WO2016031559A1 - フレキシブル銅配線板の製造方法、及び、それに用いる支持フィルム付フレキシブル銅張積層板 - Google Patents

フレキシブル銅配線板の製造方法、及び、それに用いる支持フィルム付フレキシブル銅張積層板 Download PDF

Info

Publication number
WO2016031559A1
WO2016031559A1 PCT/JP2015/072753 JP2015072753W WO2016031559A1 WO 2016031559 A1 WO2016031559 A1 WO 2016031559A1 JP 2015072753 W JP2015072753 W JP 2015072753W WO 2016031559 A1 WO2016031559 A1 WO 2016031559A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
film
flexible copper
support film
wiring board
copper wiring
Prior art date
Application number
PCT/JP2015/072753
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
敦 猪狩
Original Assignee
住友金属鉱山株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 住友金属鉱山株式会社 filed Critical 住友金属鉱山株式会社
Priority to CN201580043280.7A priority Critical patent/CN106576428B/zh
Priority to KR1020167035645A priority patent/KR102378236B1/ko
Publication of WO2016031559A1 publication Critical patent/WO2016031559A1/ja

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/04Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B15/08Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/04Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B15/08Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • B32B15/088Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin comprising polyamides
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/04Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B15/08Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • B32B15/09Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin comprising polyesters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J5/00Adhesive processes in general; Adhesive processes not provided for elsewhere, e.g. relating to primers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/20Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/02Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
    • H05K3/06Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process

Definitions

  • the present invention relates to a method for producing a flexible copper wiring board used for a chip-on-film (COF: Chip On Film), a flexible printed wiring board (FPC), and the like, and a flexible film with a support film used therefor. It is related with a copper clad laminated board (FCCL: Flexible Copper Clad Laminate).
  • FCCL Flexible Copper Clad Laminate
  • Resin films have flexibility and are easy to process. Therefore, metal films and oxide films are formed on the surface of resin films, and are widely used in industry for electronic parts, optical parts and packaging materials. For example, flexible wiring boards having flexibility are used in small electronic devices such as mobile phones.
  • a flexible copper-clad laminate having a metal thin film formed on one surface of a resin film is used as a starting material, and an unnecessary portion of the metal thin film is removed by a selective etching process.
  • the method of manufacturing by forming a pattern and passing through a plating process etc. is mentioned.
  • the flexible copper clad laminate is rich in flexibility and flexibility, there is a problem that the handling strength is not sufficient in the state as it is, and there is a problem that the resin film is deformed or cut at the time of transport, and selective etching treatment is performed. Etc. are difficult to perform.
  • the strength of the sprocket hole cannot be sufficiently ensured, and the sprocket hole is deformed at the time of conveyance, and there is a problem that the wiring pattern, the solder resist pattern, and the like cannot be formed with high precision at predetermined positions.
  • a support film is laminated on the surface of the flexible copper-clad laminate on which the metal thin film is not formed via an adhesive layer, and a selective etching process is performed with the handling strength temporarily improved to form a wiring pattern. After that, many production methods for obtaining a flexible copper wiring board by peeling the support film from the metal-clad laminate are adopted.
  • Patent Document 1 proposes an adhesive sheet based on a polyethylene terephthalate (PET) film or the like.
  • PET polyethylene terephthalate
  • the wiring width required in recent years is about 10 ⁇ m or more and 15 ⁇ m or less, and high dimensional stability is strongly required for the flexible copper-clad laminate.
  • the flexible copper-clad laminate to which the support film is not bonded has a small variation per lot although there is some shrinkage due to heating because polyimide or the like is used as a resin substrate. Therefore, measure the sample length of the flexible copper-clad laminate before the etching process and heating process and the flexible copper wiring board after the process in advance, calculate the correlation between the shrinkage ratio before and after the process, and anticipate the shrinkage in advance. By designing the flexible copper-clad laminate, it was possible to accurately form the wiring pattern of the flexible copper wiring board after the process.
  • the present invention has a high dimensional stability of a copper wiring board with a supporting film, even if it includes a copper wiring board forming step with a supporting film, so that the yield is high and the productivity is high. It aims at providing the manufacturing method of a high flexible copper clad laminated board.
  • the present inventors diligently studied the copper wiring board with a support film used in the copper wiring board forming step.
  • a compressive or tensile stress is applied to a resin film such as polyimide used for a flexible copper clad laminate under a high temperature condition
  • the influence of the stress changes in dimensional stability.
  • the support film is in close contact with the resin film, it has been found that if the size of the support film changes greatly under high temperature conditions, the dimensional stability of the resin film itself is affected by the change in the size of the support film.
  • a support film it is a biaxially stretched film, and each of the heat shrinkage ratios after 150 ° C. ⁇ 30 minutes in the stretch direction is 0.1% or less, respectively.
  • the thermal stability of itself increased, the dimensional change rate of the copper clad laminate, which was a problem, was stabilized, and it was found that the correlation before and after the process could be maintained even with a support film, and the present invention was completed. .
  • the first of the present invention is a method for manufacturing a flexible copper wiring board in which a copper wiring is formed on one surface side of a resin film, wherein the copper is laminated on one surface side of the resin film.
  • Flexible using a film having a thermal shrinkage rate of 0.1% or less after 150 ° C. for 30 minutes in each stretching direction of the stretched film A method of manufacturing a wiring board.
  • the second of the present invention is the method for producing a flexible copper wiring board according to the first invention, wherein the support film is a biaxially stretched polyester.
  • the third of the present invention is the method for producing a flexible copper wiring board according to the first or second invention, wherein the resin film is a polyimide film.
  • a fourth aspect of the present invention is the flexible copper wiring according to any one of the first to third aspects, wherein the thickness of the support film is not less than 0.4 times and not more than 3.4 times the thickness of the resin film. It is a manufacturing method of a board.
  • the flexible copper-clad laminate with a support film is measured for an actual measurement value of a dimensional change under a predetermined condition, and the actual measurement value is calculated as a predicted value of a dimensional change of the flexible copper wiring board. It is a manufacturing method of the flexible copper wiring board as described in any one of the 1st to 4th invention further equipped with the dimension change estimation process to perform.
  • a sixth aspect of the present invention is the method for producing a flexible copper wiring board according to the fifth aspect, wherein the predetermined condition is an etching process and / or a heat treatment.
  • a seventh aspect of the present invention is a flexible copper clad laminate in which copper is laminated on one surface side of a resin film, and an adhesive layer on the other surface side of the resin film of the flexible copper clad laminate.
  • a biaxially stretched film is laminated as a support film, and is a flexible copper-clad laminate with a support film, each having a heat shrinkage ratio after 150 ° C. ⁇ 30 minutes in each stretching direction of the biaxially stretched film, It is a flexible copper clad laminated board with a support film which is 0.1% or less.
  • 8th of this invention is the flexible wiring board in which the flexible copper clad laminated board with a support film as described in 7th invention is used.
  • each of the stretching directions of the biaxially stretched film of the support film (MD: Machine Direction, TD: In the Transverse Direction)
  • MD Machine Direction
  • TD In the Transverse Direction
  • the heat shrinkage ratio after 150 ° C. ⁇ 30 minutes is 0.1% or less, respectively, so that the flexible copper wiring board itself has high dimensional stability, high yield, and high productivity. It is a manufacturing method of a flexible copper clad laminated board.
  • the method for producing a flexible copper wiring board according to the present invention includes a flexible copper clad laminate forming step 1 in which copper is laminated on one surface side of a resin film, and the other surface side of the resin film.
  • a flexible copper-clad laminate with support film forming step 2 for laminating a biaxially stretched film as a support film through an adhesive layer, a copper wiring formation step 3 for forming copper wiring by etching copper, and a heating step 4 And the peeling process 5 which peels a support film, Comprising: As a support film, in each extending direction of a biaxially stretched film, the thermal contraction rate after 150 degreeC x 30 minutes , Each of which is 0.1% or less.
  • the manufacturing method of the flexible copper wiring board which concerns on this invention includes the process of laminating
  • the process is, for example, on the resin film by a dry plating method such as a method of vacuum bonding, sputtering, ion plating, or the like by using an adhesive between the resin film and the copper foil.
  • a dry plating method such as a method of vacuum bonding, sputtering, ion plating, or the like by using an adhesive between the resin film and the copper foil.
  • a known method such as a method in which a base metal layer made of a metal other than copper, such as chromium, chromium oxide, or nickel, is formed to a thickness of 50 to 200 mm, and then copper is coated by a dry plating method or a wet plating method. it can.
  • the resin film which can be used for the copper clad laminated board formation process 1 of this invention is a resin film currently used for manufacture of a general flexible circuit board, it can be used without being specifically limited.
  • PET polyethylene terephthalate
  • PEN polyethylene terephthalate
  • polytetrafluoroethylene film polyphenylene sulfide film
  • polyethylene naphthalate film polyethylene naphthalate film
  • liquid crystal polymer film One type of insulating film selected from the group can be used.
  • the thickness of the copper coating layer is preferably in the range of 0.01 ⁇ m to 35 ⁇ m, more preferably in the range of 0.3 ⁇ m to 15 ⁇ m, and still more preferably in the range of 0.3 ⁇ m to 12 ⁇ m. . If the film thickness of the copper coating layer is less than 0.01 ⁇ m, a problem may easily occur in the electrical conductivity of the wiring portion, and a problem in strength may occur. On the other hand, if the film thickness exceeds 35 ⁇ m, hair cracking or warping may occur and adhesion may be reduced, and the influence of side etching may be increased, making narrow pitching difficult.
  • the method for producing a flexible copper wiring board according to the present invention includes a step of laminating a biaxially stretched film as a support film.
  • the said process can be performed from conventionally well-known methods, such as the method of laminating
  • the support film used in the present invention is a biaxially stretched film, and is characterized by using a film having a thermal shrinkage rate of 0.1% or less after 150 ° C. ⁇ 30 minutes in the stretching direction, respectively. Is 0.07% or less, more preferably 0.05% or less.
  • a film that is 0.1% or less as the support film, the resin film is less susceptible to compression or tensile stress due to dimensional changes of the support film under high temperature conditions, so its yield is high and productivity is high.
  • a flexible copper-clad laminate can be produced in a high state.
  • Any material can be used for the supporting film as long as the film has a thermal shrinkage of 0.1% or less after 150 ° C. for 30 minutes in the stretching direction.
  • a flexible copper-clad laminate with a support film wherein the thermal shrinkage after 150 minutes at 30 ° C. in each of the stretching directions of the biaxially stretched film is 0.1% or less, respectively.
  • contraction rate of support film itself is small. Therefore, the impact of compressive or tensile stress caused by the support film on the resin film is small, and the flexible copper-clad laminate with support film is used to produce flexible copper in a high yield and high productivity state.
  • a tension laminate can be manufactured. Therefore, the manufacturing method of the flexible copper clad laminated board with a support film of this invention is very useful.
  • the thickness of the support film can be freely selected from the viewpoint of the handling of the subsequent process of manufacturing the flexible copper wiring board, but is preferably 0.4 to 3.4 times the resin film thickness, and more Preferably they are 0.5 times or more and 1.5 times or less.
  • the method for manufacturing a flexible copper wiring board according to the present invention includes a copper wiring forming step of forming copper wiring by etching copper.
  • the copper wiring forming step of etching to form a copper wiring can be performed by a conventionally known method. For example, a photoresist layer is formed on the conductive metal layer, and this photoresist layer is exposed and developed to form a desired pattern. Next, using the photoresist pattern thus formed as a mask, the exposed conductive metal layer is etched to form a wiring pattern made of a conductive metal layer having a shape substantially similar to the photoresist pattern. Subsequently, after removing and removing the photoresist layer with an alkaline solution or the like, the copper remaining between the wiring patterns can be removed by etching.
  • the manufacturing method of the flexible copper wiring board which concerns on this invention includes the heating process which heats the flexible copper clad laminated board with a support film. For example, heating is performed for drying after applying the photoresist, and after the etching process, the resist is peeled off, tin plating is performed, and then a reflow process for heating to suppress whisker is performed. Further, after the solder resist printing, heating is performed to completely cure the resist.
  • the manufacturing method of the flexible copper wiring board which concerns on this invention includes the peeling process which peels a support film. Since the support film is laminated from the viewpoint of ease of handling in the process of manufacturing a flexible copper wiring board, when shipping as a flexible copper-clad laminate, the support film is finally peeled off. Process.
  • the said peeling process may be made to peel before shipment as a flexible copper clad laminated board, and also includes the case where it can implement
  • the present invention is characterized in that a film having a heat shrinkage ratio of 0.1% or less after 150 ° C. for 30 minutes in each stretching direction of the biaxially stretched film is used as the support film.
  • a dimensional change prediction step is performed in which an actual measurement value of a dimensional change under a predetermined condition is measured, and the actual measurement value is a predicted value of a dimensional change of the flexible copper wiring board. It can also be provided.
  • a dimensional change prediction is performed by measuring an actual measurement value of a dimensional change under a predetermined condition and then predicting a dimensional change of the flexible copper wiring board. If the copper wiring is designed based on the predicted value by further adding a process, it is more useful because quality variation can be improved and yield can be improved.
  • the above-mentioned predetermined condition refers to a process that may affect a change in dimensions of the flexible copper-clad laminate such as an etching process or a heating process.
  • a process that may affect a change in dimensions of the flexible copper-clad laminate such as an etching process or a heating process.
  • the resin film fixed by the copper lamination tends to stretch due to the dissolution of copper and the tension applied to the resin film is lowered. It is in.
  • contracts by a heating process it exists in the tendency for a resin film to shrink by shrinkage
  • Example 1 ⁇ Manufacture of flexible copper clad laminate with support film>
  • a polyimide resin (thickness: 38 ⁇ m, manufactured by Toray DuPont: Kapton 150EN) is laminated on a resin film by sputtering and electroplating to form a polyimide resin (usually CTE (linear expansion coefficient) grade) of 8 ⁇ m.
  • a support film (thickness: 50 ⁇ m improved PET film, heat shrinkage ratio standard of 0.1% or less) was laminated on the surface side with an adhesive to prepare a sample of a flexible copper-clad laminate with a support film.
  • stack a support film was created. The sample length was 156 mm in the MD direction and 160 mm in the TD direction.
  • the etching treatment was performed under the condition that the ferric chloride solution was heated to 40 ° C. and immersed for 20 minutes, and then left standing at 23 ° C. and 50 RH% for 24 hours.
  • the heating test was performed under conditions of 150 ° C. and 30 minutes, and then left at 23 ° C. and 50 RH% for 24 hours.
  • Example 2 The test was performed in the same manner as in Example 1 except that a low CTE grade polyimide resin (thickness: 38 ⁇ m, manufactured by Toray DuPont: Kapton 150ENA) was used for the resin film.
  • Example 3 The test was performed in the same manner as in Example 1 except that a polyimide resin (thickness: 35 ⁇ m, Ube Industries, Ltd .: Upilex35SGA), which is usually CTE grade, was used for the resin film.
  • Example 4 The test was conducted in the same manner as in Example 1 except that a low CTE grade polyimide resin (thickness: 35 ⁇ m, Ube Industries, Ltd .: Upilex35SGAV1) was used for the resin film.
  • Example 1 The test was conducted in the same manner as in Example 1 except that the current PET film having a thermal shrinkage standard of 0.3 to 0.5% was used on the polyimide resin surface side as the support film.
  • Example 2 The test was conducted in the same manner as in Example 2 except that the current PET film having a thermal shrinkage ratio of 0.3 to 0.5% was used on the polyimide resin surface side as the support film.
  • Comparative Example 3 The test was performed in the same manner as in Example 3 except that the current PET film having a heat shrinkage standard of 0.3 to 0.5% was used on the polyimide resin surface side as the support film.
  • Comparative Example 4 The test was conducted in the same manner as in Example 4 except that the current PET film having a heat shrinkage standard of 0.3 to 0.5% was used on the polyimide resin surface side as the support film.
  • Table 1 shows the difference in dimensional change rate (%) from the dimension before the test in each environmental change. Specifically, the dimensional change rate (%) was obtained from the measured values of the MD and TD dimensions of each sample before and after the etching treatment, the heat treatment and the support film peeling treatment, and the examples and comparative examples were obtained. The difference between the dimensional change rate (%) of each sample and the dimensional change rate (%) of the sample on which the support film was not laminated was determined. It is necessary to use a precision length measuring instrument that can measure the length with a resolution of 0.3 ⁇ m or less for the dimension measurement, and a precision automatic length measuring machine DR-5000 manufactured by Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. was used. .
  • the flexible copper-clad laminate with support film according to the example using the support film having a shrinkage rate of 0.1% or less is less affected by the dimensional change caused by attaching the support film. Therefore, the method for manufacturing a flexible copper wiring board using a support film having a shrinkage rate of 0.1% or less enables manufacturing with improved handling strength in the manufacturing process, and bonds the support film. As with a flexible copper wiring board that is not manufactured, variation among lots is reduced. Therefore, it turns out that the manufacturing method of the flexible copper wiring board which concerns on this invention is a manufacturing method with the high yield and extremely high productivity.
  • the dimensional change rate (%) of the flexible copper-clad laminate with support film in which the current support film having a shrinkage rate of 0.3 to 0.5% in the comparative example is laminated and the dimensional change rate without the support film (%)
  • the difference of is a large value compared with the thing of an Example. Therefore, when a support film with a large shrinkage rate is used, it can be seen that the dimensions of the flexible copper wiring board change greatly.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
  • Adhesive Tapes (AREA)

Abstract

 チップオンフィルム(COF)やフレキシブルプリント配線板(FPC)などに用いられるフレキシブル銅配線板を、フレキシブル銅張積層板から精度よく製造する。 樹脂フィルムの一方の面側に銅を積層する工程と、樹脂フィルムの他方の面側に、粘着層を介して2軸延伸フィルムを支持フィルムとして積層する工程と、銅をエッチングして銅配線を形成する工程と、支持フィルム付フレキスブル銅張積層板を加熱する加熱工程と、支持フィルムを剥離する剥離工程とを備え、支持フィルムとして、2軸延伸フィルムのそれぞれ延伸方向における、150℃×30分後における熱収縮率が、それぞれ0.1%以下であるフィルムを用いる。

Description

フレキシブル銅配線板の製造方法、及び、それに用いる支持フィルム付フレキシブル銅張積層板
 本発明は、チップ・オン・フィルム(COF:Chip On Film)やフレキシブルプリント配線板(FPC:Flexible Printed Circuit)などに使用されるフレキシブル銅配線板の製造方法、及び、それに用いる支持フィルム付のフレキシブル銅張積層板(FCCL:Flexible Copper Clad Laminate)に関する。
 樹脂フィルムはフレキシブル性を有し、加工が容易であるため、その表面に金属膜や酸化物膜を形成して電子部品や光学部品、包装材料などに広く産業界で用いられている。例えば、フレキシブル性を有するフレキシブル配線基板が携帯電話など小型電子機器で使用されている。
 フレキシブル銅配線板の製造方法として、例えば樹脂フィルムの一方の表面に金属薄膜が形成されたフレキシブル銅張積層板を出発材料とし、これに選択的エッチング工程により金属薄膜の不要部分を除去して配線パターンを形成し、めっき工程等を経ることで製造する方法が挙げられる。
 しかしながら、フレキシブル銅張積層板は、柔軟性、屈曲性に富むものであるが故に、そのままの状態ではハンドリング強度が十分ではなく搬送時に樹脂フィルムが変形したり、あるいは切れるという問題があり、選択的エッチング処理等を行うことが困難である。また、スプロケットホールの強度を十分に確保することができず、搬送時にスプロケットホールが変形し、配線パターン及びソルダーレジストパターン等を所定の位置に高精度に形成できないという問題もあった。従って、フレキシブル銅張積層板の金属薄膜が形成されていない表面に支持フィルムを粘着層を介して積層し、一時的にハンドリング強度を向上させた状態で選択的エッチング処理を施し、配線パターンを形成した後、金属張積層板から支持フィルムを剥離することによって、フレキシブル銅配線板を得る製造方法が多く採用されている。
 このような支持フィルムの一例として、たとえば特許文献1では、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムなどを基材とした粘着シートが提案されている。
 しかし、支持フィルムを積層した場合、フレキシブル銅張積層板の寸法安定性に及ぼす可能性が懸念されている。近年求められる配線の幅は10μm以上15μm以下程度となっており、寸法安定性の高さがフレキシブル銅張積層板には強く要求されるためである。支持フィルムを接着されていないフレキシブル銅張積層板は、ポリイミドなどが樹脂基材として用いられるために、加熱による収縮自体は若干あるもののロットごとのばらつきは小さい。そのため、予めエッチング工程や加熱工程を行う前のフレキシブル銅張積層板と工程後のフレキシブル銅配線板のサンプル長を測定し、工程前後の収縮率の相関を算出しておき、収縮を予め見込んでフレキシブル銅張積層板のほうを設計することにより、工程後のフレキシブル銅配線板の配線パターンを精度よく形成することが可能であった。
 しかし、PETなどの支持フィルムを積層させたフレキシブル銅張積層板を用いた場合には、PET自体の収縮率がポリイミドなどの樹脂基材に比べて極めて大きいため、その積層体である支持フィルム付フレキシブル銅張積層板も寸法変化にはばらつきが大きくなり、工程前後の寸法変化率に相関がほとんど見られない。そのため、近年求められる配線幅のスペックに対応するためには、銅張積層板のロットごとにパラメータを調整しなければならない。そのようなロットごとのパラメータの調整は、工程の調整の手間、調整時の原料ロス、製品の品質バラツキの悪化、歩留まり低下など様々な悪影響を及ぼす。そのため、近年の小型電子機器で使用できるフレキシブル銅張積層板で使用した場合には、その歩留りが低下し、生産性の悪いフレキシブル銅張積層板となってしまうという問題がある。
特開2001-106998号公報
 本発明は、フレキシブル銅配線板の製造方法において、支持フィルム付銅配線板形成工程を含むものであっても、支持フィルム付銅配線板寸法安定性が高く、そのため、その歩留りが高く、生産性の高いフレキシブル銅張積層板の製造方法を提供することを目的とする。
 本発明者らは、銅配線板形成工程で用いる支持フィルム付銅配線板について、鋭意検討をした。フレキシブル銅張積層板に用いられているポリイミドなどの樹脂フィルムは、高温条件下で圧縮又は引張応力が加わると、その応力の影響を寸法安定性に変化が生じる。そのため、樹脂フィルムに支持フィルムが密着していた場合、高温条件下でその支持フィルムの寸法が大きく変化すると、支持フィルムの寸法変化によって樹脂フィルム自体の寸法安定性に影響を与えることを発見した。そこで、支持フィルムとして、2軸延伸フィルムであって、それぞれ延伸方向における、150℃×30分後における熱収縮率が、それぞれ0.1%以下のフィルムを用いることで、支持フィルム付銅配線板自体の熱安定性が高くなり、課題であった銅張積層板の寸法変化率が安定し、支持フィルム付であっても工程前後の相関が維持できることを見出し、本発明を完成するに至った。
 すなわち、本発明の第一は、樹脂フィルムの一方の面側に銅配線が形成されているフレキシブル銅配線板の製造方法であって、前記樹脂フィルムの一方の面側に銅を積層するフレキシブル銅張積層板形成工程と、前記樹脂フィルムの他方の面側に、粘着層を介して、2軸延伸フィルムを支持フィルムとして積層する支持フィルム付フレキシブル銅張積層板形成工程と、前記銅をエッチングして前記銅配線を形成する銅配線形成工程と、前記支持フィルム付フレキシブル銅張積層板を加熱する加熱工程と、前記支持フィルムを剥離する剥離工程と、を備え、前記支持フィルムとして、前記2軸延伸フィルムのそれぞれ延伸方向における、150℃×30分後における熱収縮率が、それぞれ0.1%以下であるフィルムを用いる、フレキシブル銅配線板の製造方法である。
 本発明の第二は、前記支持フィルムが、2軸延伸ポリエステルである第一の発明に記載のフレキシブル銅配線板の製造方法である。
 本発明の第三は、前記樹脂フィルムが、ポリイミドフィルムである第一又は第二の発明に記載のフレキシブル銅配線板の製造方法である。
 本発明の第四は、前記支持フィルムの厚さが、前記樹脂フィルムの厚さの0.4倍以上3.4倍以下である第一から第三のいずれかの発明に記載のフレキシブル銅配線板の製造方法である。
 本発明の第五は、前記支持フィルム付フレキシブル銅張積層板について、所定の条件下での寸法変化の実測値を測定し、この実測値を、前記フレキシブル銅配線板の寸法変化の予測値とする寸法変化予測工程を更に備える第一から第四のいずれかの発明に記載のフレキシブル銅配線板の製造方法である。
 本発明の第六は、前記所定の条件が、エッチング処理及び/又は加熱処理である第五の発明に記載のフレキシブル銅配線板の製造方法である。
 本発明の第七は、樹脂フィルムの一方の面側に銅が積層されているフレキシブル銅張積層板と、前記フレキシブル銅張積層板の前記樹脂フィルムの他方の面側に、粘着層を介して、2軸延伸フィルムが支持フィルムとして積層されている、支持フィルム付フレキシブル銅張積層板であって、前記2軸延伸フィルムのそれぞれ延伸方向における、150℃×30分後における熱収縮率が、それぞれ0.1%以下である支持フィルム付フレキシブル銅張積層板である。
 本発明の第八は、第七の発明に記載の支持フィルム付フレキシブル銅張積層板が用いられているフレキシブル配線基板である。
 本発明によれば、フレキシブル銅配線板の製造方法において、支持フィルム付銅配線板形成工程を含むものであっても、支持フィルムの2軸延伸フィルムのそれぞれ延伸方向(MD:Machine Direction、TD:Transverse Direction)における、150℃×30分後における熱収縮率が、それぞれ0.1%以下のものを用いることでフレキシブル銅配線板そのものの寸法安定性が高く、その歩留りが高く、生産性の高いフレキシブル銅張積層板の製造方法である。
本発明のフレキシブル銅配線板の製造方法を示す図である。
 以下、本発明の実施形態について説明する。本発明に係るフレキシブル銅配線板の製造方法は、図1に示すように、樹脂フィルムの一方の面側に銅を積層するフレキシブル銅張積層板形成工程1と、樹脂フィルムの他方の面側に、粘着層を介して、2軸延伸フィルムを支持フィルムとして積層する支持フィルム付フレキシブル銅張積層板形成工程2と、銅をエッチングして銅配線を形成する銅配線形成工程3と、加熱工程4と、支持フィルムを剥離する剥離工程5と、を備えるフレキシブル銅配線板の製造方法であって、支持フィルムとして、2軸延伸フィルムのそれぞれ延伸方向における、150℃×30分後における熱収縮率が、それぞれ0.1%以下であるフィルムを用いることを特徴とする。
 [フレキシブル銅張積層板形成工程1]
 本発明に係るフレキシブル銅配線板の製造方法は、樹脂フィルムの一方の面側に銅を積層する工程を含む。当該工程は、例えば、樹脂フィルムと銅箔の間に接着剤を用いて両者を重ねて張り合わせる方法や真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの乾式めっき法により、樹脂フィルム上に、クロム、酸化クロム、ニッケルなどの銅以外の金属からなる下地金属層を50Å以上200Å以下程度成膜した後、乾式めっき法又は湿式めっき法により銅を被膜する方法など、公知の方法を用いることができる。
 本発明の銅張積層板形成工程1に使用することができる樹脂フィルムは、一般的なフレキシブル回路基板の製造に使用されている樹脂フィルムであれば、特に限定されることなく使用することができる。例えば、ポリイミド系フィルム、ポリアミド系フィルム、ポリエチレンテレフタレート(PET)やポリエチレンテレナフタレート(PEN)などのポリエステル系フィルム、ポリテトラフルオロエチレン系フィルム、ポリフェニレンサルファイド系フィルム、ポリエチレンナフタレート系フィルム、液晶ポリマー系フィルムの群から選ばれた1種の絶縁フィルムを使用することができる。特に、フレキシブル銅配線板に必要とされる、耐熱性、誘電体特性、電気絶縁性、耐薬品性の観点からポリイミドフィルムを用いることが好ましい。
 銅被膜層の膜厚は0.01μm以上35μm以下の範囲とすることが好ましく、0.3μm以上15μm以下の範囲とすることがより好ましく、0.3μm以上12μm以下の範囲とすることがさらに好ましい。銅被膜層の膜厚が0.01μm未満であると、配線部の電気導電性に問題が発生しやすくなり、また、強度上の問題が生じたりする可能性がある。一方、膜厚が35μmを超えて厚くなると、ヘヤークラックや反りなどを生じて密着性が低下する場合があるほか、サイドエッチングの影響が大きくなり、狭ピッチ化が難しくなる場合もある。
 [支持フィルム付フレキシブル銅張積層板形成工程2]
 本発明に係るフレキシブル銅配線板の製造方法は、2軸延伸フィルムを支持フィルムとして積層する工程を含むことを特徴とする。当該工程は、樹脂フィルムと支持フィルムの間に粘着剤を介して両者を重ねて張り合わせる方法など従来公知の方法より行うことができる。
 本発明に用いられる支持フィルムは、2軸延伸フィルムであり、それぞれ延伸方向における、150℃×30分後における熱収縮率が、それぞれ0.1%以下であるフィルムを用いることを特徴とし、好ましくは0.07%以下であり、さらに好ましくは0.05%以下である。支持フィルムとして0.1%以下であるフィルムを用いることで、樹脂フィルムが高温条件下での支持フィルムの寸法変化による圧縮又は引張応力の影響を受けることが小さいため、その歩留りが高く、生産性が高い状態でフレキシブル銅張積層板を製造することができる。
 支持フィルムは、それぞれ延伸方向における、150℃×30分後における熱収縮率が、それぞれ0.1%以下であるフィルムであればどのような材料を用いることもできる。特に、耐熱性、耐溶剤性、汎用性の高さから、2軸延伸ポリエステル樹脂を用いることが好ましい。
 支持フィルム付フレキシブル銅張積層板であって、2軸延伸フィルムのそれぞれ延伸方向における、150℃×30分後における熱収縮率が、それぞれ0.1%以下である支持フィルム付フレキシブル銅張積層板は、その後にエッチングして銅配線を形成する銅配線形成工程及び加熱工程を加えたとしても、支持フィルム自体の収縮率が小さい。そのため、樹脂フィルムに対し支持フィルムに起因する圧縮又は引張応力が加わる影響が小さく、当該支持フィルム付フレキシブル銅張積層板を用いて製造することで、歩留りが高く、生産性が高い状態でフレキシブル銅張積層板を製造することができる。したがって、本発明の支持フィルム付フレキシブル銅張積層板の製造方法は極めて有用である。
 支持フィルムの厚さは、後のフレキシブル銅配線板製造の工程の取扱いの観点から自由に選択することができるが、好ましくは樹脂フィルム厚の0.4倍以上3.4倍以下であり、より好ましくは0.5倍以上1.5倍以下である。
 [銅配線形成工程3]
 本発明に係るフレキシブル銅配線板の製造方法は、銅をエッチングして銅配線を形成する銅配線形成工程を含むことを特徴とする。エッチングして銅配線を形成する銅配線形成工程には、従来公知の方法で行うことができる。例えば、導電性金属層上にフォトレジスト層を形成し、このフォトレジスト層を露光、現像して所望のパターンを形成する。次に、こうして形成されたフォトレジストパターンをマスクとして、露出した導電性金属層をエッチングして、フォトレジストパターンと略相似形状の導電性金属層からなる配線パターンを形成する。次いでフォトレジスト層をアルカリ溶液等により剥離除去した後、配線パターン間に残存する銅をエッチングにより除去することにより行うことができる。
 [加熱工程4]
 本発明に係るフレキシブル銅配線板の製造方法は、支持フィルム付フレキシブル銅張積層板を加熱する加熱工程を含む。例えば、フォトレジスト塗布後の乾燥のために加熱が行われ、エッチング処理後、レジストを剥離し、すずめっきを行った後にホイスカー抑制のため加熱するリフロー処理が行われる。また、ソルダーレジスト印刷後はレジストを完全に硬化させるために加熱が行われる。
 [剥離工程5]
 本発明に係るフレキシブル銅配線板の製造方法は、支持フィルムを剥離する剥離工程を含む。支持フィルムは、フレキシブル銅配線板製造の工程における取扱いの容易さの観点から積層されたものであるため、フレキシブル銅張積層板として出荷する際には、最終的には、支持フィルムを剥離する剥離工程を含む。なお、当該剥離工程は、フレキシブル銅張積層板として出荷前に剥離させても良いし、出荷後、例えば電子機器への接着直前に剥離させることによって実現できる場合も含む。
 [フレキシブル銅配線板の寸法変化の予測値とする寸法変化予測工程]
 本発明は、支持フィルムとして2軸延伸フィルムのそれぞれ延伸方向における、150℃×30分後における熱収縮率が、それぞれ0.1%以下であるフィルムを用いることを特徴としている。例えば、支持フィルム付フレキシブル銅張積層板について、所定の条件下での寸法変化の実測値を測定し、この実測値を、前記フレキシブル銅配線板の寸法変化の予測値とする寸法変化予測工程を更に備えることもできる。
 例えば、上記の方法で製造された支持フィルム付フレキシブル銅張積層板について、所定の条件下で寸法変化の実測値を測定し、その後のフレキシブル銅配線板の寸法変化の予測値とする寸法変化予測工程を更に加えることで、その予測値により銅配線の設計を行えば、品質のばらつきが向上し、歩留りも向上することができるため、さらに有用である。
 上記所定の条件下とは、例えば、エッチング処理工程や加熱工程などフレキシブル銅張積層板の寸法の変化に影響を与える恐れがある工程をいう。例えばエッチング処理工程によって、樹脂フィルムに積層された銅が溶かされることにより、銅の積層によって固定された樹脂フィルムが銅の溶解によって、その樹脂フィルムに掛かるテンションが下がることで、樹脂フィルムが伸びる傾向にある。また、加熱工程によって、樹脂フィルムに積層されている支持フィルムが収縮するため、支持フィルムの収縮によって樹脂フィルムが縮む傾向にある。そのため、これらの工程は寸法の変化に影響を与える恐れがある工程に含まれる。
 以下、本発明のフレキシブル銅配線板の製造方法を実施例にもとづいてさらに詳細に説明する。なお、本発明はかかる実施例に限定されるものではない。
 (実施例1)
 <支持フィルム付フレキシブル銅張積層板の製造>
 樹脂フィルムに通常CTE(線膨張係数)グレードであるポリイミド樹脂(厚さ:38μm 東レ・デュポン社製:カプトン150EN)の一方の面側に銅をスパッタリングと電気めっきを用いて8μm積層させ、ポリイミド樹脂面側にさらに支持フィルム(厚さ:50μm 改善PETフィルム 熱収縮率規格がそれぞれ0.1%以下)を粘着剤にて積層させ、支持フィルム付フレキシブル銅張積層板のサンプルを作成した。また、支持フィルムを積層させないフレキシブル銅張積層板のサンプルを作成した。なお、サンプル長はいずれもMD方向156mm、TD方向が160mmであった。
 <環境変化試験>
 上記サンプルについてエッチング処理、加熱処理及び支持フィルム剥離処理を行った。なお、支持フィルムを接着させていないサンプルは支持フィルム剥離処理を行わなかった。
 エッチング処理は塩化第二鉄溶液を40℃に温めて20分浸漬させる条件下で行い、その後、23℃、50RH%24時間放置した。また、加熱試験は、150℃、30分の条件下で行い、その後、23℃、50RH%24時間放置した。
 (実施例2)
 樹脂フィルムに低CTEグレードであるポリイミド樹脂(厚さ:38μm 東レ・デュポン社製:カプトン150ENA)を用いたこと以外は実施例1と同様に試験を行った。
 (実施例3)
 樹脂フィルムに通常CTEグレードであるポリイミド樹脂(厚さ:35μm 宇部興産ン社製:Upilex35SGA)を用いたこと以外は実施例1と同様に試験を行った。
 (実施例4)
 樹脂フィルムに低CTEグレードであるポリイミド樹脂(厚さ:35μm 宇部興産社製:Upilex35SGAV1)を用いたこと以外は実施例1と同様に試験を行った。
 (比較例1)
 支持フィルムとしてポリイミド樹脂面側に熱収縮率規格がそれぞれ0.3~0.5%である現行のPETフィルムを用いたこと以外は実施例1と同様に試験を行った。
 (比較例2)
 支持フィルムとしてポリイミド樹脂面側に熱収縮率規格がそれぞれ0.3~0.5%である現行のPETフィルムを用いたこと以外は実施例2と同様に試験を行った。
 (比較例3)
 支持フィルムとしてポリイミド樹脂面側に熱収縮率規格がそれぞれ0.3~0.5%である現行のPETフィルムを用いたこと以外は実施例3と同様に試験を行った。
 (比較例4)
 支持フィルムとしてポリイミド樹脂面側に熱収縮率規格がそれぞれ0.3~0.5%である現行のPETフィルムを用いたこと以外は実施例4と同様に試験を行った。
 (寸法安定試験結果)
 各環境変化における試験前の寸法からの寸法変化率(%)の差を表1に示した。具体的には、エッチング処理、加熱処理及び支持フィルム剥離処理を行った前後の各サンプルのMD方向・TD方向の寸法の測定値から寸法変化率(%)をそれぞれ求め、実施例、比較例の各サンプルの寸法変化率(%)と支持フィルムを積層させていないサンプルとの寸法変化率(%)との差をそれぞれ求めた。なお、寸法測定には0.3μm以下の分解能で長さを測定することができる精密測長器を用いる必要があり、大日本スクリーン製造(株)製精密自動測長機DR-5000を用いた。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 表1により、いずれの樹脂フィルムにおいても収縮率が0.1%以下の支持フィルムを積層させた実施例に係る支持フィルム付フレキシブル銅張積層板の寸法変化率(%)と、PETフィルムを積層させていないフレキシブル銅張積層板の寸法変化率(%)の差はTD方向、MD方向共に、比較例のそれよりも小さい値であることが分かる。
 このことから、収縮率が0.1%以下の支持フィルムを用いた実施例に係る支持フィルム付フレキシブル銅張積層板は支持フィルムを張り付けることによる寸法変化の影響が小さいことが分かる。そのため、収縮率が0.1%以下の支持フィルムを用いたフレキシブル銅配線板の製造方法は、製造工程でのハンドリング強度を向上させた状態で製造することを可能にしつつ、且つ支持フィルムを接着されていないで製造するフレキシブル銅配線板同様にロットごとのばらつきは小さくなる。そのため、本発明に係るフレキシブル銅配線板の製造方法は、その歩留りが高く、極めて生産性の高い製造方法であることが分かる。
 一方、比較例の収縮率0.3~0.5%の現行支持フィルムを積層させた支持フィルム付フレキシブル銅張積層板の寸法変化率(%)と、支持フィルムのない寸法変化率(%)の差は、実施例のものと比較して大きい値を示している。そのため、収縮率が大きい支持フィルムを用いた場合には、フレキシブル銅配線板の寸法が大きく変化することが分かる。
 このことから、収縮率を管理していない支持フィルムを用いてフレキシブル銅配線板を製造した場合には、フレキシブル銅配線板の寸法変化率にばらつきが大きくなることが推認できる。そのため、収縮率が0.1%以下の支持フィルムを用いた製造方法と比較すると、収縮率を管理していない支持フィルムを用いた製造方法は工程前後の寸法変化率に相関が見られなくなると考えられるため、生産性の低い製造方法であることが分かる。
 1 銅板
 2 樹脂フィルム
 3 支持フィルム
 4 粘着層

Claims (8)

  1.  樹脂フィルムの一方の面側に銅配線が形成されているフレキシブル銅配線板の製造方法であって、
     前記樹脂フィルムの一方の面側に銅を積層するフレキシブル銅張積層板形成工程と、
     前記樹脂フィルムの他方の面側に、粘着層を介して、2軸延伸フィルムを支持フィルムとして積層する支持フィルム付フレキシブル銅張積層板形成工程と、
     前記銅をエッチングして前記銅配線を形成する銅配線形成工程と、
     前記支持フィルム付フレキシブル銅張積層板を加熱する加熱工程と、
     前記支持フィルムを剥離する剥離工程と、を備え、
     前記支持フィルムとして、前記2軸延伸フィルムのそれぞれ延伸方向における、150℃×30分後における熱収縮率が、それぞれ0.1%以下であるフィルムを用いる、フレキシブル銅配線板の製造方法。
  2.  前記支持フィルムが、2軸延伸ポリエステルである請求項1に記載のフレキシブル銅配線板の製造方法。
  3.  前記樹脂フィルムが、ポリイミドフィルムである請求項1又は2に記載のフレキシブル銅配線板の製造方法。
  4.  前記支持フィルムの厚さが、前記樹脂フィルムの厚さの0.4倍以上3.4倍以下である請求項1から3いずれかに記載のフレキシブル銅配線板の製造方法。
  5.  前記支持フィルム付フレキシブル銅張積層板について、所定の条件下での寸法変化の実測値を測定し、
     この実測値を、前記フレキシブル銅配線板の寸法変化の予測値とする寸法変化予測工程を更に備える請求項1から4のいずれかに記載のフレキシブル銅配線板の製造方法。
  6.  前記所定の条件が、エッチング処理及び/又は加熱処理である請求項5に記載のフレキシブル銅配線板の製造方法。
  7.  樹脂フィルムの一方の面側に銅が積層されているフレキシブル銅張積層板と、
     前記フレキシブル銅張積層板の前記樹脂フィルムの他方の面側に、粘着層を介して、2軸延伸フィルムが支持フィルムとして積層されている、支持フィルム付フレキシブル銅張積層板であって、
     前記2軸延伸フィルムのそれぞれ延伸方向における、150℃×30分後における熱収縮率が、それぞれ0.1%以下である支持フィルム付フレキシブル銅張積層板。
  8.  請求項7記載の支持フィルム付フレキシブル銅張積層板が用いられているフレキシブル配線基板。
     
PCT/JP2015/072753 2014-08-29 2015-08-11 フレキシブル銅配線板の製造方法、及び、それに用いる支持フィルム付フレキシブル銅張積層板 WO2016031559A1 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201580043280.7A CN106576428B (zh) 2014-08-29 2015-08-11 柔性铜布线板的制造方法及其所用的带支撑膜的柔性覆铜层叠板
KR1020167035645A KR102378236B1 (ko) 2014-08-29 2015-08-11 플렉시블 구리 배선판의 제조 방법, 및 그것에 이용되는 지지 필름을 갖는 플렉시블 구리 클래드 적층판

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014175364A JP6323261B2 (ja) 2014-08-29 2014-08-29 フレキシブル銅配線板の製造方法、及び、それに用いる支持フィルム付フレキシブル銅張積層板
JP2014-175364 2014-08-29

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2016031559A1 true WO2016031559A1 (ja) 2016-03-03

Family

ID=55399456

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2015/072753 WO2016031559A1 (ja) 2014-08-29 2015-08-11 フレキシブル銅配線板の製造方法、及び、それに用いる支持フィルム付フレキシブル銅張積層板

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP6323261B2 (ja)
KR (1) KR102378236B1 (ja)
CN (1) CN106576428B (ja)
TW (1) TWI584707B (ja)
WO (1) WO2016031559A1 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102575789B1 (ko) * 2016-10-04 2023-09-06 에스케이넥실리스 주식회사 낮은 치수변화율을 갖는 연성동박적층필름 및 그 제조방법
CN109962173A (zh) * 2017-12-25 2019-07-02 昆山维信诺科技有限公司 一种柔性显示面板及其制造方法
CN112105155B (zh) * 2020-08-20 2022-01-11 瑞声新能源发展(常州)有限公司科教城分公司 一种片式fpc及其制作方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003017822A (ja) * 2001-07-04 2003-01-17 Fujimori Kogyo Co Ltd 保護フィルム、保護フィルム付樹脂導体箔積層体およびそれを用いたフレキシブルプリント配線基板の製造方法
WO2006001270A1 (ja) * 2004-06-29 2006-01-05 Kaneka Corporation 新規なポリイミドフィルム

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6770380B2 (en) * 1998-08-11 2004-08-03 Nikko Materials Usa, Inc. Resin/copper/metal laminate and method of producing same
JP3856582B2 (ja) * 1998-11-17 2006-12-13 日鉱金属株式会社 フレキシブルプリント回路基板用圧延銅箔およびその製造方法
JP4634680B2 (ja) * 1999-07-08 2011-02-16 ソマール株式会社 容易に剥離可能な粘着性フィルム
JP2001106998A (ja) 1999-08-02 2001-04-17 Somar Corp 粘着シート及びこれを用いた印刷用フィルムの補強材料
CN1442891A (zh) * 2002-03-04 2003-09-17 铱远科技股份有限公司 软式封装构造及其制作方法
JP4063082B2 (ja) * 2003-01-10 2008-03-19 日本電気株式会社 フレキシブル電子デバイスとその製造方法
US7367116B2 (en) * 2003-07-16 2008-05-06 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Multi-layer printed circuit board, and method for fabricating the same
JP4828884B2 (ja) * 2005-07-26 2011-11-30 株式会社東芝 プリント回路配線基板、及び電子機器
CN101278363B (zh) * 2005-10-05 2011-07-27 住友金属矿山株式会社 带有透明导电层的膜和其形成的元件、电子器件及制造方法
WO2011001551A1 (ja) * 2009-06-30 2011-01-06 Jx日鉱日石金属株式会社 プリント配線板用銅箔
JP5115527B2 (ja) * 2009-08-20 2013-01-09 日立電線株式会社 プリント配線板用銅箔およびその製造方法
CN103857833B (zh) * 2011-09-30 2018-09-07 Jx日矿日石金属株式会社 与树脂粘着性优良的铜箔、其制造方法以及使用该电解铜箔的印刷布线板或电池用负极材料
JP6467774B2 (ja) * 2014-02-28 2019-02-13 味の素株式会社 プリント配線板の製造方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003017822A (ja) * 2001-07-04 2003-01-17 Fujimori Kogyo Co Ltd 保護フィルム、保護フィルム付樹脂導体箔積層体およびそれを用いたフレキシブルプリント配線基板の製造方法
WO2006001270A1 (ja) * 2004-06-29 2006-01-05 Kaneka Corporation 新規なポリイミドフィルム

Also Published As

Publication number Publication date
KR102378236B1 (ko) 2022-03-25
KR20170049464A (ko) 2017-05-10
JP6323261B2 (ja) 2018-05-16
TW201618620A (zh) 2016-05-16
TWI584707B (zh) 2017-05-21
CN106576428B (zh) 2019-10-18
CN106576428A (zh) 2017-04-19
JP2016051764A (ja) 2016-04-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6119433B2 (ja) めっき積層体およびその製造方法
KR101935128B1 (ko) 플렉시블 프린트 기판용 구리박, 그것을 사용한 구리 피복 적층체, 플렉시블 프린트 기판 및 전자 기기
JP5615253B2 (ja) 厚膜ポリイミドフレキシブル金属積層板の製造方法
WO2016031559A1 (ja) フレキシブル銅配線板の製造方法、及び、それに用いる支持フィルム付フレキシブル銅張積層板
JP2007144626A (ja) 導体張積層板、配線回路基板およびその製造方法
JP7173221B2 (ja) 両面めっき積層体
JP6663769B2 (ja) 圧延銅箔、銅張積層板、並びにフレキシブルプリント基板及び電子機器
US7186311B2 (en) Process for producing substrate for flexible circuit board
JP6252988B2 (ja) 2層銅張積層板及びその製造方法、並びにそれを用いたフレキシブル配線板及びその製造方法
JP2007055165A (ja) フレキシブル銅張積層板及びその製造方法
JP2011171621A (ja) 抵抗層付き銅箔並びに銅張積層板及びその製造方法
JP6127871B2 (ja) 二層めっき基板の最大反り量の評価方法
JPH10242593A (ja) フレキシブル配線板及びその製造方法
KR20170071205A (ko) 연성동박적층판 및 이의 제조 방법
JP2005271449A (ja) フレキシブルプリント基板用積層板
JP6252989B2 (ja) 2層銅張積層板及びその製造方法、並びにそれを用いたフレキシブル配線板及びその製造方法
JP6705094B2 (ja) 離型フィルム付銅箔および離型フィルム付銅箔の製造方法
JP4571436B2 (ja) 配線板の製造方法
KR102514230B1 (ko) 양면 금속 적층판, 양면 금속 적층판 제조방법 및 패턴의 화상 전사 방법
JP2006175634A (ja) 金属−ポリイミド基板
JP2013115316A (ja) 配線板の製造方法
JP2008302696A (ja) フレキシブル金属箔積層板の製造方法
JP2007069617A (ja) フレキシブル金属箔積層板の製造方法
US20240090138A1 (en) Prepreg with metal layer, method for manufacturing laminate, and method for manufacturing prepreg with metal layer
KR101138553B1 (ko) 관통공이 형성되며 연성기판 양표면에 음각이 동시에 형성되는 연성기판 및 그 제조 방법과 장치

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 15835179

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20167035645

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 15835179

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1