WO2016101706A1 - 一种金属-树脂复合体及其制备方法和一种电子产品外壳 - Google Patents

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Abstract

一种金属－树脂复合体及其制备方法，所述金属为钛或钛合金，该复合体包括金属基材以及附着于金属基材的部分表面上的树脂层（2），附着有树脂层的金属基材的表面分布有凹坑，树脂层中的部分树脂向下延伸并填充于凹坑，金属基材的表层氧元素含量为1重量％以上。所述制备方法包括将金属基材浸泡于含有至少一种碱金属氢氧化物的蚀刻液中，在金属基材的表面形成凹坑；向得到的经表面处理的金属基材的表面注入树脂以形成树脂层。该金属－树脂复合体中适于用作电子产品外壳。

Description

一种金属-树脂复合体及其制备方法和一种电子产品外壳
相关申请的交叉引用
本申请基于申请号为201410821840.4、申请日为2014/12/25的中国专利申请提出，并要求该中国专利申请的优先权，该中国专利申请的全部内容在此引入本申请作为参考。
技术领域
本发明涉及一种金属-树脂复合体及其制备方法，本发明还涉及一种电子产品外壳。
背景技术
在汽车、家用电器制品、工业机器等的零件制造领域中，需要金属与树脂一体化成型技术。
目前常用的将钛材和树脂相结合的方法是胶粘剂法。该方法通过化学胶粘剂将钛材和已成型树脂结合在一起得到复合体。但是，由该方法得到的复合体中，钛材与树脂的结合力较差，且胶粘剂结合层不耐酸碱，影响复合体的使用场合。另外，由于胶粘剂结合层具有一定的厚度，因而会影响最终产品的尺寸。
针对胶粘剂法存在的上述不足，研究人员开发了多种用于将钛材与树脂结合的方法。
CN102794863A公开了一种钛或钛合金与塑料的复合体及其制备方法，该方法对钛或钛合金基材进行阳极氧化处理，在钛或钛合金基材表面形成纳米多孔氧化膜，然后将经阳极氧化处理的钛或钛合金基材置于注塑成型模具中，使注塑塑件与所述纳米多孔膜相结合，从而得到复合体。
CN102794864A公开了一种钛或钛合金与塑料的复合体及其制备方法，该方法包括对钛或钛合金基材进行电化学阴极处理，在该钛或钛合金基材表面形成氢化钛层；对形成有氢化钛层的钛或钛合金基材进行阳极氧化处理，在该钛或钛合金基材表面形成纳米多孔氧化膜；将经阳极氧化处理的钛或钛合金基材置于注塑成型模具中，使注塑塑件与纳米多孔膜相结合，从而得到复合体。
但是，采用阳极氧化方式形成的阳极氧化膜中的孔为纳米孔，孔洞较小，且阳极氧化膜较薄，造成纳米孔的深度不够，导致最终得到的复合体中金属基材与树脂层之间的结合力低，复合体的实用性不强。
CN101578170B公开了一种金属和树脂的复合体及其制造方法，该方法采用化学蚀刻的方法对钛合金基材进行表面处理，并向经表面处理的基材表面注射树脂组合物，从而得到复合体。其中，化学蚀刻剂可以为卤酸、硫酸、高温的磷酸水溶液、氢氟酸以及氟化氢铵，优选为氟化氢铵。
本发明的发明人在实践过程中发现，采用酸作为蚀刻剂对钛材表面进行化学蚀刻后 注塑树脂形成的复合体中，钛材与树脂之间的结合力仍然有待于进一步提高。
发明内容
本发明的目的在于克服现有的钛或钛合金与树脂的复合体存在的金属基材与树脂层之间的结合力低的问题，提供一种金属-树脂复合体及其制备方法，该复合体中金属基材与树脂层之间具有较高的结合力。
根据本发明的第一个方面，本发明提供了一种金属-树脂复合体，所述金属为钛或钛合金，该复合体包括金属基材以及附着于所述金属基材的至少部分表面上的树脂层，附着有所述树脂层的基材的表面分布有凹坑，所述树脂层中的部分树脂向下延伸并填充于所述凹坑中，所述金属基材的表层氧元素含量为1重量％以上。
根据本发明的第二个方面，本发明提供了一种金属-树脂复合体的制备方法，所述金属为钛或钛合金，该方法包括蚀刻步骤和注入成型步骤：
在蚀刻步骤中，将金属基材浸泡于蚀刻液中，在所述金属基材的表面形成凹坑，得到经表面处理的金属基材，所述蚀刻液含有至少一种碱金属氢氧化物，经过所述蚀刻的后得到的经表面处理的金属基材的表层氧元素含量为1重量％以上；
在注入成型步骤中，向经表面处理的金属基材的表面注入一种含树脂的组合物并使部分组合物填充于所述凹坑中，成型后形成树脂层。
根据本发明的第三个方面，本发明提供了一种由本发明的方法制备的金属-树脂复合体。
根据本发明的第四个方面，本发明提供了一种电子产品外壳，该外壳包括金属壳本体以及附着于所述金属壳本体的至少部分内表面和/或至少部分外表面的至少一个树脂件，所述金属壳本体的材质为钛或钛合金，其中，附着有所述树脂件的金属壳本体表面分布有凹坑，所述树脂件中的部分树脂向下延伸并填充于所述凹坑中，附着有所述树脂件的金属壳本体的表层氧元素含量为1重量％以上。
根据本发明的金属-树脂复合体，金属基材与树脂层之间的结合强，树脂层不易从金属基材表面脱落，结构稳定性好，能够满足多种使用场合的要求，适于用作各种电子产品外壳。
本发明提供的金属-树脂复合体的制备方法，使用碱金属氢氧化物作为蚀刻剂。与使用酸性蚀刻液对金属基材进行表面处理相比，采用本发明的方法对金属基材进行蚀刻，一方面能够在金属基材表面形成密集分布的凹坑，另一方面不会对金属基材的表面产生破坏性腐蚀，使得到的经表面处理的金属基材表面仍然具有较高的强度。并且，采用本发明的方法对金属基材进行蚀刻，并将树脂注入得到的经表面处理的金属基材表面后进行一体化成型而得到的金属-树脂复合体中，金属基材与树脂层之间具有较高的结合强度，其原因可能在于：采用本发明的方法对金属基材进行蚀刻而得到的经表面处理的金属基材表面不仅密集分布有尺寸较为均一的凹坑，从而将树脂层锚定在金属基材中；而且经处理的表面具有极高的氧含量，这些氧元素并不完全以金属氧化物的形式存在，其中的一部分以氢氧根的形式存在，在与树脂结合时能与树脂发生相互作用，使得最终制备的金属-树脂复合体中金属基材与树脂层之间具有更高的结合强度。
并且，本发明提供的金属-树脂复合体的制备方法所使用的蚀刻液的毒性低且挥发性小，操作的安全性高，对环境的污染小。
另外，本发明提供的金属-树脂复合体的制备方法所使用的蚀刻液中的各成分来源广泛且价格不高，降低了本发明方法的操作成本。因此，本发明的方法适用于进行大规模生产的场合。
附图说明
图1为用于示意性地说明根据本发明的手机外壳的剖视图，包括主视图和俯视图；
图2为用于示意性地说明根据本发明的智能表外壳的剖视图。
<附图标记说明>
1：手机金属壳本体              2：树脂层
3：开口                        4：智能表金属壳本体
5：树脂内衬层                  6：信号元件开口
具体实施方式
以下对本发明的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明，并不用于限制本发明。
根据本发明的第一个方面，本发明提供了一种金属-树脂复合体，该复合体包括金属基材以及附着于所述金属基材的至少部分表面上的树脂层，附着有所述树脂层的金属基材的表面分布有凹坑，所述树脂层中的部分树脂向下延伸并填充于所述凹坑中。
根据本发明的金属-树脂复合体，所述金属可以为纯钛，也可以为钛合金。所述钛合金是指以钛作为基础元素加入其它元素形成的合金，可以为常见的各种钛合金。所述金属基材是用钛或钛合金形成的各种成型体，根据最终制备的金属-树脂复合体的使用场合可以具有各种形状，没有特别限定。
所述金属基材的附着有树脂层的表面分布有凹坑，所述凹坑在基材表面呈密集分布。所述凹坑可以通过对金属基材的表面进行化学蚀刻而形成。所述树脂层中的部分树脂向下延伸并填充于所述凹坑中，将树脂层锚定于金属基材中。根据本发明的金属-树脂复合体，所述凹坑的宽度各自可以为10-100000nm，深度各自可以为10-5000nm，在所述凹坑的尺寸处于上述范围之内时，一方面不会对金属基材本身的强度产生不利影响，另一方面还能将树脂层稳固地锚定在金属基材中，使树脂层与金属基材之间具有较高的结合力，从而使得金属-树脂复合体具有较高的结构稳定性。从进一步提高树脂层与金属基材之间的结合力的角度出发，所述凹坑的宽度各自优选为300-30000nm，所述凹坑的深度各自优选为100-3000nm。本发明中，“凹坑的宽度”是指由凹坑位于基材表面的端口确定的轮廓线上的两个点之间的 最大距离，“凹坑的深度”是指凹坑位于基材表面的端口至凹坑底部的垂直距离。所述凹坑的宽度和深度可以采用电镜法测定。
根据本发明的金属-树脂复合体，所述金属基材的表层氧元素的含量为1重量％以上。与金属基材的表层氧元素含量为低于1重量％相比，在金属基材的表层氧元素的含量为1重量％以上时，能明显提高复合体中树脂层与金属基材之间的结合强度。优选地，所述金属基材的表层氧元素的含量为1-10重量％。更优选地，所述金属基材的表层氧元素的含量为2-8重量％。进一步优选地，所述金属基材的表层氧元素的含量为5-7重量％。可以采用能谱分析法测定金属基材表面的元素组成，并将氧元素占表层元素总量的百分比作为表层氧元素含量。
所述树脂层中的主体树脂可以根据具体的使用要求进行选择，只要该树脂能与钛或钛合金结合即可。一般地，所述树脂层中的主体树脂可以选自热塑性树脂，例如可以为聚苯硫醚、聚酯、聚酰胺、聚碳酸酯和聚烯烃中的一种或两种以上。所述聚酯可以为常见的由二羧酸与二醇缩合而成的聚合物，其具体实例可以包括但不限于聚对苯二甲酸丁二醇酯和/或聚对苯二甲酸乙二醇酯。所述聚酰胺可以为常见的由二胺与二羧酸缩合而成的聚合物，其具体实例可以包括但不限于聚己二酰己二胺、聚壬二酰己二胺、聚丁二酰己二胺、聚十二烷二酰己二胺、聚癸二酰己二胺、聚癸二酰癸二胺、聚十一酰胺、聚十二酰胺、聚辛酰胺、聚9-氨基壬酸、聚己内酰胺、聚对苯二甲酰苯二胺、聚间苯二甲酰己二胺、聚对苯二甲酰己二胺和聚对苯二甲酰壬二胺。所述聚烯烃的具体实例可以包括但不限于聚苯乙烯、聚丙烯、聚甲基丙烯酸甲酯和聚(丙烯腈-丁二烯-苯乙烯)。
所述树脂层除含有主体树脂外，还可以含有至少一种填料。所述填料的种类可以根据具体的使用要求进行选择。所述填料可以为纤维型填料和/或粉末型填料。所述纤维型填料可以为选自玻璃纤维、碳纤维和芳族聚酰胺纤维中的一种或两种以上。所述粉末型填料可以为选自碳酸钙、碳酸镁、二氧化硅、重质硫酸钡、滑石粉、玻璃和粘土中的一种或两种以上。所述填料的含量可以为常规选择。一般地，以100重量份主体树脂为基准，所述填料的含量可以为10-150重量份，优选为15-100重量份，更优选为20-50重量份。
所述金属基材和所述树脂层的厚度可以根据该金属-树脂复合体的具体应用场合进行选择，以能满足使用要求为准。一般地，所述树脂层的厚度可以为0.5-10mm。
根据本发明的第二个方面，本发明提供了一种金属-树脂复合体的制备方法，所述金属为钛或钛合金，该方法包括蚀刻步骤和注入成型步骤。
在蚀刻步骤中，将金属基材浸泡于蚀刻液中，在所述金属基材的表面形成凹坑，得到经表面处理的金属基材，所述蚀刻液含有至少一种碱金属氢氧化物。
根据本发明的方法，经过所述蚀刻步骤后得到的经表面处理的金属基材表面形成有凹坑，所述凹坑在基材表面为密集分布。所述凹坑的宽度各自可以为10-100000nm，优选各自为300-30000nm；所述凹坑的深度各自可以为10-5000nm，优选各自为100-3000nm。
根据本发明的方法，经过所述蚀刻步骤后得到的经表面处理的金属基材的表层氧元素含量为1重量％以上，优选为1-10重量％，更优选为2-8重量％，进一步优选为5-7重量％。
根据本发明的方法，所述蚀刻液含有至少一种碱金属氢氧化物。
所述碱金属氢氧化物优选为氢氧化钠和/或氢氧化钾。
所述蚀刻液中碱金属氢氧化物的含量可以根据预期的蚀刻速度进行选择。优选地，所述蚀刻液中，碱金属氢氧化物的浓度为1-10mol/L。在所述蚀刻液中碱金属氢氧化物的浓度处于上述范围之内时，不仅能够在金属基材表面形成密集的凹坑，而且对金属基材的破坏更小。更优选地，所述蚀刻液中，碱金属氢氧化物的浓度为5-8mol/L。
优选地，所述蚀刻液还可以含有至少一种缓冲剂。尽管所述蚀刻液不含有缓冲剂也可以在金属基材表面蚀刻形成密集分布的凹坑，但是在所述蚀刻液含有缓冲剂时，能够将蚀刻液中氢氧根离子的浓度在较长的时间内稳定在一定范围内，从而获得稳定的蚀刻效果，不仅能够满足大规模生产的需求，而且能够进一步提高最终制备的金属-树脂复合体中金属基材与树脂层之间的结合力。
所述缓冲剂可以为常见的各种能够稳定蚀刻液中氢氧根离子浓度的物质。优选地，所述缓冲剂为选自硼酸、硼酸钠、碳酸钠、碳酸二氢钠、磷酸三钠、磷酸氢二钠和柠檬酸钠中的一种或两种以上。
所述缓冲剂的含量以能够将氢氧根离子浓度稳定在预期范围内为准。优选地，所述缓冲剂的浓度为0.1-1.5mol/L。更优选地，所述缓冲剂的浓度为0.2-1mol/L。
所述蚀刻液的溶剂可以为常规选择，一般为水。
所述蚀刻液的温度可以为15-70℃。从进一步提高得到的经表面处理的金属基材与树脂一体化成型而得到的金属-树脂复合体中，金属基材与树脂层之间的结合强度的角度出发，所述蚀刻液的温度为15-35℃。从进一步提高蚀刻速度，缩短金属基材在蚀刻液中的浸泡时间，从而减小蚀刻对金属基材外观以及尺寸的影响的角度出发，所述蚀刻液的温度优选为40-70℃。
金属基材在蚀刻液中的浸泡时间随蚀刻液的浓度以及温度而定。一般地，金属基材在蚀刻液中的浸泡时间可以为10分钟至5小时，优选为30分钟至2小时。
金属基材在蚀刻液中的浸泡次数和浸泡时间可以根据蚀刻液的组成以及蚀刻液的温度进行选择。一般地，金属基材在蚀刻液中浸泡次数可以为1次，也可以为多次，例如2-10 次。每次浸泡后，一般用水(优选去离子水)对经表面处理的金属基材进行清洗，以除去附着在经表面处理的金属基材上的蚀刻液。清洗的次数可以为2到10次。清洗的方式可以是将经表面处理的金属基材浸泡于水中，浸泡的时间可以为1-5分钟；也可以用水对经表面处理的金属基材进行冲洗，冲洗的时间可以为1-5分钟。
根据本发明的方法可以对金属基材的整个表面进行处理，也可以对金属基材的部分表面进行处理。在将金属基材的部分表面进行处理时，可以仅将需要进行处理的表面浸泡于蚀刻液液中，也可以在无需进行处理的表面形成掩模后，将金属基材整体浸泡于蚀刻液中。
采用本发明的方法得到的经表面处理的金属基材与蚀刻前相比，仅表面分布有凹坑且表面的颜色有所加深，尺寸在蚀刻前后则变化不大。并且，本发明的方法得到的经表面处理的金属基材的腐蚀深度浅，易于消除无需形成树脂层的表面区域内的凹坑及变色，使最终得到的复合体具有较好的外观。
根据本发明的方法，在注入成型步骤中，向经表面处理的金属基材表面注入一种含树脂的组合物并使部分组合物填充于所述凹坑中，成型后形成树脂层。
所述含树脂的组合物中的树脂(以下称为主体树脂)可以根据具体的使用要求进行选择，只要该树脂能与钛或钛合金结合即可。一般地，所述树脂层中的主体树脂可以选自热塑性树脂，例如可以为聚苯硫醚、聚酯、聚酰胺、聚碳酸酯和聚烯烃中的一种或两种以上。所述聚酯可以为常见的各种由二羧酸与二醇缩合而成的聚合物，其具体实例可以包括但不限于聚对苯二甲酸丁二醇酯和/或聚对苯二甲酸乙二醇酯。所述聚酰胺可以为常见的各种由二胺与二羧酸缩合而成的聚合物，其具体实例可以包括但不限于聚己二酰己二胺、聚壬二酰己二胺、聚丁二酰己二胺、聚十二烷二酰己二胺、聚癸二酰己二胺、聚癸二酰癸二胺、聚十一酰胺、聚十二酰胺、聚辛酰胺、聚9-氨基壬酸、聚己内酰胺、聚对苯二甲酰苯二胺、聚间苯二甲酰己二胺、聚对苯二甲酰己二胺和聚对苯二甲酰壬二胺。所述聚烯烃的具体实例可以包括但不限于聚苯乙烯、聚丙烯、聚甲基丙烯酸甲酯和聚(丙烯腈-丁二烯-苯乙烯)。
所述含树脂的组合物除含有主体树脂外，还可以含有至少一种填料和/或至少一种流动性改进剂。
所述填料的种类可以根据具体的使用要求进行选择。所述填料可以为各种纤维型填料和/或粉末型填料。所述纤维型填料可以为选自玻璃纤维、碳纤维和芳族聚酰胺纤维中的一种或两种以上。所述粉末型填料可以为选自碳酸钙、碳酸镁、二氧化硅、重质硫酸钡、滑石粉、玻璃和粘土中的一种或两种以上。
所述填料的含量可以为常规选择。一般地，优选地，相对于100重量份主体树脂，所述填料的含量可以为10-150重量份，优选为15-100重量份，更优选为20-50重量份。
所述流动性改进剂用于提高主体树脂的流动能力，进一步提高金属基材与树脂之间的结合力以及树脂的加工性能。所述流动性改进剂可以为各种能够实现上述效果的物质，优选为环状聚酯。
所述流动性改进剂的用量以能够提高主体树脂的流动能力为准。优选地，相对于100重量份主体树脂，所述流动性改进剂的含量为1-5重量份。
所述含树脂的组合物根据具体使用要求还可以含有常见的各种助剂，如着色剂和/或抗氧剂，以改善最终形成的金属树脂复合体中树脂层的性能或者赋予所述树脂层以新的性能。
所述含树脂的组合物可以通过将主体树脂、任选的填料、任选的流动性改进剂以及任选的助剂混合均匀而获得。一般地，可以将主体树脂、任选的填料、任选的流动性改进剂以及任选的助剂混合均匀，并进行挤出造粒而得到。
可以采用常用的各种方法向经表面处理的金属基材的表面注入所述含树脂的组合物。在本发明的一种优选的实施方式中，将所述经表面处理的金属基材置于模具中，通过注塑的方法向经表面处理的金属基材的表面注入所述含树脂的组合物。
所述注塑的条件可以根据含树脂的组合物中主体树脂的种类进行选择。优选地，所述注塑的条件包括：模具温度为50-300℃，喷嘴温度为200-450℃，保压时间为1-50秒，射出压力为50-300MPa，射出时间为1-30秒，延迟时间为1-30秒。
所述含树脂的组合物的注入量可以根据预期的树脂层厚度进行选择。一般地，所述含树脂的组合物的注入量使得形成的树脂层的厚度为0.5-10mm。
根据本发明的方法，仅在经表面处理的金属基材的部分表面形成树脂层时，可以对无需形成树脂层的表面进行处理，以除去表面凹坑以及由于蚀刻而引起的表面颜色变化，该处理可以在注塑成型步骤之前进行，也可以在注塑成型步骤之后进行，没有特别限定。
根据本发明的第三个方面，本发明提供了一种由本发明的方法制备的金属-树脂复合体。由本发明的方法制备的金属-树脂复合体包括金属基材以及附着在所述金属基材的至少部分表面上的树脂层，附着有所述树脂层的金属基材的表面分布有凹坑，所述树脂层中的部分树脂向下延伸并填充于所述凹坑。
由本发明的方法制备的金属-树脂复合体中，树脂层与金属基材之间的结合力高，因而复合体的结构稳定性好。
根据本发明的金属-树脂复合体可以用于各种需要将金属与树脂一体成型的场合，例如电子产品的外壳。在具体应用时，可以将金属成型为各种形状，并对需要形成树脂层的表面进行表面处理，然后注塑树脂，形成树脂层。
由此，根据本发明的第四个方面，本发明提供了一种电子产品外壳，该外壳包括金属 壳本体以及附着于所述金属壳本体的至少部分内表面和/或至少部分外表面的至少一个树脂件，所述金属壳本体的材质为钛或钛合金，其中，附着有所述树脂件的金属壳本体表面分布有凹坑，所述树脂件中的部分树脂向下延伸并填充于所述凹坑中。本发明中，所述外壳不仅包括为片状结构的外壳，也包括各种框架结构，如外框。
所述凹坑的宽度可以为10-100000nm，优选为300-30000nm；所述凹坑的深度可以为10-5000nm，优选为100-3000nm。
附着有所述树脂件的金属壳本体的表层氧元素的含量可以为1重量％以上，优选为1-10重量％，优选为2-8重量％，更优选为5-7重量％。
根据本发明的电子产品外壳，根据具体需要，所述金属壳本体上可以设置有至少一个开口，以在该开口的对应位置安装电子产品的需要避开金属壳本体的元件。在一种实施方式中，由于金属对电磁信号具有屏蔽作用，因此至少部分开口的位置可以对应于发射和/或接受信号(如电磁信号)的元件的安装位置，此时所述开口位置优选设置树脂件，并使所述树脂件中的部分树脂填充于所述开口中，发射和/或接受信号的元件可以安装在所述树脂件上。
根据本发明的电子产品外壳，所述金属壳本体可以为一体结构，也可以为拼接结构。所述拼接结构是指所述金属壳本体包括相互断开的至少两个部分，两个部分相互拼接在一起形成金属壳本体。
在所述金属壳本体为拼接结构时，相邻两个部分可以用胶粘剂粘结在一起。在一种优选的实施方式中，相邻两部分的拼接位置设置有所述树脂件，该树脂件分别与相邻两部分搭接并覆盖所述拼接位置(即该树脂件桥接该相邻两部分)，这样能够提高拼接位置的结合强度；并且，可以根据电子产品的内部结构，将金属壳本体分成多个部分，所述树脂件在起到使金属壳本体形成为一个整体的作用的同时，还能用作一些电子元件的安装基体。
根据本发明的电子产品外壳，所述金属壳本体的至少部分外表面可以附着有树脂件，所述树脂件可以覆盖整个外表面，也可以覆盖金属壳本体的部分外表面以形成图案，例如装饰性图案。
根据本发明的电子产品外壳，所述金属壳本体的内表面附着有树脂件时，所述树脂件可以设置在需要的一个或多个位置。在一种优选的实施方式中，所述树脂件附着于所述金属壳本体的整个内表面，此时所述树脂件优选为一体结构。根据该优选的实施方式，特别适用于金属壳本体为拼接结构的场合。
根据本发明的电子产品外壳，可以为各种需要以金属作为外壳的电子产品外壳，例如：移动终端的外壳或者外框，可穿戴电子设备的外壳或者外框。所述移动终端是指可以处于移动状态且具有无线传输功能的设备，例如：移动电话、便携式电脑(包括笔记本电脑和平板 电脑)。所述可穿戴电子设备是指智能化的穿戴设备，例如：智能表、智能手环。所述电子产品具体可以为但不限于移动电话、便携式电脑(如笔记本电脑和平板电脑)、智能表和智能手环中的一种或两种以上。
图1示出了所述电子产品外壳为手机外壳时的一种实施方式的主视图和俯视图。如图1所示，在手机金属壳本体1上开设有多个开口3，开口3的位置可以对应于安装天线的位置以及安装各种按键的位置。树脂层2附着在手机金属壳本体1的整个内表面，树脂层2为一体结构并且树脂层2中的部分树脂填充于开口3中。
图2示出了所述电子产品外壳为智能表的外壳的一种实施方式的主视图。如2所示，智能表金属壳本体4上设置有对应于安装信号发射元件和/或信号接收元件的信号元件开口6，智能表金属壳本体4的内表面附着有树脂内衬层5，树脂内衬层5中的部分树脂填充在信号元件开口6中，信号元件可以安装在树脂内衬层5上的相应位置。
以下结合实施例详细说明本发明，但并不因此限定本发明的范围。
以下实施例和对比例中，在购自英斯特的型号为3369的万能试验机上以拉伸模式测定金属树脂复合体中金属基材与树脂层之间的平均剪切强度，其中，将复合体发生断裂时测得的拉伸应力与结合面积之间的比值作为平均剪切强度，结合面积为金属基材与树脂层之间的结合面的面积。
以下实施例和对比例中，采用金相显微镜观察经表面处理的金属基材的表面和断面并确定形成的凹坑的宽度和深度，所使用的金相显微镜购自蔡司，型号为Axio Imager A1m。
以下实施例和对比例中，采用场发射扫描电镜及附件能谱仪测试表层元素含量，能谱仪购自日本电子株式会社，型号为JSM-7600F，其中，在被测样品表面选择10个点进行能谱分析，10个点分布在样品表面的不同位置，将由这10个点得到的氧元素含量的平均值作为该样品的表层氧元素含量。
实施例1-7用于说明本发明。
实施例1
1、前处理
将市售的厚度为0.8mm的纯钛板，切成15mm×80mm的长方形片，将其放入抛光机内打磨抛光，再依次进行除油、水洗和烘干。
2、表面处理
将步骤(1)得到的钛片置于500mL蚀刻液中于25℃浸泡60分钟后，将钛片取出，用去离子水洗涤3次，然后放入烘箱中于65℃烘干，得到经表面处理的钛片。其中，蚀刻液 为氢氧化钠和硼酸的混合水溶液，氢氧化钠的浓度为7mol/L，硼酸的浓度为0.5mol/L。
采用金相显微镜对经表面处理的钛片的表面进行观察，确定得到的经表面处理的钛片表面形成有密集分布的凹坑，所述凹坑的宽度各自在300-30000nm的范围内，深度各自在100-3000nm的范围内。采用扫描电镜对该经表面处理的钛片的表面进行能谱分析，测定各元素含量并确定表层氧元素含量，结果见表1。
3、注入成型
将步骤(2)得到的经表面处理的钛片放入模具中，然后向模具中注塑含聚苯硫醚(PPS)和玻璃纤维的组合物，在钛片的一个表面形成树脂层，得到金属-树脂复合体(树脂层的厚度为3mm)。其中，相对于100重量份聚苯硫醚，玻璃纤维的含量为20重量份。
该复合体中，金属基材与树脂层之间的平均剪切强度在表2中列出。
对比例1
(1)采用与实施例1步骤(1)相同的方法进行前处理。
(2)采用与实施例1步骤(3)相同的方法向经步骤(1)处理的钛片的表面注塑含聚苯硫醚和玻璃纤维的组合物并进行成型，以得到金属-树脂复合体。该复合体中，金属基材与树脂层之间的平均剪切强度在表2中列出。
对比例2
(1)采用与实施例1步骤(1)相同的方法对钛片进行前处理。
(2)表面处理
将步骤(1)得到的钛片置于500mL蚀刻液中于25℃浸泡24分钟后，将钛片取出，用去离子水洗涤3次，然后放入烘箱中于65℃烘干，得到经表面处理的钛片，其平均表面硬度在表1中列出。其中，蚀刻液为氟化氢铵的水溶液，氟化氢铵的浓度为1重量％。
采用金相显微镜对经表面处理的钛片的表面进行观察，确定得到的经表面处理的钛片表面形成有密集分布的凹坑，所述凹坑的宽度各自在20000-150000nm的范围内，深度各自在1000-10000nm的范围内。采用扫描电镜对该经表面处理的钛片的表面进行能谱分析，测定各元素含量并确定氧元素含量，结果见表1。
(3)注入成型
采用与实施例1步骤(3)相同的方法向步骤(2)得到的经表面处理的钛片表面注塑含聚苯硫醚和玻璃纤维的组合物并进行成型，从而得到金属-树脂复合体。
该复合体中，金属基材与树脂层之间的平均剪切强度在表2中列出。
对比例3
(1)采用与实施例1步骤(1)相同的方法对钛片进行前处理。
(2)表面处理
将步骤(1)得到的钛片置于500mL阳极氧化电解液中进行阳极氧化。其中，电解液为磷酸的水溶液，磷酸的浓度为10重量％；阳极氧化电压为20V，通电时间为10分钟。将经阳极氧化处理的钛片用去离子水洗涤3次，然后放入烘箱中于65℃烘干，得到经表面处理的钛片。
(3)注入成型
采用与实施例1步骤(3)相同的方法向步骤(2)得到的经表面处理的钛片表面注塑含聚苯硫醚和玻璃纤维的组合物并进行成型，从而得到金属-树脂复合体。
该复合体中，金属基材与树脂层之间的平均剪切强度在表2中列出。
实施例2
(1)采用与实施例1步骤(1)相同的方法对钛片进行前处理。
(2)表面处理
将步骤(1)得到的钛片置于500mL蚀刻液中于35℃浸泡30分钟后，将钛片取出，用去离子水洗涤3次，然后放入烘箱中于65℃烘干，得到经表面处理的钛片。其中，蚀刻液为氢氧化钠和磷酸氢二钠的混合水溶液，氢氧化钠的浓度为7mol/L，磷酸氢二钠的浓度为1mol/L。
采用金相显微镜对经表面处理的钛片的表面进行观察，确定得到的经表面处理的钛片表面形成有密集分布的凹坑，所述凹坑的宽度各自在300-30000nm的范围内，深度各自在100-3000nm的范围内。采用扫描电镜对该经表面处理的钛片的表面进行能谱分析，测定各元素含量并确定氧元素含量，结果见表1。
(3)采用与实施例1步骤(3)相同的方法向步骤(2)得到的经表面处理的钛片表面注塑含聚苯硫醚和玻璃纤维的组合物并进行成型，从而得到金属-树脂复合体。其中，相对于100重量份聚苯硫醚，玻璃纤维的含量为20重量份。该复合体中，金属基材与树脂层之间的平均剪切强度在表2中列出。
实施例3
(1)采用与实施例1步骤(1)相同的方法对钛片进行前处理。
(2)表面处理
将步骤(1)得到的钛片置于500mL蚀刻液中于15℃浸泡120分钟后，将钛片取出，用去离子水洗涤3次，然后放入烘箱中于65℃烘干，得到经表面处理的钛片。其中，蚀刻液为氢氧化钠和碳酸钠的混合水溶液，氢氧化钠的浓度为6mol/L，碳酸钠的浓度为0.2mol/L。
采用金相显微镜对经表面处理的钛片的表面进行观察，确定得到的经表面处理的钛片表面形成有密集分布的凹坑，所述凹坑的宽度各自在300-30000nm的范围内，深度各自在100-3000nm的范围内。采用扫描电镜对该经表面处理的钛片的表面进行能谱分析，测定各元素含量并确定氧元素含量，结果见表1。
(3)采用与实施例1步骤(3)相同的方法向步骤(2)得到的经表面处理的钛片表面注塑含聚苯硫醚和玻璃纤维的组合物并进行成型，从而得到金属-树脂复合体，其中，相对于100重量份聚苯硫醚，玻璃纤维的含量为20重量份。该复合体中，金属基材与树脂层之间的平均剪切强度在表2中列出。
实施例4
(1)采用与实施例1步骤(1)相同的方法对钛片进行前处理。
(2)采用与实施例1步骤(2)相同的方法对步骤(1)得到的钛片进行表面处理，从而得到经表面处理的钛片，不同的是，所使用的蚀刻液为氢氧化钠的水溶液，其中，氢氧化钠的浓度7mol/L。
采用金相显微镜对经表面处理的钛片的表面进行观察，确定得到的经表面处理的钛片表面形成有密集分布的凹坑，所述凹坑的宽度各自在10-100000nm的范围内，深度各自在10-5000nm的范围内。采用扫描电镜对该经表面处理的钛片的表面进行能谱分析，测定各元素含量并确定表层氧元素含量，结果见表1。
(3)采用与实施例1步骤(3)相同的方法向步骤(2)得到的经表面处理的钛片表面注塑含聚苯硫醚和玻璃纤维的组合物并进行成型，从而得到金属-树脂复合体。
该复合体中，金属基材与树脂层之间的平均剪切强度在表2中列出。
实施例5
(1)采用与实施例1步骤(1)相同的方法对钛片进行表面处理。
(2)采用与实施例1步骤(2)相同的方法对步骤(1)得到的钛片进行表面处理，得到经表面处理的钛片，所不同的是，蚀刻液的温度为70℃，浸泡时间为30分钟。
采用金相显微镜对经表面处理的钛片的表面进行观察，确定得到的经表面处理的钛片 表面形成有密集分布的凹坑，所述凹坑的宽度各自在300-30000nm的范围内，深度各自在100-3000nm的范围内。采用扫描电镜对该经表面处理的钛片的表面进行能谱分析，测定各元素含量并确定表层氧元素含量，结果见表1。
(3)采用与实施例1步骤(3)相同的方法向步骤(2)得到的经表面处理的钛片表面注塑含聚苯硫醚和玻璃纤维的组合物并进行成型，从而得到金属-树脂复合体。
该复合体中，金属基材与树脂层之间的平均剪切强度在表2中列出。
实施例6
1、前处理
将市售的厚度为0.8mm的钛合金(购自港祥金属材料有限公司，型号为TC4)，切成15mm×80mm的长方形片，将其放入抛光机内打磨抛光，再依次进行除油、水洗、烘干。
2、表面处理
将步骤(1)得到的钛合金片置于500mL蚀刻液中于25℃浸泡60分钟后，将钛合金片取出，用去离子水洗涤3次，然后放入烘箱中于65℃烘干，得到经表面处理的钛合金片。其中，蚀刻液为氢氧化钾和柠檬酸钠的混合水溶液，氢氧化钾的浓度为7mol/L，柠檬酸钠的浓度为1mol/L。
采用金相显微镜对经表面处理的钛合金片的表面进行观察，确定得到的经表面处理的钛合金片表面形成有密集分布的凹坑，所述凹坑的宽度各自在300-30000nm的范围内，深度各自在100-3000nm的范围内。采用扫描电镜对该经表面处理的钛合金片的表面进行能谱分析，测定各元素含量并确定氧元素含量，结果见表1。
3、注入成型
将步骤(2)得到的经表面处理的钛合金片放入模具中，然后向模具中注塑含聚对苯二甲酸丁二酯(PBT)树脂和玻璃纤维的组合物，在钛合金片的一个表面形成树脂层，得到金属-树脂复合体(树脂层的厚度为3mm)。其中，相对于100重量份聚对苯二甲酸丁二醇酯，玻璃纤维的含量为20重量。
该复合体中，金属基材与树脂层之间的平均剪切强度在表2中列出。
实施例7
(1)采用与实施例6步骤(1)相同的方法对钛合金进行前处理。
(2)采用与实施例6步骤(2)相同的方法对步骤(1)得到的钛合金片进行表面处理，得到经表面处理的钛合金片，所不同的是，蚀刻液的温度为45℃，浸泡时间为40分钟。
采用金相显微镜对经表面处理的钛合金片的表面进行观察，确定得到的经表面处理的钛合金片表面形成有密集分布的凹坑，所述凹坑的宽度各自在300-30000nm的范围内，深度各自在100-3000nm的范围内。采用扫描电镜对该经表面处理的钛合金片的表面进行能谱分析，测定各元素含量并确定氧元素含量，结果见表1。
(3)采用与实施例6步骤(3)相同的方法向步骤(2)得到的经表面处理的钛合金片表面注塑含聚对苯二甲酸丁二酯和玻璃纤维的组合物并进行成型，从而得到金属-树脂复合体。
该复合体中，金属基材与树脂层之间的平均剪切强度在表2中列出。
表1
Figure PCTCN2015093247-appb-000001
表2
编号 平均剪切强度/MPa
实施例1 18.19
对比例1 /*
对比例2 9.21
对比例3 7.63
实施例2 17.57
实施例3 16.96
实施例4 15.21
实施例5 16.36
实施例6 14.32
实施例7 12.54
*：脱模时，树脂层从金属基材表面脱落
从表2的结果可以看出，根据本发明的金属-树脂复合体中，金属基材与树脂层之间的平均剪切强度高，表明金属基材与树脂层之间具有较高的结合力，因而本发明的金属-树脂复合体的结构稳定性好。

Claims (25)

  1. 一种金属-树脂复合体，所述金属为钛或钛合金，该复合体包括金属基材以及附着于所述金属基材的至少部分表面上的树脂层，附着有所述树脂层的金属基材的表面分布有凹坑，所述树脂层中的部分树脂向下延伸并填充于所述凹坑中，所述金属基材的表层氧元素含量为1重量％以上。
  2. 根据权利要求1所述的复合体，其中，所述凹坑的宽度为10-100000nm，优选为300-30000nm，所述凹坑的深度为10-5000nm，优选为100-3000nm。
  3. 根据权利要求1或2所述的复合体，其中，所述金属基材的表层氧元素含量为1-10重量％，优选为2-8重量％，更优选为5-7重量％。
  4. 一种金属-树脂复合体的制备方法，所述金属为钛或钛合金，该方法包括蚀刻步骤和注入成型步骤：
    在蚀刻步骤中，将金属基材浸泡于蚀刻液中，在所述金属基材的表面形成凹坑，得到经表面处理的金属基材，所述蚀刻液含有至少一种碱金属氢氧化物，经过所述蚀刻后得到的经表面处理的金属基材的表层氧元素含量为1重量％以上；
    在注入成型步骤中，向经表面处理的金属基材表面注入一种含树脂的组合物并使部分组合物填充于所述凹坑中，成型后形成树脂层。
  5. 根据权利要求4所述的方法，其中，所述碱金属氢氧化物为氢氧化钠和/或氢氧化钾。
  6. 根据权利要求4或5所述的方法，其中，所述蚀刻液中，碱金属氢氧化物的浓度为1-10mol/L。
  7. 根据权利要求4-6中任意一项所述的方法，其中，所述蚀刻液还含有至少一种缓冲剂，所述缓冲剂能够稳定蚀刻液中氢氧根离子的浓度。
  8. 根据权利要求7所述的方法，其中，所述缓冲剂为选自硼酸、硼酸钠、碳酸钠、碳酸二氢钠、磷酸三钠、磷酸氢二钠和柠檬酸钠中的一种或两种以上。
  9. 根据权利要求7或8所述的方法，其中，所述缓冲剂的浓度为0.1-1.5mol/L。
  10. 根据权利要求4-9中任意一项所述的方法，其中，所述蚀刻液的温度为15-70℃。
  11. 根据权利要求4-10中任意一项所述的方法，其中，经过所述蚀刻步骤后得到的经表面处理的金属基材表面形成有凹坑，所述凹坑的宽度为10-100000nm，优选为300-30000nm；所述凹坑的深度为10-5000nm，优选为100-3000nm。
  12. 根据权利要求4-11中任意一项所述的方法，其中，经过所述蚀刻步骤后得到的经表面处理的金属基材表层的氧元素含量为1-10重量％，优选为2-8重量％，更优选为5-7重量％。
  13. 一种由权利要求4-12中任意一项所述的方法制备的金属-树脂复合体。
  14. 一种电子产品外壳，该外壳包括金属壳本体以及附着于所述金属壳本体的至少部分内表面和/或至少部分外表面的至少一个树脂件，所述金属壳本体的材质为钛或钛合金，其特征在于，附着有所述树脂件的金属壳本体表面分布有凹坑，所述树脂件中的部分树脂向下延伸并填充于所述凹坑中，附着有所述树脂件的金属壳本体的表层氧元素含量为1重量％以 上。
  15. 根据权利要求14所述的电子产品外壳，其中，所述凹坑的宽度为10-100000nm，优选为300-30000nm；所述凹坑的深度为10-5000nm，优选为100-3000nm。
  16. 根据权利要求14或15所述的电子产品外壳，其中，附着有所述树脂件的金属壳本体的表层氧元素的含量为1-10重量％，优选为2-8重量％，更优选为5-7重量％。
  17. 根据权利要求14-16中任意一项所述的电子产品外壳，其中，所述金属壳本体上设置有至少一个开口。
  18. 根据权利要求17所述的电子产品外壳，其中，至少部分开口的位置对应于发射和/或接受信号的元件的安装位置。
  19. 根据权利要求17或18所述的电子产品外壳，其中，所述开口位置设置有树脂件，所述树脂件中的部分树脂填充于所述开口中。
  20. 根据权利要求14-19中任意一项所述的电子产品外壳，其中，所述金属壳本体包括相互断开的至少两个部分，相邻两部分的拼接位置设置有所述树脂件，该树脂件分别与相邻两部分搭接并覆盖所述拼接位置。
  21. 根据权利要求14-20中任意一项所述的电子产品外壳，其中，所述金属壳本体的至少部分外表面附着有树脂件，所述树脂件在金属壳本体的外表面形成图案。
  22. 根据权利要求14-21中任意一项所述的电子产品外壳，其中，所述树脂件附着于所述金属壳本体的整个内表面。
  23. 根据权利要求22所述的电子产品外壳，其中，附着于所述金属壳本体的树脂件为一体结构。
  24. 根据权利要求14-23中任意一项所述的电子产品外壳，其中，所述电子产品为移动终端或者可穿戴电子设备。
  25. 根据权利要求14-23中任意一项所述的电子产品外壳，其中，所述电子产品为移动电话、便携式电脑、智能表或者智能手环。
PCT/CN2015/093247 2014-12-25 2015-10-29 一种金属-树脂复合体及其制备方法和一种电子产品外壳 WO2016101706A1 (zh)

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