WO2014034353A1 - 電子線検出装置 - Google Patents

電子線検出装置 Download PDF

Info

Publication number
WO2014034353A1
WO2014034353A1 PCT/JP2013/070563 JP2013070563W WO2014034353A1 WO 2014034353 A1 WO2014034353 A1 WO 2014034353A1 JP 2013070563 W JP2013070563 W JP 2013070563W WO 2014034353 A1 WO2014034353 A1 WO 2014034353A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
electron beam
irradiation
filament
current value
detection apparatus
Prior art date
Application number
PCT/JP2013/070563
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
西納 幸伸
裕一 竹中
洋平 坂本
亮 阿部
Original Assignee
澁谷工業株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 澁谷工業株式会社 filed Critical 澁谷工業株式会社
Priority to EP13832072.6A priority Critical patent/EP2894639B1/en
Priority to US14/424,263 priority patent/US9632117B2/en
Publication of WO2014034353A1 publication Critical patent/WO2014034353A1/ja

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R19/00Arrangements for measuring currents or voltages or for indicating presence or sign thereof
    • G01R19/165Indicating that current or voltage is either above or below a predetermined value or within or outside a predetermined range of values
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R19/00Arrangements for measuring currents or voltages or for indicating presence or sign thereof
    • G01R19/0092Arrangements for measuring currents or voltages or for indicating presence or sign thereof measuring current only
    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21KTECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K5/00Irradiation devices
    • G21K5/04Irradiation devices with beam-forming means
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J33/00Discharge tubes with provision for emergence of electrons or ions from the vessel; Lenard tubes
    • H01J33/02Details
    • H01J33/04Windows

Definitions

  • the present invention relates to an electron beam irradiation apparatus that sterilizes, for example, a cap attached to a resin bottle with an electron beam, and more particularly to an apparatus that detects whether or not a filament that is a source of thermal electrons is normal.
  • the present invention provides an electron beam detector that can detect a broken wire even when the filament is broken when the electron beam irradiation device is not in operation, and can identify the broken filament.
  • the purpose is to do.
  • An electron beam detection apparatus includes a plurality of conductors disposed corresponding to each of a plurality of filaments and electrically insulated from each other in a region irradiated with an electron beam, and a plurality of conductors Measuring means for measuring the current value flowing through each of the conductors, and determining means for receiving the signal output from the measuring means to determine the irradiation state of the electron beam. When the decrease is measured, it is determined that an abnormality has occurred in the filament corresponding to the conductor whose current value has decreased.
  • the plurality of conductors are arranged in parallel to the plurality of filaments. Thereby, the electron beam output from each conductor can be detected accurately.
  • the plurality of conductors may be attached to the outer surface of the irradiation window for outputting the electron beam from the electron beam irradiation apparatus to the outside. According to this configuration, it is possible to detect the electron beam before being irradiated and diffused from the irradiation window.
  • a plurality of conductors may be attached to the insulator, and the insulator may be fixed so as to surround the irradiation window.
  • the disconnection can be detected, and the disconnected filament can be identified.
  • FIG. 1 It is sectional drawing which shows roughly the cap sterilizer provided with the electron beam detection apparatus which is one Embodiment of this invention. It is a perspective view which shows the arrangement
  • FIG. 1 schematically shows the configuration of a cap sterilizer.
  • rod-shaped guides 11 to 15 are provided in parallel to each other. These guides 11 to 15 extend in a direction perpendicular to the paper surface, and a passage is formed for the cap C, which is an object to be sterilized, to pass through.
  • the cap C is attached to, for example, a resin bottle and has a bottomed cylindrical shape. The cap C is supplied from above the sterilization chamber 10 and is transported between the guides 11 to 15 so that the opening of the cap faces an electron beam irradiation device 20 side (left side in the figure) described later.
  • An electron beam irradiation device 20 is fixed to the side surface of the sterile chamber 10.
  • a frame portion 22 is formed in the housing 21 of the electron beam irradiation apparatus 20, and the frame portion 22 is fixed to the opening 16 of the aseptic chamber 10.
  • the frame portion 22 is provided with an irradiation window 23 made of a foil such as titanium for outputting an electron beam to the outside, and the inside of the housing 21 is kept in a vacuum.
  • a terminal 24 is provided in the center of the housing 21, and a filament 25, which is a thermoelectron emission source, is accommodated in the terminal 24.
  • a grid 26 is provided between the filament 25 and the irradiation window 23.
  • a beam collector 32 is fixed on the opposite side of the opening 16 via an insulator 31. The beam collector 32 is grounded via a lead wire 33, and a current measuring device 34 is provided on the lead wire 33.
  • thermoelectrons emitted from the filament 25 are pulled by the grid 26, accelerated by a high voltage applied between the grid 26 and the irradiation window 23, and transmitted through the irradiation window 23 to the atmosphere in the sterilization chamber 10. Irradiated. In the aseptic chamber 10, the electron beam reaches the beam collector 32 while being attenuated. A current corresponding to the electron dose is generated in the beam collector 32, and this current value is measured by a current measuring device 34, whereby the state of the electron beam irradiated by the electron beam irradiation device 20, that is, the filament 25 is normal. It is determined whether or not there is. On the other hand, an electron beam detector 40 for detecting the state of the electron beam is provided on the outer surface of the irradiation window 23, that is, the surface in the aseptic chamber 10, as described below.
  • FIG. 2 shows an arrangement relationship between the electron beam irradiation device 20 and the electron beam detection device 40.
  • the filament 25 is made of, for example, tungsten.
  • six filaments 25 are provided so as to be bridged between a pair of support members 27 and 28 provided in parallel. Each filament 25 extends in a slightly inclined direction rather than in a direction perpendicular to the support members 27 and 28.
  • the frame member 41 of the electron beam detector 40 is an insulator, and has a pair of horizontal members 42 and 43 having substantially the same length as the support members 27 and 28.
  • the frame member 41 is located in the opening 16 of the aseptic chamber 10 and is fixed so as to surround the outer surface of the irradiation window 23.
  • the horizontal member 42 is provided with pins 44 at regular intervals, and the horizontal member 43 is similarly provided with pins 45 at regular intervals.
  • a wire electrode 46 as a conductor is stretched between the pins 44 and 45.
  • the wire electrodes 46 are made of tungsten, for example, and six wires are provided corresponding to the filaments 25. That is, each wire electrode 46 is arranged in parallel to the corresponding filament 25, extends in a direction slightly inclined with respect to the horizontal members 42 and 43, and is electrically insulated from each other.
  • the electron beam is irradiated from each filament 25 toward the irradiation window 23, passes through the irradiation window 23, and is emitted into the aseptic chamber 10.
  • the electron beam irradiated from one filament 25 forms a plane including the filament 25 in the electron beam irradiation apparatus 20.
  • the wire electrode 46 is provided close to the irradiation window 23, and the electron beam transmitted through the irradiation window 23 collides with the wire electrode 46. That is, each wire electrode 46 is arranged corresponding to each of the plurality of filaments 25 and is provided in a linear region irradiated with an electron beam.
  • Each wire electrode 46 is grounded via a lead wire 47, and a current measuring device 48 is provided in the middle of the lead wire 47.
  • a beam current flows through the wire electrode 46, and this current value is measured by a current measuring device (measuring means) 48.
  • Each current measuring device 48 is electrically connected to a CPU (determination means) 49.
  • the current measuring device 48 outputs a detection signal corresponding to the current value, and the CPU 49 receives this detection signal and determines the irradiation state of the electron beam. Specifically, when the current measuring device 48 measures that the current value has decreased below a predetermined value, it is determined that an abnormality has occurred in the filament 25 corresponding to the wire electrode 46 whose current value has decreased.
  • reference signs A to F correspond to reference signs A to F attached to the wire electrodes 46 in FIG.
  • the current value flowing through each wire electrode 46 is the same as indicated by the broken line, and the combined current value is indicated by the solid line S1.
  • a substantially constant value is shown from code A to code F.
  • the synthesized current value is greatly depressed in the portion indicated by the symbol D as indicated by the solid line S2.
  • the broken filament 25 when the broken filament 25 exists, no electron current collides with the wire electrode 46 corresponding to the filament 25, so that no beam current is generated. Therefore, the broken filament 25 can be specified by the CPU 49, and can be displayed on a monitor, for example.
  • the present embodiment is configured to provide a plurality of wire electrodes (conductors) 46 at positions corresponding to the plurality of filaments 25, and to measure and compare the current values flowing through the wire electrodes 46. Yes. Therefore, for example, even when the filament breaks during maintenance of the electron beam irradiation apparatus 20, it can be detected that the break has occurred, and the broken filament can be identified.
  • the wire electrode 46 is attached to the outer surface of the irradiation window 23, that is, the outer side of the electron beam irradiation apparatus 20 through the insulator frame member 41. Therefore, it is not necessary to disassemble the electron beam irradiation device 20 in maintenance of the electron beam detection device 40, and the electron beam detection device 40 may be removed from the irradiation window 23.
  • the wire electrode 46 is attached to the outer surface of the irradiation window 23, but instead, it may be provided inside the irradiation window 23, that is, in the electron beam irradiation apparatus 20.
  • the wire electrode 46 only blocks a part of the electron beam passage region, and most of the electron beam is irradiated into the aseptic chamber 10, but most of the electron beam may be blocked.
  • a round bar-shaped or strip-shaped electrode may be used instead of the wire electrode 46.
  • each lead wire 47 is provided with a switch, these switches are connected in series, and one current measuring device 48 is connected to the CPU 49. It is good also as a structure which provides. In this case, by sequentially switching so that only one switch is turned on, the value of the current flowing through each wire electrode 46 can be measured, and the broken filament 25 can be specified.
  • the present invention can be applied to various apparatuses using an electron beam.
  • Specific examples include fields such as sterilization in sanitary containers, production of films and sheets, and fixing of printing paints.
  • the electron beam detector 20 is used not only to detect the abnormality of the filament 25 but also to monitor the beam current generated according to the electron beam being irradiated. Is also possible.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)

Abstract

電子線検出装置は、電子線照射装置によって照射される電子線の状態を検出する。複数の導電体であるワイヤ電極46を、電子線が照射される領域内において、複数のフィラメント25のそれぞれに対応して配置し、相互に電気的に絶縁させて設ける。複数のワイヤ電極46のそれぞれを流れる電流値を電流測定器(測定手段)48によって測定する。CPU(判定手段)49は、電流測定器48から出力される信号を受けて電子線の照射状態を判定する。CPU49は、電流測定器48が電流値の低下を測定すると、電流値が低下した導電体に対応するフィラメント25に異常が発生したと判定する。

Description

電子線検出装置
 本発明は、例えば樹脂性ボトルに装着されるキャップを電子線により滅菌する電子線照射装置に関し、より詳しくは、熱電子の放出源であるフィラメントが正常であるか否かを検出する装置に関する。
 高速で搬送される対象物に電子線を照射して滅菌処理している間に、何らかの原因でフィラメントが断線すると、所定の電子線量が得られなくなり滅菌処理が不十分となるので、滅菌不足となった搬送中の対象物を排出することが必要である。このようなフィラメントの断線を検出する装置として、従来種々の構成が提案されている。特許文献1に開示された電子線照射装置では、複数のフィラメントに流れる全電流を計測し、断線した際の全電流の変化をチェックすることにより、断線を判断している。特許文献2に開示された電子線照射装置では、照射窓の外側に設けられたセンサにより、電子線の全線量を計測している。
特開平11-109098号公報 特許第4745399号公報
 しかし特許文献1の電子線照射装置では、この装置の動作中に断線した場合には電流値の変化によって断線を検知することができるが、メンテナンス中に断線した場合、動作中に電流値は変化しないので断線したか否かを判断することができないという問題がある。また特許文献1および特許文献2の電子線照射装置では共に、フィラメントに流れる全電流、あるいは電子線の全線量を計測しており、個々のフィラメントのうち、どのフィラメントが断線したかを検出することはできない。
 本発明は、フィラメントが電子線照射装置の動作中以外のときに断線した場合であっても、その断線を検出することができ、しかも断線したフィラメントを特定することができる電子線検出装置を提供することを目的としている。
 本発明に係る電子線検出装置は、電子線が照射される領域内において、複数のフィラメントのそれぞれに対応して配置され、相互に電気的に絶縁されて設けられた複数の導電体と、複数の導電体のそれぞれを流れる電流値を測定する測定手段と、測定手段から出力される信号を受けて電子線の照射状態を判定する判定手段とを備え、判定手段は、測定手段が電流値の低下を測定すると、電流値が低下した導電体に対応するフィラメントに異常が発生したと判定することを特徴としている。
 複数の導電体は複数のフィラメントに平行に配置されることが好ましい。これにより各導電体から出力された電子線を精度よく検出することができる。
 複数の導電体は、電子線照射装置から電子線を外部へ出力するための照射窓の外面に取付けられてもよい。この構成によれば、照射窓から照射されて拡散する前の電子線を検出することができる。この場合、複数の導電体が絶縁体に取付けられて、絶縁体が照射窓を囲むようにして固定されてもよい。
 本発明によれば、フィラメントが動作中以外のときに断線した場合であってもその断線を検出することができ、また、断線したフィラメントを特定することができる。
本発明の一実施形態である電子線検出装置を備えたキャップ殺菌装置を概略的に示す断面図である。 電子線照射装置と電子線検出装置の配置関係を示す斜視図である。 全てのフィラメントが正常である場合の電流値の分布を示すグラフである。 一部のフィラメントが異常である場合の電流値の分布を示すグラフである。
 23 照射窓
 25 フィラメント
 46 ワイヤ電極(導電体)
 48 電流測定器(測定手段)
 49 CPU(判定手段)
 以下、本発明の一実施形態である電子線検出装置を、図面を参照して説明する。
 図1はキャップ殺菌装置の構成を概略的に示す。キャップ殺菌装置の無菌チャンバ10内には棒状のガイド11~15が相互に平行に設けられる。これらのガイド11~15は紙面に直交する方向に延び、殺菌の対象物であるキャップCが通過するための通路が形成される。キャップCは例えば樹脂性ボトルに装着されるものであり、有底筒状を呈する。キャップCは無菌チャンバ10の上方から供給され、キャップの開口部が後述する電子線照射装置20側(図中左側)を向くようにしてガイド11~15の間を搬送される。
 無菌チャンバ10の側面には電子線照射装置20が固定される。電子線照射装置20のハウジング21には枠部22が形成されており、枠部22は無菌チャンバ10の開口16に固定される。枠部22には、例えばチタン等の箔から成る、電子線を外部へ出力するための照射窓23が設けられ、ハウジング21内は真空に保たれる。ハウジング21の中央にはターミナル24が設けられ、ターミナル24内には熱電子の放出源であるフィラメント25が収容される。フィラメント25と照射窓23の間にはグリッド26が設けられる。一方、無菌チャンバ10内において、開口16とは反対側に、絶縁体31を介してビームコレクタ32が固定される。ビームコレクタ32はリード線33を介して接地され、リード線33には電流測定器34が設けられる。
 フィラメント25から放出された熱電子は、グリッド26に引張られ、グリッド26と照射窓23との間に印加された高電圧により加速され、照射窓23を透過して無菌チャンバ10内の大気中へ照射される。無菌チャンバ10内において電子線は減衰しながらビームコレクタ32に到達する。ビームコレクタ32には、電子線量に応じた電流が発生し、この電流値は電流測定器34によって測定され、これにより電子線照射装置20によって照射された電子線の状態、すなわちフィラメント25が正常であるか否かが判定される。一方、照射窓23の外面、すなわち無菌チャンバ10内の面には、次に述べるように、電子線の状態を検出するための電子線検出装置40が設けられる。
 図2は電子線照射装置20と電子線検出装置40の配置関係を示している。フィラメント25は例えばタングステンから成り、この図示例では6本設けられ、平行に設けられた一対の支持部材27、28に架け渡すように設けられている。各フィラメント25は、支持部材27、28に対して垂直方向ではなく、若干傾斜した方向に延びている。
 電子線検出装置40の枠部材41は絶縁体であり、支持部材27、28とほぼ同じ長さの一対の水平部材42、43を有する。枠部材41は無菌チャンバ10の開口16内に位置し、照射窓23の外面を囲むようにして固定される。水平部材42にはピン44が一定間隔を空けて設けられ、水平部材43にも同様にピン45が一定間隔を空けて設けられる。ピン44、45には導電体であるワイヤ電極46が張設される。ワイヤ電極46は例えばタングステンから成り、フィラメント25に対応させて6本設けられる。すなわち各ワイヤ電極46は対応するフィラメント25に平行に配置され、水平部材42、43に対して若干傾斜した方向に延びており、相互に電気的に絶縁されている。
 各フィラメント25から電子線が照射窓23へ向けて照射され、照射窓23を透過して無菌チャンバ10内に出射される。1本のフィラメント25から照射される電子線は電子線照射装置20内において、フィラメント25を含む平面を形成する。ワイヤ電極46は照射窓23に近接して設けられており、照射窓23を透過した電子線はワイヤ電極46に衝突する。すなわち各ワイヤ電極46は複数のフィラメント25のそれぞれに対応して配置されており、電子線が照射される直線状の領域内に設けられている。
 各ワイヤ電極46はリード線47を介して接地され、リード線47の途中には電流測定器48が設けられる。電子線が衝突することによってワイヤ電極46にはビーム電流が流れ、この電流値は電流測定器(測定手段)48によって測定される。各電流測定器48はCPU(判定手段)49に電気的に接続される。電流測定器48は電流値に応じた検出信号を出力し、CPU49では、この検出信号を受けて、電子線の照射状態が判定される。具体的には、電流測定器48が電流値が所定値よりも低下したことを測定したとき、その電流値が低下したワイヤ電極46に対応するフィラメント25に異常が発生したと判定する。
 図3、4を参照して、本実施形態の作用を説明する。なおこれらの図において、符号A~Fは図2において各ワイヤ電極46に付した符号A~Fに対応する。
 全てのフィラメント25が正常である場合、図3に示されるように、各ワイヤ電極46に流れる電流値は、破線により示すようにそれぞれ同じであり、これらを合成した電流値は実線S1により示すように、符号Aから符号Fにかけてほぼ一定の値を示している。これに対して、符号Dに対応するフィラメント25が断線している場合、図4に示されるように、そのフィラメント25に流れる電流は存在しない。したがって、合成した電流値は実線S2により示すように、符号Dの部分において大きく窪んでいる。
 このように、断線したフィラメント25が存在する場合、そのフィラメント25に対応したワイヤ電極46には電子線が衝突しないためビーム電流は生じない。したがって、CPU49では断線したフィラメント25を特定することができ、例えばモニタに表示することも可能である。
 以上のように本実施形態は、複数のフィラメント25に対応した位置に複数のワイヤ電極(導電体)46を設けて、各ワイヤ電極46に流れる電流値を測定し、比較するように構成されている。したがって例えば、電子線照射装置20のメンテナンス中にフィラメントが断線した場合であっても、断線が発生したことを検出することができ、また断線したフィラメントを特定することができる。
 またワイヤ電極46は絶縁体の枠部材41を介して照射窓23の外面、つまり電子線照射装置20の外側に取付けられている。したがって、電子線検出装置40のメンテナンスにおいて、電子線照射装置20を分解する必要はなく、電子線検出装置40を照射窓23から取り外して行えばよい。
 なお本実施形態では、ワイヤ電極46は照射窓23の外面に取付けられているが、これに代えて照射窓23の内側すなわち電子線照射装置20の中に設けてもよい。
 また本実施形態では、ワイヤ電極46は電子線の通過領域のほんの一部を遮るに過ぎず、電子線のほとんどは無菌チャンバ10内に照射されるが、電子線のほとんどを遮断してもよい場合には、ワイヤ電極46に代えて、丸棒状あるいは帯状の電極を用いてもよい。
 また、各リード線47にそれぞれ電流測定器48を設ける構成に代えて、各リード線47にそれぞれスイッチを設け、これらのスイッチを直列に接続するとともに、CPU49との間に1つの電流測定器48を設ける構成としてもよい。この場合、1つのスイッチのみがオン状態となるように順次切り替えることにより、各ワイヤ電極46に流れる電流値を測定することができ、断線したフィラメント25を特定することができる。
 本実施形態は本発明をキャップ殺菌装置に適用した例であるが、本発明は電子線を使用する種々の装置に応用することができる。具体例としては、衛生容器における殺菌、フィルム・シート類の製造、印刷塗料の定着などの分野が考えられる。
 またワイヤ電極46は電子線をほとんど遮らないので、電子線検出装置20は、フィラメント25の異常を検出するだけでなく、照射中の電子線に応じて生じるビーム電流をモニタするために利用することも可能である。

Claims (4)

  1.  電子線照射装置によって照射される電子線の状態を検出する電子線検出装置であって、
     電子線が照射される領域内において、前記電子線照射装置に設けられて熱電子を放出する複数のフィラメントのそれぞれに対応して配置され、相互に電気的に絶縁されて設けられた複数の導電体と、
     前記複数の導電体のそれぞれを流れる電流値を測定する測定手段と、
     前記測定手段から出力される信号を受けて電子線の照射状態を判定する判定手段とを備え、
     前記判定手段は、前記測定手段が電流値の低下を測定すると、電流値が低下した導電体に対応するフィラメントに異常が発生したと判定することを特徴とする電子線検出装置。
  2.  前記複数の導電体が前記複数のフィラメントに平行に配置されることを特徴とする請求項1に記載の電子線検出装置。
  3.  前記電子線照射装置から電子線を外部へ出力するための照射窓の外面に、前記複数の導電体が取付けられることを特徴とする請求項1に記載の電子線検出装置。
  4.  前記複数の導電体が絶縁体に取付けられ、前記絶縁体が前記照射窓を囲むようにして固定されることを特徴とする請求項3に記載の電子線検出装置。
PCT/JP2013/070563 2012-08-31 2013-07-30 電子線検出装置 WO2014034353A1 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP13832072.6A EP2894639B1 (en) 2012-08-31 2013-07-30 Electron beam radiation device
US14/424,263 US9632117B2 (en) 2012-08-31 2013-07-30 Electron beam detecting device

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012192068A JP6005447B2 (ja) 2012-08-31 2012-08-31 電子線検出装置
JP2012-192068 2012-08-31

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2014034353A1 true WO2014034353A1 (ja) 2014-03-06

Family

ID=50183173

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2013/070563 WO2014034353A1 (ja) 2012-08-31 2013-07-30 電子線検出装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US9632117B2 (ja)
EP (1) EP2894639B1 (ja)
JP (1) JP6005447B2 (ja)
WO (1) WO2014034353A1 (ja)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1184099A (ja) * 1997-09-10 1999-03-26 Iwasaki Electric Co Ltd 電子線照射装置
JPH11109098A (ja) 1997-10-01 1999-04-23 Iwasaki Electric Co Ltd 電子線照射装置
WO2009139399A1 (ja) * 2008-05-12 2009-11-19 株式会社日本Aeパワーシステムズ 監視装置付き電子線照射装置
JP4745399B2 (ja) 2005-10-26 2011-08-10 テトラ ラバル ホールデイングス エ フイナンス ソシエテ アノニム 電子ビームを検出するセンサーおよびシステム

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2790908B2 (ja) 1990-08-27 1998-08-27 日本電信電話株式会社 位置登録方式
JPH04105451U (ja) * 1991-02-21 1992-09-10 日新ハイボルテージ株式会社 電子源フイラメント寿命検出装置
US5254911A (en) 1991-11-22 1993-10-19 Energy Sciences Inc. Parallel filament electron gun
JPH05182620A (ja) * 1991-11-27 1993-07-23 Hitachi Ltd 電子銃のフィラメント状態監視装置
JPH08106874A (ja) * 1994-10-05 1996-04-23 Toshiba Corp 粒子ビーム装置
JP3512908B2 (ja) * 1995-06-22 2004-03-31 株式会社東芝 電子線照射装置
JP3904380B2 (ja) * 1999-11-29 2007-04-11 ウシオ電機株式会社 電子線量の測定方法および電子線照射処理装置
TW464947B (en) * 1999-11-29 2001-11-21 Ushio Electric Inc Measuring apparatus of electron beam quantity and processing apparatus of electron beam irradiation
JP2003043197A (ja) * 2001-07-26 2003-02-13 Nissin High Voltage Co Ltd 電子線照射装置のフィラメント断線検出機構
JP2006349357A (ja) * 2005-06-13 2006-12-28 Nhv Corporation 電子線照射装置
SE530019C2 (sv) 2006-06-14 2008-02-12 Tetra Laval Holdings & Finance Sensor samt system för avkänning av en elektronstråle

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1184099A (ja) * 1997-09-10 1999-03-26 Iwasaki Electric Co Ltd 電子線照射装置
JPH11109098A (ja) 1997-10-01 1999-04-23 Iwasaki Electric Co Ltd 電子線照射装置
JP4745399B2 (ja) 2005-10-26 2011-08-10 テトラ ラバル ホールデイングス エ フイナンス ソシエテ アノニム 電子ビームを検出するセンサーおよびシステム
WO2009139399A1 (ja) * 2008-05-12 2009-11-19 株式会社日本Aeパワーシステムズ 監視装置付き電子線照射装置

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP2894639A4

Also Published As

Publication number Publication date
JP2014048184A (ja) 2014-03-17
EP2894639A1 (en) 2015-07-15
EP2894639B1 (en) 2019-12-04
JP6005447B2 (ja) 2016-10-12
US9632117B2 (en) 2017-04-25
EP2894639A4 (en) 2016-04-27
US20150331018A1 (en) 2015-11-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10820399B2 (en) X-ray inspection device and method for determining degree of consumption of target of X-ray tube in X-ray inspection device
US7375345B2 (en) Exposed conductor system and method for sensing an electron beam
US7104690B2 (en) Diagnosing system for an x-ray source assembly
US9675718B2 (en) Device and method for irradiating objects with electron beam
KR20160138902A (ko) 화염 검출 시스템
US20130323118A1 (en) Container sterilization apparatus and method
WO2007050010A1 (en) Sensor and system for sensing an electron beam
JP2012524281A (ja) 電子放射の強度を監視する方法および装置
JP6005447B2 (ja) 電子線検出装置
JP6259598B2 (ja) 容器の殺菌のための測定装置及び測定方法
JP4220015B2 (ja) 電離放射線検出装置
JP6963486B2 (ja) X線管およびx線発生装置
US11751317B2 (en) X-ray generating device, and diagnostic device and diagnostic method therefor
JP4199050B2 (ja) 四重極型質量分析計とそれを有する真空装置
JP5605607B2 (ja) X線測定装置
CN111982394A (zh) X射线管的真空度测量装置、方法以及系统
JP2021125312A (ja) 質量分析装置および質量分析方法
JP6803735B2 (ja) 内面電子線滅菌設備
JP2006349357A (ja) 電子線照射装置
JP2003043197A (ja) 電子線照射装置のフィラメント断線検出機構
JP3117459U7 (ja)
TW200832448A (en) Electron beam irradiation apparatus
JP2003302499A (ja) 電子線照射処理装置
KR20220068422A (ko) 전기설비 외함 감전보호 시스템
JP3117459U (ja) イオンセンサ及びそれを用いたイオナイザ制御装置並びにイオン量監視装置

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 13832072

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 14424263

Country of ref document: US

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE