WO2017069165A1 - ポリイミド前駆体、架橋構造を有するポリイミドおよびその製造方法 - Google Patents

ポリイミド前駆体、架橋構造を有するポリイミドおよびその製造方法 Download PDF

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Definitions

  • the present invention relates to a polyimide precursor capable of easily producing a polyimide having a high crosslinking density, a polyimide having a crosslinked structure excellent in heat resistance and high temperature dimensional stability, and a method for producing the same. Moreover, the different aspect of this invention is related with the polyimide precursor which can manufacture a high heat resistant polyimide easily, and its manufacturing method.
  • polyimide In addition to excellent heat resistance, polyimide is superior to other engineering plastics in terms of mechanical properties, electrical properties, etc., and its high reliability obtained in space and aerospace applications makes it applicable to industrial applications. Widely used as a heat-resistant insulating material for consumer electronics.
  • the downsizing, weight reduction, multifunctionality, and performance enhancement of electronic devices have progressed tremendously, and excellent heat resistance and dimensional stability that exceed conventional polyimide materials have been demanded. So far, in polyimide research and development, various properties have been improved by combining various diamines and acid anhydrides.
  • Non-patent Document 1 It has been studied that heat resistance and chemical resistance such as the decomposition temperature and glass transition temperature of a resin can be improved by introducing a crosslinked structure into the resin.
  • Patent Document 1 tetracarboxylic dianhydride and triamine are reacted in a molar ratio in the range of 1/2 to less than 3/2 to produce a polyamic acid, which is imidized to produce a multi-branched polyimide, Furthermore, there is described a multibranched polyimide for promoting electroless plating in which an electroless plating catalyst precursor material is adsorbed on the amide group.
  • Patent Document 2 describes a terminal-modified multi-branched polyimide obtained from a tetracarboxylic dianhydride, a triamine, and a terminal component.
  • a polyamic acid solution is a polymer solution having a high degree of polymerization.
  • the polymer solution is generally coated on a substrate such as copper or glass and heated. Then, the removal of the solvent and imidization are advanced to obtain a polyimide coating film.
  • Patent Document 3 reports that if a specific monomer is combined, a thermoplastic polyimide coating film can be obtained directly from a solution of the monomer, not a polymer.
  • Polyimide is generally synthesized by synthesizing its precursor polyamic acid and then by a ring-closing reaction of the imide ring.
  • polyimide is synthesized via a polyamic acid.
  • gelation tends to occur, so that it is limited to the form of a low-concentration polyamic acid solution. Therefore, there are various problems in practical use.
  • One aspect of the present invention has been made to solve these problems, and a polyimide precursor that can easily produce a polyimide having a suitably high crosslinking density, and a crosslinked polyimide that is excellent in heat resistance and dimensional stability at high temperatures. And a method of manufacturing the same.
  • a different aspect of the present invention provides a polyimide precursor capable of easily producing a polyimide having a suitably high crosslinking density, a crosslinked polyimide excellent in heat resistance, dimensional stability at high temperature, and bending resistance, and a method for producing the same. For the purpose.
  • Patent Document 3 reports that a thermoplastic polyimide coating can be obtained by combining specific monomers.
  • polyimides 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetra has excellent heat resistance.
  • s-BPTA carboxylic acid
  • PPD paraphenylenediamine
  • Non-Patent Document 2 a method for obtaining a polyimide coating directly from a monomer solution has not been known for a high heat-resistant polyimide using s-BPTA.
  • a further different aspect of the present invention aims to provide a polyimide precursor that mainly comprises a combination of s-BPTA or a derivative thereof and a diamine having a para-bonded aromatic ring to give a highly heat-resistant polyimide. .
  • the first aspect of the present invention relates to a polyimide precursor comprising at least a tetracarboxylic acid (a) and an amine compound (b) having three or more amino groups.
  • the tetracarboxylic acid (a) preferably contains at least one tetracarboxylic acid selected from the compounds represented by the general formula (1).
  • the second aspect of the present invention is at least A tetracarboxylic acid ester derivative (A) selected from compounds represented by the general formula (II-1); Amine compound (B) having three or more amino groups selected from compounds represented by formula (II-3) It is related with the polyimide precursor characterized by including.
  • R 11 to R 30 each independently represent hydrogen, Represents a monovalent aliphatic group (except when it becomes a tetracarboxylic acid).
  • [Z 1 is a trivalent nitrogen atom, a trivalent or higher aromatic group, a trivalent or higher aliphatic group, Z 2 and Z 3 are a direct bond or a divalent group, and R 31 to R 36 are monovalent An aromatic group, an aliphatic group, halogen, n 1 is 3 or more, m 1 and m 3 are 0 to 4, and m 2 and m 4 to m 6 are integers of 0 to 3. ]
  • the third aspect of the present invention provides at least one tetracarboxylic acid (A31) selected from 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic acid and ester derivatives thereof,
  • a tetracarboxylic acid component comprising at least one tetracarboxylic acid (A32) selected from a tetracarboxylic acid different from the tetracarboxylic acid (A31) and an ester derivative thereof
  • the present invention relates to a polyimide precursor characterized by containing a diamine component containing an aromatic ring diamine (B31) represented by the following general formula (III-1).
  • Y 1 represents a direct bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond, a ketone bond, methylene, isopropylidene, dimethylsilylene, alkylene having 1 to 6 carbon atoms, aromatic group having 12 or less carbon atoms, or R 1 to R 3 each independently represent an aromatic group having 12 or less carbon atoms, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a halogen group, A hydroxyl group and a carboxylic acid group, and n 1 to n 3 each represents an integer of 0 to 4. ]
  • Y 2 represents a direct bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond, a ketone bond, methylene, isopropylidene, dimethylsilylene or an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms and an aromatic group having 12 or less carbon atoms
  • R 4 and R 5 each independently represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms or an aromatic group having 12 or less carbon atoms.
  • a polyimide precursor capable of easily producing a polyimide having a suitably high crosslinking density, a crosslinked polyimide excellent in heat resistance, dimensional stability at high temperature, and bending resistance, and a method for producing the same. be able to.
  • a polyimide precursor that can easily produce a polyimide having a suitably high crosslinking density, a crosslinked polyimide excellent in heat resistance, dimensional stability at high temperature, and bending resistance, and production thereof A method can be provided.
  • thermomechanical properties of Examples I-2 to 6 and Comparative Example I-1 6 is a graph showing thermomechanical properties of Examples II-1 to II-5 and Comparative Example II-1. It is a stress-strain curve (SS curve) of the tensile test of the polyimide film obtained in Example III-25 and Comparative Example III-9.
  • SS curve stress-strain curve
  • the tetracarboxylic acid residue means a tetravalent group obtained by removing four carboxyl groups (—COOH) from tetracarboxylic acid.
  • the amine residue means a group obtained by removing an amino group (—NH 2 ) from an amine compound, the diamine residue is a divalent group, and the triamine residue is a trivalent group.
  • a tetracarboxylic acid component means a carboxylic acid compound such as a tetracarboxylic acid ester, a tetracarboxylic dianhydride, or a tetracarboxylic acid that is a raw material for polyimide, and an amine component is a raw material for polyimide.
  • a polyimide having a tetracarboxylic acid residue and an amine residue derived from the raw material compound is obtained.
  • the chemical structure of polyimide may be described by describing the tetracarboxylic acid component and the amine component instead of directly indicating the structure by a chemical formula.
  • the polyimide precursor is not particularly limited with respect to its state and form as long as it contains a predetermined compound described in the present specification and forms polyimide by a subsequent production method.
  • the contained tetracarboxylic acid component, amine component (diamine, triamine), and other components as required are defined. It may be a mixture of components or compounds to be formed, or an aggregate or salt formed by these.
  • the components (compounds) that exist may exist in several states (for example, exist in different phases). For example, a mixture in which some components are solid and other components are liquid or solution. As described above, a part of the existing component may be different from the other components.
  • polyimide may be any components that react with the components present in the step of producing polyimide to form polyimide.
  • the form is not particularly limited, but it may be a solid such as powder, lump, pellet or film, or a liquid such as liquid, solution or dispersion, or a complex with other substances. Absent.
  • Part I The object of the invention of Part I is to provide a polyimide precursor capable of easily producing a polyimide having a suitably high crosslinking density, a crosslinked polyimide excellent in heat resistance and high temperature dimensional stability, and a method for producing the same.
  • Part I relates to the following matters.
  • a polyimide precursor comprising at least tetracarboxylic acid (a) and an amine compound (b) having three or more amino groups.
  • the one or represented and X 1 is characterized in that it comprises at least one member selected from the group consisting of tetracarboxylic acid is any of divalent groups represented by the direct bond or the following general formula (2) in 2.
  • Z 1 is a trivalent or higher group
  • Z 2 and Z 3 are a direct bond or a divalent group
  • R 31 to R 36 each independently represent a monovalent group
  • n 1 is 3 or more.
  • M 1 and m 3 represent an integer of 0 to 4
  • m 2 and m 4 to m 6 represent an integer of 0 to 3.
  • amine compound (b) is contained in an amount of 1 mol% or more based on the total molar amount of all diamine components comprising the amine compound (b) and, if present, the diamine (C).
  • the polyimide precursor according to any one of 5.
  • a polyimide precursor solution comprising the polyimide precursor according to any one of 1 to 7 above and a solvent (D).
  • a method for producing a polyimide having a crosslinked structure comprising a step of imidizing the polyimide precursor according to any one of 1 to 8 above or the polyimide precursor in the solution according to 9 above.
  • a polyimide having a structural unit derived from a tetracarboxylic acid component and a structural unit derived from an amine component The structural unit derived from the amine component is a structural unit derived from the amine compound (bi) having 3 or more amino groups and the diamine (Ci), respectively, and the value of the following formula is in the range of 0.01 to 1.
  • a polyimide having a cross-linked structure characterized by comprising:
  • the polyimide having a crosslinked structure as described in 11 or 12 above, wherein the average linear expansion coefficient at 50 ° C. to 200 ° C. is 60 ppm / K or less when measured with a film having a thickness of 10 ⁇ m.
  • a polyimide film comprising the polyimide having the crosslinked structure described in any one of 11 to 14 above.
  • a laminate comprising any one of a glass layer, a metal layer, a resin layer, and a ceramic layer, and a polyimide having the crosslinked structure described in any one of 11 to 14 above.
  • amine compound (b) triamine compound, tetraamine compound, etc. having three or more amino groups
  • amine compound (b) triamine compound, tetraamine compound, etc.
  • the polyimide precursor of the invention of Part I is a polyimide precursor that forms a polyimide by an imidization reaction, and includes at least a tetracarboxylic acid (a) and an amine compound (b) having three or more amino groups. .
  • the polyimide precursor preferably contains at least one tetracarboxylic acid (a) from the tetracarboxylic acid represented by the general formula (1).
  • X 1 is a direct bond or a divalent group.
  • [X 2 in the formula is a divalent organic group. ] It is more preferable that it contains at least one selected from the group consisting of tetracarboxylic acids which are any of the divalent groups represented by the above, because of excellent heat resistance.
  • X 2 is preferably a divalent organic group containing an aromatic ring or alicyclic structure, more preferably a general formula:
  • R 111 to R 124 are preferably a direct bond, and a divalent group represented by:
  • the tetracarboxylic acid (a) is preferably 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic acid, 2,3,3 ′, 4′-biphenyltetracarboxylic acid, 2,2 ′, 3,3.
  • the polyimide precursor of the invention of Part I is not particularly limited, since it is excellent in heat resistance as an amine compound (b) having three or more amino groups, at least one compound containing an aromatic ring is used. It is preferable to include at least one type, and it is more preferable to include at least one type of compound represented by the general formula (3).
  • Z 1 is a trivalent or more group
  • Z 2 and Z 3 are a direct bond or a divalent group
  • R 1 to R 6 each independently represent a monovalent group
  • n 1 represents Z 1 And represents an integer of 3 or more, preferably 6 or less, more preferably an integer of 3 or 4
  • m 1 and m 3 are 0 to 4
  • m 2 and m 4 to m 6 are 0 to An integer of 3 is represented.
  • Z 1 is preferably a trivalent nitrogen atom (N), a trivalent or higher aromatic group which may have a heteroatom, or a trivalent or higher aliphatic group which may have a heteroatom.
  • N nitrogen atom
  • Z 1 in the general formula (3) is preferably a trivalent or higher group represented by the general formula (5).
  • R 51 to R 100 each independently represents a direct bond or one of divalent groups represented by the following formula (6), and R 101 represents hydrogen, an aliphatic group, an aromatic group (which Also preferably up to about 18 carbon atoms).
  • R 51 to R 53 are a direct bond or a formula:
  • Z 2 and Z 3 in the general formula (3) are preferably a direct bond or a divalent group represented by the above formula (6), and among them, excellent in heat resistance. More preferably a direct bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond, an isopropylidene bond and a hexafluoroisopropylidene bond, and particularly preferably a direct bond and an ether bond.
  • R 1 to R 6 in the formula (3) are preferably aromatic groups having 12 or less carbon atoms (for example, phenyl group, benzyl group, phenoxy group), alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms, fluorine, chlorine and the like. .
  • n 1 is preferably 0, 1 or 2
  • m 2 is preferably 0 or 1
  • m 3 is preferably 0, 1 or 2
  • m 4 is preferably 0 or 1
  • m 5 and m 6 are independently preferred Is 0 or 1.
  • the ring bonded to the amino group in the chemical structure is preferably a heterocyclic ring or an aromatic ring having no quinone structure, and a tetracarboxylic acid derivative Since side reactions other than the imidization reaction can be suppressed, it is more preferable that the chemical structure does not contain a hydroxyl group, a thiol, or a secondary amine.
  • amine compound (B) examples include 1,3,5-triaminobenzene, 4,4 ′, 4 ′′ -triaminotriphenylamine, 3,5-di (4-aminophenoxy) aniline, 3,5-di (3-methyl, 4-aminophenoxy) aniline, 3,5-di (3-methoxy, 4-aminophenoxy) aniline, 3,5 -Di (2-methyl, 4-aminophenoxy) aniline, 3,5-di (2-methoxy, 4-aminophenoxy) aniline, 3,5-di (3-ethyl, 4-aminophenoxy) aniline, 1,3,5-tri (4-aminophenoxy) benzene, 1,3,5-tri (3-methyl, 4-aminophenoxy) benzene, 1,3,5-tri (3-methoxy, 4-aminophenoxy) ) Benzene, 1,3,5-tri (2-methyl, 4-aminophenoxy) benzene, 1,3,5-tri (2-methoxy, 4-aminophen
  • the polyimide precursor of the invention of Part I can contain diamine (C), if necessary. Although it does not specifically limit, It is preferable from being excellent in heat resistance that at least 1 or more types are included as a diamine (C) among the compounds represented by General formula (4).
  • Y 1 represents a direct bond or a divalent group
  • R 5 to R 7 each independently represents a monovalent group
  • m 5 to m 7 each represents an integer of 0 to 4.
  • Y 1 in the general formula (4) is preferably selected from the group represented by the above formula (6) and the divalent group represented by the following general formula (7). .
  • each R 9 independently (or independently within one molecule) represents a direct bond or a divalent group represented by the formula (6).
  • R 9 preferably has a direct bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond, an isopropylidene bond, or a hexafluoroisopropylidene bond, and particularly preferably a direct bond or an ether bond because of excellent heat resistance. preferable.
  • Y 1 preferably has a direct bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond, an isopropylidene bond, or a hexafluoroisopropylidene bond, and particularly preferably a direct bond or an ether bond because of excellent heat resistance. preferable.
  • R 5 to R 7 are preferably an aromatic group having 12 or less carbon atoms (for example, a phenyl group, a benzyl group or a phenoxy group), an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, fluorine, chlorine or the like.
  • n 5 to m 7 are preferably 0, 1 or 2.
  • diamine (C) examples include, for example, paraphenylenediamine, metaphenylenediamine, 2,5-diaminotoluene, 2,6-diaminotoluene, 4,4′-diaminobiphenyl, and 3,3′-dimethyl-4.
  • diamine compounds may be used alone or in combination of two or more.
  • the value of [total number of moles of amine compound (b)] / ([total number of moles of amine compound (b)] + [total number of moles of diamine (C)]) It is preferably 0.01 to 1, more preferably 0.03 to 1, and particularly preferably 0.1 to 1. If it is this range, it will be excellent in the dimensional stability in high temperature, and solvent resistance.
  • the polyimide precursor of the invention of Part I is not particularly limited, but the value of the total carboxylic acid group number (mole number) of the tetracarboxylic acid component / total amine group number (mole number) of the amine component is 1 to 3 Is more preferable, 1.6 to 2.4 is more preferable, 1.8 to 2.2 is still more preferable, and 2 is particularly preferable. If it is this range, it is excellent in heat resistance, dimensional stability in high temperature, and solvent resistance.
  • the molecular weight ⁇ between the crosslinking points when the polyimide is formed is preferably in the range of 500 to 100,000 g / mol, more preferably 1,300 to 10,000. More preferably, it is 1,500 to 5,000, particularly preferably 1,800 to 4,000.
  • the molecular weight ⁇ between the crosslinking points is generally positively correlated with the elongation of the resin, and is generally negatively correlated with the elastic modulus of the resin. Therefore, within this range, the high elongation, the high elastic modulus, the bending resistance, and the high temperature.
  • the dimensional stability can be compatible.
  • the molecular weight ⁇ between the crosslinking points is preferably a known method (for example, the method described in Polymer Chemistry PJ Flori, Oka Koten / Kanamaru Kyoten, Maruzen Co., Ltd., published in Showa 31).
  • the value may be a value obtained as a theoretical value or a value obtained from an experimental value such as viscoelasticity measurement.
  • the compounding amount of the i-th monomer i component (i is an integer from 1 to k) among them is a i (unit: g).
  • the resin contains 1 type (1 is an integer) of monomer Y component, j j (where j is an integer from 1 to 1) of the monomer Y component, b j (unit: g)
  • the weight W (unit: g) of the total resin is obtained by the formula (1).
  • the functional group equivalent of the i-th monomer X is E i (unit: g / mol), and the number of functional groups of one molecule of the i-th monomer X is x i .
  • a functional group equivalent of the j-th monomer Y H j (Unit: g / mol), the number of functional groups with the j-th monomer Y 1 molecule and y j.
  • the number of crosslinking points c (unit: mol) contained in the total resin is such that the mixing ratio of the monomer X and the monomer Y is stoichiometric, the monomer Y is excessive, and the monomer X is excessive. How to find it is different. Which method is to be used is determined by the blending ratio index ⁇ representing the blending ratio of the monomer X and the monomer Y, which is determined by the equation (2).
  • the blending ratio of the monomer X and the monomer Y is a stoichiometric amount
  • the number c of cross-linking points is obtained by the equation (3).
  • the number c of cross-linking points represents the number of cross-linking points generated by the reaction of the functional groups of all monomers X that can react with the functional groups of all monomers Y.
  • the monomer Y is in excess of the stoichiometric amount, and the number c of crosslinking points can be obtained from the formula (4).
  • the monomer X is in excess of the stoichiometric amount, and the number c of crosslinking points can be obtained by the formula (5).
  • E i ⁇ x i and H j ⁇ y j Represents the average molecular weight of the i-th monomer X component and the average molecular weight of the j-th monomer Y component, respectively.
  • (X i -2) represents the number of cross-linking points generated by the reaction of the functional groups of all monomers X in one molecule of the i-th monomer X component with the monomer Y and incorporation into the cross-linked structure.
  • (y j -2) represents the number of cross-linking points generated when all functional groups in one molecule of the j-th monomer Y component react with the monomer X and are incorporated into the cross-linked structure.
  • the i-th monomer X is a tetrafunctional monomer X
  • one molecule has four functional groups, and the number of cross-linking points generated is two, 4-2.
  • the j-th monomer Y component has two functional groups per molecule, the number of cross-linking points generated is 0, 2-2.
  • the molecular weight ⁇ between cross-linking points is obtained by the equation (6) using W and c obtained by the above-described equation.
  • the monomer X is a tetracarboxylic acid component and the monomer Y is an amine component (a compound having a diamine and three or more amino groups)
  • the compounding amount of the monomer X is a i and the compounding amount of the monomer Y.
  • B j is a value obtained by dividing the weight of the elimination component (for example, water or alcohol) generated when imidization is performed.
  • the monomer X (tetracarboxylic acid component) calculates two carboxylic acid groups forming an imide ring as one functional group.
  • the absolute temperature T at the point where the storage elastic modulus becomes the minimum and the storage elastic modulus E ′ at the minimum point are obtained, and when the resin density ⁇ and gas constant R are used, the molecular weight ⁇ between the crosslinking points is Also, it can be obtained by equation (7).
  • the polyimide composition contains a functional group that causes additional cross-linking such as a ketone bond or an unsaturated bond, it is preferably obtained from an experimental value.
  • the molecular weight ⁇ between cross-linking points of the invention of Part I is not particularly limited, but a value obtained from the above-described formula (6) can be suitably used.
  • the polyimide composition contains a functional group that causes additional cross-linking such as a ketone bond or an unsaturated bond, it is usually preferable to obtain it from an experimental value as described above, but for simplicity, the above formula (6) You may employ
  • the additional cross-linking functional group is preferably 75% or less, more preferably 50% or less, still more preferably 25% or less, particularly preferably 10% of the number of amino groups (—NH 2 ) in the amine component. It is as follows.
  • the average molecular weight of the polyimide precursor of the invention of Part I is not particularly limited, but is preferably 50 to 5,000, more preferably 100 to 2,000 because it is substantially composed of a low molecular compound. 200 to 1,000 are particularly preferred. Within this range, the polyimide precursor has a low molecular weight, and a polyimide precursor solution having both low viscosity and high solid content can be obtained.
  • the molecular weight here may be a number average molecular weight obtained by GPC measurement, a molecular weight determined from TOF-MASS, FAB-MASS, or other known analytical method values. Moreover, on the conditions which superposition
  • the logarithmic viscosity ( ⁇ inh) of the polyimide precursor of the invention of Part I is less than 0.2, preferably less than 0.15, more preferably less than 0.1 because it is substantially composed of low molecular weight compounds. is there. Within this range, the polyimide precursor has a low molecular weight, and a polyimide precursor solution having both low viscosity and high solid content can be obtained.
  • the polyimide precursor of the invention of Part I is substantially composed of a low molecular compound, it is preferable not to contain a polyamic acid repeating unit.
  • a known analytical method such as NMR or FT-IR can be suitably used for confirming the repeating unit of the polyamic acid.
  • the ratio of the repeating unit (mole) of the polyamic acid is 0.05 mol / mole or less per total mol of the amino group of the amine component (or 1/2 times the total mol of the carbonyl group of the tetracarboxylic acid component), preferably It is 0.03 mol / mol or less, more preferably 0.01 mol / mol or less, and particularly preferably the detection lower limit or less.
  • the polyimide precursor has a low molecular weight, and a polyimide precursor solution having both low viscosity and high solid content can be obtained.
  • the polyimide precursor of the invention of Part I may be a powder, preferably an average particle size of 5 mm or less, more preferably 1 mm or less, particularly preferably 0.5 mm or less, and a maximum particle size of 5 mm or less, more preferably 1 mm or less, particularly preferably 0.5 mm or less.
  • a known measurement method such as a laser diffraction method, an image imaging method, or a gravity sedimentation method can be used, and a result obtained by using a known analysis method can be used.
  • polyimide precursor solution Regarding the polyimide precursor solution, Part I, Part II and Part III will be described together. In this section, unless otherwise specified, “polyimide precursor” means all polyimide precursors of Part I, Part II and Part III.
  • the polyimide precursor is in the form of a solution and a dispersion (collectively referred to as a polyimide precursor solution). That is, the polyimide precursor solution may be a solution in which the polyimide precursor is dissolved or a liquid in which the polyimide precursor is dispersed, and the polyimide precursor powder is dissolved and dispersed in a solvent. Alternatively, the tetracarboxylic acid component and the amine component are separately added to and dissolved and dispersed.
  • chemical imidizing agents such as acetic anhydride, amine compounds such as pyridine and isoquinoline
  • antioxidants such as acetic anhydride, amine compounds such as pyridine and isoquinoline
  • fillers inorganic particles, organic particles
  • Coupling agents such as dyes, pigments, silane coupling agents, primers, flame retardants, antifoaming agents, leveling agents, rheology control agents (flow aids), release agents, surfactants, etc. can be added. .
  • additives can be added even when the polyimide precursor is not in a solution state and is partially or entirely solid, for example, in the case of powder.
  • the solvent (D) used in the polyimide precursor solution is preferably an amide solvent such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, ⁇ -butyrolactone, ⁇ -valerolactone, ⁇ - Cyclic ester solvents such as valerolactone, ⁇ -caprolactone, ⁇ -caprolactone, ⁇ -methyl- ⁇ -butyrolactone, carbonate solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate, glycol solvents such as triethylene glycol, phenol, o-cresol, m -Phenol solvents such as cresol, p-cresol, 3-chlorophenol, 4-chlorophenol, acetophenone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, sulfolane, dimethyl sulfoxide and the like can be used.
  • an amide solvent such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethyl
  • the polyimide precursor solution is preferably composed of a low-molecular compound, it becomes a low-viscosity solution even at a high concentration.
  • the viscosity of the solution measured at 30 ° C. with an E-type viscometer is preferably 1000 Pa ⁇ sec or less, more preferably 0.01 to 500 Pa ⁇ sec, and particularly preferably 0.05. ⁇ 300 Pa ⁇ sec. If it is this range, it will be excellent in handling property, such as subsequent polyimide manufacture.
  • the solid content concentration (preferably determined by the method described in Examples) is preferably 1% or more, more preferably 5% to 80%, and particularly preferably 10% to 50%.
  • the polyimide precursor solution can be suitably used as a polyimide precursor for film production.
  • the viscosity of the dope (polyimide precursor solution) at 30 ° C. is preferably 1000 Pa ⁇ sec or less, more preferably 10 to 500 Pa ⁇ sec, and particularly preferably 50 to 300 Pa ⁇ sec.
  • the solid content concentration is preferably 5% or more, more preferably 10% to 80%, and particularly preferably 20% to 50%. If it is this range, it will be excellent in the handling property at the time of subsequent polyimide film manufacture.
  • the polyimide precursor can be suitably used as a heat resistant paint (paint raw material, additive).
  • a paint having a high concentration and a low viscosity can be obtained as compared with a general polyimide precursor. Therefore, for example, various coating methods such as dip coating, bar coating, spin coating, blade coating, doctor coating, die coating gravure coating, spray coating, ultrasonic spray coating, electrostatic coating, inkjet, letterpress, intaglio, lithographic, stencil, It can use suitably for various printing methods, such as a screen.
  • the solvent used for the coating material for example, the above-described solvents described for the polyimide precursor solution can be used.
  • the polyimide precursors (and solutions) of the inventions of Part I, Part II and Part III can optionally contain inorganic particles (E).
  • the inorganic particles include silica, alumina (aluminum oxide), beryllia (beryllium oxide), magnesia (magnesium oxide), silicon nitride, aluminum nitride, boron nitride, expandable graphite, and carbon nanotube. From the viewpoint of dispersibility and colorability, alumina (aluminum oxide), magnesia (magnesium oxide), silicon nitride, aluminum nitride, and boron nitride are preferable.
  • required with a laser diffraction particle size distribution meter is 20 micrometers or less, 10 micrometers or less are more preferable, and it is still more preferable that it is 5 micrometers or less.
  • the inorganic particles are preferably used in an amount of 1 part by mass or more, preferably 10 parts by mass or more, more preferably 20 parts by mass or more, and particularly preferably 50 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the solid content of the polyimide precursor solution. It is preferable.
  • the polyimide having a crosslinked structure according to the invention of Part I is a polyimide having a structural unit derived from a tetracarboxylic acid component and a structural unit derived from an amine component, wherein the structural unit derived from the amine component has three or more structural units.
  • the structural unit derived from each of the amine compound (bi) having an amino group and the diamine (Ci) is included in a range where the value of the following formula is 0.01 to 1.
  • the value of the formula [total number of moles of amine compound (bi)] / ([total number of moles of amine compound (bi)] + [total number of moles of diamine (Ci)]) is preferably 0.1. To 1, more preferably 0.2 to 1, still more preferably 0.25 to 1, particularly preferably 0.5 to 1. If it is this range, since a high crosslinking density can be achieved, the glass transition temperature is high and the dimensional stability is excellent.
  • the polyimide having the crosslinked structure of the invention of Part I is not particularly limited, it is preferably produced by the aforementioned polyimide precursor. Therefore, the tetracarboxylic acid component is preferably the above-mentioned tetracarboxylic acid (a). Similarly, the amine compound (bi) having three or more amino groups is preferably the above-described amine compound (b) having three or more amino groups, and the diamine (Ci) is the above-mentioned diamine (C). Is preferred.
  • the polyimide having a crosslinked structure has a molecular weight ⁇ between crosslinking points of preferably 500 to 100,000 g / mol, more preferably 1,300 to 10,000, still more preferably 1,500 to 5 1,000, especially 1,800 to 4,000. If it is this range, it is excellent in the dimensional stability in high temperature, and bending tolerance.
  • the polyimide having a crosslinked structure is not particularly limited, but has a glass transition temperature of 180 ° C. or higher, preferably 200 ° C. or higher, more preferably 220 ° C. or higher, still more preferably 230 ° C. or higher, particularly preferably 260 ° C. or higher. It is. This range is preferable because of excellent dimensional stability.
  • the polyimide having the crosslinked structure of the invention of Part I can be used at a high temperature even with a polyimide having a relatively low glass transition temperature since the deformation upon heating is small.
  • 300 ° C is preferable, 180 ° C to 260 ° C is more preferable, 180 ° C to 240 ° C is further preferable, and 180 ° C to 230 ° C is particularly preferable.
  • the glass transition temperature here is, for example, a film of only a thermoplastic polyimide layer or a multilayer polyimide film, dynamic viscoelasticity measurement (DMS), thermomechanical analysis (TMA), differential scanning calorimetry (DSC), Any glass transition temperature obtained by differential thermal analysis (DTA) and using known conditions and analysis methods may be adopted.
  • DMS dynamic viscoelasticity measurement
  • TMA thermomechanical analysis
  • DSC differential scanning calorimetry
  • the thermal expansion is small, and the average linear expansion coefficient at 50 ° C. to 200 ° C. (when Tg is 200 ° C. or less, 50 ° C. to Tg Average linear expansion coefficient) is not particularly limited, but is 70 ppm / K or less, preferably less than 60 ppm / K, more preferably 55 ppm / K or less, 50 ppm / K or less, 45 ppm / K or less, and still more preferably. It is 40 ppm / K or less, particularly preferably 10 ppm / K or less.
  • the polyimide having a crosslinked structure can have a suitably high-density crosslinked structure, it has excellent heat resistance, and the 5% weight loss temperature determined by TGA is preferably 430 ° C. or higher, more preferably 450 ° C. or higher, More preferably, it is 470 ° C. or higher, particularly preferably 500 ° C. or higher, and in the invention of Part I, most preferably 530 ° C. or higher.
  • the polyimide having a crosslinked structure can have a suitably high-density crosslinked structure, it has excellent solvent resistance.
  • it is not necessarily limited, Preferably it has the solvent resistance to the solvent (D) used with the above-mentioned polyimide precursor solution, More preferably, it has the solvent resistance to amide-type solvents, such as NMP.
  • the polyimide having a crosslinked structure is not particularly limited, it has heat resistance and colorless transparency, and therefore can be suitably used for substrates for displays, lighting, optical equipment, and photovoltaic power generation.
  • the total light transmittance when the film thickness is 10 ⁇ m is preferably 70% or more, more preferably 80% or more, and particularly preferably 90% or more.
  • the light transmittance at 420 nm when the film thickness is 10 ⁇ m is 60% or more, preferably 70% or more, more preferably 75% or more, and particularly preferably 80% or more.
  • the polyimide having a crosslinked structure can have various shapes, but one of the preferred forms is a film. That is, it is preferable that the polyimide film of the invention contains the polyimide having the crosslinked structure of the invention, and the resin component constituting the film is substantially composed of this polyimide.
  • the film thickness is 1 to 250 ⁇ m, more preferably 5 to 150 ⁇ m, and particularly preferably 7.5 to 75 ⁇ m because of excellent productivity.
  • the laminate of the invention is a laminate in which any one of a glass layer, a metal layer, a resin layer, and a ceramic layer and the crosslinked polyimide of the invention are laminated.
  • the thickness of the laminate is more preferably 5 to 150 ⁇ m and particularly preferably 10 to 150 ⁇ m because of excellent productivity.
  • a polyimide having a crosslinked structure is produced by imidizing the above polyimide precursor.
  • a known polyimide production method can be suitably employed as the production method except that the polyimide precursor of the invention is used.
  • the polyimide precursor (solution) obtained above is subjected to a polycondensation reaction and a ring closure reaction (formation of an imide ring) by a thermal or chemical method to obtain a polyimide.
  • a thermal method thermal imidization method
  • a chemical method chemical imidization method
  • the method of imidating by heating under reduced pressure can also be used. Each method will be described below.
  • thermal method examples include a method in which the polyimide precursor is subjected to a polycondensation reaction and an imidization reaction by heat treatment, and at the same time, the solvent is evaporated. By this method, solid polyimide can be obtained.
  • the heating conditions are not particularly limited, but it is preferable that the organic solvent is removed at a temperature of 200 ° C. or lower for 3 minutes to 120 minutes and then at a temperature of 400 ° C. or lower for 1 minute to 200 minutes. .
  • a method of performing a polycondensation reaction and an imidization reaction by adding a dehydrating agent and a catalyst of a stoichiometric amount or more to the polyimide precursor and simultaneously evaporating an organic solvent is exemplified.
  • a dehydrating agent used in the chemical method include aliphatic acid anhydrides such as acetic anhydride and aromatic acid anhydrides such as benzoic anhydride.
  • the catalyst examples include aliphatic tertiary amines such as triethylamine, aromatic tertiary amines such as dimethylaniline, and heterocyclic tertiary amines such as pyridine, ⁇ -picoline, ⁇ -picoline, ⁇ -picoline, and isoquinoline. And tertiary amines.
  • the temperature during the chemical process is preferably 100 ° C. or lower, and the organic solvent is preferably evaporated at a temperature of 200 ° C. or lower in a time range of about 5 minutes to 120 minutes.
  • a method for obtaining polyimide there is a method in which the solvent is not evaporated in the above thermal or chemical method. Specifically, a polyimide solution obtained by performing a thermal imidization treatment or a chemical imidization treatment with a dehydrating agent in a solvent is put into a poor solvent to precipitate a polyimide resin, and unreacted monomers are removed. This is a method of obtaining a solid polyimide by purification and drying.
  • the poor solvent a solvent that is well mixed with the solvent but has a property that the polyimide is difficult to dissolve is selected. Examples include, but are not limited to, acetone, methanol, ethanol, isopropanol, benzene, methyl cellosolve, and methyl ethyl ketone. Not.
  • a method in which a polycondensation reaction and an imidization reaction are allowed to proceed by heating under reduced pressure is also included.
  • water generated by polycondensation and imidization in the case of Part II invention, water and / or alcohol
  • hydrolysis of the polyimide precursor can be suppressed.
  • a high molecular weight polyimide is obtained.
  • the heating condition of the method of heating imidization under reduced pressure is preferably 80 to 400 ° C., more preferably 100 ° C. or more, more preferably 120 ° C. or more, in which imidization is efficiently performed and water is efficiently removed. .
  • the maximum temperature is preferably equal to or lower than the thermal decomposition temperature of the target polyimide, and a normal imidization completion temperature, that is, about 250 to 350 ° C. is usually applied.
  • the pressure for reducing pressure is preferably low pressure, but specifically 0.9 to 0.001 atm, preferably 0.8 to 0.001 atm, and more preferably 0.7 to 0.01 atm. .
  • polyimide precursors of the inventions of Part I, Part II, and Part III can be used in various applications, for example, as described above, for the production of polyimide films, coating materials for the production of polyimide layers in polyimide laminates, batteries and other It can be used as a binder and adhesive in various applications.
  • the polyimide laminate is a structure in which a base material layer or a substrate formed of a material such as glass, metal, resin, or ceramic, and a polyimide layer are laminated.
  • the polyimide layer may partially cover the surface of the base material layer or the substrate.
  • a polyimide film is produced from a polyimide precursor and bonded to the substrate layer or the substrate, or after applying a polyimide precursor solution to at least a part of the surface of the substrate layer or the substrate, an imide And a method of forming a laminate.
  • the polyimide precursor of the present invention can easily produce polyimide having excellent characteristics, it is possible to produce a heat-resistant electric wire insulation layer, a display substrate, a touch panel substrate, a solar cell substrate, a thin film semiconductor substrate, and a sliding part. Can be suitably used in the production of a flexible circuit board.
  • Part II provides a polyimide precursor capable of easily producing a polyimide having a suitably high crosslinking density, a crosslinked polyimide excellent in heat resistance, dimensional stability at high temperature and bending resistance, and a method for producing the same. With the goal.
  • the invention of Part II relates to the following matters.
  • the polyimide precursor characterized by including.
  • R 11 to R 30 each independently represent hydrogen, Represents a monovalent aliphatic group (except when it becomes a tetracarboxylic acid).
  • [Z 1 is a trivalent nitrogen atom, a trivalent or higher aromatic group, a trivalent or higher aliphatic group, Z 2 and Z 3 are a direct bond or a divalent group, and R 31 to R 36 are monovalent An aromatic group, an aliphatic group, halogen, n 1 is 3 or more, m 1 and m 3 are 0 to 4, and m 2 and m 4 to m 6 are integers of 0 to 3. ] 2. Furthermore, the polyimide precursor of said 1 characterized by including diamine (C).
  • a polyimide precursor solution comprising the polyimide precursor according to any one of 1 to 5 above and a solvent (D).
  • a polyimide precursor solution for film production comprising the polyimide precursor according to any one of 1 to 5 above.
  • a polyimide coating film-forming paint comprising the polyimide precursor according to any one of 1 to 5 above.
  • a method for producing a polyimide characterized in that a polyimide having a crosslinked structure is produced by imidizing the polyimide precursor according to any one of the above 1 to 5.
  • a polyimide having a structural unit derived from a tetracarboxylic acid component and a structural unit derived from an amine component The structural unit derived from the amine component is a structural unit derived from the amine compound (Bi) having three or more amino groups and the diamine (Ci), respectively, and the value of the following formula is in the range of 0.01 to 1.
  • a polyimide having a cross-linked structure characterized by comprising:
  • a film comprising the polyimide having the crosslinked structure according to any one of 10 to 14 above.
  • a laminate comprising any one of a glass layer, a metal layer, a resin layer, and a ceramic layer, and a polyimide having the crosslinked structure described in any one of 10 to 14 above.
  • tetracarboxylic acid ester derivative (A) selected from the compounds represented by the general formula (II-1) is simply “tetracarboxylic acid ester derivative (A)”, the general formula (II)
  • the amine compound (B) triamine compound, tetraamine compound, etc. having three or more amino groups selected from the compounds represented by -3) may be simply referred to as “amine compound (B)”.
  • the polyimide precursor of the invention of Part II is a polyimide precursor that forms polyimide by a chemical reaction, and includes at least a tetracarboxylic acid ester derivative (A) and an amine compound (B) as described above.
  • the tetracarboxylic acid ester derivative (A) is selected from compounds represented by the following general formula (II-1).
  • X 1 in the formula represents a direct bond or a divalent organic group selected from the group represented by the following formula (II-2), and R 11 to R 30 are each independently hydrogen, a carbon number of 1 to 8 Represents a monovalent aliphatic group (except when it becomes a tetracarboxylic acid).
  • X 2 in the formula represents a divalent organic group.
  • it is a divalent organic group having an aromatic ring or alicyclic structure, more preferably a general formula:
  • R 111 to R 124 are a direct bond
  • the tetracarboxylic acid ester derivative (A) used preferably has no ketone bond in the molecular structure.
  • the film forming property is inferior and it is difficult to produce a film (see Examples).
  • tetracarboxylic acid ester derivative (A) examples include ester derivatives exemplified as the tetracarboxylic acid (a) in Part I, and more preferably 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetra. Ester derivatives such as carboxylic acid, 2,3,3 ′, 4′-biphenyltetracarboxylic acid, pyromellitic acid, oxydiphthalic acid, and 4,4 ′-(2,2-hexafluoroisopropylene) diphthalic acid.
  • ester derivatives such as 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic acid, 2,3,3 ′, 4′-biphenyltetracarboxylic acid and pyromellitic acid are used, heat resistance and dimensional stability are excellent. It is preferable to use ester derivatives such as 4,4′-oxydiphthalic acid and 4,4 ′-(2,2-hexafluoroisopropylene) diphthalic acid because solubility and coloration of polyimide can be reduced.
  • these tetracarboxylic acid ester derivatives can be suitably used as monoesters, diesters, triesters, and tetraester derivatives, but are preferable because diester derivatives and tetraester derivatives can be easily produced.
  • a diester derivative is more preferable because of its excellent reactivity.
  • the monovalent aliphatic group having 1 to 8 carbon atoms that can be taken by R 11 to R 30 is preferably an alkyl having 1 to 3 carbon atoms, particularly 1 to 3 carbon atoms. Of these, n-alkyl is preferred.
  • the amine compound (B) is selected from compounds having three or more amino groups and represented by the general formula (II-3).
  • Z 1 in the formula is a trivalent nitrogen atom (N), a trivalent or higher aromatic group that may have a hetero atom in the ring member, or a trivalent or higher aliphatic that may have a hetero atom.
  • Z 2 and Z 3 are a direct bond or a divalent group
  • R 31 to R 36 each independently represent a monovalent aromatic group, aliphatic group or halogen
  • n 1 represents Z 1 is an integer of 3 or more, preferably 6 or less, more preferably an integer of 3 or 4
  • m 1 and m 3 are 0 to 4
  • m 2 and m 4 to m 6 are 0
  • Z 1 in the general formula (II-3) is preferably a trivalent or higher group represented by the general formula (II-5).
  • R 51 to R 100 in the formula each independently represent a direct bond or one of divalent groups represented by the following formula (II-6), and R 101 represents hydrogen, an aliphatic group, or an aromatic group. (Both are preferably up to about 18 carbon atoms).
  • R 51 to R 53 are a direct bond or a formula:
  • Z 2 and Z 3 in the general formula (II-3) are preferably a direct bond or any divalent group represented by the above formula (II-6).
  • Z 2 and Z 3 in the general formula (II-3) are preferably a direct bond or any divalent group represented by the above formula (II-6).
  • a direct bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond, an isopropylidene bond, or a hexafluoroisopropylidene bond is particularly preferable.
  • R 31 to R 36 in the formula (II-3) are aromatic groups having 12 or less carbon atoms (for example, phenyl group, benzyl group, phenoxy group), alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms, fluorine, chlorine, etc. Is preferred.
  • n 1 is preferably 0, 1 or 2
  • m 2 is preferably 0 or 1
  • m 3 is preferably 0, 1 or 2
  • m 4 is preferably 0 or 1
  • m 5 and m 6 are independently preferred Is 0 or 1.
  • the ring bonded to the amino group in the chemical structure is preferably a heterocyclic ring or an aromatic ring having no quinone structure, and a tetracarboxylic acid derivative Since side reactions other than the imidization reaction can be suppressed, it is more preferable that the chemical structure does not contain a hydroxyl group, a thiol, or a secondary amine.
  • amine compound (B) examples include those exemplified as the amine compound (B) in Part I, and the preferable ones are also the same, and one or a mixture of two or more may be used. The point is the same.
  • the polyimide precursor of the invention of Part II can contain diamine (C), if necessary. Although not particularly limited, it is preferable that diamine (C) contains at least one of the compounds represented by formula (II-4) because of excellent heat resistance.
  • Y 1 represents a direct bond or a divalent group
  • R 41 to R 43 each independently represents a monovalent aromatic group, aliphatic group or halogen group
  • m 5 to m 7 represent 0 to 4 Represents an integer.
  • Y 1 in the general formula (II-4) represents a group represented by the above formula (II-6), a divalent group represented by the following general formula (II-7) Is preferably selected from.
  • R 111 to R 124 each independently represents a direct bond or a divalent group represented by the formula (II-6).
  • R 111 to R 124 are more preferably a direct bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond, an isopropylidene bond, or a hexafluoroisopropylidene bond, and particularly preferably a direct bond or an ether bond because of excellent heat resistance. preferable.
  • Y 1 is excellent in heat resistance, and therefore R 111 to R among direct bonds, ether bonds, ester bonds, amide bonds, isopropylidene bonds, hexafluoroisopropylidene bonds, and groups of the formula (II-7) It is preferable that 124 is a group selected from a direct bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond, an isopropylidene bond, and a hexafluoroisopropylidene bond.
  • R 41 to R 43 are preferably an aromatic group having 12 or less carbon atoms (for example, a phenyl group, a benzyl group or a phenoxy group), an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, fluorine, chlorine or the like.
  • n 5 to m 7 are preferably 0, 1 or 2.
  • diamine (C) examples include those exemplified as the diamine (C) in Part I, and preferable ones are also the same, and a point that may be used alone or in combination of two or more. The same.
  • the value of [total number of moles of amine compound (B)] / ([total number of moles of amine compound (B)] + [total number of moles of diamine (C)]) is Although not particularly limited, it is 0.01 to 1, preferably 0.05 to 1, more preferably 0.2 to 1, still more preferably 0.25 to 1, particularly preferably 0.5 to 1. is there. If it is this range, it is excellent in the dimensional stability at high temperature of a polyimide, and bending tolerance.
  • the polyimide precursor of the invention of Part II is not particularly limited, the number of carboxylic acid groups of the tetracarboxylic acid component (including the number of esterified carboxylic acid groups) (number of moles) / total amine of the amine component
  • the value of the number of radicals (number of moles) is preferably 1 to 3, more preferably 1.6 to 2.4, still more preferably 1.8 to 2.2, and particularly preferably 2. If it is this range, it is excellent in heat resistance, dimensional stability in high temperature, and solvent resistance.
  • the molecular weight ⁇ between the crosslinking points when the polyimide is formed is preferably in the range of 500 to 100,000 g / mol, more preferably 1,300 to 10,000. More preferably, it is 1,500 to 5,000, particularly preferably 1,800 to 4,000.
  • the molecular weight ⁇ between the crosslinking points is generally positively correlated with the elongation of the resin, and is generally negatively correlated with the elastic modulus of the resin. Therefore, within this range, the high elongation, the high elastic modulus, the bending resistance, and the high temperature.
  • the dimensional stability can be compatible.
  • the molecular weight ⁇ between the crosslinking points can be obtained from the equation (6) as a theoretical value or from the experimental value according to the equation (7).
  • the molecular weight ⁇ between the crosslinking points of the invention of Part II is not particularly limited, but when a raw material having a ketone bond is used in the invention of Part II, the polyimide may cause additional crosslinking, When a functional group that causes additional crosslinking such as a ketone bond is not included, a value obtained from the above-described formula (6) can be preferably used.
  • the average molecular weight of the polyimide precursor of the invention of Part II is not particularly limited, but is preferably composed of a low molecular compound, and is preferably 50 to 5,000, more preferably 100 to 2,000. 200 to 1,000 are particularly preferred. Within this range, the polyimide precursor has a low molecular weight, and a polyimide precursor solution having both low viscosity and high solid content can be obtained.
  • the molecular weight here may be a number average molecular weight obtained by GPC measurement, a molecular weight determined from TOF-MASS, FAB-MASS, or other known analytical method values. Moreover, on the conditions which superposition
  • the logarithmic viscosity ( ⁇ inh) of the polyimide precursor of the Part II invention is substantially less than 0.2, preferably less than 0.15, more preferably less than 0.1, because it is substantially composed of low molecular weight compounds. is there. Within this range, the polyimide precursor has a low molecular weight, and a polyimide precursor solution having both low viscosity and high solid content can be obtained.
  • the polyimide precursor of the invention of Part II is substantially composed of a low molecular compound, it is preferable not to contain a polyamic acid repeating unit.
  • a known analytical method such as NMR or FT-IR can be suitably used for confirming the repeating unit of the polyamic acid.
  • the ratio of the repeating unit (mole) of the polyamic acid is 0.05 mol / mole or less per total mol of the amino group of the amine component (or 1/2 times the total mol of the carbonyl group of the tetracarboxylic acid component), preferably It is 0.03 mol / mol or less, more preferably 0.01 mol / mol or less, and particularly preferably the detection lower limit or less.
  • the polyimide precursor has a low molecular weight, and a polyimide precursor solution having both low viscosity and high solid content can be obtained.
  • the polyimide precursor of the invention of Part II may be a powder, preferably an average particle size of 5 mm or less, more preferably 1 mm or less, particularly preferably 0.5 mm or less, and a maximum particle size of 5 mm or less, more preferably 1 mm. Hereinafter, it is particularly preferably 0.5 mm or less.
  • a known measurement method such as a laser diffraction method, an image imaging method, or a gravity sedimentation method can be used, and a result obtained by using a known analysis method can be used.
  • Polyimide precursor solution The polyimide precursor solution of the invention of Part II was described together in Part I.
  • the polyimide having a crosslinked structure according to the invention of Part II is a polyimide having a structural unit derived from a tetracarboxylic acid component and a structural unit derived from an amine component, wherein the structural unit derived from the amine component has three or more structural units.
  • the structural unit derived from each of the amine compound (Bi) having an amino group and the diamine (Ci) is included in a range where the value of the following formula is 0.01 to 1.
  • the value of the formula [total number of moles of amine compound (Bi)] / ([total number of moles of amine compound (Bi)] + [total number of moles of diamine (Ci) component]) is preferably 0.00. 05 to 1, more preferably 0.2 to 1, still more preferably 0.25 to 1, particularly preferably 0.5 to 1. If it is this range, since a high crosslinking density can be achieved, the dimensional stability of polyimide at a high temperature, the bending resistance, the glass transition temperature are high, and the dimensional stability is excellent.
  • the polyimide having the crosslinked structure of the invention of Part II is not particularly limited, it is preferably produced by the aforementioned polyimide precursor. Therefore, the tetracarboxylic acid component is preferably a tetracarboxylic acid ester derivative (A) represented by the general formula (II-1). Similarly, the amine compound (Bi) having three or more amino groups is preferably the above-described amine compound (B), and the diamine (Ci) is preferably the above-mentioned diamine (C).
  • the polyimide having a crosslinked structure has a molecular weight ⁇ between crosslinking points of preferably 500 to 100,000 g / mol, more preferably 1,300 to 10,000, still more preferably 1,500 to 5 1,000, especially 1,800 to 4,000. If it is this range, it is excellent in the dimensional stability in high temperature, and bending tolerance.
  • the polyimide having the crosslinked structure of the invention of Part II is not particularly limited, but from the viewpoint of dimensional stability, the glass transition temperature is 200 ° C. or higher, preferably 230 ° C. or higher, more preferably 260 ° C. or higher, More preferably, it is 280 degreeC or more, Most preferably, it is 290 degreeC or more. Within this range, the dimensional stability is excellent.
  • the polyimide having the crosslinked structure of the invention of Part II can be used at a high temperature even with a polyimide having a relatively low glass transition temperature because the deformation at the time of heating is small.
  • the glass transition temperature 180 ° C to 300 ° C is preferable, 180 ° C to 260 ° C is more preferable, 180 ° C to 240 ° C is further preferable, and 180 ° C to 230 ° C is particularly preferable.
  • the measurement of the glass transition temperature was described in Part I.
  • Part I the linear expansion coefficient of polyimide having a cross-linked structure, 5% weight loss temperature, solvent resistance, total light transmittance when film thickness is 10 ⁇ m, film, and explanation of the laminate are the cross-linking of the invention of Part 1 The same applies to polyimides having a structure.
  • the method for producing a polyimide by imidizing the polyimide precursor of the invention of Part II is not particularly limited, and a known polyimide production method can be appropriately employed. Except for using the polyimide precursor described in Part II as the polyimide precursor, for example, in Part I, a polyimide can be manufactured by the method described in the item “(Method for manufacturing polyimide having a crosslinked structure)”.
  • the polyimide precursor of the invention of Part II can be used for the applications described in “Items of (Use of Polyimide Precursor, Laminate, Method for Producing the Same)” in Part I.
  • Part III An object of the invention of Part III is to provide a polyimide precursor which mainly comprises a combination of s-BPTA or a derivative thereof and a diamine having a para-bonded aromatic ring and gives a highly heat-resistant polyimide.
  • the invention of Part III relates to the following matters.
  • a polyimide precursor comprising a diamine component containing an aromatic diamine (B31) represented by the following general formula (III-1):
  • Y 1 represents a direct bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond, a ketone bond, methylene, isopropylidene, dimethylsilylene, alkylene having 1 to 6 carbon atoms, aromatic group having 12 or less carbon atoms, or R 1 to R 3 each independently represent an aromatic group having 12 or less carbon atoms, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a halogen group, A hydroxyl group and a carboxylic acid group, and n 1 to n 3 each represents an integer of 0 to 4. ]
  • Y 2 represents a direct bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond, a ketone bond, methylene, isopropylidene, dimethylsilylene or an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms and an aromatic group having 12 or less carbon atoms
  • R 4 and R 5 each independently represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms or an aromatic group having 12 or less carbon atoms.
  • X 1 in the formula is a direct bond or a divalent group. However, when X 1 is a direct bond, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic acid is excluded. ]
  • the tetracarboxylic acid (A32) is pyromellitic acid and its ester derivative
  • X 1 in the general formula (III-3) is a direct bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond, a ketone bond, a methylene, isopropyl Tetracarboxylic acid and ester derivatives thereof represented by any of lidene, hexafluoroisopropylidene, dimethylsilylene, alkylene having 1 to 6 carbon atoms, aromatic group having 12 or less carbon atoms, or general formula (III-4)
  • the polyimide precursor according to any one of 1 or 2 above which comprises one or more selected from the group consisting of:
  • the diamine component is a diamine different from the diamine (B31), and includes one or more diamines (B32) selected from compounds represented by the general formula (III-5). 5.
  • the polyimide precursor according to any one of 4 above.
  • Y 3 represents a direct bond or a divalent group
  • R 6 to R 8 each independently represents an aromatic group having 12 or less carbon atoms, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a halogen group, a hydroxyl group, A carboxylic acid group, and n 4 to n 6 each represents an integer of 0 to 4.
  • the diamine represented by the general formula (III-1) is excluded.
  • polyimide precursor according to any one of 1 to 11, further comprising at least one compound (H) having three or more amino groups.
  • the polyimide precursor according to any one of 1 to 12 above which is a powder having a particle diameter of 5 mm or less.
  • a polyimide precursor solution comprising the polyimide precursor according to any one of 1 to 12 above and a solvent (D).
  • the polyimide precursor according to any one of 1 to 12 above or the polyimide precursor solution according to any one of 13 to 15 above is used to imidize the polyimide precursor, and the glass transition temperature is 250 ° C.
  • the polyimide precursor according to any one of 1 to 12 above or the polyimide precursor solution according to any one of 13 to 15 above is used to imidize the polyimide precursor to form a film having a thickness of 10 ⁇ m.
  • a method for producing a polyimide comprising producing a polyimide having an average linear expansion coefficient of 50 ppm / K or less at 50 ° C. to 200 ° C. when measured.
  • a method for producing a polyimide comprising producing a polyimide having a weight reduction temperature of 450 ° C. or higher.
  • the polyimide precursor described in any one of 1 to 12 above or the polyimide precursor solution described in any one of 13 to 15 above is used to imidize the polyimide precursor, and stress-strain in a tensile test.
  • a method for producing a polyimide comprising producing a polyimide whose initial elastic modulus obtained from a curve is 2.5 GPa or more.
  • the polyimide precursor according to any one of 1 to 12 above or the polyimide precursor solution according to any one of 13 to 15 above is selected from a polyimide layer and glass, metal, resin and ceramic.
  • the polyimide precursor described in any one of 1 to 12 above or the polyimide layer obtained from the polyimide precursor solution described in any one of 13 to 15 above, and glass, metal, resin and ceramic are selected.
  • a heat resistant wire insulating layer a sliding component, a flexible circuit board, Or the manufacturing method characterized by manufacturing the board
  • the invention of Part III it is possible to provide a polyimide precursor capable of easily producing a high heat-resistant polyimide and a production method thereof.
  • the polyimide precursor solution of the invention of Part III is excellent in solubility, it can be highly solidified and has excellent storage stability.
  • the polyimide obtained from the polyimide precursor of the invention of Part III is excellent in film forming property and can form a high-quality film having bendability.
  • mechanical strength It has excellent properties such as high modulus of elasticity, yield stress, and stress at break, and low coefficient of linear expansion.
  • the invention of Part III includes, as the tetracarboxylic acid component, at least one tetracarboxylic acid (A31) selected from 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic acid and ester derivatives thereof,
  • the tetracarboxylic acid (A31) and the tetracarboxylic acid (A32) are expressed as “acid”, but as this definition, each includes an ester derivative.
  • the definition and state of the “polyimide precursor” are as described in the introduction.
  • the tetracarboxylic acid (A31) is not limited as long as it is selected from 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid and ester derivatives thereof.
  • 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid is preferred because the elimination component is only water.
  • ester derivatives are preferred because of their excellent solubility. In this case, even if four carboxylic acid groups are esterified, only one part may be esterified. In one embodiment, it is preferred that two of the four carboxylic acids of the tetracarboxylic acid are esterified.
  • As the compound giving an ester group alcohol having 1 to 3 carbon atoms, phenol having 6 to 12 carbon atoms, and silanol having 3 to 12 carbon atoms are preferable.
  • the diamine (B31) is an aromatic diamine (B31) selected from the compound represented by the general formula (III-1).
  • Y 1 represents a direct bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond, a ketone bond, methylene, isopropylidene, dimethylsilylene, alkylene having 1 to 6 carbon atoms, aromatic group having 12 or less carbon atoms, or R 1 to R 3 each independently represent an aromatic group having 12 or less carbon atoms, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a halogen group, A hydroxyl group and a carboxylic acid group, and n 1 to n 3 each represents an integer of 0 to 4. ]
  • Y 2 represents a direct bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond, a ketone bond, methylene, isopropylidene, dimethylsilylene or an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms and an aromatic group having 12 or less carbon atoms
  • R 4 and R 5 each independently represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms or an aromatic group having 12 or less carbon atoms.
  • the diamine (B31) Since the diamine (B31) has a para-bonded aromatic ring and does not contain a functional group that easily undergoes thermal decomposition (for example, a sulfonic acid group, a trifluoromethane group, etc.), it is suitable as a diamine main component of polyimide. is there.
  • the diamine of formula (1-1) in formula (III-1) is preferred to give a polyimide having heat resistance, mechanical properties, and low linear expansion coefficient, n 1 is 0, n 1 is 1 and R 1 is Those having a methyl group are more preferable, and those having n 1 of 0 are particularly preferable.
  • the diamine of the formula (1-2) is preferred from the viewpoint of achieving both the solubility and storage stability of the polyimide precursor solution, the heat resistance of the polyimide, high mechanical strength, and a low linear expansion coefficient.
  • Y 1 in the formula (1-2) is preferably a direct bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond, a ketone bond, or a methylene, more preferably because of high mechanical strength and a low linear expansion coefficient.
  • a direct bond, an ether bond, and an amide bond are preferable, and an ether bond is particularly preferable.
  • Y 1 is represented by the general formula (III-2) because it has excellent solubility and storage stability of the polyimide precursor solution, and excellent film forming properties of the polyimide.
  • Any one of the molecular structures is preferable, more preferably the structures of the formulas (2-2) and (2-3), and particularly preferably, in the formula (2-2), R 4 and R 5 are isopropylidene.
  • R 4 and R 5 are isopropylidene.
  • Y 2 is isopropylidene.
  • the tetracarboxylic acid (A32) is not limited as long as it is a tetracarboxylic acid and its ester derivative other than 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid and its ester derivative. Since both the solubility and storage stability of the polyimide precursor solution and the film-forming property and heat resistance of the polyimide can be achieved, any of the tetracarboxylic acids represented by the general formula (III-3) or their ester derivatives preferable.
  • X 1 in the formula is a direct bond or a divalent group. However, when X 1 is a direct bond, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic acid is excluded. ]
  • X 1 represents a direct bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond, a ketone bond, methylene, isopropylidene, hexafluoroisopropylidene.
  • tetracarboxylic acid represented by any of redene, dimethylsilylene, alkylene having 1 to 6 carbon atoms, an aromatic group having 12 or less carbon atoms, or the following general formula (III-4) and an ester derivative thereof.
  • X 2 is a divalent organic group such as a direct bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond, a ketone bond, methylene, isopropylidene, hexafluoroisopropylidene, dimethylsilylene, and 1 to 6 alkylene.
  • tetracarboxylic acid (A32) more preferably, pyromellitic acid and X 1 of formula (3-2) are a direct bond, an ether bond, an ester bond, a ketone bond, isopropylidene, hexafluoroisopropylidene, dimethylsilylene.
  • a tetracarboxylic acid and an ester derivative thereof more preferably a tetracarboxylic acid and an ester derivative thereof in which X 1 in formula (3-2) is a direct bond or an ether bond, particularly preferably 2, 3 ', 3,4'-biphenyltetracarboxylic acid and its ester derivatives.
  • the total ratio of tetracarboxylic acid (A31) and tetracarboxylic acid (A32) to the total molar amount of all tetracarboxylic acid components is preferably 90 mol% or more, more preferably 95 mol% or more, most preferably It is substantially 100 mol%. Since the resulting polyimide is excellent in heat resistance, mechanical strength, and low linear expansion coefficient, the proportion of tetracarboxylic acid (A31) is preferably 50 mol% or more, more preferably based on the total molar amount of all tetracarboxylic acid components. 75 mol% or more, more preferably 80 mol% or more, particularly preferably 90 mol% or more.
  • the ratio of tetracarboxylic acid (A31) to the total molar amount of all tetracarboxylic acid components is preferably 95 mol% or less, more preferably 90%.
  • the ratio of the tetracarboxylic acid (A32) is preferably 5 mol% or more, more preferably 10 mol% or more, still more preferably 15 mol% or more, particularly preferably based on the total molar amount of all tetracarboxylic acid components. It is 20 mol% or more.
  • diamine component in addition to the aromatic ring diamine (B31) represented by the general formula (III-1), a diamine (B32) represented by the following general formula (III-5) can be used.
  • Y 3 represents a direct bond or a divalent group
  • R 6 to R 8 each independently represents an aromatic group having 12 or less carbon atoms, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a halogen group, a hydroxyl group, A carboxylic acid group and a trifluoromethyl group
  • n 4 to n 6 each represents an integer of 0 to 4.
  • the diamine represented by the general formula (III-1) is excluded.
  • Y 3 may be a direct bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond, a ketone bond, methylene, isopropylidene, dimethylsilylene, alkylene having 1 to 6 carbon atoms, or 12 or less carbon atoms. Or any one of the molecular structures represented by the general formula (III-2) is preferred.
  • Examples of the diamine (B32) include compounds that are not included in the general formula (III-1) among those listed as the diamine (C) in Part I.
  • the compound of the formula (5-1) or Y 3 of the formula (5-2) is directly bonded, A compound that is an ether bond, an amide bond, or an aromatic group having 12 or less carbon atoms is preferable. Further, since it has excellent low linear expansion and mechanical properties, the compound of formula (5-1) or Y of formula (5-2) A compound in which 3 is a direct bond or an ether bond is more preferable.
  • the total proportion of diamine (B31) and diamine (B32) is preferably 90 mol% or more, more preferably 95 mol% or more, and most preferably substantially 100 mol%, based on the total molar amount of all diamine components. It is. Since the resulting polyimide is excellent in heat resistance, mechanical strength, and low linear expansion coefficient, the proportion of the diamine having a para-bonded aromatic ring (B31) is preferably 50 mol% with respect to the total molar amount of all diamine components. Above, more preferably 75 mol% or more, still more preferably 80 mol% or more, particularly preferably 90 mol% or more, and 100 mol% is also preferable.
  • the ratio of the diamine (B32) may be more than 0 mol%, preferably 5 mol% or more, more preferably 10 mol% or more, and still more preferably. 15 mol% or more, particularly preferably 20 mol% or more.
  • the proportion of the diamine having a para-bonded aromatic ring (B31) is less than 100 mol%, preferably 95 mol% or less, more preferably 90 mol% or less, still more preferably 85 mol% or less, particularly preferably 80. It becomes below mol%.
  • an amine compound (G) having a cyclic structure in the molecule can be added to the polyimide precursor of the invention of Part III, although not particularly limited. Since it is excellent in the solubility of a polyimide precursor solution, storage stability, and the film forming property of a polyimide, it is preferable that it is any of the aliphatic amine which has a cyclic structure, an aromatic amine, and a heterocyclic amine. Furthermore, since the obtained polyimide is low colored, an aromatic heterocyclic compound and an aliphatic heterocyclic compound containing a nitrogen atom as a ring member atom are more preferable.
  • aromatic heterocyclic compound examples include pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, triazine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, phthalazine, or a compound having a pyrrole, imidazole, pyrazole, oxazole, isoxazole, indole, or benzimidazole skeleton.
  • a part of the aromatic heterocyclic structure may be hydrogenated, may have a structure condensed with another ring structure, or may have a substituent in the ring structure. .
  • a compound having a pyridine or imidazole skeleton is preferable, and a compound having an imidazole skeleton is more preferable, because the solubility of the polyimide precursor is excellent and the resulting polyimide has excellent heat resistance and mechanical properties.
  • the compound having an imidazole skeleton include methylimidazole, dimethylimidazole, and ethyl-methylimidazole. Particularly preferred are 1,2-dimethylimidazole and 1-methylimidazole.
  • Examples of the compound having a pyridine skeleton include pyridine, picoline, dimethylpyridine, vinylpyridine, cyanopyridine, aminopyridine, amino-methylpyridine, (dimethylamino) pyridine, hydroxypyridine, phenylpyridine, quinoline, isoquinoline, and biviridine. Can do. Particularly preferred are isoquinoline, picoline, dimethylpyridine and the like.
  • Aliphatic heterocyclic compounds include piperidine, piperazine, hexahydropyrimidine, hexahydropyridazine, morpholine, quinuclidine, triethylenediamine (1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane), pyrrolidine, tropane, azetidine, aziridine, etc. And compounds having a skeleton of Here, a part of the aliphatic heterocyclic structure may have an unsaturated bond, may have a structure condensed with another ring structure, and has a substituent in the ring structure. May be. Of these, morpholine, triethylenediamine, diazabicycloundecene, and diazabicyclononene are preferred because the solubility of the polyimide precursor is particularly excellent.
  • the content ratio of the amine compound (G) having a cyclic structure is 5 mol% or more, more preferably 10 mol% or more, still more preferably 20 mol% or more, particularly preferably based on the total molar amount of all tetracarboxylic acid components. It is 30 mol% or more. Further, when the content ratio is 50 mol% or more, more preferably 70 mol% or more, further preferably 80 mol% or more, particularly preferably 100 mol% or more, the solubility and storage stability of the polyimide precursor solution are further increased. Excellent. Furthermore, when the content is 150 mol% or more, more preferably 200 mol% or more, the film-forming property of polyimide is particularly excellent.
  • the polyimide precursor of the invention of Part III may contain a compound (H) having three or more amino groups as necessary.
  • the compound (H) having three or more amino groups the compound described as the amine compound (b) in Part I is preferable.
  • the average molecular weight of the polyimide precursor of the invention of Part III is not particularly limited, but is preferably 50 to 5,000, more preferably 100 to 2,000 because it is substantially composed of low molecular weight compounds. 200 to 1,000 are particularly preferred. Within this range, the polyimide precursor has a low molecular weight, and a polyimide precursor solution having both low viscosity and high solid content can be obtained.
  • the molecular weight here may be a number average molecular weight obtained by GPC measurement, a molecular weight determined from TOF-MASS, FAB-MASS, or other known analytical method values. Moreover, on the conditions which superposition
  • the logarithmic viscosity ( ⁇ inh) of the polyimide precursor of the invention of Part III is substantially less than 0.2, preferably less than 0.15, more preferably less than 0.1, because it is substantially composed of low molecular weight compounds. is there. Within this range, the polyimide precursor has a low molecular weight, and a polyimide precursor solution having both low viscosity and high solid content can be obtained.
  • the polyimide precursor of the invention of Part III is substantially composed of a low molecular compound, it is preferable not to contain a polyamic acid repeating unit.
  • a known analytical method such as NMR or FT-IR can be suitably used for confirming the repeating unit of the polyamic acid.
  • the ratio of the repeating unit (mole) of the polyamic acid is 0.05 mol / mole or less per total mol of the amino group of the amine component (or 1/2 times the total mol of the carbonyl group of the tetracarboxylic acid component), preferably It is 0.03 mol / mol or less, more preferably 0.01 mol / mol or less, and particularly preferably the detection lower limit or less.
  • the polyimide precursor has a low molecular weight, and a polyimide precursor solution having both low viscosity and high solid content can be obtained.
  • the polyimide precursor of the invention of Part III may be a powder, preferably an average particle size of 5 mm or less, more preferably 1 mm or less, particularly preferably 0.5 mm or less, and a maximum particle size of 5 mm or less, more preferably 1 mm. Hereinafter, it is particularly preferably 0.5 mm or less.
  • a known measurement method such as a laser diffraction method, an image imaging method, or a gravity sedimentation method can be used, and a result obtained by using a known analysis method can be used.
  • Polyimide precursor solution The polyimide precursor solution of the invention of Part III is as described collectively in Part I.
  • polyimide precursor / inorganic particle composite As described in Part I, the polyimide precursor of the invention of Part III is particularly preferably added with inorganic particles to form a polyimide precursor / inorganic particle composite material.
  • the polyimide produced from the polyimide precursor of the invention of Part III includes a tetracarboxylic acid (A31) composed of 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic acids and a diamine having a para-bonded aromatic ring (B31). )
  • A31 tetracarboxylic acid
  • B31 diamine having a para-bonded aromatic ring
  • A31 tetracarboxylic acid
  • B31 diamine having a para-bonded aromatic ring
  • the produced polyimide has a small thermal expansion, and the average linear expansion coefficient at 50 ° C. to 200 ° C. or the average linear expansion coefficient at 50 ° C. to Tg is preferably 60 ppm / K or less, more preferably 50 ppm / K or less. More preferably, it is 45 ppm / K or less.
  • the produced polyimide has excellent heat resistance, and the 5% weight loss temperature determined by TGA is preferably 450 ° C. or higher, more preferably 470 ° C. or higher, further preferably 500 ° C. or higher, particularly preferably 550 ° C. or higher. It is.
  • the produced polyimide has a high elastic modulus, and the initial elastic modulus obtained from the stress-strain curve of the tensile test is preferably 2.5 GPa or more, more preferably 3.0 GPa or more, and further preferably 3.5 GPa or more. Especially preferably, it is 4.0 GPa or more.
  • the method for producing a polyimide by imidizing the polyimide precursor of the invention of Part III is not particularly limited, and a known polyimide production method can be appropriately employed. Except for using the polyimide precursor described in Part III as the polyimide precursor, for example, in Part I, a polyimide can be manufactured by the method described in the item “(Method for manufacturing polyimide having a crosslinked structure)”.
  • the polyimide precursor of the invention of Part III can be used in various applications, for example, as a coating material for manufacturing a polyimide film, a polyimide layer in a polyimide laminate, a binder and an adhesive in various other applications such as batteries. be able to.
  • the polyimide laminate is a structure in which a base material layer or a substrate formed of a material such as glass, metal, resin, or ceramic, and a polyimide layer are laminated.
  • the polyimide layer may partially cover the surface of the base material layer or the substrate.
  • a polyimide film is produced from a polyimide precursor and bonded to the substrate layer or the substrate, or after applying a polyimide precursor solution to at least a part of the surface of the substrate layer or the substrate, an imide And a method of forming a laminate.
  • the solid content concentration in the polyimide precursor solution can be increased, and the storage stability is excellent.
  • the polyimide obtained from the polyimide precursor of the invention of Part III is excellent in film forming property, can form a good quality film having bendability, and has a mechanical strength as compared with a polyimide obtained from a conventional polyamic acid. It has excellent properties such as high modulus of elasticity, yield point stress, and stress at break and low coefficient of linear expansion.
  • the polyimide precursor of the invention of Part III can easily produce a polyimide having excellent characteristics, it is possible to produce a heat-resistant electric wire insulation layer, a display substrate, a touch panel substrate, a solar cell substrate, a thin film semiconductor substrate, It can be suitably used in the production of moving parts and flexible circuit boards.
  • TMA Thermomechanical properties
  • the linear expansion coefficient was the average linear expansion coefficient at 50 ° C. to 200 ° C., and when there was a glass transition temperature at 200 ° C. or less or in the vicinity, the average linear expansion coefficient was from 50 ° C. to the glass transition start temperature.
  • a polyimide film (film thickness: about 10 ⁇ m, width: 1 cm, length: 1 cm) was immersed in 10 g of NMP at 25 ° C. for 30 minutes. The case where there was no abnormality was marked with ⁇ , and the case where dissolution or significant swelling was observed was marked with ⁇ .
  • the polyimide film (film thickness of about 10 ⁇ m) obtained in each example was treated for 1 hour at 121 ° C. under wet saturation using an advanced accelerated life test EHS-411 manufactured by Espec. When there was no abnormality, it was marked with ⁇ , when some abnormality such as whitening was observed, ⁇ , and when there was abnormality such as whitening on the entire surface, it was marked with ⁇ .
  • Example I-1 As tetracarboxylic acid (a), s-BPTA (dihydrate) 1.015 molar equivalent (1.291 g), as compound (b) having three or more amino groups, 0.03 molar equivalent (0 0.042 g), as diamine (C), 0.97 molar equivalent (1.000 g) of APB was put in a mortar, sufficiently ground and mixed to obtain a polyimide precursor powder. When this powder was confirmed with a microscope, particles having a particle diameter of 0.5 mm or more were not confirmed. As a solvent (D), an amount (9.33 g) of DMAc with a monomer concentration of 20% by mass is added to this powder, and heated and dissolved at 50 ° C. to obtain a polyimide precursor solution (solid content 20%, viscosity 50 mPa ⁇ s). Obtained.
  • the obtained polyimide precursor solution was applied to a glass substrate, dried at 120 ° C. for 5 minutes, then thermally imidized by heating at 150 ° C. and 200 ° C. for 10 minutes each and then at 250 ° C. for 1 hour. Thus, a polyimide / glass laminate was obtained. Next, the obtained polyimide / glass laminate was immersed in a hot water bath and then peeled to obtain a polyimide (film) having a film thickness of about 10 ⁇ m. The results of measuring the properties of this polyimide are shown in Table I-1.
  • Example I-2 to 24 A polyimide precursor powder and solution were prepared in the same manner as in Example I-1, except that each component was changed to those described in Table I-1. In Examples I-23 to 24, NMP was used as the solvent (D). From the obtained polyimide precursor solution, a polyimide (film) was obtained in the same manner as in Example I-1. The results of measuring the properties of this polyimide are shown in Table I-1.
  • Example I-1 A polyimide precursor powder and solution were prepared in the same manner as in Example I-1, except that each component was changed to those described in Table I-1. From the obtained polyimide precursor solution, a polyimide (film) was obtained in the same manner as in Example I-1. The results of measuring the properties of this polyimide are shown in Table I-1.
  • FIG. 1 shows the results of thermomechanical analysis (TMA) of the polyimides obtained in Examples I-2 to I-6 and the polyimide obtained in Comparative Example I-1.
  • TMA thermomechanical analysis
  • the polyimide precursor of the invention of Part I can be used even when the ratio of the compound (b) having three or more amino groups is increased in the amine compound of the polyimide precursor.
  • a precursor solution can be produced, and a crosslinked polyimide can be easily obtained by a thermal method (polycondensation and imidization reaction).
  • the polyimide having the crosslinked structure of the invention of Part I is produced from the polyimide precursor described above, a polyimide having an appropriate (highly desired) crosslinking density is obtained, the coefficient of linear expansion is small, and heating is performed even at high temperatures. It was confirmed that it was excellent in dimensional stability because it was difficult to deform.
  • Table II-1 shows the values obtained from the above equation (6).
  • TMA Thermomechanical properties (TMA): glass transition temperature, deformation at heating: 1%, 5%, temperature at 10% elongation], [5% thermal weight loss temperature], [bendability], [resistance to resistance]
  • Solvent properties, [optical properties: total light transmittance, light transmittance at 420 nm], and [moisture absorption resistance] were evaluated in the same manner as in Part I.
  • Example II-1 In a glass container, s-BPDA is 1.25 molar equivalent (1.842 g), EtOH is 2 moles (0.577 g) with respect to tetracarboxylic anhydride, and DMAc is monomer concentration (tetracarboxylic ester derivative).
  • concentration of amine compound (B), diamine (C) as a solute) is 20 mass% (13.72 g)
  • 0.02 g of 12DMZ is further added as a catalyst, and the mixture is heated and stirred at 80 ° C. for 3 hours. did. Formation of the ester derivative s-BPTA / E of 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic acid was confirmed by FT-IR.
  • TAPOB 0.5 molar equivalent (1.000 g) as the amine compound (B) and APB 0.5 molar equivalent (0.732 g) as the diamine (C) are added to the resulting solution and dissolved at 50 ° C. with heating.
  • a polyimide precursor solution solid content 20%, viscosity 62 mPa ⁇ s
  • the obtained polyimide precursor solution was applied to a glass substrate, dried at 120 ° C. for 5 minutes, then thermally imidized by heating at 150 ° C. and 200 ° C. for 10 minutes each and then at 250 ° C. for 1 hour. Thus, a polyimide / glass laminate was obtained. Next, the obtained polyimide / glass laminate was immersed in a hot water bath and then peeled to obtain a polyimide (film) having a film thickness of about 10 ⁇ m. The results of measuring the properties of this polyimide are shown in Table 1.
  • Example II-2 to 5 A polyimide precursor solution was prepared in the same manner as in Example II-1, except that each component was changed to those described in Table 1. From the obtained polyimide precursor solution, a polyimide (film) was obtained in the same manner as in Example II-1. The results of measuring the properties of this polyimide are shown in Table 1.
  • Example II-1 A polyimide precursor solution was prepared in the same manner as in Example II-1, except that each component was changed to those described in Table 1. From the obtained polyimide precursor solution, a polyimide (film) was obtained in the same manner as in Example II-1. The results of measuring the properties of this polyimide are shown in Table 1.
  • FIG. 1 shows the results of thermomechanical analysis (TMA) of the polyimides obtained in Examples II-1 to II-5 and the polyimide obtained in Comparative Example II-1.
  • TMA thermomechanical analysis
  • the polyimide precursor of the invention of Part II was obtained even when the ratio of the compound (B) having three or more amino groups was increased in the amine compound of the polyimide precursor.
  • a precursor solution can be produced, and a crosslinked polyimide can be easily obtained by a thermal method (polycondensation and imidization reaction).
  • the polyimide having the crosslinked structure of the invention of Part II is produced from the polyimide precursor described above, a polyimide having an appropriate (highly desired) crosslinking density is obtained, the linear expansion coefficient is small, and heating is performed even at a high temperature. Since it is difficult to deform at the time, it was confirmed that it had excellent dimensional stability and had flexibility that could be bent.
  • TMA Thermomechanical properties
  • the polyimide film was cut into a strip having a width of 4 mm to obtain a test piece, and the temperature was raised to 475 ° C. at a chuck length of 15 mm, a load of 2 g, and a heating rate of 20 ° C./min using TMA-50 manufactured by Shimadzu Corporation.
  • the glass transition temperature (° C.) was determined from the inflection point of the obtained TMA curve.
  • the linear expansion coefficient was an average linear expansion coefficient at 50 ° C. to 200 ° C.
  • Example III-1 As tetracarboxylic acid (A31), 0.75 molar equivalent of s-BPTA, 0.25 molar equivalent of a-BPTA as tetracarboxylic acid (A32), 1 molar equivalent of 4,4-ODA as diamine (B31), cyclic As an amine (G) having a structure, 0.1 molar equivalent of 12DMZ was put in a mortar, sufficiently ground and mixed to obtain a polyimide precursor powder. When this powder was confirmed with a microscope, particles having a particle diameter of 0.5 mm or more were not confirmed. As a solvent (D), an amount (9.33 g) of DMAc having a monomer concentration of 20% by mass was added to this powder and dissolved by heating at 50 ° C. to obtain a polyimide precursor solution (solid content 20%).
  • the obtained polyimide precursor solution was applied to a glass substrate, dried at 120 ° C. for 5 minutes, then thermally imidized by heating at 150 ° C. and 200 ° C. for 10 minutes each and then at 250 ° C. for 1 hour. Thus, a polyimide / glass laminate was obtained. Next, the obtained polyimide / glass laminate was immersed in a hot water bath and then peeled to obtain a polyimide (film) having a film thickness of about 10 ⁇ m and about 25 ⁇ m. The results of measuring the properties of this polyimide are shown in Table III-1.
  • Example III-2 to 28 A polyimide precursor powder and a polyimide precursor solution were prepared in the same manner as in Example III-1 except that each component was changed to those described in Table III-1 (addition of solvent was adjusted as appropriate). A polyimide (film) was produced in the same manner as in Example III-1. The results are shown in Tables III-1 to III-3.
  • Example III-1 A polyimide precursor powder was produced in the same manner as in Example III-1, except that each component was changed to those described in Table III-1, and a solvent was added thereto and stirred with heating, but did not dissolve.
  • Example III-4 to 8 A polyimide precursor powder and a polyimide precursor solution were prepared in the same manner as in Example III-1 except that each component was changed to those described in Table III-1 (addition of solvent was adjusted as appropriate). A polyimide (film) was produced in the same manner as in Example III-1, but it became powdery and whitened, and a good quality film could not be obtained.
  • Example III-30 A polyimide in which inorganic particles are dispersed by adding 20 parts by mass of Aerosil R972 to the polyimide precursor solution obtained in Example III-25 and 100 parts by mass of the solid content of the raw material solution, and dispersing with three rolls. A precursor solution (solid content 42%) was obtained. A polyimide (film) was produced in the same manner as in Example III-1. The evaluation results of this polyimide are shown in Table III-4.
  • a polyimide (film) was produced in the same manner as in Example III-1.
  • the evaluation results of this polyimide are shown in Table III-4.
  • the polyimide precursor solution of the invention of Part III is excellent in solubility, so it can be highly solidified and has excellent storage stability. Furthermore, the polyimide obtained from the polyimide precursor of the invention of Part III is excellent in film forming property and can form a good quality film having bendability. Furthermore, compared with the polyimide obtained from the conventional polyamic acid, it is excellent in characteristics, such as a high mechanical strength (an elastic modulus, a yield point stress, a breaking point stress) and a low linear expansion coefficient.

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Abstract

適切に高い架橋密度のポリイミドを容易に製造できるポリイミド前駆体と、耐熱性、高温での寸法安定性に優れるに優れるポリイミドを提供する。ポリイミド前駆体は、例えば式(1)のテトラカルボン酸(a)と、例えば式(3)の3つ以上のアミノ基を有するアミン化合物(b)を含む。 式(1)〔Xは、直接結合または、2価の基である。〕 式(3)〔Zは3価以上の基、Zは直接結合または2価の基であり、R~Rは1価の基を表し、nは3以上、mおよびmは0~4、mおよびmは0~3の整数を表す。〕

Description

ポリイミド前駆体、架橋構造を有するポリイミドおよびその製造方法
 本発明は、容易に高い架橋密度のポリイミドを製造できるポリイミド前駆体と、耐熱性、高温での寸法安定性に優れる架橋構造を有するポリイミド、そしてその製造方法に関するものである。また本発明の異なる態様は、容易に高耐熱性ポリイミドを製造できるポリイミド前駆体と、その製造方法に関するものである。
 ポリイミドは優れた耐熱性に加え、機械特性、電気特性等の点においても他のエンジニアリング・プラスチックより優れており、宇宙、航空産業用途で得られた高い信頼性により、産業用へとその応用が拡がり、民生用の電気・電子耐熱絶縁材料として多く使用されている。しかしながら近年、エレクトロニクス機器の小型・軽量化、多機能・高性能化が驚異的に進行し、従来のポリイミド材料を超える優れた耐熱性、寸法安定性が求められるようになってきている。これまでポリイミドの研究開発では、種々のジアミン・酸無水物を組み合わせることで、各種の特性向上がなされてきた。
 樹脂の分解温度やガラス転移温度といった耐熱性や耐薬品性は、樹脂中に架橋構造を導入することにより、向上できることが研究されている(非特許文献1)。特許文献1には、テトラカルボン酸二無水物とトリアミンとをモル比1/2~3/2未満の範囲で反応させてポリアミック酸を製造し、これをイミド化して多分岐ポリイミドを製造し、さらにそのアミド基に無電解めっき触媒前駆体物質を吸着させた無電解めっき促進用多分岐ポリイミドが記載されている。特許文献2には、テトラカルボン酸二無水物とトリアミンと末端成分から得られる末端変性多分岐ポリイミドが記載されている。
 また、多くのポリイミドは有機溶剤に難溶又は不溶であるので、種々の用途において、有機溶剤に可溶であるポリアミック酸を溶媒に溶解した溶液が用いられてきた。ポリアミック酸溶液は、高重合度のポリマー溶液であり、このポリマー溶液からポリイミド塗膜を得る際は、一般的にはこのポリマー溶液を銅、ガラス等の基材上にコーティングし、それを加熱して、溶媒の除去とイミド化を進行させて、ポリイミド塗膜を得る。
 しかしながら、高重合度のポリマー溶液をコーティングする場合に、塗工可能な粘度とするためには、固形分濃度を低くしなければならないという問題があった。また、生産性を高めるために、固形分濃度を高めると溶液の粘度が高くなり、塗工できなくなってしまうという問題もあり、またたとえ塗工できたとしても、良好な機械的、熱的特性を有する塗膜やフィルムを取得できないという問題があった。さらに、ポリマー溶液は長期間の保存に耐え難く、その重合度を維持しつつ長期間保存することは極めて困難であった。この課題を解決する方法として、特許文献3では、特定のモノマーを組み合わせれば、重合体でなくとも、それらモノマーの溶液から直接、熱可塑性ポリイミド塗膜が得られることが報告されている。
特開2008-50694号公報 WO2008/013210号公報 特開平11-333376号公報
Katrien Vanherckaら、Progress in PolymerScience 38(2013)874-896 Yoshiaki Echigoら、Journalof Polymer Science: Part A: Polymer Chemistry, Vol. 37, 11-14 (1999)
 ポリイミドは、一般的にその前駆体であるポリアミック酸を合成し、次いでイミド環の閉環反応により合成される。上記特許文献1、2および非特許文献1においても、ポリアミック酸を経由してポリイミドが合成されている。しかし、架橋構造を導入するとゲル化しやすいため、低濃度のポリアミック酸溶液の形態に限られ、従って実際の使用の上で、様々な制約を受ける問題がある。
 本発明の一態様はこれらの問題を解決するためになされたものであり、適切に高い架橋密度のポリイミドを容易に製造できるポリイミド前駆体と、耐熱性、高温での寸法安定性に優れる架橋ポリイミド、およびその製造方法を提供することを目的とする。
 本発明の異なる態様は、適切に高い架橋密度のポリイミドを容易に製造できるポリイミド前駆体と、耐熱性、高温での寸法安定性、折り曲げ耐性に優れるに優れる架橋ポリイミド、およびその製造方法を提供することを目的とする。
 また、特許文献3では、特定のモノマーの組み合わせにより、熱可塑性ポリイミド塗膜が得られることが報告されているが、ポリイミドの中でも、耐熱性に優れる3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸(s-BPTA)と、パラ位結合の芳香環を有するジアミン(例えば、パラフェニレンジアミン(PPD)など)の組み合わせでは、溶解性に乏しく、ポリイミド前駆体溶液が得られないことが報告されている(非特許文献2)。そのため、s-BPTAを用いた高耐熱性のポリイミドでは、モノマーの溶液から直接、ポリイミド塗膜を得る方法は知られていなかった。
 従って、本発明のさらなる異なる態様は、s-BPTAやその誘導体とパラ位結合の芳香環を有するジアミンの組み合わせを主体とし、高耐熱性のポリイミドを与えるポリイミド前駆体を提供することを目的とする。
 本発明の第1の態様は、すくなくとも、テトラカルボン酸(a)と、3つ以上のアミノ基を有するアミン化合物(b)を含むことを特徴とするポリイミド前駆体に関する。
 前記テトラカルボン酸(a)として、一般式(1)で表される化合物から選ばれるテトラカルボン酸を少なくとも1種類以上含むことが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
〔式中のXは、直接結合または、2価の基である。〕
 また、本発明の第2の態様は、すくなくとも、
 一般式(II-1)で表される化合物から選ばれるテトラカルボン酸エステル誘導体(A)と、
 一般式(II-3)で表される化合物から選ばれる、3つ以上のアミノ基を有するアミン化合物(B)
を含むことを特徴とするポリイミド前駆体に関する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
〔式中のXは直接結合もしくは、下記式(II-2)で示される基から選ばれる2価の基を表し、R11~R30は、それぞれ独立に水素、炭素数1~8の1価の脂肪族基(ただし、テトラカルボン酸となる場合を除く)を表す。〕
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
〔式中のXは、2価の有機基である。〕
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
〔Zは3価の窒素原子、3価以上の芳香族基、3価以上の脂肪族基、ZおよびZは直接結合または2価の基であり、R31~R36は1価の芳香族基、脂肪族基、ハロゲン、nは3以上、mおよびmは0~4、mおよびm~mは0~3の整数を表す。〕
 さらに、本発明の第3の態様は、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸およびそのエステル誘導体から選ばれる少なくとも1種のテトラカルボン酸(A31)と、
 前記テトラカルボン酸(A31)と異なるテトラカルボン酸およびそのエステル誘導体から選ばれる少なくとも1種のテトラカルボン酸(A32)と
を含むテトラカルボン酸成分、
 下記一般式(III-1)で表される芳香環ジアミン(B31)を含むジアミン成分
を含有することを特徴とするポリイミド前駆体に関する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
〔式中のYは直接結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、ケトン結合、メチレン、イソプロピリデン、ジメチルシリレンまたは、炭素数1~6のアルキレン、炭素数12以下の芳香族基、または下記一般式(III-2)で表されるいずれかの分子構造を表し、R~Rは、それぞれ独立に炭素数12以下の芳香族基、炭素数1~6のアルキル基、ハロゲン基、水酸基、カルボン酸基であり、n~nは0~4の整数を表す。〕
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
〔式中のYは直接結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、ケトン結合、メチレン、イソプロピリデン、ジメチルシリレンまたは、炭素数1~6のアルキレン、炭素数12以下の芳香族基を表し、R、Rは、それぞれ独立に炭素数1~6のアルキレン、炭素数12以下の芳香族基を表す。〕
 本発明の一態様によれば、適切に高い架橋密度のポリイミドを容易に製造できるポリイミド前駆体と、耐熱性、高温での寸法安定性、折り曲げ耐性に優れる架橋ポリイミド、そしてその製造方法を提供することができる。
 また、本発明の一態様によれば、適切に高い架橋密度のポリイミドを容易に製造できるポリイミド前駆体と、耐熱性、高温での寸法安定性、折り曲げ耐性に優れるに優れる架橋ポリイミド、およびその製造方法を提供することができる。
 さらに本発明の一態様によれば、容易に高耐熱性ポリイミドを製造でき、固形分濃度を高めることができるポリイミド前駆体を提供することができる。
実施例I-2~6および比較例I-1の熱機械特性を示すグラフである。 実施例II-1~5および比較例II-1の熱機械特性を示すグラフである。 実施例III-25および比較例III-9で得られたポリイミド膜の引っ張り試験の応力-ひずみ曲線(S-Sカーブ)である。
 以下、本発明をパートI、パートIIおよびパートIIIに分けて以下に説明する。各パートを独立して説明するが、各パートの説明において、そのパート発明の趣旨に矛盾しない限り他のパートで説明した成分、化合物、方法等を採用することもできる。
 本出願において、テトラカルボン酸残基とは、テトラカルボン酸から4つのカルボキシル基(-COOH)を除いた4価の基を意味する。アミン残基とは、アミン化合物からアミノ基(-NH)を除いた基を意味し、ジアミン残基は2価の基、トリアミン残基は3価の基である。
 また、本出願において、テトラカルボン酸成分とは、ポリイミドの原料となるテトラカルボン酸エステル、テトラカルボン酸二無水物、テトラカルボン酸等のカルボン酸化合物を意味し、アミン成分は、ポリイミドの原料となるアミン化合物、即ち3つ以上のアミノ基有するアミン化合物やジアミン化合物を意味する。
 テトラカルボン酸成分とアミン成分を、所定の工程において反応させてポリイミドを合成したとき、原料化合物に由来するテトラカルボン酸残基およびアミン残基を有するポリイミドが得られる。本件明細書において、ポリイミドの化学構造を特定する場合に、構造を化学式で直接的に示す代わりに、テトラカルボン酸成分およびアミン成分を説明することにより、化学構造の説明とする場合がある。
 本出願においてポリイミド前駆体は、本明細書で記載される所定の化合物を含有し、その後の製造方法によってポリイミドを形成するものであれば、その状態や形態に関して特に限定されない。パートI、パートIIおよびパートIIIの発明において、含有されるテトラカルボン酸成分、アミン成分(ジアミン、トリアミン)、および必要によりその他の成分が規定されており、従って、ポリイミド前駆体は、これらの規定される成分または化合物の混合物や、これらが形成する会合体や塩であってよい。また、存在する成分(化合物)がいくつかに分かれた状態(例えば異なる相で存在する)で存在していてもよく、例えば、一部の成分が固体で他の成分が液体や溶液である混合物のように、存在する成分の一部が他の成分と異なる状態であってもよい。これらは、ポリイミドを製造する工程で存在する成分が反応し、ポリイミドを形成するものであればよい。その形態は、特に限定されないが、粉状、塊状、ペレット、フィルムのような固体状、または液体、溶液、分散液のような液状、さらには、その他の物質との複合体であってもかまわない。
 <<パートI>>
 パートIの発明は、適切に高い架橋密度のポリイミドを容易に製造できるポリイミド前駆体と、耐熱性、高温での寸法安定性に優れる架橋ポリイミド、およびその製造方法を提供することを目的とする。
 本発明者らは、鋭意研究を行った結果、これまで一般的に使用されてきたポリイミド前駆体であるポリアミド酸でなく、テトラカルボン酸と3つ以上のアミノ基を有する化合物を用いることで、適切に高密度に架橋されたポリイミドを容易に製造できることを見出し、パートIの発明に至った。
 すなわち、パートIの発明は、以下の事項に関する。
 1. すくなくとも、テトラカルボン酸(a)と、3つ以上のアミノ基を有するアミン化合物(b)を含むことを特徴とするポリイミド前駆体。
 2. テトラカルボン酸(a)として、一般式(1)で表される化合物から選ばれるテトラカルボン酸を少なくとも1種類以上含むことを特徴とする上記1に記載のポリイミド前駆体。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
〔式中のXは、直接結合または、2価の基である。〕
 3. テトラカルボン酸(a)として、ピロメリット酸および一般式:
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
で表され且つXが直接結合または下記一般式(2)で示されるいずれかの2価の基であるテトラカルボン酸からなる群より選ばれる少なくとも1種類を含むことを特徴とする上記1または2に記載のポリイミド前駆体。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
〔式中のXは、2価の有機基である。〕
 4. 前記アミン化合物(b)として、一般式(3)で表されるアミン化合物から選ばれる少なくとも1種類を含むことを特徴とする上記1~3のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
〔式中のZは3価以上の基、ZおよびZは直接結合または2価の基であり、R31~R36はそれぞれ独立に1価の基を表し、nは3以上、mおよびmは0~4、mおよびm~mは0~3の整数を表す。〕
 5. さらに、ジアミン(C)を含むことを特徴とする上記1~4のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体。
 6. 前記アミン化合物(b)と、存在する場合にジアミン(C)とからなる全ジアミン成分の総モル量に対し、前記アミン化合物(b)が1モル%以上含まれることを特徴とする上記1~5のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体。
 7. ジアミン(C)として、一般式(4)で表される化合物から選ばれる少なくとも1種類を含むことを特徴とする上記5または6に記載のポリイミド前駆体。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
〔式中のYは直接結合または2価の基を表し、R~Rはそれぞれ独立に1価の基を表し、m~mは0~4の整数を表す。〕
 8. 粒子径5mm以下の粉末である上記1~7のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体。
 9. 上記1~7のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体と、溶媒(D)を含むことを特徴とするポリイミド前駆体溶液。
 10. 上記1~8のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体、または上記9の溶液中のポリイミド前駆体をイミド化処理する工程を含むことを特徴とする架橋構造を有するポリイミドの製造方法。
 11. テトラカルボン酸成分に由来する構造単位およびアミン成分に由来する構造単位を有するポリイミドであって、
 前記アミン成分に由来する構造単位が、3つ以上のアミノ基を有するアミン化合物(bi)およびジアミン(Ci)にそれぞれ由来する構造単位を、下記式の値が、0.01~1となる範囲で含むことを特徴とする架橋構造を有するポリイミド。
 [アミン化合物(bi)の総モル数]/([アミン化合物(bi)の総モル数]+[ジアミン(Ci)の総モル数])
 12. ガラス転移温度が180℃以上であることを特徴とする上記11記載の架橋構造を有するポリイミド。
 13. 膜厚10μmのフィルムで測定したときの50℃~200℃の平均線膨張係数が60ppm/K以下であること特徴とする上記11または12に記載の架橋構造を有するポリイミド。
 14. TGAで求めた5%重量減少温度が、450℃以上であることを特徴とする上記11~13のいずれか1項に記載の架橋構造を有するポリイミド。
 15. 上記11~14のいずれか1項に記載の架橋構造を有するポリイミドを含有することを特徴とするポリイミドフィルム。
 16. ガラス層、金属層、樹脂層、セラミック層のいずれかと、上記11~14のいずれか1項に記載の架橋構造を有するポリイミドを含むことを特徴とする積層体。
 <パートIの発明の効果>
 パートIの発明によって、適切に高い架橋密度のポリイミドを容易に製造できるポリイミド前駆体と、耐熱性、高温での寸法安定性、折り曲げ耐性に優れる架橋ポリイミド、そしてその製造方法を提供することができる。
 <パートIの発明の詳細>
 本出願の以下の説明において、3つ以上のアミノ基を有するアミン化合物(b)(トリ
アミン化合物、テトラアミン化合物等)については、単に「アミン化合物(b)」という場合がある。
 (ポリイミド前駆体)
 パートIの発明のポリイミド前駆体は、イミド化反応によりポリイミドを形成するポリイミド前駆体であって、すくなくとも、テトラカルボン酸(a)と、3つ以上のアミノ基を有するアミン化合物(b)を含む。
 ポリイミド前駆体は、テトラカルボン酸(a)として、好ましくは一般式(1)で表されるテトラカルボン酸から少なくとも1種類以上含む。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
 式中、Xは、直接結合または、2価の基である。
 テトラカルボン酸(a)として、ピロメリット酸および一般式:
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
で表され且つXが直接結合または下記一般式(2):
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
〔式中のXは、2価の有機基である。〕
で示されるいずれかの2価の基であるテトラカルボン酸からなる群より選ばれる少なくとも1種類以上を含む場合、耐熱性に優れることから、より好ましい。
 Xは、好ましくは、芳香環、脂環構造を含む2価の有機基であり、より好ましくは、一般式:
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
で表される2価の基から選ばれるが、R111~R124は、好ましくは、直接結合、および
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
からなる群より選ばれる基である。
 テトラカルボン酸(a)としては、好ましくは、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸、2,3,3’,4’-ビフェニルテトラカルボン酸、2,2’,3,3’-ビフェニルテトラカルボン酸、ピロメリット酸、オキシジフタル酸、3,3’,4,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸、m-ターフェニル-3,3’,4,4’-テトラカルボン酸、4,4’-(2,2-ヘキサフルオロイソプロピレン)ジフタル酸、2,2’-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)プロパン、4,4’-(ジメチルシラジイル)ジフタル酸、4,4’-(1,4-フェニレンビス(オキシ))ジフタル酸等であり、特に好ましくは3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸、2,3,3’,4’-ビフェニルテトラカルボン酸、ピロメリット酸、オキシジフタル酸、4,4’-(2,2-ヘキサフルオロイソプロピレン)ジフタル酸等である。
 3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸、2,3,3’,4’-ビフェニルテトラカルボン酸、ピロメリット酸等を使用すると耐熱性と寸法安定性が優れることから好ましく、4,4’-オキシジフタル酸、4,4’-(2,2-ヘキサフルオロイソプロピレン)ジフタル酸等を使用すると、溶解性とポリイミドの着色が低減できることから好ましい。
 パートIの発明のポリイミド前駆体は、特に限定されるわけではないが、3つ以上のアミノ基を有するアミン化合物(b)として、耐熱性に優れることから、芳香環が含まれる化合物を少なくとも1種類以上含むことが好ましく、一般式(3)で表される化合物を少なくとも1種類以上含むことがより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
 式中、Zは3価以上の基、ZおよびZは直接結合または2価の基であり、R~Rはそれぞれ独立に1価の基を表し、nは、Zの価数であって3以上の整数を表し、好ましくは6以下、より好ましくは3または4の整数であり、mおよびmは0~4、mおよびm~mは0~3の整数を表す。
 Zは、好ましくは、3価の窒素原子(N)、ヘテロ原子を有していてもよい3価以上の芳香族基またはヘテロ原子を有していてもよい3価以上の脂肪族基を表す。特に限定されないが、前記一般式(3)中のZは、一般式(5)で表される3価以上の基であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
 式中のR51~R100は、それぞれ独立に、直接結合または下記式(6)で表される2価の基の一つを表し、R101は水素または脂肪族基、芳香族基(どちらも好ましくは炭素数18程度まで)を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
 但し、R51~R53は、直接結合または式:
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
で示される基から選ばれることが好ましい。
 また特に限定されないが、前記一般式(3)中のZおよびZは、直接結合または上記式(6)で表される2価の基であることが好ましく、その中でも耐熱性に優れることから、直接結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、イソプロピリデン結合、ヘキサフルオロイソプロピリデン結合を有することがより好ましく、直接結合、エーテル結合であることが特に好ましい。
 式(3)中のR~Rとしては、炭素数12以下の芳香族基(例えば、フェニル基、ベンジル基、フェノキシ基)、炭素数1~6のアルキル基、フッ素、塩素等が好ましい。
 mは好ましくは0、1または2、mは好ましくは0または1、mは好ましくは0、1または2、mは好ましくは0または1、mおよびmは独立して好ましくは0または1である。
 アミン化合物(B)は、反応性に優れることから、その化学構造中のアミノ基と結合する環が複素環や、キノン構造を有さない芳香環であることが好ましく、また、テトラカルボン酸誘導体とイミド化反応以外の副反応を抑制できるため、その化学構造中に水酸基、チオール、2級アミンを含まないことがより好ましい。
 アミン化合物(B)の具体例としては、
 1,3,5-トリアミノベンゼン、4,4’,4”-トリアミノトリフェニルアミン、
 3,5-ジ(4-アミノフェノキシ)アニリン、3,5-ジ(3-メチル,4-アミノフェノキシ)アニリン、3,5-ジ(3-メトキシ,4-アミノフェノキシ)アニリン、3,5-ジ(2-メチル,4-アミノフェノキシ)アニリン、3,5-ジ(2-メトキシ,4-アミノフェノキシ)アニリン、3,5-ジ(3-エチル,4-アミノフェノキシ)アニリン、
 1,3,5-トリ(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3,5-トリ(3-メチル,4-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3,5-トリ(3-メトキシ,4-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3,5-トリ(2-メチル,4-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3,5-トリ(2-メトキシ,4-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3,5-トリ(3-エチル,4-アミノフェノキシ)ベンゼン、
 1,3,5-トリ(4-アミノフェニルアミノ)ベンゼン、1,3,5-トリ(3-メチル,4-アミノフェニルアミノ)ベンゼン、1,3,5-トリ(3-メトキシ,4-アミノフェニルアミノ)ベンゼン、1,3,5-トリ(2-メチル,4-アミノフェニルアミノ)ベンゼン、1,3,5-トリ(2-メトキシ,4-アミノフェニルアミノ)ベンゼン、1,3,5-トリ(3-エチル,4-アミノフェニルアミノ)ベンゼン、
 1,3,5-トリ(4-アミノフェニル)ベンゼン、1,3,5-トリ(3-メチル,4-アミノフェニル)ベンゼン、1,3,5-トリ(3-メトキシ,4-アミノフェニル)ベンゼン、1,3,5-トリ(2-メチル,4-アミノフェニル)ベンゼン、1,3,5-トリ(2-メトキシ,4-アミノフェニル)ベンゼン、1,3,5-トリ(3-エチル,4-アミノフェニル)ベンゼン、
 1,3,5-トリ(4-アミノフェニル)アミン、1,3,5-トリ(3-メチル,4-アミノフェニル)アミン、1,3,5-トリ(3-メトキシ,4-アミノフェニル)アミン、1,3,5-トリ(2-メチル,4-アミノフェニル)アミン、1,3,5-トリ(2-メトキシ,4-アミノフェニル)アミン、1,3,5-トリ(3-エチル,4-アミノフェニル)アミン、
 トリス(4-(4-アミノフェノキシ)フェニル)メタン、トリス(4-(3-メチル,4-アミノフェノキ)フェニル)メタン、トリス(4-(3-メトキシ,4-アミノフェノキシ)フェニル)メタン、トリス(4-(2-メチル,4-アミノフェノキシ)フェニル)メタン、トリス(4-(2-メトキシ,4-アミノフェノキシ)フェニル)メタン、トリス(4-(3-エチル,4-アミノフェノキシ)フェニル)メタン、
 トリス(4-(4-アミノフェノキシ)フェニル)エタン、トリス(4-(3-メチル,4-アミノフェノキシ)フェニル)エタン、トリス(4-(3-メトキシ,4-アミノフェノキシ)フェニル)エタン、トリス(4-(2-メチル,4-アミノフェノキシ)フェニル)エタン、トリス(4-(2-メトキシ,4-アミノフェノキシ)フェニル)エタン、トリス(4-(3-エチル,4-アミノフェノキシ)フェニル)エタン、
 4-(4-アミノフェノキシ)ベンゼン-1,3-ジアミン、4-(4-アミノフェノキシ)ベンゼン-2,4-ジアミン、
 3,5-ジアミノ-N-(4-アミノフェニル)ベンズアミド、3,5-ジアミノ-N-(4-アミノフェニル)-4-メトキシベンズアミド、
 3,3’-ジアミノベンジジン
等を挙げることができ、好ましくは、1,3,5-トリアミノベンゼン、4,4’,4”-トリアミノトリフェニルアミン、1,3,5-トリ(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、4-(4-アミノフェノキシ)ベンゼン-1,3-ジアミン、3,5-ジアミノ-N-(4-アミノフェニル)ベンズアミド、3,5-ジアミノ-N-(4-アミノフェニル)-4-メトキシベンズアミドが好ましく、4,4’,4”-トリアミノトリフェニルアミン、4-(4-アミノフェノキシ)ベンゼン-1,3-ジアミン、より好ましくは、
4,4’,4”-トリアミノトリフェニルアミン、4-(4-アミノフェノキシ)ベンゼン-1,3-ジアミン、3,5-ジアミノ-N-(4-アミノフェニル)ベンズアミド、3,5-ジアミノ-N-(4-アミノフェニル)-4-メトキシベンズアミドである。また、これらのアミン化合物は単独あるいは2種以上混合して用いられてもよい。
 パートIの発明のポリイミド前駆体は、必要に応じて、ジアミン(C)を含むことができる。特に限定されないが、ジアミン(C)として、一般式(4)で表される化合物のうち少なくとも1種類以上含まれることが耐熱性に優れることから好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
 式中、Yは直接結合または2価の基を表し、R~Rはそれぞれ独立に1価の基を表し、m~mは0~4の整数を表す。
 また特に限定されないが、前記一般式(4)中のYは、前述の式(6)で表される基、下記一般式(7)で表される2価の基から選ばれることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
 式中、Rはそれぞれ独立に(一分子内でも独立に)、直接結合または前記式(6)で表される2価の基を表す。Rとしては、耐熱性に優れることから、直接結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、イソプロピリデン結合、ヘキサフルオロイソプロピリデン結合を有することがより好ましく、直接結合、エーテル結合であることが特に好ましい。
 Yとしては、耐熱性に優れることから、直接結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、イソプロピリデン結合、ヘキサフルオロイソプロピリデン結合を有することがより好ましく、直接結合、エーテル結合であることが特に好ましい。
 R~Rは、炭素数12以下の芳香族基(例えば、フェニル基、ベンジル基、フェノキシ基)、炭素数1~6のアルキル基、フッ素、塩素等が好ましい。
 m~mは好ましくは0、1または2である。
 ジアミン(C)の具体例としては、例えば、パラフェニレンジアミン、メタフェニレンジアミン、2,5-ジアミノトルエン、2,6-ジアミノトルエン、4,4’-ジアミノビフェニル、3,3’-ジメチル-4,4’-ジアミノビフェニル、3,3’-ジメトキシ-4,4’-ジアミノビフェニル、2,2-ビス(トリフルオロメチル)-4、4’-ジアミノビフェニル、3,3’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、2,2-ビス-(4-アミノフェニル)プロパン、3,3’-ジアミノジフェニルスルフィド、4,4’-ジアミノジフェニルスルフィド、3,3’-ジアミノジフェニルエーテル、3,4’-ジアミノジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、1,5-ジアミノナフタレン、4,4’-ジアミノジフェニルジエチルシラン、4,4’-ジアミノジフェニルシラン、4,4’-ジアミノジフェニルエチルホスフィンオキシド、1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2-ビス(3-アミノフェニル)-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、2,2-ビス(4-アミノフェニル)-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、9,9-ビス(4-アミノフェニル)フルオレン等が挙げられる。なお、これらのジアミン化合物は単独あるいは2種以上混合して用いられてもよい。なお、これらの中でも、パラフェニレンジアミン、メタフェニレンジアミン、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、3,4’-ジアミノジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン)、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパンが好ましい。
 パートIの発明のポリイミド前駆体において、[アミン化合物(b)の総モル数]/([アミン化合物(b)の総モル数]+[ジアミン(C)の総モル数])の値が、0.01~1であることが好ましく、0.03~1であることがより好ましく、0.1~1であることが特に好ましい。この範囲であれば、高温での寸法安定性や、耐溶剤性に優れる。
 パートIの発明のポリイミド前駆体は、特に限定されるわけではないが、テトラカルボン酸成分の総カルボン酸基数(モル数)/アミン成分の総アミン基数(モル数)の値は、1~3が好ましく、1.6~2.4がより好ましく、1.8~2.2が更に好ましく、実質的に2であることが特に好ましく。この範囲であれば、耐熱性や、高温での寸法安定性、耐溶剤性に優れる。
 パートIの発明のポリイミド前駆体は、ポリイミドを形成した場合の架橋点間分子量αが、好ましくは500~100,000g/mol、より好ましくは1,300~10,000の範囲内であることが、更に好ましくは1,500~5,000、特に好ましくは1,800~4,000である。架橋点間分子量αは、樹脂の伸度と概ね正の相関があり、樹脂弾性率と概ね負の相関があるため、この範囲であれば、高伸度、高弾性率、折り曲げ耐性、高温での寸法安定性が両立できる。ここでの架橋点間分子量αとは、公知の方法(例えば、高分子化学 P.J.フローリ著、岡小天・金丸競訳、丸善株式会社、昭和31発行に記載の方法)を好適に用いることができ、その値は、理論値として求められる値であっても、粘弾性測定などの実験値から求められる値であっても良い。
 理論値として求められる架橋点間分子量αについて、以下に述べる。
 樹脂中に、k種(kは整数)のモノマーX成分が含まれる場合、このうちi番目(iは1~kの整数)のモノマーX成分の配合量をa(単位:g)とする。また、樹脂中に、l種(lは整数)のモノマーY成分が含まれる場合、このうちj番目(jは1~lの整数)のモノマーY成分の配合量をb(単位:g)とすると、全樹脂の重量W(単位:g)は式(1)で求められる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000037
 i番目のモノマーXの官能基当量をE(単位:g/mol)、i番目のモノマーX 1分子が持つ官能基の数をxとする。また、j番目のモノマーYの官能基当量をH(単位:g/mol)、j番目のモノマーY 1分子が持つ官能基の数をyとする。全樹脂に含まれる架橋点の数c(単位:mol)は、モノマーXとモノマーYとの配合比が、化学量論量の場合、モノマーYが過剰の場合、および、モノマーXが過剰の場合で求め方が異なる。どの求め方を採用するかは、式(2)により求められる、モノマーXとモノマーYとの配合比を表す配合比指数βにより決定する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000038
 ここで、β=1である場合は、モノマーXとモノマーYとの配合比が化学量論量であり、架橋点の数cは式(3)により求められる。この架橋点の数cは、反応し得る全てのモノマーXの官能基と全てのモノマーYの官能基とが反応することによって生じる架橋点の数を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000039
 また、β>1の場合は、モノマーYが化学量論量よりも過剰であり、架橋点の数cは式(4)により求められる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000040
 また、β<1の場合は、モノマーXが化学量論量よりも過剰であり、架橋点の数cは式(5)により求められる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000041
 ここで、E×x、およびH×y
はそれぞれi番目のモノマーX成分の平均分子量、およびj番目のモノマーY成分の平均分子量を表す。また、(x-2)は、i番目のモノマーX成分1分子中の全てのモノマーXの官能基がモノマーYと反応し、架橋構造に取り込まれることによって生じる架橋点の数を表す。また、(y-2)はj番目のモノマーY成分1分子中の全ての官能基がモノマーXと反応し、架橋構造に取り込まれることによって生じる架橋点の数を表す。例えば、i番目のモノマーXが4官能モノマーXの場合、1分子は4個の官能基を持ち、生じる架橋点の数は4-2の2個となる。また、j番目のモノマーY成分が1分子当たり2個の官能基を持つ場合、生じる架橋点の数は2-2の0個となる。
 上述した式により求められたW、cを用い、架橋点間分子量αは式(6)により求められる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000042
 なお、ポリイミドの場合では、モノマーXをテトラカルボン酸成分、モノマーYをアミン成分(ジアミンおよび3つ以上のアミノ基を有する化合物)とすると、モノマーXの配合量をa、モノマーYの配合量をbは、イミド化した場合に生じる脱離成分(例えば、水やアルコール)の重量を除した値を用いる。また、モノマーX(テトラカルボン酸成分)は、イミド環を形成する2つのカルボン酸基を1つの官能基として計算する。
 実験値から求められる値として求められる架橋点間分子量αについて、以下に述べる。
 粘弾性測定結果より、貯蔵弾性率が極小となる点での絶対温度T、及び極小点における貯蔵弾性率E’を求め、樹脂の密度ρ、気体定数Rとした場合、架橋点間分子量αは、式(7)により求めることもできる。ポリイミド組成中にケトン結合や不飽和結合などの付加的な架橋形成を生じる官能基を含む場合には、実験値より求めることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000043
 パートIの発明の架橋点間分子量αは、特に限定されるわけではないが、前述の式(6)より求められる値を好適に採用することができる。ポリイミド組成中にケトン結合や不飽和結合などの付加的な架橋形成を生じる官能基を含むとき、通常は、上記のとおり実験値より求めることが好ましいが、簡易的に、前述の式(6)より求められる値を架橋点間分子量αとして採用してもよい。付加的な架橋形成官能基は、アミン成分中のアミノ基(-NH)の数の75%以下が好ましく、より好ましくは50%以下であり、さらに好ましくは25%以下、特に好ましくは10%以下である。
 パートIの発明のポリイミド前駆体の平均分子量は、特に限定されるわけではないが、実質上、低分子化合物で構成されるため、50~5,000が好ましく、100~2,000がより好ましく、200~1,000が特に好ましい。この範囲であるとポリイミド前駆体が低分子量であり、低粘度と高固形分を両立したポリイミド前駆体溶液が得られる。ここでの分子量は、GPC測定による数平均分子量や、TOF-MASS,FAB-MASSから求められる分子量であってもよく、その他公知の分析方法の値を採用しても良い。また、実質的に重合が生じない条件では、ポリイミドを形成する各成分の平均分子量を好適に採用することもできる。
 パートIの発明のポリイミド前駆体の対数粘度(ηinh)は、実質上、低分子化合物で構成されるため、0.2未満であり、好ましくは0.15未満、より好ましくは0.1未満である。この範囲であるとポリイミド前駆体が低分子量であり、低粘度と高固形分を両立したポリイミド前駆体溶液が得られる。
 パートIの発明のポリイミド前駆体は、実質上、低分子化合物で構成されるため、ポリアミド酸の繰り返し単位を含まないことが好ましい。ポリアミド酸の繰り返し単位の確認は、NMRやFT-IR等の公知の分析方法を好適に用いることができる。ポリアミド酸の繰り返し単位(モル)の比率は、アミン成分のアミノ基の総モル(もしくは、テトラカルボン酸成分のカルボニル基の総モルの1/2倍)あたり、0.05モル/モル以下、好ましく0.03モル/モル以下、より好ましくは0.01モル/モル以下であり、特に好ましくは、検出下限以下である。この範囲であるとポリイミド前駆体が低分子量であり、低粘度と高固形分を両立したポリイミド前駆体溶液が得られる。
 パートIの発明のポリイミド前駆体は、粉末であってもよく、好ましくは平均粒子径5mm以下、より好ましくは1mm以下、特に好ましくは0.5mm以下であり、最大粒子径5mm以下、より好ましくは1mm以下、特に好ましくは0.5mm以下である。これらの粒子径は、レーザー回折法、画像イメージング法、重力沈降法などの公知の測定方法を用い、公知の解析方法を使用した結果を用いることができる。
 (ポリイミド前駆体溶液)
 ポリイミド前駆体溶液については、パートI、パートIIおよびパートIIIをまとめて説明する。この項目において、特に区別しない限り、「ポリイミド前駆体」はパートI、パートIIおよびパートIIIの全てのポリイミド前駆体を意味する。
 ポリイミド前駆体は、溶液および分散液の形態(合わせてポリイミド前駆体溶液という)とすることも好ましい。即ち、ポリイミド前駆体溶液は、前記のポリイミド前駆体が溶解した溶液もしくは、前記のポリイミド前駆体が分散した液であればよく、前記のポリイミド前駆体の粉末を溶媒に溶解、分散したり、溶媒にテトラカルボン酸成分とアミン成分をそれぞれ別個に投入し、溶解、分散することでも得られる。
 ポリイミド前駆体(および溶液)には、必要に応じて、化学イミド化剤(無水酢酸などの酸無水物や、ピリジン、イソキノリンなどのアミン化合物)、酸化防止剤、フィラー(無機粒子、有機粒子)、染料、顔料、シランカップリング剤などのカップリング剤、プライマー、難燃材、消泡剤、レベリング剤、レオロジーコントロール剤(流動補助剤)、剥離剤、界面活性剤などを添加することができる。これらの添加剤は、ポリイミド前駆体が溶液状態でなく、一部または全部が固体の場合、例えば粉体の場合であっても添加することができる。
 ポリイミド前駆体溶液で用いる溶剤(D)としては、好ましくは、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン等のアミド溶媒、γ-ブチロラクトン、γ-バレロラクトン、δ-バレロラクトン、γ-カプロラクトン、ε-カプロラクトン、α-メチル-γ-ブチロラクトン等の環状エステル溶媒、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート溶媒、トリエチレングリコール等のグリコール系溶媒、フェノール、o-クレゾール、m-クレゾール、p-クレゾール、3-クロロフェノール、4-クロロフェノール等のフェノール系溶媒、アセトフェノン、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、スルホラン、ジメチルスルホキシドなどを用いることができる。さらに、その他の一般的な有機溶剤、即ち酢酸ブチル、酢酸エチル、酢酸イソブチル、プロピレングリコールメチルアセテート、エチルセロソルブ、プチルセロソルブ、2-メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、ジブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロへキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、ブタノール、エタノール、キシレン、トルエン、クロルベンゼン、ターペン、ミネラルスピリット、石油ナフサ系溶媒なども用いることができる。
 ポリイミド前駆体溶液は、好ましくは低分子化合物で構成されるため、高濃度でも低粘度の溶液となる。特に限定されるわけではないが、30℃における溶液のE型粘度計で測定される粘度が、好ましくは、1000Pa・sec以下、より好ましくは0.01~500Pa・sec、特に好ましくは0.05~300Pa・secである。この範囲であれば、その後のポリイミド製造等のハンドリング性に優れる。一方、固形分濃度(好適には実施例記載の方法で求められる)は、1%以上が好ましく、5%~80%がより好ましく、10%~50%が特に好ましい。
 ポリイミド前駆体溶液は、フィルム製造用ポリイミド前駆体として好適に用いることができる。特に限定されるわけではないが、ドープ(ポリイミド前駆体溶液)の30℃における粘度は、好ましくは、1000Pa・sec以下、より好ましくは10~500Pa・sec、特に好ましくは50~300Pa・secである。一方、固形分濃度(好適には実施例記載の方法で求められる)は、5%以上が好ましく、10%~80%がより好ましく、20%~50%が特に好ましい。この範囲であれば、その後のポリイミドフィルム製造時のハンドリング性に優れる。
 ポリイミド前駆体は、耐熱性塗料(塗料の原料、添加剤)として好適に用いることができる。特に限定されるわけではないが、ポリイミド前駆体は低分子化合物で構成されるため、一般的なポリイミド前駆体に比べ、高濃度且つ低粘度の塗料が得られる。そのため例えば、ディップコート、バーコート、スピンコート、ブレードコート、ドクターコート、ダイコートグラビアコート、スプレーコート、超音波スプレーコート、静電塗装などの各種コーティング方法や、インクジェット、凸版、凹版、平版、孔版、スクリーンなどの各種印刷方法に好適に用いることができる。塗料に使用される溶剤は、例えばポリイミド前駆体溶液に関して説明した前述の溶剤を使用することができる。
 (ポリイミド前駆体・無機粒子複合材)
 パートI、パートIIおよびパートIIIの発明のポリイミド前駆体(および溶液)には、必要に応じて、無機粒子(E)を含むことができる。無機粒子として、例えば、シリカ、アルミナ(酸化アルミニウム)、ベリリア(酸化ベリリウム)、マグネシア(酸化マグネシウム)、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、膨張性黒鉛、カーボンナノチューブが挙げられる。分散性や着色性から、好ましくは、アルミナ(酸化アルミニウム)、マグネシア(酸化マグネシウム)、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化ホウ素が好適である。これらは、1種のみ使用しても良く、または2種以上を混合して用いても良い。また、無機粒子(E)の粒子径としては、レーザー回折粒度分布計で求められる平均粒子径が20μm以下が好ましく、10μm以下がより好ましく、5μm以下であることが更に好ましい。また、無機粒子は、ポリイミド前駆体溶液の固形分100質量部に対して、好ましくは1質量部以上、好ましくは10質量部以上、更に好ましくは20質量部以上、特に好ましくは50質量部以上用いることが好ましい。
(架橋構造を有するポリイミド)
 パートIの発明の架橋構造を有するポリイミドは、テトラカルボン酸成分に由来する構造単位およびアミン成分に由来する構造単位を有するポリイミドであって、前記アミン成分に由来する構造単位が、3つ以上のアミノ基を有するアミン化合物(bi)およびジアミン(Ci)にそれぞれ由来する構造単位を、下記式の値が、0.01~1となる範囲で含む。
 [アミン化合物(bi)の総モル数]/([アミン化合物(bi)の総モル数]+[ジアミン(Ci)の総モル数])
 ここで、式、[アミン化合物(bi)の総モル数]/([アミン化合物(bi)の総モル数]+[ジアミン(Ci)の総モル数])の値は、好ましくは0.1~1、より好ましくは0.2~1、更に好ましくは0.25~1、特に好ましくは0.5~1である。この範囲であれば、高い架橋密度を達成できるため、ガラス転移温度が高く、寸法安定性に優れる。
 パートIの発明の架橋構造を有するポリイミドは、特に限定されるわけではないが、前述のポリイミド前駆体により好適に製造される。従って、テトラカルボン酸成分は、前述のテトラカルボン酸(a)が好ましい。また同様に、3つ以上のアミノ基を有するアミン化合物(bi)は、前述の3つ以上のアミノ基を有するアミン化合物(b)が好ましく、またジアミン(Ci)は、前述のジアミン(C)が好ましい。
 架橋構造を有するポリイミドは、架橋点間分子量αが、好ましくは500~100,000g/mol、より好ましくは1,300~10,000の範囲内であることが、更に好ましくは1,500~5,000、特にこのましくは1,800~4,000である。この範囲であれば、高温での寸法安定性と、折り曲げ耐性に優れる。
 架橋構造を有するポリイミドは、特に限定されるわけではないが、ガラス転移温度が180℃以上、好ましくは200℃以上、より好ましくは220℃以上、更に好ましくは230℃以上、特に好ましくは260℃以上である。この範囲であると寸法安定性に優れることから好ましい。
 一方で、パートIの発明の架橋構造を有するポリイミドは、加熱時の変形が小さいことから、比較的ガラス転移温度が低いポリイミドでも高温で使用が可能であり、ガラス転移温度としては、180℃~300℃が好ましく、180℃~260℃がより好ましく、180℃~240℃が更に好ましく、180℃~230℃が特に好ましい。
 ここでのガラス転移温度とは、例えば、熱可塑性ポリイミド層のみのフィルムや多層ポリイミドフィルムを用い、動的粘弾性測定(DMS)や、熱機械分析(TMA)、示差走査熱量測定(DSC)、示差熱分析(DTA)より求められ公知の条件、解析方法を用いたいずれのガラス転移温度を採用してもよい。
 架橋構造を有するポリイミドは、適切に高密度な架橋構造を有することができるため、熱膨張が小さく、50℃~200℃における平均線膨張係数(Tgが200℃以下の場合は、50℃~Tgにおける平均線膨張係数)は、特に限定されるわけではないが、70ppm/K以下、好ましくは60ppm/K未満、より好ましくは55ppm/K以下、50ppm/K以下、45ppm/K以下、更に好ましくは40ppm/K以下、特に好ましくは10ppm/K以下である。
 架橋構造を有するポリイミドは、適切に高密度な架橋構造を有することができるため、耐熱性に優れ、TGAで求めた5%重量減少温度は、好ましくは430℃以上、より好ましくは450℃以上、さらに好ましくは470℃以上、特に好ましくは500℃以上、パートIの発明にあっては、最も好ましくは530℃以上である。
 架橋構造を有するポリイミドは、適切に高密度な架橋構造を有することができるため、耐溶剤性に優れる。限定されるわけではないが、好ましくは前述のポリイミド前駆体溶液で用いる溶剤(D)への耐溶剤性を有し、より好ましくはNMPなどのアミド系溶剤への耐溶剤性を有する。
 架橋構造を有するポリイミドは、特に限定されるわけではないが、耐熱性と無色透明性を有するため、ディスプレイ、照明、光学機器、太陽光発電の基板に好適に用いることができる。特に限定されるわけではないが、膜厚10μmとした時の全光透過率は、好ましくは70%以上、より好ましくは80%以上、特に好ましくは90%以上である。一方、膜厚10μmとした時の420nmの光透過率は、60%以上、好ましくは70%以上、より好ましくは75%以上、特に好ましくは80%以上である。
 架橋構造を有するポリイミドは、種々の形状が可能であるが、好ましい形態の一つはフィルムである。即ち、発明のポリイミドフィルムは、発明の架橋構造を有するポリイミドを含み、フィルムを構成する樹脂成分がこのポリイミドから実質的になることが好ましい。好ましくは、生産性に優れるため、膜厚1~250μmであり、より好ましくは5~150μm、特に好ましくは、7.5~75μmである。
 発明の積層体は、ガラス層、金属層、樹脂層、セラミック層のいずれかと、発明の架橋ポリイミドを積層した積層体である。この積層体の膜厚は、生産性に優れるため、膜厚5~150μmがより好ましく、膜厚10~150μmが特に好ましい。
(架橋構造を有するポリイミドの製造方法)
 架橋構造を有するポリイミドは、前述のポリイミド前駆体をイミド化することで製造される。特に限定されるわけではないが、製造方法としては、発明のポリイミド前駆体を用いる以外は、公知のポリイミド製造方法を好適採用することができる。
 具体的には、上記で得られたポリイミド前駆体(溶液)を、熱的または化学的方法により重縮合反応と閉環反応(イミド環の形成)を行うことで、ポリイミドを得るが、ポリイミド前駆体を熱処理する熱的方法(熱イミド化法)、脱水剤を用いる化学的方法(化学イミド化法)のいずれも用いられる。また、減圧下で加熱してイミド化する方法も用いることができる。以下に各方法について説明する。
 熱的方法として、上記ポリイミド前駆体を加熱処理により重縮合反応およびイミド化反応を進行させると同時に、溶媒を蒸発させる等により行う方法を例示することができる。この方法により、固形のポリイミドを得ることができる。加熱の条件は特に限定されないが、200℃以下の温度で3分~120分の時間範囲で有機溶媒を除去した後、400℃以下の温度で1分~200分の時間範囲で行うのが好ましい。
 また化学的方法として、上記ポリイミド前駆体に化学量論以上の脱水剤と触媒を加えることで重縮合反応およびイミド化反応を進行させると同時に、有機溶媒を蒸発させる等により行う方法を例示することができる。この方法により、固形のポリイミドを得ることができる。化学的方法に使用される脱水剤としては、例えば無水酢酸等の脂肪族酸無水物、無水安息香酸等の芳香族酸無水物などが挙げられる。また触媒としては、例えばトリエチルアミンなどの脂肪族第3級アミン類、ジメチルアニリン等の芳香族第3級アミン類、ピリジン、α-ピコリン、β-ピコリン、γ-ピコリン、イソキノリン等の複素環式第3級アミン類などが挙げられる。化学的方法の際の条件は100℃以下の温度が好ましく、有機溶媒の蒸発は、200℃以下の温度で約5分~120分の時間の範囲で行うのが好ましい。
 また、ポリイミドを得るための別の方法として、上記の熱的または化学的方法において溶媒の蒸発を行わない方法もある。具体的には、溶媒中で熱的イミド化処理または脱水剤による化学的イミド化処理を行って得られるポリイミド溶液を貧溶媒中に投入して、ポリイミド樹脂を析出させ、未反応モノマーを取り除いて精製、乾燥させ固形のポリイミドを得る方法である。貧溶媒としては、溶媒とは良好に混合するがポリイミドは溶解しにくい性質のものを選択し、例示すると、アセトン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ベンゼン、メチルセロソルブ、メチルエチルケトン等が挙げられるがこれに限定されない。
 また、減圧下で加熱して重縮合反応およびイミド化反応を進行させる方法も挙げられる。この方法によれば、重縮合およびイミド化によって生成する水(パートIIの発明にあっては水および/またはアルコール)を積極的に系外に除去できるので、ポリイミド前駆体の加水分解を抑えることが可能で高分子量のポリイミドが得られる。
 減圧下で加熱イミド化する方法の加熱条件は80~400℃が好ましいが、イミド化が効率よく行われ、しかも水が効率よく除かれる100℃以上がより好ましく、さらに好ましくは120℃以上である。最高温度は目的とするポリイミドの熱分解温度以下が好ましく、通常のイミド化の完結温度すなわち250~350℃程度が通常適用される。減圧する圧力の条件は、低圧条件が好ましいが、具体的には0.9~0.001気圧、好ましくは0.8~0.001気圧、より好ましくは0.7~0.01気圧である。
 (ポリイミド前駆体の用途、積層体、その製造方法)
 パートI、パートII、およびパートIIIの発明のポリイミド前駆体は、種々の用途が可能であり、例えば前述のとおりポリイミドフィルムの製造用、ポリイミド積層体におけるポリイミド層製造用のコーティング材料、電池その他の各種用途におけるバインダーおよび接着剤として使用することができる。
 ポリイミド積層体は、例えばガラス、金属、樹脂、セラミック等の材料で形成された基材層または基体と、ポリイミド層とが積層された構造である。ここでポリイミド層は、基材層または基体の表面を部分的に被覆していてもよい。製造方法としては、ポリイミド前駆体からポリイミドフィルムを製造し、前記基材層または基体と貼り合わせる方法や、前記基材層または基体の表面の少なくとも一部にポリイミド前駆体溶液を塗布した後、イミド化して積層体とする方法が挙げられる。本発明のポリイミド前駆体は、優れた特性のポリイミドを容易に製造できるので、耐熱電線絶縁層の製造、ディスプレイ用基板、タッチパネル用基板、太陽電池用基板、薄膜半導体用基板の製造、摺動部品の製造、フレキシブル回路基板の製造用途において好適に使用することができる。
 <<パートII>>
 パートIIの発明は、適切に高い架橋密度のポリイミドを容易に製造できるポリイミド前駆体と、耐熱性、高温での寸法安定性、折り曲げ耐性に優れるに優れる架橋ポリイミド、およびその製造方法を提供することを目的とする。
 本発明者らは、鋭意研究を行った結果、特定のテトラカルボン酸エステル化合物と、特定の3つ以上のアミノ基を有する化合物の組合せにより、フィルム、塗膜に適切な架橋密度のポリイミドを製造できるポリイミド前駆体を見出し、パートIIの発明を完成した。
すなわち、パートIIの発明は、以下の事項に関する。
 1. すくなくとも、
 一般式(II-1)で表される化合物から選ばれるテトラカルボン酸エステル誘導体(A)と、
 一般式(II-3)で表される化合物から選ばれる、3つ以上のアミノ基を有するアミン化合物(B)
を含むことを特徴とするポリイミド前駆体。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
〔式中のXは直接結合もしくは、下記式(II-2)で示される基から選ばれる2価の基を表し、R11~R30は、それぞれ独立に水素、炭素数1~8の1価の脂肪族基(ただし、テトラカルボン酸となる場合を除く)を表す。〕
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
〔式中のXは、2価の有機基である。〕
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
〔Zは3価の窒素原子、3価以上の芳香族基、3価以上の脂肪族基、ZおよびZは直接結合または2価の基であり、R31~R36は1価の芳香族基、脂肪族基、ハロゲン、nは3以上、mおよびmは0~4、mおよびm~mは0~3の整数を表す。〕
 2. さらに、ジアミン(C)を含むことを特徴とする上記1に記載のポリイミド前駆体。
 3. 下記式で示される前記アミン化合物(B)の割合が、0.01~1の範囲であることを特徴とする上記2に記載のポリイミド前駆体。
 [前記アミン化合物(B)の総モル数]/([前記アミン化合物(B)の総モル数]+[ジアミン(C)の総モル数])
 4. ポリイミドを形成した場合の架橋点間分子量αが、500~10,000g/molの範囲内であることを特徴とする上記1~3のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体。
 5. ジアミン(C)として、一般式(II-4)で表される化合物から選ばれる少なくとも1種類以上を含むことを特徴とする上記2又は3に記載のポリイミド前駆体。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
〔式中のYは直接結合または2価の基を表し、R41~R43はそれぞれ独立に1価の芳香族基、脂肪族基、ハロゲンを表し、m~mは0~4の整数を表す。〕
 6. 上記1~5のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体と、溶媒(D)を含むことを特徴とするポリイミド前駆体溶液。
 7. 上記1~5のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体を含むことを特徴とするフィルム製造用ポリイミド前駆体溶液。
 8. 上記1~5のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体を含むことを特徴とするポリイミド塗膜形成用塗料。
 9. 上記1~5のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体をイミド化して架橋構造を有するポリイミドを製造することを特徴とするポリイミドの製造方法。
 10. テトラカルボン酸成分に由来する構造単位およびアミン成分に由来する構造単位を有するポリイミドであって、
 前記アミン成分に由来する構造単位が、3つ以上のアミノ基を有するアミン化合物(Bi)およびジアミン(Ci)にそれぞれ由来する構造単位を、下記式の値が、0.01~1となる範囲で含むことを特徴とする架橋構造を有するポリイミド。
 [アミン化合物(Bi)の総モル数]/([アミン化合物(Bi)の総モル数]+[ジアミン(Ci)の総モル数])
 11. 架橋点間分子量αが、500~10,000g/molの範囲内であることを特徴とする上記10に記載の架橋構造を有するポリイミド。
 12. 架橋構造を有するポリイミドのガラス転移温度が200℃以上であることを特徴とする上記10又は11に記載の架橋構造を有するポリイミド。
 13. 膜厚10μmのフィルムで測定したときの50℃~200℃の平均線膨張係数が60ppm/K以下であることを特徴とする上記10~12のいずれか1項に記載の架橋構造を有するポリイミド。
 14. TGAで求めた5%重量減少温度が、430℃以上であることを特徴とする上記10~13のいずれか1項に記載の架橋構造を有するポリイミド。
 15. 上記10~14のいずれか1項に記載の架橋構造を有するポリイミドを含むことを特徴とするフィルム。
 16. ガラス層、金属層、樹脂層、セラミック層のいずれかと、上記10~14のいずれか1項に記載の架橋構造を有するポリイミドを含むことを特徴とする積層体。
 <パートIIの発明の効果>
 パートIIの発明のポリイミド前駆体を用いることにより、フィルム、塗膜に適切な架橋密度のポリイミドを製造することができる。そして、パートIIの発明の架橋構造を有するポリイミドを用いることにより、耐熱性、高温での寸法安定性、折り曲げ耐性に優れるものを提供することができる。さらにこれらをフィルム等に用いることにより、耐熱性、高温での寸法安定性、折り曲げ耐性に優れるものを提供することができる。
 <パートIIの発明の詳細>
 パートIIの発明の説明において、一般式(II-1)で表される化合物から選ばれるテトラカルボン酸エステル誘導体(A)については、単に「テトラカルボン酸エステル誘導体(A)」、一般式(II-3)で表される化合物から選ばれる、3つ以上のアミノ基を有するアミン化合物(B)(トリアミン化合物、テトラアミン化合物等)については、単に「アミン化合物(B)」という場合がある。
(ポリイミド前駆体)
 パートIIの発明のポリイミド前駆体は、化学反応によりポリイミドを形成するポリイミド前駆体であって、前述のとおり、すくなくともテトラカルボン酸エステル誘導体(A)と、アミン化合物(B)を含む。
 テトラカルボン酸エステル誘導体(A)は、下記一般式(II-1)で示される化合物から選ばれる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
 式中のXは直接結合もしくは、下記式(II-2)で示される基から選ばれる2価の有機基を表し、R11~R30は、それぞれ独立に水素、炭素数1~8の1価の脂肪族基(ただし、テトラカルボン酸となる場合を除く)を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
 式中のXは、2価の有機基を表す。好ましくは、芳香環、脂環構造を有する2価の有機基であり、より好ましくは、一般式:
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
で表される2価の基から選ばれるが、R111~R124は、直接結合、および
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
からなる群より選ばれる基である。
 フィルム、塗膜に適切な架橋密度のポリイミドを得るために、使用されるテトラカルボン酸エステル誘導体(A)は、ケトン結合を分子構造中に有しないことが好ましい。例えば、ベンゾフェノンテトラカルボン酸エステル化合物を用いると、製膜性が劣り、フィルムを製造することが困難になる(実施例参照)。
 テトラカルボン酸エステル誘導体(A)としては、具体的には、パートIにおいてテトラカルボン酸(a)として例示したもののエステル誘導体が挙げられ、より好ましくは3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸、2,3,3’,4’-ビフェニルテトラカルボン酸、ピロメリット酸、オキシジフタル酸、4,4’-(2,2-ヘキサフルオロイソプロピレン)ジフタル酸等のエステル誘導体である。
 3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸、2,3,3’,4’-ビフェニルテトラカルボン酸、ピロメリット酸等のエステル誘導体を使用すると耐熱性と寸法安定性が優れることから好ましく、4,4’-オキシジフタル酸、4,4’-(2,2-ヘキサフルオロイソプロピレン)ジフタル酸等のエステル誘導体を使用すると、溶解性とポリイミドの着色が低減できることから好ましい。
 また、これらのテトラカルボン酸エステル誘導体は、モノエステル、ジエステル、トリエステル、テトラエステル誘導体のいずれも好適に使用することができるが、ジエステル誘導体、テトラエステル誘導体が容易に製造できることから好ましく、また、ジエステル誘導体が反応性に優れることから、より好ましい。
 また、一般式(II-1)中、R11~R30が取り得る炭素数1~8の1価の脂肪族基としては、炭素数1~3のアルキルが好ましく、特に炭素数1~3のn-アルキルが好ましい。
 アミン化合物(B)は、3つ以上のアミノ基を有し、一般式(II-3)で表される化合物から選ばれる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
 式中のZは3価の窒素原子(N)、環員にヘテロ原子を有していても良い3価以上の芳香族基、またはヘテロ原子を有していてもよい3価以上の脂肪族基を表し、ZおよびZは直接結合または2価の基であり、R31~R36はそれぞれ独立に1価の芳香族基、脂肪族基、ハロゲンを表し、nは、Zの価数であって3以上の整数を表し、好ましくは6以下、より好ましくは3または4の整数であり、mおよびmは0~4、mおよびm~mは0~3の整数を表す。
 特に限定されないが、前記一般式(II-3)中のZは、一般式(II-5)で表される3価以上の基であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
 式中のR51~R100は、それぞれ独立に、直接結合または下記式(II-6)で表される2価の基の一つを表し、R101は水素または脂肪族基、芳香族基(どちらも好ましくは炭素数18程度まで)を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
 R51~R53は、直接結合または式:
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
で示される基から選ばれることが好ましい。
 また特に限定されないが、前記一般式(II-3)中のZおよびZは、直接結合または上記式(II-6)で表されるいずれかの2価の基であることが好ましく、その中でも耐熱性に優れることから、直接結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、イソプロピリデン結合、ヘキサフルオロイソプロピリデン結合を有することがより好ましく、直接結合、エーテル結合であることが特に好ましい。
 式(II-3)中のR31~R36としては、炭素数12以下の芳香族基(例えば、フェニル基、ベンジル基、フェノキシ基)、炭素数1~6のアルキル基、フッ素、塩素等が好ましい。
 mは好ましくは0、1または2、mは好ましくは0または1、mは好ましくは0、1または2、mは好ましくは0または1、mおよびmは独立して好ましくは0または1である。
 アミン化合物(B)は、反応性に優れることから、その化学構造中のアミノ基と結合する環が複素環や、キノン構造を有さない芳香環であることが好ましく、また、テトラカルボン酸誘導体とイミド化反応以外の副反応を抑制できるため、その化学構造中に水酸基、チオール、2級アミンを含まないことがより好ましい。
 アミン化合物(B)の具体例としては、パートIにおいて、アミン化合物(B)として例示したものが挙げられ、好ましいものも同様であり、また単独または2種以上をを混合して用いてもよい点も同じである。
 パートIIの発明のポリイミド前駆体は、必要に応じて、ジアミン(C)を含むことができる。特に限定されないが、ジアミン(C)として、一般式(II-4)で表されるいずれかの化合物のうち少なくとも1種類以上含まれることが耐熱性に優れることから好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000056
 式中、Yは直接結合または2価の基を表し、R41~R43はそれぞれ独立に1価の芳香族基、脂肪族基、ハロゲン基を表し、m~mは0~4の整数を表す。
 また特に限定されないが、前記一般式(II-4)中のYは、前述の式(II-6)で表される基、下記一般式(II-7)で表される2価の基から選ばれることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000057
 式中、R111~R124はそれぞれ独立に、直接結合または前記式(II-6)で表される2価の基を表す。R111~R124としては、耐熱性に優れることから、直接結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、イソプロピリデン結合、ヘキサフルオロイソプロピリデン結合がより好ましく、直接結合、エーテル結合であることが特に好ましい。
 Yとしては、耐熱性に優れることから、直接結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、イソプロピリデン結合、ヘキサフルオロイソプロピリデン結合、および式(II-7)の基の中でR111~R124が直接結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、イソプロピリデン結合およびヘキサフルオロイソプロピリデン結合から選ばれる基であるものが好ましい。
 R41~R43は、炭素数12以下の芳香族基(例えば、フェニル基、ベンジル基、フェノキシ基)、炭素数1~6のアルキル基、フッ素、塩素等が好ましい。
 m~mは好ましくは0、1または2である。
 ジアミン(C)の具体例としては、パートIにおいて、ジアミン(C)として例示したものが挙げられ、好ましいものも同様であり、また単独または2種以上をを混合して用いてもよい点も同じである。
 パートIIの発明のポリイミド前駆体において、[アミン化合物(B)の総モル数]/([アミン化合物(B)の総モル数]+[ジアミン(C)の総モル数])の値は、特に限定されるわけではないが、0.01~1、好ましくは0.05~1、より好ましくは0.2~1、更に好ましくは0.25~1、特に好ましくは0.5~1である。この範囲であれば、ポリイミドの高温での寸法安定性と、折り曲げ耐性に優れる。
 パートIIの発明のポリイミド前駆体は、特に限定されるわけではないが、テトラカルボン酸成分のカルボン酸基数(エステル化されたカルボン酸基の数を含む)(モル数)/アミン成分の総アミン基数(モル数)の値は、1~3が好ましく、1.6~2.4がより好ましく、1.8~2.2が更に好ましく、実質的に2であることが特に好ましい。この範囲であれば、耐熱性や、高温での寸法安定性、耐溶剤性に優れる。
 パートIIの発明のポリイミド前駆体は、ポリイミドを形成した場合の架橋点間分子量αが、好ましくは500~100,000g/mol、より好ましくは1,300~10,000の範囲内であることが、更に好ましくは1,500~5,000、特に好ましくは1,800~4,000である。架橋点間分子量αは、樹脂の伸度と概ね正の相関があり、樹脂弾性率と概ね負の相関があるため、この範囲であれば、高伸度、高弾性率、折り曲げ耐性、高温での寸法安定性が両立できる。
 ここで、架橋点間分子量αについては、パートIについて説明したとおり、理論値として式(6)により、または実験値から式(7)により求めることができる。
 パートIIの発明の架橋点間分子量αは、特に限定されるわけではないが、パートIIの発明においてケトン結合を有する原料を用いた場合、ポリイミドが付加的な架橋形成を生じる場合があるが、ケトン結合などの付加的な架橋形成を生じる官能基を含まない場合、前述の式(6)より求められる値を好適に採用することができる。
 パートIIの発明のポリイミド前駆体の平均分子量は、特に限定されるわけではないが、実質上、低分子化合物で構成されるため、50~5,000が好ましく、100~2,000がより好ましく、200~1,000が特に好ましい。この範囲であるとポリイミド前駆体が低分子量であり、低粘度と高固形分を両立したポリイミド前駆体溶液が得られる。ここでの分子量は、GPC測定による数平均分子量や、TOF-MASS,FAB-MASSから求められる分子量であってもよく、その他公知の分析方法の値を採用しても良い。また、実質的に重合が生じない条件では、ポリイミドを形成する各成分の平均分子量を好適に採用することもできる。
 パートIIの発明のポリイミド前駆体の対数粘度(ηinh)は、実質上、低分子化合物で構成されるため、0.2未満であり、好ましくは0.15未満、より好ましくは0.1未満である。この範囲であるとポリイミド前駆体が低分子量であり、低粘度と高固形分を両立したポリイミド前駆体溶液が得られる。
 パートIIの発明のポリイミド前駆体は、実質上、低分子化合物で構成されるため、ポリアミド酸の繰り返し単位を含まないことが好ましい。ポリアミド酸の繰り返し単位の確認は、NMRやFT-IR等の公知の分析方法を好適に用いることができる。ポリアミド酸の繰り返し単位(モル)の比率は、アミン成分のアミノ基の総モル(もしくは、テトラカルボン酸成分のカルボニル基の総モルの1/2倍)あたり、0.05モル/モル以下、好ましく0.03モル/モル以下、より好ましくは0.01モル/モル以下であり、特に好ましくは、検出下限以下である。この範囲であるとポリイミド前駆体が低分子量であり、低粘度と高固形分を両立したポリイミド前駆体溶液が得られる。
 パートIIの発明のポリイミド前駆体は粉末であっても良く、好ましくは平均粒子径5mm以下、より好ましくは1mm以下、特に好ましくは0.5mm以下であり、最大粒子径5mm以下、より好ましくは1mm以下、特に好ましくは0.5mm以下である。これらの粒子径は、レーザー回折法、画像イメージング法、重力沈降法などの公知の測定方法を用い、公知の解析方法を使用した結果を用いることができる。
 (ポリイミド前駆体溶液)
 パートIIの発明のポリイミド前駆体溶液については、パートIにおいてまとめて説明した。
(架橋構造を有するポリイミド)
 パートIIの発明の架橋構造を有するポリイミドは、テトラカルボン酸成分に由来する構造単位およびアミン成分に由来する構造単位を有するポリイミドであって、前記アミン成分に由来する構造単位が、3つ以上のアミノ基を有するアミン化合物(Bi)およびジアミン(Ci)にそれぞれ由来する構造単位を、下記式の値が、0.01~1となる範囲で含む。
 [アミン化合物(Bi)の総モル数]/([アミン化合物(Bi)の総モル数]+[ジアミン(Ci)の総モル数])
 ここで、式、[アミン化合物(Bi)の総モル数]/([アミン化合物(Bi)の総モル数]+[ジアミン(Ci)成分の総モル数])の値は、好ましくは0.05~1、より好ましくは0.2~1、更に好ましくは0.25~1、特に好ましくは0.5~1である。この範囲であれば、高い架橋密度を達成できるため、ポリイミドの高温での寸法安定性と、折り曲げ耐性、ガラス転移温度が高く、寸法安定性に優れる。
 パートIIの発明の架橋構造を有するポリイミドは、特に限定されるわけではないが、前述のポリイミド前駆体により好適に製造される。従って、テトラカルボン酸成分は、一般式(II-1)で表されるテトラカルボン酸エステル誘導体(A)が好ましい。また同様に、3つ以上のアミノ基を有するアミン化合物(Bi)は、前述のアミン化合物(B)が好ましく、またジアミン(Ci)は、前述のジアミン(C)が好ましい。
 架橋構造を有するポリイミドは、架橋点間分子量αが、好ましくは500~100,000g/mol、より好ましくは1,300~10,000の範囲内であることが、更に好ましくは1,500~5,000、特にこのましくは1,800~4,000である。この範囲であれば、高温での寸法安定性と、折り曲げ耐性に優れる。
 パートIIの発明の架橋構造を有するポリイミドは、特に限定されるわけではないが、寸法安定性の観点からは、ガラス転移温度が200℃以上、好ましくは230℃以上、より好ましくは260℃以上、更に好ましくは280℃以上、特に好ましくは290℃以上である。この範囲であると寸法安定性に優れる。
 一方、パートIIの発明の架橋構造を有するポリイミドは、加熱時の変形が小さいことから、比較的ガラス転移温度が低いポリイミドでも高温で使用が可能であり、この観点からは、ガラス転移温度としては、180℃~300℃が好ましく、180℃~260℃がより好ましく、180℃~240℃が更に好ましく、180℃~230℃が特に好ましい。ガラス転移温度の測定は、パートIにおいて説明した。
 パートIにおいて、架橋構造を有するポリイミドの線膨張係数、5%重量減少温度、耐溶剤性、膜厚10μmとした時の全光透過率、フィルム、積層体の説明は、パート1の発明の架橋構造を有するポリイミドについても当てはまる。
(架橋構造を有するポリイミドの製造方法)
 パートIIの発明のポリイミド前駆体をイミド化してポリイミドを製造する方法は、特に限定されず、公知のポリイミド製造方法を適宜採用することができる。ポリイミド前駆体としてパートIIで説明したポリイミド前駆体を用いる以外は、例えば、パートIにおいて、「(架橋構造を有するポリイミドの製造方法)」の項目で説明した方法によりポリイミドを製造することができる。
 (ポリイミド前駆体の用途、積層体、その製造方法)
 パートIIの発明のポリイミド前駆体は、パートIの「(ポリイミド前駆体の用途、積層体、その製造方法)の項目」で説明した用途に使用することができる。
 <<パートIII>>
 パートIIIの発明は、s-BPTAやその誘導体とパラ位結合の芳香環を有するジアミンの組み合わせを主体とし、高耐熱性のポリイミドを与えるポリイミド前駆体を提供することを目的とする。
 本発明者らは、鋭意研究を行った結果、高耐熱性を与えるs-BPTAとパラ位結合の芳香環を有するジアミンの組み合わせからなるポリイミドにおいて、特定のテトラカルボン酸を用いること、更には、分子構造中に環状構造有するアミン化合物を用いることで、良質なポリイミドが得られることを見出し、パートIIIの発明を完成した。
 すなわち、パートIIIの発明は、以下の事項に関する。
1. 3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸およびそのエステル誘導体から選ばれる少なくとも1種のテトラカルボン酸(A31)と、
 前記テトラカルボン酸(A31)と異なるテトラカルボン酸およびそのエステル誘導体から選ばれる少なくとも1種のテトラカルボン酸(A32)と
を含むテトラカルボン酸成分、
 下記一般式(III-1)で表される芳香環ジアミン(B31)を含むジアミン成分
を含有することを特徴とするポリイミド前駆体。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000058
〔式中のYは直接結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、ケトン結合、メチレン、イソプロピリデン、ジメチルシリレンまたは、炭素数1~6のアルキレン、炭素数12以下の芳香族基、または下記一般式(III-2)で表されるいずれかの分子構造を表し、R~Rは、それぞれ独立に炭素数12以下の芳香族基、炭素数1~6のアルキル基、ハロゲン基、水酸基、カルボン酸基であり、n~nは0~4の整数を表す。〕
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000059
〔式中のYは直接結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、ケトン結合、メチレン、イソプロピリデン、ジメチルシリレンまたは、炭素数1~6のアルキレン、炭素数12以下の芳香族基を表し、R、Rは、それぞれ独立に炭素数1~6のアルキレン、炭素数12以下の芳香族基を表す。〕
2. 前記テトラカルボン酸(A32)が、一般式(III-3)で表されるテトラカルボン酸およびこれらのエステル誘導体の1種以上を含有することを特徴とする上記1に記載のポリイミド前駆体。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000060
〔式中のXは、直接結合または、2価の基である。ただし、Xが直接結合の場合は、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸を除く。〕
3. 前記テトラカルボン酸(A32)が、ピロメリット酸およびそのエステル誘導体、並びに前記一般式(III-3)中のXが、直接結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、ケトン結合、メチレン、イソプロピリデン、ヘキサフルオロイソプロピリデン、ジメチルシリレンまたは、炭素数1~6のアルキレン、炭素数12以下の芳香族基、または一般式(III-4)のいずれかで表されるテトラカルボン酸およびそのエステル誘導体から選ばれる1種以上を含有することを特徴とする上記1または2のいずれかに記載のポリイミド前駆体。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000061
〔式中のXは、2価の有機基である。〕
4. 前記テトラカルボン酸成分が、全テトラカルボン酸成分の総モル量に対し、テトラカルボン酸(A31)を50モル%以上含むことを特徴とする上記1~3のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体。
5. 前記ジアミン成分が、前記ジアミン(B31)と異なるジアミンであって、一般式(III-5)で表される化合物から選ばれる1種以上のジアミン(B32)を含むことを特徴とする上記1~4のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000062
〔式中のYは直接結合または2価の基を表し、R~Rは、それぞれ独立に炭素数12以下の芳香族基、炭素数1~6のアルキル基、ハロゲン基、水酸基、カルボン酸基であり、n~nは0~4の整数を表す。ただし、前記一般式(III-1)で表されるジアミンを除く。〕
6. 前記ジアミン成分が、全ジアミン成分の総モル量に対し、前記ジアミン(B31)を50モル%以上含むことを特徴とする上記1~5のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体。
7. さらに、分子中に環状構造を有するアミン化合物(G)を含むことを特徴とする上記1~6のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体。
8. 前記アミン化合物(G)が、環状構造を有する脂肪族アミン、芳香族アミンおよび複素環式アミンからなる群より選ばれることを特徴とする上記7に記載のポリイミド前駆体。
9. 前記アミン化合物(G)が、環員原子として窒素を含むことを特徴とする上記7または8に記載のポリイミド前駆体。
10. 前記アミン化合物(G)が、ピリジン、ピリミジン、トリアゾールまたはイミダゾール骨格を有することを特徴とする上記7~9のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体。
11. 全テトラカルボン酸成分の総モル量に対し、前記アミン化合物(G)を10モル%以上含むことを特徴とする上記7~10のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体。
12. さらに、少なくとも1種の3つ以上のアミノ基を有する化合物(H)を含むことを特徴とする上記1~11のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体。
13. 粒子径5mm以下の粉末である上記1~12のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体。
14. 上記1~12のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体と、溶媒(D)を含むことを特徴とするポリイミド前駆体溶液。
15. さらに、無機粒子(E)を含むことを特徴とする上記14に記載のポリイミド前駆体溶液。
16. 上記1~12のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体、または上記13~15のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体溶液を用い、ポリイミド前駆体をイミド化して、ガラス転移温度が250℃以上のポリイミドを製造することを特徴とするポリイミドの製造方法。
17. 上記1~12のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体、または上記13~15のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体溶液を用い、ポリイミド前駆体をイミド化して、膜厚10μmのフィルムで測定したときの50℃~200℃の平均線膨張係数が60ppm/K以下であるポリイミドを製造すること特徴とするポリイミドの製造方法。
18. 上記1~12のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体、または上記13~15のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体溶液を用い、ポリイミド前駆体をイミド化して、TGAで求めた5%重量減少温度が、450℃以上であるポリイミドを製造することを特徴とするポリイミドの製造方法。
19. 上記1~12のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体、または上記13~15のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体溶液を用い、ポリイミド前駆体をイミド化して、引っ張り試験の応力―ひずみ曲線から求めた初期弾性率が、2.5GPa以上であるポリイミドを製造することを特徴とするポリイミドの製造方法。
20. 上記1~12のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体、または上記13~15のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体溶液を用いて、ポリイミド層と、ガラス、金属、樹脂およびセラミックから選ばれる少なくとも1つの材料の層または基体とが積層されたポリイミド積層体を製造することを特徴とする製造方法。
21. 上記1~12のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体、または上記13~15のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体溶液から得られるポリイミド層と、ガラス、金属、樹脂およびセラミックから選ばれる少なくとも1つの層または基体とが積層されたポリイミド積層体。
22. 上記1~12のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体、または上記13~15のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体溶液を用いて、耐熱電線絶縁層、摺動部品、フレキシブル回路基板、またはディスプレイ用基板、タッチパネル用基板、太陽電池用基板および薄膜半導体用基板から選ばれる基板を製造することを特徴とする製造方法。
 <パートIIIの発明の効果>
 パートIIIの発明によって、容易に高耐熱性ポリイミドを製造できるポリイミド前駆体と、その製造方法を提供することができる。また、パートIIIの発明のポリイミド前駆体溶液は、溶解性に優れるため、高固形分化が可能であり、保存安定性に優れるものである。さらにパートIIIの発明のポリイミド前駆体から得られるポリイミドは、製膜性に優れ、折り曲げ性を有する良質な膜が形成可能であり、さらに、従来のポリアミック酸から得られるポリイミドに比べ、機械強度(弾性率、降伏点応力、破断点応力)が高く、線膨張係数は低いなどの特性に優れる。
 <パートIIIの発明の詳細>
(ポリイミド前駆体)
 パートIIIの発明は、前述のとおり、テトラカルボン酸成分として、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸およびそのエステル誘導体から選ばれる少なくとも1種のテトラカルボン酸(A31)と、前記テトラカルボン酸(A31)と異なるテトラカルボン酸およびそのエステル誘導体から選ばれる少なくとも1種のテトラカルボン酸(A32)とを含み、ジアミン成分として、一般式(III-1)で表される芳香環ジアミン(B31)を含むポリイミド前駆体である。テトラカルボン酸(A31)およびテトラカルボン酸(A32)は、「酸」と表記されているが、この定義のとおり、それぞれエステル誘導体も包含する。「ポリイミド前駆体」の定義や状態については、冒頭部分で説明したとおりである。
 テトラカルボン酸(A31)は、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸およびそのエステル誘導体から選ばれるものであれば、限定されない。一実施形態においては、脱離成分が水のみとなることから、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸が好ましい。一方、異なる実施形態においては、エステル誘導体は、溶解性に優れることから好ましい。この場合、4つのカルボン酸基がエステル化されていても、一部のみがエステル化されていてもよい。一実施形態において、テトラカルボン酸の4つのカルボン酸のうち、2つがエステル化されていることが好ましい。エステル基を与える化合物としては、炭素数1~3のアルコール、炭素数6~12のフェノール、炭素数3~12のシラノールが好ましい。
 ジアミン(B31)は、一般式(III-1)で表される化合物から選ばれる芳香環ジアミン(B31)である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000063
 〔式中のYは直接結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、ケトン結合、メチレン、イソプロピリデン、ジメチルシリレンまたは、炭素数1~6のアルキレン、炭素数12以下の芳香族基、または下記一般式(III-2)で表されるいずれかの分子構造を表し、R~Rは、それぞれ独立に炭素数12以下の芳香族基、炭素数1~6のアルキル基、ハロゲン基、水酸基、カルボン酸基であり、n~nは0~4の整数を表す。〕
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000064
 〔式中のYは直接結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、ケトン結合、メチレン、イソプロピリデン、ジメチルシリレンまたは、炭素数1~6のアルキレン、炭素数12以下の芳香族基を表し、R、Rは、それぞれ独立に炭素数1~6のアルキレン、炭素数12以下の芳香族基を表す。〕
 ジアミン(B31)は、パラ位結合の芳香環を有し、また、熱分解しやすい官能基(例えば、スルホン酸基や、トリフルオロメタン基など)を含まないため、ポリイミドのジアミン主成分として好適である。耐熱性、力学特性、低線膨張係数のポリイミドを与えるため、式(III-1)中の式(1-1)のジアミンが好ましく、nが0のもの、nが1でRがメチル基のものがより好ましく、nが0のものが特に好ましい。一方、ポリイミド前駆体溶液の溶解性、保存安定性と、ポリイミドでの耐熱性、高い機械強度、低線膨張係数を両立できる観点から、式(1-2)のジアミンが好ましい。特に、高い機械強度と低線膨張係数となることから、式(1-2)においてYは、好ましくは直接結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、ケトン結合、メチレンであり、より好ましくは直接結合、エーテル結合、アミド結合であり、特に好ましくはエーテル結合である。一方、(1-2)のジアミンのうち、ポリイミド前駆体溶液の溶解性、保存安定性と、ポリイミドの製膜性に優れることから、Yが、一般式(III-2)で表されるいずれかの分子構造であることが好ましく、より好ましくは式(2-2)および式(2-3)の構造であり、特に好ましくは式(2-2)においてR,Rがイソプロピリデンであるもの、(2-3)においてYがイソプロピリデンであるものである。
 テトラカルボン酸(A32)は、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸およびそのエステル誘導体以外のテトラカルボン酸およびそのエステル誘導体であれば、限定されない。ポリイミド前駆体溶液の溶解性、保存安定性と、ポリイミドの製膜性、耐熱性を両立できることから、一般式(III-3)で表されるいずれかのテトラカルボン酸または、これらのエステル誘導体が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000065
 〔式中のXは、直接結合または、2価の基である。ただし、Xが直接結合の場合は、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸を除く。〕
 さらに、ポリイミド前駆体溶液の溶解性、保存安定性と、ポリイミドの製膜性、耐熱性、高い機械強度、低線膨張係数を両立できることから、テトラカルボン酸(A32)として、ピロメリット酸およびそのエステル誘導体、または、前記一般式(III-3)中の式(3-2)において、Xが、直接結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、ケトン結合、メチレン、イソプロピリデン、ヘキサフルオロイソプロピリデン、ジメチルシリレン、炭素数1~6のアルキレン、炭素数12以下の芳香族基、または下記一般式(III-4)のいずれかで表されるテトラカルボン酸およびそのエステル誘導体であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000066
 〔式中のXは、2価の有機基であり、例えば、直接結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、ケトン結合、メチレン、イソプロピリデン、ヘキサフルオロイソプロピリデン、ジメチルシリレンおよび炭素数1~6のアルキレンである。〕
 テトラカルボン酸(A32)として、より好ましくは、ピロメリット酸、および式(3-2)のXが、直接結合、エーテル結合、エステル結合、ケトン結合、イソプロピリデン、ヘキサフルオロイソプロピリデン、ジメチルシリレンであるテトラカルボン酸およびそのエステル誘導体であり、さらに好ましくは、式(3-2)のXが、直接結合またはエーテル結合であるテトラカルボン酸およびそのエステル誘導体であり、特に好ましくは2,3’,3,4’-ビフェニルテトラカルボン酸およびそのエステル誘導体である。
 全テトラカルボン酸成分の総モル量に対して、テトラカルボン酸(A31)とテトラカルボン酸(A32)の合計の割合は、好ましくは90モル%以上、より好ましくは95モル%以上、最も好ましくは実質的に100モル%である。得られるポリイミドの耐熱性、機械強度、低線膨張係数に優れることから、テトラカルボン酸(A31)の割合は、全テトラカルボン酸成分の総モル量に対し、好ましくは50モル%以上、より好ましく75モル%以上、更に好ましくは、80モル%以上、特に好ましく90モル%以上である。一方、ポリイミド前駆体溶液の溶解性、保存安定性に優れることから、全テトラカルボン酸成分の総モル量に対し、テトラカルボン酸(A31)の割合は、好ましくは95モル%以下、より好ましく90モル%以下、更に好ましくは、85モル%以下、特に好ましく80モル%以下である。この場合、テトラカルボン酸(A32)の割合としては、全テトラカルボン酸成分の総モル量に対し、好ましくは5モル%以上、より好ましく10モル%以上、更に好ましくは15モル%以上、特に好ましく20モル%以上である。
 ジアミン成分は、一般式(III-1)で表される芳香環ジアミン(B31)に加えて、下記一般式(III-5)で表されるジアミン(B32)を用いることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000067
 〔式中のYは直接結合または2価の基を表し、R~Rは、それぞれ独立に炭素数12以下の芳香族基、炭素数1~6のアルキル基、ハロゲン基、水酸基、カルボン酸基、トリフルオロメチル基であり、n~nは0~4の整数を表す。ただし、前記一般式(III-1)で表されるジアミンを除く。〕
 特に限定されるわけではないが、Yとしては、直接結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、ケトン結合、メチレン、イソプロピリデン、ジメチルシリレンまたは、炭素数1~6のアルキレン、炭素数12以下の芳香族基、または前記一般式(III-2)で表されるいずれかの分子構造が好ましい。ジアミン(B32)として例えば、パートIにおいてジアミン(C)と挙げたもののうち、一般式(III-1)に含まれない化合物を挙げることができる。
 ポリイミド前駆体溶液の溶解性、保存安定性と、ポリイミドの製膜性、耐熱性を両立できることから、式(5-1)の化合物、または式(5-2)のYが、直接結合、エーテル結合、アミド結合、炭素数12以下の芳香族基である化合物が好ましく、さらに、低線膨張、機械特性に優れるため、式(5-1)の化合物、または式(5-2)のYが、直接結合またはエーテル結合である化合物がより好ましい。
 全ジアミン成分の総モル量に対して、ジアミン(B31)とジアミン(B32)の合計の割合は、好ましくは90モル%以上、より好ましくは95モル%以上、最も好ましくは実質的に100モル%である。得られるポリイミドの耐熱性、機械強度、低線膨張係数に優れることから、パラ位結合の芳香環を有するジアミン(B31)の割合は、全ジアミン成分の総モル量に対し、好ましくは50モル%以上、より好ましく75モル%以上、更に好ましくは80モル%以上、特に好ましく90モル%以上であり、100モル%も好ましい。一方、ポリイミド前駆体溶液の溶解性、保存安定性に優れる観点から、ジアミン(B32)の割合を、0モル%超としてよく、好ましくは5モル%以上、より好ましく10モル%以上、更に好ましくは15モル%以上、特に好ましく20モル%以上としてもよい。この場合、パラ位結合の芳香環を有するジアミン(B31)の割合は、100モル%未満、好ましくは95モル%以下、より好ましく90モル%以下、更に好ましくは、85モル%以下、特に好ましく80モル%以下となる。
 さらに、パートIIIの発明のポリイミド前駆体には、特に限定されるわけではないが、分子中に環状構造を有するアミン化合物(G)を添加することができる。ポリイミド前駆体溶液の溶解性、保存安定性と、ポリイミドの製膜性に優れることから、環状構造を有する脂肪族アミン、芳香族アミン、複素環式アミンのいずれかであることが好ましい。更に、得られるポリイミドが低着色であることから、窒素原子を環員原子として含む芳香族複素環化合物および脂肪族複素環化合物がより好ましい。
 芳香族複素環化合物としては、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、またはピロール、イミダゾール、ピラゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、インドール、ベンズイミダゾール骨格を有する化合物が挙げられる。ここでは、芳香族複素環構造の一部が水素化されていても良く、他の環構造と縮環された構造を有していても良く、環構造に置換基を有していても良い。この中でも、特にポリイミド前駆体の溶解性が優れ、且つ得られるポリイミドの耐熱性、機械特性に優れることから、ピリジン、イミダゾール骨格を有する化合物が好ましく、イミダゾール骨格を有する化合物がより好ましい。イミダゾール骨格を有する化合物としては、メチルイミダゾール、ジメチルイミダゾール、エチル-メチルイミダゾール等を挙げることができる。特に好ましくは、1,2-ジメチルイミダゾール、1-メチルイミダゾールなどが挙げられる。ピリジン骨格を有する化合物としては、ピリジン、ピコリン、ジメチルピリジン、ビニルピリジン、シアノピリジン、アミノピリジン、アミノ-メチルピリジン、(ジメチルアミノ)ピリジン、ヒドロキシピリジン、フェニルピリジン、キノリン、イソキノリン、ビビリジン等を挙げることができる。特に好ましくは、イソキノリン、ピコリン、ジメチルピリジン、等を挙げることができる。
 脂肪族複素環化合物としては、ピペリジン、ピペラジン、ヘキサヒドロピリミジン、ヘキサヒドロピリダジン、モルホリン、キヌクリジン、トリエチレンジアミン(1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン)、ピロリジン、トロパン、アゼチジン、アジリジン等の骨格を有する化合物が挙げられる。ここでは、脂肪族複素環構造の一部に不飽和結合を有していても良く、他の環構造と縮環された構造を有していても良く、環構造に置換基を有していても良い。この中でも、特にポリイミド前駆体の溶解性が優れることから、モルホリン、トリエチレンジアミン、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロノネンが好ましい。
 環状構造を有するアミン化合物(G)の含有割合は、全テトラカルボン酸成分の総モル量に対し、5モル%以上、より好ましくは10モル%以上、更に好ましくは20モル%以上、特に好ましくは30モル%以上である。さらに含有割合が、50モル%以上、より好ましくは70モル%以上、更に好ましくは80モル%以上、特に好ましくは100モル%以上であると、ポリイミド前駆体溶液の溶解性、保存安定性がさらに優れる。さらに含有量が、150モル%以上、より好ましくは200モル%以上であると、ポリイミドの製膜性に特に優れる。
 パートIIIの発明のポリイミド前駆体は、必要に応じて、3つ以上のアミノ基を有する化合物(H)を含んでもよい。3つ以上のアミノ基を有する化合物(H)としては、パートIにおいてアミン化合物(b)として説明した化合物が好ましい。
 パートIIIの発明のポリイミド前駆体の平均分子量は、特に限定されるわけではないが、実質上、低分子化合物で構成されるため、50~5,000が好ましく、100~2,000がより好ましく、200~1,000が特に好ましい。この範囲であるとポリイミド前駆体が低分子量であり、低粘度と高固形分を両立したポリイミド前駆体溶液が得られる。ここでの分子量は、GPC測定による数平均分子量や、TOF-MASS,FAB-MASSから求められる分子量であってもよく、その他公知の分析方法の値を採用しても良い。また、実質的に重合が生じない条件では、ポリイミドを形成する各成分の平均分子量を好適に採用することもできる。
 パートIIIの発明のポリイミド前駆体の対数粘度(ηinh)は、実質上、低分子化合物で構成されるため、0.2未満であり、好ましくは0.15未満、より好ましくは0.1未満である。この範囲であるとポリイミド前駆体が低分子量であり、低粘度と高固形分を両立したポリイミド前駆体溶液が得られる。
 パートIIIの発明のポリイミド前駆体は、実質上、低分子化合物で構成されるため、ポリアミド酸の繰り返し単位を含まないことが好ましい。ポリアミド酸の繰り返し単位の確認は、NMRやFT-IR等の公知の分析方法を好適に用いることができる。ポリアミド酸の繰り返し単位(モル)の比率は、アミン成分のアミノ基の総モル(もしくは、テトラカルボン酸成分のカルボニル基の総モルの1/2倍)あたり、0.05モル/モル以下、好ましく0.03モル/モル以下、より好ましくは0.01モル/モル以下であり、特に好ましくは、検出下限以下である。この範囲であるとポリイミド前駆体が低分子量であり、低粘度と高固形分を両立したポリイミド前駆体溶液が得られる。
 パートIIIの発明のポリイミド前駆体は粉末であっても良く、好ましくは平均粒子径5mm以下、より好ましくは1mm以下、特に好ましくは0.5mm以下であり、最大粒子径5mm以下、より好ましくは1mm以下、特に好ましくは0.5mm以下である。これらの粒子径は、レーザー回折法、画像イメージング法、重力沈降法などの公知の測定方法を用い、公知の解析方法を使用した結果を用いることができる。
 (ポリイミド前駆体溶液)
 パートIIIの発明のポリイミド前駆体溶液については、パートIにおいてまとめて説明したとおりである。
 (ポリイミド前駆体・無機粒子複合材)
 パートIIIの発明のポリイミド前駆体は、パートIで説明したように、無機粒子を添加してポリイミド前駆体・無機粒子複合材とすることが特に好ましい。
 (ポリイミド)
 パートIIIの発明のポリイミド前駆体から製造されるポリイミドは、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸類からなるテトラカルボン酸(A31)と、パラ位結合の芳香環を有するジアミン(B31)の組み合わせに基づく剛直な分子構造を有する。そのため、高いガラス転移温度を有し、特に限定されないが、例えば好ましくは250℃以上、より好ましくは280℃以上、さらに好ましくは300℃以上のガラス転移温度を有する。
 また、製造されるポリイミドは熱膨張が小さく、50℃~200℃における平均線膨張係数、または50℃~Tgにおける平均線膨張係数は、好ましくは60ppm/K以下、より好ましくは50ppm/K以下、更に好ましくは45ppm/K以下である。
 また、製造されるポリイミドは、耐熱性に優れ、TGAで求めた5%重量減少温度は、好ましくは450℃以上、より好ましくは470℃以上、更に好ましくは500℃以上、特に好ましくは550℃以上である。
 また、製造されるポリイミドは、弾性率が高く、引っ張り試験の応力―ひずみ曲線から求めた初期弾性率が、好ましくは2.5GPa以上、より好ましくは3.0GPa以上、更に好ましくは3.5GPa以上、特に好ましくは4.0GPa以上である。
 (ポリイミドの製造方法)
 パートIIIの発明のポリイミド前駆体をイミド化してポリイミドを製造する方法は、特に限定されず、公知のポリイミド製造方法を適宜採用することができる。ポリイミド前駆体としてパートIIIで説明したポリイミド前駆体を用いる以外は、例えば、パートIにおいて、「(架橋構造を有するポリイミドの製造方法)」の項目で説明した方法によりポリイミドを製造することができる。
 (ポリイミド前駆体の用途、積層体、その製造方法)
 パートIIIの発明のポリイミド前駆体は、種々の用途が可能であり、例えばポリイミドフィルムの製造用、ポリイミド積層体におけるポリイミド層製造用のコーティング材料、電池その他の各種用途におけるバインダーおよび接着剤として使用することができる。
 ポリイミド積層体は、例えばガラス、金属、樹脂、セラミック等の材料で形成された基材層または基体と、ポリイミド層とが積層された構造である。ここでポリイミド層は、基材層または基体の表面を部分的に被覆していてもよい。製造方法としては、ポリイミド前駆体からポリイミドフィルムを製造し、前記基材層または基体と貼り合わせる方法や、前記基材層または基体の表面の少なくとも一部にポリイミド前駆体溶液を塗布した後、イミド化して積層体とする方法が挙げられる。
 パートIIIの発明では、そのポリイミド前駆体溶液中の固形分濃度を高めることが可能であり、また保存安定性に優れる。さらにパートIIIの発明のポリイミド前駆体から得られるポリイミドは、製膜性に優れ、折り曲げ性を有する良質な膜の形成が可能であり、さらに、従来のポリアミック酸から得られるポリイミドに比べ、機械強度(弾性率、降伏点応力、破断点応力)が高く、線膨張係数は低いなどの特性に優れる。パートIIIの発明のポリイミド前駆体は、優れた特性のポリイミドを容易に製造できるので、耐熱電線絶縁層の製造、ディスプレイ用基板、タッチパネル用基板、太陽電池用基板、薄膜半導体用基板の製造、摺動部品の製造、フレキシブル回路基板の製造用途において好適に使用することができる。
 
 以下、実施例及び比較例によって本発明を更に説明する。尚、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
<<パートIの発明の実施例>>
 以下の各例で使用した原材料は、次のとおりである。
 [テトラカルボン酸(a)]
3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸:s-BPTA
2,3,3’,4’-ビフェニルテトラカルボン酸:a-BPTA
4,4’-(4,4’-イソプロピリデンジフェノキシ)ビス(フタル酸):BPABP
4,4’ -(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸:6FDP
4,4’ -オキシジフタル酸:ODP
3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸:BTTA
[3つ以上のアミノ基を有する化合物(b)]
1,3,5-トリス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン:TAPOB
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000068
 4,4’,4”-トリアミノトリフェニルアミン:TATPA
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000069
 2,4,4’-トリアミノジフェニルエーテル:TADE
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000070
 2,4,6-トリアミノピリミジン:TAP
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000071
 1,3,5-トリス(4-アミノフェニル)ベンゼン:TAPB
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000072
 [ジアミン(C)]
 1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン:APB
 4,4-ジアミノジフェニルエーテル:DADE
 2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン:TFMB
 m-フェニレンジアミン:MPD
 [溶剤(D)]
 N,N-ジメチルアセトアミド:DMAc
 N-メチル-2-ピロリドン:NMP
 [その他]
 3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物:s-BPDA
 ガラス基板:厚さ2mmのソーダガラス板
 以下の各例において評価は次の方法で行った。
 ポリイミド前駆体の評価
 [回転粘度]
 東機産業製TV-22 E型回転粘度計を用い、温度30℃ せん断速度100sec-1でのポリイミド前駆体溶液の粘度を求めた。
 [対数粘度]
 ポリイミド前駆体溶液をNMPで0.5g/dlに希釈し、ウベローデ粘度計を用いて、30℃で測定した。対数粘度(ηinh)は、次式より求めた。
  ηinh=ln(T/T0 )/C
   C=不揮発分濃度×組成物秤取量/試料の体積×100(g/dl)
   T=試料の粘度管落下時間、T0 =N-メチル-2-ピロリドンの落下速度
   不揮発分濃度=350℃×30分の熱処理後重量/熱処理前重量
  (濃度単位:重量%、重量単位:g、体積単位:dl、時間単位:秒)
 [ワニス固形分]
アルミシャーレにポリイミド前駆体溶液1gを量り取り、200℃の熱風循環オーブン中で2時間加熱して固形分以外を除去し、その残分の質量よりワニス固形分(加熱残分質量%)を求めた。
 製膜性の評価
 [製膜性]
 各例で得られたポリイミド前駆体溶液を洗浄されたガラス基板上にバーコーターを用い、ポリイミド膜の厚さ10μmとなるように塗工した。その基板を120℃で5分乾燥させた後、150℃、200℃で各10分、次いで250℃で1時間加熱して熱的にイミド化を行なった。表中には、透明で均一な皮膜が得られた場合を○、皮膜ににごりが生じた場合を△、白化や割れが生じたり、粉状となった場合を×と記した。
 ポリイミドフィルムの評価
 [熱機械特性(TMA):ガラス転移温度、加熱時の変形:1%,5%,10%伸長時温度]
 膜厚約10μmのポリイミド膜を幅4mmの短冊状に切り取って試験片とし、島津製作所製TMA-50を用い、チャック間長15mm、荷重2g、昇温速度20℃/minで475℃まで昇温した。得られたTMA曲線より、線膨張係数及び、1%、5%、10%伸長時温度(℃)を求め、またその変曲点から、ガラス転移温度(℃)を求めた。なお、線膨張係数は、50℃~200℃における平均線膨張係数とし、200℃以下もしくは近傍にガラス転移温度がある場合には、50℃~ガラス転移の開始温度における平均線膨張係数とした。
 [5%熱重量減少温度]
 膜厚10μmのポリイミドフィルムを試験片とし、エスアイアイ・ナノテクノロジー製 示差熱熱重量同時測定装置(TG/DTA6300)を用い、窒素気流中、昇温速度10℃/minで25℃から600℃まで昇温した。得られた重量曲線から、5%熱重量減少温度を求めた。
 [折り曲げ性]
 ポリイミドフィルム(膜厚約10μm、幅1cm、長さ5cm)をスライドガラスに挟み折り曲げ(はぜ折)、折り曲げ部分に重さ100gの分銅をおき、1分間静置した。折り曲げ部分を戻し、異常がない場合を○、割れ等が生じた場合を×とした。
 [耐溶剤性]
 ポリイミドフィルム(膜厚約10μm、幅1cm、長さ1cm)をNMP 10gに25℃ 30分間浸漬した。異常がない場合を○、溶解や顕著な膨潤が見られた場合を×とした。
 [光学特性:全光透過率、420nmの光透過率]
 膜厚10μmのポリイミドフィルムを試験片とし、分光光度計 (日本分光製V650, 絶対反射ユニット ARSV-732)を用いて、測定した。
 [耐吸湿性]
 各例で得られたポリイミドフィルム(膜厚約10μm)をエスペック社製高度加速寿命試験EHS-411を用い、121℃、濡れ飽和の条件下、1時間処理した。異常がない場合は○、一部白化等の異常が見られた場合は△、全面に白化等の異常のあった場合は×とした。
 〔実施例I-1〕
 テトラカルボン酸(a)として、s-BPTA(2水和物) 1.015モル当量(1.291g)、3つ以上のアミノ基を有する化合物(b)として、TAPOB 0.03モル当量(0.042g)、ジアミン(C)として、APB 0.97モル当量(1.000g)を乳鉢に入れ、十分にすりつぶし、混合することでポリイミド前駆体の粉末を得た。この粉末を顕微鏡で確認したところ、粒子径0.5mm以上の粒子は確認されなかった。この粉末に溶剤(D)として、DMAcをモノマー濃度 20質量%となる量(9.33g)を加え、50℃で加熱溶解し、ポリイミド前駆体溶液(固形分20%、粘度50mPa・s)を得た。
 得られたポリイミド前駆体溶液をガラス基板に塗布し、120℃、5分乾燥させた後、150℃、200℃で各10分、次いで250℃で1時間加熱して熱的にイミド化を行なって、ポリイミド/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミド/ガラス積層体を湯浴に浸漬した後剥離し、膜厚が約10μmのポリイミド(フィルム)を得た。このポリイミドの特性を測定した結果を表I-1に示す。
 〔実施例I-2~24〕
 各成分を表I-1記載へ変更した以外は、実施例I-1と同様にしてポリイミド前駆体粉末、溶液を作製した。なお、実施例I-23~24では、溶剤(D)として、NMPを用いた。得られたポリイミド前駆体溶液は、実施例I-1と同様の方法で、ポリイミド(フィルム)を得た。このポリイミドの特性を測定した結果を表I-1に示す。
 〔比較例I-1〕
 各成分を表I-1記載へ変更した以外は、実施例I-1と同様にしてポリイミド前駆体粉末、溶液を作製した。得られたポリイミド前駆体溶液は、実施例I-1と同様の方法で、ポリイミド(フィルム)を得た。このポリイミドの特性を測定した結果を表I-1に示す。
 〔比較例I-2〕
 テトラカルボン酸(a)成分として、テトラカルボン酸二無水物であるs-BPDA 1.015モル当量(1.048g)、3つ以上のアミノ基を有する化合物(b)として、TAPOB 0.03モル当量(0.042g)、ジアミン(C)として、APB 0.97モル当量(1.000g)を乳鉢に入れ、十分にすりつぶし、混合することでポリイミド前駆体の粉末を得た。この粉末に溶剤(D)として、DMAcをモノマー濃度 20質量%となる量(8.36g)を加え、50℃で加熱攪拌した。粉末が溶解すると伴に溶液粘度が上昇し、流動性がなくなった(ゲル化)ため、ポリイミド前駆体溶液は得られなかった。
 表I-1に実施例、比較例の組成および評価結果をまとめて示す。また、図1に実施例I-2~6で得られたポリイミドと比較例I-1で得られたポリイミドの熱機械分析(TMA)の測定結果を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000073
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000074
 パートIの発明のポリイミド前駆体は、表I-1に示した結果から分かるとおり、ポリイミド前駆体のアミン化合物中で、3つ以上のアミノ基を有する化合物(b)の比率を高めた場合でも、前駆体溶液が製造可能であり、また、熱的方法(重縮合およびイミド化反応)により容易に架橋型ポリイミドを得ることが可能であった。また、パートIの発明の架橋構造を有するポリイミドは、前述のポリイミド前駆体より製造されるため、適切な(所望により高い)架橋密度を有するポリイミドが得られ、線膨張係数が小さく、高温でも加熱時変形しにくいため、寸法安定性に優れることが確認された。
 <<パートIIの発明の実施例>>
 以下の各例で使用した原材料は、次のとおりである。
 [テトラカルボン酸のエステル誘導体(A)]
3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸のエステル誘導体:s-BPTA/E
4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸のエステル誘導体:6FDP/E
 [他のテトラカルボン酸のエステル誘導体]
3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸のエステル誘導体:BTA/E
 [3つ以上のアミノ基を有する化合物(B)]
 1,3,5-トリス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン:TAPOB
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000075
 4,4’,4”-トリアミノトリフェニルアミン:TATPA
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000076
 [他の3つ以上のアミノ基を有する化合物]
 2,4,6-トリアミノピリミジン:TAP
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000077
 1,4,5,8-テトラアミノアントラキノン:TAAQ
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000078
 [ジアミン(C)]
 1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン:APB
 2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン:TFMB
 m-フェニレンジアミン:MPD
 [溶剤(D)]
N,N-ジメチルアセトアミド:DMAc
N-メチル-2-ピロリドン:NMP
 [その他]
 3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物:s-BPDA
 4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物:6FDA
 3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物:BTDA
 エタノール:EtOH
 1,2-ジメチルイミダゾール:12DMZ
 ガラス基板:厚さ2mmのソーダガラス板
 以下の各例において評価は次の方法で行った。
 ポリイミド前駆体の評価
 [回転粘度]、[対数粘度]、および[ワニス固形分]は、パートIと同様にして求めた。
 [架橋点間分子量]
 前述の式(6)より求めた値を表II-1に示す。
 製膜性の評価
 [製膜性]を、パートIと同様に評価した。
 ポリイミドフィルムの評価
 [熱機械特性(TMA):ガラス転移温度、加熱時の変形:1%,5%,10%伸長時温度]、[5%熱重量減少温度]、[折り曲げ性]、[耐溶剤性]、[光学特性:全光透過率、420nmの光透過率]、および[耐吸湿性]を、パートIと同様に評価した。
 〔実施例II-1〕
 ガラス製の容器に、s-BPDAを1.25モル当量(1.842g)、EtOHをテトラカルボン酸無水物に対して2倍モル(0.577g)、DMAcをモノマー濃度(テトラカルボン酸エステル誘導体(A)、アミン化合物(B)、ジアミン(C)を溶質とした濃度)が20質量%となる量(13.72g)、さらに触媒として12DMZを0.02g加え、80℃で3時間加熱攪拌した。FT-IRにより、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸のエステル誘導体s-BPTA/Eの生成を確認した。得られた溶液に、アミン化合物(B)として、TAPOB 0.5モル当量(1.000g)、ジアミン(C)として、APB 0.5モル当量(0.732g)を加え、50℃で加熱溶解し、ポリイミド前駆体溶液(固形分20%、粘度62mPa・s)を得た。
 得られたポリイミド前駆体溶液をガラス基板に塗布し、120℃、5分乾燥させた後、150℃、200℃で各10分、次いで250℃で1時間加熱して熱的にイミド化を行なって、ポリイミド/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミド/ガラス積層体を湯浴に浸漬した後剥離し、膜厚が約10μmのポリイミド(フィルム)を得た。このポリイミドの特性を測定した結果を表1に示す。
 〔実施例II-2~5〕
 各成分を表1記載へ変更した以外は、実施例II-1と同様にしてポリイミド前駆体溶液を作製した。得られたポリイミド前駆体溶液は、実施例II-1と同様の方法で、ポリイミド(フィルム)を得た。このポリイミドの特性を測定した結果を表1に示す。
 〔比較例II-1~3〕
 各成分を表1記載へ変更した以外は、実施例II-1と同様にしてポリイミド前駆体溶液を作製した。得られたポリイミド前駆体溶液は、実施例II-1と同様の方法で、ポリイミド(フィルム)を得た。このポリイミドの特性を測定した結果を表1に示す。
 〔比較例II-5〕
 ガラス製の容器に、ポリイミド前駆体溶液の固形分が43重量%となるように3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)109.53g(0.340mol)、エタノール45.85g(1.02mol)およびN-メチル-2-ピロリドン(NMP)113.20gを投入し、その混合物を80℃に加熱して2時間攪拌し、BTA/Eの溶液を得た。次いで、メタフェニレンジアミン(MPDA)15.79g(0.136mol)及び2,4,6-トリアミノピリミジン(TAP)18.27g(0.136mol)を加え、再び80℃に加熱して3時間攪拌し、ポリイミド前駆体溶液を得た。得られたポリイミド前駆体溶液は、実施例II-1と同様の方法で、ポリイミド(フィルム)を製造したが、加熱時に粉状になってしまい、フィルムは得られなかった。ここで得られたポリイミド(粉末状)の特性を測定した結果を表1に示す。
 〔比較例II-6〕
 BTDAの投入量を102.70g(0.319mol)に代え、エタノールの投入量を44.05g(0.956mol)に代え、NMPの投入量を115.47gに代え、MPDAの投入量を20.68g(0.191mol)に代え、TAP18.27g(0.136mol)をTAAQ 17.10g(0.064mol)に代えた以外は、比較例II-5と同様にしてポリイミド前駆体溶液を得た。得られたポリイミド前駆体溶液は、実施例II-1と同様の方法で、ポリイミド(フィルム)を製造したが、加熱時に粉状になってしまい、フィルムは得られなかった。
 表II-1に実施例、比較例の組成および評価結果をまとめて示す。また、図1に実施例II-1~5で得られたポリイミドと比較例II-1で得られたポリイミドの熱機械分析(TMA)の測定結果を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000079
 パートIIの発明のポリイミド前駆体は、表II-1に示した結果から分かるとおり、ポリイミド前駆体のアミン化合物中で、3つ以上のアミノ基を有する化合物(B)の比率を高めた場合でも、前駆体溶液が製造可能であり、また、熱的方法(重縮合およびイミド化反応)により容易に架橋型ポリイミドを得ることが可能であった。また、パートIIの発明の架橋構造を有するポリイミドは、前述のポリイミド前駆体より製造されるため、適切な(所望により高い)架橋密度を有するポリイミドが得られ、線膨張係数が小さく、高温でも加熱時変形しにくいため、寸法安定性に優れ、更に折り曲げ可能な柔軟性を有していることが確認された。
 一方、比較例II-2~3のように、パートIIの発明で定義されるアミン化合物(B)以外のトリアミン(TAP)を用いたものでは、製造時フィルムに亀裂が生じ、折り曲げ可能な柔軟なフィルムが得られず、5%重量減少温度も低かった。さらに、比較例II-5~6のようにパートIIの発明のテトラカルボン酸エステル誘導体(A)以外のテトラカルボン酸エステル誘導体を用いた場合、製造時粉状になってしまい、フィルムを得ることができなかった。
 <<パートIIIの発明の実施例>>
  以下の各例で使用した原材料は、次のとおりである。
 [テトラカルボン酸(A31)]
 3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸:s-BPTA
 [テトラカルボン酸(A32)]
 2,3,3’,4’-ビフェニルテトラカルボン酸:a-BPTA
 4,4’ -オキシジフタル酸:ODP
 4,4’ -(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸:6FDP
 4,4’-(4,4’-イソプロピリデンジフェノキシ)ビス(フタル酸):BPABP
 3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸:BTTA
 [ジアミン(B31)]
 パラフェニレンジアミン:PPD
 4,4-ジアミノジフェニルエーテル:4,4-ODA
 2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン:BAPP
 [ジアミン(B32)]
 3,4-ジアミノジフェニルエーテル:3,4-ODA
 [環状構造を有するアミン(H)]
 1,2-ジメチルイミダゾール:12DMZ
 1-メチルイミダゾール:1Mz
 ピリジン:Py
 イソキノリン:IQ
 トリエチレンジアミン:TEDA
 ジアザビシクロウンデセン:DBU
 [環状構造を有しないアミン]
 トリエチルアミン:TEA
 トリエタノールアミン:TEtOHA
 [溶剤(D)]
 N,N-ジメチルアセトアミド:DMAc
 N-メチル-2-ピロリドン:NMP
 [無機粒子(E)]
 アエロジル380(シリカ粒子)
 アエロジルR972(表面処理されたシリカ粒子)
 [その他]
 ガラス基板:厚さ2mmのソーダガラス板
 以下の各例において評価は次の方法で行った。
 [ワニス固形分]
 アルミシャーレにポリイミド前駆体溶液1gを量り取り、200℃の熱風循環オーブン中で2時間加熱して固形分以外を除去し、その残分の質量よりワニス固形分(加熱残分 質量%)を求めた。
 [溶解性]
 実施例記載の方法で作成したポリイミド前駆体溶液の溶解性を求めた。表中には、完全に溶解した場合を○、不溶分ありの場合を×と記した。
 [保存安定性]
 実施例記載の方法で作成したポリイミド前駆体溶液の保存安定性(25℃、静置、ガラス容器密封)を求めた。表中には、1ヶ月以上析出等の異常なしの場合を◎、2週間以上析出等の異常なしの場合を○、2週間以内に異常が発生した場合を×と記した。 
 [回転粘度]
 東機産業製TV-22 E型回転粘度計を用い、温度 30℃ せん断速度 100sec-1もしくは10sec-1でのポリイミド前駆体溶液の粘度を求めた。
 [製膜性]
 各例で得られたポリイミド前駆体溶液を洗浄されたガラス基板上にバーコーターを用い、ポリイミド膜の厚さ10μmもしくは、25μmとなるように塗工した。その基板を120℃で5分乾燥させた後、150℃、200℃で各10分、次いで250℃で1時間加熱して熱的にイミド化を行なった。表中には、◎:異常なし(自立フィルムが得られる。)、○:顕著な着色(茶色~黒色)もしくは膜に濁りあり(塗膜作成可)、△:膜が白化、膨れが発生、×:膜が得られない(粉状になるなど)と記した。
 [折り曲げ性]
 ポリイミドフィルム(厚さ10μmもしくは、25μm、幅1cm、長さ5cm)をスライドガラスに挟み折り曲げ(はぜ折)、折り曲げ部分に重さ100gの分銅をおき、1分間静置した。折り曲げ部分を戻し、異常がない場合を○、折り曲げ箇所で白化した場合を△、割れ等が生じた場合を×とした。
 [熱機械特性(TMA):ガラス転移温度、線膨張係数]
 ポリイミド膜を幅4mmの短冊状に切り取って試験片とし、島津製作所製TMA-50を用い、チャック間長15mm、荷重2g、昇温速度20℃/minで475℃まで昇温した。得られたTMA曲線の変曲点から、ガラス転移温度(℃)を求めた。なお、線膨張係数は、50℃~200℃における平均線膨張係数とした。
 [引っ張り特性:弾性率、降伏点応力、破断伸度、破断強度]
 ポリイミド膜をIEC450規格のダンベル形状に打ち抜いて試験片とし、ORIENTEC社製TENSILONを用いて、チャック間 30mm、引張速度 2mm/minで測定した。得られたS-Sカーブより、弾性率、降伏点応力、破断伸度、破断強度を求めた。
 [5%熱重量減少温度]
 膜厚10μmのポリイミドフィルムを試験片とし、エスアイアイ・ナノテクノロジー製 示差熱熱重量同時測定装置(TG/DTA6300)を用い、窒素気流中、昇温速度10℃/minで25℃から600℃まで昇温した。得られた重量曲線から、5%熱重量減少温度を求めた。
 〔実施例III-1〕
  テトラカルボン酸(A31)として、s-BPTA 0.75モル当量、テトラカルボン酸(A32)として、a-BPTA 0.25モル当量、ジアミン(B31)として、4,4-ODA 1モル当量、環状構造を有するアミン(G)として、12DMZ 0.1モル当量を乳鉢に入れ、十分にすりつぶし、混合することでポリイミド前駆体の粉末を得た。この粉末を顕微鏡で確認したところ、粒子径0.5mm以上の粒子は確認されなかった。この粉末に溶剤(D)として、DMAcをモノマー濃度 20質量%となる量(9.33g)を加え、50℃で加熱溶解し、ポリイミド前駆体溶液(固形分20%)を得た。
  得られたポリイミド前駆体溶液をガラス基板に塗布し、120℃、5分乾燥させた後、150℃、200℃で各10分、次いで250℃で1時間加熱して熱的にイミド化を行なって、ポリイミド/ガラス積層体を得た。次いで、得られたポリイミド/ガラス積層体を湯浴に浸漬した後剥離し、膜厚が約10μmそして、約25μmのポリイミド(フィルム)を得た。このポリイミドの特性を測定した結果を表III-1に示す。
 〔実施例III-2~28〕
  各成分を表III-1記載へ変更した以外は、実施例III-1と同様にしてポリイミド前駆体粉末、ポリイミド前駆体溶液を作製した(溶媒の添加は適宜調整)。実施例III-1と同様の方法で、ポリイミド(フィルム)を製造した。この結果を表III-1~3に示す。
 〔比較例III-1~3〕
  各成分を表III-1記載へ変更した以外は、実施例III-1と同様にしてポリイミド前駆体粉末を製造し、それに溶媒を加え、加熱攪拌したが、溶解しなかった。
 〔比較例III-4~8〕
  各成分を表III-1記載へ変更した以外は、実施例III-1と同様にしてポリイミド前駆体粉末、ポリイミド前駆体溶液を作製した(溶媒の添加は適宜調整)。実施例III-1と同様の方法で、ポリイミド(フィルム)を製造したが、粉状になり、白化したりし、良質の膜が得られなかった。
 〔実施例III-30〕
  実施例III-25で得られたポリイミド前駆体溶液に、原料溶液の固形分100質量部に対して、アエロジルR972 20質量部を加え、3本ロールにて分散し、無機粒子が分散されたポリイミド前駆体溶液(固形分 42%)を得た。実施例III-1と同様の方法で、ポリイミド(フィルム)を製造した。このポリイミドの評価結果を表III-4に示す。
 〔比較例III-9〕
 ポリイミド前駆体溶液の原料として、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物 0.8モル当量、2,3,3’,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物 0.2モル当量、4,4-ジアミノジフェニルエーテル 1モル当量を加え、公知の製造方法により、ポリアミック酸溶液(ポリイミド前駆体溶液)を得た。この溶液の固形分濃度は20%であった。
  実施例III-1と同様の方法で、ポリイミド(フィルム)を製造した。このポリイミドの評価結果を表III-4に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000080
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000081
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000082
 パートIIIの発明のポリイミド前駆体溶液は、表III-1~4に示した結果から分かるとおり、溶解性に優れるため、高固形分化が可能であり、また、保存安定性に優れるものである。さらにパートIIIの発明のポリイミド前駆体から得られるポリイミドは、製膜性に優れ、折り曲げ性を有する良質な膜が形成可能である。さらに、従来のポリアミック酸から得られるポリイミドに比べ、機械強度(弾性率、降伏点応力、破断点応力)が高く、線膨張係数は低いなどの特性に優れる。

Claims (40)

  1.  すくなくとも、テトラカルボン酸(a)と、3つ以上のアミノ基を有するアミン化合物(b)を含むことを特徴とするポリイミド前駆体。
  2.  テトラカルボン酸(a)として、一般式(1)で表される化合物から選ばれるテトラカルボン酸を少なくとも1種類以上含むことを特徴とする請求項1に記載のポリイミド前駆体。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    〔式中のXは、直接結合または、2価の基である。〕
  3.  テトラカルボン酸(a)として、ピロメリット酸および一般式:
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
    で表され且つXが直接結合または下記一般式(2)で示されるいずれかの2価の基であるテトラカルボン酸からなる群より選ばれる少なくとも1種類を含むことを特徴とする請求項1または2に記載のポリイミド前駆体。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
    〔式中のXは、2価の有機基である。〕
  4.  前記アミン化合物(b)として、一般式(3)で表されるアミン化合物から選ばれる少なくとも1種類を含むことを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
    〔式中のZは3価以上の基、ZおよびZは直接結合または2価の基であり、R31~R36はそれぞれ独立に1価の基を表し、nは3以上、mおよびmは0~4、mおよびm~mは0~3の整数を表す。〕
  5.  さらに、ジアミン(C)を含むことを特徴とする請求項1~4のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体。
  6.  前記アミン化合物(b)と、存在する場合にジアミン(C)とからなる全ジアミン成分の総モル量に対し、前記アミン化合物(b)が1モル%以上含まれることを特徴とする請求項1~5のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体。
  7.  ジアミン(C)として、一般式(4)で表される化合物から選ばれる少なくとも1種類を含むことを特徴とする請求項5または6に記載のポリイミド前駆体。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
    〔式中のYは直接結合または2価の基を表し、R~Rはそれぞれ独立に1価の基を表し、m~mは0~4の整数を表す。〕
  8.  粒子径5mm以下の粉末である請求項1~7のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体。
  9.  請求項1~7のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体と、溶媒(D)を含むことを特徴とするポリイミド前駆体溶液。
  10.  請求項1~8のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体、または請求項9の溶液中のポリイミド前駆体をイミド化処理する工程を含むことを特徴とする架橋構造を有するポリイミドの製造方法。
  11.  テトラカルボン酸成分に由来する構造単位およびアミン成分に由来する構造単位を有するポリイミドであって、
     前記アミン成分に由来する構造単位が、3つ以上のアミノ基を有するアミン化合物(bi)およびジアミン(Ci)にそれぞれ由来する構造単位を、下記式の値が、0.01~1となる範囲で含むことを特徴とする架橋構造を有するポリイミド。
     [アミン化合物(bi)の総モル数]/([アミン化合物(bi)の総モル数]+[ジアミン(Ci)の総モル数])
  12.  請求項11に記載の架橋構造を有するポリイミドを含有することを特徴とするポリイミドフィルム。
  13.  すくなくとも、
     一般式(II-1)で表される化合物から選ばれるテトラカルボン酸エステル誘導体(A)と、
     一般式(II-3)で表される化合物から選ばれる、3つ以上のアミノ基を有するアミン化合物(B)
    を含むことを特徴とするポリイミド前駆体。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
    〔式中のXは直接結合もしくは、下記式(II-2)で示される基から選ばれる2価の基を表し、R11~R30は、それぞれ独立に水素、炭素数1~8の1価の脂肪族基(ただし、テトラカルボン酸となる場合を除く)を表す。〕
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
    〔式中のXは、2価の有機基である。〕
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
    〔Zは3価の窒素原子、3価以上の芳香族基、3価以上の脂肪族基、ZおよびZは直接結合または2価の基であり、R31~R36は1価の芳香族基、脂肪族基、ハロゲン、nは3以上、mおよびmは0~4、mおよびm~mは0~3の整数を表す。〕
  14.  さらに、ジアミン(C)を含むことを特徴とする請求項13に記載のポリイミド前駆体。
  15.  下記式で示される前記アミン化合物(B)の割合が、0.01~1の範囲であることを特徴とする請求項14に記載のポリイミド前駆体。
     [前記アミン化合物(B)の総モル数]/([前記アミン化合物(B)の総モル数]+[ジアミン(C)の総モル数])
  16.  ポリイミドを形成した場合の架橋点間分子量αが、500~10,000g/molの範囲内であることを特徴とする請求項13~15のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体。
  17.  ジアミン(C)として、一般式(II-4)で表される化合物から選ばれる少なくとも1種類以上を含むことを特徴とする請求項14又は15に記載のポリイミド前駆体。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
    〔式中のYは直接結合または2価の基を表し、R41~R43はそれぞれ独立に1価の芳香族基、脂肪族基、ハロゲンを表し、m~mは0~4の整数を表す。〕
  18.  請求項13~17のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体と、溶媒(D)を含むことを特徴とするポリイミド前駆体溶液。
  19.  請求項13~17のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体をイミド化して架橋構造を有するポリイミドを製造することを特徴とするポリイミドの製造方法。
  20.  テトラカルボン酸成分に由来する構造単位およびアミン成分に由来する構造単位を有するポリイミドであって、
     前記アミン成分に由来する構造単位が、3つ以上のアミノ基を有するアミン化合物(Bi)およびジアミン(Ci)にそれぞれ由来する構造単位を、下記式の値が、0.01~1となる範囲で含むことを特徴とする架橋構造を有するポリイミド。
     [アミン化合物(Bi)の総モル数]/([アミン化合物(Bi)の総モル数]+[ジアミン(Ci)の総モル数])
  21.  架橋点間分子量αが、500~10,000g/molの範囲内であることを特徴とする請求項20に記載の架橋構造を有するポリイミド。
  22.  請求項20または21に記載の架橋構造を有するポリイミドを含むことを特徴とするフィルム。
  23.  3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸およびそのエステル誘導体から選ばれる少なくとも1種のテトラカルボン酸(A31)と、
     前記テトラカルボン酸(A31)と異なるテトラカルボン酸およびそのエステル誘導体から選ばれる少なくとも1種のテトラカルボン酸(A32)と
    を含むテトラカルボン酸成分、
     下記一般式(III-1)で表される芳香環ジアミン(B31)を含むジアミン成分
    を含有することを特徴とするポリイミド前駆体。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
    〔式中のYは直接結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、ケトン結合、メチレン、イソプロピリデン、ジメチルシリレンまたは、炭素数1~6のアルキレン、炭素数12以下の芳香族基、または下記一般式(III-2)で表されるいずれかの分子構造を表し、R~Rは、それぞれ独立に炭素数12以下の芳香族基、炭素数1~6のアルキル基、ハロゲン基、水酸基、カルボン酸基であり、n~nは0~4の整数を表す。〕
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
    〔式中のYは直接結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、ケトン結合、メチレン、イソプロピリデン、ジメチルシリレンまたは、炭素数1~6のアルキレン、炭素数12以下の芳香族基を表し、R、Rは、それぞれ独立に炭素数1~6のアルキレン、炭素数12以下の芳香族基を表す。〕
  24.  前記テトラカルボン酸(A32)が、一般式(III-3)で表されるテトラカルボン酸およびこれらのエステル誘導体の1種以上を含有することを特徴とする請求項23に記載のポリイミド前駆体。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
    〔式中のXは、直接結合または、2価の基である。ただし、Xが直接結合の場合は、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸を除く。〕
  25.  前記テトラカルボン酸(A32)が、ピロメリット酸およびそのエステル誘導体、並びに前記一般式(III-3)中のXが、直接結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、ケトン結合、メチレン、イソプロピリデン、ヘキサフルオロイソプロピリデン、ジメチルシリレンまたは、炭素数1~6のアルキレン、炭素数12以下の芳香族基、または一般式(III-4)のいずれかで表されるテトラカルボン酸およびそのエステル誘導体から選ばれる1種以上を含有することを特徴とする請求項23または24のいずれかに記載のポリイミド前駆体。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
    〔式中のXは、2価の有機基である。〕
  26.  前記テトラカルボン酸成分が、全テトラカルボン酸成分の総モル量に対し、テトラカルボン酸(A31)を50モル%以上含むことを特徴とする請求項23~25のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体。
  27.  前記ジアミン成分が、前記ジアミン(B31)と異なるジアミンであって、一般式(III-5)で表される化合物から選ばれる1種以上のジアミン(B32)を含むことを特徴とする請求項23~26のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
    〔式中のYは直接結合または2価の基を表し、R~Rは、それぞれ独立に炭素数12以下の芳香族基、炭素数1~6のアルキル基、ハロゲン基、水酸基、カルボン酸基であり、n~nは0~4の整数を表す。ただし、前記一般式(III-1)で表されるジアミンを除く。〕
  28.  前記ジアミン成分が、全ジアミン成分の総モル量に対し、前記ジアミン(B31)を50モル%以上含むことを特徴とする請求項23~27のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体。
  29.  さらに、分子中に環状構造を有するアミン化合物(G)を含むことを特徴とする請求項23~28のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体。
  30.  前記アミン化合物(G)が、環状構造を有する脂肪族アミン、芳香族アミンおよび複素環式アミンからなる群より選ばれることを特徴とする請求項29に記載のポリイミド前駆体。
  31.  前記アミン化合物(G)が、環員原子として窒素を含むことを特徴とする請求項29または30に記載のポリイミド前駆体。
  32.  前記アミン化合物(G)が、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、オキサゾール、またはイソオキサゾール骨格を有することを特徴とする請求項29~31のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体。
  33.  全テトラカルボン酸成分の総モル量に対し、前記アミン化合物(G)を10モル%以上含むことを特徴とする上記29~32のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体。
  34.  請求項23~33のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体と、溶媒(D)を含むことを特徴とするポリイミド前駆体溶液。
  35.  さらに、無機粒子(E)を含むことを特徴とする請求項34に記載のポリイミド前駆体溶液。
  36.  請求項1~8、13~17および23~33のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体、または請求項9、18、34および35のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体溶液を用いて、ポリイミド層と、ガラス、金属、樹脂およびセラミックから選ばれる少なくとも1つの材料の層または基体とが積層されたポリイミド積層体を製造することを特徴とする製造方法。
  37.  請求項1~8、13~17および23~33のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体、または請求項9、18、34および35のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体溶液から得られるポリイミド層と、ガラス、金属、樹脂およびセラミックから選ばれる少なくとも1つの層または基体とが積層されたポリイミド積層体。
  38.  請求項1~8、13~17および23~33のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体、または請求項9、18、34および35のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体溶液を用いて、耐熱電線絶縁層、摺動部品、フレキシブル回路基板、またはディスプレイ用基板、タッチパネル用基板、太陽電池用基板および薄膜半導体用基板から選ばれる基板を製造することを特徴とする製造方法。
  39.  請求項1~8、13~17および23~33のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体を含むことを特徴とするフィルム製造用またはポリイミド塗膜形成用溶液。
  40.  粒子径5mm以下の粉末である請求項1~8、13~17および23~33のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体。
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