WO2016129675A1 - 光学用スチレン系樹脂組成物 - Google Patents

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桂輔 井上
智輝 小林
広平 西野
黒川　欽也
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Denka Co Ltd
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    • C08L2666/66—Substances characterised by their function in the composition
    • C08L2666/78—Stabilisers against oxidation, heat, light or ozone

Definitions

  • the present invention relates to an optical styrenic resin composition excellent in hue and transparency, a molded product thereof, and a light guide plate.
  • backlights for liquid crystal display devices: a direct type in which a light source is disposed in front of the display device and an edge light type in which a light source is disposed on a side surface.
  • the light guide plate is used for an edge light type backlight and plays a role of guiding light from a light source disposed on a side surface to the front.
  • Edge-light type backlights are used in TVs, personal computer monitors, mobile phones, car navigation systems, and other applications where thinness is required. Even in televisions (for example, 32 inches or more), the rate at which edge-light type backlights are used is increasing.
  • An acrylic resin typified by PMMA (polymethyl methacrylate) is used for the light guide plate.
  • Patent Document 1 has been proposed as a technique for improving water absorption of a styrene-methyl (meth) acrylate copolymer.
  • the styrene-methyl (meth) acrylate copolymer has a molded article having a poor hue (yellowish) as compared with PMMA, and when used as a backlight, color unevenness may occur on the surface of the liquid crystal display device. . Therefore, Patent Document 2 has been proposed as a technique for improving the hue of styrene-methyl (meth) acrylate copolymer.
  • An object of the present invention is to provide a novel optical styrenic resin composition having good transparency and hue and low water absorption, and a molded product thereof.
  • the molded products it can be suitably used particularly for a light guide plate used in a liquid crystal display device or the like.
  • the present invention is as follows. (1) a styrene- (meth) acrylate copolymer (A) having 20 to 80% by mass of a styrene monomer unit and 80 to 20% by mass of a (meth) acrylate monomer unit; It consists of a hindered phenol antioxidant (B) and a phosphorus antioxidant (C), and the content of (B) is 0.01 to 0. 0 relative to the total amount of (A) to (C). 3% by mass, the content of (C) is 0.001 to 0.3% by mass, and the styrene- (meth) acrylic acid ester copolymer (A) has a residual polymerization inhibitor content of 10 ppm.
  • a styrenic resin composition for optical use wherein (2) The optical styrene resin composition according to (1), wherein the styrene (meth) acrylic acid ester copolymer has a weight average molecular weight of 50,000 to 200,000. (3) The styrene- (meth) acrylic acid ester copolymer (A) contains a styrene monomer containing 0.1 to 20 ppm of 4-tert-butylcatechol, and 6-tert-butyl-2,4.
  • optical styrenic resin composition and molded article of the present invention are excellent in transparency and hue, low in water absorption and excellent in warpage resistance and dimensional stability due to moisture absorption, and are therefore suitably used for optical applications such as light guide plates. I can do it.
  • a to B means not less than A but not more than B.
  • the styrene resin composition of the present invention comprises a styrene- (meth) acrylic acid ester copolymer (A), a hindered phenol antioxidant (B), and a phosphorus antioxidant (C). It is a composition.
  • the styrene- (meth) acrylate copolymer (A) is a copolymer having a styrene monomer unit and a (meth) acrylate monomer unit.
  • the styrene monomer is an aromatic vinyl monomer. Styrene, ⁇ -methyl styrene, o-methyl styrene, m-methyl styrene, ethyl styrene, pt-butyl styrene and the like are used alone or as a mixture of two or more thereof, and styrene is preferred.
  • (Meth) acrylic acid ester monomers are methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, methacrylic acid ester of 2-ethylhexyl (meth) acrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, n -Butyl acrylate, 2-methylhexyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, decyl acrylate or the like alone or a mixture of two or more thereof, preferably methyl (meth) acrylate.
  • the content of the styrene monomer unit in the styrene- (meth) acrylic acid ester copolymer is 20 to 80% by mass, and the content of the (meth) acrylic acid ester monomer unit is 80 to 20% by mass. is there. More preferably, the content of styrene monomer units is 30 to 60% by mass, and the content of (meth) acrylic acid ester monomer units is 70 to 40% by mass. More preferably, the content of the styrene monomer unit is 45 to 55% by mass, and the content of the (meth) acrylate monomer unit is 55 to 45% by mass.
  • the content of the styrene monomer unit is small, warpage and dimensional deformation may increase due to moisture absorption.
  • the deterioration of a hue or surface hardness may fall, and it may become easy to be damaged.
  • styrene- (meth) acrylic acid ester copolymer those having a small amount of other unit structures can be used.
  • the other unit structure is preferably 5% by mass or less.
  • Other unit structures include a unit structure derived from a vinyl monomer copolymerizable with a styrene monomer and a (meth) acrylate monomer. Examples of the copolymerizable monomer include acrylonitrile, methacrylic acid, acrylic acid, and maleic anhydride.
  • a method for producing a styrene- (meth) acrylic ester copolymer a known method can be employed. For example, it can be produced by bulk polymerization, solution polymerization, suspension polymerization, emulsion polymerization and the like.
  • a method for operating the reactor any of a continuous type, a batch type (batch type), and a semibatch type can be applied. In view of quality such as transparency and productivity, bulk polymerization or solution polymerization is preferable, and continuous polymerization is preferable.
  • Examples of the bulk polymerization or solution polymerization solvent include alkylbenzenes such as benzene, toluene, ethylbenzene and xylene, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, and aliphatic hydrocarbons such as hexane and cyclohexane.
  • alkylbenzenes such as benzene, toluene, ethylbenzene and xylene
  • ketones such as acetone and methyl ethyl ketone
  • aliphatic hydrocarbons such as hexane and cyclohexane.
  • styrene- (meth) acrylic acid ester copolymer As a polymerization method of the styrene- (meth) acrylic acid ester copolymer, a known method can be adopted.
  • the radical polymerization method is preferable because it is a simple process and excellent in productivity.
  • a polymerization initiator and a chain transfer agent can be used, and the polymerization temperature is preferably in the range of 110 to 170 ° C.
  • the conversion rate of the styrene monomer and the (meth) acrylate monomer is 60% or more at the exit of the polymerization step from the viewpoint of productivity. It is preferable to perform polymerization.
  • polymerization initiator examples include benzoyl peroxide, t-butylperoxybenzoate, 1,1-di (t-butylperoxy) cyclohexane, 1,1-bis (t-butylperoxy) -3,3,5.
  • the addition amount of the polymerization initiator is preferably 0.001 to 0.2% by mass with respect to 100% by mass of the total amount of monomers. More preferably, the content is 0.001 to 0.05% by mass. If the addition amount of the polymerization initiator is too large, the hue may deteriorate.
  • chain transfer agent examples include aliphatic mercaptans, aromatic mercaptans, pentaphenylethane, ⁇ -methylstyrene dimer, and terpinolene.
  • the addition amount of the chain transfer agent is preferably 0.001 to 0.5% by mass, more preferably 0.005 to 0.2% by mass with respect to 100% by mass in total of the monomers.
  • the thermal stability becomes good.
  • a devolatilization method for removing volatile components such as unreacted monomers and a solvent used for solution polymerization from the solution after the completion of polymerization of the styrene- (meth) acrylate copolymer a known method can be adopted.
  • a vacuum devolatilization tank with a preheater or a vented devolatilization extruder can be used.
  • the temperature of the styrene- (meth) acrylic ester copolymer in the devolatilization step is preferably 200 ° C. to 300 ° C., more preferably 220 ° C. to 260 ° C.
  • the devolatilized molten styrene- (meth) acrylic acid ester copolymer is transferred to the granulation process and extruded into a strand shape from a porous die for cold cut method, air hot cut method, and underwater hot cut method. Can be processed into a pellet shape.
  • Unreacted monomers removed in the devolatilization process and the solvent used for solution polymerization are recovered and purified to remove impurities such as polymerization inhibitors, and then mixed with fresh raw materials for recovery. It is preferable. Since the recovered raw material does not contain a polymerization inhibitor, it is possible to reduce the content of the polymerization inhibitor in the raw material supplied to the polymerization step by using it by mixing it with a fresh raw material.
  • the content of the polymerization inhibitor in the raw material supplied to the polymerization step is preferably less than 12 ppm, more preferably less than 9 ppm, even more preferably less than 6 ppm, and most preferably less than 4 ppm.
  • the fresh raw material is a raw material newly supplied to the production process of the styrene- (meth) acrylic acid ester copolymer, and is referred to as such in order to distinguish it from the recovered raw material.
  • a known method can be adopted as a method for recovering and purifying the unreacted monomer removed in the devolatilization step and the solvent used in the solution polymerization.
  • a method in which unreacted monomer and solvent gas removed in the devolatilization step is condensed and liquefied by a condenser and purified by a flash distillation column to separate and remove high-boiling components.
  • the high-boiling components are first condensed using a condenser or spray tower, etc., and the remaining gas is completely removed by the condenser.
  • the method of condensing is mentioned.
  • 4-tert-butylcatechol has a boiling point of 285 ° C.
  • 6-tert-butyl-2,4-xylenol has a boiling point of 249 ° C., and is separated and removed from the monomer and solvent as a high-boiling component.
  • Boiling point of styrene is 145 ° C
  • boiling point of methyl (meth) acrylate is 101 ° C
  • boiling point of ethylbenzene is 136 ° C).
  • the weight average molecular weight (Mw) of the styrene (meth) acrylic acid ester copolymer is preferably 50,000 to 200,000. More preferably, it is 70,000 to 180,000, more preferably 75,000 to 160,000, and most preferably 80 to 150,000.
  • Mw weight average molecular weight
  • the weight average molecular weight (Mw) is less than 50,000, the strength of the light guide plate may decrease.
  • Mw exceeds 200,000, the fluidity may be lowered and the molding processability may be deteriorated.
  • the weight average molecular weight (Mw) can be controlled by the reaction temperature of the polymerization process, the residence time, the type and addition amount of the polymerization initiator, the type and addition amount of the chain transfer agent, the type and amount of the solvent used during the polymerization, and the like. it can.
  • the weight average molecular weight (Mw) was measured under the following conditions using gel permeation chromatography (GPC).
  • GPC model Shodex GPC-101 manufactured by Showa Denko KK Column: PLgel 10 ⁇ m MIXED-B manufactured by Polymer Laboratories
  • Mobile phase Tetrahydrofuran Sample concentration: 0.2% by mass
  • Temperature 40 ° C oven, 35 ° C inlet, 35 ° C detector
  • Detector Differential refractometer
  • the molecular weight of the present invention is calculated as the molecular weight in terms of polystyrene by calculating the molecular weight at each elution time from the elution curve of monodisperse polystyrene.
  • the total amount of the residual monomer and the polymerization solvent in the styrene- (meth) acrylic acid ester copolymer is preferably 0.5% by mass or less, and more preferably 0.2% by mass or less. When the total amount of the residual monomer and the polymerization solvent exceeds 0.5% by mass, the heat resistance may be insufficient.
  • the residual monomer and polymerization solvent are the amount of monomer and polymerization solvent remaining in the styrene- (meth) acrylic acid ester copolymer, and examples thereof include styrene, methyl (meth) acrylate, and ethylbenzene. .
  • the amount of the residual monomer and the polymerization solvent can be adjusted by the constitution of the devolatilization process and the conditions of the devolatilization process.
  • the amount of the residual monomer and the polymerization solvent was determined by accurately weighing 0.2 g of a styrene- (meth) acrylate copolymer and dissolving it in 10 ml of tetrahydrofuran containing p-hour ethylbenzene as an internal standard substance.
  • Capillary gas chromatograph GC-4000 (manufactured by GL Sciences Inc.) Column: GS Science Co., Ltd.
  • InertCap WAX inner diameter 0.25 mm, length 30 m, film thickness 50 ⁇ m
  • Injection temperature 180 ° C
  • Detector temperature 210 ° C Split ratio: 5/1
  • the total amount of dimer or trimer (hereinafter referred to as oligomer) of styrene monomer and (meth) acrylate monomer in the styrene- (meth) acrylate copolymer is 2% by mass. The following is preferable. More preferably, it is 1 mass% or less. When the total amount of oligomers exceeds 1% by mass, heat resistance as a light guide plate may be insufficient.
  • the oligomer was measured by dissolving 200 mg of a styrene- (meth) acrylic acid ester copolymer in 2 mL of 1,2-dichloromethane, adding 2 mL of methanol to precipitate the copolymer, allowing it to stand, The liquid was measured under the following conditions using a gas chromatograph.
  • Gas chromatograph HP-5890 (manufactured by Hewlett-Packard Company) Column: DB-1 (ht) 0.25 mm ⁇ 30 m, film thickness 0.1 ⁇ m
  • Injection temperature 250 ° C
  • Detector temperature 300 ° C
  • Split ratio 50/1
  • Internal reference material n-eicosane Carrier gas: Nitrogen
  • the Vicat softening point of the styrene- (meth) acrylic acid ester copolymer is preferably 95 ° C. or higher, and more preferably 98 ° C. or higher. If the Vicat softening point is less than 95 ° C., the heat resistance is insufficient, and the molded product may be deformed depending on the use environment. (The Vicat softening temperature was tested in accordance with JIS K 7206 at a heating rate of 50 ° C./hr and a test load of 50 N.)
  • the content of the hindered phenol antioxidant (B) in the styrene resin composition is 0.01 to 0.3% by mass with respect to the total amount of (A) to (C).
  • the amount is preferably 0.02 to 0.2% by mass, more preferably 0.03 to 0.15% by mass, and still more preferably 0.04 to 0.1% by mass. If the content of the hindered phenol-based antioxidant (B) is too small, the hue improving effect is not obtained, and if it is too much, the hue may be deteriorated.
  • the hindered phenol antioxidant (B) is an antioxidant having a phenolic hydroxyl group in the basic skeleton.
  • examples of the hindered phenol antioxidant include octadecyl-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, ethylene bis (oxyethylene) bis [3- (5-tert-butyl- 4-hydroxy-m-tolyl) propionate], 3,9-bis [2- [3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy] -1,1-dimethylethyl]- 2,4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane, pentaerythritol tetrakis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 4,6-bis (octyl) Thiomethyl) -o-cresol, 4,6-bis [(dodecylthi
  • octadecyl-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate ethylene bis (oxyethylene) bis [3- (5-tert-butyl-4-hydroxy-m-tolyl) Propionate], pentaerythritol tetrakis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate]. More preferred is octadecyl-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate.
  • Hindered phenolic antioxidants may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the phosphorus-based antioxidant (C) in the styrene-based resin composition is 0.001 to 0.3% by mass with respect to the total amount of (A) to (C).
  • the content is preferably 0.001 to 0.1% by mass, more preferably 0.001 to 0.05% by mass, and still more preferably 0.001 to 0.02% by mass.
  • a hue may deteriorate.
  • mold contamination may occur during injection molding or roll contamination may occur during extrusion of a plate-shaped molded product.
  • Phosphorous antioxidant (C) is a phosphite that is a trivalent phosphorus compound.
  • Phosphorous antioxidants include, for example, 6- [3- (3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propoxy] -2,4,8,10-tetra-t-butylbenz [d, f ] [1,3,2] dioxaphosphine, 3,9-bis (2,6-di-tert-butyl-4-methylphenoxy) -2,4,8,10-tetraoxa-3,9- Diphosphaspiro [5.5] undecane, bis (2,4-dicumylphenyl) pentaerythritol diphosphite, 2,2′-methylenebis (4,6-di-tert-butyl-1-phenyloxy) (2-ethylhexyl) Oxy) phosphorus, tris (2,4-di-tert-butylphenyl) phosphite
  • the total ⁇ (B) + (C) ⁇ of the content of the hindered phenolic antioxidant (B) and the content of the phosphorus antioxidant (C) in the styrene resin composition is (A) to ( It is 0.011 to 0.6% by mass relative to the total amount of C).
  • the content is preferably 0.021 to 0.25% by mass, more preferably 0.031 to 0.2% by mass, and still more preferably 0.041 to 0.12% by mass. If the total amount of the content of the hindered phenolic antioxidant (B) and the content of the phosphorus antioxidant (C) ⁇ (B) + (C) ⁇ is too small, there will be no effect of improving the hue. Hue may deteriorate.
  • a method for producing a styrene resin composition from a styrene- (meth) acrylic acid ester copolymer (A), a hindered phenol antioxidant (B) and a phosphorus antioxidant (C) is known.
  • the method can be adopted.
  • a styrene- (meth) acrylic acid ester copolymer is used in the production step (A) such as polymerization step, devolatilization step, granulation step, etc. in the hindered phenolic antioxidant (B) and phosphorus antioxidant ( There is a method of adding C), which is preferably added after the unreacted monomer and solvent are removed in the devolatilization step.
  • a hindered phenol antioxidant (B) and a phosphorus antioxidant (C) in a molten state are added to a styrene- (meth) acrylate ester copolymer extracted from the devolatilization tank.
  • a static mixer or when using a vented devolatilizing extruder, add a hindered phenolic antioxidant (B) and a phosphorus antioxidant (C) after the venting zone.
  • it can be added directly at the time of molding the styrene- (meth) acrylic acid ester copolymer (A), or it can be added by preparing a master batch.
  • the styrene resin composition may contain mineral oil as long as the transparency is not impaired. Also includes additives such as internal lubricants such as stearic acid and ethylene bisstearylamide, sulfur antioxidants, lactone antioxidants, UV absorbers, hindered amine stabilizers, antistatic agents, external lubricants, etc. It may be. As the external lubricant, ethylene bisstearylamide is suitable.
  • the ultraviolet absorber has a function of suppressing deterioration and coloring due to ultraviolet rays.
  • benzophenone, benzotriazole, triazine, benzoate, salicylate, cyanoacrylate, malonic ester, formamidine UV absorbers such as those of the system.
  • a light stabilizer such as a hindered amine may be used in combination.
  • the polymerization inhibitor is added to the monomer in order to prevent unintended polymerization from occurring during storage of the monomer.
  • the polymerization inhibitor include catechols such as 4-tert-butylcatechol, phenols such as 6-tert-butyl-2,4-xylenol and paramethoxyphenol, hydroquinone, 2,2,6,6, and the like. -Tetramethylpiperidinyl-1-oxyl, 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidinyl-1-oxyl and the like.
  • the content of the polymerization inhibitor remaining in the styrene- (meth) acrylic acid ester copolymer is preferably less than 10 ppm, more preferably less than 5 ppm, and even more preferably less than 3 ppm.
  • the polymerization inhibitor includes a styrene monomer used for copolymerization of a styrene- (meth) acrylate ester copolymer, 4-tert-butylcatechol derived from a (meth) acrylate ester monomer, and 6- tert-butyl-2,4-xylenol and the like.
  • the content of 6-tert-butyl-2,4-xylenol remaining in the styrene- (meth) acrylic acid ester copolymer is preferably less than 4 ppm, more preferably less than 2 ppm. If the content of the polymerization inhibitor is too large, the polymerization inhibitor itself may be modified during the polymerization reaction or molding process, becoming a colored substance and deteriorating transparency and hue.
  • the content of the polymerization inhibitor remaining in the copolymer can be controlled by the content of the polymerization inhibitor in the monomer used for the copolymerization. Also, in continuous bulk polymerization or solution polymerization, the content of the polymerization inhibitor remaining in the copolymer is efficiently reduced by reusing the recovered and purified unreacted monomer. can do.
  • the 4-tert-butylcatechol concentration and 6-tert-butyl-2,4-xylenol concentration in the styrene- (meth) acrylic acid ester copolymer were first dissolved in tetrahydrofuran (adjusted to 50 mg / ml). ) After that, trimethylsilyl derivatization treatment was performed using BSTFA (N, O-bis (trimethylsilyl) trifluoroacetamide), and the supernatant separated by centrifugation was analyzed by gas chromatography mass spectrometry (GC / MS). The measurement was performed under the following conditions. A calibration curve prepared in advance was used to determine the concentration.
  • GC / MS measurement conditions GC device: Agilent 6890 Column: DB-1 (0.25 mm id x 30 m) Liquid phase thickness 0.25mm Column temperature: 40 ° C. (5 min hold) ⁇ (20 ° C./min temperature increase) ⁇ 320 ° C (6 min hold) 25 min total Inlet temperature: 320 ° C Injection method: Split method (split ratio 1: 5) Sample volume: 2 ⁇ l MS equipment: Agilent MSD5973 Ion source temperature: 230 ° C Interface temperature: 320 ° C Ionization method: Electron ionization (EI) method Measurement method: SCAN method (scan range m / z 10 to 800)
  • the styrenic monomer preferably contains 0.1 to 20 ppm of 4-tert-butylcatechol as a polymerization inhibitor, more preferably 0.1 to 12 ppm, and even more preferably 0.1 to 7 ppm. It is.
  • concentration of 4-tert-butylcatechol in the styrene monomer exceeds 20 ppm, the 4-tert-butylcatechol itself is modified and becomes a colored substance. Therefore, a styrene- (meth) acrylate ester copolymer Transparency and hue may deteriorate.
  • the (meth) acrylic acid ester monomer preferably contains 0.1 to 20 ppm, more preferably 0.1 to 12 ppm of 6-tert-butyl-2,4-xylenol as a polymerization inhibitor. More preferably, it is 0.1 to 7 ppm.
  • concentration of 6-tert-butyl-2,4-xylenol in the (meth) acrylic acid ester monomer exceeds 20 ppm, 6-tert-butyl-2,4-xylenol itself is denatured, Therefore, the transparency and hue of the styrene- (meth) acrylic acid ester copolymer may be deteriorated.
  • the polymerization inhibitor of styrene monomer or (meth) acrylic acid ester monomer can be removed or reduced by adsorption removal with activated alumina.
  • the 4-tert-butylcatechol in the styrene monomer and the 6-tert-butyl-2,4-xylenol concentration in the (meth) acrylic acid ester monomer were first set to 50 mg / ml for each monomer. After being mixed with tetrahydrofuran so as to be, trimethylsilyl derivatization treatment was performed using BSTFA (N, O-bis (trimethylsilyl) trifluoroacetamide), and gas chromatography / mass spectrometry (GC / MS) was used. It measured on the same conditions as the measurement of a (meth) acrylic acid ester-type copolymer. A calibration curve prepared in advance was used to determine the concentration.
  • the styrene resin composition can be formed into a molded product by a known method such as extrusion molding, injection molding, compression molding, or blow molding.
  • a plate-shaped molded product can be produced by extrusion molding and processed into a light guide plate or the like.
  • the styrenic resin composition of the present invention is excellent in thermal stability, it collects and grinds unfinished parts such as sheet end materials during extrusion molding and spools and runners during injection molding, and mixes them with virgin raw materials. Can be used.
  • the light guide plate is a member having a function of guiding light incident from the end face of the plate-shaped molded product to the surface side of the plate-shaped molded product by a reflection pattern formed on one surface of the plate-shaped molded product and emitting light.
  • the reflection pattern can be formed by a method such as a screen printing method, a laser processing method, or an ink jet method.
  • a prism pattern or the like can be provided on the opposite surface (light emitting surface) of the surface on which the reflection pattern is formed.
  • the reflection pattern and prism pattern of the plate-shaped molded product can be formed when the plate-shaped molded product is molded. For example, it can be formed by a mold shape in injection molding, or by roll transfer in extrusion molding.
  • Optical use refers to use in products in which components include light sources such as LEDs, fluorescent lamps, and incandescent lamps.
  • components include light sources such as LEDs, fluorescent lamps, and incandescent lamps.
  • Examples of the product include a television, a desktop personal computer, a notebook personal computer, a mobile phone, a car navigation, indoor lighting, and the like.
  • the optical styrene resin composition preferably has an average value of spectral transmittance at a wavelength of 350 nm to 800 nm measured at an optical path length of 115 mm of 87.0% or more, more preferably 87.5% or more, More preferably, it is 88.0% or more, and most preferably 88.5% or more.
  • the YI value measured in accordance with JIS K7105 at a visual field of 2 ° with a C light source is 3.5 or less, more preferably 3.0 or less, and even more preferably 2.5 or less. And most preferably 2.0 or less.
  • styrene- (meth) acrylic ester copolymer A-1 The styrene- (meth) acrylic acid ester copolymer was produced by continuous solution polymerization by a radical polymerization method. A complete mixing tank type stirring tank was used as the first reactor, a plug flow type reactor with a static mixer was used as the second reactor, and the polymerization process was configured by connecting in series. The capacity of the first reactor was 30L, and the capacity of the second reactor was 12L.
  • fresh MMA 6-tert-butyl-2,4-xylenol
  • fresh MMA 6-tert-butyl-2,4-xylenol
  • TBX concentration of (referred to as TBX) was 4.9 ppm.
  • Resh Sty concentration of 4-tert-butylcatechol (hereinafter referred to as “TBC”) was 10.2 ppm.
  • fresh EB industrially used ethylbenzene
  • gases such as a monomer and a polymerization solvent separated from a vacuum devolatilizer described later were condensed by a condenser and purified by a flash distillation column as a recovered raw material.
  • concentrations of TBX and TBC in the recovered raw material were below the lower limit of detection.
  • fresh MMA, fresh Sty and the recovered raw material a raw material solution was prepared so as to have the raw material composition shown in Table 1, and continuously supplied to the polymerization step at a feed flow rate shown in Table 1.
  • the use ratio of the recovered raw materials is as shown in Table 1, and is balanced with the amount separated and purified in the devolatilization tank.
  • t-butylperoxyisopropyl monocarbonate as a polymerization initiator was continuously added to the raw material solution supply line to a concentration of 150 ppm and n-dodecyl mercaptan as a chain transfer agent to a concentration of 500 ppm. .
  • the temperature of the first reactor was adjusted to 135 ° C.
  • the second reactor was adjusted to have a temperature gradient along the flow direction and adjusted to 130 ° C. at the middle portion and 145 ° C. at the outlet portion.
  • the polymer concentration at the outlet of the polymerization process was 65%, and the conversion ratio of methyl (meth) acrylate and styrene was 72%.
  • the polymer solution continuously taken out from the reactor was supplied to a vacuum devolatilization tank equipped with a preheater to separate unreacted methyl (meth) acrylate, styrene, ethylbenzene and the like.
  • the temperature of the preheater was adjusted so that the polymer temperature in the devolatilization tank was 240 ° C., and the pressure in the devolatilization tank was 1 kPa.
  • the polymer was extracted from the vacuum devolatilization tank using a gear pump, extruded into a strand, cooled with cooling water, and then cut to obtain a pellet-shaped styrene- (meth) acrylate copolymer A-1.
  • Table 1 shows the composition of A-1 and the content of the polymerization inhibitor.
  • Sty is an abbreviation for styrene, MMA for methyl (meth) acrylate, and EB for ethylbenzene.
  • the weight average molecular weight of A-1 was 145,000, the total amount of residual monomer and polymerization solvent was 0.07% by mass, and the total amount of residual oligomer was 0.35% by mass.
  • Examples 1 to 22 and Comparative Examples 1 to 7> The hindered phenolic antioxidants (B-1) to (B-3) and phosphorus antioxidants (C-1) shown below are added to the styrene-methyl (meth) acrylate copolymers obtained in the production examples.
  • (C-6) was mixed at the content shown in Table 2, and a sheet molded product of 450 mm ⁇ 500 mm ⁇ 2 mm was obtained while melt-kneading the antioxidant using a sheet extruder manufactured by LEADER.
  • the sheet extruder was composed of a 50 mm ⁇ single-screw extruder, a T die, and three mirror rolls, and sheet extrusion was performed at a cylinder temperature of 225 ° C.
  • Spectral transmittances from 350 nm to 800 nm were measured, and the YI value at a visual field of 2 ° with a C light source was calculated according to JIS K7105.
  • the transmittance shown in Table 1 indicates an average transmittance at a wavelength of 380 nm to 780 nm.
  • Table 2 shows the evaluation results.
  • the styrene- (meth) acrylic acid ester copolymer and the styrene resin composition of the present invention and the molded product thereof have low water absorption and excellent transparency and hue in a long optical path.
  • televisions, desktop personal computers It can be suitably used for light guide plate applications such as notebook personal computers, mobile phones, car navigation systems, and indoor lighting.

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Abstract

本発明の目的は、透明性及び色相に優れ、吸水性が低く吸湿による耐反り性や寸法安定性に優れるスチレン－（メタ）アクリル酸エステル共重合体を提供することである。 スチレン系単量体単位２０～８０質量％及び（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位８０～２０質量％を有するスチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体（Ａ）と、ヒンダードフェノール系酸化防止剤（Ｂ）と、リン系酸化防止剤（Ｃ）からなり、（Ａ）～（Ｃ）の合計量に対して、（Ｂ）の含有量が０．０１～０．３質量％、（Ｃ）の含有量が０．００１～０．３質量％である光学用スチレン系樹脂組成物。

Description

光学用スチレン系樹脂組成物
　本発明は、色相および透明性に優れた光学用スチレン系樹脂組成物およびその成形品、導光板に関するものである。
　液晶表示装置のバックライトには、光源を表示装置の正面に配置する直下型と側面に配置するエッジライト型がある。導光板はエッジライト型バックライトに用いられ、側面に配置された光源の光を正面に導く役割を果たす。エッジライト型バックライトはテレビ、パーソナルコンピュータ用モニター、携帯電話、カーナビゲーション等、において薄型が求められる用途で使用される範囲が拡大しており、従来は直下型が大半を占めていた大画面サイズ（例えば３２インチ以上）テレビでもエッジライト型バックライトが使用される割合が増えている。
　導光板にはＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）に代表されるアクリル系樹脂が使用されているが、吸水性が高い為、成形品に反りや寸法変化が生じる場合がある。また、成形時の熱分解性が高いため、高温で成形する場合、成形体に外観不良が生じやすいという問題がる。
　そのため、これら特性を改善したスチレン－（メタ）アクリル酸メチル共重合体を用いることが提案されている。スチレン－（メタ）アクリル酸メチル共重合体の、吸水性の改良技術としては特許文献１が提案されている。
　一方で、スチレン－（メタ）アクリル酸メチル共重合体は成形体の色相がＰＭＭＡと比較して悪く（黄色く）、バックライトとして使用した場合、液晶表示装置の面において色むらを生じる場合がある。そのため、スチレン－（メタ）アクリル酸メチル共重合体の色相改善技術として特許文献２が提案されている。
特開２００３－０７５６４８号公報 特開２０１３－０８２８００号公報
　本発明は、透明性及び色相が良好で吸水性の低い、新規な光学用スチレン系樹脂組成物及びその成形品を提供することを課題とする。成形品の中でも特に液晶表示装置等に用いられる導光板に好適に利用することができる。
即ち、本発明は以下の通りである。
（１）スチレン系単量体単位２０～８０質量％及び（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位８０～２０質量％を有するスチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体（Ａ）と、ヒンダードフェノール系酸化防止剤（Ｂ）と、リン系酸化防止剤（Ｃ）からなり、（Ａ）～（Ｃ）の合計量に対して、（Ｂ）の含有量が０．０１～０．３質量％、（Ｃ）の含有量が０．００１～０．３質量％であり、スチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体（Ａ）は、残存する重合禁止剤の含有量が１０ｐｐｍ未満であることを特徴とする光学用スチレン系樹脂組成物。
（２）スチレン（メタ）アクリル酸エステル系共重合体の重量平均分子量は、５万～２０万である（１）に記載の光学用スチレン系樹脂組成物。
（３）スチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体（Ａ）が、４－ｔｅｒｔ－ブチルカテコールを０．１～２０ｐｐｍ含有するスチレン系単量体と、６－ｔｅｒｔ－ブチル－２，４－キシレノールを０．１～２０ｐｐｍ含有する（メタ）アクリル酸エステル系単量体とを共重合して得られたものであることを特徴とする（１）又は（２）に記載の光学用スチレン系樹脂組成物。
（４）（１）～（３）のいずれかに記載のスチレン系樹脂組成物からなる成形品。
（５）（４）に記載の成形品からなる導光板。
　本発明の光学用スチレン系樹脂組成物及び成形品は、透明性及び色相に優れ、吸水性が低く吸湿による耐反り性や寸法安定性に優れることから、導光板等の光学用途に好適に用いることが出来る。
　以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。なお本願明細書において、例えば、「Ａ～Ｂ」なる記載は、Ａ以上でありＢ以下であることを意味する。
　本発明のスチレン系樹脂組成物とは、スチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体（Ａ）と、ヒンダードフェノール系酸化防止剤（Ｂ）と、リン系酸化防止剤（Ｃ）からなる組成物である。
　スチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体（Ａ）とは、スチレン系単量体単位と（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位を有する共重合体であり、例えば、スチレン－メチル（メタ）アクリレート共重合体がある。
　スチレン系単量体とは、芳香族ビニル系モノマーである。スチレン、α－メチルスチレン、ｏ－メチルスチレン、ｍ－メチルスチレン、エチルスチレン、ｐ－ｔ－ブチルスチレンなどの単独または２種以上の混合物であり、好ましくはスチレンである。
　（メタ）アクリル酸エステル系単量体とは、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレートのメタクリル酸エステル、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ－ブチルアクリレート、２－メチルへキシルアクリレート、２－エチルヘキシルアクリレート、デシルアクリレートなどの単独または２種以上の混合物であり、好ましくはメチル（メタ）アクリレートである。
　スチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体におけるスチレン系単量体単位の含有量は２０～８０質量％、（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位の含有量が８０～２０質量％である。より好ましくはスチレン系単量体単位の含有量が３０～６０質量％、（メタ）アクリル酸エステル単量体単位の含有量が７０～４０質量％である。さらに好ましくはスチレン系単量体単位の含有量が４５～５５質量％、（メタ）アクリル酸エステル単量体単位の含有量が５５～４５質量％である。スチレン系単量体単位の含有量が少ないと吸湿により、反り及び寸法変形が大きくなることがある。スチレン系単量体単位の含有量が多すぎると、色相の悪化や表面硬度が低下して傷付きやすくなることがある。
　スチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体には、その他の単位構造を少量有するものを用いることができる。その他の単位構造は５質量％以下が好ましい。その他の単位構造としては、スチレン系単量体及び（メタ）アクリル酸エステル系単量体に共重合可能なビニル単量体に由来する単位構造がある。共重合可能な単量体としては、アクリロニトリル、メタクリル酸、アクリル酸、無水マレイン酸などが挙げられる。
　スチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体のスチレン系単量体単位及び（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位の含有量は熱分解ガスクロマトグラフィーで以下の条件にて測定した。
熱分解炉：ＰＹＲ－２Ａ（株式会社島津製作所製）
熱分解炉温度設定：５２５℃
ガスクロマトグラフ：ＧＣ－１４Ａ（株式会社島津製作所製）
カラム：ガラス製３ｍｍ径×３ｍ
充填剤：ＦＦＡＰ　Ｃｈｒｏｍｓｏｒｂ　ＷＡＷ　１０％
カラム温度：１２０℃
キャリアーガス：窒素
　スチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体の製造方法としては、公知の方法が採用できる。例えば、塊状重合、溶液重合、懸濁重合、乳化重合等により製造することができる。反応装置の操作法としては、連続式、バッチ式（回分式）、半回分式のいずれも適用できる。透明性などの品質面や生産性の面から、塊状重合或いは溶液重合が好ましく、連続式であることが好ましい。塊状重合或いは溶液重合の溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン及びキシレン等のアルキルベンゼン類やアセトンやメチルエチルケトン等のケトン類、ヘキサンやシクロヘキサン等の脂肪族炭化水素等がある。
　スチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体の重合方法は、公知の方法が採用できる。簡潔なプロセスで生産性に優れることから、ラジカル重合法が好ましい。
　スチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体の塊状重合或いは溶液重合では、重合開始剤、連鎖移動剤を用いることができ、重合温度は１１０～１７０℃の範囲であることが好ましい。連続式で塊状重合或いは溶液重合を行う場合、生産性の観点から、スチレン系単量体及び（メタ）アクリル酸エステル系単量体の転化率は、重合工程の出口において、６０％以上になるよう重合を行うことが好ましい。
　重合開始剤は、例えば、過酸化ベンゾイル、ｔ－ブチルパーオキシベンゾエート、１，１－ジ（ｔ－ブチルバーオキシ）シクロヘキサン、１，１－ビス（ｔ－ブチルパーオキシ）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサン、１，１－ビス（ｔ－ブチルパーオキシ）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサン、２，２－ビス（４，４－ジ－ｔ－ブチルパーオキシシクロヘキシル）プロパン、ｔ－ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、ジクミルパーオキサイド、ｔ－ブチルクミルパーオキサイド、ｔ－ブチルパーオキシアセテート、ｔ－ブチルパーオキシ－２－エチルヘキサノエート、ポリエーテルテトラキス（ｔ－ブチルパーオキシカーボネート）、エチル－３，３－ジ（ｔ－ブチルパーオキシ）ブチレート、ｔ－ブチルパーオキシイソブチレートなどの有機過酸化物が挙げられる。
　重合開始剤の添加量は、単量体の合計１００質量％に対して、０．００１～０．２質量％であることが好ましい。より好ましくは、０．００１～０．０５質量％である。重合開始剤の添加量が多すぎると色相が悪化することがある。
　連鎖移動剤は、例えば、脂肪族メルカプタン、芳香族メルカプタン、ペンタフェニルエタン、α－メチルスチレンダイマー及びテルピノーレンなどが挙げられる。
　連鎖移動剤の添加量は、好ましくは単量体の合計１００質量％に対して、０．００１～０．５質量％、より好ましくは、０．００５～０．２質量％である。連鎖移動剤の添加量が０．００１～０．５質量％であると、熱安定性が良好なものとなる。
　スチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体の重合終了後の溶液から、未反応の単量体や溶液重合に用いた溶媒などの揮発成分を取り除く脱揮方法は、公知の手法が採用できる。例えば、予熱器付きの真空脱揮槽やベント付き脱揮押出機を用いることができる。脱揮工程におけるスチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体の温度は２００℃～３００℃であることが好ましく、２２０℃～２６０℃であることがより好ましい。脱揮工程でのスチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体の温度が高すぎると、色相が悪化する場合がある。脱揮された溶融状態のスチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体は、造粒工程に移送され、多孔ダイよりストランド状に押出し、コールドカット方式や空中ホットカット方式、水中ホットカット方式にてペレット形状に加工することができる。
　脱揮工程で除去された未反応の単量体及び溶液重合に用いた溶媒は回収し、精製して重合禁止剤等の不純物を除去した後に、回収原料としてフレッシュな原料と混合して使用することが好ましい。回収原料は重合禁止剤を含有しないことから、フレッシュな原料と混合して使用することで、重合工程に供給する原料中の重合禁止剤の含有量を低減することが可能となる。重合工程に供給する原料中の重合禁止剤の含有量は、１２ｐｐｍ未満であることが好ましく、より好ましくは９ｐｐｍ未満であり、さらに好ましくは６ｐｐｍ未満であり、最も好ましくは４ｐｐｍ未満である。重合工程に供給する原料中の重合禁止剤の含有量が１２ｐｐｍ未満であると、透過率と透明性が良好なものとなる。ここでフレッシュな原料とは、スチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体の製造工程に新たに供給される原料で、回収原料と区別するため、そのように称する。
　脱揮工程で除去された未反応の単量体及び溶液重合に用いた溶媒の回収及び精製方法は、公知の方法が採用できる。例えば、脱揮工程で除去された未反応の単量体及び溶媒のガスをコンデンサーで凝縮して液化し、フラッシュ蒸留塔で精製して高沸点成分を分離除去する方法が挙げられる。また、脱揮工程で除去された未反応の単量体及び溶媒のガスから、先に高沸点成分のみをコンデンサーやスプレー塔などを用いて凝縮させて分離し、残りのガスをコンデンサーにて全量凝縮する方法が挙げられる。重合禁止剤として、例えば、４－ｔｅｒｔ－ブチルカテコールの沸点は２８５℃、６－ｔｅｒｔ－ブチル－２，４－キシレノールの沸点は２４９℃であり、高沸点成分として単量体及び溶媒から分離除去することができる（スチレンの沸点１４５℃、メチル（メタ）アクリレートの沸点１０１℃、エチルベンゼンの沸点１３６℃）。
　スチレン（メタ）アクリル酸エステル系共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は５万～２０万であることが好ましい。より好ましくは７万～１８万であり、さらに好ましくは７．５万～１６万、最も好ましくは８～１５万である。重量平均分子量（Ｍｗ）が５万未満になると、導光板の強度が低下する場合がある。重量平均分子量（Ｍｗ）が２０万を超えると、流動性が低下し、成形加工性が悪化することがある。重量平均分子量（Ｍｗ）は、重合工程の反応温度、滞留時間、重合開始剤の種類及び添加量、連鎖移動剤の種類及び添加量、重合時に使用する溶媒の種類及び量などによって制御することができる。
　重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミエイションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて以下の条件で測定した。
　ＧＰＣ機種：昭和電工株式会社製Ｓｈｏｄｅｘ　ＧＰＣ－１０１
　カラム：ポリマーラボラトリーズ社製　ＰＬｇｅｌ　１０μｍ　ＭＩＸＥＤ－Ｂ
　移動相：テトラヒドロフラン
　試料濃度：０．２質量％
　温度：オーブン４０℃、注入口３５℃、検出器３５℃
　検出器：示差屈折計
本発明の分子量は単分散ポリスチレンの溶出曲線より各溶出時間における分子量を算出し、ポリスチレン換算の分子量として算出したものである。
　スチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体中の残存単量体及び重合溶媒の合計量は、好ましくは０．５質量％以下であり、より好ましくは０．２質量％以下である。残存単量体及び重合溶媒の合計量が０．５質量％を超えると、耐熱性が不十分となることがある。
　残存単量体及び重合溶媒は、スチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体に残存する単量体と重合溶媒の量であり、例えば、スチレン、メチル（メタ）アクリレート、エチルベンゼンなどが挙げられる。残存単量体及び重合溶媒の量は脱揮工程の構成や脱揮工程の条件で調整することができる。
　残存単量体及び重合溶媒の量は、スチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体０．２ｇを精秤し、内部標準物質としてｐ－時エチルベンゼンを含むテトラヒドロフラン１０ｍｌに溶解し、キャピラリーガスクロマトグラフを用いて以下の条件で測定した。
　キャピラリーガスクロマトグラフ：ＧＣ－４０００（ジーエルサイエンス株式会社製）
　カラム：ジーエスサイエンス株式会社製　ＩｎｅｒｔＣａｐ　ＷＡＸ、内径　０．２５ｍｍ、長さ　３０ｍ、膜厚　５０μｍ
　インジェクション温度：１８０℃
　カラム温度：６０℃～１７０℃
　ディテクター温度：２１０℃
　スプリット比：５／１
　スチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体中のスチレン系単量体及び（メタ）アクリル酸エステル系単量体の２量体または３量体（以下オリゴマー）の合計量は、２質量％以下であることが好ましい。より好ましくは１質量％以下である。オリゴマーの合計量が１質量％を超えると、導光板としての耐熱性が不十分となることがある。
　オリゴマーの測定は、スチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体２００ｍｇを２ｍＬの１，２－ジクロロメタンに溶解し、メタノールを２ｍＬ添加して共重合体を析出させ、静置させた後、上澄み液についてガスクロマトグラフを用いて以下の条件で測定した。
　ガスクロマトグラフ：ＨＰ－５８９０（ヒューレットパッカード社製）
　カラム：ＤＢ－１（ｈｔ）　０．２５ｍｍ×３０ｍ　膜厚０．１μｍ
　インジェクション温度：２５０℃
　カラム温度：１００－３００℃
　検出器温度：３００℃
　スプリット比：５０／１
　内部標準物質：ｎ－エイコサン
　キャリアーガス：窒素
　スチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体のビカット軟化点は９５℃以上であることが好ましく、９８℃以上であることがより好ましい。ビカット軟化点が９５℃未満では耐熱性が不足し、使用環境によっては成形品が変形する可能性がある。（ビカット軟化温度は、ＪＩＳ　Ｋ　７２０６に準拠し、昇温速度５０℃／ｈｒ、試験荷重５０Ｎで試験を行った。）
　スチレン系樹脂組成物中のヒンダードフェノール系酸化防止剤（Ｂ）の含有量は、（Ａ）～（Ｃ）の合計量に対して、０．０１～０．３質量％である。好ましくは０．０２～０．２質量％であり、より好ましくは０．０３～０．１５質量％であり、さらに好ましくは０．０４～０．１質量％である。ヒンダードフェノール系酸化防止剤（Ｂ）の含有量が少なすぎると色相改良効果がなく、多すぎても色相が悪化することがある。
　ヒンダードフェノール系酸化防止剤（Ｂ）とは、基本骨格にフェノール性水酸基を持つ酸化防止剤である。ヒンダードフェノール系酸化防止剤は、例えば、オクタデシル－３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート、エチレンビス（オキシエチレン）ビス〔３－（５－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－ｍ－トリル）プロピオネート〕、３，９－ビス［２－〔３－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕－１，１－ジメチルエチル］－２，４，８，１０－テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、ペンタエリスリトールテトラキス［３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、４，６－ビス（オクチルチオメチル）－ｏ－クレゾール、４，６－ビス〔（ドデシルチオ）メチル〕－ｏ－クレゾール、２，４－ジメチル－６－（１－メチルペンタデシル）フェノール、テトラキス〔メチレン－３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、４，４'－チオビス（６－ｔ－ブチル－３－メチルフェノール）、１，１，３－トリス（２－メチル－４－ヒドロキシ－５－ｔ－ブチルフェニル）ブタン、４，４'－ブチリデンビス（３－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、ビス－［３，３－ビス－（４'－ヒドロキシ－３'－ｔｅｒｔ―ブチルフェニル）－ブタン酸］－グリコールエステル、２－ｔ－ブチル－６－（３－ｔ－ブチル－２－ヒドロキシ－５－メチルベンジル）－４－メチルフェニルアクリレート、２－〔１－（２－ヒドロキシ－３，５－ジ－ｔ－ペンチルフェニル）エチル〕－４，６－ジ－ｔ－ペンチルフェニルアクリレート等が挙げられる。好ましくは、オクタデシル－３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート、エチレンビス（オキシエチレン）ビス〔３－（５－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－ｍ－トリル）プロピオネート〕、ペンタエリスリトールテトラキス［３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］である。より好ましくはオクタデシル－３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネートである。ヒンダードフェノール系酸化防止剤は、単独でもよいが２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
　スチレン系樹脂組成物中のリン系酸化防止剤（Ｃ）の含有量は、（Ａ）～（Ｃ）の合計量に対して、０．００１～０．３質量％である。好ましくは０．００１～０．１質量％であり、より好ましくは０．００１～０．０５質量％であり、さらに好ましくは０．００１～０．０２質量％である。リン系酸化防止剤（Ｃ）の含有量が多すぎると、色相が悪化する場合がある。また、射出成形時に金型汚染が発生する場合や板状成形品の押出中にロール汚染が発生する場合がある。
　リン系酸化防止剤（Ｃ）とは、三価のリン化合物である亜リン酸エステル類である。リン系酸化防止剤は、例えば、６－〔３－（３－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロポキシ〕－２，４，８，１０－テトラ－ｔ－ブチルベンズ〔ｄ，ｆ〕〔１，３，２〕ジオキサホスフェピン、３，９－ビス（２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－メチルフェノキシ）－２，４，８，１０－テトラオキサ－３，９－ジホスファスピロ〔５．５〕ウンデカン、ビス（２，４－ジクミルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、２，２'－メチレンビス（４，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－１－フェニルオキシ）（２－エチルヘキシルオキシ）ホスホラス、トリス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）フォスファイト、ビス〔２，４－ビス（１，１－ジメチルエチル）－６－メチルフェニル〕エチルエステル亜リン酸、ビス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス（オクタデシルホスファイト）、ビス（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、４，４'－ビフェニレンジホスフィン酸テトラキス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）、９，１０－ジヒドロ－９－オキサ－１０－ホスファフェナントレン－１０－オキサイド、テトラキス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチルフェニル）－４，４'－ビフェニレンジホスホナイト等が挙げられる。好ましくは、６－〔３－（３－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロポキシ〕－２，４，８，１０－テトラ－ｔ－ブチルベンズ〔ｄ，ｆ〕〔１，３，２〕ジオキサホスフェピン、３，９－ビス（２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－メチルフェノキシ）－２，４，８，１０－テトラオキサ－３，９－ジホスファスピロ〔５．５〕ウンデカン、ビス（２，４－ジクミルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、２，２'－メチレンビス（４，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－１－フェニルオキシ）（２－エチルヘキシルオキシ）ホスホラス、トリス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）フォスファイト、ビス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイトである。より好ましくは、６－〔３－（３－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロポキシ〕－２，４，８，１０－テトラ－ｔ－ブチルベンズ〔ｄ，ｆ〕〔１，３，２〕ジオキサホスフェピン、ビス（２，４－ジクミルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、トリス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）フォスファイト、ビス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイトであり、さらに好ましくは６－〔３－（３－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロポキシ〕－２，４，８，１０－テトラ－ｔ－ブチルベンズ〔ｄ，ｆ〕〔１，３，２〕ジオキサホスフェピン、ビス（２，４－ジクミルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイトである。リン系酸化防止剤は、単独でもよいが２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
　スチレン系樹脂組成物中のヒンダードフェノール系酸化防止剤（Ｂ）の含有量とリン系酸化防止剤（Ｃ）の含有量の合計｛（Ｂ）＋（Ｃ）｝は、（Ａ）～（Ｃ）の合計量に対して、０．０１１～０．６質量％である。好ましくは０．０２１～０．２５質量％であり、より好ましくは０．０３１～０．２質量％であり、さらに好ましくは０．０４１～０．１２質量％である。ヒンダードフェノール系酸化防止剤（Ｂ）の含有量とリン系酸化防止剤（Ｃ）の含有量の合計｛（Ｂ）＋（Ｃ）｝が少なすぎると色相改良効果がなく、多すぎても色相が悪化することがある。
　スチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体（Ａ）、ヒンダードフェノール系酸化防止剤（Ｂ）とリン系酸化防止剤（Ｃ）とからスチレン系樹脂組成物を製造する方法は、公知の方法が採用できる。スチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体を（Ａ）の重合工程、脱揮工程、造粒工程等の製造工程で、ヒンダードフェノール系酸化防止剤（Ｂ）とリン系酸化防止剤（Ｃ）を添加する方法があり、脱揮工程で未反応の単量体及び溶媒が除去された後に添加することが好ましい。例えば、真空脱揮槽を用いる場合、脱揮槽から抜き出したスチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体に溶融状態のヒンダードフェノール系酸化防止剤（Ｂ）とリン系酸化防止剤（Ｃ）を添加し、スタティックミキサーで混合する方法や、ベント付き脱揮押出機を用いる場合には、ベントゾーン以降にヒンダードフェノール系酸化防止剤（Ｂ）とリン系酸化防止剤（Ｃ）を添加、混合することができる。また、スチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体（Ａ）の成形時に直接添加することもでき、マスターバッチを作製して添加することもできる。
　スチレン系樹脂組成物は、透明性を損なわない範囲でミネラルオイルを含有してもよい。また、ステアリン酸、エチレンビスステアリルアミドなどの内部潤滑剤や、イオウ系酸化防止剤、ラクトン系酸化防止剤、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系安定剤、帯電防止剤、外部潤滑剤などの添加剤が含まれていても良い。また、外部潤滑剤としては、エチレンビスステアリルアミドが好適である。
　紫外線吸収剤は、紫外線による劣化や着色を抑制する機能を有するものであって、例えば、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系、ベンゾエート系、サリシレート系、シアノアクリレート系、マロン酸エステル系、ホルムアミジン系などの紫外線吸収剤が挙げられる。これらは、単独または２種以上組み合わせて用いることができ、ヒンダードアミンなどの光安定剤を併用してもよい。
　重合禁止剤は、単量体の貯蔵中などに意図しない重合が起こることを防止するために単量体中に添加される。重合禁止剤の種類としては、例えば、４－ｔｅｒｔ－ブチルカテコールなどのカテコール類、６－ｔｅｒｔ－ブチル－２，４－キシレノール、パラメトキシフェノールなどのフェノール類、ハイドロキノン、２，２，６，６－テトラメチルピペリジニル－１－オキシル、４－ヒドロキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジニル－１－オキシルなどが挙げられる。
　スチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体中に残存する重合禁止剤の含有量は、１０ｐｐｍ未満であることが好ましく、より好ましくは５ｐｐｍ未満であり、さらに好ましくは３ｐｐｍ未満である。重合禁止剤は、スチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体の共重合に用いるスチレン系単量体と（メタ）アクリル酸エステル系単量体に由来する４－ｔｅｒｔ－ブチルカテコール及び６－ｔｅｒｔ－ブチル－２，４－キシレノール等である。スチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体中に残存する６－ｔｅｒｔ－ブチル－２，４－キシレノールの含有量は４ｐｐｍ未満であることが好ましく、より好ましくは２ｐｐｍ未満である。重合禁止剤の含有量が多すぎると、重合禁止剤そのものが重合反応時や成形加工時に変性し、着色物質となって透明性や色相を悪化させることがある。共重合体中に残存する重合禁止剤の含有量は、共重合に用いる単量体中の重合禁止剤の含有量によって制御することができる。また、連続式の塊状重合或いは溶液重合法において、未反応の単量体を回収及び精製したものを再利用することによって、効率的に共重合体中に残存する重合禁止剤の含有量を低減することができる。
　スチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体中の４－ｔｅｒｔ－ブチルカテコール濃度及び６－ｔｅｒｔ－ブチル－２，４－キシレノール濃度は、まず、ペレットをテトラヒドロフランに溶解した（５０ｍｇ／ｍｌに調整）後、ＢＳＴＦＡ（Ｎ，Ｏ－ビス（トリメチルシリル）トリフルオロアセトアミド）を用いて、トリメチルシリル誘導体化処理を実施し、遠心分離によって分離した上澄み液をガスクロマトグラフ質量分析（ＧＣ／ＭＳ）を使用し、下記条件にて測定した。濃度の決定には、予め作成した検量線を用いた。
ＧＣ／ＭＳ測定条件：
　ＧＣ装置　　　　　　：Ａｇｉｌｅｎｔ　６８９０
　カラム　　　　　　　：ＤＢ－１（０．２５ｍｍ　ｉ．ｄ．×３０ｍ）
　　　　　　　　　　　　液相厚０．２５ｍｍ
　カラム温度　　　　　：４０℃（５ｍｉｎ保持）→（２０℃／ｍｉｎ昇温）→
　　　　　　　　　　　　３２０℃（６ｍｉｎ保持）　計２５ｍｉｎ
　注入口温度　　　　　：３２０℃
　注入法　　　　　　　：スプリット法（スプリット比１：５）
　試料量　　　　　　　：２μｌ
　ＭＳ装置　　　　　　：Ａｇｉｌｅｎｔ　ＭＳＤ５９７３
　イオン源温度　　　　：２３０℃
　インターフェイス温度：３２０℃
　イオン化法　　　　　：電子イオン化（ＥＩ）法
　測定法　　　　　　　：ＳＣＡＮ法（スキャンレンジｍ／ｚ　１０～８００）
　スチレン系単量体は、重合禁止剤として４－ｔｅｒｔ－ブチルカテコールを０．１～２０ｐｐｍ含有していることが好ましく、より好ましくは０．１～１２ｐｐｍであり、さらに好ましくは０．１～７ｐｐｍである。スチレン系単量体中の４－ｔｅｒｔ－ブチルカテコールの濃度が２０ｐｐｍを超えると、４－ｔｅｒｔ－ブチルカテコールそのものが変性し、着色物質となる為、スチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体の透明性、色相が悪化することがある。
　（メタ）アクリル酸エステル系単量体は、重合禁止剤として６－ｔｅｒｔ－ブチル－２，４－キシレノールを０．１～２０ｐｐｍ含有することが好ましく、より好ましくは、０．１～１２ｐｐｍであり、さらに好ましくは０．１～７ｐｐｍである。（メタ）アクリル酸エステル系単量体中の６－ｔｅｒｔ－ブチル－２，４－キシレノールの濃度が２０ｐｐｍを超えると、６－ｔｅｒｔ－ブチル－２，４－キシレノールそのものが変性し、着色物質となる為、スチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体の透明性、色相が悪化することがある。
　スチレン系単量体或いは（メタ）アクリル酸エステル系単量体の重合禁止剤は、活性アルミナにより吸着除去により除去または減少させることができる。
　スチレン系単量体中の４－ｔｅｒｔ－ブチルカテコール及び（メタ）アクリル酸エステル系単量体中の６－ｔｅｒｔ－ブチル－２，４－キシレノール濃度は、まず、各単量体が５０ｍｇ／ｍｌになるようテトラヒドロフランと混合した後、ＢＳＴＦＡ（Ｎ，Ｏ－ビス（トリメチルシリル）トリフルオロアセトアミド）を用いて、トリメチルシリル誘導体化処理を実施し、ガスクロマトグラフ質量分析（ＧＣ／ＭＳ）を使用し、スチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体の測定と同様の条件で測定した。濃度の決定には、予め作成した検量線を用いた。
　スチレン系樹脂組成物は、押出成形、射出成形、圧縮成形、ブロー成形などの公知の方法で成形品を作製することができる。例えば、押出成形によって、板状の成形品を作製し、導光板等に加工して使用することができる。
　本発明のスチレン系樹脂組成物は熱安定性に優れることから、押出成形時のシート端材や射出成形時のスプールやランナー等の製品化されない部分を回収及び粉砕して、バージン原料に混合して使用することができる。
　導光板は、板状成形品の一方の面に形成された反射パターンにより、板状成形品の端面から入射した光を板状成形品の面側に導き、発光させる機能を持つ部材である。反射パターンはスクリーン印刷法やレーザー加工法、インクジェット法などの方法により形成することができる。また、反射パターンが形成された面の反対面（発光面）にプリズムパターンなどを設けることが出来る。板状成形品の反射パターンやプリズムパターンは、板状成形品の成形時に形成することができる。例えば、射出成形では金型形状、押出成形ではロール転写などにより、形成することができる。
　光学用とは、構成部材にＬＥＤや蛍光灯、白熱電灯などの光源が含まれる製品に供されることを指す。製品としては、例えばテレビ、デスクトップ型パーソナルコンピューター、ノート型パーソナルコンピューター、携帯電話機、カーナビゲーション、室内照明などが挙げられ、例えばその導光板用途である。
光学用のスチレン系樹脂組成物は、光路長１１５ｍｍで測定した波長３５０ｎｍ～８００ｎｍの分光透過率の平均値が８７．０％以上であることが好ましく、より好ましくは８７．５％以上であり、さらに好ましくは８８．０％以上であり、最も好ましくは８８．５％以上である。また、ＪＩＳ　Ｋ７１０５に準拠して測定される、Ｃ光源における視野２°でのＹＩ値が３．５以下であることが好ましく、より好ましくは３．０以下であり、さらに好ましくは２．５以下であり、最も好ましくは２．０以下である。
　以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
＜スチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体Ａ－１の製造例＞
　スチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体は、ラジカル重合法にて、連続式の溶液重合で製造した。第１反応器として完全混合槽型撹拌槽を使用し、第２反応器として静的混合器付プラグフロー型反応器を使用し、直列に接続して重合工程を構成した。第１反応器の容量は３０Ｌ、第２反応器の容量は１２Ｌとした。（メタ）アクリル酸エステル系単量体として、工業的に使用されるメチル（メタ）アクリレート（以下、フレッシュＭＭＡと称する）を準備したところ、６－ｔｅｒｔ－ブチル－２，４－キシレノール（以下、ＴＢＸと称する）の濃度は４．９ｐｐｍであった。スチレン系単量体として、工業的に使用されるスチレン（以下、フレッシュＳｔｙと称する）を準備したところ、４－ｔｅｒｔ－ブチルカテコール（以下、ＴＢＣと称する）の濃度は１０．２ｐｐｍであった。重合溶媒として、工業的に使用されるエチルベンゼン（以下、フレッシュＥＢと称する）を準備した。また、後述する真空脱揮槽より分離した単量体及び重合溶媒等のガスはコンデンサーで凝縮し、フラッシュ蒸留塔で精製したものを回収原料として使用した。回収原料中のＴＢＸ及びＴＢＣは検出下限以下の濃度であった。フレッシュＭＭＡ、フレッシュＳｔｙ及び回収原料を用い、表１の原料組成になるよう原料溶液を作成し、重合工程に表１に示すフィード流量で連続的に供給した。回収原料の使用割合は表１に示す通りで、脱揮槽で分離され、精製された量とバランスしている。また、原料溶液に対して、重合開始剤としてｔ－ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネートを１５０ｐｐｍ、連鎖移動剤としてｎ－ドデシルメルカプタンを５００ｐｐｍの濃度となるよう、原料溶液の供給ラインに連続的に添加した。第１反応器の温度は１３５℃となるよう調整し、第２反応器では流れの方向に沿って温度勾配をつけ、中間部分で１３０℃、出口部分で１４５℃となるよう調整した。重合工程出口でのポリマー濃度は６５％で、メチル（メタ）アクリレートとスチレンの転化率は７２％であった。反応器から連続的に取り出されたポリマー溶液は、予熱器付き真空脱揮槽に供給され、未反応のメチル（メタ）アクリレート及びスチレン、エチルベンゼン等を分離した。脱揮槽内のポリマー温度が２４０℃となるように予熱器の温度を調整し、脱揮槽内の圧力は１ｋＰａとした。ギヤーポンプにより真空脱揮槽からポリマーを抜出し、ストランド状に押出して冷却水にて冷却後、切断してペレット状のスチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体Ａ－１を得た。Ａ－１の組成と重合禁止剤の含有量を表１に示す。表１においてＳｔｙはスチレン、ＭＭＡはメチル（メタ）アクリレート、ＥＢはエチルベンゼンを示す略号である。また、Ａ－１の重量平均分子量は１４．５万で、残存単量体及び重合溶媒の合計量は０．０７質量％、残存オリゴマーの合計量は０．３５質量％であった。
＜スチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体Ａ－２の製造例＞
　工業的に使用されるフレッシュＭＭＡとして、ＴＢＸの濃度が１１．２ｐｐｍであるものを用いた以外はＡ－１と同様に実施した。Ａ－２の組成と重合禁止剤の含有量を表１に示す。また、Ａ－２の重量平均分子量は１４．５万で、残存単量体及び重合溶媒の合計量は０．０７質量％、残存オリゴマーの合計量は０．３６質量％であった。
＜スチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体Ａ－３の製造例＞
　回収原料を使用しなかったこと以外はＡ－１と同様に実施した。Ａ－３の組成と重合禁止剤の含有量を表１に示す。また、Ａ－３の重量平均分子量は１４．５万で、残存単量体及び重合溶媒の合計量は０．０６質量％、残存オリゴマーの合計量は０．３５質量％であった。
＜スチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体Ａ－４の製造例＞
　フレッシュＭＭＡ及びフレッシュＳｔｙに活性アルミナを添加し、ＴＢＸ及びＴＢＣ濃度をそれぞれ０．１ｐｐｍ未満としたこと以外はＡ－１と同様に実施した。Ａ－４の組成と重合禁止剤の含有量を表１に示す。また、Ａ－４の重量平均分子量は１４．５万で、残存単量体及び重合溶媒の合計量は０．０７質量％、残存オリゴマーの合計量は０．３６質量％であった。
＜スチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体Ａ－５の製造例＞
　原料組成を表１の内容に変更し、ｎ－ドデシルメルカプタンの濃度を１０００ｐｐｍとした以外は、Ａ－１と同様に実施した。Ａ－５の組成と重合禁止剤の含有量を表１に示す。また、Ａ－５の重量平均分子量は１２万で、残存単量体及び重合溶媒の合計量は０．０６質量％、残存オリゴマーの合計量は０．３４質量％であった。
＜スチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体Ａ－６の製造例＞
　原料組成を表１の内容に変更し、フィード流量を５．７ｋｇ／ｈとし、ｔ－ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネートの濃度を１００ｐｐｍ、ｎ－ドデシルメルカプタンの濃度を３０００ｐｐｍとし、第１反応器の温度を１３０℃とした以外は、Ａ－１と同様に実施した。Ａ－６の組成と重合禁止剤の含有量を表１に示す。また、Ａ－６の重量平均分子量は８万で、残存単量体及び重合溶媒の合計量は０．０５質量％、残存オリゴマーの合計量は０．３２質量％であった。
＜スチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体Ａ－７の製造例＞
　原料組成を表１の内容に変更し、フィード流量を５．７ｋｇ／ｈとし、ｔ－ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネートの濃度を１００ｐｐｍ、ｎ－ドデシルメルカプタンの濃度を３０００ｐｐｍとし、第１反応器の温度を１２２℃とし、第２反応器の中間部分の温度を１４０℃、出口部分の温度を１５０℃とした以外は、Ａ－１と同様に実施した。Ａ－７の組成と重合禁止剤の含有量を表１に示す。また、Ａ－７の重量平均分子量は８万で、残存単量体及び重合溶媒の合計量は０．０６質量％、残存オリゴマーの合計量は０．３４質量％であった。
＜スチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体Ａ－８の製造例＞
　原料組成を表１の内容に変更し、ｎ－ドデシルメルカプタンの添加を停止し、第１反応器の温度を１４０℃とし、第２反応器の中間部分の温度を１４０℃、出口部分の温度を１６０℃とした以外は、Ａ－１と同様に実施した。Ａ－８の組成と重合禁止剤の含有量を表１に示す。また、Ａ－８の重量平均分子量は２４万で、残存単量体及び重合溶媒の合計量は０．０６質量％、残存オリゴマーの合計量は０．３３質量％であった。
＜スチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体Ａ－９の製造例＞
　工業的に使用される、フレッシュＭＭＡとしてＴＢＸの濃度が１３．６ｐｐｍであるもの、フレッシュＳｔｙとてＴＢＣの濃度が１２．２ｐｐｍであるものを用いた以外は回収原料を使用しなかったこと以外はＡ－１と同様に実施した。Ａ－９の組成と重合禁止剤の含有量を表１に示す。また、Ａ－９の重量平均分子量は１４．５万で、残存単量体及び重合溶媒の合計量は０．０６質量％、残存オリゴマーの合計量は０．３５質量％であった。
＜スチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体Ａ－１０の製造例＞
　連鎖移動剤としてｎ－ドデシルメルカプタンを４５０ｐｐｍの濃度となるよう、原料溶液の供給ラインに連続的に添加したこと以外はＡ－１と同様に実施した。Ａ－１０の組成と重合禁止剤の含有量を表１に示す。また、Ａ－１０の重量平均分子量は１５万で、残存単量体及び重合溶媒の合計量は０．０６質量％、残存オリゴマーの合計量は０．３６質量％であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
＜実施例１～２２・比較例１～７＞
　製造例で得られたスチレン－メチル（メタ）アクリレート共重合体に以下に示すヒンダードフェノール系酸化防止剤（Ｂ－１）～（Ｂ－３）及びリン系酸化防止剤（Ｃ－１）～（Ｃ－６）を表２に示す含有量にて混合し、ＬＥＡＤＥＲ社製シート押出機を用いて酸化防止剤を溶融混錬しつつ、４５０ｍｍ×５００ｍｍ×２ｍｍのシート成形品を得た。シート押出機は、５０ｍｍφ単軸押出機とＴダイ、鏡面ロール３本より構成され、単軸押出機のシリンダー温度２２５℃、スクリュー回転数１２０ｒｐｍでシート押出を行った。Ｔダイの幅は４５０ｍｍ、開度は３ｍｍとした。
（Ｂ－１）オクタデシル－３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート　（ＢＡＳＦジャパン株式会社製　Ｉｒｇａｎｏｘ　１０７６）
（Ｂ－２）エチレンビス（オキシエチレン）ビス〔３－（５－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－ｍ－トリル）プロピオネート〕　（ＢＡＳＦジャパン株式会社製　Ｉｒｇａｎｏｘ　２４５）
（Ｂ－３）ペンタエリスリトールテトラキス［３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］　（ＢＡＳＦジャパン株式会社製　Ｉｒｇａｎｏｘ　１０１０）
（Ｃ－１）６－［３－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロポキシ］－２，４，８，１０－テトラ－ｔｅｒｔ－ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン　（住友化学株式会社製　Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ　ＧＰ）
（Ｃ－２）トリス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）フォスファイト　（ＢＡＳＦジャパン株式会社製　Ｉｒｇａｆｏｓ　１６８）
（Ｃ－３）ビス（２，４－ジクミルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト　（Ｄｏｖｅｒ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製　Ｄｏｖｅｒｐｈｏｓ　Ｓ－９２２８）
（Ｃ－４）３，９－ビス（２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－メチルフェノキシ）－２，４，８，１０－テトラオキサ－３，９－ジホスファスピロ［５，５］ウンデカン　（株式会社ＡＤＥＫＡ製　アデカスタブ　ＰＥＰ－３６）
（Ｃ－５）２，２'－メチレンビス（４，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－１－フェニルオキシ）（２－エチルヘキシルオキシ）ホスホラス　（株式会社ＡＤＥＫＡ製　アデカスタブ　ＨＰ－１０）
（Ｃ－６）ビス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト　（ソンウォンインターナショナルジャパン株式会社製　Ｓｏｎｇｎｏｘ　６２６０）
（吸水性）
　得られたシート成形品を切削し、２００ｍｍ　×　３００ｍｍサイズの成形品を得た。この成形品を温度６０℃、湿度９０％の条件で５００時間保管し、保管前後での質量及び長辺の寸法変化を測定し、吸水性の指標として、下記式により吸水率及び変形率を計算した。
（吸水率）＝（（保管後の質量）－（保管前の質量））÷（保管前の質量）×　１００（％）
（変形率）＝（（保管後の長辺長さ）－（保管前の長辺長さ））÷（保管前の長辺長さ）×　１００（％）
表２に評価結果を示した。
（光路長１１５ｍｍでの光学特性）
　得られたシート成形品より１１５ｍｍ×８５ｍｍ×２ｍｍ厚みの試験片を切り出し、端面をバフ研磨により研磨し、端面に鏡面を有する板状成形品を作成した。研磨後の板状成形品について、日本分光株式会社製の紫外線可視分光光度計Ｖ－６７０を用いて、大きさ２０×１．６ｍｍ、広がり角度０°の入射光において、光路長１１５ｍｍでの波長３５０ｎｍ～８００ｎｍの分光透過率を測定し、Ｃ光源における視野２°でのＹＩ値をＪＩＳ　Ｋ７１０５に倣い算出した。表１に示す透過率とは波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの平均透過率を示す。表２に評価結果を示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　表２の通り、ヒンダードフェノール系酸化防止剤及びリン系酸化防止剤を添加することで、それらを添加しない比較例１と比較して、透明性及び色相に優れたスチレン－メチル（メタ）アクリレート共重合体を製造出来ることが分かる。比較例２、３ではヒンダードフェノール系酸化防止剤またはリン系酸化防止剤のみを添加したが、ヒンダードフェノール系酸化防止剤とリン系酸化防止剤を併用した実施例１と比較して透明性及び色相が劣る結果となった。比較例４ではヒンダードフェノール系酸化防止剤を０．５質量％添加したが、実施例１と比較して透明性及び色相が劣った。これはヒンダードフェノール系酸化防止剤そのものがシート押出成形中に熱などにより変性し、着色物質となった為であると考えられる。比較例５ではリン系酸化防止剤を０．５質量％添加したが、透明性及び色相の悪化に加え、シートの押出成形中にロール汚染が発生し、シートの表面平滑性が損なわれた。比較例６では、メチル（メタ）アクリレート組成の高い共重合体を使用した。透明性及び色相は良好であった一方で、吸水性が高く、実施例と比較して、寸法安定性に劣った。比較例７ではスチレン組成の高い共重合体を使用したが、実施例と比較して透明性及び色相が劣る結果となった。また、実施例１、１６、１７、１８、２１では、共重合体中の重合禁止剤量が多くなるにつれ、透明性及び色相が悪化する傾向が確認された。
　本発明のスチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体及びスチレン系樹脂組成物及びその成形品は吸水性が低く、長光路での透明性および色相に優れ、例えば、テレビ、デスクトップ型パーソナルコンピューター、ノート型パーソナルコンピューター、携帯電話機、カーナビゲーション、室内照明などの導光板用途などに好適に用いることができる。

Claims (5)

  1. 　スチレン系単量体単位２０～８０質量％及び（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位８０～２０質量％を有するスチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体（Ａ）と、ヒンダードフェノール系酸化防止剤（Ｂ）と、リン系酸化防止剤（Ｃ）からなり、（Ａ）～（Ｃ）の合計量に対して、（Ｂ）の含有量が０．０１～０．３質量％、（Ｃ）の含有量が０．００１～０．３質量％であり、スチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体（Ａ）は、残存する重合禁止剤の含有量が１０ｐｐｍ未満であることを特徴とする光学用スチレン系樹脂組成物。
  2. スチレン（メタ）アクリル酸エステル系共重合体の重量平均分子量は、５万～２０万である請求項１に記載の光学用スチレン系樹脂組成物。
  3. 　スチレン－（メタ）アクリル酸エステル系共重合体（Ａ）が、４－ｔｅｒｔ－ブチルカテコールを０．１～２０ｐｐｍ含有するスチレン系単量体と、６－ｔｅｒｔ－ブチル－２，４－キシレノールを０．１～２０ｐｐｍ含有する（メタ）アクリル酸エステル系単量体とを共重合して得られたものであることを特徴とする請求項１又は２に記載の光学用スチレン系樹脂組成物。
  4. 　請求項１～３のいずれか１項に記載のスチレン系樹脂組成物からなる成形品。
  5. 　請求項４に記載の成形品からなる導光板。
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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019138997A1 (ja) * 2018-01-09 2019-07-18 デンカ株式会社 スチレン系樹脂組成物、成形品及び導光板
JPWO2020217718A1 (ja) * 2019-04-23 2020-10-29
WO2021132001A1 (ja) * 2019-12-24 2021-07-01 デンカ株式会社 光拡散板及び直下型面光源ユニット
WO2021199501A1 (ja) * 2020-04-01 2021-10-07 デンカ株式会社 光学用スチレン系樹脂組成物、導光板及びエッジライト型面光源ユニット
JPWO2023190540A1 (ja) * 2022-03-30 2023-10-05
JPWO2023218994A1 (ja) * 2022-05-13 2023-11-16
JP2024025568A (ja) * 2022-08-12 2024-02-26 Ｐｓジャパン株式会社 スチレン系樹脂組成物、及び成形品
WO2024204040A1 (ja) * 2023-03-29 2024-10-03 デンカ株式会社 光学用スチレン系樹脂組成物、成形体、導光板及びエッジライト型面光源ユニット
KR102952747B1 (ko) * 2019-12-24 2026-04-30 덴카 주식회사 광확산판 및 직하형 면광원 유닛

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI596120B (zh) * 2016-08-30 2017-08-21 奇美實業股份有限公司 (甲基)丙烯酸酯系-苯乙烯系共聚物及其組成物以及成型品
CN109575174A (zh) * 2018-12-20 2019-04-05 重庆颖锋兴瑞光电科技有限公司 一种改性聚苯乙烯树脂
JP7414558B2 (ja) * 2020-01-30 2024-01-16 住友化学株式会社 重合体組成物、成形体および光学部材
CN115087702B (zh) * 2020-02-21 2024-05-31 Ps日本株式会社 苯乙烯类树脂组合物、阻燃性苯乙烯类树脂组合物和成型体以及贴片天线
PH12022553151A1 (en) * 2020-05-25 2024-02-26 Dainippon Ink & Chemicals Recycled styrene monomer, styrene-based resin, styrene-(meth)acrylic acid-based copolymer, polymer alloy, composition, sheet, film, laminate, molded body, and production method for polymer

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61272706A (ja) * 1985-05-28 1986-12-03 Asahi Chem Ind Co Ltd 耐熱性プラスチック光ファイバーの製造方法
JPS62158706A (ja) * 1985-12-30 1987-07-14 Hitachi Chem Co Ltd 光学用樹脂組成物の製造法
JPH01256551A (ja) * 1988-04-07 1989-10-13 Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co Ltd 耐熱性、耐候性に優れたメタクリル酸メチル−スチレン系樹脂組成物
JPH1087738A (ja) * 1996-09-20 1998-04-07 Asahi Chem Ind Co Ltd 連続溶液重合法における不純物の除去方法
JP2008189902A (ja) * 2007-01-10 2008-08-21 Asahi Kasei Chemicals Corp 光学材料用樹脂組成物
JP2011090341A (ja) * 2007-12-28 2011-05-06 Sumitomo Electric Fine Polymer Inc 光学レンズ
WO2013094642A1 (ja) * 2011-12-20 2013-06-27 東洋スチレン株式会社 光学用スチレン系樹脂組成物、成形品および導光板
JP2013154546A (ja) * 2012-01-30 2013-08-15 Mitsubishi Gas Chemical Co Inc 積層体およびそれを備えた保護部材
JP2014005335A (ja) * 2012-06-22 2014-01-16 Mitsubishi Gas Chemical Co Inc 透明樹脂組成物

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0725971B2 (ja) * 1990-03-30 1995-03-22 新日鐵化学株式会社 メタクリル酸メチル‐α‐メチルスチレン共重合樹脂組成物
JP2003075648A (ja) 2001-09-07 2003-03-12 Denki Kagaku Kogyo Kk 導光板
KR101050701B1 (ko) * 2002-06-04 2011-07-20 덴끼 가가꾸 고교 가부시키가이샤 열가소성 수지 조성물
JP4554162B2 (ja) * 2003-02-21 2010-09-29 電気化学工業株式会社 共重合樹脂及びその製造方法
TWI391244B (zh) * 2006-07-19 2013-04-01 Denki Kagaku Kogyo Kk Styrene-based resin composition and molded body
TWI471341B (zh) * 2008-12-17 2015-02-01 Denki Kagaku Kogyo Kk An optical molded body, a light guide plate and a light diffuser thereof
JP2011057604A (ja) * 2009-09-09 2011-03-24 Hitachi Chem Co Ltd カルボキシル基含有（メタ）アクリル酸エステル及びその製造方法
JP5785046B2 (ja) 2011-10-07 2015-09-24 電気化学工業株式会社 導光体用スチレン系樹脂組成物及び導光体
KR102165456B1 (ko) * 2012-07-13 2020-10-14 도요 스티렌 가부시키가이샤 광학용 스티렌계 수지조성물, 성형품 및 도광판
JP2014105265A (ja) * 2012-11-27 2014-06-09 Mitsubishi Rayon Co Ltd （メタ）アクリル酸エステル、およびその（共）重合体

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61272706A (ja) * 1985-05-28 1986-12-03 Asahi Chem Ind Co Ltd 耐熱性プラスチック光ファイバーの製造方法
JPS62158706A (ja) * 1985-12-30 1987-07-14 Hitachi Chem Co Ltd 光学用樹脂組成物の製造法
JPH01256551A (ja) * 1988-04-07 1989-10-13 Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co Ltd 耐熱性、耐候性に優れたメタクリル酸メチル−スチレン系樹脂組成物
JPH1087738A (ja) * 1996-09-20 1998-04-07 Asahi Chem Ind Co Ltd 連続溶液重合法における不純物の除去方法
JP2008189902A (ja) * 2007-01-10 2008-08-21 Asahi Kasei Chemicals Corp 光学材料用樹脂組成物
JP2011090341A (ja) * 2007-12-28 2011-05-06 Sumitomo Electric Fine Polymer Inc 光学レンズ
WO2013094642A1 (ja) * 2011-12-20 2013-06-27 東洋スチレン株式会社 光学用スチレン系樹脂組成物、成形品および導光板
JP2013154546A (ja) * 2012-01-30 2013-08-15 Mitsubishi Gas Chemical Co Inc 積層体およびそれを備えた保護部材
JP2014005335A (ja) * 2012-06-22 2014-01-16 Mitsubishi Gas Chemical Co Inc 透明樹脂組成物

Cited By (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200103639A (ko) 2018-01-09 2020-09-02 덴카 주식회사 스티렌계 수지 조성물, 성형품 및 도광판
JPWO2019138997A1 (ja) * 2018-01-09 2020-12-24 デンカ株式会社 スチレン系樹脂組成物、成形品及び導光板
JP7129430B2 (ja) 2018-01-09 2022-09-01 デンカ株式会社 スチレン系樹脂組成物、成形品及び導光板
WO2019138997A1 (ja) * 2018-01-09 2019-07-18 デンカ株式会社 スチレン系樹脂組成物、成形品及び導光板
JP7519348B2 (ja) 2019-04-23 2024-07-19 デンカ株式会社 スチレン系樹脂組成物、成形品及び導光板
JPWO2020217718A1 (ja) * 2019-04-23 2020-10-29
WO2020217718A1 (ja) * 2019-04-23 2020-10-29 デンカ株式会社 スチレン系樹脂組成物、成形品及び導光板
WO2021132001A1 (ja) * 2019-12-24 2021-07-01 デンカ株式会社 光拡散板及び直下型面光源ユニット
JPWO2021132001A1 (ja) * 2019-12-24 2021-07-01
KR102952747B1 (ko) * 2019-12-24 2026-04-30 덴카 주식회사 광확산판 및 직하형 면광원 유닛
JP7629868B2 (ja) 2019-12-24 2025-02-14 デンカ株式会社 光拡散板及び直下型面光源ユニット
JP7590412B2 (ja) 2020-04-01 2024-11-26 デンカ株式会社 光学用スチレン系樹脂組成物、導光板及びエッジライト型面光源ユニット
JPWO2021199501A1 (ja) * 2020-04-01 2021-10-07
WO2021199501A1 (ja) * 2020-04-01 2021-10-07 デンカ株式会社 光学用スチレン系樹脂組成物、導光板及びエッジライト型面光源ユニット
KR102940857B1 (ko) * 2020-04-01 2026-03-19 덴카 주식회사 광학용 스티렌계 수지 조성물, 도광판 및 에지라이트형 면 광원 유닛
WO2023190540A1 (ja) * 2022-03-30 2023-10-05 デンカ株式会社 共重合体を含む樹脂組成物、その製造方法および成形体
JPWO2023190540A1 (ja) * 2022-03-30 2023-10-05
JP7795615B2 (ja) 2022-03-30 2026-01-07 デンカ株式会社 共重合体を含む樹脂組成物、その製造方法および成形体
JP7606648B2 (ja) 2022-05-13 2024-12-25 デンカ株式会社 光学用スチレン系樹脂組成物、導光板、エッジライト型面光源ユニット、光拡散版、及び直下型面光源ユニット
KR20250010660A (ko) 2022-05-13 2025-01-21 덴카 주식회사 광학용 스티렌계 수지 조성물, 도광판, 엣지 라이트형 면광원 유닛, 광확산판 및 직하형 면광원 유닛
JPWO2023218994A1 (ja) * 2022-05-13 2023-11-16
WO2023218994A1 (ja) * 2022-05-13 2023-11-16 デンカ株式会社 光学用スチレン系樹脂組成物、導光板、エッジライト型面光源ユニット、光拡散版、及び直下型面光源ユニット
JP2024025568A (ja) * 2022-08-12 2024-02-26 Ｐｓジャパン株式会社 スチレン系樹脂組成物、及び成形品
WO2024204040A1 (ja) * 2023-03-29 2024-10-03 デンカ株式会社 光学用スチレン系樹脂組成物、成形体、導光板及びエッジライト型面光源ユニット
JPWO2024204040A1 (ja) * 2023-03-29 2024-10-03
KR20250158799A (ko) 2023-03-29 2025-11-06 덴카 주식회사 광학용 스티렌계 수지 조성물, 성형체, 도광판 및 엣지 라이트형 면광원 유닛
JP7854108B2 (ja) 2023-03-29 2026-04-30 デンカ株式会社 光学用スチレン系樹脂組成物、成形体、導光板及びエッジライト型面光源ユニット

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