WO2016035673A1

WO2016035673A1 - 終点検出方法、研磨装置、及び研磨方法

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Publication number: WO2016035673A1
Application number: PCT/JP2015/074254
Authority: WO
Inventors: 高橋　太郎; 佑多鈴木
Original assignee: 株式会社荏原製作所
Priority date: 2014-09-02
Filing date: 2015-08-27
Publication date: 2016-03-10
Also published as: TWI678259B; CN106604802A; SG10201803908SA; SG11201701152WA; US20200346318A1; TW201620669A; CN106604802B; US10759019B2; US20170282325A1; KR102388170B1; KR20170048397A

Abstract

　研磨終点検出の精度を向上させる。　終点検出方法は、研磨パッドを保持するための研磨テーブル、又は、研磨対象物を保持して研磨パッドへ押圧するための保持部（トップリング）、を回転駆動するための駆動部（第１の電動モータ又は第２の電動モータ）へ供給する駆動電流に基づいて終点を検出する。終点検出方法は、実行する研磨プロセスの研磨条件があらかじめ設定された特定の研磨条件と一致するか否かを判定するステップ（Ｓ１０２）と、研磨条件が特定の研磨条件と一致すると判定された場合に、駆動電流を制御するための駆動制御部（モータドライバ）における、駆動部の駆動負荷の変化に対する駆動電流の変化に関する電流制御パラメータを調整するステップ（Ｓ１０３）と、調整された電流制御パラメータに基づいて駆動部へ供給される駆動電流を検出し、検出した駆動電流に基づいて研磨の終点を検出するステップ（Ｓ１０５）と、を備える。

Description

終点検出方法、研磨装置、及び研磨方法

　本発明は、終点検出方法、研磨装置、及び研磨方法に関するものである。

　近年、半導体デバイスの高集積化が進むにつれて回路の配線が微細化し、配線間距離もより狭くなりつつある。そこで、研磨対象物である半導体ウエハの表面を平坦化することが必要となるが、この平坦化法の一手段として研磨装置により研磨（ポリッシング）することが行われている。

　研磨装置は、研磨対象物を研磨するための研磨パッドを保持するための研磨テーブルと、研磨対象物を保持して研磨パッドに押圧するためにトップリングを備える。研磨テーブルとトップリングはそれぞれ、駆動部（例えばモータ）によって回転駆動される。研磨剤を含む液体（スラリー）を研磨パッド上に流し、そこにトップリングに保持された研磨対象物を押し当てることにより、研磨対象物は研磨される。

　研磨装置では、研磨対象物の研磨が不十分であると回路間の絶縁がとれずショートするおそれが生じ、また、過研磨となった場合は、配線の断面積が減ることによる抵抗値の上昇、又は配線自体が完全に除去され回路自体が形成されないなどの問題が生じる。このため、研磨装置では、最適な研磨終点の検出することが求められる。

　研磨終点検出手段の１つとして、研磨が異材質の物質へ移行した際の研磨摩擦力の変化を検出する方法が知られている。研磨対象物である半導体ウエハは、半導体、導体、絶縁体の異なる材質からなる積層構造を有しており、異材質層間で摩擦係数が異なる。このため、研磨が異材質層へ移行することによって生じる研磨摩擦力の変化を検知する方法である。この方法によれば、研磨が異材質層に達した時が研磨の終点となる。

　また、研磨装置は、研磨対象物の研磨表面が平坦ではない状態から平坦になった際の研磨摩擦力の変化を検出することにより、研磨終点を検出することもできる。

　ここで、研磨対象物を研磨する際に生じる研磨摩擦力は、駆動部の駆動負荷として現れる。例えば、駆動部が電動モータの場合には、駆動負荷（トルク）はモータに流れる電流として測定することができる。このため、モータ電流（トルク電流）を電流センサで検出し、検出したモータ電流の変化に基づいて研磨の終点を検出することができる。このような技術として、特開２００５－３４９９２号及び特開２００１－１９８８１３号に記載の技術がある。

　しかしながら、研磨装置によって実行される研磨プロセスには、研磨対象物の種類、研磨レシピの種類、研磨パッドの種類、研磨砥液（スラリー）の種類などの組み合わせによって複数の研磨条件が存在する。これら複数の研磨条件の中には、駆動部の駆動負荷に変化が生じてもトルク電流の変化（特徴点）が大きく現れない場合がある。トルク電流の変化が小さい場合、ノイズや波形に生じるうねり部分の影響を受け、研磨の終点を適切に検出することができないおそれがあり、過研磨などの問題が生じ得る。

　そこで、本発明の一形態は、既存の研磨レシピを変更することなくトルク電流の変化を良好に検出し、研磨終点検出の精度を向上させることを課題とする。

　また、本発明の一形態は、トルク電流の変化が小さい場合でも、トルク電流の変化を良好に検出し、研磨終点検出の精度を向上させることを課題とする。

　本願発明の終点検出方法の一形態は、上記課題に鑑みなされたもので、研磨パッドを保持するための研磨テーブル、又は、研磨対象物を保持して研磨パッドへ押圧するための保持部、を回転駆動するための駆動部へ供給する駆動電流に基づく終点検出方法であって、実行する研磨プロセスの研磨条件があらかじめ設定された特定の研磨条件と一致するか否かを判定する第１判定ステップと、前記第１判定ステップによって前記研磨条件が前記特定の研磨条件と一致すると判定された場合に、前記駆動電流を制御するための駆動制御部における、前記駆動部の駆動負荷の変化に対する前記駆動電流の変化に関する電流制御パラメータを調整する調整ステップと、前記調整ステップによって調整された電流制御パラメータに基づいて前記駆動部へ供給される駆動電流を検出する検出ステップと、前記検出ステップによって検出された駆動電流に基づいて研磨の終点を検出する終点検出ステップと、を備えることを特徴とする。

　終点検出方法の一形態において、研磨プロセスの実行中に前記検出ステップによって検出された駆動電流に基づいて、前記実行中の研磨プロセスの研磨条件を前記特定の研磨条件に加えるか否かを判定する第２判定ステップ、をさらに備えることができる。

　終点検出方法の一形態において、前記第２判定ステップは、前記駆動部の駆動負荷が変化した際に前記検出ステップによって検出された駆動電流の変化がしきい値よりも小さい場合に、前記実行中の研磨プロセスの研磨条件を前記特定の研磨条件に加える、ことができる。

　終点検出方法の一形態において、前記終点検出ステップは、前記検出ステップによって検出された駆動電流の変化に基づいて研磨の終点を検出し、前記第２判定ステップは、前記終点検出ステップによって研磨の終点が検出されなかった場合に、前記実行中の研磨プロセスの研磨条件を前記特定の研磨条件に加える、ことができる。

　終点検出方法の一形態において、前記調整ステップは、前記駆動部の駆動負荷の変化に対して前記駆動電流の変化が大きくなるように、前記電流制御パラメータを調整する、ことができる。

　終点検出方法の一形態において、前記駆動制御部が、前記研磨テーブル又は前記保持部の実回転速度と目標回転速度との偏差に基づいて前記駆動電流を制御する場合において、前記調整ステップは、前記偏差に基づく制御における制御ゲインを大きくする、ことができる。

　終点検出方法の一形態において、前記研磨プロセスが複数の工程を含む場合に、前記調整ステップは、前記複数の工程のうちの一部の工程において前記電流制御パラメータを調整する、ことができる。

　終点検出方法の一形態において、前記研磨条件は、研磨対象物の種類、研磨レシピの種類、研磨パッドの種類、及び研磨砥液の種類、の少なくとも１つを含んでもよい。

　本願発明の研磨装置の一形態は、研磨パッドを保持するための研磨テーブル、又は、研磨対象物を保持して研磨パッドへ押圧するための保持部、を回転駆動するための駆動部と、前記駆動部へ供給する駆動電流を制御するための駆動制御部と、実行する研磨プロセスの研磨条件があらかじめ設定された特定の研磨条件と一致する場合に、前記駆動制御部における、前記駆動部の駆動負荷の変化に対する前記駆動電流の変化に関する電流制御パラメータを調整する調整部と、を備えることを特徴とする。

　研磨装置の一形態において、実行する研磨プロセスの研磨条件があらかじめ設定された特定の研磨条件と一致するか否かを判定する判定部、をさらに備え、前記調整部は、前記判定部によって、前記研磨プロセスの研磨条件が前記特定の研磨条件と一致すると判定された場合に、前記駆動制御部における前記電流制御パラメータを調整する、ことができる。

　研磨装置の一形態において、研磨プロセスの実行中に前記駆動制御部から前記駆動部へ供給される駆動電流を検出する電流検出部、をさらに備え、前記判定部は、前記電流検出部によって検出された駆動電流に基づいて、前記実行中の研磨プロセスの研磨条件を前記特定の研磨条件に加えるか否かを判定する、ことができる。

　研磨装置の一形態において、前記判定部は、前記駆動部の駆動負荷が変化した際に前記電流検出部によって検出された駆動電流の変化がしきい値よりも小さい場合に、前記実行中の研磨プロセスの研磨条件を前記特定の研磨条件に加える、ことができる。

　研磨装置の一形態において、前記電流検出部によって検出された駆動電流の変化に基づいて研磨の終点を検出する終点検出部をさらに備え、前記判定部は、前記終点検出部によって研磨の終点が検出されなかった場合に、前記実行中の研磨プロセスの研磨条件を前記特定の研磨条件に加える、ことができる。

　研磨装置の一形態において、前記調整部は、前記駆動部の駆動負荷の変化に対して前記駆動電流の変化が大きくなるように、前記電流制御パラメータを調整する、ことができる。

　研磨装置の一形態において、前記駆動制御部は、前記研磨テーブル又は前記保持部の実回転速度と目標回転速度との偏差に基づいて前記駆動電流を制御し、前記調整部は、前記偏差に基づく制御における制御ゲインを大きくする、ことができる。

　研磨装置の一形態において、前記研磨プロセスが複数の工程を含む場合に、前記調整部は、前記複数の工程のうちの一部の工程において前記電流制御パラメータを調整する、ことができる。

　研磨装置の一形態において、前記研磨条件は、研磨対象物の種類、研磨レシピの種類、研磨パッドの種類、及び研磨砥液の種類、の少なくとも１つを含んでもよい。

　本願発明によれば、既存の研磨レシピを変更することなくトルク電流の変化を良好に検出し、研磨終点検出の精度を向上させることができる。

　本願発明の研磨装置の別の第１の形態によれば、研磨対象物の表面を研磨するための研磨装置であって、研磨パッドを保持するための研磨テーブルを回転駆動する第１の電動モータと、前記研磨対象物を保持して前記研磨パッドへ押圧するための保持部を回転駆動する第２の電動モータとを有し、前記第１及び第２の電動モータのうち少なくとも一方の電動モータは、複数相の巻線を備え、前記研磨装置は、前記第１及び／又は第２の電動モータのうちの少なくとも２相の電流を検出する電流検出部と、前記電流検出部によって検出された少なくとも２相の電流検出値を整流し、整流された信号に対して加算及び／又は乗算を行って出力する整流演算部と、前記整流演算部の出力の変化に基づいて、前記研磨対象物の表面の研磨終了を示す研磨終点を検出する終点検出部とを有する研磨装置が提供される。

　かかる形態によれば、複数相の駆動電流を整流して加算する場合、以下の効果がある。すなわち、１相の駆動電流のみを検出する場合、検出される電流値が、本形態に比べて小さい。本形態により、整流と加算により電流値が大きくなるため、検出精度が向上する。

　また、ACサーボモータなどの１個のモータ内に複数相を有するモータは、各相の電流を個別に管理せずに、モータの回転速度を管理しているため、相間で電流値がばらついていることがある。そのため従来は、電流値が他の相に比べて小さい相の電流値を検出している可能性があり、電流値の大きな相を利用できない可能性があった。本形態によれば、複数相の駆動電流を加算しているため、電流値の大きな相を利用できるため、検出精度が向上する。

　さらに、複数相の駆動電流を整流して加算しているため、１相の駆動電流のみを用いている場合と比較して、リップルが小さくなる。このため、検出された交流電流を、終点の判断に用いるために、直流電流に変換する実効値変換によって得られる直流電流のリップルも少なくなり、終点検出精度が向上する。

　加算する電流は、第１の電動モータの少なくとも１相と、第２の電動モータの少なくとも１相であってもよい。これにより、一方のモータの電流値のみを利用する場合よりも、信号値を大きくすることができる。

　複数相の駆動電流を整流して、得られた信号に対して乗算する場合、乗算して得られた値のレンジを、後段の処理回路の入力レンジに合わせることができるという効果がある。また、特定の相（例えば、ノイズが、他の相と比較して少ない相）の信号のみを大きく、または小さくできる（例えば、ノイズが、他の相と比較して大きい場合）という効果がある。

　加算と乗算の両方を行うこともできる。この場合、上述の加算の効果と乗算の効果の両方を得ることができる。乗算する数値（乗数）は、相ごとに変えてもよい。加算した結果が、後段の処理回路の入力レンジを超える場合等は、乗数は１より小さくする。

　なお、整流は半波整流及び全波整流のいずれでもよいが、振幅が大きくなり、かつリップルが減少するため、半波整流よりも全波整流が好ましい。

　本願発明の別の第２の形態によれば、別の第１の形態において、前記終点検出部は、前記整流演算部の出力を増幅する増幅部と、前記整流演算部の出力に含まれるノイズを除去するノイズ除去部と、前記整流演算部の出力から所定量を減算する減算部のうち、少なくとも１つを有する。

　増幅により、トルク電流の変化を大きくすることができる。ノイズを除去することにより、ノイズに埋もれている電流の変化を顕在化させることができる。

　減算部は以下の効果を有する。検出される電流は通常、摩擦力の変化にともなって変化する電流部分と、摩擦力が変化しても変化しない一定量の電流部分（バイアス）を含む。このバイアスを除去することにより、摩擦力の変化に依存する電流部分のみを取り出して、信号処理可能な範囲内で最大の振幅まで増幅することが可能になり、摩擦力の変化から終点を検出する終点検出法の精度が向上する。

　なお、増幅部、減算部、ノイズ除去部のうちの複数を有する場合、これらは、縦続接続する。例えば、増幅部とノイズ除去部を有する場合、増幅部で最初に処理した後に、処理結果をノイズ除去部に送り、ノイズ除去部で処理する、もしくは、ノイズ除去部で最初に処理を行い、その処理結果を増幅部に送って処理を行う。

　本願発明の別の第３の形態によれば、別の第２の形態において、前記終点検出部は、前記増幅部と前記減算部と前記ノイズ除去部とを有し、前記増幅部で増幅された信号を前記減算部で減算し、該減算された信号から前記ノイズ除去部でノイズを除去する。かかる形態によれば、増幅後の振幅の大きな信号に対して、減算及びノイズ除去を行っているため、精度良く、減算及びノイズ除去が行える。結果として、終点検出精度が向上する。

　なお、増幅、減算、ノイズ除去は、この順番に行うことが好ましいが、この順番に必ずしも行う必要はない。例えば、ノイズ除去、減算、増幅の順番でも可能である。

　本願発明の別の第４の形態によれば、別の第３の形態において、前記終点検出部では、前記ノイズ除去部でノイズを除去された信号をさらに増幅する第２の増幅部を有する。かかる形態によれば、ノイズ除去によって減少した電流の大きさを回復することができ、終点検出法の精度が向上する。

　本願発明の別の第５の形態によれば、別の形態２において、前記終点検出部は、前記増幅部と、前記増幅部の増幅特性を制御する制御部とを有する。かかる形態によれば、研磨対象物の材質や構造等に応じて、最適な増幅特性（増幅率や周波数特性等）を選択することができる。

　本願発明の別の第６の形態によれば、別の形態２において、前記終点検出部は、前記ノイズ除去部と、前記ノイズ除去部のノイズ除去特性を制御する制御部とを有する。かかる形態によれば、研磨対象物の材質や構造等に応じて、最適なノイズ除去特性（信号の通過帯域や減衰量等）を選択することができる。

　本願発明の別の第７の形態によれば、別の形態２において、前記終点検出部は、前記減算部と、前記減算部の減算特性を制御する制御部とを有する。かかる形態によれば、研磨対象物の材質や構造等に応じて、最適な減算特性（減算量や周波数特性等）を選択することができる。

　本願発明の別の第８の形態によれば、別の形態４に記載の研磨装置において、前記終点検出部は、前記第２の増幅部の増幅特性を制御する制御部を有する。かかる形態によれば、研磨対象物の材質や構造等に応じて、最適な第２の増幅特性（増幅率や周波数特性等）を選択することができる。

　本願発明の研磨装置の別の第９の形態によれば、研磨方法が提供される。この研磨方法は、研磨パッドを保持するための研磨テーブルを回転駆動する第１の電動モータと、研磨対象物を保持して前記研磨パッドへ押圧するための保持部を回転駆動する第２の電動モータとを有し、前記第１及び第２の電動モータのうち少なくとも一方の電動モータは、複数相の巻線を有する研磨装置を用いた、前記研磨対象物の表面を研磨する研磨方法である。該方法は、前記第１及び／又は第２の電動モータのうちの少なくとも２相の電流を検出する電流検出ステップと、前記検出された少なくとも２相の電流検出値を整流し、整流された信号に対して加算及び／又は乗算を行って出力する整流演算ステップと、前記整流演算ステップの出力の変化に基づいて、前記研磨対象物の表面の研磨終了を示す研磨終点を検出する終点検出ステップとを有する。かかる形態によれば、別の第１の形態と同様の効果を達成できる。

　本願発明の別の第１０の形態によれば、別の形態９において、前記終点検出ステップは、前記整流演算ステップの出力を増幅する増幅ステップと、前記整流演算ステップの出力に含まれるノイズを除去するノイズ除去ステップと、前記整流演算ステップの出力から所定量を減算する減算ステップのうち、少なくとも１つを有する。かかる形態によれば、別の第２の形態と同様の効果を達成できる。

　本願発明の研磨装置の別の第１１の形態によれば、別の形態９に記載の研磨方法において、前記終点検出ステップでは、前記増幅ステップにおいて増幅された信号に対して、前記減算ステップにおいて所定量の減算を行い、該減算された信号から前記ノイズ除去ステップにおいてノイズを除去する。かかる形態によれば、別の第３の形態と同様の効果を達成できる。

　本願発明の研磨装置の別の第１２の形態によれば、別の形態１１において、前記終点検出ステップは、前記ノイズ除去ステップでノイズを除去された信号をさらに増幅する第２の増幅ステップをさらに有する。かかる形態によれば、別の第４の形態と同様の効果を達成できる。

図１は、本実施形態に係る研磨装置の基本構成を示す図である。図２は、２相‐３相変換器の処理内容を説明するための図である。図３は、第１実施形態の研磨装置の駆動電流調整に関する構成を模式的に示す図である。図４は、第２実施形態の研磨装置の駆動電流調整に関する構成を模式的に示す図である。図５は、第１，第２実施形態による駆動電流の変化を模式的に示す図である。図６は、第１，第２実施形態による駆動電流の変化を模式的に示す図である。図７は、研磨の終点の検出態様の一例を示す図である。図８は、第１，第２実施形態の研磨装置による電流調整方法のフローチャートである。図９は、第１，第２実施形態の研磨装置による電流調整方法のフローチャートである。図１０は、別の実施形態に係る研磨装置の基本構成を示す図である。図１１は、終点検出部２９の詳細を示すブロック図である。図１２は、終点検出部２９による信号処理の内容を示すグラフである。図１３は、終点検出部２９による信号処理の内容を示すグラフである。図１４は、比較例の終点検出法を示すブロック図及びグラフである。図１５（ａ）は、比較例の実効値変換器５６の出力５６ａを示すグラフであり、図１５（ｂ）は、本実施例の実効値変換器４８の出力４８ａを示すグラフである。図１６は、比較例の実効値変換器５６の出力５６ａと、実施例の実効値変換器４８の出力４８ａを示すグラフである。図１７は、比較例の出力５６ａの変化量２７０と、本実施例の出力４８ａの変化量２６８の、半導体ウエハ１８に加わる圧力に対する変化を示すグラフである。図１８は、増幅部４０、オフセット部４２、フィルタ４４、第２の増幅部４６の設定の一例を示す。図１９は、制御部５０による各部の制御の一例を示すフローチャートである。

　以下、本発明の一実施形態に係る研磨装置を図面に基づいて説明する。始めに、研磨装置の基本構成について説明し、その後、研磨対象物の研磨終点の検出について説明する。

　＜基本構成＞
　図１は、本実施形態に係る研磨装置の基本構成を示す図である。研磨装置は、研磨パッド１０を上面に取付け可能な研磨テーブル１２と、研磨テーブル１２を回転駆動する第１の電動モータ（第１の駆動部）１４と、第１の電動モータの回転位置を検出する位置検出センサ１６と、半導体ウエハ１８を保持可能なトップリング（保持部）２０と、トップリング２０を回転駆動する第２の電動モータ（第２の駆動部）２２と、を備えている。

　トップリング２０は、図示しない保持装置により、研磨テーブル１２に近づけたり遠ざけたりすることができるようになっている。半導体ウエハ１８を研磨するときは、トップリング２０を研磨テーブル１２に近づけることにより、トップリング２０に保持された半導体ウエハ１８を、研磨テーブル１２に取り付けられた研磨パッド１０に当接させる。

　半導体ウエハ１８を研磨するときは、研磨テーブル１２が回転駆動された状態で、トップリング２０に保持された半導体ウエハ１８が研磨パッド１０に押圧される。また、トップリング２０は、第２の電動モータ２２によって、研磨テーブル１２の回転軸１３とは偏心した軸線２１の回りに回転駆動される。半導体ウエハ１８を研磨する際は、研磨材を含む研磨砥液が、研磨材供給装置２４から研磨パッド１０の上面に供給される。トップリング２０にセットされた半導体ウエハ１８は、トップリング２０が第２の電動モータ２２によって回転駆動されている状態で、研磨砥液が供給された研磨パッド１０に押圧される。

　第１の電動モータ１４は、少なくともＵ相とＶ相とＷ相の３相の巻線を備えた同期式又は誘導式のＡＣサーボモータであることが好ましい。第１の電動モータ１４は、本実施形態においては、３相の巻線を備えたＡＣサーボモータを含む。３相の巻線は、１２０度位相のずれた電流を第１の電動モータ１４内のロータ周辺に設けられた界磁巻線に流し、これにより、ロータが回転駆動されるようになっている。第１の電動モータ１４のロータは、モータシャフト１５に接続されており、モータシャフト１５により研磨テーブル１２が回転駆動される。

　第２の電動モータ２２は、少なくともＵ相とＶ相とＷ相の３相の巻線を備えた同期式又は誘導式のＡＣサーボモータであることが好ましい。第２の電動モータ２２は、本実施形態においては、３相の巻線を備えたＡＣサーボモータを含む。３相の巻線は、１２０度位相のずれた電流を第２の電動モータ２２内のロータ周辺に設けられた界磁巻線に流し、これにより、ロータが回転駆動されるようになっている。第２の電動モータ２２のロータは、モータシャフト２３に接続されており、モータシャフト２３によりトップリング２０が回転駆動される。

　また、研磨装置は、第１の電動モータ１４を回転駆動するモータドライバ１００と、キーボートやタッチパネルなどの入力インターフェースを介してオペレータから第１の電動モータ１４の回転速度の指令信号を受け付ける入力部２００と、を備える。入力部２００は、受け付けた指令信号をモータドライバ１００に入力する。なお、図１は、第１の電動モータ１４を回転駆動するモータドライバ１００について説明するが、図４に示すように第２の電動モータ２２にも同様のモータドライバ１００が接続される。

　モータドライバ１００は、微分器１０２と、速度補償器１０４と、２相‐３相変換器１０６と、電気角信号生成器１０８と、Ｕ相電流補償器１１０と、Ｕ相ＰＷＭ変調回路１１２と、Ｖ相電流補償器１１４と、Ｖ相ＰＷＭ変調回路１１６と、Ｗ相電流補償器１１８と、Ｗ相ＰＷＭ変調回路１２０と、パワーアンプ１３０と、電流センサ１３２，１３４とを備えている。

　微分器１０２は、位置検出センサ１６によって検出された回転位置信号を微分することによって第１の電動モータ１４の実際の回転速度に相当する実速度信号を生成する。すなわち、微分器１０２は、第１の電動モータ１４の回転位置の検出値に基づいて第１の電動モータ１４の回転速度を求める演算器である。

　速度補償器１０４は、入力部２００を介して入力された回転速度の指令信号（目標値）と微分器１０２によって生成された実速度信号との偏差に相当する速度偏差信号に基づいて、第１の電動モータ１４の回転速度の補償を行う。すなわち、速度補償器１０４は、入力インターフェース（入力部２００）を介して入力された第１の電動モータ１４の回転速度の指令値と微分器１０２によって求められた第１の電動モータ１４の回転速度との偏差に基づいて、第１の電動モータ１４へ供給する電流の指令信号を生成する。

　速度補償器１０４は、例えばＰＩＤ制御器で構成することができる。この場合、速度補償器１０４は、比例制御と、積分制御と、微分制御とを行い、補償された回転速度に相当する電流指令信号を生成する。比例制御は、入力部２００から入力された回転速度の指令信号と第１の電動モータの実速度信号との偏差に比例させて操作量を変える。積分制御は、その偏差を足していきその値に比例して操作量を変える。微分制御は、偏差の変化率（つまり偏差が変化する速度）を捉えこれに比例した操作量を出力する。なお、速度補償器１０４は、ＰＩ制御器で構成することもできる。

　電気角信号生成器１０８は、位置検出センサ１６によって検出された回転位置信号に基づいて電気角信号を生成する。２相‐３相変換器１０６は、速度補償器１０４によって生成された電流指令信号と、電気角信号生成器１０８によって生成された電気角信号とに基づいて、Ｕ相電流指令信号、及びＶ相電流指令信号を生成する。すなわち、２相‐３相変換器１０６は、第１の電動モータ１４の回転位置の検出値に基づいて生成された電気角信号と速度補償器１０４によって生成された電流の指令信号とに基づいて、各相のうちの少なくとも２つの相の電流指令値を生成する変換器である。

　ここで、２相‐３相変換器１０６の処理について詳細に説明する。図２は、２相‐３相変換器の処理内容を説明するための図である。２相‐３相変換器１０６には、速度補償器１０４から図２に示すような電流指令信号Ｉｃが入力される。また、２相‐３相変換器１０６には、電気角信号生成器１０８から図２に示すようなＵ相の電気角信号Ｓｉｎφｕが入力される。なお、図２において図示は省略したが、２相‐３相変換器１０６には、Ｖ相の電気角信号Ｓｉｎφｖも入力される。

　例えばＵ相電流指令信号Ｉｕｃを生成する場合を考える。この場合、２相‐３相変換器１０６は、ある時刻ｔｉのときの電流指令信号Ｉｃ（ｉ）とＵ相の電気角信号Ｓｉｎφｕ（ｉ）とを乗算することにより、Ｕ相電流指令信号Ｉｕｃ（ｉ）を生成する。すなわち、Ｉｕｃ（ｉ）＝Ｉｃ（ｉ）×Ｓｉｎφｕ（ｉ）となる。また、２相‐３相変換器１０６は、Ｕ相の場合と同様に、ある時刻ｔｉのときの電流指令信号Ｉｃ（ｉ）とＶ相の電気角信号Ｓｉｎφｖ（ｉ）とを乗算することにより、Ｖ相電流指令信号Ｉｖｃ（ｉ）を生成する。すなわち、Ｉｖｃ（ｉ）＝Ｉｃ（ｉ）×Ｓｉｎφｖ（ｉ）となる。

　電流センサ１３２は、パワーアンプ１３０のＵ相出力ラインに設けられ、パワーアンプ１３０から出力されたＵ相の電流を検出する。Ｕ相電流補償器１１０は、２相‐３相変換器１０６から出力されたＵ相電流指令信号Ｉｕｃと、電流センサ１３２によって検出されてフィードバックされたＵ相検出電流Ｉｕ＊との偏差に相当するＵ相電流偏差信号に基づいて、Ｕ相の電流補償を行う。Ｕ相電流補償器１１０は、例えばＰＩ制御器、又はＰＩＤ制御器で構成することができる。Ｕ相電流補償器１１０は、ＰＩ制御又はＰＩＤ制御を用いてＵ相電流の補償を行い、補償された電流に相当するＵ相電流信号を生成する。

　Ｕ相ＰＷＭ変調回路１１２は、Ｕ相電流補償器１１０によって生成されたＵ相電流信号に基づいてパルス幅変調を行う。Ｕ相ＰＷＭ変調回路１１２は、パルス幅変調を行うことによって、Ｕ相電流信号に応じた２系統のパルス信号を生成する。

　電流センサ１３４は、パワーアンプ１３０のＶ相出力ラインに設けられ、パワーアンプ１３０から出力されたＶ相の電流を検出する。Ｖ相電流補償器１１４は、２相‐３相変換器１０６から出力されたＶ相電流指令信号Ｉｖｃと、電流センサ１３４によって検出されてフィードバックされたＶ相検出電流Ｉｖ＊との偏差に相当するＶ相電流偏差信号に基づいてＶ相の電流補償を行う。Ｖ相電流補償器１１４は、例えばＰＩ制御器、又はＰＩＤ制御器で構成することができる。Ｖ相電流補償器１１４は、ＰＩ制御又はＰＩＤ制御を用いてＶ相電流の補償を行い、補償された電流に相当するＶ相電流信号を生成する。

　Ｖ相ＰＷＭ変調回路１１６は、Ｖ相電流補償器１１４によって生成されたＶ相電流信号に基づいてパルス幅変調を行う。Ｖ相ＰＷＭ変調回路１１４は、パルス幅変調を行うことによって、Ｖ相電流信号に応じた２系統のパルス信号を生成する。

　Ｗ相電流補償器１１８は、２相‐３相変換器１０６から出力されたＵ相電流指令信号Ｉｕｃ及びＶ相電流指令信号Ｉｖｃに基づいて生成されたＷ相電流指令信号Ｉｗｃと、電流センサ１３２，１３４によって検出されてフィードバックされたＵ相検出電流Ｉｕ＊及びＶ相検出電流Ｉｖ＊との偏差に相当するＷ相電流偏差信号に基づいてＷ相の電流補償を行う。Ｗ相電流補償器１１８は、例えばＰＩ制御器、又はＰＩＤ制御器で構成することができる。Ｗ相電流補償器１１８は、ＰＩ制御又はＰＩＤ制御を用いてＷ相電流の補償を行い、補償された電流に相当するＷ相電流信号を生成する。

　Ｗ相ＰＷＭ変調回路１２０は、Ｗ相電流補償器１１８によって生成されたＷ相電流信号に基づいてパルス幅変調を行う。Ｗ相ＰＷＭ変調回路１１８は、パルス幅変調を行うことによって、Ｗ相電流信号に応じた２系統のパルス信号を生成する。

　パワーアンプ１３０には、Ｕ相ＰＷＭ変調回路１１２、Ｖ相ＰＷＭ変調回路１１６、及びＷ相ＰＷＭ変調回路１２０によって生成された２系統のパルス信号が印加される。パワーアンプ１３０は、印加された各パルス信号に応じて、パワーアンプ１３０に内蔵されているインバータ部の各トランジスタを駆動する。これにより、パワーアンプ１３０は、Ｕ相、Ｖ相、Ｗ相それぞれについて交流電力を出力し、この３相交流電力によって第１の電動モータ１４を回転駆動する。

　＜駆動電流調整＞
　次に、モータドライバ１００における駆動電流の調整について説明する。図３は、第１実施形態の研磨装置の駆動電流調整に関する構成を模式的に示す図である。図４は、第２実施形態の研磨装置の駆動電流調整に関する構成を模式的に示す図である。なお、第１実施形態は、第１の電動モータ１４を駆動するモータドライバ１００における駆動電流調整を行う実施形態であるのに対して、第２実施形態は、第２の電動モータ２２を駆動するモータドライバ１００における駆動電流調整を行う実施形態である点が異なる。第１実施形態と第２実施形態で同様の部分についてはまとめて説明する。

　図３，図４に示すように、研磨装置は、Ｕ相、Ｖ相、Ｗ相のうちのいずれか１相（第１，第２実施形態ではＶ相）に、第２の電流センサ（電流検出部）３１を備える。第２の電流センサ３１は、モータドライバ１００と第１の電動モータ１４との間のＶ相の電流路、又はモータドライバ１００と第２の電動モータ２２との間のＶ相の電流路、に設けられる。第２の電流センサ３１は、Ｖ相の電流を検出し、終点検出装置６０へ出力する。

　終点検出装置６０は、半導体ウエハ１８の研磨終点を検出する。終点検出装置６０とモータドライバ１００は、例えばシリアル通信によってコマンドの送受信を行うことが可能である。終点検出装置６０は、判定部６２と、調整部６４と、記憶部６６と、終点検出部６８と、を備える。

　判定部６２は、実行する研磨プロセスの研磨条件があらかじめ設定された特定の研磨条件と一致するか否かを判定する。研磨条件には、例えば、研磨対象物の種類、研磨レシピの種類、研磨パッドの種類、及び研磨砥液（スラリー）の種類、の少なくとも１つが含まれる。

　判定部６２には、例えば研磨装置の入力部２００を介して、これから実行する研磨プロセスの研磨条件が入力される。判定部６２は、記憶部６６に格納された特定の研磨条件を読み出し、読み出した特定の研磨条件と入力された研磨条件とを比較することによって、入力された研磨条件が特定の研磨条件と一致するか否かを判定する。なお、研磨条件は、入力部２００を介して入力されるだけではなく、例えば半導体ウエハ１８に取り付けられたタグに格納された研磨条件の内容を示す情報をリーダなどによって読み取って判定部６２に入力することもできる。

　また、判定部６２には、研磨プロセスの実行中に第２の電流センサ３１によって検出された駆動電流が入力される。判定部６２は、第２の電流センサ３１によって検出された駆動電流に基づいて、実行中の研磨プロセスの研磨条件を特定の研磨条件に加えるか否かを判定する。具体的には、判定部６２は、第１の電動モータ１４又は第２の電動モータ２２の駆動負荷が変化した際に第２の電流センサ３１によって検出された駆動電流の変化がしきい値よりも小さい場合に、実行中の研磨プロセスの研磨条件の内容を示す情報を記憶部６６に格納することによって、特定の研磨条件に加える。

　また、判定部６２は、終点検出部６８によって研磨の終点が検出されなかった場合に、実行中の研磨プロセスの研磨条件の内容を示す情報を記憶部６６に格納することによって、特定の研磨条件に加える。

　調整部６４は、判定部６２によって、実行する研磨プロセスの研磨条件が特定の研磨条件と一致すると判定された場合に、モータドライバ１００における、第１の電動モータ１４又は第２の電動モータ２２の駆動負荷の変化に対する駆動電流の変化に関する電流制御パラメータを調整（変更）する。

　具体的には、調整部６４は、第１の電動モータ１４又は第２の電動モータ２２の駆動負荷の変化に対して駆動電流の変化が大きくなるように、電流制御パラメータを調整する。さらに具体的には、電流制御パラメータとは、モータドライバ１００の速度補償器１０４におけるフィードバック制御の制御ゲインである。速度補償器１０４は、上述のように、研磨テーブル１２又はトップリング２０の実回転速度と目標回転速度との偏差に基づいて駆動電流を制御する。調整部６４は、判定部６２によって、実行する研磨プロセスの研磨条件が特定の研磨条件と一致すると判定された場合に、偏差に基づく制御における制御ゲインを大きくするコマンドをモータドライバ１００へ送信する。

　制御ゲインを大きくすることによって、フィードバック制御の感度が高くなるので、第１の電動モータ１４又は第２の電動モータ２２の駆動負荷が変化した場合に、駆動電流の変化が大きくなる。

　この点について詳細に説明する。図５，図６は、第１，第２実施形態による駆動電流の変化を模式的に示す図である。図５は、モータドライバ１００の電流制御パラメータを調整する前と調整した後における駆動電流を示しており、横軸は時間（ｔ）、縦軸は駆動電流（Ａ）を示す。また、図６は、モータドライバ１００の電流制御パラメータを調整する前と調整した後における駆動電流の差を示しており、横軸は時間（ｔ）、縦軸は研磨パッド１０と半導体ウエハ１８との間に圧力をかけていない状態の駆動電流（Ａ）の差（ΔＡ）の平均値を基準としたときの研磨パッド１０と半導体ウエハ１８との間に圧力をかけた状態の各駆動電流の平均値との変化量（ΔＡ）を示す。

　図５では、研磨パッド１０と半導体ウエハ１８との間に圧力をかけていない状態（Ｆｒｅｅ）、１ｐｓｉの圧力をかけた状態、２ｐｓｉの圧力をかけた状態、における駆動電流を示している。研磨パッド１０と半導体ウエハ１８との間の圧力は、第１の電動モータ１４又は第２の電動モータ２２の駆動負荷に相関する。図５に示すように、研磨パッド１０と半導体ウエハ１８との間にかかる圧力が変化すると、電流制御パラメータを調整する前の駆動電流の波形７０に比べて、電流制御パラメータを調整した後の駆動電流の波形７２は、駆動電流が大きく変化する。例えば、圧力が２ｐｓｉからＦｒｅｅに変化した場合の波形７０の変化量をαとし、圧力が２ｐｓｉからＦｒｅｅに変化した場合の波形７２の変化量をβとすると、α＜βとなる。

　例えば図６に示すように、研磨パッド１０と半導体ウエハ１８との間の圧力がＦｒｅｅから１ｐｓｉに変化した場合、電流制御パラメータを調整する前の駆動電流の変化量７４と、電流制御パラメータを調整した後の駆動電流の変化量７６とを比較すると、両者の駆動電流の変化にはおよそ０．５（Ａ）の差が生じる。また、研磨パッド１０と半導体ウエハ１８との間の圧力が１ｐｓｉから２ｐｓｉに変化した場合、電流制御パラメータを調整する前の駆動電流の変化量７４と電流制御パラメータを調整した後の駆動電流の変化量７６とを比較すると、両者の駆動電流の変化には１（Ａ）以上の差が生じる。

　以上のように、第１，第２実施形態は、研磨プロセスの研磨条件が特定の研磨条件と一致すると判定された場合に、モータドライバ１００における電流制御パラメータを調整する。これによって、第１の電動モータ１４又は第２の電動モータ２２の駆動負荷が変化した場合の駆動電流の変化を大きくすることができる。その結果、第１，第２実施形態によれば、既存の研磨レシピを変更することなくトルク電流の変化を良好に検出することができる結果、研磨終点検出の精度が向上するので、終点検出部６８は、駆動電流の変化に基づいて終点検出を適切に行うことができる。

　なお、電流制御パラメータの一例として、モータドライバ１００の速度補償器１０４におけるフィードバック制御の制御ゲインを挙げて説明したが、これに限られない。例えば、第１の電動モータ１４又は第２の電動モータ２２の慣性モーメントに関するモータドライバ１００の電流制御パラメータを調整してもよい。具体的には、研磨プロセスの研磨条件が特定の研磨条件と一致すると判定された場合に、第１の電動モータ１４又は第２の電動モータ２２の慣性モーメントが小さくなるように、モータドライバ１００の電流制御パラメータを調整することができる。これによれば、第１の電動モータ１４又は第２の電動モータ２２の慣性モーメントが小さくなるので、第１の電動モータ１４又は第２の電動モータ２２の駆動負荷が変化した場合の駆動電流の変化が大きくなる。その結果、終点検出部６８は、駆動電流の変化に基づいて終点検出を適切に行うことができる。

　また、研磨プロセスが複数の工程を含む場合には、調整部６４は、複数の工程のうちの一部の工程において電流制御パラメータを調整することもできる。例えば、研磨プロセスが、第１の研磨レートで半導体ウエハ１８を研磨する第１工程と、第１工程の後に、第１の研磨レートより小さい第２の研磨レートで半導体ウエハ１８を研磨する第２工程と、を含む場合を考える。この研磨プロセスは、全体の研磨時間を短縮するために、第１工程において大きな研磨レートで半導体ウエハ１８を研磨しながら所定の時間が経過したら第２工程に移行し、第２工程において小さな研磨レートで半導体ウエハ１８を研磨しながら終点検出を行う。このような場合には、調整部６４は、第２工程において、モータドライバ１００の電流制御パラメータ（例えば制御ゲイン）を調整する。

　＜研磨終点検出＞
　終点検出部６８は、第２の電流センサ３１によって検出された駆動電流（トルク電流）に基づいて、半導体ウエハ１８の研磨終点を検出する。具体的には、終点検出部６８は、第２の電流センサ３１によって検出された駆動電流の変化に基づいて半導体ウエハ１８の研磨の終点を判定する。

　終点検出部６８の研磨終点の判定について図７を用いて説明する。図７は、研磨の終点の検出態様の一例を示す図である。図７において横軸は研磨時間の経過を示し、縦軸は駆動電流（Ｉ）及び駆動電流の微分値（ΔＩ／Δｔ）を示している。

　終点検出部６８は、図７のように駆動電流３０ａ（Ｖ相のモータ電流）が推移した場合、駆動電流３０ａがあらかじめ設定されたしきい値３０ｂより小さくなったら、半導体ウエハ１８の研磨が終点に達したと判定することができる。

　また、終点検出部６８は、図７のように駆動電流３０ａの微分値３０ｃを求めて、あらかじめ設定された時間しきい値３０ｄと３０ｅとの間の期間において微分値３０ｃの傾きが負から正に転じたことを検出したら、半導体ウエハ１８の研磨が終点に達したと判定することもできる。すなわち、時間しきい値３０ｄと３０ｅは、経験則などによって研磨終点になると思われるおおよその期間に設定されており、終点検出部６８は、時間しきい値３０ｄと３０ｅとの間の期間において研磨の終点検出を行う。このため、終点検出部６８は、時間しきい値３０ｄと３０ｅとの間の期間以外では、たとえ微分値３０ｃの傾きが負から正に転じたとしても、半導体ウエハ１８の研磨が終点に達したとは判定しない。これは、例えば研磨の開始直後などに、研磨が安定していない影響によって微分値３０ｃがハンチングして傾きが負から正に転じた場合に、研磨終点であると誤検出されるのを抑制するためである。また、終点検出部６８は、駆動電流３０ａの変化量があらかじめ設定されたしきい値より大きく変化したら、半導体ウエハ１８の研磨が終点に達したと判定することもできる。以下、終点検出部６８の研磨終点の判定の具体例を示す。

　例えば、半導体ウエハ１８が、半導体、導体、絶縁体等の異なる材質で積層されている場合を考える。この場合、異材質層間で摩擦係数が異なるため、研磨が異材質層へ移行した場合に第１の電動モータ１４又は第２の電動モータ２２のモータトルクが変化する。この変化に応じてＶ相のモータ電流（検出電流信号）も変化する。終点検出部６８は、このモータ電流がしきい値より大きくなった又は小さくなったことを検出することにより半導体ウエハ１８の研磨の終点を判定する。また、終点検出部６８は、モータ電流の微分値の変化に基づいて半導体ウエハ１８の研磨の終点を判定することもできる。

　また、例えば半導体ウエハ１８の研磨面が平坦ではない状態から研磨によって研磨面が平坦化される場合を考える。この場合、半導体ウエハ１８の研磨面が平坦化されると第１の電動モータ１４又は第２の電動モータ２２のモータトルクが変化する。この変化に応じてＶ相のモータ電流（検出電流信号）も変化する。終点検出部６８は、このモータ電流がしきい値より小さくなったことを検出することにより半導体ウエハ１８の研磨の終点を判定する。また、終点検出部６８は、モータ電流の微分値の変化に基づいて半導体ウエハ１８の研磨の終点を判定することもできる。

　＜フローチャート＞
　次に、第１，第２実施形態の研磨装置による電流調整方法について説明する。図８は、第１，第２実施形態の研磨装置による電流調整方法のフローチャートである。図８は、研磨プロセスが単一の工程を有する場合の電流調整方法のフローチャートである。

　図８に示すように、電流調整方法は、まず、研磨プロセスの研磨レシピを設定する（ステップＳ１０１）。続いて、電流調整方法は、これから実行する研磨プロセスの研磨条件（例えば、半導体ウエハ１８の種類及び研磨レシピの種類の組み合わせ）が特定の研磨条件と一致するか否かを判定する（ステップＳ１０２）。例えば、判定部６２が記憶部６６に格納されている特定の研磨条件に基づいて判定することができる。

　実行する研磨プロセスの研磨条件が特定の研磨条件と一致すると判定した場合には（ステップＳ１０２，Ｙｅｓ）、調整部６４は、モータドライバ１００の電流制御パラメータを調整する（ステップＳ１０３）。

　一方、実行する研磨プロセスの研磨条件が特定の研磨条件と一致しないと判定した場合には（ステップＳ１０２，Ｎｏ）、モータドライバ１００の電流制御パラメータの調整は行われない。

　続いて、電流調整方法は、半導体ウエハ１８の研磨を開始する（ステップＳ１０４）。続いて、電流調整方法は、終点検出部６８によって終点検出を実行する（ステップＳ１０５）。

　続いて、電流調整方法は、終点検出部６８によって終点検出が正常に行われたか否かを判定部６２によって判定する（ステップＳ１０６）。例えば、判定部６２は、所定時間を経過しても終点検出が行われなかった場合には、終点検出が正常に行われなかったと判定する。

　判定部６２は、終点検出部６８によって終点検出が正常に行われたと判定した場合には（ステップＳ１０６，Ｙｅｓ）、処理を終了する。

　一方、判定部６２は、終点検出部６８によって終点検出が正常に行われなかったと判定した場合には（ステップＳ１０６，Ｎｏ）、実行中の研磨プロセスの研磨条件を特定の研磨条件として例えば記憶部６６に保存して（ステップＳ１０７）、処理を終了する。すなわち、この研磨プロセスにおける研磨条件は電流制御パラメータの調整対象として登録されることになる。したがって、次回以降にこの研磨条件で研磨プロセスが実行される際には、電流制御パラメータの調整が行われる。また、例えば、ステップＳ１０３において電流制御パラメータの調整を行ったとしても、調整が不十分である場合には終点検出が正常に行われないことがある。この場合には、次回この研磨条件で研磨プロセスが実行される際には、前回の調整よりも大きく電流制御パラメータを調整する。例えば、速度補償器１０４におけるフィードバック制御の制御ゲインの増加量を前回の調整における増加量よりも大きくする。

　また、図９は、第１，第２実施形態の研磨装置による電流調整方法のフローチャートである。図９は、研磨プロセスが複数の工程を有する場合の電流調整方法のフローチャートである。図９は、一例として、研磨プロセスが、第１の研磨レートで半導体ウエハ１８を研磨する第１工程と、第１の工程の後に、第１の研磨レートより小さい第２の研磨レートで半導体ウエハ１８を研磨する第２工程と、を含む場合を示している。なお、複数の工程を含む研磨プロセスは、この例に限らず任意に選択することができる。また、電流制御パラメータを調整する工程についても、この例に限らず任意に選択することができる。

　電流調整方法は、まず、複数工程を含む研磨プロセスの研磨レシピを設定する（ステップＳ２０１）。続いて、電流調整方法は、第１の研磨レートにて半導体ウエハ１８の研磨を開始する（ステップＳ２０２）。続いて、電流調整方法は、あらかじめ設定された時間が経過したか否かを判定する（ステップＳ２０３）。電流調整方法は、あらかじめ設定された時間が経過していないと判定した場合には（ステップＳ２０３，Ｎｏ）、ステップＳ２０２に戻る。

　一方、電流調整方法は、あらかじめ設定された時間が経過したと判定した場合には（ステップＳ２０３，Ｙｅｓ）、第２工程の研磨条件（例えば、半導体ウエハ１８の種類及び研磨レシピの種類の組み合わせ）が特定の研磨条件と一致するか否かを判定する（ステップＳ２０４）。例えば、研磨装置の作業員によってこの判定を行ってもよいし、判定部６２が記憶部６６に格納されている特定の研磨条件に基づいて判定することもできる。

　第２工程の研磨条件が特定の研磨条件と一致すると判定した場合には（ステップＳ２０４，Ｙｅｓ）、調整部６４は、モータドライバ１００の電流制御パラメータを調整する（ステップＳ２０５）。

　一方、第２工程の研磨条件が特定の研磨条件と一致しないと判定した場合には（ステップＳ２０４，Ｎｏ）、モータドライバ１００の電流制御パラメータの調整は行われない。

　続いて、電流調整方法は、第２の研磨レートにて半導体ウエハ１８の研磨を開始する（ステップＳ２０６）。続いて、電流調整方法は、終点検出部６８によって終点検出を実行する（ステップＳ２０７）。

　続いて、電流調整方法は、終点検出部６８によって終点検出が正常に行われたか否かを判定部６２によって判定する（ステップＳ２０８）。例えば、判定部６２は、所定時間を経過しても終点検出が行われなかった場合には、終点検出が正常に行われなかったと判定する。

　判定部６２は、終点検出部６８によって終点検出が正常に行われたと判定した場合には（ステップＳ２０８，Ｙｅｓ）、処理を終了する。

　一方、判定部６２は、終点検出部６８によって終点検出が正常に行われなかったと判定した場合には（ステップＳ２０８，Ｎｏ）、実行中の研磨プロセスの第２工程の研磨条件を特定の研磨条件として例えば記憶部６６に保存して（ステップＳ２０９）、処理を終了する。

　以上のように、第１，第２実施形態の研磨装置及び電流調整方法によれば、特定の研磨条件でのみ電流制御パラメータを調整する。したがって、通常の電流制御パラメータの設定で終点検出を行うことができる研磨条件の場合には、電流制御パラメータは調整されないので、既存の研磨レシピ等に影響を与えることはない。また、第１，第２実施形態の研磨装置及び電流調整方法によれば、研磨プロセスの研磨条件が特定の研磨条件と一致すると判定された場合には、モータドライバ１００における電流制御パラメータを調整することによって、第１の電動モータ１４又は第２の電動モータ２２の駆動負荷が変化した場合の駆動電流の変化を大きくすることができる。その結果、第１，第２実施形態の研磨装置及び電流調整方法によれば、既存の研磨レシピを変更することなくトルク電流の変化を良好に検出することができるので、研磨終点検出の精度が向上し、終点検出部６８は、駆動電流の変化に基づいて終点検出を適切に行うことができる。

　次に、本発明の別の実施形態に係る研磨装置を図面に基づいて説明する。始めに、研磨装置の基本構成について説明し、その後、研磨対象物の研磨終点の検出について説明する。前記の実施例と重複する部分については説明を省略する。

　図１０は、本実施形態に係る研磨装置１００ａの基本構成を示す図である。研磨装置１００ａは、研磨パッド１０を上面に取付け可能な研磨テーブル１２と、研磨テーブル１２を回転駆動する第１の電動モータ１４と、半導体ウエハ（研磨対象物）１８を保持可能なトップリング（保持部）２０と、トップリング２０を回転駆動する第２の電動モータ２２と、を備えている。

　なお、本実施例は、３相モータ以外の２相モータ、５相モータ等に適用できる。また、ＡＣサーボモータ以外の、例えば、ＤＣブラシレス形モータにも適用することができる。

　また、研磨装置１００ａは、第１の電動モータ１４を回転駆動するモータドライバ１６を備える。なお、図１０は、第１の電動モータ１４を回転駆動するモータドライバ１６のみを図示するが、第２の電動モータ２２にも同様のモータドライバが接続される。モータドライバ１６は、Ｕ相、Ｖ相、Ｗ相それぞれについて交流電流を出力し、この３相交流電流によって第１の電動モータ１４を回転駆動する。

　研磨装置１００ａは、モータドライバ１６が出力する３相交流電流を検出する電流検出部２４と、電流検出部２４によって検出された３相の電流検出値を整流し、整流された３相の信号を加算して出力する整流演算部２８と、整流演算部２８の出力の変化に基づいて、半導体ウエハ１８の表面の研磨終了を示す研磨終点を検出する終点検出部２９とを有する。本実施例の整流演算部２８は、３相の信号を加算する処理のみを行うが、加算したのちに乗算を行ってもよい。また、乗算のみを行ってもよい。

　電流検出部２４は、モータドライバ１６が出力する３相交流電流を検出するために、Ｕ相、Ｖ相、Ｗ相の各相に、電流センサ３１ａ、３１ｂ、３１ｃを備える。電流センサ３１ａ、３１ｂ、３１ｃはそれぞれ、モータドライバ１６と第１の電動モータ１４との間のＵ相、Ｖ相、Ｗ相の電流路に設けられる。電流センサ３１ａ、３１ｂ、３１ｃはそれぞれ、Ｕ相、Ｖ相、Ｗ相の電流を検出し、整流演算部２８へ出力する。なお、電流センサ３１ａ、３１ｂ、３１ｃは、図示しないモータドライバと第２の電動モータ２２との間のＵ相、Ｖ相、Ｗ相の電流路に設けてもよい。

　電流センサ３１ａ、３１ｂ、３１ｃは、本実施例では、ホール素子センサである。各ホール素子センサは、Ｕ相、Ｖ相、Ｗ相の電流路にそれぞれ設けられ、Ｕ相、Ｖ相、Ｗ相の各電流に比例した磁束を、ホール効果によりホール電圧３２ａ、３２ｂ、３２ｃに変換して出力する。

　電流センサ３１ａ、３１ｂ、３１ｃは、電流を計測できる他の方式のものでもよい。たとえば、Ｕ相、Ｖ相、Ｗ相の電流路にそれぞれ設けられたリング状のコア（一次巻線）に巻かれた二次巻線により電流を検出する、電流トランス方式でもよい。この場合、出力電流を負荷抵抗に流すことで電圧信号として検出することができる。

　整流演算部２８は、複数個の電流センサ３１ａ、３１ｂ、３１ｃの出力を整流し、整流された信号を加算する。終点検出部２９は、整流演算部２８の出力を処理する処理部２３０と、処理部２３０の出力の実効値変換を行う実効値変換器４８と、研磨終点の判断等を行う制御部５０とを有する。整流演算部２８と終点検出部２９の詳細を図１１～４により説明する。図１１は、整流演算部２８と終点検出部２９の詳細を示すブロック図である。図１２、４は、整流演算部２８と終点検出部２９による信号処理の内容を示すグラフである。

　整流演算部２８は、複数個の電流センサ３１ａ、３１ｂ、３１ｃの出力電圧３２ａ、３２ｂ、３２ｃを入力されて整流する整流部３４ａ、３４ｂ、３４ｃと、整流された信号３６ａ、３６ｂ、３６ｃを加算する演算部３８とを有する。加算により電流値が大きくなるため、検出精度が向上する。なお、実施例の説明では、信号線と当該信号線を流れる信号に対して、同じ参照符号を付す。

　加算する出力電圧３２ａ、３２ｂ、３２ｃは、本実施例では、３相分であるが、本発明はこれに限られない。例えば、２相分を加算してもよい。また、第１の電動モータ２２の３相分、又は２相分を加算して、これを用いて、終点検出を行ってもよい。さらに、第１の電動モータ１４の１個以上の相と、第２の電動モータ２２の１個以上の相とを加算してもよい。

　図１２（ａ）は、電流センサ３１ａ、３１ｂ、３１ｃの出力電圧３２ａ、３２ｂ、３２ｃを示す。図１２（ｂ）は、整流部３４ａ、３４ｂ、３４ｃがそれぞれ整流して出力した電圧信号３６ａ、３６ｂ、３６ｃを示す。図１２（ｃ）は、演算部３８が、加算して出力した信号３８ａを示す。これらのグラフの横軸は時間であり、縦軸は電圧である。

　処理部２３０は、整流演算部２８の出力３８ａを増幅する増幅部４０と、整流演算部２８の出力から所定量を減算するオフセット部（減算部）４２と、整流演算部２８の出力３８ａに含まれるノイズを除去するフィルタ（ノイズ除去部）４４と、ノイズ除去部でノイズを除去された信号をさらに増幅する第２の増幅部４６を有する。処理部２３０では、増幅部４０で増幅された信号４０ａを、オフセット部４４で減算し、減算された信号４２ａからフィルタ４４でノイズを除去する。

　図１２（ｄ）は、増幅部４０が、増幅して出力した信号４０ａを示す。図１３（ａ）は、オフセット部４２が、信号４０ａから減算して出力した信号４２ａを示す。図１３（ｂ）は、フィルタ４４が、信号４２ａに含まれるノイズを除去して出力した信号４４ａを示す。図１３（ｃ）は、第２の増幅部４６が、ノイズが除去された信号４４ａをさらに増幅して出力した信号４６ａを示す。これらのグラフの横軸は時間であり、縦軸は電圧である。

　増幅部４０は、整流演算部２８の出力３８ａの振幅を制御するものであり、所定量の増幅率で増幅して、振幅を大きくする。オフセット部４２は、摩擦力が変化しても変化しない一定量の電流部分（バイアス）を除去することにより、摩擦力の変化に依存する電流部分を取り出して処理する。これにより、摩擦力の変化から終点を検出する終点検出法の精度が向上する。

　オフセット部４２は、増幅部４０が出力した信号４０ａのうち削除すべき量だけ減算を行う。検出される電流は通常、摩擦力の変化にともなって変化する電流部分と、摩擦力が変化しても変化しない一定量の電流部分（バイアス）を含む。このバイアスが削除すべき量である。バイアスを除去することにより、摩擦力の変化に依存する電流部分のみを取り出して、後段にある実効値変換器４８の入力範囲に合わせて、最大の振幅まで増幅することが可能になり、終点検出の精度が向上する。

　フィルタ４４は、入力された信号４２ａに含まれる不要なノイズを低減するものであり、通常、ローパスフィルタである。フィルタ４４は、例えば、モータの回転数より低い周波数成分のみを通すフィルタである。終点検出では、直流成分のみがあれば終点検出ができるからである。モータの回転数より低い周波数成分を通すバンドパスフィルタでもよい。この場合も終点検出ができるからである。

　第２の増幅部４６は、後段にある実効値変換器４８の入力範囲に合わせて、振幅の調整を行うためのものである。実効値変換器４８の入力範囲に合わせる理由は、実効値変換器４８の入力レンジは無限ではなく、かつ、できるだけ振幅は大きいことが望ましいからである。なお、実効値変換器４８の入力レンジを大きくすると、変換後の信号をA/Dコンバータにより、アナログ／デジタル変換する際の分解能が悪化する。これらの理由から第２の増幅部４６により、実効値変換器４８への入力範囲を最適に保つ。

　第２の増幅部４６の出力４６ａは、実効値変換器４８へ入力される。実効値変換器４８は、交流電圧の１周期における平均、すなわち、交流電圧に等しい直流電圧を求めるものである。実効値変換器４８の出力４８ａを図１３（ｄ）に示す。このグラフの横軸は時間であり、縦軸は電圧である。

　実効値変換器４８の出力４８ａは、制御部５０に入力される。制御部５０は、出力４８ａに基づいて、終点検出を行う。制御部５０は、以下の条件のいずれかが満たされた場合等の、あらかじめ設定された条件を満たした場合に、半導体ウエハ１８の研磨が終点に達したと判定する。すなわち、出力４８ａがあらかじめ設定されたしきい値より大きくなった場合、もしくは、あらかじめ設定されたしきい値より小さくなった場合、もしくは、出力４８ａの時間微分値が所定の条件を満たした場合に、半導体ウエハ１８の研磨が終点に達したと判定する。

　本実施例の効果を、１相の電流のみを用いている比較例と対比して説明する。図１４は、比較例の終点検出法を示すブロック図及びグラフである。図１４に示すグラフは、検出法の原理を示すことを目的とするため、図示する信号は、ノイズがない場合の信号を示す。これらのグラフの横軸は時間であり、縦軸は電圧である。比較例では、１相の電流のみを用いているため、加算という処理はない。また、減算という処理も行っていない。図１１と図１４において、ホール素子センサ３１ａとホール素子センサ５２、整流部３４ａと整流部５４、実効値変換器４８と実効値変換器５６は、それぞれ同等の性能を有するものとする。

　比較例では、ホール素子センサ５２は、１個であり、例えばＵ相の電流路に設けられ、Ｕ相の電流に比例した磁束を、ホール電圧５２ａに変換して信号線５２ａに出力する。図１４（ａ）にホール電圧５２ａを示す。ホール素子センサ５２の出力電圧５２ａを入力されて整流部５４は整流して、信号５４ａとして出力する。整流は、半波整流又は全波整流である。半波整流した場合の信号５４ａを図１４（ｃ）に、全波整流した場合の信号５４ａを図１４（ｄ）に示す。

　出力５４ａは、実効値変換器５６へ入力される。実効値変換器５６は、交流電圧の１周期における平均を求める。実効値変換器５６の出力５６ａを図１４（ｅ）に示す。実効値変換器５６の出力５６ａは、終点検出部５８に入力される。終点検出部５８は、出力５６ａに基づいて、終点検出を行う。

　比較例の処理結果と本実施例の処理結果を、比較して図１５に示す。図１５Ａは、比較例の実効値変換器５６の出力５６ａを示すグラフであり、図１５Ｂは、本実施例の実効値変換器４８の出力４８ａを示すグラフである。グラフの横軸は時間、縦軸は、実効値変換器の出力電圧を、対応する駆動電流に換算して示したものである。図１５より、本実施例により、電流の変化が大きくなっていることがわかる。図１５におけるレンジＨＴは、実効値変換器４８、５６の入力可能レンジを示す。比較例のレベル２６０ａが、本実施例のレベル２６２ａに対応し、比較例のレベル２６０ｂが、本実施例のレベル２６２ｂに対応する。

　比較例では、駆動電流５６ａの変化レンジＷＤ（＝レベル２６０ａ－レベル２６０ｂ）が、入力可能レンジＨＴより、かなり小さい。本実施例では、駆動電流４８ａの変化レンジＷＤ１（＝レベル２６０ａ－レベル２６０ｂ）が、入力可能レンジＨＴとほぼ等しくなるように、駆動電流４８ａが処理部２３０により処理されている。この結果、駆動電流４８ａの変化レンジＷＤ１が、比較例の変化レンジＷＤよりもかなり大きくなっている。本実施例では、トルク電流の変化が小さい場合でもトルク電流の変化を良好に検出し、研磨終点検出の精度が向上している。

　比較例と本実施例との処理の結果を、比較した別のグラフを図１６に示す。図１６は、比較例の実効値変換器５６の出力５６ａと、本実施例の実効値変換器４８の出力４８ａを示すグラフである。グラフの横軸は時間、縦軸は、実効値変換器の出力電圧を、対応する駆動電流に換算して示したものである。本図は、図１５とは、研磨対象物が異なる。図１６は、研磨の開始時点ｔ１から研磨終了時点ｔ３までに、実効値変換器の出力電圧がどのように変化するかを示す。

　本図から明らかなように、本実施例の実効値変換器４８の出力４８ａの変化量は、比較例の実効値変換器５６の出力５６ａの変化量より大きい。出力４８ａと出力５６ａは、時刻ｔ１で、ともに最低値２６４ａ，２６６ａを取り、時刻ｔ２で、ともに最高値２６４ｂ，２６６ｂを取る。実効値変換器４８の出力４８ａの変化量２６８（＝２６４ｂ－２６４ａ）は、比較例の実効値変換器５６の出力５６ａの変化量２７０（＝２６６ｂ－２６６ａ）より、かなり大きい。なお、ピーク値２７２ａ，２７２ｂは、最高値２６４ｂ，２６６ｂより大きい電流値を示すが、ピーク値２７２ａ，２７２ｂは、研磨が安定するまでの初期段階で発生するノイズのようなものである。

　図１６に示す変化量２６８、２７０は、半導体ウエハ１８が、トップリング２０が第２の電動モータ２２によって回転駆動されている状態で研磨パッド１０に押圧されるときの圧力に依存する。変化量２６８、２７０は、この圧力が大きいほど大きくなる。これを図１７に示す。図１７は、比較例の出力５６ａの変化量２７０と、本実施例の出力４８ａの変化量２６８の、半導体ウエハ１８に加わる圧力に対する変化を示すグラフである。グラフの横軸は、半導体ウエハ１８に加わる圧力、縦軸は、実効値変換器の出力電圧を、対応する駆動電流に換算して示したものである。曲線２７４は、本実施例の出力４８ａの変化量２６８を、圧力に対してプロットしたものである。曲線２７６は、比較例の出力５６ａの変化量２７０を、圧力に対してプロットしたものである。圧力０のとき、すなわち、研磨を行っていないときは、電流は０である。本図から明らかなように、本実施例の実効値変換器４８の出力４８ａの変化量２６８は、比較例の実効値変換器５６の出力５６ａの変化量２７０より大きく、曲線２７４と曲線２７６の差は、圧力が大きくなるほど顕著である。

　次に、制御部５０による増幅部４０と、オフセット部４２と、フィルタ４４と、第２の増幅部４６の制御について説明する。制御部５０は、増幅部４０の増幅特性（増幅率や周波数特性等）、フィルタ４４のノイズ除去特性（信号の通過帯域や減衰量等）、オフセット部４２の減算特性（減算量や周波数特性等）、及び第２の増幅部４６の増幅特性（増幅率や周波数特性等）を制御する。

　具体的な制御方法は、以下のとおりである。上記各部を制御するために各部の特性を変更する場合、制御部５０は、回路特性の変更指示を示すデータをデジタル通信（ＵＳＢ（Universal Serial Bus（ユニバーサル・シリアル・バス））、ＬＡＮ（Local Area Network（ローカル・エリア・ネットワーク））、ＲＳ－２３２等）により、上記の各部に送信する。

　データを受信した各部は、データに従って、特性に関する設定を変更する。変更方法は、各部のアナログ回路を構成する抵抗の抵抗値、コンデンサの容量値、インダクタのインダクタンス等の設定を変更する。具体的な変更方法としては、アナログＳＷにて抵抗等を切替える。又は、ＤＡコンバータによって、デジタル信号をアナログ信号に変換した後、アナログ信号によって複数の抵抗等の切替や、小型モータによる可変抵抗等を回転させて、設定を変更する。複数の回路をあらかじめ設けておき、複数の回路を切り替える方式も可能である。

　送信するデータの内容は、種々可能である。例えば、番号を送信し、受信した各部が、受信した番号に従って、当該番号に対応する抵抗等を選択する、又は、抵抗値やインダクタンスの大きさに対応した値を送信して、その値に合わせて抵抗値やインダクタンスの大きさを詳細に設定する方式がある。

　デジタル通信以外の方法も可能である。例えば、制御部５０と、増幅部４０、オフセット部４２、フィルタ４４、第２の増幅部４６とを直結する信号線を設け、当該信号線により、各部内の抵抗等を切り替える方式も可能である。

　制御部５０によって、各部が設定される一例を図１８により説明する。図１８は、増幅部４０、オフセット部４２、フィルタ４４、第２の増幅部４６の設定の一例を示す。この例においては、実効値変換部４８の入力レンジが、0A（アンペア）から100A、すなわち100Aである。整流演算部２８の出力信号３８ａの波形の最大値が20A、最小値が10Aである。すなわち整流演算部２８の出力信号３８ａの変化幅(振幅)が10A(＝20A-10A)以内、信号３８ａの下限値が10Aである。

　このような場合、出力信号３８ａの変化分の振幅が10Aであり、実効値変換部４８の入力レンジが100Aであるため、増幅部４０の増幅率の設定値２７８ａは、10倍(＝100A/10A)と設定される。増幅の結果、出力信号３８ａの波形の最大値２７８ｂは200A、最小値２７８ｃは100Aとなる。

　オフセット部４２での減算量は、信号３８ａの下限値である10Aが、増幅部４０により増幅されて、100Aになるため、100Aを減算することになる。従って、オフセット部４２での減算量の設定値２７８ｄは、-100Aとなる。減算の結果、出力信号３８ａの波形の最大値２７８ｅは100A、最小値２７８ｆは0Aとなる。

　図１８の例では、フィルタ４４に関しては、初期設定の状態から変更しないため、設定値２７８gは空白としている。フィルタ処理の結果、出力信号３８ａの波形の最大値２７８ｈは、フィルタ特性に従った100Aより低い値に減衰され、出力信号３８ａの波形の最小値２７８ｉは0Aである。図１８の場合、フィルタ４４は、入力が0Aのときは、出力を0Aに保持する特性を有するからである。第２の増幅部４６は、フィルタ４４により減衰した分を補正することを目的としている。第２の増幅部４６の増幅率の設定値２７８ｊは、フィルタ４４により減衰した分を補正できる値に設定される。第２の増幅の結果、出力信号３８ａの波形の最大値２７８ｋは100A、最小値２７８ｌは0Aとなる。

　次に、制御部５０による各部の制御の一例を図１９により、さらに説明する。図１９は、制御部５０による各部の制御の一例を示すフローチャートである。制御部５０は、研磨開始時に、研磨レシピ(押圧力分布や研磨時間などの基板表面に対する研磨条件を定めたもの)に関する情報を、研磨装置１００ａの操作者、又は、図示しない研磨装置１００ａの管理装置から入力される(ステップ１０)。

　研磨レシピを使用する理由は以下のとおりである。複数の半導体ウエハ等の基板に対する多段研磨プロセスを連続して行うとき、研磨前、又は各段の研磨プロセス間、又は研磨後に各基板表面の膜厚等の表面状態を計測する。計測によって得られた値をフィードバックして、次の基板や任意の枚数目後の研磨レシピを最適に修正（更新）するためである。

　研磨レシピの内容は、以下のとおりである。（１）制御部５０が増幅部４０と、オフセット部４２と、フィルタ４４と、第２の増幅部４６の設定を変更するかどうかに関する情報。変更する場合は、各部との通信設定を有効にする。一方、変更しない場合は、各部との通信設定を無効にする。通信設定が無効の場合には、各部は、デフォルトで設定されている値を有効にする。（２）実効値変換部４８の入力レンジに関する情報。（３）整流演算部２８の出力信号３８ａの変化幅(振幅)を最大値と最小値で示す情報、又は変化幅で示す情報。この情報は、トルクレンジともよばれる。（４）フィルタ４４の設定に関する情報。例えば、図１８の場合は、デフォルトに設定される。（５）研磨情報、例えば、テーブルの回転数に関する情報を制御に反映するかどうかに関する情報。

　次に、制御部５０は、研磨情報を制御に反映するかどうかに関する研磨レシピの情報に従って、反映する設定になっている場合は、図示しない研磨装置１００ａの管理装置から研磨テーブル１２及びトップリング２０の回転数、トップリング２０による圧力を受信する(ステップ１２)。これらの情報を受信する理由は、圧力、テーブル回転数、テーブル回転数とトップリング回転数の回転数比の影響によるリップルが生じることがあり、リップル周波数に合わせたフィルタ設定を行う必要があるからである。

　次に、制御部５０は、通信設定が有効になっている場合、研磨レシピ及び、ステップ１２で受信した情報に従って、増幅部４０と、オフセット部４２と、フィルタ４４と、第２の増幅部４６の設定値を決定する。決定した設定値をデジタル通信により、各部に送信する(ステップ１４)。通信設定が無効になっている場合、増幅部４０と、オフセット部４２と、フィルタ４４と、第２の増幅部４６では、デフォルトの設定値が設定される。

　各部での設定が終了した後、研磨が開始され、研磨中は、制御部５０は、実効値変換器４８からの信号を受信して、研磨終点の判断を継続して行う(ステップ１６)。

　制御部５０は、実効値変換器４８からの信号に基づいて、研磨終点の判断を行った場合、図示しない研磨装置１００ａの管理装置に研磨終点を検出したことを送信する。管理装置は、研磨を終了させる(ステップ１８)。研磨終了後、増幅部４０と、オフセット部４２と、フィルタ４４と、第２の増幅部４６では、デフォルトの設定値が設定される。

　本実施例によれば、３相のデータを整流して加算し、さらに、波形増幅を行っているため、トルク変化に伴う電流の出力差が大きくなるという効果がある。また、増幅部等の特性を変更できるため、更に出力差を大きくすることができる。フィルタを使用しているため、ノイズが小さくなる。

１０　研磨パッド
１２　研磨テーブル
１４　第１の電動モータ（駆動部）
１８　半導体ウエハ（研磨対象物）
２０　トップリング（保持部）
２２　第２の電動モータ（駆動部）
３１　電流センサ（電流検出部）
６０　終点検出装置
６２　判定部
６４　調整部
６６　記憶部
６８　終点検出部
１００　モータドライバ
１０４　速度補償器
２００　入力部

Claims

　研磨パッドを保持するための研磨テーブル、又は、研磨対象物を保持して研磨パッドへ押圧するための保持部、を回転駆動するための駆動部へ供給する駆動電流に基づく終点検出方法であって、
　実行する研磨プロセスの研磨条件があらかじめ設定された特定の研磨条件と一致するか否かを判定する第１判定ステップと、
　前記第１判定ステップによって前記研磨条件が前記特定の研磨条件と一致すると判定された場合に、前記駆動電流を制御するための駆動制御部における、前記駆動部の駆動負荷の変化に対する前記駆動電流の変化に関する電流制御パラメータを調整する調整ステップと、
　前記調整ステップによって調整された電流制御パラメータに基づいて前記駆動部へ供給される駆動電流を検出する検出ステップと、
　前記検出ステップによって検出された駆動電流に基づいて研磨の終点を検出する終点検出ステップと、
　を備えることを特徴とする終点検出方法。
　請求項１の終点検出方法において、
　研磨プロセスの実行中に前記検出ステップによって検出された駆動電流に基づいて、前記実行中の研磨プロセスの研磨条件を前記特定の研磨条件に加えるか否かを判定する第２判定ステップ、
　をさらに備える終点検出方法。
　請求項２の終点検出方法において、
　前記第２判定ステップは、前記駆動部の駆動負荷が変化した際に前記検出ステップによって検出された駆動電流の変化がしきい値よりも小さい場合に、前記実行中の研磨プロセスの研磨条件を前記特定の研磨条件に加える、
　終点検出方法。
　請求項２の終点検出方法において、
　前記終点検出ステップは、前記検出ステップによって検出された駆動電流の変化に基づいて研磨の終点を検出し、
　前記第２判定ステップは、前記終点検出ステップによって研磨の終点が検出されなかった場合に、前記実行中の研磨プロセスの研磨条件を前記特定の研磨条件に加える、
　終点検出方法。
　請求項１～４のいずれか１項の終点検出方法において、
　前記調整ステップは、前記駆動部の駆動負荷の変化に対して前記駆動電流の変化が大きくなるように、前記電流制御パラメータを調整する、
　終点検出方法。
　請求項１～５のいずれか１項の終点検出方法において、
　前記駆動制御部が、前記研磨テーブル又は前記保持部の実回転速度と目標回転速度との偏差に基づいて前記駆動電流を制御する場合において、
　前記調整ステップは、前記偏差に基づく制御における制御ゲインを大きくする、
　終点検出方法。
　請求項１～６のいずれか１項の終点検出方法において、
　前記研磨プロセスが複数の工程を含む場合に、
　前記調整ステップは、前記複数の工程のうちの一部の工程において前記電流制御パラメータを調整する、
　終点検出方法。
　請求項１～７のいずれか１項の終点検出方法において、
　前記研磨条件は、研磨対象物の種類、研磨レシピの種類、研磨パッドの種類、及び研磨砥液の種類、の少なくとも１つを含む、
　終点検出方法。
　研磨パッドを保持するための研磨テーブル、又は、研磨対象物を保持して研磨パッドへ押圧するための保持部、を回転駆動するための駆動部と、
　前記駆動部へ供給する駆動電流を制御するための駆動制御部と、
　実行する研磨プロセスの研磨条件があらかじめ設定された特定の研磨条件と一致する場合に、前記駆動制御部における、前記駆動部の駆動負荷の変化に対する前記駆動電流の変化に関する電流制御パラメータを調整する調整部と、
　を備えることを特徴とする研磨装置。
　請求項９の研磨装置において、
　実行する研磨プロセスの研磨条件があらかじめ設定された特定の研磨条件と一致するか否かを判定する判定部、をさらに備え、
　前記調整部は、前記判定部によって、前記研磨プロセスの研磨条件が前記特定の研磨条件と一致すると判定された場合に、前記駆動制御部における前記電流制御パラメータを調整する、
　研磨装置。
　請求項１０の研磨装置において、
　研磨プロセスの実行中に前記駆動制御部から前記駆動部へ供給される駆動電流を検出する電流検出部、をさらに備え、
　前記判定部は、前記電流検出部によって検出された駆動電流に基づいて、前記実行中の研磨プロセスの研磨条件を前記特定の研磨条件に加えるか否かを判定する、
　研磨装置。
　請求項１１の研磨装置において、
　前記判定部は、前記駆動部の駆動負荷が変化した際に前記電流検出部によって検出された駆動電流の変化がしきい値よりも小さい場合に、前記実行中の研磨プロセスの研磨条件を前記特定の研磨条件に加える、
　研磨装置。
　請求項１１の研磨装置において、
　前記電流検出部によって検出された駆動電流の変化に基づいて研磨の終点を検出する終点検出部をさらに備え、
　前記判定部は、前記終点検出部によって研磨の終点が検出されなかった場合に、前記実行中の研磨プロセスの研磨条件を前記特定の研磨条件に加える、
　研磨装置。
　請求項９～１３のいずれか１項の研磨装置において、
　前記調整部は、前記駆動部の駆動負荷の変化に対して前記駆動電流の変化が大きくなるように、前記電流制御パラメータを調整する、
　研磨装置。
　請求項９～１４のいずれか１項の研磨装置において、
　前記駆動制御部は、前記研磨テーブル又は前記保持部の実回転速度と目標回転速度との偏差に基づいて前記駆動電流を制御し、
　前記調整部は、前記偏差に基づく制御における制御ゲインを大きくする、
　研磨装置。
　請求項９～１５のいずれか１項の研磨装置において、
　前記研磨プロセスが複数の工程を含む場合に、
　前記調整部は、前記複数の工程のうちの一部の工程において前記電流制御パラメータを調整する、
　研磨装置。
　請求項９～１６のいずれか１項の研磨装置において、
　前記研磨条件は、研磨対象物の種類、研磨レシピの種類、研磨パッドの種類、及び研磨砥液の種類、の少なくとも１つを含む、
　研磨装置。
　研磨対象物の表面を研磨するための研磨装置であって、
　研磨パッドを保持するための研磨テーブルを回転駆動する第１の電動モータと、
　前記研磨対象物を保持して前記研磨パッドへ押圧するための保持部を回転駆動する第２の電動モータとを有し、
　前記第１及び第２の電動モータのうち少なくとも一方の電動モータは、複数相の巻線を備え、
　前記研磨装置は、前記第１及び／又は第２の電動モータのうちの少なくとも２相の電流を検出する電流検出部と、
　前記電流検出部によって検出された少なくとも２相の電流検出値を整流し、整流された信号に対して加算及び／又は乗算を行って出力する整流演算部と、
　前記整流演算部の出力の変化に基づいて、前記研磨対象物の表面の研磨終了を示す研磨終点を検出する終点検出部と、
　を有することを特徴とする研磨装置。
　請求項１８において、前記終点検出部は、前記整流演算部の出力を増幅する増幅部と、前記整流演算部の出力に含まれるノイズを除去するノイズ除去部と、前記整流演算部の出力から所定量を減算する減算部のうち、少なくとも１つを有する、ことを特徴とする研磨装置。
　請求項１９に記載の研磨装置において、前記終点検出部は、前記増幅部と前記減算部と前記ノイズ除去部とを有し、前記増幅部で増幅された信号を前記減算部で減算し、該減算された信号から前記ノイズ除去部でノイズを除去する、ことを特徴とする研磨装置。
　請求項２０の研磨装置において、前記終点検出部では、前記ノイズ除去部でノイズを除去された信号をさらに増幅する第２の増幅部を有する、ことを特徴とする研磨装置。
　請求項１９に記載の研磨装置において、前記終点検出部は、前記増幅部と、前記増幅部の増幅特性を制御する制御部とを有する、ことを特徴とする研磨装置。
　請求項１９に記載の研磨装置において、前記終点検出部は、前記ノイズ除去部と、前記ノイズ除去部のノイズ除去特性を制御する制御部とを有する、ことを特徴とする研磨装置。
　請求項１９に記載の研磨装置において、前記終点検出部は、前記減算部と、前記減算部の減算特性を制御する制御部とを有する、ことを特徴とする研磨装置。
　請求項２１に記載の研磨装置において、前記終点検出部は、前記第２の増幅部の増幅特性を制御する制御部を有する、ことを特徴とする研磨装置。
　研磨パッドを保持するための研磨テーブルを回転駆動する第１の電動モータと、研磨対象物を保持して前記研磨パッドへ押圧するための保持部を回転駆動する第２の電動モータとを有し、前記第１及び第２の電動モータのうち少なくとも一方の電動モータは、複数相の巻線を有する研磨装置を用いた、前記研磨対象物の表面を研磨する研磨方法において、該方法は、
　前記第１及び／又は第２の電動モータのうちの少なくとも２相の電流を検出する電流検出ステップと、
　前記検出された少なくとも２相の電流検出値を整流し、整流された信号に対して加算及び／又は乗算を行って出力する整流演算ステップと、
　前記整流演算ステップの出力の変化に基づいて、前記研磨対象物の表面の研磨終了を示す研磨終点を検出する終点検出ステップとを有する、ことを特徴とする研磨方法
　請求項２６の研磨方法において、前記終点検出ステップは、前記整流演算ステップの出力を増幅する増幅ステップと、前記整流演算ステップの出力に含まれるノイズを除去するノイズ除去ステップと、前記整流演算ステップの出力から所定量を減算する減算ステップのうち、少なくとも１つを有する、ことを特徴とする研磨方法
　請求項２７に記載の研磨方法において、前記終点検出ステップでは、前記増幅ステップにおいて増幅された信号に対して、前記減算ステップにおいて所定量の減算を行い、該減算された信号から前記ノイズ除去ステップにおいてノイズを除去する、ことを特徴とする研磨方法。
　請求項２８の研磨方法において、前記終点検出ステップは、前記ノイズ除去ステップでノイズを除去された信号をさらに増幅する第２の増幅ステップをさらに有する、ことを特徴とする研磨方法。