09-21 1985-08-06 Eli Lilly And Company Anti-convulsant fluorenylalkylimidazole derivatives, compositions, and method of use
US4666824A (en) * 1984-04-23 1987-05-19 Hercules Incorporated Photopolymer process and composition employing a photooxidizable component capable of forming endoperoxides
EP0284561B1 (de) 1987-03-26 1993-05-12 Ciba-Geigy Ag Neue alpha-Aminoacetophenone als Photoinitiatoren
US4950581A (en) 1987-07-06 1990-08-21 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photopolymerizable composition
TW328535B (en) 1993-07-02 1998-03-21 Novartis Ag Functional photoinitiators and their manufacture
DE59504366D1 (de) 1994-12-30 1999-01-07 Novartis Ag Polymere auf der grundlage von blockcopolymeren
TW434456B (en) 1994-12-30 2001-05-16 Novartis Ag A compound as functionalized photoinitiator, its production process, its corresponding oligomers or polymers and its application in coating a substrate
TW353086B (en) 1994-12-30 1999-02-21 Novartis Ag Method for multistep coating of a surface
IT1303775B1 (it) 1998-11-19 2001-02-23 Lamberti Spa Fotoiniziatori impiegabili nella fotopolimerizzazione, e relativeformulazioni.
JP4789329B2 (ja) 2000-04-03 2011-10-12 Jsr株式会社 二層フィルム
ITVA20030028A1 (it) 2003-08-07 2005-02-08 Lamberti Spa Sistemi fotopolimerizzabili trasparenti per la preparazione di rivestimenti ad elevato spessore.
KR100596364B1 (ko) * 2004-05-31 2006-07-03 주식회사 엘지화학 감광성 수지 조성물 및 이를 이용하여 제조된 액정표시소자
JP2009019142A (ja) 2007-07-13 2009-01-29 Toyo Ink Mfg Co Ltd 光硬化型インキ
JP2009029859A (ja) 2007-07-25 2009-02-12 Toyo Ink Mfg Co Ltd 重合性組成物、および重合物の製造方法
JP5334477B2 (ja) 2008-07-16 2013-11-06 富士フイルム株式会社 光硬化性組成物、インク組成物及びそれを用いたインクジェット記録方法
CN101724099B (zh) 2009-12-18 2012-09-26 深圳市有为化学技术有限公司 芳香酮类化合物及含有该化合物的光引发剂
KR20140076607A (ko) * 2011-10-12 2014-06-20 토요잉크Sc홀딩스주식회사 수지 조성물, 도막, 및 터치패널용 절연막
US9316906B2 (en) 2012-05-03 2016-04-19 Korea Research Institute Of Chemical Technology Fluorene oxime ester compound, photopolymerization initiator and photoresist composition containing the same
CN104684888A (zh) 2012-09-28 2015-06-03 大东凯米克斯株式会社 芴系化合物、含有该芴系化合物的光聚合引发剂、以及含有该光聚合引发剂的光敏性组合物
TWI630196B (zh) 2013-03-29 2018-07-21 東京應化工業股份有限公司 含乙烯基之茀系化合物
KR101939552B1 (ko) 2013-12-06 2019-01-17 롬엔드하스전자재료코리아유한회사 유기 전계 발광 화합물 및 이를 포함하는 유기 전계 발광 소자
KR101435652B1 (ko) 2014-01-17 2014-08-28 주식회사 삼양사 신규한 β-옥심에스테르 플루오렌 화합물, 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물
KR102190911B1 (ko) 2014-07-15 2020-12-14 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 감광성 조성물 및 화합물
US10113075B2 (en) 2014-09-04 2018-10-30 Igm Malta Limited Polycyclic photoinitiators
CN107001927B (zh) 2014-11-21 2019-09-17 香港科技大学 用于细菌成像、杀灭、光动力疗法和抗生素筛选的aie发光团及其生产方法
CN104892512B (zh) 2015-05-21 2018-01-05 常州强力先端电子材料有限公司 一种吡唑啉类增感剂及其制备方法和应用
KR102079026B1 (ko) 2015-12-15 2020-02-19 창저우 트론리 어드벤스드 일렉트로닉 머티어리얼스 컴퍼니, 리미티드 플루오렌 다작용성 광개시제 및 이의 제조 및 용도, 및 플루오렌 광개시제를 포함하는 광감성 수지 조성물 및 이의 용도
CN106883114B (zh) 2015-12-15 2019-11-19 常州强力先端电子材料有限公司 一种芴类多官能度光引发剂及其制备和应用
KR102197059B1 (ko) 2016-09-13 2020-12-31 창저우 트론리 어드벤스드 일렉트로닉 머티어리얼스 컴퍼니, 리미티드 플루오렌 광개시제, 그 제조 방법, 이를 갖는 광경화성 조성물, 및 광경화 분야에서 그 용도
WO2018149370A1 (zh) * 2017-02-17 2018-08-23 常州强力先端电子材料有限公司 芴氨基酮类光引发剂、其制备方法及含芴氨基酮类光引发剂的uv光固化组合物

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4374984A (en) * 1980-03-05 1983-02-22 Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung Aromatic-aliphatic ketones useful as photoinitiators
CN102267887A (zh) * 2011-07-18 2011-12-07 连云港升南化学有限公司 1-羟基环己基苯基甲酮的合成工艺
KR20140144809A (ko) * 2013-06-11 2014-12-22 애경화학 주식회사 플루오렌 구조를 갖는 신규한 광개시제 및 이를 포함하는 반응성 액정 조성물 및 감광성 조성물

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11054743B2 (en) 2015-12-15 2021-07-06 Changzhou Tronly Advanced Electronic Materials Co., Ltd. Fluorene polyfunctional photoinitiator and preparation and use thereof, and photosensitive resin composition containing fluorene photoinitiator and use thereof
US10976660B2 (en) 2016-09-13 2021-04-13 Changzhou Tronly Advanced Electronic Materials Co , Ltd. Fluorene photoinitiator, preparation method therefor, photocurable composition having same, and use of same in photocuring field
WO2018149370A1 (zh) * 2017-02-17 2018-08-23 常州强力先端电子材料有限公司 芴氨基酮类光引发剂、其制备方法及含芴氨基酮类光引发剂的uv光固化组合物
EP3584242A4 (en) * 2017-02-17 2020-12-23 Changzhou Tronly Advanced Electronic Materials Co., Ltd. FLUORENYLAMINOCETONE PHOTOINITIATOR, ITS PREPARATION PROCESS AND UV PHOTOSETTING COMPOSITION CONTAINING IT
US11118065B2 (en) 2017-02-17 2021-09-14 Changzhou Tronly Advanced Electronic Materials Co., Ltd. Fluorenylaminoketone photoinitiator, preparation method thereof, and UV photocurable composition containing same
JP2021507058A (ja) * 2017-12-22 2021-02-22 常州強力先端電子材料有限公司Changzhou Tronly Advanced Electronic Materials Co.,Ltd. フッ素含有フルオレンオキシムエステル系光開始剤、それを含む光硬化組成物およびその適用
JP6999039B2 (ja) 2017-12-22 2022-02-04 常州強力先端電子材料有限公司 フッ素含有フルオレンオキシムエステル系光開始剤、それを含む光硬化組成物およびその適用

Also Published As

Publication number Publication date
US20200264508A1 (en) 2020-08-20
KR20180101385A (ko) 2018-09-12
TW201808874A (zh) 2018-03-16
DK3392232T3 (da) 2021-04-12
JP6725663B2 (ja) 2020-07-22
EP3392232B1 (en) 2021-02-17
EP3392232A1 (en) 2018-10-24
EP3392232A4 (en) 2019-08-28
JP2019507108A (ja) 2019-03-14
KR102079026B1 (ko) 2020-02-19
US11054743B2 (en) 2021-07-06
TWI591050B (zh) 2017-07-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI591050B (zh) 一種芴類多官能度光引發劑及其製備和應用、含芴類光引發劑的感光性樹脂組合物及其應用
JP6641468B2 (ja) フルオレン含有オキシムエステル類光開始剤、その合成、それを含有する感光性樹脂組成物及びその使用
JP4600600B1 (ja) 新規オキシムエステル化合物およびそれを含んでなるラジカル重合開始剤および重合性組成物およびそれを用いたネガ型レジストおよびそれを用いた画像パターン形成方法
TWI509358B (zh) 著色組成物、彩色濾光片及顯示元件
KR101804032B1 (ko) 광경화성 아크릴레이트 조성물
JP6778266B2 (ja) 耐熱安定性に優れたオキシムエステル化合物、それを含む光重合開始剤及び感光性樹脂組成物
JP2004198542A (ja) カラーフィルターブラックマトリックスレジスト組成物及びその組成物に用いる感光性組成物
WO2018196619A1 (zh) 含有可聚合基团的芴肟酯类光引发剂、制备方法及其应用
WO2018180482A1 (ja) 赤外光透過型組成物
WO2016124127A1 (zh) 一种感光性树脂组合物及其应用
JP4493487B2 (ja) 感光性着色組成物、及びそれを用いたカラーフィルタ
CN100568096C (zh) 着色感光性树脂组合物
JP2002341533A (ja) 着色組成物及びカラーフィルター用感光性着色組成物
JP2006154774A (ja) チオール化合物を含有するブラックマトリックスレジスト組成物
JP2006154775A (ja) チオール化合物を含有するブラックマトリックスレジスト組成物
JP2003043685A (ja) 着色組成物及びカラーフィルター用感光性着色組成物
CN115335770A (zh) 负型抗蚀剂组合物
JP2011039317A (ja) 着色感光性樹脂組成物
CN113474729A (zh) 青色着色固化性组合物
KR101840584B1 (ko) 착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 화상표시장치
KR101986408B1 (ko) 착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 화상표시장치
WO2007043430A1 (ja) 活性エネルギー線硬化型組成物
KR20160035272A (ko) 착색 감광성 수지 조성물, 이로써 제조된 컬러필터 및 이를 구비한 액정 표시장치
TW201500334A (zh) 高感光度肟酯光聚合引發劑及包含該化合物的光聚合組成物
JP3356749B2 (ja) 感光性樹脂組成物

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 16874613

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2018530699

Country of ref document: JP

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20187019720

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 1020187019720

Country of ref document: KR

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2016874613

Country of ref document: EP

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2016874613

Country of ref document: EP

Effective date: 20180716