WO2016159193A1 - 重合性化合物の混合物及びその製造方法 - Google Patents

重合性化合物の混合物及びその製造方法 Download PDF

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久美 奥山
加奈子 佐貫
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Definitions

  • the low molecular weight polymerizable compounds described in these documents have insufficient reverse wavelength dispersibility or have a high melting point that is not suitable for processing in industrial processes, and therefore are applied to films.
  • the temperature range showing liquid crystallinity is extremely narrow, and the solubility in a solvent generally used in industrial processes is low.
  • these low molecular weight polymerizable compounds and the like have a problem in terms of cost because they are synthesized in multiple stages by making full use of a synthesis method using a very expensive reagent.
  • the present inventors have intensively studied a method for producing the polymerizable compound (III) in an industrially advantageous manner, and have completed the present invention.
  • the diester compound shown by these is included as a by-product.
  • the proportion of the hydroxy compound represented by the formula Q-OH and 1,4-cyclohexanecarboxylic acid dichloride or 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid used theoretically is 1 mol of the hydroxy compound represented by the formula Q-OH.
  • 1,4-cyclohexanecarboxylic acid dichloride or 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid in an amount of 1 mol. Therefore, when the diester compound represented by the formula (IC) is by-produced, unreacted 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid dichloride or 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid remains in the reaction solution.
  • the method for producing compound (2) of the present invention includes the compound (I) represented by formula (I) or the compound contained in the mixture, which is contained in the mixture of the present invention.
  • Compound (IA) represented by formula (IA) derived from (I) and benzaldehyde compound (1) represented by formula (1) are combined with compound (I) [compound ( IA) is converted to compound (I)] and the benzaldehyde compound (1) is reacted in a molar ratio of 1: 0.3 to 1: 0.5. (The following reaction formula).
  • the mixture of the present invention and the benzaldehyde compound (1) are mixed with 1-ethyl in a suitable solvent.
  • the target compound (2) can be obtained by reacting in the presence of a dehydrating condensing agent such as -3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride or dicyclohexylcarbodiimide.
  • the amount of the dehydrating condensing agent to be used is usually 1 to 3 mol per 1 mol of the benzaldehyde compound (1).
  • Example 17 Production of Mixture 17
  • 10.0 g (47.83 mmol) of trans-1,4-cyclohexanedicarboxylic acid dichloride and 200 ml of CPME were added to a three-necked reactor equipped with a thermometer. Thereto was added 12.64 g (47.83 mmol) of 4- (6-acryloyloxy-hex-1-yloxy) phenol (manufactured by DKSH), and the reactor was immersed in an ice bath so that the internal temperature of the reaction solution reached 0 ° C. did.
  • the obtained crystals were analyzed by 13 C-NMR (DMF-d7), and the content of cyclohexanedicarboxylic acid was calculated and found to be below the detection limit.
  • the molar content was calculated from the respective composition ratios, the monoester content was 81.67 mol% and the diester content was 18.67 mol%.
  • Example 18 Production of mixture 18 In Example 17, the same operation as in Example 17 was performed, except that 200 ml of CPME as a reaction solvent was replaced with 150 ml of THF. As a result, 18.01 g of a white solid was obtained.
  • the target monoester was 12.99 g (31.04 mmol)
  • the diester was 5.02 g (7.55 mmol)
  • the cyclohexanedicarboxylic acid was below the detection limit.
  • the molar content was calculated from the respective composition ratios, the monoester content was 80.44 mol% and the diester content was 19.56 mol%.
  • Example 30 Manufacture of mixture 30
  • operation similar to Example 17 was performed except having replaced 200 ml of CPME which is a reaction solvent with the mixed solvent of 100 ml of dibutyl ether and 100 ml of CPME.
  • CPME a reaction solvent with the mixed solvent of 100 ml of dibutyl ether and 100 ml of CPME.
  • 18.05 g of a white solid was obtained.
  • the target monoester was 12.93 g (30.90 mmol)
  • the diester was 5.12 g (7.71 mmol)
  • the cyclohexanedicarboxylic acid was below the detection limit.
  • the monoester content was 80.03 mol% and the diester content was 19.97 mol%.
  • the organic layer was further washed 5 times with 250 ml of a buffer solution (pH: 5.5) composed of acetic acid and sodium acetate at a concentration of 1 mol / liter, and then the buffer solution was extracted. Crystals were precipitated by adding 800 ml of n-hexane to the obtained organic layer, and the precipitated crystals were collected by filtration. The filtrate was washed with n-hexane and then vacuum-dried to obtain 18.0 g of the mixture 35 as a white solid. The obtained crystals were analyzed by HPLC, and the monoester and diester were quantified with a calibration curve.
  • a buffer solution pH: 5.5
  • acetic acid and sodium acetate at a concentration of 1 mol / liter
  • Step 2 Synthesis of Polymerizable Compound (IIIs)
  • Step 2 of Example 73 4.05 g (16.22 mmol) of Compound (3a) synthesized in Example 37 was replaced with Compound (3s) synthesized in Step 1 above.
  • the same operation as in Example 73 was performed, except that the amount was changed to 6.67 g (16.22 mmol).
  • 10.34 g of a polymerizable compound (IIIs) was obtained (yield: 62.2%).
  • the structure of the target product was identified by 1 H-NMR.

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Abstract

本発明は、化合物(I)と重合性化合物(II)を含有する混合物であって、前記化合物(I)の含有量が、混合物全体の50モル%以上で、かつ、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸の含有量が5モル%未満である混合物;水非混和性有機溶媒中、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドと化合物(IV)とを、塩基存在下に反応させる工程と、得られた反応液を、弱酸性の緩衝溶液にて洗浄する工程を有する、前記混合物の製造方法等である。本発明によれば、実用的な低い融点を有し、汎用溶媒に対する溶解性に優れ、低コストで製造可能で、かつ、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを得ることができる重合性化合物を、安価に製造するために有用な混合物、及びその混合物の製造方法が提供される(式中、Aは、水素原子、メチル基又は塩素原子を表し、nは1~20の整数を表す。)。

Description

重合性化合物の混合物及びその製造方法
 本発明は、実用的な低い融点を有し、汎用溶媒に対する溶解性に優れ、低コストで製造可能で、かつ、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを得ることができる重合性化合物を、安価に製造するために有用な混合物、及びその混合物の製造方法に関する。
 位相差板には、直線偏光を円偏光に変換する1/4波長板や直線偏光の偏光振動面を90度変換する1/2波長板等がある。これらの位相差板は、ある特定の単色光に対しては正確に光線波長の1/4λあるいは1/2λの位相差に変換可能なものである。
 しかしながら、従来の位相差板には、位相差板を通過して出力される偏光が有色の偏光に変換されてしまうという問題があった。これは、位相差板を構成する材料が位相差について波長分散性を有し、可視光域の光線が混在する合成波である白色光に対して各波長ごとの偏光状態に分布が生じることから、全ての波長領域において正確な1/4λあるいは1/2λの位相差に調整することが不可能であることに起因する。
 このような問題を解決するため、広い波長域の光に対して均一な位相差を与え得る広帯域位相差板、いわゆる逆波長分散性を有する位相差板が種々検討されている(例えば、特許文献1~6)。
 一方、モバイルパソコンや携帯電話等の携帯型情報端末の高機能化及び普及に伴い、フラットパネル表示装置の厚みを極力薄く抑えることが求められてきている。その結果、構成部材である位相差板の薄層化も求められている。
 薄層化の方法としては、フィルム基材に低分子重合性化合物を含有する重合性組成物を塗布することにより位相差板を作製する方法が、近年では最も有効な方法とされている。優れた波長分散性を有する低分子重合性化合物又はそれを用いた重合性組成物の開発が多く行われている(例えば、特許文献7~24)。
 しかしながら、これらの文献に記載の低分子重合性化合物等は、逆波長分散性が不十分であったり、工業的プロセスにおける加工には適していない高い融点を有しているため、フィルムに塗布することが困難であったり、液晶性を示す温度範囲が極端に狭かったり、工業的プロセスにおいて一般に使用される溶媒への溶解度が低かったりするなど、性能面で多くの課題を有していた。また、これらの低分子重合性化合物等は、非常に高価な試薬を用いる合成法を駆使し、多段階で合成されるものであることから、コスト面でも課題を有していた。
特開平10-68816号公報 特開平10-90521号公報 特開平11-52131号公報 特開2000-284126号公報(US20020159005A1) 特開2001-4837号公報 国際公開第2000/026705号 特開2002-267838号公報 特開2003-160540号公報(US20030102458A1) 特開2005-208414号公報 特開2005-208415号公報 特開2005-208416号公報 特開2005-289980号公報(US20070176145A1) 特開2006-330710号公報(US20090072194A1) 特開2009-179563号公報(US20090189120A1) 特開2010-31223号公報 特開2011-6360号公報 特開2011-6361号公報 特開2011-42606号公報 特表2010-537954号公報(US20100201920A1) 特表2010-537955号公報(US20100301271A1) 国際公開第2006/052001号(US20070298191A1) 米国特許第6,139,771号 米国特許第6,203,724号 米国特許第5,567,349号
 本発明者らは、先に、上述の課題を解決できる化合物として、下記式(III)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
(III)
(式中、Aは、水素原子、メチル基又は塩素原子を表し、Rは、水素原子、又は、炭素数1~20の有機基を表し、Axは置換基を有していてもよい芳香族基を表す。nは1~20の整数を表す。)で示される重合性化合物(以下、「重合性化合物(III)」ということがある。)を提案している(国際公開第2014/010325号)。
 この重合性化合物(III)は、以下の工程により製造することができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
(式中、A、R、Ax、nは、前記と同じ意味を表す。Lは、水酸基、ハロゲン原子、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基等の脱離基を表す。)
 すなわち、式(1)で示されるベンズアルデヒド化合物と、式(Ib)で示されるカルボン酸又はカルボン酸誘導体とを反応させることにより、式(2)で示される化合物(以下、「化合物(2)」ということがある。)を得、さらに、このものと、式(3)で示されるヒドラジン化合物(以下、「化合物(3)」ということがある。)とを反応させることで、目的とする重合性化合物(III)を得ることができる。
 また、上記製造方法に用いる式(Ib)で示される化合物(式中、Lが水酸基である化合物)は、例えば、以下の工程により製造することができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
 すなわち、式(IV)で示される化合物(以下、「化合物(IV)」ということがある。)に、式(V)で示される1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドを反応させることで、式(Id)で示される酸クロライドを得、このものを加水分解して(このものが加水分解されて)、式(I)で示される化合物(以下、「化合物(I)」ということがある。)が得られる。
 しかしながら、この製造方法は、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドと、2分子の化合物(IV)とが反応して、下記式(II)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
(II)
で示される化合物(以下、「化合物(II)」ということがある。)が副生成するという問題を有している。化合物(II)が副生成することにより、原料である1,4-シクロヘキサンジカルボン酸が未反応物質として反応液中に残存する。その結果、シクロヘキサンジカルボン酸のカルボキシル基は、化合物(I)のカルボキシル基と区別できないため、結果として、次工程での反応(化合物(2)を得る反応)の収率が低下する。
 本発明は、かかる実情のもとになされたものであって、実用的な低い融点を有し、汎用溶媒に対する溶解性に優れ、かつ、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを得ることができる重合性化合物(III)を、工業的に有利に製造するために有用な混合物(製造中間体)、及びその製造方法を提供することを目的とする。
 本発明者らは、上記課題を解決すべく、重合性化合物(III)を工業的に有利に製造する方法について鋭意検討し、本発明を完成するに至った。
 かくして本発明によれば、(1)の混合物、(2)~(7)の混合物の製造方法、(8)の化合物(2)の製造方法、及び、(9)、(10)の重合性化合物(III)の製造方法が提供される。
(1)下記式(I)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
(I)
(式中、Aは、水素原子、メチル基又は塩素原子を表し、nは1~20の整数を表す。)で示される化合物(I)と、下記式(II)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
(II)
(式中、A、nは前記と同じ意味を表す。)で示される化合物(II)とを含有する混合物であって、前記化合物(I)の含有量が、混合物全体の50モル%以上であって、かつ、不純物としての1,4-シクロヘキサンジカルボン酸の含有量が、混合物全体の5モル%未満である混合物。
(2)有機溶媒中、式:Q-OH(式中、Qは置換基を有していてもよい有機基を表す。)で示されるヒドロキシ化合物と、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライド、又は1,4-シクロヘキサンジカルボン酸とを反応させることにより、式(IB)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
(式中、Qは前記と同じ意味を表す。)で示されるモノエステル化合物、及び、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライド又は1,4-シクロヘキサンジカルボン酸を含む反応溶液を得た後、得られた反応溶液を弱酸性の緩衝溶液にて洗浄することにより、前記反応溶液から、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、あるいは1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドを除去する方法。
(3)水非混和性有機溶媒中、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドと、下記式(IV)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
(式中、Aは、水素原子、メチル基又は塩素原子を表し、nは1~20の整数を表す。)で示される化合物とを、塩基存在下に反応させる工程と、得られた反応液を、弱酸性の緩衝溶液にて洗浄する工程とを有する、(1)に記載の混合物の製造方法。
(4)水非混和性有機溶媒中、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドと、下記式(IV)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
(式中、Aは、水素原子、メチル基又は塩素原子を表し、nは1~20の整数を表す。)で示される化合物とを、塩基存在下に反応させる工程と、得られた反応液を、水により洗浄する工程と、洗浄後の反応液を、弱酸性の緩衝溶液にて洗浄する工程とを有する、(1)に記載の混合物の製造方法。
(5)前記緩衝溶液が、pHが5.0~6.0の緩衝溶液である(3)又は(4)に記載の混合物の製造方法。
(6)前記緩衝溶液が、酢酸と酢酸ナトリウムの混合系の緩衝溶液、又は、フタル酸水素カリウムと水酸化ナトリウムの混合系の緩衝溶液である、(3)~(5)のいずれかに記載の混合物の製造方法。
(7)前記水非混和性有機溶媒が、ヒルデブランドの溶解度パラメーターが、14.0~22.0(MPa1/2)の有機溶媒である、(3)~(6)のいずれかに記載の混合物の製造方法。
(8)前記弱酸性の緩衝溶液にて洗浄する工程の後、得られた有機層を5℃以下に冷却し、前記化合物(II)を析出させて、析出物を除去する工程をさらに有する、(3)~(7)のいずれかに記載の混合物の製造方法。
(9)溶媒中、(1)に記載の混合物、又は、(3)~(8)のいずれかに記載の製造方法により得られる混合物に含まれる、式(I)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
(式中、Aは、水素原子、メチル基又は塩素原子を表し、nは1~20の整数を表す。)で示される化合物、又は、前記混合物に含まれる式(I)で表される化合物から誘導される、式(IA)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
(式中、A、nは前記と同じ意味を表し、L’は、水酸基ではない脱離基を表す。)で示される化合物と、下記式(1)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
で示されるベンズアルデヒド化合物(1)とを、前記混合物に含まれる化合物(I)と、ベンズアルデヒド化合物(1)とのモル比が、1:0.3~1:0.5となる割合で反応させることを特徴とする、下記式(2)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
(式中、A、nは前記と同じ意味を表す。)
で示される化合物の製造方法。
(10)溶媒中、(1)に記載の混合物、又は、(3)~(9)のいずれかに記載の製造方法により得られる混合物に含まれる式(I)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
(式中、Aは、水素原子、メチル基又は塩素原子を表し、nは1~20の整数を表す。)で示される化合物(I)、又は、前記混合物に含まれる化合物(I)から誘導される、式(IA)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
(式中、A、nは前記と同じ意味を表し、L’は、水酸基ではない脱離基を表す。)で示される化合物と、下記式(1)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
で示されるベンズアルデヒド化合物(1)とを、前記混合物に含まれる化合物(I)と、ベンズアルデヒド化合物(1)とのモル比が、1:0.3~1:0.5となる割合で反応させることにより、下記式(2)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
(式中、A、nは前記と同じ意味を表す。)
で示される化合物を得、このものと、下記式(3)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
(式中、Rは、水素原子、又は、炭素数1~20の有機基を表し、Axは置換基を有していてもよい芳香族基を表す。)
で示されるヒドラジン化合物とを反応させることを特徴とする、下記式(III)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
(III)
(式中、A、R、Ax、nは、前記と同じ意味を表す。)
で示される重合性化合物の製造方法。
(11)Axが下記式(4)で表される基である、(10)に記載の重合性化合物の製造方法。
(式中、Rはそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1~6のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数1~6のフルオロアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数1~6のアルキルチオ基、二置換アミノ基、又は、-C(=O)-O-Rを表す。ここで、Rは、水素原子又は置換基を有していても良い炭素数1~10のアルキル基を表す。環を構成するC-Rは、窒素原子に置き換えられていてもよい。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
(12)前記式(3)で表されるヒドラジン化合物として、式(3)中、Rが、置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルキニル基、置換基を有していてもよい炭素数3~12のシクロアルキル基、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数1~20の有機基である化合物を用いる、(10)又は(11)に記載の重合性化合物の製造方法。
 本発明の混合物によれば、実用的な低い融点を有し、汎用溶媒に対する溶解性に優れかつ、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを得ることができる重合性化合物(III)を、工業的に有利に(収率よく安価に)製造することができる。
 本発明の製造方法によれば、本発明の混合物を簡便に得ることができる。
 以下、本発明を、1)混合物、2)除去する方法、3)混合物の製造方法、4)式(2)で示される化合物の製造方法、及び、5)式(III)で示される重合性化合物の製造方法、に項分けして、詳細に説明する。
 なお、本発明において、「置換基を有していてもよい」は、「無置換又は置換基を有する」の意味である。
1)混合物
 本発明の混合物は、前記化合物(I)と化合物(II)を含有する混合物であって、前記化合物(I)の含有量が、混合物全体の50モル%以上であって、かつ、不純物としての1,4-シクロヘキサンジカルボン酸の含有量が、混合物全体の5モル%未満であることを特徴とする。
 前記式(I)、(II)中、Aは、水素原子、メチル基又は塩素原子を表し、水素原子又はメチル基であるのが好ましい。
 nは1~20の整数を表し、2~10の整数であるのが好ましい。
 本発明の混合物において、化合物(I)の含有量は、混合物全体の50モル%以上、好ましくは58モル%以上、より好ましくは61モル%以上である。
 さらに、本発明の混合物において、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸の含有量は、混合物全体の5モル%未満、好ましくは3モル%未満、より好ましくは1モル%未満である。
 本発明の混合物は、後述するように、前記重合性化合物(III)の製造中間体である、化合物(2)の製造原料として特に有用である。
 本発明の混合物の製造方法は、特に限定されない。例えば、前記式(1)で示されるベンズアルデヒド化合物と、前記式(V)で示される、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドとを反応させる方法が挙げられる。なかでも、後述する、本発明の混合物の製造方法が好ましい。
2)1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、あるいは、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドを除去する方法
 本発明の除去する方法は、有機溶媒中、式:Q-OH(式中、Qは置換基を有していてもよい有機基を表す。)で示されるヒドロキシ化合物と、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライド、又は1,4-シクロヘキサンジカルボン酸とを反応させることにより、式(IB)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
(式中、Qは前記と同じ意味を表す。)で示されるモノエステル化合物、及び、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライド又は1,4-シクロヘキサンジカルボン酸を含む反応溶液を得た後、得られた反応溶液を弱酸性の緩衝液にて洗浄することにより、前記反応溶液から、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、あるいは1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドを除去するものである。
 本発明に用いる式:Q-OHで示されるヒドロキシ化合物において、Qは置換基を有していてもよい有機基を表す。Qの有機基は、炭素原子で水酸基と結合する基である。
 Qの有機基の炭素数は特に限定されないが、1~30が好ましい。
 有機基としては、例えば、無置換又は置換基を有する、炭素数1~30のアルキル基、無置換又は置換基を有する、炭素数2~30のアルケニル基、無置換又は置換基を有する、炭素数2~30のアルキニル基、無置換又は置換基を有する、炭素数3~30のシクロアルキル基等の、無置換又は置換基を有する脂肪族基;無置換又は置換基を有する、炭素数6~30の芳香族炭化水素基;無置換又は置換基を有する、炭素数1~30の芳香族複素環基;が挙げられる。
 本発明に用いる、式:Q-OHで示されるヒドロキシ化合物としては、Qが無置換又は置換基を有する脂肪族基であるアルコール化合物であっても、Qが、無置換又は置換基を有する炭素数6~30の芳香族炭化水素基、無置換又は置換基を有する炭素数1~30の芳香族複素環基である、フェノール系化合物であってもよい。本発明においては、重合性液晶化合物の製造中間体等としての有用性の観点から、フェノール系化合物であることが好ましく、Qが、無置換又は置換基を有する炭素数6~30の芳香族炭化水素基であるフェノール化合物であることがより好ましく、無置換又は置換基を有するフェニル基であるフェノール化合物であることがさらに好ましく、下記式(IV)で表される化合物が特に好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
 上記式中、Aは、水素原子又はメチル基を表す。
 nは、1~20の整数を表し、1~12の整数が好ましく、2~10の整数がさらに好ましい。
 式(IV)で表される化合物は公知物質であり、従来公知の方法により製造し、入手することができる(例えば、国際公開第2014/010325号等参照)。
 本発明に用いる1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライド、及び1,4-シクロヘキサンジカルボン酸は、トランス体であってもシス体であっても、異性体混合物であっても構わないが、望ましい目的物が得られる観点から、トランス体であるのが好ましい。
 1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライド、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、及び、化合物(IV)は、それぞれ従来公知の方法により製造することができる(国際公開2014/010325号等)。また、市販品をそのまま用いることもできる。
 反応に用いる有機溶媒としては、シクロペンチルメチルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、1,2-ジメトキシエタン等のエーテル類;2-ブタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;ジクロロメタン、クロロホルム、1,2-ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類;酢酸エチル、酢酸プロピル等のエステル類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;シクロペンタン、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素類;N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセタミド、N-メチル-2-ピロリドン等のアミド類;アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類;及びこれらの混合溶媒等が挙げられる。
 これらの中でも、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドを用いる場合には
反応溶媒として、水非混和性有機溶媒を用いるのが好ましい。水非混和性有機溶媒は、水と混合しても相溶することなく2相分離する性質を有する有機溶媒である。水非混和性有機溶媒の水への溶解度は、10g(有機溶媒)/100mL(水)以下、好ましくは1g(有機溶媒)/100mL(水)以下、更に好ましくは0.1g(有機溶媒)/100mL(水)以下である。
 具体的には、シクロペンチルメチルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、1,2-ジメトキシエタン、2-ブタノン等のエーテル類;ジクロロメタン、クロロホルム、1,2-ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類;酢酸エチル、酢酸プロピル等のエステル類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;シクロペンタン、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素類;及びこれらの混合溶媒等が挙げられる。
 有機溶媒の使用量は、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライド10gに対し、通常1~1000ml、好ましくは5~500mlである。
 本発明において、弱酸性の緩衝液による洗浄の対象とする反応溶液としては、例えば、次のものが挙げられる。
(a)前記式:Q-OHで示されるヒドロキシ化合物と反応させる物質として、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドを用いる場合には、有機溶媒中、塩基の存在下、式:Q-OH(式中、Qは置換基を有していてもよい有機基を表す。)で示されるヒドロキシ化合物と、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドとを反応させることにより得られる、前記式(IB)で示されるモノエステル化合物、前記式(V)で表されるジエステル化合物、及び、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライド及び/又は1,4-シクロヘキサンジカルボン酸を含む反応溶液が挙げられる。
(b)前記式:Q-OHで示されるヒドロキシ化合物と反応させる物質として、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸を用いる場合には、有機溶媒中、脱水縮合剤の存在下、式:Q-OH(式中、Qは置換基を有していてもよい有機基を表す。)で示されるヒドロキシ化合物と、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸とを反応させることにより得られる、前記式(IB)で示されるモノエステル化合物、及び、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸を含む反応溶液を得た後得られるものエステル化合物を含む反応溶液が挙げられる。
 前記(a)の場合に用いる塩基としては、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、フェニルジメチルアミン、ピリジン、ピコリン、ルチジン、4-(ジメチルアミノ)ピリジン等の有機塩基;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無機塩基;が挙げられる。これらは1種単独で、或いは、2種以上を組み合わせて用いることができる。
 これらの中でも、塩基としては、収率よく目的物が得られる観点から、有機塩基が好ましく、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の3級アミンがより好ましく、トリエチルアミンが特に好ましい。
 塩基の使用量は、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドに対して、通常1~3倍モル、好ましくは1~2倍モルである。
 前記(b)の場合に用いる脱水縮合剤としては、N,N’-ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)、N,N’-ジイソプロピルカルボジイミド(DIC)、1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド(EDC)、1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(EDC・HCl)、1H-ベンゾトリアゾール-1-イルオキシトリス(ジメチルアミノ)ホスホニウムヘキサフルオロホスファート (BOP)、1H-ベンゾトリアゾール-1-イルオキシトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスファート(PyBOP)、O-(ベンゾトリアゾール-1-イル)-N,N,N’,N’-テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスファート(HBTU)、O-(ベンゾトリアゾール-1-イル)-N,N,N’,N’-テトラメチルウロニウム テトラフルオロボラート(TBTU)、O-(7-アザベンゾトリアゾール-1-イル)-N,N,N’,N’-テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスファート(HATU)、O-(7-アザベンゾトリアゾール-1-イル)-N,N,N’,N’-テトラメチルウロニウムテトラフルオロボラート(TATU)、1,1’-カルボニルビス-1H-イミダゾール(CDI)が挙げられる。
 脱水縮合剤の使用量は、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸に対して、通常1~3倍モル、好ましくは1~1.5倍モルである。
 反応は、例えば、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライド又は1,4-シクロヘキサンジカルボン酸の有機溶媒溶液中に、式:Q-OH(Qは前記と同じ意味を表す。)で示されるヒドロキシ化合物を加え、得られる反応混合物に、塩基又は脱水縮合剤を添加して、全容を撹拌することにより行うことができる。
 反応温度は、通常0~80℃、好ましくは0~50℃、より好ましくは、0~30℃である。
 反応時間は、反応規模等にもよるが、通常、数分から数時間である。
 以上のようにして、モノエステル化合物を含む反応溶液を得ることができる。
 いずれの場合においても、得られる反応溶液中に、前記式(IB)で示されるモノエステル化合物の他に、下記式(IC)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
で示されるジエステル化合物を副生物として含む。
 式Q-OHで示されるヒドロキシ化合物と、1,4-シクロヘキサンカルボン酸ジクロライド又は1,4-シクロヘキサンジカルボン酸の使用割合は、理論的には、式Q-OHで示されるヒドロキシ化合物1モルに対し、1,4-シクロヘキサンカルボン酸ジクロライド又は1,4-シクロヘキサンジカルボン酸が1モルとなる量である。そのため、前記式(IC)で示されるジエステル化合物が副生成すると、反応液中には、未反応の1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライド又は1,4-シクロヘキサンジカルボン酸が残存することになる。
 本発明は、このような、モノエステル化合物、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロリド又は1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、及び、ジエステル化合物を含む反応溶液から、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライド又は1,4-シクロヘキサンジカルボン酸を除去する方法である。
 得られた反応溶液を弱酸性の緩衝液にて洗浄することにより、前記反応溶液から、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸あるいは、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドを除去することができる。
 本発明においては、得られた反応溶液を弱酸性の緩衝液にて洗浄する前に、前記反応溶液を水(又は食塩水)により洗浄してもよい。水により洗浄することで、シクロヘキサンジクロライドの加水分解反応が進行する。また、得られた反応溶液に水非混和性有機溶媒を添加した後に、弱酸性の緩衝液にて洗浄するようにしてもよい。
 水(又は食塩水)による洗浄方法は特に制限されないが、例えば、反応溶液に蒸留水(又は食塩水)を添加し、撹拌後、水層を除去する方法が挙げられる。撹拌温度は、通常10~60℃、好ましくは20~60℃であり、撹拌時間は、通常数分から数時間である。洗浄操作は、複数回に分けて行ってもよい。
 得られた反応溶液を、弱酸性水溶液、好ましくはpHが5.0~6.0の水溶液、より好ましくはpHが5.0~6.0の緩衝溶液にて洗浄する工程を設けることにより、反応溶液中における、原料である1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライド由来物である1,4-シクロヘキサンジカルボン酸の含有量を低減し、混合物中のモノエステル化合物の含有割合を高めるとともに、後の工程の反応における、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸による悪影響を防ぐことができる。
 緩衝溶液は、水素イオン濃度に対する緩衝作用のある水溶液であり、一般的には、弱酸とその共役塩基や、弱塩基とその共役酸を混合して得られるものである。
 本発明に用いる緩衝溶液としては、例えば、酢酸と酢酸ナトリウム、フタル酸水素カリウムと水酸化ナトリウム、リン酸二水素カリウムと水酸化ナトリウム、クエン酸ナトリウムと水酸化ナトリウム、リン酸二水素カリウムとクエン酸等の、混合系の緩衝溶液が挙げられる。
 これらの中でも、本発明の効果がより得られ易い観点から、酢酸と酢酸ナトリウムの混合系の緩衝溶液、又は、フタル酸水素カリウムと水酸化ナトリウムの混合系の緩衝溶液であるのが好ましい。
 緩衝溶液は、従来公知の方法により調製することができる。例えば、pHが5.6(18℃)の、酢酸と酢酸ナトリウムの混合系の緩衝溶液は、0.2N酢酸と0.2M酢酸ナトリウム水溶液を、0.2N酢酸1.9ml、0.2M酢酸ナトリウム水溶液18.1mlの割合で混合することにより調製することができる。また、pHが5.8(20℃)の、フタル酸水素カリウムと水酸化ナトリウムの混合系の緩衝溶液は、0.2Mのフタル酸水素カリウム水溶液、0.2N水酸化ナトリウム水溶液、及び水を、0.2Mフタル酸カリウム水溶液50.0ml、0.2N水酸化ナトリウム水溶液43.0ml、及び水107.0mlの割合で混合することにより調製することができる。
 緩衝溶液での洗浄回数は特に制限されないが、通常1~5回である。緩衝溶液での洗浄は、水洗した後に行ってもよい。緩衝溶液の濃度は、0.1~2.0Mが好ましく、0.5~1.5Mがさらに好ましい。
 本発明の1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、あるいは1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドを除去する方法によれば、モノエステル化合物の含有量が、混合物全体の50.0モル%以上、好ましくは58.0%以上、より好ましくは62.5モル%以上であって、かつ、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸の含有量が、混合物全体の5モル%未満、好ましくは3モル%未満、より好ましくは1モル%未満である混合物を、簡便に効率よく得ることができる。
3)混合物の製造方法
 本発明の混合物の製造方法は、水非混和性有機溶媒中、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドと、下記式(IV)で示される化合物(IV)とを、塩基存在下に反応させる工程1と、得られた反応液を、弱酸性の緩衝溶液にて洗浄する工程2とを有する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
(式中、A、nは、前記と同じ意味を表す。)
 本発明においては、前記工程1の後、工程2の前に、工程1で得られた反応液を水により洗浄する工程2aを、さらに設けるのが好ましい。
 本発明の製造方法によれば、化合物(II)の副生成が抑えられ、化合物(I)の含有量が、混合物全体の50.0モル%以上、好ましくは58.0%以上、より好ましくは62.5モル%以上であって、かつ、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸の含有量が、混合物全体の5モル%未満、好ましくは3モル%未満、より好ましくは1モル%未満である本発明の混合物を、より簡便かつより収率よく得ることができる。
〔工程1〕
 工程1は、水非混和性有機溶媒中、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドと、化合物(IV)とを、塩基存在下に反応させる工程である。
 1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドは、上述した1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、あるいは1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドを除去する方法に用いることができるものとして記載したものが使用できる。
 水非混和性有機溶媒は、上述した1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、あるいは1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドを除去する方法に用いることができるものとして記載したものと同様のものが使用できる。
 また、本発明に用いる水非混和性有機溶媒としては、特に、ヒルデブランドの溶解度パラメーターが、好ましくは14.0~22.0(MPa1/2)である有機溶媒が好ましく、ヒルデブランドの溶解度パラメーターが14.0~18.9(MPa1/2)である有機溶媒がさらに好ましい。また、14.0~18.0(MPa1/2)である有機溶媒が特に好ましい。
 ヒルデブランドの溶解度パラメーターとは、ヒルデブランドにより導入された、正則溶液論により定義された、材料間の相互作用の程度の数値予測を提供する値(δ)である。 このような有機溶媒を用いることにより、後の洗浄工程の操作がより容易になり、目的とする本発明の混合物をより効率よく得ることができる。
 ヒルデブランドの溶解度パラメーターが、好ましくは14.0~22.0(MPa1/2)である有機溶媒としては、シクロペンチルメチルエーテル(ヒルデブランドの溶解度パラメーター(δ):17.2MPa1/2)、テトラヒドロフラン((δ):18.6MPa1/2)、メチル-t-ブチルエーテル((δ):15.6MPa1/2)、ジエチルエーテル((δ):15.1MPa1/2)、ジブチルエーテル((δ):14.9MPa1/2)、ジイソプロピルエーテル((δ):14.1MPa1/2)、1,2-ジメトキシエタン((δ):19.2MPa1/2)、2-ブタノン((δ):19.0MPa1/2)等のエーテル類;クロロホルム((δ):19.0MPa1/2)等のハロゲン化炭化水素類;酢酸エチル((δ):18.6MPa1/2)等のエステル類;トルエン((δ):18.2MPa1/2)等の芳香族炭化水素類;シクロヘキサン((δ):16.7MPa1/2)等の脂環式炭化水素類;及びこれらの混合溶媒等を好ましく例示することができる。混合溶媒を用いる場合、その溶解度パラメーターは、加成則で計算することができる。
 水非混和性有機溶媒の使用量は、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライド10gに対し、通常1~1000ml、好ましくは5~500mlである。
 用いる塩基としては、上述した1,4-シクロヘキサンジカルボン酸あるいは、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドを除去する方法に用いることができるものとして記載したものが使用できる。
 これらの中でも、塩基としては、収率よく目的物が得られる観点から、有機塩基が好ましく、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の3級アミンがより好ましく、トリエチルアミンが特に好ましい。
 塩基の使用量は、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドに対して、通常1~3倍モル、好ましくは1~1.5倍モルである。
 1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドと、化合物(IV)の使用割合は、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドと、化合物(IV)のモル比で、通常、(1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライド):(化合物(IV))=1:1.1~2:1である。
 反応は、例えば、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドの水非混和性有機溶媒溶液中に、化合物(IV)を加え、得られる反応混合物に塩基を添加して、全容を撹拌することにより行うことができる。
 反応温度は、通常0℃~80℃、好ましくは5℃~50℃、より好ましくは、5~30℃である。
 反応時間は、反応規模等にもよるが、通常、数分から数時間である。
〔工程2a〕
 工程2aは、前記工程1の後、工程2の前に、工程1で得られた反応液を、水により洗浄する工程である。水により洗浄することで、酸ハライドの加水分解反応が進行する。
 洗浄方法は特に制限されないが、工程1で得られた反応液に蒸留水を添加し、撹拌後、水層を除去する方法が挙げられる。撹拌温度は、通常10~60℃、好ましくは20~60℃であり、撹拌時間は、通常数分から数時間である。洗浄操作は、複数回に分けて行ってもよい。
〔工程2〕
 工程2は、前記工程1又は工程2aで得られた反応液を、弱酸性水溶液、好ましくはpHが5.0~6.0の水溶液、より好ましくはpHが5.0~6.0の緩衝溶液にて洗浄する工程である。
 この工程を設けることにより、混合物中における、原料である1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライド由来物である1,4-シクロヘキサンジカルボン酸の含有量を低減し、混合物中の化合物(I)の含有割合を高めるとともに、後の工程の反応における、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸による悪影響を防ぐことができる。
 緩衝溶液は、上述した1,4-シクロヘキサンジカルボン酸あるいは、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドを除去する方法に用いることができるものとして記載したものが使用できる。
〔工程3〕
 本発明の混合物の製造方法においては、さらに、工程2で得られた有機層を5℃以下に冷却し、前記化合物(II)を析出させて、析出物(化合物(II))を除去する工程3を有するのが好ましい。この操作を行うことにより、混合物中の化合物(I)の含有割合をより高めることができる。
 工程2(又は工程3)の後は、有機化学における通常の後処理操作を行うことにより、本発明の混合物を得ることができる。
 具体的には、得られた有機層に、n-ヘキサン等の貧溶媒を加えて結晶を析出させ、析出した結晶をろ取し、ろ過物を貧溶媒で洗浄後、乾燥することにより、本発明の混合物を固体として得ることができる。
 得られる混合物中の、化合物(I)、化合物(II)、及び、原料由来の1,4-シクロヘキサンジカルボン酸の含有量は、13C-NMR(測定溶媒:N,N-ジメチルホルムアミド-d7)スペクトル、ガスクロマトグライフィー、HPLC高速液体クロマトグラフィー等の通常の分析手段により測定して求めることができる。
 本発明の混合物の製造方法によれば、化合物(I)の含有量が、混合物全体の50モル%以上であって、かつ、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸の含有量が5モル%未満である混合物を、簡便に効率よく得ることができる。
 本発明の混合物は、化合物(I)と化合物(II)からなり、化合物(I)の含有量が、混合物全体の50.0モル%以上、好ましくは58.0%以上、より好ましくは62.5モル%以上である混合物〔混合物(α)〕、又は、化合物(I)、化合物(II)、及び1,4-シクロヘキサンジカルボン酸からなり、化合物(I)の含有量が、混合物全体の50.0モル%以上、好ましくは58.0%以上、より好ましくは62.5モル%以上であり、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸の含有量が、混合物全体の5モル%未満、好ましくは3モル%未満、より好ましくは1モル%未満である混合物〔混合物(β)〕である。
 本発明の混合物(α)における、化合物(I)及び化合物(II)の合計含有量は、混合物(α)に対して、95重量%以上、好ましくは98重量%、より好ましくは99重量%以上である。また、混合物(β)における、化合物(I)、化合物(II)及び1,4-シクロヘキサンジカルボン酸の合計含有量は、混合物(β)に対して、95重量%以上、好ましくは98重量%、より好ましくは99重量%以上である。
4)化合物(2)の製造方法
 本発明の化合物(2)の製造方法は、本発明の混合物に含まれる、前記式(I)で示される化合物(I)、又は、前記混合物に含まれる化合物(I)から誘導される式(IA)で表される化合物(IA)と、前記式(1)で表されるベンズアルデヒド化合物(1)とを、前記混合物に含まれる化合物(I)〔化合物(IA)を用いる場合には、化合物(I)に換算する〕と、ベンズアルデヒド化合物(1)とのモル比が、1:0.3~1:0.5となる割合で反応させることを特徴とする(下記反応式)。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
(式中、A、n、Lは前記と同じ意味を表す。)
 本発明の化合物(2)の製造方法は、具体的には、次のようにして実施することができる。
(α)方法α
 化合物(Ib)が、式(Ib)中、Lが水酸基の化合物(化合物(I))である場合には、本発明の混合物と、ベンズアルデヒド化合物(1)を、適当な溶媒中、1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩、ジシクロヘキシルカルボジイミド等の脱水縮合剤の存在下に反応させることにより、目的とする化合物(2)を得ることができる。
 脱水縮合剤の使用量は、ベンズアルデヒド化合物(1)1モルに対し、通常1~3モルである。
 上記反応に用いる溶媒としては、クロロホルム、塩化メチレン等の塩素系溶媒;N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N-ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等のアミド系溶媒;ジエチルエーテル、1,4-ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン(THF)、テトラヒドロピラン、1,3-ジオキソラン等のエーテル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒;n-ペンタン、n-ヘキサン、n-オクタン等の脂肪族炭化水素系溶媒;シクロペンタン、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素系溶媒;及びこれらの溶媒の2種以上からなる混合溶媒;等が挙げられる。
 溶媒の使用量は、特に限定されず、用いる化合物の種類や反応規模等を考慮して適宜定めることができるが、本発明の混合物1gに対し、通常1~20g、好ましくは2~10gである。
 ベンズアルデヒド化合物(1)の使用量は、〔前記混合物中の化合物(I):ベンズアルデヒド化合物(1)〕のモル比で、通常、1:0.3~1:0.5、好ましくは1:0.40~1:0.49となる量である。
 ベンズアルデヒド化合物(1)は、有機溶媒に溶解して用いてもよい。
 反応温度は、通常、-20℃~+30℃、好ましくは-10℃~+20℃であり、反応時間は、反応規模等にもよるが、数分から数時間である。
(β)方法β
 化合物(Ib)が、前記式(Ib)中、Lがハロゲン原子である化合物(化合物(Ic))の場合には、まず、本発明の混合物を、適当な溶媒中、ハロゲン化剤と作用させ、本発明の混合物中の化合物(I)を化合物(Ic)とした後に、塩基の存在下、ベンズアルデヒド化合物(1)と反応させることにより、化合物(2)を得ることができる。
 具体的には、先ず、本発明の混合物に、塩化チオニル、塩化スルフリル、塩化オキサリル、三塩化リン、五塩化リン等の塩素化剤;や、臭化チオニル等の臭素化剤;等のハロゲン化剤を作用させることにより、本発明の混合物中の化合物(I)を、前記式(Ib)中、Lがハロゲン原子である化合物(Ic)とする(ステップ1)。
 ハロゲン化剤の使用量は、本発明の混合物中の化合物(I)1モルに対して、通常1~5モル、好ましくは1.1~2モルである。
 この場合、活性化剤として、N,N-ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N-ジメチルアセトアミド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロライド、トリ(n-オクチル)メチルアンモニウムクロライド、トリオクチルメチルアンモニウムクロライド混合物等の4級アンモニウム塩を加えてもよい。
 上記反応に用いる溶媒としては、前記(α)方法αで例示したのと同様のものが挙げられる。使用量も同様である。
 反応温度は、通常、-20℃~+30℃、好ましくは-10℃~+20℃であり、反応時間は、反応規模等にもよるが、数分から数時間である。
 反応終了後は、得られる化合物(Ic)を単離することもできるが、単離することなく、反応溶液を減圧濃縮、新鮮な溶媒の追加、再度の減圧濃縮という操作を複数回繰り返すことで、反応溶液から、二酸化硫黄、ハロゲン化水素及び未反応のハロゲン化剤を除去して得られる溶液を、そのまま次のベンズアルデヒド化合物(1)との反応に用いてもよい。
 次いで、上記のようにして得られる化合物(Ic)を含む混合物と、ベンズアルデヒド化合物(1)とを、適当な溶媒中、塩基の存在下に反応させることで、化合物(2)を得ることができる。
 反応方法としては、例えば、(i)化合物(Ic)を含む混合物と塩基の溶媒溶液に、ベンズアルデヒド化合物(1)を添加して、全容を撹拌する方法、(ii)化合物(Ic)を含む混合物とベンズアルデヒド化合物(1)の溶媒溶液に、塩基を添加して、全容を撹拌する方法、(iii)ベンズアルデヒド化合物(1)と塩基の溶媒溶液に、化合物(Ic)を含む混合物を添加して、全容を撹拌する方法が挙げられる。
 ベンズアルデヒド化合物(1)の使用量は、本発明の混合物中の化合物(I)1モルに対して、通常0.3~0.5モル、好ましくは、0.40~0.49モルである。
 ベンズアルデヒド化合物(1)は、有機溶媒に溶解して用いてもよい。
 用いる有機溶媒としては、前記(α)方法αで例示したのと同様のものが挙げられる。使用量も同様である。
 用いる塩基としては、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基;水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基が挙げられる。
 塩基の使用量は、用いた本発明の混合物中の化合物(I)1モルに対し、通常1~3モルである。
 反応温度は、通常、-20℃~+30℃、好ましくは-10℃~+20℃であり、反応時間は、反応規模等にもよるが、数分から数時間である。
(γ)方法γ
 上記式(Ib)中、Lが、Q-SO-O-で示される基(Qはメチル基、フェニル基又は4-メチルフェニル基を表す。以下にて同じ。)である化合物(化合物(Ie))である場合には、以下のようにして、化合物(2)を得ることができる。
 まず、適当な溶媒中、本発明の混合物と、式:Q-SO-X(Qは前記と同じ意味を表し、Xはハロゲン原子を表す。)で表されるスルホニルハライドとを、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、4-(ジメチルアミノ)ピリジン等の塩基存在下で反応させ、本発明の混合物中の化合物(I)を化合物(Ie)とする。
 スルホニルハライドの使用量は、本発明の混合物中の化合物(I)1当量に対して、通常1~3当量である。
 塩基の使用量は、化合物(I)1当量に対して、通常1~3当量である。
 次いで、上記で得られる化合物(Ie)を含む反応混合物と、ベンズアルデヒド化合物(1)とを、前記(β)方法βのステップ2と同様に、塩基存在下に反応を行うことにより、化合物(2)を製造することができる。
 反応方法としては、例えば、(i)化合物(Ie)を含む混合物と塩基の溶媒溶液に、ベンズアルデヒド化合物(1)を添加して、全容を撹拌する方法、(ii)化合物(Ie)を含む混合物とベンズアルデヒド化合物(1)の溶媒溶液に、塩基を添加して、全容を撹拌する方法、(iii)ベンズアルデヒド化合物(1)と塩基の溶媒溶液に、化合物(Ie)を含む混合物を添加して、全容を撹拌する方法が挙げられる。
 ベンズアルデヒド化合物(1)は、公知の方法により製造することができる。また、市販されているものを、所望により精製して用いることもできる。
 以上のようにして得られる化合物(2)は、単離することなく、反応溶液をそのまま、後述する化合物(3)との反応に用いることができる。
4)重合性化合物(III)の製造方法
 本発明の重合性化合物(III)の製造方法は、上述の本発明の化合物(2)の製造方法により化合物(2)を得、このものと、下記式(3)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
(式中、Rは、水素原子、又は、炭素数1~20の有機基を表し、Axは置換基を有していてもよい芳香族基を表す。)で示されるヒドラジン化合物とを反応させることを特徴とする(下記反応式)。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
 式中、A、nは前記と同じ意味を表す。
 Rは、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数1~20の有機基を表す。
 Rの炭素数1~20の有機基としては、特に制限されないが、具体的には、置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルキニル基、置換基を有していてもよい炭素数3~12のシクロアルキル基、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2~20の有機基等が挙げられる。
 これらの中でも、Rとしては、置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルキニル基、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2~20の有機基が好ましい。
 Rの、置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルキル基の炭素数1~20のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、1-メチルペンチル基、1-エチルペンチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、n-へキシル基、イソヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、n-ノニル基、n-デシル基、n-ウンデシル基、n-ドデシル基、n-トリデシル基、n-テトラデシル基、n-ペンタデシル基、n-ヘキサデシル基、n-ヘプタデシル基、n-オクタデシル基、n-ノナデシル基、n-イコシル基等が挙げられる。置換基を有してもよい炭素数1~20のアルキル基の炭素数は、1~12であることが好ましく、4~10であることが更に好ましい。
 Rの、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルケニル基の炭素数2~20のアルケニル基としては、ビニル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、デセニル基、ウンデセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、テトラデセニル基、ペンタデセニル基、ヘキサデセニル基、ヘプタデセニル基、オクタデセニル基、ノナデセニル基、イコセニル基等が挙げられる。
 炭素数2~20のアルケニル基の炭素数は、2~12であることが好ましい。
 Rの、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルキニル基の炭素数2~20のアルキニル基としては、エチニル基、プロピニル基、2-プロピニル基(プロパルギル基)、ブチニル基、2-ブチニル基、3-ブチニル基、ペンチニル基、2-ペンチニル基、ヘキシニル基、5-ヘキシニル基、ヘプチニル基、オクチニル基、2-オクチニル基、ノナニル基、デカニル基、7-デカニル基等が挙げられる。
 Rの、置換基を有していてもよい炭素数3~12のシクロアルキル基の炭素数3~12のシクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基等が挙げられる。
 前記、Rの炭素数1~20のアルキル基、炭素数2~20のアルケニル基、炭素数2~20のアルキニル基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子;シアノ基;ジメチルアミノ基等の置換アミノ基;メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数1~20のアルコキシ基;メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基等の、炭素数1~12のアルコキシ基で置換された炭素数1~12のアルコキシ基;ニトロ基;フェニル基、ナフチル基等のアリール基;シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数3~8のシクロアルキル基;シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等の炭素数3~8のシクロアルキルオキシ基;テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ジオキソラニル基、ジオキサニル基等の炭素数2~12の環状エーテル基;フェノキシ基、ナフトキシ基等の炭素数6~14のアリールオキシ基;トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基等の、少なくとも1個がフッ素原子で置換された炭素数1~12のフルオロアルコキシ基;ベンゾフリル基;ベンゾピラニル基;ベンゾジオキソリル基;ベンゾジオキサニル基;-C(=O)-R;-C(=O)-OR;-SO;-SR;-SRで置換された炭素数1~12のアルコキシ基;水酸基;等が挙げられる。
 ここで、Rは、炭素数1~20のアルキル基、炭素数2~20のアルケニル基、炭素数3~12のシクロアルキル基、又は、炭素数5~12の芳香族炭化水素基を表す。Rの炭素数1~20のアルキル基、炭素数2~20のアルケニル基、炭素数3~12のシクロアルキル基としては、前記Rで例示したのと同様のものが挙げられる。炭素数5~12の芳香族炭化水素基としては、フェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基等が挙げられる。
 Rは、炭素数1~20のアルキル基、炭素数2~20のアルケニル基、フェニル基、又は、4-メチルフェニル基を表す。
 Rの炭素数1~20のアルキル基、炭素数2~20のアルケニル基としては、前記Rで例示したのと同様のものが挙げられる。
 前記、Rの炭素数3~12のシクロアルキル基の置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子;シアノ基;ジメチルアミノ基等の置換アミノ基;メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数1~6のアルキル基;メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数1~6のアルコキシ基;ニトロ基;フェニル基、ナフチル基等のアリール基;シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数3~8のシクロアルキル基;-C(=O)-R;-C(=O)-OR;-SO;水酸基;等が挙げられる。ここでR、Rは前記と同じ意味を表す。
 Rの、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2~20の有機基は、芳香環を複数個有するものであってもよく、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環を有するものであってもよい。
 前記芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等が挙げられる。前記芳香族複素環としては、ピロール環、フラン環、チオフェン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環等の単環の芳香族複素環;ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、キノリン環、フタラジン環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾピラゾール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、チアゾロピリジン環、オキサゾロピリジン環、チアゾロピラジン環、オキサゾロピラジン環、チアゾロピリダジン環、オキサゾロピリダジン環、チアゾロピリミジン環、オキサゾロピリミジン環等の縮合環の芳香族複素環;等が挙げられる。
 Rが有する芳香環は置換基を有していてもよい。かかる置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子;シアノ基;メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数1~6のアルキル基;ビニル基、アリル基等の炭素数2~6のアルケニル基;トリフルオロメチル基等の炭素数1~6のハロゲン化アルキル基;ジメチルアミノ基等の置換アミノ基;メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数1~6のアルコキシ基;ニトロ基;フェニル基、ナフチル基等のアリール基;-C(=O)-R;-C(=O)-OR;-SO;等が挙げられる。
 ここで、Rは炭素数1~20のアルキル基、炭素数2~20のアルケニル基、又は、炭素数3~12のシクロアルキル基を表す。Rとしては、前記Rの炭素数1~20のアルキル基、炭素数2~20のアルケニル基、炭素数3~12のシクロアルキル基として例示したのと同様のものが挙げられる。
 Rは、炭素数1~20のアルキル基、炭素数2~20のアルケニル基、フェニル基、又は、4-メチルフェニル基を表す。炭素数1~20のアルキル基、炭素数2~20のアルケニル基としては、前記Rで例示したのと同様のものが挙げられる。
 また、Rが有する芳香環は、同一又は相異なる置換基を複数有していてもよく、隣り合った二つの置換基が一緒になって結合して環を形成していてもよい。形成される環は単環であっても、縮合多環であってもよく、不飽和環であっても、飽和環であってもよい。
 なお、Rの炭素数2~20の有機基の「炭素数」は、置換基の炭素原子を含まない有機基全体の総炭素数を意味する。
 Rの、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数2~20の有機基としては、ベンゼン基、ナフタレン基、アントラセン基等の炭素数6~20の芳香族炭化水素環基;ピロール基、フラン基、チオフェン基、ピリジン基、ピリダジン基、ピリミジン基、ピラジン基、ピラゾール基、イミダゾール基、オキサゾール基、チアゾール基、ベンゾチアゾール基、ベンゾオキサゾール基、キノリン基、フタラジン基、ベンゾイミダゾール基、ベンゾピラゾール基、ベンゾフラン基、ベンゾチオフェン基、チアゾロピリジン基、オキサゾロピリジン基、チアゾロピラジン基、オキサゾロピラジン基、チアゾロピリダジン基、オキサゾロピリダジン基、チアゾロピリミジン基、オキサゾロピリミジン基等の、炭素数2~20の芳香族複素環基;芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数3~20のアルキル基;芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数4~20のアルケニル基;芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数4~20のアルキニル基;等が挙げられる。
 Axは、置換基を有してもよい芳香族基を表す。Axの好ましい具体例を以下に示す。但し、以下に示すものに限定されるものではない。なお、下記式中、「-」は環の任意の位置からのびるN原子(即ち、式(V)においてAxと結合するN原子)への結合手を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
〔式中、Xは、NR、酸素原子、硫黄原子、-SO-、又は、-SO-を表す(ただし、酸素原子、硫黄原子、-SO-、-SO-が、それぞれ隣接する場合を除く。)。Rは、水素原子、又は、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数1~6のアルキル基を表す。〕
 上記環は置換基を有していてもよい。かかる置換基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子;メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数1~6のアルキル基;シアノ基;ビニル基、アリル基等の炭素数2~6のアルケニル基;トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基等の炭素数1~6のハロゲン化アルキル基;ジメチルアミノ基等の置換アミノ基;メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数1~6のアルコキシ基;ニトロ基;フェニル基、ナフチル基等のアリール基;-C(=O)-R;-C(=O)-OR;-SO;等が挙げられる。
 ここで、Rは炭素数1~20のアルキル基、炭素数2~20のアルケニル基、フェニル基、又は、4-メチルフェニル基を表し、Rは、水素原子;メチル基、エチル基等の炭素数1~6のアルキル基;又は、フェニル基等の炭素数6~14のアリール基;を表す。
 これらの中でも、Rは、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1~6のアルキル基、及び炭素数1~6のアルコキシ基が好ましい。
 Axとしては、下記式(4)で表される基がさらに好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
 式(4)中、*はN原子との結合点を示す。
 Rは、水素原子;フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子;メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数1~6のアルキル基;シアノ基;ニトロ基;トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基等の炭素数1~6のフルオロアルキル基;メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数1~6のアルコキシ基;メチルチオ基、エチルチオ基等の炭素数1~6のアルキルチオ基;メチルアミノ基、エチルアミノ基等の一置換アミノ基;ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等の二置換アミノ基;又は、-C(=O)-O-Rを表す。ここで、Rは、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数1~10のアルキル基を表す。
 これらの中でも、Rはそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1~6のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数1~6のフルオロアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、又は、-C(=O)-O-Rであるのが好ましく、すべて水素原子であるのが特に好ましい。
 Rの置換基を有していてもよい炭素数1~10のアルキル基の炭素数1~10のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、1-メチルペンチル基、1-エチルペンチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、n-へキシル基、イソヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、n-ノニル基、n-デシル基等が挙げられる。これらの置換基としては、前記Rの置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルキル基等の置換基として例示したのと同様のものが挙げられる。
 複数のR同士は、すべて同一であっても、相異なっていてもよい。また、環を構成する任意のC-Rは窒素原子に置き換えられていてもよい。C-Rが窒素原子に置き換えられた場合の、Rを有する環の具体例を下記に示す。但し、これらに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
〔式中、Rは、前記と同じ意味を表す。〕
 これらの中でも、Rがすべて水素原子であるものが好ましい。
 化合物(2)と化合物(3)との反応、化合物(3)の入手方法等については、特許文献25等に記載の方法を採用することができる。
 重合性化合物(III)の製造において、製造中間体として本発明の混合物を用いることで、重合性化合物(III)を収率よく安価に製造することができる。
 以下、本発明を、実施例によりさらに詳細に説明する。但し、本発明は以下の実施例により何ら制限されるものではない。
(実施例1)混合物1の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
 温度計を備えた3口反応器に、窒素気流中、式(Va)で表されるtrans-1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライド 10.0g(47.83mmol)と、シクロペンチルメチルエーテル(CPME)200mlを加えた。そこへ、式(IVa)で表される4-(6-アクリロイルオキシ-ヘクス-1-イルオキシ)フェノール(DKSH社製)12.64g(47.83mmol)を加え、反応器を氷浴に浸して反応液内温を0℃とした。次いで、トリエチルアミン 4.83g(47.83mmol)を、反応液内温を10℃以下に保持しながら、5分間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、全容を25℃に戻して1時間さらに攪拌した。
 得られた反応液に、蒸留水100mlを加え、25℃にて2時間洗浄を行った後、水層を抜き出した。有機層をさらに、濃度0.5mol/リットルのフタル酸水素カリウムと水酸化ナトリウムからなる緩衝溶液(pH:5.7)250mlで2回洗浄した後、緩衝溶液を抜き出した。
 得られた有機層に、n-ヘキサン800mlを加えて結晶を析出させ、析出した結晶をろ取した。ろ過物をn-ヘキサンで洗浄後、真空乾燥させて、白色固体として混合物1を17.84g得た。
 得られた結晶を高速液体クロマトグラフ(HPLC)にて分析を行い、検量線にて定量を行ったところ、前記式(Ia)で表される重合性化合物(以下、「モノエステル」ということがある。)が、13.04g(31.16mmol)、前記式(IIa)で表される重合性化合物(以下、「ジエステル」ということがある。)が、4.76g(7.15mmol)含まれていることが分かった。
 また、得られた結晶を13C-NMR(DMF-d7)にて分析を行い、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸の含量を算出したところ、含量は40mg(0.23mmol)であった。それぞれの組成比からモル含量を計算すると、モノエステルの含量:80.84mol%、ジエステルの含量:18.56mol%、シクロヘキサンジカルボン酸の含量:0.60mol%であった。
(実施例2)混合物2の製造
 反応溶媒であるCPME200mlを、テトラヒドロフラン(THF)150mlに代えた以外は、実施例1と同様の操作を行った。その結果、白色固体を17.91g得た。
 実施例1と同様の方法により、得られた白色固体の組成を確認したところ、目的物であるモノエステルが12.89g(30.81mmol)、ジエステルが、4.98g(7.49mmol)、シクロヘキサンジカルボン酸が41mg(0.24mmol)含まれていることが分かった。それぞれの組成比からモル含量を計算すると、モノエステルの含量:79.94mol%、ジエステルの含量:19.44mol%、シクロヘキサンジカルボン酸の含量:0.61mol%であった。
(実施例3)混合物3の製造
 反応溶媒であるCPME200mlを、メチルターシャリーブチルエーテル(MTBE)200mlに代えた以外は、実施例1と同様の操作を行った。その結果、白色固体を17.70g得た。
 同様の方法で組成を確認したところ、目的物であるモノエステルが12.52g(29.92mmol)、ジエステルが、5.14g(7.73mmol)、シクロヘキサンジカルボン酸が43mg(0.25mmol)含まれていることが分かった。それぞれの組成比からモル含量を計算すると、モノエステルの含量:78.94mol%、ジエステルの含量:20.39mol%、シクロヘキサンジカルボン酸の含量:0.67mol%であった。
(実施例4)混合物4の製造
 実施例1において、反応溶媒であるCPME200mlを、ジエチルエーテル200mlに代えた以外は、実施例1と同様の操作を行った。その結果、白色固体を17.36g得た。
 同様の方法で組成を確認したところ、目的物であるモノエステルが11.91g(28.46mmol)、ジエステルが、5.40g(8.13mmol)、シクロヘキサンジカルボン酸が48mg(0.28mmol)含まれていることが分かった。それぞれの組成比からモル含量を計算すると、モノエステルの含量:77.20mol%、ジエステルの含量:22.05mol%、シクロヘキサンジカルボン酸の含量:0.75mol%であった。
(実施例5)混合物5の製造
 実施例1において、反応溶媒であるCPME200mlを、ジブチルエーテル300mlに代えた以外は、実施例1と同様の操作を行った。その結果、白色固体を18.48g得た。
 同様の方法で組成を確認したところ、目的物であるモノエステルが15.07g(36.01mmol)、ジエステルが、3.38g(5.08mmol)、シクロヘキサンジカルボン酸が27mg(0.16mmol)含まれていることが分かった。それぞれの組成比からモル含量を計算すると、モノエステルの含量:87.30mol%、ジエステルの含量:12.32mol%、シクロヘキサンジカルボン酸の含量:0.38mol%であった。
(実施例6)混合物6の製造
 実施例1において、反応溶媒であるCPME200mlを、ジイソプロピルエーテル300mlに代えた以外は、実施例1と同様の操作を行った。その結果、白色固体を17.74g得た。
 同様の方法で組成を確認したところ、目的物であるモノエステルが13.48g(32.22mmol)、ジエステルが、4.22g(6.35mmol)、シクロヘキサンジカルボン酸が38mg(0.22mmol)含まれていることが分かった。それぞれの組成比からモル含量を計算すると、モノエステルの含量:83.06mol%、ジエステルの含量:16.37mol%、シクロヘキサンジカルボン酸の含量:0.57mol%であった。
(実施例7)混合物7の製造
 実施例1において、反応溶媒であるCPME200mlを、1,2-ジメトキシエタン200mlに代えた以外は、実施例1と同様の操作を行った。その結果、白色固体を17.76g得た。
 同様の方法で組成を確認したところ、目的物であるモノエステルが11.26g(26.90mmol)、ジエステルが、6.45g(9.70mmol)、シクロヘキサンジカルボン酸が50mg(0.29mmol)含まれていることが分かった。それぞれの組成比からモル含量を計算すると、モノエステルの含量:72.91mol%、ジエステルの含量:26.30mol%、シクロヘキサンジカルボン酸の含量:0.79mol%であった。
(実施例8)混合物8の製造
 実施例1において、反応溶媒であるCPME200mlを、2-ブタノン200mlに代えた以外は、実施例1と同様の操作を行った。その結果、白色固体を16.29g得た。
 同様の方法で組成を確認したところ、目的物であるモノエステルが10.56g(25.22mmol)、ジエステルが、5.68g(8.54mmol)、シクロヘキサンジカルボン酸が58mg(0.34mmol)含まれていることが分かった。それぞれの組成比からモル含量を計算すると、モノエステルの含量:73.96mol%、ジエステルの含量:25.05mol%、シクロヘキサンジカルボン酸の含量:0.99mol%であった。
(実施例9)混合物9の製造
 実施例1において、反応溶媒であるCPME200mlを、クロロホルム200mlに代えた以外は、実施例1と同様の操作を行った。その結果、白色固体を17.25g得た。
 同様の方法で組成を確認したところ、目的物であるモノエステルが11.63g(27.80mmol)、ジエステルが、5.57g(8.37mmol)、シクロヘキサンジカルボン酸が50mg(0.29mmol)含まれていることが分かった。それぞれの組成比からモル含量を計算すると、モノエステルの含量:76.24mol%、ジエステルの含量:22.97mol%、シクロヘキサンジカルボン酸の含量:0.79mol%であった。
(実施例10)混合物10の製造
 実施例1において、反応溶媒であるCPME200mlを、酢酸エチル200mlに代えた以外は、実施例1と同様の操作を行った。その結果、白色固体を17.73g得た。
 同様の方法で組成を確認したところ、目的物であるモノエステルが11.80g(28.20mmol)、ジエステルが、5.88g(8.84mmol)、シクロヘキサンジカルボン酸が47mg(0.28mmol)含まれていることが分かった。それぞれの組成比からモル含量を計算すると、モノエステルの含量:75.57mol%、ジエステルの含量:23.69mol%、シクロヘキサンジカルボン酸の含量:0.74mol%であった。
(実施例11)混合物11の製造
 実施例1において、反応溶媒であるCPME200mlを、トルエン200mlに代えた以外は、実施例1と同様の操作を行った。その結果、白色固体を17.04g得た。
 同様の方法で組成を確認したところ、目的物であるモノエステルが12.30g(29.39mmol)、ジエステルが、4.70g(7.06mmol)、シクロヘキサンジカルボン酸が46mg(0.27mmol)含まれていることが分かった。それぞれの組成比からモル含量を計算すると、モノエステルの含量:80.04mol%、ジエステルの含量:19.23mol%、シクロヘキサンジカルボン酸の含量:0.73mol%であった。
(実施例12)混合物12の製造
 実施例1において、反応溶媒であるCPME200mlを、THF70mlとシクロヘキサン130mlの混合溶媒に代えた以外は、実施例1と同様の操作を行った。その結果、白色固体を16.91g得た。
 同様の方法で組成を確認したところ、目的物であるモノエステルが13.79g(32.96mmol)、ジエステルが3.08g(4.63mmol)、シクロヘキサンジカルボン酸が38mg(0.22mmol)含まれていることが分かった。それぞれの組成比からモル含量を計算すると、モノエステルの含量:87.17mol%、ジエステルの含量:12.25mol%、シクロヘキサンジカルボン酸の含量:0.59mol%であった。
(実施例13)混合物13の製造
 実施例1において、反応溶媒であるCPME200mlを、CPME150mlとシクロヘキサン100mlの混合溶媒に代えた以外は、実施例1と同様の操作を行った。その結果、白色固体を17.31g得た。
 同様の方法で組成を確認したところ、目的物であるモノエステルが13.10g(31.30mmol)、ジエステルが、4.17g(6.27mmol)、シクロヘキサンジカルボン酸が41mg(0.24mmol)含まれていることが分かった。それぞれの組成比からモル含量を計算すると、モノエステルの含量:82.77mol%、ジエステルの含量:16.59mol%、シクロヘキサンジカルボン酸の含量:0.63mol%であった。
(実施例14)混合物14の製造
 実施例1において、反応溶媒であるCPME200mlを、ジブチルエーテル100mlとCPME100mlの混合溶媒に代えた以外は、実施例1と同様の操作を行った。その結果、白色固体を17.96g得た。
 同様の方法で組成を確認したところ、目的物であるモノエステルが12.83g(30.66mmol)、ジエステルが、5.09g(7.65mmol)、シクロヘキサンジカルボン酸が41mg(0.24mmol)含まれていることが分かった。それぞれの組成比からモル含量を計算すると、モノエステルの含量:79.54mol%、ジエステルの含量:19.85mol%、シクロヘキサンジカルボン酸の含量:0.62mol%であった。
(実施例15)混合物15の製造
 実施例1において、反応溶媒であるCPME200mlを、ジブチルエーテル150mlとトルエン50mlの混合溶媒に代えた以外は、実施例1と同様の操作を行った。その結果、白色固体を17.56g得た。
 同様の方法で組成を確認したところ、目的物であるモノエステルが12.61g(30.14mmol)、ジエステルが、4.90g(7.38mmol)、シクロヘキサンジカルボン酸が43mg(0.25mmol)含まれていることが分かった。それぞれの組成比からモル含量を計算すると、モノエステルの含量:79.80mol%、ジエステルの含量:19.53mol%、シクロヘキサンジカルボン酸の含量:0.67mol%であった。
(実施例16)混合物16の製造
 実施例1において、反応溶媒であるCPME200mlを、CPME150mlとトルエン50mlの混合溶媒に代えた以外は、実施例1と同様の操作を行った。その結果、白色固体を17.84g得た。
 同様の方法で組成を確認したところ、目的物であるモノエステルが12.14g(29.02mmol)、ジエステルが、5.65g(8.50mmol)、シクロヘキサンジカルボン酸が45mg(0.26mmol)含まれていることが分かった。それぞれの組成比からモル含量を計算すると、モノエステルの含量:76.80mol%、ジエステルの含量:22.51mol%、シクロヘキサンジカルボン酸の含量:0.69mol%であった。
(実施例17)混合物17の製造
 温度計を備えた3口反応器に、窒素気流中、trans-1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライド 10.0g(47.83mmol)とCPME200mlを加えた。そこへ、4-(6-アクリロイルオキシ-ヘクス-1-イルオキシ)フェノール(DKSH社製)12.64g(47.83mmol)を加え、反応器を氷浴に浸して反応液内温を0℃とした。次いで、トリエチルアミン 4.83g(47.83mmol)を、反応液内温を10℃以下に保持しながら、5分間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、全容を25℃に戻して1時間さらに攪拌した。
 得られた反応液に、蒸留水100mlを加えて25℃にて2時間洗浄を行った後、水層を抜き出した。有機層をさらに、濃度1mol/リットルの酢酸と酢酸ナトリウムからなる緩衝溶液(pH:5.5)250mlで2回洗浄を行った後、緩衝溶液を抜き出した。得られた有機層にn-ヘキサン800mlを加えて結晶を析出させ、析出した結晶をろ取した。ろ過物をn-ヘキサンで洗浄後、真空乾燥させて、白色固体として混合物17を17.93g得た。
 得られた結晶をHPLCにて分析を行い、検量線にてモノエステルとジエステルの定量を行ったところ、目的物であるモノエステルが、13.14g(31.40mmol)、ジエステルが、4.79g(7.21mmol)含まれていることが分かった。また、得られた結晶を13C-NMR(DMF-d7)にて分析を行い、シクロヘキサンジカルボン酸の含量を算出したところ、検出限界以下であった。それぞれの組成比からモル含量を計算すると、モノエステルの含量:81.67mol%、ジエステルの含量:18.67mol%であった。
(実施例18)混合物18の製造
 実施例17において、反応溶媒であるCPME200mlを、THF150mlに代えた以外は、実施例17と同様の操作を行った。その結果、白色固体を18.01g得た。
 同様の方法で組成を確認したところ、目的物であるモノエステルが12.99g(31.04mmol)、ジエステルが、5.02g(7.55mmol)、シクロヘキサンジカルボン酸は検出限界以下であった。それぞれの組成比からモル含量を計算すると、モノエステルの含量:80.44mol%、ジエステルの含量:19.56mol%であった。
(実施例19)混合物19の製造
 実施例17において、反応溶媒であるCPME200mlを、MTBE200mlに代えた以外は、実施例17と同様の操作を行った。その結果、白色固体を17.79g得た。
 同様の方法で組成を確認したところ、目的物であるモノエステルが12.61g(30.14mmol)、ジエステルが、5.18g(7.79mmol)、シクロヘキサンジカルボン酸は検出限界以下であった。それぞれの組成比からモル含量を計算すると、モノエステルの含量:79.47mol%、ジエステルの含量:19.56mol%であった。
(実施例20)混合物20の製造
 実施例17において、反応溶媒であるCPME200mlを、ジエチルエーテル200mlに代えた以外は、実施例17と同様の操作を行った。その結果、白色固体を17.45g得た。
 同様の方法で組成を確認したところ、目的物であるモノエステルが12.00g(28.68mmol)、ジエステルが、5.44g(8.19mmol)、シクロヘキサンジカルボン酸検出限界以下であった。それぞれの組成比からモル含量を計算すると、モノエステルの含量:77.79mol%、ジエステルの含量:22.21mol%であった。
(実施例21)混合物21の製造
 実施例17において、反応溶媒であるCPME200mlを、ジブチルエーテル300mlに代えた以外は、実施例17と同様の操作を行った。その結果、白色固体を18.59g得た。
 同様の方法で組成を確認したところ、目的物であるモノエステルが15.19g(36.29mmol)、ジエステルが、3.40g(5.12mmol)、シクロヘキサンジカルボン酸は検出限界以下であった。それぞれの組成比からモル含量を計算すると、モノエステルの含量:87.63mol%、ジエステルの含量:12.37mol%であった。
(実施例22)混合物22の製造
 実施例17において、反応溶媒であるCPME200mlを、ジイソプロピルエーテル300mlに代えた以外は、実施例17と同様の操作を行った。その結果、白色固体を17.84g得た。
 同様の方法で組成を確認したところ、目的物であるモノエステルが13.59g(32.47mmol)、ジエステルが、4.25g(6.40mmol)、シクロヘキサンジカルボン酸は検出限界以下であった。それぞれの組成比からモル含量を計算すると、モノエステルの含量:83.53mol%、ジエステルの含量:16.47mol%であった。
(実施例23)混合物23の製造
 実施例17において、反応溶媒であるCPME200mlを、1,2-ジメトキシエタン200mlに代えた以外は、実施例17と同様の操作を行った。その結果、白色固体を17.84g得た。
 同様の方法で組成を確認したところ、目的物であるモノエステルが11.34g(27.10mmol)、ジエステルが、6.50g(9.78mmol)、シクロヘキサンジカルボン酸は検出限界以下であった。それぞれの組成比からモル含量を計算すると、モノエステルの含量:73.49mol%、ジエステルの含量:26.51mol%であった。
(実施例24)混合物24の製造
 実施例17において、反応溶媒であるCPME200mlを、2-ブタノン200mlに代えた以外は、実施例17と同様の操作を行った。その結果、白色固体を16.36g得た。
 同様の方法で組成を確認したところ、目的物であるモノエステルが10.64g(25.42mmol)、ジエステルが、5.72g(8.61mmol)、シクロヘキサンジカルボン酸は検出限界以下であった。それぞれの組成比からモル含量を計算すると、モノエステルの含量:74.70mol%、ジエステルの含量:25.30mol%であった。
(実施例25)混合物25の製造
 実施例17において、反応溶媒であるCPME200mlを、クロロホルム200mlに代えた以外は、実施例17と同様の操作を行った。その結果、白色固体を17.33g得た。
 同様の方法で組成を確認したところ、目的物であるモノエステルが11.72g(28.01mmol)、ジエステルが、5.61g(8.44mmol)、シクロヘキサンジカルボン酸は検出限界以下であった。それぞれの組成比からモル含量を計算すると、モノエステルの含量:76.85mol%、ジエステルの含量:23.15mol%であった。
(実施例26)混合物26の製造
 実施例17において、反応溶媒であるCPME200mlを、酢酸エチル200mlに代えた以外は、実施例17と同様の操作を行った。その結果、白色固体を17.81g得た。
 同様の方法で組成を確認したところ、目的物であるモノエステルが11.89g(28.42mmol)、ジエステルが、5.92g(8.91mmol)、シクロヘキサンジカルボン酸は検出限界以下であった。それぞれの組成比からモル含量を計算すると、モノエステルの含量:76.13mol%、ジエステルの含量:23.87mol%であった。
(実施例27)混合物27の製造
 実施例17において、反応溶媒であるCPME200mlを、トルエン200mlに代えた以外は、実施例17と同様の操作を行った。その結果、白色固体を17.13g得た。
 同様の方法で組成を確認したところ、目的物であるモノエステルが12.39g(29.62mmol)、ジエステルが、4.73g(7.12mmol)、シクロヘキサンジカルボン酸は検出限界以下であった。それぞれの組成比からモル含量を計算すると、モノエステルの含量:80.63mol%、ジエステルの含量:19.37mol%であった。
(実施例28)混合物28の製造
 実施例17において、反応溶媒であるCPME200mlを、THF70mlとシクロヘキサン130mlの混合溶媒に代えた以外は、実施例17と同様の操作を行った。その結果、白色固体を17.00g得た。
 同様の方法で組成を確認したところ、目的物であるモノエステルが13.90g(33.21mmol)、ジエステルが、3.10g(4.67mmol)、シクロヘキサンジカルボン酸は検出限界以下であった。それぞれの組成比からモル含量を計算すると、モノエステルの含量:87.68mol%、ジエステルの含量:12.32mol%であった。
(実施例29)混合物29の製造
 実施例17において、反応溶媒であるCPME200mlを、CPME150mlとシクロヘキサン100mlの混合溶媒に代えた以外は、実施例17と同様の操作を行った。その結果、白色固体を17.40g得た。
 同様の方法で組成を確認したところ、目的物であるモノエステルが13.20g(31.53mmol)、ジエステルが、4.20g(6.32mmol)、シクロヘキサンジカルボン酸は検出限界以下であった。それぞれの組成比からモル含量を計算すると、モノエステルの含量:83.30mol%、ジエステルの含量:16.70mol%であった。
(実施例30)混合物30の製造
 実施例17において、反応溶媒であるCPME200mlを、ジブチルエーテル100mlとCPME100mlの混合溶媒に代えた以外は、実施例17と同様の操作を行った。その結果、白色固体を18.05g得た。
 同様の方法で組成を確認したところ、目的物であるモノエステルが12.93g(30.90mmol)、ジエステルが、5.12g(7.71mmol)、シクロヘキサンジカルボン酸は検出限界以下であった。それぞれの組成比からモル含量を計算すると、モノエステルの含量:80.03mol%、ジエステルの含量:19.97mol%であった。
(実施例31)混合物31の製造
 実施例17において、反応溶媒であるCPME200mlを、ジブチルエーテル150mlとトルエン50mlの混合溶媒に代えた以外は、実施例17と同様の操作を行った。その結果、白色固体を17.65g得た。
 同様の方法で組成を確認したところ、目的物であるモノエステルが12.71g(30.37mmol)、ジエステルが、4.94g(7.43mmol)、シクロヘキサンジカルボン酸は検出限界以下であった。それぞれの組成比からモル含量を計算すると、モノエステルの含量:80.34mol%、ジエステルの含量:19.66mol%であった。
(実施例32)混合物32の製造
 実施例17において、反応溶媒であるCPME200mlを、CPME150mlとトルエン50mlの混合溶媒に代えた以外は、実施例17と同様の操作を行った。その結果、白色固体を17.93g得た。
 同様の方法で組成を確認したところ、目的物であるモノエステルが12.24g(29.24mmol)、ジエステルが、5.70g(8.57mmol)、シクロヘキサンジカルボン酸は検出限界以下であった。それぞれの組成比からモル含量を計算すると、モノエステルの含量:77.34mol%、ジエステルの含量:22.66mol%であった。
(実施例33)混合物33の製造
 温度計を備えた3口反応器に、窒素気流中、trans-1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライド 10.0g(47.83mmol)とCPME200mlを加えた。そこへ、4-(6-アクリロイルオキシ-ヘクス-1-イルオキシ)フェノール(DKSH社製)12.64g(47.83mmol)を加え、反応器を氷浴に浸して反応液内温を0℃とした。次いで、トリエチルアミン 4.83g(47.83mmol)を、反応液内温を10℃以下に保持しながら、5分間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、全容を25℃に戻して1時間さらに攪拌した。得られた反応液に、蒸留水100mlを加えて25℃にて2時間洗浄を行った後、水層を抜き出した。有機層をさらに、濃度1mol/リットルの酢酸と酢酸ナトリウムからなる緩衝溶液(pH:5.5)250mlで2回洗浄を行った後、緩衝溶液を抜き出した。得られた有機層を撹拌しながら徐々に0℃まで冷却し、0℃で1時間撹拌した後、析出した固体をろ別した。ろ液にn-ヘキサン500mlを加えて結晶を析出させ、析出した結晶をろ取した。ろ過物をn-ヘキサンで洗浄後、真空乾燥させて、白色固体として混合物33を14.34g得た。
 得られた結晶をHPLCにて分析を行い、検量線にてモノエステルとジエステルの定量を行ったところ、目的物であるモノエステルが、13.14g(31.40mmol)、ジエステルが、1.20g(1.80mmol)含まれていることが分かった。また、得られた結晶を13C-NMR(DMF-d7)にて分析を行い、シクロヘキサンジカルボン酸は検出限界以下であった。それぞれの組成比からモル含量を計算すると、モノエステルの含量:94.57mol%、ジエステルの含量:5.43mol%であった。
(実施例34)混合物34の製造
 温度計を備えた3口反応器に、窒素気流中、trans-1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライド 10.0g(47.83mmol)とジブチルエーテル300mlを加えた。そこへ、4-(6-アクリロイルオキシ-ヘクス-1-イルオキシ)フェノール(DKSH社製)12.64g(47.83mmol)を加え、反応器を氷浴に浸して反応液内温を0℃とした。次いで、トリエチルアミン 4.83g(47.83mmol)を、反応液内温を10℃以下に保持しながら、5分間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、全容を25℃に戻して1時間さらに攪拌した。得られた反応液に、蒸留水100mlを加えて25℃にて2時間洗浄を行った後、水層を抜き出した。有機層をさらに、濃度1mol/リットルの酢酸と酢酸ナトリウムからなる緩衝溶液(pH:5.5)250mlで2回洗浄を行った後、緩衝溶液を抜き出した。得られた有機層を撹拌しながら徐々に0℃まで冷却し、0℃で1時間撹拌した後、析出した固体をろ別した。ろ液にn-ヘキサン500mlを加えて結晶を析出させ、析出した結晶をろ取した。ろ過物をn-ヘキサンで洗浄後、真空乾燥させて、白色固体として混合物34を16.04g得た。
 得られた結晶をHPLCにて分析を行い、検量線にてモノエステルとジエステルの定量を行ったところ、目的物であるモノエステルが、15.19g(36.29mmol)、ジエステルが、0.85g(1.28mmol)含まれていることが分かった。また、得られた結晶を13C-NMR(DMF-d7)にて分析を行い、シクロヘキサンジカルボン酸は検出限界以下であった。それぞれの組成比からモル含量を計算すると、モノエステルの含量:96.59mol%、ジエステルの含量:3.41mol%であった。
(実施例35)混合物35の製造
温度計を備えた3口反応器に、窒素気流中、trans-1,4-シクロヘキサン10g(58mmol)と、N-メチル-2-ピロリドン(NMP)30gを加えて溶液を得た。得られた溶液に、式(IVa)で表される4-(6-アクリロイルオキシ-ヘクス-1-イルオキシ)フェノール(DKSH社製)3.07 g(11.6mmol)、4-(ジメチルアミノ)ピリジン0.71g(5.8mmol)を加えた。この溶液に、1-(3-ジメチルアミノプロピル)-3-エチルカルボジイミド塩酸塩2.67g(13.9mmol)を1時間かけてゆっくり滴下した。その後全容を15時間撹拌して、エステル化反応を行った 。得られた反応液に、蒸留水250ml、食塩水50ml、酢酸エチル200mlを加えて、25℃にて全容を攪拌した後分液して、水層を抜き出した。有機層をさらに、濃度1mol/リットルの酢酸と酢酸ナトリウムからなる緩衝溶液(pH:5.5)250mlで5回洗浄を行った後、緩衝溶液を抜き出した。得られた有機層にn-ヘキサン800mlを加えて結晶を析出させ、析出した結晶をろ取した。ろ過物をn-ヘキサンで洗浄後、真空乾燥させて、白色固体として混合物35を18.0g得た。
 得られた結晶をHPLCにて分析を行い、検量線にてモノエステルとジエステルの定量を行ったところ、目的物であるモノエステルが、13.19g(31.52mmol)、ジエステルが、4.81g(7.24mmol)含まれていることが分かった。また、得られた結晶を13C-NMR(DMF-d7)にて分析を行い、シクロヘキサンジカルボン酸の含量を算出したところ、検出限界以下であった。それぞれの組成比からモル含量を計算すると、モノエステルの含量:81.32mol%、ジエステルの含量:18.68mol%であった。
(実施例36)混合物36の製造
 温度計を備えた3口反応器に、窒素気流中、trans-1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライド 10.0g(47.83mmol)とCPME 84mlとTHF 31mlを加えた。そこへ、4-(6-アクリロイルオキシ-ヘクス-1-イルオキシ)フェノール(DKSH社製)12.04g(45.55mmol)を加え、反応器を氷浴に浸して反応液内温を0℃とした。次いで、トリエチルアミン 4.83g(47.83mmol)を、反応液内温を10℃以下に保持しながら、5分間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、全容を10℃以下に保持しながら1時間さらに攪拌した。
 得られた反応液に、蒸留水30mlを加えた。この反応液を50℃に昇温した後、2時間洗浄(加水分解反応)した後、水層を抜き出した。さらに、得られた有機層に、新たに蒸留水30mlを加えた後、全容を50℃にて2時間洗浄(加水分解反応)を行い、水層を抜き出した。得られた有機層を40℃に冷却した後、さらに、濃度1mol/リットルの酢酸と酢酸ナトリウムからなる緩衝溶液(pH:5.5)50gを加えて、撹拌することで洗浄した。その後、緩衝溶液水層を抜き出し、有機層を得た。この緩衝溶液による洗浄操作を合計5回行った。得られた有機層にさらに、蒸留水30mlで洗浄を行った後、水層を抜き出した。
 得られた有機層に、40℃にてn-ヘキサン214mlを加えた後、0℃まで冷却して結晶を析出させた。その後、析出した結晶をろ過によりろ取した。ろ過物をn-ヘキサンで洗浄後、真空乾燥させて、白色固体として混合物36を16.78g得た。
 得られた結晶をHPLCにて分析を行い、検量線にてモノエステルとジエステルの定量を行ったところ、目的物であるモノエステルが、11.49g(27.45mmol)、ジエステルが、5.29g(7.96mmol)含まれていることが分かった。また、得られた結晶を13C-NMR(DMF-d7)にて分析を行い、シクロヘキサンジカルボン酸の含量を算出したところ、検出限界以下であった。それぞれの組成比からモル含量を計算すると、モノエステルの含量:77.52mol%、ジエステルの含量:22.48mol%であった。
(比較例1)混合物Aの製造
 温度計を備えた3口反応器に、窒素気流中、trans-1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライド 10.0g(47.83mmol)とCPME200mlを加えた。そこへ、4-(6-アクリロイルオキシ-ヘクス-1-イルオキシ)フェノール(DKSH社製)12.64g(47.83mmol)を加え、反応器を氷浴に浸して反応液内温を0℃とした。次いで、トリエチルアミン 4.83g(47.83mmol)を、反応液内温を10℃以下に保持しながら、5分間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、全容を25℃に戻して1時間さらに攪拌した。得られた反応液に、蒸留水100mlを加えて25℃にて2時間洗浄を行った後、水層を抜き出した。得られた有機層にヘキサン800mlを加えて結晶を析出させ、析出した結晶をろ取した。ろ過物をn-ヘキサンで洗浄後、真空乾燥させて、白色固体として混合物Aを19.96g得た。
 得られた結晶をHPLCにて分析を行い、検量線にてモノエステルとジエステルの定量を行ったところ、目的物であるモノエステルが、13.14g(31.40mmol)、ジエステルが、4.79g(7.21mmol)含まれていることが分かった。また、得られた結晶を13C-NMR(DMF-d7)にて分析を行い、シクロヘキサンジカルボン酸の含量を算出したところ、含量は2.02g(11.76mmol)であった。それぞれの組成比からモル含量を計算すると、モノエステルの含量:62.34mol%、ジエステルの含量:14.31mol%、シクロヘキサンジカルボン酸の含量:23.35mol%であった。
(比較例2)混合物Bの製造
 比較例1において、反応溶媒であるCPME200mlを、ジブチルエーテル300mlに代えた以外は、比較例1と同様の操作を行った。その結果、白色固体を19.95g得た。
 同様の方法で組成を確認したところ、目的物であるモノエステルが15.19g(36.29mmol)、ジエステルが、3.40g(5.12mmol)、シクロヘキサンジカルボン酸が1.36g(7.91mmol)含まれていることが分かった。それぞれの組成比からモル含量を計算すると、モノエステルの含量:73.58mol%、ジエステルの含量:10.38mol%、シクロヘキサンジカルボン酸の含量:16.04mol%であった。
(比較例3)混合物Cの製造
 温度計を備えた3口反応器に、窒素気流中、trans-1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライド 10.0g(47.83mmol)とNMP100mlを加えた。そこへ、4-(6-アクリロイルオキシ-ヘクス-1-イルオキシ)フェノール(DKSH社製)12.64g(47.83mmol)を加え、反応器を氷浴に浸して反応液内温を0℃とした。次いで、トリエチルアミン 4.83g(47.83mmol)を、反応液内温を10℃以下に保持しながら、5分間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、全容を25℃に戻して1時間さらに攪拌した。得られた反応液に、蒸留水1000mlを加えて25℃にて2時間撹拌した後、酢酸エチル200mlで抽出を行った。得られた有機層にn-ヘキサン800mlを加えて結晶を析出させ、析出した結晶をろ取した。ろ過物をn-ヘキサンで洗浄後、真空乾燥させて、白色固体として混合物Cを20.46g得た。
 得られた結晶をHPLCにて分析を行い、検量線にてモノエステルとジエステルの定量を行ったところ、目的物であるモノエステルが、6.98g(16.68mmol)、ジエステルが、9.54g(14.34mmol)含まれていることが分かった。また、得られた結晶を13C-NMR(DMF-d7)にて分析を行い、シクロヘキサンジカルボン酸の含量を算出したところ、シクロヘキサンジカルボン酸が3.94g(22.91mmol)含まれていることが分かった。それぞれの組成比からモル含量を計算すると、モノエステルの含量:30.92mol%、ジエステルの含量:26.60mol%、シクロヘキサンジカルボン酸の含量:42.48mol%であった。
(比較例4)混合物Dの製造
 温度計を備えた3口反応器に、窒素気流中、trans-1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライド 10.0g(47.83mmol)とγ-ブチロラクトン100mlを加えた。そこへ、4-(6-アクリロイルオキシ-ヘクス-1-イルオキシ)フェノール(DKSH社製)12.64g(47.83mmol)を加え、反応器を氷浴に浸して反応液内温を0℃とした。次いで、トリエチルアミン 4.83g(47.83mmol)を、反応液内温を10℃以下に保持しながら、5分間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、全容を25℃に戻して1時間さらに攪拌した。得られた反応液に、蒸留水1000mlを加えて25℃にて2時間撹拌した後、酢酸エチル200mlで抽出を行った。得られた有機層にn-ヘキサン800mlを加えて結晶を析出させ、析出した結晶をろ取した。ろ過物をn-ヘキサンで洗浄後、真空乾燥させて、白色固体として混合物Dを20.59g得た。
 得られた結晶をHPLCにて分析を行い、検量線にてモノエステルとジエステルの定量を行ったところ、目的物であるモノエステルが、9.64g(23.03mmol)、ジエステルが、7.89g(11.86mmol)含まれていることが分かった。また、得られた結晶を13C-NMR(DMF-d7)にて分析を行い、シクロヘキサンジカルボン酸の含量を算出したところ、シクロヘキサンジカルボン酸が3.07g(17.80mmol)含まれていることが分かった。それぞれの組成比からモル含量を計算すると、モノエステルの含量:43.70mol%、ジエステルの含量:22.51mol%、シクロヘキサンジカルボン酸の含量:33.79mol%であった。
(比較例5)混合物Eの製造
 温度計を備えた3口反応器に、窒素気流中、trans-1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライド 10.0g(47.83mmol)とCPME 84mlとTHF 31mlを加えた。そこへ、4-(6-アクリロイルオキシ-ヘクス-1-イルオキシ)フェノール(DKSH社製)12.04g(45.55mmol)を加え、反応器を氷浴に浸して反応液内温を0℃とした。次いで、トリエチルアミン 4.83g(47.83mmol)を、反応液内温を10℃以下に保持しながら、5分間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、全容を10℃以下に保持しながら1時間さらに攪拌した。
 得られた反応液に、蒸留水30mlを加えた。この反応液を50℃に昇温した後、2時間洗浄(加水分解反応)した後、水層を抜き出した。さらに、得られた有機層に、新たに蒸留水30mlを加えた後、全容を50℃にて2時間洗浄(加水分解反応)を行い、水層を抜き出した。得られた有機層を40℃に冷却した後、40℃にてn-ヘキサン214mlを加えた後、0℃まで冷却して結晶を析出させた。その後、析出した結晶をろ過によりろ取した。ろ過物をn-ヘキサンで洗浄後、真空乾燥させて、白色固体として混合物Eを18.72g得た。
 得られた結晶をHPLCにて分析を行い、検量線にてモノエステルとジエステルの定量を行ったところ、目的物であるモノエステルが、11.50g(27.48mmol)、ジエステルが、5.30g(7.97mmol)含まれていることが分かった。また、得られた結晶を13C-NMR(DMF-d7)にて分析を行い、シクロヘキサンジカルボン酸の含量を算出したところ、シクロヘキサンジカルボン酸が、1.92g(11.56mmol)含まれていることが分かった。それぞれの組成比からモル含量を計算すると、モノエステルの含量:58.46mol%、ジエステルの含量:16.95mol%、シクロヘキサンジカルボン酸の含量:24.59mol%であった。
(実施例37)重合性化合物(IIIa)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
重合性化合物(IIIa)
ステップ1:化合物(3a)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
化合物(3a)
 温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、2-ヒドラジノベンゾチアゾール20.0g(0.12mol)、及びDMF200mlを入れ、均一な溶液とした。この溶液に、炭酸カリウム83.6g(0.61mol)、1-ヨード-n-ヘキサン30.8g(0.15mol)を加え、全容を50℃で7時間撹拌した。反応終了後、反応液を20℃まで冷却した後、反応液を水1000mlに投入し、酢酸エチル800mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、硫酸ナトリウムを濾別した。ロータリーエバポレーターにて、ろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n-ヘキサン:酢酸エチル=75:25(容積比))により精製することにより、化合物(3a)を白色固体として21.0g得た(収率:69.6%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.60(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.53(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.27(ddd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz,8.0Hz)、7.06(ddd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz,8.0Hz)、4.22(s,2H)、3.74(t,2H,J=7.5Hz)、1.69-1.76(m,2H)、1.29-1.42(m,6H)、0.89(t,3H,J=7.0Hz)
ステップ2:重合性化合物(IIIa)の製造
 温度計を備えた3口反応器に、窒素気流中、実施例1で合成した混合物1:17.84g(全量)及びトルエン150g、DMF1.5gを加えて、10℃以下に冷却した。そこへ、塩化チオニル5.94g(50.0mmol)を反応温度が10℃以下になるように制御して滴下した。滴下終了後、反応液を25℃に戻して1時間撹拌した。反応終了後、エバポレーターにて反応液の量が半分になるまで濃縮した。その後、抜き出した量と同じ量のトルエンを加えて、エバポレーターにて反応液の量が半分になるまで濃縮した。この操作を5回繰り返し、反応溶液1を得た。
 別途、温度計を備えた3口反応器に、窒素気流中、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド2.18g(15.81mmol)、トリエチルアミン4.80g(47.44mmol)を80gのTHFに溶解させ、10℃以下まで冷却した。この溶液に、前記反応溶液1を、反応液内温を10℃以下に保持しながらゆっくりと滴下した。滴下終了後、反応液を10℃以下に保持しながらさらに1時間反応を行った。反応液は、反応によって生成したトリエチルアミンの塩酸塩が析出するためクリーム状となる。
 反応終了後、10℃以下のまま、反応液に、前記ステップ1で合成した化合物(3a) 5.13g(20.56mmol)を加え、さらに1.0規定の塩酸水溶液20gを加えた。その後、反応液を40℃に昇温して5時間反応を行った。40℃に昇温した段階で析出していたトリエチルアミンの塩酸塩は溶解して、トルエンと水の透明な2層系の溶液となる。反応終了後、反応液を25℃まで冷却した後、酢酸エチル300g、10重量%食塩水150gを加えて分液操作を行い、有機層を分取した。得られた有機層をさらに2重量%の食塩水150gで2回洗浄した。その後、得られた有機層をエバポレーターにて全量の約15%だけ抜き出した。この濃縮溶液を25℃にした後、そこへ、メタノール150g、水40gの混合溶媒をゆっくりと滴下した。その後、10℃まで冷却して結晶を析出させた。その後、ろ過により結晶をろ取した。ろ過物に、THF160g、メタノール160g、2,6-ジターシャリーブチル-4-メチルフェノール10mgを加え、全容を50℃に昇温して溶解させた。その溶液を50℃にて熱時ろ過をした。得られたろ液をゆっくりと10℃まで冷却させて再結晶を行った。ろ過により結晶を単離して、真空乾燥機にて乾燥させることにより、重合性化合物(IIIa)を11.57g得た(収率:62.5%)
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(400MHz,CDCl,TMS,δppm): 7.75(d,1H,J=2.5Hz)、7.67-7.70(m,3H)、7.34(ddd,1H,J=1.0Hz,7.0Hz,7.5Hz)、7.17(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,7.5Hz)、7.12(d,1H,J=9.0Hz)、7.10(dd,1H,J=2.5Hz,9.0Hz)、6.99(d,2H,J=9.0Hz)、6.98(d,2H,J=9.0Hz)、6.88(d,4H,J=9.0Hz)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.0Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.30(t,2H,J=8.0Hz)、4.18(t,4H,J=6.5Hz)、3.95(t,4H,J=6.5Hz)、2.58-2.70(m,4H)、2.31-2.35(m,8H)、1.66-1.82(m,18H)、1.31-1.54(m,14H)、0.90(t,3H,J=7.0Hz)
(実施例38)
 実施例37のステップ2において、実施例1で合成した混合物1:17.84g(全量)を、実施例2で合成した混合物2:17.91g(全量)に、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド2.18g(15.81mmol)を、2.16g(15.64mmol)に、トリエチルアミン4.80g(47.44mmol)を、4.75g(46.92mmol)に、化合物(3a)5.13g(20.56mmol)を、5.07g(20.33mmol)に、それぞれ変更した以外は、実施例37と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIa)を11.39g得た(収率:62.2%)。
(実施例39)
 実施例37のステップ2において、実施例1で合成した混合物1:17.84g(全量)を、実施例3で合成した混合物3:17.70g(全量)に、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド2.18g(15.81mmol)を、2.10g(15.21mmol)に、トリエチルアミン4.80g(47.44mmol)を、4.62g(45.63mmol)に、化合物(3a)5.13g(20.56mmol)を、4.93g(19.77mmol)に、それぞれ変更した以外は、実施例37と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIa)を10.97g得た(収率:61.6%)。
(実施例40)
 実施例37のステップ2において、実施例1で合成した混合物1:17.84g(全量)を、実施例4で合成した混合物4:17.36g(全量)に、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド2.18g(15.81mmol)を、2.00g(14.51mmol)に、トリエチルアミン4.80g(47.44mmol)を、4.40g(43.53mmol)に、化合物(3a)5.13g(20.56mmol)を、4.70g(18.86mmol)、それぞれ変更した以外は、実施例37と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIa)を10.83g得た(収率:63.8%)。
(実施例41)
 実施例37のステップ2において、実施例1で合成した混合物1:17.84g(全量)を実施例5で合成した混合物5:18.48g(全量)に、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド2.18g(15.81mmol)を、2.51g(18.16mmol)に、トリエチルアミン4.80g(47.44mmol)を、5.51g(54.49mmol)に、化合物(3a)5.13g(20.56mmol)を、5.89g(23.61mmol)にそれぞれ変更した以外は、実施例37と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIa)を13.50g得た(収率:63.5%)。
(実施例42)
 実施例37のステップ2において、実施例1で合成した混合物1:17.84g(全量)を実施例6で合成した混合物6:17.74g(全量)に、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド2.18g(15.81mmol)を、2.26g(16.33mmol)に、トリエチルアミン4.80g(47.44mmol)を、4.96g(48.99mmol)に、化合物(3a)5.13g(20.56mmol)を化合物(3a)5.29g(21.23mmol)にそれぞれ変更した以外は、実施例37と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIa)を12.14g得た(収率:63.5%)。
(実施例43)
 実施例37のステップ2において、実施例1で合成した混合物1:17.84g(全量)を実施例7で合成した混合物7:17.76g(全量)に、2.18g(15.81mmol)を、1.90g(13.74mmol)に、トリエチルアミン4.80g(47.44mmol)を、4.17g(41.22mmol)に、化合物(3a)5.13g(20.56mmol)を、4.45g(17.86mmol)にそれぞれ変更した以外は、実施例37と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIa)を9.96g得た(収率:61.9%)。
(実施例44)
 実施例37のステップ2において、実施例1で合成した混合物1:17.84g(全量)を、実施例8で合成した混合物8:16.29g(全量)に、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド2.18g(15.81mmol)を、1.79g(12.95mmol)に、トリエチルアミン4.80g(47.44mmol)をトリエチルアミン3.93g(38.85mmol)に、化合物(3a)5.13g(20.56mmol)を、4.20g(16.83mmol)にそれぞれ変更した以外は、実施例37と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIa)を9.43g得た(収率:62.2%)。
(実施例45)
 実施例37のステップ2において、実施例1で合成した混合物1:17.84g(全量)を実施例9で合成した混合物9:17.25g(全量)に、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド2.18g(15.81mmol)を、1.96g(14.19mmol)に、トリエチルアミン4.80g(47.44mmol)を、4.31g(42.56mmol)に、化合物(3a)5.13g(20.56mmol)を、4.60g(18.44mmol)にそれぞれ変更した以外は、実施例37と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIa)を10.04g得た(収率:60.5%)。
(実施例46)
 実施例37のステップ2において、実施例1で合成した混合物1:17.84g(全量)を実施例10で合成した混合物10:17.73g(全量)に、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド2.18g(15.81mmol)を、1.99g(14.38mmol)に、トリエチルアミン4.80g(47.44mmol)を、4.36g(43.13mmol)に、化合物(3a)5.13g(20.56mmol)を、4.66g(18.69mmol)にそれぞれ変更した以外は、実施例37と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIa)を10.28g得た(収率:61.1%)。
(実施例47)
 実施例37のステップ2において、実施例1で合成した混合物1:17.84g(全量)を実施例11で合成した混合物11:17.04g(全量)に、2.18g(15.81mmol)を、2.07g(14.97mmol)に、トリエチルアミン4.80g(47.44mmol)を、4.54g(44.90mmol)に、化合物(3a)5.13g(20.56mmol)を、4.85g(19.46mmol)にそれぞれ変更した以外は、実施例37と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIa)を10.68g得た(収率:60.9%)。
(実施例48)
 実施例37のステップ2において、実施例1で合成した混合物1:17.84g(全量)を実施例12で合成した混合物12:16.91g(全量)に、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド2.18g(15.81mmol)を、2.31g(16.70mmol)に、トリエチルアミン4.80g(47.44mmol)を、5.07g(50.11mmol)に、化合物(3a)5.13g(20.56mmol)を、5.41g(21.71mmol)にそれぞれ変更した以外は、実施例37と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIa)を12.10g得た(収率:61.9%)。
(実施例49)
 実施例37のステップ2において、実施例1で合成した混合物1:17.84g(全量)を実施例13で合成した混合物13:17.31g(全量)に、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド2.18g(15.81mmol)を、2.19g(15.89mmol)に、トリエチルアミン4.80g(47.44mmol)を、4.82g(47.66mmol)に、化合物(3a)5.13g(20.56mmol)を、5.15g(20.65mmol)にそれぞれ変更した以外は、実施例37と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIa)を11.40g得た(収率:61.3%)。
(実施例50)
 実施例37のステップ2において、実施例1で合成した混合物1:17.84g(全量)を実施例14で合成した混合物14:17.96g(全量)に、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド2.18g(15.81mmol)を、2.15g(15.57mmol)に、トリエチルアミン4.80g(47.44mmol)を、4.73g(46.71mmol)に、化合物(3a)5.13g(20.56mmol)を、5.05g(20.24mmol)にそれぞれ変更した以外は、実施例37と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIa)を11.21g得た(収率:61.5%)。
(実施例51)
 実施例37のステップ2において、実施例1で合成した混合物1:17.84g(全量)を実施例15で合成した混合物15:17.56g(全量)に、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド2.18g(15.81mmol)を、2.12g(15.32mmol)に、トリエチルアミン4.80g(47.44mmol)を、4.65g(45.97mmol)に、化合物(3a)5.13g(20.56mmol)を、4.97g(19.92mmol)にそれぞれ変更した以外は、実施例37と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIa)を11.13g得た(収率:62.0%)。
(実施例52)
 実施例37のステップ2において、実施例1で合成した混合物1:17.84g(全量)を実施例16で合成した混合物16:17.84g(全量)に、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド2.18g(15.81mmol)を、2.04g(14.77mmol)に、トリエチルアミン4.80g(47.44mmol)を、4.48g(44.32mmol)に、化合物(3a)5.13g(20.56mmol)を、4.79g(19.20mmol)にそれぞれ変更した以外は、実施例37と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIa)を10.38g得た(収率:60.0%)。
(実施例53)
 実施例37のステップ2において、実施例1で合成した混合物1:17.84g(全量)を実施例17で合成した混合物17:17.93g(全量)に、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド2.18g(15.81mmol)を、2.17g(15.70mmol)に、トリエチルアミン4.80g(47.44mmol)を、4.77g(47.10mmol)に、化合物(3a)5.13g(20.56mmol)を、5.09g(20.41mmol)にそれぞれ変更した以外は、実施例37と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIa)を12.33g得た(収率:67.1%)。
(実施例54)
 実施例37のステップ2において、実施例1で合成した混合物1:17.84g(全量)を実施例18で合成した混合物18:18.01g(全量)に、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド2.18g(15.81mmol)を、2.14g(15.52mmol)に、トリエチルアミン4.80g(47.44mmol)を、4.71g(46.56mmol)に、化合物(3a)5.13g(20.56mmol)を、5.03g(20.18mmol)にそれぞれ変更した以外は、実施例37と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIa)を12.14g得た(収率:66.8%)。
(実施例55)
 実施例37のステップ2において、実施例1で合成した混合物1:17.84g(全量)を実施例19で合成した混合物19:17.79g(全量)に、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド2.18g(15.81mmol)を、2.08g(15.07mmol)に、トリエチルアミン4.80g(47.44mmol)を、4.58g(45.22mmol)に、化合物(3a)5.13g(20.56mmol)を、4.89g(19.59mmol)にそれぞれ変更した以外は、実施例37と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIa)を11.68g得た(収率:66.2%)。
(実施例56)
 実施例37のステップ2において、実施例1で合成した混合物1:17.84g(全量)を実施例20で合成した混合物20:17.45g(全量)に、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド2.18g(15.81mmol)を、1.98g(14.34mmol)に、トリエチルアミン4.80g(47.44mmol)を、4.35g(43.02mmol)に、化合物(3a)5.13g(20.56mmol)を、4.65g(18.64mmol)にそれぞれ変更した以外は、実施例37と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIa)を11.50g得た(収率:68.5%)。
(実施例57)
 実施例37のステップ2において、実施例1で合成した混合物1:17.84g(全量)を実施例21で合成した混合物21:18.59g(全量)に、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド2.18g(15.81mmol)を、2.51g(18.14mmol)に、トリエチルアミン4.80g(47.44mmol)を、5.51g(54.43mmol)に、化合物(3a)5.13g(20.56mmol)を、5.88g(23.59mmol)にそれぞれ変更した以外は、実施例37と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIa)を14.49g得た(収率:68.2%)。
(実施例58)
 実施例37のステップ2において、実施例1で合成した混合物1:17.84g(全量)を実施例22で合成した混合物22:17.84g(全量)に、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド2.18g(15.81mmol)を、2.24g(16.23mmol)に、トリエチルアミン4.80g(47.44mmol)を、4.93g(48.70mmol)に、化合物(3a)5.13g(20.56mmol)を,5.26g(21.10mmol)にそれぞれ変更した以外は、実施例37と同様の操作を行った。した以外は同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIa)を12.96g得た(収率:68.23%)。
(実施例59)
 実施例37のステップ2において、実施例1で合成した混合物1:17.84g(全量)を実施例23で合成した混合物23:17.84g(全量)に、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド2.18g(15.81mmol)を、1.87g(13.55mmol)に、トリエチルアミン4.80g(47.44mmol)を、4.11g(40.65mmol)に、化合物(3a)5.13g(20.56mmol)を、4.39g(17.62mmol)にそれぞれ変更した以外は、実施例37と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIa)を10.55g得た(収率:66.5%)。
(実施例60)
 実施例37のステップ2において、実施例1で合成した混合物1:17.84g(全量)を実施例24で合成した混合物24:16.36g(全量)に、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド2.18g(15.81mmol)を、1.76g(12.71mmol)に、トリエチルアミン4.80g(47.44mmol)を、3.86g(38.12mmol)に、化合物(3a)5.13g(20.56mmol)を、4.12g(16.52mmol)にそれぞれ変更した以外は、実施例37と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIa)を9.94g得た(収率:66.8%)。
(実施例61)
 実施例37のステップ2において、実施例1で合成した混合物1:17.84g(全量)を実施例25で合成した混合物25:17.33g(全量)に、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド2.18g(15.81mmol)を、1.93g(14.00mmol)に、トリエチルアミン4.80g(47.44mmol)を、4.25g(42.01mmol)に、化合物(3a)5.13g(20.56mmol)を、4.54g(18.20mmol)にそれぞれ変更した以外は、実施例37と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIa)を10.42g得た(収率:63.5%)。
(実施例62)
 実施例37のステップ2において、実施例1で合成した混合物1:17.84g(全量)を実施例26で合成した混合物26:17.81g(全量)に、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド2.18g(15.81mmol)を、1.96g(14.21mmol)に、トリエチルアミン4.80g(47.44mmol)を、4.31g(42.63mmol)に、化合物(3a)5.13g(20.56mmol)を、4.61g(18.47mmol)にそれぞれ変更した以外は、実施例37と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIa)を10.92g得た(収率:65.7%)。
(実施例63)
 実施例37のステップ2において、実施例1で合成した混合物1:17.84g(全量)を実施例27で合成した混合物27:17.13g(全量)に、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド2.18g(15.81mmol)を、2.05g(14.81mmol)に、トリエチルアミン4.80g(47.44mmol)を、4.50g(44.43mmol)に、化合物(3a)5.13g(20.56mmol)を、4.80g(19.25mmol)にそれぞれ変更した以外は、実施例37と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIa)を11.35g得た(収率:65.5%)。
(実施例64)
 実施例37のステップ2において、実施例1で合成した混合物1:17.84g(全量)を実施例28で合成した混合物28:17.00g(全量)に、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド2.18g(15.81mmol)を、2.29g(16.61mmol)に、トリエチルアミン4.80g(47.44mmol)を、5.04g(49.82mmol)に、化合物(3a)を5.13g(20.56mmol)を、5.38g(17.70mmol)にそれぞれ変更した以外は、実施例37と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIa)を12.92g得た(収率:66.5%)。
(実施例65)
 実施例37のステップ2において、実施例1で合成した混合物1:17.84g(全量)を実施例29で合成した混合物29:17.40g(全量)に、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド2.18g(15.81mmol)を、2.18g(15.77mmol)に、トリエチルアミン4.80g(47.44mmol)を、4.79g(47.30mmol)に、化合物(3a)5.13g(20.56mmol)を、5.11g(20.50mmol)にそれぞれ変更した以外は、実施例37と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIa)を12.15g得た(収率:65.8%)。
(実施例66)
 実施例37のステップ2において、実施例1で合成した混合物1:17.84g(全量)を実施例30で合成した混合物30:18.05g(全量)に、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド2.18g(15.81mmol)を,2.13g(15.45mmol)に、トリエチルアミン4.80g(47.44mmol)を,4.69g(46.34mmol)に、化合物(3a)5.13g(20.56mmol)を,5.01g(20.08mmol)にそれぞれ変更した以外は、実施例37と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIa)を11.94g得た(収率:66.1%)。
(実施例67)
 実施例37のステップ2において、実施例1で合成した混合物1:17.84g(全量)を実施例31で合成した混合物31:17.65g(全量)に、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド2.18g(15.81mmol)を,2.10g(15.19mmol)に、トリエチルアミン4.80g(47.44mmol)を,4.61g(45.56mmol)に、化合物(3a)5.13g(20.56mmol)を,4.92g(19.74mmol)にそれぞれ変更した以外は、実施例37と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIa)を11.85g得た(収率:66.6%)。
(実施例68)
 実施例37のステップ2において、実施例1で合成した混合物1:17.84g(全量)を実施例32で合成した混合物32:17.93g(全量)に、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド2.18g(15.81mmol)を,2.02g(14.62mmol)に、トリエチルアミン4.80g(47.44mmol)を,4.44g(43.86mmol)に、化合物(3a)5.13g(20.56mmol)を,4.74g(19.01mmol)にそれぞれ変更した以外は、実施例37と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIa)を11.03g得た(収率:64.5%)。
(実施例69)
 実施例37のステップ2において、実施例1で合成した混合物1:17.84g(全量)を実施例33で合成した混合物33:14.34g(全量)に、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド2.18g(15.81mmol)を,2.17g(15.70mmol)に、トリエチルアミン4.80g(47.44mmol)を,4.77g(47.10mmol)に、化合物(3a)5.13g(20.56mmol)を,5.09g(20.41mmol)にそれぞれ変更した以外は、実施例37と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIa)を12.63g得た(収率:68.8%)。
(実施例70)
 実施例37のステップ2において、実施例1で合成した混合物1:17.84g(全量)を実施例34で合成した混合物34:16.04g(全量)に、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド2.18g(15.81mmol)を,2.51g(18.14mmol)に、トリエチルアミン4.80g(47.44mmol)を、5.51g(54.43mmol)に、化合物(3a)5.13g(20.56mmol)を,5.88g(23.59mmol)にそれぞれ変更した以外は、実施例37と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIa)を14.56g得た(収率:68.5%)。
(実施例71)
 実施例37のステップ2において、実施例1で合成した混合物1:17.84g(全量)を実施例35で合成した混合物35:17.40g(全量)に、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド2.18g(15.81mmol)を、2.18g(15.77mmol)に、トリエチルアミン4.80g(47.44mmol)を、4.79g(47.30mmol)に、化合物(3a)5.13g(20.56mmol)を、5.11g(20.50mmol)にそれぞれ変更した以外は、実施例37と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIa)を12.15g得た(収率:65.8%)。
(実施例72)
 実施例37のステップ2において、実施例1で合成した混合物1:17.84g(全量)を、実施例36で合成した混合物36:16.78g(全量)に、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド2.18g(15.81mmol)を、1.72g(12.48mmol)に、トリエチルアミン4.80g(47.44mmol)を、7.58g(74.88mmol)に、化合物(3a)5.13g(20.56mmol)を、4.05g(16.22mmol)にそれぞれ変更した以外は、実施例37と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIa)を12.02g得た(収率:82.3%)。
(実施例73)重合性化合物(IIIa)の合成
ステップ1:混合物37の合成
 温度計を備えた3口反応器に、窒素気流中、trans-1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライド 10.0g(47.83mmol)とCPME 84mlとTHF 31mlを加えた。そこへ、4-(6-アクリロイルオキシ-ヘクス-1-イルオキシ)フェノール(DKSH社製)12.04g(45.55mmol)を加え、反応器を氷浴に浸して反応液内温を0℃とした。次いで、トリエチルアミン 4.83g(47.83mmol)を、反応液内温を10℃以下に保持しながら、5分間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、全容を10℃以下に保持しながら1時間さらに攪拌した。
 得られた反応液に、蒸留水30mlを加えた。この反応液を50℃に昇温した後、2時間洗浄(加水分解反応)した後、水層を抜き出した。さらに、得られた有機層に、新たに蒸留水30mlを加えた後、全容を50℃にて2時間洗浄(加水分解反応)を行い、水層を抜き出した。得られた有機層を40℃に冷却した後、さらに、濃度1mol/リットルの酢酸と酢酸ナトリウムからなる緩衝溶液(pH:5.5)50gを加えて、撹拌することで洗浄した。その後、緩衝溶液水層を抜き出し、有機層を得た。この緩衝溶液による洗浄操作を合計5回行った。得られた有機層にさらに、蒸留水30mlで洗浄を行った後、水層を抜き出した。
 得られた有機層に、40℃にてn-ヘキサン214mlを加えた後、0℃まで冷却して結晶を析出させた。その後、析出した結晶をろ過によりろ取した。ろ過物をn-ヘキサンで洗浄後、真空乾燥させて、白色固体として混合物37を16.78g得た。
 得られた結晶をHPLCにて分析を行い、検量線にてモノエステルとジエステルの定量を行ったところ、目的物であるモノエステルが、11.49g(27.45mmol)、ジエステルが、5.29g(7.96mmol)含まれていることが分かった。また、得られた結晶を13C-NMR(DMF-d7)にて分析を行い、シクロヘキサンジカルボン酸の含量を算出したところ、検出限界以下であった。それぞれの組成比からモル含量を計算すると、モノエステルの含量:77.52mol%、ジエステルの含量:22.48mol%であった。
ステップ2:重合性化合物(IIIa)の合成
 温度計を備えた3口反応器に、窒素気流中、前記ステップ1で合成した混合物37:16.78g(全量)、及びクロロホルム115g、DMF4.0gを加えて、10℃以下に冷却した。そこへ、塩化チオニル3.76g(31.57mmol)を反応温度が10℃以下になるように制御して滴下した。滴下終了後、反応液を25℃に戻して1時間撹拌した。反応終了後、エバポレーターにて反応液の量が四分の1になるまで濃縮した。その後、クロロホルム28.7gを加えて、クロロホルム溶液を得た。
 別途、温度計を備えた3口反応器に、窒素気流中、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド1.72g(12.48mmol)、トリエチルアミン7.58g(74.88mmol)を57gのクロロホルムに溶解させ、10℃以下まで冷却した。この溶液に、前記クロロホルム溶液を、反応液内温を10℃以下に保持しながらゆっくりと滴下した。滴下終了後、反応液を10℃以下に保持しながらさらに1時間反応を行った。
 反応終了後、10℃以下のまま、反応液に、先の実施例37で合成した化合物(3a)4.05g(16.22mmol)を加え、さらに1.0規定の塩酸水溶液45gを加
えた。その後、反応液を40℃に昇温して3時間反応を行った。反応終了後、反応液を25℃まで冷却し、分液操作を行った。
 得られた有機層にロカヘルプ#479(三井金属鉱業社製)0.57gを加え、30分撹拌した後、ロカヘルプ#479をろ別した。次いで、得られた反応液から、総重量の約80%をエバポレーターにて抜き出して濃縮した。この溶液にTHF 23gを加えた後、1時間攪拌した。次いで、この溶液にn-ヘキサン92gを滴下した後、0℃まで冷却して結晶を析出させた。その後、析出した結晶をろ過によりろ取した。
 得られた結晶にTHF120g、ロカヘルプ#479 2.1g、及び、2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェノール110mgを加えて30分撹拌した後、ロカヘルプ#479をろ別した。次いで、得られた反応液から、エバポレーターにてTHF40gを留去した。得られた溶液にメタノール134gを滴下した後、0℃まで冷却して結晶を析出させた。その後、析出した結晶をろ過によりろ取した。ろ過物をメタノールで洗浄後、真空乾燥させて、重合性化合物(IIIa)を12.02g得た(収率:82.3%)。
(比較例6)重合性化合物(IIIa)の合成
ステップ1:化合物(3a)の合成
 実施例37のステップ1と同様にして化合物(3a)を合成した。
ステップ2:重合性化合物(IIIa)の製造
 温度計を備えた3口反応器に、窒素気流中、比較例1で合成した混合物A:19.96g(全量)及びトルエン150g、DMF1.5gを加えて、10℃以下に冷却した。そこへ、塩化チオニル5.94g(50.0mmol)を、反応温度を10℃以下に保持しながら滴下した。滴下終了後、反応液を25℃に戻してさらに1時間撹拌した。反応終了後、エバポレーターにて反応液の量が半分になるまで濃縮した。その後、抜き出した量と同じ量のトルエンを加えて、エバポレーターにて反応液の量が半分になるまで濃縮した。この操作を5回繰り返し、トルエン溶液を得た。
 別途、温度計を備えた3口反応器に、窒素気流中、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド3.79g(27.46mmol)、トリエチルアミン8.33g(82.37mmol)を80gのTHFに溶解させ、全容を10℃以下まで冷却した。この溶液に、前記トルエン溶液を、反応温度を10℃以下に保持しながらゆっくりと滴下した。滴下終了後、全容を10℃以下でさらに1時間撹拌した。反応液は、反応によって生成したトリエチルアミンの塩酸塩が析出するためクリーム状となる。反応終了後、10℃以下のまま、前記ステップ1で合成した化合物(3a)を8.90g(35.69mmol)を加え、さらに1.0規定の塩酸水溶液20gを加えた。その後、反応液を40℃に昇温して5時間反応を行った。40℃に昇温した段階で析出していたトリエチルアミンの塩酸塩は溶解して、トルエンと水の透明な2層系の溶液となる。反応終了後25℃まで冷却したところ、トルエンにも水にも溶けない不溶分が多く見られた。そこに酢酸エチル300g、10重量%食塩水150gを加えて分液操作を行った。得られた有機層はさらに2重量%の食塩水150gで2回洗浄を行った。この時の分液性は非常に悪く中間層が生成した。その中間層は不溶分とともに廃棄した。その後、有機層を分取し、得られた有機層からバポレーターにて全量の約15%だけ低揮発成分(溶媒)を抜き出した。濃縮すると、再び不溶分が析出したので、ろ過助剤(ろ過ヘルプ#479、三井金属鉱業社製)を用いて、濃縮物をろ過した。得られたろ液を25℃にした後、そこへ、メタノール150g、水40gの混合溶媒をゆっくりと滴下した。その後、10℃まで冷却して結晶を析出させ、析出結晶をろ取した。さらに、得られた結晶に、THF40g、メタノール40g、2,6-ジターシャリーブチル-4-メチルフェノール10mgを加え、全容を50℃に昇温して均一な溶液とした。その溶液を50℃にて熱時ろ過した。ろ液をゆっくりと10℃まで冷却させて再結晶を行った。ろ過により結晶を単離し、真空乾燥機にて乾燥させ、重合性化合物(IIIa)を3.62g得た(収率:11.3%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定して確認した。
(比較例7)
 比較例6のステップ2において、比較例1で合成した混合物A:19.96g(全量)を比較例2で合成した混合物B:19.95g(全量)に、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド3.79g(27.46mmol)を、3.60g(26.06mmol)に、トリエチルアミン8.33g(82.37mmol)を、7.91g(78.17mmol)に、化合物(3a)8.90g(35.69mmol)を、8.45g(33.87mmol)にそれぞれ変更した以外は、比較例6と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIa)を4.46g得た(収率:14.6%)。
(比較例8)
 比較例6のステップ2において、比較例1で合成した混合物A:19.96g(全量)を比較例3で合成した混合物C:20.46g(全量)に、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド3.79g(27.46mmol)を、4.32g(31.25mmol)に、トリエチルアミン8.33g(82.37mmol)を、9.49g(93.75mmol)に、化合物(3a)8.90g(35.69mmol)を、10.13g(40.62mmol)にそれぞれ変更した以外は、比較例6と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIa)を1.66g得た(収率:4.5%)。
(比較例9)
 比較例6のステップ2において、比較例1で合成した混合物A:19.96g(全量)を比較例4で合成した混合物D:20.59g(全量)に、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド3.79g(27.46mmol)を、4.05g(29.32mmol)に、トリエチルアミン8.33g(82.37mmol)を、8.90g(87.95mmol)に、化合物(3a)8.90g(35.69mmol)を、9.50g(38.11mmol)にそれぞれ変更した以外は、比較例6と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIa)を2.15g得た(収率:6.3%)。
(比較例10)重合性化合物(IIIa)の合成
 実施例73のステップ2において、実施例73のステップ1で合成した混合物37:16.78g(全量)を比較例5で合成した混合物E:18.72g(全量)に変更した以外は、実施例73と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIa)を0.98g得た(収率:6.71%)。
(比較例11)重合性化合物(IIIa)の合成
ステップ1:混合物Fの合成
 温度計を備えた3口反応器に、窒素気流中、trans-1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライド 10.0g(47.83mmol)とCPME 84mlとTHF 31mlを加えた。そこへ、4-(6-アクリロイルオキシ-ヘクス-1-イルオキシ)フェノール(DKSH社製)12.04g(45.55mmol)を加え、反応器を氷浴に浸して反応液内温を0℃とした。次いで、トリエチルアミン 4.83g(47.83mmol)を、反応液内温を10℃以下に保持しながら、5分間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、全容を10℃以下に保持しながら1時間さらに攪拌した。
 得られた反応液に、蒸留水30mlを加えた。この反応液を50℃に昇温した後、2時間洗浄(加水分解反応)した後、水層を抜き出した。さらに、得られた有機層に、新たに蒸留水30mlを加えた後、全容を50℃にて2時間洗浄(加水分解反応)を行い、水層を抜き出した。得られた有機層を40℃に冷却した後、40℃にてn-ヘキサン214mlを加えた後、0℃まで冷却して結晶を析出させた。その後、析出した結晶をろ過によりろ取した。ろ過物をn-ヘキサンで洗浄後、真空乾燥させて、白色固体として混合物Fを18.72g得た。
 得られた結晶をHPLCにて分析を行い、検量線にてモノエステルとジエステルの定量を行ったところ、目的物であるモノエステルが、11.50g(27.48mmol)、ジエステルが、5.30g(7.97mmol)含まれていることが分かった。また、得られた結晶を13C-NMR(DMF-d7)にて分析を行い、シクロヘキサンジカルボン酸の含量を算出したところ、シクロヘキサンジカルボン酸が、1.92g(11.56mmol)含まれていることが分かった。それぞれの組成比からモル含量を計算すると、モノエステルの含量:58.46mol%、ジエステルの含量:16.95mol%、シクロヘキサンジカルボン酸の含量:24.59mol%であった。
ステップ2:重合性化合物(IIIa)の合成
 温度計を備えた3口反応器に、窒素気流中、前記ステップ1で合成した混合物F:18.72g(全量)、及びクロロホルム115g、DMF4.0gを加えて、10℃以下に冷却した。そこへ、塩化チオニル6.92g(58.19mmol)を反応温度が10℃以下になるように制御して滴下した。滴下終了後、反応液を25℃に戻して1時間撹拌した。反応終了後、エバポレーターにて反応液の量が四分の1になるまで濃縮した。その後、クロロホルム28.7gを加えて、クロロホルム溶液を得た。
 別途、温度計を備えた3口反応器に、窒素気流中、2,5-ジヒドロキシベンズアルデヒド1.72g(12.48mmol)、トリエチルアミン7.58g(74.88mmol)を57gのクロロホルムに溶解させ、10℃以下まで冷却した。この溶液に、前記クロロホルム溶液を、反応液内温を10℃以下に保持しながらゆっくりと滴下した。滴下終了後、反応液を10℃以下に保持しながらさらに1時間反応を行った。
 反応終了後、10℃以下のまま、反応液に、先の実施例37で合成した化合物(3a)4.05g(16.22mmol)を加え、さらに1.0規定の塩酸水溶液45gを加
えた。その後、反応液を40℃に昇温して3時間反応を行った。反応終了後、反応液を25℃まで冷却し、分液操作を行った。
 得られた有機層にロカヘルプ#479(三井金属鉱業社製)0.57gを加え、30分撹拌した後、ロカヘルプ#479をろ別した。次いで、得られた反応液から、総重量の約80%をエバポレーターにて抜き出して濃縮した。この溶液にTHF 23gを加えた後、1時間攪拌した。次いで、この溶液にn-ヘキサン92gを滴下した後、0℃まで冷却して結晶を析出させた。その後、析出した結晶をろ過によりろ取した。
 得られた結晶にTHF120g、ロカヘルプ#479 2.1g、及び、2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェノール110mgを加えて30分撹拌した後、ロカヘルプ#479をろ別した。次いで、得られた反応液から、エバポレーターにてTHF40gを留去した。得られた溶液にメタノール134gを滴下した後、0℃まで冷却して結晶を析出させた。その後、析出した結晶をろ過によりろ取した。ろ過物をメタノールで洗浄後、真空乾燥させて、重合性化合物(IIIa)を1.02g得た(収率:6.98%)。
 以上の結果を下記表1~表6にまとめた。
 なお、表中、混合溶媒の「ヒルデブランドの溶解度パラメーター」は、加成則で計算して求めた。
 また、溶媒の使用量(重量倍)は、trans-1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドの重量を基準とした。例えば、trans-1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライド10gに対し、CPMEを200ml使用した場合には、20(重量倍)と記載した。
 反応転化率(%)は、4-(6-アクリロイルオキシ-ヘクス-1-イルオキシ)フェノールを基準とした。
 モノエステル選択性(%)は、下記式により求めた。下記式中、LC-areaは、HPLCの検量線が示す面積を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000050
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000051
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000052
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000053
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000054
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000055
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000056
 表1~6から、水非混和性有機溶媒中で反応を行い、反応終了後に弱酸性の緩衝溶液による洗浄工程を行うと、モノエステルの含有量が、混合物全体の50モル%以上であって、かつ、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸の含有量が5モル%未満である混合物が収率よく得られることがわかる(実施例1~36)。
 また、得られた混合物1~36(本発明の混合物)を用いることにより、重合性化合物(IIIa)を収率よく得られることもわかる(実施例37~73)。
 一方、比較例1~4で得られた、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸の含有量が5モル%以上である混合物A~F(さらに、混合物C、Dは、モノエステルの含有量が、混合物全体の50モル%未満)によると、重合性化合物(IIIa)を収率よく得ることができないことがわかる(比較例6~11)。
(実施例74)重合性化合物(IIIb)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000057
ステップ1:化合物(3b)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000058
 温度計を備えた3つ口反応器内において、窒素気流中、2-ヒドラジノベンゾチアゾール30.0g(181.6mol)をDMF500mlに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム 118.3g(363.2mol)を加えて0℃に冷却し、2-ブロモプロパン33.3g(272.3mmol)を加え、全容を0℃で1時間撹拌した後、さらに、25℃で20時間攪拌した。その後、反応液に蒸留水1500mlを加え、酢酸エチル1000mlで2回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(THF:トルエン=1:9)により精製することで、白色固体として化合物(3b)を11.1g、収率29%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):7.65(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.35(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.20(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、6.98(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、5.10(s,2H)、4.61-4.72(m,1H)、1.17(d,6H,J=6.5Hz)
ステップ2:重合性化合物(IIIb)の合成
 実施例73のステップ2において、実施例37で合成した化合物(3a)4.05g(16.22mmol)を、先のステップ1で合成した化合物(3b)3.36g(16.22mmol)に変更した以外は、実施例73と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIb)を11.08g得た(収率:78.7%)。
目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):8.08(s,1H)、7.74(d,1H,J=2.5Hz)、7.69(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.65(d,1H,J=8.0Hz)、7.33(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.16(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.08-7.13(m,2H)、6.99(d,2H,J=9.0Hz)、6.98(d,2H,J=9.0Hz)、6.88(d,4H,J=9.0Hz)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、5.29-5.39(m,1H)、4.17(t,4H,J=6.5Hz)、3.94(t,4H,J=6.5Hz)、2.54-2.74(m,4H)、2.25-2.39(m,8H)、1.65-1.84(m,16H)、1.62(d,6H,J=7.0Hz)、1.41-1.55(m,8H)
(実施例75)重合性化合物(IIIc)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000059
ステップ1:化合物(3c)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000060
 温度計を備えた3つ口反応器内において、窒素気流中、2-クロロベンゾチアゾール 15.0g(88.45mmol)とフェニルヒドラジン 38.25g(353.7mmol)をエチレングリコール150mlに溶解させた。この溶液を140℃に加熱し5時間攪拌した。反応終了後、反応液に蒸留水1000mlを加え、酢酸エチル500mlで2回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、得られた濃縮物にTHF50mlを加えて溶解させた。その溶液を蒸留水1000ml中に投入し、析出した固体をろ取した。ろ過物を蒸留水で洗浄後、真空乾燥させて黄色固体を得た。黄色固体をフラスコに入れ、トルエン250mlを加えて30分攪拌した後に、ろ過を行うことでトルエンに不溶の固体成分を除去した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(THF:トルエン=2:50)により精製することで、黄色オイルとして化合物(3c)を4.70g、収率22%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):8.01(dd,2H,J=1.0Hz,9.0Hz)、7.78(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.51(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.43(dd,2H,J=7.5Hz,8.5Hz)、7.28(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.08-7.16(m,2H)、6.26(s,2H)
ステップ2:重合性化合物(IIIc)の合成
 実施例73のステップ2において、実施例37で合成した化合物(3a)4.05g(16.22mmol)を、先のステップ1で合成した化合物(3c)3.91g(16.22mmol)に変更した以外は、実施例73と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIc)を10.65g得た(収率:73.4%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.82(d,1H,J=2.5Hz)、7.73(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.64-7.70(m,2H)、7.60(d,2H,J=7.5Hz)、7.35-7.42(m,3H)、7.30(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.18(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.03-7.12(m,2H)、7.00(d,2H,J=9.0Hz)、6.99(d,2H,J=9.0Hz)、6.90(d,2H,J=9.0Hz)、6.89(d,2H,J=9.0Hz)、6.41(dd,1H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.41(dd,1H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,1H,J=10.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,1H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,1H,J=1.5Hz,10.5Hz)、5.82(dd,1H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.18(t,2H,J=6.5Hz)、4.18(t,2H,J=6.5Hz)、3.92-3.98(m,4H)、2.56-2.71(m,2H)、2.41-2.50(m,1H)、2.27-2.40(m,5H)、2.12-2.22(m,2H)、1.64-1.91(m,14H)、1.41-1.56(m,10H)、1.19-1.31(m,2H)
(実施例76)重合性化合物(IIId)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000061
ステップ1:化合物(3d)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000062
 温度計を備えた4つ口反応器内において、窒素気流下中、シクロヘキシルヒドラジン塩酸塩 12.5g(83.0mmol)をトリエチルアミン40mlに溶解させた。この溶液に、2-クロロベンゾチアゾール 28.15g(166.0mmol)を加え、全容を80℃で5時間撹拌した。反応終了後、反応液を20℃まで冷却し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液500mlに投入し、酢酸エチル1000mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色個体を得た。この黄色個体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=75:25)により精製し、白色個体として化合物(3d)を5.10g得た(収率:24.8%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(400MHz,CDCl,TMS,δppm):7.58(d,1H,J=7.8Hz)、7.52(d,1H,J=8.2Hz)、7.26(dd,1H,J=7.4Hz,8.2Hz)、7.05(dd,1H,J=7.4Hz,7.8Hz)、4.25-4.32(m,1H)、4.04(s,2H)、1.84-1.88(m,4H)、1.68-1.73(m,1H)、1.43-1.59(m,4H)、1.08-1.19(m,1H)。
ステップ2:重合性化合物(IIId)の合成
 実施例73のステップ2において、実施例37で合成した化合物(3a)4.05g(16.22mmol)を、先のステップ1で合成した化合物(3d)4.01g(16.22mmol)に変更した以外は、実施例73と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIId)を11.11g得た(収率:76.2%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):8.15(s,1H)、7.72(d,1H,J=1.5Hz)、7.68(dd,1H,J=1.5Hz,8.0Hz)、7.66(dd,1H,J=1.5Hz,8.0Hz)、7.31-7.35(m,1H)、7.14-7.18(m,1H)、7.13(d,1H,J=9.0Hz)、7.10(dd,1H,J=1.5Hz,9.0Hz)、6.96-7.00(m,4H)、6.86-6.90(m,4H)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.0Hz)、6.13(dd,2H,J=10.0Hz,17.0Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.0Hz)、4.62-4.70(m,1H)、4.17(t,4H,J=6.5Hz)、3.94(t,4H,J=6.5Hz)、2.55-2.74(m,4H)、2.27-2.47(m,10H)、1.90-2.00(m,4H)、1.65-1.85(m,16H)、1.42-1.55(m,10H)、1.24-1.33(m,2H)
(実施例77)重合性化合物(IIIe)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000063
ステップ1:化合物(3e)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000064
 温度計を備えた3つ口反応器内において、窒素気流中、2-ヒドラジノベンゾチアゾール 10.0g(60.5mmol)をDMF150mlに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム 39.4g(121.0mol)を加えて0℃に冷却し、ヨードヘプタン 16.4g(72.5mmol)を5分間かけて滴下し、滴下終了後、全容を25℃で3時間攪拌した。反応終了後、反応液に水1000mlを加え、酢酸エチル500mlで2回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n-ヘキサン:酢酸エチル=85:15)により精製することで、白色固体として化合物(3e)を9.05g得た(収率56.9%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.59(dd,1H,J=1.5Hz,8.0Hz)、7.53(dd,1H,J=1.5Hz,8.0Hz)、7.06-7.28(m,2H)、4.22(s,2H)、3.75(t,2H,J=7.0Hz)、1.29-1.38(m,10H)、0.88(t,3H,J=7.0Hz)
ステップ2:重合性化合物(IIIe)の合成
 実施例73のステップ2において、実施例37で合成した化合物(3a)4.05g(16.22mmol)を、先のステップ1で合成した化合物(3e)4.27g(16.22mmol)に変更した以外は、実施例73と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIe)を11.96g得た(収率:80.9%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.75(d,1H,J=1.5Hz)、7.66-7.70(m,3H)、7.34(ddd,1H,J=1.5Hz,8.0Hz,8.0Hz)、7.17(ddd,1H,J=1.5Hz,8.0Hz,8.0Hz)、7.08-7.14(m,2H)、6.95-7.01(m,4H)、6.87-6.90(m,4H)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.12(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.30(t,2H,J=7.0Hz)、4.18(t,4H,J=7.0Hz)、3.95(t,4H,J=7.0Hz)、2.55-2.73(m,4H)、2.26-2.40(m,8H)、1.65-1.84(m,16H)、1.36-1.55(m,14H)、1.25-1.35(m,4H)、0.87(t,3H,J=7.0Hz)
(実施例78)重合性化合物(IIIf)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000065
ステップ1:化合物(3f)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000066
 温度計を備えた3つ口反応器内において、窒素気流中、2-ヒドラジノベンゾチアゾール10.0g(60.5mmol)をDMF150mlに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム 39.4g(121.0mol)を加えて0℃に冷却し、ブチル2-クロロエチルエーテル 9.90g(72.5mmol)を5分間かけて滴下し、滴下終了後、全容を25℃で3時間攪拌した。反応終了後、反応液に水1000mlを加え、酢酸エチル500mlで2回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n-ヘキサン:酢酸エチル=75:25)により精製することで、白色固体として化合物(3f)を8.50g得た(収率53.0%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.61(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.50(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.27-7.29(m,1H)、7.04-7.08(m,1H)、4.70(s,2H)、4.01(t,2H,J=5.0Hz)、3.82(t,2H,J=5.0Hz)、3.44(t,2H,J=7.0Hz)、1.52-1.57(m,2H)、1.31-1.39(m,2H)、0.90(t,3H,J=7.0Hz)
ステップ2:重合性化合物(IIIf)の合成
 実施例73のステップ2において、実施例37で合成した化合物(3a)4.05g(16.22mmol)を、先のステップ1で合成した化合物(3f)4.30g(16.22mmol)に変更した以外は、実施例73と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIf)を11.77g得た(収率:79.5%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):8.03(s,1H)7.76(d,1H,J=1.5Hz)、7.65-7.71(m,2H)、7.34(ddd,1H,J=1.5Hz,8.0Hz,8.0Hz)、7.17(ddd,1H,J=1.5Hz,8.0Hz,8.0Hz)、7.09-7.12(m,2H)、6.96-7.00(m,4H)、6.87-6.90(m,4H)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.45(t,2H,J=5.5Hz)、4.18(t,4H,J=7.0Hz)、3.95(t,4H,J=7.0Hz)、3.79(t,2H,J=5.5Hz)、3.44(t,2H,J=7.0Hz)、2.55-2.74(m,4H)、2.28-2.40(m,8H)、1.65-1.83(m,16H)、1.42-1.55(m,10H)、1.25-1.34(m,2H)、0.85(t,3H,J=7.0Hz)
(実施例79)重合性化合物(IIIi)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000067
ステップ1:化合物(3i)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000068
 温度計を備えた4つ口反応器内において、窒素気流中、2-ヒドラジノベンゾチアゾール 5.04g(30.5mmol)をDMF50mlに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム 14.9g(45.8mmol)、4-ブロモ-1-ブテン 4.94g(36.6mmol)を加え、全容を25℃にて7時間撹拌した。反応終了後、反応液を水200mlに投入し、酢酸エチル300mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=70:30)により精製し、白色固体として化合物(3i)を4.40g得た(収率:65.8%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.60(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.54(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.28(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,8.0Hz)、7.06(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,8.0Hz)、5.89(ddt,1H,J=7.0Hz,10.5Hz,17.0Hz)、5.17(ddt,1H,J=1.5Hz,3.0Hz,17.0Hz)、5.09(ddt,1H,J=1.0Hz,3.0Hz,10.5Hz)、4.26(s,2H)、3.85(t,2H,J=7.0Hz)、2.52(dddt,2H,J=1.0Hz,1.5Hz,7.0Hz,7.0Hz)
ステップ2:重合性化合物(IIIi)の合成
 実施例73のステップ2において、実施例37で合成した化合物(3a)4.05g(16.22mmol)を、先のステップ1で合成した化合物(3i)3.56g(16.22mmol)に変更した以外は、実施例73と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIi)を9.88g得た(収率:69.4%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.76(d,1H,J=2.5Hz)、7.67-7.70(m,3H)、7.35(ddd,1H,J=1.5Hz,7.5Hz,8.0Hz)、7.18(ddd,1H,J=1.5Hz,7.5Hz,8.0Hz)、7.10-7.14(m,2H)、6.99(d,2H,J=9.5Hz)、6.98(d,2H,J=9.5Hz)、6.88(d,4H,J=9.5Hz)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.89(ddt,1H,J=6.5Hz,10.5Hz,17.0Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、5.18(dd,1H,J=1.5Hz,17.0Hz)、5.15(dd,1H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.38(t,2H,J=7.0Hz)、4.18(t,4H,J=6.5Hz)、3.95(t,4H,J=6.5Hz)、2.58-2.68(m,4H)、2.51(dt,2H,J=6.5Hz,7.0Hz)、2.31-2.35(m,8H)、1.76-1.85(m,4H)、1.65-1.74(m,12H)、1.41-1.54(m,8H)
(実施例80)重合性化合物(IIIj)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000069
ステップ1:化合物(3j)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000070
 温度計を備えた4つ口反応器内で、窒素気流中、2-ヒドラジノベンゾチアゾール 10.0g(60.5mmol)をDMF150mlに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム 39.4g(121.0mmol)、1-ブロモ-2-ブチン 9.65g(72.5mmol)を加え、全容を25℃で20時間撹拌した。反応終了後、反応液を水1000mlに投入し、酢酸エチル500mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにて、ろ液から酢酸エチルを減圧留去して、褐色固体を得た。この褐色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n-ヘキサン:酢酸エチル=85:15)により精製し、白色固体として化合物(3j)を6.25g得た(収率:47.5%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.63(dd,1H,J=1.3Hz,7.8Hz)、7.58(dd,1H,J=1.3Hz,7.8Hz)、7.29(ddd,1H,J=1.3Hz,7.8Hz,7.8Hz)、7.10(ddd,1H,J=1.3Hz,7.8Hz,7.8Hz)、4.56(q,2H,J=2.5Hz)、4.36(s,2H)、1.84(t,3H,J=2.5Hz)
ステップ2:重合性化合物(IIIj)の合成
 実施例73のステップ2において、実施例37で合成した化合物(3a)4.05g(16.22mmol)を、先のステップ1で合成した化合物(3j)3.52g(16.22mmol)に変更した以外は、実施例73と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIj)を9.46g得た(収率:66.6%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.90(s,1H)、7.78(d,1H,J=1.3Hz)、7.67-7.73(m,2H)、7.35(ddd,1H,J=1.3Hz,7.5Hz,7.5Hz)、7.18(ddd,1H,J=1.3Hz,7.5Hz,7.5Hz)、7.09-7.15(m,2H)、6.95-7.01(m,4H)、6.85-6.91(m,4H)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.0Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.0Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、5.06(d,2H,J=2.0Hz)、4.18(t,4H,J=6.0Hz)、3.95(t,4H,J=6.0Hz)、2.55-2.76(m,4H)、2.26-2.43(m,8H)、1.64-1.83(m,19H)、1.41-1.55(m,8H)
(実施例81)重合性化合物(IIIk)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000071
ステップ1:化合物(3k)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000072
 温度計を備えた4つ口反応器内において、窒素気流中、2-ヒドラジノベンゾチアゾール 10.0g(60.5mmol)をDMF100mlに溶解させた。この溶液に、炭酸カリウム 41.8g(304mmol)、及び5-ブロモバレロニトリル 10.34g(63.8mmol)を加え、全容を60℃で8時間撹拌した。反応終了後、反応液を20℃まで冷却し、水1000mlに投入し、酢酸エチル1000mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n-ヘキサン:酢酸エチル=60:40)により精製し、白色固体として化合物(3k)を6.82g得た(収率:45.7%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(400MHz,CDCl,TMS,δppm):7.60(d,1H,J=7.8Hz)、7.51(d,1H,J=8.1Hz)、7.28(dd,1H,J=7.3Hz、8.1Hz)、7.07(dd,1H,J=7.3Hz,7.8Hz)、4.23(s,2H)、3.81(t,2H,J=6.9Hz)、2.46(t,2H,J=7.1Hz)、1.88-1.95(m,2H)、1.71-1.79(m,2H)
ステップ2:重合性化合物(IIIk)の合成
 実施例73のステップ2において、実施例37で合成した化合物(3a)4.05g(16.22mmol)を、先のステップ1で合成した化合物(3k)4.00g(16.22mmol)に変更した以外は、実施例73と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIk)を11.23g得た(収率:77.1%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.74(d,1H,J=1.5Hz)、7.64-7.72(m,3H)、7.35(ddd,1H,J=1.5Hz,8.0Hz,8.0Hz)、7.19(ddd,1H,J=1.5Hz,8.0Hz,8.0Hz)、7.10-7.14(m,2H)、6.96-7.01(m,4H)、6.86-6.91(m,4H)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.0Hz)、6.12(dd,2H,J=10.5Hz,17.0Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.22(t,2H,J=6.5Hz)、4.18(t,4H,J=6.5Hz)、3.95(t,4H,J=6.5Hz)、2.58-2.75(m,4H)、2.55(t,2H,J=6.5Hz)、2.26-2.40(m,8H)、1.96(tt,2H,J=6.5Hz,6.5Hz)、1.66-1.83(m,18H)、1.42-1.55(m,8H)
(実施例82)重合性化合物(IIIm)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000073
ステップ1:化合物(3m)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000074
 温度計を備えた4つ口反応器内において、窒素気流中、2-ヒドラジノベンゾチアゾール 14.5g(87.5mmol)をDMF200mlに溶解させた。この溶液に、炭酸カリウム 36.3g(263mmol)、1,1,1,-トリフルオロ-4-ヨードブタン 25.0g(105mmol)を加え、全容を80℃で8時間撹拌した。反応終了後、反応液を20℃まで冷却し、水1000mlに投入して、酢酸エチル1000mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n-ヘキサン:酢酸エチル=85:15)により精製し、白色固体として化合物(3m)を9.61g得た(収率:39.9%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.61(d,1H,J=8.0Hz)、7.54(d,1H,J=7.8Hz)、7.30(dd,1H,J=7.8Hz,7.8Hz)、7.09(dd,1H,J=7.8Hz,8.0Hz)、4.24(s,2H)、3.81(t,2H,J=7.0Hz)、2.16-2.26(m,2H)、1.99-2.05(m,2H)
ステップ2:重合性化合物(IIIm)の合成
 実施例73のステップ2において、実施例37で合成した化合物(3a)4.05g(16.22mmol)を、先のステップ1で合成した化合物(3m)4.47g(16.22mmol)に変更した以外は、実施例73と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIm)を11.81g得た(収率:79.1%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.75(s,1H)、7.65-7.71(m,3H)、7.34(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,7.5Hz)、7.17(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,7.5Hz)、7.08-7.14(m,2H)、6.96-7.01(m,4H)、6.86-6.91(m,4H)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.42(t,2H,J=7.5Hz)、4.18(t,4H,J=6.5Hz)、3.95(t,4H,J=6.5Hz)、2.55-2.73(m,4H)、2.25-2.38(m,10H)、2.04(tt,2H,J=7.5Hz,7.5Hz)、1.64-1.84(m,16H)、1.42-1.55(m,8H)
(実施例83)重合性化合物(IIIn)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000075
ステップ1:化合物(3n)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000076
 温度計を備えた4つ口反応器において、窒素気流中、2-ヒドラジノベンゾチアゾール40.0g(241.6mmol)を、DMF300mlに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム118g(363mmol)、3-ブロモ-2-メチル-1-プロペン 39.2g(291mmol)を加え、全容を25℃で18時間撹拌した。反応終了後、反応液を水1500mlに投入し、酢酸エチル2000mlで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=80:20)により精製し、白色固体として化合物(3n)を5.88g得た(収率:11.1%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.59(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.52(dd,1H,J=1.5Hz,8.0Hz)、7.26(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,8.0Hz)、7.05(ddd,1H,J=1.5Hz,7.5Hz,8.0Hz)、4.98(s,1H)、4.86(s,1H)、4.29(s,2H)、4.12(s,2H)、1.71(s,3H)
ステップ2:重合性化合物(IIIn)の合成
 実施例73のステップ2において、実施例37で合成した化合物(3a)4.05g(16.22mmol)を、先のステップ1で合成した化合物(3n)3.56g(16.22mmol)に変更した以外は、実施例73と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIn)を10.05g得た(収率:70.6%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.74(d,1H,J=2.5Hz)、7.70(d,1H,J=7.5Hz)、7.67(d,1H,J=8.0Hz)、7.63(s,1H)、7.34(dd,1H,J=7.5Hz,8.0Hz)、7.18(dd,1H,J=7.5Hz,7.5Hz)、7.12(d,1H,J=9.0Hz)、7.10(dd,1H,J=2.5Hz,9.0Hz)、6.99(d,2H,J=9.0Hz)、6.98(d,2H,J=9.0Hz)、6.88(d,4H,J=9.0Hz)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.98(s,1H)、4.90(s,2H)、4.83(s,1H)、4.18(t,4H,J=6.5Hz)、3.95(t,4H,J=6.5Hz)、2.56-2.66(m,4H)、2.31-2.36(m,8H)、1.76-1.82(m,7H)、1.64-1.74(m,12H)、1.40-1.55(m,8H)
(実施例84)重合性化合物(IIIp)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000077
ステップ1:化合物(3p)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000078
 温度計を備えた3つ口反応器において、窒素気流中、2-ヒドラジノベンゾチアゾール20.0g(121.1mol)をDMF400mlに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム78.9g(242.1mol)とプロパルギルブロミド 17.3g(145.3mmol)とを加え、全容を25℃で15時間攪拌した。反応終了後、反応液に蒸留水1500mlを加え、酢酸エチル1000mlで2回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(THF:トルエン=1:19)により精製することで、淡黄色固体として化合物(3p)を6.90g、収率28%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):7.73(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.44(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.26(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.06(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、5.31(s,2H)、4.52(d,2H,J=2.5Hz)、3.35(t,1H,J=2.5Hz)
ステップ2:重合性化合物(IIIp)の合成
 実施例73のステップ2において、実施例37で合成した化合物(3a)4.05g(16.22mmol)を、先のステップ1で合成した化合物(3p)3.30g(16.22mmol)に変更した以外は、実施例73と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIp)を10.12g得た(収率:72.1%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.92(s,1H)、7.67-7.78(m,3H)、7.36(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.20(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.11-7.17(m,2H)、6.99(d,2H,J=9.0Hz)、6.98(d,2H,J=9.0Hz)、6.88(d,2H,J=9.0Hz)、6.88(d,2H,J=9.0Hz)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、5.14(d,2H,J=2.0Hz)、4.17(t,4H,J=6.5Hz)、3.94(t,4H,J=6.5Hz)、2.54-2.76(m,4H)、2.24-2.42(m,9H)、1.64-1.84(m,16H)、1.41-1.56(m,8H)
(実施例85)重合性化合物(IIIq)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000079
ステップ1:化合物(3q)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000080
 温度計を備えた3つ口反応器において、窒素気流中、2-ヒドラジノベンゾチアゾール 20.0g(121.1mol)をDMF400mlに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム78.9g(242.1mol)と3-ブロモプロピオニトリル 19.5g(145.3mmol)とを加え、全容を25℃で15時間攪拌した。反応終了後、反応液に蒸留水1500mlを加え、酢酸エチル1000mlで2回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物にトルエン200mlを加え0℃に冷却した。析出した結晶をろ取し、真空乾燥させることで、白色固体として化合物(3q)を11.2g、収率42%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):7.70(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.42(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.24(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.03(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、5.47(s,2H)、3.99(t,2H,J=6.5Hz)、2.97(t,2H,J=6.5Hz)
ステップ2:重合性化合物(IIIq)の合成
 実施例73のステップ2において、実施例37で合成した化合物(3a)4.05g(16.22mmol)を、先のステップ1で合成した化合物(3q)3.54g(16.22mmol)に変更した以外は、実施例73と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIq)を10.22g得た(収率:71.9%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.84(s,1H)、7.66-7.76(m,3H)、7.38(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.22(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.13-7.16(m,2H)、6.99(d,2H,J=9.0Hz)、6.98(d,2H,J=9.0Hz)、6.88(d,2H,J=9.0Hz)、6.87(d,2H,J=9.0Hz)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.62(t,2H,J=7.0Hz)、4.17(t,4H,J=6.5Hz)、3.94(t,2H,J=6.5Hz)、3.94(t,2H,J=6.5Hz)、2.85(t,2H,J=7.0Hz)、2.70-2.80(m,1H)、2.54-2.70(m,3H)、2.25-2.41(m,8H)、1.64-1.85(m,16H)、1.41-1.55(m,8H)
(実施例86)重合性化合物(IIIr)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000081
ステップ1:化合物(3r)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000082
 温度計を備えた3つ口反応器において、窒素気流中、2-ヒドラジノベンゾチアゾール10.0g(60.5mol)をDMF200mlに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム39.5g(121mol)と3-ブロモブチロニトリル 10.8g(72.7mmol)とを加え、全容を25℃で15時間攪拌した。反応終了後、反応液に蒸留水1000mlを加え、酢酸エチル500mlで2回抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した後、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(THF:トルエン=1:9)により精製することで、白色固体として化合物(3r)を10.2g、収率72%で得た。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,DMSO-d,TMS,δppm):7.70(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.42(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz)、7.24(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.03(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、5.47(s,2H)、3.99(t,2H,J=6.5Hz)、2.97(t,2H,J=6.5Hz)
ステップ2:重合性化合物(IIIr)の合成
 実施例73のステップ2において、実施例37で合成した化合物(3a)4.05g(16.22mmol)を、先のステップ1で合成した化合物(3r)3.77g(16.22mmol)に変更した以外は、実施例73と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIr)を9.47g得た(収率:65.8%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):8.18(s,1H)、7.65-7.76(m,3H)、7.37(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.21(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.13-7.16(m,2H)、6.98(d,2H,J=9.0Hz)、6.98(d,2H,J=9.0Hz)、6.88(d,2H,J=9.0Hz)、6.88(d,2H,J=9.0Hz)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz)、4.85-4.94(m,1H)、4.17(t,4H,J=6.5Hz)、3.94(t,2H,J=6.5Hz)、3.94(t,2H,J=6.5Hz)、3.28-3.46(m,2H)、2.53-2.80(m,4H)、2.23-2.41(m,8H)、1.64-1.84(m,19H)、1.41-1.55(m,8H)
(実施例87)重合性化合物(IIIs)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000083
ステップ1:化合物(3s)の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000084
 温度計を備えた4つ口反応器に、窒素気流中、2-ヒドラジノベンゾチアゾール20.0g(121mmol)をDMF300mlに溶解させた。この溶液に、炭酸セシウム78.9g(242mmol)、2-(ノナフルオロブチル)エチルヨージド 50.0g(134mmol)を加え、全容を25℃で20時間撹拌した。反応終了後、反応液を水1000mlに投入し、酢酸エチル1000mlで抽出し、酢酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、硫酸ナトリウムをろ別した。ロータリーエバポレーターにてろ液から酢酸エチルを減圧留去して、褐色固体を得た。この褐色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n-ヘキサン:酢酸エチル=9:1)により精製し、白色固体として化合物(3s)を11.5g得た(収率:22.9%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.63(dd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.57(dd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz)、7.32(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,7.5Hz)、7.11(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,7.5Hz)、4.35(s,2H)、4.08(t,2H,J=7.5Hz)、2.56-2.70(m,2H)
ステップ2:重合性化合物(IIIs)の合成
 実施例73のステップ2において、実施例37で合成した化合物(3a)4.05g(16.22mmol)を、先のステップ1で合成した化合物(3s)6.67g(16.22mmol)に変更した以外は、実施例73と同様の操作を行った。その結果、重合性化合物(IIIs)を10.34g得た(収率:62.2%)。
 目的物の構造はH-NMRで同定した。
H-NMR(500MHz,CDCl,TMS,δppm):7.74-7.78(m,2H)、7.69-7.73(m,2H)、7.38(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,7.5Hz)、7.21(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,7.5Hz)、7.11-7.17(m,2H)、6.95-7.01(m,4H)、6.85-6.91(m,4H)、6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz)、6.13(dd,2H,J=10.0Hz,17.5Hz)、5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.0Hz)、4.61-4.69(m,2H)、4.18(t,4H,J=6.5Hz)、3.95(t,4H,J=6.5Hz)、2.52-2.71(m,6H)、2.25-2.40(m,8H)、1.61-1.84(m,16H)、1.41-1.55(m,8H)

Claims (12)

  1.  下記式(I)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    (I)
    (式中、Aは、水素原子、メチル基又は塩素原子を表し、nは1~20の整数を表す。)で示される化合物(I)と、下記式(II)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
    (II)
    (式中、A、nは前記と同じ意味を表す。)で示される重合性化合物(II)とを含有する混合物であって、
    前記化合物(I)の含有量が、混合物全体の50モル%以上であって、かつ、不純物としての1,4-シクロヘキサンジカルボン酸の含有量が、混合物全体の5モル%未満である混合物。
  2.  有機溶媒中、式:Q-OH(式中、Qは置換基を有していてもよい有機基を表す。)で示されるヒドロキシ化合物と、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライド又は1,4-シクロヘキサンジカルボン酸とを反応させることにより、式(IB)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
    (式中、Qは前記と同じ意味を表す。)で示されるモノエステル化合物、及び、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライド又は1,4-シクロヘキサンジカルボン酸を含む反応溶液を得た後、得られた反応溶液を弱酸性の緩衝溶液にて洗浄することにより、前記反応溶液から、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、あるいは1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドを除去する方法。
  3.  水非混和性有機溶媒中、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドと、下記式(IV)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
    (式中、Aは、水素原子、メチル基又は塩素原子を表し、nは1~20の整数を表す。)で示される化合物とを、塩基存在下に反応させる工程と、得られた反応液を、弱酸性の緩衝溶液にて洗浄する工程とを有する、請求項1に記載の混合物の製造方法。
  4.  水非混和性有機溶媒中、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドと、下記式(IV)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
    (式中、Aは、水素原子、メチル基又は塩素原子を表し、nは1~20の整数を表す。)で示される化合物とを、塩基存在下に反応させる工程と、得られた反応液を、水により洗浄する工程と、洗浄後の反応液を、弱酸性の緩衝溶液にて洗浄する工程とを有する、請求項1に記載の混合物の製造方法。
  5.  前記緩衝溶液が、pHが5.0~6.0の緩衝溶液である、請求項3又は4に記載の混合物の製造方法。
  6.  前記緩衝溶液が、酢酸と酢酸ナトリウムの混合系の緩衝溶液、又は、フタル酸水素カリウムと水酸化ナトリウムの混合系の緩衝溶液である、請求項3~5のいずれかに記載の混合物の製造方法。
  7.  前記水非混和性有機溶媒が、ヒルデブランドの溶解度パラメーターが、14.0~22.0(MPa1/2)の有機溶媒である、請求項3~6のいずれかに記載の混合物の製造方法。
  8.  前記弱酸性の緩衝溶液にて洗浄する工程の後、得られた有機層を5℃以下に冷却し、前記重合性化合物(II)を析出させて、析出物を除去する工程をさらに有する、請求項3~7のいずれかに記載の混合物の製造方法。
  9.  溶媒中、請求項1に記載の混合物、又は、請求項3~8のいずれかに記載の製造方法により得られる混合物に含まれる、式(I)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
    (式中、Aは、水素原子、メチル基又は塩素原子を表し、nは1~20の整数を表す。)で示される化合物(I)、又は、前記混合物に含まれる化合物(I)から誘導される、式(IA)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
    (式中、A、nは前記と同じ意味を表し、L’は、水酸基ではない脱離基を表す。)で示される化合物と、下記式(1)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
    で示されるベンズアルデヒド化合物(1)とを、前記混合物に含まれる化合物(I)と、ベンズアルデヒド化合物(1)とのモル比が、1:0.3~1:0.5となる割合で反応させることを特徴とする、下記式(2)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
    (式中、A、nは前記と同じ意味を表す。)
    で示される化合物の製造方法。
  10.  溶媒中、請求項1に記載の混合物、又は請求項3~9のいずれかに記載の製造方法により得られる混合物に含まれる、式(I)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
    (式中、Aは、水素原子、メチル基又は塩素原子を表し、nは1~20の整数を表す。)で示される化合物(I)、又は、前記混合物に含まれる化合物(I)から誘導される、式(IA)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
    (式中、A、nは前記と同じ意味を表し、L’は、水酸基ではない脱離基を表す。)で示される化合物と、下記式(1)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
    で示されるベンズアルデヒド化合物(1)とを、前記混合物に含まれる化合物(I)と、前記ベンズベンズアルデヒド化合物(1)とのモル比が、1:0.3~1:0.5となる割合で反応させることにより、下記式(2)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
    (式中、A、nは前記と同じ意味を表す。)
    で示される化合物を得、このものと、下記式(3)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
    (式中、Rは、水素原子、又は、炭素数1~20の有機基を表し、Axは置換基を有していてもよい芳香族基を表す。)
    で示されるヒドラジン化合物とを反応させる、下記式(III)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
    (III)
    (式中、A、R、Ax、nは、前記と同じ意味を表す。)
    で示される重合性化合物の製造方法。
  11.  Axが下記式(4)で表される、請求項10に記載の重合性化合物の製造方法。
    (式中、Rはそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1~6のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数1~6のフルオロアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数1~6のアルキルチオ基、二置換アミノ基、又は、-C(=O)-O-Rを表す。ここで、Rは、水素原子又は置換基を有していても良い炭素数1~10のアルキル基を表す。環を構成するC-Rは、窒素原子に置き換えられていてもよい。)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
  12.  前記式(3)で表されるヒドラジン化合物として、式中、Rが、置換基を有していてもよい炭素数1~20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数2~20のアルキニル基、置換基を有していてもよい炭素数3~12のシクロアルキル基、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数1~20の有機基である化合物を用いるものである、請求項10又は11に記載の重合性化合物の製造方法。
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