WO2015152342A1 - ガラス、それを用いたカバーガラス及びガラスの製造方法 - Google Patents

ガラス、それを用いたカバーガラス及びガラスの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2015152342A1
WO2015152342A1 PCT/JP2015/060393 JP2015060393W WO2015152342A1 WO 2015152342 A1 WO2015152342 A1 WO 2015152342A1 JP 2015060393 W JP2015060393 W JP 2015060393W WO 2015152342 A1 WO2015152342 A1 WO 2015152342A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
glass
less
sro
bao
cao
Prior art date
Application number
PCT/JP2015/060393
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
隆 村田
敦己 斉藤
Original Assignee
日本電気硝子株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日本電気硝子株式会社 filed Critical 日本電気硝子株式会社
Priority to CN202211110212.6A priority Critical patent/CN115448592A/zh
Priority to CN201580018105.2A priority patent/CN106132889A/zh
Priority to CN202211110450.7A priority patent/CN115448593A/zh
Priority to KR1020237025471A priority patent/KR20230117626A/ko
Priority to KR1020217037423A priority patent/KR102563271B1/ko
Priority to KR1020167027358A priority patent/KR102332532B1/ko
Publication of WO2015152342A1 publication Critical patent/WO2015152342A1/ja

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/23—Oxides
    • C03C17/25—Oxides by deposition from the liquid phase
    • C03C17/256—Coating containing TiO2
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
    • C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B17/00—Forming molten glass by flowing-out, pushing-out, extruding or drawing downwardly or laterally from forming slits or by overflowing over lips
    • C03B17/06—Forming glass sheets
    • C03B17/064—Forming glass sheets by the overflow downdraw fusion process; Isopipes therefor
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21—Oxides
    • C03C2217/212—TiO2
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
    • C03C2217/42—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of particles only
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
    • C03C2217/425—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a porous layer
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/70—Properties of coatings
    • C03C2217/71—Photocatalytic coatings
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
    • Y02P40/50—Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
    • Y02P40/57—Improving the yield, e-g- reduction of reject rates

Definitions

  • the present invention relates to glass, a cover glass using the glass, and a method of manufacturing the glass.
  • the present invention relates to a mobile phone, a digital camera, a PDA (portable terminal), a solar cell, a chip size package (CSP), a charge coupled device (CCD). ), A glass suitable for a cover glass of an equal magnification proximity solid-state imaging device (CIS), particularly a cover glass of a touch panel display, and a method for producing the glass.
  • CIS equal magnification proximity solid-state imaging device
  • tempered glass subjected to ion exchange treatment is used as a cover glass for a touch panel display (see Patent Document 1 and Non-Patent Document 1).
  • tempered glass has been produced by so-called “cutting before tempering” by performing ion exchange treatment after previously cutting a glass plate into a predetermined shape. After processing, forming a film such as a touch sensor and cutting it to a predetermined size, so-called “cutting after reinforcement” has been studied. When cutting after strengthening, the manufacturing efficiency of the device is dramatically improved.
  • the cover glass is required to be (1) hard to be scratched and (2) high drop impact strength.
  • the conventional cover glass is a tempered glass having a compressive stress layer on the surface by ion exchange treatment.
  • the compressive stress layer present on the surface becomes a barrier, so that the tempered glass is easily damaged at the time of cutting, and a region where the compressive stress layer does not exist after cutting is exposed on the end surface.
  • the strength tends to decrease.
  • a film such as a touch sensor is formed on the surface of the tempered glass, the in-plane strength of the tempered glass tends to decrease.
  • the conventional tempered glass cannot be said to be sufficiently light, and does not contribute to weight reduction of a large device.
  • the present invention has been made in view of the above circumstances, and its technical problem is that it is difficult to be damaged even without ion exchange treatment, has a high drop impact strength, and is lightweight, and a cover using the same. It is to create a glass and its manufacturing method.
  • the present inventors have found that the above technical problem can be solved by regulating the glass composition range to a predetermined range, and propose the present invention. That is, the glass of the present invention has a glass composition of 50% by mass to SiO 2 50 to 70%, Al 2 O 3 0 to 20%, B 2 O 3 15 to 30%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0 to 3%, MgO + CaO + SrO + BaO 0 to 12%.
  • Li 2 O + Na 2 O + K 2 O refers to the total amount of Li 2 O, Na 2 O and K 2 O.
  • MgO + CaO + SrO + BaO refers to the total amount of MgO, CaO, SrO and BaO.
  • the glass of the present invention contains 15% by mass or more of B 2 O 3 in the glass composition. If it does in this way, scratch resistance and crack resistance can be improved. Furthermore, since the Young's modulus is lowered, the drop impact property can be improved. Further, the glass of the present invention, the content of Li 2 O + Na 2 O + K 2 O in the glass composition 3 wt% or less, MgO + CaO + SrO + BaO 12 wt% content of less, preferably 8 wt% or less. If it does in this way, a density will fall easily and it will become easy to reduce a cover glass as a result.
  • the glass of the present invention has a glass composition in terms of mass% of SiO 2 58 to 70%, Al 2 O 3 7 to 20%, B 2 O 3 18 to 30%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0 to 1. %, MgO + CaO + SrO + BaO is preferably contained in an amount of 0 to 10%.
  • the glass of the present invention has a glass composition of 50% by mass to SiO 2 50 to 70%, Al 2 O 3 0 to 15%, B 2 O 3 15 to 30%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0 to 3 as a glass composition. %, MgO + CaO + SrO + BaO 0 to 8% is preferable.
  • B 2 O 3 — (MgO + CaO + SrO + BaO) is preferably 5% by mass or more.
  • B 2 O 3 ⁇ (MgO + CaO + SrO + BaO)” refers to a value obtained by subtracting the total content of MgO, CaO, SrO and BaO from the content of B 2 O 3 .
  • film-like glass having a plate thickness of 200 ⁇ m or less, it is required to be lightweight and bend with a small radius of curvature so as to be advantageous when winding into a roll. Therefore, if the above configuration is adopted, it becomes easy to obtain a glass having a low density and a low Young's modulus, which is suitable as a film-like glass material.
  • the glass of the present invention preferably has (SrO + BaO) / (MgO + CaO) of 1 or less in terms of mass ratio.
  • (SrO + BaO) / (MgO + CaO) refers to a value obtained by dividing the total content of SrO and BaO by the total content of MgO and CaO.
  • low-density glass can be easily obtained, which is suitable as a film-like glass material.
  • the glass of the present invention has a content of B 2 O 3 greater than that of Al 2 O 3 on a mass basis (that is, B 2 O 3 —Al 2 O 3 is more than 0% by mass). Is preferred.
  • the glass of the present invention preferably has a liquidus viscosity of 10 5.0 dPa ⁇ s or more.
  • liquid phase viscosity refers to a value obtained by measuring the viscosity of glass at the liquid phase temperature by a platinum ball pulling method.
  • Liquid phase temperature refers to the temperature at which crystals precipitate by passing the standard sieve 30 mesh (500 ⁇ m) and putting the glass powder remaining in 50 mesh (300 ⁇ m) into a platinum boat and holding it in a temperature gradient furnace for 24 hours. Refers to the measured value.
  • the glass of the present invention has a density of 2.40 g / cm 3 or less (particularly 2.30 g / cm 3 or less), the thermal expansion coefficient in a temperature range of 30 ⁇ 380 ° C. is 25 ⁇ 40 ⁇ 10 -7 / °C , strain It is preferable that the point is 610 ° C. or less and the Young's modulus is 66 GPa or less (particularly 65 GPa or less).
  • the “density” can be measured by a known Archimedes method.
  • “Thermal expansion coefficient in the temperature range of 30 to 380 ° C.” refers to an average value measured with a dilatometer.
  • strain point refers to a value measured based on the method of ASTM C336.
  • Young's modulus refers to a value measured by a known resonance method.
  • the glass of the present invention is preferably formed by an overflow down draw method.
  • the “overflow down-draw method” is a method in which molten glass is overflowed from both sides of a heat-resistant bowl-shaped structure, and the molten glass overflowed is joined at the lower end of the bowl-like structure and stretched downward. This is a method for producing a glass plate.
  • the glass of the present invention is preferably used for a cover glass.
  • the glass of the present invention is preferably not subjected to ion exchange treatment. If it does in this way, the manufacturing cost of a cover glass can be reduced.
  • the glass of the present invention when used as a cover glass or the like, contamination due to adhesion of fingerprints or the like tends to be a problem. In such a case, it is preferable that the photocatalyst particles are supported on the glass surface.
  • a glass containing a large amount of B 2 O 3 has a strong tendency of phase separation, and the surface may be phase-separated without special heat treatment. If such a glass is subjected to an acid treatment, the surface portion becomes porous and a glass having a large specific surface area can be easily obtained.
  • the glass of the present invention preferably has a porous glass surface.
  • the surface is porous means that only the surface is porous, in other words, the whole particle is not a porous body.
  • Porous means a state where innumerable pores exist, but the pores do not necessarily have to communicate with each other.
  • the photocatalyst particles are preferably titanium oxide particles.
  • the cover glass of the present invention is made of the glass of the present invention described above.
  • the cover glass of the present invention preferably has a porous glass surface and supports photocatalyst particles.
  • the cover glass having the above structure can easily maintain a clean state because dirt such as fingerprints attached to the surface can be decomposed and removed by the action of the photocatalyst particles.
  • SiO 2 is 50 to 70%, Al 2 O 3 0 to 20%, B 2 O 3 15 to 30%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0 by mass%.
  • This is a method in which a raw material batch prepared so as to be a glass containing ⁇ 3%, MgO + CaO + SrO + BaO 0 ⁇ 12% is melted and molded.
  • a solution containing a photocatalyst component is further applied to the glass surface and then heat-treated to carry the photocatalyst particles on the glass surface.
  • the photocatalyst particles can be easily supported on the glass surface.
  • the surface of the glass serving as the substrate becomes porous, and the specific surface area can be increased, so that a large amount of photocatalyst particles can be supported.
  • titanium oxide particles capable of quickly decomposing organic substances such as dirt and bacteria can be easily applied to the glass surface.
  • the glass composition within a specific range, it is difficult to be damaged without ion exchange treatment, and the glass has a high drop impact strength and is lightweight. Cover glass and a method of manufacturing the same can be provided.
  • the content of SiO 2 is 50 to 70%, preferably 53 to 70%, 55 to 70%, 58 to 70%, 60 to 70%, 62 to 69%, particularly 62 to 67%.
  • the content of SiO 2 is too small, it tends to be dense.
  • the content of SiO 2 is too large, the high-temperature viscosity becomes high and the meltability is lowered, and in addition, defects such as devitrified crystals (cristobalite) are likely to occur in the glass.
  • Al 2 O 3 is an optional component, but if its content is too small, scratch resistance, crack resistance and heat resistance are likely to decrease. Moreover, the transmittance tends to decrease due to phase separation. Therefore, the lower limit range of Al 2 O 3 is 0% or more, preferably 1% or more, 2% or more, 3% or more, 4% or more, 5% or more, 6% or more, 7% or more, 8% or more, In particular, it is 9% or more.
  • Al 2 O 3 has a function of increasing the Young's modulus, but if its content is too large, the Young's modulus becomes too high, and the impact resistance strength tends to decrease.
  • the upper limit range of Al 2 O 3 is 20% or less, preferably 19% or less, 18% or less, 17% or less, 15% or less, less than 13%, 12% or less, particularly 11% or less.
  • B 2 O 3 is a component that increases scratch resistance and crack resistance and is a component that decreases Young's modulus. Furthermore, it is a component that lowers the density. It is a component that reduces dielectric loss and vibration loss. Furthermore, it is a component that facilitates inducing phase separation. If the glass is phase-separated, it becomes easy to modify the glass surface to be porous by acid treatment, and it becomes possible to carry a photocatalyst particle and obtain a high photocatalytic activity function.
  • the content of B 2 O 3 is 15 to 30%. If the content of B 2 O 3 is too small, the scratch resistance and crack resistance are likely to be lowered, and in addition, the Young's modulus is increased and the impact resistance is liable to be lowered.
  • the lower limit range of B 2 O 3 is 15% or more, preferably 18% or more, 20% or more, more than 20%, 22% or more, 24% or more, particularly 25% or more.
  • the upper limit range of B 2 O 3 is 30% or less, preferably 28% or less and 27% or less.
  • B 2 O 3 —Al 2 O 3 is preferably more than 0%, preferably 1% or more, 2% or more, 3% or more, 4% or more, 5% or more, 6% or more, 7% or more, 8% As mentioned above, it is more preferable that it is 9% or more, especially 10% or more. As this value is larger, the Young's modulus is more likely to be lowered, so that the drop impact strength is easily increased. Moreover, when it is set as film-like glass, it becomes easy to make a curvature radius small. “B 2 O 3 —Al 2 O 3 ” is obtained by subtracting the content of Al 2 O 3 from the content of B 2 O 3 .
  • Alkali metal oxide is a component that improves the meltability and moldability. However, if its content is too high, the density increases, the water resistance decreases, the thermal expansion coefficient becomes unduly high, Impact resistance is reduced and it is difficult to match the thermal expansion coefficient of the surrounding material. Alkali metal oxides reduce the photocatalytic activity when photocatalyst particles are supported on the surface. Therefore, the content of Li 2 O + Na 2 O + K 2 O is 0-3%, preferably 0-2%, 0-1%, 0-0.5%, 0-0.2%, 0-0. 1%, especially 0 to less than 0.1%.
  • the respective contents of Li 2 O, Na 2 O and K 2 O are preferably 0 to 3%, 0 to 2%, 0 to 1%, 0 to 0.5%, 0 to 0.2%, 0 To 0.1%, especially 0 to less than 0.1%. If the content of the alkali metal oxide is small, an alkali barrier film such as a SiO 2 film becomes unnecessary.
  • Alkaline earth metal oxide is a component that lowers the liquidus temperature and makes it difficult to generate crystalline foreign matter in the glass, and is a component that improves meltability and formability.
  • the content of MgO + CaO + SrO + BaO is 0-12%, preferably 0-10%, 0-8%, 0-7%, 1-7%, 2-7%, 3-9%, especially 3-6%. is there.
  • the content of MgO + CaO + SrO + BaO is too small, the function as a flux cannot be sufficiently exhibited, and the devitrification resistance tends to be lowered in addition to the decrease in meltability.
  • the mass ratio (MgO + CaO + SrO + BaO) / Al 2 O 3 is preferably 0.1 to 1.2, 0.2 to 1.2, 0.3 to 1.2, 0.4 to 1.1, especially 0. .5 to 1.0. “(MgO + CaO + SrO + BaO) / Al 2 O 3 ” indicates a value obtained by dividing the content of MgO + CaO + SrO + BaO by the content of Al 2 O 3 .
  • the mass ratio (SrO + BaO) / B 2 O 3 is preferably 0.1 or less, 0.05 or less, 0.03 or less, particularly 0.02 or less. If it does in this way, it will become easy to improve scratch resistance and crack resistance. “SrO + BaO” is the total amount of SrO and BaO. “(SrO + BaO) / B 2 O 3 ” indicates a value obtained by dividing the content of SrO + BaO by the content of B 2 O 3 .
  • the mass ratio B 2 O 3 / (SrO + BaO) is preferably 10 or more, 20 or more, 30 or more, 40 or more, and particularly 50 or more. If it does in this way, it will become easy to improve scratch resistance and crack resistance. “B 2 O 3 / (SrO + BaO)” indicates a value obtained by dividing the content of SrO + BaO by the content of B 2 O 3 .
  • B 2 O 3 — (MgO + CaO + SrO + BaO) is preferably 5% or more, 6% or more, 7% or more, 8% or more, 9% or more, 10% or more, 11% or more, particularly 12% or more. In this way, the density is likely to decrease, and thus the device can be easily reduced in weight. In addition, Young's modulus is reduced.
  • MgO is a component that lowers the viscosity at high temperature and increases the meltability without lowering the strain point, and is the component that has the effect of reducing the density most among the alkaline earth metal oxides. Furthermore, it is a component that enhances crack resistance. It is also a component that facilitates phase separation. If the glass is phase-separated, it becomes easy to modify the glass surface to be porous by acid treatment, and it becomes possible to carry a photocatalyst particle and obtain a high photocatalytic activity function.
  • the content of MgO is preferably 0 to 12%, 0 to 10%, 0 to 8%, 0.1 to 6%, 0.5 to 3%, especially 1 to 2%. However, when there is too much content of MgO, liquidus temperature will rise and devitrification resistance will fall easily. Moreover, it becomes easy to phase-divide glass and transparency will fall easily.
  • CaO is a component that significantly increases the meltability by lowering the high-temperature viscosity without lowering the strain point, and is a component that greatly increases the devitrification resistance in the glass composition system of the present invention. Therefore, the preferable lower limit range of CaO is 0% or more, 0.1% or more, 1% or more, 2% or more, 3% or more, particularly 4% or more. On the other hand, when there is too much content of CaO, a thermal expansion coefficient and a density will rise unduly, or the component balance of a glass composition will be impaired, and devitrification resistance will fall on the contrary. Therefore, the preferable upper limit range of CaO is 12% or less, 10% or less, 8% or less, 7% or less, 6% or less, particularly 5% or less.
  • SrO is a component that increases the meltability by lowering the high temperature viscosity without lowering the strain point.
  • the content of SrO is preferably 0 to 3%, 0 to 2%, 0 to 1.5%, 0 to 1%, 0 to 0.5%, particularly 0 to 0.1%.
  • BaO is a component that increases the meltability by lowering the high-temperature viscosity without lowering the strain point.
  • the content of BaO is preferably 0 to 3%, 0 to 2%, 0 to 1.5%, 0 to 1%, 0 to 0.5%, particularly 0 to less than 0.1%.
  • the mass ratio (SrO + BaO) / (MgO + CaO) is preferably 1 or less, 0.8 or less, 0.5 or less, particularly 0.3 or less. If the mass ratio (SrO + BaO) / (MgO + CaO) is too large, the density of the glass becomes too large.
  • the following components may be introduced into the glass composition.
  • ZnO is a component that enhances the meltability, but if it is contained in a large amount in the glass composition, the glass tends to be devitrified and the density tends to increase. Therefore, the content of ZnO is preferably 0 to 5%, 0 to 3%, 0 to 0.5%, 0 to 0.3%, particularly 0 to 0.1%.
  • ZrO 2 is a component that increases the Young's modulus.
  • the content of ZrO 2 is preferably 0 to 5%, 0 to 3%, 0 to 0.5%, 0 to 0.2%, particularly 0 to 0.02%. When the content of ZrO 2 is too large, the liquidus temperature increases, devitrification zircon crystals are easily precipitated.
  • TiO 2 is a component that lowers the viscosity at high temperature and increases the meltability, and is a component that suppresses solarization. However, if it is contained in a large amount in the glass composition, the glass is colored and the transmittance tends to decrease. . Therefore, the content of TiO 2 is preferably 0 to 5%, 0 to 3%, 0 to 1%, 0 to 0.1%, particularly 0 to 0.02%.
  • P 2 O 5 is a component that enhances devitrification resistance. However, if it is contained in a large amount in the glass composition, the glass tends to undergo phase separation and opalescence, and the water resistance may be significantly reduced. Therefore, the content of P 2 O 5 is preferably 0 to 5%, 0 to 1%, 0 to 0.5%, particularly 0 to 0.1%.
  • SnO 2 is a component having a good clarification action in a high temperature region and a component that lowers the high temperature viscosity.
  • the content of SnO 2 is preferably 0 to 1%, 0.01 to 0.5%, 0.05 to 0.3, especially 0.1 to 0.3%. When the content of SnO 2 is too large, the devitrification crystal SnO 2 is likely to precipitate in the glass.
  • the glass of the present invention is suitably added with SnO 2 as a fining agent.
  • CeO 2 , SO 3 , C, metal powder (for example, Al, Si) Etc.) may be added up to 1%.
  • each content is preferably less than 0.1%, particularly preferably less than 0.05%.
  • the glass of the present invention preferably has the following characteristics.
  • Density is preferably 2.40 g / cm 3 or less, 2.35 g / cm 3 or less, particularly preferably 2.30 g / cm 3 or less. If the density is too high, it is difficult to reduce the weight of the glass.
  • the thermal expansion coefficient in the temperature range of 30 to 380 ° C. is preferably 25 to 40 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C., 30 to 38 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C., and particularly preferably 32 to 36 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C. If the thermal expansion coefficient is too low, it becomes difficult to match the thermal expansion coefficients of various peripheral materials, and the glass plate tends to warp. On the other hand, if the thermal expansion coefficient is too high, the thermal shock resistance tends to decrease.
  • the strain point is preferably 610 ° C. or lower, 600 ° C. or lower, 590 or lower, 580 ° C. or lower, particularly preferably 570 ° C. or lower.
  • the temperature at 10 2.5 dPa ⁇ s is preferably 1650 ° C. or lower, 1620 ° C. or lower, 1600 ° C. or lower, and particularly preferably 1580 ° C. or lower.
  • Foam quality affects not only the glass yield but also the touch sensor yield. For this reason, it is important to lower the high temperature viscosity and improve the foam quality.
  • “temperature at 10 2.5 dPa ⁇ s” is a value measured by a platinum ball pulling method.
  • the Young's modulus is preferably 66 GPa or less, 65 GPa or less, 63 GPa or less, 61 GPa or less, and particularly preferably 60 GPa or less.
  • the Young's modulus is reduced, the stress generated per a certain amount of deformation can be reduced. Further, when an object dropped from an altitude collides with the glass, the glass is easily elastically deformed, so that the impact of the drop is easily mitigated. As a result, it is suitable for applications in which the deformation amount of the glass is limited to a small range, particularly for a cover glass.
  • molding to film-form glass it becomes possible to wind in roll shape with a small curvature radius, so that Young's modulus is low.
  • the liquidus temperature is preferably 1180 ° C. or lower, 1150 ° C. or lower, 1130 ° C. or lower, 1110 ° C. or lower, 1090 ° C. or lower, and particularly preferably 1070 ° C. or lower.
  • the liquid phase viscosity is preferably 10 5.0 dPa ⁇ s or more, 10 5.2 dPa ⁇ s or more, 10 5.3 dPa ⁇ s or more, 10 5.5 dPa ⁇ s or more, particularly 10 5.7 dPa ⁇ s or more. s or more is preferable. In this way, devitrification crystals are less likely to occur during molding, so that the glass plate can be easily molded by the overflow down draw method or the like, and the surface quality of the glass plate can be easily improved.
  • the scratch resistance is preferably 5N or more, 7N or more, 10N or more, 12N or more, or 15N or more. If the scratch resistance is low, scratches with cracks are difficult to enter the glass.
  • “scratch resistance” means that when the glass surface was scratched with a Knoop indenter at a speed of 0.4 mm / s, a crack having a width more than twice the scratch was scratched in a direction perpendicular to the scratching direction. It refers to a load that generates 15% or more of the total length.
  • the scratch test is performed in a constant temperature and humidity chamber using a Bruker tribology tester UMT-2 and maintained at a humidity of 30% and a temperature of 25%.
  • the crack resistance is preferably 200 gf or more, 500 gf or more, 700 gf or more, 900 gf or more, 1200 gf or more, 1500 gf or more, 2000 gf or more, 2500 gf or more, 3000 gf or more, and particularly preferably 35000 gf or more. If the crack resistance is low, the glass is easily damaged.
  • crack resistance refers to a load with a crack occurrence rate of 50%.
  • “Crack occurrence rate” refers to a value measured as follows.
  • a Vickers indenter set to a predetermined load is driven into the glass surface (optical polishing surface) for 15 seconds, and 15 seconds later, it is generated from the four corners of the indentation. Count the number of cracks (maximum 4 per indentation). In this way, the indenter is driven 50 times to determine the total number of cracks generated, and then the total crack generation number / 200 ⁇ 100 (%).
  • the dielectric loss tangent at a frequency of 1 MHz is preferably 0.01 or less, 0.05 or less, and particularly preferably 0.001 or less.
  • the internal friction is preferably 0.01 or less, 0.002 or less, 0.001 or less, and particularly preferably 0.0008 or less.
  • a glass batch prepared to have a predetermined glass composition is put into a continuous glass melting furnace, the glass batch is heated and melted, and the obtained molten glass is clarified and then supplied to a molding apparatus. Then, it can be produced by forming into a flat plate shape or the like.
  • the glass of the present invention is preferably formed by an overflow down draw method. In this way, it is possible to obtain a glass plate that is unpolished and has good surface quality.
  • the surface to be the surface of the glass plate is not in contact with the bowl-like refractory and is molded in a free surface state, so that the surface quality of the glass plate can be improved. Since the glass of the present invention is excellent in devitrification resistance and has a viscosity characteristic suitable for molding, the glass plate can be efficiently molded by the overflow down draw method.
  • the glass of the present invention can adopt various forming methods other than the overflow downdraw method.
  • a molding method such as a slot-down method, a float method, or a roll-out method can be adopted.
  • the glass of the present invention preferably has a flat plate shape, that is, is preferably a glass plate, and the thickness thereof is preferably 0.6 mm or less, 0.5 mm or less, 0.4 mm or less, particularly 0.05 to 0.00. 3 mm is preferred. If it is flat form, it will become easy to apply to a cover glass. In addition, the smaller the plate thickness, the easier it is to reduce the weight of the glass plate and the easier it is to reduce the weight of the device.
  • the glass of the present invention is preferably in the form of a film.
  • the plate thickness is preferably 200 ⁇ m or less, 100 ⁇ m or less, 50 ⁇ m or less, and particularly preferably 30 ⁇ m or less.
  • the glass of the present invention preferably has various functional films on the surface.
  • a functional film for example, a transparent conductive film for imparting conductivity, an antireflection film for reducing reflectance, and an antiglare function are imparted to enhance visibility or improve writing quality with a touch pen or the like.
  • An anti-glare film for preventing adhesion of fingerprints and an antifouling film for imparting water repellency and oil repellency are preferred.
  • the transparent conductive film functions as an electrode for a touch sensor, and is preferably formed on the surface to be the display device side, for example.
  • the transparent conductive film for example, tin-doped indium oxide (ITO), fluorine-doped tin oxide (FTO), antimony-doped tin oxide (ATO), or the like is used.
  • ITO is preferable because of its low electric resistance.
  • ITO can be formed by, for example, a sputtering method.
  • FTO and ATO can be formed by a CVD (Chemical Vapor Deposition) method.
  • the antireflection film is formed on the surface to be the viewer side.
  • the antireflection film is preferably, for example, a dielectric multilayer film in which a low refractive index layer having a relatively low refractive index and a high refractive index layer having a relatively high refractive index are alternately laminated.
  • the antireflection film can be formed by, for example, a sputtering method, a CVD method, or the like.
  • the antiglare film is formed on the surface to be the viewer side.
  • the antiglare film preferably has an uneven structure.
  • the uneven structure may be an island structure that partially covers the surface of the glass.
  • it is preferable that the concavo-convex structure does not have regularity. Thereby, an anti-glare function can be enhanced.
  • the antiglare film can be formed, for example, by applying a light-transmitting material such as SiO 2 by a spray method and drying it. When used as a cover glass, the antifouling film is formed on the surface to be the observer side.
  • the antifouling film preferably contains a fluoropolymer containing silicon in the main chain.
  • a fluorine-containing polymer a polymer having a —O—Si—O— unit in the main chain and a water-repellent functional group containing fluorine in the side chain is preferable.
  • the fluorine-containing polymer can be synthesized, for example, by dehydrating condensation of silanol.
  • an antireflection film and an antifouling film it is preferable to form an antifouling film on the antireflection film. Furthermore, when forming an anti-glare film, it is preferable to first form an anti-glare film and then form an antireflection film and / or an antifouling film thereon.
  • the glass of the present invention or the cover glass using the glass of the present invention preferably has photocatalyst particles supported on the surface.
  • the photocatalyst particles particles made of various materials can be used.
  • titanium oxide particles and tungsten oxide particles can be used.
  • anatase type titanium oxide particles are preferred.
  • the reason why anatase type titanium oxide is preferable is that it has higher reactivity as a photocatalyst than rutile type or brookite type titanium oxide.
  • the average particle size of the photocatalyst particles is preferably 1 nm or more, 2 nm or more, particularly 3 nm or more, and preferably 200 nm or less, 100 nm or less, 50 nm or less, 30 nm or less, 20 nm or less, particularly 10 nm or less. preferable.
  • a visible light responsive type photocatalyst such as nitrogen doped titanium oxide particles, copper oxide doped titanium oxide particles, copper oxide doped tungsten oxide particles or the like may be used. If this type of photocatalyst is employed, the photocatalytic effect can be obtained even in an indoor environment. Further, when used in the outdoor environment, there is an advantage that more light energy can be used than the ultraviolet light response type.
  • the glass surface is desirably porous.
  • a method of making the surface porous a method of acid-treating the glass surface can be employed. That is, the glass composition according to the present invention has a property of being easily phase-separated, and in many cases, the surface is phase-separated. For this reason, when the surface is acid-treated, a phase with low acid resistance containing a lot of boric acid components is eluted, and a phase with high acid resistance containing a lot of silicon remains on the surface. As a result, the glass surface becomes porous, and the specific surface area increases significantly.
  • the thickness (depth) of the porous surface is preferably 10 ⁇ m or less.
  • the thickness of the porous surface is too thin, the effect of increasing the specific surface area becomes small. If the surface is too thick, organic substances or the like may accumulate inside and the function as a photocatalyst may be reduced.
  • a glass having the above composition is prepared. It is important that the prepared glass is phase-separated.
  • the size of the phase-separated particles contained in the glass is preferably 1 nm or more, 2 nm or more, 3 nm or more, 5 nm or more, particularly preferably 10 nm or more, and preferably 100 nm or less, 80 nm or less, particularly 60 nm or less. Is preferred.
  • Such glass can be produced using an overflow downdraw method. The characteristics such as the composition and characteristics of the glass are as described above, and the description thereof is omitted here.
  • the pretreatment it is preferable to acid-treat the surface of the glass.
  • the surface of the glass can be modified to be porous and the specific surface area can be increased.
  • the acid treatment method for example, a method of immersing glass in an acid solution can be employed. Moreover, you may spray an acid solution on glass.
  • the acid for example, hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid and the like can be used.
  • a solution containing photocatalyst particles is applied to the surface of the glass.
  • the method of application is not limited. For example, a method of dispersing the photocatalyst particles and immersing glass in the solution can be employed. Further, a solution containing photocatalyst particles may be sprayed on the glass surface.
  • the photocatalyst particles can be fixed on the glass surface by heat treatment.
  • the heating temperature is preferably 250 ° C. or higher, 410 ° C. or higher, particularly 420 ° C. or higher. The higher the heating temperature, the more firmly the photocatalyst particles can be fixed to the glass surface.
  • the heating temperature is preferably 650 ° C. or lower.
  • the preferable aspect of the glass of this invention is illustrated.
  • the density is 2.30 g / cm 3 or less, the thermal expansion coefficient is 25 to 36 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C. in the temperature range of 30 to 380 ° C., the strain point is 610 ° C. or less, and the Young's modulus is 63 GPa or less. Glass. (6) The density is 2.30 g / cm 3 or less, the thermal expansion coefficient is 25 to 40 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C. in the temperature range of 30 to 380 ° C., the strain point is 610 ° C. or less, and the Young's modulus is 65 GPa or less. Glass.
  • Tables 1 to 6 show examples of the present invention (sample Nos. 1 to 42). In addition, [not yet] in a table has shown that it has not measured.
  • Sample no. 1 to 42 were produced. First, glass raw materials prepared so as to have the glass composition shown in the table were put in a platinum crucible and melted at 1600 ° C. for 24 hours, and then poured onto a carbon plate to form a flat plate. Next, for each sample obtained, density ⁇ , thermal expansion coefficient ⁇ , strain point Ps, annealing point Ta, softening point Ts, temperature at 10 4 dPa ⁇ s, temperature at 10 3 dPa ⁇ s, 10 2. The temperature at 5 dPa ⁇ s, Young's modulus E, liquidus temperature TL, liquidus viscosity log ⁇ TL, scratch resistance (scratch resistance) and crack resistance (crack resistance) were evaluated. In this example, SnO 2 was used as a fining agent, but a fining agent other than SnO 2 may be used. Further, if the foaming condition is good by adjusting the melting conditions and batch, the clarifier may not be used.
  • the density ⁇ is a value measured by the well-known Archimedes method.
  • the thermal expansion coefficient ⁇ is a value measured with a dilatometer, and is an average value in a temperature range of 30 to 380 ° C.
  • strain point Ps, the annealing point Ta, and the softening point Ts are values measured based on the methods of ASTM C336 and C338.
  • the temperature at 10 4.0 dPa ⁇ s, the temperature at 10 3.0 dPa ⁇ s, and the temperature at 10 2.5 dPa ⁇ s are values measured by a platinum ball pulling method.
  • the Young's modulus E is a value measured by a resonance method. The greater the Young's modulus, the greater the specific Young's modulus (Young's modulus / density). In the case of a flat plate shape, the glass is less likely to be bent by its own weight.
  • the liquid phase temperature TL passes through a standard sieve 30 mesh (500 ⁇ m), and the glass powder remaining in 50 mesh (300 ⁇ m) is placed in a platinum boat and held in a temperature gradient furnace for 24 hours to measure the temperature at which crystals precipitate. It is the value.
  • Liquid phase viscosity log ⁇ TL is a value obtained by measuring the viscosity of glass at the liquid phase temperature TL by a platinum ball pulling method.
  • Scratch resistance was scratched when the glass surface was scratched with a Knoop indenter at a speed of 0.4 mm / s, and cracks more than twice as wide as scratches were scratched in the direction perpendicular to the scratching direction.
  • a load generated at a length of 15% or more of the total length was measured, and a case where the load was 10 N or more was evaluated as “A” and a case where it was less than 10 N was evaluated as “B”.
  • the scratch test was performed in a constant temperature and humidity chamber using a Bruker tribology tester UMT-2 and maintained at a humidity of 30% and a temperature of 25%.
  • the crack resistance is a value obtained by measuring a load at which the crack occurrence rate is 50%.
  • the crack occurrence rate was measured as follows. First, in a constant temperature and humidity chamber maintained at a humidity of 30% and a temperature of 25 ° C., a Vickers indenter set to a predetermined load is driven into the glass surface (optical polishing surface) for 15 seconds, and 15 seconds later, it is generated from the four corners of the indentation. Count the number of cracks (maximum 4 per indentation). In this manner, the indenter was driven 50 times to determine the total number of cracks generated, and then the total crack generation number / 200 ⁇ 100 (%).
  • the dielectric loss tangent at a frequency of 1 MHz was measured under the conditions of 1 MHz and 25 ° C. by a known parallel plate capacitor method. The internal friction was measured using a known half width method.
  • the surface of the glass plate is appropriately adjusted by adjusting the speed of the pulling roller, the speed of the cooling roller, the temperature distribution of the heating device, the temperature of the molten glass, the flow rate of the molten glass, the drawing speed, the rotational speed of the stirring stirrer, etc.
  • the quality was adjusted.
  • “Warpage” is a value measured by placing a glass plate on an optical surface plate and using a gap gauge described in JIS B-7524.
  • “Waviness” is a value obtained by measuring WCA (filtered center line undulation) described in JIS B-0610 using a stylus type surface shape measuring device, and this measurement is performed by SEMI STD D15-1296 “FPD”.
  • Average surface roughness (Ry) is a value measured by a method based on SEMI D7-94 “Measurement method of surface roughness of FPD glass substrate”.
  • Example 2 A glass sample was prepared by processing 5 glass into a size of 100 mm ⁇ 100 mm ⁇ 0.3 mm. This glass sample was immersed in HCl at 80 ° C.—5 wt% for 10 minutes to modify the surface to be porous. Subsequently, the glass sample after the acid treatment was immersed in an ethanol aqueous solution for 10 minutes and washed.
  • the glass sample was immersed for 5 minutes in a solution in which 2 wt% of titanium oxide (anatase) particles having an average particle diameter of 5 nm were dispersed in a 2-propanol solution, and titanium particles were adhered to the surface of the glass sample.
  • titanium oxide anatase
  • the glass sample was put in an annealer maintained at 500 ° C., and after taking a heat treatment for 2 hours, the glass sample carrying titanium oxide particles on the surface was obtained.
  • the sample thus obtained was irradiated with ultraviolet rays, the organic matter could be decomposed by the photocatalytic function of the titanium oxide particles.
  • Sample No. listed in Table 3 19 materials were melted in a test melting furnace to obtain molten glass, and then a film glass having a plate thickness of 100 ⁇ m was formed by an overflow down draw method. This film-like glass could be wound up into a roll having a curvature radius of 60 mm.
  • the glass of the present invention is suitable as a cover glass, but besides that, as a flat display substrate such as a liquid crystal display or an organic EL display, a substrate for an image sensor such as CSP, CCD, or CIS, or a substrate for a touch sensor. Is preferred. Moreover, when carrying

Abstract

　本発明は、イオン交換処理しなくても、傷が付き難く、落下衝撃強度が高く、しかも軽量なガラス及びその製造方法を創案することを目的とする。本発明のガラスは、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２　５０～７０％、Ａｌ２Ｏ３　０～２０％、Ｂ２Ｏ３　１５～３０％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ　０～３％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ　０～１２％を含有する。

Description

ガラス、それを用いたカバーガラス及びガラスの製造方法
　本発明は、ガラス、それを用いたカバーガラス及びガラスの製造方法に関し、具体的には携帯電話、デジタルカメラ、ＰＤＡ（携帯端末）、太陽電池、チップサイズパッケージ（ＣＳＰ）、電荷結合素子（ＣＣＤ）、等倍近接型固体撮像素子（ＣＩＳ）のカバーガラス、特にタッチパネルディスプレイのカバーガラスに好適なガラス及びガラスの製造方法に関する。
　携帯電話、デジタルカメラ、ＰＤＡ等のデバイスは、益々普及する傾向にある。これらの用途には、イオン交換処理された強化ガラスが、タッチパネルディスプレイのカバーガラスとして用いられている（特許文献１、非特許文献１参照）。
　従来まで、強化ガラスは、予めガラス板を所定形状に切断した後、イオン交換処理を行うこと、所謂、「強化前切断」で作製されていたが、近年、大型の強化用ガラス板をイオン交換処理した後、タッチセンサー等の膜を形成し、所定サイズに切断すること、所謂、「強化後切断」が検討されている。強化後切断を行うと、デバイスの製造効率が飛躍的に向上する。
日本国特開２００６－８３０４５号公報
泉谷徹郎等、「新しいガラスとその物性」、初版、株式会社経営システム研究所、１９８４年８月２０日、ｐ．４５１－４９８
　ところで、カバーガラスには、（１）傷が付き難いこと、（２）落下衝撃強度が高いことが要求される。従来のカバーガラスは、上記（１）、（２）の特性を満たすために、イオン交換処理により、表面に圧縮応力層を有する強化ガラスとされている。
　しかし、イオン交換処理は、カバーガラスの製造コストを高騰させる。
　また、強化後切断を行う場合、表面に存在する圧縮応力層が障壁になるため、切断時に強化ガラスが破損し易くなると共に、切断後に圧縮応力層が存在しない領域が端面に露出するため、端面強度が低下し易くなる。更に強化ガラスの表面にタッチセンサー等の膜を形成する場合、強化ガラスの面内強度が低下し易くなる。
　更に、近年では、大型テレビにもカバーガラスを用いることが検討されており、そのカバーガラスには、強化ガラスが使用されている。しかし、従来の強化ガラスは、十分に軽量であるとは言えず、大型デバイスの軽量化に資するものではない。
　本発明は、上記事情に鑑み成されたものであり、その技術的課題は、イオン交換処理しなくても、傷が付き難く、落下衝撃強度が高く、しかも軽量なガラス、それを用いたカバーガラス及びその製造方法を創案することである。
　本発明者等は、種々の実験を繰り返した結果、ガラス組成範囲を所定範囲に規制することにより、上記技術的課題を解決できることを見出し、本発明として、提案するものである。すなわち、本発明のガラスは、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２　５０～７０％、Ａｌ２Ｏ３　０～２０％、Ｂ２Ｏ３　１５～３０％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ　０～３％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ　０～１２％を含有する。ここで、「Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ」は、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ及びＫ２Ｏの合量を指す。「ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ」は、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯの合量を指す。
　本発明のガラスは、ガラス組成中にＢ２Ｏ３を１５質量％以上含む。このようにすれば、耐スクラッチ性、耐クラック性を高めることができる。更にヤング率が低下するため、落下衝撃性も高めることができる。更に、本発明のガラスは、ガラス組成中のＬｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏの含有量を３質量％以下、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯの含有量を１２質量％以下、好ましくは８質量％以下とする。このようにすれば、密度が低下し易くなり、結果としてカバーガラスを軽量化し易くなる。
　また本発明のガラスは、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２　５８～７０％、Ａｌ２Ｏ３　７～２０％、Ｂ２Ｏ３　１８～３０％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ　０～１％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ　０～１０％を含有することが好ましい。
　また本発明のガラスは、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２　５０～７０％、Ａｌ２Ｏ３　０～１５％、Ｂ２Ｏ３　１５～３０％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ　０～３％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ　０～８％を含有することが好ましい。
　また本発明のガラスは、Ｂ２Ｏ３－（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）が５質量％以上であることが好ましい。ここで「Ｂ２Ｏ３－（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）」とは、Ｂ２Ｏ３の含有量から、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯの含有量の合量を減じた値を指す。
　例えば板厚２００μｍ以下のフィルム状ガラスの場合、軽量であること、及びロール状に巻き取る際に有利なように小さい曲率半径で曲げられることが求められる。そこで上記構成を採用すれば、低密度で且つ低ヤング率のガラスを得やすくなり、フィルム状ガラス材質として好適である。
　また本発明のガラスは、質量比で（ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ）が１以下であることが好ましい。ここで「（ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ）」とは、ＳｒＯとＢａＯの含有量の合量をＭｇＯとＣａＯの含有量の合量で除した値を指す。
　上記構成を採用すれば、低密度のガラスを得やすくなり、フィルム状ガラス材質として好適である。
　また本発明のガラスは、質量基準でＢ２Ｏ３の含有量がＡｌ２Ｏ３の含有量よりも多いこと（すなわち、Ｂ２Ｏ３－Ａｌ２Ｏ３が０質量％超であること）が好ましい。
　上記構成を採用すれば、低ヤング率のガラスを得やすくなり、フィルム状ガラス材質として好適である。
　また本発明のガラスは、液相粘度が１０５．０ｄＰａ・ｓ以上であることが好ましい。ここで、「液相粘度」は、液相温度におけるガラスの粘度を白金球引き上げ法で測定した値を指す。「液相温度」は、標準篩３０メッシュ（５００μｍ）を通過し、５０メッシュ（３００μｍ）に残るガラス粉末を白金ボートに入れ、温度勾配炉中に２４時間保持して、結晶の析出する温度を測定した値を指す。
　また本発明のガラスは、密度が２．４０ｇ／ｃｍ３以下（特に２．３０ｇ／ｃｍ３以下）、３０～３８０℃の温度範囲における熱膨張係数が２５～４０×１０－７／℃、歪点が６１０℃以下、且つヤング率が６６ＧＰａ以下（特に６５ＧＰａ以下）であることが好ましい。ここで、「密度」は、周知のアルキメデス法で測定可能である。「３０～３８０℃の温度範囲における熱膨張係数」は、ディラトメーターで測定した平均値を指す。「歪点」は、ＡＳＴＭ　Ｃ３３６の方法に基づいて測定した値を指す。「ヤング率」は、周知の共振法で測定した値を指す。
　また本発明のガラスは、オーバーフローダウンドロー法で成形されてなることが好ましい。ここで、「オーバーフローダウンドロー法」は、溶融ガラスを耐熱性の樋状構造物の両側から溢れさせて、溢れた溶融ガラスを樋状構造物の下端で合流させながら、下方に延伸成形してガラス板を作製する方法である。
　また本発明のガラスは、カバーガラスに用いることが好ましい。
　また本発明のガラスは、イオン交換処理されていないことが好ましい。このようにすれば、カバーガラスの製造コストを低廉化することができる。
　ところで本発明のガラスをカバーガラス等として使用する場合、指紋等の付着による汚れが問題となり易い。このような場合、ガラス表面に光触媒粒子が担持されていることが好ましい。
　このような構成とすれば、光触媒粒子の作用によって、表面に付着した指紋等の汚れを分解除去することができる。
　またＢ２Ｏ３を多量に含有するガラスは分相傾向が強く、特別な熱処理を行わなくても表面が分相している場合がある。このようなガラスに酸処理を施せば、表面部分が多孔質になり、比表面積の大きいガラスを容易に得ることが可能になる。
　また本発明のガラスは、ガラス表面が多孔質状であることが好ましい。ここで「表面が多孔質状」であるとは、表面のみが多孔質状であること、言い換えれば粒子全体が多孔質体でない、ということを意味する。「多孔質状」とは、無数の孔が存在する状態を意味しているが、必ずしも孔同士が連通している必要はない。
　上記構成を採用すれば、ガラス表面に多くの光触媒粒子を担持することができ、また多くの有機物を光触媒体表面に吸着できることから、光触媒機能を大幅に向上させることができる。
　また本発明のガラスは、光触媒粒子が酸化チタン粒子であることが好ましい。
　上記構成を採用すれば、太陽光など紫外光を含む光が照射されると、汚れや菌などの有機物を素早く分解し、防汚や抗菌・抗カビなどの優れた効果が得られる。
　本発明のカバーガラスは、上記の本発明のガラスからなる。
　本発明のカバーガラスは、ガラス表面が多孔質状であり、且つ光触媒粒子が担持されていることが好ましい。
　上記構成のカバーガラスは、光触媒粒子の作用によって、表面に付着した指紋等の汚れを分解除去可能であるから、清浄な状態を維持することが容易である。
　本発明のガラスの製造方法は、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２　５０～７０％、Ａｌ２Ｏ３　０～２０％、Ｂ２Ｏ３　１５～３０％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ　０～３％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ　０～１２％を含有するガラスとなるように調製した原料バッチを溶融し、成形する方法である。より好適には、質量％で、ＳｉＯ２　５８～７０％、Ａｌ２Ｏ３　７～２０％、Ｂ２Ｏ３　１８～３０％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ　０～１％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ　０～１０％含有するガラスや、質量％で、ＳｉＯ２　５０～７０％、Ａｌ２Ｏ３　０～１５％、Ｂ２Ｏ３　１５～３０％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ　０～３％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ　０～８％を含有するガラスとなるように原料バッチを調製することが好ましい。
　また本発明の製造方法は、さらにガラス表面に光触媒成分を含む溶液を塗布した後、熱処理してガラス表面に光触媒粒子を担持させることが好ましい。
　上記構成を採用すれば、ガラス表面に光触媒粒子を容易に担持させることができる。
　また本発明の製造方法は、ガラス表面を酸処理した後、光触媒成分を含む溶液を塗布することが好ましい。
　上記構成を採用すれば、基材となるガラスの表面が多孔質状となり、比表面積を大きくできることから、多量の光触媒粒子を担持させることが可能になる。
　また本発明の製造方法は、光触媒成分を含む溶液として、酸化チタン粒子が分散した溶液を使用することが好ましい。
　上記構成を採用すれば、汚れや菌などの有機物を素早く分解できる酸化チタン粒子をガラス表面に容易に塗布することができる。
　本発明によれば、上述のように、ガラス組成を特定の範囲に規定することにより、イオン交換処理しなくても、傷が付き難く、落下衝撃強度が高く、しかも軽量なガラス、それを用いたカバーガラス及びその製造方法を提供することができる。
　本発明のガラスにおいて、上記のように各成分の含有量を限定した理由を以下に示す。なお、以下の％表示は、特に断りがある場合を除き、質量％を指す。
　ＳｉＯ２の含有量は５０～７０％であり、好ましくは５３～７０％、５５～７０％、５８～７０％、６０～７０％、６２～６９％、特に６２～６７％である。ＳｉＯ２の含有量が少な過ぎると、密度が高くなり易い。一方、ＳｉＯ２の含有量が多過ぎると、高温粘度が高くなって、溶融性が低下することに加えて、ガラス中に失透結晶（クリストバライト）等の欠陥が生じ易くなる。
　Ａｌ２Ｏ３は任意成分であるが、その含有量が少な過ぎると、耐スクラッチ性、耐クラック性、耐熱性が低下し易くなる。また分相により透過率が低下し易くなる。よって、Ａｌ２Ｏ３の下限範囲は０％以上であり、好ましくは１％以上、２％以上、３％以上、４％以上、５％以上、６％以上、７％以上、８％以上、特に９％以上である。一方、Ａｌ２Ｏ３には、ヤング率を高める働きがあるが、その含有量が多過ぎると、ヤング率が高くなり過ぎて、耐衝撃強度が低下し易くなる。またフィルム状ガラスとする場合には、曲率半径を小さくすることが難しくなる。さらにＡｌ２Ｏ３の含有量が多過ぎると、液相温度が高くなって、耐失透性が低下し易くなる。よって、Ａｌ２Ｏ３の上限範囲は２０％以下であり、好ましくは１９％以下、１８％以下、１７％以下、１５％以下、１３％未満、１２％以下、特に１１％以下である。
　Ｂ２Ｏ３は、耐スクラッチ性、耐クラック性を高める成分であり、またヤング率を低下させる成分である。更に密度を低下させる成分である。また誘電損失や、振動損失を少なくする成分である。さらに分相を誘起しやすくする成分である。ガラスが分相していれば、酸処理によってガラス表面を多孔質状に改質しやすくなり、光触媒粒子を担持させて高度な光触媒活性機能を得ることが可能になる。Ｂ２Ｏ３の含有量は１５～３０％である。Ｂ２Ｏ３の含有量が少な過ぎると、耐スクラッチ性、耐クラック性が低下し易くなることに加えて、ヤング率が高くなって、耐衝撃性が低下し易くなる。またフィルム状ガラスとする場合には、曲率半径を小さくすることが難しくなる。さらに融剤としての働きが不十分になり、高温粘性が高くなって、泡品位が低下し易くなる。更に低密度化を図り難くなる。よって、Ｂ２Ｏ３の下限範囲は１５％以上であり、好ましくは１８％以上、２０％以上、２０％超、２２％以上、２４％以上、特に２５％以上である。一方、Ｂ２Ｏ３の含有量が多過ぎると、耐熱性、化学的耐久性が低下し易くなったり、分相により透過率が低下し易くなる。よって、Ｂ２Ｏ３の上限範囲は３０％以下であり、好ましくは２８％以下、２７％以下である。
　Ｂ２Ｏ３－Ａｌ２Ｏ３は、０％超であることが好ましく、１％以上、２％以上、３％以上、４％以上、５％以上、６％以上、７％以上、８％以上、９％以上、特に１０％以上であることがより好ましい。この値が大きいほどヤング率が低下し易くなるため、落下衝撃強度を高め易くなる。またフィルム状ガラスとする場合には、曲率半径を小さくすることが容易になる。なお、「Ｂ２Ｏ３－Ａｌ２Ｏ３」は、Ｂ２Ｏ３の含有量からＡｌ２Ｏ３の含有量を減じたものである。
　アルカリ金属酸化物は、溶融性、成形性を高める成分であるが、その含有量が多過ぎると、密度が高くなったり、耐水性が低下したり、熱膨張係数が不当に高くなって、耐熱衝撃性が低下したり、周辺材料の熱膨張係数に整合させ難くなる。またアルカリ金属酸化物は、表面に光触媒粒子を担持させた場合に、光触媒活性機能を低下させる。よって、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏの含有量は０～３％であり、好ましくは０～２％、０～１％、０～０．５％、０～０．２％、０～０．１％、特に０～０．１％未満である。Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ及びＫ２Ｏのそれぞれの含有量は、好ましくは０～３％、０～２％、０～１％、０～０．５％、０～０．２％、０～０．１％、特に０～０．１％未満である。なお、アルカリ金属酸化物の含有量が少ないと、ＳｉＯ２膜等のアルカリバリア膜が不要になる。
　アルカリ土類金属酸化物は、液相温度を下げて、ガラス中に結晶異物を発生させ難くする成分であり、また溶融性や成形性を高める成分である。ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯの含有量は０～１２％であり、好ましくは０～１０％、０～８％、０～７％、１～７％、２～７％、３～９％、特に３～６％である。ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯの含有量が少な過ぎると、融剤としての働きを十分に発揮できず、溶融性が低下することに加えて、耐失透性が低下し易くなる。一方、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯの含有量が多過ぎると、密度が上昇して、ガラスの軽量化を図り難くなることに加えて、熱膨張係数が不当に高くなって、耐熱衝撃性が低下し易くなる。またガラスの分相性が悪化する。さらにヤング率が高くなり、フィルム状ガラスとする場合には、曲率半径を小さくすることが難しくなる。
　質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／Ａｌ２Ｏ３が小さ過ぎると、耐失透性が低下して、オーバーフローダウンドロー法でガラス板を成形し難くなる。一方、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／Ａｌ２Ｏ３が大き過ぎると、密度、熱膨張係数が不当に上昇する虞がある。よって、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／Ａｌ２Ｏ３は、好ましくは０．１～１．２、０．２～１．２、０．３～１．２、０．４～１．１、特に０．５～１．０である。なお、「（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／Ａｌ２Ｏ３」は、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯの含有量をＡｌ２Ｏ３の含有量で除した値を指す。
　質量比（ＳｒＯ＋ＢａＯ）／Ｂ２Ｏ３は、好ましくは０．１以下、０．０５以下、０．０３以下、特に０．０２以下である。このようにすれば、耐スクラッチ性、耐クラック性を高め易くなる。なお、「ＳｒＯ＋ＢａＯ」は、ＳｒＯとＢａＯの合量である。また、「（ＳｒＯ＋ＢａＯ）／Ｂ２Ｏ３」は、ＳｒＯ＋ＢａＯの含有量をＢ２Ｏ３の含有量で除した値を指す。
　また質量比Ｂ２Ｏ３／（ＳｒＯ＋ＢａＯ）は、好ましくは１０以上、２０以上、３０以上、４０以上、特に５０以上である。このようにすれば、耐スクラッチ性、耐クラック性を高め易くなる。なお、「Ｂ２Ｏ３／（ＳｒＯ＋ＢａＯ）」は、ＳｒＯ＋ＢａＯの含有量をＢ２Ｏ３の含有量で除した値を指す。
　Ｂ２Ｏ３－（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）は、好ましくは５％以上、６％以上、７％以上、８％以上、９％以上、１０％以上、１１％以上、特に１２％以上である。このようにすれば、密度が低下し易くなるため、デバイスの軽量化を図り易くなる。またヤング率が小さくなる。
　ＭｇＯは、歪点を低下させずに、高温粘性を下げ、溶融性を高める成分であり、またアルカリ土類金属酸化物の中では最も密度を下げる効果がある成分である。更に耐クラック性を高める成分である。また分相を誘起しやすくする成分でもある。ガラスが分相していれば、酸処理によってガラス表面を多孔質状に改質しやすくなり、光触媒粒子を担持させて高度な光触媒活性機能を得ることが可能になる。ＭｇＯの含有量は、好ましくは０～１２％、０～１０％、０～８％、０．１～６％、０．５～３％、特に１～２％である。しかし、ＭｇＯの含有量が多過ぎると、液相温度が上昇して、耐失透性が低下し易くなる。またガラスが分相し易くなって、透明性が低下し易くなる。
　ＣａＯは、歪点を低下させずに、高温粘性を下げて、溶融性を顕著に高める成分であると共に、本発明のガラス組成系において、耐失透性を高める効果が大きい成分である。よって、ＣａＯの好適な下限範囲は０％以上、０．１％以上、１％以上、２％以上、３％以上、特に４％以上である。一方、ＣａＯの含有量が多過ぎると、熱膨張係数、密度が不当に上昇したり、ガラス組成の成分バランスを損なわれて、かえって耐失透性が低下し易くなる。よって、ＣａＯの好適な上限範囲は１２％以下、１０％以下、８％以下、７％以下、６％以下、特に５％以下である。
　ＳｒＯは、歪点を低下させずに、高温粘性を下げて、溶融性を高める成分であるが、ＳｒＯの含有量が多くなると、耐スクラッチ性、耐クラック性が低下し易くなる。よって、ＳｒＯの含有量は、好ましくは０～３％、０～２％、０～１．５％、０～１％、０～０．５％、特に０～０．１％である。
　ＢａＯは、歪点を低下させずに、高温粘性を下げて、溶融性を高める成分であるが、ＢａＯの含有量が多くなると、耐スクラッチ性、耐クラック性が低下し易くなる。よって、ＢａＯの含有量は、好ましくは０～３％、０～２％、０～１．５％、０～１％、０～０．５％、特に０～０．１％未満である。
　質量比（ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ）は、好ましくは１以下、０．８以下、０．５以下、特に０．３以下である。質量比（ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ）が大き過ぎるとガラスの密度が大きくなり過ぎる。
　上記成分以外にも、以下の成分をガラス組成中に導入してもよい。
　ＺｎＯは、溶融性を高める成分であるが、ガラス組成中に多量に含有させると、ガラスが失透し易くなり、密度も上昇し易くなる。よって、ＺｎＯの含有量は、好ましくは０～５％、０～３％、０～０．５％、０～０．３％、特に０～０．１％である。
　ＺｒＯ２は、ヤング率を高める成分である。ＺｒＯ２の含有量は、好ましくは０～５％、０～３％、０～０．５％、０～０．２％、特に０～０．０２％である。ＺｒＯ２の含有量が多過ぎると、液相温度が上昇して、ジルコンの失透結晶が析出し易くなる。
　ＴｉＯ２は、高温粘性を下げて、溶融性を高める成分であると共に、ソラリゼーションを抑制する成分であるが、ガラス組成中に多く含有させると、ガラスが着色して、透過率が低下し易くなる。よって、ＴｉＯ２の含有量は、好ましくは０～５％、０～３％、０～１％、０～０．１％、特に０～０．０２％である。
　Ｐ２Ｏ５は、耐失透性を高める成分であるが、ガラス組成中に多量に含有させると、ガラスが分相、乳白し易くなり、また耐水性が顕著に低下する虞がある。よって、Ｐ２Ｏ５の含有量は、好ましくは０～５％、０～１％、０～０．５％、特に０～０．１％である。
　ＳｎＯ２は、高温域で良好な清澄作用を有する成分であると共に、高温粘性を低下させる成分である。ＳｎＯ２の含有量は、好ましくは０～１％、０．０１～０．５％、０．０５～０．３、特に０．１～０．３％である。ＳｎＯ２の含有量が多過ぎると、ＳｎＯ２の失透結晶がガラス中に析出し易くなる。
　上記の通り、本発明のガラスは、清澄剤として、ＳｎＯ２の添加が好適であるが、ガラス特性が損なわない限り、清澄剤として、ＣｅＯ２、ＳＯ３、Ｃ、金属粉末（例えばＡｌ、Ｓｉ等）を１％まで添加してもよい。
　Ａｓ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３、Ｆ、Ｃｌも清澄剤として有効に作用し、本発明のガラスは、これらの成分の含有を排除するものではないが、環境的観点から、これらの成分の含有量はそれぞれ０．１％未満、特に０．０５％未満が好ましい。
　本発明のガラスは、以下の特性を有することが好ましい。
　密度は好ましくは２．４０ｇ／ｃｍ３以下、２．３５ｇ／ｃｍ３以下、特に２．３０ｇ／ｃｍ３以下が好ましい。密度が高過ぎると、ガラスの軽量化を図り難くなる。
　３０～３８０℃の温度範囲における熱膨張係数は、好ましくは２５～４０×１０－７／℃、３０～３８×１０－７／℃、特に３２～３６×１０－７／℃が好ましい。熱膨張係数が低過ぎると、各種周辺材料の熱膨張係数に整合させ難くなり、ガラス板が反り易くなる。一方、熱膨張係数が高過ぎると、耐熱衝撃性が低下し易くなる。
　歪点は、好ましくは６１０℃以下、６００℃以下、５９０以下、５８０℃以下、特に５７０℃以下が好ましい。ガラスの粘性、特に歪点が低いと、高度から落下した物体がガラスに衝突した場合、ガラスの変形により衝突の応力を緩和し易くなり、落下の衝撃を緩和し易くなる。
　１０２．５ｄＰａ・ｓにおける温度は、好ましくは１６５０℃以下、１６２０℃以下、１６００℃以下、特に１５８０℃以下が好ましい。泡品位は、ガラスの歩留まりのみならず、タッチセンサーの歩留まりにも影響を及ぼす。このため、高温粘性を低下させて、泡品位を高めることは重要である。ここで、「１０２．５ｄＰａ・ｓにおける温度」は、白金球引き上げ法で測定した値である。
　ヤング率は、好ましくは６６ＧＰａ以下、６５ＧＰａ以下、６３ＧＰａ以下、６１ＧＰａ以下、特に６０ＧＰａ以下が好ましい。ヤング率を低減すると、一定の変形量当たりに発生する応力を低減することができる。また高度から落下した物体がガラスに衝突した場合、ガラスが弾性変形し易くなるため、落下の衝撃を緩和し易くなる。結果として、ガラスの変形量が小さい範囲に限定される用途、特にカバーガラスに好適になる。またフィルム状ガラスに成形する場合は、ヤング率が低いほど小さい曲率半径でロール状に巻くことが可能となる。
　液相温度は、好ましくは１１８０℃以下、１１５０℃以下、１１３０℃以下、１１１０℃以下、１０９０℃以下、特に１０７０℃以下が好ましい。液相粘度は、好ましくは１０５．０ｄＰａ・ｓ以上、１０５．２ｄＰａ・ｓ以上、１０５．３ｄＰａ・ｓ以上、１０５．５ｄＰａ・ｓ以上、特に１０５．７ｄＰａ・ｓ以上が好ましい。このようにすれば、成形時に失透結晶が発生し難くなるため、オーバーフローダウンドロー法等でガラス板を成形し易くなり、ガラス板の表面品位を高め易くなる。
　スクラッチレジスタンスは、好ましくは５Ｎ以上、７Ｎ以上、１０Ｎ以上、１２Ｎ以上、１５Ｎ以上が好ましい。スクラッチレジスタンスが低いと、クラックを伴う傷がガラスに入り難くなる。ここで、「スクラッチレジスタンス」とはガラス表面をヌープ圧子で０．４ｍｍ／ｓの速さで引っ掻いたときに、引っ掻き方向と垂直な方向にひっかき傷の２倍以上の幅のクラックが、引っ掻いた全長の１５％以上の長さ発生する荷重を指す。なお引っ掻き試験は、Ｂｒｕｋｅｒ社のトライボロジー試験機ＵＭＴ－２を用い、湿度３０％、温度２５％に保持された恒温恒湿槽内において行う。
　クラックレジスタンスは、好ましくは２００ｇｆ以上、５００ｇｆ以上、７００ｇｆ以上、９００ｇｆ以上、１２００ｇｆ以上、１５００ｇｆ以上、２０００ｇｆ以上、２５００ｇｆ以上、３０００ｇｆ以上、特に３５０００ｇｆ以上が好ましい。クラックレジスタンスが低いと、ガラスに傷が付き易くなる。ここで、「クラックレジスタンス」とは、クラック発生率が５０％となる荷重のことを指す。また、「クラック発生率」は、次のようにして測定した値を指す。まず湿度３０％、温度２５℃に保持された恒温恒湿槽内において、所定荷重に設定したビッカース圧子をガラス表面（光学研磨面）に１５秒間打ち込み、その１５秒後に圧痕の４隅から発生するクラックの数をカウント（１つの圧痕につき最大４とする）する。このようにして圧子を５０回打ち込み、総クラック発生数を求めた後、総クラック発生数／２００×１００（％）の式により求める。
　１ＭＨｚの周波数における誘電正接は、好ましくは０．０１以下、０．０５以下、特に０．００１以下であることが好ましい。
　内部摩擦は、好ましくは０．０１以下、０．００２以下、０．００１以下、特に０．０００８以下であることが好ましい。
　本発明のガラスは、所定のガラス組成となるように調合したガラスバッチを連続式ガラス溶融窯に投入し、このガラスバッチを加熱溶融し、得られた溶融ガラスを清澄した後、成形装置に供給した上で平板形状等に成形することにより作製することができる。
　本発明のガラスは、オーバーフローダウンドロー法で成形されてなることが好ましい。このようにすれば、未研磨で表面品位が良好なガラス板を得ることができる。オーバーフローダウンドロー法の場合、ガラス板の表面となるべき面は樋状耐火物に接触せず、自由表面の状態で成形されるため、ガラス板の表面品位を高めることができる。本発明のガラスは、耐失透性に優れると共に、成形に適した粘度特性を有しているため、オーバーフローダウンドロー法でガラス板を効率良く成形することができる。
　本発明のガラスは、オーバーフローダウンドロー法以外にも、種々の成形方法を採択することができる。例えば、スロットダウン法、フロート法、ロールアウト法等の成形方法を採択することができる。
　本発明のガラスは、好ましくは平板形状を有する、つまりガラス板であることが好ましく、その板厚は好ましくは０．６ｍｍ以下、０．５ｍｍ以下、０．４ｍｍ以下、特に０．０５～０．３ｍｍが好ましい。平板形状であれば、カバーガラスに適用し易くなる。また板厚が小さい程、ガラス板を軽量化し易くなり、デバイスも軽量化し易くなる。
　また本発明のガラスは、フィルム状であることが好ましい。この場合、その板厚は好ましくは２００μｍ以下、１００μｍ以下、５０μｍ以下、特に３０μｍ以下であることが好ましい。
　本発明のガラスは、表面上に各種機能膜を有することが好ましい。機能膜として、例えば、導電性を付与するための透明導電膜、反射率を低下させるための反射防止膜、防眩機能を付与して、視認性を高めたり、タッチペン等での書き味を高めるためのアンチグレア膜、指紋の付着を防止して、撥水性、撥油性を付与するための防汚膜等が好ましい。透明導電膜は、タッチセンサー用の電極として機能し、例えば、ディスプレイデバイス側になるべき表面に形成されることが好ましい。透明導電膜として、例えば、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）等が用いられる。特に、ＩＴＯは、電気抵抗が低いため好ましい。ＩＴＯは、例えば、スパッタリング法により形成することができる。また、ＦＴＯ、ＡＴＯは、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｖａｐｏｒ　Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法により形成することができる。反射防止膜は、観察者側になるべき表面に形成される。また、タッチパネルとカバーガラスとの間に空隙がある場合、カバーガラスの裏面側（ディスプレイデバイス側とは反対側）になるべき表面にも反射防止膜を形成することが好ましい。反射防止膜は、例えば、相対的に屈折率が低い低屈折率層と相対的に屈折率が高い高屈折率層とが交互に積層された誘電体多層膜であることが好ましい。反射防止膜は、例えば、スパッタリング法、ＣＶＤ法等により形成することができる。アンチグレア膜は、カバーガラスとして使用する場合、観察者側になるべき表面に形成される。アンチグレア膜は、凹凸構造を有することが好ましい。凹凸構造は、ガラスの表面を部分的に覆う島状の構造であってもよい。また、凹凸構造は、規則性を有していないことが好ましい。これにより、アンチグレア機能を高めることができる。アンチグレア膜は、例えば、スプレー法によりＳｉＯ２等の透光性材料を塗布し、乾燥させることにより形成することができる。防汚膜は、カバーガラスとして使用する場合、観察者側になるべき表面に形成される。防汚膜は、主鎖中にケイ素を含む含フッ素重合体を含むことが好ましい。含フッ素重合体として、主鎖中に、－Ｏ－Ｓｉ－Ｏ－ユニットを有し、且つフッ素を含む撥水性の官能基を側鎖に有する重合体が好ましい。含フッ素重合体は、例えば、シラノールを脱水縮合することにより合成することができる。反射防止膜と防汚膜を形成する場合、反射防止膜の上に防汚膜を形成することが好ましい。更にアンチグレア膜を形成する場合、まずアンチグレア膜を形成し、その上に、反射防止膜及び／又は防汚膜が形成することが好ましい。
　また本発明のガラス或いは本発明のガラスを用いたカバーガラスは、表面に光触媒粒子が担持されていることが好ましい。光触媒粒子には種々の材料からなる粒子が使用可能である。例えば酸化チタン粒子、酸化タングステン粒子等が使用できる。特にアナターゼ型の酸化チタン粒子が好ましい。アナターゼ型の酸化チタンが好ましい理由は、ルチル型又はブルッカイト型の酸化チタンと比べて、光触媒としての反応性が高いからである。光触媒粒子の平均粒子径は、好ましくは１ｎｍ以上、２ｎｍ以上、特に３ｎｍ以上であることが好ましく、また好ましくは２００ｎｍ以下、１００ｎｍ以下、５０ｎｍ以下、３０ｎｍ以下、２０ｎｍ以下、特に１０ｎｍ以下であることが好ましい。
　また上記した紫外光応答型の他に、窒素ドープ型酸化チタン粒子、酸化銅ドープ型酸化チタン粒子、酸化銅ドープ型酸化タングステン粒子等の可視光応答型の光触媒を使用してもよい。このタイプの光触媒を採用すれば、室内環境であっても光触媒の効果が得られる。また野外環境での使用の場合、紫外光応答型よりも多くの光エネルギーを使用できるという利点がある。
　表面に多量の光触媒粒子を担持させるにはガラス表面が多孔質状であることが望ましい。表面を多孔質状にする方法として、ガラス表面を酸処理する方法を採用することができる。つまり本発明に係るガラス組成は、分相し易い性質を有しており、多くの場合、表面が分相している。このため表面を酸処理すると、ホウ酸成分を多く含む耐酸性の低い相が溶出し、ケイ素を多く含む耐酸性の高い相が表面に残る。その結果、ガラス表面が多孔質状になり、比表面積が著しく増加する。なおガラス内部は分相しにくいことから、酸処理しても多孔質状となるのはガラス表面のみとなる。なお多孔質状となる表面（多孔質層）の厚さ（深さ）は、１０μｍ以下であることが好ましい。多孔質状となる表面の厚さが薄すぎると、比表面積を大きくする効果が小さくなる。表面の厚さが厚すぎると、内部に有機物等が堆積して光触媒としての機能が低下する恐れがある。
　次に上記したガラスに光触媒粒子を担持させる方法を説明する。
　まず上記組成を有するガラスを用意する。用意するガラスは、分相していることが重要である。ガラス中に含まれる分相粒子の大きさは好ましくは１ｎｍ以上、２ｎｍ以上、３ｎｍ以上、５ｎｍ以上、特に１０ｎｍ以上であることが好ましく、また好ましくは１００ｎｍ以下、８０ｎｍ以下、特に６０ｎｍ以下であることが好ましい。このようなガラスは、オーバーフローダウンドロー法を用いて作製することができる。なおガラスの組成、特性等の特徴は既述の通りであり、ここでは説明を省略する。
　前処理として、ガラスの表面を酸処理しておくことが好ましい。予め表面を酸処理しておくことにより、ガラスの表面を多孔質状に改質し、比表面積を大きくすることができる。酸処理の方法としては、例えば酸溶液中にガラスを浸漬する方法を採用することができる。また酸溶液をガラスに噴霧してもよい。酸としては、例えば塩酸、硝酸、硫酸等を使用することができる。
　次にガラスの表面に、光触媒粒子を含む溶液を塗布する。塗布の方法は限定されない。例えば、光触媒粒子を分散させて溶液中にガラスを浸漬する方法を採用することができる。また光触媒粒子を含む溶液をガラス表面に噴霧してもよい。
　続いて、ガラスを熱処理する。熱処理することにより、光触媒粒子をガラス表面に固定することができる。加熱温度としては、好ましくは２５０℃以上、４１０℃以上、特に４２０℃以上であることが好ましい。加熱温度が高いほど、光触媒粒子を強固にガラス表面に固定できる。なお、加熱温度が高すぎるとガラスが軟化して空孔が塞がれ、表面積が低減するという不具合が生じることがある。そのため加熱温度は６５０℃以下とすることが好ましい。
　このようにして光触媒体が表面に担持されたガラスを得ることができる。
　次に本発明のガラスの好ましい態様を例示する。
（１）ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２　５５～７０％、Ａｌ２Ｏ３　３～１５％、Ｂ２Ｏ３　１８～３０％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ　０～１％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ　０～７％を含有するガラス。
（２）ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２　５５～７０％、Ａｌ２Ｏ３　３～１２％、Ｂ２Ｏ３　２０～３０％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ　０～０．５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ　０～６％を含有し、密度が２．２８ｇ／ｃｍ３以下、歪点が６１０℃以下、且つヤング率が６６ＧＰａ以下であるガラス。
（３）ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２　５８～７０％、Ａｌ２Ｏ３　７～２０％、Ｂ２Ｏ３　１８～３０％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ　０～１％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ　０～６％を含有し、ヤング率が６３ＧＰａ以下であるガラス。
（４）　密度が２．４０ｇ／ｃｍ３以下、３０～３８０℃の温度範囲における熱膨張係数が３６×１０－７／℃以下、歪点が６１０℃以下、且つヤング率が６３ＧＰａ以下であるガラス。
（５）　密度が２．３０ｇ／ｃｍ３以下、３０～３８０℃の温度範囲における熱膨張係数が２５～３６×１０－７／℃、歪点が６１０℃以下、且つヤング率が６３ＧＰａ以下であるガラス。
（６）　密度が２．３０ｇ／ｃｍ３以下、３０～３８０℃の温度範囲における熱膨張係数が２５～４０×１０－７／℃、歪点が６１０℃以下、且つヤング率が６５ＧＰａ以下であるガラス。
　以下、実施例に基づいて、本発明を詳細に説明する。なお、以下の実施例は、単なる例示である。本発明は、以下の実施例に何ら限定されない。
　表１～６は、本発明の実施例（試料Ｎｏ．１～４２）を示している。なお、表中の［未］は、未測定であることを示している。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
　次のようにして、試料Ｎｏ．１～４２を作製した。まず表中のガラス組成になるように調合したガラス原料を白金坩堝に入れ、１６００℃で２４時間溶融した後、カーボン板上に流し出して平形板状に成形した。次に、得られた各試料について、密度ρ、熱膨張係数α、歪点Ｐｓ、徐冷点Ｔａ、軟化点Ｔｓ、１０４ｄＰａ・ｓにおける温度、１０３ｄＰａ・ｓにおける温度、１０２．５ｄＰａ・ｓにおける温度、ヤング率Ｅ、液相温度ＴＬ、液相粘度ｌｏｇηＴＬ、スクラッチレジスタンス（耐スクラッチ性）及びクラックレジスタンス（耐クラック性）を評価した。なお本実施例では清澄剤としてＳｎＯ２を使用したが、ＳｎＯ２以外の清澄剤を使用してもよい。また溶融条件やバッチの調整により泡切れが良好であれば、清澄剤は使用しなくてもよい。
　密度ρは、周知のアルキメデス法で測定した値である。
　熱膨張係数αは、ディラトメーターで測定した値であり、３０～３８０℃の温度範囲における平均値である。
　歪点Ｐｓ、徐冷点Ｔａ及び軟化点Ｔｓは、ＡＳＴＭ　Ｃ３３６、Ｃ３３８の方法に基づいて測定した値である。
　１０４．０ｄＰａ・ｓにおける温度、１０３．０ｄＰａ・ｓにおける温度及び１０２．５ｄＰａ・ｓにおける温度は、白金球引き上げ法で測定した値である。
　ヤング率Ｅは、共振法で測定した値である。ヤング率が大きい程、比ヤング率（ヤング率／密度）が大きくなり易く、平板形状の場合、自重によりガラスが撓み難くなる。
　液相温度ＴＬは、標準篩３０メッシュ（５００μｍ）を通過し、５０メッシュ（３００μｍ）に残るガラス粉末を白金ボートに入れ、温度勾配炉中に２４時間保持して、結晶の析出する温度を測定した値である。
　液相粘度ｌｏｇηＴＬは、液相温度ＴＬにおけるガラスの粘度を白金球引き上げ法で測定した値である。
　耐スクラッチ性（スクラッチレジスタンス）は、ガラス表面をヌープ圧子で０．４ｍｍ／ｓの速さで引っ掻いたときに、引っ掻き方向と垂直な方向にひっかき傷の２倍以上の幅のクラックが、引っ掻いた全長の１５％以上の長さ発生する荷重を測定し、その荷重が１０Ｎ以上となる場合を「Ａ」、１０Ｎ未満となる場合を「Ｂ」として評価した。引っ掻き試験は、Ｂｒｕｋｅｒ社のトライボロジー試験機ＵＭＴ－２を用い、湿度３０％、温度２５％に保持された恒温恒湿槽内において行った。
　耐クラック性（クラックレジスタンス）は、クラック発生率が５０％となる荷重を測定した値である。クラック発生率は、次のようにして測定した。まず湿度３０％、温度２５℃に保持された恒温恒湿槽内において、所定荷重に設定したビッカース圧子をガラス表面（光学研磨面）に１５秒間打ち込み、その１５秒後に圧痕の４隅から発生するクラックの数をカウント（１つの圧痕につき最大４とする）する。このようにして圧子を５０回打ち込み、総クラック発生数を求めた後、総クラック発生数／２００×１００（％）の式により求めた。
　１ＭＨｚの周波数における誘電正接は、公知の平行板コンデンサ法で１ＭＨｚ、２５℃の条件で測定した。
　内部摩擦は、公知の半価幅法を用いて測定した。
　表１に記載の試料Ｎｏ．４、５の材質を試験溶融炉で溶融して、溶融ガラスを得た後、オーバーフローダウンドロー法で板厚０．３ｍｍのガラス板を成形した。その結果、ガラス板の反りは０．０７５％以下、うねり（ＷＣＡ）は０．１５μｍ以下（カットオフｆｈ：０．８ｍｍ、ｆｌ：８ｍｍ）、表面粗さ（Ｒｙ）は２０Å以下（カットオフλｃ：９μｍ）であった。成形に際し、引っ張りローラーの速度、冷却ローラーの速度、加熱装置の温度分布、溶融ガラスの温度、溶融ガラスの流量、板引き速度、攪拌スターラーの回転数等を適宜調整することで、ガラス板の表面品位を調節した。なお、「反り」は、ガラス板を光学定盤上に置き、ＪＩＳ　Ｂ－７５２４に記載の隙間ゲージを用いて測定した値である。「うねり」は、触針式の表面形状測定装置を用いて、ＪＩＳ　Ｂ－０６１０に記載のＷＣＡ（ろ波中心線うねり）を測定した値であり、この測定は、ＳＥＭＩ　ＳＴＤ　Ｄ１５－１２９６「ＦＰＤガラス基板の表面うねりの測定方法」に準拠している。「平均表面粗さ（Ｒｙ）」は、ＳＥＭＩ　Ｄ７－９４「ＦＰＤガラス基板の表面粗さの測定方法」に準拠した方法により測定した値である。
　実施例２で作成したＮｏ．５のガラスを１００ｍｍ×１００ｍｍ×０．３ｍｍの大きさに加工することによりガラス試料を準備した。このガラス試料を８０℃―５ｗｔ％のＨＣｌに１０分間浸漬し、表面を多孔質状に改質した。続いて酸処理後のガラス試料をエタノール水溶液に１０分間浸漬して洗浄した。
　次に、平均粒子径５ｎｍの酸化チタン（アナターゼ）粒子を２－プロパノール溶液に２ｗｔ％分散させた溶液中に、ガラス試料を５分浸漬し、ガラス試料表面にチタン粒子を付着させた。
　その後、ガラス試料を５００℃に保持したアニーラーに入れ、２時間熱処理した後に取り出すことにより、酸化チタン粒子を表面に担持したガラス試料を得た。このようにして得られた試料に紫外線を照射したところ、酸化チタン粒子の光触媒機能により、有機物を分解することができた。
　表３に記載の試料Ｎｏ．１９の材質を試験溶融炉で溶融して、溶融ガラスを得た後、オーバーフローダウンドロー法で板厚１００μｍのフィルム状ガラスを成形した。このフィルム状ガラスは、曲率半径６０ｍｍのロール状に巻き取ることができた。
　本発明を特定の態様を参照して詳細に説明したが、本発明の精神と範囲を離れることなく様々な変更および修正が可能であることは、当業者にとって明らかである。
　なお、本出願は、２０１４年４月３日付で出願された日本国特許出願（特願２０１４－０７６５９６）、２０１４年４月２２日付で出願された日本国特許出願（特願２０１４－０８７８２８）、２０１４年５月２３日付で出願された日本国特許出願（特願２０１４－１０６８４７）、２０１４年１０月２３日付で出願された日本国特許出願（特願２０１４－２１６３３２）及び２０１４年１１月１３日付で出願された日本国特許出願（特願２０１４－２３０５９９）に基づいており、その全体が引用により援用される。また、ここに引用されるすべての参照は全体として取り込まれる。
　本発明のガラスは、カバーガラスとして好適であるが、それ以外にも、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ等のフラットディスプレイ用基板、ＣＳＰ、ＣＣＤ、ＣＩＳ等のイメージセンサー用基板、タッチセンサー用基板としても好適である。また光触媒粒子を表面に担持させる場合は、その防汚機能を恒久的に維持することが可能であることから、上記用途以外にも、例えば建築用ガラスとして使用することができる。

Claims (19)

  1. 　ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２　５０～７０％、Ａｌ２Ｏ３　０～２０％、Ｂ２Ｏ３　１５～３０％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ　０～３％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ　０～１２％を含有するガラス。
  2. 　ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２　５８～７０％、Ａｌ２Ｏ３　７～２０％、Ｂ２Ｏ３　１８～３０％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ　０～１％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ　０～１０％を含有する請求項１に記載のガラス。
  3. 　ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２　５０～７０％、Ａｌ２Ｏ３　０～１５％、Ｂ２Ｏ３　１５～３０％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ　０～３％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ　０～８％を含有する請求項１に記載のガラス。
  4. 　Ｂ２Ｏ３－（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）が５質量％以上である請求項１～３の何れか一項に記載のガラス。
  5. 　質量比で（ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ）が１以下である請求項１～４の何れか一項に記載のガラス。
  6. 　質量基準でＢ２Ｏ３の含有量がＡｌ２Ｏ３の含有量よりも多い請求項１～５の何れか一項に記載のガラス。
  7. 　密度が２．４０ｇ／ｃｍ３以下、３０～３８０℃の温度範囲における熱膨張係数が２５～４０×１０－７／℃、歪点が６１０℃以下、且つヤング率が６６ＧＰａ以下である請求項１～６の何れか一項に記載のガラス。
  8. 　液相粘度が１０５．０ｄＰａ・ｓ以上である請求項１～７の何れか一項に記載のガラス。
  9. 　オーバーフローダウンドロー法で成形されてなる請求項１～８の何れか一項に記載のガラス。
  10. 　カバーガラスに用いられる請求項１～９の何れか一項に記載のガラス。
  11. 　イオン交換処理されていない請求項１～１０の何れか一項に記載のガラス。
  12. 　表面に光触媒粒子が担持されている請求項１～１１の何れか一項に記載のガラス。
  13. 　ガラス表面が多孔質状である請求項１２に記載のガラス。
  14. 　光触媒粒子が酸化チタン粒子である請求項１２又は１３に記載のガラス。
  15. 　請求項１～１４の何れか一項に記載のガラスを用いたカバーガラス。
  16. 　ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２　５０～７０％、Ａｌ２Ｏ３　０～２０％、Ｂ２Ｏ３　１５～３０％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ　０～３％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ　０～１２％を含有するガラスとなるように調製した原料バッチを溶融し、成形するガラスの製造方法。
  17. 　さらにガラス表面に光触媒成分を含む溶液を塗布した後、熱処理してガラス表面に光触媒粒子を担持させる請求項１６に記載のガラスの製造方法。
  18. 　ガラス表面を酸処理した後、光触媒成分を含む溶液を塗布する請求項１７に記載のガラスの製造方法。
  19. 　光触媒成分を含む溶液として、酸化チタン粒子が分散した溶液を使用する請求項１７又は１８に記載のガラスの製造方法。
PCT/JP2015/060393 2014-04-03 2015-04-01 ガラス、それを用いたカバーガラス及びガラスの製造方法 WO2015152342A1 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202211110212.6A CN115448592A (zh) 2014-04-03 2015-04-01 玻璃、使用了该玻璃的防护玻璃以及玻璃的制造方法
CN201580018105.2A CN106132889A (zh) 2014-04-03 2015-04-01 玻璃、使用了该玻璃的防护玻璃以及玻璃的制造方法
CN202211110450.7A CN115448593A (zh) 2014-04-03 2015-04-01 玻璃、使用了该玻璃的防护玻璃以及玻璃的制造方法
KR1020237025471A KR20230117626A (ko) 2014-04-03 2015-04-01 유리, 그것을 이용한 커버 유리 및 유리의 제조 방법
KR1020217037423A KR102563271B1 (ko) 2014-04-03 2015-04-01 유리, 그것을 이용한 커버 유리 및 유리의 제조 방법
KR1020167027358A KR102332532B1 (ko) 2014-04-03 2015-04-01 유리, 그것을 이용한 커버 유리 및 유리의 제조 방법

Applications Claiming Priority (10)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014-076596 2014-04-03
JP2014076596 2014-04-03
JP2014087828 2014-04-22
JP2014-087828 2014-04-22
JP2014106847 2014-05-23
JP2014-106847 2014-05-23
JP2014-216332 2014-10-23
JP2014216332 2014-10-23
JP2014-230599 2014-11-13
JP2014230599 2014-11-13

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2015152342A1 true WO2015152342A1 (ja) 2015-10-08

Family

ID=54240659

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2015/060393 WO2015152342A1 (ja) 2014-04-03 2015-04-01 ガラス、それを用いたカバーガラス及びガラスの製造方法

Country Status (4)

Country Link
JP (3) JP6691315B2 (ja)
KR (3) KR102332532B1 (ja)
CN (5) CN115448593A (ja)
WO (1) WO2015152342A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017137237A (ja) * 2016-02-04 2017-08-10 ショット アクチエンゲゼルシャフトＳｃｈｏｔｔ ＡＧ 基板の厚みを制御する方法

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106865982B (zh) * 2017-03-03 2019-05-24 四川旭虹光电科技有限公司 电容式触控系统保护用玻璃
JP7101458B2 (ja) 2017-04-18 2022-07-15 日本電気硝子株式会社 触感呈示デバイス用トップパネル及び触感呈示デバイス
CN107515637B (zh) 2017-08-07 2020-08-28 洛阳兰迪玻璃机器股份有限公司 一种玻璃板钢化工艺过程控制方法
US20220169555A1 (en) * 2019-03-08 2022-06-02 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Glass sheet
CN110240402B (zh) * 2019-06-28 2021-09-28 中国建筑材料科学研究总院有限公司 一种环保型透深紫外硼硅酸盐玻璃及其制备方法、应用
WO2021010376A1 (ja) * 2019-07-17 2021-01-21 Ａｇｃ株式会社 ガラス、化学強化ガラスおよびカバーガラス
CN114945539A (zh) * 2020-01-03 2022-08-26 康宁股份有限公司 强化玻璃制品及包括该强化玻璃制品的消费电子产品
US20220402810A1 (en) * 2020-04-10 2022-12-22 Nitto Boseki Co., Ltd. Glass composition for glass fibers, glass fibers, glass fiber fabric, and glass fiber-reinforced resin composition

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4824806A (en) * 1986-03-27 1989-04-25 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Glass fibers having low dielectric constant
JPH10106311A (ja) * 1996-09-24 1998-04-24 Toto Ltd 防汚性トンネル用照明装置
JP2003306374A (ja) * 2002-04-11 2003-10-28 Ngk Spark Plug Co Ltd 低温焼成磁器組成物及び低温焼成磁器並びにそれを用いた配線基板
WO2004083145A1 (ja) * 2003-03-20 2004-09-30 Japan Science And Technology Agency 高ケイ酸ガラスの製造方法および高ケイ酸ガラス
JP2010241676A (ja) * 2009-03-19 2010-10-28 Nippon Electric Glass Co Ltd 無アルカリガラス
JP2012051773A (ja) * 2010-09-02 2012-03-15 Nippon Electric Glass Co Ltd 樹脂複合体基板用ガラス
JP2014504250A (ja) * 2010-11-30 2014-02-20 コーニング インコーポレイテッド アルカリ土類アルミノホウケイ酸塩耐亀裂性ガラス

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6451345A (en) * 1987-08-18 1989-02-27 Nippon Sheet Glass Co Ltd Glass fiber composition having low dielectric constant
US4847138A (en) * 1987-10-07 1989-07-11 Corning Glass Works Thermal writing on glass and glass-ceramic substrates
JP2001151534A (ja) * 1999-11-25 2001-06-05 Nippon Electric Glass Co Ltd 液晶ディスプレイ用ガラス基板
JP2003026446A (ja) * 2001-07-16 2003-01-29 Asahi Glass Co Ltd 電子回路基板用組成物および電子回路基板
KR100942615B1 (ko) * 2001-12-25 2010-02-17 엔지케이 스파크 플러그 캄파니 리미티드 유전물질, 유전소성체 및 이것을 이용한 배선기판
JP2004107112A (ja) 2002-09-17 2004-04-08 Nippon Electric Glass Co Ltd 低誘電率低誘電正接ガラス繊維
JP2004230301A (ja) * 2003-01-30 2004-08-19 Noritake Co Ltd 光触媒体及びその製造方法
JP2004244271A (ja) * 2003-02-14 2004-09-02 Asahi Glass Co Ltd 無鉛ガラス、電子回路基板用組成物および電子回路基板
JP4305844B2 (ja) * 2003-02-28 2009-07-29 日本電気硝子株式会社 蛍光ランプ用外套管
KR20060083045A (ko) 2005-01-14 2006-07-20 엘지전자 주식회사 플라즈마 표시장치
CN101522584B (zh) * 2006-10-10 2012-12-05 日本电气硝子株式会社 钢化玻璃基板
WO2008149858A1 (ja) * 2007-06-07 2008-12-11 Nippon Electric Glass Co., Ltd. 強化ガラス基板及びその製造方法
JP2010030849A (ja) * 2008-07-30 2010-02-12 Ohara Inc ガラス
JP2010030850A (ja) * 2008-07-30 2010-02-12 Ohara Inc ガラス
JP5825703B2 (ja) * 2009-02-03 2015-12-02 日本電気硝子株式会社 化学強化ガラス
TWI474988B (zh) * 2009-03-25 2015-03-01 Nippon Electric Glass Co 玻璃纖維用玻璃組成物、玻璃纖維以及玻璃纖維片狀物
JP5418971B2 (ja) * 2009-08-19 2014-02-19 日本電気硝子株式会社 ガラスフィルム
JP5403487B2 (ja) * 2009-08-19 2014-01-29 日本電気硝子株式会社 ガラスロール
JP2011063464A (ja) * 2009-09-16 2011-03-31 Nippon Electric Glass Co Ltd プラズマディスプレイ用ガラス板
JP5483262B2 (ja) 2009-12-04 2014-05-07 日本電気硝子株式会社 合わせガラス
JP5537144B2 (ja) * 2009-12-16 2014-07-02 ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社 ガラス組成物とそれを用いたフラットパネルディスプレイ用ガラス基板
JP2013054473A (ja) * 2011-09-02 2013-03-21 Canon Inc 撮像装置
KR20160043026A (ko) * 2013-08-15 2016-04-20 코닝 인코포레이티드 알칼리-도핑 및 알칼리가-없는 보로알루미노실리케이트 유리
JP6976057B2 (ja) * 2013-11-20 2021-12-01 コーニング インコーポレイテッド 耐スクラッチアルミノホウケイ酸ガラス

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4824806A (en) * 1986-03-27 1989-04-25 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Glass fibers having low dielectric constant
JPH10106311A (ja) * 1996-09-24 1998-04-24 Toto Ltd 防汚性トンネル用照明装置
JP2003306374A (ja) * 2002-04-11 2003-10-28 Ngk Spark Plug Co Ltd 低温焼成磁器組成物及び低温焼成磁器並びにそれを用いた配線基板
WO2004083145A1 (ja) * 2003-03-20 2004-09-30 Japan Science And Technology Agency 高ケイ酸ガラスの製造方法および高ケイ酸ガラス
JP2010241676A (ja) * 2009-03-19 2010-10-28 Nippon Electric Glass Co Ltd 無アルカリガラス
JP2012051773A (ja) * 2010-09-02 2012-03-15 Nippon Electric Glass Co Ltd 樹脂複合体基板用ガラス
JP2014504250A (ja) * 2010-11-30 2014-02-20 コーニング インコーポレイテッド アルカリ土類アルミノホウケイ酸塩耐亀裂性ガラス

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017137237A (ja) * 2016-02-04 2017-08-10 ショット アクチエンゲゼルシャフトＳｃｈｏｔｔ ＡＧ 基板の厚みを制御する方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN115448593A (zh) 2022-12-09
JP6691315B2 (ja) 2020-04-28
CN113998884A (zh) 2022-02-01
CN106132889A (zh) 2016-11-16
CN110194590A (zh) 2019-09-03
JP2016102045A (ja) 2016-06-02
KR102563271B1 (ko) 2023-08-02
KR20230117626A (ko) 2023-08-08
CN115448592A (zh) 2022-12-09
JP2019112303A (ja) 2019-07-11
KR20160141737A (ko) 2016-12-09
KR20210142775A (ko) 2021-11-25
JP2022060313A (ja) 2022-04-14
JP7183108B2 (ja) 2022-12-05
JP7472925B2 (ja) 2024-04-23
KR102332532B1 (ko) 2021-11-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7183108B2 (ja) ガラス
JP6136008B2 (ja) 強化ガラス及び強化ガラス板
JP5920554B1 (ja) 強化ガラス基板の製造方法
JP5875133B2 (ja) 強化ガラス基板
JP5589252B2 (ja) 強化ガラス基板
JP6032468B2 (ja) 強化ガラス基板の製造方法
TWI476168B (zh) Reinforced glass substrate and manufacturing method thereof
JP5850401B2 (ja) 強化ガラス板
TWI457327B (zh) 強化玻璃基板及其製造方法
JP5557168B2 (ja) 強化ガラス基板の製造方法及び強化ガラス基板
JP6597950B2 (ja) 強化ガラス及び強化用ガラス
US9156726B2 (en) Toughened glass substrate and process for producing same
JP2011093728A (ja) 強化板ガラス及びその製造方法
JP2010116276A (ja) 強化ガラス基板及びその製造方法
WO2011069338A1 (zh) 用于触摸屏的铝硅酸盐玻璃
TW200804221A (en) Alkali-free glass, alkali-free glass substrate and method of frbricating the same
JP5950248B2 (ja) 表示デバイスの製造方法
JP2016008160A (ja) 強化ガラス

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 15772519

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20167027358

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase
122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 15772519

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1